描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体
【課題】描画時間を短縮して、明度を反転させた形状を描画することができる描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体を提供する。
【解決手段】塗潰しストローク生成部１３６が、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する。形状ストローク生成部１３８が、描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する。第１検知部１４０が、塗潰しストロークと形状ストロークとの重複部分を検知する。更新部１４２が、塗潰しストロークから重複部分を除去して描画ストロークに更新する。描画命令生成部１４４が、描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する。描画制御部１４６が、描画命令を用いて、サーマルリライタブル媒体にエネルギーを伝達して可視情報を描画するレーザ照射装置を制御し、サーマルリライタブル媒体上に描画ストロークを描画させる。
【解決手段】塗潰しストローク生成部１３６が、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する。形状ストローク生成部１３８が、描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する。第１検知部１４０が、塗潰しストロークと形状ストロークとの重複部分を検知する。更新部１４２が、塗潰しストロークから重複部分を除去して描画ストロークに更新する。描画命令生成部１４４が、描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する。描画制御部１４６が、描画命令を用いて、サーマルリライタブル媒体にエネルギーを伝達して可視情報を描画するレーザ照射装置を制御し、サーマルリライタブル媒体上に描画ストロークを描画させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、サーマルリライタブル媒体や金属などの対象物にレーザ光を照射することで、当該対象物に文字や記号などの形状を書き込むレーザマーカが知られている。このようなレーザマーカは、各種分野で使用されており、例えば、物流などの分野においては、コンテナなどに貼付されたサーマルリライタブル媒体への物品名や物品の宛先などの印字に用いられている。
【０００３】
ところで、対象物に書き込まれる形状を強調するため、形状の明度を反転させて書き込むこと、即ち、形状部分を書き込む明度と背景部分を書き込む明度とを反転させて書き込むことが所望される場合がある。例えば特許文献１には、２次元コードのコードシンボルを明暗反転変換して反転コードシンボルを生成し、生成した反転コードシンボルをドットデータや走査データなどのマーキングデータに変換し、変換したマーキングデータを用いて明度を反転させた２次元コードをワークにレーザマーキングすることが開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した従来の技術では、ドットデータや走査データなどのマーキングデータに変換するためのラスター化が必要となる。また、ドットデータや走査データなどのマーキングデータを用いて描画を行うため、明度を反転させた形状をラスタスキャンで描画することになる。このため、上述した従来の技術では、明度を反転させた形状を描画するための処理量が多く、描画に時間を要してしまう。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、描画時間を短縮して、明度を反転させた形状を描画することができる描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の一態様にかかる描画制御装置は、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する塗潰しストローク生成手段と、前記描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する形状ストローク生成手段と、前記塗潰しストロークと前記形状ストロークとの重複部分を検知する第１検知手段と、前記塗潰しストロークから前記重複部分を除去して、描画ストロークに更新する更新手段と、前記描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する描画命令生成手段と、前記描画命令を用いて、対象物にエネルギーを伝達して可視情報を描画する描画装置を制御し、前記対象物上に前記描画ストロークを描画させる描画制御手段と、を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の別の態様にかかるレーザ照射システムは、上記描画制御装置と描画装置とを備えるレーザ照射システムであって、前記描画装置は、前記描画命令に従ってレーザを発振するレーザ発振器と、前記レーザの照射方向を変更する方向制御ミラーと、前記描画命令に従って前記方向制御ミラーを駆動して、前記対象物に前記レーザを照射させる方向制御モータと、を備えることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の別の態様にかかる描画方法は、塗潰しストローク生成手段が、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する塗潰しストローク生成ステップと、形状ストローク生成手段が、前記描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する形状ストローク生成ステップと、第１検知手段が、前記塗潰しストロークと前記形状ストロークとの重複部分を検知する第１検知ステップと、更新手段が、前記塗潰しストロークから前記重複部分を除去して、描画ストロークに更新する更新ステップと、描画命令生成手段が、前記描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する描画命令生成ステップと、描画制御手段が、前記描画命令を用いて、対象物にエネルギーを伝達して可視情報を描画する描画装置を制御し、前記対象物上に前記描画ストロークを描画させる描画制御ステップと、を含むことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の別の態様にかかる描画プログラムは、上記描画方法をコンピュータに実行させるためのものである。
【００１０】
また、本発明の別の態様にかかる記憶媒体は、上記描画プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、描画時間を短縮して、明度を反転させた形状を描画することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、第１実施形態のレーザ照射システムの概略構成例を示す構成図である。
【図２】図２は、第１実施形態のレーザ照射制御装置の機能構成例を示すブロック図である。
【図３】図３は、描画位置の一例を示す図である。
【図４】図４は、描画領域の一例を示す図である。
【図５−１】図５−１は、塗潰しストロークの一例を示す図である。
【図５−２】図５−２は、塗潰しストローク情報の一例を示す図である。
【図６−１】図６−１は、ストロークフォントデータの一例を示す図である。
【図６−２】図６−２は、曲線部を直線で近似する手法の説明図である。
【図６−３】図６−３は、直線で近似されたストロークフォントデータの一例を示す図である。
【図６−４】図６−４は、形状ストロークの一例を示す図である。
【図６−５】図６−５は、形状ストローク情報の一例を示す図である。
【図７−１】図７−１は、交点が存在する２線分の例を示す図である。
【図７−２】図７−２は、交点が存在せず、垂線を設定可能な２線分の例を示す図である。
【図７−３】図７−３は、交点が存在せず、垂線を設定不可能な２線分の例を示す図である。
【図８−１】図８−１は、塗潰しストロークと形状ストロークとを描画領域に重ねて配置した状態を示す図である。
【図８−２】図８−２は、塗潰しストロークの更新過程の説明図である。
【図８−３】図８−３は、塗潰しストロークの更新過程の説明図である。
【図８−４】図８−４は、塗潰しストロークの更新過程の説明図である。
【図８−５】図８−５は、塗潰しストロークの更新過程の説明図である。
【図８−６】図８−６は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図９−１】図９−１は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図９−２】図９−２は、描画命令の一例を示す図である。
【図１０】図１０は、サーマルリライタブル媒体上に描画される白抜き文字列の一例を示す図である。
【図１１】図１１は、第１実施形態のレーザ照射システムで行われる処理例を示すフローチャートである。
【図１２】図１２は、第１実施形態のレーザ照射システムで行われる重複ストローク除去処理例を示すフローチャートである。
【図１３】図１３は、第２実施形態のレーザ照射制御装置の機能構成例を示すブロック図である。
【図１４】図１４は、非接触部分が検知された描画ストロークの一例を示す図である。
【図１５−１】図１５−１は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図１５−２】図１５−２は、他のストロークとの非接触部分が検知されたストロークを示す図である。
【図１６−１】図１６−１は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図１６−２】図１６−２は、描画命令の一例を示す図である。
【図１７】図１７は、第２実施形態のレーザ照射システムで行われる処理例を示すフローチャートである。
【図１８】図１８は、第２実施形態のレーザ照射システムで行われる非接触部分検知処理例を示すフローチャートである。
【図１９】図１９は、第３実施形態のレーザ照射制御装置の機能構成例を示すブロック図である。
【図２０−１】図２０−１は、形状ストロークの一例を示す図である。
【図２０−２】図２０−２は、輪郭ストロークの一例を示す図である。
【図２０−３】図２０−３は、太字ストロークの一例を示す図である。
【図２０−４】図２０−４は、輪郭ストロークの一例を示す図である。
【図２１−１】図２１−１は、描画ストロークと輪郭ストロークとを描画領域に重ねて配置した状態を示す図である。
【図２１−２】図２１−２は、描画命令の一例を示す図である。
【図２２】図２２は、サーマルリライタブル媒体上に重ねて描画される描画ストローク及び輪郭ストロークの一例を示す図である。
【図２３】図２３は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図２４】図２４は、第３実施形態のレーザ照射システムで行われる処理例を示すフローチャートである。
【図２５】図２５は、第１〜第３実施形態のレーザ照射制御装置のハードウェア構成例を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照しながら、本発明にかかる描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体の実施の形態を詳細に説明する。
【００１４】
（第１の実施形態）
第１の実施形態では、明度を反転させた形状のストロークである描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成し、生成した描画命令に従ってレーザ光を照射することで、明度を反転させた形状を対象物に書き込む例について説明する。
【００１５】
まず、第１の実施形態のレーザ照射システムの構成について説明する。
【００１６】
図１は、第１の実施形態のレーザ照射システム１００の概略構成の一例を示す構成図である。図１に示すように、レーザ照射システム１００は、レーザ照射制御装置１１０と、レーザ照射装置１５０とを備える。
【００１７】
レーザ照射制御装置１１０（描画制御装置の一例）は、レーザ照射装置１５０（描画装置の一例）を制御するための描画命令を生成し、生成した描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御する。レーザ照射制御装置１１０の詳細については後述する。
【００１８】
レーザ照射装置１５０は、レーザ照射制御装置１１０の制御に従ってサーマルリライタブル媒体１７０（対象物の一例）にレーザ光を照射することによりサーマルリライタブル媒体１７０を加熱して、文字や記号などの形状又は明度を反転させた形状を書き込む。レーザ照射装置１５０は、レーザ発振器１５２と、光学レンズ１５４と、方向制御ミラー１５６と、方向制御モータ１５８と、集光レンズ１６０とを備える。
【００１９】
レーザ発振器１５２は、レーザ照射制御装置１１０により生成された描画命令に従ってレーザを発振するものであり、例えば、半導体レーザ（ＬＤ：Ｌａｓｅｒ Ｄｉｏｄｅ）、気体レーザ、固体レーザ、又は液体レーザなどにより実現できる。
【００２０】
光学レンズ１５４は、レーザ発振器１５２により発振されたレーザ光のスポット径を拡大して、方向制御ミラー１５６に入射させる。
【００２１】
方向制御ミラー１５６は、反射面（図示省略）を備えており、光学レンズ１５４によりスポット径が拡大されたレーザ光を反射面で反射させてレーザ光の照射方向を変更する。
【００２２】
方向制御モータ１５８は、レーザ照射制御装置１１０により生成された描画命令に従って方向制御ミラー１５６を駆動し、方向制御ミラー１５６の反射面の向きを２軸に制御することにより、サーマルリライタブル媒体１７０へのレーザ光の照射位置を調整する。方向制御モータ１５８は、例えば、サーボモータなどにより実現できる。レーザ照射装置１５０では、方向制御ミラー１５６及び方向制御モータ１５８によりガルバノミラーが構成される。
【００２３】
集光レンズ１６０は、方向制御ミラー１５６から出射されたレーザ光をサーマルリライタブル媒体１７０の表面に収束させる。
【００２４】
サーマルリライタブル媒体１７０は、発色温度帯まで加熱して急冷することで発色し、発色部を当該発色温度帯より低温の消色温度帯に加熱することで消色する書き換え可能な感熱媒体である。ここでは、サーマルリライタブル媒体１７０は、加熱により白から黒に発色する感熱媒体とする。つまり、サーマルリライタブル媒体１７０に書き込まれる形状は、白い背景上に黒い線分で描かれる黒抜きの形状となり、サーマルリライタブル媒体１７０に書き込まれる明度を反転させた形状は、黒い背景上に白い線分で描かれる白抜きの形状となる。
【００２５】
本実施形態では、文字や記号などの形状が書き込まれる対象物としてサーマルリライタブル媒体を例に取り説明するが、これに限定されるものではなく、例えば、感熱紙（サーマルペーパ）、プラスチック、金属などのように書き換え不可能な媒体であってもよい。なお、対象物にプラスチックや金属を用いた場合、当該プラスチックや金属には、レーザ光の照射により、文字や記号などの形状として当該形状を彫り込んだ刻印（形状を相対的に沈み込ませた刻印）が形成され、明度を反転させた形状として当該形状の周辺を彫り込んだ刻印（形状を相対的に浮き上がらせた刻印）が形成される。
【００２６】
また、通常のサーマルリライタブル媒体や感熱紙は、近赤外領域のレーザ光を吸収しない。このため、レーザ発振器１５２に、半導体レーザや固体レーザのＹＡＧレーザなどの近赤外レーザ波長を発振するレーザ発光素子を用いる場合は、サーマルリライタブル媒体や感熱紙にレーザ光を吸収する材料の添加や層を追加する必要がある。
【００２７】
図２は、第１の実施形態のレーザ照射制御装置１１０の機能構成の一例を示すブロック図である。図２に示すように、レーザ照射制御装置１１０は、記憶部１２０と、制御部１３０とを備える。
【００２８】
記憶部１２０は、レーザ照射制御装置１１０で実行される各種プログラムやレーザ照射制御装置１１０で行われる各種処理に使用される情報などを記憶するものである。記憶部１２０は、例えば、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）、ＳＳＤ（Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｒｉｖｅ）、メモリカード、光ディスク、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）などの磁気的、光学的、又は電気的に記憶可能な既存の記憶装置により実現できる。記憶部１２０は、形状情報記憶部１２２を備える。
【００２９】
形状情報記憶部１２２は、描画対象の形状を示す形状情報を記憶する。例えば、形状情報記憶部１２２は、文字や記号などが中心線の並び（詳細には、中心線の端点の座標値）で定義されたストロークフォントデータを記憶する。ここでは、ストロークフォントデータは標準化された大きさの座標値で定義されているものとする。なお、ストロークフォントデータに、描画順序を含めるようにしてもよい。
【００３０】
