放射線硬化性組成物
【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。
【解決手段】表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシートＷに凹凸型を密着させ、この凹凸型表面の凹凸形状をシートの表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される放射線硬化性組成物である。この放射線硬化性組成物は、所定の構造をもつアクリレート又はメタアクリレート、及び光重合開始剤を含む。
【解決手段】表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシートＷに凹凸型を密着させ、この凹凸型表面の凹凸形状をシートの表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される放射線硬化性組成物である。この放射線硬化性組成物は、所定の構造をもつアクリレート又はメタアクリレート、及び光重合開始剤を含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線硬化性組成物に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を製造するのに好適な放射線硬化性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている（特許文献１〜８参照）。
【０００３】
たとえば、図５に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１の表面に塗布手段２で樹脂を塗布し、連続走行されるシート３をスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の樹脂をシート３に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている（特許文献１〜３参照）。
【０００４】
また、図６に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート３の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート３を、規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている（特許文献３、４参照）。
【０００５】
また、このようなシート状物の製造に使用する組成物としても各種の組成のものが開示されている（特許文献５〜８参照）。たとえば、特許文献５は、放射線硬化性組成物の粘度と表面張力について規定している。特許文献６は、モノマ−として含ハロゲン（メタ）アクリレ−トなどが開示されており、高屈折率化に対応できるとされている。
【０００６】
特許文献７は、組成物としてメチルスチレンが開示されており、組成物の粘度を下げ、加工、塗布適性を付与できるとされている。特許文献８は、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレ−トを用い、希釈のため他のエチレン性不飽和結合をもつ単量体と混合している。
【特許文献１】特許第２５３３３７９号公報
【特許文献２】特許第２８９１３４４号公報
【特許文献３】特開平１１−３００７６８号公報
【特許文献４】特開２０００−１４１４８１号公報
【特許文献５】特開２００１−３１４８１５号公報
【特許文献６】特開２００４−５１９４１号公報
【特許文献７】特表２００１−５２６７１５号公報
【特許文献８】特許第３１３０５５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、近年において光学樹脂層については、光学設計上の理由から、高屈折率化が望まれている。たとえばフレネルレンズの場合、光学樹脂層の屈折率を高くする程レンズパターンを浅くすることが可能となり、金型からの離型が容易となり、生産性が向上できる等の利点がある。
【０００８】
また、たとえば、液晶表示装置などに使われるバックライトユニットの正面輝度向上用のプリズムシートの場合、プリズムの頂角を同一として設計したときに、光学樹脂層の屈折率を高くする程その正面輝度を向上させることができる。
【０００９】
一方、このような光学樹脂層の高屈折率を達成するためには、硬化性組成物として芳香環構造や、臭素などのハロゲン化合物を多く含有した化合物を使用する必要がある。ところが、一般にこのような化合物は高粘度の液体又は固体である。したがって樹脂液も高粘度となるため、前述したような方法で製造する場合は、より一層塗布性が悪くなり、ラインスピードを上げることは困難であり、生産性を改善しにくいという問題があった。
【００１０】
しかしながら、上記の課題に対し従来技術は、現状では充分に対処できていない。たとえば、既述の特許文献５は、金型への樹脂の流れ込みをよくして生産性をあげるために、放射線硬化性組成物の粘度と表面張力を規定しているが、事前にシ−トに樹脂を塗布する方式とは異なる。また、樹脂（化合物）の具体的な組成や、樹脂を低粘度にする具体的な方法は開示されていない。
【００１１】
既述の特許文献６には、高屈折率モノマ−として含ハロゲン（メタ）アクリレ−トなどが記載されているが、放射線硬化性組成物の粘度は数百ｍＰａ・ｓ以上〜数千Ｐａ・ｓが好ましいとされており、塗布速度改善のための低粘度化については考慮されていない。
【００１２】
既述の特許文献７には、放射線硬化性組成物の粘度を下げ、加工、塗布適性を付与できる比較的高屈折率の化合物としてメチルスチレンが記載されているが、硬化して硬化膜中に化合物が残るため使用量が多すぎると屈折率の低下や硬化膜物性の劣化を生じることとなる。これを避けるためには、粘度は数百ｍＰａ・ｓ程度までしか下げられず、塗布速度を上昇させる効果は不十分である。
【００１３】
既述の特許文献８には、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレ−トを用い、希釈のため他のエチレン性不飽和結合をもつ単量体と混合する旨が記載されているが、この単量体は硬化して硬化膜中に残るため、使用量が多すぎると硬化膜物性の劣化を引き起こす。これを避けるためには、粘度を数十〜百ｍＰａ・ｓ程度までしか下げられず、塗布速度を上昇させる効果は不十分である。また、特許文献８には、シ−ト上に微細構造を生産性よく連続的に作成するという課題は存在しない。
【００１４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートを製造するのに好適な放射線硬化性組成物、より具体的には、低粘度で塗布性がよく、高屈折率となる放射線硬化性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、前記目的を達成するために、表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシート状体に凹凸型を密着させ、該凹凸型表面の凹凸形状を前記シート状体の表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される前記放射線硬化性組成物であって、下記の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含むことを特徴とする放射線硬化性組成物を提供する。
（Ａ）下記の化学式１によって表される構造をもつ化合物
【００１６】
【化１】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、ｍ及びｎは、１又は２である。
（Ｂ）１以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
本発明において、前記（Ｂ）が、下記の化学式２、化学式３及び化学式４のうちの１以上からなる化合物であることが好ましい。なお、化合物（Ｂ）として、同じ式で異なる化合物が同時に含まれていてもよい。
【００１７】
【化２】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｐは、１〜３の整数である。
【００１８】
【化３】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｑは、１〜３の整数である。
【００１９】
【化４】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ２は、Ｃｌ又はＢｒである。ｒは、０〜２の整数であり、ｓは、０〜３の整数である。Ｒ２は、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基、Ｐｈ又は−Ｃ（ＣＨ３）−Ｐｈである。
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
また、本発明において、前記（Ｄ）が、２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、又はビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドであることが好ましい。
【００２０】
また、本発明において、転写形成後の前記放射線硬化性組成物の屈折率が１．５８以上であることが好ましい。
【００２１】
また、本発明において、塗布時の前記放射線硬化性組成物が有機溶剤を１０重量％以上含むことが好ましい。また、本発明において、塗布時の前記放射線硬化性組成物の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。組成物がこのような量の有機溶剤を含み、このような低粘度であることにより、塗布スジや泡故障などの面状欠陥が無く均一にシート状体上に組成物の層が形成できる。
【００２２】
本発明によれば、フルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレートを用いることにより硬化膜を高屈折率化し、更に、溶剤で希釈して低粘度化した放射線硬化性組成物を用いることにより、高ラインスピ−ドで生産性よく製造できる。使用した有機溶剤は塗布後から硬化までに加熱乾燥されるが、感度が高く、揮発しにくい特定の開始剤を用いることにより、加熱乾燥後も高感度を維持でき、生産性がよい。
【００２３】
特に、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレ−ト、ハロゲン置換芳香環含有（メタ）アクリレ−トを用いることにより光学材料等に有効な高屈折率な細構造を作成できる。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように、本発明によれば、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な放射線硬化性組成物が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図１は、本発明の放射線硬化性組成物が適用されるエンボスシートの製造装置１０の構成を示す概念図である。このエンボスシートの製造装置１０は、シート状体供給手段１１と、塗布手段１２と、乾燥手段１９と、凹凸ローラであるエンボスローラ１３と、ニップローラ１４と、樹脂硬化手段１５と、剥離ローラ１６と、保護フィルム供給手段１７と、シート巻き取り手段１８、等とより構成される。
【００２６】
