描画装置及び描画方法
【課題】 描画対象物１枚あたりの描画時間を短縮することが望まれている。
【解決手段】 保持機構に保持された描画対象物に、液滴を吐出複数のノズルを有する第１及び第２のノズルユニットが対向する。移動機構が、描画対象物に対して、第１及び第２のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第１の方向及び第２の方向に移動させる。制御装置が、ノズルユニット及び前記移動機構を制御する。第１及び第２のノズルユニットの各々のノズルは、第２の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されている。第１及び第２のノズルユニットは、第２の方向に間隔を隔てて配置されている。間隔調節機構が、制御装置からの制御により、第１及び第２のノズルユニットの間隔を変化させる。
【解決手段】 保持機構に保持された描画対象物に、液滴を吐出複数のノズルを有する第１及び第２のノズルユニットが対向する。移動機構が、描画対象物に対して、第１及び第２のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第１の方向及び第２の方向に移動させる。制御装置が、ノズルユニット及び前記移動機構を制御する。第１及び第２のノズルユニットの各々のノズルは、第２の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されている。第１及び第２のノズルユニットは、第２の方向に間隔を隔てて配置されている。間隔調節機構が、制御装置からの制御により、第１及び第２のノズルユニットの間隔を変化させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルから液滴を吐出させて描画を行う描画装置及び描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板にソルダーレジストのパターンを形成する従来の方法について説明する。まず、表面に回路パターンが形成されたプリント配線板の全面に、感光性のソルダーレジストを塗布する。所定のマスクパターンを用いて、ソルダーレジスト膜を露光し、その後現像することにより、ソルダーレジストのパターンが形成される。
【０００３】
ソルダーレジストを液滴化して、プリント配線板の所望の領域にのみ液滴を付着させ、硬化させることにより、ソルダーレジストのパターンを形成する技術が注目されている。プリント配線板の表面に付着した液滴に紫外線を照射することにより、液滴を硬化させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３５４４５４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
描画対象物１枚あたりの描画時間を短縮することが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一観点によると、
描画対象物を保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された描画対象物に対向し、描画対象物に液滴を吐出複数のノズルを有する第１及び第２のノズルユニットと、
前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第１及び第２のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第１の方向及び第２の方向に移動させる移動機構と、
前記第１及び第２のノズルユニット及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記第１及び第２のノズルユニットの各々のノズルは、前記第２の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されており、
前記第１及び第２のノズルユニットは、前記第２の方向に間隔を隔てて配置されており、
さらに、前記制御装置からの制御により、前記第１及び第２のノズルユニットの間隔を変化させる間隔調節機構を有する描画装置が提供される。
【０００７】
本発明の他の観点によると、
外形及び寸法が同一で、第２の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含む描画パターンが画定された描画対象物を準備する工程と、
前記描画対象物に少なくとも２つのノズルユニットを対向させ、１つの繰り返しパターンと１つのノズルユニットとの前記第２の方向に関する相対位置関係と、他の繰り返しパターンと他のノズルユニットとの前記第２の方向に関する相対位置関係とを同一にし、前記ノズルユニットを、前記描画対象物に対して、相対的に前記第２の方向と直交する第１の方向に移動させながら、前記ノズルユニットから液滴を吐出させる主走査を行う工程と
を有する描画方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
複数のノズルユニットを用いることにより、描画時間を短縮することができる。第１のノズルユニットと第２のノズルユニットとの間隔を変化させることにより、第１のノズルユニットと第２のノズルユニットとの相対位置関係を、描画すべきパターンの繰り返し周期に整合させることができる。これにより、描画品質のばらつきを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、実施例による描画装置の概略図である。
【図２】図２Ａは、ノズルユニットの斜視図であり、図２Ｂは、ノズルユニットの底面図である。
【図３】図３は、ノズルと、ノズルの像との位置関係を示す図である。
【図４】図４Ａは、ノズルユニット及びプリント配線板を、走査方向に直交する視線で見た図であり、図４Ｂは、ノズルユニット及びプリント配線板を、走査方向に平行な視線で見た図である。
【図５】図５は、描画対象物であるプリント配線板の平面図である。
【図６】図６Ａは、実施例によるプリント配線板の繰り返しパターンと、ノズルユニットとの位置関係を示す図であり、図６Ｂは、実施例による方法で製造した描画後のプリント配線板の断面図である。
【図７】図７Ａは、比較例によるプリント配線板の繰り返しパターンと、ノズルユニットとの位置関係を示す図であり、図７Ｂは、比較例による方法で製造した描画後のプリント配線板の断面図である。
【図８】実施例の変形例による描画装置のノズルユニットの底面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１に、実施例による描画装置の概略図を示す。定盤２０の上に、移動機構２１により保持機構２５が保持されている。移動機構２１は、Ｘステージ２２、Ｙステージ２３、及びθステージ２４を含む。水平面をＸＹ面とし、鉛直方向をＺ軸とするＸＹＺ直交座標系を定義する。Ｘステージ２２は、Ｙステージ２３をＸ軸方向に移動させる。Ｙステージ２３は、θステージ２４をＹ方向に移動させる。θステージ２４は、Ｚ軸に平行な軸を回転中心として、保持機構２５の回転方向の姿勢を変化させる。保持機構２５は、描画対象であるプリント配線板５０を保持する。保持機構２５には、例えば真空チャックが用いられる。
【００１１】