制御部１３０は、レーザ照射装置１５０を制御するための各種処理を行うものであり、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）や、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）などにより実現できる。制御部１３０は、描画位置決定部１３２と、描画領域決定部１３４と、塗潰しストローク生成部１３６と、形状ストローク生成部１３８と、第１検知部１４０と、更新部１４２と、描画命令生成部１４４と、描画制御部１４６とを備える。
【００３１】
描画位置決定部１３２は、描画対象の形状の描画位置を決定する。具体的には、描画位置決定部１３２は、描画基点、描画対象の形状、及び描画対象の形状のサイズなどの描画位置決定データから、描画対象の形状の描画位置を決定する。なお、描画位置決定データは、記憶部１２０に予め記憶しておいてもよいし、入力部（図示省略）から入力するようにしてもよい。また、描画位置決定データの一部を記憶部１２０に予め記憶しておき、残りを入力部から入力するようにしてもよい。また、描画位置決定部１３２は、更に、形状情報記憶部１２２に記憶されている形状情報を参照して、描画対象の形状の描画位置を決定するようにしてもよい。
【００３２】
図３は、描画位置の一例を示す図であり、描画対象の形状である描画対象文字列２０１に含まれる各文字の描画位置を黒枠で示している。図３に示す例では、描画位置決定部１３２は、描画基点（ｘ０，ｙ０）を基準として、描画対象文字列２０１及びそのサイズから各文字の描画位置を決定している。
【００３３】
具体的に説明すると、描画位置決定部１３２は、まず、最初の行の先頭文字（図３に示す例では文字２０２）の左上が描画基点（ｘ０，ｙ０）となるように描画開始位置を決定する。そして、描画位置決定部１３２は、先頭文字（図３に示す例では文字２０２）の文字幅ｗと文字間に空けるべき隙間ｓｈと文字高さｈとを決定する。文字幅ｗは、例えばユーザにより入力部から入力されて設定される文字倍率ｒとフォントサイズで定義されるフォント文字幅ｆとの積とすることができる。つまり、ｗ＝ｆ＊ｒとなる。文字間の隙間ｓｈは、例えばユーザにより入力部から予め入力されて設定される。文字高さｈは、例えば文字倍率ｒとフォントサイズで定義されるフォント文字高さｇとの積とすることができる。つまり、ｈ＝ｇ＊ｒとなる。これにより、描画位置決定部１３２は、先頭文字（図３に示す例では文字２０２）の描画終了位置を（ｘ０＋ｗ，ｙ０＋ｇ＊ｒ）に決定し、次の文字（図３に示す例では文字２０３）の描画開始位置（ｘ１，ｙ１）を、ｘ１＝ｘ０＋ｗ＋ｓｈ、ｙ１＝ｙ０に決定する。以下、描画位置決定部１３２は、算出した描画開始位置を用いて描画終了位置及びその次の文字の描画開始位置を順次決定していき、同一行に含まれる全ての文字の描画開始位置及び描画終了位置を決定する。
【００３４】
続いて、描画位置決定部１３２は、次の行の先頭文字（図３に示す例では文字２０４）の描画開始位置（ｘ０’，ｙ０’）を、ｘ０’＝ｘ０、ｙ０’＝ｙ０＋ｇ＊ｒに決定する。以下、描画位置決定部１３２は、算出した描画開始位置を用いて描画終了位置及びその次の文字の描画開始位置を順次決定していき、最初の行と同様に同一行に含まれる全ての文字の描画開始位置及び描画終了位置を決定する。
【００３５】
図２に戻り、描画領域決定部１３４は、描画領域を決定する。図４は、描画領域の一例を示す図である。図４に示す例では、描画領域決定部１３４は、描画位置決定部１３２により決定された全ての描画位置を囲む領域を描画領域２１１に決定している。
【００３６】
具体的には、描画領域決定部１３４は、描画位置決定部１３２により決定された各文字の描画開始位置及び描画終了位置のうち、描画開始位置の最小値、描画終了位置の最大値を求め、それぞれ、（ｘ０，ｙ０）、（ｘｅ，ｙｅ）とする。また、描画位置周辺に空けるべき隙間Ｐは、例えばユーザにより入力部から予め入力されて設定される。但し、レーザ照射装置１５０は、線幅以下の細い領域は表現できないため、隙間Ｐは、線幅以上であるものとする。そして、描画領域決定部１３４は、描画領域（図４に示す例では描画領域２１１）を（ｘ０−Ｐ，ｙ０−Ｐ）〜（ｘｅ＋Ｐ，ｙｅ＋Ｐ）に決定する。
【００３７】
図２に戻り、塗潰しストローク生成部１３６は、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する。具体的には、塗潰しストローク生成部１３６は、塗潰しストロークに含まれる各ストロークの始点及び終点を示す塗潰しストローク情報を塗潰しストロークとして生成する。ここでは、ストロークの始点及び終点は、当該ストロークの中心線の始点及び終点とする。
【００３８】
図５−１は、塗潰しストロークの一例を示す図である。図５−１に示す例では、ストロークとして線分を想定しており、塗潰しストローク生成部１３６は、Ｘ方向の線分を線幅分ずつＹ方向にずらしていくことで塗潰しストロークを生成している。ここで、線幅とは、線分の幅であり、詳細には、レーザ照射装置１５０でサーマルリライタブル媒体１７０にストロークを描画した際に、サーマルリライタブル媒体１７０が発色する発色域の幅を示す。従って、Ｙ方向にずらしていくサイズは、発色域の幅に応じて決定される。なお、サーマルリライタブル媒体１７０の発色域の幅は、光学レンズ１５４や集光レンズ１６０のレンズ位置又は焦点距離、サーマルリライタブル媒体１７０との距離を調整することで変化させることができる。
【００３９】
図５−１に示す例では、塗潰しストローク生成部１３６は、まず、線分２２１の中心線２２３の始点（１００，１００）及び終点（５００，１００）を生成する。以下、塗潰しストローク生成部１３６は、線分２２１を線幅のサイズである４０ずつＹ方向にずらしていくことで、線分２２５の中心線２２７の始点（１００，１４０）及び終点（５００，１４０）、線分２２９の中心線２３１の始点（１００，１８０）及び終点（５００，１８０）を順次生成し、図５−２に示す塗潰しストローク情報を生成する。
【００４０】
本実施形態では、Ｘ方向の線分を線幅分ずつＹ方向にずらして塗潰しストロークを生成する例について説明したが、塗潰しストロークの生成手法はこれに限定されるものではない。例えば、Ｙ方向の線分を線幅分ずつＸ方向にずらして塗潰しストロークを生成するなど種々の手法で生成することができる。
【００４１】
図２に戻り、形状ストローク生成部１３８は、描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する。具体的には、形状ストローク生成部１３８は、描画対象の形状を示す形状情報を形状情報記憶部１２２から取得し、取得した形状情報から形状ストロークを生成する。例えば、形状ストローク生成部１３８は、描画対象文字列２０１に含まれる各文字のストロークフォントデータを形状情報記憶部１２２から取得し、取得したストロークフォントデータから各文字の形状ストロークを生成する。詳細には、形状ストローク生成部１３８は、形状ストロークに含まれるストロークの始点及び終点を示す形状ストローク情報を形状ストロークとして生成する。ここでは、ストロークの始点及び終点は、当該ストロークの中心線の始点及び終点とする。なお、形状ストロークは、単数のストロークであってもよいし、複数のストロークであってもよい。
【００４２】
ここで、図６−１〜図６−５を参照しながら、形状ストロークの生成手法を具体的に説明する。
【００４３】
図６−１は、ストロークフォントデータの一例を示す図である。図６−１に示す例では、ストロークフォントデータ２４１は曲線部を有しているが、本実施形態では、ストロークとして線分を想定しているため、形状ストローク生成部１３８は、ストロークフォントデータ２４１の曲線部を直線で近似する。これは、曲線部を有していると線分間の距離の算出が複雑になるためである。なお、曲線部を有しているストロークフォントデータには、曲線制御用のデータが含まれているので、形状ストローク生成部１３８は、曲線制御用のデータの有無から曲線部を有するか否かを判別する。
【００４４】
図６−２は、曲線部を直線で近似する手法の説明図である。図６−２に示す例の場合、形状ストローク生成部１３８は、始点（Ａ，Ｂ）から始まり終点（Ｃ，Ｄ）で終了する曲線部２４２に対して、所定距離ｓ毎に曲線部２４６の座標を検出することで（ｘ１，ｙ１）〜（ｘ５，ｙ５）の５つの座標を検出している。これにより、形状ストローク生成部１３８は、曲線部２４２を線分２４３〜線分２４８に近似する。
【００４５】
図６−３は、ストロークフォントデータ２４１を直線で近似したストロークフォントデータ２５１を示す図である。図６−３に示す例では、ストロークフォントデータ２５１は、ストロークフォントデータ２４１の直線部分に相当する線分２５３、並びにストロークフォントデータ２４１の曲線部分を直線で近似した線分２５５、２５７、及び２５９から構成されている。そして、形状ストローク生成部１３８は、ストロークフォントデータ２５１を描画位置や文字のサイズに合わせるため、変倍を行って形状ストロークを生成する。
【００４６】
図６−４は、ストロークフォントデータ２５１を変倍した形状ストローク２６１を示す図である。図６−４に示す例では、形状ストローク生成部１３８は、ストロークフォントデータ２５１を形状ストローク２６１に変倍することにより、線分２５３を変倍した線分２６３の中心線２６４の始点（１００，５０）及び終点（１００，５００）、線分２５５を変倍した線分２６５の中心線２６６の始点（１００，２２０）及び終点（２３０，５０）、線分２５７を変倍した線分２６７の中心線２６８の始点（２３０，５０）及び終点（３００，５０）、線分２５９を変倍した線分２６９の中心線２７０の始点（３００，５０）及び終点（４００，１００）を生成し、図６−５に示す形状ストローク情報を生成する。
【００４７】
本実施形態では、ストロークフォントデータを直線で近似した後に変倍を行って形状ストロークを生成する例について説明したが、形状ストロークの生成手法はこれに限定されるものではない。例えば、ストロークフォントデータの変倍を行った後に直線で近似して形状ストロークを生成したり、直線近似のみを行って形状ストロークを生成したりするなど種々の手法で生成することができる。
【００４８】
図２に戻り、第１検知部１４０は、塗潰しストロークと形状ストロークとの重複部分を検知する。具体的には、第１検知部１４０は、塗潰しストローク情報により特定される各ストロークの中心線と形状ストローク情報により特定される各ストロークの中心線との距離が、線幅（発色域の幅）以下となる部分を重複部分として検知する。
【００４９】
ここで、第１検知部１４０の重複部分の検知手法について詳細に説明する。第１検知部１４０は、塗潰しストローク情報や形状ストローク情報に基づき、線分の位置と線の太さに起因して重複する可能性のある線分を検出する。例えば第１検知部１４０は、図５−２の塗潰しストローク情報が示す塗潰しストロークの座標と図６−５の形状ストローク情報が示す形状ストロークの座標とから重複が生じるか否かを判定する。
【００５０】
具体的には、第１検知部１４０は、以下のルールに従って、線分の座標から線分同士の距離を求める。
・線分同士に交点がある場合、距離は、ゼロ
・線分同士に交点がない場合、距離は、一方の線分の端点から他方の線分に下ろした垂線の距離（垂線が設定できる場合）線分同士の端点間距離の少なくともいずれか
【００５１】
まず、第１検知部１４０は、２線分それぞれを直線の方程式で表してその連立方程式を解き、線分内に交点が存在する場合に、線分同士に交点があり、距離はゼロと判断する。例えば、２線分それぞれの直線の方程式が数式（１）、（２）であり、交点を（ｘｐ，ｙｐ）とすると、連立方程式は、数式（３）となる。
ｙ＝ａ１ｘ＋ｂ１ …（１）
ｙ＝ａ２ｘ＋ｂ２ …（２）
（ｘｐ,ｙｐ）＝（（ｂ２−ｂ１）／（ａ１−ａ２），ａ１ｘｐ＋ｂ１） …（３）
【００５２】
続いて、第１検知部１４０は、線分同士に交点がない場合、一方の線分の端点から他方の線分に下ろした垂線を算出し、算出した垂線と他方の線分との交点を求め、求めた交点が他方の線分内に存在すれば垂線の長さ（一方の線分の端点から他方の線分との交点までの距離）を算出する。例えば、垂線の方程式は、数式（４）となる。
ｙ＝ｃｘ＋ｄ …（４）
【００５３】
更に、第１検知部１４０は、線分同士に交点がない場合、両線分の端点間同士の距離、即ち４つの距離を算出する。なお、第１検知部１４０は、線分間の垂線を算出できない場合のみ、両線分の端点間同士の距離を算出するようにしてもよい。
【００５４】
図７−１は、交点が存在する２線分の一例を示す図であり、図７−２は、交点が存在せず、垂線を設定可能な２線分の一例を示す図であり、図７−３は、交点が存在せず、垂線を設定不可能な２線分の一例を示す図である。図７−１に示す例の場合、第１検知部１４０は、数式（３）の連立方程式を解くと線分内に交点が存在するため、線分同士に交点があり、距離はゼロと判断する。また、図７−２に示す例の場合、第１検知部１４０は、数式（３）の連立方程式を解くと線分内に交点が存在しないため、線分同士に交点がないと判断する。このため、第１検知部１４０は、一方の線分の端点から他方の線分に下ろした垂線を算出し、算出した垂線と他方の線分との交点が他方の線分内に存在するため、垂線の長さを算出する。また、第１検知部１４０は、両線分の端点間同士の距離を算出する。
また、図７−３に示す例の場合、２線分が平行しているため、第１検知部１４０は、数式（３）の連立方程式を解いても交点が得られず、線分同士に交点がないと判断する。このため、第１検知部１４０は、一方の線分の端点から他方の線分に下ろした垂線を算出するが、算出した垂線と他方の線分との交点が他方の線分内に存在しないため、両線分の端点間同士の距離を算出する。
【００５５】
そして、第１検知部１４０は、求めた距離が線幅（発色域の幅）以下となる部分を重複部分として検知し、重複部分が検知された１対の線分を抽出する。なお、第１検知部１４０は、線幅（発色域の幅）−距離を重複量として検知する。
【００５６】
更新部１４２は、塗潰しストロークから重複部分を除去して、描画ストロークに更新する。具体的には、更新部１４２は、塗潰しストローク情報から重複部分の情報を除去して描画ストローク情報に更新する。
【００５７】
図８−１は、塗潰しストロークと形状ストロークとを描画領域に重ねて配置した状態を示す図である。図８−１に示す例では、第１検知部１４０は、最初に、形状ストローク２９６に含まれるストローク２９８と塗潰しストローク２８１に含まれるストローク２８３〜２９４との重複部分を、ストローク２８３〜２９４の順番で検知する。この場合、まず、第１検知部１４０は、ストローク２９８とストローク２８４との重複を検知するので、更新部１４２は、ストローク２９８との重複部分をストローク２８４から除去して、ストローク２８４ａ、ｂに更新し、ストローク２８４ａ、ｂの座標を決定することで、図８−２に示す状態とする。続いて、第１検知部１４０は、ストローク２９８とストローク２８５との重複を検知するので、更新部１４２は、ストローク２９８との重複部分をストローク２８５から除去してストローク２８５ａ、ｂに更新し、ストローク２８５ａ、ｂの座標を決定することで、図８−３に示す状態とする。
【００５８】
ストローク２９８とストローク２８３〜２９４との重複検知が終了すると、第１検知部１４０は、形状ストローク２９６に含まれるストローク２９９と塗潰しストローク２８１に含まれるストローク２８３〜２９４との重複部分を、ストローク２８３〜２９４の順番で検知する。この場合、まず、第１検知部１４０は、ストローク２９９とストローク２８６との重複を検知するので、更新部１４２は、ストローク２９９との重複部分をストローク２８６から除去してストローク２８６ａ、ｂに更新し、ストローク２８６ａ、ｂの座標を決定することで、図８−４に示す状態とする。以下、第１検知部１４０及び更新部１４２は、重複部分の検知及び除去を繰り返し、図８−５に示す状態とする。
【００５９】
そして、更新部１４２は、図８−５に示す状態から、形状ストローク２９６を除去して、図８−６に示す描画ストローク３２１に更新する。
【００６０】
図２に戻り、描画命令生成部１４４は、描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する。具体的には、描画命令生成部１４４は、描画ストローク情報を、レーザ照射装置１５０が解釈できるフォーマットに変換することにより描画命令を生成する。例えば、描画命令生成部１４４は、描画ストローク情報にストローク毎の描画待機時間やストロークの線幅（太さ）などを加えて描画命令を生成する。
【００６１】
図９−１は、描画ストロークの一例を示す図であり、図９−２は、図９−１に示す描画ストロークを描画するための描画命令を示す図である。図９−２に示す描画命令は、命令コード及びパラメータで構成されている。命令コード「ｔ」は、ストロークの線幅をパラメータで指定された値に設定する命令である。命令コード「ｍ」は、パラメータで指定された座標位置に、レーザ光の照射位置を移動させる命令である。命令コード「ｄ」は、パラメータで指定された座標位置までレーザ光を照射させることによりストロークを描画させる命令である。命令コード「ｗ」は、パラメータで指定された時間待機させる命令である。
【００６２】
図２に戻り、描画制御部１４６は、描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御し、サーマルリライタブル媒体１７０上に描画ストロークを描画させる。
【００６３】
