新規カルバ糖前駆体とそれらの製造方法、およびそれらを用いた生理活性カルバ糖アミン誘導体の製造方法
【課題】ライソゾーム病治療剤として有用な生理活性カルバ糖アミン誘導体の新規な製造方法、および上記カルバ糖アミン誘導体の製造において、製造中間体として有用である新規なカルバ糖前駆体およびその製造方法を提供する。
【解決する手段】下記一般式（１）
【化１】
〔式中、Ｒ２〜Ｒ４の一部または全部はそれぞれ独立に水素原子もしくはヒドロキシル基の保護基を示す。Ｒ１およびＲ５は炭素数２〜１５のアシル基を示す。〕で表される絶対配置を有することを特徴とする新規カルバ糖前駆体および、当該前駆体をWittig反応条件に付し、生じたジエンに対しハロゲン付加を行い、続いて置換反応によってアシルオキシル基を導入し、その後アルキルアミノ基を導入することにより、生理活性カルバ糖アミン誘導体を得ることが出来る。
【解決する手段】下記一般式（１）
【化１】
〔式中、Ｒ２〜Ｒ４の一部または全部はそれぞれ独立に水素原子もしくはヒドロキシル基の保護基を示す。Ｒ１およびＲ５は炭素数２〜１５のアシル基を示す。〕で表される絶対配置を有することを特徴とする新規カルバ糖前駆体および、当該前駆体をWittig反応条件に付し、生じたジエンに対しハロゲン付加を行い、続いて置換反応によってアシルオキシル基を導入し、その後アルキルアミノ基を導入することにより、生理活性カルバ糖アミン誘導体を得ることが出来る。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規カルバ糖前駆体とそれらの製造方法、およびそれらを用いて医薬剤として有用なバリエナミン型カルバ糖アミン誘導体を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
細胞内小器官の一つライソゾームに存在する分解酵素が遺伝的に欠損または変異していると、細胞内外に異物が蓄積してしまう。このような現象によって引き起こされる疾病はライソゾーム病として知られている。ライソゾーム病の中でも特に、糖加水分解酵素であるライソゾーマル−β−グルコシダーゼの変異が病因となるものがゴーシェ（Gaucher）病として知られ、同じくライソゾーマル−β−ガラクトシダーゼの変異が病因となるものが、ＧＭ１ガングリオシドーシスと名付けられ、一般に認知されている。
【０００３】
これらの疾病に対し、酵素補充療法が現在までの主な治療法となっているが、酵素製剤は中枢神経に到達しにくく脳を含む神経系に対する治療効果が見られないこと、また高価な酵素製剤の点滴治療を生涯にわたって続けなければならないことなどが問題点として挙げられる。
【０００４】
このような状況下、糖加水分解酵素の変異によって生じるライソゾーム病の新しい治療法を担う低分子化合物として、下記の一般式（２）−Ａ（特許文献１および非特許文献１参照）で表されるバリエナミン型のカルバ糖アミン誘導体、またその酸付加塩（特許文献２参照）が開発された。
【０００５】
【化１】
【０００６】
〔式中、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基、炭素数２〜１５のアシル基、炭素数２〜１５のアリル基、または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。ただし、Ｒ１およびＲ２は双方が同時に水素原子であることはない。また、窒素原子上に酸付加した塩であってもよい。〕
【０００７】
これらバリエナミン型カルバ糖アミン誘導体には遺伝的な変異により低下した酵素活性を上昇させる効果があることが認められているが（特許文献１および非特許文献２参照）、化合物自体の製造に関し、非特許文献１および非特許文献３に記載の方法ではその過程においてラセミ体の光学分割を含み、一般式（２）−Ａの製造に十数工程を要している。加えて特許文献２の製造方法では、市販のメチル−α−Ｄ−グルコピラノシドより出発し一般式（２）−Ａの製造に二十数工程を必要としている。
【０００８】
これら上記の製造法において、目的化合物を医薬品として供給することを考慮すると工程数が長く、手間も掛かるため十分であるとは言えなかった。
【０００９】
一方、クエルシトール類縁化合物のひとつである（＋）−プロト−クエルシトール
【００１０】
【化２】
は、理論的には４種類のメソ体と６対の光学異性体からなる計１６種類の異性体が存在しうるクエルシトールの異性体のうち、植物界より見出されている３種の化合物、（＋）−プロト−クエルシトール、（−）−プロト−クエルシトール、（−）−ビボ−クエルシトール、の一つである。
【００１１】
クエルシトールはグルコースなどのピラノース類と構造が類似し、ピラン環の酸素がメチレンに置換された構造であることから、ピラノース類よりも安定な擬似糖として、各種医農薬の構成成分、また光学活性な出発原料として利用法が考えられている物質である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】国際公開第０３／０２２７９７号パンフレット
【特許文献２】国際公開第０４／１０１４９３号パンフレット
【非特許文献】
【００１３】
【非特許文献１】Bioorganic and Medicinal Chemistry Letters、２００２年、１０巻、p．１９６７−１９７２
【非特許文献２】Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America、２００３年、２６巻、p．１５９１２−１５９１７
【非特許文献３】Bioorganic and Medicinal Chemistry、２００４年、１２巻、p．９９５−１００２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
糖加水分解酵素の遺伝的な変異が病因となるライソゾーム病の治療薬候補化合物として、下記一般式（２）
【００１５】
【化３】
【００１６】
〔式中、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基、炭素数２〜１５のアシル基、炭素数２〜１５のアリル基、または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。ただし、Ｒ１およびＲ２は双方が同時に水素原子であることはない。Ｒ３〜Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子またはヒドロキシル基の保護基を示す。保護基として、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを示す。また、窒素原子上に酸付加した塩であってもよい。〕
で表されるカルバ糖アミン誘導体およびその酸付加塩が開発されてきたが、従来の製造方法は光学分割や比較的長い工程を必要としており、医薬として供給するためにはより簡便かつ短い工程での製造方法が切望されていた。本発明はこのような課題を解決するべくなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意研究した。特に、上記一般式（２）で表されるライソゾーム病治療薬候補カルバ糖アミン誘導体に化学構造が類似しているクエルシトール類縁体化合物、具体的には（＋）−プロト−クエルシトールに注目し、これを原料とすれば、上記の既知製造方法と比較して光学分割を含まず、かつより短い工程で有利に目的物を製造し得るのではないかと考え、検討した。
【００１８】
その結果、（＋）−プロト−クエルシトールのヒドロキシル基を選択的に保護化し、遊離した１個のヒドロキシル基の酸化、および保護化されたヒドロキシル基のうちトランス配置ジオールの選択的な脱保護化を行い、続いてアシル化反応条件に付すことにより、一般式（１）
【００１９】
【化４】
【００２０】
〔式中、Ｒ２〜Ｒ４の一部または全部はそれぞれ独立に水素原子もしくはヒドロキシル基の保護基を示す。保護基としては、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを示す。Ｒ１およびＲ５は炭素数２〜１５のアシル基を示す。〕
で表される新規なカルバ糖化合物前駆体を得ることに成功した。
【００２１】
さらに上記一般式（１）で表されるカルバ糖前駆体を用い、本発明者らはライソゾーム病治療薬候補化合物である一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体の製造に成功した。まず、一般式（１）の化合物をWittig反応条件に付したところ、エノールエステル部分がメチレン化されたのみならず、一般式（１）中Ｒ１Ｏで表したアシルオキシル基の脱離が生じ、一段階の反応で目的物であるシクロヘキサン環に一炭素増炭したジエン体を得た。これにハロゲンを１，４−付加させ、生じた第１級ハロゲン基をアシルオキシル基で置換、次いでアルキルアミノ基を導入して一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体を得た。加えて、適当な酸と処理することによって一般式（２）の酸付加塩も得られた。このように、（＋）−プロト−クエルシトールから一般式（２）までは９工程、さらに一般式（２）の酸付加塩までは１０工程にて製造することに成功し、本発明を完成した。
【００２２】
すなわち、本特許の発明は以下の通りである。
［１］一般式（１）で表される絶対配置を有することを特徴とする新規カルバ糖前駆体が提供される。