定盤２０の上方に、支柱３０によって梁３１が支えられている。梁３１に、ノズルユニット４０及び撮像装置３２が取り付けられている。ノズルユニット４０は、Ｙ方向に並んで複数個、例えば２個配置されている。間隔調節機構４６により、ノズルユニット４０の間隔を調節することができる。撮像装置３２及びノズルユニット４０は、保持機構２５に保持されたプリント配線板５０に対向する。撮像装置３２は、プリント配線板５０の表面に形成されている配線パターン、アライメントマーク等を撮像する。撮像結果が、制御装置３３に入力される。ノズルユニット４０は、複数のノズルから、プリント配線板５０に向けて、紫外線硬化型樹脂、例えばソルダーレジストの液滴を吐出する。吐出された液滴が、プリント配線板５０の表面に付着する。
【００１２】
制御装置３３が、Ｘステージ２２、Ｙステージ２３、θステージ２４、保持機構２５、及びノズルユニット４０を制御する。記憶装置３４に、描画すべきパターンのイメージデータが記憶されている。
【００１３】
図１では、ノズルヘッド４０を定盤２０に対して固定し、保持機構２５を移動させるように、移動機構２１を配置したが、その逆に、保持機構２５を定盤２０に固定し、ノズルユニット４０を保持機構２５に対して移動させてもよい。
【００１４】
図２Ａに、ノズルユニット４０の各々の斜視図を示す。支持部材４１の底面に、４個のノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄが、Ｘ方向に配列するように取り付けられている。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄが、Ｘ軸の負の向きに向かってこの順番に配列している。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄの各々に、複数のノズル４５が形成されている。
【００１５】
ノズルヘッド４２Ａと４２Ｂとの間、ノズルヘッド４２Ｂと４２Ｃとの間、ノズルヘッド４２Ｃと４２Ｄとの間に、光源４３が配置されている。さらに、ノズルヘッド４２ＡよりもＸ軸の正の側の領域、及びノズルヘッド４２ＤよりもＸ軸の負の側の領域に、光源４３が配置されている。光源４３は、プリント配線板５０（図１）に紫外線を照射する。
【００１６】
図２Ｂに、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄ、及び光源４３の底面図を示す。ノズルヘッド４２Ａの底面（プリント配線板５０に対向する表面）に、２列のノズル列４６ａ、４６ｂが形成されている。ノズル列４６ａ及びノズル列４６ｂの各々は、Ｙ軸方向にピッチ（周期）８Ｐで並ぶ複数のノズル４５で構成される。ノズル列４６ｂは、ノズル列４６ａに対して、Ｘ軸の負の方向にずれており、さらに、Ｙ軸の負の方向にピッチ４Ｐだけずれている。すなわち、ノズルヘッド４２Ａのノズル４５は、Ｙ方向に関しては、ピッチ４Ｐで等間隔に分布している。ピッチ４Ｐは、例えば３００ｄｐｉの解像度に相当するピッチ、すなわち約８４．６７μｍである。
【００１７】
ノズルヘッド４２Ｂ〜４２Ｄの構造は、ノズルヘッド４２Ａの構造と同一である。ノズルヘッド４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄは、それぞれノズルヘッド４２Ａに対して、Ｙ軸の負の方向に２Ｐ、Ｐ、３Ｐだけずれるように機械的に位置決めされて、支持部材４１（図２Ａ）に取り付けられている。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄの間、及び最も外側のノズルヘッド４２Ａ、４２Ｄよりも外側に、光源４３が配置されている。
【００１８】
図３に示すように、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄのノズル４５を、Ｘ軸に垂直な仮想平面５６に垂直投影した像５５Ａ〜５５Ｄは、Ｙ方向に、１２００ｄｐｉの解像度に相当するピッチＰ、すなわち約２１．１７μのピッチで等間隔に配列する。このため、４個のノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄを用いて、Ｙ軸方向に関して１２００ｄｐｉの解像度で描画を行うことができる。
【００１９】
図４Ａに、ノズルユニット４０及びプリント配線板５０を、Ｙ軸に平行な視線でみたときの概略図を示す。支持部材４１の底面に、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄ、及び光源４３が取り付けられている。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄに、プリント配線板５０が対向する。
【００２０】
ノズルヘッド４２Ａと４２Ｂとの間に取り付けられた光源４３は、プリント配線板５０の表面のうち、ノズルヘッド４２Ａに対向する領域４８Ａと、ノズルヘッド４２Ｂに対向する領域４８Ｂとの間の領域に、光を照射する。同様に、ノズルヘッド４２Ｂに対向する領域４８Ｂ、ノズルヘッド４２Ｃに対向する領域４８Ｃ、及びノズルヘッド４２Ｄに対向する領域４８Ｄの間の領域も、対応するノズルヘッドの間に取り付けられた光源４３により光照射される。
【００２１】
ノズルヘッド４２Ａよりも外側（Ｘ軸の正の側）に取り付けられた光源４３は、領域４８ＡよりもＸ軸の正の側の領域に光を照射する。ノズルヘッド４２Ｄよりも外側（Ｘ軸の負の側）に取り付けられた光源４３は、領域４８ＤよりもＸ軸の負の側の領域に光を照射する。
【００２２】
プリント配線板５０を、Ｘ軸の負の向きに移動させながら、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄから液滴を吐出させて描画を行う場合について説明する。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄから吐出されてプリント配線板５０に付着した液滴は、着弾した時点の液滴の位置よりも前方（Ｘ軸の負の方向）の光源から光が照射されることによって硬化する。
【００２３】
各ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄの各々の前方に光源４３が配置されているため、液滴がプリント配線板５０に付着してから短時間のうちに、液滴を硬化させることができる。また、各ノズルヘッド４２Ａ〜４２ＤのＸ軸の正の側にも、光源４３が配置されているため、プリント配線板５０をＸ軸の正の方向に移動させながら描画を行う際にも、液滴の付着から硬化までの時間を短くすることができる。
【００２４】
図４Ｂに、ノズルユニット４０及びプリント配線板５０を、Ｘ軸に平行な視線でみたときの概略図を示す。
【００２５】
Ｙ方向に間隔を隔てて第１のノズルユニット４０Ａ及び第２のノズルユニット４０Ｂが配置されている。第１のノズルユニット４０Ａと第２のノズルユニット４０Ｂとの間隔は、間隔調節機構４６により調節することができる。具体的には、第１のノズルユニット４０Ａと第２のノズルユニット４０Ｂとを、独立してＹ方向に移動させることができる。間隔調節機構４６は、制御装置３３により制御される。
【００２６】