例えば、描画制御部１４６が図９−２に示す描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御してサーマルリライタブル媒体１７０上に図９−１に示す描画ストロークを描画させる場合、まず、レーザ照射装置１５０は、ストロークの線幅を４０に設定する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１００）に移動させ、座標（１２００，１００）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１４０）に移動させ、時間「５０」待機した後、座標（１８０，１４０）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（５００，１４０）に移動させ、座標（６１０，１４０）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（６８０，１４０）に移動させ、座標（１２００，１４０）までのストロークを描画する。以下、レーザ照射装置１５０が描画命令に従った動作を行うことにより、図１０に示す白抜き文字列がサーマルリライタブル媒体１７０上に描画（形成）される。
【００６４】
次に、第１の実施形態のレーザ照射システムの動作について説明する。
【００６５】
図１１は、第１の実施形態のレーザ照射システム１００で行われる処理の一例を示すフローチャートである。ここでは、描画対象の形状として文字列を例に取り説明する。
【００６６】
まず、描画位置決定部１３２は、描画対象の形状である描画対象文字列に含まれる各文字の描画位置を決定する（ステップＳ１００）。
【００６７】
続いて、描画領域決定部１３４は、描画位置決定部１３２により決定された全ての描画位置を囲む領域を描画領域に決定する（ステップＳ１０２）。
【００６８】
続いて、塗潰しストローク生成部１３６は、描画領域決定部１３４により決定された描画領域を塗潰す塗潰しストロークを生成する（ステップＳ１０４）。
【００６９】
続いて、形状ストローク生成部１３８は、描画対象文字列に含まれる１文字のストロークフォントデータを形状情報記憶部１２２から取得し、取得したストロークフォントデータから当該文字の形状ストロークを生成する（ステップＳ１０６）。
【００７０】
続いて、第１検知部１４０及び更新部１４２は、塗潰しストローク生成部１３６により生成された塗潰しストロークと形状ストローク生成部１３８により生成された１文字分の形状ストロークとの重複部分を検知して除去する重複ストローク除去処理を行う（ステップＳ１０８）。なお、重複ストローク除去処理の詳細については後述する。
【００７１】
そして、描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われるまで、ステップＳ１０６〜ステップＳ１１０の処理が繰り返される（ステップＳ１１０でＮｏ）。
【００７２】
描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われると（ステップＳ１１０でＹｅｓ）、塗潰しストロークから描画対象文字列の形状ストロークとの重複部分が除去された描画ストロークが生成される。描画命令生成部１４４は、生成された描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する（ステップＳ１１２）。
【００７３】
続いて、描画制御部１４６は、描画命令生成部１４４により生成された描画命令を用いて、レーザ照射装置１５０を制御する（ステップＳ１１４）。
【００７４】
続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ照射制御装置１１０の制御に従って、サーマルリライタブル媒体１７０にレーザ光を照射し、サーマルリライタブル媒体１７０上に描画ストロークを描画する（ステップＳ１１６）。
【００７５】
図１２は、図１１のフローチャートのステップＳ１０８に示す重複ストローク除去処理の一例を示すフローチャートである。
【００７６】
まず、第１検知部１４０は、形状ストロークに含まれる１のストロークを重複検知対象に設定する（ステップＳ１３０）。
【００７７】
続いて、第１検知部１４０は、塗潰しストロークに含まれる１のストロークを重複検知対象に設定する（ステップＳ１３２）。
【００７８】
続いて、第１検知部１４０は、重複検知対象に設定した両ストロークが重複するか否かを確認する（ステップＳ１３４）。
【００７９】
第１検知部１４０により両ストロークの重複が検知された場合（ステップＳ１３４でＹｅｓ）、更新部１４２は、重複検知対象に設定された塗潰しストロークのストロークから重複部分を除去する（ステップＳ１３６）。なお、第１検知部１４０により両ストロークの重複が検知されなかった場合（ステップＳ１３４でＮｏ）、更新部１４２は、ステップＳ１３６の処理を行わない。
【００８０】
そして、重複検知対象に設定された形状ストロークのストロークと塗潰しストロークに含まれる全てのストロークとの重複確認が行われるまで、ステップＳ１３２〜ステップＳ１３８の処理が繰り返される（ステップＳ１３８でＮｏ）。
【００８１】
重複検知対象に設定された形状ストロークのストロークと塗潰しストロークに含まれる全てのストロークとの重複確認が行われると（ステップＳ１３８でＹｅｓ）、形状ストロークに含まれる他のストロークに対して、ステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の処理が繰り返される（ステップＳ１４０でＮｏ）。
【００８２】
形状ストロークに含まれる全てのストロークの重複確認が行われると（ステップＳ１４０でＹｅｓ）、第１検知部１４０及び更新部１４２は、重複ストローク除去処理を終了する。
【００８３】
以上のように第１の実施形態では、レーザ照射制御装置１１０は、ベクトルデータである描画ストロークをそのまま解釈する描画命令を生成し、生成した描画命令を用いて描画ストロークが示す明度を反転させた形状を描画させる。このように第１の実施形態によれば、描画ストロークをラスターデータに変換せずに描画命令を生成できるので、描画時間を短縮して、明度を反転させた形状を描画することができる。また、データサイズの大きいラスターデータを生成する必要がないため、メモリなどの記憶装置の記憶容量を節約することもできる。
【００８４】
（第２の実施形態）
上記第１の実施形態では、描画ストロークを描画する際のレーザ光の照射パワーについては言及しなかった。しかしながら、ストロークの周囲が他のストロークと接触していないと周囲に熱が逃げやすくなり、明度を反転させた形状の境界部分が十分に発色せず、ぼやけた印象になる場合がある。そこで、第２の実施形態では、描画ストロークを描画する際に、他のストロークと接触しない非接触部分を描画するレーザ光の照射パワーを強くする例について説明する。以下では、第１の実施形態との相違点の説明を主に行い、第１の実施形態と同様の機能を有する構成要素については、第１の実施形態と同様の名称・符号を付し、その説明を省略する。
【００８５】
図１３は、第２の実施形態のレーザ照射制御装置４１０の機能構成の一例を示すブロック図である。第２の実施形態のレーザ照射システム４００のレーザ照射制御装置４１０では、制御部４３０に第２検知部４４３が追加された点、及び描画命令生成部４４４の処理内容が第１の実施形態のレーザ照射制御装置１１０と相違する。以下では、これらの機能部について説明する。
【００８６】
第２検知部４４３は、描画ストロークに含まれる各ストロークから、描画ストロークに含まれる他のストロークと接触しない非接触部分を検知する。具体的には、第２検知部４４３は、描画ストローク情報により特定されるストローク毎に、当該ストロークの中心線から線幅の距離内に描画ストローク情報により特定される他のストロークの中心線が存在しない部分を非接触部分として検知する。図１４は、非接触部分が検知された描画ストロークの一例を示す図である。図１４に示す例では、第２検知部４４３により描画ストロークの境界部分が非接触部分として検知されている。
【００８７】
ここで、図１５−１〜図１５−２を参照しながら、非接触部分の検知手法を具体的に説明する。
【００８８】
図１５−１は、描画ストロークの一例を示す図である。ここでは、図１５−１に示すストローク５０１の非接触部分の検知する例について説明する。まず、第２検知部４４３は、ストローク５０１の中心線とストローク５０３の中心線との距離が線幅以下となる部分、即ち、ストローク５０３との接触部分をストローク５０１から検知し、接触部分の始点と終点の座標を記憶部１２０に一時的に記録する。以下、第２検知部４４３は、ストローク５０５、ストローク５０７、及びストローク５０９に対しても同様の処理を行う。そして、第２検知部４４３は、記憶部１２０に記録された座標から、ストローク５０１の上部及び下部の少なくとも一方が他のストロークと接触していない非接触部分を検知する。また、第２検知部４４３は、ストローク５０１の両端についても非接触部分として検知する。
【００８９】
図１５−２は、他のストロークとの非接触部分が検知されたストローク５０１を示す図である。図１５−２に示す例では、第２検知部４４３により、ストローク５０１から非接触部分５１１、５１３、５１５が検知されている。
【００９０】
図１３に戻り、描画命令生成部４４４は、描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令であって、第２検知部４４３により検知された非接触部分を描画するエネルギーを他の部分を描画するエネルギーよりも強くした描画命令を生成する。
【００９１】
図１６−１は、描画ストロークの一例を示す図であり、図１６−２は、図１６−１に示す描画ストロークを描画するための描画命令を示す図である。図１６−２に示す描画命令において、命令コード「ｐ」は、レーザ光の照射パワーをパラメータで指定されたパーセンテージに変更する命令である。図１６−２に示す例では、描画命令生成部４４４は、非接触部分の照射パワーを１０５％に設定し、他の部分の照射パワーを１００％に設定した描画命令を生成している。詳細には、描画命令生成部４４４は、描画ストロークに含まれるストローク毎に非接触部分と接触部分とを別々の線分に分割し、非接触部分の線分の照射パワーを１０５％に設定し、接触部分の線分の照射パワーを１００％に設定した描画命令を生成している。
【００９２】
なお、描画制御部１４６が図１６−２に示す描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御してサーマルリライタブル媒体１７０上に図１６−１に示す描画ストロークを描画させる場合、まず、レーザ照射装置１５０は、ストロークの線幅を４０に設定する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１００）に移動させ、レーザ光の照射パワーを１０５％に設定し、座標（１２００，１００）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１４０）に移動させ、時間「５０」待機した後、座標（１０３，１４０）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射パワーを１００％に設定し、座標（１８０，１４０）までのストロークを描画する。以下、レーザ照射装置１５０が描画命令に従った動作を行うことにより、境界部分がくっきりと表現される白抜き文字列がサーマルリライタブル媒体１７０上に描画（形成）される。
【００９３】
次に、第２の実施形態のレーザ照射システムの動作について説明する。
【００９４】
図１７は、第２の実施形態のレーザ照射システム４００で行われる処理の一例を示すフローチャートである。ここでは、描画対象の形状として文字列を例に取り説明する。
【００９５】
まず、ステップＳ２００〜ステップＳ２１０までの処理は、図１１に示すステップＳ１００〜Ｓ１１０までの処理と同様である。
【００９６】
そして、描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われると（ステップＳ２１０でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、描画ストロークに含まれる各ストロークから、描画ストロークに含まれる他のストロークと接触しない非接触部分を検知する非接触部分検知処理を行う（ステップＳ２１１）。なお、非接触部分検知処理の詳細については後述する。
【００９７】
続いて、描画命令生成部４４４は、更新部１４２により更新された描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令であって、第２検知部４４３により検知された非接触部分を描画するエネルギーを他の部分を描画するエネルギーよりも強くした描画命令を生成する（ステップＳ２１２）。
【００９８】
以降のステップＳ２１４、Ｓ２１６の処理は、それぞれステップＳ１１４、Ｓ１１６の処理と同様である。
【００９９】
図１８は、図１７のフローチャートのステップＳ２１１に示す非接触部分検知処理の一例を示すフローチャートである。
【０１００】
まず、第２検知部４４３は、描画ストロークに含まれる１のストロークを非接触部分検知対象に設定する（ステップＳ２３０）。
【０１０１】
続いて、第２検知部４４３は、描画ストロークに含まれる他のストロークを非接触部分検知対象に設定する（ステップＳ２３２）。
【０１０２】
続いて、第２検知部４４３は、非接触部分検知対象に設定した両ストロークが接触するか否かを確認する（ステップＳ２３４）。
【０１０３】
両ストロークの接触が検知された場合（ステップＳ２３４でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、１のストロークにおける接触部分の座標を記録する（ステップＳ２３６）。なお、第２検知部４４３により両ストロークの接触が検知されなかった場合（ステップＳ２３４でＮｏ）、第２検知部４４３は、ステップＳ２３６の処理を行わない。
【０１０４】
そして、１のストロークと描画ストロークに含まれる全ての他のストロークとの接触確認が行われるまで、ステップＳ２３２〜ステップＳ２３８の処理が繰り返される（ステップＳ２３８でＮｏ）。
【０１０５】
１のストロークと描画ストロークに含まれる全ての他のストロークとの接触確認が行われると（ステップＳ２３８でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、１のストロークにおける全ての接触部分の座標から、１のストロークに非接触部分が存在するか否かを確認する（ステップＳ２４０）。
【０１０６】
１のストロークに非接触部分が存在する場合（ステップＳ２４０でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、非接触部分の座標を記録する（ステップＳ２４２）。なお、１のストロークに非接触部分が存在しない場合（ステップＳ２４０でＮｏ）、第２検知部４４３は、ステップＳ２４２の処理を行わない。
【０１０７】
そして、描画ストロークに含まれる全てのストロークの非接触確認が行われるまで、ステップＳ２３０〜ステップＳ２４４の処理が繰り返され（ステップＳ２４４でＮｏ）、描画ストロークに含まれる全てのストロークの非接触確認が行われると（ステップＳ２４４でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、非接触部分検知処理を終了する。
【０１０８】
以上のように第２の実施形態では、描画ストロークの非接触部分を描画するレーザ光の照射パワーを他の部分よりも強くするため、明度を反転させた形状の境界部分をくっきりと表現することができ、品質（画実）を向上することができる。
【０１０９】
なお、第２の実施形態では、非接触部分の照射パワーを一律に設定したが、非接触部分の数に応じて照射パワーを変更するようにしてもよい。例えば、ストロークの上部及び下部のいずれにも他のストロークが存在しない場合、いずれか一方に他のストロークが存在する場合に比べ熱が逃げやすくなる。従って、非接触部分の数が多くなるほど照射パワーを強くするようにしてもよい。
【０１１０】
（第３の実施形態）
上記第１の実施形態では、描画ストロークのみを描画する例について説明した。しかしながら、ストロークの線幅（発色域の幅）が太くなると、明度を反転させた形状の境界部分の凹凸が目立ってしまう。そこで、第３の実施形態では、形状ストロークの輪郭のストロークである輪郭ストロークを生成し、描画ストロークとともに輪郭ストロークを描画する例について説明する。以下では、第１の実施形態との相違点の説明を主に行い、第１の実施形態と同様の機能を有する構成要素については、第１の実施形態と同様の名称・符号を付し、その説明を省略する。
【０１１１】
図１９は、第３の実施形態のレーザ照射制御装置６１０の機能構成の一例を示すブロック図である。第３の実施形態のレーザ照射システム６００のレーザ照射制御装置６１０では、制御部６３０に輪郭ストローク生成部６４３が追加された点、及び描画命令生成部６４４の処理内容が第１の実施形態のレーザ照射制御装置１１０と相違する。以下では、これらの機能部について説明する。
【０１１２】