［２］（＋）−プロト−クエルシトールを出発原料とし、ヒドロキシル基の保護化、次いでヒドロキシル基の酸化を行い、得られた前駆体に対し脱保護化、さらにアシル化反応条件に付すことによる［１］に記載の一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体の製造方法が提供される。
［３］一般式（１）で表されるカルバ糖前駆体をWittig反応条件に付し、生じたジエンに対しハロゲンによる付加を行った後に、置換反応によってアシルオキシル基を導入し、さらにアルキルアミノ基を導入することを特徴とする一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明により提供される前記一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体は、医薬や農薬の光学活性中間体や出発原料等として有用である。
また、ＧＭ１ガングリオシドーシスなどのライソゾーム病に対する治療薬候補として有用である前記一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体は、本発明の一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体より５工程、一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体の原料となる（＋）−プロト−クエルシトールから一般式（２）までは９工程にて製造することができる。すなわち、本発明により、一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体を簡便、安価に提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を詳細に説明する。
一般式（１）、（２）の化合物の式中のＲで示されるヒドロキシル基の保護基としては、特に断りがない限り、糖の化学で一般に用いられる保護基、例えばアシル型保護基、エーテル型保護基、アセタール型保護基、ケタール型保護基、オルトエステル型保護基などが用いられる。より具体的には、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを示す。
【００２５】
一般式（１）、（２）の化合物の式中のＲで示されるヒドロキシル基の保護基の種類は、すべて同じであってもよいし、２種以上の異なった保護基を含んでいてもよい。また、例えば環状アセタール型、環状ケタール型、環状オルトエステル型、環状カルボナート型、環状ボロナート型、あるいはスタンオキサン型保護基の場合のように複数の水酸基を１個の保護基で保護してもよい。
【００２６】
一般式（１）の化合物の式中、Ｒ２〜Ｒ４の一部または全部はそれぞれ独立に水素原子もしくはヒドロキシル基の保護基を示す。Ｒ１およびＲ５は炭素数２〜１５のアシル基を示す。
【００２７】
また、一般式（２）の化合物の式中、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基、炭素数２〜１５のアシル基、炭素数３〜１５のアリル基、または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。ただし、Ｒ１およびＲ２は双方が同時に水素原子であることはない。Ｒ３〜Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子またはヒドロキシル基の保護基を示す。また、窒素原子上に酸付加した塩であってもよい。
【００２８】
なお、原料となる（＋）−プロト−クエルシトールは、公知の方法により、例えば、ドングリやヤシの葉中などから抽出精製する方法（Annales de Chimie et de Physique、１８４９年、２７巻、p．３９２−４０１参照）や、ハロベンゼンまたはシス（１ｓ，２ｓ）−１，２−ジヒドロ−３−ハロカテコールを出発原料として合成する方法（Synlett、１９９４年、ｐ．８９９−９０１などを参照）により得ることができる。さらにはアグロバクテリウム属に属する微生物またはサルモネラ属に属する微生物を安価なミオ−イノシトールに作用させることによって、ミオ−イノシトールから光学純度の高い（＋）−プロト−クエルシトールを容易に製造することが出来る（特開２０００−００４８９０号参照）。また、市販のものをそのまま原料として使用することができる。
【００２９】
以下に、（＋）−プロト−クエルシトールから一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体を経て一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体を製造する方法を工程別に詳細に説明する。製造工程の概略は下記＜製造工程式１＞に示した。
【００３０】
＜製造工程式１＞
【００３１】
【数１】
【００３２】
なお、一般式（３）〜（８）の化合物の式中のＲで示されるヒドロキシル基の保護基としては、一般式（１）、（２）と同義である。加えて、一般式（７）、（８）化合物の式中のＸで示される部分は任意のハロゲン原子を表す。具体的には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子である。
【００３３】
＜製造工程Ａ−１＞
本工程は、出発原料である（＋）−プロト−クエルシトールのヒドロキシル基のうち、５位の部分を遊離させたまま、残りの１，２，３，４位のヒドロキシル基を選択的に保護する工程を含む。ヒドロキシル基の保護基としては、上記した糖化学において一般にヒドロキシル基の保護基として用いられる保護基が用いられ、また、保護基の種類はすべて同じであってもよいし、２種以上の異なった保護基を含んでいてもよい。さらに、環状アセタール型、環状ケタール型などのように複数の水酸基を１個の保護基で保護してもよい。好ましくは適当な酸を触媒として用い、環状アセタール型保護基によって、（＋）−プロト−クエルシトールのトランス配置１，２−位のヒドロキシル基、およびシス配置３，４−位のヒドロキシル基をそれぞれ位置選択的に保護する方法が取られる。
【００３４】
この場合、酸触媒としては例えば硫酸や塩酸などの鉱酸、パラ−トルエンスルホン酸やカンファースルホン酸などの有機酸、三フッ化ホウ素、トリメチルシリルトリフラート、イットリビウムトリフラート、スカンジウムトリフラート、塩化鉄、塩化ジルコニウムなどのルイス酸を、（＋）−プロト−クエルシトールに対し０．１〜１モル当量用いることが出来るが、コスト面、収率等の点から塩酸、パラ−トルエンスルホン酸またはカンファースルホン酸を反応原料の０．０５〜０．２５当量用いることが好ましい。また、反応試剤としては、例えばベンズアルデヒド、α，α−ジメトキシトルエン、アセトン、２，２−ジメトキシプロパン、シクロヘキサノン、１，１−ジメトキシシクロヘキサンなどが挙げられ、特にα，α−ジメトキシトルエン、２，２−ジメトキシプロパン、１，１−ジメトキシシクロヘキサンなどの試剤を用いるならば、（＋）−プロト−クエルシトールの５〜２０当量加えることで反応を進行させることが出来る。さらにコスト面、収率等の点を考慮すると、２，２−ジメトキシプロパンを８〜１２モル当量用いることが好ましい。反応溶媒としてはこの反応に悪影響を及ぼさない溶媒が使用できるが、例えばアセトンまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドをそれぞれ独立に用いるか、混合して用いることが出来る。容量としては、アセトンを単独で用いる場合、原料である（＋）−プロト−クエルシトールを１重量部としてアセトンを３０〜１２０重量部、好ましくは５０〜７０重量部用い、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを単独またはアセトンと混合して用いる場合は５〜１０重量部用いることが出来る。混合溶媒であれば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとアセトンの容積比は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：アセトン＝１：１〜１．５：１の比率であることが好ましい。
【００３５】
通常、反応温度は特に限定されず、常温（１５〜２５℃）、あるいは加熱（溶媒の種類等にもよるがＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとアセトンの混合溶媒を上記の比の範囲内で用いた場合、７０〜８０℃が適当である）下に反応が行われる。反応終了後は、減圧濃縮、分液操作など一般的な方法により処理し、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（３）で示される目的の化合物を得ることが出来る。または特に精製を行わずに次の製造工程へ進むことも出来る。
【００３６】
＜製造工程Ａ−２＞
上記の製造工程で得られた一般式（３）の化合物は１，２，３，４位のヒドロキシル基が選択的に保護化されており、５位のヒドロキシル基が遊離状態で存在する。本工程ではこのヒドロキシル基を酸化し、カルボニル基へと変換する工程を含む。反応は公知の方法で行うことが出来るが、一例として挙げると、ジメチルスルホキシド中、三酸化硫黄−ピリジン錯体およびトリエチルアミンを用いて行うことが出来る。この場合、ジメチルスルホキシドは反応試剤と溶媒の役割を兼ね、製造工程Ａ−３から未精製で反応を行う場合、出発原料である（＋）−プロト−クエルシトールを１重量部として５〜１５重量部、特には５〜７重量部用いることが好ましい。三酸化硫黄−ピリジン錯体は（＋）−プロト−クエルシトールの１〜３当量、さらにコスト面、収率等の点から好ましくは２当量、またトリエチルアミンは三酸化硫黄−ピリジン錯体の１．５当量程度用いることが好ましい。その他、三酸化硫黄−ピリジン錯体およびトリエチルアミンの代わりに、活性化剤として無水酢酸などをジメチルホルムアミドと共に用いる方法も挙げられる。
