描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体
【課題】描画時間の短縮化と描画の高品質化を両立させた描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供すること。
【解決手段】描画対象を複数行に分け、熱可逆記録媒体に複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画するように複数行の各行の描画順を決定する描画順決定手段と、熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、他の行の始点側を描画するレーザ出力が他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、一の行の終点と他の行の始点との間の第１距離が一の行の始点と他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように描画位置を調整する調整手段と、描画位置及び描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段とを含む。
【解決手段】描画対象を複数行に分け、熱可逆記録媒体に複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画するように複数行の各行の描画順を決定する描画順決定手段と、熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、他の行の始点側を描画するレーザ出力が他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、一の行の終点と他の行の始点との間の第１距離が一の行の始点と他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように描画位置を調整する調整手段と、描画位置及び描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段とを含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属、プラスチック、感熱紙等の媒体にレーザ光を照射して加熱することで、媒体に文字、数字、又は記号等を書き込む技術を活用したレーザ照射装置（レーザマーカ、又はレーザマーキング装置）が市販されている。
【０００３】
レーザ照射装置のレーザ光源としてガスレーザ、固体レーザ、液体レーザ、半導体レーザ等を用いてレーザ光を照射することにより、文字等を金属、プラスチック、感熱紙等の媒体に書き込むことができる。
【０００４】
金属やプラスチックは、レーザ光を照射して加熱することにより、削ったり焦がしたりすることで描画が行われる。一方、感熱紙は、熱により変色する性質をもっており、レーザ光照射による加熱で記録層が発色することで描画が行われる。
【０００５】
感熱紙は、金属やプラスチックの媒体に比べて取り扱いが容易であるため、例えば、物流等の分野で物品の宛先や物品名を描画する媒体として広く用いられている。
【０００６】
そして、このような感熱紙でも書き込み、消去を繰り返し行えるリライタブル（以下、サーマルリライタブルメディア又は熱可逆記録媒体と称す）のものが登場してきた。
【０００７】
現在まで、熱可逆記録媒体への画像記録及び画像消去は、加熱源を記録媒体に接触させて該媒体を加熱する接触式で行われている。該加熱源としては、通常、画像記録にはサーマルヘッドが用いられ、画像消去には熱ローラ、セラミックヒータなどが用いられている。
【０００８】
このような接触式の記録方法は、熱可逆記録媒体がフィルム、紙等のフレキシブルなものである場合には、プラテンなどによって記録媒体を加熱源に均一に押し当てることにより、均一な画像記録及び画像消去を行うことができ、かつ従来の感熱紙用のプリンタの部品を転用することによって画像記録装置及び画像消去装置を安価に製造することができるという利点があった。
【０００９】
図１は、サーマルリライタブルメディアの発色・消色の原理を説明するための図である。
【００１０】
サーマルリライタブルメディアは、熱により色調が透明状態と発色状態とに可逆的に変化する記録層を含む。この記録層は、有機低分子物質であるロイコ染料及び可逆性顕色剤（以下、顕色剤）で構成される。
【００１１】
まず、最初に、図１に示す消色状態（Ａ）にある記録層を昇温していくと、溶融温度Ｔ２にて、ロイコ染料と顕色剤とが溶融混合し、発色が生じ溶融発色状態（Ｂ）となる。溶融発色状態（Ｂ）から急冷すると、発色状態のまま室温に下げることができ、発色状態が安定化されて固定された発色状態（Ｃ）となる。この発色状態が得られるかどうかは、溶融状態からの降温速度に依存しており、徐冷では降温の過程で消色が生じ、初期と同じ消色状態（Ａ）、あるいは急冷による発色状態（Ｃ）よりも相対的に濃度の低い状態となる。
【００１２】
一方、発色状態（Ｃ）から再び昇温していくと、発色温度よりも低い温度Ｔ１にて消色が生じ（ＤからＥ）、この状態から降温すると、初期と同じ消色状態（Ａ）に戻る。
【００１３】
溶融状態から急冷して得た発色状態（Ｃ）は、ロイコ染料と顕色剤とが分子同士で接触反応し得る状態で混合された状態であり、これは固体状態を形成していることが多い。この状態では、ロイコ染料と顕色剤との溶融混合物（発色混合物）が結晶化して発色を保持した状態であり、この構造の形成により発色が安定化していると考えられる。一方、消色状態は、両者が相分離した状態である。この状態は、少なくとも一方の化合物の分子が集合してドメインを形成したり、結晶化した状態であり、凝集あるいは結晶化することによりロイコ染料と顕色剤とが分離して安定化した状態であると考えられる。多くの場合、このように、両者が相分離して顕色剤が結晶化することにより、より完全な消色が生じる。
【００１４】
なお、記録層を溶融温度Ｔ２以上の温度Ｔ３に繰返し昇温すると消去温度に加熱しても消去できない消去不良が発生したりする場合がある。これは、顕色剤が熱分解を起こし、凝集あるいは結晶化しにくくなってロイコ染料と分離しにくくなるためと思われる。繰返しによる熱可逆記録媒体の劣化を抑えるためには、熱可逆記録媒体を加熱する際に溶融温度Ｔ２と温度Ｔ３の差を小さくすることにより、繰返しの記録消去による媒体の劣化を抑えられる。
【００１５】
このようなサーマルリライタブルメディアは、例えば、物流等の分野で幅広く利用されており、記録（描画）する手法についても種々の工夫がなされていた。
【００１６】
例えば、隣り合う第１の線と第２の線を描画する際に、先に描画された第１の線の残存熱と第２の線の描画時の熱が相互干渉することによる記録の退色現象を抑制するために、第１の線の描画開始点から、第２の線の描画終了点まで描画する時間又は重複幅を制御することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１７】
しかし、熱可逆記録媒体が、ＲＦ−ＩＤタグなどを内蔵している場合には、熱可逆記録媒体の厚みが厚くなりフレキシブル性が低下して加熱源を均一に押し当てるためには高い圧力が必要となる（特許文献２及び３参照）。
【００１８】
また、接触式であるために、印字と消去を繰り返すと記録媒体表面が削れて凹凸が生じ、サーマルヘッドやホットスタンプ等の加熱源に接触しない部分が出てきて均一に加熱されないため濃度低下や消去不良が起こるという問題がある（特許文献４及び５参照）。
【００１９】
そこで、例えば熱可逆記録媒体の表面に凹凸が生じた場合や離れたところから均一に画像記録及び画像消去する方法として、レーザを用いる方法が提案されている（特許文献６参照）。この方法は、物流ラインに用いる搬送用容器に熱可逆記録媒体を使用して非接触記録を行うものであり、書き込みはレーザで実施し、消去は熱風、温水、又は赤外線ヒータで行うと記載されている。
【００２０】
更に、ＲＦ−ＩＤタグが非接触で離れたところから記憶情報の読み取り及び書き換えが行われるのに対して、熱可逆記録媒体についても離れた位置から画像を書き換えたいという要望が生じてきている。
【００２１】
このようなレーザによる記録方法としては、高出力のレーザ光を熱可逆記録媒体に照射して、その位置をコントロール可能なレーザ記録装置（レーザマーカー）が提供されている。このレーザマーカーを用いて、レーザ光を熱可逆記録媒体に照射して、媒体中の光熱変換材料が光を吸収して熱に変換し、その熱で記録及び消去を行うことが可能である。これまでレーザによる画像記録及び消去を行う方法として、ロイコ染料と可逆性顕色剤、種々の光熱変換材料を組み合わせて、近赤外レーザ光により記録する方法が提案されている（例えば、特許文献７参照）。
【００２２】
また、レーザ光を所定の間隔で並列して照射する際に、該レーザ光を同一方向に走査させて、該レーザ光の不連続な照射を走査の一部に含む画像処理方法（描画制御方法）が提案され、例えば、レーザ光を第１開始点から終了点まで走査した時の終了点から、次の第２開始点を前記第１開始点から所定間隔に設定した位置までジャンプさせて照射することが記載されている（特許文献８参照）。
【００２３】
これらの従来技術を用いることで、均一に媒体の加熱が可能となり画像品質及び繰返し耐久性を改善することは可能だが、各描画線間のジャンプ及び待ち時間により、画像記録及び消去に必要な時間が長くなる課題があった。
【００２４】
また、レーザ光をループ状又は渦巻き状にスキャニングして、セル領域のほぼ全域に照射する方法が提案されている（特許文献９参照）。しかし、この場合、ループ状又は渦巻き状スキャンにおける折曲り部分では、過剰な熱が加わり、熱可逆媒体では繰返し耐久性の低下が発生するという問題がある。
【００２５】
したがって、従来技術では、繰返し耐久性に優れ印字品質良く描画でき、且つ、短時間に描画できる画像記録方法がなく、また、消去においても、均一に熱を掛け、広い消去幅を確保でき、且つ、短時間に画像消去できる画像処理方法（描画制御方法）が従来技術ではなかった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２６】
しかしながら、上述の描画手法では次のような問題があった。
【００２７】
レーザマーカーによる塗り潰しは、一般的に直線を平行に複数描画することで行われるが、サーマルリライタブルメディアの場合、単純に線を平行に描いただけではきれいな塗り潰しを実現することができない。
【００２８】
図１で説明したように、サーマルリライタブルメディアは、消色温度が常温と発色温度の中間にある。そのため、レーザビームでメディアを加熱すると、レーザスポットの出力強度分布やメディア上の熱拡散の影響により描画した線の周囲は消色温度領域になる。またメディアの発色特性が温度に対してブロードだと線自体の濃度が幅方向に均一にならないことがあるからである。そこで、例えば、特許文献１に記載されているように、濃度が均一な塗り潰しを実現するために、直前に描いた線の残存熱で線の周囲に発生する消色温度領域をキャンセルするように、線を少し重ねて描画すると良いことが知られている。
【００２９】
ただし、描画線の残存熱による温度は時間経過により低下するため、残存熱を利用する描画方法は線を描く時間間隔の制御が重要になる。熱蓄積による退色も考慮すると、マーク速度が速いとか線が短い場合には長い時間間隔を設け、マーク速度が遅いとか線が長い場合には短い時間間隔を設けるなどである。
【００３０】
図２は、線に重複を持たせて描画を行う手法を説明する図である。図３は、往復走査による描画手法を説明する図である。
【００３１】
図２（ａ）において、長円は発色した線分の輪郭、実線の矢印は、描画を行う動作（マーク動作）、破線の矢印は、描画点を移動するジャンプ（空走）動作を示し、次に示す１から３のステップを繰り返して塗り潰しを行う。
１．レーザを点灯し一定のレーザ出力、一定の描画速度でＸ軸＋方向に線分を描く。
２．レーザを消灯し次の線の始点位置へ（Ｙ軸−方向へ）移動する。
３．所定の時間待機する。
【００３２】
これにより、図２（ｂ）に示すような塗りつぶしが行われる。図２（ａ）に示す描画方法は、図２（ｃ）に示すように、Ｘ軸＋方向への描画を繰り返す間に、ジャンプ（空走）及び待機を行うため、レーザマーカーにとって塗り潰しはとても時間のかかる作業である。しかし、例えば、バーコードの太線のような描画対象を描画する場合等には、このような塗り潰しを行う描画作業を避けることができない。このため、描画時間短縮のために描画作業の高速化が求められている。
【００３３】
図２に挙げた塗り潰しの例は、同一方向へ繰り返し描画を行う描画方法であるが、この描画方法では、描画する線分の長さ以上の距離をジャンプ（空走）する必要があり、高速描画に適しているとはいえない。
【００３４】
ところで、例えば、インクジェットプリンタでは、プリンタヘッドを左右に動かしながらどちらに動く場合も描画する双方向描画が当たり前になっている。このため、レーザマーカーでも走査時間だけを考えるなら、図３（ａ）のような往復走査で描画するほうが高速になる。
【００３５】
しかしながら、描画方向を反転させる際に、直前の描画が終了した側から描画を開始するため、例えば、特許文献１に記載されているように、熱を待つための待機時間を多めに取る必要があり、必ずしも総合的な描画時間の短縮には結びつかないという問題があった。
【００３６】
また、直前に描いた線の残存熱の影響が次の線の始点では強く、終点では弱くなるため、弱めのレーザ出力で描画したときの発色は、図３（ｂ）に示すように、むらが生じるという問題があった。一方、レーザ出力を高くすると、きれいな塗り潰しが得られるが、描画と消去を繰り返すと、図３（ｂ）の濃い線分始点部分が早期に劣化してしまい、消去できなくなるといった問題が発生する。
【００３７】
本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、レーザ光走査による、画像の形成において高品質で高い繰返し耐久性を実現するとともに、画像の消去において消去可能なエネルギー幅を広く得ることができ、かつ、短時間で画像処理が可能な描画制御方法及び描画制御装置を提供することを目的とする。
【００３８】
本発明者らは、前記課題を解決するために、鋭意検討を行い、以下の知見を得た。
【００３９】
円形ビーム形状のレーザ光を用いたベタ画像印字、画像消去のレーザ光走査方法としては、従来、図４ａ〜ｃに示す方法が用いられてきた。図４ａ〜ｃにおいて、太線実線部では、媒体上で等速度にレーザ光を照射しながら走査させて、点線部では、レーザ光を照射しない状態で走査させる。
【００４０】
図４ａに示すレーザ光の走査方法では、レーザ光走査を短時間で行うことが可能で、ベタ画像印字、消去を短時間で可能であるが、描画線の折曲り部において、折曲り部の速度低下及び蓄熱影響（第１のレーザ光描画線４１１の終点印字直後に第２のレーザ光描画線４１２の始点を印字することによる）により、過剰に媒体にエネルギーを印加することで、ベタ画像部、消去部での濃度ムラ（画像部では濃度低下、消去部では発色）が発生して、更にベタ画像の繰返し耐久性が低下する。
【００４１】
また、図４ｂに示すレーザ光の走査方法では、ベタを短時間で印字可能であり、折れ曲りの速度低下の少ないレーザ光走査の画像記録方法であるが、第１のレーザ光描画線４２１の終点印字直後に第２のレーザ光描画線４２２の始点を印字することによる蓄熱影響が以前として残っており、過剰に媒体にエネルギーを印加することでベタ画像部、消去部での濃度ムラが発生して、更にベタ画像の繰返し耐久性が低下する。
【００４２】
また、図４ｃに示すレーザ光の走査方法では、折曲り部の速度低下及び蓄熱影響を改善できて、媒体に過剰にエネルギー印加することを避けられ、ベタ画像部、消去部での濃度ムラ、ベタ画像の繰返し耐久性は改善できる。しかし、レーザ光を照射しない点線部が長くなり、画像印字時間、消去時間が長くなる。また、この走査方法では、蓄熱影響を低減できる代わりに、第１のレーザ光描画線４３１を描画した後、第２のレーザ光描画線４３２を冷えた状態で印字・消去することから、蓄熱の活用ができず、高いエネルギーが必要になるため、走査速度を上げられず、画像印字、消去時間を低減することができない。
【００４３】
しかしながら、図５ｂに示すように、第１の始点から第１の終点に第１のレーザ光描画線４５１を描画し、第２の始点から該第１のレーザ光描画線４５１と平行な線に対して前記第１の始点側に傾く方向の線上に位置する第２の終点に向けて、前記第１のレーザ光描画線４５１に隣接する第２のレーザ光描画線４５２を描画するように、レーザ光を照射及び走査すると、ベタ画像部、消去部での濃度ムラを抑え、ベタ画像の繰返し耐久性を向上させることができるとともに、画像印字、消去時間を低減することができることを知見した。
【００４４】
本発明は、描画時間の短縮化と描画の高品質化を両立させた描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００４５】
本発明の実施の形態の一観点の描画制御装置は、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置を制御する描画制御装置であって、前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定手段と、前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整手段と、前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段とを含む。
【００４６】
また、前記調整手段は、前記各行の始点から終点の間を複数の単位線分に分け、前記単位線分毎に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整してもよい。
【００４７】
また、前記調整手段は、前記他の行の前記始点から前記終点にかけて、前記熱可逆記録媒体に描画を行う速度を低下させることにより、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整してもよい。
【００４８】
また、前記調整手段は、前記他の行の前記始点から前記終点にかけて、前記描画装置が前記熱可逆記録媒体に照射する前記レーザのレーザ出力を増大させることにより、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整してもよい。
【００４９】
また、前記調整手段は、第１の始点から第１の終点に第１のレーザ光描画線を描画し、第２の始点から該第１のレーザ光描画線と平行な線に対して前記第１の始点側に傾く方向の線上に位置する第２の終点に向けて、前記第１のレーザ光描画線に隣接する第２のレーザ光描画線を描画することにより、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整してもよい。
【００５０】
また、第３の始点から第２のレーザ光描画線と平行な線に対して第２の始点側に傾く方向の線上に位置する第３の終点に向けて、前記第２のレーザ光描画線に隣接する第３のレーザ光描画線を描画してもよい。
【００５１】
また、一のレーザ光描画線の終点と該レーザ光描画線に隣接する他のレーザ光描画線の始点との間においてレーザ光を照射しないようにしてもよい。
【００５２】
また、一のレーザ光描画線の終点から該レーザ光描画線と直交する方向の線上に他のレーザ光描画点の始点が位置してもよい。
【００５３】
また、第１のレーザ光描画線と第３のレーザ光描画線とが平行に描画されてもよい。
【００５４】
また、第１のレーザ光描画線におけるレーザ光の照射エネルギーが、他の描画線におけるレーザ光の照射エネルギーより高くてもよい。
【００５５】
また、画像処理工程で用いるレーザ光源が、ＹＡＧレーザ光、ファイバーレーザ光、及び半導体レーザ光の少なくともいずれかであってもよい。
【００５６】
また、照射するレーザ光の波長が７００ｎｍ以上１，５００ｎｍ以下であってもよい。
【００５７】
また、画像を形成するための媒体が、支持体と、該支持体上に、少なくとも第１の熱可逆記録層と、特定波長の光を吸収して熱に変換する光熱変換材料を含む光熱変換層と、第２の熱可逆記録層とをこの順に有してなり、前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層が、いずれも温度に依存して色調が可逆的に変化する熱可逆記録媒体であってもよい。
【００５８】
また、第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層が、いずれかもロイコ染料、及び可逆性顕色剤を含有してもよい。
【００５９】
また、光熱変換材料が、近赤外領域に吸収ピークを有する材料であってもよい。
【００６０】
また、光熱変換材料が、フタロシアニン系化合物であってもよい。
【００６１】
本発明の実施の形態の一観点のレーザ照射装置は、レーザを照射するレーザ発振器と、前記レーザ発振器が照射するレーザの照射方向を制御する方向制御ミラーと、前記方向制御ミラーを駆動する方向制御モータと、前記描画命令に基づき、前記レーザ発振器の照射出力の制御、及び前記方向制御モータの駆動制御を行う、前記いずれかに記載の描画制御装置とを有する。
【００６２】
本発明の実施の形態の一観点の描画制御方法は、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置をコンピュータが制御する描画制御方法であって、前記コンピュータは、前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定工程と、前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整工程と、前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成工程とを実行する。
【００６３】
本発明の実施の形態の一観点の描画制御プログラムは、コンピュータに、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置を制御する制御処理を実行させるための描画制御プログラムであって、前記コンピュータを前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定部、相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定部、前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整部、及び前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成部として機能させる。
【００６４】
本発明の実施の形態の一観点の記録媒体は、前記描画制御プログラムを記録した記録媒体である。
【発明の効果】
【００６５】
本発明は、描画時間の短縮化と描画の高品質化を両立させた描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】サーマルリライタブルメディアの発色・消色の原理を説明するための図である。
【図２】線に重複を持たせて描画を行う手法を説明する図である。
【図３】往復走査による描画手法を説明する図である。
【図４ａ】従来技術の画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の一例を説明する図である。
【図４ｂ】従来技術の画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【図４ｃ】従来技術の画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【図５ａ】本発明の実施の形態３に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法を説明する図である。
【図５ｂ】本発明の実施の形態４に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法を説明する図である。
【図６】実施の形態１のレーザ照射装置１の構成を示す図である。
【図７】実施の形態１の描画制御装置のブロック構成を示す図である。
【図８】実施の形態１の描画制御装置で用いる描画データのデータ構造の一例を示す図である。
【図９】実施の形態１の描画制御装置で用いる制御データのデータ構造の一例を示す図である。
【図１０】実施の形態１の描画制御装置による描画データの生成処理を表すフローチャートである。
【図１１】実施の形態１の描画制御装置で用いる単位線分の識別子とレーザ出力を関連付けたデータの一例を示す図である。
【図１２】実施の形態１の描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【図１３】実施の形態１の変形例による描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【図１４】実施の形態２の描画制御装置２０４のブロック構成を示す図である。
【図１５】実施の形態２の描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【図１６】実施の形態２の描画制御装置による描画データの生成処理を表すフローチャートである。
【図１７ａ】本発明の熱可逆記録媒体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図１７ｂ】本発明の熱可逆記録媒体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。
【図１７ｃ】本発明の熱可逆記録媒体の層構成の更に他の一例を示す概略断面図である。
【図１８】ＲＦ−ＩＤタグの一例を示す概略図である。
【図１９ａ】熱可逆記録媒体の発色−消色特性を示すグラフである。
【図１９ｂ】熱可逆記録媒体の発色−消色変化のメカニズムを表す概略説明図である。
【図２０】本発明の画像処理装置の概要を示す説明図である。
【図２１ａ】本発明の実施例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の一例を説明する図である。
【図２１ｂ】本発明の実施例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【図２２ａ】比較例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の一例を説明する図である。
【図２２ｂ】比較例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【図２２ｃ】比較例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００６７】
以下、本発明の描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を適用した実施の形態について説明する。
【００６８】
ここでは、「描画対象」なる文言は、文字、数字、記号、図形等の描画の対象を表すものとして用いる。
【００６９】
また、「線分」とは、文字等の描画対象に含まれ、描画対象を描画するために両端の座標が決まっている区間をいう。この線分は、直線の一部だけでなく、曲線の一部も含み、太さを有する。
【００７０】
また、本発明の描画制御装置は、描画対象を複数行に分け、行単位で描画を行う。ここでいう「行」とは、レーザの１回の照射開始点から照射終了点までに描画される文字又は図形等の一画である。この「行」は、描画が開始される位置から次に描画が終了される位置までに連続的に描画されるストロークとして扱うこともできる。ストロークは、公的機関（例えば、日本規格協会、ＩＳＯ等）等が定める一画と同じであってもよいし異なっていてもよい。
【００７１】
また、「描画順」なる文言は、描画対象に含まれる線分を描画する順（線分をどちらの端部から描画するかという描画順も含む）と、複数の描画対象の各々を描画する順との２つの意味を有するものとして用いる。
【００７２】
［実施の形態１］
図６は、実施の形態１のレーザ照射装置１の構成を示す図である。
【００７３】
実施の形態１のレーザ照射装置１は、レーザビームを出射するレーザ装置２、レーザ装置２から出射されたレーザビームを熱可逆記録媒体であるリライタブル媒体１００に走査する走査装置３、及びレーザ照射装置１の各部を駆動制御する描画制御装置４を備える。レーザ照射装置１は、外部装置であるホストコンピュータ２００から送信される描画指令に基づいてリライタブル媒体１００にレーザビームを走査してリライタブル媒体１００に描画対象を描画する。
【００７４】
レーザ装置２は、描画制御装置４からの指示に応じてレーザビームを出射する。レーザ装置２は、例えば、半導体レーザ装置やＹＡＧレーザ装置、炭酸ガスレーザ装置等で構成されるが、これらの中でもレーザ出力の制御が比較的容易な半導体レーザ装置が好適である。
【００７５】
走査装置３は、レーザビームを偏向する可動ミラーであるＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２とｆθレンズ１３を備える。
【００７６】
Ｘ軸ガルバノミラー１１は、駆動源であるガルバノメータ１４によって駆動され、Ｘ軸方向に沿ってレーザビームを走査する。また、Ｙ軸ガルバノミラー１２は、駆動源であるガルバノメータ１５によって駆動され、Ｙ軸方向に沿ってレーザビームを走査する。
【００７７】
ガルバノメータ１４には、Ｘ軸サーボドライバ１６が接続され、ガルバノメータ１５には、Ｙ軸サーボドライバ１７が接続されている。Ｘ軸サーボドライバ１６及びＹ軸サーボドライバ１７は、描画制御装置４からの指示値に従い、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の角度をそれぞれ制御する駆動回路であり、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の各々に設けられた角度センサ（図示せず）から出力されるポジション信号と描画制御装置４からの指示値を比較し、その誤差が最小になるようにガルバノメータ１４、１５へ駆動信号を与える。
【００７８】
ｆθレンズ１３は、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２で偏向されたレーザビームをリライタブル媒体１００へ集光するとともに、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の変位角と集光スポットの変位距離とが比例するように補正を行う。
【００７９】
このような構成の走査装置３は、レーザ装置２から出射されたレーザビームをＸ軸ガルバノミラー１１で偏向し、Ｘ軸ガルバノミラー１１で偏向されたレーザビームをＹ軸ガルバノミラー１２で偏向し、Ｙ軸ガルバノミラー１２で偏向されたレーザビームをｆθレンズ１３を介してリライタブル媒体１００上に照射する。この際、Ｘ軸ガルバノミラー１１とＹ軸ガルバノミラー１２との角度を適宜変更することにより、レーザビームを２次元に偏向走査することができる。
【００８０】
描画制御装置４は、ＡＳＩＣやＣＰＵ等の処理装置、動作を制御する所定のプログラムが格納されたＲＯＭや処理装置のワーク領域となるＲＡＭ等の記憶装置（いずれも図示せず）を備えており、処理装置は記憶装置とともにコンピュータを構成している。この描画制御装置４には、ホストコンピュータ２００、レーザ装置２、Ｘ軸サーボドライバ１６、及びＹ軸サーボドライバ１７が接続されている。
【００８１】
なお、レーザ装置２、Ｘ軸ガルバノミラー１１、Ｙ軸ガルバノミラー１２、ｆθレンズ１３、ガルバノメータ１４、ガルバノメータ１５、Ｘ軸サーボドライバ１６、及びＹ軸サーボドライバ１７は、熱可逆記録媒体であるリライタブル媒体１００に所望の描画対象を描画する描画装置を構成する。
【００８２】
図７は、実施の形態１の描画制御装置のブロック構成を示す図である。
【００８３】
描画制御装置４は、処理装置と記憶装置に格納されたプログラムとの協働により、図７に示すように、ホストインターフェース部２０、描画データ生成部３０、制御データ生成部４０、制御データ出力部５０、ガルバノミラー制御信号生成部６０、レーザ出力制御信号生成部７０、及びレーザ発光制御信号生成部８０の各機能部を実現する。
【００８４】
また、描画制御装置４は、処理装置と記憶装置に格納されたプログラムとの協働により、制御データ生成部４０、制御データ出力部５０、ガルバノミラー制御信号生成部６０、レーザ出力制御信号生成部７０及びレーザ発光制御信号生成部８０を備える描画命令生成手段としての照射部９０を機能部として実現する。
【００８５】
ホストインターフェース部２０は、ホストコンピュータ２００から描画指令を受け取る。描画指令は、描画対象がバーコードであれば、バーコードの種類を表す識別子、バーコードに含まれる線分の描画位置（両端の座標）、及びサイズ等を含むデータである。ホストインターフェース部２０は、描画指令の終了の旨を示すコードを受け取ったところで、描画データ生成部３０に描画指令を渡す。
【００８６】
描画データ生成部３０は、描画位置決定部３１、描画順決定部３２、レーザ出力調整部３３、及び描画速度調整部３４を含み、描画指令に含まれるバーコードを表すデータを適切にエンコードし、描画データを生成する。描画データは、バーコードに含まれる複数の線分のリライタブル媒体１００上における位置（座標データ）、各線分の描画順、レーザ出力、描画速度、及びレーザの点灯／消灯等の情報を含む制御フラグを有する。
【００８７】
描画位置決定部３１は、描画指令に基づき、バーコードに含まれる複数の線分のリライタブル媒体１００上における位置（座標データ）を決定する描画位置決定手段である。描画順決定部３２は、バーコードに含まれる各線分の描画順を決定する描画順決定手段である。レーザ出力調整部３３は、各線分を描画するためのレーザ出力の調整、及び点灯／消灯の設定を行う調整手段である。描画速度調整部３４は、リライタブル媒体１００に描画対象を描画する描画速度（すなわち、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を駆動する速度）を調整する。
【００８８】
描画制御装置４は、ホストコンピュータ２００から描画指令を受け取り、描画対象を複数の線分で定義する描画データを生成した後、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の位置、レーザ装置２のレーザビームの発光タイミング及び発光出力を制御し、リライタブル媒体１００に描画対象を描画する。
【００８９】
図８は、実施の形態１の描画制御装置で用いる描画データのデータ構造の一例を示す図である。
【００９０】
描画データは、複数の単位描画データを含み、各単位描画データＤ１は、図８に示すように、レーザビームの移動点としての座標（Ｘ座標、Ｙ座標）を指定する座標データ部Ｄ１ａ、レーザビームの出力を設定する出力係数部Ｄ１ｂ、及び、単位描画データＤ１が指定する座標へ到達する間にレーザビームを点灯するか否かを設定する制御フラグ部Ｄ１ｃを含む。
【００９１】
単位描画データＤ１は、実施の形態１では、８バイトのデータである。座標データ部Ｄ１ａのうちＸ座標は、２バイトの符号付きバイナリデータであり、Ｙ座標は、２バイトの符号付きバイナリデータである。出力係数部Ｄ１ｂは、レーザビームの出力を基準の出力に対して１０００分率で設定する。制御フラグ部Ｄ１ｃには、座標が描画における最後の座標であるか否かを示す最終座標フラグと、レーザの点灯／消灯を指示するレーザビームフラグとが設けられている。最終座標フラグは、例えば、１５ビット目のデータとして記述され、次の単位描画データＤ１が無く当該描画データＤ１が最後の単位描画データである場合には１が設定され、次の単位描画データＤ１が有り当該単位描画データＤ１が最後でない場合には０が設定される。レーザビームフラグは、例えば１４ビット目のデータとして記述され、レーザビームを消灯する場合は０が設定され、レーザビームを点灯する場合には１が設定される。このような制御フラグ部Ｄ１ｃによって、バーコードに含まれる各線分を描画するための描画動作と、描画において線分同士を繋がないためのジャンプ（空走）動作を指示するようになっている。
【００９２】
描画データ生成部３０は、描画指令に基づいて描画データを生成すると、制御データ生成部４０へ描画データを渡す。
【００９３】
制御データ生成部４０は、所定の速度でＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を動かし、所定のタイミングでレーザを点灯または消灯し、所定のタイミングでレーザ出力を変更するための制御データを描画データを基に生成する。Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を定速で動かすためには、描画データの座標間を所定の速度タイミングで細かく指示する必要があり、また、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の追従遅れやレーザ装置２の応答特性を考慮し、レーザの発光タイミングをＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の位置指定に対し遅らせる必要がある。さらに、リライタブル媒体１００の位置に合わせ描画データの描画位置を全体的にオフセットさせる処理もここで行う。なお、レーザ照射装置１は、描画速度やレーザの発光タイミングの標準的な値を保持しているが、その値を外部から変更することも可能となっている。
【００９４】
図９は、実施の形態１の描画制御装置で用いる制御データのデータ構造の一例を示す図である。
【００９５】
制御データは、描画データを後述するＤＡコンバータに対して設定する値に変換したものであり、かかるデータを用意することで高速なデータ出力を可能にしている。制御データは、複数の単位制御データＤ２を含み、各単位制御データＤ２は、図９に示すように、Ｘ出力部Ｄ２ａ、Ｙ出力部Ｄ２ｂ、出力設定部Ｄ２ｃ、データ間隔部Ｄ２ｄ、制御フラグ部Ｄ２ｅを含む。Ｘ出力部Ｄ２ａは、Ｘ軸ガルバノミラー１１の位置制御値を指定する部分であり、Ｙ出力部Ｄ２ｂは、Ｙ軸ガルバノミラー１２の位置制御値を指定する部分であり、出力設定部Ｄ２ｃは、レーザ出力の出力制御値を指定する部分であり、データ間隔部Ｄ２ｄは、当該単位制御データＤ２から次の単位制御データＤ２までの間隔が記述される部分である。制御フラグ部Ｄ１ｃには、レーザ発光フラグ、ＸＹ出力指定フラグ、出力指定フラグ、エンドフラグが設けられている。レーザ発光フラグは、例えば１５ビット目に記述され、レーザビームを点灯させる場合には１が設定される。ＸＹ出力指定フラグは、例えば１４ビット目に記述され、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の位置制御値を出力する場合には１が設定される。出力指定フラグは、例えば１３ビット目に記述され、レーザ出力の出力値を出力する場合には、１が設定される。エンドフラグは、例えば１２ビット目に記述され、当該単位制御データＤ２が最終の単位制御データＤ２である場合には１が設定される。