輪郭ストローク生成部６４３は、形状ストロークの輪郭のストロークである輪郭ストロークを生成する。例えば、形状ストローク生成部１３８により図２０−１に示す形状ストロークが生成された場合、輪郭ストローク生成部６４３は、図２０−２に示すように、図２０−１に示す形状ストロークに接する輪郭ストロークを生成する。具体的には、輪郭ストローク生成部６４３は、形状ストロークに平行する複数のストロークを形状ストロークに隣接させて太字ストロークを生成し、太字ストロークから両端のストローク以外のストロークを除去することで輪郭ストロークを生成する。例えば輪郭ストローク生成部６４３は、図２０−３に示すように、図２０−１に示す形状ストロークに平行する２つのストロークをそれぞれ形状ストロークに隣接させて太字ストロークを生成し、太字ストロークから両端のストローク以外のストローク、即ち、中心の形状ストロークを除去することで図２０−２に示す輪郭ストロークを生成する。
【０１１３】
なお、輪郭ストローク生成部６４３は、図２０−４に示すように、図２０−２に示す輪郭ストロークの両端を閉じた輪郭ストロークを生成するようにしてもよい。具体的には、輪郭ストローク生成部６４３は、他と接続しない輪郭ストロークの端部（図２０−２に示す点線部参照）に、輪郭ストロークに対して垂直のストロークを生成するようにしてもよい。例えば、輪郭ストローク生成部６４３は、他と接続しない輪郭ストロークの端部から、太字ストロークの太さ程度の距離内に別の、他と接続しない輪郭ストロークの端部を検出する。そして輪郭ストローク生成部６４３は、それぞれの端部から重複しないように離れた位置に、ストロークの座標を決定することで、輪郭ストロークの端部に、輪郭ストロークに対して垂直のストロークを生成する。
【０１１４】
図１９に戻り、描画命令生成部６４４は、描画ストローク及び輪郭ストロークをいずれかの順序で描画させる描画命令を生成する。本実施形態では、描画命令生成部６４４は、描画ストロークの描画と輪郭ストロークの描画との間に待機時間を設定した描画命令を生成するものとする。
【０１１５】
図２１−１は、描画ストロークと輪郭ストロークとを描画領域に重ねて配置した状態を示す図であり、図２１−２は、図２１−１に示す描画ストローク及び輪郭ストロークを描画するための描画命令を示す図である。図２１−２に示す例では、描画命令生成部６４４は、描画ストロークの描画と輪郭ストロークの描画との間に待機時間「３００」を設定した描画命令を生成している。
【０１１６】
なお、描画制御部１４６が図２１−２に示す描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御してサーマルリライタブル媒体１７０上に図２１−１に示す描画ストローク及び輪郭ストロークを描画させる場合、まず、レーザ照射装置１５０は、ストロークの線幅を４０に設定する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１００）に移動させ、座標（１２００，１００）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１４０）に移動させ、時間「５０」待機した後、座標（１８０，１４０）までのストロークを描画する。以下、レーザ照射装置１５０が描画命令に従った動作を行うことにより、描画ストロークがサーマルリライタブル媒体１７０上に描画（形成）される。
【０１１７】
そして、レーザ照射装置１５０は、時間「３００」待機する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１８０，１００）に移動させ、時間「５０」待機した後、座標（５２０，１００）までのストロークを描画する。以下、レーザ照射装置１５０が描画命令に従った動作を行うことにより、輪郭ストロークがサーマルリライタブル媒体１７０上に描画（形成）される。
【０１１８】
図２２は、サーマルリライタブル媒体１７０上に重ねて描画される描画ストローク及び輪郭ストロークの一例を示す図である。図２２に示す例では、図２３に示す描画ストロークと、図２０−２に示す輪郭ストロークとを重ねて描画している。なお、図２３に示す描画ストロークは、ストロークを他のストロークと重ねて描画している。
【０１１９】
次に、第３の実施形態のレーザ照射システムの動作について説明する。
【０１２０】
図２４は、第３の実施形態のレーザ照射システム６００で行われる処理の一例を示すフローチャートである。ここでは、描画対象の形状として文字列を例に取り説明する。
【０１２１】
まず、ステップＳ３００〜ステップＳ３０８までの処理は、図１１に示すステップＳ１００〜Ｓ１０８までの処理と同様である。
【０１２２】
ステップＳ３０８で重複ストローク除去処理が行われると、輪郭ストローク生成部６４３は、形状ストローク生成部１３８により生成された形状ストロークの輪郭のストロークである輪郭ストロークを生成する（ステップＳ３０９）。
【０１２３】
そして、描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われるまで、ステップＳ３０６〜ステップＳ３１０の処理が繰り返される（ステップＳ３１０でＮｏ）。
【０１２４】
描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われると（ステップＳ３１０でＹｅｓ）、描画命令生成部６４４は、更新部１４２により更新された描画ストローク及び輪郭ストローク生成部６４３により生成された輪郭ストロークをいずれかの順序で描画させる描画命令を生成する（ステップＳ３１２）。
【０１２５】
以降のステップＳ３１４、Ｓ３１６の処理は、それぞれステップＳ１１４、Ｓ１１６の処理と同様である。
【０１２６】
以上のように第３の実施形態では、描画ストロークとともに輪郭ストロークを描画して描画ストロークの境界部分の凹凸を輪郭ストロークで塗潰すため、明度を反転させた形状の境界部分を滑らかに再現することができ、品質（画実）を向上することができる。
【０１２７】
また第３の実施形態では、描画ストロークの描画と輪郭ストロークの描画との間に待機時間を設定しているため、描画ストロークを描画した際の熱が十分に逃げた後に輪郭ストロークを描画することができる。このため、媒体温度が必要以上に上昇せず、サーマルリライタブル媒体の劣化を防止することができる。
【０１２８】
（ハードウェア構成）
次に、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置のハードウェア構成について説明する。
【０１２９】
図２５は、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。レーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０では、バス７００に、ＣＰＵ７０１、ＤＲＡＭ(Dynamic Random Access Memory)などのメモリであるメモリ７０２、ドライブ装置７０３、通信Ｉ／Ｆ７０４、ハードディスク７０５、入力装置７０６、及び表示制御装置７０７が接続される。バス７００に接続される各部は、バス７００を介して互いに通信可能とされている。
【０１３０】
ハードディスク７０５は、ＣＰＵ７０１が動作するためのプログラムや各種データ、文字や記号のフォントデータなどが予め記憶される。レーザ照射装置１５０を制御するための制御プログラムも、ハードディスク７０５に記憶される。ＣＰＵ７０１は、ハードディスク７０５から読み出したプログラムに従い、メモリ７０２をワークメモリとして用いて、レーザ照射システム１００、４００、６００の全体の動作を制御する。
【０１３１】
ドライブ装置７０３は、脱着可能な記憶媒体７１０が装填可能とされ、当該記憶媒体７１０からのデータの読み出しを行うことができる。ドライブ装置７０３が対応可能な記憶媒体７１０としては、ＣＤ(Compact Disc)、ＤＶＤ(Digital Versatile Disk)といったディスク記憶媒体や、書き換え可能な不揮発性の半導体メモリ（例えばＥＥＰＲＯＭ）が考えられる。
【０１３２】
上述したハードディスク７０５に格納される制御プログラムやフォントデータは、例えば記憶媒体７１０に記録されて提供される。ドライブ装置７０３により、記憶媒体７１０に記録された制御プログラムやフォントデータを読み出してハードディスク７０５に記憶することで、レーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０に対して制御プログラムが実装される。
【０１３３】
通信Ｉ／Ｆ７０４は、レーザ照射装置１５０とのインターフェイスであって、ＣＰＵ７０１は、通信Ｉ／Ｆ７０４を介してレーザ発振器１５２及び方向制御モータ１５８と通信を行い、これらを制御する。通信Ｉ／Ｆ７０４は、例えば、ＩＥＥＥ(Institute of Electrical and Electronics Engineers)１３９４やＵＳＢ(Universal Serial Bus)といったシリアルインターフェイスに対応し、このシリアルインターフェイスを介してレーザ照射装置１５０を制御する。なお、通信Ｉ／Ｆ７０４が対応可能なインターフェイスは、有線に限られず、ワイヤレスＵＳＢやＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）といった、無線通信を行うものでもよい。また、レーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０とレーザ照射装置１５０とを共通の筐体内に構成するものとし、通信Ｉ／Ｆ７０４を内部的な通信を行うインターフェイスとしてもよい。
【０１３４】
入力装置７０６は、ユーザ操作に応じた制御信号を出力し、ＣＰＵ７０１に供給する。ＣＰＵ７０１がプログラムに従い、この入力装置７０６からの制御信号に応じてレーザ照射システム１００、４００、６００を制御することで、レーザ照射システム１００、４００、６００を、ユーザ操作に応じて動作させることが可能となる。
【０１３５】
表示制御装置７０７は、ＬＣＤ(Liquid Crystal Display)などを表示デバイスとして用いたディスプレイ７０８が接続される。表示制御装置７０７は、ＣＰＵ７０１がプログラムに従い生成した表示制御信号を、ディスプレイ７０８が表示可能な信号に変換してディスプレイ７０８に供給する。このディスプレイ７０８における表示と、入力装置７０６とにより、レーザ照射システム１００、４００、６００を操作するためのＧＵＩ(Graphical User Interface)を構成することができる。このＧＵＩにより、例えばサーマルリライタブル媒体１７０に描画する文字や記号の入力欄がディスプレイ７０８に表示される。ユーザは、このＧＵＩによる表示に従い、入力装置７０６から文字や記号の入力を行う。
【０１３６】
サーマルリライタブル媒体１７０に描画される描画対象の文字や記号は、例えばリスト状にハードディスク７０５に記憶されていてもよいし、入力装置７０６により入力してもよい。文字や記号は、ＵＮＩＣＯＤＥやＪＩＳコードなどの文字コードで特定され、レーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０は、文字コードに対応するフォントデータをハードディスク７０５から読み出して描画命令に変換することで、レーザ照射装置１５０を制御する。
【０１３７】
なお、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムは、メモリ７０２のＲＯＭ等に予め組み込まれて提供される。
【０１３８】
第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムは、インストール可能な形式又は実行可能な形式のファイルでＣＤ−ＲＯＭ、フレキシブルディスク（ＦＤ）、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｋ）等のコンピュータで読み取り可能な記憶媒体に記録して提供するように構成してもよい。
【０１３９】
さらに、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムを、インターネット等のネットワークに接続されたコンピュータ上に格納し、ネットワーク経由でダウンロードさせることにより提供するように構成しても良い。また、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムをインターネット等のネットワーク経由で提供または配布するように構成しても良い。
【０１４０】
第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムは、上述した各部をコンピュータ上で実現させるためのモジュール構成となっている。実際のハードウェアとしてはＣＰＵ７０１がメモリ７０２のＲＯＭから描画プログラムをメモリ７０２のＤＲＡＭ上に読み出して実行することにより、上記各部がコンピュータ上で実現されるようになっている。
【符号の説明】
【０１４１】
１００、４００、６００ レーザ照射システム
１１０、４１０、６１０ レーザ照射制御装置
１２０ 記憶部
１２２ 形状情報記憶部
１３０、４３０、６３０ 制御部
１３２ 描画位置決定部
１３４ 描画領域決定部
１３６ 塗潰しストローク生成部
１３８ 形状ストローク生成部
１４０ 第１検知部
１４２ 更新部
１４４、４４４、６４４ 描画命令生成部
１４６ 描画制御部
１５０ レーザ照射装置
１５２ レーザ発振器
１５４ 光学レンズ
１５６ 方向制御ミラー
１５８ 方向制御モータ
１６０ 集光レンズ
１７０ サーマルリライタブル媒体
４４３ 第２検知部
６４３ 輪郭ストローク生成部
７００ バス
７０１ ＣＰＵ
７０２ メモリ
７０３ ドライブ装置
７０４ 通信Ｉ／Ｆ
７０５ ハードディスク
７０６ 入力装置
７０７ 表示制御装置
７０８ ディスプレイ
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１４２】
【特許文献１】特開２００５−３１００４８号公報
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、サーマルリライタブル媒体や金属などの対象物にレーザ光を照射することで、当該対象物に文字や記号などの形状を書き込むレーザマーカが知られている。このようなレーザマーカは、各種分野で使用されており、例えば、物流などの分野においては、コンテナなどに貼付されたサーマルリライタブル媒体への物品名や物品の宛先などの印字に用いられている。
【０００３】
ところで、対象物に書き込まれる形状を強調するため、形状の明度を反転させて書き込むこと、即ち、形状部分を書き込む明度と背景部分を書き込む明度とを反転させて書き込むことが所望される場合がある。例えば特許文献１には、２次元コードのコードシンボルを明暗反転変換して反転コードシンボルを生成し、生成した反転コードシンボルをドットデータや走査データなどのマーキングデータに変換し、変換したマーキングデータを用いて明度を反転させた２次元コードをワークにレーザマーキングすることが開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した従来の技術では、ドットデータや走査データなどのマーキングデータに変換するためのラスター化が必要となる。また、ドットデータや走査データなどのマーキングデータを用いて描画を行うため、明度を反転させた形状をラスタスキャンで描画することになる。このため、上述した従来の技術では、明度を反転させた形状を描画するための処理量が多く、描画に時間を要してしまう。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、描画時間を短縮して、明度を反転させた形状を描画することができる描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の一態様にかかる描画制御装置は、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する塗潰しストローク生成手段と、前記描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する形状ストローク生成手段と、前記塗潰しストロークと前記形状ストロークとの重複部分を検知する第１検知手段と、前記塗潰しストロークから前記重複部分を除去して、描画ストロークに更新する更新手段と、前記描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する描画命令生成手段と、前記描画命令を用いて、対象物にエネルギーを伝達して可視情報を描画する描画装置を制御し、前記対象物上に前記描画ストロークを描画させる描画制御手段と、を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の別の態様にかかるレーザ照射システムは、上記描画制御装置と描画装置とを備えるレーザ照射システムであって、前記描画装置は、前記描画命令に従ってレーザを発振するレーザ発振器と、前記レーザの照射方向を変更する方向制御ミラーと、前記描画命令に従って前記方向制御ミラーを駆動して、前記対象物に前記レーザを照射させる方向制御モータと、を備えることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の別の態様にかかる描画方法は、塗潰しストローク生成手段が、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する塗潰しストローク生成ステップと、形状ストローク生成手段が、前記描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する形状ストローク生成ステップと、第１検知手段が、前記塗潰しストロークと前記形状ストロークとの重複部分を検知する第１検知ステップと、更新手段が、前記塗潰しストロークから前記重複部分を除去して、描画ストロークに更新する更新ステップと、描画命令生成手段が、前記描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する描画命令生成ステップと、描画制御手段が、前記描画命令を用いて、対象物にエネルギーを伝達して可視情報を描画する描画装置を制御し、前記対象物上に前記描画ストロークを描画させる描画制御ステップと、を含むことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の別の態様にかかる描画プログラムは、上記描画方法をコンピュータに実行させるためのものである。