シート状体供給手段であるシート供給手段１１は、シート状体であるシートＷを送り出すもので、シートＷが巻回された送り出しロール等より構成される。
【００２７】
塗布手段１２は、シートＷの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源１２Ａと、液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂと、塗布ヘッド１２Ｃと、塗布の際にシートＷを巻き掛けて支持する支持ローラ１２Ｄと、液供給源１２Ａより塗布ヘッド１２Ｃまで放射線硬化樹脂液を供給するための配管等より構成される。なお、塗布ヘッド１２Ｃとしては、ダイコータ（エクストルージョン方式のコータ）の塗布ヘッドが採用されている。
【００２８】
乾燥手段１９は、たとえば図１に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートＷに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。
【００２９】
エンボスローラ１３としては、シートＷの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ１３としては、金属製のローラが好ましい。
【００３０】
エンボスローラ１３の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。
【００３１】
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をＸＹ方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
【００３２】
エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ１３の表面をダイヤモンドバイト（シングルポイント）で切削加工する方法、エンボスローラ１３の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法が採用できる。
【００３３】
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原盤（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
【００３４】
エンボスローラ１３の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ１３の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ１３には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ１３は、図示の矢印ように、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。
【００３５】
ニップローラ１４は、エンボスローラ１３と対になってシートＷを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ１４表面の縦弾性係数（ヤング率）は、小さ過ぎるとローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ１４には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ１４は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００３６】
エンボスローラ１３とニップローラ１４との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ１３とニップローラ１４との隙間（クリアランス）を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに設けることが好ましい。
【００３７】
樹脂硬化手段１５は、ニップローラ１４の下流側においてエンボスローラ１３に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段１５は、光照射によってシートＷを透過して樹脂液層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光（放射線）を照射でき、シートＷの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段１５として、たとえば、シートＷの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。
【００３８】
剥離ローラ１６は、エンボスローラ１３と対になってエンボスローラ１３からシートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ１３の周面上に巻き掛けられたシートＷを回転するエンボスローラ１３と剥離ローラ１６とで挟みながら、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させて剥離ローラ１６に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ１６には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ１６は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００３９】
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートＷを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ１６に冷却手段を設ける構成も採用できる。
【００４０】
なお、図示は省略したが、エンボスローラ１３の押圧箇所（９時の位置）から剥離箇所（３時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ１３とでシートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
【００４１】
シート巻き取り手段１８は、剥離後のシートＷを収納するもので、シートＷを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段１８において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段１８に収納される。
【００４２】
エンボスシートの製造装置１０において、塗布手段１２とエンボスローラ１３との間、剥離ローラ１６とシート巻き取り手段１８との間等に、シートＷの搬送路を形成するガイドローラ等を設けてもよく、その他、必要に応じてシートＷの搬送中の弛みを吸収すべく、テンションローラ等を設けることもできる。
【００４３】
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。
【００４４】
シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、シートＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００４５】
これらのシートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００４６】
また、シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートＷは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
【００４７】
本発明に使用可能な樹脂は（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
【００４８】
特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いてもよい。
【００４９】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物の中でも、特に屈折率が高いという観点から、フルオレン構造を含有するものが好ましく、特にビスフェノキシ基を持つフルオレン系（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。このような化合物としては、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジ（メタ）アクリレ−ト、ビスフェノキシオキシエチレンフルオレンジ（メタ）アクリレ−ト等があり、市販品としてはＢＰＥＦ−Ａ（大阪ガス（株））などがある。
【００５０】
また、（メタ）アクロイル基含有化合物の中でも、特に屈折率が高いという観点から、芳香環を２つもつビスフェノール骨格をもつ化合物が好ましい。このような化合物の例としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５１】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００５２】
更に、上記のビスフェノール骨格に加え、高屈折率化のために芳香環にCl、Brのハロゲン基が置換されている化合物を用いるのが好ましい。このような構造をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５３】
ＢＲ−４２Ｍ（第一工業製薬（株）製）、RDX51027（UCBラドキュア（株）製）などが挙げられる。
【００５４】
また、高屈折という観点から、ブロモ置換された芳香環を１個もつ不飽和モノマ−も用いられる。このような化合物の例としては、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５５】
特に、３ブロモ置換された２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレートが高屈折率で好ましい。
【００５６】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、市販品としてはＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００５７】
加えて、屈折率は上記の化合物よりは劣るが、そこそこ高屈折率でかつ、より低粘度で塗布性に有効な不飽和モノマ−として、芳香環をもつ単官能不飽和モノマ−が用いられる。このような不飽和モノマ−の例としては、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
【００５８】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００５９】
更に、本発明においては、粘度調整や硬化膜物性、支持体との密着性などの改質のため、必要に応じて上記以外の不飽和モノマ−を用いることができる。
【００６０】
たとえば、液粘度低減や硬化膜の脆性改良のため（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−を用いることが可能である。このような単官能モノマ−としてたとえば、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００６１】