図５に、プリント配線板５０に描画すべきパターンの一例を示す。複数の繰り返しパターン５１がＸ方向及びＹ方向に行列状に配置されている。Ｙ方向の繰り返し周期をＬとする。描画が終了すると、プリント配線板５０が製品ごとに分割される。１つの繰り返しパターン５１が、１つの製品の基板に対応する。複数の繰り返しパターン５１の外形及び寸法は同一である。また、全ての繰り返しパターン５１は、その内部に、同一の描画パターンを含んでいる。各繰り返しパターン５１の内部に配置されたパターンの外側の領域に、ソルダーレジストが塗布される。
【００２７】
図６Ａを参照して、実施例による描画方法について説明する。制御装置３３（図１）は、記憶装置３４に記憶されている描画すべきパターンのイメージデータから、繰り返しパターン５１の繰返し周期Ｌを算出する。なお、予め、パターンの設計データから繰り返し周期Ｌを求めておき、繰り返し周期Ｌを制御装置３３に入力するようにしてもよい。
【００２８】
第１のノズルユニット４０ＡをＸ方向に移動させながら、ノズルから液滴を吐出させることによって、Ｘ方向に延在する帯状の領域に描画を行うことができる。同様に、第２のノズルユニット４０Ｂでも、Ｘ方向に延在する帯状の領域に描画を行うことができる。
【００２９】
描画パターンを定義するピクセルの、Ｙ方向の中心間距離が、ノズルの像５５Ａ〜５５ＤのピッチＰ（図３）に等しい場合には、ノズルユニット４０をＸ軸に平行に、片方向に移動させることによって、ノズルユニット４０に対応する帯状の領域内の描画が完了する。ノズルの像５５Ａ〜５５ＤのピッチＰが、ピクセルの中心間距離のｍ倍（ｍは正の整数）である場合には、ノズルユニット４０をＹ方向に距離（Ｐ／ｍ）ずつずらせながら、Ｘ方向にｍ回移動させることによって、ノズルユニット４０に対応する帯状の領域内の描画が完了する。例えば、ｍ＝２の場合には、１つのノズルユニット４０を１往復させることによって、帯状の領域内の描画が完了する。ノズルユニット４０をＸ方向にｍ回移動させて、ノズルユニット４０に対応する帯状の領域内の描画を完了させる処理を、「１回の主走査」ということとする。
【００３０】
１回の主走査で描画を行う領域を「単位走査領域」ということとする。単位走査領域の最大幅をＷとする。最大幅Ｗは、図３のノズルの像５５Ａ〜５５Ｄのうち、両端のノズルの像の間隔に、ピッチＰを加えた長さと等しい。ノズル４５の総数をＮとすると、Ｗ＝Ｎ×Ｐと表される。単位走査領域の最大幅Ｗは、繰り返しパターン５１の繰り返し周期Ｌよりも狭い。
【００３１】
制御装置３３は、間隔調節機構４６（図４Ｂ）を制御して、第１のノズルユニット４０Ａと第２のノズルユニット４０ＢとのＹ方向に関する相対位置関係を、繰り返し周期Ｌに整合させる。具体的には、一例として、第１のノズルユニット４０Ａに対する第２のノズルユニット４０ＢのＹ方向へのずれ量を、繰り返し周期Ｌと同一にする。このとき、１列目の繰り返しパターン５１と第１のノズルユニット４０ＡとのＹ方向に関する相対位置関係は、２列目の繰り返しパターン５１と第２のノズルユニット４０ＢとのＹ方向に関する相対位置関係と同一である。
【００３２】
なお、第１のノズルユニット４０Ａに対する第２のノズルユニット４０ＢのＹ方向へのずれ量を、繰り返し周期Ｌの整数倍にしてもよい。
【００３３】
１列目の繰り返しパターン５１が配置された領域を、複数個、図６Ａにおいては３個の単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）に区分し、２列目の繰り返しパターン５１が配置された領域を、３個の単位走査領域６０Ｂ（１）〜６０Ｂ（３）に区分する。単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）をＹ方向に繰り返し周期Ｌだけずらすと、単位走査領域６０Ｂ（１）〜６０Ｂ（３）と一致する。
【００３４】
繰り返し周期Ｌが、単位走査領域の最大幅Ｗで割り切れるとは限らない。割り切れない場合には、１列目の繰り返しパターン５１を区分した３個の単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）の少なくとも１つの幅は、Ｗよりも狭くなる。図６Ａでは、単位走査領域６０Ａ（３）の幅がＷよりも狭い例を示している。なお、単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）の各々の幅を、Ｌ／３としてもよい。
【００３５】
第１及び第２のノズルユニット４０Ａ、４０Ｂによって１回目の主走査を行うことにより、単位走査領域６０Ａ（１）及び６０Ｂ（１）内の描画が完了する。１回目の主走査のときの第１及び第２のノズルユニット４０Ａ、４０Ｂの位置を実線で示す。第１及び第２のノズルユニット４０Ａ、４０ＢをＹ方向にＷだけずらして２回目の主走査を行う。これにより、単位走査領域６０Ａ（２）及び６０Ｂ（２）内の描画が完了する。さらに、３回目の主走査を行うことにより、単位走査領域６０Ａ（３）及び６０Ｂ（３）内の描画が完了する。２回目および３回目の主走査のときの第１及び第２のノズルユニット４０Ａ、４０Ｂの位置を破線で示す。
【００３６】
３回目の主走査のときに、第１のノズルユニット４０Ａで描画することができる領域が、１回目の主走査で第２のノズルユニット４０Ｂによって描画された単位走査領域６０Ｂ（１）と部分的に重複する場合がある。この場合、重複する領域については、第１のノズルユニット４０Ａによる描画は行わない。
【００３７】
図６Ｂに、描画後のソルダーレジスト膜５３の断面図を示す。単位走査領域６０Ａ（３）、６０Ｂ（３）の幅が、他の単位走査領域の幅よりも狭い。このため、３回目の主走査で液滴を吐出させるノズルの数は、１回目及び２回目の主走査で液滴を吐出させるノズルの数よりも少ない。ソルダーレジストを吐出させるノズルの数を少なく設定して主走査を行うと、ノズルから吐出される液滴の体積が大きくなる傾向を示す。これは、ソルダーレジストが、一般の印刷用インクに比べて粘度が高いためであると考えられる。
【００３８】
単位走査領域６０Ａ（３）、６０Ｂ（３）の幅が、他の単位走査領域の幅より狭いため、単位走査領域６０Ａ（３）、６０Ｂ（３）に形成されるソルダーレジスト膜５３の膜厚が、他の単位走査領域に形成されるソルダーレジスト膜５３の膜厚より厚くなる。繰り返しパターン５１ごとのソルダーレジスト膜５３の膜厚の分布は、全ての繰り返しパターン５１について同一になる。１つの繰り返しパターン５１が１つの製品に対応するため、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間のばらつきは小さくなる。
【００３９】
また、実施例では、２つのノズルユニット４０を用いて描画を行うため、描画時間を短くすることができる。
【００４０】
図７Ａに、比較例による方法で描画を行うときの繰り返しパターン５１と単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）、６０Ｂ（１）〜６０Ｂ（３）との位置関係を示す。比較例においては、第１のノズルユニット４０Ａと第２のノズルユニット４０Ｂとの、Ｙ方向のずれ量が、単位走査領域の最大幅Ｗの３倍に固定されている。
【００４１】
単位走査領域６０Ａ（３）は、隣り合う２つの列の繰り返しパターン５１と部分的に重なる。１列目の繰り返しパターン５１と、２列目の繰り返しパターン５１とでは、単位走査領域の境界線と、繰り返しパターン５１との位置関係が異なる。
