描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体
【課題】
描画装置の追従遅れを考慮して描画順を最適化する描画順決定装置を提供する。
【解決手段】
一又は複数の連続的な線分と他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定装置であって、描画対象を描画するための描画情報に基づき、媒体に描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定部と、描画情報又は描画位置に基づき、描画対象に含まれる線分と、線分に連続する空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算部と、方向変化度合に基づき、一又は複数の連続的な線分の描画終了点において当該線分に連続する空走線分の空走を待機する待機時間、又は空走線分に連続する一又は複数の連続的な線分の描画開始点において当該空走線分に連続する線分の描画を待機する待機時間を設定する待機時間設定部とを含む。
描画装置の追従遅れを考慮して描画順を最適化する描画順決定装置を提供する。
【解決手段】
一又は複数の連続的な線分と他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定装置であって、描画対象を描画するための描画情報に基づき、媒体に描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定部と、描画情報又は描画位置に基づき、描画対象に含まれる線分と、線分に連続する空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算部と、方向変化度合に基づき、一又は複数の連続的な線分の描画終了点において当該線分に連続する空走線分の空走を待機する待機時間、又は空走線分に連続する一又は複数の連続的な線分の描画開始点において当該空走線分に連続する線分の描画を待機する待機時間を設定する待機時間設定部とを含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属、プラスチック、感熱紙等の媒体にレーザ光を照射して加熱することで、媒体に文字、数字、又は記号等を書き込む技術を活用したレーザ照射装置（レーザマーカ、又はレーザマーキング装置）が市販されている。
【０００３】
レーザ照射装置のレーザ光源としてガスレーザ、固体レーザ、液体レーザ、半導体レーザ等を用いてレーザ光を照射することにより、文字等を金属、プラスチック、感熱紙等の媒体に書き込むことができる。
【０００４】
金属やプラスチックは、レーザ光を照射して加熱することにより、削ったり焦がしたりすることで描画が行われる。一方、感熱紙は、熱により変色する性質をもっており、レーザ光照射による加熱で記録層が発色することで描画が行われる。
【０００５】
感熱紙は、金属やプラスチックの媒体に比べて取り扱いが容易であるため、例えば、物流等の分野で物品の宛先や物品名を印字する媒体として広く用いられている。
【０００６】
そして、このような感熱紙でも書き込み、消去を繰り返し行えるリライタブルのものが登場してきた。例えば、物流で利用する際には、コンテナに媒体を貼ったまま書き込み、消去ができることが望ましい。このため、フレキシブルジョイントにより構成された複数のレンズ系の一端から入射したレーザ光による画像を他端まで伝達するリレーレンズ系を用いて、非接触でレーザ光を媒体に照射して発熱させることで文字等を描く装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
また、レーザによる画像形成方法としては、１つの原画像データを複数のラインに分割して、ライン毎に感光ドラムにレーザを照射する画像形成方法がある（例えば、特許文献２参照）。
【０００８】
ところで、このサーマルリライタブル媒体は、ある温度の熱で発色が消去され、さらに高熱をかけると発色する性質を持っている。しかし、過大な熱負荷を加えるとサーマルリライタブル媒体が変質し、媒体の寿命が短くなったり、消去が完全に行えなくなったりするなどの劣化が現れやすくなる。
【０００９】
ここでサーマルリライタブル媒体に文字を描画することを考える。文字のストロークをレーザでなぞることで発熱し文字が媒体上に浮き上がる。図１は、サーマルリライタブル媒体にレーザで描画された文字の一例を示す。図１の文字は例えば数字の「７」を変形したものであるが、交点１でストロークが交差している。ストローク同士が交差していると、直前に描いたストロークの余熱があるうちに、再度レーザがあたることになり、結果として交点１がより高熱になってしまうため、サーマルリライタブル媒体に悪影響が出てしまう。
【００１０】
また、交点がなくても数字の「７」では折り返し部分２が存在するが、レーザの照射方向を制御するミラーの慣性の影響により、折り返し部分２では比較的長時間折り返し点付近にレーザが照射されるのでやはり高熱になってしまい、サーマルリライタブル媒体に悪影響をもたらす。
【００１１】
そこで、レーザを重複して照射することを回避する技術が提案されている（例えば、特許文献３，４参照。）。特許文献３には、レーザで描画するに際し、線が重複する箇所は、前に描いた線を通り越してから次の線を描くようにレーザを走査する記録方法が開示されている。特許文献４には、レーザの描画線が交差する場合に、交差する描画点に照射されるレーザのパワー及び照射時間の少なくとも一方を少なくするように制御する記録消去装置が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述のように、特許文献１乃至４には、レーザを重複して照射することを回避する技術が開示されている。
【００１３】
また、特開２００２−２２４８６３号公報には、レーザの重複照射を回避するためには、レーザ照射（描画）と、レーザ非照射の状態で次の描画位置までジャンプ（空走）することが頻繁に必要になるため、描画順を調整することにより、空走距離が最短になる描画順を決定するレーザマーキング装置が開示されている。
【００１４】
レーザマーキング装置は、ガルバノミラーを走査するガルバノスキャナを含み、描画しようとする文字等を表す座標データを用いてガルバノミラーを走査することにより、レーザ光を照射して描画を行う。
【００１５】
ところで、一般的に、ガルバノミラーの慣性による挙動遅れや制御遅れ等が存在するため、制御装置からガルバノスキャナに座標データを入力しても、レーザ照射点（ガルバノミラーの位置）に追従遅れが生じる。
【００１６】
また、上述のような追従遅れは、レーザマーキング装置のようにレーザ照射を行う装置に限らず、Ｘ−Ｙプロッタのように２軸方向にヘッド等を走査する描画装置においても同様に生じる。
【００１７】
しかしながら、このような追従遅れを考慮して描画順を最適化することは行われていなかった。
【００１８】
そこで、描画装置の追従遅れを考慮して描画順を最適化する描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の実施の形態の一観点の描画順決定装置は、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定装置であって、前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段と、前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段とを含む。
【００２０】
また、前記待機時間設定手段は、前記描画終了点を含む線分と、当該線分に連続する前記空走線分との方向変化度合が所定度合い以上の場合に、前記第１待機時間を設定してもよい。
【００２１】
また、前記待機時間設定手段は、前記描画開始点を含む線分と、前記空走線分との方向変化度合が所定度合い以上の場合に、前記第２待機時間を設定してもよい。
【００２２】
また、前記描画対象を描画するための描画時間が短くなるように、前記第１待機時間又は前記前記第２待機時間を反映した前記描画対象の描画順を決定する描画順決定手段をさらに含んでもよい。
【００２３】
また、前記描画位置決定手段が決定した描画位置に基づき、描画対象に含まれる線分を連続する線分群を生成する線分群生成手段と、前記線分群生成手段が生成する線分群を描画するための描画時間が短くなるように、前記線分群の描画順を決定する描画順決定手段とをさらに含んでもよい。
【００２４】
また、前記待機時間設定手段によって前記第２待機時間が設定された場合に、前記一又は複数の線分を描画する描画速度よりも、前記空走区間を空走する空走速度を高く設定する速度設定手段をさらに含み、前記描画順決定手段は、前記速度設定手段によって設定された前記描画速度及び前記空走速度が反映された前記描画順を決定してもよい。
【００２５】
また、前記空走区間の距離が所定距離以上の場合に、前記空走区間を空走する空走速度を前記一又は複数の線分を描画する描画速度よりも高く設定する速度設定手段をさらに含んでもよい。
【００２６】
本発明の実施の形態の一観点の描画制御装置は、前記いずれか記載の描画順決定装置と、前記描画順決定装置が決定した前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段とを含む。
【００２７】
本発明の実施の形態の一観点のレーザ照射装置は、レーザを照射するレーザ発振器と、前記レーザ発振器が照射するレーザの照射方向を制御する方向制御ミラーと、前記方向制御ミラーを駆動する方向制御モータと、前記描画命令に基づき、前記レーザ発振器の照射出力の制御、及び前記方向制御モータの駆動制御を行う、前記に記載の描画制御装置とを有する。
【００２８】
本発明の実施の形態の一観点の最適化フォントＤＢは、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画装置を制御する描画制御装置が生成した最適化フォントＤＢであって、前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段と、前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段と、前記描画対象の描画時間が短くなるように描画順を決定する描画順決定手段と、前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段とを含む、描画制御装置が生成した、前記描画対象を描画するための描画情報を記憶した最適化フォントＤＢである。
【００２９】
本発明の実施の形態の一観点の描画順決定方法は、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順をコンピュータが決定する描画順決定方法であって、前記コンピュータは、前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算工程と、前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定工程とを実行する。
【００３０】
本発明の実施の形態の一観点の描画順決定プログラムは、コンピュータに、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定処理を実行させるための描画順決定プログラムであって、前記コンピュータを前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段、前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段、及び前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段として機能させる。
【００３１】
本発明の実施の形態の一観点の描画順決定プログラムを記録した記録媒体は、前記に記載の描画順決定プログラムを記録したものである。
【発明の効果】
【００３２】
描画装置の追従遅れを考慮して描画順を最適化する描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】従来のレーザマーキング装置による描画の問題点を説明するための図である。
【図２】実施の形態のレーザマーキング装置１００のハードウェア構成の一例を示す図である。
【図３】描画制御装置２０のハードウェア構成の一例を示す図である。
【図４】フォントデータ、座標データ、及び座標データに基づいて描画された文字の一例を表す図である。
【図５】実施の形態の描画制御装置２０の機能ブロックを示す図である。
【図６】（ａ）は、描画条件ＤＢ４３の一例を示す図であり、（ｂ）は、相連続する線分同士、又は線分とこの線分に連続する空走線分のなす角度の定義の仕方を説明するための図であり、（ｃ）は所要時間ＤＢ４４の一例を示す図である。
【図７】実施の形態の描画制御装置２０による描画順決定処理を表すフローチャートである。
【図８】（ａ）は文字列の一例を示す図であり、（ｂ）は（ａ）に示す文字列の描画基点の一例を示す図である。
【図９】線分同士の間に空走線分がある様々なパターンを示す図である。
【図１０】実施の形態２の描画制御装置２２０の機能ブロックを示す図である。
【図１１】実施の形態２の描画制御装置２２０による描画順決定処理を表すフローチャートである。
【図１２】実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２による描画対象の各々を描画する描画順を決定する処理を表すフローチャートである。
【図１３】実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２によって描画順が決定される文字列の一例を示す図である。
【図１４】実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２による各描画対象に含まれる線分を描画する描画順を決定する処理を表すフローチャートである。
【図１５】実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２によって線分の描画順が決定される描画対象の一例を示す図である。
【図１６】実施の形態２の描画制御装置における待機時間演算処理を表すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本発明の描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を適用した実施の形態について説明する。
【００３５】
ここでは、「描画対象」なる文言は、文字、数字、記号、図形等の描画の対象を表すものとして用いる。また、「文字」とは、遍（へん）や旁（つくり）、又は、更にその一部等、文字の全体又は一部を表す文言として用いる。同様に、「数字」、「記号」、「図形」は、数字、記号、図形の全体又は一部を表す文言として用いる。
【００３６】
また、「線分」とは、文字等の描画対象に含まれ、描画対象を描画するために両端の座標が決まっている区間をいう。この線分は、直線の一部だけでなく、曲線の一部も含み、太さを有する。
【００３７】
また、「一筆部品」とは、描画が開始される位置から次に描画が終了される位置までに連続的に描画される一又は複数の線分を含むものとして用いる。例えば、レーザ照射で描画を行う場合は、レーザの１回の照射開始点から照射終了点までに描画される文字等の一画が一筆部品となる。
【００３８】
このため、文字、数字、記号、図形等の描画対象は、１以上の一筆部品を含み、一筆部品は、１以上の線分を含む。
【００３９】
また、「空走区間」なる文言は、描画対象に含まれる一の線分の端点Ａと、他の線分の端点Ｂが離間している場合において、端点Ａの次に他の線分の描画を行うべく端点Ｂに描画位置を移動するために空走する場合の区間ＡＢいう。
【００４０】
また、「空走線分」なる文言は、空走区間ＡＢを仮想的な線分として表す場合に用いる。
【００４１】
なお、実施の形態の一筆部品（一画）は、従来のストロークフォントのストロークに対応するが、実施の形態の一筆部品は、レーザ照射装置としてのレーザマーキング装置１００による文字の描画に最適化されるものであって、公的機関（例えば、日本規格協会、ＩＳＯ等）等が定める一画と同じであってもよいし異なっていてもよい。実施の形態のレーザマーキング装置１００は、レーザ光により媒体を発色させて一筆部品を描画するため、一筆部品を適切な形状に調整する。
【００４２】
また、「描画順」なる文言は、描画対象に含まれる線分を描画する順（線分をどちらの端部から描画するかという描画順も含む）と、文章等に含まれる複数の描画対象の各々を描画する順との２つの意味を有するものとして用いる。
【００４３】
以下、実施の形態１、２の描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体について説明する。
【００４４】
＜実施の形態１＞
図２は、実施の形態１のレーザマーキング装置１００のハードウェア構成の一例を示す図である。
【００４５】
レーザマーキング装置１００は、レーザを照射する描画装置１０、及び、描画装置１０の描画を制御する描画制御装置２０を有する。描画装置１０は、レーザを照射するレーザ発振器１１、レーザの照射方向を変える方向制御ミラー１３、方向制御ミラー１３を駆動する方向制御モータ１２、光学レンズ１４、及び集光レンズ１５を含む。
【００４６】
レーザ発振器１１は、半導体レーザ（LD（Laser Diode））であるが、気体レーザ、固体レーザ、液体レーザ等でもよい。方向制御モータ１２は、方向制御ミラー１３の反射面の向きを２軸に制御する例えばサーボモータである。方向制御モータ１２と方向制御ミラー１３とによりガルバノミラーを構成する。ガルバノミラーによってレーザの照射点が走査される。光学レンズ１４は、レーザ光のスポット径を大きくするレンズであり、集光レンズ１５はレーザ光を収束させるレンズである。
【００４７】
リライタブル媒体５０は、１８０℃以上の温度に加熱して急冷することで発色し、１３０〜１７０℃の温度に加熱することで消色する書き換え可能な感熱媒体である。通常の感熱紙やサーマルリライタブル媒体は近赤外領域のレーザ光を吸収しないので、近赤外レーザ波長を発振するレーザ光源（半導体レーザや固体レーザのＹＡＧ等）を用いる場合は、感熱紙、サーマルリライタブル媒体にレーザ光を吸収する材料の添加や層を追加する必要がある。なお、書き換えとは、レーザ光で加熱して記録を行い、レーザ光又は温風、ホットスタンプ等で加熱して消去することである。また、書き換えができないサーマルペーパとは、加熱により消色が困難な感熱紙をいう。実施の形態１では、使用する媒体の例として、リライタブル媒体５０を使用した場合を説明するが、書き換えができないサーマルペーパ、プラスチック、金属等のように書き換えが可能でない媒体に対しても、好適に適用できる。
【００４８】
図３は、描画制御装置２０のハードウェア構成の一例を示す図である。図３は、主にソフトウェアによって描画制御装置２０を実装する場合のハードウェア構成図であり、コンピュータを実体としている。コンピュータを実体とせず描画制御装置２０を実現する場合、ＡＳＩＣ（（Application Specific Integrated Circuit））等の特定機能向けに生成されたＩＣを利用する。
【００４９】
描画制御装置２０は、ＣＰＵ３１、メモリ３２、ハードディスク３５、入力装置３６、ＣＤ−ＲＯＭドライブ３３、ディスプレイ３７及びネットワーク装置３４を有する。ハードディスク３５には、ストロークフォントの一連の文字のフォントデータを記憶するフォントデータＤＢ４１、フォントデータから重複を排除した描画命令を生成し描画装置１０を制御する文字描画プログラム４２、描画条件ＤＢ４３、及び所要時間ＤＢ４４が記憶されている。ここで、所要時間ＤＢ４４は、後述する描画順決定処理において線分の描画順を順次決定する段階で、後述する所要時間を格納するためのＤＢである。その内容については、描画順決定処理の説明と併せて後述する。
【００５０】
ＣＰＵ３１は、ハードディスク３５から文字描画プログラム４２を読み出して実行し、後述する手順で、リライタブル媒体５０に文字を描画する。メモリ３２は、ＤＲＡＭ等の揮発性メモリで、ＣＰＵ３１が文字描画プログラム４２を実行する際の作業エリアとなる。
【００５１】
入力装置３６は、マウスやキーボード等の描画装置１０を制御する指示をユーザが入力するための装置である。リライタブル媒体５０に描画する文章又は図形（以下、文章等）や、文章等に含まれる描画対象のサイズ等を表す描画条件は、例えば、入力装置３６を介してユーザによって入力される。入力された描画条件は、描画条件ＤＢ４３として、例えば、ハードディスク３５に記憶される。描画条件には、文章等の中における各描画対象の位置、サイズ、及び描画順等を表すデータが含まれる。描画条件のデータ構造については図６を用いて後述する。
【００５２】
ディスプレイ３７は、例えば文字描画プログラム４２が指示する画面情報に基づき所定の解像度や色数で、ＧＵＩ（Graphical User Interface）画面を表示するユーザインターフェイスとなる。例えば、リライタブル媒体５０に描画する文字の入力欄が表示される。
【００５３】
ＣＤ−ＲＯＭドライブ３３は、ＣＤ-ＲＯＭ３８を脱着可能に構成され、ＣＤ−ＲＯＭ３８からデータを読み出し、また、記録可能な記録媒体にデータを書き込む際に利用される。フォントデータＤＢ４１、及び文字描画プログラム４２は、ＣＤ-ＲＯＭ３８に記憶された状態で配布され、ＣＤ-ＲＯＭ３８から読み出されてハードディスク３５にインストールされる。ＣＤ−ＲＯＭ３８は、この他、ＤＶＤ、ブルーレイディスク、ＳＤカード、メモリースティック（登録商標）、マルチメディアカード、ｘＤカード等、不揮発性のメモリで代用することができる。
【００５４】
ネットワーク装置３４は、ＬＡＮやインターネット等のネットワークに接続するためのインターフェイス（例えばイーサネット（登録商標）カード）であり、OSI基本参照モデルの物理層、データリンク層に規定されたプロトコルに従う処理を実行して、描画装置１０に文字コードに応じた描画命令を送信することを可能とする。フォントデータＤＢ４１、及び文字描画プログラム４２は、ネットワークを介して接続した所定のサーバからダウンロードすることができる。なお、ネットワーク経由でなく、ＵＳＢ（Universal Serial Bus）、ＩＥＥＥ１３９４、ワイヤレスＵＳＢ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ等で直接、描画制御装置２０と描画装置１０を接続してもよい。
【００５５】
リライタブル媒体５０に描画される描画対象の文字は、上述のように入力装置３６から入力され、例えばリスト状のデータとしてハードディスク３５に記憶されている。なお、リライタブル媒体５０に描画される描画対象である文字等を含む文章等や、文章等に含まれる描画対象のサイズは、描画条件を構成する。
【００５６】
文字は、ＵＮＩＣＯＤＥやＪＩＳコード等の文字コードで特定され、描画制御装置２０は文字コードに対応する文字のフォントデータをフォントデータＤＢ４１から読み出し、描画装置１０を制御するための描画命令を生成する際に用いる。
【００５７】