また、硬化膜強度や粘度調整等のため、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーを用いることができる。このような不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００６２】
更に、硬化膜強度アップ等のため３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−を用いることが可能である。このような不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００６３】
加えて強靭な膜質にするため、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。
【００６４】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００６５】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００６６】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いてもよく、必要に応じて複数種を混合して用いてもよい。
【００６７】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。この中でも、本発明に用いる光ラジカル重合開始剤としては沸点が高く、または昇化性が低く、加熱乾燥、減圧乾燥などの際に蒸発または昇化しにくいものが好ましい。
【００６８】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度であり、かつ沸点が高く乾燥時に蒸発しにくいという観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００６９】
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００７０】
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００７１】
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００７２】
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上 ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上 大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００７３】
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
【００７４】
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。
【００７５】
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。
【００７６】
したがって、有機溶剤の沸点としては５０°Ｃ以上、１５０°Ｃ以下が好ましく、７０°Ｃ以上、１２０°Ｃ以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６°Ｃ）、１−プロパノール（ｂｐ．９７．２°Ｃ）などが好ましい。
【００７７】
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、１０重量％以上、４０重量％以下の範囲であり、好ましくは１５重量％以上、３０重量％以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。
【００７８】
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。
【００７９】
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５００００ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃである。
【００８０】
シートＷやエンボスローラ１３に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
【００８１】
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、１０〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。
【００８２】
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ１３で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は１０〜３０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ１３で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ１３で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
【００８３】
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性（屈折率、軟化点）を有するものであることが特に好ましい。
【００８４】
屈折率としては、硬化物の２５°Ｃにおいて１．５８以上が好ましく、１．６０以上がより好ましい。硬化物の２５°Ｃにおける屈折率が１．５８未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。
【００８５】
軟化点としては、４０°Ｃ以上が好ましく、５０°Ｃ以上がより好ましい。軟化点が４０°Ｃ未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。
【００８６】
次に、図１に戻って、エンボスシートの製造装置１０の作用について説明する。
【００８７】
エンボスシートの製造装置１０に使用される樹脂液として、放射線硬化性組成物が使用され、この放射線硬化性組成物は下記の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含む。
【００８８】
（Ａ）下記の化学式１によって表される構造をもつ化合物
【００８９】
【化１】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、ｍ及びｎは、１又は２である。
【００９０】
（Ｂ）１以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
この樹脂液によれば、フルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレートを用いることにより、硬化後の放射線硬化性組成物の膜を高屈折率化できる。したがって、塗布性がよく、高屈折率となる放射線硬化性組成物が得られる。
【００９１】
また、前記（Ｂ）が、下記の化学式２、化学式３及び化学式４のうちの１以上からなる化合物であることが好ましい。なお、化合物（Ｂ）として、同じ式で異なる化合物が同時に含まれていてもよい。
【００９２】
【化２】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｐは、１〜３の整数である。
【００９３】
【化３】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｑは、１〜３の整数である。
【００９４】
【化４】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ２は、Ｃｌ又はＢｒである。ｒは、０〜２の整数であり、ｓは、０〜３の整数である。Ｒ２は、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基、Ｐｈ又は−Ｃ（ＣＨ３）−Ｐｈである。
【００９５】
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
また、前記（Ｄ）が、２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、又はビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドであることが好ましい。
【００９６】
エンボスシートの製造装置１０において、シート状体供給手段１１より、一定速度でシートＷを送り出す。シートＷは塗布手段１２へ送り込まれ、シートＷの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段１９によりシートＷに塗布された樹脂液が乾燥され、溶剤分が蒸発する。次いで、シートＷはエンボスローラ１３とニップローラ１４からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートＷを、エンボスローラ１３の９時の位置において、回転するエンボスローラ１３とニップローラ１４とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートＷを、回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ１３表面の凹凸を転写する。
【００９７】
次いで、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段１５によりシートＷを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ１３の３時の位置において、シートＷを剥離ローラ１６に巻き掛けることによりエンボスローラ１３から剥離する。
【００９８】
なお、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。
【００９９】
剥離されたシートＷは、シート巻き取り手段１８に搬送され、保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段１８の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。図４は、シートＷ（エンボスシート）の概要を示す断面図である。
【０１００】
このように、シートＷ表面に樹脂層が厚さむらなく形成され、更に、エンボスローラ１３による型押しも安定・均一になされる。これにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造することができる。
【０１０１】
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法及び装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【０１０２】
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ１３を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【０１０３】