【００４２】
図７Ｂに、比較例による方法で形成されたソルダーレジスト膜５３の断面図を示す。単位走査領域６０Ａ（３）を走査するときには、１列目の繰り返しパターン５１と２列目の繰り返しパターン５１との間の余白部分に液滴が塗布されない。このため、単位走査領域６０Ａ（３）を走査するときに使用するノズルの数が、他の単位走査領域を走査するときに比べて少なくなる。従って、単位走査領域６０Ａ（３）内のソルダーレジスト膜５３の膜厚が、他の領域に比べて厚くなる。
【００４３】
１列目の繰り返しパターン５１内の膜厚分布と、２列目の繰り返しパターン５１内の膜厚分布とは異なる。このため製品間で、ソルダーレジスト膜の品質のばらつきが大きくなる。
【００４４】
実施例による描画装置及び描画方法を採用することにより、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間でのばらつきを抑制することができる。
【００４５】
上記実施例では、ノズルユニット４０を２個配置したが、ノズルユニット４０を３個以上配置してもよい。このとき、１つの繰り返しパターン５１と、それに対応するノズルユニット４０とのＹ方向に関する相対位置関係と、他の１つの繰り返しパターン５１と、それに対応するノズルユニット４０とのＹ方向に関する相対位置関係とを同一にする。この状態で、ノズルユニット４０を、描画対象物５０に対して、相対的にＸ方向に移動させながら、ノズルユニットから液滴を吐出させる。これにより、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間のばらつきを抑制することができる。
【００４６】
図５では、同一の繰り返しパターン５１がＸ方向及びＹ方向に行列状に配置されている例を示したが、Ｘ方向に関しては、必ずしも同一のパターンが周期的に配置されている必要はない。例えば、図５において、１行目に配置された繰り返しパターン５１と２行目に配置された繰り返しパターン５１とは、各繰り返しパターン５１の内部のパターンや外形の寸法が同一である必要はない。ただし、外形の寸法が同一でない場合であっても、１行目の繰り返しパターン５１と２行目の繰り返しパターン５１とは、Ｙ方向に関して同一の繰返し周期Ｌで配列している必要がある。
【００４７】
図８に、実施例の変形例による描画装置のノズルユニットの底面図を示す。以下、実施例との相違点に着目して説明し、同一の構成については説明を省略する。
【００４８】
上記実施例では、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄの各々に、２列のノズル列４６ａ、４６ｂが形成されていたが、変形例では、１列のノズル列４６が形成されている。ノズル列４６は、ピッチ４ＰでＹ方向に配列した複数のノズル４５で構成される。実施例では、２本のノズル列４６ａ、４６ｂからの吐出時刻をずらせることにより、１本の直線上に液滴を着弾させたが、変形例では、１つのノズルヘッド内のノズル４５から、同時に液滴を吐出させればよい。
【００４９】
１つのノズルヘッド４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃまたは４２Ｄのノズル４５が、３００ｄｐｉに相当するピッチで配列している場合、変形例においても、４個のノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄを用いて１２００ｄｐｉの解像度で描画を行うことができる。
【００５０】
なお、ピッチＰで１列に配列した複数のノズル４５を有する１つのノズルヘッドによりノズルユニット４０を構成してもよい。
【００５１】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【符号の説明】
【００５２】
２０ 定盤
２１ 移動機構
２２ Ｘステージ
２３ Ｙステージ
２４ θステージ
２５ 保持機構
３０ 支柱
３１ 梁
３２ 撮像装置
３３ 制御装置
３４ 記憶装置
４０ ノズルユニット
４０Ａ 第１のノズルユニット
４０Ｂ 第２のノズルユニット
４１ 支持部材
４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄ ノズルヘッド
４３ 光源
４５ ノズル
４６ 間隔調節機構
５０ プリント配線板（描画対象物）
５１ 繰り返しパターン
５３ ソルダーレジスト膜
６０Ａ 第１のノズルユニットの単位走査領域
６０Ｂ 第２のノズルユニットの単位走査領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルから液滴を吐出させて描画を行う描画装置及び描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板にソルダーレジストのパターンを形成する従来の方法について説明する。まず、表面に回路パターンが形成されたプリント配線板の全面に、感光性のソルダーレジストを塗布する。所定のマスクパターンを用いて、ソルダーレジスト膜を露光し、その後現像することにより、ソルダーレジストのパターンが形成される。
【０００３】
ソルダーレジストを液滴化して、プリント配線板の所望の領域にのみ液滴を付着させ、硬化させることにより、ソルダーレジストのパターンを形成する技術が注目されている。プリント配線板の表面に付着した液滴に紫外線を照射することにより、液滴を硬化させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３５４４５４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
描画対象物１枚あたりの描画時間を短縮することが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一観点によると、
描画対象物を保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された描画対象物に対向し、描画対象物に液滴を吐出複数のノズルを有する第１及び第２のノズルユニットと、
前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第１及び第２のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第１の方向及び第２の方向に移動させる移動機構と、
前記第１及び第２のノズルユニット及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記第１及び第２のノズルユニットの各々のノズルは、前記第２の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されており、
前記第１及び第２のノズルユニットは、前記第２の方向に間隔を隔てて配置されており、
さらに、前記制御装置からの制御により、前記第１及び第２のノズルユニットの間隔を変化させる間隔調節機構を有する描画装置が提供される。
【０００７】
本発明の他の観点によると、
外形及び寸法が同一で、第２の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含む描画パターンが画定された描画対象物を準備する工程と、