また、描画対象の文字の文字コードは、入力装置３６から入力される場合と、予めハードディスク３５に記憶されている場合（ネットワーク経由で入力される場合を含む）とがある。
【００５８】
入力装置３６から入力される場合は、キーボードのキーを押下することで入力されるキーコードに対応した文字コード、又は、ＩＭＥ（Input Method Editor）が起動している場合にキーコードからＩＭＥが変換した文字コードが対象文字コード取得手段２４に入力される。また、ハードディスク３５に予め記憶されている場合は、例えば、宛先等の文字列がリスト状に記憶されているので、文字列の文字を指定する文字コードが読み出され、対象文字コード取得手段２４に入力される。
【００５９】
また、描画対象が数字の「１」のように、全て直線状の線分で構成されている場合は、各線分の座標を容易に抽出することができる。しかしながら、アウトラインフォントでは曲線をスケーラブルに描画できるように、例えばベジェ曲線のような曲線で描画できるようになっている。曲線で描画されていると、線分間の距離の算出が複雑になるので、曲線を含む描画対象であっても直線状の線分に変換して描画することが好適になる。
【００６０】
そこで、実施の形態１の描画制御装置２０は、フォントデータが曲線を含む場合、曲線部分を直線に変換し、各直線の線分の座標を検出する。なお、文字が曲線を含む場合、フォントデータには曲線制御用のデータが含まれているので、その文字が曲線を含むか否かはフォントデータから判定される。
【００６１】
図４は、フォントデータ、座標データ、及び座標データに基づいて描画された文字の一例を表す図である。図４（ａ）は、描画情報としてのフォントデータの一例を示す。図４（ａ）のフォントデータはアルファベットの「ｒ」という文字のフォントデータを示し、４つの線分で定義するためのデータを含む。フォントデータは、各線分の端点の座標と、描画順を有する。フォントデータに含まれる端点の座標は、文字をビットマップに配置した場合のビットマップの所定画素を原点に指定されている。
【００６２】
なお、実施の形態１の描画制御装置２０は、描画順を最適化するために、フォントデータに含まれる描画順を変更する場合がある。
【００６３】
ストロークフォントをレーザ等で描画する場合、座標だけではレーザを照射しながら移動するのか、レーザを照射しないで移動するのかを判別できない。このため、ストロークフォントのフォントデータには、レーザの描画開始位置（人間が書くとすると筆をおろす位置）と移動命令、レーザの描画終了位置（人間が書くとすると筆を上げる位置）と移動命令が含まれている。
【００６４】
図４（ａ）では、「ｍ」はレーザの描画開始位置とその座標までの移動命令を示し、「ｄ」は描画終了位置とその座標までの移動命令を示す。従って、「ｍ」は筆を上げて移動することを意味し、「ｄ」は筆を下ろして移動することを意味する。このように、フォントデータは、座標による文字の形状、描画の順番、描画の方向（図では矢印を有する線分）を規定し、「ｍ」と「ｄ」によりレーザ照射の有無を規定する。すなわち、一以上の連続した「ｄ」に対応づけられた座標により表される線分が一筆部品である。
【００６５】
従って、図４（ａ）に示す描画情報としてのフォントデータは、座標（１００，５００）から座標（１００、５０）まで線分が描かれ、座標（１００，５０）から座標（１２０、２２０）までは線分を描かずに移動し、座標（１２０、２２０）から座標（２３０、５００）まで線分が描かれ、座標（２３０、５００）から座標（３００、５００）まで線分が描かれ、さらに、座標（３００、５００）から座標（４００、４５０）まで線分が描かれることを表す。
【００６６】
一方、描画される文字の形状は、線分を指定する２点の座標が線分の数だけあれば特定できることになる。図４（ｂ）は、媒体に実際に描画される文字（ここでは「ｒ」）を構成する各線分の座標の一例を示す。図４（ｂ）は、媒体に描画対象を描画する描画位置を表すデータとしての座標データを示しており、描画情報としてのフォントデータに基づき文字の大きさを２倍に拡大した場合の座標データを表す。ストロークフォントは、アウトラインフォントようにスケーラブルフォントの一種なので、例えば、リライタブル媒体５０に描画する際の文字の大きさを指定できるようになっている。
【００６７】
ストロークフォントの文字の大きさの調整方法はいくつか知られているが、ここでは説明のため単にフォントデータの座標をそれぞれ２倍にした。例えば文字の中心からの距離に応じて線分の座標を調整してもよい。
【００６８】
アルファベットの「ｒ」のように４つの線分を含む文字の場合、線分の座標は４組となる。図４（ｂ）に示す[０]〜[３]は、各線分の描画順を示し、描画順の右側に続く４つの数字のうち、最初の２つの数値は線分の始点の座標を表し、残りの（右側の）２つの数値は線分の終点の座標を表す。
【００６９】
図４（ｂ）に示す描画位置を表すデータとしての座標データを用いると、描画対象である「ｒ」は、図４（ｃ）に示すように、点Ａ→点Ｂ、点Ｃ→点Ｄ→点Ｅ→点Ｆの順に描画される。
【００７０】
次に、図５を用いて実施の形態１の描画制御装置の機能ブロックについて説明する。
【００７１】
図５は、実施の形態１の描画制御装置２０の機能ブロックを示す図である。各ブロックをソフトウェアで実現する場合、各ブロックはＣＰＵ３１が文字描画プログラム４２を実行することで実現される。
【００７２】
描画制御装置２０は、主制御手段２１１、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３を含む。なお、描画制御装置２０のうち、描画命令生成手段２３を除く、主制御手段２１１、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３は、描画順決定装置を構成する。
【００７３】
主制御手段２１１は、後述する描画順の決定処理を実行する際に描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３の処理を統括する処理と、その他に必要となる周辺処理を実行する制御手段である。
【００７４】
描画位置決定手段２１は、フォントデータ取得手段２５によってフォントデータＤＢ４１から読み出されるフォントデータと、描画条件取得手段２６によって描画条件ＤＢ４３から読み出される描画条件とに基づいて、描画対象をリライタブル媒体５０に描画する描画位置である座標データを決定する。なお、描画条件には、文章等の中における各描画対象の位置、サイズ、及び描画順等を表すデータが含まれる。描画条件を表すデータについては図６を用いて後述する。
【００７５】
描画順決定手段２２は、描画対象に含まれる線分を描画する描画順と、文章等に含まれる複数の描画対象の各々を描画する描画順との両方の描画順を決定する。
【００７６】
描画命令生成手段２３は、描画位置決定手段２１によって決定される座標データ、描画順決定手段２２によって決定される描画順、速度演算手段２９によって演算される描画速度、及び待機時間演算手段３０によって演算される待機時間を反映した描画命令を生成する。生成された描画命令は、描画装置１０に入力され、この結果、ユーザによって入力装置３６に入力された文章等を表す描画対象が描画装置１０によってリライタブル媒体５０に描画される。
【００７７】
対象文字コード取得手段２４は、ユーザによって入力装置３６に入力された文章等に含まれる描画対象の文字コードを取得する。
【００７８】
フォントデータ取得手段２５は、対象文字コード取得手段２４によって取得された文字コードに基づいてフォントデータＤＢ４１を参照し、文字コードに対応づけられたフォントデータを読み出す。
【００７９】
描画条件取得手段２６は、リライタブル媒体５０に描画する描画対象である文字等を含む文章等や、文章等に含まれる描画対象のサイズの条件を表す描画条件をハードディスク３５に記憶された描画条件ＤＢ４３から取得する。
【００８０】
方向変化度合演算手段２７は、描画位置決定手段２１によって決定される座標データに基づき、相連続する線分同士のなす角度、又は、線分とこの線分に連続する空走線分のなす角度を方向変化度合として演算する。
【００８１】
方向変化度合判定手段２８は、方向変化度合演算手段２７によって演算された方向変化度合が所定度合より大きいか否かの判定を行う。実施の形態１では、所定度合は３０°に設定されており、方向変化度合判定手段２８は、相連続する線分同士のなす角度が３０°より大きいか否かを判定する。相連続する線分同士のなす角度と、線分とこの線分に連続する空走線分のなす角度の定義の仕方については、図６を用いて後述する。
【００８２】
速度演算手段２９は、描画対象の描画を行う際の描画速度と、空走区間を空走する際の空走速度とを演算する。空走速度は、次の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）で示される第１ルールの下に決定される。
（Ａ）：空走区間の長さが所定長さより長い場合は、空走速度を描画速度より高くする。
（Ｂ）：空走区間の長さが所定長さ以下であっても、空走区間の終了点で待機時間が設定されて場合は、空走速度を描画速度より高くする。
（Ｃ）：（Ａ）（Ｂ）以外の場合は、空走速度を描画速度と同一にする。
【００８３】
待機時間演算手段３０は、描画終了点において次の線分の描画開始を待機する時間ｔｅと、描画開始点において次の線分の描画開始を待機する時間ｔｓとを演算する。待機時間ｔｅ、ｔｓは、次の（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）で示される第２ルールの下に決定される。待機時間演算手段３０によって演算される待機時間を表すデータは、描画順決定手段２２によって生成される描画順に組み込まれる。
（Ｄ）：線分とこの線分に連続する空走線分とのなす角度が所定の角度以下の場合は描画終了点で待機時間ｔｅを挿入しない。
（Ｅ）線分とこの線分に連続する空走線分とのなす角度が所定の角度より大きい場合は描画終了点で待機時間ｔｅを挿入する。
（Ｆ）：空走線分とこの空走線分に連続する線分とのなす角度が所定の角度以下の場合は描画開始点で待機時間ｔｓを挿入しない。
（Ｇ）空走線分とこの空走線分に連続する線分とのなす角度が所定の角度より大きい場合は描画開始点で待機時間ｔｓを挿入する。
（Ｈ）：空走線分とこの空走線分に連続する線分とのなす角度が所定の角度以下の場合（（Ｆ）の場合）であっても、空走速度が描画速度よりも高い場合は描画開始点で待機時間ｔｓを挿入する。
【００８４】
空走距離演算手段２１２は、座標データに基づき、空走区間の距離を演算する。
【００８５】
空走距離判定手段２１３は、空走距離演算手段２１２によって演算された空走区間の距離が所定距離以上であるか否かを判定する。
【００８６】
図６（ａ）は、描画条件ＤＢ４３の一例を示す図であり、図６（ｂ）は、相連続する線分同士のなす角度と、線分とこの線分に連続する空走線分のなす角度の定義の仕方を説明するための図であり、（ｃ）は所要時間ＤＢ４４の一例を示す図である。
【００８７】
図６（ａ）に示すように、描画条件ＤＢ４３は、描画対象の種別を特定するための文字コードの一例としてのＪＩＳコード、文章等を表す描画対象の各々が配置される位置（ｘ、ｙ座標）を表す位置データ、サイズ、及び描画順を表すデータを含む。描画順を表すデータは、図７を用いて後述する描画順決定処理によって線分毎に確定される。また、描画対象の位置を示す座標値は、例えば、描画対象が配置される領域の左上の点の座標である。
【００８８】
図６（ｂ）に示すように、相連続する線分同士のなす角度（すなわち、方向変化度合）は、相連続する線分ＡＢと線分ＢＣに対して、線分ＡＢの延長線ｌと線分ＢＣとがなす角度θとして求められる。また、線分とこの線分に連続する空走線分とのなす角は、図６（ｂ）に示す線分ＡＢ又は線分ＢＣのいずれか一方を空走線分に置き換えた場合の角度として求められる。
【００８９】
図６（ｃ）に示すように、所要時間ＤＢ４４は、線分の端部のｘ、ｙ座標と所要時間を関連付けて格納するＤＢである。所要時間ＤＢ４４は、実施の形態１の描画順決定処理において次の描画順の候補となる線分を決定する際に、総当たり形式で演算される候補線分の端部までの所要時間を格納する。
【００９０】
なお、ＪＩＳコード、ｘ座標値、ｙ座標値、描画対象のサイズ、描画順、及び所要時間として、アルファベットと数字を組み合わせた記号を示すが、実際の描画制御装置では具体的なコード番号、ｘ座標値、ｙ座標値、及び描画対象のサイズ、描画順、及び所要時間を表す数値が与えられる。
【００９１】
次に、図７を用いて、実施の形態１の描画制御装置２０による描画順決定処理について説明する。
【００９２】
図７は、実施の形態１の描画制御装置２０による描画順決定処理を表すフローチャートである。
【００９３】
まず、描画位置決定手段２１は、フォントデータ取得手段２５によってフォントデータＤＢ４１から読み出されるフォントデータと、描画条件取得手段２６によって描画条件ＤＢ４３から読み出される描画条件とに基づいて、描画対象をリライタブル媒体５０に描画する描画位置である座標データを決定する（ステップＳ１）。
【００９４】
このステップＳ１の処理に際し、フォントデータ取得手段２５は、対象文字コード取得手段２４によって取得された文字コードに基づいてフォントデータＤＢ４１を参照し、文字コードに対応づけられたフォントデータを読み出す。そして、描画位置決定手段２１は、フォントデータ取得手段２５によってフォントデータＤＢ４１から読み出されるフォントデータと、描画条件取得手段２６によって描画条件ＤＢ４３から読み出される描画条件に含まれるサイズのデータとに基づいて、描画対象をリライタブル媒体５０に描画する描画位置である座標データを決定する。以上により、ステップＳ１の処理が行われる。
【００９５】
例えば、図８（ａ）に示すような文字列を描く場合は、図８（ｂ）に示すように描画基点（例えば、左上の点を基点とし、基点の座標値は（ｘ０，ｙ０）とする）を設定し、描画条件に含まれる文字サイズ等から、描画対象に含まれる各線分を描画する位置を表す座標データを決定する。
【００９６】
次に、主制御手段２１１は、描画装置１０のレーザの照射点の現在位置と、描画順を決定する線分の総数とを取得する（ステップＳ２）。レーザの照射点の位置は、方向制御モータ１２（図２参照）を制御するための２軸方向のデータからｘ、ｙ座標を表す値として取得することができる。また、線分の総数は、描画条件に含まれるすべての描画対象のフォントデータ、又は、ステップＳ１で決定した座標データに基づいて取得することができる。
【００９７】
次に、主制御手段２１１は、ステップＳ２で取得した照射点の現在位置がいずれかの線分の端点に一致するか否かを判定する（ステップＳ３）。この判定は、ステップＳ１で決定した座標データに含まれる線分の端点を表すｘ、ｙ座標の中に、ステップＳ２で取得した照射点の現在位置を表すｘ、ｙ座標と一致するデータがあるか否かを判定することによって行われる。
【００９８】
主制御手段２１１は、ステップＳ３で一致するデータがあると判定した場合は、ｘ、ｙ座標で表される端点を一端とする線分を描画開始線分とする（ステップＳ４Ｙ）。描画開始線分とは、描画条件に含まれるすべての描画対象に含まれるすべての線分のうち、最初に描画を行う線分をいう。なお、ステップＳ４Ｙで選択される描画開始線分の両端のうち、描画が開始されるのは、ステップＳ３で照射点の現在位置と一致した端点である。
【００９９】
一方、主制御手段２１１は、ステップＳ３で一致するデータが無いと判定した場合は、照射点を表すｘ、ｙ座標に一番近い端点を座標データから抽出し、その端点を含む線分を描画開始線分とする（ステップＳ４Ｎ）。なお、描画が開始されるのは、照射点を表すｘ、ｙ座標に一番近い端点である。
【０１００】
主制御手段２１１は、次に描画する線分の候補となる候補線分の端点を選択する（ステップＳ５）。この処理は、描画順が次となる線分の描画開始点の候補を選択するための処理であり、後述するステップＳ１８までの処理がすべての線分を候補として総当たり形式で繰り返し実行されることにより、座標データに含まれる端点を次々と選択して行く処理である。総当たり形式で各線分を候補線分とした場合の待機時間を演算し、後述するステップＳ１６において待機時間が最も短いと判定された候補線分の端点を次の描画開始点として決定する。なお、線分は２つの端点を含むため、ステップＳ５の処理を繰り返し実行することにより、各線分の両端の端点が選択されることになる。
【０１０１】
ここで、ステップＳ５で選択される端点（描画順が次となる候補線分の描画開始点）と、描画順がその前であると決定している線分の描画終了点とを結ぶ線分は、空走線分となる。空走線分の両端は、座標データから得られる。例えば、図９（ａ）に示す例では、描画順が決定している線分ＡＢの描画終了点Ｂと、描画順がその次となる候補線分ＣＤの描画開始点Ｃとを結ぶ線分が空走線分ＢＣとなる。
【０１０２】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ５で選択した端点によって得られる空走線分と、描画順が決定している線分とのなす角θｅ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ６）。なす角は、座標データに基づき、図６（ｂ）に示す要領で求められる。例えば、図９（ａ）で示す例では、描画順の決定している線分ＡＢと、空走線分ＢＣとのなす角度をθｅとして演算することになる。なお、図９（ａ）に示す例では、線分ＡＢと空走線分ＢＣは同一直線上にあるため、θｅは０°となる。
【０１０３】
次いで、方向変化度合判定手段２８は、ステップＳ６で演算されたなす角θｅが所定の角度θ１以下であるか否かを判定する（ステップＳ７）。実施の形態１では、θ１は３０°に設定されるが、この値に限られるものではない。
【０１０４】
次に、空走距離演算手段２１２は、ステップＳ５で選択される端点と、描画順がその前であると決定している線分の描画終了点とを結ぶ空走線分の長さｄ（すなわち、空走区間の距離ｄ）を座標データに基づいて演算する（ステップＳ８Ｙ）。例えば、図９（ａ）に示す例では、空走線分ＢＣの長さｄが点Ｂ、Ｃの座標データに基づいて演算される。
【０１０５】
ステップＳ８Ｙで空走区間の距離ｄが求まると、空走距離判定手段２１３は、空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０以下であるか否かを判定する（ステップＳ９Ｙ）。
【０１０６】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ５で選択した端点を含む線分と、空走線分とのなす角θｓ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ１０Ａ）。なす角θｓは、座標データに基づき、図６（ｂ）に示す要領で求められる。
【０１０７】
ステップＳ１０Ａにおいて角度θｓが演算されると、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１Ａ）。実施の形態１では、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０１０８】
ステップＳ１１Ａで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓを零（０）、空走区間の空走速度ＶをＶ１に設定する（ステップＳ１２Ａ）。なお、空走速度Ｖ１は、線分を描画する描画速度と同一の速度である。
【０１０９】
ステップＳ１２Ａで待機時間ｔｅが零（０）に設定されるのは、ステップＳ７においてθｅが所定のθ１以下であると判定されたからである。これは、図９（ａ）に示す例では、線分ＡＢの描画終了点である点Ｂにおいて、線分ＡＢと空走線分ＢＣのなす角度θｅが所定の角度θ１以下であり、空走区間に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１１０】
また、ステップＳ１２Ａで待機時間ｔｓが零（０）に設定されるのは、ステップＳ１１Ａにおいてθｓが所定のθ２以下であると判定されたからである。これは、図９（ａ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２以下であり、空走から描画に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１１１】
また、ステップＳ１２Ａで空走速度Ｖを描画速度と同一のＶ１に設定するのは、ステップＳ９Ｙにおいて空走区間の距離ｄが距離ｄ０以下であると判定され、空走区間の距離は比較的短いため、空走速度を上昇させる必要性に乏しいからである。また、空走区間が短くても空走速度を高くした方が空走時間は短くなるが、θｓがθ２以下であることによって描画開始点（点Ｃ）における待機時間は零（０）に設定されているため、上昇させた空走速度を低下させるためだけに待機時間を設定する必要はないと考えられる。このため、空走速度ＶはＶ１に設定される。
【０１１２】
なお、ステップＳ１２Ａは、上述のルール（Ｃ）（Ｄ）（Ｆ）が適用された場合である。
【０１１３】
以上のように、主制御手段２１１は、ステップＳ１２Ａで待機時間ｔｅ、ｔｓ、及び空走速度Ｖが設定されると、描画終了点から空走して描画開始点で描画を開始するまでの所要時間ｔｋを計算する（ステップＳ１３）。
【０１１４】
ｔｋは、ステップＳ２で取得されたＮ個の線分に含まれる２Ｎ個の端点のうち、ｋ番目の端点について計算される所要時間である。ｋは、１≦ｋ≦２（Ｎ−１）を満たす整数であり、ｔｋは次式（１）で計算される。
【０１１５】
ｔｋ＝ｔｅｋ＋ｄｋ／Ｖ＋ｔｓｋ ・・・（１）
ここで、ｔｅｋは、（Ｎ−１）本の候補線分に含まれる２（Ｎ−１）個の端点のうち、ｋ番目の端点について演算された描画終了点での待機時間（第１待機時間）を表し、ｔｓｋはｋ番目の端点について演算された描画開始点での待機時間（第２待機時間）を表す。また、ｄｋはｋ番目の端点について演算された空走線分の長さを表し、Ｖは空走速度を表す。このため、ｄｋ／Ｖは、空走区間の空走に要する時間（空走時間）を表す。
【０１１６】
ステップＳ１３で演算された所要時間は、ｋ番目の端点のｘ、ｙ座標と関連付けられて、ハードディスク３５内に所要時間ＤＢ（図６（ｃ）参照）として記憶される。
【０１１７】
主制御手段２１１は、ステップＳ１３の処理が終了すると、次の端点についての所要時間を演算すべく、ｋの値をインクリメントする（ステップＳ１４）。
【０１１８】
次いで、主制御手段２１１は、ｋ≧２（Ｎ−１）が成立するかを判定する（ステップＳ１５）。（Ｎ−１）本の候補線分に含まれる２（Ｎ−１）個のすべての端点についての処理が終了したか否かを判定するためである。
【０１１９】
主制御手段２１１は、ステップＳ１５において、すべての端点についての処理が終了していないと判定した場合は、フローをステップＳ５にリターンする。
【０１２０】
なお、ステップＳ１１Ａにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ１２Ｂに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｂ）。なお、空走速度Ｖ２は、線分を描画する描画速度の２倍の速度である。
【０１２１】