また、本実施形態の例では、ローラによる連続成形が例示されているが、これに代えてスタンパ（凹凸型）によるプレス成形を採用することもできる。この場合、たとえば、板状のスタンパ（凹凸型）に放射線硬化性組成物が塗布されたシート状体を密着させ、更にシート状体の裏面に透明板（たとえば、強化ガラス）を密着させ、押圧しながら放射線を照射する。このような態様であっても、本実施形態と同様に作用し、同様の効果が得られる。
【実施例】
【０１０４】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１０５】
［樹脂液の調整］
図２の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、５０°Ｃに加熱して攪拌溶解し、８種類の樹脂液（実施例１〜５及び比較例１〜３）を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
ＢＰＥＦ−Ａ：式（１）の化合物。Ｒ１＝Ｈ、ｍ、ｎ＝１、大阪ガス（株）製、
Ｅ３０００Ｍ：エポキシエステル３０００Ｍ、共栄社化学（株）製、ビスフェノ−ルＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物（粘度：１０万ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＲＤＸ５１０２７：ＵＣＢ−ラドキュア製、テトラブロモビスフェノ−ルＡ骨格含有のエポキシアクリレ−ト
ＢＰＥ２００：ＮＫエステルＢＰＥ−２００、新中村化学（株）製、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡメタクリル酸エステル、（粘度：５９０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
Ｍ１１０ ：アロニクスＭ−１１０、東亞合成（株）製、パラクミルフェノ−ルエチレンオキシド変性アクリレ−ト（粘度：１３０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＬＲ８８９３Ｘ：Ｌｕｃｉｒｉｎ ＬＲ８８９３Ｘ、ＢＡＳＦ（株）製の光ラジカル発生剤、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
ＤＡ１１７３：ダロキュア１１７３、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
ＭＥＫ ：メチルエチルケトン
［エンボスシートの製造］
図１に示される構成のエンボスシートの製造装置１０を使用してエンボスシートの製造を行った。
【０１０６】
シートＷとして、幅５００ｍｍ、厚さ１００μｍの透明なＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）のフィルムを使用した。
【０１０７】
エンボスローラ１３として、長さ（シートＷの幅方向）が７００ｍｍ、直径が３００ｍｍのＳ４５Ｃ製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略５００ｍｍ幅の全周に、ダイヤモンドバイト（シングルポイント）を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが５０μｍの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が９０度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない９０度の三角形状である。すなわち、溝幅は５０μｍであり、溝深さは約２５μｍである。
【０１０８】
この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ１３により、シートＷに断面が三角形のレンチキュラーレンズ（プリズムシート）が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。エンボスローラ１３の概略断面図を図３に示す。
【０１０９】
塗布手段１２としてダイコータを使用した。塗布手段１２の塗布ヘッド１２Ｃとして、エクストルージョンタイプのものを使用した。
【０１１０】
塗布液Ｆ（樹脂液）として、既述の図２の表に記載の各液を使用した。塗布液Ｆ（樹脂液）の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が２０μｍになるように、塗布ヘッド１２Ｃへの塗布液Ｆの供給量を液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂにより制御した。
【０１１１】
乾燥手段１９として、熱風循環方式の装置を用いた。熱風の温度は１００°Ｃに設定した。
【０１１２】
ニップローラ１４として、直径が２００ｍｍで、表面にゴム硬度が９０のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ１３とニップローラ１４とでシートＷを押圧するニップ圧（実効のニップ圧）は、０．５Ｐａとした。
【０１１３】
樹脂硬化手段１５として、メタルハライドランプを使用し、１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで照射を行った。
【０１１４】
以上により、既述の図２の表に示された各実施例及び比較例に対応する、凹凸パターンが形成されたシートＷを得た。
【０１１５】
［塗布性の評価］
塗布手段１２にてシ−トＷ上に樹脂液が供給された後の塗布面状を目視評価することにより判断した。スジやムラ等の欠陥なく塗布できている場合を○、スジやムラ等の欠陥が発生している場合を×とした。
【０１１６】
［硬化性の評価］
前述のエンボスシ-ト作成装置にて作成されたエンボスシ−トにつき、エンボスシ−トのＵＶ硬化樹脂表面を軽く触れることにより硬化性を判断した。表面が十分硬化されており変形、傷等が入らないものを硬化性を○とし、柔らかく、変形、傷等が簡単に入るものや、表面が液状のものを×とした。
【０１１７】
［屈折率の測定］
スピナーを用いてガラス板上に液状硬化性組成物を塗布し、１００°Ｃに設定したオーブンにて１分間乾燥させた。この膜に、窒素雰囲気の下で、１０００ｍＪ／ｃｍ２の強度の紫外線を照射して硬化膜を得た。アッベ屈折計を用いて、この硬化膜の２５°Ｃにおける屈折率を測定した。
【０１１８】
以下、各樹脂液について、上記の製造方法にてエンボスシートを作製した結果を図２の表に纏めた。また、対応する、各樹脂液について、上記の評価方法に基づき屈折率を測定した。この結果も図２の表に纏めた。
【０１１９】
図２の表のうち、実施例１は、既述の化学式（１）及び（４）の化合物を使用した例であり、実施例２は、既述の化学式（１）、（３）及び（４）の化合物を使用した例であり、実施例３は、既述の化学式（１）及び（４）の化合物を使用した例であり、実施例４は、既述の化学式（１）、（２）及び（４）の化合物を使用した例であり、実施例５は、既述の化学式（１）、（２）及び（４）の化合物を使用した例であり、塗布性及び硬化性の評価は、いずれも良好であり、屈折率も満足できる値が得られている。
【０１２０】
図２の表のうち、比較例１は、実施例１の組成において式（１）の化合物を使用しなかったものである。その結果、塗布性及び硬化性の評価はいずれも良好であるものの、屈折率が低くＮＧとなった。
【０１２１】
図２の表のうち、比較例２は、実施例１の組成より溶剤（ＭＥＫ）を除いた場合（他の組成比は同じ）である。その結果、屈折率及び硬化性の評価はいずれも良好であるものの、粘度が高く塗布性が劣化しＮＧとなった。
【０１２２】
図２の表のうち、比較例３は、実施例１の開始剤ＬＲ８８９３ＸをＤＡ１１７３に代えたものである。その結果、屈折率及び塗布性の評価はいずれも良好であるものの、加熱乾燥中に揮発して硬化性が劣化しＮＧとなった。
【０１２３】
以上の結果より、本発明の効果が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明が適用されるエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図２】各樹脂液の調合を示す表
【図３】エンボスローラの概要を示す断面図
【図４】エンボスシートの概要を示す断面図
【図５】従来例のエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図６】従来例のエンボスシートの製造装置の他の構成を示す概念図
【符号の説明】
【０１２５】
１０…エンボスシートの製造装置、１１…シート供給手段、１２…塗布手段、１３…エンボスローラ、１４…ニップローラ、１５…樹脂硬化手段、１６…剥離ローラ、１７…保護フィルム供給手段、１８…シート巻き取り手段、Ｈ…保護フィルム、Ｗ…シート
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線硬化性組成物に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を製造するのに好適な放射線硬化性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている（特許文献１〜８参照）。
【０００３】
たとえば、図５に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１の表面に塗布手段２で樹脂を塗布し、連続走行されるシート３をスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の樹脂をシート３に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている（特許文献１〜３参照）。
【０００４】
また、図６に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート３の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート３を、規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている（特許文献３、４参照）。
【０００５】
また、このようなシート状物の製造に使用する組成物としても各種の組成のものが開示されている（特許文献５〜８参照）。たとえば、特許文献５は、放射線硬化性組成物の粘度と表面張力について規定している。特許文献６は、モノマ−として含ハロゲン（メタ）アクリレ−トなどが開示されており、高屈折率化に対応できるとされている。
【０００６】
特許文献７は、組成物としてメチルスチレンが開示されており、組成物の粘度を下げ、加工、塗布適性を付与できるとされている。特許文献８は、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレ−トを用い、希釈のため他のエチレン性不飽和結合をもつ単量体と混合している。
【特許文献１】特許第２５３３３７９号公報
【特許文献２】特許第２８９１３４４号公報
【特許文献３】特開平１１−３００７６８号公報
【特許文献４】特開２０００−１４１４８１号公報
【特許文献５】特開２００１−３１４８１５号公報
【特許文献６】特開２００４−５１９４１号公報
【特許文献７】特表２００１−５２６７１５号公報
【特許文献８】特許第３１３０５５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、近年において光学樹脂層については、光学設計上の理由から、高屈折率化が望まれている。たとえばフレネルレンズの場合、光学樹脂層の屈折率を高くする程レンズパターンを浅くすることが可能となり、金型からの離型が容易となり、生産性が向上できる等の利点がある。