【００３７】
通常、反応温度は特に限定されないが、反応試剤を加える際に発熱することがあるので、試剤を加えるときは冷却下（−５〜５℃）で行うことが好ましい。反応は常温（１５〜２５℃）でも問題なく進行する。反応終了後は、分液操作など一般的な方法により処理し、さらに再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（４）で示される目的の化合物を得ることが出来る。
【００３８】
＜製造工程Ａ−３＞
製造工程Ａ−２によって得られたカルボニル化合物の構造中、トランス−ジオール部分に結合している保護基を選択的に除去することにより、本工程の一般式（５）で示される目的物が得られる。保護基がアセタールである場合、適当な酸を注意深く作用させることにより、比較的強固なシス−ジオール保護基を保ったまま、トランス−ジオール保護基のみを選択的に除去することが出来る。酸としては上記にあげたような鉱酸、有機酸、ルイス酸も適用されるが、なかでもピリジニウム−パラ−トルエンスルホナートなどの弱有機酸が好ましい。これを反応原料の０．０５〜０．３当量、好ましくは０．１〜０．２当量用いる。
【００３９】
通常反応温度は特に限定されず、冷却下（−５〜５℃）あるいは常温（１５〜２５℃）下に反応が行われるが、冷却下に行うほうがシス−ジオール保護基の脱保護反応を防ぎやすいので好ましい。反応溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのプロトン性有機溶媒が適しているが、反応終了後に減圧濃縮する際の除去の容易さを考慮すると、特にメタノールが好ましい。容量は反応原料を１重量部として１５〜６０重量部、好ましくは２５〜３５重量部用いる。反応を終了させる際、例えばトリエチルアミンなどの塩基を用いて反応溶液を中和することにより、任意の時点で反応を終了することが出来る。反応終了後は、分液操作など一般的な方法により処理し、さらに再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（５）で示される目的の化合物を得ることが出来る。特に精製を行わずに次の工程に進むことも可能である。
【００４０】
＜製造工程Ａ−４＞
本工程は、製造工程Ａ−３によって得られた一般式（５）化合物の構造中、遊離状態になったジオールのアシル化、さらには同時にカルボニル基をエノールエステルに変換する工程を含む。原料である一般式（５）化合物は通常のアシル化条件に付すと、ヒドロキシル基のアシル化のみならず、カルボニル基部分をエノールエステルに一段階で変換することが出来る。生成させるアシル基およびエノールエステルとしてはアセチル、ピバロイル、ベンゾイルなど一般に知られたものが挙げられるが、反応性、生成物の固化の容易性、反応試剤のコストおよび入手しやすさ等を考慮すると、なかでもベンゾイル化反応条件に付すことが好ましい。
【００４１】
反応は、原料を適当なアシル化剤と共にピリジン中、またはトリエチルアミンなどの塩基を加えたＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で行うことが出来るが、反応終了後の除去の容易さ等を考慮するとピリジンが好ましい。溶媒の容量としては、製造工程Ａ−３から未精製で反応を行う場合、製造工程Ａ−３で原料として用いた一般式（４）化合物を１重量部として２０〜８０重量部、好ましくは３５〜４５重量部用いることが出来る。反応試剤としては塩化ベンゾイルや無水安息香酸が挙げられるが、反応性の高さから塩化ベンゾイルが好ましい。用いた原料に対して塩化ベンゾイルを６〜１０当量、好ましくは７〜９当量作用させることで、遊離状態になったジオールのアシル化、さらには同時にカルボニル基をエノールエステルに変換し、本工程の目的物である一般式（１）で表される化合物を得ることが出来る。通常、反応温度は特に限定されないが、反応試剤を加える際に発熱することがあるので、試剤を加えるときは冷却下（−５〜５℃）で行うことが好ましい。反応は常温（１５〜２５℃）でも問題なく進行する。反応終了後は、分液操作など一般的な方法や、塩基性の水溶液を反応溶液に加え沈殿物を回収するなどの操作により処理し、さらに再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（１）で示される目的の化合物を得ることが出来る。
【００４２】
＜製造工程Ａ−５＞
本工程は、前製造工程によって得られた一般式（１）化合物中のエノールエステル基をメチレン化し、同時に図中Ｒ１Ｏで表したアシルオキシル基を脱離させる工程を含む。この反応は、一般に知られたWittig反応条件下で行うことが出来る。すなわち、原料である一般式（１）化合物をWittig反応条件に付すと、カルボニル基のメチレン化が起こるのみならず、一般式（１）中Ｒ１Ｏで表したアシルオキシル基が脱離し、結果として一般式（６）で表されるジエン化合物を得ることが出来る。
【００４３】
このアシルオキシル基の脱離を伴うWittig反応に用いる試剤として、ホスホニウム塩としては例えばメチルトリフェニルホスホニウムブロミドが挙げられる。塩基としては、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、水素化ナトリウム、リチウムヘキサメチルジシラミド、カリウムヘキサメチルジシラミドなどの強塩基が挙げられるが、塩基の強さ、コスト等を考慮すると、なかでもｎ−ブチルリチウムが好ましい。上記のホスホニウム塩と塩基を反応原料に対し３〜８当量、収率および経済的な観点から、ホスホニウム塩は４〜６当量、塩基は３．５〜４．５当量の範囲で用い、特にホスホニウム塩が塩基よりも過剰となるように用いることが好ましい。反応溶媒としてはこの反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用されるが、例えばテトラヒドロフランが挙げられ、またよく乾燥しており出来るだけ水分を含まないものを用いることが好ましい。容量は反応原料を１重量部として１０〜３５重量部、好ましくは１５〜２０重量部用いる。
【００４４】
通常、反応温度は冷却下（−７８〜５℃）から常温（１５〜２５℃）までの範囲で反応が行われる。特に、反応溶液に塩基を加える際、また反応原料を加える際には冷却することが好ましい。反応終了後は、ろ過、分液操作など慣用の方法により処理し、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（６）で示される目的の化合物を得ることが出来る。
【００４５】
＜製造工程Ａ−６＞
本工程は、製造工程Ａ−５によって得られた化合物のジエン部分にハロゲン分子を１，４−付加させる工程を含む。ハロゲン分子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられるが、実験操作としては塩素、臭素を用いることが好ましく、さらには取り扱いの容易さから、常温で液体である臭素を用いることが好ましい。ハロゲン分子は反応原料の１．０〜１．３当量、好ましくは１．０〜１．１５当量用いる。反応溶媒としては、特に反応に悪影響を及ぼさないものとして四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテルなどを用いることが出来、例えば四塩化炭素を用いる際の容量は反応原料を１重量部として３０〜１００重量部、好ましくは５０〜６０重量部用いる。ハロゲン付加の好ましい方法としては、ハロゲンを直接または用いる溶媒に希釈した状態で加える。さらに、反応原料が酸性に弱い保護基を持つ化合物である場合は、脱保護反応を防ぐために、例えば炭酸水素ナトリウムのような塩基を反応原料の１．０〜２．０当量、系中に添加することが好ましい。
【００４６】
反応温度は特に限定されないが、通常、常温（１５〜２５℃）で行われる。反応終了後は、分液操作または窒素等の不活性ガスによるバブリングなど一般的に知られた方法により処理し、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（７）で示される目的の化合物を得ることが出来る。通常、得られる化合物は第２級ハロゲン基の部分に、ハロゲンがそれぞれエカトリアルとアキシャルに導入された２種類の立体異性体の混合物となる。
【００４７】
＜製造工程Ａ−７＞
製造工程Ａ−６によって得られたジハロゲン化物である一般式（７）化合物の構造中、第２級ハロゲン基はそのままに、第１級ハロゲン基のみを選択的にアシルオキシル基に置換することによって、本工程の目的物である一般式（８）で示される化合物が得られる。この置換反応については、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどの酢酸塩、以下同様に安息香酸塩、イソ酪酸塩、サリチル酸塩、乳酸塩、などのカルボン酸塩を用いる方法が挙げられる。上記のなかでも、コスト面、入手のしやすさ、また製造工程Ａ−４で述べた理由から、化合物中のアシル基として特にベンゾイル基を用いる場合は、同様にベンゾイルオキシル基を導入したほうが、後の脱保護反応やその精製時の工程が単純化され容易になることから、安息香酸塩ナトリウムまたは安息香酸カリウムを用いる方法が好ましい。反応試剤は反応原料の１．０〜１．３当量、好ましくは１．１〜１．２当量用いる。反応溶媒としては、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用されるが、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒が用いられ、なかでも比較的除去の容易なＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが好ましい。溶媒の容量としては、反応原料を１重量部として１２〜４５重量部、好ましくは２０〜２５重量部用いる。