ステップＳ１２Ｂで待機時間ｔｅが零（０）に設定されるのは、ステップＳ１２Ａの場合と同様に、ステップＳ７においてθｅが所定のθ１以下であると判定されたからである。これは、図９（ｂ）に示す例では、線分ＡＢの描画終了点である点Ｂにおいて、線分ＡＢと空走線分ＢＣのなす角度θｅが所定の角度θ１以下であり、空走区間に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収束するのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１２２】
また、ステップＳ１２Ｂで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１１Ａにおいてθｓが所定のθ２より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｂ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２より大きく、空走から描画に入る際の角度変化が比較的大きいため、空走区間と描画区間との境界点（点Ｃ）で方向を変える際に、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１２３】
また、ステップＳ１２Ｂで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、空走区間と線分とのなす角度が大きいことによって描画開始点（点Ｃ）で待機時間ｔ１が設けられており、この待機時間ｔ１を利用して空走速度Ｖ２から描画速度Ｖ１に減速する際の追従遅れを収束させられるため、空走距離がｄ０以下でも空走速度を高くして空走時間を短くするためである。
【０１２４】
なお、ステップＳ１２Ｂは、上述のルール（Ｂ）（Ｄ）（Ｇ）が適用された場合である。
【０１２５】
また、ステップＳ９Ｙにおいて空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０より長いと判定された場合は、フローはステップＳ１１Ｂに進行し、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１Ｂ）。ステップＳ１１ＢはステップＳ１１Ａと同一内容であり、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０１２６】
ステップＳ１１Ｂで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｃ）。なお、空走速度Ｖ２は、描画速度の２倍の速度である。
【０１２７】
ステップＳ１２Ｃで待機時間ｔｅが零（０）に設定されるのは、ステップＳ６において演算されたθｅがステップＳ７において所定のθ１以下であると判定されたからである。これは、図９（ｃ）に示す例では、線分ＡＢの描画終了点である点Ｂにおいて、線分ＡＢと空走線分ＢＣは同一直線上にあり、なす角度θｅは所定の角度θ１以下である。このように、空走区間に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１２８】
また、ステップＳ１２Ｃで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ８Ｙにおいて演算された空走距離ｄがステップＳ９Ｙにおいてｄ０より長いと判定され、これにより空走速度が描画速度の２倍のＶ２に設定されたため、速度低下に伴う追従遅れを収束させる待機時間が必要になるからである。これは、図９（ｃ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走速度Ｖ２から描画速度Ｖ１に減速されるため、レーザの照射点の追従遅れを収束させるための待機時間を設けたものである。
【０１２９】
また、ステップＳ１２Ｃで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、ステップＳ９Ｙにおいて空走区間の距離ｄが距離ｄ０より長いと判定され、空走区間の距離が比較的長い場合であるため、空走速度を高くして空走時間を短縮するためである。
【０１３０】
なお、ステップＳ１２Ｃは、上述のルール（Ａ）（Ｄ）（Ｈ）が適用された場合である。
【０１３１】
また、ステップＳ１１Ｂにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ１２Ｄに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｄ）。
【０１３２】
ステップＳ１２Ｄで待機時間ｔｅが零（０）に設定されるのは、ステップＳ１２Ｃと同一の理由である。
【０１３３】
また、ステップＳ１２Ｄで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１１Ｂにおいてθｓが所定のθ２より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｄ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２より大きく、空走から描画に入る際の角度変化が比較的大きいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１３４】
また、ステップＳ１２Ｄで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、描画開始点である点Ｃで待機時間ｔ１が設けられているので、空走速度を高くすることによって追従遅れが生じても点Ｃで吸収できるため、空走速度を高くして空走時間を短くするためである。
【０１３５】
なお、ステップＳ１２Ｄは、上述のルール（Ａ）（Ｄ）（Ｇ）が適用された場合である。
【０１３６】
また、ステップＳ７において、θｅがθ１より大きいと判定された場合は、フローはステップＳ８Ｎに進行し、空走距離演算手段２１２は、ステップＳ５で選択される端点と、描画順がその前であると決定している線分の描画終了点とを結ぶ空走線分の長さｄ（すなわち、空走区間の距離ｄ）を座標データに基づいて演算する（ステップＳ８Ｎ）。例えば、図９（ｅ）に示す例では、空走線分ＢＣの長さｄが点Ｂ、Ｃの座標データに基づいて演算される。
【０１３７】
ステップＳ８Ｎで空走区間の距離ｄが求まると、空走距離判定手段２１３は、空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０以下であるか否かを判定する（ステップＳ９Ｎ）。
【０１３８】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ５で選択した端点を含む線分と、空走線分とのなす角θｓ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ１０Ｃ）。
【０１３９】
ステップＳ１０Ｃにおいて角度θｓが演算されると、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１Ｃ）。実施の形態１では、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０１４０】
ステップＳ１１Ｃで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点（点Ｂ）における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点（点Ｃ）における待機時間ｔｓを零（０）、空走区間の空走速度ＶをＶ１に設定する（ステップＳ１２Ｅ）。
【０１４１】
ステップＳ１２Ｅで待機時間ｔｅに設定されるのは、ステップＳ７においてθｅが所定のθ１より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｅ）に示す例では、線分ＡＢの描画終了点である点Ｂにおいて、線分ＡＢと空走線分ＢＣのなす角度θｅが所定の角度θ１より大きく、空走区間に入る際の角度変化が比較的大きいため、角度変化によるレーザの照射点の追従遅れが収束するのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１４２】
また、ステップＳ１２Ｅで待機時間ｔｓが零（０）に設定されるのは、ステップＳ１１Ａにおいてθｓが所定のθ２以下であると判定されたからである。これは、図９（ｅ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２以下であり、空走から描画に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１４３】
また、ステップＳ１２Ｅで空走速度Ｖを描画速度と同一のＶ１に設定するのは、ステップＳ９Ｙにおいて空走区間の距離ｄが距離ｄ０以下であると判定され、空走区間の距離は比較的短いため、空走速度を上昇させる必要性に乏しいからである。また、空走区間が短くても空走速度を高くした方が空走時間は短くなるが、θｓがθ２以下であることによって描画開始点（点Ｃ）における待機時間は零（０）に設定されているため、上昇させた空走速度を低下させるためだけに待機時間を設定する必要はないと考えられる。このため、空走速度ＶはＶ１に設定される。
【０１４４】
なお、ステップＳ１２Ｅは、上述のルール（Ｃ）（Ｅ）（Ｆ）が適用された場合である。
【０１４５】
また、ステップＳ１１Ｃにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ１２Ｆに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｆ）。なお、空走速度Ｖ２は、線分を描画する描画速度の２倍の速度である。
【０１４６】
ステップＳ１２Ｆで待機時間ｔｅがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１２Ｅと同様の理由によるものである。
【０１４７】
また、ステップＳ１２Ｆで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１１Ｃにおいてθｓが所定のθ２より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｆ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２より大きく、空走から描画に入る際の角度変化が比較的大きいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１４８】
また、ステップＳ１２Ｆで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、空走区間と線分とのなす角度が大きいことによって描画開始点（点Ｃ）で待機時間ｔ１が設けられており、この待機時間ｔ１を利用して空走速度Ｖ２から描画速度Ｖ１に減速する際の追従遅れを収束させられるため、空走距離がｄ０以下でも空走速度を高くして空走時間を短くするためである。
【０１４９】
なお、ステップＳ１２Ｆは、上述のルール（Ｂ）（Ｅ）（Ｇ）が適用された場合である。
【０１５０】
また、ステップＳ９Ｎにおいて空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０より長いと判定された場合は、フローはステップＳ１１Ｄに進行し、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１Ｄ）。ステップＳ１１ＤはステップＳ１１Ａ、Ｓ１１Ｂ、Ｓ１１Ｃと同一内容であり、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０１５１】
ステップＳ１１Ｄで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｇ）。
【０１５２】
ステップＳ１２Ｇで待機時間ｔｅがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１２Ｅ、Ｓ１２Ｆと同様の理由によるものである。
【０１５３】
また、ステップＳ１２Ｇで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、空走距離ｄがステップＳ９Ｎにおいてｄ０より長いと判定され、これにより空走速度が描画速度の２倍のＶ２に設定されたため、速度低下に伴う追従遅れを収束させる待機時間が必要になるからである。これは、図９（ｇ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走速度Ｖ２から描画速度Ｖ１に減速されるため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設けたものである。
【０１５４】
また、ステップＳ１２Ｇで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、ステップＳ９Ｎにおいて空走区間の距離ｄが距離ｄ０より長いと判定され、空走区間の距離が比較的長い場合であるため、空走速度を高くして空走時間を短縮するためである。
【０１５５】
なお、ステップＳ１２Ｇは、上述のルール（Ａ）（Ｅ）（Ｈ）が適用された場合である。
【０１５６】
また、ステップＳ１１Ｄにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ１２Ｈに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｈ）。
【０１５７】
ステップＳ１２Ｈで待機時間ｔｅがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１２Ｅ、Ｓ１２Ｆ、Ｓ１２Ｇと同一の理由である。
【０１５８】
また、ステップＳ１２Ｈで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１１Ｄにおいてθｓが所定のθ２より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｈ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２より大きく、空走から描画に入る際の角度変化が比較的大きいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１５９】
また、ステップＳ１２Ｈで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、描画開始点である点Ｃで待機時間ｔ１が設けられているので、空走速度を高くすることによって追従遅れが生じても点Ｃで吸収できるため、空走速度を高くして空走時間を短くするためである。
【０１６０】
なお、ステップＳ１２Ｈは、上述のルール（Ａ）（Ｅ）（Ｇ）が適用された場合である。
【０１６１】
ステップＳ１２Ｂ、Ｓ１２Ｃ、Ｓ１２Ｄ、Ｓ１２Ｅ、Ｓ１２Ｆ、Ｓ１２Ｇ、Ｓ１２Ｈの後にはステップＳ１３において、描画開始までの所要時間が演算される。
【０１６２】
以上で、ステップＳ１３により、ステップＳ４Ｙ又はＳ４Ｎで描画開始線分として決定した線分の描画終了点と、次に描画する線分の候補となる（Ｎ−１）本の候補線分に含まれる２（Ｎ−１）個の端点との間のすべての空走線分についての所要時間ｔｋが総当たり形式で計算されたことになる。
【０１６３】
これにより、ステップＳ１５では、ｋ≧２（Ｎ−１）が成立し、フローはステップＳ１６に進行する。
【０１６４】
ステップＳ１６では、描画順決定手段２２は、ステップＳ１３で求められたすべての所要時間を実現する端点のうち、最短の所要時間の端点を求める（ステップＳ１６）。
【０１６５】
ステップＳ１６で端点が求められると、その端点を含む線分が描画開始線分の次の描画順の線分として確定する。すなわち、ステップＳ１６は、描画順決定手段２２が所要時間に基づいて描画順を決定するステップである。候補線分は２つの端点（両端）で規定されるため、候補線分の両端のうちの一方の端点がステップＳ１６で求められることにより、その端点を含む候補線分が次の描画順の線分として確定されるものである。なお、描画順が確定された線分については、例えば、描画条件ＤＢ４３（図６（ａ）参照）に描画順を格納すればよい。
【０１６６】
次いで、主制御手段２１１は、すべての線分の描画順が確定したか否かを判定する（ステップＳ１７）。この判定は、例えば、描画条件ＤＢ４３に格納される描画順がすべての描画対象のすべての線分について確定しているか否かを判定することによって行われる。
【０１６７】
主制御手段２１１は、ステップＳ１７においてすべての線分の描画順が確定していないと判定した場合は、ステップＳ１６で描画順を確定した線分の描画終了点を基準点に設定し、次の描画順の線分を決定すべくフローをステップＳ５にリターンする。
【０１６８】
なお、ステップＳ１６を繰り返し実行することにより、描画順の確定していない線分の数は１つずつ減るため、フローがステップＳ１７からステップＳ５へリターンする過程で、総線分数Ｎがデクリメントされる（ステップＳ１９）。ステップＳ１９の処理が終了すると、デクリメントされた線分総数Ｎを用いて、ステップＳ５以下の処理が繰り返し実行される。
【０１６９】
そして、ステップＳ１７において主制御手段２１１がすべての線分の描画順が確定したと判定した場合に、すべての線分の描画順が確定する。確定した描画順は、すべての描画対象を描画する描画時間が最短となるように最適化されたものである。これにより、実施の形態１の描画制御装置によって生成される最適化フォントＤＢが完成する。
【０１７０】
以上、実施の形態１の描画制御装置２０によれば、描画開始線分の描画終了点からすべての線分を候補として総当たり形式で描画に要する所要時間（待機時間と空走時間を含む所要時間）が最短の端点を含む線分を次の描画順の線分として繰り返し選択するので、描画順の最適化を図ることができる。
【０１７１】
なお、以上では、描画順が一番となる線分（描画開始線分）をレーザの照射位置の初期位置で決める形態について説明したが、次のような手法で描画順を決定するようにしてもよい。上述した実施の形態では照射点の現在位置を基準とし、その照射点と同一又は一番近い端点を描画開始点としたが、以下の手法では、描画開始点についても最適化を行う点が異なる。
【０１７２】
描画対象の線分はＮ本あり、各線分は両端点から描画が可能であるため、線分１本あたり２通りの描画順が考えられる。
【０１７３】
この場合に、すべての線分を描画する順番は、式（２）で表されるだけの組み合わせがある。
【０１７４】
２Ｎ＊２（Ｎ−１）＊２（Ｎ−２）＊・・・＊２ ・・・（２）
ここで、＊は、べき乗を表す。
【０１７５】
これらの描画順の各々に対し、線分同士又は線分と空走線分の方向変化度合θと端点同士の距離ｄから、上述したｔｅ、ｔｓ、Ｖを決定し、各描画順についての所要時間の合計値を求める。
【０１７６】
そして、所要時間の合計値が最も短い描画順を最適化された描画順として抽出する。このように描画順を決定してもよい。
【０１７７】
＜実施の形態２＞
図１０は、実施の形態２の描画制御装置２２０の機能ブロックを示す図である。各ブロックをソフトウェアで実現する場合、各ブロックはＣＰＵ３１が文字描画プログラム４２を実行することで実現される。
【０１７８】
描画制御装置２２０は、主制御手段２１１、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３に加えて、線分群生成手段２２１を含む。
【０１７９】
すなわち、実施の形態２の描画制御装置２２０は、実施の形態１の描画制御装置２０に、線分群生成手段２２１を付加した構成を有する。
【０１８０】
描画制御装置２２０のうち、描画命令生成手段２３を除く、主制御手段２１１、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、空走距離判定手段２１３、及び線分群生成手段２２１は、描画順決定装置を構成する。
【０１８１】
主制御手段２１１は、描画順の決定処理を実行する際に、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、空走距離判定手段２１３、及び線分群生成手段２２１の処理を統括する処理と、その他に必要となる周辺処理を実行する制御手段である。
【０１８２】
線分群生成手段２２１は、各線分の両端点の座標データに基づき、連続する線分を群として扱うための線分群を生成する。
【０１８３】
線分群は、同一座標の端点を有する線分同士を連続する線分（線分群）として取り扱うものである。なお、線分が単独で存在する場合、すなわち、線分の両方の端点が他の線分の端点と同一座標を有しない場合は、一つの線分を線分群として取り扱うこととする。
【０１８４】
例えば、図４（ｃ）に示す線分ＣＤ、線分ＤＥ、線分ＥＦの３つの線分は、端点Ｄ、端点Ｅが同一座標の端点である。このため、線分群生成手段２２１は、３つの線分ＣＤ、ＤＥ、ＥＦを含む線分群を生成する。また、図４（Ｃ）の線分ＡＢは、単独で存在しているため、線分群生成手段２２１は、線分ＡＢを線分群として生成する。
【０１８５】
なお、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３は、それぞれ、実施の形態１の描画制御装置２０に含まれる同一符号の各手段と基本的に同一である。このため、実施の形態２では、各手段に同一符号を用い、各手段の説明は省略し、以下では相違点を中心に説明を行う。
【０１８６】
図１１は、実施の形態２の描画制御装置２２０による描画順決定処理を表すフローチャートである。図１１は、描画制御装置２２０による描画順決定処理の全体のフローを示す。
【０１８７】
描画制御装置２２０の描画位置決定手段２１は、フォントデータ取得手段２５によってフォントデータＤＢ４１から読み出されるフォントデータと、描画条件取得手段２６によって描画条件ＤＢ４３から読み出される描画条件とに基づいて、描画対象をリライタブル媒体５０に描画する描画位置である座標データを決定する（ステップＳ２０１）。
【０１８８】
次に、描画制御装置２２０の描画順決定手段２２は、描画対象の各々を描画する描画順を決定する（ステップＳ２０２）。例えば、描画対象が文字列の場合は、各文字を描画する順番が決定される。
【０１８９】
次に、描画制御装置２２０の描画順決定手段２２は、各描画対象に含まれる線分を描画する描画順を決定する（ステップＳ２０３）。例えば、描画対象が文字列の場合は、各文字に含まれる線分を描画する順番が決定される。なお、フォントデータは描画順を有するが、実施の形態２では、描画順の最適化を行うために、フォントデータに含まれる描画順を変更する場合がある。
【０１９０】
次に、描画制御装置２２０の待機時間演算手段３０は、空走区間の始点と終点における待機時間と空走速度を決定する（ステップＳ２０４）。
【０１９１】
以上のステップＳ２０１〜Ｓ２０４の処理で、すべての描画対象の描画順を決定する。
【０１９２】
次に、図１２及び図１３を用いて、ステップＳ２０２で描画対象の各々を描画する描画順を決定する処理の詳細について説明する。
【０１９３】
図１２は、実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２による描画対象の各々を描画する描画順を決定する処理を表すフローチャートである。
【０１９４】