【０００８】
また、たとえば、液晶表示装置などに使われるバックライトユニットの正面輝度向上用のプリズムシートの場合、プリズムの頂角を同一として設計したときに、光学樹脂層の屈折率を高くする程その正面輝度を向上させることができる。
【０００９】
一方、このような光学樹脂層の高屈折率を達成するためには、硬化性組成物として芳香環構造や、臭素などのハロゲン化合物を多く含有した化合物を使用する必要がある。ところが、一般にこのような化合物は高粘度の液体又は固体である。したがって樹脂液も高粘度となるため、前述したような方法で製造する場合は、より一層塗布性が悪くなり、ラインスピードを上げることは困難であり、生産性を改善しにくいという問題があった。
【００１０】
しかしながら、上記の課題に対し従来技術は、現状では充分に対処できていない。たとえば、既述の特許文献５は、金型への樹脂の流れ込みをよくして生産性をあげるために、放射線硬化性組成物の粘度と表面張力を規定しているが、事前にシ−トに樹脂を塗布する方式とは異なる。また、樹脂（化合物）の具体的な組成や、樹脂を低粘度にする具体的な方法は開示されていない。
【００１１】
既述の特許文献６には、高屈折率モノマ−として含ハロゲン（メタ）アクリレ−トなどが記載されているが、放射線硬化性組成物の粘度は数百ｍＰａ・ｓ以上〜数千Ｐａ・ｓが好ましいとされており、塗布速度改善のための低粘度化については考慮されていない。
【００１２】
既述の特許文献７には、放射線硬化性組成物の粘度を下げ、加工、塗布適性を付与できる比較的高屈折率の化合物としてメチルスチレンが記載されているが、硬化して硬化膜中に化合物が残るため使用量が多すぎると屈折率の低下や硬化膜物性の劣化を生じることとなる。これを避けるためには、粘度は数百ｍＰａ・ｓ程度までしか下げられず、塗布速度を上昇させる効果は不十分である。
【００１３】
既述の特許文献８には、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレ−トを用い、希釈のため他のエチレン性不飽和結合をもつ単量体と混合する旨が記載されているが、この単量体は硬化して硬化膜中に残るため、使用量が多すぎると硬化膜物性の劣化を引き起こす。これを避けるためには、粘度を数十〜百ｍＰａ・ｓ程度までしか下げられず、塗布速度を上昇させる効果は不十分である。また、特許文献８には、シ−ト上に微細構造を生産性よく連続的に作成するという課題は存在しない。
【００１４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートを製造するのに好適な放射線硬化性組成物、より具体的には、低粘度で塗布性がよく、高屈折率となる放射線硬化性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、前記目的を達成するために、表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシート状体に凹凸型を密着させ、該凹凸型表面の凹凸形状を前記シート状体の表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される前記放射線硬化性組成物であって、下記の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含むことを特徴とする放射線硬化性組成物を提供する。
（Ａ）下記の化学式１によって表される構造をもつ化合物
【００１６】
【化１】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、ｍ及びｎは、１又は２である。
（Ｂ）１以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
本発明において、前記（Ｂ）が、下記の化学式２、化学式３及び化学式４のうちの１以上からなる化合物であることが好ましい。なお、化合物（Ｂ）として、同じ式で異なる化合物が同時に含まれていてもよい。
【００１７】
【化２】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｐは、１〜３の整数である。
【００１８】
【化３】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｑは、１〜３の整数である。
【００１９】
【化４】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ２は、Ｃｌ又はＢｒである。ｒは、０〜２の整数であり、ｓは、０〜３の整数である。Ｒ２は、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基、Ｐｈ又は−Ｃ（ＣＨ３）−Ｐｈである。
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
また、本発明において、前記（Ｄ）が、２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、又はビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドであることが好ましい。
【００２０】
また、本発明において、転写形成後の前記放射線硬化性組成物の屈折率が１．５８以上であることが好ましい。
【００２１】
また、本発明において、塗布時の前記放射線硬化性組成物が有機溶剤を１０重量％以上含むことが好ましい。また、本発明において、塗布時の前記放射線硬化性組成物の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。組成物がこのような量の有機溶剤を含み、このような低粘度であることにより、塗布スジや泡故障などの面状欠陥が無く均一にシート状体上に組成物の層が形成できる。
【００２２】
本発明によれば、フルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレートを用いることにより硬化膜を高屈折率化し、更に、溶剤で希釈して低粘度化した放射線硬化性組成物を用いることにより、高ラインスピ−ドで生産性よく製造できる。使用した有機溶剤は塗布後から硬化までに加熱乾燥されるが、感度が高く、揮発しにくい特定の開始剤を用いることにより、加熱乾燥後も高感度を維持でき、生産性がよい。
【００２３】
特に、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレ−ト、ハロゲン置換芳香環含有（メタ）アクリレ−トを用いることにより光学材料等に有効な高屈折率な細構造を作成できる。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように、本発明によれば、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な放射線硬化性組成物が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図１は、本発明の放射線硬化性組成物が適用されるエンボスシートの製造装置１０の構成を示す概念図である。このエンボスシートの製造装置１０は、シート状体供給手段１１と、塗布手段１２と、乾燥手段１９と、凹凸ローラであるエンボスローラ１３と、ニップローラ１４と、樹脂硬化手段１５と、剥離ローラ１６と、保護フィルム供給手段１７と、シート巻き取り手段１８、等とより構成される。
【００２６】
シート状体供給手段であるシート供給手段１１は、シート状体であるシートＷを送り出すもので、シートＷが巻回された送り出しロール等より構成される。
【００２７】
塗布手段１２は、シートＷの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源１２Ａと、液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂと、塗布ヘッド１２Ｃと、塗布の際にシートＷを巻き掛けて支持する支持ローラ１２Ｄと、液供給源１２Ａより塗布ヘッド１２Ｃまで放射線硬化樹脂液を供給するための配管等より構成される。なお、塗布ヘッド１２Ｃとしては、ダイコータ（エクストルージョン方式のコータ）の塗布ヘッドが採用されている。
【００２８】
乾燥手段１９は、たとえば図１に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートＷに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。
【００２９】
エンボスローラ１３としては、シートＷの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ１３としては、金属製のローラが好ましい。
【００３０】
エンボスローラ１３の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。
【００３１】
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をＸＹ方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
【００３２】
エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ１３の表面をダイヤモンドバイト（シングルポイント）で切削加工する方法、エンボスローラ１３の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法が採用できる。
【００３３】
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原盤（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
【００３４】
エンボスローラ１３の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ１３の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ１３には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ１３は、図示の矢印ように、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。
【００３５】
ニップローラ１４は、エンボスローラ１３と対になってシートＷを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ１４表面の縦弾性係数（ヤング率）は、小さ過ぎるとローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ１４には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ１４は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００３６】
エンボスローラ１３とニップローラ１４との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ１３とニップローラ１４との隙間（クリアランス）を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに設けることが好ましい。