前記描画対象物に少なくとも２つのノズルユニットを対向させ、１つの繰り返しパターンと１つのノズルユニットとの前記第２の方向に関する相対位置関係と、他の繰り返しパターンと他のノズルユニットとの前記第２の方向に関する相対位置関係とを同一にし、前記ノズルユニットを、前記描画対象物に対して、相対的に前記第２の方向と直交する第１の方向に移動させながら、前記ノズルユニットから液滴を吐出させる主走査を行う工程と
を有する描画方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
複数のノズルユニットを用いることにより、描画時間を短縮することができる。第１のノズルユニットと第２のノズルユニットとの間隔を変化させることにより、第１のノズルユニットと第２のノズルユニットとの相対位置関係を、描画すべきパターンの繰り返し周期に整合させることができる。これにより、描画品質のばらつきを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、実施例による描画装置の概略図である。
【図２】図２Ａは、ノズルユニットの斜視図であり、図２Ｂは、ノズルユニットの底面図である。
【図３】図３は、ノズルと、ノズルの像との位置関係を示す図である。
【図４】図４Ａは、ノズルユニット及びプリント配線板を、走査方向に直交する視線で見た図であり、図４Ｂは、ノズルユニット及びプリント配線板を、走査方向に平行な視線で見た図である。
【図５】図５は、描画対象物であるプリント配線板の平面図である。
【図６】図６Ａは、実施例によるプリント配線板の繰り返しパターンと、ノズルユニットとの位置関係を示す図であり、図６Ｂは、実施例による方法で製造した描画後のプリント配線板の断面図である。
【図７】図７Ａは、比較例によるプリント配線板の繰り返しパターンと、ノズルユニットとの位置関係を示す図であり、図７Ｂは、比較例による方法で製造した描画後のプリント配線板の断面図である。
【図８】実施例の変形例による描画装置のノズルユニットの底面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１に、実施例による描画装置の概略図を示す。定盤２０の上に、移動機構２１により保持機構２５が保持されている。移動機構２１は、Ｘステージ２２、Ｙステージ２３、及びθステージ２４を含む。水平面をＸＹ面とし、鉛直方向をＺ軸とするＸＹＺ直交座標系を定義する。Ｘステージ２２は、Ｙステージ２３をＸ軸方向に移動させる。Ｙステージ２３は、θステージ２４をＹ方向に移動させる。θステージ２４は、Ｚ軸に平行な軸を回転中心として、保持機構２５の回転方向の姿勢を変化させる。保持機構２５は、描画対象であるプリント配線板５０を保持する。保持機構２５には、例えば真空チャックが用いられる。
【００１１】
定盤２０の上方に、支柱３０によって梁３１が支えられている。梁３１に、ノズルユニット４０及び撮像装置３２が取り付けられている。ノズルユニット４０は、Ｙ方向に並んで複数個、例えば２個配置されている。間隔調節機構４６により、ノズルユニット４０の間隔を調節することができる。撮像装置３２及びノズルユニット４０は、保持機構２５に保持されたプリント配線板５０に対向する。撮像装置３２は、プリント配線板５０の表面に形成されている配線パターン、アライメントマーク等を撮像する。撮像結果が、制御装置３３に入力される。ノズルユニット４０は、複数のノズルから、プリント配線板５０に向けて、紫外線硬化型樹脂、例えばソルダーレジストの液滴を吐出する。吐出された液滴が、プリント配線板５０の表面に付着する。
【００１２】
制御装置３３が、Ｘステージ２２、Ｙステージ２３、θステージ２４、保持機構２５、及びノズルユニット４０を制御する。記憶装置３４に、描画すべきパターンのイメージデータが記憶されている。
【００１３】
図１では、ノズルヘッド４０を定盤２０に対して固定し、保持機構２５を移動させるように、移動機構２１を配置したが、その逆に、保持機構２５を定盤２０に固定し、ノズルユニット４０を保持機構２５に対して移動させてもよい。
【００１４】
図２Ａに、ノズルユニット４０の各々の斜視図を示す。支持部材４１の底面に、４個のノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄが、Ｘ方向に配列するように取り付けられている。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄが、Ｘ軸の負の向きに向かってこの順番に配列している。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄの各々に、複数のノズル４５が形成されている。
【００１５】
ノズルヘッド４２Ａと４２Ｂとの間、ノズルヘッド４２Ｂと４２Ｃとの間、ノズルヘッド４２Ｃと４２Ｄとの間に、光源４３が配置されている。さらに、ノズルヘッド４２ＡよりもＸ軸の正の側の領域、及びノズルヘッド４２ＤよりもＸ軸の負の側の領域に、光源４３が配置されている。光源４３は、プリント配線板５０（図１）に紫外線を照射する。
【００１６】
図２Ｂに、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄ、及び光源４３の底面図を示す。ノズルヘッド４２Ａの底面（プリント配線板５０に対向する表面）に、２列のノズル列４６ａ、４６ｂが形成されている。ノズル列４６ａ及びノズル列４６ｂの各々は、Ｙ軸方向にピッチ（周期）８Ｐで並ぶ複数のノズル４５で構成される。ノズル列４６ｂは、ノズル列４６ａに対して、Ｘ軸の負の方向にずれており、さらに、Ｙ軸の負の方向にピッチ４Ｐだけずれている。すなわち、ノズルヘッド４２Ａのノズル４５は、Ｙ方向に関しては、ピッチ４Ｐで等間隔に分布している。ピッチ４Ｐは、例えば３００ｄｐｉの解像度に相当するピッチ、すなわち約８４．６７μｍである。
【００１７】
ノズルヘッド４２Ｂ〜４２Ｄの構造は、ノズルヘッド４２Ａの構造と同一である。ノズルヘッド４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄは、それぞれノズルヘッド４２Ａに対して、Ｙ軸の負の方向に２Ｐ、Ｐ、３Ｐだけずれるように機械的に位置決めされて、支持部材４１（図２Ａ）に取り付けられている。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄの間、及び最も外側のノズルヘッド４２Ａ、４２Ｄよりも外側に、光源４３が配置されている。
【００１８】
図３に示すように、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄのノズル４５を、Ｘ軸に垂直な仮想平面５６に垂直投影した像５５Ａ〜５５Ｄは、Ｙ方向に、１２００ｄｐｉの解像度に相当するピッチＰ、すなわち約２１．１７μのピッチで等間隔に配列する。このため、４個のノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄを用いて、Ｙ軸方向に関して１２００ｄｐｉの解像度で描画を行うことができる。
【００１９】