図１３は、実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２によって描画順が決定される文字列の一例を示す図である。
【０１９５】
図１２に示すフローがスタートすると、描画順決定手段２２は、ステップＳ２０１で読み出したフォントデータの数に基づき、文字列に含まれる文字数Ｎを計算する（ステップＳ２１１）。
【０１９６】
次に、描画順決定手段２２は、ステップＳ２０１で決定した座標データに基づき、すべての描画対象に対して、図１３（Ａ）に示すように、各文字を包含する矩形領域１３０を生成する（ステップＳ２１２）。
【０１９７】
矩形領域１３０は、座標データに基づいて描画対象を包含するように生成すればよく、描画順決定手段２２は、原点Ｏに最も近い左上の頂点の座標を保持しておけばよい。
【０１９８】
ここでは、一例として、図１３（Ｂ）に示すように５つの描画対象（「あ」「い」「う」「え」「お」）に対して、矩形領域１３１〜１３５を生成したこととする。
【０１９９】
次に、描画順決定手段２２は、すべての描画対象の矩形領域の左上の座標に基づき、最も原点に近い矩形領域に包含される描画対象を、最初に描画する描画対象として決定する（ステップＳ２１３）。最も原点に近い矩形領域は、例えば、すべての矩形領域の左上の座標と原点との距離を求め、距離が最短の矩形領域を抽出することによって行えばよい。
【０２００】
図１３（Ｂ）に示す例では、「あ」を包含する矩形領域１３１が最も原点Ｏに近いため、矩形領域１３１に包含される「あ」が最初に描画される描画対象となる。
【０２０１】
描画順決定手段２２は、次に描画する描画対象を決定する（ステップＳ２１４）。次に描画する描画対象は、描画順が一つ前の描画対象を包含する矩形領域の左上の頂点の座標に最も近い左上頂点の座標を有する矩形領域に包含される描画対象に決定される。
【０２０２】
図１３（Ｂ）に示す例では、「あ」の次に描画されるのは、「あ」を包含する矩形領域１３１の左上頂点に最も近い左上頂点を有する矩形領域１３２に包含される「い」である。
【０２０３】
次に、描画順決定手段２２は、Ｎから１を減じる（ステップＳ２１５）。
【０２０４】
次に、描画順決定手段２２は、Ｎが０になったか否かを判定する（ステップＳ２１６）。
【０２０５】
描画順決定手段２２は、ステップＳ２１６でＮが０ではないと判定した場合（Ｓ２１６：ＮＯ）は、フローをステップＳ２１４にリターンし、次に描画する描画対象を決定する（ステップＳ２１４）。
【０２０６】
ステップＳ２１４〜Ｓ２１６が繰り返されることにより、図１３（Ｂ）に示す例では、描画順は「い」「う」「え」「お」の順に決定される。
【０２０７】
描画順決定手段２２は、ステップＳ２１６でＮが０であると判定した場合（Ｓ２１６：ＹＥＳ）は、フローを終了する。
【０２０８】
以上により、すべての描画対象の描画順が決定する。
【０２０９】
次に、図１４及び図１５を用いて、ステップＳ２０３で各描画対象に含まれる線分を描画する描画順を決定する処理の詳細について説明する。
【０２１０】
図１４は、実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２による各描画対象に含まれる線分を描画する描画順を決定する処理を表すフローチャートである。図１４に示す線分の描画順を決定する処理は、描画対象の各々について独立的に実行される処理である。
【０２１１】
図１５は、実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２によって線分の描画順が決定される描画対象の一例を示す図である。
【０２１２】
図１４に示すフローがスタートすると、描画順決定手段２２は、線分群生成手段２２１が生成する線分群の数Ｍをカウントする（ステップＳ２２１）。
【０２１３】
次に、描画順決定手段２２は、どちらかの端点が他の線分群に隣接していない線分群のうち、他の線分群に隣接していない端点のｘ座標が最も原点Ｏに近い線分群を最初に描画する線分群に決定するとともに、最初に描画する線分群の始点（描画開始位置）を決定する（ステップＳ２２２）。
【０２１４】
例えば、図１５（Ａ）に示すように、「あ」という平仮名には、７つの線分群１５１〜１５７が含まれる。線分群１５１〜１５７のうち、どちらかの端点が他の線分群に隣接していない線分群は、線分群１５１（両端）、１５２（一端）、１５５（一端）、１５６（一端）、１５７（一端）である。すなわち、「端点が他の線分群に隣接する」とは、端点が他の線分群の端点に隣接する場合と、端点が他の線分群の両端の間の線分に隣接する場合とがある。
【０２１５】
図１５（Ａ）に示す例では、ｘ座標が最も原点Ｏに近い端点は、線分群１５１の左端であるため、最初に描画する線分群は、線分群１５１に決定する。
【０２１６】
また、描画順決定手段２２は、ステップＳ２２１において、最初に描画する線分群の始点（描画開始位置）を決定する。図１５（Ａ）に示す例では、線分群１５１の始点を線分群１５１の両端のうち原点に近い方の端点（図１５（Ａ）中の左側の端点）に決定する。線分群１５１の右側の端点は、終点（描画終了位置）となる。
【０２１７】
次に、描画順決定手段２２は、次に描画を行う線分群を決定する（ステップＳ２２３）。
【０２１８】
描画順決定手段２２は、ステップＳ２２３では、描画順が一つ前の線分群の終点（描画終了位置）に最も近い端点を有する線分群を次に描画する線分群に決定する。
【０２１９】
図１５（Ａ）に示す例では、線分群１５１の右端に最も近い端点を有する線分群は線分群１５２であるため、描画順が線分群１５１の次となる線分群は線分群１５２に決定する。
【０２２０】
次に、描画順決定手段２２は、Ｍから１を減じる（ステップＳ２２４）。
【０２２１】
次に、描画順決定手段２２は、Ｍが０になったか否かを判定する（ステップＳ２２５）。
【０２２２】
描画順決定手段２２は、Ｍが０ではないと判定した場合（Ｓ２２５：ＮＯ）は、フローをステップＳ２２３にリターンする。
【０２２３】
この結果、ステップＳ２２３〜Ｓ２２５が繰り返し実行され、図１５に示す例では、線分群１５２よりも後の描画順は、線分群１５３、１５４、１５５、１５６、１５７に決定する。
【０２２４】
以上より、線分群１５１〜１５７は、線分群１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１５７の順に描画されることになり、線分群１５３、１５４、１５５、１５６、１５７の各々の描画順は、図１５（Ｂ）に矢印で示すように決定される。
【０２２５】
すべての線分群の描画順が決まると、待機時間演算手段３０は、ステップＳ２０４において、空走区間の始点と終点における待機時間と空走速度を決定する。
【０２２６】
図１６は、実施の形態２の描画制御装置における待機時間演算処理を表すフローチャートである。
【０２２７】
待機時間設定手段３０は、描画順が決まった描画対象の描画順に含まれる空走区間について、空走区間の始点と終点に設ける待機時間を設定するために、空走区間を一つ選択する（ステップＳ２３１）。空走区間の選択は、描画順が早い方から一つずつ選択するようにすればよい。
【０２２８】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ２３１で選択した空走区間を表す空走線分と、空走線分の手前に位置する線分とのなす角θｅ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ２３２）。なす角は、座標データに基づき、図６（ｂ）に示す要領で求められる。
【０２２９】
次いで、方向変化度合判定手段２８は、ステップＳ２３２で演算されたなす角θｅが所定の角度θ１以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３３）。実施の形態２では、θ１は３０°に設定されるが、この値に限られるものではない。
【０２３０】
次に、空走距離演算手段２１２は、ステップＳ２３１で選択される空走区間を表す空走線分の長さｄ（すなわち、空走区間の距離ｄ）を座標データに基づいて演算する（ステップＳ２３４Ｙ）。
【０２３１】
ステップＳ２３４Ｙで空走区間の距離ｄが求まると、空走距離判定手段２１３は、空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３５Ｙ）。
【０２３２】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ２３１で選択した空走区間を表す空走線分と、空走線分に連続する線分とのなす角θｓ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ２３６Ａ）。なす角θｓは、座標データに基づき、図６（ｂ）に示す要領で求められる。
【０２３３】
ステップＳ２３６Ａにおいて角度θｓが演算されると、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３７Ａ）。実施の形態２では、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０２３４】
ステップＳ２３７Ａで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓを零（０）、空走区間の空走速度ＶをＶ１に設定する（ステップＳ２３８Ａ）。なお、空走速度Ｖ１は、線分を描画する描画速度と同一の速度である。
【０２３５】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ａと同一の理由によるものである。
【０２３６】
主制御手段２１１は、ステップＳ２３８Ａで設定された待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを描画命令生成手段２５に受け渡す。
【０２３７】
描画命令生成手段２５は、ステップＳ２３８Ａで設定された待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを描画命令に組み込む。
【０２３８】
また、ステップＳ２３７Ａにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ２３８Ｂに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｂ）。なお、空走速度Ｖ２は、線分を描画する描画速度の２倍の速度である。
【０２３９】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｂと同一の理由によるものである。
【０２４０】
また、ステップＳ２３５Ｙにおいて空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０より長いと判定された場合は、フローはステップＳ２３７Ｂに進行し、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３７Ｂ）。ステップＳ２３７ＢはステップＳ２３７Ａと同一内容であり、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０２４１】
ステップＳ２３７Ｂで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｃ）。なお、空走速度Ｖ２は、描画速度の２倍の速度である。
【０２４２】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｃと同一の理由によるものである。
【０２４３】
また、ステップＳ２３７Ｂにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ２３８Ｄに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｄ）。
【０２４４】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｄと同一の理由によるものである。
【０２４５】
また、ステップＳ２３３において、θｅがθ１より大きいと判定された場合は、フローはステップＳ２３４Ｎに進行し、空走距離演算手段２１２は、ステップＳ２３１で選択される端点と、描画順がその前であると決定している線分の描画終了点とを結ぶ空走線分の長さｄ（すなわち、空走区間の距離ｄ）を座標データに基づいて演算する（ステップＳ２３４Ｎ）。例えば、図９（ｅ）に示す例では、空走線分ＢＣの長さｄが点Ｂ、Ｃの座標データに基づいて演算される。
【０２４６】
ステップＳ２３４Ｎで空走区間の距離ｄが求まると、空走距離判定手段２１３は、空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３５Ｎ）。
【０２４７】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ２３１で選択した端点を含む線分と、空走線分とのなす角θｓ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ２３６Ｃ）。
【０２４８】
ステップＳ２３６Ｃにおいて角度θｓが演算されると、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３７Ｃ）。実施の形態２では、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０２４９】
ステップＳ２３７Ｃで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点（点Ｂ）における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点（点Ｃ）における待機時間ｔｓを零（０）、空走区間の空走速度ＶをＶ１に設定する（ステップＳ２３８Ｅ）。
【０２５０】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｅと同一の理由によるものである。
【０２５１】
また、ステップＳ２３７Ｃにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ２３８Ｆに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｆ）。なお、空走速度Ｖ２は、線分を描画する描画速度の２倍の速度である。
【０２５２】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｆと同一の理由によるものである。
【０２５３】
また、ステップＳ２３５Ｎにおいて空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０より長いと判定された場合は、フローはステップＳ２３７Ｄに進行し、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３７Ｄ）。ステップＳ２３７ＤはステップＳ２３７Ａ、Ｓ２３７Ｂ、Ｓ２３７Ｃと同一内容であり、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０２５４】
ステップＳ２３７Ｄで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｇ）。
【０２５５】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｇと同一の理由によるものである。
【０２５６】
また、ステップＳ２３７Ｄにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ２３８Ｈに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｈ）。
【０２５７】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｈと同一の理由によるものである。
【０２５８】
ステップＳ２３８Ｂ〜Ｓ２３８Ｈが終了すると、主制御手段２１１は、ステップＳ２３８Ａで設定された待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを描画命令生成手段２５に受け渡す。そして、描画命令生成手段２５は、ステップＳ２３８Ａで設定された待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを描画命令に組み込む。
【０２５９】
以上により、描画命令が生成される。
【０２６０】
以上、本発明の例示的な実施の形態１、２の描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。
【符号の説明】
【０２６１】
１０ 描画装置
１１ レーザ発振器
１２ 方向制御モータ
１３ 方向制御ミラー
１４ 光学レンズ
１５ 集光レンズ
２０ 描画制御装置
２１ 描画位置決定手段
２２ モード設定手段
２３ 描画順決定手段
２４ 描画命令生成手段
２５ 対象文字コード取得手段
２６ フォントデータ取得手段
２７ 描画条件取得手段
２８ 方向変化度合演算手段
２９ 方向変化度合判定手段
３０ 描画速度演算手段
３１ ＣＰＵ
３２、２３０ メモリ
３３ ＣＤ−ＲＯＭドライブ
３４ ネットワーク装置
３５ ハードディスク
３６ 入力装置
３７ ディスプレイ
３８ ＣＤ−ＲＯＭ（記憶媒体）
４１ フォントデータＤＢ
４２ 文字描画プログラム
４３ 描画条件ＤＢ
４４ 所要時間ＤＢ
５０ リライタブル媒体
１００ レーザマーキング装置
２１１ 主制御手段
２１２ 空走距離演算手段
２１３ 空走距離判定手段
２２０ 描画制御装置
２２１ 線分群生成手段
【先行技術文献】
【特許文献】
【０２６２】
【特許文献１】特開２００４−９００２６号公報
【特許文献２】特開２００４−３４１３７３号公報
【特許文献３】特開２００６−３０６０６３号公報
【特許文献４】特許第３９９０８９１号公報
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属、プラスチック、感熱紙等の媒体にレーザ光を照射して加熱することで、媒体に文字、数字、又は記号等を書き込む技術を活用したレーザ照射装置（レーザマーカ、又はレーザマーキング装置）が市販されている。
【０００３】
レーザ照射装置のレーザ光源としてガスレーザ、固体レーザ、液体レーザ、半導体レーザ等を用いてレーザ光を照射することにより、文字等を金属、プラスチック、感熱紙等の媒体に書き込むことができる。
【０００４】
金属やプラスチックは、レーザ光を照射して加熱することにより、削ったり焦がしたりすることで描画が行われる。一方、感熱紙は、熱により変色する性質をもっており、レーザ光照射による加熱で記録層が発色することで描画が行われる。
【０００５】
感熱紙は、金属やプラスチックの媒体に比べて取り扱いが容易であるため、例えば、物流等の分野で物品の宛先や物品名を印字する媒体として広く用いられている。
【０００６】
そして、このような感熱紙でも書き込み、消去を繰り返し行えるリライタブルのものが登場してきた。例えば、物流で利用する際には、コンテナに媒体を貼ったまま書き込み、消去ができることが望ましい。このため、フレキシブルジョイントにより構成された複数のレンズ系の一端から入射したレーザ光による画像を他端まで伝達するリレーレンズ系を用いて、非接触でレーザ光を媒体に照射して発熱させることで文字等を描く装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
また、レーザによる画像形成方法としては、１つの原画像データを複数のラインに分割して、ライン毎に感光ドラムにレーザを照射する画像形成方法がある（例えば、特許文献２参照）。
【０００８】
ところで、このサーマルリライタブル媒体は、ある温度の熱で発色が消去され、さらに高熱をかけると発色する性質を持っている。しかし、過大な熱負荷を加えるとサーマルリライタブル媒体が変質し、媒体の寿命が短くなったり、消去が完全に行えなくなったりするなどの劣化が現れやすくなる。
【０００９】
ここでサーマルリライタブル媒体に文字を描画することを考える。文字のストロークをレーザでなぞることで発熱し文字が媒体上に浮き上がる。図１は、サーマルリライタブル媒体にレーザで描画された文字の一例を示す。図１の文字は例えば数字の「７」を変形したものであるが、交点１でストロークが交差している。ストローク同士が交差していると、直前に描いたストロークの余熱があるうちに、再度レーザがあたることになり、結果として交点１がより高熱になってしまうため、サーマルリライタブル媒体に悪影響が出てしまう。
【００１０】
また、交点がなくても数字の「７」では折り返し部分２が存在するが、レーザの照射方向を制御するミラーの慣性の影響により、折り返し部分２では比較的長時間折り返し点付近にレーザが照射されるのでやはり高熱になってしまい、サーマルリライタブル媒体に悪影響をもたらす。
【００１１】
そこで、レーザを重複して照射することを回避する技術が提案されている（例えば、特許文献３，４参照。）。特許文献３には、レーザで描画するに際し、線が重複する箇所は、前に描いた線を通り越してから次の線を描くようにレーザを走査する記録方法が開示されている。特許文献４には、レーザの描画線が交差する場合に、交差する描画点に照射されるレーザのパワー及び照射時間の少なくとも一方を少なくするように制御する記録消去装置が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述のように、特許文献１乃至４には、レーザを重複して照射することを回避する技術が開示されている。
【００１３】
また、特開２００２−２２４８６３号公報には、レーザの重複照射を回避するためには、レーザ照射（描画）と、レーザ非照射の状態で次の描画位置までジャンプ（空走）することが頻繁に必要になるため、描画順を調整することにより、空走距離が最短になる描画順を決定するレーザマーキング装置が開示されている。
【００１４】
レーザマーキング装置は、ガルバノミラーを走査するガルバノスキャナを含み、描画しようとする文字等を表す座標データを用いてガルバノミラーを走査することにより、レーザ光を照射して描画を行う。
【００１５】
ところで、一般的に、ガルバノミラーの慣性による挙動遅れや制御遅れ等が存在するため、制御装置からガルバノスキャナに座標データを入力しても、レーザ照射点（ガルバノミラーの位置）に追従遅れが生じる。
【００１６】
また、上述のような追従遅れは、レーザマーキング装置のようにレーザ照射を行う装置に限らず、Ｘ−Ｙプロッタのように２軸方向にヘッド等を走査する描画装置においても同様に生じる。
【００１７】
しかしながら、このような追従遅れを考慮して描画順を最適化することは行われていなかった。
【００１８】
そこで、描画装置の追従遅れを考慮して描画順を最適化する描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の実施の形態の一観点の描画順決定装置は、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定装置であって、前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段と、前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段とを含む。