【００４８】
通常反応温度は特に限定されないが、反応は常温（１５〜２５℃）でも問題なく進行する。反応終了後に分液操作、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（８）で示される目的の化合物を得ることが出来る。なお、カラムクロマトグラフィーによって精製することで、第２級ハロゲン基がエカトリアル位とアキシャル位に導入された異性体をそれぞれ単離することが出来る。
【００４９】
＜製造工程Ａ−８＞
続いて有機アミンを一般式（８）中の第２級ハロゲン基と立体選択的に置換させ、一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体を得ることが出来る。このようなアミノ化の方法については、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの反応に悪影響を及ぼさない適当な非プロトン性極性溶媒に当該化合物を溶解し、これに導入したい有機アミンを加えればよい。種々の有機アミンを導入することが出来るが、特にｎ−ブチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−オクチルアミンなどのアルキルアミン、なかでもｎ−オクチルアミンを用いれば、前述の特許文献１または非特許文献２に記載されている医薬剤として有用な化合物を得ることが出来る。このような有機アミンは反応原料の１．５〜５当量、好ましくは２〜４当量を用いる。また、溶媒としては、比較的除去が容易であるアセトニトリルが好ましく、反応原料１重量部に対して１０〜５０重量部を用いる。反応温度は特に限定されないが、加熱（５０〜８０℃、好ましくは６０〜７０℃）下に反応が行われる。得られた一般式（２）化合物はシリカゲルカラムやイオン交換樹脂カラムなどを用いて精製することにより、より純度の高いものを得ることが出来る。加えて、一般式（２）化合物を適当な酸で処理することにより、その酸付加塩を製造できる。本発明で製造される一般式（２）化合物の塩としては、薬学的に許容できる酸との塩が用いられる。このような塩としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸などの無機塩、酢酸、リンゴ酸、クエン酸、アスコルビン酸、マンデル酸、メタンスルホン酸などの有機塩が用いられる。
【００５０】
なお、所望により、一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体に対し脱保護化反応を行うことで、特に一般式（２）−Ａで表されるカルバ糖アミン誘導体が得られる。脱保護化反応は慣用の方法で行うことが出来るが、一般式（２）および一般式（８）化合物中に含まれるアシル型保護基を脱保護する場合、求核性を持つ塩基を用いてもよい。好ましくはメタノール中、反応原料と０．２〜１．０当量のナトリウムメトキシドとを反応させることによって当該保護基の脱保護反応が可能である。また保護基としてアセタール型保護基を用いている場合は、適当な酸性条件下に置くことにより脱保護化反応を行うことが出来、例えば７０〜９０％の濃度の酢酸水溶液中で加熱下（好ましくは７５〜８５℃）反応させることによって当該保護基の脱保護反応が可能である。
【００５１】
さらに本発明において、特にアシル型保護基の脱保護反応は前述のアミノ化反応の前後どちらでも行うことが可能であり、特に、一般式（８）化合物中のアシル型保護基を脱保護し、その後アミノ化反応を行うことによって一般式（２）−Ａで表される化合物を製造することが出来る。このとき、反応原料である一般式（８）化合物には２種類の立体異性体が含まれるが、異性体をそれぞれ単離した後に、または混合物のままでも、アシル型保護基の脱保護反応に続いてアミノ化反応に付すと、いずれも等しく同一の化合物、すなわち目的物である一般式（２）−Ａ化合物を与える。加えて、一般式（２）−Ａで表されるカルバ糖アミン誘導体は、一般式（２）の化合物と同様の方法で精製することが出来、またその酸付加塩を製造できる。
【実施例】
【００５２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。実施例１〜１１までの製造工程を下記＜製造工程式２＞に示した。
【００５３】
＜製造工程式２＞
【００５４】
【数２】
【００５５】
上記において、Ａｃはアセチル基、Ｂｚはベンゾイル基、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、Ｏｃｔｙｌはオクチル基、ＴＨＦはテトラヒドロフラン、ＤＭＦはN，N−ジメチルホルムアミド、ｐｙはピリジン、ＣＳＡは（±）−１０−カンファースルホン酸、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシド、ＰＰＴＳはピリジニウム−パラ−トルエンスルホナートを表す。
【００５６】
下記実施例における反応生成物の解析における薄層クロマトグラフィーには、メルク社製シリカゲルＴＬＣ、６０Ｆ２５４を用い、ＮＭＲ構造解析には、日本電子社製ＪＮＭ−ＥＣＳ４００装置または、日本電子社製Ｌａｍｂｄａ３００装置を用いた。旋光度の測定には、ＨＯＲＩＢＡ社製ＳＥＰＡ−２００装置を使用し、解析した。また、反応生成物の精製に使用したシリカゲルカラムクロマトグラフィーには、和光純薬社製Ｗａｋｏ−ｇｅｌＣ−３００を用いた。
【００５７】
＜実施例１＞(1R,4R,8S,9R)-6,6,11,11-Tetramethyl-5,7,10,12-tetraoxatricyclo[7,3,04,8,0]dodecan-2-one，化合物４’の合成（化合物の番号は、一般式の番号と同じ、以下同様。）
出発原料である（＋）−プロト−クエルシトールを５．００ｇ（３０．５ｍｍｏｌ）取りアセトン３５０ｍＬに溶解させ、３６．８ｍＬ（３０１ｍｍｏｌ）の２，２−ジメトキシプロパンおよび、１．４２ｇ（６．０９ｍｍｏｌ）の（±）−１０−カンファースルホン酸を加えた。室温で１９時間攪拌し、３０ｍＬの飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え１０分間攪拌した。溶液をろ過して不溶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮液を酢酸エチルで２回抽出した後、有機相を再び減圧濃縮した。得られた残渣を３０ｍＬのジメチルスルホキシドに加え、さらに氷浴中で冷却しながらトリエチルアミン１２．７ｍＬ（９１．５ｍｍｏｌ）、続いて三酸化硫黄−ピリジン錯体を９．７１ｇ（６１．０ｍｍｏｌ）加えた。室温で４．５時間攪拌した後、３０ｍＬの飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止し、１５０ｍＬのジエチルエーテルで２回抽出した。有機相を水、飽和食塩水それぞれ１００ｍＬで洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧濃縮した。得られた残渣を熱エタノールから再結晶し、３．９４ｇの化合物４’を得た（２工程収率５３％）。
RF = 0.47 (ヘキサン/酢酸エチル=1/1), C12H18O5 MW: 242.27（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.37, 1.45, 1.47, 1.49 (s, each 3H), 2.48 (dd, 1H, J = 10.8, 18.0 Hz), 2.98 (dd, 1H, J = 7.0, 18.0 Hz ), 3.55 (dd, 1H, J = 7.5, 10.3 Hz), 4.10 (ddd, 1H, J = 7.1, 10.8, 10.6 Hz), 4.47 (d, 1H, J = 8.4 Hz). 4.63 (dd, 1H, J = 7.5, 8.4 Hz)
【００５８】
＜実施例２＞(1S,4R,5R,6S)-4,5-Dibenzoyloxy-2-(benzoyloxymethyl)-8,8-dimethyl-7,9-dioxabicyclo[4.3.0]non-8-ene，化合物１’の合成
１０．０ｇ（４１．３ｍｍｏｌ）の化合物４’を４００ ｍＬのメタノールに溶解し、氷浴中で冷却しながら２．０７ｇ（８．２５ｍｍｏｌ）のピリジニウム−パラ−トルエンスルホナートを加えた。４℃に冷却しながら２３時間静置した後、トリエチルアミンで中和した。反応溶液を減圧濃縮した後、アセトンで２回共沸させて溶媒を除いた。
得られた残渣を４００ｍＬのピリジンに溶解させ、氷浴中で冷却しながら塩化ベンゾイル３８．４ｍＬ（３３０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２１時間攪拌した後、氷を加えた飽和炭酸水素ナトリウム水溶液約５００ｍＬを注ぎ入れ、そのまま３０分間攪拌した。生じた沈殿物をよく水洗した後にろ別し、エタノール／水から再結晶した。得られた結晶をトルエンおよびエタノールによって共沸させ混入した水を除き、減圧乾燥させて１２．８ｇの化合物１’を得た（２工程収率６０％）