図４Ａに、ノズルユニット４０及びプリント配線板５０を、Ｙ軸に平行な視線でみたときの概略図を示す。支持部材４１の底面に、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄ、及び光源４３が取り付けられている。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄに、プリント配線板５０が対向する。
【００２０】
ノズルヘッド４２Ａと４２Ｂとの間に取り付けられた光源４３は、プリント配線板５０の表面のうち、ノズルヘッド４２Ａに対向する領域４８Ａと、ノズルヘッド４２Ｂに対向する領域４８Ｂとの間の領域に、光を照射する。同様に、ノズルヘッド４２Ｂに対向する領域４８Ｂ、ノズルヘッド４２Ｃに対向する領域４８Ｃ、及びノズルヘッド４２Ｄに対向する領域４８Ｄの間の領域も、対応するノズルヘッドの間に取り付けられた光源４３により光照射される。
【００２１】
ノズルヘッド４２Ａよりも外側（Ｘ軸の正の側）に取り付けられた光源４３は、領域４８ＡよりもＸ軸の正の側の領域に光を照射する。ノズルヘッド４２Ｄよりも外側（Ｘ軸の負の側）に取り付けられた光源４３は、領域４８ＤよりもＸ軸の負の側の領域に光を照射する。
【００２２】
プリント配線板５０を、Ｘ軸の負の向きに移動させながら、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄから液滴を吐出させて描画を行う場合について説明する。ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄから吐出されてプリント配線板５０に付着した液滴は、着弾した時点の液滴の位置よりも前方（Ｘ軸の負の方向）の光源から光が照射されることによって硬化する。
【００２３】
各ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄの各々の前方に光源４３が配置されているため、液滴がプリント配線板５０に付着してから短時間のうちに、液滴を硬化させることができる。また、各ノズルヘッド４２Ａ〜４２ＤのＸ軸の正の側にも、光源４３が配置されているため、プリント配線板５０をＸ軸の正の方向に移動させながら描画を行う際にも、液滴の付着から硬化までの時間を短くすることができる。
【００２４】
図４Ｂに、ノズルユニット４０及びプリント配線板５０を、Ｘ軸に平行な視線でみたときの概略図を示す。
【００２５】
Ｙ方向に間隔を隔てて第１のノズルユニット４０Ａ及び第２のノズルユニット４０Ｂが配置されている。第１のノズルユニット４０Ａと第２のノズルユニット４０Ｂとの間隔は、間隔調節機構４６により調節することができる。具体的には、第１のノズルユニット４０Ａと第２のノズルユニット４０Ｂとを、独立してＹ方向に移動させることができる。間隔調節機構４６は、制御装置３３により制御される。
【００２６】
図５に、プリント配線板５０に描画すべきパターンの一例を示す。複数の繰り返しパターン５１がＸ方向及びＹ方向に行列状に配置されている。Ｙ方向の繰り返し周期をＬとする。描画が終了すると、プリント配線板５０が製品ごとに分割される。１つの繰り返しパターン５１が、１つの製品の基板に対応する。複数の繰り返しパターン５１の外形及び寸法は同一である。また、全ての繰り返しパターン５１は、その内部に、同一の描画パターンを含んでいる。各繰り返しパターン５１の内部に配置されたパターンの外側の領域に、ソルダーレジストが塗布される。
【００２７】
図６Ａを参照して、実施例による描画方法について説明する。制御装置３３（図１）は、記憶装置３４に記憶されている描画すべきパターンのイメージデータから、繰り返しパターン５１の繰返し周期Ｌを算出する。なお、予め、パターンの設計データから繰り返し周期Ｌを求めておき、繰り返し周期Ｌを制御装置３３に入力するようにしてもよい。
【００２８】
第１のノズルユニット４０ＡをＸ方向に移動させながら、ノズルから液滴を吐出させることによって、Ｘ方向に延在する帯状の領域に描画を行うことができる。同様に、第２のノズルユニット４０Ｂでも、Ｘ方向に延在する帯状の領域に描画を行うことができる。
【００２９】
描画パターンを定義するピクセルの、Ｙ方向の中心間距離が、ノズルの像５５Ａ〜５５ＤのピッチＰ（図３）に等しい場合には、ノズルユニット４０をＸ軸に平行に、片方向に移動させることによって、ノズルユニット４０に対応する帯状の領域内の描画が完了する。ノズルの像５５Ａ〜５５ＤのピッチＰが、ピクセルの中心間距離のｍ倍（ｍは正の整数）である場合には、ノズルユニット４０をＹ方向に距離（Ｐ／ｍ）ずつずらせながら、Ｘ方向にｍ回移動させることによって、ノズルユニット４０に対応する帯状の領域内の描画が完了する。例えば、ｍ＝２の場合には、１つのノズルユニット４０を１往復させることによって、帯状の領域内の描画が完了する。ノズルユニット４０をＸ方向にｍ回移動させて、ノズルユニット４０に対応する帯状の領域内の描画を完了させる処理を、「１回の主走査」ということとする。
【００３０】
１回の主走査で描画を行う領域を「単位走査領域」ということとする。単位走査領域の最大幅をＷとする。最大幅Ｗは、図３のノズルの像５５Ａ〜５５Ｄのうち、両端のノズルの像の間隔に、ピッチＰを加えた長さと等しい。ノズル４５の総数をＮとすると、Ｗ＝Ｎ×Ｐと表される。単位走査領域の最大幅Ｗは、繰り返しパターン５１の繰り返し周期Ｌよりも狭い。
【００３１】
制御装置３３は、間隔調節機構４６（図４Ｂ）を制御して、第１のノズルユニット４０Ａと第２のノズルユニット４０ＢとのＹ方向に関する相対位置関係を、繰り返し周期Ｌに整合させる。具体的には、一例として、第１のノズルユニット４０Ａに対する第２のノズルユニット４０ＢのＹ方向へのずれ量を、繰り返し周期Ｌと同一にする。このとき、１列目の繰り返しパターン５１と第１のノズルユニット４０ＡとのＹ方向に関する相対位置関係は、２列目の繰り返しパターン５１と第２のノズルユニット４０ＢとのＹ方向に関する相対位置関係と同一である。
【００３２】
なお、第１のノズルユニット４０Ａに対する第２のノズルユニット４０ＢのＹ方向へのずれ量を、繰り返し周期Ｌの整数倍にしてもよい。
【００３３】
１列目の繰り返しパターン５１が配置された領域を、複数個、図６Ａにおいては３個の単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）に区分し、２列目の繰り返しパターン５１が配置された領域を、３個の単位走査領域６０Ｂ（１）〜６０Ｂ（３）に区分する。単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）をＹ方向に繰り返し周期Ｌだけずらすと、単位走査領域６０Ｂ（１）〜６０Ｂ（３）と一致する。
【００３４】
繰り返し周期Ｌが、単位走査領域の最大幅Ｗで割り切れるとは限らない。割り切れない場合には、１列目の繰り返しパターン５１を区分した３個の単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）の少なくとも１つの幅は、Ｗよりも狭くなる。図６Ａでは、単位走査領域６０Ａ（３）の幅がＷよりも狭い例を示している。なお、単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）の各々の幅を、Ｌ／３としてもよい。
【００３５】