【００２０】
また、前記待機時間設定手段は、前記描画終了点を含む線分と、当該線分に連続する前記空走線分との方向変化度合が所定度合い以上の場合に、前記第１待機時間を設定してもよい。
【００２１】
また、前記待機時間設定手段は、前記描画開始点を含む線分と、前記空走線分との方向変化度合が所定度合い以上の場合に、前記第２待機時間を設定してもよい。
【００２２】
また、前記描画対象を描画するための描画時間が短くなるように、前記第１待機時間又は前記前記第２待機時間を反映した前記描画対象の描画順を決定する描画順決定手段をさらに含んでもよい。
【００２３】
また、前記描画位置決定手段が決定した描画位置に基づき、描画対象に含まれる線分を連続する線分群を生成する線分群生成手段と、前記線分群生成手段が生成する線分群を描画するための描画時間が短くなるように、前記線分群の描画順を決定する描画順決定手段とをさらに含んでもよい。
【００２４】
また、前記待機時間設定手段によって前記第２待機時間が設定された場合に、前記一又は複数の線分を描画する描画速度よりも、前記空走区間を空走する空走速度を高く設定する速度設定手段をさらに含み、前記描画順決定手段は、前記速度設定手段によって設定された前記描画速度及び前記空走速度が反映された前記描画順を決定してもよい。
【００２５】
また、前記空走区間の距離が所定距離以上の場合に、前記空走区間を空走する空走速度を前記一又は複数の線分を描画する描画速度よりも高く設定する速度設定手段をさらに含んでもよい。
【００２６】
本発明の実施の形態の一観点の描画制御装置は、前記いずれか記載の描画順決定装置と、前記描画順決定装置が決定した前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段とを含む。
【００２７】
本発明の実施の形態の一観点のレーザ照射装置は、レーザを照射するレーザ発振器と、前記レーザ発振器が照射するレーザの照射方向を制御する方向制御ミラーと、前記方向制御ミラーを駆動する方向制御モータと、前記描画命令に基づき、前記レーザ発振器の照射出力の制御、及び前記方向制御モータの駆動制御を行う、前記に記載の描画制御装置とを有する。
【００２８】
本発明の実施の形態の一観点の最適化フォントＤＢは、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画装置を制御する描画制御装置が生成した最適化フォントＤＢであって、前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段と、前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段と、前記描画対象の描画時間が短くなるように描画順を決定する描画順決定手段と、前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段とを含む、描画制御装置が生成した、前記描画対象を描画するための描画情報を記憶した最適化フォントＤＢである。
【００２９】
本発明の実施の形態の一観点の描画順決定方法は、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順をコンピュータが決定する描画順決定方法であって、前記コンピュータは、前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算工程と、前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定工程とを実行する。
【００３０】
本発明の実施の形態の一観点の描画順決定プログラムは、コンピュータに、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定処理を実行させるための描画順決定プログラムであって、前記コンピュータを前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段、前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段、及び前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段として機能させる。
【００３１】
本発明の実施の形態の一観点の描画順決定プログラムを記録した記録媒体は、前記に記載の描画順決定プログラムを記録したものである。
【発明の効果】
【００３２】
描画装置の追従遅れを考慮して描画順を最適化する描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】従来のレーザマーキング装置による描画の問題点を説明するための図である。
【図２】実施の形態のレーザマーキング装置１００のハードウェア構成の一例を示す図である。
【図３】描画制御装置２０のハードウェア構成の一例を示す図である。
【図４】フォントデータ、座標データ、及び座標データに基づいて描画された文字の一例を表す図である。
【図５】実施の形態の描画制御装置２０の機能ブロックを示す図である。
【図６】（ａ）は、描画条件ＤＢ４３の一例を示す図であり、（ｂ）は、相連続する線分同士、又は線分とこの線分に連続する空走線分のなす角度の定義の仕方を説明するための図であり、（ｃ）は所要時間ＤＢ４４の一例を示す図である。
【図７】実施の形態の描画制御装置２０による描画順決定処理を表すフローチャートである。
【図８】（ａ）は文字列の一例を示す図であり、（ｂ）は（ａ）に示す文字列の描画基点の一例を示す図である。
【図９】線分同士の間に空走線分がある様々なパターンを示す図である。
【図１０】実施の形態２の描画制御装置２２０の機能ブロックを示す図である。
【図１１】実施の形態２の描画制御装置２２０による描画順決定処理を表すフローチャートである。
【図１２】実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２による描画対象の各々を描画する描画順を決定する処理を表すフローチャートである。
【図１３】実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２によって描画順が決定される文字列の一例を示す図である。
【図１４】実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２による各描画対象に含まれる線分を描画する描画順を決定する処理を表すフローチャートである。
【図１５】実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２によって線分の描画順が決定される描画対象の一例を示す図である。
【図１６】実施の形態２の描画制御装置における待機時間演算処理を表すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本発明の描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体を適用した実施の形態について説明する。
【００３５】
ここでは、「描画対象」なる文言は、文字、数字、記号、図形等の描画の対象を表すものとして用いる。また、「文字」とは、遍（へん）や旁（つくり）、又は、更にその一部等、文字の全体又は一部を表す文言として用いる。同様に、「数字」、「記号」、「図形」は、数字、記号、図形の全体又は一部を表す文言として用いる。
【００３６】
また、「線分」とは、文字等の描画対象に含まれ、描画対象を描画するために両端の座標が決まっている区間をいう。この線分は、直線の一部だけでなく、曲線の一部も含み、太さを有する。
【００３７】
また、「一筆部品」とは、描画が開始される位置から次に描画が終了される位置までに連続的に描画される一又は複数の線分を含むものとして用いる。例えば、レーザ照射で描画を行う場合は、レーザの１回の照射開始点から照射終了点までに描画される文字等の一画が一筆部品となる。
【００３８】
このため、文字、数字、記号、図形等の描画対象は、１以上の一筆部品を含み、一筆部品は、１以上の線分を含む。
【００３９】
また、「空走区間」なる文言は、描画対象に含まれる一の線分の端点Ａと、他の線分の端点Ｂが離間している場合において、端点Ａの次に他の線分の描画を行うべく端点Ｂに描画位置を移動するために空走する場合の区間ＡＢいう。
【００４０】
また、「空走線分」なる文言は、空走区間ＡＢを仮想的な線分として表す場合に用いる。
【００４１】
なお、実施の形態の一筆部品（一画）は、従来のストロークフォントのストロークに対応するが、実施の形態の一筆部品は、レーザ照射装置としてのレーザマーキング装置１００による文字の描画に最適化されるものであって、公的機関（例えば、日本規格協会、ＩＳＯ等）等が定める一画と同じであってもよいし異なっていてもよい。実施の形態のレーザマーキング装置１００は、レーザ光により媒体を発色させて一筆部品を描画するため、一筆部品を適切な形状に調整する。
【００４２】
また、「描画順」なる文言は、描画対象に含まれる線分を描画する順（線分をどちらの端部から描画するかという描画順も含む）と、文章等に含まれる複数の描画対象の各々を描画する順との２つの意味を有するものとして用いる。
【００４３】
以下、実施の形態１、２の描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体について説明する。
【００４４】
＜実施の形態１＞
図２は、実施の形態１のレーザマーキング装置１００のハードウェア構成の一例を示す図である。
【００４５】
レーザマーキング装置１００は、レーザを照射する描画装置１０、及び、描画装置１０の描画を制御する描画制御装置２０を有する。描画装置１０は、レーザを照射するレーザ発振器１１、レーザの照射方向を変える方向制御ミラー１３、方向制御ミラー１３を駆動する方向制御モータ１２、光学レンズ１４、及び集光レンズ１５を含む。
【００４６】
レーザ発振器１１は、半導体レーザ（LD（Laser Diode））であるが、気体レーザ、固体レーザ、液体レーザ等でもよい。方向制御モータ１２は、方向制御ミラー１３の反射面の向きを２軸に制御する例えばサーボモータである。方向制御モータ１２と方向制御ミラー１３とによりガルバノミラーを構成する。ガルバノミラーによってレーザの照射点が走査される。光学レンズ１４は、レーザ光のスポット径を大きくするレンズであり、集光レンズ１５はレーザ光を収束させるレンズである。
【００４７】
リライタブル媒体５０は、１８０℃以上の温度に加熱して急冷することで発色し、１３０〜１７０℃の温度に加熱することで消色する書き換え可能な感熱媒体である。通常の感熱紙やサーマルリライタブル媒体は近赤外領域のレーザ光を吸収しないので、近赤外レーザ波長を発振するレーザ光源（半導体レーザや固体レーザのＹＡＧ等）を用いる場合は、感熱紙、サーマルリライタブル媒体にレーザ光を吸収する材料の添加や層を追加する必要がある。なお、書き換えとは、レーザ光で加熱して記録を行い、レーザ光又は温風、ホットスタンプ等で加熱して消去することである。また、書き換えができないサーマルペーパとは、加熱により消色が困難な感熱紙をいう。実施の形態１では、使用する媒体の例として、リライタブル媒体５０を使用した場合を説明するが、書き換えができないサーマルペーパ、プラスチック、金属等のように書き換えが可能でない媒体に対しても、好適に適用できる。
【００４８】
図３は、描画制御装置２０のハードウェア構成の一例を示す図である。図３は、主にソフトウェアによって描画制御装置２０を実装する場合のハードウェア構成図であり、コンピュータを実体としている。コンピュータを実体とせず描画制御装置２０を実現する場合、ＡＳＩＣ（（Application Specific Integrated Circuit））等の特定機能向けに生成されたＩＣを利用する。
【００４９】
描画制御装置２０は、ＣＰＵ３１、メモリ３２、ハードディスク３５、入力装置３６、ＣＤ−ＲＯＭドライブ３３、ディスプレイ３７及びネットワーク装置３４を有する。ハードディスク３５には、ストロークフォントの一連の文字のフォントデータを記憶するフォントデータＤＢ４１、フォントデータから重複を排除した描画命令を生成し描画装置１０を制御する文字描画プログラム４２、描画条件ＤＢ４３、及び所要時間ＤＢ４４が記憶されている。ここで、所要時間ＤＢ４４は、後述する描画順決定処理において線分の描画順を順次決定する段階で、後述する所要時間を格納するためのＤＢである。その内容については、描画順決定処理の説明と併せて後述する。
【００５０】
ＣＰＵ３１は、ハードディスク３５から文字描画プログラム４２を読み出して実行し、後述する手順で、リライタブル媒体５０に文字を描画する。メモリ３２は、ＤＲＡＭ等の揮発性メモリで、ＣＰＵ３１が文字描画プログラム４２を実行する際の作業エリアとなる。
【００５１】
入力装置３６は、マウスやキーボード等の描画装置１０を制御する指示をユーザが入力するための装置である。リライタブル媒体５０に描画する文章又は図形（以下、文章等）や、文章等に含まれる描画対象のサイズ等を表す描画条件は、例えば、入力装置３６を介してユーザによって入力される。入力された描画条件は、描画条件ＤＢ４３として、例えば、ハードディスク３５に記憶される。描画条件には、文章等の中における各描画対象の位置、サイズ、及び描画順等を表すデータが含まれる。描画条件のデータ構造については図６を用いて後述する。
【００５２】
ディスプレイ３７は、例えば文字描画プログラム４２が指示する画面情報に基づき所定の解像度や色数で、ＧＵＩ（Graphical User Interface）画面を表示するユーザインターフェイスとなる。例えば、リライタブル媒体５０に描画する文字の入力欄が表示される。
【００５３】
ＣＤ−ＲＯＭドライブ３３は、ＣＤ-ＲＯＭ３８を脱着可能に構成され、ＣＤ−ＲＯＭ３８からデータを読み出し、また、記録可能な記録媒体にデータを書き込む際に利用される。フォントデータＤＢ４１、及び文字描画プログラム４２は、ＣＤ-ＲＯＭ３８に記憶された状態で配布され、ＣＤ-ＲＯＭ３８から読み出されてハードディスク３５にインストールされる。ＣＤ−ＲＯＭ３８は、この他、ＤＶＤ、ブルーレイディスク、ＳＤカード、メモリースティック（登録商標）、マルチメディアカード、ｘＤカード等、不揮発性のメモリで代用することができる。
【００５４】
ネットワーク装置３４は、ＬＡＮやインターネット等のネットワークに接続するためのインターフェイス（例えばイーサネット（登録商標）カード）であり、OSI基本参照モデルの物理層、データリンク層に規定されたプロトコルに従う処理を実行して、描画装置１０に文字コードに応じた描画命令を送信することを可能とする。フォントデータＤＢ４１、及び文字描画プログラム４２は、ネットワークを介して接続した所定のサーバからダウンロードすることができる。なお、ネットワーク経由でなく、ＵＳＢ（Universal Serial Bus）、ＩＥＥＥ１３９４、ワイヤレスＵＳＢ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ等で直接、描画制御装置２０と描画装置１０を接続してもよい。
【００５５】
リライタブル媒体５０に描画される描画対象の文字は、上述のように入力装置３６から入力され、例えばリスト状のデータとしてハードディスク３５に記憶されている。なお、リライタブル媒体５０に描画される描画対象である文字等を含む文章等や、文章等に含まれる描画対象のサイズは、描画条件を構成する。
【００５６】
文字は、ＵＮＩＣＯＤＥやＪＩＳコード等の文字コードで特定され、描画制御装置２０は文字コードに対応する文字のフォントデータをフォントデータＤＢ４１から読み出し、描画装置１０を制御するための描画命令を生成する際に用いる。
【００５７】
また、描画対象の文字の文字コードは、入力装置３６から入力される場合と、予めハードディスク３５に記憶されている場合（ネットワーク経由で入力される場合を含む）とがある。
【００５８】
入力装置３６から入力される場合は、キーボードのキーを押下することで入力されるキーコードに対応した文字コード、又は、ＩＭＥ（Input Method Editor）が起動している場合にキーコードからＩＭＥが変換した文字コードが対象文字コード取得手段２４に入力される。また、ハードディスク３５に予め記憶されている場合は、例えば、宛先等の文字列がリスト状に記憶されているので、文字列の文字を指定する文字コードが読み出され、対象文字コード取得手段２４に入力される。
【００５９】
また、描画対象が数字の「１」のように、全て直線状の線分で構成されている場合は、各線分の座標を容易に抽出することができる。しかしながら、アウトラインフォントでは曲線をスケーラブルに描画できるように、例えばベジェ曲線のような曲線で描画できるようになっている。曲線で描画されていると、線分間の距離の算出が複雑になるので、曲線を含む描画対象であっても直線状の線分に変換して描画することが好適になる。
【００６０】
そこで、実施の形態１の描画制御装置２０は、フォントデータが曲線を含む場合、曲線部分を直線に変換し、各直線の線分の座標を検出する。なお、文字が曲線を含む場合、フォントデータには曲線制御用のデータが含まれているので、その文字が曲線を含むか否かはフォントデータから判定される。
【００６１】
図４は、フォントデータ、座標データ、及び座標データに基づいて描画された文字の一例を表す図である。図４（ａ）は、描画情報としてのフォントデータの一例を示す。図４（ａ）のフォントデータはアルファベットの「ｒ」という文字のフォントデータを示し、４つの線分で定義するためのデータを含む。フォントデータは、各線分の端点の座標と、描画順を有する。フォントデータに含まれる端点の座標は、文字をビットマップに配置した場合のビットマップの所定画素を原点に指定されている。
【００６２】
なお、実施の形態１の描画制御装置２０は、描画順を最適化するために、フォントデータに含まれる描画順を変更する場合がある。
【００６３】
ストロークフォントをレーザ等で描画する場合、座標だけではレーザを照射しながら移動するのか、レーザを照射しないで移動するのかを判別できない。このため、ストロークフォントのフォントデータには、レーザの描画開始位置（人間が書くとすると筆をおろす位置）と移動命令、レーザの描画終了位置（人間が書くとすると筆を上げる位置）と移動命令が含まれている。
【００６４】
図４（ａ）では、「ｍ」はレーザの描画開始位置とその座標までの移動命令を示し、「ｄ」は描画終了位置とその座標までの移動命令を示す。従って、「ｍ」は筆を上げて移動することを意味し、「ｄ」は筆を下ろして移動することを意味する。このように、フォントデータは、座標による文字の形状、描画の順番、描画の方向（図では矢印を有する線分）を規定し、「ｍ」と「ｄ」によりレーザ照射の有無を規定する。すなわち、一以上の連続した「ｄ」に対応づけられた座標により表される線分が一筆部品である。
【００６５】
従って、図４（ａ）に示す描画情報としてのフォントデータは、座標（１００，５００）から座標（１００、５０）まで線分が描かれ、座標（１００，５０）から座標（１２０、２２０）までは線分を描かずに移動し、座標（１２０、２２０）から座標（２３０、５００）まで線分が描かれ、座標（２３０、５００）から座標（３００、５００）まで線分が描かれ、さらに、座標（３００、５００）から座標（４００、４５０）まで線分が描かれることを表す。
【００６６】
一方、描画される文字の形状は、線分を指定する２点の座標が線分の数だけあれば特定できることになる。図４（ｂ）は、媒体に実際に描画される文字（ここでは「ｒ」）を構成する各線分の座標の一例を示す。図４（ｂ）は、媒体に描画対象を描画する描画位置を表すデータとしての座標データを示しており、描画情報としてのフォントデータに基づき文字の大きさを２倍に拡大した場合の座標データを表す。ストロークフォントは、アウトラインフォントようにスケーラブルフォントの一種なので、例えば、リライタブル媒体５０に描画する際の文字の大きさを指定できるようになっている。
【００６７】
ストロークフォントの文字の大きさの調整方法はいくつか知られているが、ここでは説明のため単にフォントデータの座標をそれぞれ２倍にした。例えば文字の中心からの距離に応じて線分の座標を調整してもよい。
【００６８】
アルファベットの「ｒ」のように４つの線分を含む文字の場合、線分の座標は４組となる。図４（ｂ）に示す[０]〜[３]は、各線分の描画順を示し、描画順の右側に続く４つの数字のうち、最初の２つの数値は線分の始点の座標を表し、残りの（右側の）２つの数値は線分の終点の座標を表す。
【００６９】
図４（ｂ）に示す描画位置を表すデータとしての座標データを用いると、描画対象である「ｒ」は、図４（ｃ）に示すように、点Ａ→点Ｂ、点Ｃ→点Ｄ→点Ｅ→点Ｆの順に描画される。
【００７０】
次に、図５を用いて実施の形態１の描画制御装置の機能ブロックについて説明する。
【００７１】
図５は、実施の形態１の描画制御装置２０の機能ブロックを示す図である。各ブロックをソフトウェアで実現する場合、各ブロックはＣＰＵ３１が文字描画プログラム４２を実行することで実現される。
【００７２】
描画制御装置２０は、主制御手段２１１、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３を含む。なお、描画制御装置２０のうち、描画命令生成手段２３を除く、主制御手段２１１、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３は、描画順決定装置を構成する。
【００７３】
主制御手段２１１は、後述する描画順の決定処理を実行する際に描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３の処理を統括する処理と、その他に必要となる周辺処理を実行する制御手段である。
【００７４】
描画位置決定手段２１は、フォントデータ取得手段２５によってフォントデータＤＢ４１から読み出されるフォントデータと、描画条件取得手段２６によって描画条件ＤＢ４３から読み出される描画条件とに基づいて、描画対象をリライタブル媒体５０に描画する描画位置である座標データを決定する。なお、描画条件には、文章等の中における各描画対象の位置、サイズ、及び描画順等を表すデータが含まれる。描画条件を表すデータについては図６を用いて後述する。
【００７５】
描画順決定手段２２は、描画対象に含まれる線分を描画する描画順と、文章等に含まれる複数の描画対象の各々を描画する描画順との両方の描画順を決定する。
【００７６】
描画命令生成手段２３は、描画位置決定手段２１によって決定される座標データ、描画順決定手段２２によって決定される描画順、速度演算手段２９によって演算される描画速度、及び待機時間演算手段３０によって演算される待機時間を反映した描画命令を生成する。生成された描画命令は、描画装置１０に入力され、この結果、ユーザによって入力装置３６に入力された文章等を表す描画対象が描画装置１０によってリライタブル媒体５０に描画される。
【００７７】
対象文字コード取得手段２４は、ユーザによって入力装置３６に入力された文章等に含まれる描画対象の文字コードを取得する。
【００７８】
フォントデータ取得手段２５は、対象文字コード取得手段２４によって取得された文字コードに基づいてフォントデータＤＢ４１を参照し、文字コードに対応づけられたフォントデータを読み出す。