【００１０】
また、本発明の別の態様にかかる記憶媒体は、上記描画プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、描画時間を短縮して、明度を反転させた形状を描画することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、第１実施形態のレーザ照射システムの概略構成例を示す構成図である。
【図２】図２は、第１実施形態のレーザ照射制御装置の機能構成例を示すブロック図である。
【図３】図３は、描画位置の一例を示す図である。
【図４】図４は、描画領域の一例を示す図である。
【図５−１】図５−１は、塗潰しストロークの一例を示す図である。
【図５−２】図５−２は、塗潰しストローク情報の一例を示す図である。
【図６−１】図６−１は、ストロークフォントデータの一例を示す図である。
【図６−２】図６−２は、曲線部を直線で近似する手法の説明図である。
【図６−３】図６−３は、直線で近似されたストロークフォントデータの一例を示す図である。
【図６−４】図６−４は、形状ストロークの一例を示す図である。
【図６−５】図６−５は、形状ストローク情報の一例を示す図である。
【図７−１】図７−１は、交点が存在する２線分の例を示す図である。
【図７−２】図７−２は、交点が存在せず、垂線を設定可能な２線分の例を示す図である。
【図７−３】図７−３は、交点が存在せず、垂線を設定不可能な２線分の例を示す図である。
【図８−１】図８−１は、塗潰しストロークと形状ストロークとを描画領域に重ねて配置した状態を示す図である。
【図８−２】図８−２は、塗潰しストロークの更新過程の説明図である。
【図８−３】図８−３は、塗潰しストロークの更新過程の説明図である。
【図８−４】図８−４は、塗潰しストロークの更新過程の説明図である。
【図８−５】図８−５は、塗潰しストロークの更新過程の説明図である。
【図８−６】図８−６は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図９−１】図９−１は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図９−２】図９−２は、描画命令の一例を示す図である。
【図１０】図１０は、サーマルリライタブル媒体上に描画される白抜き文字列の一例を示す図である。
【図１１】図１１は、第１実施形態のレーザ照射システムで行われる処理例を示すフローチャートである。
【図１２】図１２は、第１実施形態のレーザ照射システムで行われる重複ストローク除去処理例を示すフローチャートである。
【図１３】図１３は、第２実施形態のレーザ照射制御装置の機能構成例を示すブロック図である。
【図１４】図１４は、非接触部分が検知された描画ストロークの一例を示す図である。
【図１５−１】図１５−１は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図１５−２】図１５−２は、他のストロークとの非接触部分が検知されたストロークを示す図である。
【図１６−１】図１６−１は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図１６−２】図１６−２は、描画命令の一例を示す図である。
【図１７】図１７は、第２実施形態のレーザ照射システムで行われる処理例を示すフローチャートである。
【図１８】図１８は、第２実施形態のレーザ照射システムで行われる非接触部分検知処理例を示すフローチャートである。
【図１９】図１９は、第３実施形態のレーザ照射制御装置の機能構成例を示すブロック図である。
【図２０−１】図２０−１は、形状ストロークの一例を示す図である。
【図２０−２】図２０−２は、輪郭ストロークの一例を示す図である。
【図２０−３】図２０−３は、太字ストロークの一例を示す図である。
【図２０−４】図２０−４は、輪郭ストロークの一例を示す図である。
【図２１−１】図２１−１は、描画ストロークと輪郭ストロークとを描画領域に重ねて配置した状態を示す図である。
【図２１−２】図２１−２は、描画命令の一例を示す図である。
【図２２】図２２は、サーマルリライタブル媒体上に重ねて描画される描画ストローク及び輪郭ストロークの一例を示す図である。
【図２３】図２３は、描画ストロークの一例を示す図である。
【図２４】図２４は、第３実施形態のレーザ照射システムで行われる処理例を示すフローチャートである。
【図２５】図２５は、第１〜第３実施形態のレーザ照射制御装置のハードウェア構成例を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照しながら、本発明にかかる描画制御装置、レーザ照射システム、描画方法、描画プログラム、及び記憶媒体の実施の形態を詳細に説明する。
【００１４】
（第１の実施形態）
第１の実施形態では、明度を反転させた形状のストロークである描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成し、生成した描画命令に従ってレーザ光を照射することで、明度を反転させた形状を対象物に書き込む例について説明する。
【００１５】
まず、第１の実施形態のレーザ照射システムの構成について説明する。
【００１６】
図１は、第１の実施形態のレーザ照射システム１００の概略構成の一例を示す構成図である。図１に示すように、レーザ照射システム１００は、レーザ照射制御装置１１０と、レーザ照射装置１５０とを備える。
【００１７】
レーザ照射制御装置１１０（描画制御装置の一例）は、レーザ照射装置１５０（描画装置の一例）を制御するための描画命令を生成し、生成した描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御する。レーザ照射制御装置１１０の詳細については後述する。
【００１８】
レーザ照射装置１５０は、レーザ照射制御装置１１０の制御に従ってサーマルリライタブル媒体１７０（対象物の一例）にレーザ光を照射することによりサーマルリライタブル媒体１７０を加熱して、文字や記号などの形状又は明度を反転させた形状を書き込む。レーザ照射装置１５０は、レーザ発振器１５２と、光学レンズ１５４と、方向制御ミラー１５６と、方向制御モータ１５８と、集光レンズ１６０とを備える。
【００１９】
レーザ発振器１５２は、レーザ照射制御装置１１０により生成された描画命令に従ってレーザを発振するものであり、例えば、半導体レーザ（ＬＤ：Ｌａｓｅｒ Ｄｉｏｄｅ）、気体レーザ、固体レーザ、又は液体レーザなどにより実現できる。
【００２０】
光学レンズ１５４は、レーザ発振器１５２により発振されたレーザ光のスポット径を拡大して、方向制御ミラー１５６に入射させる。
【００２１】
方向制御ミラー１５６は、反射面（図示省略）を備えており、光学レンズ１５４によりスポット径が拡大されたレーザ光を反射面で反射させてレーザ光の照射方向を変更する。
【００２２】
方向制御モータ１５８は、レーザ照射制御装置１１０により生成された描画命令に従って方向制御ミラー１５６を駆動し、方向制御ミラー１５６の反射面の向きを２軸に制御することにより、サーマルリライタブル媒体１７０へのレーザ光の照射位置を調整する。方向制御モータ１５８は、例えば、サーボモータなどにより実現できる。レーザ照射装置１５０では、方向制御ミラー１５６及び方向制御モータ１５８によりガルバノミラーが構成される。
【００２３】
集光レンズ１６０は、方向制御ミラー１５６から出射されたレーザ光をサーマルリライタブル媒体１７０の表面に収束させる。
【００２４】
サーマルリライタブル媒体１７０は、発色温度帯まで加熱して急冷することで発色し、発色部を当該発色温度帯より低温の消色温度帯に加熱することで消色する書き換え可能な感熱媒体である。ここでは、サーマルリライタブル媒体１７０は、加熱により白から黒に発色する感熱媒体とする。つまり、サーマルリライタブル媒体１７０に書き込まれる形状は、白い背景上に黒い線分で描かれる黒抜きの形状となり、サーマルリライタブル媒体１７０に書き込まれる明度を反転させた形状は、黒い背景上に白い線分で描かれる白抜きの形状となる。
【００２５】
本実施形態では、文字や記号などの形状が書き込まれる対象物としてサーマルリライタブル媒体を例に取り説明するが、これに限定されるものではなく、例えば、感熱紙（サーマルペーパ）、プラスチック、金属などのように書き換え不可能な媒体であってもよい。なお、対象物にプラスチックや金属を用いた場合、当該プラスチックや金属には、レーザ光の照射により、文字や記号などの形状として当該形状を彫り込んだ刻印（形状を相対的に沈み込ませた刻印）が形成され、明度を反転させた形状として当該形状の周辺を彫り込んだ刻印（形状を相対的に浮き上がらせた刻印）が形成される。
【００２６】
また、通常のサーマルリライタブル媒体や感熱紙は、近赤外領域のレーザ光を吸収しない。このため、レーザ発振器１５２に、半導体レーザや固体レーザのＹＡＧレーザなどの近赤外レーザ波長を発振するレーザ発光素子を用いる場合は、サーマルリライタブル媒体や感熱紙にレーザ光を吸収する材料の添加や層を追加する必要がある。
【００２７】
図２は、第１の実施形態のレーザ照射制御装置１１０の機能構成の一例を示すブロック図である。図２に示すように、レーザ照射制御装置１１０は、記憶部１２０と、制御部１３０とを備える。
【００２８】
記憶部１２０は、レーザ照射制御装置１１０で実行される各種プログラムやレーザ照射制御装置１１０で行われる各種処理に使用される情報などを記憶するものである。記憶部１２０は、例えば、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）、ＳＳＤ（Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｒｉｖｅ）、メモリカード、光ディスク、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）などの磁気的、光学的、又は電気的に記憶可能な既存の記憶装置により実現できる。記憶部１２０は、形状情報記憶部１２２を備える。
【００２９】
形状情報記憶部１２２は、描画対象の形状を示す形状情報を記憶する。例えば、形状情報記憶部１２２は、文字や記号などが中心線の並び（詳細には、中心線の端点の座標値）で定義されたストロークフォントデータを記憶する。ここでは、ストロークフォントデータは標準化された大きさの座標値で定義されているものとする。なお、ストロークフォントデータに、描画順序を含めるようにしてもよい。
【００３０】
制御部１３０は、レーザ照射装置１５０を制御するための各種処理を行うものであり、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）や、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）などにより実現できる。制御部１３０は、描画位置決定部１３２と、描画領域決定部１３４と、塗潰しストローク生成部１３６と、形状ストローク生成部１３８と、第１検知部１４０と、更新部１４２と、描画命令生成部１４４と、描画制御部１４６とを備える。
【００３１】
描画位置決定部１３２は、描画対象の形状の描画位置を決定する。具体的には、描画位置決定部１３２は、描画基点、描画対象の形状、及び描画対象の形状のサイズなどの描画位置決定データから、描画対象の形状の描画位置を決定する。なお、描画位置決定データは、記憶部１２０に予め記憶しておいてもよいし、入力部（図示省略）から入力するようにしてもよい。また、描画位置決定データの一部を記憶部１２０に予め記憶しておき、残りを入力部から入力するようにしてもよい。また、描画位置決定部１３２は、更に、形状情報記憶部１２２に記憶されている形状情報を参照して、描画対象の形状の描画位置を決定するようにしてもよい。
【００３２】
図３は、描画位置の一例を示す図であり、描画対象の形状である描画対象文字列２０１に含まれる各文字の描画位置を黒枠で示している。図３に示す例では、描画位置決定部１３２は、描画基点（ｘ０，ｙ０）を基準として、描画対象文字列２０１及びそのサイズから各文字の描画位置を決定している。
【００３３】
具体的に説明すると、描画位置決定部１３２は、まず、最初の行の先頭文字（図３に示す例では文字２０２）の左上が描画基点（ｘ０，ｙ０）となるように描画開始位置を決定する。そして、描画位置決定部１３２は、先頭文字（図３に示す例では文字２０２）の文字幅ｗと文字間に空けるべき隙間ｓｈと文字高さｈとを決定する。文字幅ｗは、例えばユーザにより入力部から入力されて設定される文字倍率ｒとフォントサイズで定義されるフォント文字幅ｆとの積とすることができる。つまり、ｗ＝ｆ＊ｒとなる。文字間の隙間ｓｈは、例えばユーザにより入力部から予め入力されて設定される。文字高さｈは、例えば文字倍率ｒとフォントサイズで定義されるフォント文字高さｇとの積とすることができる。つまり、ｈ＝ｇ＊ｒとなる。これにより、描画位置決定部１３２は、先頭文字（図３に示す例では文字２０２）の描画終了位置を（ｘ０＋ｗ，ｙ０＋ｇ＊ｒ）に決定し、次の文字（図３に示す例では文字２０３）の描画開始位置（ｘ１，ｙ１）を、ｘ１＝ｘ０＋ｗ＋ｓｈ、ｙ１＝ｙ０に決定する。以下、描画位置決定部１３２は、算出した描画開始位置を用いて描画終了位置及びその次の文字の描画開始位置を順次決定していき、同一行に含まれる全ての文字の描画開始位置及び描画終了位置を決定する。
【００３４】
続いて、描画位置決定部１３２は、次の行の先頭文字（図３に示す例では文字２０４）の描画開始位置（ｘ０’，ｙ０’）を、ｘ０’＝ｘ０、ｙ０’＝ｙ０＋ｇ＊ｒに決定する。以下、描画位置決定部１３２は、算出した描画開始位置を用いて描画終了位置及びその次の文字の描画開始位置を順次決定していき、最初の行と同様に同一行に含まれる全ての文字の描画開始位置及び描画終了位置を決定する。
【００３５】
図２に戻り、描画領域決定部１３４は、描画領域を決定する。図４は、描画領域の一例を示す図である。図４に示す例では、描画領域決定部１３４は、描画位置決定部１３２により決定された全ての描画位置を囲む領域を描画領域２１１に決定している。
【００３６】
具体的には、描画領域決定部１３４は、描画位置決定部１３２により決定された各文字の描画開始位置及び描画終了位置のうち、描画開始位置の最小値、描画終了位置の最大値を求め、それぞれ、（ｘ０，ｙ０）、（ｘｅ，ｙｅ）とする。また、描画位置周辺に空けるべき隙間Ｐは、例えばユーザにより入力部から予め入力されて設定される。但し、レーザ照射装置１５０は、線幅以下の細い領域は表現できないため、隙間Ｐは、線幅以上であるものとする。そして、描画領域決定部１３４は、描画領域（図４に示す例では描画領域２１１）を（ｘ０−Ｐ，ｙ０−Ｐ）〜（ｘｅ＋Ｐ，ｙｅ＋Ｐ）に決定する。
【００３７】
図２に戻り、塗潰しストローク生成部１３６は、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する。具体的には、塗潰しストローク生成部１３６は、塗潰しストロークに含まれる各ストロークの始点及び終点を示す塗潰しストローク情報を塗潰しストロークとして生成する。ここでは、ストロークの始点及び終点は、当該ストロークの中心線の始点及び終点とする。
【００３８】
図５−１は、塗潰しストロークの一例を示す図である。図５−１に示す例では、ストロークとして線分を想定しており、塗潰しストローク生成部１３６は、Ｘ方向の線分を線幅分ずつＹ方向にずらしていくことで塗潰しストロークを生成している。ここで、線幅とは、線分の幅であり、詳細には、レーザ照射装置１５０でサーマルリライタブル媒体１７０にストロークを描画した際に、サーマルリライタブル媒体１７０が発色する発色域の幅を示す。従って、Ｙ方向にずらしていくサイズは、発色域の幅に応じて決定される。なお、サーマルリライタブル媒体１７０の発色域の幅は、光学レンズ１５４や集光レンズ１６０のレンズ位置又は焦点距離、サーマルリライタブル媒体１７０との距離を調整することで変化させることができる。
【００３９】
図５−１に示す例では、塗潰しストローク生成部１３６は、まず、線分２２１の中心線２２３の始点（１００，１００）及び終点（５００，１００）を生成する。以下、塗潰しストローク生成部１３６は、線分２２１を線幅のサイズである４０ずつＹ方向にずらしていくことで、線分２２５の中心線２２７の始点（１００，１４０）及び終点（５００，１４０）、線分２２９の中心線２３１の始点（１００，１８０）及び終点（５００，１８０）を順次生成し、図５−２に示す塗潰しストローク情報を生成する。
【００４０】
本実施形態では、Ｘ方向の線分を線幅分ずつＹ方向にずらして塗潰しストロークを生成する例について説明したが、塗潰しストロークの生成手法はこれに限定されるものではない。例えば、Ｙ方向の線分を線幅分ずつＸ方向にずらして塗潰しストロークを生成するなど種々の手法で生成することができる。