【００９６】
制御データ生成部４０は、描画データから制御データを生成すると、制御データ出力部５０へ制御データを渡す。
【００９７】
制御データ出力部５０は、制御データのうちの最初の単位制御データを受け取ると、描画開始の指示が入力されるまで待機する。単位制御データの受信と同時に描画を開始するモードも備えるが、標準的にはリライタブル媒体１００をコンベアコントローラ等の別装置が移動させることから装置外部からの描画開始信号を受けて描画対象の描画を開始する。
【００９８】
制御データ出力部５０は、描画を開始すると、次の単位制御データの出力タイミングを作るために、単位制御データを読み込んだ最初にデータ間各地を描画制御装置４が備えるＣＰＵタイマに設定する。こうすることで、その後の処理に差異があってもタイミングを安定させることができる。次に、単位制御データのレーザ発光フラグの値をレーザ発光制御信号生成部８０に出力し、単位制御データにおいてＣＹ出力指定フラグが立っていれば、単位制御データのＸ出力部Ｄ２ａ、Ｙ出力部Ｄ２ｂの値をガルバノミラー制御信号生成部６０に出力し、単位制御データの出力指定フラグが立っていれば出力設定部Ｄ２ｃの値をレーザ出力制御信号生成部７０に出力することで１サイクルの制御データ出力を完了する。そして、タイマ割り込みを待ち、次の制御データを出力することを繰り返す。エンドフラグが立っていたら描画を終了する。
【００９９】
ガルバノミラー制御信号生成部６０には、１６ビット分解能のＤＡコンバータが２チャネル設けられ、それぞれＸ軸サーボドライバ１６とＹ軸サーボドライバ１７とに接続される。レーザ出力制御信号生成部７０には、１６ビット分解能のＤＡコンバータが１チャネル設けられ、レーザ装置２と接続される。レーザ発光制御信号生成部８０は、２値のデジタル信号ポートであリ、レーザ装置２と接続される。
【０１００】
以上の構成によって、制御データ生成部４０、制御データ出力部５０、ガルバノミラー制御信号生成部６０、レーザ出力制御信号生成部７０、及びレーザ発光制御信号生成部８０を備える照射部９０は、描画データに基づいてＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を駆動するとともに、レーザビームの出力に応じたレーザビームをリライタブル媒体１００に照射する。
【０１０１】
これにより、レーザ照射装置１は、描画データに基づいてＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を駆動して、リライタブル媒体１００にレーザビームを照射してリライタブル媒体１００に描画対象を描画する。
【０１０２】
次に、実施の形態１の描画制御装置による描画データの生成処理について説明する。
【０１０３】
図１０は、実施の形態１の描画制御装置による描画データの生成処理を表すフローチャートである。
【０１０４】
描画データ生成部３０は、描画指令に基づき、バーコードに含まれる複数の線分のリライタブル媒体１００上における位置（座標データ）を決定する（ステップＳ１）。このステップＳ１の処理は、具体的には、描画データ生成部３０内の描画位置決定部３１によって実行される処理である。
【０１０５】
次いで、描画データ生成部３０は、バーコードに含まれる各線分の描画順を決定する（ステップＳ２）。このステップＳ２の処理は、具体的には、描画データ生成部３０内の描画順決定部３２によって実行される処理であり、バーコードに含まれる複数の線分の描画順を一行ずつ決定する処理である。実施の形態１の描画制御装置では、各行の線分の描画順は、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画するように各行の描画順が決定される。すなわち、隣接する行同士の描画方向は、互いに逆方向に設定される。
【０１０６】
なお、「相隣接する行」には、互いに隣接する行だけでなく、互いに隣接して重複する行も含まれることとする。
【０１０７】
次に、描画データ生成部３０は、各線分を描画するためのレーザ出力の調整、及び点灯／消灯の設定を行う（ステップＳ３）。このステップＳ３の処理は、具体的には、描画データ生成部３０内のレーザ出力調整部３３によって実行される処理であり、ステップＳ２で描画順が決定された各行の描画開始位置から描画終了位置にかけてのレーザ出力を設定する処理である。
【０１０８】
ステップＳ３では、各行のうち１行目の線分については描画開始位置から描画終了位置まで同一のレーザ出力（例えば、レーザ装置２の定格出力）に設定し、各行のうち２行目以降の線分については、線分をさらに単位線分に分け、線分の描画開始位置から描画終了位置にかけて、レーザ出力が単位線分毎に増大するようにレーザ出力を設定する処理である。例えば、２行目以降の線分について一行の線分を１０個の単位線分に分割する場合は、レーザ出力が千分率で８２０、８４０、８６０、８８０、９００、９２０、９４０、９６０、９８０、１０００と段階的に増大するように設定される。すなわち、描画開始位置におけるレーザ出力は、レーザ装置２の最大出力（定格出力）の８４０／１０００の出力であり、レーザ出力は段階的に増大されて描画終了位置において最大出力（１０００／１０００）となるように設定される。
【０１０９】
このようなレーザ出力の設定は、例えば、図１１に示すように、単位線分の識別子と、各単位線分におけるレーザ出力とを予め定めたテーブル形式のデータをレーザ出力調整部３３が参照することによって実現することができる。なお、図１１に示すデータでは、一行の線分の分割数が１０であり、単位線分の識別子は、一行の線分の描画開始位置から描画終了位置にかけて番号が振られている。
【０１１０】
このように、実施の形態１では、２行目以降の線分について各行の描画開始位置から描画終了位置にかけて、レーザによってリライタブル媒体１００が受けるエネルギ量を増大させる。
【０１１１】
次いで、描画データ生成部３０は、線分の描画速度を設定する（ステップＳ４）。このステップＳ４の処理は、具体的には、描画データ生成部３０内の描画速度調整部３４によって実行される処理であり、一行の描画開始位置から描画終了位置にわたる線分（すなわち、ステップＳ３で分割された１０個の単位線分を含む１つの線分）を描画する描画速度を決定する処理である。実施の形態１では、描画速度は、千分率で１０００に設定される。
【０１１２】
次いで、描画データ生成部３０は、描画データを生成する（ステップＳ５）。これにより、図８に示す描画データが各単位線分について生成される。
【０１１３】
次いで、描画データ生成部３０は、すべての行の線分について描画データの生成が終了したか否かを判定する（ステップＳ６）。ステップＳ６の処理は、すべての行の線分に含まれるすべての単位線分について図８に示す描画データが生成されたか否かを判定する処理である。
【０１１４】
ステップＳ６において、すべての行の線分についての設定が終了していないと判定した場合は、描画データ生成部３０は、フローをステップＳ３にリターンする。これにより、ステップＳ３乃至Ｓ６の処理が繰り返し実行され、すべての行の線分についてレーザ出力と描画速度が設定されることになる。
【０１１５】
ステップＳ６において、すべての行の線分についての設定が終了したと判定した場合は、生成された描画データが図９に示す制御データに変換され、描画が行われる。
【０１１６】
図１２は、実施の形態１の描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【０１１７】
実施の形態１の描画制御装置によって生成される描画データは、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画するように各行の描画順を決定するため、各行の描画順は、図１２（ａ）に実線の矢印で示すように、隣接する行同士で、描画方向がＸ軸方向において互いに逆方向となる。すなわち、実施の形態１では、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画する。
【０１１８】
図１２（ａ）に実線で示す矢印は、線分を描画する位置及び方向を示し、矢印の起点は描画開始位置を表し、矢印の先端は描画終了位置を示す。また、破線でＹ軸方向に示す矢印は、ジャンプ（空走）を示す。なお、実施の形態１の描画制御装置では、各行を描画する間に待機時間は挿入しない。
【０１１９】
また、実施の形態１の描画制御装置では、１行目の線分についてのレーザ出力は描画開始位置から描画終了位置まで一定であるが、２行目以降の線分についてのレーザ出力は、各行の描画開始位置から描画終了位置にかけて（単位線分毎に）段階的に増大するように設定されているため、２行目以降の各行の線分は、図１２（ｂ）に示すように、描画開始位置から描画終了位置にかけて、線分の太さが徐々に太くなる。
【０１２０】
このような描画方法は、図１２（ｃ）に示すタイムチャートの通りに実行される。図１２（ｃ）において、Ｘ座標方向ビーム速度はＸ軸方向の描画速度を表し、１行目から５行目の線分についてすべて同一、かつ時間経過に対して一定の速度に設定される。各線分の間でＸ座標方向ビーム速度が零（０）になっている区間は、図１２（ａ）に破線で示すジャンプ（空走）の区間に相当する。
【０１２１】
レーザ出力は、１行目の線分については描画開始位置から描画終了位置まで（１０００／１０００で）一定であるが、２行目から５行目の線分のすべてにおいて、描画開始位置から描画終了位置にかけて（すなわち、時間の経過に伴って）８２０／１０００から１０００／１０００まで増大するように設定されている。
【０１２２】
このような描画方法によるビームのＸ座標位置とＹ座標位置は、図１２（ｃ）に示す通りとなる。
【０１２３】
ここで、図１２（ｂ）に示す１行目の線分をＸ軸方向における正（＋）の方向に描画し終えた後に、２行目の線分をＸ軸方向における負（−）の方向に描画する際に、１行目の線分における描画開始位置（図中Ｘ軸方向における左端）よりも描画終了位置（図中Ｘ軸方向における右端）の方がレーザ照射による熱が多く残存した状態となる。
【０１２４】
しかしながら、実施の形態１の描画制御装置では、２行目の線分をＸ軸方向における負（−）の方向に描画する際に、描画開始位置（図中Ｘ軸方向における右端）から描画終了位置（図中Ｘ軸方向における左端）にかけて段階的にレーザ出力を増大するので、２行目の線分の描画開始位置側と描画終了位置側とでリライタブル媒体１００が受ける熱エネルギのバランスが取られることになる。これは、２行目の３行目の線分同士の間、３行目の４行目の線分同士の間、４行目の５行目の線分同士の間においても同様である。
【０１２５】
この結果、従来技術の問題点として図３（ｂ）に示したような塗りむらを抑制することができ、きれいな塗り潰しが得られる。また、実施の形態１の描画制御装置によれば、各線分を描画する間に待機時間を要しないため、描画対象全体を描画するための描画時間の短縮化を図ることができる。また、従来は塗りむらを抑制するためにレーザ出力を通常よりも増大することが行われていたが、実施の形態１の描画制御装置によれば、レーザ装置２の最大出力値（定格値）を上昇させる必要がないため、リライタブル媒体１００に局所的に多くの熱量を加えることが無く、リライタブル媒体１００の破損が抑制され、長寿命化を図ることができる。
【０１２６】
以上、実施の形態１の描画制御装置によれば、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画する際に、各行の描画開始位置から描画終了位置にかけてレーザ出力を増大させるので、塗りむらを抑制することができ、きれいな塗り潰しが得られる。また、描画時間の短縮化と、リライタブル媒体１００の長寿命化を図ることができる。
【０１２７】
なお、以上では、１行目の線分を描画するレーザ出力については描画開始位置から描画終了位置まで一定とし、２行目以降の各行の線分を描画する出力を描画開始位置から描画終了位置にかけて増大させる形態について説明した。しかしながら、例えば、レーザ出力やリライタブル媒体１００の熱特性等により、１行目の線分についても描画開始位置から描画終了位置にかけて増大させる方が綺麗に描画を行える場合は、１行目の線分についてもレーザ出力が描画開始位置から描画終了位置にかけて増大するように設定してもよい。
【０１２８】
また、以上では、２行目以降の各行の線分の描画開始位置におけるレーザ出力が描画終了位置におけるレーザ出力の８２０／１０００である形態について説明した。これは、各行の描画開始位置におけるレーザ出力は、描画終了位置におけるレーザ出力の約８割程度であることが好ましいという結果が得られたことに基づくものである。しかしながら、各行の線分の描画開始時におけるレーザ出力は、上述した値に限定されるものではなく、レーザ装置２の定格出力やリライタブル媒体１００の熱特性等に応じて適切な値に設定することができる。
【０１２９】
また、以上では、各行の線分を１０個の単位線分に分割して単位線分毎にレーザ出力を設定する形態について説明したが、レーザ出力が同一の値に設定される単位線分が連続するようにしてもよい。
【０１３０】
また、単位線分の数は１０に限らず、任意の値をとることができる。また、必ずしも各行の線分を複数の単位線分に分割する必要はなく、一本の線分を描画するためのレーザ出力を描画開始位置から描画終了位置にかけて連続的に増大させるようにしてもよい。
【０１３１】
また、以上では、各行の描画開始位置から描画終了位置にかけてレーザ出力を増大させることにより、レーザによってリライタブル媒体１００が受けるエネルギ量を増大させるように構成したが、描画開始位置から描画終了位置にかけてのレーザ出力を一定にするとともに、描画開始位置から描画終了位置にかけて描画速度を徐々に低下させることによってレーザによってリライタブル媒体１００が受けるエネルギ量を増大させるように構成してもよい。
【０１３２】
図１３は、実施の形態１の変形例による描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【０１３３】
図１３に示す描画手法では、１行目の線分を描画する描画速度は一定（千分率で１０００／１０００、１０００は図１２に示す１０００の描画速度と同一）であるが、２行目以降の各行の線分を描画する描画速度は、描画開始位置から描画終了位置にかけて徐々に低下するように設定されている。また、各行の線分を描画するレーザ出力は、画開始位置から描画終了位置にかけて一定に設定されている。これは、図１１に示したレーザ出力についてのテーブル形式のデータと同様のテーブル形式のデータを描画速度について作成し、２行目以降の線分について描画データ生成部３０の描画速度調整部３４が参照するように構成することによって実現することができる。すなわち、２行目以降の各行の線分を１０個の単位線分に分割し、各単位線分の描画速度を段階的に低い値に設定すればよい。例えば、描画速度の標準値が千分率で１０００である場合に、２行目以降の線分に含まれる１０個の単位線分について、描画開始位置から描画終了位置にかけて、１１８０、１１６０、１１４０、１１２０、１１００、１０８０、１０６０、１０４０、１０２０、１０００と低下するように構成したテーブル形式の描画速度のデータを描画速度調整部３４が参照するようにすればよい。なお、図１３に示す実施の形態１の変形例の描画制御装置においては、描画速度調整部３４が調整手段として機能することになる。
【０１３４】
このように、レーザ出力を一定にしつつ描画速度を徐々に下げることによっても、各線分の描画開始位置側と描画終了位置側とでリライタブル媒体１００が受ける熱エネルギのバランスが取ることができ、塗りむらを抑制して、きれいな塗り潰しを描画することができる。また、各線分を描画する間に待機時間を要しないため、描画対象全体を描画するための描画時間の短縮化を図ることができる。また、レーザ出力の最大値を上昇させることなく描画を行うことができるため、リライタブル媒体１００に局所的に多くの熱量を加えることが無く、リライタブル媒体１００の長寿命化を図ることができる。
【０１３５】
［実施の形態２］
図１４は、実施の形態２の描画制御装置２０４のブロック構成を示す図である。
【０１３６】
実施の形態２の描画制御装置２０４は、描画データ生成部２３０が線分の描画開始位置と描画終了位置の座標を変更する描画位置変更部２３５を含む点が実施の形態１の描画制御装置４と異なる。その他の構成は、実施の形態１の描画制御装置４と同一であるため、同一の要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【０１３７】
図１５は、実施の形態２の描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【０１３８】
実施の形態２の描画制御装置２０４による描画手法は、２行目以降の各行の線分を所定数（ここでは１０）の単位線分に分け、線分の描画開始位置側から描画終了位置側にかけて、単位線分毎にレーザ出力を増大させる点は実施の形態１の描画手法と同一である。なお、実施の形態１と同様に、図１５（ａ）で線分の描画順を示す実線の矢印は、起点が描画開始位置を示し、矢印の先端が描画終了位置を示す。
【０１３９】
実施の形態２の描画制御装置２０４は、図１５（ａ）に示すように、２行目以降の行の線分の描画開始位置をＹ軸−方向にずらして描画を行うものである。描画開始位置の変更は、描画位置変更部２３５が描画データに含まれる線分の描画開始位置のＹ座標値を変更することによって実現される。
【０１４０】
このように、２行目以降の行の描画開始位置を変更するのは、２行目以降では、前の行の描画によってリライタブル媒体１００に残存する熱は、前の行の描画開始位置側よりも描画終了位置側で多い。このため、次の行の描画開始位置を前の行の描画終了位置から遠ざけることにより、前の行の描画とその次の行の描画とによってリライタブル媒体１００が受ける熱量を重複部分及びその周辺で、よりバランス良くするためである。
【０１４１】
ここで、２行目以降の行の線分の描画開始位置をＹ軸−方向にずらす量は、描画される線分の幅（Ｙ軸方向の幅）の１／６〜２／３であることが好適である。
【０１４２】
図１６は、実施の形態２の描画制御装置による描画データの生成処理を表すフローチャートである。
【０１４３】
ステップＳ２０１、Ｓ２０２は、図１０に示すステップＳ１、Ｓ２とそれぞれ同一である。
【０１４４】
ステップＳ２０２で描画順が決定されると、描画データ生成部３０は、２行目以降の線分について描画開始位置の座標を変更する処理を行う（ステップＳ２０３）。このステップＳ２０３の処理は、描画データ生成部３０内の描画位置変更部２３５が実行する処理であり、図１５を用いて上述したように、２行目以降の線分の描画開始位置を前の線分から遠ざけるために行う処理である。
【０１４５】
ステップＳ２０３の処理が終了すると、描画データ生成部３０は、フローをステップＳ２０４に進行させる。ステップＳ２０４乃至Ｓ２０８の処理は、実施の形態１におけるステップＳ３乃至Ｓ７の処理と基本的に同一であるが、ステップＳ２０６で生成される描画データに含まれる２行目以降の線分のＹ座標は、描画位置変更部２３５によって変更された座標値となる点が実施の形態１と異なる。
【０１４６】
ステップＳ２０４乃至Ｓ２０７の処理が繰り返し実行され、すべての行の線分についてレーザ出力と描画速度が設定されると、ステップＳ２０８において、生成された描画データが制御データ（図９参照）に変換され、描画が行われる。
【０１４７】
以上、実施の形態２の描画制御装置によれば、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画する際に、２行目以降の線分の描画開始位置を前の線分から遠ざけるように座標値を変更するとともに、各行の描画開始位置から描画終了位置にかけてレーザ出力を増大させる。
【０１４８】
このため、相隣接する線分の重複部分及びその周辺で、リライタブル媒体１００が受ける熱量のバランスが良好になり、塗りむらを抑制して、きれいな塗り潰しを得ることができる。また、実施の形態２の描画制御装置によれば、各線分を描画する間に待機時間を要しないため、描画対象全体を描画するための描画時間の短縮化を図ることができる。また、リライタブル媒体１００の長寿命化を図ることができる。
【０１４９】
なお、以上では、２行目以降の行の線分の描画開始位置をＹ軸−方向に（前の行よりも遠ざける方向に）ずらす形態について説明したが、これに加えて、描画終了位置についても位置をずらすようにしてもよい。すなわち、２行目以降の行の線分の描画開始位置をＹ軸−方向にずらすとともに、同線分の描画終了位置をＹ軸＋方向にずらしてから２行目以降の描画を行うように構成してもよい。このような描画開始位置と描画終了位置の変更は、レーザ装置２のレーザ出力やリライタブル媒体１００の熱特性等に応じて適切な値を選択して行えばよい。
【０１５０】
なお、以上の実施の形態１、２では、描画対象がバーコードである場合について説明したが、実施の形態１、２の描画制御装置によって制御される描画装置が描画する描画対象は、バーコードに限られるものではなく、文字、数字、記号、又は図形等であってもよい。
【０１５１】
また、実施の形態１、２のレーザ照射装置１で実行されるプログラムは、インストール可能な形式又は実行可能な形式のファイルでＣＤ−ＲＯＭ、フレキシブルディスク（ＦＤ）、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）等のコンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録されて提供される。
【０１５２】
また、実施の形態１、２のレーザ照射装置１で案行されるプログラムを、インターネット等のネットワークに接続されたコンピュータ上に格納し、ネットワーク経由でダウンロードさせることにより提供するように構成してもよい。また、実施の形態１のレーザ照射装置１で実行されるプログラムをインターネット等のネットワーク経由で提供または配布するように構成してもよい。
【０１５３】
次に、実施の形態３及び４について説明する。
（描画制御方法）
本発明の描画制御方法は、画像記録工程、及び画像消去工程の少なくともいずれかを含む。なお、本発明の前記描画制御方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、非可逆の記録媒体に対する画像形成方法として用いることもできるが、可逆性を有する熱可逆記録媒体に対する画像の記録及び消去を行う描画制御方法として用いることが好ましい。
＜画像記録工程＞
前記画像記録工程は、熱可逆記録媒体に対してレーザ光を照射して加熱することにより前記熱可逆記録媒体にレーザ光描画線で形成される画像を記録する工程である。
【０１５４】
前記画像記録工程において照射されるレーザ光の出力の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１Ｗ以上が好ましく、３Ｗ以上がより好ましく、５Ｗ以上が特に好ましい。
【０１５５】
前記レーザ光の出力が、１Ｗ未満であると、画像記録に時間がかかり、画像記録時間を短くしようとすると出力が不足してしまう。
【０１５６】
また、前記レーザ光の出力の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２００Ｗ以下が好ましく、１５０Ｗ以下がより好ましく、１００Ｗ以下が特に好ましい。前記レーザ光の出力が、２００Ｗを超えると、レーザ装置の大型化を招くことがある。
【０１５７】
前記画像記録工程において照射されるレーザ光の走査速度の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３００ｍｍ／ｓ以上が好ましく、５００ｍｍ／ｓ以上がより好ましく、７００ｍｍ／ｓ以上が特に好ましい。
【０１５８】
前記走査速度が、３００ｍｍ／ｓ未満であると、画像記録に時間がかかる。
【０１５９】
また、前記レーザ光の走査速度の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５，０００ｍｍ／ｓ以下が好ましく、１０，０００ｍｍ／ｓ以下がより好ましく、８，０００ｍｍ／ｓ以下が特に好ましい。
【０１６０】
前記走査速度が、１５，０００ｍｍ／ｓを超えると、均一な画像が形成し難くなる。
【０１６１】
前記画像記録工程において照射されるレーザ光のスポット径の下限としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、０．０２ｍｍ以上が好ましく、０．１ｍｍ以上がより好ましく、０．１５ｍｍ以上が特に好ましい。
【０１６２】
また、前記レーザ光のスポット径の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３．０ｍｍ以下が好ましく、２．５ｍｍ以下がより好ましく、２．０ｍｍ以下が特に好ましい。
【０１６３】
前記スポット径が、０．０２ｍｍ未満であると、画像の線幅が細くなり、視認性が低下する。また、前記スポット径が３．０ｍｍを超えると、画像の線幅が太くなり、隣接する線が重なり、小さいサイズの画像記録が不可能となる。
【０１６４】
前記レーザ光のレーザ光源としては、特に制限はないが、目的に応じて適宜選択することができるが、ＹＡＧレーザ光、ファイバーレーザ光、及び半導体レーザ光の少なくともいずれかであることが好ましい。
＜画像消去工程＞
前記画像消去工程は、前記熱可逆記録媒体に対してレーザ光を照射して加熱することにより前記熱可逆記録媒体に記録された前記画像を消去する工程である。
【０１６５】
前記画像消去工程において照射されるレーザ光の出力の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５Ｗ以上が好ましく、７Ｗ以上がより好ましく、１０Ｗ以上が特に好ましい。
【０１６６】
前記レーザ光の出力が、５Ｗ未満であると、画像消去に時間がかかり、画像消去時間を短くしようとすると出力が不足して画像の消去不良が発生する。
【０１６７】
また、前記レーザ光の出力の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２００Ｗ以下が好ましく、１５０Ｗ以下がより好ましく、１００Ｗ以下が特に好ましい。前記レーザ光の出力が、２００Ｗを超えると、レーザ装置の大型化を招くおそれがある。
【０１６８】
前記画像消去工程において照射されるレーザ光の走査速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００ｍｍ／ｓ以上が好ましく、２００ｍｍ／ｓ以上がより好ましく、３００ｍｍ／ｓ以上が特に好ましい。
【０１６９】
前記走査速度が、１００ｍｍ／ｓ未満であると、画像消去に時間がかかる。
【０１７０】
また、前記レーザ光の走査速度の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０，０００ｍｍ／ｓ以下が好ましく、１５，０００ｍｍ／ｓ以下がより好ましく、１０，０００ｍｍ／ｓ以下が特に好ましい。
【０１７１】
前記走査速度が、２０，０００ｍｍ／ｓを超えると、均一な画像消去がし難くなることがある。
【０１７２】
前記熱可逆記録媒体に対し、レーザ光を照射して加熱することにより画像を消去する画像消去工程において照射されるレーザ光のスポット径としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、０．５ｍｍ以上が好ましく、１．０ｍｍ以上がより好ましく、２．０ｍｍ以上が特に好ましい。また、前記レーザ光のスポット径の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１４．０ｍｍ以下が好ましく、１０．０ｍｍ以下がより好ましく、７．０ｍｍ以下が特に好ましい。
【０１７３】
前記スポット径が０．５ｍｍ未満であると、画像消去に時間がかかる。また、スポット径が１４．０ｍｍを超えると、出力が不足して画像の消去不良が発生することがある。
【０１７４】
前記レーザ光のレーザ光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ＹＡＧレーザ光、ファイバーレーザ光、及び半導体レーザ光の少なくともいずれかであることが好ましい。
【０１７５】
前記画像記録工程及び前記画像消去工程において照射されるレーザ光の波長としては、７００ｎｍ以上が好ましく、７２０ｎｍ以上がより好ましく、７５０ｎｍ以上が特に好ましい。前記レーザ光の波長の上限としては、目的に応じて適宜選択することができるが、１，５００ｎｍ以下が好ましく、１，３００ｍｍ以下がより好ましく、１，２００ｎｍ以下が特に好ましい。
【０１７６】
レーザ光の波長を７００ｎｍより短い波長にすると、可視光領域では媒体の画像記録時のコントラストが低下したり、媒体が着色してしまうという問題がある。更に短い波長の紫外光領域では、媒体の劣化が起こりやすくなるという問題がある。また熱可逆記録媒体に添加する光熱変換材料には、繰返し画像処理に対する耐久性を確保するために高い分解温度を必要とし、光熱変換材料に有機色素を用いる場合、分解温度が高く吸収波長が長い光熱変換材料を得るのは難しい。これよりレーザ光の波長としては１，５００ｎｍ以下が好ましい。
【０１７７】
本発明の描画制御方法は、前記画像記録工程及び前記画像消去工程の少なくともいずれかが、第１の始点から第１の終点に第１のレーザ光描画線を描画し、第２の始点から第１のレーザ光描画線と平行な線に対して前記第１の始点側に傾く方向の線上に位置する第２の終点に向けて、前記第１のレーザ光描画線に隣接する第２のレーザ光描画線を描画することを含む。
【０１７８】
前記描画制御方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記第２のレーザ光描画線の描画後に、第３の始点から第２のレーザ光描画線と平行な線に対して第２の始点側に傾く方向の線上に位置する第３の終点に向けて、前記第２のレーザ光描画線に隣接する第３のレーザ光描画線を描画することが好ましい。
【０１７９】
この方法によれば、第２のレーザ光描画線の終点及び第３のレーザ光描画線の始点との間の折曲り部における第２のレーザ光描画線の終点印字直後に第３の描画線の始点を印字することによる蓄熱の影響を低減することが可能となる。
【０１８０】
この際、前記第３の描画線としては、特に制限はないが、前記第１のレーザ光描画線と平行に描画されることが好ましい。
【０１８１】
この方法によると、画像記録領域及びベタ画像印字領域において、濃度ムラなく画像記録及び画像消去を行うことができる。
【０１８２】
なお、平行とは、厳密に平行である場合に加え、画像処理上の性能に基づき略平行となる場合を含む。
【０１８３】
また、前記描画制御方法は少なくとも傾斜した描画線を含むものであるが、隣接する描画線の一部において、平行で同一方向の描画線が描画されることが含まれることもある。
つまり、複数線で形成されるベタ画像の大きさにより描画線が偶数本になる場合に、最後の傾きを持った描画線により前記描画線で形成されたベタ画像が傾きを持ってしまうので、その場合、１本は平行にすることが望ましい。
【０１８４】
また、始点及び終点とは、本明細書において特に断りのない限り、連続した描画線における始点及び終点に加え、連続した描画線が折曲げ部を含む場合、該折曲げ部の角を始点及び終点とする場合を含む。
【０１８５】
前記描画制御方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、一のレーザ光描画線の終点と、該レーザ光描画線に隣接する他のレーザ光描画線の始点との間においてレーザ光を照射しないことが好ましい。
【０１８６】
この方法によれば、レーザ光走査を短時間で行うことが可能で、ベタ画像印字、消去を短時間で可能であり、折曲り部での蓄熱影響を低減することが可能となる。
【０１８７】
また、前記一のレーザ光描画線の終点から、該レーザ光描画線と直交する方向の線上に前記他のレーザ光描画点の始点が位置するように描画することが好ましい。
【０１８８】
この方法によれば、矩形状の描画セル内にベタ画像を濃度ムラなく、効率的に印字記録することができる。また、印字記録された画像を効率よく消去することができる。
【０１８９】
更に、前記描画制御方法としては、特に制限はないが、第１のレーザ光描画線におけるレーザ光の照射エネルギーが、他の描画線におけるレーザ光の照射エネルギーより高いことが好ましい。
【０１９０】
この場合、前記第１のレーザ光描画線は、描画対象となる領域に対して最初に描画され、前記他の描画線は、該第１のレーザ光描画線の描画による蓄熱を利用しながら描画することができるため、前記第１のレーザ光描画線は、前記他の描画線におけるレーザ光の照射エネルギーより高いエネルギーで描画し、前記他の描画線を前記第１のレーザ光描画線より低いエネルギーで描画することで、過剰なエネルギーが加わることを抑制することができる。
【０１９１】
以下に本発明の形態について図５ａ及び図５ｂを用いて、本発明の実施の形態３及び実施の形態４について説明する。
【０１９２】
図５ａは、本発明の実施の形態３に係る画像記録、画像消去を行う際のレーザ光走査方法を示す図である。図５ａに示すように、実施の形態３に係るレーザ光走査方法は、図４ａのレーザ光走査方法のように、第２のレーザ光描画線４１２が第１のレーザ光描画線４１１に平行でなく、第１のレーザ光描画線４５１に対して、第２のレーザ光描画線４５２を傾けてレーザ光を走査させるものである。すなわち、第１のレーザ光描画線４５１の終点と第２のレーザ光描画線４５２の始点との間の第１距離が第１のレーザ光描画線４５１の始点と第２のレーザ光描画線４５２の終点との間の第２距離よりも長くなるように描画位置を調整する。
【０１９３】
第１のレーザ光描画線４５１に対して第２のレーザ光描画線４５２を傾けるとは、図５ａのピッチ幅に対する傾け量が、（傾け量）／（ピッチ幅）が０．１以上であることを示す。
【０１９４】
前記（傾け量）／（ピッチ幅）としては、０．１以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、該（傾け量）／（ピッチ幅）は小さいと蓄熱影響の低減が小さくなり、大きすぎると媒体への印加エネルギーが不十分となることから、０．２〜０．８が好ましい。
【０１９５】
ここで、本明細書において、傾け量とは、第２のレーザ光描画線の長さ方向における中心地点と、第１のレーザ光描画線との間の最短距離を示す。
【０１９６】
また、ピッチ幅とは、第２のレーザ光描画線の長さ方向における中心地点と、第２の始点から第１のレーザ光描画線と平行に引かれた線との最短距離を示す。
【０１９７】
該描画制御方法によれば、レーザ光走査を短時間で行うことが可能で、ベタ画像印字、消去を短時間で可能であり、折曲り部での蓄熱影響（第１のレーザ光描画線１の終点印字直後に第２のレーザ光描画線２の始点を印字することによる）を低減することが可能となる。
【０１９８】
図５ｂは、本発明の実施の形態４に係る画像記録、画像消去を行う際のレーザ光走査方法を示す図である。該図５ｂに示すように、実施の形態４に係るレーザ光走査方法は、図４ｂのレーザ光走査方法のように、第２のレーザ光描画線４１２が第１のレーザ光描画線４１１に平行でなく、第１のレーザ光描画線４５１に対して、第２のレーザ光描画線４５２を傾けてレーザ光を走査させるものである。
【０１９９】
また、該描画制御方法によれば、実施の形態３における効果に加え、第１終点から第２始点までの折曲げ部に相当する領域においてレーザ光が照射されないことから、折曲り部の速度低下により過剰に媒体にエネルギーを印加することを避けることができ、特に好ましい。
【０２００】
なお、実施の形態４において、第１終点から第２始点までの折曲げ部に相当する領域においてレーザ光が照射されないこと以外は、実施の形態３と同様とすることができ、実施の形態３において説明した事項を適用することができる。
＜熱可逆記録媒体＞
前記熱可逆記録媒体は、温度に依存して透明度及び色調のいずれかが可逆的に変化するものである。
【０２０１】
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はないが、支持体と、該支持体上に、第１の熱可逆記録層と、光熱変換層と、第２の熱可逆記録層とをこの順に有してなり、更に必要に応じて適宜選択した、第１の酸素バリア層、第２の酸素バリア層、紫外線吸収層、バック層、保護層、中間層、アンダーコート層、接着層、粘着層、着色層、空気層、光反射層等のその他の層を有してなる。これら各層は、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。ただし、前記光熱変換層の上に設ける層においては、照射する特定波長のレーザ光のエネルギーロスを少なくするために該特定波長において吸収の少ない材料を用いて層を構成させることが好ましい。
【０２０２】
ここで、熱可逆記録媒体５００の層構成としては、図１７ａに示すように、支持体５０１と、該支持体上に、第１の熱可逆記録層５０２と、光熱変換層５０３と、第２の熱可逆記録層５０４とをこの順に有する態様がある。
【０２０３】
また、図１７ｂに示すように、支持体５０１と、該支持体上に、第１の酸素バリア層５０５、第１の熱可逆記録層５０２と、光熱変換層５０３と、第２の熱可逆記録層５０４と、第２の酸素バリア層５０６とをこの順に有する態様がある。
【０２０４】
また、図１７ｃに示すように、支持体５０１と、該支持体上に、第１の酸素バリア層５０５、第１の熱可逆記録層５０２と、光熱変換層５０３と、第２の熱可逆記録層５０４と、紫外線吸収層５０７と、第２の酸素バリア層５０６とをこの順に有してなり、支持体５０１の熱可逆記録層等を有していない側の面にバック層５０８を有する態様がある。
【０２０５】
なお、図示を省略しているが、図１７ａの第２の熱可逆記録層５０４上、図１７ｂの第２の酸素バリア層５０６上、図１７ｃの第２の酸素バリア層５０６上の最表層に保護層を形成してもよい。
−支持体−
前記支持体としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、平板状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記熱可逆記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【０２０６】