RF = 0.35 (ヘキサン/酢酸エチル=4/1), [α]D25=-43.0o (c 1.0, CHCl3), C30H26O8 MW: 514.52（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.39, 1.63 (s, each 3H), 4.64 (dd, 1H, J = 6.0, 7.4 Hz), 5.01 (d, 1H, J = 6.0 Hz ), 5.81-5.91 (m, 2H, J = 7.5, 10.3 Hz), 5.95 (d, 1H, J = 2.6 Hz), 7.35-7.63 (m, 9H), 7.97-8.13 (m, 6H), 13C-NMR (75MHz / CDCl3) δ(ppm)：26.42, 27.83, 69.44, 71.33, 72.25, 75.05, 112.23, 116.96, 128.38, 128.40, 128.60, 129.34, 129.52, 129.89, 130.27, 133.23, 133.30, 133.85, 146.34
【００５９】
＜実施例３＞(1S,2S,6S)-2-(Benzoyloxy)-8,8-dimethyl-5-methylene-7,9-dioxabicyclo[4.3.0]non-3-ene，化合物６’の合成
メチルホスホニウムブロミド１２．５ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）をナスフラスコに加え窒素置換した後、１２ｍＬの無水ＴＨＦに懸濁し、ドライアイス−アセトン浴中で冷却した。これに１４．２ｍＬ（２３．４ｍｍｏｌ）のｎ−ＢｕＬｉ（１．６５Ｍヘキサン溶液）をシリンジでゆっくり加え、氷浴中に移して１時間攪拌した。再びドライアイス−アセトン浴中で冷却しながら、３０ｍＬの無水ＴＨＦに溶解した３．００ｇ（５．８３ｍｍｏｌ）の化合物１’をゆっくり加えた。容器を８ｍＬの無水ＴＨＦで２回リンスし、これらも加えた。４度に冷却しながら２１時間攪拌した後、反応溶液をショートシリカゲルカラムに通し、ヘキサン／酢酸エチル＝４／１の混合液６０ｍＬ×３で溶出させた。続いて溶液を、セライト粉末を通じてろ過し、セライトを少量の酢酸エチルで洗浄した後、合わせた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５）によって精製し、１．１０５ｇの化合物６’を得た（収率６６％）。
RF = 0.45 (ヘキサン/酢酸エチル=4/1)、C17H18O4 MW: 286.32（計算値）、1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.43, 1.50 (s, each 3H), 4.37 (dd, 1H, J = 5.1, 5.5 Hz), 4.76 (d, 1H, J = 5.5 Hz), 5.43, 5.46 (each s, 2H), 5.67 (broad s, 1H), 5.78 (d, 1H, J = 9.9 Hz), 6.33 (d, 1H, J = 9.9 Hz), 7.39-7.44 ( m, 2H), 7.52-7.57 (m, 1H), 8.02-8.06 (m, 2H)
【００６０】
＜実施例４＞(1S,4S,5R,6S)- and (1S,4R,5R,6S)-5-Benzoyloxy-4-bromo-2-(bromomethyl)-8,8-dimethyl-7,9-dioxabicyclo[4.3.0]non-2-ene，化合物７’の合成
１．３６ｇ（４．７５ｍｍｏｌ）の化合物６’を４８ｍＬの四塩化炭素に溶解させ、これに炭酸水素ナトリウム７４８ｍｇ（５．２３ｍｍｏｌ）を加え懸濁させた。続いて臭素２８０μＬ（５．４６ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下して加えた。そのまま室温で３０分間攪拌した後、１００ｍＬのクロロホルムで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水それぞれ５０ｍＬで洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５→９／１）によって精製し、１．４５ｇの化合物７’を得た（異性体混合物で収率６８％、異性体比α／β＝１．７／１）。
RF = 0.63 (トルエン/酢酸エチル=95/5), C17H18Br2O4 MW: 446.13（計算値）, 1H-NMRより異性体混合比はα/β=1.7/1
【００６１】
＜実施例５＞(1S,4R,5R,6S)- and (1S,4S,5R,6S)-5-Benzoyloxy-2-(benzoyloxymethyl)-4-bromo-8,8-dimethyl-7,9-dioxabicyclo[4.3.0]non-2-ene，化合物８’−α、８’−βの合成
１．４１ｇ（３．１５ｍｍｏｌ）の化合物８’を３２ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させ、５２２ｍｇ（３．６２ｍｍｏｌ）の安息香酸ナトリウムを加え懸濁させた。室温で２２時間攪拌した後、３００ｍＬの酢酸エチルで希釈し、１００ｍＬの水で２回、１００ｍＬの飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させた。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５）によって精製し、７３２ｍｇの化合物８’−α（収率４８％）、４１９ｍｇの化合物８’−β（２７％）を得た。
化合物8’-α: RF = 0.36 (ヘキサン/酢酸エチル=4/1), C24H23BrO6 MW: 487.34（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.39, 1.47 (s, each 3H), 4.73 (dd, 1H, J = 7.0, 7.0 Hz), 4.83 (d, 1H, J = 6.6 Hz), 4.91-4.94 (m, 1H), 5.03 (d, 2H, J = 24.2 Hz), 5.15 (dd, 1H, J = 3.8, 8.4 Hz), 6.22 (d, 1H, J = 5.9 Hz), 7.41-7.58 (m, 6H), 8.07-8.14 (m, 4H)
化合物8’−β：RF = 0.24 (ヘキサン/酢酸エチル=4/1), C24H23BrO6 MW: 487.34（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.41, 1.56 (s, each 3H), 4.36 (dd, 1H, J = 5.9, 7.9 Hz), 4.67 (br d, 1H, J = 7.5 Hz), 4.73 (d, 1H, J = 5.5 Hz), 4.99 (br s, 1H), 5.68 (dd, 1H, J = 7.7, 7.7 Hz), 6.17 (br d, 1H), 7.30-7.61 (m, 5H), 7.91-8.08 (m, 5H)
【００６２】
＜実施例６＞ (1S,5R,6R,7R)-9-(Hydroxymethyl)-7-bromo-2,4-dioxabicyclo[4.3.0]non-8-ene-6-ol，化合物 ８’’−αの合成
実施例５で得られた二つの異性体のうち、化合物８’−αを６９２ｍｇ（１．４０ｍｍｏｌ）取り、１４ｍＬの無水メタノールに溶解させた。これに、１Ｍのナトリウムメトキシド／メタノール溶液４９８μＬ（０．４９ｍｍｏｌ）を加え、２００μＬのメタノールで容器をリンスしてこれも加えた。室温で２時間攪拌した後、さらに１Ｍナトリウムメトキシド／メタノール溶液を２８０μＬ（０．２８ｍｍｏｌ）加え、室温で３０分間攪拌した。強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］、住友ケムテックス社製）を反応溶液が中性になるまで加え、樹脂を除いた溶液を減圧濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→２／１）によって精製し、２５４ｍｇの化合物８’’−α（収率６５％）を得た。
RF = 0.20 (ヘキサン/酢酸エチル=1/1), C10H15BrO4 MW: 279.13（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.34, 1.41 (s, each 3H), 3.65 (dd, 1H, J = 3.7, 7.9 Hz), 4.14-4.66 (m, 3H), 4.66-4.71 (m, 2H), 6.04 (d, 1H, J = 5.5 Hz)
【００６３】
＜実施例７＞ (1R,2S,4S,7S)-6-(Hydroxymethyl)-3,8,10-trioxatricyclo[5.3.02,4.0]decan-5-ene，化合物 ８’’−βの合成
実施例５で得られた二つの異性体のうち、２７０ｍｇ（０．５５４ｍｍｏｌ）の化合物８’−βを４．４ｍＬの無水メタノールに溶解した。これに、１Ｍのナトリウムメトキシド／メタノール溶液５８０μＬ（０．５８ｍｍｏｌ）を加え、２００μＬのメタノールで容器をリンスしてこれも加えた。室温で１時間攪拌した後、０．１Ｍ塩酸／メタノール溶液を反応溶液のｐＨが中性付近になるまで加えた。溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→２／１）によって精製し、４８ｍｇの化合物８’’−β（収率４４％）を得た。