【００４１】
図２に戻り、形状ストローク生成部１３８は、描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する。具体的には、形状ストローク生成部１３８は、描画対象の形状を示す形状情報を形状情報記憶部１２２から取得し、取得した形状情報から形状ストロークを生成する。例えば、形状ストローク生成部１３８は、描画対象文字列２０１に含まれる各文字のストロークフォントデータを形状情報記憶部１２２から取得し、取得したストロークフォントデータから各文字の形状ストロークを生成する。詳細には、形状ストローク生成部１３８は、形状ストロークに含まれるストロークの始点及び終点を示す形状ストローク情報を形状ストロークとして生成する。ここでは、ストロークの始点及び終点は、当該ストロークの中心線の始点及び終点とする。なお、形状ストロークは、単数のストロークであってもよいし、複数のストロークであってもよい。
【００４２】
ここで、図６−１〜図６−５を参照しながら、形状ストロークの生成手法を具体的に説明する。
【００４３】
図６−１は、ストロークフォントデータの一例を示す図である。図６−１に示す例では、ストロークフォントデータ２４１は曲線部を有しているが、本実施形態では、ストロークとして線分を想定しているため、形状ストローク生成部１３８は、ストロークフォントデータ２４１の曲線部を直線で近似する。これは、曲線部を有していると線分間の距離の算出が複雑になるためである。なお、曲線部を有しているストロークフォントデータには、曲線制御用のデータが含まれているので、形状ストローク生成部１３８は、曲線制御用のデータの有無から曲線部を有するか否かを判別する。
【００４４】
図６−２は、曲線部を直線で近似する手法の説明図である。図６−２に示す例の場合、形状ストローク生成部１３８は、始点（Ａ，Ｂ）から始まり終点（Ｃ，Ｄ）で終了する曲線部２４２に対して、所定距離ｓ毎に曲線部２４６の座標を検出することで（ｘ１，ｙ１）〜（ｘ５，ｙ５）の５つの座標を検出している。これにより、形状ストローク生成部１３８は、曲線部２４２を線分２４３〜線分２４８に近似する。
【００４５】
図６−３は、ストロークフォントデータ２４１を直線で近似したストロークフォントデータ２５１を示す図である。図６−３に示す例では、ストロークフォントデータ２５１は、ストロークフォントデータ２４１の直線部分に相当する線分２５３、並びにストロークフォントデータ２４１の曲線部分を直線で近似した線分２５５、２５７、及び２５９から構成されている。そして、形状ストローク生成部１３８は、ストロークフォントデータ２５１を描画位置や文字のサイズに合わせるため、変倍を行って形状ストロークを生成する。
【００４６】
図６−４は、ストロークフォントデータ２５１を変倍した形状ストローク２６１を示す図である。図６−４に示す例では、形状ストローク生成部１３８は、ストロークフォントデータ２５１を形状ストローク２６１に変倍することにより、線分２５３を変倍した線分２６３の中心線２６４の始点（１００，５０）及び終点（１００，５００）、線分２５５を変倍した線分２６５の中心線２６６の始点（１００，２２０）及び終点（２３０，５０）、線分２５７を変倍した線分２６７の中心線２６８の始点（２３０，５０）及び終点（３００，５０）、線分２５９を変倍した線分２６９の中心線２７０の始点（３００，５０）及び終点（４００，１００）を生成し、図６−５に示す形状ストローク情報を生成する。
【００４７】
本実施形態では、ストロークフォントデータを直線で近似した後に変倍を行って形状ストロークを生成する例について説明したが、形状ストロークの生成手法はこれに限定されるものではない。例えば、ストロークフォントデータの変倍を行った後に直線で近似して形状ストロークを生成したり、直線近似のみを行って形状ストロークを生成したりするなど種々の手法で生成することができる。
【００４８】
図２に戻り、第１検知部１４０は、塗潰しストロークと形状ストロークとの重複部分を検知する。具体的には、第１検知部１４０は、塗潰しストローク情報により特定される各ストロークの中心線と形状ストローク情報により特定される各ストロークの中心線との距離が、線幅（発色域の幅）以下となる部分を重複部分として検知する。
【００４９】
ここで、第１検知部１４０の重複部分の検知手法について詳細に説明する。第１検知部１４０は、塗潰しストローク情報や形状ストローク情報に基づき、線分の位置と線の太さに起因して重複する可能性のある線分を検出する。例えば第１検知部１４０は、図５−２の塗潰しストローク情報が示す塗潰しストロークの座標と図６−５の形状ストローク情報が示す形状ストロークの座標とから重複が生じるか否かを判定する。
【００５０】
具体的には、第１検知部１４０は、以下のルールに従って、線分の座標から線分同士の距離を求める。
・線分同士に交点がある場合、距離は、ゼロ
・線分同士に交点がない場合、距離は、一方の線分の端点から他方の線分に下ろした垂線の距離（垂線が設定できる場合）線分同士の端点間距離の少なくともいずれか
【００５１】
まず、第１検知部１４０は、２線分それぞれを直線の方程式で表してその連立方程式を解き、線分内に交点が存在する場合に、線分同士に交点があり、距離はゼロと判断する。例えば、２線分それぞれの直線の方程式が数式（１）、（２）であり、交点を（ｘｐ，ｙｐ）とすると、連立方程式は、数式（３）となる。
ｙ＝ａ１ｘ＋ｂ１ …（１）
ｙ＝ａ２ｘ＋ｂ２ …（２）
（ｘｐ,ｙｐ）＝（（ｂ２−ｂ１）／（ａ１−ａ２），ａ１ｘｐ＋ｂ１） …（３）
【００５２】
続いて、第１検知部１４０は、線分同士に交点がない場合、一方の線分の端点から他方の線分に下ろした垂線を算出し、算出した垂線と他方の線分との交点を求め、求めた交点が他方の線分内に存在すれば垂線の長さ（一方の線分の端点から他方の線分との交点までの距離）を算出する。例えば、垂線の方程式は、数式（４）となる。
ｙ＝ｃｘ＋ｄ …（４）
【００５３】
更に、第１検知部１４０は、線分同士に交点がない場合、両線分の端点間同士の距離、即ち４つの距離を算出する。なお、第１検知部１４０は、線分間の垂線を算出できない場合のみ、両線分の端点間同士の距離を算出するようにしてもよい。
【００５４】
図７−１は、交点が存在する２線分の一例を示す図であり、図７−２は、交点が存在せず、垂線を設定可能な２線分の一例を示す図であり、図７−３は、交点が存在せず、垂線を設定不可能な２線分の一例を示す図である。図７−１に示す例の場合、第１検知部１４０は、数式（３）の連立方程式を解くと線分内に交点が存在するため、線分同士に交点があり、距離はゼロと判断する。また、図７−２に示す例の場合、第１検知部１４０は、数式（３）の連立方程式を解くと線分内に交点が存在しないため、線分同士に交点がないと判断する。このため、第１検知部１４０は、一方の線分の端点から他方の線分に下ろした垂線を算出し、算出した垂線と他方の線分との交点が他方の線分内に存在するため、垂線の長さを算出する。また、第１検知部１４０は、両線分の端点間同士の距離を算出する。
また、図７−３に示す例の場合、２線分が平行しているため、第１検知部１４０は、数式（３）の連立方程式を解いても交点が得られず、線分同士に交点がないと判断する。このため、第１検知部１４０は、一方の線分の端点から他方の線分に下ろした垂線を算出するが、算出した垂線と他方の線分との交点が他方の線分内に存在しないため、両線分の端点間同士の距離を算出する。
【００５５】
そして、第１検知部１４０は、求めた距離が線幅（発色域の幅）以下となる部分を重複部分として検知し、重複部分が検知された１対の線分を抽出する。なお、第１検知部１４０は、線幅（発色域の幅）−距離を重複量として検知する。
【００５６】
更新部１４２は、塗潰しストロークから重複部分を除去して、描画ストロークに更新する。具体的には、更新部１４２は、塗潰しストローク情報から重複部分の情報を除去して描画ストローク情報に更新する。
【００５７】
図８−１は、塗潰しストロークと形状ストロークとを描画領域に重ねて配置した状態を示す図である。図８−１に示す例では、第１検知部１４０は、最初に、形状ストローク２９６に含まれるストローク２９８と塗潰しストローク２８１に含まれるストローク２８３〜２９４との重複部分を、ストローク２８３〜２９４の順番で検知する。この場合、まず、第１検知部１４０は、ストローク２９８とストローク２８４との重複を検知するので、更新部１４２は、ストローク２９８との重複部分をストローク２８４から除去して、ストローク２８４ａ、ｂに更新し、ストローク２８４ａ、ｂの座標を決定することで、図８−２に示す状態とする。続いて、第１検知部１４０は、ストローク２９８とストローク２８５との重複を検知するので、更新部１４２は、ストローク２９８との重複部分をストローク２８５から除去してストローク２８５ａ、ｂに更新し、ストローク２８５ａ、ｂの座標を決定することで、図８−３に示す状態とする。
【００５８】
ストローク２９８とストローク２８３〜２９４との重複検知が終了すると、第１検知部１４０は、形状ストローク２９６に含まれるストローク２９９と塗潰しストローク２８１に含まれるストローク２８３〜２９４との重複部分を、ストローク２８３〜２９４の順番で検知する。この場合、まず、第１検知部１４０は、ストローク２９９とストローク２８６との重複を検知するので、更新部１４２は、ストローク２９９との重複部分をストローク２８６から除去してストローク２８６ａ、ｂに更新し、ストローク２８６ａ、ｂの座標を決定することで、図８−４に示す状態とする。以下、第１検知部１４０及び更新部１４２は、重複部分の検知及び除去を繰り返し、図８−５に示す状態とする。
【００５９】
そして、更新部１４２は、図８−５に示す状態から、形状ストローク２９６を除去して、図８−６に示す描画ストローク３２１に更新する。
【００６０】
図２に戻り、描画命令生成部１４４は、描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する。具体的には、描画命令生成部１４４は、描画ストローク情報を、レーザ照射装置１５０が解釈できるフォーマットに変換することにより描画命令を生成する。例えば、描画命令生成部１４４は、描画ストローク情報にストローク毎の描画待機時間やストロークの線幅（太さ）などを加えて描画命令を生成する。
【００６１】
図９−１は、描画ストロークの一例を示す図であり、図９−２は、図９−１に示す描画ストロークを描画するための描画命令を示す図である。図９−２に示す描画命令は、命令コード及びパラメータで構成されている。命令コード「ｔ」は、ストロークの線幅をパラメータで指定された値に設定する命令である。命令コード「ｍ」は、パラメータで指定された座標位置に、レーザ光の照射位置を移動させる命令である。命令コード「ｄ」は、パラメータで指定された座標位置までレーザ光を照射させることによりストロークを描画させる命令である。命令コード「ｗ」は、パラメータで指定された時間待機させる命令である。
【００６２】
図２に戻り、描画制御部１４６は、描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御し、サーマルリライタブル媒体１７０上に描画ストロークを描画させる。
【００６３】
例えば、描画制御部１４６が図９−２に示す描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御してサーマルリライタブル媒体１７０上に図９−１に示す描画ストロークを描画させる場合、まず、レーザ照射装置１５０は、ストロークの線幅を４０に設定する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１００）に移動させ、座標（１２００，１００）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１４０）に移動させ、時間「５０」待機した後、座標（１８０，１４０）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（５００，１４０）に移動させ、座標（６１０，１４０）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（６８０，１４０）に移動させ、座標（１２００，１４０）までのストロークを描画する。以下、レーザ照射装置１５０が描画命令に従った動作を行うことにより、図１０に示す白抜き文字列がサーマルリライタブル媒体１７０上に描画（形成）される。
【００６４】
次に、第１の実施形態のレーザ照射システムの動作について説明する。
【００６５】
図１１は、第１の実施形態のレーザ照射システム１００で行われる処理の一例を示すフローチャートである。ここでは、描画対象の形状として文字列を例に取り説明する。
【００６６】
まず、描画位置決定部１３２は、描画対象の形状である描画対象文字列に含まれる各文字の描画位置を決定する（ステップＳ１００）。
【００６７】
続いて、描画領域決定部１３４は、描画位置決定部１３２により決定された全ての描画位置を囲む領域を描画領域に決定する（ステップＳ１０２）。
【００６８】
続いて、塗潰しストローク生成部１３６は、描画領域決定部１３４により決定された描画領域を塗潰す塗潰しストロークを生成する（ステップＳ１０４）。
【００６９】
続いて、形状ストローク生成部１３８は、描画対象文字列に含まれる１文字のストロークフォントデータを形状情報記憶部１２２から取得し、取得したストロークフォントデータから当該文字の形状ストロークを生成する（ステップＳ１０６）。
【００７０】
続いて、第１検知部１４０及び更新部１４２は、塗潰しストローク生成部１３６により生成された塗潰しストロークと形状ストローク生成部１３８により生成された１文字分の形状ストロークとの重複部分を検知して除去する重複ストローク除去処理を行う（ステップＳ１０８）。なお、重複ストローク除去処理の詳細については後述する。
【００７１】
そして、描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われるまで、ステップＳ１０６〜ステップＳ１１０の処理が繰り返される（ステップＳ１１０でＮｏ）。
【００７２】
描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われると（ステップＳ１１０でＹｅｓ）、塗潰しストロークから描画対象文字列の形状ストロークとの重複部分が除去された描画ストロークが生成される。描画命令生成部１４４は、生成された描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する（ステップＳ１１２）。
【００７３】
続いて、描画制御部１４６は、描画命令生成部１４４により生成された描画命令を用いて、レーザ照射装置１５０を制御する（ステップＳ１１４）。
【００７４】
続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ照射制御装置１１０の制御に従って、サーマルリライタブル媒体１７０にレーザ光を照射し、サーマルリライタブル媒体１７０上に描画ストロークを描画する（ステップＳ１１６）。
【００７５】
図１２は、図１１のフローチャートのステップＳ１０８に示す重複ストローク除去処理の一例を示すフローチャートである。
【００７６】
まず、第１検知部１４０は、形状ストロークに含まれる１のストロークを重複検知対象に設定する（ステップＳ１３０）。
【００７７】
続いて、第１検知部１４０は、塗潰しストロークに含まれる１のストロークを重複検知対象に設定する（ステップＳ１３２）。
【００７８】
続いて、第１検知部１４０は、重複検知対象に設定した両ストロークが重複するか否かを確認する（ステップＳ１３４）。
【００７９】
第１検知部１４０により両ストロークの重複が検知された場合（ステップＳ１３４でＹｅｓ）、更新部１４２は、重複検知対象に設定された塗潰しストロークのストロークから重複部分を除去する（ステップＳ１３６）。なお、第１検知部１４０により両ストロークの重複が検知されなかった場合（ステップＳ１３４でＮｏ）、更新部１４２は、ステップＳ１３６の処理を行わない。
【００８０】
そして、重複検知対象に設定された形状ストロークのストロークと塗潰しストロークに含まれる全てのストロークとの重複確認が行われるまで、ステップＳ１３２〜ステップＳ１３８の処理が繰り返される（ステップＳ１３８でＮｏ）。
【００８１】
重複検知対象に設定された形状ストロークのストロークと塗潰しストロークに含まれる全てのストロークとの重複確認が行われると（ステップＳ１３８でＹｅｓ）、形状ストロークに含まれる他のストロークに対して、ステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の処理が繰り返される（ステップＳ１４０でＮｏ）。
【００８２】
形状ストロークに含まれる全てのストロークの重複確認が行われると（ステップＳ１４０でＹｅｓ）、第１検知部１４０及び更新部１４２は、重複ストローク除去処理を終了する。
【００８３】
以上のように第１の実施形態では、レーザ照射制御装置１１０は、ベクトルデータである描画ストロークをそのまま解釈する描画命令を生成し、生成した描画命令を用いて描画ストロークが示す明度を反転させた形状を描画させる。このように第１の実施形態によれば、描画ストロークをラスターデータに変換せずに描画命令を生成できるので、描画時間を短縮して、明度を反転させた形状を描画することができる。また、データサイズの大きいラスターデータを生成する必要がないため、メモリなどの記憶装置の記憶容量を節約することもできる。