前記支持体の材料としては、例えば、無機材料、有機材料などが挙げられる。
【０２０７】
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、酸化シリコン、酸化アルミニウム、ＳｉＯ２、金属などが挙げられる。
【０２０８】
前記有機材料としては、例えば、紙、三酢酸セルロース等のセルロース誘導体、合成紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等のフィルムなどが挙げられる。
【０２０９】
前記無機材料及び前記有機材料は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、有機材料が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【０２１０】
前記支持体には、塗布層の接着性を向上させることを目的として、コロナ放電処理、酸化反応処理（クロム酸等）、エッチング処理、易接着処理、帯電防止処理、などを行うことにより表面改質するのが好ましい。
【０２１１】
前記支持体に、酸化チタン等の白色顔料などを添加することにより、白色にするのが好ましい。
【０２１２】
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０μｍ〜２，０００μｍが好ましく、５０μｍ〜１，０００μｍがより好ましい。
−第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層−
前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層（以下、「熱可逆記録層」と称することがある）は、いずれも電子供与性呈色性化合物であるロイコ染料、電子受容性化合物である顕色剤を含み、熱により色調が可逆的に変化する熱可逆記録層であり、バインダー樹脂、更に必要に応じてその他の成分を含んでなる。
【０２１３】
前記熱により色調が可逆的に変化する電子供与性呈色性化合物であるロイコ染料、電子受容性化合物である可逆性顕色剤は、温度変化により目に見える変化を可逆的に生じる現象を発現可能な材料であり、加熱温度及び加熱後の冷却速度の違いにより、相対的に発色した状態と消色した状態とに変化可能である。
−−ロイコ染料−−
前記ロイコ染料は、それ自体無色又は淡色の染料前駆体である。該ロイコ染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、トリフェニルメタンフタリド系、トリアリルメタン系、フルオラン系、フェノチアジン系、チオフェルオラン系、キサンテン系、インドフタリル系、スピロピラン系、アザフタリド系、クロメノピラゾール系、メチン系、ローダミンアニリノラクタム系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサンテン系、ビスラクトン系等のロイコ化合物が好適に挙げられる。これらの中でも、発消色特性、色彩、保存性等に優れる点で、フルオラン系又はフタリド系のロイコ染料が特に好ましい。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよく、異なる色調に発色する層を積層することにより、マルチカラー、フルカラーに対応させることもできる。
−−可逆性顕色剤−−
前記可逆性顕色剤としては、熱を因子として発消色を可逆的に行うことができるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（１）前記ロイコ染料を発色させる顕色能を有する構造（例えば、フェノール性水酸基、カルボン酸基、リン酸基等）、及び、（２）分子間の凝集力を制御する構造（例えば、長鎖炭化水素基が連結した構造）、から選択される構造を分子内に１つ以上有する化合物が好適に挙げられる。なお、連結部分にはヘテロ原子を含む２価以上の連結基を介していてもよく、また、長鎖炭化水素基中にも、同様の連結基及び芳香族基の少なくともいずれかが含まれていてもよい。
【０２１４】
前記（１）ロイコ染料を発色させる顕色能を有する構造としては、フェノールが特に好ましい。
【０２１５】
前記（２）分子間の凝集力を制御する構造としては、炭素数８以上の長鎖炭化水素基が好ましく、該炭素数は１１以上がより好ましく、また炭素数の上限としては、４０以下が好ましく、３０以下がより好ましい。
【０２１６】
前記可逆性顕色剤の中でも、下記一般式（１）で表されるフェノール化合物が好ましく、下記一般式（２）で表されるフェノール化合物がより好ましい。
【０２１７】
【化１】
【０２１８】
【化２】
ただし、前記一般式（１）及び（２）中、Ｒ１は、単結合又は炭素数１〜２４の脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ２は、置換基を有していてもよい炭素数２以上の脂肪族炭化水素基を表し、該炭素数としては、５以上が好ましく、１０以上がより好ましい。Ｒ３は、炭素数１〜３５の脂肪族炭化水素基を表し、該炭素数としては、６〜３５が好ましく、８〜３５がより好ましい。これらの脂肪族炭化水素基は、１種単独で有していてもよいし、２種以上を併用して有していてもよい。
【０２１９】
前記Ｒ１、前記Ｒ２、及び前記Ｒ３の炭素数の和としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、下限としては、８以上が好ましく、１１以上がより好ましく、上限としては、４０以下が好ましく、３５以下がより好ましい。
【０２２０】
前記炭素数の和が、８未満であると、発色の安定性や消色性が低下することがある。
【０２２１】
前記脂肪族炭化水素基は、直鎖であってもよいし、分枝鎖であってもよく、不飽和結合を有していてもよいが、直鎖であるのが好ましい。また、前記炭化水素基に結合する置換基としては、例えば、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基等が挙げられる。
【０２２２】
Ｘ及びＹは、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、Ｎ原子又はＯ原子を含む２価の基を表し、具体例としては、酸素原子、アミド基、尿素基、ジアシルヒドラジン基、シュウ酸ジアミド基、アシル尿素基等が挙げられる。これらの中でも、アミド基、尿素基が好ましい。
【０２２３】
ｎは、０〜１の整数を示す。
【０２２４】
前記電子受容性化合物（顕色剤）は、消色促進剤として分子中に−ＮＨＣＯ−基、−ＯＣＯＮＨ−基を少なくとも一つ以上有する化合物を併用することにより、消色状態を形成する過程において消色促進剤と顕色剤の間に分子間相互作用が誘起され、発消色特性が向上するので好ましい。
【０２２５】
前記消色促進剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０２２６】
前記熱可逆記録層には、バインダー樹脂、更に必要に応じて熱可逆記録層の塗布特性や発色消色特性を改善、制御するための各種添加剤を用いることができる。これらの添加剤としては、例えば、界面活性剤、導電剤、充填剤、酸化防止剤、光安定化剤、発色安定化剤、消色促進剤などが挙げられる。
−−バインダー樹脂−−
前記バインダー樹脂としては、支持体上に熱可逆記録層を結着することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、従来から公知の樹脂の中から１種又は２種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、繰り返し時の耐久性を向上させるため、熱、紫外線、電子線などによって硬化可能な樹脂が好ましく用いられ、特にイソシアネート系化合物などを架橋剤として用いた熱硬化性樹脂が好適である。該熱硬化性樹脂としては、例えば、水酸基やカルボキシル基等の架橋剤と反応する基を持つ樹脂、又は水酸基やカルボキシル基等を持つモノマーとそれ以外のモノマーを共重合した樹脂などが挙げられる。このような熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリエステルポリオール樹脂、ポリウレタンポリオール樹脂、等が挙げられる。これらの中でも、アクリルポリオール樹脂、ポリエステルポリオール樹脂、ポリウレタンポリオール樹脂が特に好ましい。
【０２２７】
前記熱可逆記録層中における前記発色剤とバインダー樹脂との混合割合（質量比）は、発色剤１に対して０．１〜１０が好ましい。バインダー樹脂が少なすぎると、前記熱可逆記録層の熱強度が不足することがあり、一方、バインダー樹脂が多すぎると、発色濃度が低下して問題となることがある。
【０２２８】
前記架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イソシアネート類、アミノ樹脂、フェノール樹脂、アミン類、エポキシ化合物、等が挙げられる。これらの中でも、イソシアネート類が好ましく、特に好ましくはイソシアネート基を複数持つポリイソシアネート化合物である。
【０２２９】
前記架橋剤のバインダー樹脂に対する添加量としては、特に制限はないが、バインダー樹脂中に含まれる活性基の数に対する架橋剤の官能基の比は０．０１〜２が好ましい。これ以下では熱強度が不足してしまい、また、これ以上添加すると発色及び消色特性に悪影響を及ぼす。
【０２３０】
更に、架橋促進剤としてこの種の反応に用いられる触媒を用いてもよい。
【０２３１】
前記熱架橋した場合の熱硬化性樹脂のゲル分率としては、特に制限はなく、３０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、７０％以上が特に好ましい。前記ゲル分率が３０％未満であると、架橋状態が十分でなく耐久性に劣ることがある。
【０２３２】
前記バインダー樹脂が架橋状態にあるのか非架橋状態にあるのかを区別する方法としては、例えば、塗膜を溶解性の高い溶媒中に浸すことによって区別することができる。即ち、非架橋状態にあるバインダー樹脂は、溶媒中に該樹脂が溶けだし溶質中には残らなくなる。
【０２３３】
前記熱可逆記録層におけるその他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、画像の記録を容易にする観点から、界面活性剤、可塑剤などが挙げられる。
【０２３４】
前記熱可逆記録層用塗液に用いられる溶媒、塗液の分散装置、塗工方法、乾燥・硬化方法等は公知の方法を用いることができる。
【０２３５】
なお、熱可逆記録層用塗布液は前記分散装置を用いて各材料を溶媒中に分散してもよいし、各々単独で溶媒中に分散して混ぜ合わせてもよい。更に加熱溶解して急冷又は徐冷によって析出させてもよい。
【０２３６】
前記熱可逆記録層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）前記樹脂、及び前記ロイコ染料及び可逆性顕色剤を溶媒中に溶解乃至分散させた熱可逆記録層用塗布液を支持体上に塗布し、該溶媒を蒸発させてシート状等にするのと同時に又はその後に架橋する方法、（２）前記樹脂のみを溶解した溶媒に前記ロイコ染料及び可逆性顕色剤を分散させた熱可逆記録層用塗布液を支持体上に塗布し、該溶媒を蒸発させてシート状等にすると同時に又はその後に架橋する方法、（３）溶媒を用いず、前記樹脂と前記ロイコ染料及び可逆性顕色剤とを加熱溶融して互いに混合し、この溶融混合物をシート状等に成形して冷却した後に架橋する方法、などが好適に挙げられる。なお、これらにおいて、前記支持体を用いることなく、シート状の熱可逆記録媒体として成形することもできる。
【０２３７】
前記（１）又は（２）において用いる溶剤としては、前記樹脂及び前記ロイコ染料及び可逆性顕色剤の種類等によって異なり一概には規定することはできないが、例えば、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、四塩化炭素、エタノール、トルエン、ベンゼンなどが挙げられる。
【０２３８】
なお、前記可逆性顕色剤は、前記熱可逆記録層中では粒子状に分散して存在している。
【０２３９】
前記熱可逆記録層用塗布液には、コーティング材料用としての高度な性能を発現させる目的で、各種顔料、消泡剤、顔料、分散剤、スリップ剤、防腐剤、架橋剤、可塑剤等を添加してもよい。
【０２４０】
前記熱可逆記録層の塗工方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ロール状で連続して、又はシート状に裁断した支持体を搬送し、該支持体上に、例えば、ブレード塗工、ワイヤーバー塗工、スプレー塗工、エアナイフ塗工、ビード塗工、カーテン塗工、グラビア塗工、キス塗工、リバースロール塗工、ディップ塗工、ダイ塗工等公知の方法で塗布する。
【０２４１】
前記熱可逆記録層用塗布液の乾燥条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、室温〜１４０℃の温度で、１０秒間〜１０分間程度、などが挙げられる。
【０２４２】
前記熱可逆記録層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１μｍ〜２０μｍが好ましく、３μｍ〜１５μｍがより好ましい。前記熱可逆記録層の厚みが薄すぎると発色濃度が低くなるため画像のコントラストが低くなることがあり、一方、厚すぎると層内での熱分布が大きくなり、発色温度に達せず発色しない部分が発生し、希望とする発色濃度を得ることができなくなることがある。
−光熱変換層−
前記光熱変換層は、前記レーザ光を高効率で吸収し発熱する役割を有する光熱変換材料を少なくとも含有してなる。また熱可逆記録層と光熱変換層の間に両層が相互作用を抑制する目的でバリア層を形成することがあり、材料として熱伝導性のよい層が好ましい。前記熱可逆記録層と光熱変換層の間に挟む層は、目的に応じて適宜選択することができ、これらに限定されるものではない。
【０２４３】
前記光熱変換材料は、無機系材料と有機系材料とに大別できる。
【０２４４】
前記無機系材料としては、例えば、カーボンブラックやＧｅ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｃｒ等の金属又は半金属及びそれを含む合金が挙げられ、これらは、真空蒸着法や粒子状の材料を樹脂等で接着して層状に形成される。
【０２４５】
前記有機系材料としては、吸収すべき光波長に応じて各種の染料を適宜用いることができるが、光源として半導体レーザを用いる場合には、７００ｎｍ〜１，５００ｎｍの波長範囲内に吸収ピークを有する近赤外吸収色素が用いられる。具体的には、シアニン色素、キノン系色素、インドナフトールのキノリン誘導体、フェニレンジアミン系ニッケル錯体、フタロシアニン系化合物などが挙げられる。繰返し画像処理を行うためには、耐熱性に優れた光熱変換材料を選択するのが好ましく、この点からフタロシアニン系化合物が特に好ましい。
【０２４６】
前記近赤外吸収色素は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２４７】
前記光熱変換層を設ける場合には、通常、前記光熱変換材料は、樹脂と併用して用いられる。該光熱変換層に用いられる樹脂としては、特に制限はなく、前記無機系材料及び有機系材料を保持できるものであれば、公知のものの中から適宜選択することができるが、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などが好ましく、前記記録層で用いられたバインダー樹脂と同様なものを好適に用いることができる。これらの中でも、繰り返し時の耐久性を向上させるため、熱、紫外線、電子線などによって硬化可能な樹脂が好ましく用いられ、特にイソシアネート系化合物などを架橋剤として用いた熱架橋樹脂が好ましい。前記バインダー樹脂において、その水酸基価は５０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
【０２４８】
前記光熱変換層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。
−第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層−
第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層（以下、単に酸素バリア層と称することがある）としては、熱可逆記録層に酸素が進入することを防ぐことにより、前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層中のロイコ染料の光劣化を防止する目的で、第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層の上下に酸素バリア層を設けることが好ましい。即ち、支持体と第１の熱可逆記録層との間に第１の酸素バリア層を設け、第２の熱可逆記録層上に第２の酸素バリア層を設けることが好ましい。
【０２４９】
前記第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層の形成材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、可視部の透過率が大きく、酸素透過度が低い樹脂又は高分子フィルム等が挙げられる。該酸素バリア層は、その用途、酸素透過性、透明性、塗工のしやすさ、接着性等によって選択される。
【０２５０】
前記酸素バリア層の具体例としては、ポリアクリル酸アルキルエステル、ポリメタクリル酸アルキルエステル、ポリメタクリロニトリル、ポリアルキルビニルエステル、ポリアルキルビニルエーテル、ポリフッ素化ビニル、ポリスチレン、酢酸ビニル共重合体、酢酸セルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、アセトニトリル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン−６及びポリアセタール等の樹脂、又はポリエチレンテレフタレートやナイロン等の高分子フィルム上に無機酸化物を蒸着したシリカ蒸着フィルム、アルミナ蒸着フィルム、シリカ／アルミナ蒸着フィルムなどが挙げられる。これらの中でも高分子フィルム上に無機酸化物を蒸着したフィルムが好ましい。
【０２５１】
前記酸素バリア層の酸素透過度としては、特に制限はないが、２０ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａ以下が好ましく、５ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａ以下がより好ましく、１ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａ以下が特に好ましい。前記酸素透過度が、２０ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａを超えると、前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層中のロイコ染料の光劣化を抑制できないことがある。
【０２５２】
前記酸素透過度は、例えばＪＩＳ Ｋ７１２６ Ｂ法に準じた測定法により測定することができる。
【０２５３】
前記酸素バリア層は前記熱可逆記録層の下側又は支持体の裏面など、前記酸素バリア層で熱可逆記録層を挟み込むように設けることもできる。これにより、熱可逆記録層への酸素侵入をより効果的に防ぐことができ、ロイコ染料の光劣化をより少なくすることができる。
【０２５４】
前記第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、溶融押出し法、コーティング法、ラミネート法、などが挙げられる。
【０２５５】
前記第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層の厚みは、樹脂又は高分子フィルムの酸素透過性によって異なるが、０．１μｍ〜１００μｍが好ましい。これより薄いと酸素バリアが不完全であり、厚いと透明性が低下するので好ましくない。
【０２５６】
前記酸素バリア層と下層の間には、接着層を設けてもよい。前記接着層の形成方法は、特に制限なく通常のコーティング法、ラミネート法等を挙げることができる。接着層の厚さは特に制限ないが、０．１μｍ〜５μｍが好ましい。前記接着層は、架橋剤により硬化してもよい。これらは前記熱可逆記録層で用いられたものと同様のものを好適に用いることができる。
−保護層−
本発明の熱可逆記録媒体には、前記熱可逆記録層を保護する目的で該熱可逆記録層上に保護層を設けることが好ましい。該保護層は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１層以上に形成してもよく、露出している最表面に設けることが好ましい。
【０２５７】
前記保護層は、バインダー樹脂、更に必要に応じて、フィラー、滑剤、着色顔料等のその他の成分を含有してなる。
【０２５８】
前記保護層のバインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、熱硬化性樹脂が特に好ましい。
【０２５９】
前記ＵＶ硬化性樹脂は、硬化後非常に硬い膜を形成することができ、表面の物理的な接触によるダメージやレーザ加熱による媒体変形を抑止することができるため繰り返し耐久性に優れた熱可逆記録媒体が得られる。
【０２６０】
また、前記熱硬化性樹脂は、前記ＵＶ硬化性樹脂にはやや劣るが同様に表面を硬くすることができ、繰り返し耐久性に優れる。
【０２６１】
前記ＵＶ硬化性樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ビニル系、不飽和ポリエステル系のオリゴマーや各種単官能、多官能のアクリレート、メタクリレート、ビニルエステル、エチレン誘導体、アリル化合物等のモノマーが挙げられる。これらの中でも、４官能以上の多官能性のモノマー又はオリゴマーが特に好ましい。これらのモノマー又はオリゴマーを２種類以上混合することで樹脂膜の硬さ、収縮度、柔軟性、塗膜強度等を適宜調節することができる。
【０２６２】
また、前記モノマー又はオリゴマーを、紫外線を用いて硬化させるためには、光重合開始剤、光重合促進剤を用いる必要がある。
【０２６３】
前記光重合開始剤又は光重合促進剤の添加量としては、特に制限はないが、前記保護層の樹脂成分の全質量に対し０．１質量％〜２０質量％が好ましく、１質量％〜１０質量％がより好ましい。
【０２６４】
前記紫外線硬化樹脂を硬化させるための紫外線照射としては、公知の紫外線照射装置を用いて行うことができ、該装置としては、例えば、光源、灯具、電源、冷却装置、搬送装置等を備えたものが挙げられる。
【０２６５】
前記光源としては、例えば水銀ランプ、メタルハライドランプ、カリウムランプ、水銀キセノンランプ、フラッシュランプなどが挙げられる。該光源の波長は、前記熱可逆記録媒体用組成物に添加されている光重合開始剤及び光重合促進剤の紫外線吸収波長に応じて適宜選択することができる。
【０２６６】
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記樹脂を架橋するために必要な照射エネルギーに応じてランプ出力、搬送速度等を決めればよい。
【０２６７】
また、搬送性を良好にするため、重合性基を持つシリコーン、シリコーングラフトをした高分子；ワックス、ステアリン酸亜鉛等の離型剤；シリコーンオイル等の滑剤を添加することができる。これらの添加量としては、保護層の樹脂成分全質量に対して０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、０．１質量％〜４０質量％がより好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、静電気対策として導電性フィラーを用いることが好ましく、針状導電性フィラーを用いることが特に好ましい。
【０２６８】
前記無機顔料の粒径としては、特に制限はないが、例えば、０．０１μｍ〜１０．０μｍが好ましく、０．０５μｍ〜８．０μｍがより好ましい。前記無機顔料の添加量としては、前記耐熱性樹脂１質量部に対し、０．００１質量部〜２質量部が好ましく、０．００５質量部〜１質量部がより好ましい。
【０２６９】
なお、前記保護層には、添加剤として従来公知の界面活性剤、レベリング剤、帯電防止剤等を含有していてもよい。
【０２７０】
また、前記熱硬化性樹脂としては例えば、前記熱可逆記録層で用いられたバインダー樹脂と同様なものを好適に用いることができる。
【０２７１】
前記熱硬化性樹脂は架橋されていることが好ましい。従って熱硬化性樹脂としては、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基等のような、硬化剤と反応する基を有しているものを用いることが好ましく、特に水酸基を有しているポリマーが好ましい。該紫外線吸収構造を持つポリマー含有層の強度を向上させるためには該ポリマーの水酸基価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーを用いると十分な塗膜強度が得られ、より好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、更に好ましくは４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。十分な塗膜強度を持たせることで繰り返し画像記録・消去を行っても熱可逆記録媒体の劣化が抑えることができる。
【０２７２】
前記硬化剤としては、特に制限はなく、例えば、前記熱可逆記録層で用いられた硬化剤と同様なものを好適に用いることができる。
【０２７３】
前記保護層の塗液に用いられる溶媒、塗液の分散装置、保護層の塗工方法、乾燥方法等としては、特に制限はなく前記記録層で用いられた公知の方法を用いることができる。紫外線硬化樹脂を用いた場合には塗布して乾燥を行った紫外線照射による硬化工程が必要となるが、紫外線照射装置、光源、照射条件については前記の通りである。
【０２７４】
前記保護層の厚みとしては、特に制限はないが、０．１μｍ〜２０μｍが好ましく、０．５μｍ〜１０μｍがより好ましく、１．５μｍ〜６μｍが特に好ましい。前記厚みが０．１μｍ未満であると、熱可逆記録媒体の保護層としての機能を十分に果たすことができず、熱による繰り返し履歴によりすぐに劣化し、繰り返し使用することができなくなってしまうことがあり、２０μｍを超えると、保護層の下層にある感熱に十分な熱を伝えることができなくなり、熱による画像記録と消去が十分にできなくなってしまうことがある。
−紫外線吸収層−
前記熱可逆記録媒体としては、前記熱可逆記録層中のロイコ染料の紫外線による着色及び光劣化による消え残りを防止する目的で、支持体と反対側に位置する熱可逆記録層の支持体とは反対側に紫外線吸収層を設けることが好ましく、これによって前記記録媒体の耐光性が改善できる。紫外線吸収層は３９０ｎｍ以下の紫外線を吸収するように、紫外線吸収層の厚みを適宜選択することが好ましい。
【０２７５】
前記紫外線吸収層は、少なくともバインダー樹脂と紫外線吸収剤を含有し、更に必要に応じて、フィラー、滑剤、着色顔料等のその他の成分を含有してなる。
【０２７６】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記熱可逆記録層のバインダー樹脂や熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の樹脂成分を用いることができる。該樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドなどが挙げられる。
【０２７７】
前記紫外線吸収剤としては、有機系及び無機系化合物のいずれでも用いることができる。
【０２７８】
また、紫外線吸収構造を持つポリマー（以下、「紫外線吸収ポリマー」と称することもある）を用いることが好ましい。
【０２７９】
ここで、前記紫外線吸収構造を持つポリマーとは、紫外線吸収構造（例えば、紫外線吸収性基）を分子中に有するポリマーを意味する。該紫外線吸収構造としては、例えば、サリシレート構造、シアノアクリレート構造、ベンゾトリアゾール構造、ベンゾフェノン構造などが挙げられ、これらの中でも、ロイコ染料の光劣化の原因である３４０〜４００ｎｍの紫外線を吸収することからベンゾトリアゾール構造、ベンゾフェノン構造が特に好ましい。
【０２８０】
前記紫外線吸収ポリマーは架橋されていることが好ましい。従って紫外線吸収ポリマーとしては、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基等のような、硬化剤と反応する基を有しているものを用いることが好ましく、特に水酸基を有しているポリマーが好ましい。該紫外線吸収構造を持つポリマー含有層の強度を向上させるためには該ポリマーの水酸基価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーを用いると十分な塗膜強度が得られ、より好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、更に好ましくは４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。十分な塗膜強度を持たせることで繰り返し消去印字を行っても記録媒体の劣化が抑えることができる。
【０２８１】
前記紫外線吸収層の厚みとしては、特に制限はないが、０．１μｍ〜３０μｍが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍがより好ましい。前記紫外線吸収層の塗液に用いられる溶媒、塗液の分散装置、紫外線吸収層の塗工方法、紫外線吸収層の乾燥・硬化方法等は、前記熱可逆記録層で用いられた公知の方法を用いることができる。
−中間層−
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はないが、前記熱可逆記録層と前記保護層の接着性向上、保護層の塗布による熱可逆記録層の変質防止、保護層中の添加剤の熱可逆記録層への移行を防止する目的で、両者の間に中間層を設けることが好ましく、これによって発色画像の保存性が改善できる。
【０２８２】
前記中間層としては、特に制限はなく、少なくともバインダー樹脂を含有し、更に必要に応じて、フィラー、滑剤、着色顔料等のその他の成分を含有するものが挙げられる。
【０２８３】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記熱可逆記録層のバインダー樹脂や熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の樹脂成分を用いることができる。該樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドなどが挙げられる。
【０２８４】
また、前記中間層には、紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。該紫外線吸収剤としては、有機系及び無機系化合物のいずれでも用いることができる。
【０２８５】
また、紫外線吸収ポリマーを用いてもよく、架橋剤により硬化してもよい。これらは前記保護層で用いられたものと同様のものを好適に用いることができる。
【０２８６】
前記中間層の厚みは、０．１μｍ〜２０μｍが好ましく、０．５μｍ〜５μｍがより好ましい。前記中間層の塗液に用いられる溶媒、塗液の分散装置、中間層の塗工方法、中間層の乾燥・硬化方法等は、前記熱可逆記録層で用いられた公知の方法を用いることができる。
−アンダー層−
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はないが、印加した熱を有効に利用し高感度化するため、又は支持体と熱可逆記録層の接着性の改善や支持体への記録層材料の浸透防止を目的として、前記熱可逆記録層と前記支持体の間にアンダー層を設けてもよい。
【０２８７】
前記アンダー層としては、少なくとも中空粒子を含有してなり、バインダー樹脂、更に必要に応じてその他の成分を含有するものが挙げられる。
【０２８８】
前記中空粒子としては、中空部が粒子内に一つ存在する単一中空粒子、中空部が粒子内に多数存在する多中空粒子、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２８９】
前記中空粒子の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、熱可塑性樹脂などが好適に挙げられる。前記中空粒子は、適宜製造したものであってもよいし、市販品であってもよい。該市販品としては、例えば、マイクロスフェアーＲ−３００（松本油脂株式会社製）；ローペイクＨＰ１０５５、ローペイクＨＰ４３３Ｊ（いずれも、日本ゼオン株式会社製）；ＳＸ８６６（ＪＳＲ株式会社製）などが挙げられる。
【０２９０】
前記中空粒子の前記アンダー層における添加量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば１０質量％〜８０質量％が好ましい。
【０２９１】
前記バインダー樹脂としては、前記熱可逆記録層、又は前記紫外線吸収構造を持つポリマーを含有する層と同様の樹脂を用いることができる。
【０２９２】
前記アンダー層には、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化チタン、酸化ケイ素、水酸化アルミニウム、カオリン、タルク等の無機フィラー及び各種有機フィラーの少なくともいずれかを含有させることができる。
【０２９３】
なお、前記アンダー層には、その他、滑剤、界面活性剤、分散剤などを含有させることもできる。
【０２９４】
前記アンダー層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１μｍ〜５０μｍが好ましく、２μｍ〜３０μｍがより好ましく、１２μｍ〜２４μｍが特に好ましい。
−バック層−
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はなく、カール及び帯電防止、搬送性の向上のために支持体の熱可逆記録層を設ける面と反対側にバック層を設けてもよい。
【０２９５】
前記バック層としては、特に制限はなく、少なくともバインダー樹脂を含有し、更に必要に応じて、フィラー、導電性フィラー、滑剤、着色顔料等のその他の成分を含有するものが挙げられる。
【０２９６】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、等が挙げられ、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、熱硬化性樹脂が特に好ましい。
【０２９７】
前記紫外線硬化樹脂、前記熱硬化性樹脂、前記フィラー、前記導電性フィラー、及び前記滑剤については、前記熱可逆記録層、又は前記保護層で用いられたものと同様なものを好適に用いることができる。
−接着層又は粘着層−
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はなく、支持体の記録層形成面の反対面に接着剤層又は粘着剤層を設けて熱可逆記録ラベルとすることができる。前記接着剤層又は粘着剤層の材料は一般的に使われているものが使用可能である。
【０２９８】
前記接着剤層又は粘着剤層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、酢ビ系樹脂、酢酸ビニル−アクリル系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩素化ポリオレフィン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、アクリル酸エステル系共重合体、メタクリル酸エステル系共重合体、天然ゴム、シアノアクリレート系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。
【０２９９】
前記接着剤層又は粘着剤層の材料はホットメルトタイプでもよい。剥離紙を用いてもよいし、無剥離紙タイプでもよい。このように接着剤層又は粘着剤層を設けることにより、記録層の塗布が困難な磁気ストライプ付塩ビカードなどの厚手の基板の全面若しくは一部に貼ることができる。これにより磁気に記憶された情報の一部を表示することができる等、この媒体の利便性が向上する。このような接着剤層又は粘着剤層を設けた熱可逆記録ラベルは、ＩＣカードや光カード等の厚手カードにも適用できる。
【０３００】
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はなく、前記支持体と前記記録層との間に視認性を向上させる目的で、着色層を設けてもよい。
【０３０１】
前記着色層としては、特に制限はなく、着色剤及び樹脂バインダーを含有する溶液、又は分散液を対象面に塗布し、乾燥するか、あるいは単に着色シートを貼り合せることにより形成することができる。
【０３０２】
前記熱可逆記録媒体には、カラー印刷層を設けることもできる。前記カラー印刷層における着色剤としては、従来のフルカラー印刷に使用されるカラーインク中に含まれる各種の染料及び顔料等が挙げられ、前記樹脂バインダーとしては各種の熱可塑性、熱硬化性、紫外線硬化性又は電子線硬化性樹脂等が挙げられる。該カラー印刷層の厚みとしては、印刷色濃度に対して適宜変更されるため、所望の印刷色濃度に合わせて選択することができる。
【０３０３】
前記熱可逆記録媒体としては、非可逆性記録層を併用しても構わない。この場合、それぞれの記録層の発色色調は同じでも異なってもよい。また、本発明の熱可逆記録媒体の記録層と同一面の一部もしくは全面、又は／もしくは反対面の一部分に、オフセット印刷、グラビア印刷などの印刷、又はインクジェットプリンタ、熱転写プリンタ、昇華型プリンタなどによって任意の絵柄などを施した着色層を設けてもよく、更に着色層上の一部分もしくは全面に硬化性樹脂を主成分とするＯＰニス層を設けてもよい。前記任意の絵柄としては、文字、模様、図柄、写真、赤外線で検知する情報などが挙げられる。また、単純に構成する各層のいずれかに染料や顔料を添加して着色することもできる。
【０３０４】
前記熱可逆記録媒体として、セキュリティのためにホログラムを設けることもできる。また、意匠性付与のためにレリーフ状、インタリヨ状に凹凸を付けて人物像や社章、シンボルマーク等のデザインを設けることもできる。
【０３０５】