RF = 0.41 (ヘキサン/酢酸エチル=1/1), C10H14O4 MW: 198.22（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.39 (s, 6H), 3.35 (dd, 1H, J = 3.9, 4.0 Hz), 3.54 (dd, 1H, J = 1.7, 3.7 Hz), 4.22 (br d, 2H, J = 4.8 Hz), 4.45 (d, 1H, J = 7.1 Hz), 4.79 (d, 1H, J = 6.2 Hz), 6.05 (br d, 1H, J = 2.9 Hz)
【００６４】
＜実施例８＞(1S,2R,3S,6R)-4-(Hydroxymethyl)-6-octylaminocyclohex-4-ene-1,2,3-triol，化合物２’の合成（化合物８’’−αより）
１８７ｍｇ（０．６７０ｍｍｏｌ）の化合物８’’−αを３．４ｍＬのアセトニトリルに溶解させ、炭酸カリウム１４０ｍｇ（１．０１ｍｍｏｌ）およびｎ−オクチルアミン２７９μＬ（１．６８ｍｍｏｌ）を加えた。６０−６５℃に加温しながら２２時間攪拌し、室温まで放冷した。溶液をろ過し、ろ液を減圧濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９７／３）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。
得られた残渣を８０％酢酸水溶液６．５ｍＬに溶解し、８０℃に加温しながら４時間攪拌した。反応溶液をトルエンと共沸させて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸／クロロホルム／メタノール＝１０／８６／４→１０／６０／３０）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。残渣を強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］）カラム（８０％メタノール水溶液→メタノール／２５％アンモニア水＝８／２）によって遊離塩基とし、化合物２’を１００ｍｇ（２工程収率５２％）得た。
RF = 0.41 (酢酸/クロロホルム/メタノール=1/6/3), C15H29NO4 MW: 287.40（計算値）, [α]D25=+1.8o (c 1.0, MeOH), 1H-NMR (300MHz/CD3OD) δ(ppm): 0.800 (t, 3H, J = 7.0 Hz), 1.21 (br, 10H), 1.43 (br, 2H), 2.42-2.48 (m, 1H), 2.60-2.69 (m, 1H), 3.00 (br d, 1H, J = 6.4 Hz), 3.24 (d, 1H, J = 8.4 Hz ), 3.34 (dd, 1H, J = 4.2, 10.2 Hz), 3.60 (dd, 1H, J = 8.2, 10.1 Hz), 4.03 (br s, 2H), 4.06 (d, 1H, J = 4.2 Hz), 5.62 (br s, 1H), 13C-NMR (75MHz/CDCl3) δ(ppm)：14.40, 23.70, 28.42, 30.38, 30.60, 30.94, 32.99, 46.91, 61.80, 63.94, 68.16, 70.86, 73.89, 125.34, 140.65
【００６５】
＜実施例９＞化合物２’の合成（化合物 ８’’−βより）
化合物８’’−βを４８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）取り、２．４ｍＬのアセトニトリルに溶解させ、ｎ−オクチルアミン１００μＬ（０．６０６ｍｍｏｌ）を加えた。６０−７０℃に加温しながら２２時間攪拌、室温まで放冷した後、減圧濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９７／３）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。
得られた残渣を８０％酢酸水溶液２．５ｍＬに溶解し、８０℃に加温しながら４時間攪拌した。反応溶液をトルエンと共沸させて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸／クロロホルム／メタノール＝１０／８６／４→１０／６０／３０）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。残渣を強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］）カラム（８０％メタノール水溶液→メタノール／２５％アンモニア水＝８／２）によって遊離塩基とし、化合物２’を３３ｍｇ（２工程収率４８％）得た。
【００６６】
＜実施例１０＞化合物２’の合成（化合物７’より）
１．０７ｇ（２．３９ｍｍｏｌ）の化合物７’を２４ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、安息香酸ナトリウム３９６ｍｇ（２．７５ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２２時間攪拌した後、反応溶液を２４０ｍＬの酢酸エチルで希釈し、これを８０ｍＬの水で２回、８０ｍＬの飽和食塩水で１回洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。
得られた残渣を無水メタノール２０ｍＬに溶解させ、これに１．２ｍＬの１Ｍナトリウムメトキシド／メタノール溶液を加えた。室温で２時間攪拌し、強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］）を加え反応溶液を中和し、樹脂を除いた後に減圧濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→２／１）によって精製し、化合物８’’−αを２３７ｍｇ、化合物８’’−βを９１ｍｇ、さらに化合物８’−βのエステル基がすべて脱保護された化合物を８６ｍｇ得た。この化合物をメタノールに溶解し、強塩基性イオン交換樹脂（デュオライトＡ１１６［ＯＨ−］、住友ケムテックス社製）カラムを数回通過させた後、溶液を減圧濃縮すると５８ｍｇの化合物８’’−βが得られた。
得られた化合物８’’−αおよび化合物８’’−βを合わせ、１６ｍＬのアセトニトリルに溶解し、炭酸カリウム１７６ｍｇ（１．２７ｍｍｏｌ）、続いてｎ−オクチルアミン６６３μＬ（４．００ｍｍｏｌ）を加えた。６０−７０℃に加温しながら２０時間攪拌した後、室温まで放冷した。溶液をろ過し、ろ液を減圧濃縮した後、得られた残渣を８０％酢酸水溶液１６ｍＬに溶解し、８０℃に加温しながら４時間攪拌した。反応溶液をトルエンと共沸させて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸／クロロホルム／メタノール＝１０／８６／４→１０／６０／３０）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。残渣を強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］）カラム（８０％メタノール水溶液→メタノール／２５％アンモニア水＝８／２）によって遊離塩基とし、化合物２’を１５５ｍｇ（７’より４工程収率２３％）得た。
【００６７】
＜実施例１１＞(1S,2R,3S,6R)-4-(Hydroxymethyl)-6-octylaminocyclohex-4-ene-1,2,3-triol hydrochloride，化合物２’’の合成
化合物２’を７８ｍｇ（０．２７ｍｍｏｌ）取り、１Ｎの塩酸水溶液６ｍＬに溶解させた。エタノールで数回共沸し、減圧濃縮した。減圧乾燥後、８６ｍｇの化合物２’’が得られた（収率９８％）。
RF = 0.41 (酢酸/クロロホルム/メタノール=1/6/3), C15H30ClNO4 MW: 323.86（計算値）, [α]D25=+9.8o (c 1.0, MeOH), 1H-NMR (300MHz/D2O) δ(ppm): 0.894 (t, 3H, J = 6.4 Hz), 1.31 (br, 10H), 1.72-2.78 (br, 2H), 3.09-3.28 (m, 2H), 3.72 (ddd, 1H, J = 1.5, 3.7, 10.0 Hz), 3.90 (br d, 1H, J = 8.6 Hz), 4.00 (dd, 1H, J = 8.9. 10.1 Hz ), 4.24 (br s, 2H), 4.31 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 5.82 (d, 1H, J = 1.3 Hz), 13C-NMR (75MHz/D2O, dioxane as internal reference) δ(ppm)：13.82, 22.38, 26.07, 26.12, 28.50, 28.57, 31.40, 44.98, 60.17, 62.18, 66.38, 67.23, 71.47, 117.09, 144.22
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規カルバ糖前駆体とそれらの製造方法、およびそれらを用いて医薬剤として有用なバリエナミン型カルバ糖アミン誘導体を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