【００７９】
描画条件取得手段２６は、リライタブル媒体５０に描画する描画対象である文字等を含む文章等や、文章等に含まれる描画対象のサイズの条件を表す描画条件をハードディスク３５に記憶された描画条件ＤＢ４３から取得する。
【００８０】
方向変化度合演算手段２７は、描画位置決定手段２１によって決定される座標データに基づき、相連続する線分同士のなす角度、又は、線分とこの線分に連続する空走線分のなす角度を方向変化度合として演算する。
【００８１】
方向変化度合判定手段２８は、方向変化度合演算手段２７によって演算された方向変化度合が所定度合より大きいか否かの判定を行う。実施の形態１では、所定度合は３０°に設定されており、方向変化度合判定手段２８は、相連続する線分同士のなす角度が３０°より大きいか否かを判定する。相連続する線分同士のなす角度と、線分とこの線分に連続する空走線分のなす角度の定義の仕方については、図６を用いて後述する。
【００８２】
速度演算手段２９は、描画対象の描画を行う際の描画速度と、空走区間を空走する際の空走速度とを演算する。空走速度は、次の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）で示される第１ルールの下に決定される。
（Ａ）：空走区間の長さが所定長さより長い場合は、空走速度を描画速度より高くする。
（Ｂ）：空走区間の長さが所定長さ以下であっても、空走区間の終了点で待機時間が設定されて場合は、空走速度を描画速度より高くする。
（Ｃ）：（Ａ）（Ｂ）以外の場合は、空走速度を描画速度と同一にする。
【００８３】
待機時間演算手段３０は、描画終了点において次の線分の描画開始を待機する時間ｔｅと、描画開始点において次の線分の描画開始を待機する時間ｔｓとを演算する。待機時間ｔｅ、ｔｓは、次の（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）で示される第２ルールの下に決定される。待機時間演算手段３０によって演算される待機時間を表すデータは、描画順決定手段２２によって生成される描画順に組み込まれる。
（Ｄ）：線分とこの線分に連続する空走線分とのなす角度が所定の角度以下の場合は描画終了点で待機時間ｔｅを挿入しない。
（Ｅ）線分とこの線分に連続する空走線分とのなす角度が所定の角度より大きい場合は描画終了点で待機時間ｔｅを挿入する。
（Ｆ）：空走線分とこの空走線分に連続する線分とのなす角度が所定の角度以下の場合は描画開始点で待機時間ｔｓを挿入しない。
（Ｇ）空走線分とこの空走線分に連続する線分とのなす角度が所定の角度より大きい場合は描画開始点で待機時間ｔｓを挿入する。
（Ｈ）：空走線分とこの空走線分に連続する線分とのなす角度が所定の角度以下の場合（（Ｆ）の場合）であっても、空走速度が描画速度よりも高い場合は描画開始点で待機時間ｔｓを挿入する。
【００８４】
空走距離演算手段２１２は、座標データに基づき、空走区間の距離を演算する。
【００８５】
空走距離判定手段２１３は、空走距離演算手段２１２によって演算された空走区間の距離が所定距離以上であるか否かを判定する。
【００８６】
図６（ａ）は、描画条件ＤＢ４３の一例を示す図であり、図６（ｂ）は、相連続する線分同士のなす角度と、線分とこの線分に連続する空走線分のなす角度の定義の仕方を説明するための図であり、（ｃ）は所要時間ＤＢ４４の一例を示す図である。
【００８７】
図６（ａ）に示すように、描画条件ＤＢ４３は、描画対象の種別を特定するための文字コードの一例としてのＪＩＳコード、文章等を表す描画対象の各々が配置される位置（ｘ、ｙ座標）を表す位置データ、サイズ、及び描画順を表すデータを含む。描画順を表すデータは、図７を用いて後述する描画順決定処理によって線分毎に確定される。また、描画対象の位置を示す座標値は、例えば、描画対象が配置される領域の左上の点の座標である。
【００８８】
図６（ｂ）に示すように、相連続する線分同士のなす角度（すなわち、方向変化度合）は、相連続する線分ＡＢと線分ＢＣに対して、線分ＡＢの延長線ｌと線分ＢＣとがなす角度θとして求められる。また、線分とこの線分に連続する空走線分とのなす角は、図６（ｂ）に示す線分ＡＢ又は線分ＢＣのいずれか一方を空走線分に置き換えた場合の角度として求められる。
【００８９】
図６（ｃ）に示すように、所要時間ＤＢ４４は、線分の端部のｘ、ｙ座標と所要時間を関連付けて格納するＤＢである。所要時間ＤＢ４４は、実施の形態１の描画順決定処理において次の描画順の候補となる線分を決定する際に、総当たり形式で演算される候補線分の端部までの所要時間を格納する。
【００９０】
なお、ＪＩＳコード、ｘ座標値、ｙ座標値、描画対象のサイズ、描画順、及び所要時間として、アルファベットと数字を組み合わせた記号を示すが、実際の描画制御装置では具体的なコード番号、ｘ座標値、ｙ座標値、及び描画対象のサイズ、描画順、及び所要時間を表す数値が与えられる。
【００９１】
次に、図７を用いて、実施の形態１の描画制御装置２０による描画順決定処理について説明する。
【００９２】
図７は、実施の形態１の描画制御装置２０による描画順決定処理を表すフローチャートである。
【００９３】
まず、描画位置決定手段２１は、フォントデータ取得手段２５によってフォントデータＤＢ４１から読み出されるフォントデータと、描画条件取得手段２６によって描画条件ＤＢ４３から読み出される描画条件とに基づいて、描画対象をリライタブル媒体５０に描画する描画位置である座標データを決定する（ステップＳ１）。
【００９４】
このステップＳ１の処理に際し、フォントデータ取得手段２５は、対象文字コード取得手段２４によって取得された文字コードに基づいてフォントデータＤＢ４１を参照し、文字コードに対応づけられたフォントデータを読み出す。そして、描画位置決定手段２１は、フォントデータ取得手段２５によってフォントデータＤＢ４１から読み出されるフォントデータと、描画条件取得手段２６によって描画条件ＤＢ４３から読み出される描画条件に含まれるサイズのデータとに基づいて、描画対象をリライタブル媒体５０に描画する描画位置である座標データを決定する。以上により、ステップＳ１の処理が行われる。
【００９５】
例えば、図８（ａ）に示すような文字列を描く場合は、図８（ｂ）に示すように描画基点（例えば、左上の点を基点とし、基点の座標値は（ｘ０，ｙ０）とする）を設定し、描画条件に含まれる文字サイズ等から、描画対象に含まれる各線分を描画する位置を表す座標データを決定する。
【００９６】
次に、主制御手段２１１は、描画装置１０のレーザの照射点の現在位置と、描画順を決定する線分の総数とを取得する（ステップＳ２）。レーザの照射点の位置は、方向制御モータ１２（図２参照）を制御するための２軸方向のデータからｘ、ｙ座標を表す値として取得することができる。また、線分の総数は、描画条件に含まれるすべての描画対象のフォントデータ、又は、ステップＳ１で決定した座標データに基づいて取得することができる。
【００９７】
次に、主制御手段２１１は、ステップＳ２で取得した照射点の現在位置がいずれかの線分の端点に一致するか否かを判定する（ステップＳ３）。この判定は、ステップＳ１で決定した座標データに含まれる線分の端点を表すｘ、ｙ座標の中に、ステップＳ２で取得した照射点の現在位置を表すｘ、ｙ座標と一致するデータがあるか否かを判定することによって行われる。
【００９８】
主制御手段２１１は、ステップＳ３で一致するデータがあると判定した場合は、ｘ、ｙ座標で表される端点を一端とする線分を描画開始線分とする（ステップＳ４Ｙ）。描画開始線分とは、描画条件に含まれるすべての描画対象に含まれるすべての線分のうち、最初に描画を行う線分をいう。なお、ステップＳ４Ｙで選択される描画開始線分の両端のうち、描画が開始されるのは、ステップＳ３で照射点の現在位置と一致した端点である。
【００９９】
一方、主制御手段２１１は、ステップＳ３で一致するデータが無いと判定した場合は、照射点を表すｘ、ｙ座標に一番近い端点を座標データから抽出し、その端点を含む線分を描画開始線分とする（ステップＳ４Ｎ）。なお、描画が開始されるのは、照射点を表すｘ、ｙ座標に一番近い端点である。
【０１００】
主制御手段２１１は、次に描画する線分の候補となる候補線分の端点を選択する（ステップＳ５）。この処理は、描画順が次となる線分の描画開始点の候補を選択するための処理であり、後述するステップＳ１８までの処理がすべての線分を候補として総当たり形式で繰り返し実行されることにより、座標データに含まれる端点を次々と選択して行く処理である。総当たり形式で各線分を候補線分とした場合の待機時間を演算し、後述するステップＳ１６において待機時間が最も短いと判定された候補線分の端点を次の描画開始点として決定する。なお、線分は２つの端点を含むため、ステップＳ５の処理を繰り返し実行することにより、各線分の両端の端点が選択されることになる。
【０１０１】
ここで、ステップＳ５で選択される端点（描画順が次となる候補線分の描画開始点）と、描画順がその前であると決定している線分の描画終了点とを結ぶ線分は、空走線分となる。空走線分の両端は、座標データから得られる。例えば、図９（ａ）に示す例では、描画順が決定している線分ＡＢの描画終了点Ｂと、描画順がその次となる候補線分ＣＤの描画開始点Ｃとを結ぶ線分が空走線分ＢＣとなる。
【０１０２】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ５で選択した端点によって得られる空走線分と、描画順が決定している線分とのなす角θｅ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ６）。なす角は、座標データに基づき、図６（ｂ）に示す要領で求められる。例えば、図９（ａ）で示す例では、描画順の決定している線分ＡＢと、空走線分ＢＣとのなす角度をθｅとして演算することになる。なお、図９（ａ）に示す例では、線分ＡＢと空走線分ＢＣは同一直線上にあるため、θｅは０°となる。
【０１０３】
次いで、方向変化度合判定手段２８は、ステップＳ６で演算されたなす角θｅが所定の角度θ１以下であるか否かを判定する（ステップＳ７）。実施の形態１では、θ１は３０°に設定されるが、この値に限られるものではない。
【０１０４】
次に、空走距離演算手段２１２は、ステップＳ５で選択される端点と、描画順がその前であると決定している線分の描画終了点とを結ぶ空走線分の長さｄ（すなわち、空走区間の距離ｄ）を座標データに基づいて演算する（ステップＳ８Ｙ）。例えば、図９（ａ）に示す例では、空走線分ＢＣの長さｄが点Ｂ、Ｃの座標データに基づいて演算される。
【０１０５】
ステップＳ８Ｙで空走区間の距離ｄが求まると、空走距離判定手段２１３は、空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０以下であるか否かを判定する（ステップＳ９Ｙ）。
【０１０６】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ５で選択した端点を含む線分と、空走線分とのなす角θｓ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ１０Ａ）。なす角θｓは、座標データに基づき、図６（ｂ）に示す要領で求められる。
【０１０７】
ステップＳ１０Ａにおいて角度θｓが演算されると、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１Ａ）。実施の形態１では、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０１０８】
ステップＳ１１Ａで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓを零（０）、空走区間の空走速度ＶをＶ１に設定する（ステップＳ１２Ａ）。なお、空走速度Ｖ１は、線分を描画する描画速度と同一の速度である。
【０１０９】
ステップＳ１２Ａで待機時間ｔｅが零（０）に設定されるのは、ステップＳ７においてθｅが所定のθ１以下であると判定されたからである。これは、図９（ａ）に示す例では、線分ＡＢの描画終了点である点Ｂにおいて、線分ＡＢと空走線分ＢＣのなす角度θｅが所定の角度θ１以下であり、空走区間に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１１０】
また、ステップＳ１２Ａで待機時間ｔｓが零（０）に設定されるのは、ステップＳ１１Ａにおいてθｓが所定のθ２以下であると判定されたからである。これは、図９（ａ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２以下であり、空走から描画に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１１１】
また、ステップＳ１２Ａで空走速度Ｖを描画速度と同一のＶ１に設定するのは、ステップＳ９Ｙにおいて空走区間の距離ｄが距離ｄ０以下であると判定され、空走区間の距離は比較的短いため、空走速度を上昇させる必要性に乏しいからである。また、空走区間が短くても空走速度を高くした方が空走時間は短くなるが、θｓがθ２以下であることによって描画開始点（点Ｃ）における待機時間は零（０）に設定されているため、上昇させた空走速度を低下させるためだけに待機時間を設定する必要はないと考えられる。このため、空走速度ＶはＶ１に設定される。
【０１１２】
なお、ステップＳ１２Ａは、上述のルール（Ｃ）（Ｄ）（Ｆ）が適用された場合である。
【０１１３】
以上のように、主制御手段２１１は、ステップＳ１２Ａで待機時間ｔｅ、ｔｓ、及び空走速度Ｖが設定されると、描画終了点から空走して描画開始点で描画を開始するまでの所要時間ｔｋを計算する（ステップＳ１３）。
【０１１４】
ｔｋは、ステップＳ２で取得されたＮ個の線分に含まれる２Ｎ個の端点のうち、ｋ番目の端点について計算される所要時間である。ｋは、１≦ｋ≦２（Ｎ−１）を満たす整数であり、ｔｋは次式（１）で計算される。
【０１１５】
ｔｋ＝ｔｅｋ＋ｄｋ／Ｖ＋ｔｓｋ ・・・（１）
ここで、ｔｅｋは、（Ｎ−１）本の候補線分に含まれる２（Ｎ−１）個の端点のうち、ｋ番目の端点について演算された描画終了点での待機時間（第１待機時間）を表し、ｔｓｋはｋ番目の端点について演算された描画開始点での待機時間（第２待機時間）を表す。また、ｄｋはｋ番目の端点について演算された空走線分の長さを表し、Ｖは空走速度を表す。このため、ｄｋ／Ｖは、空走区間の空走に要する時間（空走時間）を表す。
【０１１６】
ステップＳ１３で演算された所要時間は、ｋ番目の端点のｘ、ｙ座標と関連付けられて、ハードディスク３５内に所要時間ＤＢ（図６（ｃ）参照）として記憶される。
【０１１７】
主制御手段２１１は、ステップＳ１３の処理が終了すると、次の端点についての所要時間を演算すべく、ｋの値をインクリメントする（ステップＳ１４）。
【０１１８】
次いで、主制御手段２１１は、ｋ≧２（Ｎ−１）が成立するかを判定する（ステップＳ１５）。（Ｎ−１）本の候補線分に含まれる２（Ｎ−１）個のすべての端点についての処理が終了したか否かを判定するためである。
【０１１９】
主制御手段２１１は、ステップＳ１５において、すべての端点についての処理が終了していないと判定した場合は、フローをステップＳ５にリターンする。
【０１２０】
なお、ステップＳ１１Ａにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ１２Ｂに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｂ）。なお、空走速度Ｖ２は、線分を描画する描画速度の２倍の速度である。
【０１２１】
ステップＳ１２Ｂで待機時間ｔｅが零（０）に設定されるのは、ステップＳ１２Ａの場合と同様に、ステップＳ７においてθｅが所定のθ１以下であると判定されたからである。これは、図９（ｂ）に示す例では、線分ＡＢの描画終了点である点Ｂにおいて、線分ＡＢと空走線分ＢＣのなす角度θｅが所定の角度θ１以下であり、空走区間に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収束するのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１２２】
また、ステップＳ１２Ｂで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１１Ａにおいてθｓが所定のθ２より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｂ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２より大きく、空走から描画に入る際の角度変化が比較的大きいため、空走区間と描画区間との境界点（点Ｃ）で方向を変える際に、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１２３】
また、ステップＳ１２Ｂで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、空走区間と線分とのなす角度が大きいことによって描画開始点（点Ｃ）で待機時間ｔ１が設けられており、この待機時間ｔ１を利用して空走速度Ｖ２から描画速度Ｖ１に減速する際の追従遅れを収束させられるため、空走距離がｄ０以下でも空走速度を高くして空走時間を短くするためである。
【０１２４】
なお、ステップＳ１２Ｂは、上述のルール（Ｂ）（Ｄ）（Ｇ）が適用された場合である。
【０１２５】
また、ステップＳ９Ｙにおいて空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０より長いと判定された場合は、フローはステップＳ１１Ｂに進行し、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１Ｂ）。ステップＳ１１ＢはステップＳ１１Ａと同一内容であり、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０１２６】
ステップＳ１１Ｂで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｃ）。なお、空走速度Ｖ２は、描画速度の２倍の速度である。
【０１２７】
ステップＳ１２Ｃで待機時間ｔｅが零（０）に設定されるのは、ステップＳ６において演算されたθｅがステップＳ７において所定のθ１以下であると判定されたからである。これは、図９（ｃ）に示す例では、線分ＡＢの描画終了点である点Ｂにおいて、線分ＡＢと空走線分ＢＣは同一直線上にあり、なす角度θｅは所定の角度θ１以下である。このように、空走区間に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１２８】
また、ステップＳ１２Ｃで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ８Ｙにおいて演算された空走距離ｄがステップＳ９Ｙにおいてｄ０より長いと判定され、これにより空走速度が描画速度の２倍のＶ２に設定されたため、速度低下に伴う追従遅れを収束させる待機時間が必要になるからである。これは、図９（ｃ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走速度Ｖ２から描画速度Ｖ１に減速されるため、レーザの照射点の追従遅れを収束させるための待機時間を設けたものである。
【０１２９】
また、ステップＳ１２Ｃで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、ステップＳ９Ｙにおいて空走区間の距離ｄが距離ｄ０より長いと判定され、空走区間の距離が比較的長い場合であるため、空走速度を高くして空走時間を短縮するためである。
【０１３０】
なお、ステップＳ１２Ｃは、上述のルール（Ａ）（Ｄ）（Ｈ）が適用された場合である。
【０１３１】
また、ステップＳ１１Ｂにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ１２Ｄに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｄ）。
【０１３２】
ステップＳ１２Ｄで待機時間ｔｅが零（０）に設定されるのは、ステップＳ１２Ｃと同一の理由である。
【０１３３】
また、ステップＳ１２Ｄで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１１Ｂにおいてθｓが所定のθ２より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｄ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２より大きく、空走から描画に入る際の角度変化が比較的大きいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１３４】
また、ステップＳ１２Ｄで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、描画開始点である点Ｃで待機時間ｔ１が設けられているので、空走速度を高くすることによって追従遅れが生じても点Ｃで吸収できるため、空走速度を高くして空走時間を短くするためである。
【０１３５】
なお、ステップＳ１２Ｄは、上述のルール（Ａ）（Ｄ）（Ｇ）が適用された場合である。
【０１３６】
また、ステップＳ７において、θｅがθ１より大きいと判定された場合は、フローはステップＳ８Ｎに進行し、空走距離演算手段２１２は、ステップＳ５で選択される端点と、描画順がその前であると決定している線分の描画終了点とを結ぶ空走線分の長さｄ（すなわち、空走区間の距離ｄ）を座標データに基づいて演算する（ステップＳ８Ｎ）。例えば、図９（ｅ）に示す例では、空走線分ＢＣの長さｄが点Ｂ、Ｃの座標データに基づいて演算される。
【０１３７】
ステップＳ８Ｎで空走区間の距離ｄが求まると、空走距離判定手段２１３は、空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０以下であるか否かを判定する（ステップＳ９Ｎ）。
【０１３８】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ５で選択した端点を含む線分と、空走線分とのなす角θｓ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ１０Ｃ）。
【０１３９】
ステップＳ１０Ｃにおいて角度θｓが演算されると、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１Ｃ）。実施の形態１では、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０１４０】
ステップＳ１１Ｃで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点（点Ｂ）における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点（点Ｃ）における待機時間ｔｓを零（０）、空走区間の空走速度ＶをＶ１に設定する（ステップＳ１２Ｅ）。
【０１４１】