前記熱可逆記録媒体は、その用途に応じて所望の形状に加工することができ、例えば、カード状、タグ状、ラベル状、シート状、ロール状などに加工される。また、カード状に加工されたものについてはプリペイドカードやポイントカード、更にはクレジットカードなどへの応用が挙げられる。カードサイズよりも小さなタグ状のサイズでは値札等に利用できる。また、カードサイズよりも大きなタグ状のサイズでは工程管理や出荷指示書、チケット等に使用できる。ラベル状のものは貼り付けることができるために、様々な大きさに加工され、繰り返し使用する台車や容器、箱、コンテナ等に貼り付けて工程管理、物品管理等に使用することができる。また、カードサイズよりも大きなシートサイズでは画像記録する範囲が広くなるため一般文書や工程管理用の指示書等に使用することができる。
＜熱可逆記録部材 ＲＦ−ＩＤとの組み合わせ例＞
本発明で用いられる熱可逆記録部材は、前記可逆表示可能な記録層と情報記憶部とを、同一のカードやタグに設け（一体化させ）、該情報記憶部の記憶情報の一部を記録層に表示することにより、特別な装置がなくてもカードやタグを見るだけで情報を確認することができ、利便性に優れる。また、情報記憶部の内容を書き換えた時には熱可逆記録部の表示を書き換えることで、熱可逆記録媒体を繰り返し何度も使用することができる。
【０３０６】
前記情報記憶部としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、磁気記録層、磁気ストライプ、ＩＣメモリー、光メモリー、ＲＦ−ＩＤタグなどが好ましく用いられる。工程管理や物品管理等に使用する場合には特にＲＦ−ＩＤタグが好ましく用いられる。なお、前記ＲＦ−ＩＤタグはＩＣチップと、該ＩＣチップに接続したアンテナとから構成されている。
【０３０７】
前記熱可逆記録部材は、前記可逆表示可能な記録層と情報記憶部とを有し、該情報記憶部の好適なものとしてＲＦ−ＩＤタグが挙げられる。
【０３０８】
ここで、図１８は、ＲＦ−ＩＤタグ４８５の概略図の一例を示す。このＲＦ−ＩＤタグ４８５はＩＣチップ４８１と、該ＩＣチップに接続したアンテナ４８２とから構成されている。前記ＩＣチップ４８１は記憶部、電源調整部、送信部、受信部の４つに区分されており、それぞれが働きを分担して通信を行っている。通信はＲＦ−ＩＤタグとリーダライタのアンテナが電波により通信してデータのやり取りを行う。具体的には、ＲＦ−ＩＤのアンテナがリーダライタからの電波を受信し共振作用により電磁誘導により起電力が発生する電磁誘導方式と放射電磁界により起動する電波方式の２種類がある。共に外部からの電磁界によりＲＦ−ＩＤタグ内のＩＣチップが起動し、チップ内の情報を信号化し、その後、ＲＦ−ＩＤタグから信号を発信する。この情報をリーダライタ側のアンテナで受信してデータ処理装置で認識し、ソフト側でデータ処理を行う。
【０３０９】
前記ＲＦ−ＩＤタグはラベル状又はカード状に加工されており、ＲＦ−ＩＤタグを前記熱可逆記録媒体に貼り付けることができる。ＲＦ−ＩＤタグは記録層面又はバック層面に貼ることができるが、バック層面に貼ることが好ましい。ＲＦ−ＩＤタグと熱可逆記録媒体を貼り合わせるためには公知の接着剤又は粘着剤を使用することができる。
【０３１０】
また、熱可逆記録媒体とＲＦ−ＩＤをラミネート加工等で一体化してカード状やタグ状に加工してもよい。
＜画像記録及び画像消去のメカニズム＞
前記画像記録及び画像消去のメカニズムは、熱により色調が可逆的に変化する態様である。前記態様はロイコ染料及び可逆性顕色剤（以下、「顕色剤」と称することがある）からなり、色調が透明状態と発色状態とに熱により可逆的に変化する。
【０３１１】
図１９ａに、前記樹脂中に前記ロイコ染料及び前記顕色剤を含んでなる熱可逆記録層を有する熱可逆記録媒体について、その温度−発色濃度変化曲線の一例を示し、図１９ｂに、透明状態と発色状態とが熱により可逆的に変化する前記熱可逆記録媒体の発消色メカニズムを示す。
【０３１２】
まず、初め消色状態（Ａ）にある前記記録層を昇温していくと、溶融温度Ｔ１にて、前記ロイコ染料と前記顕色剤とが溶融混合し、発色が生じ溶融発色状態（Ｂ）となる。溶融発色状態（Ｂ）から急冷すると、発色状態のまま室温に下げることができ、発色状態が安定化されて固定された発色状態（Ｃ）となる。この発色状態が得られたかどうかは、溶融状態からの降温速度に依存しており、徐冷では降温の過程で消色が生じ、初期と同じ消色状態（Ａ）、あるいは急冷による発色状態（Ｃ）よりも相対的に濃度の低い状態となる。一方、発色状態（Ｃ）から再び昇温していくと、発色温度よりも低い温度Ｔ２にて消色が生じ（ＤからＥ）、この状態から降温すると、初期と同じ消色状態（Ａ）に戻る。
【０３１３】
溶融状態から急冷して得た発色状態（Ｃ）は、前記ロイコ染料と前記顕色剤とが分子同士で接触反応し得る状態で混合された状態であり、これは固体状態を形成していることが多い。この状態では、前記ロイコ染料と前記顕色剤との溶融混合物（前記発色混合物）が結晶化して発色を保持した状態であり、この構造の形成により発色が安定化していると考えられる。一方、消色状態は、両者が相分離した状態である。この状態は、少なくとも一方の化合物の分子が集合してドメインを形成したり、結晶化した状態であり、凝集あるいは結晶化することにより前記ロイコ染料と前記顕色剤とが分離して安定化した状態であると考えられる。多くの場合、このように、両者が相分離して前記顕色剤が結晶化することにより、より完全な消色が生じる。
【０３１４】
なお、図１９ａに示す、溶融状態から徐冷による消色、及び発色状態からの昇温による消色はいずれもＴ２で凝集構造が変化し、相分離や前記顕色剤の結晶化が生じている。
【０３１５】
更に図１９ａにおいて、前記記録層を溶融温度Ｔ１以上の温度Ｔ３に繰返し昇温すると消去温度に加熱しても消去できない消去不良が発生したりする場合がある。これは、前記顕色剤が熱分解を起こし、凝集あるいは結晶化しにくくなってロイコ染料と分離しにくくなるためと思われる。繰返しによる前記熱可逆記録媒体の劣化を抑えるためには、前記熱可逆記録媒体を加熱する際に図１９ａの前記溶融温度Ｔ１と前記温度Ｔ３の差を小さくすることにより、繰返しによる前記熱可逆記録媒体の劣化を抑えられる。
（画像処理装置）
本発明の画像処理装置は、本発明の前記描画制御方法に用いられ、レーザ光照射手段と、該レーザ光をレーザ光出射面に走査させるレーザ光走査手段とを少なくとも有し、更に必要に応じて適宜選択したその他の部材を有する。
【０３１６】
また、前記熱可逆記録媒体において、高効率でレーザ光を吸収するように、出射するレーザ光の波長を選択する必要がある。例えば本発明における熱可逆記録媒体はレーザ光を高効率で吸収し発熱する役割を有する光熱変換材料を少なくとも含有してなる。よって含有させる光熱変換材料が他材料に比べ最も高効率でレーザ光を吸収するように、出射するレーザ光の波長を選択する必要がある。
−レーザ光出射手段−
前記レーザ光出射手段から出射されるレーザ光の波長としては、７００ｎｍ以上が好ましく、７２０ｎｍ以上がより好ましく、７５０ｎｍ以上が特に好ましい。前記レーザ光の波長の上限としては、目的に応じて適宜選択することができるが、１，５００ｎｍ以下が好ましく、１，３００ｍｍ以下がより好ましく、１，２００ｎｍ以下が特に好ましい。
【０３１７】
レーザ光の波長を７００ｎｍより短い波長にすると、可視光領域では媒体の画像記録時のコントラストが低下したり、媒体が着色してしまうという問題がある。更に短い波長の紫外光領域では、媒体の劣化が起こりやすくなるという問題がある。また熱可逆記録媒体に添加する光熱変換材料には、繰返し画像処理に対する耐久性を確保するために高い分解温度を必要とし、光熱変換材料に有機色素を用いる場合、分解温度が高く吸収波長が長い光熱変換材料を得るのは難しい。これよりレーザ光の波長としては１，５００ｎｍ以下が好ましい。
【０３１８】
前記レーザ光出射手段としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えばＹＡＧレーザ、ファイバーレーザ、半導体レーザ（ＬＤ）が挙げられる。これらの中でも波長選択性が広いことで光熱変換材料の選択肢が増え、レーザ装置としては、レーザ光源自体が小さく、装置の小型化、更には低価格化が可能であるという点から、半導体レーザ光が特に好ましい。
【０３１９】
前記画像処理装置は、前記レーザ光出射手段を少なくとも有している以外、その基本構成としては、通常レーザマーカーと呼ばれるものと同様であり、発振器ユニット、電源制御ユニット、及びプログラムユニットを少なくとも備えている。
【０３２０】
ここで、図２０に、本発明で用いられる画像処理装置の一例についてレーザ照射ユニットを中心に示す。
【０３２１】
発振器ユニットは、レーザ発振器４０１、ビームエキスパンダ４０２、スキャンニングユニット５（レーザ光走査手段）などで構成されている。
【０３２２】
前記レーザ発振器４０１は、光強度が強く、指向性の高いレーザ光を得るために必要なものであり、例えば、レーザ媒質の両側にミラーを配置し、該レーザ媒質をポンピング（エネルギー供給）し、励起状態の原子数を増やし反転分布を形成させて誘導放出を起こさせる。そして、光軸方向の光のみが選択的に増幅されることにより、光の指向性が高まり出力ミラーからレーザ光が放出される。
【０３２３】
前記スキャンニングユニット５は、ガルバノメータ４０４と、該ガルバノメータ４０４に取り付けられたミラー４Ａとで構成されている。そして、前記レーザ発振器４０１から出力されたレーザ光を、前記ガルバノメータ４０４に取り付けられたＸ軸方向とＹ軸方向との２枚のミラー４Ａで高速回転走査することにより、熱可逆記録媒体４０７上に、画像の形成又は消去を行うようになっている。
【０３２４】
前記電源制御ユニットは、レーザ媒質を励起する光源の駆動電源、ガルバノメータの駆動電源、ペルチェ素子などの冷却用電源、画像処理装置全体の制御を司る制御部等などで構成されている。
【０３２５】
前記プログラムユニットは、タッチパネル入力やキーボード入力により、画像の記録又は消去のために、レーザ光の強さ、レーザ走査の速度等の条件入力や、記録する文字等の作製及び編集を行うユニットである。
【０３２６】
なお、前記レーザ照射ユニット、即ち、画像記録／消去用ヘッド部分は、画像処理装置に搭載されているが、該画像処理装置には、このほか、前記熱可逆記録媒体の搬送部及びその制御部、モニタ部（タッチパネル）等を有している。
【実施例】
【０３２７】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
（製造例１）
＜熱可逆記録媒体の製造＞
熱により色調が可逆的に変化する熱可逆記録媒体を、以下のようにして作製した。
−支持体−
支持体として、厚み１２５μｍの白濁ポリエステルフィルム（帝人デュポン株式会社製、テトロンフィルムＵ２Ｌ９８Ｗ）を用いた。
−第１の熱可逆記録層の形成−
下記構造式（１）で表される可逆性顕色剤５質量部、下記構造式（２）及び（３）で表される２種類の消色促進剤をそれぞれ０．５質量部ずつ、アクリルポリオール５０質量％
溶液（水酸基価＝２００ｍｇＫＯＨ／ｇ）１０質量部、及びメチルエチルケトン８０質量部を、ボールミルを用いて平均粒径が約１μｍになるまで粉砕分散した。
【０３２８】
【化３】
【０３２９】
【化４】
【０３３０】
【化５】
次に、前記可逆性顕色剤を粉砕分散させた分散液に、前記ロイコ染料としての２−アニリノ−３−メチル−６ジブチルアミノフルオラン１質量部、及びイソシアネート（日本ポリウレタン株式会社製、コロネートＨＬ）５質量部を加え、よく撹拌して、熱可逆記録層用塗布液を調製した。
【０３３１】
得られた熱可逆記録層用塗布液を、前記支持体上に、ワイヤーバーを用いて塗布し、１００℃にて２分間乾燥した後、６０℃にて２４時間キュアーを行って、厚み９．６μｍの第１の熱可逆記録層を形成した。
−光熱変換層の形成−
フタロシアニン系光熱変換材料（株式会社日本触媒製、ＩＲ−１４、吸収ピーク波長：８２４ｎｍ）１質量％溶液を４質量部、アクリルポリオール５０質量％溶液（水酸基価＝２００ｍｇＫＯＨ／ｇ）１０質量部、及びメチルエチルケトン２０質量部、架橋剤としてイソシアネート（商品名コロネートＨＬ、日本ポリウレタン株式会社製）５質量部をよく攪拌し、光熱変換層塗布液を調製した。得られた光熱変換層用塗布液を、前記第１の熱可逆記録層上に、ワイヤーバーを用いて塗布し、９０℃にて１分間乾燥した後、６０℃にて２４時間キュアーを行って、厚さ４μｍの光熱変換層を形成した。
−第２の熱可逆記録層の形成−
前記第１の熱可逆記録層と同じ熱可逆記録層用組成物を、前記光熱変換層上に、ワイヤーバーを用いて塗布し、１００℃にて２分間乾燥した後、６０℃にて２４時間キュアーを行って、厚み２．４μｍの第２の熱可逆記録層を形成した。
−紫外線吸収層の形成−
紫外線吸収ポリマーの４０質量％溶液（株式会社日本触媒製、ＵＶ−Ｇ３００）１０質量部、イソシアネート（日本ポリウレタン株式会社製、コロネートＨＬ）１．５質量部、及びメチルエチルケトン１２質量部を加え、よく攪拌して紫外線吸収層用塗布液を調製した。
【０３３２】
次に、前記第１の熱可逆記録層、前記光熱変換層、及び前記第２の熱可逆記録層が形成された支持体に、前記紫外線吸収層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、９０℃にて１分間加熱及び乾燥した後、６０℃にて２４時間加熱し、厚み２μｍの紫外線吸収層を形成した。
【０３３３】
ここでは、前記紫外線吸収層上、及び前記第１の熱可逆記録層と支持体との間に、以下のように下記の第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層を設けた。
−第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層の形成−
ウレタン系接着剤（東洋モートン株式会社製、ＴＭ−５６７）５質量部、イソシアネート（東洋モートン株式会社製、ＣＡＴ−ＲＴ−３７）０．５質量部、及び酢酸エチル５質量部を加え、よく攪拌して酸素バリア層用塗布液を調製した。
【０３３４】
次に、シリカ蒸着ＰＥＴフィルム（三菱樹脂株式会社製、テックバリアＨＸ、酸素透過度：０．５ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａ）上に、上記酸素バリア層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、８０℃にて１分間加熱及び乾燥した後、前記紫外線吸収層上、及び支持体上に貼合せ、５０℃にて２４時間加熱し、厚み１２μｍの第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層を形成した。
−バック層の形成−
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）７．５質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業株式会社製、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ）２．５質量部、針状導電性酸化チタン（石原産業株式会社製、ＦＴ−３０００、長軸＝５．１５μｍ、短軸＝０．２７μｍ、構成：アンチモンドープ酸化スズ被覆の酸化チタン）２．５質量部、光重合開始剤（日本チバガイギー株式会社製、イルガキュア１８４）０．５質量部、及びイソプロピルアルコール１３質量部を加え、ボールミルにてよく攪拌してバック層用塗布液を調製した。
【０３３５】
次に、前記支持体における、前記各層が形成されていない側の面上に、前記バック層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、９０℃にて１分間加熱及び乾燥した後、８０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプで架橋させて、厚み４μｍのバック層を形成した。以上により、製造例１における熱可逆記録媒体を製造した。
（製造例２）
＜熱可逆記録媒体の製造＞
製造例１において、光熱変換材料として、フタロシアニン系光熱変換材料１質量％溶液を４質量部添加することに代えてシアニン系光熱変換材料（株式会社山本化成製、ＹＫＲ−２９００、吸収ピーク波長：８３０ｎｍ）０．５質量％溶液を２質量部添加した光熱変換層用塗布液を用いたこと以外は、製造例１と同様にして、製造例２における熱可逆記録媒体を製造した。なお、シアニン系光熱変換材料（株式会社山本化成製、ＹＫＲ−２９００）の添加量は、製造例１と同様の感度になる添加量とした。
−ベタ画像印字（画像記録）−
（実施例１）
製造例１における熱可逆記録媒体に対して、ＱＰＣ社製ファイバ結合ＬＤ（半導体レーザ）のＥＳ-６２００-Ａ（中心波長：８０８ｎｍ）でレーザ光照射して、２枚のコリメータレンズ（焦点距離２６ｍｍ）で平行光にして、Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ社製ガルバノスキャナー６２３０Ｈでレーザ光を走査させて、ｆθレンズ（焦点距離１４１ｍｍ）で媒体上に集光させるＬＤマーカー装置で画像記録を行った。ワーク間距離を１４１ｍｍ（ビーム径０．６５ｍｍ）、線速２，５００ｍｍ／ｓとなるように調整して、図２１ａに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を４本、Ｂ方向の描画線を６本、Ｃ方向の描画線を３本）により、Ａ方向の描画線と隣接するＣ方向の描画線とのピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線に対するＣ方向の描画線の傾け量０．０９ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ１０ｍｍとしてベタ画像を記録して、実施例１における画像記録を行った。レーザ光の照射パワーは画像濃度が飽和する時のパワーを選択している。
【０３３６】
（実施例２）
実施例１において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて、図２１ｂに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を４本、Ｃ方向の描画線を３本、Ｂ方向には描画しない）により、Ａ方向の描画線と隣接するＣ方向の描画線とのピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線に対するＣ方向の描画線の傾け量０．０９ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ１０ｍｍとしてベタ画像を記録したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２における画像記録を行った。
（実施例３）
実施例２において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．０９ｍｍから０．０４５ｍｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例３における画像記録を行った。
（実施例４）
実施例２において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．０９ｍｍから０．１５５ｍｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例４における画像記録を行った。
（実施例５）
実施例２において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．０９ｍｍから０．０２ｍｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例５における画像記録を行った。
（実施例６）
実施例２において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．０９ｍｍから０．１８ｍｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例６における画像記録を行った。
（実施例７）
実施例２において、図２１ｂに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を４本、Ｃ方向の描画線を３本、Ｂ方向には描画しない）により、Ａ方向の描画線の１本目の照射パワーを他の描画線に対して１０％高く設定したこと以外は、実施例２と同様にして、実施例７における画像記録を行った。このときの１本目の照射パワーは２１．０Ｗで２本目以降の照射パワーは１９．１Ｗであった。
（実施例８）
実施例２において、製造例１における熱可逆記録媒体に代えて製造例２における熱可逆記録媒体を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例８における画像記録を行った。
（比較例１）
実施例１において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ａに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を７本、Ｂ方向の描画線を６本、Ｃ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線間の描画線長さ２０ｍｍとしてベタ画像を記録したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１における画像記録を行った。
（比較例２）
実施例１において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ｂに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を７本、Ｂ方向及びＣ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線間の描画線長さ２０ｍｍとしてベタ画像を記録したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例２における画像記録を行った。
（比較例３）
実施例１において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ｃに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を７本、Ｂ方向及びＣ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線間の描画線長さ２０ｍｍとしてベタ画像を記録したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例３における画像記録を行った。
−画像消去−
（実施例９）
製造例１における熱可逆記録媒体のベタ画像印字領域に対して、ＬＤマーカー装置で、走査速度１，０００ｍｍ／ｓ、ワーク間距離を１８０ｍｍに設定して（ビーム径３．０ｍｍ）、図２１ａに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を１４本、Ｂ方向の描画線を２７本、Ｃ方向に描画線を１４本とする）により、Ａ方向の描画線と隣接するＣ方向の描画線とのピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線に対するＣ方向の描画線の傾け量０．２４ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとして、実施例９における画像消去を行った。
（実施例１０）
実施例９において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２１ｂに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を１４本、Ｃ方向に描画線を１４本、Ｂ方向には描画しない）により、Ａ方向の描画線と隣接するＣ方向の描画線とのピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線に対するＣ方向の描画線の傾け量０．２４ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとして画像消去を行ったこと以外は、実施例９と同様にして、実施例１０における画像消去を行った。
（実施例１１）
実施例１０において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．２４ｍｍから０．１３ｍｍに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１１おける画像消去を行った。
（実施例１２）
実施例１０において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．２４ｍｍから０．４６ｍｍに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１２おける画像消去を行った。
（実施例１３）
実施例１０において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．２４ｍｍから０．０８ｍｍに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１３おける画像消去を行った。
（実施例１４）
実施例１０において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．２４ｍｍから０．５４ｍｍに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１４おける画像消去を行った。
（比較例４）
実施例９において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ａに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を２８本、Ｂ方向の描画線を２７本、Ｃ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとしてレーザ光を照射して画像消去を行ったこと以外は、実施例９と同様にして、比較例４における画像消去を行った。
（比較例５）
実施例９において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ｂに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を２８本、Ｂ方向及びＣ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとしてレーザ光を照射して画像消去を行ったこと以外は、実施例９と同様にして、比較例５における画像消去を行った。
（比較例６）
実施例９において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ｃに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を２８本、Ｂ方向及びＣ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとしてレーザ光を照射して画像消去を行ったこと以外は、実施例９と同様にして、比較例６における画像消去を行った。
−画像印字、及び繰返し耐久性の評価−
実施例１〜８及び比較例１〜３における画像記録に関し、ベタ画像の印字時間及び画像濃度が飽和する時のレーザ光照射パワーを下記表１に示す。
【０３３７】
また、実施例１〜８及び比較例１〜３における画像記録後に、比較例６における画像消去方法で消去パワー中心にて画像消去を行い、画像記録及び画像消去からなる画像処理を繰返し行った。該画像処理の画像記録時のベタ画像濃度が１．３以下となるときの、または、該画像処理の画像消去時の消え残り濃度が０．０２０を超えたときの繰返し回数を、繰返し耐久性の評価結果として、下記表１に示す。
【０３３８】
なお、ベタ画像の濃度、消え残り濃度の測定は、グレースケール（Ｋｏｄａｋ社製）をスキャナー（キャノン株式会社製、Ｃａｎｏｓｃａｎ４４００）で取り込み、得られたデジタル階調値と反射濃度計（マクベス社製、ＲＤ−９１４）で測定した濃度値との間で相関を取り、記録した画像及び消去した消去部を前記スキャナーで取り込んで得られたデジタル階調値を濃度値に変換して行い、濃度値を求めた。
【０３３９】
【表１】
−画像消去特性−
実施例２における画像記録により形成されたベタ画像印字領域に対して、実施例９〜１４及び比較例４〜６におけるそれぞれの画像消去条件をもとに、レーザ光の照射パワー（Ｗ）を低いパワーから高いパワーに順次変更して画像消去を行い、消去時間、消去パワー中心、及び消去幅を求めた。結果を下記表２に示す。
【０３４０】
なお、消去パワー中心は、ベタ画像を消去した後の地肌濃度が該ベタ画像を形成する前の地肌濃度に対して＋０．０２以下になるときのレーザ光の照射パワーを消去パワーとし、該消去パワーの最大値と最小値との平均値と定義する。また、消去幅は、（最大値−最小値）／（最大値＋最小値）と定義する。ここで、地肌濃度の測定は、ベタ画像の濃度、消え残り濃度の測定と同様にして行った。
【０３４１】
【表２】
以上、本発明の例示的な実施の形態の描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【０３４２】
本発明の描画制御方法は、ベタ画像等の画像記録方法、及び画像消去方法として、印字品質よく、繰り返し耐久性に優れた画像を得ることができ、短時間に処理を行うことができ、ベタ画像、バーコード・ＱＲコード印字、文字の太線印字等に応用することができるため、物流及び配送システムに用いられる記録媒体に対する描画制御方法として、特に好適に使用可能である。
【符号の説明】
【０３４３】
１ レーザ照射装置
２ レーザ装置
３ 走査装置
４、２０４ 描画制御装置
１１ Ｘ軸ガルバノミラー
１２ Ｙ軸ガルバノミラー
１３ ｆθレンズ
１４ ガルバノメータ
１５ ガルバノメータ
１６ Ｘ軸サーボドライバ
１７ Ｙ軸サーボドライバ
２０ ホストインターフェース部
３０、２３０ 描画データ生成部
３１ 描画位置決定部
３２ 描画順決定部
３３ レーザ出力調整部
３４ 描画速度調整部
４０ 制御データ生成部
５０ 制御データ出力部
６０ ガルバノミラー制御信号生成部
７０ レーザ出力制御信号生成部
８０ レーザ発光制御信号生成部
９０ 照射部
１００ リライタブル媒体
２００ ホストコンピュータ
２３５ 描画位置変更部
４０１ レーザ発振器
４０２ ビームエキスパンダ
４０３ マスクまたは非球面レンズ
４０４ ガルバノメータ
４０４Ａ ガルバノミラー
４０５ スキャニングユニット
４０６ ｆθレンズ
４０７ 熱可逆記録媒体
４１１、４２１、４３１、４５１ 第１のレーザ光描画線
４１２、４２２、４３２、４５２ 第２のレーザ光描画線
４８１ ＩＣチップ
４８２ アンテナ
４８５ ＲＦ−ＩＤタグ
５００ 熱可逆記録媒体
５０１ 支持体
５０２ 第１の熱可逆記録層
５０３ 光熱変換層
５０４ 第２の熱可逆記録層
５０５ 第１の酸素バリア層
５０６ 第２の酸素バリア層
５０７ 紫外線吸収層
５０８ バック層
【先行技術文献】
【特許文献】
【０３４４】
【特許文献１】特開２００８−６２５０６号公報
【特許文献２】特開２００４−２６５２４７号公報
【特許文献３】特許第３９９８１９３号公報
【特許文献４】特許第３１６１１９９号公報
【特許文献５】特開平９−３０１１８号公報
【特許文献６】特開２０００−１３６０２２号公報
【特許文献７】特開平１１−１５１８５６号公報
【特許文献８】特開２００８−２１３４３９号公報
【特許文献９】特許第３５５７５１２号
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属、プラスチック、感熱紙等の媒体にレーザ光を照射して加熱することで、媒体に文字、数字、又は記号等を書き込む技術を活用したレーザ照射装置（レーザマーカ、又はレーザマーキング装置）が市販されている。
【０００３】
レーザ照射装置のレーザ光源としてガスレーザ、固体レーザ、液体レーザ、半導体レーザ等を用いてレーザ光を照射することにより、文字等を金属、プラスチック、感熱紙等の媒体に書き込むことができる。
【０００４】
金属やプラスチックは、レーザ光を照射して加熱することにより、削ったり焦がしたりすることで描画が行われる。一方、感熱紙は、熱により変色する性質をもっており、レーザ光照射による加熱で記録層が発色することで描画が行われる。
【０００５】
感熱紙は、金属やプラスチックの媒体に比べて取り扱いが容易であるため、例えば、物流等の分野で物品の宛先や物品名を描画する媒体として広く用いられている。
【０００６】
そして、このような感熱紙でも書き込み、消去を繰り返し行えるリライタブル（以下、サーマルリライタブルメディア又は熱可逆記録媒体と称す）のものが登場してきた。
【０００７】
現在まで、熱可逆記録媒体への画像記録及び画像消去は、加熱源を記録媒体に接触させて該媒体を加熱する接触式で行われている。該加熱源としては、通常、画像記録にはサーマルヘッドが用いられ、画像消去には熱ローラ、セラミックヒータなどが用いられている。
【０００８】
このような接触式の記録方法は、熱可逆記録媒体がフィルム、紙等のフレキシブルなものである場合には、プラテンなどによって記録媒体を加熱源に均一に押し当てることにより、均一な画像記録及び画像消去を行うことができ、かつ従来の感熱紙用のプリンタの部品を転用することによって画像記録装置及び画像消去装置を安価に製造することができるという利点があった。
【０００９】
図１は、サーマルリライタブルメディアの発色・消色の原理を説明するための図である。
【００１０】
サーマルリライタブルメディアは、熱により色調が透明状態と発色状態とに可逆的に変化する記録層を含む。この記録層は、有機低分子物質であるロイコ染料及び可逆性顕色剤（以下、顕色剤）で構成される。
【００１１】
まず、最初に、図１に示す消色状態（Ａ）にある記録層を昇温していくと、溶融温度Ｔ２にて、ロイコ染料と顕色剤とが溶融混合し、発色が生じ溶融発色状態（Ｂ）となる。溶融発色状態（Ｂ）から急冷すると、発色状態のまま室温に下げることができ、発色状態が安定化されて固定された発色状態（Ｃ）となる。この発色状態が得られるかどうかは、溶融状態からの降温速度に依存しており、徐冷では降温の過程で消色が生じ、初期と同じ消色状態（Ａ）、あるいは急冷による発色状態（Ｃ）よりも相対的に濃度の低い状態となる。
【００１２】
一方、発色状態（Ｃ）から再び昇温していくと、発色温度よりも低い温度Ｔ１にて消色が生じ（ＤからＥ）、この状態から降温すると、初期と同じ消色状態（Ａ）に戻る。
【００１３】
溶融状態から急冷して得た発色状態（Ｃ）は、ロイコ染料と顕色剤とが分子同士で接触反応し得る状態で混合された状態であり、これは固体状態を形成していることが多い。この状態では、ロイコ染料と顕色剤との溶融混合物（発色混合物）が結晶化して発色を保持した状態であり、この構造の形成により発色が安定化していると考えられる。一方、消色状態は、両者が相分離した状態である。この状態は、少なくとも一方の化合物の分子が集合してドメインを形成したり、結晶化した状態であり、凝集あるいは結晶化することによりロイコ染料と顕色剤とが分離して安定化した状態であると考えられる。多くの場合、このように、両者が相分離して顕色剤が結晶化することにより、より完全な消色が生じる。
【００１４】
なお、記録層を溶融温度Ｔ２以上の温度Ｔ３に繰返し昇温すると消去温度に加熱しても消去できない消去不良が発生したりする場合がある。これは、顕色剤が熱分解を起こし、凝集あるいは結晶化しにくくなってロイコ染料と分離しにくくなるためと思われる。繰返しによる熱可逆記録媒体の劣化を抑えるためには、熱可逆記録媒体を加熱する際に溶融温度Ｔ２と温度Ｔ３の差を小さくすることにより、繰返しの記録消去による媒体の劣化を抑えられる。
【００１５】
このようなサーマルリライタブルメディアは、例えば、物流等の分野で幅広く利用されており、記録（描画）する手法についても種々の工夫がなされていた。
【００１６】
例えば、隣り合う第１の線と第２の線を描画する際に、先に描画された第１の線の残存熱と第２の線の描画時の熱が相互干渉することによる記録の退色現象を抑制するために、第１の線の描画開始点から、第２の線の描画終了点まで描画する時間又は重複幅を制御することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１７】
しかし、熱可逆記録媒体が、ＲＦ−ＩＤタグなどを内蔵している場合には、熱可逆記録媒体の厚みが厚くなりフレキシブル性が低下して加熱源を均一に押し当てるためには高い圧力が必要となる（特許文献２及び３参照）。
【００１８】
また、接触式であるために、印字と消去を繰り返すと記録媒体表面が削れて凹凸が生じ、サーマルヘッドやホットスタンプ等の加熱源に接触しない部分が出てきて均一に加熱されないため濃度低下や消去不良が起こるという問題がある（特許文献４及び５参照）。
【００１９】
そこで、例えば熱可逆記録媒体の表面に凹凸が生じた場合や離れたところから均一に画像記録及び画像消去する方法として、レーザを用いる方法が提案されている（特許文献６参照）。この方法は、物流ラインに用いる搬送用容器に熱可逆記録媒体を使用して非接触記録を行うものであり、書き込みはレーザで実施し、消去は熱風、温水、又は赤外線ヒータで行うと記載されている。
【００２０】
更に、ＲＦ−ＩＤタグが非接触で離れたところから記憶情報の読み取り及び書き換えが行われるのに対して、熱可逆記録媒体についても離れた位置から画像を書き換えたいという要望が生じてきている。
【００２１】
このようなレーザによる記録方法としては、高出力のレーザ光を熱可逆記録媒体に照射して、その位置をコントロール可能なレーザ記録装置（レーザマーカー）が提供されている。このレーザマーカーを用いて、レーザ光を熱可逆記録媒体に照射して、媒体中の光熱変換材料が光を吸収して熱に変換し、その熱で記録及び消去を行うことが可能である。これまでレーザによる画像記録及び消去を行う方法として、ロイコ染料と可逆性顕色剤、種々の光熱変換材料を組み合わせて、近赤外レーザ光により記録する方法が提案されている（例えば、特許文献７参照）。
【００２２】
また、レーザ光を所定の間隔で並列して照射する際に、該レーザ光を同一方向に走査させて、該レーザ光の不連続な照射を走査の一部に含む画像処理方法（描画制御方法）が提案され、例えば、レーザ光を第１開始点から終了点まで走査した時の終了点から、次の第２開始点を前記第１開始点から所定間隔に設定した位置までジャンプさせて照射することが記載されている（特許文献８参照）。
【００２３】