第１及び第２のノズルユニット４０Ａ、４０Ｂによって１回目の主走査を行うことにより、単位走査領域６０Ａ（１）及び６０Ｂ（１）内の描画が完了する。１回目の主走査のときの第１及び第２のノズルユニット４０Ａ、４０Ｂの位置を実線で示す。第１及び第２のノズルユニット４０Ａ、４０ＢをＹ方向にＷだけずらして２回目の主走査を行う。これにより、単位走査領域６０Ａ（２）及び６０Ｂ（２）内の描画が完了する。さらに、３回目の主走査を行うことにより、単位走査領域６０Ａ（３）及び６０Ｂ（３）内の描画が完了する。２回目および３回目の主走査のときの第１及び第２のノズルユニット４０Ａ、４０Ｂの位置を破線で示す。
【００３６】
３回目の主走査のときに、第１のノズルユニット４０Ａで描画することができる領域が、１回目の主走査で第２のノズルユニット４０Ｂによって描画された単位走査領域６０Ｂ（１）と部分的に重複する場合がある。この場合、重複する領域については、第１のノズルユニット４０Ａによる描画は行わない。
【００３７】
図６Ｂに、描画後のソルダーレジスト膜５３の断面図を示す。単位走査領域６０Ａ（３）、６０Ｂ（３）の幅が、他の単位走査領域の幅よりも狭い。このため、３回目の主走査で液滴を吐出させるノズルの数は、１回目及び２回目の主走査で液滴を吐出させるノズルの数よりも少ない。ソルダーレジストを吐出させるノズルの数を少なく設定して主走査を行うと、ノズルから吐出される液滴の体積が大きくなる傾向を示す。これは、ソルダーレジストが、一般の印刷用インクに比べて粘度が高いためであると考えられる。
【００３８】
単位走査領域６０Ａ（３）、６０Ｂ（３）の幅が、他の単位走査領域の幅より狭いため、単位走査領域６０Ａ（３）、６０Ｂ（３）に形成されるソルダーレジスト膜５３の膜厚が、他の単位走査領域に形成されるソルダーレジスト膜５３の膜厚より厚くなる。繰り返しパターン５１ごとのソルダーレジスト膜５３の膜厚の分布は、全ての繰り返しパターン５１について同一になる。１つの繰り返しパターン５１が１つの製品に対応するため、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間のばらつきは小さくなる。
【００３９】
また、実施例では、２つのノズルユニット４０を用いて描画を行うため、描画時間を短くすることができる。
【００４０】
図７Ａに、比較例による方法で描画を行うときの繰り返しパターン５１と単位走査領域６０Ａ（１）〜６０Ａ（３）、６０Ｂ（１）〜６０Ｂ（３）との位置関係を示す。比較例においては、第１のノズルユニット４０Ａと第２のノズルユニット４０Ｂとの、Ｙ方向のずれ量が、単位走査領域の最大幅Ｗの３倍に固定されている。
【００４１】
単位走査領域６０Ａ（３）は、隣り合う２つの列の繰り返しパターン５１と部分的に重なる。１列目の繰り返しパターン５１と、２列目の繰り返しパターン５１とでは、単位走査領域の境界線と、繰り返しパターン５１との位置関係が異なる。
【００４２】
図７Ｂに、比較例による方法で形成されたソルダーレジスト膜５３の断面図を示す。単位走査領域６０Ａ（３）を走査するときには、１列目の繰り返しパターン５１と２列目の繰り返しパターン５１との間の余白部分に液滴が塗布されない。このため、単位走査領域６０Ａ（３）を走査するときに使用するノズルの数が、他の単位走査領域を走査するときに比べて少なくなる。従って、単位走査領域６０Ａ（３）内のソルダーレジスト膜５３の膜厚が、他の領域に比べて厚くなる。
【００４３】
１列目の繰り返しパターン５１内の膜厚分布と、２列目の繰り返しパターン５１内の膜厚分布とは異なる。このため製品間で、ソルダーレジスト膜の品質のばらつきが大きくなる。
【００４４】
実施例による描画装置及び描画方法を採用することにより、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間でのばらつきを抑制することができる。
【００４５】
上記実施例では、ノズルユニット４０を２個配置したが、ノズルユニット４０を３個以上配置してもよい。このとき、１つの繰り返しパターン５１と、それに対応するノズルユニット４０とのＹ方向に関する相対位置関係と、他の１つの繰り返しパターン５１と、それに対応するノズルユニット４０とのＹ方向に関する相対位置関係とを同一にする。この状態で、ノズルユニット４０を、描画対象物５０に対して、相対的にＸ方向に移動させながら、ノズルユニットから液滴を吐出させる。これにより、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間のばらつきを抑制することができる。
【００４６】
図５では、同一の繰り返しパターン５１がＸ方向及びＹ方向に行列状に配置されている例を示したが、Ｘ方向に関しては、必ずしも同一のパターンが周期的に配置されている必要はない。例えば、図５において、１行目に配置された繰り返しパターン５１と２行目に配置された繰り返しパターン５１とは、各繰り返しパターン５１の内部のパターンや外形の寸法が同一である必要はない。ただし、外形の寸法が同一でない場合であっても、１行目の繰り返しパターン５１と２行目の繰り返しパターン５１とは、Ｙ方向に関して同一の繰返し周期Ｌで配列している必要がある。
【００４７】
図８に、実施例の変形例による描画装置のノズルユニットの底面図を示す。以下、実施例との相違点に着目して説明し、同一の構成については説明を省略する。
【００４８】
上記実施例では、ノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄの各々に、２列のノズル列４６ａ、４６ｂが形成されていたが、変形例では、１列のノズル列４６が形成されている。ノズル列４６は、ピッチ４ＰでＹ方向に配列した複数のノズル４５で構成される。実施例では、２本のノズル列４６ａ、４６ｂからの吐出時刻をずらせることにより、１本の直線上に液滴を着弾させたが、変形例では、１つのノズルヘッド内のノズル４５から、同時に液滴を吐出させればよい。
【００４９】
１つのノズルヘッド４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃまたは４２Ｄのノズル４５が、３００ｄｐｉに相当するピッチで配列している場合、変形例においても、４個のノズルヘッド４２Ａ〜４２Ｄを用いて１２００ｄｐｉの解像度で描画を行うことができる。
【００５０】
なお、ピッチＰで１列に配列した複数のノズル４５を有する１つのノズルヘッドによりノズルユニット４０を構成してもよい。
【００５１】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【符号の説明】
【００５２】
２０ 定盤
２１ 移動機構
２２ Ｘステージ
２３ Ｙステージ
２４ θステージ
２５ 保持機構
３０ 支柱
３１ 梁
３２ 撮像装置
３３ 制御装置
３４ 記憶装置
４０ ノズルユニット
４０Ａ 第１のノズルユニット
４０Ｂ 第２のノズルユニット
４１ 支持部材
４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄ ノズルヘッド
４３ 光源
４５ ノズル
４６ 間隔調節機構
５０ プリント配線板（描画対象物）
５１ 繰り返しパターン
５３ ソルダーレジスト膜
６０Ａ 第１のノズルユニットの単位走査領域