【００８４】
（第２の実施形態）
上記第１の実施形態では、描画ストロークを描画する際のレーザ光の照射パワーについては言及しなかった。しかしながら、ストロークの周囲が他のストロークと接触していないと周囲に熱が逃げやすくなり、明度を反転させた形状の境界部分が十分に発色せず、ぼやけた印象になる場合がある。そこで、第２の実施形態では、描画ストロークを描画する際に、他のストロークと接触しない非接触部分を描画するレーザ光の照射パワーを強くする例について説明する。以下では、第１の実施形態との相違点の説明を主に行い、第１の実施形態と同様の機能を有する構成要素については、第１の実施形態と同様の名称・符号を付し、その説明を省略する。
【００８５】
図１３は、第２の実施形態のレーザ照射制御装置４１０の機能構成の一例を示すブロック図である。第２の実施形態のレーザ照射システム４００のレーザ照射制御装置４１０では、制御部４３０に第２検知部４４３が追加された点、及び描画命令生成部４４４の処理内容が第１の実施形態のレーザ照射制御装置１１０と相違する。以下では、これらの機能部について説明する。
【００８６】
第２検知部４４３は、描画ストロークに含まれる各ストロークから、描画ストロークに含まれる他のストロークと接触しない非接触部分を検知する。具体的には、第２検知部４４３は、描画ストローク情報により特定されるストローク毎に、当該ストロークの中心線から線幅の距離内に描画ストローク情報により特定される他のストロークの中心線が存在しない部分を非接触部分として検知する。図１４は、非接触部分が検知された描画ストロークの一例を示す図である。図１４に示す例では、第２検知部４４３により描画ストロークの境界部分が非接触部分として検知されている。
【００８７】
ここで、図１５−１〜図１５−２を参照しながら、非接触部分の検知手法を具体的に説明する。
【００８８】
図１５−１は、描画ストロークの一例を示す図である。ここでは、図１５−１に示すストローク５０１の非接触部分の検知する例について説明する。まず、第２検知部４４３は、ストローク５０１の中心線とストローク５０３の中心線との距離が線幅以下となる部分、即ち、ストローク５０３との接触部分をストローク５０１から検知し、接触部分の始点と終点の座標を記憶部１２０に一時的に記録する。以下、第２検知部４４３は、ストローク５０５、ストローク５０７、及びストローク５０９に対しても同様の処理を行う。そして、第２検知部４４３は、記憶部１２０に記録された座標から、ストローク５０１の上部及び下部の少なくとも一方が他のストロークと接触していない非接触部分を検知する。また、第２検知部４４３は、ストローク５０１の両端についても非接触部分として検知する。
【００８９】
図１５−２は、他のストロークとの非接触部分が検知されたストローク５０１を示す図である。図１５−２に示す例では、第２検知部４４３により、ストローク５０１から非接触部分５１１、５１３、５１５が検知されている。
【００９０】
図１３に戻り、描画命令生成部４４４は、描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令であって、第２検知部４４３により検知された非接触部分を描画するエネルギーを他の部分を描画するエネルギーよりも強くした描画命令を生成する。
【００９１】
図１６−１は、描画ストロークの一例を示す図であり、図１６−２は、図１６−１に示す描画ストロークを描画するための描画命令を示す図である。図１６−２に示す描画命令において、命令コード「ｐ」は、レーザ光の照射パワーをパラメータで指定されたパーセンテージに変更する命令である。図１６−２に示す例では、描画命令生成部４４４は、非接触部分の照射パワーを１０５％に設定し、他の部分の照射パワーを１００％に設定した描画命令を生成している。詳細には、描画命令生成部４４４は、描画ストロークに含まれるストローク毎に非接触部分と接触部分とを別々の線分に分割し、非接触部分の線分の照射パワーを１０５％に設定し、接触部分の線分の照射パワーを１００％に設定した描画命令を生成している。
【００９２】
なお、描画制御部１４６が図１６−２に示す描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御してサーマルリライタブル媒体１７０上に図１６−１に示す描画ストロークを描画させる場合、まず、レーザ照射装置１５０は、ストロークの線幅を４０に設定する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１００）に移動させ、レーザ光の照射パワーを１０５％に設定し、座標（１２００，１００）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１４０）に移動させ、時間「５０」待機した後、座標（１０３，１４０）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射パワーを１００％に設定し、座標（１８０，１４０）までのストロークを描画する。以下、レーザ照射装置１５０が描画命令に従った動作を行うことにより、境界部分がくっきりと表現される白抜き文字列がサーマルリライタブル媒体１７０上に描画（形成）される。
【００９３】
次に、第２の実施形態のレーザ照射システムの動作について説明する。
【００９４】
図１７は、第２の実施形態のレーザ照射システム４００で行われる処理の一例を示すフローチャートである。ここでは、描画対象の形状として文字列を例に取り説明する。
【００９５】
まず、ステップＳ２００〜ステップＳ２１０までの処理は、図１１に示すステップＳ１００〜Ｓ１１０までの処理と同様である。
【００９６】
そして、描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われると（ステップＳ２１０でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、描画ストロークに含まれる各ストロークから、描画ストロークに含まれる他のストロークと接触しない非接触部分を検知する非接触部分検知処理を行う（ステップＳ２１１）。なお、非接触部分検知処理の詳細については後述する。
【００９７】
続いて、描画命令生成部４４４は、更新部１４２により更新された描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令であって、第２検知部４４３により検知された非接触部分を描画するエネルギーを他の部分を描画するエネルギーよりも強くした描画命令を生成する（ステップＳ２１２）。
【００９８】
以降のステップＳ２１４、Ｓ２１６の処理は、それぞれステップＳ１１４、Ｓ１１６の処理と同様である。
【００９９】
図１８は、図１７のフローチャートのステップＳ２１１に示す非接触部分検知処理の一例を示すフローチャートである。
【０１００】
まず、第２検知部４４３は、描画ストロークに含まれる１のストロークを非接触部分検知対象に設定する（ステップＳ２３０）。
【０１０１】
続いて、第２検知部４４３は、描画ストロークに含まれる他のストロークを非接触部分検知対象に設定する（ステップＳ２３２）。
【０１０２】
続いて、第２検知部４４３は、非接触部分検知対象に設定した両ストロークが接触するか否かを確認する（ステップＳ２３４）。
【０１０３】
両ストロークの接触が検知された場合（ステップＳ２３４でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、１のストロークにおける接触部分の座標を記録する（ステップＳ２３６）。なお、第２検知部４４３により両ストロークの接触が検知されなかった場合（ステップＳ２３４でＮｏ）、第２検知部４４３は、ステップＳ２３６の処理を行わない。
【０１０４】
そして、１のストロークと描画ストロークに含まれる全ての他のストロークとの接触確認が行われるまで、ステップＳ２３２〜ステップＳ２３８の処理が繰り返される（ステップＳ２３８でＮｏ）。
【０１０５】
１のストロークと描画ストロークに含まれる全ての他のストロークとの接触確認が行われると（ステップＳ２３８でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、１のストロークにおける全ての接触部分の座標から、１のストロークに非接触部分が存在するか否かを確認する（ステップＳ２４０）。
【０１０６】
１のストロークに非接触部分が存在する場合（ステップＳ２４０でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、非接触部分の座標を記録する（ステップＳ２４２）。なお、１のストロークに非接触部分が存在しない場合（ステップＳ２４０でＮｏ）、第２検知部４４３は、ステップＳ２４２の処理を行わない。
【０１０７】
そして、描画ストロークに含まれる全てのストロークの非接触確認が行われるまで、ステップＳ２３０〜ステップＳ２４４の処理が繰り返され（ステップＳ２４４でＮｏ）、描画ストロークに含まれる全てのストロークの非接触確認が行われると（ステップＳ２４４でＹｅｓ）、第２検知部４４３は、非接触部分検知処理を終了する。
【０１０８】
以上のように第２の実施形態では、描画ストロークの非接触部分を描画するレーザ光の照射パワーを他の部分よりも強くするため、明度を反転させた形状の境界部分をくっきりと表現することができ、品質（画実）を向上することができる。
【０１０９】
なお、第２の実施形態では、非接触部分の照射パワーを一律に設定したが、非接触部分の数に応じて照射パワーを変更するようにしてもよい。例えば、ストロークの上部及び下部のいずれにも他のストロークが存在しない場合、いずれか一方に他のストロークが存在する場合に比べ熱が逃げやすくなる。従って、非接触部分の数が多くなるほど照射パワーを強くするようにしてもよい。
【０１１０】
（第３の実施形態）
上記第１の実施形態では、描画ストロークのみを描画する例について説明した。しかしながら、ストロークの線幅（発色域の幅）が太くなると、明度を反転させた形状の境界部分の凹凸が目立ってしまう。そこで、第３の実施形態では、形状ストロークの輪郭のストロークである輪郭ストロークを生成し、描画ストロークとともに輪郭ストロークを描画する例について説明する。以下では、第１の実施形態との相違点の説明を主に行い、第１の実施形態と同様の機能を有する構成要素については、第１の実施形態と同様の名称・符号を付し、その説明を省略する。
【０１１１】
図１９は、第３の実施形態のレーザ照射制御装置６１０の機能構成の一例を示すブロック図である。第３の実施形態のレーザ照射システム６００のレーザ照射制御装置６１０では、制御部６３０に輪郭ストローク生成部６４３が追加された点、及び描画命令生成部６４４の処理内容が第１の実施形態のレーザ照射制御装置１１０と相違する。以下では、これらの機能部について説明する。
【０１１２】
輪郭ストローク生成部６４３は、形状ストロークの輪郭のストロークである輪郭ストロークを生成する。例えば、形状ストローク生成部１３８により図２０−１に示す形状ストロークが生成された場合、輪郭ストローク生成部６４３は、図２０−２に示すように、図２０−１に示す形状ストロークに接する輪郭ストロークを生成する。具体的には、輪郭ストローク生成部６４３は、形状ストロークに平行する複数のストロークを形状ストロークに隣接させて太字ストロークを生成し、太字ストロークから両端のストローク以外のストロークを除去することで輪郭ストロークを生成する。例えば輪郭ストローク生成部６４３は、図２０−３に示すように、図２０−１に示す形状ストロークに平行する２つのストロークをそれぞれ形状ストロークに隣接させて太字ストロークを生成し、太字ストロークから両端のストローク以外のストローク、即ち、中心の形状ストロークを除去することで図２０−２に示す輪郭ストロークを生成する。
【０１１３】
なお、輪郭ストローク生成部６４３は、図２０−４に示すように、図２０−２に示す輪郭ストロークの両端を閉じた輪郭ストロークを生成するようにしてもよい。具体的には、輪郭ストローク生成部６４３は、他と接続しない輪郭ストロークの端部（図２０−２に示す点線部参照）に、輪郭ストロークに対して垂直のストロークを生成するようにしてもよい。例えば、輪郭ストローク生成部６４３は、他と接続しない輪郭ストロークの端部から、太字ストロークの太さ程度の距離内に別の、他と接続しない輪郭ストロークの端部を検出する。そして輪郭ストローク生成部６４３は、それぞれの端部から重複しないように離れた位置に、ストロークの座標を決定することで、輪郭ストロークの端部に、輪郭ストロークに対して垂直のストロークを生成する。
【０１１４】
図１９に戻り、描画命令生成部６４４は、描画ストローク及び輪郭ストロークをいずれかの順序で描画させる描画命令を生成する。本実施形態では、描画命令生成部６４４は、描画ストロークの描画と輪郭ストロークの描画との間に待機時間を設定した描画命令を生成するものとする。
【０１１５】
図２１−１は、描画ストロークと輪郭ストロークとを描画領域に重ねて配置した状態を示す図であり、図２１−２は、図２１−１に示す描画ストローク及び輪郭ストロークを描画するための描画命令を示す図である。図２１−２に示す例では、描画命令生成部６４４は、描画ストロークの描画と輪郭ストロークの描画との間に待機時間「３００」を設定した描画命令を生成している。
【０１１６】
なお、描画制御部１４６が図２１−２に示す描画命令を用いてレーザ照射装置１５０を制御してサーマルリライタブル媒体１７０上に図２１−１に示す描画ストローク及び輪郭ストロークを描画させる場合、まず、レーザ照射装置１５０は、ストロークの線幅を４０に設定する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１００）に移動させ、座標（１２００，１００）までのストロークを描画する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１００，１４０）に移動させ、時間「５０」待機した後、座標（１８０，１４０）までのストロークを描画する。以下、レーザ照射装置１５０が描画命令に従った動作を行うことにより、描画ストロークがサーマルリライタブル媒体１７０上に描画（形成）される。
【０１１７】
そして、レーザ照射装置１５０は、時間「３００」待機する。続いて、レーザ照射装置１５０は、レーザ光の照射位置を座標（１８０，１００）に移動させ、時間「５０」待機した後、座標（５２０，１００）までのストロークを描画する。以下、レーザ照射装置１５０が描画命令に従った動作を行うことにより、輪郭ストロークがサーマルリライタブル媒体１７０上に描画（形成）される。
【０１１８】
図２２は、サーマルリライタブル媒体１７０上に重ねて描画される描画ストローク及び輪郭ストロークの一例を示す図である。図２２に示す例では、図２３に示す描画ストロークと、図２０−２に示す輪郭ストロークとを重ねて描画している。なお、図２３に示す描画ストロークは、ストロークを他のストロークと重ねて描画している。
【０１１９】
次に、第３の実施形態のレーザ照射システムの動作について説明する。
【０１２０】
図２４は、第３の実施形態のレーザ照射システム６００で行われる処理の一例を示すフローチャートである。ここでは、描画対象の形状として文字列を例に取り説明する。
【０１２１】
まず、ステップＳ３００〜ステップＳ３０８までの処理は、図１１に示すステップＳ１００〜Ｓ１０８までの処理と同様である。
【０１２２】
ステップＳ３０８で重複ストローク除去処理が行われると、輪郭ストローク生成部６４３は、形状ストローク生成部１３８により生成された形状ストロークの輪郭のストロークである輪郭ストロークを生成する（ステップＳ３０９）。
【０１２３】
そして、描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われるまで、ステップＳ３０６〜ステップＳ３１０の処理が繰り返される（ステップＳ３１０でＮｏ）。
【０１２４】
描画対象文字列に含まれる全ての文字の形状ストロークに対して重複ストローク除去処理が行われると（ステップＳ３１０でＹｅｓ）、描画命令生成部６４４は、更新部１４２により更新された描画ストローク及び輪郭ストローク生成部６４３により生成された輪郭ストロークをいずれかの順序で描画させる描画命令を生成する（ステップＳ３１２）。
【０１２５】
以降のステップＳ３１４、Ｓ３１６の処理は、それぞれステップＳ１１４、Ｓ１１６の処理と同様である。
【０１２６】
以上のように第３の実施形態では、描画ストロークとともに輪郭ストロークを描画して描画ストロークの境界部分の凹凸を輪郭ストロークで塗潰すため、明度を反転させた形状の境界部分を滑らかに再現することができ、品質（画実）を向上することができる。
【０１２７】
また第３の実施形態では、描画ストロークの描画と輪郭ストロークの描画との間に待機時間を設定しているため、描画ストロークを描画した際の熱が十分に逃げた後に輪郭ストロークを描画することができる。このため、媒体温度が必要以上に上昇せず、サーマルリライタブル媒体の劣化を防止することができる。
【０１２８】
（ハードウェア構成）
次に、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置のハードウェア構成について説明する。
【０１２９】