これらの従来技術を用いることで、均一に媒体の加熱が可能となり画像品質及び繰返し耐久性を改善することは可能だが、各描画線間のジャンプ及び待ち時間により、画像記録及び消去に必要な時間が長くなる課題があった。
【００２４】
また、レーザ光をループ状又は渦巻き状にスキャニングして、セル領域のほぼ全域に照射する方法が提案されている（特許文献９参照）。しかし、この場合、ループ状又は渦巻き状スキャンにおける折曲り部分では、過剰な熱が加わり、熱可逆媒体では繰返し耐久性の低下が発生するという問題がある。
【００２５】
したがって、従来技術では、繰返し耐久性に優れ印字品質良く描画でき、且つ、短時間に描画できる画像記録方法がなく、また、消去においても、均一に熱を掛け、広い消去幅を確保でき、且つ、短時間に画像消去できる画像処理方法（描画制御方法）が従来技術ではなかった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２６】
しかしながら、上述の描画手法では次のような問題があった。
【００２７】
レーザマーカーによる塗り潰しは、一般的に直線を平行に複数描画することで行われるが、サーマルリライタブルメディアの場合、単純に線を平行に描いただけではきれいな塗り潰しを実現することができない。
【００２８】
図１で説明したように、サーマルリライタブルメディアは、消色温度が常温と発色温度の中間にある。そのため、レーザビームでメディアを加熱すると、レーザスポットの出力強度分布やメディア上の熱拡散の影響により描画した線の周囲は消色温度領域になる。またメディアの発色特性が温度に対してブロードだと線自体の濃度が幅方向に均一にならないことがあるからである。そこで、例えば、特許文献１に記載されているように、濃度が均一な塗り潰しを実現するために、直前に描いた線の残存熱で線の周囲に発生する消色温度領域をキャンセルするように、線を少し重ねて描画すると良いことが知られている。
【００２９】
ただし、描画線の残存熱による温度は時間経過により低下するため、残存熱を利用する描画方法は線を描く時間間隔の制御が重要になる。熱蓄積による退色も考慮すると、マーク速度が速いとか線が短い場合には長い時間間隔を設け、マーク速度が遅いとか線が長い場合には短い時間間隔を設けるなどである。
【００３０】
図２は、線に重複を持たせて描画を行う手法を説明する図である。図３は、往復走査による描画手法を説明する図である。
【００３１】
図２（ａ）において、長円は発色した線分の輪郭、実線の矢印は、描画を行う動作（マーク動作）、破線の矢印は、描画点を移動するジャンプ（空走）動作を示し、次に示す１から３のステップを繰り返して塗り潰しを行う。
１．レーザを点灯し一定のレーザ出力、一定の描画速度でＸ軸＋方向に線分を描く。
２．レーザを消灯し次の線の始点位置へ（Ｙ軸−方向へ）移動する。
３．所定の時間待機する。
【００３２】
これにより、図２（ｂ）に示すような塗りつぶしが行われる。図２（ａ）に示す描画方法は、図２（ｃ）に示すように、Ｘ軸＋方向への描画を繰り返す間に、ジャンプ（空走）及び待機を行うため、レーザマーカーにとって塗り潰しはとても時間のかかる作業である。しかし、例えば、バーコードの太線のような描画対象を描画する場合等には、このような塗り潰しを行う描画作業を避けることができない。このため、描画時間短縮のために描画作業の高速化が求められている。
【００３３】
図２に挙げた塗り潰しの例は、同一方向へ繰り返し描画を行う描画方法であるが、この描画方法では、描画する線分の長さ以上の距離をジャンプ（空走）する必要があり、高速描画に適しているとはいえない。
【００３４】
ところで、例えば、インクジェットプリンタでは、プリンタヘッドを左右に動かしながらどちらに動く場合も描画する双方向描画が当たり前になっている。このため、レーザマーカーでも走査時間だけを考えるなら、図３（ａ）のような往復走査で描画するほうが高速になる。
【００３５】
しかしながら、描画方向を反転させる際に、直前の描画が終了した側から描画を開始するため、例えば、特許文献１に記載されているように、熱を待つための待機時間を多めに取る必要があり、必ずしも総合的な描画時間の短縮には結びつかないという問題があった。
【００３６】
また、直前に描いた線の残存熱の影響が次の線の始点では強く、終点では弱くなるため、弱めのレーザ出力で描画したときの発色は、図３（ｂ）に示すように、むらが生じるという問題があった。一方、レーザ出力を高くすると、きれいな塗り潰しが得られるが、描画と消去を繰り返すと、図３（ｂ）の濃い線分始点部分が早期に劣化してしまい、消去できなくなるといった問題が発生する。
【００３７】
本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、レーザ光走査による、画像の形成において高品質で高い繰返し耐久性を実現するとともに、画像の消去において消去可能なエネルギー幅を広く得ることができ、かつ、短時間で画像処理が可能な描画制御方法及び描画制御装置を提供することを目的とする。
【００３８】
本発明者らは、前記課題を解決するために、鋭意検討を行い、以下の知見を得た。
【００３９】
円形ビーム形状のレーザ光を用いたベタ画像印字、画像消去のレーザ光走査方法としては、従来、図４ａ〜ｃに示す方法が用いられてきた。図４ａ〜ｃにおいて、太線実線部では、媒体上で等速度にレーザ光を照射しながら走査させて、点線部では、レーザ光を照射しない状態で走査させる。
【００４０】
図４ａに示すレーザ光の走査方法では、レーザ光走査を短時間で行うことが可能で、ベタ画像印字、消去を短時間で可能であるが、描画線の折曲り部において、折曲り部の速度低下及び蓄熱影響（第１のレーザ光描画線４１１の終点印字直後に第２のレーザ光描画線４１２の始点を印字することによる）により、過剰に媒体にエネルギーを印加することで、ベタ画像部、消去部での濃度ムラ（画像部では濃度低下、消去部では発色）が発生して、更にベタ画像の繰返し耐久性が低下する。
【００４１】
また、図４ｂに示すレーザ光の走査方法では、ベタを短時間で印字可能であり、折れ曲りの速度低下の少ないレーザ光走査の画像記録方法であるが、第１のレーザ光描画線４２１の終点印字直後に第２のレーザ光描画線４２２の始点を印字することによる蓄熱影響が以前として残っており、過剰に媒体にエネルギーを印加することでベタ画像部、消去部での濃度ムラが発生して、更にベタ画像の繰返し耐久性が低下する。
【００４２】
また、図４ｃに示すレーザ光の走査方法では、折曲り部の速度低下及び蓄熱影響を改善できて、媒体に過剰にエネルギー印加することを避けられ、ベタ画像部、消去部での濃度ムラ、ベタ画像の繰返し耐久性は改善できる。しかし、レーザ光を照射しない点線部が長くなり、画像印字時間、消去時間が長くなる。また、この走査方法では、蓄熱影響を低減できる代わりに、第１のレーザ光描画線４３１を描画した後、第２のレーザ光描画線４３２を冷えた状態で印字・消去することから、蓄熱の活用ができず、高いエネルギーが必要になるため、走査速度を上げられず、画像印字、消去時間を低減することができない。
【００４３】
しかしながら、図５ｂに示すように、第１の始点から第１の終点に第１のレーザ光描画線４５１を描画し、第２の始点から該第１のレーザ光描画線４５１と平行な線に対して前記第１の始点側に傾く方向の線上に位置する第２の終点に向けて、前記第１のレーザ光描画線４５１に隣接する第２のレーザ光描画線４５２を描画するように、レーザ光を照射及び走査すると、ベタ画像部、消去部での濃度ムラを抑え、ベタ画像の繰返し耐久性を向上させることができるとともに、画像印字、消去時間を低減することができることを知見した。
【００４４】
本発明は、描画時間の短縮化と描画の高品質化を両立させた描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００４５】
本発明の実施の形態の一観点の描画制御装置は、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置を制御する描画制御装置であって、前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定手段と、前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整手段と、前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段とを含む。
【００４６】
また、前記調整手段は、前記各行の始点から終点の間を複数の単位線分に分け、前記単位線分毎に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整してもよい。
【００４７】
また、前記調整手段は、前記他の行の前記始点から前記終点にかけて、前記熱可逆記録媒体に描画を行う速度を低下させることにより、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整してもよい。
【００４８】
また、前記調整手段は、前記他の行の前記始点から前記終点にかけて、前記描画装置が前記熱可逆記録媒体に照射する前記レーザのレーザ出力を増大させることにより、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整してもよい。
【００４９】
また、前記調整手段は、第１の始点から第１の終点に第１のレーザ光描画線を描画し、第２の始点から該第１のレーザ光描画線と平行な線に対して前記第１の始点側に傾く方向の線上に位置する第２の終点に向けて、前記第１のレーザ光描画線に隣接する第２のレーザ光描画線を描画することにより、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整してもよい。
【００５０】
また、第３の始点から第２のレーザ光描画線と平行な線に対して第２の始点側に傾く方向の線上に位置する第３の終点に向けて、前記第２のレーザ光描画線に隣接する第３のレーザ光描画線を描画してもよい。
【００５１】
また、一のレーザ光描画線の終点と該レーザ光描画線に隣接する他のレーザ光描画線の始点との間においてレーザ光を照射しないようにしてもよい。
【００５２】
また、一のレーザ光描画線の終点から該レーザ光描画線と直交する方向の線上に他のレーザ光描画点の始点が位置してもよい。
【００５３】
また、第１のレーザ光描画線と第３のレーザ光描画線とが平行に描画されてもよい。
【００５４】
また、第１のレーザ光描画線におけるレーザ光の照射エネルギーが、他の描画線におけるレーザ光の照射エネルギーより高くてもよい。
【００５５】
また、画像処理工程で用いるレーザ光源が、ＹＡＧレーザ光、ファイバーレーザ光、及び半導体レーザ光の少なくともいずれかであってもよい。
【００５６】
また、照射するレーザ光の波長が７００ｎｍ以上１，５００ｎｍ以下であってもよい。
【００５７】
また、画像を形成するための媒体が、支持体と、該支持体上に、少なくとも第１の熱可逆記録層と、特定波長の光を吸収して熱に変換する光熱変換材料を含む光熱変換層と、第２の熱可逆記録層とをこの順に有してなり、前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層が、いずれも温度に依存して色調が可逆的に変化する熱可逆記録媒体であってもよい。
【００５８】
また、第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層が、いずれかもロイコ染料、及び可逆性顕色剤を含有してもよい。
【００５９】
また、光熱変換材料が、近赤外領域に吸収ピークを有する材料であってもよい。
【００６０】
また、光熱変換材料が、フタロシアニン系化合物であってもよい。
【００６１】
本発明の実施の形態の一観点のレーザ照射装置は、レーザを照射するレーザ発振器と、前記レーザ発振器が照射するレーザの照射方向を制御する方向制御ミラーと、前記方向制御ミラーを駆動する方向制御モータと、前記描画命令に基づき、前記レーザ発振器の照射出力の制御、及び前記方向制御モータの駆動制御を行う、前記いずれかに記載の描画制御装置とを有する。
【００６２】
本発明の実施の形態の一観点の描画制御方法は、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置をコンピュータが制御する描画制御方法であって、前記コンピュータは、前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定工程と、前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整工程と、前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成工程とを実行する。
【００６３】
本発明の実施の形態の一観点の描画制御プログラムは、コンピュータに、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置を制御する制御処理を実行させるための描画制御プログラムであって、前記コンピュータを前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定部、相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定部、前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整部、及び前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成部として機能させる。
【００６４】
本発明の実施の形態の一観点の記録媒体は、前記描画制御プログラムを記録した記録媒体である。
【発明の効果】
【００６５】
本発明は、描画時間の短縮化と描画の高品質化を両立させた描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】サーマルリライタブルメディアの発色・消色の原理を説明するための図である。
【図２】線に重複を持たせて描画を行う手法を説明する図である。
【図３】往復走査による描画手法を説明する図である。
【図４ａ】従来技術の画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の一例を説明する図である。
【図４ｂ】従来技術の画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【図４ｃ】従来技術の画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【図５ａ】本発明の実施の形態３に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法を説明する図である。
【図５ｂ】本発明の実施の形態４に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法を説明する図である。
【図６】実施の形態１のレーザ照射装置１の構成を示す図である。
【図７】実施の形態１の描画制御装置のブロック構成を示す図である。
【図８】実施の形態１の描画制御装置で用いる描画データのデータ構造の一例を示す図である。
【図９】実施の形態１の描画制御装置で用いる制御データのデータ構造の一例を示す図である。
【図１０】実施の形態１の描画制御装置による描画データの生成処理を表すフローチャートである。
【図１１】実施の形態１の描画制御装置で用いる単位線分の識別子とレーザ出力を関連付けたデータの一例を示す図である。
【図１２】実施の形態１の描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【図１３】実施の形態１の変形例による描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【図１４】実施の形態２の描画制御装置２０４のブロック構成を示す図である。
【図１５】実施の形態２の描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【図１６】実施の形態２の描画制御装置による描画データの生成処理を表すフローチャートである。
【図１７ａ】本発明の熱可逆記録媒体の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図１７ｂ】本発明の熱可逆記録媒体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。
【図１７ｃ】本発明の熱可逆記録媒体の層構成の更に他の一例を示す概略断面図である。
【図１８】ＲＦ−ＩＤタグの一例を示す概略図である。
【図１９ａ】熱可逆記録媒体の発色−消色特性を示すグラフである。
【図１９ｂ】熱可逆記録媒体の発色−消色変化のメカニズムを表す概略説明図である。
【図２０】本発明の画像処理装置の概要を示す説明図である。
【図２１ａ】本発明の実施例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の一例を説明する図である。
【図２１ｂ】本発明の実施例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【図２２ａ】比較例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の一例を説明する図である。
【図２２ｂ】比較例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【図２２ｃ】比較例に係る画像記録、及び画像消去におけるレーザ光走査方法の他の例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００６７】
以下、本発明の描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を適用した実施の形態について説明する。
【００６８】
ここでは、「描画対象」なる文言は、文字、数字、記号、図形等の描画の対象を表すものとして用いる。
【００６９】
また、「線分」とは、文字等の描画対象に含まれ、描画対象を描画するために両端の座標が決まっている区間をいう。この線分は、直線の一部だけでなく、曲線の一部も含み、太さを有する。
【００７０】
また、本発明の描画制御装置は、描画対象を複数行に分け、行単位で描画を行う。ここでいう「行」とは、レーザの１回の照射開始点から照射終了点までに描画される文字又は図形等の一画である。この「行」は、描画が開始される位置から次に描画が終了される位置までに連続的に描画されるストロークとして扱うこともできる。ストロークは、公的機関（例えば、日本規格協会、ＩＳＯ等）等が定める一画と同じであってもよいし異なっていてもよい。
【００７１】
また、「描画順」なる文言は、描画対象に含まれる線分を描画する順（線分をどちらの端部から描画するかという描画順も含む）と、複数の描画対象の各々を描画する順との２つの意味を有するものとして用いる。
【００７２】
［実施の形態１］
図６は、実施の形態１のレーザ照射装置１の構成を示す図である。
【００７３】
実施の形態１のレーザ照射装置１は、レーザビームを出射するレーザ装置２、レーザ装置２から出射されたレーザビームを熱可逆記録媒体であるリライタブル媒体１００に走査する走査装置３、及びレーザ照射装置１の各部を駆動制御する描画制御装置４を備える。レーザ照射装置１は、外部装置であるホストコンピュータ２００から送信される描画指令に基づいてリライタブル媒体１００にレーザビームを走査してリライタブル媒体１００に描画対象を描画する。
【００７４】
レーザ装置２は、描画制御装置４からの指示に応じてレーザビームを出射する。レーザ装置２は、例えば、半導体レーザ装置やＹＡＧレーザ装置、炭酸ガスレーザ装置等で構成されるが、これらの中でもレーザ出力の制御が比較的容易な半導体レーザ装置が好適である。
【００７５】
走査装置３は、レーザビームを偏向する可動ミラーであるＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２とｆθレンズ１３を備える。
【００７６】
Ｘ軸ガルバノミラー１１は、駆動源であるガルバノメータ１４によって駆動され、Ｘ軸方向に沿ってレーザビームを走査する。また、Ｙ軸ガルバノミラー１２は、駆動源であるガルバノメータ１５によって駆動され、Ｙ軸方向に沿ってレーザビームを走査する。
【００７７】
ガルバノメータ１４には、Ｘ軸サーボドライバ１６が接続され、ガルバノメータ１５には、Ｙ軸サーボドライバ１７が接続されている。Ｘ軸サーボドライバ１６及びＹ軸サーボドライバ１７は、描画制御装置４からの指示値に従い、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の角度をそれぞれ制御する駆動回路であり、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の各々に設けられた角度センサ（図示せず）から出力されるポジション信号と描画制御装置４からの指示値を比較し、その誤差が最小になるようにガルバノメータ１４、１５へ駆動信号を与える。
【００７８】
ｆθレンズ１３は、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２で偏向されたレーザビームをリライタブル媒体１００へ集光するとともに、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の変位角と集光スポットの変位距離とが比例するように補正を行う。
【００７９】
このような構成の走査装置３は、レーザ装置２から出射されたレーザビームをＸ軸ガルバノミラー１１で偏向し、Ｘ軸ガルバノミラー１１で偏向されたレーザビームをＹ軸ガルバノミラー１２で偏向し、Ｙ軸ガルバノミラー１２で偏向されたレーザビームをｆθレンズ１３を介してリライタブル媒体１００上に照射する。この際、Ｘ軸ガルバノミラー１１とＹ軸ガルバノミラー１２との角度を適宜変更することにより、レーザビームを２次元に偏向走査することができる。
【００８０】
描画制御装置４は、ＡＳＩＣやＣＰＵ等の処理装置、動作を制御する所定のプログラムが格納されたＲＯＭや処理装置のワーク領域となるＲＡＭ等の記憶装置（いずれも図示せず）を備えており、処理装置は記憶装置とともにコンピュータを構成している。この描画制御装置４には、ホストコンピュータ２００、レーザ装置２、Ｘ軸サーボドライバ１６、及びＹ軸サーボドライバ１７が接続されている。
【００８１】
なお、レーザ装置２、Ｘ軸ガルバノミラー１１、Ｙ軸ガルバノミラー１２、ｆθレンズ１３、ガルバノメータ１４、ガルバノメータ１５、Ｘ軸サーボドライバ１６、及びＹ軸サーボドライバ１７は、熱可逆記録媒体であるリライタブル媒体１００に所望の描画対象を描画する描画装置を構成する。
【００８２】
図７は、実施の形態１の描画制御装置のブロック構成を示す図である。
【００８３】
描画制御装置４は、処理装置と記憶装置に格納されたプログラムとの協働により、図７に示すように、ホストインターフェース部２０、描画データ生成部３０、制御データ生成部４０、制御データ出力部５０、ガルバノミラー制御信号生成部６０、レーザ出力制御信号生成部７０、及びレーザ発光制御信号生成部８０の各機能部を実現する。
【００８４】
また、描画制御装置４は、処理装置と記憶装置に格納されたプログラムとの協働により、制御データ生成部４０、制御データ出力部５０、ガルバノミラー制御信号生成部６０、レーザ出力制御信号生成部７０及びレーザ発光制御信号生成部８０を備える描画命令生成手段としての照射部９０を機能部として実現する。
【００８５】
ホストインターフェース部２０は、ホストコンピュータ２００から描画指令を受け取る。描画指令は、描画対象がバーコードであれば、バーコードの種類を表す識別子、バーコードに含まれる線分の描画位置（両端の座標）、及びサイズ等を含むデータである。ホストインターフェース部２０は、描画指令の終了の旨を示すコードを受け取ったところで、描画データ生成部３０に描画指令を渡す。
【００８６】
描画データ生成部３０は、描画位置決定部３１、描画順決定部３２、レーザ出力調整部３３、及び描画速度調整部３４を含み、描画指令に含まれるバーコードを表すデータを適切にエンコードし、描画データを生成する。描画データは、バーコードに含まれる複数の線分のリライタブル媒体１００上における位置（座標データ）、各線分の描画順、レーザ出力、描画速度、及びレーザの点灯／消灯等の情報を含む制御フラグを有する。
【００８７】
描画位置決定部３１は、描画指令に基づき、バーコードに含まれる複数の線分のリライタブル媒体１００上における位置（座標データ）を決定する描画位置決定手段である。描画順決定部３２は、バーコードに含まれる各線分の描画順を決定する描画順決定手段である。レーザ出力調整部３３は、各線分を描画するためのレーザ出力の調整、及び点灯／消灯の設定を行う調整手段である。描画速度調整部３４は、リライタブル媒体１００に描画対象を描画する描画速度（すなわち、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を駆動する速度）を調整する。
【００８８】
描画制御装置４は、ホストコンピュータ２００から描画指令を受け取り、描画対象を複数の線分で定義する描画データを生成した後、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の位置、レーザ装置２のレーザビームの発光タイミング及び発光出力を制御し、リライタブル媒体１００に描画対象を描画する。
【００８９】
図８は、実施の形態１の描画制御装置で用いる描画データのデータ構造の一例を示す図である。
【００９０】
描画データは、複数の単位描画データを含み、各単位描画データＤ１は、図８に示すように、レーザビームの移動点としての座標（Ｘ座標、Ｙ座標）を指定する座標データ部Ｄ１ａ、レーザビームの出力を設定する出力係数部Ｄ１ｂ、及び、単位描画データＤ１が指定する座標へ到達する間にレーザビームを点灯するか否かを設定する制御フラグ部Ｄ１ｃを含む。
【００９１】
単位描画データＤ１は、実施の形態１では、８バイトのデータである。座標データ部Ｄ１ａのうちＸ座標は、２バイトの符号付きバイナリデータであり、Ｙ座標は、２バイトの符号付きバイナリデータである。出力係数部Ｄ１ｂは、レーザビームの出力を基準の出力に対して１０００分率で設定する。制御フラグ部Ｄ１ｃには、座標が描画における最後の座標であるか否かを示す最終座標フラグと、レーザの点灯／消灯を指示するレーザビームフラグとが設けられている。最終座標フラグは、例えば、１５ビット目のデータとして記述され、次の単位描画データＤ１が無く当該描画データＤ１が最後の単位描画データである場合には１が設定され、次の単位描画データＤ１が有り当該単位描画データＤ１が最後でない場合には０が設定される。レーザビームフラグは、例えば１４ビット目のデータとして記述され、レーザビームを消灯する場合は０が設定され、レーザビームを点灯する場合には１が設定される。このような制御フラグ部Ｄ１ｃによって、バーコードに含まれる各線分を描画するための描画動作と、描画において線分同士を繋がないためのジャンプ（空走）動作を指示するようになっている。
【００９２】
描画データ生成部３０は、描画指令に基づいて描画データを生成すると、制御データ生成部４０へ描画データを渡す。
【００９３】
制御データ生成部４０は、所定の速度でＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を動かし、所定のタイミングでレーザを点灯または消灯し、所定のタイミングでレーザ出力を変更するための制御データを描画データを基に生成する。Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を定速で動かすためには、描画データの座標間を所定の速度タイミングで細かく指示する必要があり、また、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の追従遅れやレーザ装置２の応答特性を考慮し、レーザの発光タイミングをＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の位置指定に対し遅らせる必要がある。さらに、リライタブル媒体１００の位置に合わせ描画データの描画位置を全体的にオフセットさせる処理もここで行う。なお、レーザ照射装置１は、描画速度やレーザの発光タイミングの標準的な値を保持しているが、その値を外部から変更することも可能となっている。
【００９４】
図９は、実施の形態１の描画制御装置で用いる制御データのデータ構造の一例を示す図である。
【００９５】
制御データは、描画データを後述するＤＡコンバータに対して設定する値に変換したものであり、かかるデータを用意することで高速なデータ出力を可能にしている。制御データは、複数の単位制御データＤ２を含み、各単位制御データＤ２は、図９に示すように、Ｘ出力部Ｄ２ａ、Ｙ出力部Ｄ２ｂ、出力設定部Ｄ２ｃ、データ間隔部Ｄ２ｄ、制御フラグ部Ｄ２ｅを含む。Ｘ出力部Ｄ２ａは、Ｘ軸ガルバノミラー１１の位置制御値を指定する部分であり、Ｙ出力部Ｄ２ｂは、Ｙ軸ガルバノミラー１２の位置制御値を指定する部分であり、出力設定部Ｄ２ｃは、レーザ出力の出力制御値を指定する部分であり、データ間隔部Ｄ２ｄは、当該単位制御データＤ２から次の単位制御データＤ２までの間隔が記述される部分である。制御フラグ部Ｄ１ｃには、レーザ発光フラグ、ＸＹ出力指定フラグ、出力指定フラグ、エンドフラグが設けられている。レーザ発光フラグは、例えば１５ビット目に記述され、レーザビームを点灯させる場合には１が設定される。ＸＹ出力指定フラグは、例えば１４ビット目に記述され、Ｘ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２の位置制御値を出力する場合には１が設定される。出力指定フラグは、例えば１３ビット目に記述され、レーザ出力の出力値を出力する場合には、１が設定される。エンドフラグは、例えば１２ビット目に記述され、当該単位制御データＤ２が最終の単位制御データＤ２である場合には１が設定される。
【００９６】
制御データ生成部４０は、描画データから制御データを生成すると、制御データ出力部５０へ制御データを渡す。
【００９７】
制御データ出力部５０は、制御データのうちの最初の単位制御データを受け取ると、描画開始の指示が入力されるまで待機する。単位制御データの受信と同時に描画を開始するモードも備えるが、標準的にはリライタブル媒体１００をコンベアコントローラ等の別装置が移動させることから装置外部からの描画開始信号を受けて描画対象の描画を開始する。
【００９８】
制御データ出力部５０は、描画を開始すると、次の単位制御データの出力タイミングを作るために、単位制御データを読み込んだ最初にデータ間各地を描画制御装置４が備えるＣＰＵタイマに設定する。こうすることで、その後の処理に差異があってもタイミングを安定させることができる。次に、単位制御データのレーザ発光フラグの値をレーザ発光制御信号生成部８０に出力し、単位制御データにおいてＣＹ出力指定フラグが立っていれば、単位制御データのＸ出力部Ｄ２ａ、Ｙ出力部Ｄ２ｂの値をガルバノミラー制御信号生成部６０に出力し、単位制御データの出力指定フラグが立っていれば出力設定部Ｄ２ｃの値をレーザ出力制御信号生成部７０に出力することで１サイクルの制御データ出力を完了する。そして、タイマ割り込みを待ち、次の制御データを出力することを繰り返す。エンドフラグが立っていたら描画を終了する。
【００９９】
ガルバノミラー制御信号生成部６０には、１６ビット分解能のＤＡコンバータが２チャネル設けられ、それぞれＸ軸サーボドライバ１６とＹ軸サーボドライバ１７とに接続される。レーザ出力制御信号生成部７０には、１６ビット分解能のＤＡコンバータが１チャネル設けられ、レーザ装置２と接続される。レーザ発光制御信号生成部８０は、２値のデジタル信号ポートであリ、レーザ装置２と接続される。
【０１００】
以上の構成によって、制御データ生成部４０、制御データ出力部５０、ガルバノミラー制御信号生成部６０、レーザ出力制御信号生成部７０、及びレーザ発光制御信号生成部８０を備える照射部９０は、描画データに基づいてＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を駆動するとともに、レーザビームの出力に応じたレーザビームをリライタブル媒体１００に照射する。
【０１０１】
これにより、レーザ照射装置１は、描画データに基づいてＸ軸ガルバノミラー１１及びＹ軸ガルバノミラー１２を駆動して、リライタブル媒体１００にレーザビームを照射してリライタブル媒体１００に描画対象を描画する。
【０１０２】
次に、実施の形態１の描画制御装置による描画データの生成処理について説明する。
【０１０３】
図１０は、実施の形態１の描画制御装置による描画データの生成処理を表すフローチャートである。
【０１０４】
描画データ生成部３０は、描画指令に基づき、バーコードに含まれる複数の線分のリライタブル媒体１００上における位置（座標データ）を決定する（ステップＳ１）。このステップＳ１の処理は、具体的には、描画データ生成部３０内の描画位置決定部３１によって実行される処理である。
【０１０５】
次いで、描画データ生成部３０は、バーコードに含まれる各線分の描画順を決定する（ステップＳ２）。このステップＳ２の処理は、具体的には、描画データ生成部３０内の描画順決定部３２によって実行される処理であり、バーコードに含まれる複数の線分の描画順を一行ずつ決定する処理である。実施の形態１の描画制御装置では、各行の線分の描画順は、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画するように各行の描画順が決定される。すなわち、隣接する行同士の描画方向は、互いに逆方向に設定される。
【０１０６】
なお、「相隣接する行」には、互いに隣接する行だけでなく、互いに隣接して重複する行も含まれることとする。
【０１０７】
次に、描画データ生成部３０は、各線分を描画するためのレーザ出力の調整、及び点灯／消灯の設定を行う（ステップＳ３）。このステップＳ３の処理は、具体的には、描画データ生成部３０内のレーザ出力調整部３３によって実行される処理であり、ステップＳ２で描画順が決定された各行の描画開始位置から描画終了位置にかけてのレーザ出力を設定する処理である。
【０１０８】
ステップＳ３では、各行のうち１行目の線分については描画開始位置から描画終了位置まで同一のレーザ出力（例えば、レーザ装置２の定格出力）に設定し、各行のうち２行目以降の線分については、線分をさらに単位線分に分け、線分の描画開始位置から描画終了位置にかけて、レーザ出力が単位線分毎に増大するようにレーザ出力を設定する処理である。例えば、２行目以降の線分について一行の線分を１０個の単位線分に分割する場合は、レーザ出力が千分率で８２０、８４０、８６０、８８０、９００、９２０、９４０、９６０、９８０、１０００と段階的に増大するように設定される。すなわち、描画開始位置におけるレーザ出力は、レーザ装置２の最大出力（定格出力）の８４０／１０００の出力であり、レーザ出力は段階的に増大されて描画終了位置において最大出力（１０００／１０００）となるように設定される。
【０１０９】
このようなレーザ出力の設定は、例えば、図１１に示すように、単位線分の識別子と、各単位線分におけるレーザ出力とを予め定めたテーブル形式のデータをレーザ出力調整部３３が参照することによって実現することができる。なお、図１１に示すデータでは、一行の線分の分割数が１０であり、単位線分の識別子は、一行の線分の描画開始位置から描画終了位置にかけて番号が振られている。
【０１１０】
このように、実施の形態１では、２行目以降の線分について各行の描画開始位置から描画終了位置にかけて、レーザによってリライタブル媒体１００が受けるエネルギ量を増大させる。
【０１１１】
次いで、描画データ生成部３０は、線分の描画速度を設定する（ステップＳ４）。このステップＳ４の処理は、具体的には、描画データ生成部３０内の描画速度調整部３４によって実行される処理であり、一行の描画開始位置から描画終了位置にわたる線分（すなわち、ステップＳ３で分割された１０個の単位線分を含む１つの線分）を描画する描画速度を決定する処理である。実施の形態１では、描画速度は、千分率で１０００に設定される。
【０１１２】
次いで、描画データ生成部３０は、描画データを生成する（ステップＳ５）。これにより、図８に示す描画データが各単位線分について生成される。
【０１１３】
次いで、描画データ生成部３０は、すべての行の線分について描画データの生成が終了したか否かを判定する（ステップＳ６）。ステップＳ６の処理は、すべての行の線分に含まれるすべての単位線分について図８に示す描画データが生成されたか否かを判定する処理である。
【０１１４】
ステップＳ６において、すべての行の線分についての設定が終了していないと判定した場合は、描画データ生成部３０は、フローをステップＳ３にリターンする。これにより、ステップＳ３乃至Ｓ６の処理が繰り返し実行され、すべての行の線分についてレーザ出力と描画速度が設定されることになる。
【０１１５】
ステップＳ６において、すべての行の線分についての設定が終了したと判定した場合は、生成された描画データが図９に示す制御データに変換され、描画が行われる。
【０１１６】
図１２は、実施の形態１の描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【０１１７】
実施の形態１の描画制御装置によって生成される描画データは、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画するように各行の描画順を決定するため、各行の描画順は、図１２（ａ）に実線の矢印で示すように、隣接する行同士で、描画方向がＸ軸方向において互いに逆方向となる。すなわち、実施の形態１では、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画する。
【０１１８】
図１２（ａ）に実線で示す矢印は、線分を描画する位置及び方向を示し、矢印の起点は描画開始位置を表し、矢印の先端は描画終了位置を示す。また、破線でＹ軸方向に示す矢印は、ジャンプ（空走）を示す。なお、実施の形態１の描画制御装置では、各行を描画する間に待機時間は挿入しない。
【０１１９】
また、実施の形態１の描画制御装置では、１行目の線分についてのレーザ出力は描画開始位置から描画終了位置まで一定であるが、２行目以降の線分についてのレーザ出力は、各行の描画開始位置から描画終了位置にかけて（単位線分毎に）段階的に増大するように設定されているため、２行目以降の各行の線分は、図１２（ｂ）に示すように、描画開始位置から描画終了位置にかけて、線分の太さが徐々に太くなる。