【００３７】
樹脂硬化手段１５は、ニップローラ１４の下流側においてエンボスローラ１３に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段１５は、光照射によってシートＷを透過して樹脂液層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光（放射線）を照射でき、シートＷの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段１５として、たとえば、シートＷの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。
【００３８】
剥離ローラ１６は、エンボスローラ１３と対になってエンボスローラ１３からシートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ１３の周面上に巻き掛けられたシートＷを回転するエンボスローラ１３と剥離ローラ１６とで挟みながら、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させて剥離ローラ１６に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ１６には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ１６は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００３９】
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートＷを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ１６に冷却手段を設ける構成も採用できる。
【００４０】
なお、図示は省略したが、エンボスローラ１３の押圧箇所（９時の位置）から剥離箇所（３時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ１３とでシートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
【００４１】
シート巻き取り手段１８は、剥離後のシートＷを収納するもので、シートＷを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段１８において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段１８に収納される。
【００４２】
エンボスシートの製造装置１０において、塗布手段１２とエンボスローラ１３との間、剥離ローラ１６とシート巻き取り手段１８との間等に、シートＷの搬送路を形成するガイドローラ等を設けてもよく、その他、必要に応じてシートＷの搬送中の弛みを吸収すべく、テンションローラ等を設けることもできる。
【００４３】
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。
【００４４】
シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、シートＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００４５】
これらのシートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００４６】
また、シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートＷは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
【００４７】
本発明に使用可能な樹脂は（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
【００４８】
特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いてもよい。
【００４９】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物の中でも、特に屈折率が高いという観点から、フルオレン構造を含有するものが好ましく、特にビスフェノキシ基を持つフルオレン系（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。このような化合物としては、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジ（メタ）アクリレ−ト、ビスフェノキシオキシエチレンフルオレンジ（メタ）アクリレ−ト等があり、市販品としてはＢＰＥＦ−Ａ（大阪ガス（株））などがある。
【００５０】
また、（メタ）アクロイル基含有化合物の中でも、特に屈折率が高いという観点から、芳香環を２つもつビスフェノール骨格をもつ化合物が好ましい。このような化合物の例としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５１】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００５２】
更に、上記のビスフェノール骨格に加え、高屈折率化のために芳香環にCl、Brのハロゲン基が置換されている化合物を用いるのが好ましい。このような構造をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５３】
ＢＲ−４２Ｍ（第一工業製薬（株）製）、RDX51027（UCBラドキュア（株）製）などが挙げられる。
【００５４】
また、高屈折という観点から、ブロモ置換された芳香環を１個もつ不飽和モノマ−も用いられる。このような化合物の例としては、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５５】
特に、３ブロモ置換された２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレートが高屈折率で好ましい。
【００５６】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、市販品としてはＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００５７】
加えて、屈折率は上記の化合物よりは劣るが、そこそこ高屈折率でかつ、より低粘度で塗布性に有効な不飽和モノマ−として、芳香環をもつ単官能不飽和モノマ−が用いられる。このような不飽和モノマ−の例としては、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
【００５８】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００５９】
更に、本発明においては、粘度調整や硬化膜物性、支持体との密着性などの改質のため、必要に応じて上記以外の不飽和モノマ−を用いることができる。
【００６０】
たとえば、液粘度低減や硬化膜の脆性改良のため（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−を用いることが可能である。このような単官能モノマ−としてたとえば、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００６１】
また、硬化膜強度や粘度調整等のため、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーを用いることができる。このような不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００６２】
更に、硬化膜強度アップ等のため３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−を用いることが可能である。このような不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００６３】
加えて強靭な膜質にするため、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。
【００６４】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００６５】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００６６】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いてもよく、必要に応じて複数種を混合して用いてもよい。
【００６７】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。この中でも、本発明に用いる光ラジカル重合開始剤としては沸点が高く、または昇化性が低く、加熱乾燥、減圧乾燥などの際に蒸発または昇化しにくいものが好ましい。
【００６８】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度であり、かつ沸点が高く乾燥時に蒸発しにくいという観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００６９】
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００７０】
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００７１】
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００７２】
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上 ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上 大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００７３】
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
【００７４】
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。
【００７５】
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。
【００７６】
したがって、有機溶剤の沸点としては５０°Ｃ以上、１５０°Ｃ以下が好ましく、７０°Ｃ以上、１２０°Ｃ以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６°Ｃ）、１−プロパノール（ｂｐ．９７．２°Ｃ）などが好ましい。
【００７７】
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、１０重量％以上、４０重量％以下の範囲であり、好ましくは１５重量％以上、３０重量％以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。
【００７８】
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。
【００７９】