図２５は、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。レーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０では、バス７００に、ＣＰＵ７０１、ＤＲＡＭ(Dynamic Random Access Memory)などのメモリであるメモリ７０２、ドライブ装置７０３、通信Ｉ／Ｆ７０４、ハードディスク７０５、入力装置７０６、及び表示制御装置７０７が接続される。バス７００に接続される各部は、バス７００を介して互いに通信可能とされている。
【０１３０】
ハードディスク７０５は、ＣＰＵ７０１が動作するためのプログラムや各種データ、文字や記号のフォントデータなどが予め記憶される。レーザ照射装置１５０を制御するための制御プログラムも、ハードディスク７０５に記憶される。ＣＰＵ７０１は、ハードディスク７０５から読み出したプログラムに従い、メモリ７０２をワークメモリとして用いて、レーザ照射システム１００、４００、６００の全体の動作を制御する。
【０１３１】
ドライブ装置７０３は、脱着可能な記憶媒体７１０が装填可能とされ、当該記憶媒体７１０からのデータの読み出しを行うことができる。ドライブ装置７０３が対応可能な記憶媒体７１０としては、ＣＤ(Compact Disc)、ＤＶＤ(Digital Versatile Disk)といったディスク記憶媒体や、書き換え可能な不揮発性の半導体メモリ（例えばＥＥＰＲＯＭ）が考えられる。
【０１３２】
上述したハードディスク７０５に格納される制御プログラムやフォントデータは、例えば記憶媒体７１０に記録されて提供される。ドライブ装置７０３により、記憶媒体７１０に記録された制御プログラムやフォントデータを読み出してハードディスク７０５に記憶することで、レーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０に対して制御プログラムが実装される。
【０１３３】
通信Ｉ／Ｆ７０４は、レーザ照射装置１５０とのインターフェイスであって、ＣＰＵ７０１は、通信Ｉ／Ｆ７０４を介してレーザ発振器１５２及び方向制御モータ１５８と通信を行い、これらを制御する。通信Ｉ／Ｆ７０４は、例えば、ＩＥＥＥ(Institute of Electrical and Electronics Engineers)１３９４やＵＳＢ(Universal Serial Bus)といったシリアルインターフェイスに対応し、このシリアルインターフェイスを介してレーザ照射装置１５０を制御する。なお、通信Ｉ／Ｆ７０４が対応可能なインターフェイスは、有線に限られず、ワイヤレスＵＳＢやＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）といった、無線通信を行うものでもよい。また、レーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０とレーザ照射装置１５０とを共通の筐体内に構成するものとし、通信Ｉ／Ｆ７０４を内部的な通信を行うインターフェイスとしてもよい。
【０１３４】
入力装置７０６は、ユーザ操作に応じた制御信号を出力し、ＣＰＵ７０１に供給する。ＣＰＵ７０１がプログラムに従い、この入力装置７０６からの制御信号に応じてレーザ照射システム１００、４００、６００を制御することで、レーザ照射システム１００、４００、６００を、ユーザ操作に応じて動作させることが可能となる。
【０１３５】
表示制御装置７０７は、ＬＣＤ(Liquid Crystal Display)などを表示デバイスとして用いたディスプレイ７０８が接続される。表示制御装置７０７は、ＣＰＵ７０１がプログラムに従い生成した表示制御信号を、ディスプレイ７０８が表示可能な信号に変換してディスプレイ７０８に供給する。このディスプレイ７０８における表示と、入力装置７０６とにより、レーザ照射システム１００、４００、６００を操作するためのＧＵＩ(Graphical User Interface)を構成することができる。このＧＵＩにより、例えばサーマルリライタブル媒体１７０に描画する文字や記号の入力欄がディスプレイ７０８に表示される。ユーザは、このＧＵＩによる表示に従い、入力装置７０６から文字や記号の入力を行う。
【０１３６】
サーマルリライタブル媒体１７０に描画される描画対象の文字や記号は、例えばリスト状にハードディスク７０５に記憶されていてもよいし、入力装置７０６により入力してもよい。文字や記号は、ＵＮＩＣＯＤＥやＪＩＳコードなどの文字コードで特定され、レーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０は、文字コードに対応するフォントデータをハードディスク７０５から読み出して描画命令に変換することで、レーザ照射装置１５０を制御する。
【０１３７】
なお、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムは、メモリ７０２のＲＯＭ等に予め組み込まれて提供される。
【０１３８】
第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムは、インストール可能な形式又は実行可能な形式のファイルでＣＤ−ＲＯＭ、フレキシブルディスク（ＦＤ）、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｋ）等のコンピュータで読み取り可能な記憶媒体に記録して提供するように構成してもよい。
【０１３９】
さらに、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムを、インターネット等のネットワークに接続されたコンピュータ上に格納し、ネットワーク経由でダウンロードさせることにより提供するように構成しても良い。また、第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムをインターネット等のネットワーク経由で提供または配布するように構成しても良い。
【０１４０】
第１〜第３の実施形態のレーザ照射制御装置１１０、４１０、６１０で実行される描画プログラムは、上述した各部をコンピュータ上で実現させるためのモジュール構成となっている。実際のハードウェアとしてはＣＰＵ７０１がメモリ７０２のＲＯＭから描画プログラムをメモリ７０２のＤＲＡＭ上に読み出して実行することにより、上記各部がコンピュータ上で実現されるようになっている。
【符号の説明】
【０１４１】
１００、４００、６００ レーザ照射システム
１１０、４１０、６１０ レーザ照射制御装置
１２０ 記憶部
１２２ 形状情報記憶部
１３０、４３０、６３０ 制御部
１３２ 描画位置決定部
１３４ 描画領域決定部
１３６ 塗潰しストローク生成部
１３８ 形状ストローク生成部
１４０ 第１検知部
１４２ 更新部
１４４、４４４、６４４ 描画命令生成部
１４６ 描画制御部
１５０ レーザ照射装置
１５２ レーザ発振器
１５４ 光学レンズ
１５６ 方向制御ミラー
１５８ 方向制御モータ
１６０ 集光レンズ
１７０ サーマルリライタブル媒体
４４３ 第２検知部
６４３ 輪郭ストローク生成部
７００ バス
７０１ ＣＰＵ
７０２ メモリ
７０３ ドライブ装置
７０４ 通信Ｉ／Ｆ
７０５ ハードディスク
７０６ 入力装置
７０７ 表示制御装置
７０８ ディスプレイ
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１４２】
【特許文献１】特開２００５−３１００４８号公報
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する塗潰しストローク生成手段と、
前記描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する形状ストローク生成手段と、
前記塗潰しストロークと前記形状ストロークとの重複部分を検知する第１検知手段と、
前記塗潰しストロークから前記重複部分を除去して、描画ストロークに更新する更新手段と、
前記描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する描画命令生成手段と、
前記描画命令を用いて、対象物にエネルギーを伝達して可視情報を描画する描画装置を制御し、前記対象物上に前記描画ストロークを描画させる描画制御手段と、
を備えることを特徴とする描画制御装置。
【請求項２】
前記描画ストロークに含まれる各ストロークから、前記描画ストロークに含まれる他のストロークと接触しない非接触部分を検知する第２検知手段を更に備え、
前記描画命令生成手段は、前記描画命令として、前記非接触部分を描画するエネルギーを他の部分を描画するエネルギーよりも強くした描画命令を生成することを特徴とする請求項１に記載の描画制御装置。
【請求項３】
前記形状ストロークの輪郭のストロークである輪郭ストロークを生成する輪郭ストローク生成手段を更に備え、
前記描画命令生成手段は、前記描画命令として、前記描画ストローク及び前記輪郭ストロークをいずれかの順序で描画させる描画命令を生成することを特徴とする請求項１又は２に記載の描画制御装置。
【請求項４】
前記描画命令生成手段は、前記描画命令として、前記描画ストロークの描画と前記輪郭ストロークの描画との間に待機時間を設定した描画命令を生成することを特徴とする請求項３に記載の描画制御装置。
【請求項５】
前記描画領域は、前記形状ストロークが形成される領域の周辺にストロークの線幅以上の領域を有する領域であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の描画制御装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の描画制御装置と前記描画装置とを備えるレーザ照射システムであって、
前記描画装置は、
前記描画命令に従ってレーザを発振するレーザ発振器と、
前記レーザの照射方向を変更する方向制御ミラーと、
前記描画命令に従って前記方向制御ミラーを駆動して、前記対象物に前記レーザを照射させる方向制御モータと、
を備えることを特徴とするレーザ照射システム。
【請求項７】
塗潰しストローク生成手段が、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する塗潰しストローク生成ステップと、
形状ストローク生成手段が、前記描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する形状ストローク生成ステップと、
第１検知手段が、前記塗潰しストロークと前記形状ストロークとの重複部分を検知する第１検知ステップと、
更新手段が、前記塗潰しストロークから前記重複部分を除去して、描画ストロークに更新する更新ステップと、
描画命令生成手段が、前記描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する描画命令生成ステップと、
描画制御手段が、前記描画命令を用いて、対象物にエネルギーを伝達して可視情報を描画する描画装置を制御し、前記対象物上に前記描画ストロークを描画させる描画制御ステップと、
を含むことを特徴とする描画方法。
【請求項８】
請求項７に記載の描画方法をコンピュータに実行させるための描画プログラム。
【請求項９】
請求項８に記載の描画プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項１】
描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する塗潰しストローク生成手段と、
前記描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する形状ストローク生成手段と、
前記塗潰しストロークと前記形状ストロークとの重複部分を検知する第１検知手段と、
前記塗潰しストロークから前記重複部分を除去して、描画ストロークに更新する更新手段と、
前記描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する描画命令生成手段と、
前記描画命令を用いて、対象物にエネルギーを伝達して可視情報を描画する描画装置を制御し、前記対象物上に前記描画ストロークを描画させる描画制御手段と、
を備えることを特徴とする描画制御装置。
【請求項２】
前記描画ストロークに含まれる各ストロークから、前記描画ストロークに含まれる他のストロークと接触しない非接触部分を検知する第２検知手段を更に備え、
前記描画命令生成手段は、前記描画命令として、前記非接触部分を描画するエネルギーを他の部分を描画するエネルギーよりも強くした描画命令を生成することを特徴とする請求項１に記載の描画制御装置。
【請求項３】
前記形状ストロークの輪郭のストロークである輪郭ストロークを生成する輪郭ストローク生成手段を更に備え、
前記描画命令生成手段は、前記描画命令として、前記描画ストローク及び前記輪郭ストロークをいずれかの順序で描画させる描画命令を生成することを特徴とする請求項１又は２に記載の描画制御装置。
【請求項４】
前記描画命令生成手段は、前記描画命令として、前記描画ストロークの描画と前記輪郭ストロークの描画との間に待機時間を設定した描画命令を生成することを特徴とする請求項３に記載の描画制御装置。
【請求項５】
前記描画領域は、前記形状ストロークが形成される領域の周辺にストロークの線幅以上の領域を有する領域であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の描画制御装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の描画制御装置と前記描画装置とを備えるレーザ照射システムであって、
前記描画装置は、
前記描画命令に従ってレーザを発振するレーザ発振器と、
前記レーザの照射方向を変更する方向制御ミラーと、
前記描画命令に従って前記方向制御ミラーを駆動して、前記対象物に前記レーザを照射させる方向制御モータと、
を備えることを特徴とするレーザ照射システム。
【請求項７】
塗潰しストローク生成手段が、描画領域を塗潰す複数のストロークである塗潰しストロークを生成する塗潰しストローク生成ステップと、
形状ストローク生成手段が、前記描画領域に形成される形状のストロークである形状ストロークを生成する形状ストローク生成ステップと、
第１検知手段が、前記塗潰しストロークと前記形状ストロークとの重複部分を検知する第１検知ステップと、
更新手段が、前記塗潰しストロークから前記重複部分を除去して、描画ストロークに更新する更新ステップと、
描画命令生成手段が、前記描画ストロークに含まれる各ストロークを描画する描画命令を生成する描画命令生成ステップと、
描画制御手段が、前記描画命令を用いて、対象物にエネルギーを伝達して可視情報を描画する描画装置を制御し、前記対象物上に前記描画ストロークを描画させる描画制御ステップと、
を含むことを特徴とする描画方法。
【請求項８】
請求項７に記載の描画方法をコンピュータに実行させるための描画プログラム。
【請求項９】
請求項８に記載の描画プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５−１】
【図５−２】
【図６−１】
【図６−２】
【図６−３】
【図６−４】
【図６−５】
【図７−１】
【図７−２】
【図７−３】
【図８−１】
【図８−２】
【図８−３】
【図８−４】
【図８−５】
【図８−６】
【図９−１】
【図９−２】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５−１】
【図１５−２】
【図１６−１】
【図１６−２】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０−１】
【図２０−２】
【図２０−３】
【図２０−４】
【図２１−１】
【図２１−２】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５−１】
【図５−２】
【図６−１】
【図６−２】
【図６−３】
【図６−４】
【図６−５】
【図７−１】
【図７−２】
【図７−３】
【図８−１】
【図８−２】
【図８−３】
【図８−４】
【図８−５】
【図８−６】
【図９−１】
【図９−２】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５−１】
【図１５−２】
【図１６−１】
【図１６−２】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０−１】
【図２０−２】
【図２０−３】
【図２０−４】
【図２１−１】
【図２１−２】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【公開番号】特開２０１１−１１６１１４（Ｐ２０１１−１１６１１４Ａ）
【公開日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１８２３７１（Ｐ２０１０−１８２３７１）
【出願日】平成２２年８月１７日（２０１０．８．１７）
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年８月１７日（２０１０．８．１７）
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
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