細胞内小器官の一つライソゾームに存在する分解酵素が遺伝的に欠損または変異していると、細胞内外に異物が蓄積してしまう。このような現象によって引き起こされる疾病はライソゾーム病として知られている。ライソゾーム病の中でも特に、糖加水分解酵素であるライソゾーマル−β−グルコシダーゼの変異が病因となるものがゴーシェ（Gaucher）病として知られ、同じくライソゾーマル−β−ガラクトシダーゼの変異が病因となるものが、ＧＭ１ガングリオシドーシスと名付けられ、一般に認知されている。
【０００３】
これらの疾病に対し、酵素補充療法が現在までの主な治療法となっているが、酵素製剤は中枢神経に到達しにくく脳を含む神経系に対する治療効果が見られないこと、また高価な酵素製剤の点滴治療を生涯にわたって続けなければならないことなどが問題点として挙げられる。
【０００４】
このような状況下、糖加水分解酵素の変異によって生じるライソゾーム病の新しい治療法を担う低分子化合物として、下記の一般式（２）−Ａ（特許文献１および非特許文献１参照）で表されるバリエナミン型のカルバ糖アミン誘導体、またその酸付加塩（特許文献２参照）が開発された。
【０００５】
【化１】
【０００６】
〔式中、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基、炭素数２〜１５のアシル基、炭素数２〜１５のアリル基、または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。ただし、Ｒ１およびＲ２は双方が同時に水素原子であることはない。また、窒素原子上に酸付加した塩であってもよい。〕
【０００７】
これらバリエナミン型カルバ糖アミン誘導体には遺伝的な変異により低下した酵素活性を上昇させる効果があることが認められているが（特許文献１および非特許文献２参照）、化合物自体の製造に関し、非特許文献１および非特許文献３に記載の方法ではその過程においてラセミ体の光学分割を含み、一般式（２）−Ａの製造に十数工程を要している。加えて特許文献２の製造方法では、市販のメチル−α−Ｄ−グルコピラノシドより出発し一般式（２）−Ａの製造に二十数工程を必要としている。
【０００８】
これら上記の製造法において、目的化合物を医薬品として供給することを考慮すると工程数が長く、手間も掛かるため十分であるとは言えなかった。
【０００９】
一方、クエルシトール類縁化合物のひとつである（＋）−プロト−クエルシトール
【００１０】
【化２】
は、理論的には４種類のメソ体と６対の光学異性体からなる計１６種類の異性体が存在しうるクエルシトールの異性体のうち、植物界より見出されている３種の化合物、（＋）−プロト−クエルシトール、（−）−プロト−クエルシトール、（−）−ビボ−クエルシトール、の一つである。
【００１１】
クエルシトールはグルコースなどのピラノース類と構造が類似し、ピラン環の酸素がメチレンに置換された構造であることから、ピラノース類よりも安定な擬似糖として、各種医農薬の構成成分、また光学活性な出発原料として利用法が考えられている物質である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】国際公開第０３／０２２７９７号パンフレット
【特許文献２】国際公開第０４／１０１４９３号パンフレット
【非特許文献】
【００１３】
【非特許文献１】Bioorganic and Medicinal Chemistry Letters、２００２年、１０巻、p．１９６７−１９７２
【非特許文献２】Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America、２００３年、２６巻、p．１５９１２−１５９１７
【非特許文献３】Bioorganic and Medicinal Chemistry、２００４年、１２巻、p．９９５−１００２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
糖加水分解酵素の遺伝的な変異が病因となるライソゾーム病の治療薬候補化合物として、下記一般式（２）
【００１５】
【化３】
【００１６】
〔式中、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基、炭素数２〜１５のアシル基、炭素数２〜１５のアリル基、または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。ただし、Ｒ１およびＲ２は双方が同時に水素原子であることはない。Ｒ３〜Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子またはヒドロキシル基の保護基を示す。保護基として、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを示す。また、窒素原子上に酸付加した塩であってもよい。〕
で表されるカルバ糖アミン誘導体およびその酸付加塩が開発されてきたが、従来の製造方法は光学分割や比較的長い工程を必要としており、医薬として供給するためにはより簡便かつ短い工程での製造方法が切望されていた。本発明はこのような課題を解決するべくなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意研究した。特に、上記一般式（２）で表されるライソゾーム病治療薬候補カルバ糖アミン誘導体に化学構造が類似しているクエルシトール類縁体化合物、具体的には（＋）−プロト−クエルシトールに注目し、これを原料とすれば、上記の既知製造方法と比較して光学分割を含まず、かつより短い工程で有利に目的物を製造し得るのではないかと考え、検討した。
【００１８】
その結果、（＋）−プロト−クエルシトールのヒドロキシル基を選択的に保護化し、遊離した１個のヒドロキシル基の酸化、および保護化されたヒドロキシル基のうちトランス配置ジオールの選択的な脱保護化を行い、続いてアシル化反応条件に付すことにより、一般式（１）
【００１９】
【化４】
【００２０】
〔式中、Ｒ２〜Ｒ４の一部または全部はそれぞれ独立に水素原子もしくはヒドロキシル基の保護基を示す。保護基としては、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを示す。Ｒ１およびＲ５は炭素数２〜１５のアシル基を示す。〕
で表される新規なカルバ糖化合物前駆体を得ることに成功した。
【００２１】
さらに上記一般式（１）で表されるカルバ糖前駆体を用い、本発明者らはライソゾーム病治療薬候補化合物である一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体の製造に成功した。まず、一般式（１）の化合物をWittig反応条件に付したところ、エノールエステル部分がメチレン化されたのみならず、一般式（１）中Ｒ１Ｏで表したアシルオキシル基の脱離が生じ、一段階の反応で目的物であるシクロヘキサン環に一炭素増炭したジエン体を得た。これにハロゲンを１，４−付加させ、生じた第１級ハロゲン基をアシルオキシル基で置換、次いでアルキルアミノ基を導入して一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体を得た。加えて、適当な酸と処理することによって一般式（２）の酸付加塩も得られた。このように、（＋）−プロト−クエルシトールから一般式（２）までは９工程、さらに一般式（２）の酸付加塩までは１０工程にて製造することに成功し、本発明を完成した。
【００２２】
すなわち、本特許の発明は以下の通りである。
［１］一般式（１）で表される絶対配置を有することを特徴とする新規カルバ糖前駆体が提供される。
［２］（＋）−プロト−クエルシトールを出発原料とし、ヒドロキシル基の保護化、次いでヒドロキシル基の酸化を行い、得られた前駆体に対し脱保護化、さらにアシル化反応条件に付すことによる［１］に記載の一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体の製造方法が提供される。
［３］一般式（１）で表されるカルバ糖前駆体をWittig反応条件に付し、生じたジエンに対しハロゲンによる付加を行った後に、置換反応によってアシルオキシル基を導入し、さらにアルキルアミノ基を導入することを特徴とする一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明により提供される前記一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体は、医薬や農薬の光学活性中間体や出発原料等として有用である。
また、ＧＭ１ガングリオシドーシスなどのライソゾーム病に対する治療薬候補として有用である前記一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体は、本発明の一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体より５工程、一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体の原料となる（＋）−プロト−クエルシトールから一般式（２）までは９工程にて製造することができる。すなわち、本発明により、一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体を簡便、安価に提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を詳細に説明する。