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５００００ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃである。
【００８０】
シートＷやエンボスローラ１３に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
【００８１】
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、１０〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。
【００８２】
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ１３で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は１０〜３０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ１３で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ１３で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
【００８３】
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性（屈折率、軟化点）を有するものであることが特に好ましい。
【００８４】
屈折率としては、硬化物の２５°Ｃにおいて１．５８以上が好ましく、１．６０以上がより好ましい。硬化物の２５°Ｃにおける屈折率が１．５８未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。
【００８５】
軟化点としては、４０°Ｃ以上が好ましく、５０°Ｃ以上がより好ましい。軟化点が４０°Ｃ未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。
【００８６】
次に、図１に戻って、エンボスシートの製造装置１０の作用について説明する。
【００８７】
エンボスシートの製造装置１０に使用される樹脂液として、放射線硬化性組成物が使用され、この放射線硬化性組成物は下記の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含む。
【００８８】
（Ａ）下記の化学式１によって表される構造をもつ化合物
【００８９】
【化１】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、ｍ及びｎは、１又は２である。
【００９０】
（Ｂ）１以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
この樹脂液によれば、フルオレン骨格を含有する（メタ）アクリレートを用いることにより、硬化後の放射線硬化性組成物の膜を高屈折率化できる。したがって、塗布性がよく、高屈折率となる放射線硬化性組成物が得られる。
【００９１】
また、前記（Ｂ）が、下記の化学式２、化学式３及び化学式４のうちの１以上からなる化合物であることが好ましい。なお、化合物（Ｂ）として、同じ式で異なる化合物が同時に含まれていてもよい。
【００９２】
【化２】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｐは、１〜３の整数である。
【００９３】
【化３】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｑは、１〜３の整数である。
【００９４】
【化４】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ２は、Ｃｌ又はＢｒである。ｒは、０〜２の整数であり、ｓは、０〜３の整数である。Ｒ２は、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基、Ｐｈ又は−Ｃ（ＣＨ３）−Ｐｈである。
【００９５】
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
また、前記（Ｄ）が、２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、又はビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドであることが好ましい。
【００９６】
エンボスシートの製造装置１０において、シート状体供給手段１１より、一定速度でシートＷを送り出す。シートＷは塗布手段１２へ送り込まれ、シートＷの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段１９によりシートＷに塗布された樹脂液が乾燥され、溶剤分が蒸発する。次いで、シートＷはエンボスローラ１３とニップローラ１４からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートＷを、エンボスローラ１３の９時の位置において、回転するエンボスローラ１３とニップローラ１４とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートＷを、回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ１３表面の凹凸を転写する。
【００９７】
次いで、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段１５によりシートＷを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ１３の３時の位置において、シートＷを剥離ローラ１６に巻き掛けることによりエンボスローラ１３から剥離する。
【００９８】
なお、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。
【００９９】
剥離されたシートＷは、シート巻き取り手段１８に搬送され、保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段１８の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。図４は、シートＷ（エンボスシート）の概要を示す断面図である。
【０１００】
このように、シートＷ表面に樹脂層が厚さむらなく形成され、更に、エンボスローラ１３による型押しも安定・均一になされる。これにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造することができる。
【０１０１】
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法及び装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【０１０２】
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ１３を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【０１０３】
また、本実施形態の例では、ローラによる連続成形が例示されているが、これに代えてスタンパ（凹凸型）によるプレス成形を採用することもできる。この場合、たとえば、板状のスタンパ（凹凸型）に放射線硬化性組成物が塗布されたシート状体を密着させ、更にシート状体の裏面に透明板（たとえば、強化ガラス）を密着させ、押圧しながら放射線を照射する。このような態様であっても、本実施形態と同様に作用し、同様の効果が得られる。
【実施例】
【０１０４】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１０５】
［樹脂液の調整］
図２の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、５０°Ｃに加熱して攪拌溶解し、８種類の樹脂液（実施例１〜５及び比較例１〜３）を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
ＢＰＥＦ−Ａ：式（１）の化合物。Ｒ１＝Ｈ、ｍ、ｎ＝１、大阪ガス（株）製、
Ｅ３０００Ｍ：エポキシエステル３０００Ｍ、共栄社化学（株）製、ビスフェノ−ルＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物（粘度：１０万ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＲＤＸ５１０２７：ＵＣＢ−ラドキュア製、テトラブロモビスフェノ−ルＡ骨格含有のエポキシアクリレ−ト
ＢＰＥ２００：ＮＫエステルＢＰＥ−２００、新中村化学（株）製、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡメタクリル酸エステル、（粘度：５９０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
Ｍ１１０ ：アロニクスＭ−１１０、東亞合成（株）製、パラクミルフェノ−ルエチレンオキシド変性アクリレ−ト（粘度：１３０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＬＲ８８９３Ｘ：Ｌｕｃｉｒｉｎ ＬＲ８８９３Ｘ、ＢＡＳＦ（株）製の光ラジカル発生剤、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
ＤＡ１１７３：ダロキュア１１７３、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン
ＭＥＫ ：メチルエチルケトン
［エンボスシートの製造］
図１に示される構成のエンボスシートの製造装置１０を使用してエンボスシートの製造を行った。
【０１０６】
シートＷとして、幅５００ｍｍ、厚さ１００μｍの透明なＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）のフィルムを使用した。
【０１０７】
エンボスローラ１３として、長さ（シートＷの幅方向）が７００ｍｍ、直径が３００ｍｍのＳ４５Ｃ製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略５００ｍｍ幅の全周に、ダイヤモンドバイト（シングルポイント）を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが５０μｍの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が９０度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない９０度の三角形状である。すなわち、溝幅は５０μｍであり、溝深さは約２５μｍである。
【０１０８】
この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ１３により、シートＷに断面が三角形のレンチキュラーレンズ（プリズムシート）が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。エンボスローラ１３の概略断面図を図３に示す。
【０１０９】
塗布手段１２としてダイコータを使用した。塗布手段１２の塗布ヘッド１２Ｃとして、エクストルージョンタイプのものを使用した。