【０１２０】
このような描画方法は、図１２（ｃ）に示すタイムチャートの通りに実行される。図１２（ｃ）において、Ｘ座標方向ビーム速度はＸ軸方向の描画速度を表し、１行目から５行目の線分についてすべて同一、かつ時間経過に対して一定の速度に設定される。各線分の間でＸ座標方向ビーム速度が零（０）になっている区間は、図１２（ａ）に破線で示すジャンプ（空走）の区間に相当する。
【０１２１】
レーザ出力は、１行目の線分については描画開始位置から描画終了位置まで（１０００／１０００で）一定であるが、２行目から５行目の線分のすべてにおいて、描画開始位置から描画終了位置にかけて（すなわち、時間の経過に伴って）８２０／１０００から１０００／１０００まで増大するように設定されている。
【０１２２】
このような描画方法によるビームのＸ座標位置とＹ座標位置は、図１２（ｃ）に示す通りとなる。
【０１２３】
ここで、図１２（ｂ）に示す１行目の線分をＸ軸方向における正（＋）の方向に描画し終えた後に、２行目の線分をＸ軸方向における負（−）の方向に描画する際に、１行目の線分における描画開始位置（図中Ｘ軸方向における左端）よりも描画終了位置（図中Ｘ軸方向における右端）の方がレーザ照射による熱が多く残存した状態となる。
【０１２４】
しかしながら、実施の形態１の描画制御装置では、２行目の線分をＸ軸方向における負（−）の方向に描画する際に、描画開始位置（図中Ｘ軸方向における右端）から描画終了位置（図中Ｘ軸方向における左端）にかけて段階的にレーザ出力を増大するので、２行目の線分の描画開始位置側と描画終了位置側とでリライタブル媒体１００が受ける熱エネルギのバランスが取られることになる。これは、２行目の３行目の線分同士の間、３行目の４行目の線分同士の間、４行目の５行目の線分同士の間においても同様である。
【０１２５】
この結果、従来技術の問題点として図３（ｂ）に示したような塗りむらを抑制することができ、きれいな塗り潰しが得られる。また、実施の形態１の描画制御装置によれば、各線分を描画する間に待機時間を要しないため、描画対象全体を描画するための描画時間の短縮化を図ることができる。また、従来は塗りむらを抑制するためにレーザ出力を通常よりも増大することが行われていたが、実施の形態１の描画制御装置によれば、レーザ装置２の最大出力値（定格値）を上昇させる必要がないため、リライタブル媒体１００に局所的に多くの熱量を加えることが無く、リライタブル媒体１００の破損が抑制され、長寿命化を図ることができる。
【０１２６】
以上、実施の形態１の描画制御装置によれば、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画する際に、各行の描画開始位置から描画終了位置にかけてレーザ出力を増大させるので、塗りむらを抑制することができ、きれいな塗り潰しが得られる。また、描画時間の短縮化と、リライタブル媒体１００の長寿命化を図ることができる。
【０１２７】
なお、以上では、１行目の線分を描画するレーザ出力については描画開始位置から描画終了位置まで一定とし、２行目以降の各行の線分を描画する出力を描画開始位置から描画終了位置にかけて増大させる形態について説明した。しかしながら、例えば、レーザ出力やリライタブル媒体１００の熱特性等により、１行目の線分についても描画開始位置から描画終了位置にかけて増大させる方が綺麗に描画を行える場合は、１行目の線分についてもレーザ出力が描画開始位置から描画終了位置にかけて増大するように設定してもよい。
【０１２８】
また、以上では、２行目以降の各行の線分の描画開始位置におけるレーザ出力が描画終了位置におけるレーザ出力の８２０／１０００である形態について説明した。これは、各行の描画開始位置におけるレーザ出力は、描画終了位置におけるレーザ出力の約８割程度であることが好ましいという結果が得られたことに基づくものである。しかしながら、各行の線分の描画開始時におけるレーザ出力は、上述した値に限定されるものではなく、レーザ装置２の定格出力やリライタブル媒体１００の熱特性等に応じて適切な値に設定することができる。
【０１２９】
また、以上では、各行の線分を１０個の単位線分に分割して単位線分毎にレーザ出力を設定する形態について説明したが、レーザ出力が同一の値に設定される単位線分が連続するようにしてもよい。
【０１３０】
また、単位線分の数は１０に限らず、任意の値をとることができる。また、必ずしも各行の線分を複数の単位線分に分割する必要はなく、一本の線分を描画するためのレーザ出力を描画開始位置から描画終了位置にかけて連続的に増大させるようにしてもよい。
【０１３１】
また、以上では、各行の描画開始位置から描画終了位置にかけてレーザ出力を増大させることにより、レーザによってリライタブル媒体１００が受けるエネルギ量を増大させるように構成したが、描画開始位置から描画終了位置にかけてのレーザ出力を一定にするとともに、描画開始位置から描画終了位置にかけて描画速度を徐々に低下させることによってレーザによってリライタブル媒体１００が受けるエネルギ量を増大させるように構成してもよい。
【０１３２】
図１３は、実施の形態１の変形例による描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【０１３３】
図１３に示す描画手法では、１行目の線分を描画する描画速度は一定（千分率で１０００／１０００、１０００は図１２に示す１０００の描画速度と同一）であるが、２行目以降の各行の線分を描画する描画速度は、描画開始位置から描画終了位置にかけて徐々に低下するように設定されている。また、各行の線分を描画するレーザ出力は、画開始位置から描画終了位置にかけて一定に設定されている。これは、図１１に示したレーザ出力についてのテーブル形式のデータと同様のテーブル形式のデータを描画速度について作成し、２行目以降の線分について描画データ生成部３０の描画速度調整部３４が参照するように構成することによって実現することができる。すなわち、２行目以降の各行の線分を１０個の単位線分に分割し、各単位線分の描画速度を段階的に低い値に設定すればよい。例えば、描画速度の標準値が千分率で１０００である場合に、２行目以降の線分に含まれる１０個の単位線分について、描画開始位置から描画終了位置にかけて、１１８０、１１６０、１１４０、１１２０、１１００、１０８０、１０６０、１０４０、１０２０、１０００と低下するように構成したテーブル形式の描画速度のデータを描画速度調整部３４が参照するようにすればよい。なお、図１３に示す実施の形態１の変形例の描画制御装置においては、描画速度調整部３４が調整手段として機能することになる。
【０１３４】
このように、レーザ出力を一定にしつつ描画速度を徐々に下げることによっても、各線分の描画開始位置側と描画終了位置側とでリライタブル媒体１００が受ける熱エネルギのバランスが取ることができ、塗りむらを抑制して、きれいな塗り潰しを描画することができる。また、各線分を描画する間に待機時間を要しないため、描画対象全体を描画するための描画時間の短縮化を図ることができる。また、レーザ出力の最大値を上昇させることなく描画を行うことができるため、リライタブル媒体１００に局所的に多くの熱量を加えることが無く、リライタブル媒体１００の長寿命化を図ることができる。
【０１３５】
［実施の形態２］
図１４は、実施の形態２の描画制御装置２０４のブロック構成を示す図である。
【０１３６】
実施の形態２の描画制御装置２０４は、描画データ生成部２３０が線分の描画開始位置と描画終了位置の座標を変更する描画位置変更部２３５を含む点が実施の形態１の描画制御装置４と異なる。その他の構成は、実施の形態１の描画制御装置４と同一であるため、同一の要素には同一符号を付し、その説明を省略する。
【０１３７】
図１５は、実施の形態２の描画制御装置によって生成される描画データに基づく描画手法を説明する図である。
【０１３８】
実施の形態２の描画制御装置２０４による描画手法は、２行目以降の各行の線分を所定数（ここでは１０）の単位線分に分け、線分の描画開始位置側から描画終了位置側にかけて、単位線分毎にレーザ出力を増大させる点は実施の形態１の描画手法と同一である。なお、実施の形態１と同様に、図１５（ａ）で線分の描画順を示す実線の矢印は、起点が描画開始位置を示し、矢印の先端が描画終了位置を示す。
【０１３９】
実施の形態２の描画制御装置２０４は、図１５（ａ）に示すように、２行目以降の行の線分の描画開始位置をＹ軸−方向にずらして描画を行うものである。描画開始位置の変更は、描画位置変更部２３５が描画データに含まれる線分の描画開始位置のＹ座標値を変更することによって実現される。
【０１４０】
このように、２行目以降の行の描画開始位置を変更するのは、２行目以降では、前の行の描画によってリライタブル媒体１００に残存する熱は、前の行の描画開始位置側よりも描画終了位置側で多い。このため、次の行の描画開始位置を前の行の描画終了位置から遠ざけることにより、前の行の描画とその次の行の描画とによってリライタブル媒体１００が受ける熱量を重複部分及びその周辺で、よりバランス良くするためである。
【０１４１】
ここで、２行目以降の行の線分の描画開始位置をＹ軸−方向にずらす量は、描画される線分の幅（Ｙ軸方向の幅）の１／６〜２／３であることが好適である。
【０１４２】
図１６は、実施の形態２の描画制御装置による描画データの生成処理を表すフローチャートである。
【０１４３】
ステップＳ２０１、Ｓ２０２は、図１０に示すステップＳ１、Ｓ２とそれぞれ同一である。
【０１４４】
ステップＳ２０２で描画順が決定されると、描画データ生成部３０は、２行目以降の線分について描画開始位置の座標を変更する処理を行う（ステップＳ２０３）。このステップＳ２０３の処理は、描画データ生成部３０内の描画位置変更部２３５が実行する処理であり、図１５を用いて上述したように、２行目以降の線分の描画開始位置を前の線分から遠ざけるために行う処理である。
【０１４５】
ステップＳ２０３の処理が終了すると、描画データ生成部３０は、フローをステップＳ２０４に進行させる。ステップＳ２０４乃至Ｓ２０８の処理は、実施の形態１におけるステップＳ３乃至Ｓ７の処理と基本的に同一であるが、ステップＳ２０６で生成される描画データに含まれる２行目以降の線分のＹ座標は、描画位置変更部２３５によって変更された座標値となる点が実施の形態１と異なる。
【０１４６】
ステップＳ２０４乃至Ｓ２０７の処理が繰り返し実行され、すべての行の線分についてレーザ出力と描画速度が設定されると、ステップＳ２０８において、生成された描画データが制御データ（図９参照）に変換され、描画が行われる。
【０１４７】
以上、実施の形態２の描画制御装置によれば、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画する際に、２行目以降の線分の描画開始位置を前の線分から遠ざけるように座標値を変更するとともに、各行の描画開始位置から描画終了位置にかけてレーザ出力を増大させる。
【０１４８】
このため、相隣接する線分の重複部分及びその周辺で、リライタブル媒体１００が受ける熱量のバランスが良好になり、塗りむらを抑制して、きれいな塗り潰しを得ることができる。また、実施の形態２の描画制御装置によれば、各線分を描画する間に待機時間を要しないため、描画対象全体を描画するための描画時間の短縮化を図ることができる。また、リライタブル媒体１００の長寿命化を図ることができる。
【０１４９】
なお、以上では、２行目以降の行の線分の描画開始位置をＹ軸−方向に（前の行よりも遠ざける方向に）ずらす形態について説明したが、これに加えて、描画終了位置についても位置をずらすようにしてもよい。すなわち、２行目以降の行の線分の描画開始位置をＹ軸−方向にずらすとともに、同線分の描画終了位置をＹ軸＋方向にずらしてから２行目以降の描画を行うように構成してもよい。このような描画開始位置と描画終了位置の変更は、レーザ装置２のレーザ出力やリライタブル媒体１００の熱特性等に応じて適切な値を選択して行えばよい。
【０１５０】
なお、以上の実施の形態１、２では、描画対象がバーコードである場合について説明したが、実施の形態１、２の描画制御装置によって制御される描画装置が描画する描画対象は、バーコードに限られるものではなく、文字、数字、記号、又は図形等であってもよい。
【０１５１】
また、実施の形態１、２のレーザ照射装置１で実行されるプログラムは、インストール可能な形式又は実行可能な形式のファイルでＣＤ−ＲＯＭ、フレキシブルディスク（ＦＤ）、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）等のコンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録されて提供される。
【０１５２】
また、実施の形態１、２のレーザ照射装置１で案行されるプログラムを、インターネット等のネットワークに接続されたコンピュータ上に格納し、ネットワーク経由でダウンロードさせることにより提供するように構成してもよい。また、実施の形態１のレーザ照射装置１で実行されるプログラムをインターネット等のネットワーク経由で提供または配布するように構成してもよい。
【０１５３】
次に、実施の形態３及び４について説明する。
（描画制御方法）
本発明の描画制御方法は、画像記録工程、及び画像消去工程の少なくともいずれかを含む。なお、本発明の前記描画制御方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、非可逆の記録媒体に対する画像形成方法として用いることもできるが、可逆性を有する熱可逆記録媒体に対する画像の記録及び消去を行う描画制御方法として用いることが好ましい。
＜画像記録工程＞
前記画像記録工程は、熱可逆記録媒体に対してレーザ光を照射して加熱することにより前記熱可逆記録媒体にレーザ光描画線で形成される画像を記録する工程である。
【０１５４】
前記画像記録工程において照射されるレーザ光の出力の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１Ｗ以上が好ましく、３Ｗ以上がより好ましく、５Ｗ以上が特に好ましい。
【０１５５】
前記レーザ光の出力が、１Ｗ未満であると、画像記録に時間がかかり、画像記録時間を短くしようとすると出力が不足してしまう。
【０１５６】
また、前記レーザ光の出力の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２００Ｗ以下が好ましく、１５０Ｗ以下がより好ましく、１００Ｗ以下が特に好ましい。前記レーザ光の出力が、２００Ｗを超えると、レーザ装置の大型化を招くことがある。
【０１５７】
前記画像記録工程において照射されるレーザ光の走査速度の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３００ｍｍ／ｓ以上が好ましく、５００ｍｍ／ｓ以上がより好ましく、７００ｍｍ／ｓ以上が特に好ましい。
【０１５８】
前記走査速度が、３００ｍｍ／ｓ未満であると、画像記録に時間がかかる。
【０１５９】
また、前記レーザ光の走査速度の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５，０００ｍｍ／ｓ以下が好ましく、１０，０００ｍｍ／ｓ以下がより好ましく、８，０００ｍｍ／ｓ以下が特に好ましい。
【０１６０】
前記走査速度が、１５，０００ｍｍ／ｓを超えると、均一な画像が形成し難くなる。
【０１６１】
前記画像記録工程において照射されるレーザ光のスポット径の下限としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、０．０２ｍｍ以上が好ましく、０．１ｍｍ以上がより好ましく、０．１５ｍｍ以上が特に好ましい。
【０１６２】
また、前記レーザ光のスポット径の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３．０ｍｍ以下が好ましく、２．５ｍｍ以下がより好ましく、２．０ｍｍ以下が特に好ましい。
【０１６３】
前記スポット径が、０．０２ｍｍ未満であると、画像の線幅が細くなり、視認性が低下する。また、前記スポット径が３．０ｍｍを超えると、画像の線幅が太くなり、隣接する線が重なり、小さいサイズの画像記録が不可能となる。
【０１６４】
前記レーザ光のレーザ光源としては、特に制限はないが、目的に応じて適宜選択することができるが、ＹＡＧレーザ光、ファイバーレーザ光、及び半導体レーザ光の少なくともいずれかであることが好ましい。
＜画像消去工程＞
前記画像消去工程は、前記熱可逆記録媒体に対してレーザ光を照射して加熱することにより前記熱可逆記録媒体に記録された前記画像を消去する工程である。
【０１６５】
前記画像消去工程において照射されるレーザ光の出力の下限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５Ｗ以上が好ましく、７Ｗ以上がより好ましく、１０Ｗ以上が特に好ましい。
【０１６６】
前記レーザ光の出力が、５Ｗ未満であると、画像消去に時間がかかり、画像消去時間を短くしようとすると出力が不足して画像の消去不良が発生する。
【０１６７】
また、前記レーザ光の出力の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２００Ｗ以下が好ましく、１５０Ｗ以下がより好ましく、１００Ｗ以下が特に好ましい。前記レーザ光の出力が、２００Ｗを超えると、レーザ装置の大型化を招くおそれがある。
【０１６８】
前記画像消去工程において照射されるレーザ光の走査速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００ｍｍ／ｓ以上が好ましく、２００ｍｍ／ｓ以上がより好ましく、３００ｍｍ／ｓ以上が特に好ましい。
【０１６９】
前記走査速度が、１００ｍｍ／ｓ未満であると、画像消去に時間がかかる。
【０１７０】
また、前記レーザ光の走査速度の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０，０００ｍｍ／ｓ以下が好ましく、１５，０００ｍｍ／ｓ以下がより好ましく、１０，０００ｍｍ／ｓ以下が特に好ましい。
【０１７１】
前記走査速度が、２０，０００ｍｍ／ｓを超えると、均一な画像消去がし難くなることがある。
【０１７２】
前記熱可逆記録媒体に対し、レーザ光を照射して加熱することにより画像を消去する画像消去工程において照射されるレーザ光のスポット径としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、０．５ｍｍ以上が好ましく、１．０ｍｍ以上がより好ましく、２．０ｍｍ以上が特に好ましい。また、前記レーザ光のスポット径の上限としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１４．０ｍｍ以下が好ましく、１０．０ｍｍ以下がより好ましく、７．０ｍｍ以下が特に好ましい。
【０１７３】
前記スポット径が０．５ｍｍ未満であると、画像消去に時間がかかる。また、スポット径が１４．０ｍｍを超えると、出力が不足して画像の消去不良が発生することがある。
【０１７４】
前記レーザ光のレーザ光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ＹＡＧレーザ光、ファイバーレーザ光、及び半導体レーザ光の少なくともいずれかであることが好ましい。
【０１７５】
前記画像記録工程及び前記画像消去工程において照射されるレーザ光の波長としては、７００ｎｍ以上が好ましく、７２０ｎｍ以上がより好ましく、７５０ｎｍ以上が特に好ましい。前記レーザ光の波長の上限としては、目的に応じて適宜選択することができるが、１，５００ｎｍ以下が好ましく、１，３００ｍｍ以下がより好ましく、１，２００ｎｍ以下が特に好ましい。
【０１７６】
レーザ光の波長を７００ｎｍより短い波長にすると、可視光領域では媒体の画像記録時のコントラストが低下したり、媒体が着色してしまうという問題がある。更に短い波長の紫外光領域では、媒体の劣化が起こりやすくなるという問題がある。また熱可逆記録媒体に添加する光熱変換材料には、繰返し画像処理に対する耐久性を確保するために高い分解温度を必要とし、光熱変換材料に有機色素を用いる場合、分解温度が高く吸収波長が長い光熱変換材料を得るのは難しい。これよりレーザ光の波長としては１，５００ｎｍ以下が好ましい。
【０１７７】
本発明の描画制御方法は、前記画像記録工程及び前記画像消去工程の少なくともいずれかが、第１の始点から第１の終点に第１のレーザ光描画線を描画し、第２の始点から第１のレーザ光描画線と平行な線に対して前記第１の始点側に傾く方向の線上に位置する第２の終点に向けて、前記第１のレーザ光描画線に隣接する第２のレーザ光描画線を描画することを含む。
【０１７８】
前記描画制御方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記第２のレーザ光描画線の描画後に、第３の始点から第２のレーザ光描画線と平行な線に対して第２の始点側に傾く方向の線上に位置する第３の終点に向けて、前記第２のレーザ光描画線に隣接する第３のレーザ光描画線を描画することが好ましい。
【０１７９】
この方法によれば、第２のレーザ光描画線の終点及び第３のレーザ光描画線の始点との間の折曲り部における第２のレーザ光描画線の終点印字直後に第３の描画線の始点を印字することによる蓄熱の影響を低減することが可能となる。
【０１８０】
この際、前記第３の描画線としては、特に制限はないが、前記第１のレーザ光描画線と平行に描画されることが好ましい。
【０１８１】
この方法によると、画像記録領域及びベタ画像印字領域において、濃度ムラなく画像記録及び画像消去を行うことができる。
【０１８２】
なお、平行とは、厳密に平行である場合に加え、画像処理上の性能に基づき略平行となる場合を含む。
【０１８３】
また、前記描画制御方法は少なくとも傾斜した描画線を含むものであるが、隣接する描画線の一部において、平行で同一方向の描画線が描画されることが含まれることもある。
つまり、複数線で形成されるベタ画像の大きさにより描画線が偶数本になる場合に、最後の傾きを持った描画線により前記描画線で形成されたベタ画像が傾きを持ってしまうので、その場合、１本は平行にすることが望ましい。
【０１８４】
また、始点及び終点とは、本明細書において特に断りのない限り、連続した描画線における始点及び終点に加え、連続した描画線が折曲げ部を含む場合、該折曲げ部の角を始点及び終点とする場合を含む。
【０１８５】
前記描画制御方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、一のレーザ光描画線の終点と、該レーザ光描画線に隣接する他のレーザ光描画線の始点との間においてレーザ光を照射しないことが好ましい。
【０１８６】
この方法によれば、レーザ光走査を短時間で行うことが可能で、ベタ画像印字、消去を短時間で可能であり、折曲り部での蓄熱影響を低減することが可能となる。
【０１８７】
また、前記一のレーザ光描画線の終点から、該レーザ光描画線と直交する方向の線上に前記他のレーザ光描画点の始点が位置するように描画することが好ましい。
【０１８８】
この方法によれば、矩形状の描画セル内にベタ画像を濃度ムラなく、効率的に印字記録することができる。また、印字記録された画像を効率よく消去することができる。
【０１８９】
更に、前記描画制御方法としては、特に制限はないが、第１のレーザ光描画線におけるレーザ光の照射エネルギーが、他の描画線におけるレーザ光の照射エネルギーより高いことが好ましい。
【０１９０】
この場合、前記第１のレーザ光描画線は、描画対象となる領域に対して最初に描画され、前記他の描画線は、該第１のレーザ光描画線の描画による蓄熱を利用しながら描画することができるため、前記第１のレーザ光描画線は、前記他の描画線におけるレーザ光の照射エネルギーより高いエネルギーで描画し、前記他の描画線を前記第１のレーザ光描画線より低いエネルギーで描画することで、過剰なエネルギーが加わることを抑制することができる。
【０１９１】
以下に本発明の形態について図５ａ及び図５ｂを用いて、本発明の実施の形態３及び実施の形態４について説明する。
【０１９２】
図５ａは、本発明の実施の形態３に係る画像記録、画像消去を行う際のレーザ光走査方法を示す図である。図５ａに示すように、実施の形態３に係るレーザ光走査方法は、図４ａのレーザ光走査方法のように、第２のレーザ光描画線４１２が第１のレーザ光描画線４１１に平行でなく、第１のレーザ光描画線４５１に対して、第２のレーザ光描画線４５２を傾けてレーザ光を走査させるものである。すなわち、第１のレーザ光描画線４５１の終点と第２のレーザ光描画線４５２の始点との間の第１距離が第１のレーザ光描画線４５１の始点と第２のレーザ光描画線４５２の終点との間の第２距離よりも長くなるように描画位置を調整する。
【０１９３】
第１のレーザ光描画線４５１に対して第２のレーザ光描画線４５２を傾けるとは、図５ａのピッチ幅に対する傾け量が、（傾け量）／（ピッチ幅）が０．１以上であることを示す。
【０１９４】
前記（傾け量）／（ピッチ幅）としては、０．１以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、該（傾け量）／（ピッチ幅）は小さいと蓄熱影響の低減が小さくなり、大きすぎると媒体への印加エネルギーが不十分となることから、０．２〜０．８が好ましい。
【０１９５】
ここで、本明細書において、傾け量とは、第２のレーザ光描画線の長さ方向における中心地点と、第１のレーザ光描画線との間の最短距離を示す。
【０１９６】
また、ピッチ幅とは、第２のレーザ光描画線の長さ方向における中心地点と、第２の始点から第１のレーザ光描画線と平行に引かれた線との最短距離を示す。
【０１９７】
該描画制御方法によれば、レーザ光走査を短時間で行うことが可能で、ベタ画像印字、消去を短時間で可能であり、折曲り部での蓄熱影響（第１のレーザ光描画線１の終点印字直後に第２のレーザ光描画線２の始点を印字することによる）を低減することが可能となる。
【０１９８】
図５ｂは、本発明の実施の形態４に係る画像記録、画像消去を行う際のレーザ光走査方法を示す図である。該図５ｂに示すように、実施の形態４に係るレーザ光走査方法は、図４ｂのレーザ光走査方法のように、第２のレーザ光描画線４１２が第１のレーザ光描画線４１１に平行でなく、第１のレーザ光描画線４５１に対して、第２のレーザ光描画線４５２を傾けてレーザ光を走査させるものである。
【０１９９】
また、該描画制御方法によれば、実施の形態３における効果に加え、第１終点から第２始点までの折曲げ部に相当する領域においてレーザ光が照射されないことから、折曲り部の速度低下により過剰に媒体にエネルギーを印加することを避けることができ、特に好ましい。
【０２００】
なお、実施の形態４において、第１終点から第２始点までの折曲げ部に相当する領域においてレーザ光が照射されないこと以外は、実施の形態３と同様とすることができ、実施の形態３において説明した事項を適用することができる。
＜熱可逆記録媒体＞
前記熱可逆記録媒体は、温度に依存して透明度及び色調のいずれかが可逆的に変化するものである。
【０２０１】
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はないが、支持体と、該支持体上に、第１の熱可逆記録層と、光熱変換層と、第２の熱可逆記録層とをこの順に有してなり、更に必要に応じて適宜選択した、第１の酸素バリア層、第２の酸素バリア層、紫外線吸収層、バック層、保護層、中間層、アンダーコート層、接着層、粘着層、着色層、空気層、光反射層等のその他の層を有してなる。これら各層は、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。ただし、前記光熱変換層の上に設ける層においては、照射する特定波長のレーザ光のエネルギーロスを少なくするために該特定波長において吸収の少ない材料を用いて層を構成させることが好ましい。
【０２０２】
ここで、熱可逆記録媒体５００の層構成としては、図１７ａに示すように、支持体５０１と、該支持体上に、第１の熱可逆記録層５０２と、光熱変換層５０３と、第２の熱可逆記録層５０４とをこの順に有する態様がある。
【０２０３】
また、図１７ｂに示すように、支持体５０１と、該支持体上に、第１の酸素バリア層５０５、第１の熱可逆記録層５０２と、光熱変換層５０３と、第２の熱可逆記録層５０４と、第２の酸素バリア層５０６とをこの順に有する態様がある。
【０２０４】
また、図１７ｃに示すように、支持体５０１と、該支持体上に、第１の酸素バリア層５０５、第１の熱可逆記録層５０２と、光熱変換層５０３と、第２の熱可逆記録層５０４と、紫外線吸収層５０７と、第２の酸素バリア層５０６とをこの順に有してなり、支持体５０１の熱可逆記録層等を有していない側の面にバック層５０８を有する態様がある。
【０２０５】
なお、図示を省略しているが、図１７ａの第２の熱可逆記録層５０４上、図１７ｂの第２の酸素バリア層５０６上、図１７ｃの第２の酸素バリア層５０６上の最表層に保護層を形成してもよい。
−支持体−
前記支持体としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、平板状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記熱可逆記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【０２０６】
前記支持体の材料としては、例えば、無機材料、有機材料などが挙げられる。
【０２０７】
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、酸化シリコン、酸化アルミニウム、ＳｉＯ２、金属などが挙げられる。
【０２０８】
前記有機材料としては、例えば、紙、三酢酸セルロース等のセルロース誘導体、合成紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等のフィルムなどが挙げられる。
【０２０９】
前記無機材料及び前記有機材料は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、有機材料が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【０２１０】
前記支持体には、塗布層の接着性を向上させることを目的として、コロナ放電処理、酸化反応処理（クロム酸等）、エッチング処理、易接着処理、帯電防止処理、などを行うことにより表面改質するのが好ましい。
【０２１１】
前記支持体に、酸化チタン等の白色顔料などを添加することにより、白色にするのが好ましい。
【０２１２】
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０μｍ〜２，０００μｍが好ましく、５０μｍ〜１，０００μｍがより好ましい。
−第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層−
前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層（以下、「熱可逆記録層」と称することがある）は、いずれも電子供与性呈色性化合物であるロイコ染料、電子受容性化合物である顕色剤を含み、熱により色調が可逆的に変化する熱可逆記録層であり、バインダー樹脂、更に必要に応じてその他の成分を含んでなる。
【０２１３】
前記熱により色調が可逆的に変化する電子供与性呈色性化合物であるロイコ染料、電子受容性化合物である可逆性顕色剤は、温度変化により目に見える変化を可逆的に生じる現象を発現可能な材料であり、加熱温度及び加熱後の冷却速度の違いにより、相対的に発色した状態と消色した状態とに変化可能である。
−−ロイコ染料−−
前記ロイコ染料は、それ自体無色又は淡色の染料前駆体である。該ロイコ染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、トリフェニルメタンフタリド系、トリアリルメタン系、フルオラン系、フェノチアジン系、チオフェルオラン系、キサンテン系、インドフタリル系、スピロピラン系、アザフタリド系、クロメノピラゾール系、メチン系、ローダミンアニリノラクタム系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサンテン系、ビスラクトン系等のロイコ化合物が好適に挙げられる。これらの中でも、発消色特性、色彩、保存性等に優れる点で、フルオラン系又はフタリド系のロイコ染料が特に好ましい。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよく、異なる色調に発色する層を積層することにより、マルチカラー、フルカラーに対応させることもできる。
−−可逆性顕色剤−−
前記可逆性顕色剤としては、熱を因子として発消色を可逆的に行うことができるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（１）前記ロイコ染料を発色させる顕色能を有する構造（例えば、フェノール性水酸基、カルボン酸基、リン酸基等）、及び、（２）分子間の凝集力を制御する構造（例えば、長鎖炭化水素基が連結した構造）、から選択される構造を分子内に１つ以上有する化合物が好適に挙げられる。なお、連結部分にはヘテロ原子を含む２価以上の連結基を介していてもよく、また、長鎖炭化水素基中にも、同様の連結基及び芳香族基の少なくともいずれかが含まれていてもよい。
【０２１４】
前記（１）ロイコ染料を発色させる顕色能を有する構造としては、フェノールが特に好ましい。
【０２１５】
前記（２）分子間の凝集力を制御する構造としては、炭素数８以上の長鎖炭化水素基が好ましく、該炭素数は１１以上がより好ましく、また炭素数の上限としては、４０以下が好ましく、３０以下がより好ましい。
【０２１６】
前記可逆性顕色剤の中でも、下記一般式（１）で表されるフェノール化合物が好ましく、下記一般式（２）で表されるフェノール化合物がより好ましい。
【０２１７】
【化１】
【０２１８】
【化２】
ただし、前記一般式（１）及び（２）中、Ｒ１は、単結合又は炭素数１〜２４の脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ２は、置換基を有していてもよい炭素数２以上の脂肪族炭化水素基を表し、該炭素数としては、５以上が好ましく、１０以上がより好ましい。Ｒ３は、炭素数１〜３５の脂肪族炭化水素基を表し、該炭素数としては、６〜３５が好ましく、８〜３５がより好ましい。これらの脂肪族炭化水素基は、１種単独で有していてもよいし、２種以上を併用して有していてもよい。
【０２１９】
前記Ｒ１、前記Ｒ２、及び前記Ｒ３の炭素数の和としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、下限としては、８以上が好ましく、１１以上がより好ましく、上限としては、４０以下が好ましく、３５以下がより好ましい。
【０２２０】
前記炭素数の和が、８未満であると、発色の安定性や消色性が低下することがある。
【０２２１】
前記脂肪族炭化水素基は、直鎖であってもよいし、分枝鎖であってもよく、不飽和結合を有していてもよいが、直鎖であるのが好ましい。また、前記炭化水素基に結合する置換基としては、例えば、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基等が挙げられる。
【０２２２】
Ｘ及びＹは、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、Ｎ原子又はＯ原子を含む２価の基を表し、具体例としては、酸素原子、アミド基、尿素基、ジアシルヒドラジン基、シュウ酸ジアミド基、アシル尿素基等が挙げられる。これらの中でも、アミド基、尿素基が好ましい。
【０２２３】
ｎは、０〜１の整数を示す。
【０２２４】
前記電子受容性化合物（顕色剤）は、消色促進剤として分子中に−ＮＨＣＯ−基、−ＯＣＯＮＨ−基を少なくとも一つ以上有する化合物を併用することにより、消色状態を形成する過程において消色促進剤と顕色剤の間に分子間相互作用が誘起され、発消色特性が向上するので好ましい。
【０２２５】
前記消色促進剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０２２６】
前記熱可逆記録層には、バインダー樹脂、更に必要に応じて熱可逆記録層の塗布特性や発色消色特性を改善、制御するための各種添加剤を用いることができる。これらの添加剤としては、例えば、界面活性剤、導電剤、充填剤、酸化防止剤、光安定化剤、発色安定化剤、消色促進剤などが挙げられる。
−−バインダー樹脂−−
前記バインダー樹脂としては、支持体上に熱可逆記録層を結着することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、従来から公知の樹脂の中から１種又は２種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、繰り返し時の耐久性を向上させるため、熱、紫外線、電子線などによって硬化可能な樹脂が好ましく用いられ、特にイソシアネート系化合物などを架橋剤として用いた熱硬化性樹脂が好適である。該熱硬化性樹脂としては、例えば、水酸基やカルボキシル基等の架橋剤と反応する基を持つ樹脂、又は水酸基やカルボキシル基等を持つモノマーとそれ以外のモノマーを共重合した樹脂などが挙げられる。このような熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリエステルポリオール樹脂、ポリウレタンポリオール樹脂、等が挙げられる。これらの中でも、アクリルポリオール樹脂、ポリエステルポリオール樹脂、ポリウレタンポリオール樹脂が特に好ましい。
【０２２７】
前記熱可逆記録層中における前記発色剤とバインダー樹脂との混合割合（質量比）は、発色剤１に対して０．１〜１０が好ましい。バインダー樹脂が少なすぎると、前記熱可逆記録層の熱強度が不足することがあり、一方、バインダー樹脂が多すぎると、発色濃度が低下して問題となることがある。
【０２２８】
前記架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イソシアネート類、アミノ樹脂、フェノール樹脂、アミン類、エポキシ化合物、等が挙げられる。これらの中でも、イソシアネート類が好ましく、特に好ましくはイソシアネート基を複数持つポリイソシアネート化合物である。
【０２２９】
前記架橋剤のバインダー樹脂に対する添加量としては、特に制限はないが、バインダー樹脂中に含まれる活性基の数に対する架橋剤の官能基の比は０．０１〜２が好ましい。これ以下では熱強度が不足してしまい、また、これ以上添加すると発色及び消色特性に悪影響を及ぼす。