６０Ｂ 第２のノズルユニットの単位走査領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画対象物を保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された描画対象物に対向し、描画対象物に液滴を吐出複数のノズルを有する第１及び第２のノズルユニットと、
前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第１及び第２のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第１の方向及び第２の方向に移動させる移動機構と、
前記第１及び第２のノズルユニット及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記第１及び第２のノズルユニットの各々のノズルは、前記第２の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されており、
前記第１及び第２のノズルユニットは、前記第２の方向に間隔を隔てて配置されており、
さらに、前記制御装置からの制御により、前記第１及び第２のノズルユニットの間隔を変化させる間隔調節機構を有する描画装置。
【請求項２】
前記描画対象物に描画すべき描画パターンは、外形及び寸法が同一で、前記第２の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含み、
前記制御措置は、
前記第１及び第２のノズルユニットの、前記第２の方向に関する相対位置が、前記繰り返しパターンが前記第２の方向に並ぶ繰り返し周期に整合するように、前記間隔調節機構を制御し、
前記第１及び第２のノズルユニットの、前記第２の方向に関する相対位置が前記繰り返し周期に整合した状態で、前記第１及び第２のノズルユニットを、前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第１の方向の相対的に移動させながら描画を行う請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
外形及び寸法が同一で、第２の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含む描画パターンが画定された描画対象物を準備する工程と、
前記描画対象物に少なくとも２つのノズルユニットを対向させ、１つの繰り返しパターンと１つのノズルユニットとの前記第２の方向に関する相対位置関係と、他の繰り返しパターンと他のノズルユニットとの前記第２の方向に関する相対位置関係とを同一にし、前記ノズルユニットを、前記描画対象物に対して、相対的に前記第２の方向と直交する第１の方向に移動させながら、前記ノズルユニットから液滴を吐出させる主走査を行う工程と
を有する描画方法。
【請求項４】
１つの前記ノズルユニットを前記第１の方向に相対的に移動させることによって描画することができる領域の前記第２の方向の幅は、前記繰り返しパターンの各々の前記第２の方向の寸法よりも小さく、
前記ノズルユニットの前記第２の方向に関する位置を変えて、前記主走査を複数回行う請求項３に記載の描画方法。
【請求項１】
描画対象物を保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された描画対象物に対向し、描画対象物に液滴を吐出複数のノズルを有する第１及び第２のノズルユニットと、
前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第１及び第２のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第１の方向及び第２の方向に移動させる移動機構と、
前記第１及び第２のノズルユニット及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記第１及び第２のノズルユニットの各々のノズルは、前記第２の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されており、
前記第１及び第２のノズルユニットは、前記第２の方向に間隔を隔てて配置されており、
さらに、前記制御装置からの制御により、前記第１及び第２のノズルユニットの間隔を変化させる間隔調節機構を有する描画装置。
【請求項２】
前記描画対象物に描画すべき描画パターンは、外形及び寸法が同一で、前記第２の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含み、
前記制御措置は、
前記第１及び第２のノズルユニットの、前記第２の方向に関する相対位置が、前記繰り返しパターンが前記第２の方向に並ぶ繰り返し周期に整合するように、前記間隔調節機構を制御し、
前記第１及び第２のノズルユニットの、前記第２の方向に関する相対位置が前記繰り返し周期に整合した状態で、前記第１及び第２のノズルユニットを、前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第１の方向の相対的に移動させながら描画を行う請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
外形及び寸法が同一で、第２の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含む描画パターンが画定された描画対象物を準備する工程と、
前記描画対象物に少なくとも２つのノズルユニットを対向させ、１つの繰り返しパターンと１つのノズルユニットとの前記第２の方向に関する相対位置関係と、他の繰り返しパターンと他のノズルユニットとの前記第２の方向に関する相対位置関係とを同一にし、前記ノズルユニットを、前記描画対象物に対して、相対的に前記第２の方向と直交する第１の方向に移動させながら、前記ノズルユニットから液滴を吐出させる主走査を行う工程と
を有する描画方法。
【請求項４】
１つの前記ノズルユニットを前記第１の方向に相対的に移動させることによって描画することができる領域の前記第２の方向の幅は、前記繰り返しパターンの各々の前記第２の方向の寸法よりも小さく、
前記ノズルユニットの前記第２の方向に関する位置を変えて、前記主走査を複数回行う請求項３に記載の描画方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１３−３３８７９（Ｐ２０１３−３３８７９Ａ）
【公開日】平成２５年２月１４日（２０１３．２．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１６９８３０（Ｐ２０１１−１６９８３０）
【出願日】平成２３年８月３日（２０１１．８．３）
【出願人】（０００００２１０７）住友重機械工業株式会社 (2,241)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月１４日（２０１３．２．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月３日（２０１１．８．３）
【出願人】（０００００２１０７）住友重機械工業株式会社 (2,241)
【Ｆターム（参考）】
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