【０１１０】
塗布液Ｆ（樹脂液）として、既述の図２の表に記載の各液を使用した。塗布液Ｆ（樹脂液）の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が２０μｍになるように、塗布ヘッド１２Ｃへの塗布液Ｆの供給量を液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂにより制御した。
【０１１１】
乾燥手段１９として、熱風循環方式の装置を用いた。熱風の温度は１００°Ｃに設定した。
【０１１２】
ニップローラ１４として、直径が２００ｍｍで、表面にゴム硬度が９０のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ１３とニップローラ１４とでシートＷを押圧するニップ圧（実効のニップ圧）は、０．５Ｐａとした。
【０１１３】
樹脂硬化手段１５として、メタルハライドランプを使用し、１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで照射を行った。
【０１１４】
以上により、既述の図２の表に示された各実施例及び比較例に対応する、凹凸パターンが形成されたシートＷを得た。
【０１１５】
［塗布性の評価］
塗布手段１２にてシ−トＷ上に樹脂液が供給された後の塗布面状を目視評価することにより判断した。スジやムラ等の欠陥なく塗布できている場合を○、スジやムラ等の欠陥が発生している場合を×とした。
【０１１６】
［硬化性の評価］
前述のエンボスシ-ト作成装置にて作成されたエンボスシ−トにつき、エンボスシ−トのＵＶ硬化樹脂表面を軽く触れることにより硬化性を判断した。表面が十分硬化されており変形、傷等が入らないものを硬化性を○とし、柔らかく、変形、傷等が簡単に入るものや、表面が液状のものを×とした。
【０１１７】
［屈折率の測定］
スピナーを用いてガラス板上に液状硬化性組成物を塗布し、１００°Ｃに設定したオーブンにて１分間乾燥させた。この膜に、窒素雰囲気の下で、１０００ｍＪ／ｃｍ２の強度の紫外線を照射して硬化膜を得た。アッベ屈折計を用いて、この硬化膜の２５°Ｃにおける屈折率を測定した。
【０１１８】
以下、各樹脂液について、上記の製造方法にてエンボスシートを作製した結果を図２の表に纏めた。また、対応する、各樹脂液について、上記の評価方法に基づき屈折率を測定した。この結果も図２の表に纏めた。
【０１１９】
図２の表のうち、実施例１は、既述の化学式（１）及び（４）の化合物を使用した例であり、実施例２は、既述の化学式（１）、（３）及び（４）の化合物を使用した例であり、実施例３は、既述の化学式（１）及び（４）の化合物を使用した例であり、実施例４は、既述の化学式（１）、（２）及び（４）の化合物を使用した例であり、実施例５は、既述の化学式（１）、（２）及び（４）の化合物を使用した例であり、塗布性及び硬化性の評価は、いずれも良好であり、屈折率も満足できる値が得られている。
【０１２０】
図２の表のうち、比較例１は、実施例１の組成において式（１）の化合物を使用しなかったものである。その結果、塗布性及び硬化性の評価はいずれも良好であるものの、屈折率が低くＮＧとなった。
【０１２１】
図２の表のうち、比較例２は、実施例１の組成より溶剤（ＭＥＫ）を除いた場合（他の組成比は同じ）である。その結果、屈折率及び硬化性の評価はいずれも良好であるものの、粘度が高く塗布性が劣化しＮＧとなった。
【０１２２】
図２の表のうち、比較例３は、実施例１の開始剤ＬＲ８８９３ＸをＤＡ１１７３に代えたものである。その結果、屈折率及び塗布性の評価はいずれも良好であるものの、加熱乾燥中に揮発して硬化性が劣化しＮＧとなった。
【０１２３】
以上の結果より、本発明の効果が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明が適用されるエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図２】各樹脂液の調合を示す表
【図３】エンボスローラの概要を示す断面図
【図４】エンボスシートの概要を示す断面図
【図５】従来例のエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図６】従来例のエンボスシートの製造装置の他の構成を示す概念図
【符号の説明】
【０１２５】
１０…エンボスシートの製造装置、１１…シート供給手段、１２…塗布手段、１３…エンボスローラ、１４…ニップローラ、１５…樹脂硬化手段、１６…剥離ローラ、１７…保護フィルム供給手段、１８…シート巻き取り手段、Ｈ…保護フィルム、Ｗ…シート
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシート状体に凹凸型を密着させ、該凹凸型表面の凹凸形状を前記シート状体の表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される前記放射線硬化性組成物であって、
下記の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含むことを特徴とする放射線硬化性組成物。
（Ａ）下記の化学式１によって表される構造をもつ化合物
【化１】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、ｍ及びｎは、１又は２である。
（Ｂ）１以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
【請求項２】
前記（Ｂ）が、下記の化学式２、化学式３及び化学式４のうちの１以上からなる化合物である請求項１に記載の放射線硬化性組成物。
【化２】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｐは、１〜３の整数である。
【化３】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｑは、１〜３の整数である。
【化４】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ２は、Ｃｌ又はＢｒである。ｒは、０〜２の整数であり、ｓは、０〜３の整数である。Ｒ２は、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基、Ｐｈ又は−Ｃ（ＣＨ３）−Ｐｈである。
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
【請求項３】
前記（Ｄ）が、２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、又はビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドである請求項１又は２に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項４】
転写形成後の前記放射線硬化性組成物の屈折率が１．５８以上である請求項１〜３のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項５】
塗布時の前記放射線硬化性組成物が有機溶剤を１０重量％以上含む請求項１〜４のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項６】
塗布時の前記放射線硬化性組成物の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項１】
表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシート状体に凹凸型を密着させ、該凹凸型表面の凹凸形状を前記シート状体の表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される前記放射線硬化性組成物であって、
下記の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含むことを特徴とする放射線硬化性組成物。
（Ａ）下記の化学式１によって表される構造をもつ化合物
【化１】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、ｍ及びｎは、１又は２である。
（Ｂ）１以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
【請求項２】
前記（Ｂ）が、下記の化学式２、化学式３及び化学式４のうちの１以上からなる化合物である請求項１に記載の放射線硬化性組成物。
【化２】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｐは、１〜３の整数である。
【化３】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ１は、Ｃｌ又はＢｒである。ｑは、１〜３の整数である。
【化４】
ただし、Ｒ１は、Ｈ又はＣＨ３であり、Ｘ２は、Ｃｌ又はＢｒである。ｒは、０〜２の整数であり、ｓは、０〜３の整数である。Ｒ２は、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基、Ｐｈ又は−Ｃ（ＣＨ３）−Ｐｈである。
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の分子内に１以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
（Ｄ）光重合開始剤
【請求項３】
前記（Ｄ）が、２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、又はビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドである請求項１又は２に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項４】
転写形成後の前記放射線硬化性組成物の屈折率が１．５８以上である請求項１〜３のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項５】
塗布時の前記放射線硬化性組成物が有機溶剤を１０重量％以上含む請求項１〜４のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
【請求項６】
塗布時の前記放射線硬化性組成物の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００７−２４８８４９（Ｐ２００７−２４８８４９Ａ）
【公開日】平成１９年９月２７日（２００７．９．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−７２７６５（Ｐ２００６−７２７６５）
【出願日】平成１８年３月１６日（２００６．３．１６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月２７日（２００７．９．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年３月１６日（２００６．３．１６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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