【０２３０】
更に、架橋促進剤としてこの種の反応に用いられる触媒を用いてもよい。
【０２３１】
前記熱架橋した場合の熱硬化性樹脂のゲル分率としては、特に制限はなく、３０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、７０％以上が特に好ましい。前記ゲル分率が３０％未満であると、架橋状態が十分でなく耐久性に劣ることがある。
【０２３２】
前記バインダー樹脂が架橋状態にあるのか非架橋状態にあるのかを区別する方法としては、例えば、塗膜を溶解性の高い溶媒中に浸すことによって区別することができる。即ち、非架橋状態にあるバインダー樹脂は、溶媒中に該樹脂が溶けだし溶質中には残らなくなる。
【０２３３】
前記熱可逆記録層におけるその他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、画像の記録を容易にする観点から、界面活性剤、可塑剤などが挙げられる。
【０２３４】
前記熱可逆記録層用塗液に用いられる溶媒、塗液の分散装置、塗工方法、乾燥・硬化方法等は公知の方法を用いることができる。
【０２３５】
なお、熱可逆記録層用塗布液は前記分散装置を用いて各材料を溶媒中に分散してもよいし、各々単独で溶媒中に分散して混ぜ合わせてもよい。更に加熱溶解して急冷又は徐冷によって析出させてもよい。
【０２３６】
前記熱可逆記録層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）前記樹脂、及び前記ロイコ染料及び可逆性顕色剤を溶媒中に溶解乃至分散させた熱可逆記録層用塗布液を支持体上に塗布し、該溶媒を蒸発させてシート状等にするのと同時に又はその後に架橋する方法、（２）前記樹脂のみを溶解した溶媒に前記ロイコ染料及び可逆性顕色剤を分散させた熱可逆記録層用塗布液を支持体上に塗布し、該溶媒を蒸発させてシート状等にすると同時に又はその後に架橋する方法、（３）溶媒を用いず、前記樹脂と前記ロイコ染料及び可逆性顕色剤とを加熱溶融して互いに混合し、この溶融混合物をシート状等に成形して冷却した後に架橋する方法、などが好適に挙げられる。なお、これらにおいて、前記支持体を用いることなく、シート状の熱可逆記録媒体として成形することもできる。
【０２３７】
前記（１）又は（２）において用いる溶剤としては、前記樹脂及び前記ロイコ染料及び可逆性顕色剤の種類等によって異なり一概には規定することはできないが、例えば、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、四塩化炭素、エタノール、トルエン、ベンゼンなどが挙げられる。
【０２３８】
なお、前記可逆性顕色剤は、前記熱可逆記録層中では粒子状に分散して存在している。
【０２３９】
前記熱可逆記録層用塗布液には、コーティング材料用としての高度な性能を発現させる目的で、各種顔料、消泡剤、顔料、分散剤、スリップ剤、防腐剤、架橋剤、可塑剤等を添加してもよい。
【０２４０】
前記熱可逆記録層の塗工方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ロール状で連続して、又はシート状に裁断した支持体を搬送し、該支持体上に、例えば、ブレード塗工、ワイヤーバー塗工、スプレー塗工、エアナイフ塗工、ビード塗工、カーテン塗工、グラビア塗工、キス塗工、リバースロール塗工、ディップ塗工、ダイ塗工等公知の方法で塗布する。
【０２４１】
前記熱可逆記録層用塗布液の乾燥条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、室温〜１４０℃の温度で、１０秒間〜１０分間程度、などが挙げられる。
【０２４２】
前記熱可逆記録層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１μｍ〜２０μｍが好ましく、３μｍ〜１５μｍがより好ましい。前記熱可逆記録層の厚みが薄すぎると発色濃度が低くなるため画像のコントラストが低くなることがあり、一方、厚すぎると層内での熱分布が大きくなり、発色温度に達せず発色しない部分が発生し、希望とする発色濃度を得ることができなくなることがある。
−光熱変換層−
前記光熱変換層は、前記レーザ光を高効率で吸収し発熱する役割を有する光熱変換材料を少なくとも含有してなる。また熱可逆記録層と光熱変換層の間に両層が相互作用を抑制する目的でバリア層を形成することがあり、材料として熱伝導性のよい層が好ましい。前記熱可逆記録層と光熱変換層の間に挟む層は、目的に応じて適宜選択することができ、これらに限定されるものではない。
【０２４３】
前記光熱変換材料は、無機系材料と有機系材料とに大別できる。
【０２４４】
前記無機系材料としては、例えば、カーボンブラックやＧｅ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｃｒ等の金属又は半金属及びそれを含む合金が挙げられ、これらは、真空蒸着法や粒子状の材料を樹脂等で接着して層状に形成される。
【０２４５】
前記有機系材料としては、吸収すべき光波長に応じて各種の染料を適宜用いることができるが、光源として半導体レーザを用いる場合には、７００ｎｍ〜１，５００ｎｍの波長範囲内に吸収ピークを有する近赤外吸収色素が用いられる。具体的には、シアニン色素、キノン系色素、インドナフトールのキノリン誘導体、フェニレンジアミン系ニッケル錯体、フタロシアニン系化合物などが挙げられる。繰返し画像処理を行うためには、耐熱性に優れた光熱変換材料を選択するのが好ましく、この点からフタロシアニン系化合物が特に好ましい。
【０２４６】
前記近赤外吸収色素は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２４７】
前記光熱変換層を設ける場合には、通常、前記光熱変換材料は、樹脂と併用して用いられる。該光熱変換層に用いられる樹脂としては、特に制限はなく、前記無機系材料及び有機系材料を保持できるものであれば、公知のものの中から適宜選択することができるが、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などが好ましく、前記記録層で用いられたバインダー樹脂と同様なものを好適に用いることができる。これらの中でも、繰り返し時の耐久性を向上させるため、熱、紫外線、電子線などによって硬化可能な樹脂が好ましく用いられ、特にイソシアネート系化合物などを架橋剤として用いた熱架橋樹脂が好ましい。前記バインダー樹脂において、その水酸基価は５０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
【０２４８】
前記光熱変換層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。
−第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層−
第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層（以下、単に酸素バリア層と称することがある）としては、熱可逆記録層に酸素が進入することを防ぐことにより、前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層中のロイコ染料の光劣化を防止する目的で、第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層の上下に酸素バリア層を設けることが好ましい。即ち、支持体と第１の熱可逆記録層との間に第１の酸素バリア層を設け、第２の熱可逆記録層上に第２の酸素バリア層を設けることが好ましい。
【０２４９】
前記第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層の形成材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、可視部の透過率が大きく、酸素透過度が低い樹脂又は高分子フィルム等が挙げられる。該酸素バリア層は、その用途、酸素透過性、透明性、塗工のしやすさ、接着性等によって選択される。
【０２５０】
前記酸素バリア層の具体例としては、ポリアクリル酸アルキルエステル、ポリメタクリル酸アルキルエステル、ポリメタクリロニトリル、ポリアルキルビニルエステル、ポリアルキルビニルエーテル、ポリフッ素化ビニル、ポリスチレン、酢酸ビニル共重合体、酢酸セルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、アセトニトリル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、ポリ（クロロトリフルオロエチレン）、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン−６及びポリアセタール等の樹脂、又はポリエチレンテレフタレートやナイロン等の高分子フィルム上に無機酸化物を蒸着したシリカ蒸着フィルム、アルミナ蒸着フィルム、シリカ／アルミナ蒸着フィルムなどが挙げられる。これらの中でも高分子フィルム上に無機酸化物を蒸着したフィルムが好ましい。
【０２５１】
前記酸素バリア層の酸素透過度としては、特に制限はないが、２０ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａ以下が好ましく、５ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａ以下がより好ましく、１ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａ以下が特に好ましい。前記酸素透過度が、２０ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａを超えると、前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層中のロイコ染料の光劣化を抑制できないことがある。
【０２５２】
前記酸素透過度は、例えばＪＩＳ Ｋ７１２６ Ｂ法に準じた測定法により測定することができる。
【０２５３】
前記酸素バリア層は前記熱可逆記録層の下側又は支持体の裏面など、前記酸素バリア層で熱可逆記録層を挟み込むように設けることもできる。これにより、熱可逆記録層への酸素侵入をより効果的に防ぐことができ、ロイコ染料の光劣化をより少なくすることができる。
【０２５４】
前記第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、溶融押出し法、コーティング法、ラミネート法、などが挙げられる。
【０２５５】
前記第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層の厚みは、樹脂又は高分子フィルムの酸素透過性によって異なるが、０．１μｍ〜１００μｍが好ましい。これより薄いと酸素バリアが不完全であり、厚いと透明性が低下するので好ましくない。
【０２５６】
前記酸素バリア層と下層の間には、接着層を設けてもよい。前記接着層の形成方法は、特に制限なく通常のコーティング法、ラミネート法等を挙げることができる。接着層の厚さは特に制限ないが、０．１μｍ〜５μｍが好ましい。前記接着層は、架橋剤により硬化してもよい。これらは前記熱可逆記録層で用いられたものと同様のものを好適に用いることができる。
−保護層−
本発明の熱可逆記録媒体には、前記熱可逆記録層を保護する目的で該熱可逆記録層上に保護層を設けることが好ましい。該保護層は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１層以上に形成してもよく、露出している最表面に設けることが好ましい。
【０２５７】
前記保護層は、バインダー樹脂、更に必要に応じて、フィラー、滑剤、着色顔料等のその他の成分を含有してなる。
【０２５８】
前記保護層のバインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、熱硬化性樹脂が特に好ましい。
【０２５９】
前記ＵＶ硬化性樹脂は、硬化後非常に硬い膜を形成することができ、表面の物理的な接触によるダメージやレーザ加熱による媒体変形を抑止することができるため繰り返し耐久性に優れた熱可逆記録媒体が得られる。
【０２６０】
また、前記熱硬化性樹脂は、前記ＵＶ硬化性樹脂にはやや劣るが同様に表面を硬くすることができ、繰り返し耐久性に優れる。
【０２６１】
前記ＵＶ硬化性樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ビニル系、不飽和ポリエステル系のオリゴマーや各種単官能、多官能のアクリレート、メタクリレート、ビニルエステル、エチレン誘導体、アリル化合物等のモノマーが挙げられる。これらの中でも、４官能以上の多官能性のモノマー又はオリゴマーが特に好ましい。これらのモノマー又はオリゴマーを２種類以上混合することで樹脂膜の硬さ、収縮度、柔軟性、塗膜強度等を適宜調節することができる。
【０２６２】
また、前記モノマー又はオリゴマーを、紫外線を用いて硬化させるためには、光重合開始剤、光重合促進剤を用いる必要がある。
【０２６３】
前記光重合開始剤又は光重合促進剤の添加量としては、特に制限はないが、前記保護層の樹脂成分の全質量に対し０．１質量％〜２０質量％が好ましく、１質量％〜１０質量％がより好ましい。
【０２６４】
前記紫外線硬化樹脂を硬化させるための紫外線照射としては、公知の紫外線照射装置を用いて行うことができ、該装置としては、例えば、光源、灯具、電源、冷却装置、搬送装置等を備えたものが挙げられる。
【０２６５】
前記光源としては、例えば水銀ランプ、メタルハライドランプ、カリウムランプ、水銀キセノンランプ、フラッシュランプなどが挙げられる。該光源の波長は、前記熱可逆記録媒体用組成物に添加されている光重合開始剤及び光重合促進剤の紫外線吸収波長に応じて適宜選択することができる。
【０２６６】
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記樹脂を架橋するために必要な照射エネルギーに応じてランプ出力、搬送速度等を決めればよい。
【０２６７】
また、搬送性を良好にするため、重合性基を持つシリコーン、シリコーングラフトをした高分子；ワックス、ステアリン酸亜鉛等の離型剤；シリコーンオイル等の滑剤を添加することができる。これらの添加量としては、保護層の樹脂成分全質量に対して０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、０．１質量％〜４０質量％がより好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、静電気対策として導電性フィラーを用いることが好ましく、針状導電性フィラーを用いることが特に好ましい。
【０２６８】
前記無機顔料の粒径としては、特に制限はないが、例えば、０．０１μｍ〜１０．０μｍが好ましく、０．０５μｍ〜８．０μｍがより好ましい。前記無機顔料の添加量としては、前記耐熱性樹脂１質量部に対し、０．００１質量部〜２質量部が好ましく、０．００５質量部〜１質量部がより好ましい。
【０２６９】
なお、前記保護層には、添加剤として従来公知の界面活性剤、レベリング剤、帯電防止剤等を含有していてもよい。
【０２７０】
また、前記熱硬化性樹脂としては例えば、前記熱可逆記録層で用いられたバインダー樹脂と同様なものを好適に用いることができる。
【０２７１】
前記熱硬化性樹脂は架橋されていることが好ましい。従って熱硬化性樹脂としては、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基等のような、硬化剤と反応する基を有しているものを用いることが好ましく、特に水酸基を有しているポリマーが好ましい。該紫外線吸収構造を持つポリマー含有層の強度を向上させるためには該ポリマーの水酸基価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーを用いると十分な塗膜強度が得られ、より好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、更に好ましくは４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。十分な塗膜強度を持たせることで繰り返し画像記録・消去を行っても熱可逆記録媒体の劣化が抑えることができる。
【０２７２】
前記硬化剤としては、特に制限はなく、例えば、前記熱可逆記録層で用いられた硬化剤と同様なものを好適に用いることができる。
【０２７３】
前記保護層の塗液に用いられる溶媒、塗液の分散装置、保護層の塗工方法、乾燥方法等としては、特に制限はなく前記記録層で用いられた公知の方法を用いることができる。紫外線硬化樹脂を用いた場合には塗布して乾燥を行った紫外線照射による硬化工程が必要となるが、紫外線照射装置、光源、照射条件については前記の通りである。
【０２７４】
前記保護層の厚みとしては、特に制限はないが、０．１μｍ〜２０μｍが好ましく、０．５μｍ〜１０μｍがより好ましく、１．５μｍ〜６μｍが特に好ましい。前記厚みが０．１μｍ未満であると、熱可逆記録媒体の保護層としての機能を十分に果たすことができず、熱による繰り返し履歴によりすぐに劣化し、繰り返し使用することができなくなってしまうことがあり、２０μｍを超えると、保護層の下層にある感熱に十分な熱を伝えることができなくなり、熱による画像記録と消去が十分にできなくなってしまうことがある。
−紫外線吸収層−
前記熱可逆記録媒体としては、前記熱可逆記録層中のロイコ染料の紫外線による着色及び光劣化による消え残りを防止する目的で、支持体と反対側に位置する熱可逆記録層の支持体とは反対側に紫外線吸収層を設けることが好ましく、これによって前記記録媒体の耐光性が改善できる。紫外線吸収層は３９０ｎｍ以下の紫外線を吸収するように、紫外線吸収層の厚みを適宜選択することが好ましい。
【０２７５】
前記紫外線吸収層は、少なくともバインダー樹脂と紫外線吸収剤を含有し、更に必要に応じて、フィラー、滑剤、着色顔料等のその他の成分を含有してなる。
【０２７６】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記熱可逆記録層のバインダー樹脂や熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の樹脂成分を用いることができる。該樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドなどが挙げられる。
【０２７７】
前記紫外線吸収剤としては、有機系及び無機系化合物のいずれでも用いることができる。
【０２７８】
また、紫外線吸収構造を持つポリマー（以下、「紫外線吸収ポリマー」と称することもある）を用いることが好ましい。
【０２７９】
ここで、前記紫外線吸収構造を持つポリマーとは、紫外線吸収構造（例えば、紫外線吸収性基）を分子中に有するポリマーを意味する。該紫外線吸収構造としては、例えば、サリシレート構造、シアノアクリレート構造、ベンゾトリアゾール構造、ベンゾフェノン構造などが挙げられ、これらの中でも、ロイコ染料の光劣化の原因である３４０〜４００ｎｍの紫外線を吸収することからベンゾトリアゾール構造、ベンゾフェノン構造が特に好ましい。
【０２８０】
前記紫外線吸収ポリマーは架橋されていることが好ましい。従って紫外線吸収ポリマーとしては、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基等のような、硬化剤と反応する基を有しているものを用いることが好ましく、特に水酸基を有しているポリマーが好ましい。該紫外線吸収構造を持つポリマー含有層の強度を向上させるためには該ポリマーの水酸基価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のポリマーを用いると十分な塗膜強度が得られ、より好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、更に好ましくは４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。十分な塗膜強度を持たせることで繰り返し消去印字を行っても記録媒体の劣化が抑えることができる。
【０２８１】
前記紫外線吸収層の厚みとしては、特に制限はないが、０．１μｍ〜３０μｍが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍがより好ましい。前記紫外線吸収層の塗液に用いられる溶媒、塗液の分散装置、紫外線吸収層の塗工方法、紫外線吸収層の乾燥・硬化方法等は、前記熱可逆記録層で用いられた公知の方法を用いることができる。
−中間層−
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はないが、前記熱可逆記録層と前記保護層の接着性向上、保護層の塗布による熱可逆記録層の変質防止、保護層中の添加剤の熱可逆記録層への移行を防止する目的で、両者の間に中間層を設けることが好ましく、これによって発色画像の保存性が改善できる。
【０２８２】
前記中間層としては、特に制限はなく、少なくともバインダー樹脂を含有し、更に必要に応じて、フィラー、滑剤、着色顔料等のその他の成分を含有するものが挙げられる。
【０２８３】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記熱可逆記録層のバインダー樹脂や熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の樹脂成分を用いることができる。該樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドなどが挙げられる。
【０２８４】
また、前記中間層には、紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。該紫外線吸収剤としては、有機系及び無機系化合物のいずれでも用いることができる。
【０２８５】
また、紫外線吸収ポリマーを用いてもよく、架橋剤により硬化してもよい。これらは前記保護層で用いられたものと同様のものを好適に用いることができる。
【０２８６】
前記中間層の厚みは、０．１μｍ〜２０μｍが好ましく、０．５μｍ〜５μｍがより好ましい。前記中間層の塗液に用いられる溶媒、塗液の分散装置、中間層の塗工方法、中間層の乾燥・硬化方法等は、前記熱可逆記録層で用いられた公知の方法を用いることができる。
−アンダー層−
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はないが、印加した熱を有効に利用し高感度化するため、又は支持体と熱可逆記録層の接着性の改善や支持体への記録層材料の浸透防止を目的として、前記熱可逆記録層と前記支持体の間にアンダー層を設けてもよい。
【０２８７】
前記アンダー層としては、少なくとも中空粒子を含有してなり、バインダー樹脂、更に必要に応じてその他の成分を含有するものが挙げられる。
【０２８８】
前記中空粒子としては、中空部が粒子内に一つ存在する単一中空粒子、中空部が粒子内に多数存在する多中空粒子、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２８９】
前記中空粒子の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、熱可塑性樹脂などが好適に挙げられる。前記中空粒子は、適宜製造したものであってもよいし、市販品であってもよい。該市販品としては、例えば、マイクロスフェアーＲ−３００（松本油脂株式会社製）；ローペイクＨＰ１０５５、ローペイクＨＰ４３３Ｊ（いずれも、日本ゼオン株式会社製）；ＳＸ８６６（ＪＳＲ株式会社製）などが挙げられる。
【０２９０】
前記中空粒子の前記アンダー層における添加量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば１０質量％〜８０質量％が好ましい。
【０２９１】
前記バインダー樹脂としては、前記熱可逆記録層、又は前記紫外線吸収構造を持つポリマーを含有する層と同様の樹脂を用いることができる。
【０２９２】
前記アンダー層には、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化チタン、酸化ケイ素、水酸化アルミニウム、カオリン、タルク等の無機フィラー及び各種有機フィラーの少なくともいずれかを含有させることができる。
【０２９３】
なお、前記アンダー層には、その他、滑剤、界面活性剤、分散剤などを含有させることもできる。
【０２９４】
前記アンダー層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１μｍ〜５０μｍが好ましく、２μｍ〜３０μｍがより好ましく、１２μｍ〜２４μｍが特に好ましい。
−バック層−
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はなく、カール及び帯電防止、搬送性の向上のために支持体の熱可逆記録層を設ける面と反対側にバック層を設けてもよい。
【０２９５】
前記バック層としては、特に制限はなく、少なくともバインダー樹脂を含有し、更に必要に応じて、フィラー、導電性フィラー、滑剤、着色顔料等のその他の成分を含有するものが挙げられる。
【０２９６】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、等が挙げられ、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、熱硬化性樹脂が特に好ましい。
【０２９７】
前記紫外線硬化樹脂、前記熱硬化性樹脂、前記フィラー、前記導電性フィラー、及び前記滑剤については、前記熱可逆記録層、又は前記保護層で用いられたものと同様なものを好適に用いることができる。
−接着層又は粘着層−
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はなく、支持体の記録層形成面の反対面に接着剤層又は粘着剤層を設けて熱可逆記録ラベルとすることができる。前記接着剤層又は粘着剤層の材料は一般的に使われているものが使用可能である。
【０２９８】
前記接着剤層又は粘着剤層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、酢ビ系樹脂、酢酸ビニル−アクリル系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩素化ポリオレフィン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、アクリル酸エステル系共重合体、メタクリル酸エステル系共重合体、天然ゴム、シアノアクリレート系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。
【０２９９】
前記接着剤層又は粘着剤層の材料はホットメルトタイプでもよい。剥離紙を用いてもよいし、無剥離紙タイプでもよい。このように接着剤層又は粘着剤層を設けることにより、記録層の塗布が困難な磁気ストライプ付塩ビカードなどの厚手の基板の全面若しくは一部に貼ることができる。これにより磁気に記憶された情報の一部を表示することができる等、この媒体の利便性が向上する。このような接着剤層又は粘着剤層を設けた熱可逆記録ラベルは、ＩＣカードや光カード等の厚手カードにも適用できる。
【０３００】
前記熱可逆記録媒体としては、特に制限はなく、前記支持体と前記記録層との間に視認性を向上させる目的で、着色層を設けてもよい。
【０３０１】
前記着色層としては、特に制限はなく、着色剤及び樹脂バインダーを含有する溶液、又は分散液を対象面に塗布し、乾燥するか、あるいは単に着色シートを貼り合せることにより形成することができる。
【０３０２】
前記熱可逆記録媒体には、カラー印刷層を設けることもできる。前記カラー印刷層における着色剤としては、従来のフルカラー印刷に使用されるカラーインク中に含まれる各種の染料及び顔料等が挙げられ、前記樹脂バインダーとしては各種の熱可塑性、熱硬化性、紫外線硬化性又は電子線硬化性樹脂等が挙げられる。該カラー印刷層の厚みとしては、印刷色濃度に対して適宜変更されるため、所望の印刷色濃度に合わせて選択することができる。
【０３０３】
前記熱可逆記録媒体としては、非可逆性記録層を併用しても構わない。この場合、それぞれの記録層の発色色調は同じでも異なってもよい。また、本発明の熱可逆記録媒体の記録層と同一面の一部もしくは全面、又は／もしくは反対面の一部分に、オフセット印刷、グラビア印刷などの印刷、又はインクジェットプリンタ、熱転写プリンタ、昇華型プリンタなどによって任意の絵柄などを施した着色層を設けてもよく、更に着色層上の一部分もしくは全面に硬化性樹脂を主成分とするＯＰニス層を設けてもよい。前記任意の絵柄としては、文字、模様、図柄、写真、赤外線で検知する情報などが挙げられる。また、単純に構成する各層のいずれかに染料や顔料を添加して着色することもできる。
【０３０４】
前記熱可逆記録媒体として、セキュリティのためにホログラムを設けることもできる。また、意匠性付与のためにレリーフ状、インタリヨ状に凹凸を付けて人物像や社章、シンボルマーク等のデザインを設けることもできる。
【０３０５】
前記熱可逆記録媒体は、その用途に応じて所望の形状に加工することができ、例えば、カード状、タグ状、ラベル状、シート状、ロール状などに加工される。また、カード状に加工されたものについてはプリペイドカードやポイントカード、更にはクレジットカードなどへの応用が挙げられる。カードサイズよりも小さなタグ状のサイズでは値札等に利用できる。また、カードサイズよりも大きなタグ状のサイズでは工程管理や出荷指示書、チケット等に使用できる。ラベル状のものは貼り付けることができるために、様々な大きさに加工され、繰り返し使用する台車や容器、箱、コンテナ等に貼り付けて工程管理、物品管理等に使用することができる。また、カードサイズよりも大きなシートサイズでは画像記録する範囲が広くなるため一般文書や工程管理用の指示書等に使用することができる。
＜熱可逆記録部材 ＲＦ−ＩＤとの組み合わせ例＞
本発明で用いられる熱可逆記録部材は、前記可逆表示可能な記録層と情報記憶部とを、同一のカードやタグに設け（一体化させ）、該情報記憶部の記憶情報の一部を記録層に表示することにより、特別な装置がなくてもカードやタグを見るだけで情報を確認することができ、利便性に優れる。また、情報記憶部の内容を書き換えた時には熱可逆記録部の表示を書き換えることで、熱可逆記録媒体を繰り返し何度も使用することができる。
【０３０６】
前記情報記憶部としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、磁気記録層、磁気ストライプ、ＩＣメモリー、光メモリー、ＲＦ−ＩＤタグなどが好ましく用いられる。工程管理や物品管理等に使用する場合には特にＲＦ−ＩＤタグが好ましく用いられる。なお、前記ＲＦ−ＩＤタグはＩＣチップと、該ＩＣチップに接続したアンテナとから構成されている。
【０３０７】
前記熱可逆記録部材は、前記可逆表示可能な記録層と情報記憶部とを有し、該情報記憶部の好適なものとしてＲＦ−ＩＤタグが挙げられる。
【０３０８】
ここで、図１８は、ＲＦ−ＩＤタグ４８５の概略図の一例を示す。このＲＦ−ＩＤタグ４８５はＩＣチップ４８１と、該ＩＣチップに接続したアンテナ４８２とから構成されている。前記ＩＣチップ４８１は記憶部、電源調整部、送信部、受信部の４つに区分されており、それぞれが働きを分担して通信を行っている。通信はＲＦ−ＩＤタグとリーダライタのアンテナが電波により通信してデータのやり取りを行う。具体的には、ＲＦ−ＩＤのアンテナがリーダライタからの電波を受信し共振作用により電磁誘導により起電力が発生する電磁誘導方式と放射電磁界により起動する電波方式の２種類がある。共に外部からの電磁界によりＲＦ−ＩＤタグ内のＩＣチップが起動し、チップ内の情報を信号化し、その後、ＲＦ−ＩＤタグから信号を発信する。この情報をリーダライタ側のアンテナで受信してデータ処理装置で認識し、ソフト側でデータ処理を行う。
【０３０９】
前記ＲＦ−ＩＤタグはラベル状又はカード状に加工されており、ＲＦ−ＩＤタグを前記熱可逆記録媒体に貼り付けることができる。ＲＦ−ＩＤタグは記録層面又はバック層面に貼ることができるが、バック層面に貼ることが好ましい。ＲＦ−ＩＤタグと熱可逆記録媒体を貼り合わせるためには公知の接着剤又は粘着剤を使用することができる。
【０３１０】
また、熱可逆記録媒体とＲＦ−ＩＤをラミネート加工等で一体化してカード状やタグ状に加工してもよい。
＜画像記録及び画像消去のメカニズム＞
前記画像記録及び画像消去のメカニズムは、熱により色調が可逆的に変化する態様である。前記態様はロイコ染料及び可逆性顕色剤（以下、「顕色剤」と称することがある）からなり、色調が透明状態と発色状態とに熱により可逆的に変化する。
【０３１１】
図１９ａに、前記樹脂中に前記ロイコ染料及び前記顕色剤を含んでなる熱可逆記録層を有する熱可逆記録媒体について、その温度−発色濃度変化曲線の一例を示し、図１９ｂに、透明状態と発色状態とが熱により可逆的に変化する前記熱可逆記録媒体の発消色メカニズムを示す。
【０３１２】
まず、初め消色状態（Ａ）にある前記記録層を昇温していくと、溶融温度Ｔ１にて、前記ロイコ染料と前記顕色剤とが溶融混合し、発色が生じ溶融発色状態（Ｂ）となる。溶融発色状態（Ｂ）から急冷すると、発色状態のまま室温に下げることができ、発色状態が安定化されて固定された発色状態（Ｃ）となる。この発色状態が得られたかどうかは、溶融状態からの降温速度に依存しており、徐冷では降温の過程で消色が生じ、初期と同じ消色状態（Ａ）、あるいは急冷による発色状態（Ｃ）よりも相対的に濃度の低い状態となる。一方、発色状態（Ｃ）から再び昇温していくと、発色温度よりも低い温度Ｔ２にて消色が生じ（ＤからＥ）、この状態から降温すると、初期と同じ消色状態（Ａ）に戻る。
【０３１３】
溶融状態から急冷して得た発色状態（Ｃ）は、前記ロイコ染料と前記顕色剤とが分子同士で接触反応し得る状態で混合された状態であり、これは固体状態を形成していることが多い。この状態では、前記ロイコ染料と前記顕色剤との溶融混合物（前記発色混合物）が結晶化して発色を保持した状態であり、この構造の形成により発色が安定化していると考えられる。一方、消色状態は、両者が相分離した状態である。この状態は、少なくとも一方の化合物の分子が集合してドメインを形成したり、結晶化した状態であり、凝集あるいは結晶化することにより前記ロイコ染料と前記顕色剤とが分離して安定化した状態であると考えられる。多くの場合、このように、両者が相分離して前記顕色剤が結晶化することにより、より完全な消色が生じる。
【０３１４】
なお、図１９ａに示す、溶融状態から徐冷による消色、及び発色状態からの昇温による消色はいずれもＴ２で凝集構造が変化し、相分離や前記顕色剤の結晶化が生じている。
【０３１５】
更に図１９ａにおいて、前記記録層を溶融温度Ｔ１以上の温度Ｔ３に繰返し昇温すると消去温度に加熱しても消去できない消去不良が発生したりする場合がある。これは、前記顕色剤が熱分解を起こし、凝集あるいは結晶化しにくくなってロイコ染料と分離しにくくなるためと思われる。繰返しによる前記熱可逆記録媒体の劣化を抑えるためには、前記熱可逆記録媒体を加熱する際に図１９ａの前記溶融温度Ｔ１と前記温度Ｔ３の差を小さくすることにより、繰返しによる前記熱可逆記録媒体の劣化を抑えられる。
（画像処理装置）
本発明の画像処理装置は、本発明の前記描画制御方法に用いられ、レーザ光照射手段と、該レーザ光をレーザ光出射面に走査させるレーザ光走査手段とを少なくとも有し、更に必要に応じて適宜選択したその他の部材を有する。
【０３１６】
また、前記熱可逆記録媒体において、高効率でレーザ光を吸収するように、出射するレーザ光の波長を選択する必要がある。例えば本発明における熱可逆記録媒体はレーザ光を高効率で吸収し発熱する役割を有する光熱変換材料を少なくとも含有してなる。よって含有させる光熱変換材料が他材料に比べ最も高効率でレーザ光を吸収するように、出射するレーザ光の波長を選択する必要がある。
−レーザ光出射手段−
前記レーザ光出射手段から出射されるレーザ光の波長としては、７００ｎｍ以上が好ましく、７２０ｎｍ以上がより好ましく、７５０ｎｍ以上が特に好ましい。前記レーザ光の波長の上限としては、目的に応じて適宜選択することができるが、１，５００ｎｍ以下が好ましく、１，３００ｍｍ以下がより好ましく、１，２００ｎｍ以下が特に好ましい。
【０３１７】
レーザ光の波長を７００ｎｍより短い波長にすると、可視光領域では媒体の画像記録時のコントラストが低下したり、媒体が着色してしまうという問題がある。更に短い波長の紫外光領域では、媒体の劣化が起こりやすくなるという問題がある。また熱可逆記録媒体に添加する光熱変換材料には、繰返し画像処理に対する耐久性を確保するために高い分解温度を必要とし、光熱変換材料に有機色素を用いる場合、分解温度が高く吸収波長が長い光熱変換材料を得るのは難しい。これよりレーザ光の波長としては１，５００ｎｍ以下が好ましい。
【０３１８】
前記レーザ光出射手段としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えばＹＡＧレーザ、ファイバーレーザ、半導体レーザ（ＬＤ）が挙げられる。これらの中でも波長選択性が広いことで光熱変換材料の選択肢が増え、レーザ装置としては、レーザ光源自体が小さく、装置の小型化、更には低価格化が可能であるという点から、半導体レーザ光が特に好ましい。
【０３１９】
前記画像処理装置は、前記レーザ光出射手段を少なくとも有している以外、その基本構成としては、通常レーザマーカーと呼ばれるものと同様であり、発振器ユニット、電源制御ユニット、及びプログラムユニットを少なくとも備えている。
【０３２０】
ここで、図２０に、本発明で用いられる画像処理装置の一例についてレーザ照射ユニットを中心に示す。
【０３２１】
発振器ユニットは、レーザ発振器４０１、ビームエキスパンダ４０２、スキャンニングユニット５（レーザ光走査手段）などで構成されている。
【０３２２】
前記レーザ発振器４０１は、光強度が強く、指向性の高いレーザ光を得るために必要なものであり、例えば、レーザ媒質の両側にミラーを配置し、該レーザ媒質をポンピング（エネルギー供給）し、励起状態の原子数を増やし反転分布を形成させて誘導放出を起こさせる。そして、光軸方向の光のみが選択的に増幅されることにより、光の指向性が高まり出力ミラーからレーザ光が放出される。
【０３２３】