ステップＳ１２Ｅで待機時間ｔｅに設定されるのは、ステップＳ７においてθｅが所定のθ１より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｅ）に示す例では、線分ＡＢの描画終了点である点Ｂにおいて、線分ＡＢと空走線分ＢＣのなす角度θｅが所定の角度θ１より大きく、空走区間に入る際の角度変化が比較的大きいため、角度変化によるレーザの照射点の追従遅れが収束するのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１４２】
また、ステップＳ１２Ｅで待機時間ｔｓが零（０）に設定されるのは、ステップＳ１１Ａにおいてθｓが所定のθ２以下であると判定されたからである。これは、図９（ｅ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２以下であり、空走から描画に入る際の角度変化が比較的小さいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要がないと考えられるからである。
【０１４３】
また、ステップＳ１２Ｅで空走速度Ｖを描画速度と同一のＶ１に設定するのは、ステップＳ９Ｙにおいて空走区間の距離ｄが距離ｄ０以下であると判定され、空走区間の距離は比較的短いため、空走速度を上昇させる必要性に乏しいからである。また、空走区間が短くても空走速度を高くした方が空走時間は短くなるが、θｓがθ２以下であることによって描画開始点（点Ｃ）における待機時間は零（０）に設定されているため、上昇させた空走速度を低下させるためだけに待機時間を設定する必要はないと考えられる。このため、空走速度ＶはＶ１に設定される。
【０１４４】
なお、ステップＳ１２Ｅは、上述のルール（Ｃ）（Ｅ）（Ｆ）が適用された場合である。
【０１４５】
また、ステップＳ１１Ｃにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ１２Ｆに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｆ）。なお、空走速度Ｖ２は、線分を描画する描画速度の２倍の速度である。
【０１４６】
ステップＳ１２Ｆで待機時間ｔｅがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１２Ｅと同様の理由によるものである。
【０１４７】
また、ステップＳ１２Ｆで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１１Ｃにおいてθｓが所定のθ２より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｆ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２より大きく、空走から描画に入る際の角度変化が比較的大きいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１４８】
また、ステップＳ１２Ｆで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、空走区間と線分とのなす角度が大きいことによって描画開始点（点Ｃ）で待機時間ｔ１が設けられており、この待機時間ｔ１を利用して空走速度Ｖ２から描画速度Ｖ１に減速する際の追従遅れを収束させられるため、空走距離がｄ０以下でも空走速度を高くして空走時間を短くするためである。
【０１４９】
なお、ステップＳ１２Ｆは、上述のルール（Ｂ）（Ｅ）（Ｇ）が適用された場合である。
【０１５０】
また、ステップＳ９Ｎにおいて空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０より長いと判定された場合は、フローはステップＳ１１Ｄに進行し、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１Ｄ）。ステップＳ１１ＤはステップＳ１１Ａ、Ｓ１１Ｂ、Ｓ１１Ｃと同一内容であり、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０１５１】
ステップＳ１１Ｄで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｇ）。
【０１５２】
ステップＳ１２Ｇで待機時間ｔｅがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１２Ｅ、Ｓ１２Ｆと同様の理由によるものである。
【０１５３】
また、ステップＳ１２Ｇで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、空走距離ｄがステップＳ９Ｎにおいてｄ０より長いと判定され、これにより空走速度が描画速度の２倍のＶ２に設定されたため、速度低下に伴う追従遅れを収束させる待機時間が必要になるからである。これは、図９（ｇ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走速度Ｖ２から描画速度Ｖ１に減速されるため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設けたものである。
【０１５４】
また、ステップＳ１２Ｇで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、ステップＳ９Ｎにおいて空走区間の距離ｄが距離ｄ０より長いと判定され、空走区間の距離が比較的長い場合であるため、空走速度を高くして空走時間を短縮するためである。
【０１５５】
なお、ステップＳ１２Ｇは、上述のルール（Ａ）（Ｅ）（Ｈ）が適用された場合である。
【０１５６】
また、ステップＳ１１Ｄにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ１２Ｈに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ１２Ｈ）。
【０１５７】
ステップＳ１２Ｈで待機時間ｔｅがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１２Ｅ、Ｓ１２Ｆ、Ｓ１２Ｇと同一の理由である。
【０１５８】
また、ステップＳ１２Ｈで待機時間ｔｓがｔ１に設定されるのは、ステップＳ１１Ｄにおいてθｓが所定のθ２より大きいと判定されたからである。これは、図９（ｈ）に示す例では、線分ＣＤの描画開始点である点Ｃにおいて、空走線分ＢＣと線分ＣＤのなす角度θｓが所定の角度θ２より大きく、空走から描画に入る際の角度変化が比較的大きいため、レーザの照射点の追従遅れが収まるのを待機する時間を設ける必要があると考えられるからである。
【０１５９】
また、ステップＳ１２Ｈで空走速度Ｖを描画速度の２倍のＶ２に設定するのは、描画開始点である点Ｃで待機時間ｔ１が設けられているので、空走速度を高くすることによって追従遅れが生じても点Ｃで吸収できるため、空走速度を高くして空走時間を短くするためである。
【０１６０】
なお、ステップＳ１２Ｈは、上述のルール（Ａ）（Ｅ）（Ｇ）が適用された場合である。
【０１６１】
ステップＳ１２Ｂ、Ｓ１２Ｃ、Ｓ１２Ｄ、Ｓ１２Ｅ、Ｓ１２Ｆ、Ｓ１２Ｇ、Ｓ１２Ｈの後にはステップＳ１３において、描画開始までの所要時間が演算される。
【０１６２】
以上で、ステップＳ１３により、ステップＳ４Ｙ又はＳ４Ｎで描画開始線分として決定した線分の描画終了点と、次に描画する線分の候補となる（Ｎ−１）本の候補線分に含まれる２（Ｎ−１）個の端点との間のすべての空走線分についての所要時間ｔｋが総当たり形式で計算されたことになる。
【０１６３】
これにより、ステップＳ１５では、ｋ≧２（Ｎ−１）が成立し、フローはステップＳ１６に進行する。
【０１６４】
ステップＳ１６では、描画順決定手段２２は、ステップＳ１３で求められたすべての所要時間を実現する端点のうち、最短の所要時間の端点を求める（ステップＳ１６）。
【０１６５】
ステップＳ１６で端点が求められると、その端点を含む線分が描画開始線分の次の描画順の線分として確定する。すなわち、ステップＳ１６は、描画順決定手段２２が所要時間に基づいて描画順を決定するステップである。候補線分は２つの端点（両端）で規定されるため、候補線分の両端のうちの一方の端点がステップＳ１６で求められることにより、その端点を含む候補線分が次の描画順の線分として確定されるものである。なお、描画順が確定された線分については、例えば、描画条件ＤＢ４３（図６（ａ）参照）に描画順を格納すればよい。
【０１６６】
次いで、主制御手段２１１は、すべての線分の描画順が確定したか否かを判定する（ステップＳ１７）。この判定は、例えば、描画条件ＤＢ４３に格納される描画順がすべての描画対象のすべての線分について確定しているか否かを判定することによって行われる。
【０１６７】
主制御手段２１１は、ステップＳ１７においてすべての線分の描画順が確定していないと判定した場合は、ステップＳ１６で描画順を確定した線分の描画終了点を基準点に設定し、次の描画順の線分を決定すべくフローをステップＳ５にリターンする。
【０１６８】
なお、ステップＳ１６を繰り返し実行することにより、描画順の確定していない線分の数は１つずつ減るため、フローがステップＳ１７からステップＳ５へリターンする過程で、総線分数Ｎがデクリメントされる（ステップＳ１９）。ステップＳ１９の処理が終了すると、デクリメントされた線分総数Ｎを用いて、ステップＳ５以下の処理が繰り返し実行される。
【０１６９】
そして、ステップＳ１７において主制御手段２１１がすべての線分の描画順が確定したと判定した場合に、すべての線分の描画順が確定する。確定した描画順は、すべての描画対象を描画する描画時間が最短となるように最適化されたものである。これにより、実施の形態１の描画制御装置によって生成される最適化フォントＤＢが完成する。
【０１７０】
以上、実施の形態１の描画制御装置２０によれば、描画開始線分の描画終了点からすべての線分を候補として総当たり形式で描画に要する所要時間（待機時間と空走時間を含む所要時間）が最短の端点を含む線分を次の描画順の線分として繰り返し選択するので、描画順の最適化を図ることができる。
【０１７１】
なお、以上では、描画順が一番となる線分（描画開始線分）をレーザの照射位置の初期位置で決める形態について説明したが、次のような手法で描画順を決定するようにしてもよい。上述した実施の形態では照射点の現在位置を基準とし、その照射点と同一又は一番近い端点を描画開始点としたが、以下の手法では、描画開始点についても最適化を行う点が異なる。
【０１７２】
描画対象の線分はＮ本あり、各線分は両端点から描画が可能であるため、線分１本あたり２通りの描画順が考えられる。
【０１７３】
この場合に、すべての線分を描画する順番は、式（２）で表されるだけの組み合わせがある。
【０１７４】
２Ｎ＊２（Ｎ−１）＊２（Ｎ−２）＊・・・＊２ ・・・（２）
ここで、＊は、べき乗を表す。
【０１７５】
これらの描画順の各々に対し、線分同士又は線分と空走線分の方向変化度合θと端点同士の距離ｄから、上述したｔｅ、ｔｓ、Ｖを決定し、各描画順についての所要時間の合計値を求める。
【０１７６】
そして、所要時間の合計値が最も短い描画順を最適化された描画順として抽出する。このように描画順を決定してもよい。
【０１７７】
＜実施の形態２＞
図１０は、実施の形態２の描画制御装置２２０の機能ブロックを示す図である。各ブロックをソフトウェアで実現する場合、各ブロックはＣＰＵ３１が文字描画プログラム４２を実行することで実現される。
【０１７８】
描画制御装置２２０は、主制御手段２１１、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３に加えて、線分群生成手段２２１を含む。
【０１７９】
すなわち、実施の形態２の描画制御装置２２０は、実施の形態１の描画制御装置２０に、線分群生成手段２２１を付加した構成を有する。
【０１８０】
描画制御装置２２０のうち、描画命令生成手段２３を除く、主制御手段２１１、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、空走距離判定手段２１３、及び線分群生成手段２２１は、描画順決定装置を構成する。
【０１８１】
主制御手段２１１は、描画順の決定処理を実行する際に、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、空走距離判定手段２１３、及び線分群生成手段２２１の処理を統括する処理と、その他に必要となる周辺処理を実行する制御手段である。
【０１８２】
線分群生成手段２２１は、各線分の両端点の座標データに基づき、連続する線分を群として扱うための線分群を生成する。
【０１８３】
線分群は、同一座標の端点を有する線分同士を連続する線分（線分群）として取り扱うものである。なお、線分が単独で存在する場合、すなわち、線分の両方の端点が他の線分の端点と同一座標を有しない場合は、一つの線分を線分群として取り扱うこととする。
【０１８４】
例えば、図４（ｃ）に示す線分ＣＤ、線分ＤＥ、線分ＥＦの３つの線分は、端点Ｄ、端点Ｅが同一座標の端点である。このため、線分群生成手段２２１は、３つの線分ＣＤ、ＤＥ、ＥＦを含む線分群を生成する。また、図４（Ｃ）の線分ＡＢは、単独で存在しているため、線分群生成手段２２１は、線分ＡＢを線分群として生成する。
【０１８５】
なお、描画位置決定手段２１、描画順決定手段２２、描画命令生成手段２３、対象文字コード取得手段２４、フォントデータ取得手段２５、描画条件取得手段２６、方向変化度合演算手段２７、方向変化度合判定手段２８、速度演算手段２９、待機時間演算手段３０、空走距離演算手段２１２、及び空走距離判定手段２１３は、それぞれ、実施の形態１の描画制御装置２０に含まれる同一符号の各手段と基本的に同一である。このため、実施の形態２では、各手段に同一符号を用い、各手段の説明は省略し、以下では相違点を中心に説明を行う。
【０１８６】
図１１は、実施の形態２の描画制御装置２２０による描画順決定処理を表すフローチャートである。図１１は、描画制御装置２２０による描画順決定処理の全体のフローを示す。
【０１８７】
描画制御装置２２０の描画位置決定手段２１は、フォントデータ取得手段２５によってフォントデータＤＢ４１から読み出されるフォントデータと、描画条件取得手段２６によって描画条件ＤＢ４３から読み出される描画条件とに基づいて、描画対象をリライタブル媒体５０に描画する描画位置である座標データを決定する（ステップＳ２０１）。
【０１８８】
次に、描画制御装置２２０の描画順決定手段２２は、描画対象の各々を描画する描画順を決定する（ステップＳ２０２）。例えば、描画対象が文字列の場合は、各文字を描画する順番が決定される。
【０１８９】
次に、描画制御装置２２０の描画順決定手段２２は、各描画対象に含まれる線分を描画する描画順を決定する（ステップＳ２０３）。例えば、描画対象が文字列の場合は、各文字に含まれる線分を描画する順番が決定される。なお、フォントデータは描画順を有するが、実施の形態２では、描画順の最適化を行うために、フォントデータに含まれる描画順を変更する場合がある。
【０１９０】
次に、描画制御装置２２０の待機時間演算手段３０は、空走区間の始点と終点における待機時間と空走速度を決定する（ステップＳ２０４）。
【０１９１】
以上のステップＳ２０１〜Ｓ２０４の処理で、すべての描画対象の描画順を決定する。
【０１９２】
次に、図１２及び図１３を用いて、ステップＳ２０２で描画対象の各々を描画する描画順を決定する処理の詳細について説明する。
【０１９３】
図１２は、実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２による描画対象の各々を描画する描画順を決定する処理を表すフローチャートである。
【０１９４】
図１３は、実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２によって描画順が決定される文字列の一例を示す図である。
【０１９５】
図１２に示すフローがスタートすると、描画順決定手段２２は、ステップＳ２０１で読み出したフォントデータの数に基づき、文字列に含まれる文字数Ｎを計算する（ステップＳ２１１）。
【０１９６】
次に、描画順決定手段２２は、ステップＳ２０１で決定した座標データに基づき、すべての描画対象に対して、図１３（Ａ）に示すように、各文字を包含する矩形領域１３０を生成する（ステップＳ２１２）。
【０１９７】
矩形領域１３０は、座標データに基づいて描画対象を包含するように生成すればよく、描画順決定手段２２は、原点Ｏに最も近い左上の頂点の座標を保持しておけばよい。
【０１９８】
ここでは、一例として、図１３（Ｂ）に示すように５つの描画対象（「あ」「い」「う」「え」「お」）に対して、矩形領域１３１〜１３５を生成したこととする。
【０１９９】
次に、描画順決定手段２２は、すべての描画対象の矩形領域の左上の座標に基づき、最も原点に近い矩形領域に包含される描画対象を、最初に描画する描画対象として決定する（ステップＳ２１３）。最も原点に近い矩形領域は、例えば、すべての矩形領域の左上の座標と原点との距離を求め、距離が最短の矩形領域を抽出することによって行えばよい。
【０２００】
図１３（Ｂ）に示す例では、「あ」を包含する矩形領域１３１が最も原点Ｏに近いため、矩形領域１３１に包含される「あ」が最初に描画される描画対象となる。
【０２０１】
描画順決定手段２２は、次に描画する描画対象を決定する（ステップＳ２１４）。次に描画する描画対象は、描画順が一つ前の描画対象を包含する矩形領域の左上の頂点の座標に最も近い左上頂点の座標を有する矩形領域に包含される描画対象に決定される。
【０２０２】
図１３（Ｂ）に示す例では、「あ」の次に描画されるのは、「あ」を包含する矩形領域１３１の左上頂点に最も近い左上頂点を有する矩形領域１３２に包含される「い」である。
【０２０３】
次に、描画順決定手段２２は、Ｎから１を減じる（ステップＳ２１５）。
【０２０４】
次に、描画順決定手段２２は、Ｎが０になったか否かを判定する（ステップＳ２１６）。
【０２０５】
描画順決定手段２２は、ステップＳ２１６でＮが０ではないと判定した場合（Ｓ２１６：ＮＯ）は、フローをステップＳ２１４にリターンし、次に描画する描画対象を決定する（ステップＳ２１４）。
【０２０６】
ステップＳ２１４〜Ｓ２１６が繰り返されることにより、図１３（Ｂ）に示す例では、描画順は「い」「う」「え」「お」の順に決定される。
【０２０７】
描画順決定手段２２は、ステップＳ２１６でＮが０であると判定した場合（Ｓ２１６：ＹＥＳ）は、フローを終了する。
【０２０８】
以上により、すべての描画対象の描画順が決定する。
【０２０９】
次に、図１４及び図１５を用いて、ステップＳ２０３で各描画対象に含まれる線分を描画する描画順を決定する処理の詳細について説明する。
【０２１０】
図１４は、実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２による各描画対象に含まれる線分を描画する描画順を決定する処理を表すフローチャートである。図１４に示す線分の描画順を決定する処理は、描画対象の各々について独立的に実行される処理である。
【０２１１】
図１５は、実施の形態２の描画制御装置２２０の描画順決定手段２２によって線分の描画順が決定される描画対象の一例を示す図である。
【０２１２】
図１４に示すフローがスタートすると、描画順決定手段２２は、線分群生成手段２２１が生成する線分群の数Ｍをカウントする（ステップＳ２２１）。
【０２１３】
次に、描画順決定手段２２は、どちらかの端点が他の線分群に隣接していない線分群のうち、他の線分群に隣接していない端点のｘ座標が最も原点Ｏに近い線分群を最初に描画する線分群に決定するとともに、最初に描画する線分群の始点（描画開始位置）を決定する（ステップＳ２２２）。
【０２１４】
例えば、図１５（Ａ）に示すように、「あ」という平仮名には、７つの線分群１５１〜１５７が含まれる。線分群１５１〜１５７のうち、どちらかの端点が他の線分群に隣接していない線分群は、線分群１５１（両端）、１５２（一端）、１５５（一端）、１５６（一端）、１５７（一端）である。すなわち、「端点が他の線分群に隣接する」とは、端点が他の線分群の端点に隣接する場合と、端点が他の線分群の両端の間の線分に隣接する場合とがある。
【０２１５】
図１５（Ａ）に示す例では、ｘ座標が最も原点Ｏに近い端点は、線分群１５１の左端であるため、最初に描画する線分群は、線分群１５１に決定する。
【０２１６】
また、描画順決定手段２２は、ステップＳ２２１において、最初に描画する線分群の始点（描画開始位置）を決定する。図１５（Ａ）に示す例では、線分群１５１の始点を線分群１５１の両端のうち原点に近い方の端点（図１５（Ａ）中の左側の端点）に決定する。線分群１５１の右側の端点は、終点（描画終了位置）となる。
【０２１７】
次に、描画順決定手段２２は、次に描画を行う線分群を決定する（ステップＳ２２３）。
【０２１８】
描画順決定手段２２は、ステップＳ２２３では、描画順が一つ前の線分群の終点（描画終了位置）に最も近い端点を有する線分群を次に描画する線分群に決定する。
【０２１９】
図１５（Ａ）に示す例では、線分群１５１の右端に最も近い端点を有する線分群は線分群１５２であるため、描画順が線分群１５１の次となる線分群は線分群１５２に決定する。
【０２２０】
次に、描画順決定手段２２は、Ｍから１を減じる（ステップＳ２２４）。
【０２２１】
次に、描画順決定手段２２は、Ｍが０になったか否かを判定する（ステップＳ２２５）。
【０２２２】
描画順決定手段２２は、Ｍが０ではないと判定した場合（Ｓ２２５：ＮＯ）は、フローをステップＳ２２３にリターンする。
【０２２３】
この結果、ステップＳ２２３〜Ｓ２２５が繰り返し実行され、図１５に示す例では、線分群１５２よりも後の描画順は、線分群１５３、１５４、１５５、１５６、１５７に決定する。
【０２２４】
以上より、線分群１５１〜１５７は、線分群１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１５７の順に描画されることになり、線分群１５３、１５４、１５５、１５６、１５７の各々の描画順は、図１５（Ｂ）に矢印で示すように決定される。
【０２２５】
すべての線分群の描画順が決まると、待機時間演算手段３０は、ステップＳ２０４において、空走区間の始点と終点における待機時間と空走速度を決定する。
【０２２６】
図１６は、実施の形態２の描画制御装置における待機時間演算処理を表すフローチャートである。
【０２２７】
待機時間設定手段３０は、描画順が決まった描画対象の描画順に含まれる空走区間について、空走区間の始点と終点に設ける待機時間を設定するために、空走区間を一つ選択する（ステップＳ２３１）。空走区間の選択は、描画順が早い方から一つずつ選択するようにすればよい。
【０２２８】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ２３１で選択した空走区間を表す空走線分と、空走線分の手前に位置する線分とのなす角θｅ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ２３２）。なす角は、座標データに基づき、図６（ｂ）に示す要領で求められる。
【０２２９】