前記スキャンニングユニット５は、ガルバノメータ４０４と、該ガルバノメータ４０４に取り付けられたミラー４Ａとで構成されている。そして、前記レーザ発振器４０１から出力されたレーザ光を、前記ガルバノメータ４０４に取り付けられたＸ軸方向とＹ軸方向との２枚のミラー４Ａで高速回転走査することにより、熱可逆記録媒体４０７上に、画像の形成又は消去を行うようになっている。
【０３２４】
前記電源制御ユニットは、レーザ媒質を励起する光源の駆動電源、ガルバノメータの駆動電源、ペルチェ素子などの冷却用電源、画像処理装置全体の制御を司る制御部等などで構成されている。
【０３２５】
前記プログラムユニットは、タッチパネル入力やキーボード入力により、画像の記録又は消去のために、レーザ光の強さ、レーザ走査の速度等の条件入力や、記録する文字等の作製及び編集を行うユニットである。
【０３２６】
なお、前記レーザ照射ユニット、即ち、画像記録／消去用ヘッド部分は、画像処理装置に搭載されているが、該画像処理装置には、このほか、前記熱可逆記録媒体の搬送部及びその制御部、モニタ部（タッチパネル）等を有している。
【実施例】
【０３２７】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
（製造例１）
＜熱可逆記録媒体の製造＞
熱により色調が可逆的に変化する熱可逆記録媒体を、以下のようにして作製した。
−支持体−
支持体として、厚み１２５μｍの白濁ポリエステルフィルム（帝人デュポン株式会社製、テトロンフィルムＵ２Ｌ９８Ｗ）を用いた。
−第１の熱可逆記録層の形成−
下記構造式（１）で表される可逆性顕色剤５質量部、下記構造式（２）及び（３）で表される２種類の消色促進剤をそれぞれ０．５質量部ずつ、アクリルポリオール５０質量％
溶液（水酸基価＝２００ｍｇＫＯＨ／ｇ）１０質量部、及びメチルエチルケトン８０質量部を、ボールミルを用いて平均粒径が約１μｍになるまで粉砕分散した。
【０３２８】
【化３】
【０３２９】
【化４】
【０３３０】
【化５】
次に、前記可逆性顕色剤を粉砕分散させた分散液に、前記ロイコ染料としての２−アニリノ−３−メチル−６ジブチルアミノフルオラン１質量部、及びイソシアネート（日本ポリウレタン株式会社製、コロネートＨＬ）５質量部を加え、よく撹拌して、熱可逆記録層用塗布液を調製した。
【０３３１】
得られた熱可逆記録層用塗布液を、前記支持体上に、ワイヤーバーを用いて塗布し、１００℃にて２分間乾燥した後、６０℃にて２４時間キュアーを行って、厚み９．６μｍの第１の熱可逆記録層を形成した。
−光熱変換層の形成−
フタロシアニン系光熱変換材料（株式会社日本触媒製、ＩＲ−１４、吸収ピーク波長：８２４ｎｍ）１質量％溶液を４質量部、アクリルポリオール５０質量％溶液（水酸基価＝２００ｍｇＫＯＨ／ｇ）１０質量部、及びメチルエチルケトン２０質量部、架橋剤としてイソシアネート（商品名コロネートＨＬ、日本ポリウレタン株式会社製）５質量部をよく攪拌し、光熱変換層塗布液を調製した。得られた光熱変換層用塗布液を、前記第１の熱可逆記録層上に、ワイヤーバーを用いて塗布し、９０℃にて１分間乾燥した後、６０℃にて２４時間キュアーを行って、厚さ４μｍの光熱変換層を形成した。
−第２の熱可逆記録層の形成−
前記第１の熱可逆記録層と同じ熱可逆記録層用組成物を、前記光熱変換層上に、ワイヤーバーを用いて塗布し、１００℃にて２分間乾燥した後、６０℃にて２４時間キュアーを行って、厚み２．４μｍの第２の熱可逆記録層を形成した。
−紫外線吸収層の形成−
紫外線吸収ポリマーの４０質量％溶液（株式会社日本触媒製、ＵＶ−Ｇ３００）１０質量部、イソシアネート（日本ポリウレタン株式会社製、コロネートＨＬ）１．５質量部、及びメチルエチルケトン１２質量部を加え、よく攪拌して紫外線吸収層用塗布液を調製した。
【０３３２】
次に、前記第１の熱可逆記録層、前記光熱変換層、及び前記第２の熱可逆記録層が形成された支持体に、前記紫外線吸収層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、９０℃にて１分間加熱及び乾燥した後、６０℃にて２４時間加熱し、厚み２μｍの紫外線吸収層を形成した。
【０３３３】
ここでは、前記紫外線吸収層上、及び前記第１の熱可逆記録層と支持体との間に、以下のように下記の第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層を設けた。
−第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層の形成−
ウレタン系接着剤（東洋モートン株式会社製、ＴＭ−５６７）５質量部、イソシアネート（東洋モートン株式会社製、ＣＡＴ−ＲＴ−３７）０．５質量部、及び酢酸エチル５質量部を加え、よく攪拌して酸素バリア層用塗布液を調製した。
【０３３４】
次に、シリカ蒸着ＰＥＴフィルム（三菱樹脂株式会社製、テックバリアＨＸ、酸素透過度：０．５ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａ）上に、上記酸素バリア層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、８０℃にて１分間加熱及び乾燥した後、前記紫外線吸収層上、及び支持体上に貼合せ、５０℃にて２４時間加熱し、厚み１２μｍの第１の酸素バリア層及び第２の酸素バリア層を形成した。
−バック層の形成−
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）７．５質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業株式会社製、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ）２．５質量部、針状導電性酸化チタン（石原産業株式会社製、ＦＴ−３０００、長軸＝５．１５μｍ、短軸＝０．２７μｍ、構成：アンチモンドープ酸化スズ被覆の酸化チタン）２．５質量部、光重合開始剤（日本チバガイギー株式会社製、イルガキュア１８４）０．５質量部、及びイソプロピルアルコール１３質量部を加え、ボールミルにてよく攪拌してバック層用塗布液を調製した。
【０３３５】
次に、前記支持体における、前記各層が形成されていない側の面上に、前記バック層用塗布液をワイヤーバーにて塗布し、９０℃にて１分間加熱及び乾燥した後、８０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプで架橋させて、厚み４μｍのバック層を形成した。以上により、製造例１における熱可逆記録媒体を製造した。
（製造例２）
＜熱可逆記録媒体の製造＞
製造例１において、光熱変換材料として、フタロシアニン系光熱変換材料１質量％溶液を４質量部添加することに代えてシアニン系光熱変換材料（株式会社山本化成製、ＹＫＲ−２９００、吸収ピーク波長：８３０ｎｍ）０．５質量％溶液を２質量部添加した光熱変換層用塗布液を用いたこと以外は、製造例１と同様にして、製造例２における熱可逆記録媒体を製造した。なお、シアニン系光熱変換材料（株式会社山本化成製、ＹＫＲ−２９００）の添加量は、製造例１と同様の感度になる添加量とした。
−ベタ画像印字（画像記録）−
（実施例１）
製造例１における熱可逆記録媒体に対して、ＱＰＣ社製ファイバ結合ＬＤ（半導体レーザ）のＥＳ-６２００-Ａ（中心波長：８０８ｎｍ）でレーザ光照射して、２枚のコリメータレンズ（焦点距離２６ｍｍ）で平行光にして、Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ社製ガルバノスキャナー６２３０Ｈでレーザ光を走査させて、ｆθレンズ（焦点距離１４１ｍｍ）で媒体上に集光させるＬＤマーカー装置で画像記録を行った。ワーク間距離を１４１ｍｍ（ビーム径０．６５ｍｍ）、線速２，５００ｍｍ／ｓとなるように調整して、図２１ａに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を４本、Ｂ方向の描画線を６本、Ｃ方向の描画線を３本）により、Ａ方向の描画線と隣接するＣ方向の描画線とのピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線に対するＣ方向の描画線の傾け量０．０９ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ１０ｍｍとしてベタ画像を記録して、実施例１における画像記録を行った。レーザ光の照射パワーは画像濃度が飽和する時のパワーを選択している。
【０３３６】
（実施例２）
実施例１において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて、図２１ｂに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を４本、Ｃ方向の描画線を３本、Ｂ方向には描画しない）により、Ａ方向の描画線と隣接するＣ方向の描画線とのピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線に対するＣ方向の描画線の傾け量０．０９ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ１０ｍｍとしてベタ画像を記録したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２における画像記録を行った。
（実施例３）
実施例２において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．０９ｍｍから０．０４５ｍｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例３における画像記録を行った。
（実施例４）
実施例２において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．０９ｍｍから０．１５５ｍｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例４における画像記録を行った。
（実施例５）
実施例２において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．０９ｍｍから０．０２ｍｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例５における画像記録を行った。
（実施例６）
実施例２において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．０９ｍｍから０．１８ｍｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例６における画像記録を行った。
（実施例７）
実施例２において、図２１ｂに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を４本、Ｃ方向の描画線を３本、Ｂ方向には描画しない）により、Ａ方向の描画線の１本目の照射パワーを他の描画線に対して１０％高く設定したこと以外は、実施例２と同様にして、実施例７における画像記録を行った。このときの１本目の照射パワーは２１．０Ｗで２本目以降の照射パワーは１９．１Ｗであった。
（実施例８）
実施例２において、製造例１における熱可逆記録媒体に代えて製造例２における熱可逆記録媒体を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例８における画像記録を行った。
（比較例１）
実施例１において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ａに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を７本、Ｂ方向の描画線を６本、Ｃ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線間の描画線長さ２０ｍｍとしてベタ画像を記録したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１における画像記録を行った。
（比較例２）
実施例１において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ｂに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を７本、Ｂ方向及びＣ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線間の描画線長さ２０ｍｍとしてベタ画像を記録したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例２における画像記録を行った。
（比較例３）
実施例１において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ｃに示すレーザ光走査方法（Ａ方向の描画線を７本、Ｂ方向及びＣ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．２０ｍｍ、Ａ方向の描画線間の描画線長さ２０ｍｍとしてベタ画像を記録したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例３における画像記録を行った。
−画像消去−
（実施例９）
製造例１における熱可逆記録媒体のベタ画像印字領域に対して、ＬＤマーカー装置で、走査速度１，０００ｍｍ／ｓ、ワーク間距離を１８０ｍｍに設定して（ビーム径３．０ｍｍ）、図２１ａに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を１４本、Ｂ方向の描画線を２７本、Ｃ方向に描画線を１４本とする）により、Ａ方向の描画線と隣接するＣ方向の描画線とのピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線に対するＣ方向の描画線の傾け量０．２４ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとして、実施例９における画像消去を行った。
（実施例１０）
実施例９において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２１ｂに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を１４本、Ｃ方向に描画線を１４本、Ｂ方向には描画しない）により、Ａ方向の描画線と隣接するＣ方向の描画線とのピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線に対するＣ方向の描画線の傾け量０．２４ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとして画像消去を行ったこと以外は、実施例９と同様にして、実施例１０における画像消去を行った。
（実施例１１）
実施例１０において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．２４ｍｍから０．１３ｍｍに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１１おける画像消去を行った。
（実施例１２）
実施例１０において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．２４ｍｍから０．４６ｍｍに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１２おける画像消去を行った。
（実施例１３）
実施例１０において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．２４ｍｍから０．０８ｍｍに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１３おける画像消去を行った。
（実施例１４）
実施例１０において、Ｃ方向の描画線の傾け量を０．２４ｍｍから０．５４ｍｍに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１４おける画像消去を行った。
（比較例４）
実施例９において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ａに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を２８本、Ｂ方向の描画線を２７本、Ｃ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとしてレーザ光を照射して画像消去を行ったこと以外は、実施例９と同様にして、比較例４における画像消去を行った。
（比較例５）
実施例９において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ｂに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を２８本、Ｂ方向及びＣ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとしてレーザ光を照射して画像消去を行ったこと以外は、実施例９と同様にして、比較例５における画像消去を行った。
（比較例６）
実施例９において、図２１ａに示すレーザ光走査方法に代えて図２２ｃに示すレーザ光走査方法（ただし、Ａ方向の描画線を２８本、Ｂ方向及びＣ方向には描画しない）により、隣接するＡ方向の描画線間のピッチ幅０．６ｍｍ、Ａ方向の描画線長さ４０ｍｍとしてレーザ光を照射して画像消去を行ったこと以外は、実施例９と同様にして、比較例６における画像消去を行った。
−画像印字、及び繰返し耐久性の評価−
実施例１〜８及び比較例１〜３における画像記録に関し、ベタ画像の印字時間及び画像濃度が飽和する時のレーザ光照射パワーを下記表１に示す。
【０３３７】
また、実施例１〜８及び比較例１〜３における画像記録後に、比較例６における画像消去方法で消去パワー中心にて画像消去を行い、画像記録及び画像消去からなる画像処理を繰返し行った。該画像処理の画像記録時のベタ画像濃度が１．３以下となるときの、または、該画像処理の画像消去時の消え残り濃度が０．０２０を超えたときの繰返し回数を、繰返し耐久性の評価結果として、下記表１に示す。
【０３３８】
なお、ベタ画像の濃度、消え残り濃度の測定は、グレースケール（Ｋｏｄａｋ社製）をスキャナー（キャノン株式会社製、Ｃａｎｏｓｃａｎ４４００）で取り込み、得られたデジタル階調値と反射濃度計（マクベス社製、ＲＤ−９１４）で測定した濃度値との間で相関を取り、記録した画像及び消去した消去部を前記スキャナーで取り込んで得られたデジタル階調値を濃度値に変換して行い、濃度値を求めた。
【０３３９】
【表１】
−画像消去特性−
実施例２における画像記録により形成されたベタ画像印字領域に対して、実施例９〜１４及び比較例４〜６におけるそれぞれの画像消去条件をもとに、レーザ光の照射パワー（Ｗ）を低いパワーから高いパワーに順次変更して画像消去を行い、消去時間、消去パワー中心、及び消去幅を求めた。結果を下記表２に示す。
【０３４０】
なお、消去パワー中心は、ベタ画像を消去した後の地肌濃度が該ベタ画像を形成する前の地肌濃度に対して＋０．０２以下になるときのレーザ光の照射パワーを消去パワーとし、該消去パワーの最大値と最小値との平均値と定義する。また、消去幅は、（最大値−最小値）／（最大値＋最小値）と定義する。ここで、地肌濃度の測定は、ベタ画像の濃度、消え残り濃度の測定と同様にして行った。
【０３４１】
【表２】
以上、本発明の例示的な実施の形態の描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【０３４２】
本発明の描画制御方法は、ベタ画像等の画像記録方法、及び画像消去方法として、印字品質よく、繰り返し耐久性に優れた画像を得ることができ、短時間に処理を行うことができ、ベタ画像、バーコード・ＱＲコード印字、文字の太線印字等に応用することができるため、物流及び配送システムに用いられる記録媒体に対する描画制御方法として、特に好適に使用可能である。
【符号の説明】
【０３４３】
１ レーザ照射装置
２ レーザ装置
３ 走査装置
４、２０４ 描画制御装置
１１ Ｘ軸ガルバノミラー
１２ Ｙ軸ガルバノミラー
１３ ｆθレンズ
１４ ガルバノメータ
１５ ガルバノメータ
１６ Ｘ軸サーボドライバ
１７ Ｙ軸サーボドライバ
２０ ホストインターフェース部
３０、２３０ 描画データ生成部
３１ 描画位置決定部
３２ 描画順決定部
３３ レーザ出力調整部
３４ 描画速度調整部
４０ 制御データ生成部
５０ 制御データ出力部
６０ ガルバノミラー制御信号生成部
７０ レーザ出力制御信号生成部
８０ レーザ発光制御信号生成部
９０ 照射部
１００ リライタブル媒体
２００ ホストコンピュータ
２３５ 描画位置変更部
４０１ レーザ発振器
４０２ ビームエキスパンダ
４０３ マスクまたは非球面レンズ
４０４ ガルバノメータ
４０４Ａ ガルバノミラー
４０５ スキャニングユニット
４０６ ｆθレンズ
４０７ 熱可逆記録媒体
４１１、４２１、４３１、４５１ 第１のレーザ光描画線
４１２、４２２、４３２、４５２ 第２のレーザ光描画線
４８１ ＩＣチップ
４８２ アンテナ
４８５ ＲＦ−ＩＤタグ
５００ 熱可逆記録媒体
５０１ 支持体
５０２ 第１の熱可逆記録層
５０３ 光熱変換層
５０４ 第２の熱可逆記録層
５０５ 第１の酸素バリア層
５０６ 第２の酸素バリア層
５０７ 紫外線吸収層
５０８ バック層
【先行技術文献】
【特許文献】
【０３４４】
【特許文献１】特開２００８−６２５０６号公報
【特許文献２】特開２００４−２６５２４７号公報
【特許文献３】特許第３９９８１９３号公報
【特許文献４】特許第３１６１１９９号公報
【特許文献５】特開平９−３０１１８号公報
【特許文献６】特開２０００−１３６０２２号公報
【特許文献７】特開平１１−１５１８５６号公報
【特許文献８】特開２００８−２１３４３９号公報
【特許文献９】特許第３５５７５１２号
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置を制御する描画制御装置であって、
前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、
相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定手段と、
前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整手段と、
前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段と
を含む、描画制御装置。
【請求項２】
前記調整手段は、前記各行の始点から終点の間を複数の単位線分に分け、前記単位線分毎に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、請求項１に記載の描画制御装置。
【請求項３】
前記調整手段は、前記他の行の前記始点から前記終点にかけて、前記熱可逆記録媒体に描画を行う速度を低下させることにより、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、請求項１又は２に記載の描画制御装置。
【請求項４】
前記調整手段は、前記他の行の前記始点から前記終点にかけて、前記描画装置が前記熱可逆記録媒体に照射する前記レーザのレーザ出力を増大させることにより、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、請求項１又は２に記載の描画制御装置。
【請求項５】
前記調整手段は、第１の始点から第１の終点に第１のレーザ光描画線を描画し、第２の始点から該第１のレーザ光描画線と平行な線に対して前記第１の始点側に傾く方向の線上に位置する第２の終点に向けて、前記第１のレーザ光描画線に隣接する第２のレーザ光描画線を描画することにより、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する、請求項１に記載の描画制御装置。
【請求項６】
第３の始点から第２のレーザ光描画線と平行な線に対して第２の始点側に傾く方向の線上に位置する第３の終点に向けて、前記第２のレーザ光描画線に隣接する第３のレーザ光描画線を描画する請求項５に記載の描画制御装置。
【請求項７】
一のレーザ光描画線の終点と該レーザ光描画線に隣接する他のレーザ光描画線の始点との間においてレーザ光を照射しない請求項５から６のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項８】
一のレーザ光描画線の終点から該レーザ光描画線と直交する方向の線上に他のレーザ光描画点の始点が位置する請求項５から７のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項９】
第１のレーザ光描画線と第３のレーザ光描画線とが平行に描画される請求項６から８のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１０】
第１のレーザ光描画線におけるレーザ光の照射エネルギーが、他の描画線におけるレーザ光の照射エネルギーより高い請求項５から９のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１１】
画像処理工程で用いるレーザ光源が、ＹＡＧレーザ光、ファイバーレーザ光、及び半導体レーザ光の少なくともいずれかである請求項５から１０のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１２】
照射するレーザ光の波長が７００ｎｍ以上１，５００ｎｍ以下である請求項５から１１のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１３】
画像を形成するための媒体が、支持体と、該支持体上に、少なくとも第１の熱可逆記録層と、特定波長の光を吸収して熱に変換する光熱変換材料を含む光熱変換層と、第２の熱可逆記録層とをこの順に有してなり、前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層が、いずれも温度に依存して色調が可逆的に変化する熱可逆記録媒体である請求項５から１２のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１４】
第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層が、いずれかもロイコ染料、及び可逆性顕色剤を含有する請求項１３に記載の描画制御装置。
【請求項１５】
光熱変換材料が、近赤外領域に吸収ピークを有する材料である請求項１３から１４のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１６】
光熱変換材料が、フタロシアニン系化合物である請求項１５に記載の描画制御装置。
【請求項１７】
レーザを照射するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器が照射するレーザの照射方向を制御する方向制御ミラーと、
前記方向制御ミラーを駆動する方向制御モータと、
前記描画命令に基づき、前記レーザ発振器の照射出力の制御、及び前記方向制御モータの駆動制御を行う、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の描画制御装置と
を有する、レーザ照射装置。
【請求項１８】
熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置をコンピュータが制御する描画制御方法であって、
前記コンピュータは、
前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、
相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定工程と、
前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整工程と、
前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成工程と
を実行する、描画制御方法。
【請求項１９】
コンピュータに、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置を制御する制御処理を実行させるための描画制御プログラムであって、
前記コンピュータを
前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定部、
相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定部、
前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整部、及び
前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成部
として機能させる、描画制御プログラム。
【請求項２０】
請求項１９に記載の描画制御プログラムを記録した記録媒体。
【請求項１】
熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置を制御する描画制御装置であって、
前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、
相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定手段と、
前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整手段と、
前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段と
を含む、描画制御装置。
【請求項２】
前記調整手段は、前記各行の始点から終点の間を複数の単位線分に分け、前記単位線分毎に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、請求項１に記載の描画制御装置。
【請求項３】
前記調整手段は、前記他の行の前記始点から前記終点にかけて、前記熱可逆記録媒体に描画を行う速度を低下させることにより、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、請求項１又は２に記載の描画制御装置。
【請求項４】
前記調整手段は、前記他の行の前記始点から前記終点にかけて、前記描画装置が前記熱可逆記録媒体に照射する前記レーザのレーザ出力を増大させることにより、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、請求項１又は２に記載の描画制御装置。
【請求項５】
前記調整手段は、第１の始点から第１の終点に第１のレーザ光描画線を描画し、第２の始点から該第１のレーザ光描画線と平行な線に対して前記第１の始点側に傾く方向の線上に位置する第２の終点に向けて、前記第１のレーザ光描画線に隣接する第２のレーザ光描画線を描画することにより、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する、請求項１に記載の描画制御装置。
【請求項６】
第３の始点から第２のレーザ光描画線と平行な線に対して第２の始点側に傾く方向の線上に位置する第３の終点に向けて、前記第２のレーザ光描画線に隣接する第３のレーザ光描画線を描画する請求項５に記載の描画制御装置。
【請求項７】
一のレーザ光描画線の終点と該レーザ光描画線に隣接する他のレーザ光描画線の始点との間においてレーザ光を照射しない請求項５から６のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項８】
一のレーザ光描画線の終点から該レーザ光描画線と直交する方向の線上に他のレーザ光描画点の始点が位置する請求項５から７のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項９】
第１のレーザ光描画線と第３のレーザ光描画線とが平行に描画される請求項６から８のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１０】
第１のレーザ光描画線におけるレーザ光の照射エネルギーが、他の描画線におけるレーザ光の照射エネルギーより高い請求項５から９のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１１】
画像処理工程で用いるレーザ光源が、ＹＡＧレーザ光、ファイバーレーザ光、及び半導体レーザ光の少なくともいずれかである請求項５から１０のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１２】
照射するレーザ光の波長が７００ｎｍ以上１，５００ｎｍ以下である請求項５から１１のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１３】
画像を形成するための媒体が、支持体と、該支持体上に、少なくとも第１の熱可逆記録層と、特定波長の光を吸収して熱に変換する光熱変換材料を含む光熱変換層と、第２の熱可逆記録層とをこの順に有してなり、前記第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層が、いずれも温度に依存して色調が可逆的に変化する熱可逆記録媒体である請求項５から１２のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１４】
第１の熱可逆記録層及び第２の熱可逆記録層が、いずれかもロイコ染料、及び可逆性顕色剤を含有する請求項１３に記載の描画制御装置。
【請求項１５】
光熱変換材料が、近赤外領域に吸収ピークを有する材料である請求項１３から１４のいずれかに記載の描画制御装置。
【請求項１６】
光熱変換材料が、フタロシアニン系化合物である請求項１５に記載の描画制御装置。
【請求項１７】
レーザを照射するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器が照射するレーザの照射方向を制御する方向制御ミラーと、
前記方向制御ミラーを駆動する方向制御モータと、
前記描画命令に基づき、前記レーザ発振器の照射出力の制御、及び前記方向制御モータの駆動制御を行う、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の描画制御装置と
を有する、レーザ照射装置。
【請求項１８】
熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置をコンピュータが制御する描画制御方法であって、
前記コンピュータは、
前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、
相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定工程と、
前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整工程と、
前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成工程と
を実行する、描画制御方法。
【請求項１９】
コンピュータに、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置を制御する制御処理を実行させるための描画制御プログラムであって、
前記コンピュータを
前記描画対象を複数行に分け、前記熱可逆記録媒体に前記複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定部、
相隣接する行の描画方向を反転させながら前記描画対象を描画するように前記複数行の各行の描画順を決定する描画順決定部、
前記熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、前記他の行の始点側を描画するレーザ出力が前記他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、前記一の行の終点と前記他の行の始点との間の第１距離が前記一の行の始点と前記他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように前記描画位置を調整する調整部、及び
前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成部
として機能させる、描画制御プログラム。
【請求項２０】
請求項１９に記載の描画制御プログラムを記録した記録媒体。
【図１】
【図２】
【図４ａ】
【図４ｂ】
【図４ｃ】
【図５ａ】
【図５ｂ】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７ａ】
【図１７ｂ】
【図１７ｃ】
【図１８】
【図１９ａ】
【図２０】
【図２１ａ】
【図２１ｂ】
【図２２ａ】
【図２２ｂ】
【図２２ｃ】
【図３】
【図１９ｂ】
【図２】
【図４ａ】
【図４ｂ】
【図４ｃ】
【図５ａ】
【図５ｂ】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７ａ】
【図１７ｂ】
【図１７ｃ】
【図１８】
【図１９ａ】
【図２０】
【図２１ａ】
【図２１ｂ】
【図２２ａ】
【図２２ｂ】
【図２２ｃ】
【図３】
【図１９ｂ】
【公開番号】特開２０１１−１１６１１６（Ｐ２０１１−１１６１１６Ａ）
【公開日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０１３８８（Ｐ２０１０−２０１３８８）
【出願日】平成２２年９月８日（２０１０．９．８）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＱＲコード
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月８日（２０１０．９．８）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＱＲコード
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
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