次いで、方向変化度合判定手段２８は、ステップＳ２３２で演算されたなす角θｅが所定の角度θ１以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３３）。実施の形態２では、θ１は３０°に設定されるが、この値に限られるものではない。
【０２３０】
次に、空走距離演算手段２１２は、ステップＳ２３１で選択される空走区間を表す空走線分の長さｄ（すなわち、空走区間の距離ｄ）を座標データに基づいて演算する（ステップＳ２３４Ｙ）。
【０２３１】
ステップＳ２３４Ｙで空走区間の距離ｄが求まると、空走距離判定手段２１３は、空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３５Ｙ）。
【０２３２】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ２３１で選択した空走区間を表す空走線分と、空走線分に連続する線分とのなす角θｓ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ２３６Ａ）。なす角θｓは、座標データに基づき、図６（ｂ）に示す要領で求められる。
【０２３３】
ステップＳ２３６Ａにおいて角度θｓが演算されると、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３７Ａ）。実施の形態２では、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０２３４】
ステップＳ２３７Ａで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓを零（０）、空走区間の空走速度ＶをＶ１に設定する（ステップＳ２３８Ａ）。なお、空走速度Ｖ１は、線分を描画する描画速度と同一の速度である。
【０２３５】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ａと同一の理由によるものである。
【０２３６】
主制御手段２１１は、ステップＳ２３８Ａで設定された待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを描画命令生成手段２５に受け渡す。
【０２３７】
描画命令生成手段２５は、ステップＳ２３８Ａで設定された待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを描画命令に組み込む。
【０２３８】
また、ステップＳ２３７Ａにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ２３８Ｂに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｂ）。なお、空走速度Ｖ２は、線分を描画する描画速度の２倍の速度である。
【０２３９】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｂと同一の理由によるものである。
【０２４０】
また、ステップＳ２３５Ｙにおいて空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０より長いと判定された場合は、フローはステップＳ２３７Ｂに進行し、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３７Ｂ）。ステップＳ２３７ＢはステップＳ２３７Ａと同一内容であり、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０２４１】
ステップＳ２３７Ｂで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｃ）。なお、空走速度Ｖ２は、描画速度の２倍の速度である。
【０２４２】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｃと同一の理由によるものである。
【０２４３】
また、ステップＳ２３７Ｂにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ２３８Ｄに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅを零（０）、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｄ）。
【０２４４】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｄと同一の理由によるものである。
【０２４５】
また、ステップＳ２３３において、θｅがθ１より大きいと判定された場合は、フローはステップＳ２３４Ｎに進行し、空走距離演算手段２１２は、ステップＳ２３１で選択される端点と、描画順がその前であると決定している線分の描画終了点とを結ぶ空走線分の長さｄ（すなわち、空走区間の距離ｄ）を座標データに基づいて演算する（ステップＳ２３４Ｎ）。例えば、図９（ｅ）に示す例では、空走線分ＢＣの長さｄが点Ｂ、Ｃの座標データに基づいて演算される。
【０２４６】
ステップＳ２３４Ｎで空走区間の距離ｄが求まると、空走距離判定手段２１３は、空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３５Ｎ）。
【０２４７】
次いで、方向変化度合演算手段２７は、ステップＳ２３１で選択した端点を含む線分と、空走線分とのなす角θｓ（方向変化度合）を演算する（ステップＳ２３６Ｃ）。
【０２４８】
ステップＳ２３６Ｃにおいて角度θｓが演算されると、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３７Ｃ）。実施の形態２では、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０２４９】
ステップＳ２３７Ｃで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点（点Ｂ）における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点（点Ｃ）における待機時間ｔｓを零（０）、空走区間の空走速度ＶをＶ１に設定する（ステップＳ２３８Ｅ）。
【０２５０】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｅと同一の理由によるものである。
【０２５１】
また、ステップＳ２３７Ｃにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ２３８Ｆに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｆ）。なお、空走速度Ｖ２は、線分を描画する描画速度の２倍の速度である。
【０２５２】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｆと同一の理由によるものである。
【０２５３】
また、ステップＳ２３５Ｎにおいて空走区間の距離ｄが所定の距離ｄ０より長いと判定された場合は、フローはステップＳ２３７Ｄに進行し、方向変化度合判定手段２８は、角度θｓが所定の角度θ２以下であるか否かを判定する（ステップＳ２３７Ｄ）。ステップＳ２３７ＤはステップＳ２３７Ａ、Ｓ２３７Ｂ、Ｓ２３７Ｃと同一内容であり、θ２はθ１と同一の３０°に設定される。なお、θ２の値はθ１と同一である必要はなく、任意の角度に設定することができる。
【０２５４】
ステップＳ２３７Ｄで角度θｓが角度θ２以下であると判定された場合は、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｇ）。
【０２５５】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｇと同一の理由によるものである。
【０２５６】
また、ステップＳ２３７Ｄにおいて、角度θｓが所定の角度θ２以下ではないと判定された場合は、フローはステップＳ２３８Ｈに進行し、主制御手段２１１は、描画終了点における待機時間ｔｅをｔ１、描画開始点における待機時間ｔｓをｔ１、空走区間の空走速度ＶをＶ２に設定する（ステップＳ２３８Ｈ）。
【０２５７】
待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを上述のように設定するのは、実施の形態１のステップＳ１２Ｈと同一の理由によるものである。
【０２５８】
ステップＳ２３８Ｂ〜Ｓ２３８Ｈが終了すると、主制御手段２１１は、ステップＳ２３８Ａで設定された待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを描画命令生成手段２５に受け渡す。そして、描画命令生成手段２５は、ステップＳ２３８Ａで設定された待機時間ｔｅ、待機時間ｔｓ、空走速度Ｖを描画命令に組み込む。
【０２５９】
以上により、描画命令が生成される。
【０２６０】
以上、本発明の例示的な実施の形態１、２の描画順決定装置、描画制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントＤＢ、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。
【符号の説明】
【０２６１】
１０ 描画装置
１１ レーザ発振器
１２ 方向制御モータ
１３ 方向制御ミラー
１４ 光学レンズ
１５ 集光レンズ
２０ 描画制御装置
２１ 描画位置決定手段
２２ モード設定手段
２３ 描画順決定手段
２４ 描画命令生成手段
２５ 対象文字コード取得手段
２６ フォントデータ取得手段
２７ 描画条件取得手段
２８ 方向変化度合演算手段
２９ 方向変化度合判定手段
３０ 描画速度演算手段
３１ ＣＰＵ
３２、２３０ メモリ
３３ ＣＤ−ＲＯＭドライブ
３４ ネットワーク装置
３５ ハードディスク
３６ 入力装置
３７ ディスプレイ
３８ ＣＤ−ＲＯＭ（記憶媒体）
４１ フォントデータＤＢ
４２ 文字描画プログラム
４３ 描画条件ＤＢ
４４ 所要時間ＤＢ
５０ リライタブル媒体
１００ レーザマーキング装置
２１１ 主制御手段
２１２ 空走距離演算手段
２１３ 空走距離判定手段
２２０ 描画制御装置
２２１ 線分群生成手段
【先行技術文献】
【特許文献】
【０２６２】
【特許文献１】特開２００４−９００２６号公報
【特許文献２】特開２００４−３４１３７３号公報
【特許文献３】特開２００６−３０６０６３号公報
【特許文献４】特許第３９９０８９１号公報
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定装置であって、
前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、
前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段と、
前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段と
を含む、描画順決定装置。
【請求項２】
前記待機時間設定手段は、前記描画終了点を含む線分と、当該線分に連続する前記空走線分との方向変化度合が所定度合い以上の場合に、前記第１待機時間を設定する、請求項１に記載の描画順決定装置。
【請求項３】
前記待機時間設定手段は、前記描画開始点を含む線分と、前記空走線分との方向変化度合が所定度合い以上の場合に、前記第２待機時間を設定する、請求項１に記載の描画順決定装置。
【請求項４】
前記描画対象を描画するための描画時間が短くなるように、前記第１待機時間又は前記前記第２待機時間を反映した前記描画対象の描画順を決定する描画順決定手段をさらに含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の描画順決定装置。
【請求項５】
前記描画位置決定手段が決定した描画位置に基づき、描画対象に含まれる線分を連続する線分群を生成する線分群生成手段と、
前記線分群生成手段が生成する線分群を描画するための描画時間が短くなるように、前記線分群の描画順を決定する描画順決定手段と
をさらに含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の描画順決定装置。
【請求項６】
前記待機時間設定手段によって前記第２待機時間が設定された場合に、前記一又は複数の線分を描画する描画速度よりも、前記空走区間を空走する空走速度を高く設定する速度設定手段をさらに含み、
前記描画順決定手段は、前記速度設定手段によって設定された前記描画速度及び前記空走速度が反映された前記描画順を決定する、請求項４又は５に記載の描画順決定装置。
【請求項７】
前記空走区間の距離が所定距離以上の場合に、前記空走区間を空走する空走速度を前記一又は複数の線分を描画する描画速度よりも高く設定する速度設定手段をさらに含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の描画順決定装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項記載の描画順決定装置と、
前記描画順決定装置が決定した前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段と
を含む、描画制御装置。
【請求項９】
レーザを照射するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器が照射するレーザの照射方向を制御する方向制御ミラーと、
前記方向制御ミラーを駆動する方向制御モータと、
前記描画命令に基づき、前記レーザ発振器の照射出力の制御、及び前記方向制御モータの駆動制御を行う、請求項８に記載の描画制御装置と
を有する、レーザ照射装置。
【請求項１０】
一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画装置を制御する描画制御装置が生成した最適化フォントＤＢであって、
前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、
前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段と、
前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段と
前記描画対象の描画時間が短くなるように描画順を決定する描画順決定手段と、
前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段と
を含む、描画制御装置が生成した、
前記描画対象を描画するための描画情報を記憶した最適化フォントＤＢ。
【請求項１１】
一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順をコンピュータが決定する描画順決定方法であって、
前記コンピュータは、
前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、
前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算工程と、
前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定工程と
を実行する、描画順決定方法。
【請求項１２】
コンピュータに、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定処理を実行させるための描画順決定プログラムであって、
前記コンピュータを
前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段、
前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段、及び
前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段と
として機能させる、描画順決定プログラム。
【請求項１３】
請求項１２に記載の描画順決定プログラムを記録した記録媒体。
【請求項１】
一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定装置であって、
前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、
前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段と、
前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段と
を含む、描画順決定装置。
【請求項２】
前記待機時間設定手段は、前記描画終了点を含む線分と、当該線分に連続する前記空走線分との方向変化度合が所定度合い以上の場合に、前記第１待機時間を設定する、請求項１に記載の描画順決定装置。
【請求項３】
前記待機時間設定手段は、前記描画開始点を含む線分と、前記空走線分との方向変化度合が所定度合い以上の場合に、前記第２待機時間を設定する、請求項１に記載の描画順決定装置。
【請求項４】
前記描画対象を描画するための描画時間が短くなるように、前記第１待機時間又は前記前記第２待機時間を反映した前記描画対象の描画順を決定する描画順決定手段をさらに含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の描画順決定装置。
【請求項５】
前記描画位置決定手段が決定した描画位置に基づき、描画対象に含まれる線分を連続する線分群を生成する線分群生成手段と、
前記線分群生成手段が生成する線分群を描画するための描画時間が短くなるように、前記線分群の描画順を決定する描画順決定手段と
をさらに含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の描画順決定装置。
【請求項６】
前記待機時間設定手段によって前記第２待機時間が設定された場合に、前記一又は複数の線分を描画する描画速度よりも、前記空走区間を空走する空走速度を高く設定する速度設定手段をさらに含み、
前記描画順決定手段は、前記速度設定手段によって設定された前記描画速度及び前記空走速度が反映された前記描画順を決定する、請求項４又は５に記載の描画順決定装置。
【請求項７】
前記空走区間の距離が所定距離以上の場合に、前記空走区間を空走する空走速度を前記一又は複数の線分を描画する描画速度よりも高く設定する速度設定手段をさらに含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の描画順決定装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項記載の描画順決定装置と、
前記描画順決定装置が決定した前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段と
を含む、描画制御装置。
【請求項９】
レーザを照射するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器が照射するレーザの照射方向を制御する方向制御ミラーと、
前記方向制御ミラーを駆動する方向制御モータと、
前記描画命令に基づき、前記レーザ発振器の照射出力の制御、及び前記方向制御モータの駆動制御を行う、請求項８に記載の描画制御装置と
を有する、レーザ照射装置。
【請求項１０】
一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画装置を制御する描画制御装置が生成した最適化フォントＤＢであって、
前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段と、
前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段と、
前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段と
前記描画対象の描画時間が短くなるように描画順を決定する描画順決定手段と、
前記描画位置及び前記描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成手段と
を含む、描画制御装置が生成した、
前記描画対象を描画するための描画情報を記憶した最適化フォントＤＢ。
【請求項１１】
一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順をコンピュータが決定する描画順決定方法であって、
前記コンピュータは、
前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、
前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算工程と、
前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定工程と
を実行する、描画順決定方法。
【請求項１２】
コンピュータに、一又は複数の連続的な線分と、他の一又は複数の連続的な線分を描画する間に描画を行わない空走区間を設け、媒体に一又は複数の線分を含む描画対象を描画する描画順を決定する描画順決定処理を実行させるための描画順決定プログラムであって、
前記コンピュータを
前記描画対象を描画するための描画情報に基づき、前記媒体に前記描画対象を描画する描画位置を決定する描画位置決定手段、
前記描画情報又は前記描画位置に基づき、前記描画対象に含まれる線分と、前記線分に連続する前記空走区間を表す空走線分との方向変化度合を演算する方向変化度合演算手段、及び
前記方向変化度合に基づいて、前記一又は複数の連続的な線分の描画終了点において、当該線分に連続する前記空走線分の空走を待機する第１待機時間、又は、前記空走線分に連続する前記一又は複数の連続的な線分の描画開始点において、当該空走線分に連続する前記線分の描画を待機する第２待機時間を設定する待機時間設定手段と
として機能させる、描画順決定プログラム。
【請求項１３】
請求項１２に記載の描画順決定プログラムを記録した記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図８】
【公開番号】特開２０１１−１０４９９１（Ｐ２０１１−１０４９９１Ａ）
【公開日】平成２３年６月２日（２０１１．６．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０８５７９（Ｐ２０１０−２０８５７９）
【出願日】平成２２年９月１６日（２０１０．９．１６）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月２日（２０１１．６．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月１６日（２０１０．９．１６）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ
【出願人】（０００００６７４７）株式会社リコー (37,907)
【Ｆターム（参考）】
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