一般式（１）、（２）の化合物の式中のＲで示されるヒドロキシル基の保護基としては、特に断りがない限り、糖の化学で一般に用いられる保護基、例えばアシル型保護基、エーテル型保護基、アセタール型保護基、ケタール型保護基、オルトエステル型保護基などが用いられる。より具体的には、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを示す。
【００２５】
一般式（１）、（２）の化合物の式中のＲで示されるヒドロキシル基の保護基の種類は、すべて同じであってもよいし、２種以上の異なった保護基を含んでいてもよい。また、例えば環状アセタール型、環状ケタール型、環状オルトエステル型、環状カルボナート型、環状ボロナート型、あるいはスタンオキサン型保護基の場合のように複数の水酸基を１個の保護基で保護してもよい。
【００２６】
一般式（１）の化合物の式中、Ｒ２〜Ｒ４の一部または全部はそれぞれ独立に水素原子もしくはヒドロキシル基の保護基を示す。Ｒ１およびＲ５は炭素数２〜１５のアシル基を示す。
【００２７】
また、一般式（２）の化合物の式中、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基、炭素数２〜１５のアシル基、炭素数３〜１５のアリル基、または炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。ただし、Ｒ１およびＲ２は双方が同時に水素原子であることはない。Ｒ３〜Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子またはヒドロキシル基の保護基を示す。また、窒素原子上に酸付加した塩であってもよい。
【００２８】
なお、原料となる（＋）−プロト−クエルシトールは、公知の方法により、例えば、ドングリやヤシの葉中などから抽出精製する方法（Annales de Chimie et de Physique、１８４９年、２７巻、p．３９２−４０１参照）や、ハロベンゼンまたはシス（１ｓ，２ｓ）−１，２−ジヒドロ−３−ハロカテコールを出発原料として合成する方法（Synlett、１９９４年、ｐ．８９９−９０１などを参照）により得ることができる。さらにはアグロバクテリウム属に属する微生物またはサルモネラ属に属する微生物を安価なミオ−イノシトールに作用させることによって、ミオ−イノシトールから光学純度の高い（＋）−プロト−クエルシトールを容易に製造することが出来る（特開２０００−００４８９０号参照）。また、市販のものをそのまま原料として使用することができる。
【００２９】
以下に、（＋）−プロト−クエルシトールから一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体を経て一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体を製造する方法を工程別に詳細に説明する。製造工程の概略は下記＜製造工程式１＞に示した。
【００３０】
＜製造工程式１＞
【００３１】
【数１】
【００３２】
なお、一般式（３）〜（８）の化合物の式中のＲで示されるヒドロキシル基の保護基としては、一般式（１）、（２）と同義である。加えて、一般式（７）、（８）化合物の式中のＸで示される部分は任意のハロゲン原子を表す。具体的には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子である。
【００３３】
＜製造工程Ａ−１＞
本工程は、出発原料である（＋）−プロト−クエルシトールのヒドロキシル基のうち、５位の部分を遊離させたまま、残りの１，２，３，４位のヒドロキシル基を選択的に保護する工程を含む。ヒドロキシル基の保護基としては、上記した糖化学において一般にヒドロキシル基の保護基として用いられる保護基が用いられ、また、保護基の種類はすべて同じであってもよいし、２種以上の異なった保護基を含んでいてもよい。さらに、環状アセタール型、環状ケタール型などのように複数の水酸基を１個の保護基で保護してもよい。好ましくは適当な酸を触媒として用い、環状アセタール型保護基によって、（＋）−プロト−クエルシトールのトランス配置１，２−位のヒドロキシル基、およびシス配置３，４−位のヒドロキシル基をそれぞれ位置選択的に保護する方法が取られる。
【００３４】
この場合、酸触媒としては例えば硫酸や塩酸などの鉱酸、パラ−トルエンスルホン酸やカンファースルホン酸などの有機酸、三フッ化ホウ素、トリメチルシリルトリフラート、イットリビウムトリフラート、スカンジウムトリフラート、塩化鉄、塩化ジルコニウムなどのルイス酸を、（＋）−プロト−クエルシトールに対し０．１〜１モル当量用いることが出来るが、コスト面、収率等の点から塩酸、パラ−トルエンスルホン酸またはカンファースルホン酸を反応原料の０．０５〜０．２５当量用いることが好ましい。また、反応試剤としては、例えばベンズアルデヒド、α，α−ジメトキシトルエン、アセトン、２，２−ジメトキシプロパン、シクロヘキサノン、１，１−ジメトキシシクロヘキサンなどが挙げられ、特にα，α−ジメトキシトルエン、２，２−ジメトキシプロパン、１，１−ジメトキシシクロヘキサンなどの試剤を用いるならば、（＋）−プロト−クエルシトールの５〜２０当量加えることで反応を進行させることが出来る。さらにコスト面、収率等の点を考慮すると、２，２−ジメトキシプロパンを８〜１２モル当量用いることが好ましい。反応溶媒としてはこの反応に悪影響を及ぼさない溶媒が使用できるが、例えばアセトンまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドをそれぞれ独立に用いるか、混合して用いることが出来る。容量としては、アセトンを単独で用いる場合、原料である（＋）−プロト−クエルシトールを１重量部としてアセトンを３０〜１２０重量部、好ましくは５０〜７０重量部用い、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを単独またはアセトンと混合して用いる場合は５〜１０重量部用いることが出来る。混合溶媒であれば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとアセトンの容積比は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド：アセトン＝１：１〜１．５：１の比率であることが好ましい。
【００３５】
通常、反応温度は特に限定されず、常温（１５〜２５℃）、あるいは加熱（溶媒の種類等にもよるがＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとアセトンの混合溶媒を上記の比の範囲内で用いた場合、７０〜８０℃が適当である）下に反応が行われる。反応終了後は、減圧濃縮、分液操作など一般的な方法により処理し、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（３）で示される目的の化合物を得ることが出来る。または特に精製を行わずに次の製造工程へ進むことも出来る。
【００３６】
＜製造工程Ａ−２＞
上記の製造工程で得られた一般式（３）の化合物は１，２，３，４位のヒドロキシル基が選択的に保護化されており、５位のヒドロキシル基が遊離状態で存在する。本工程ではこのヒドロキシル基を酸化し、カルボニル基へと変換する工程を含む。反応は公知の方法で行うことが出来るが、一例として挙げると、ジメチルスルホキシド中、三酸化硫黄−ピリジン錯体およびトリエチルアミンを用いて行うことが出来る。この場合、ジメチルスルホキシドは反応試剤と溶媒の役割を兼ね、製造工程Ａ−３から未精製で反応を行う場合、出発原料である（＋）−プロト−クエルシトールを１重量部として５〜１５重量部、特には５〜７重量部用いることが好ましい。三酸化硫黄−ピリジン錯体は（＋）−プロト−クエルシトールの１〜３当量、さらにコスト面、収率等の点から好ましくは２当量、またトリエチルアミンは三酸化硫黄−ピリジン錯体の１．５当量程度用いることが好ましい。その他、三酸化硫黄−ピリジン錯体およびトリエチルアミンの代わりに、活性化剤として無水酢酸などをジメチルホルムアミドと共に用いる方法も挙げられる。
【００３７】
通常、反応温度は特に限定されないが、反応試剤を加える際に発熱することがあるので、試剤を加えるときは冷却下（−５〜５℃）で行うことが好ましい。反応は常温（１５〜２５℃）でも問題なく進行する。反応終了後は、分液操作など一般的な方法により処理し、さらに再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（４）で示される目的の化合物を得ることが出来る。
【００３８】
＜製造工程Ａ−３＞
製造工程Ａ−２によって得られたカルボニル化合物の構造中、トランス−ジオール部分に結合している保護基を選択的に除去することにより、本工程の一般式（５）で示される目的物が得られる。保護基がアセタールである場合、適当な酸を注意深く作用させることにより、比較的強固なシス−ジオール保護基を保ったまま、トランス−ジオール保護基のみを選択的に除去することが出来る。酸としては上記にあげたような鉱酸、有機酸、ルイス酸も適用されるが、なかでもピリジニウム−パラ−トルエンスルホナートなどの弱有機酸が好ましい。これを反応原料の０．０５〜０．３当量、好ましくは０．１〜０．２当量用いる。
【００３９】
通常反応温度は特に限定されず、冷却下（−５〜５℃）あるいは常温（１５〜２５℃）下に反応が行われるが、冷却下に行うほうがシス−ジオール保護基の脱保護反応を防ぎやすいので好ましい。反応溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのプロトン性有機溶媒が適しているが、反応終了後に減圧濃縮する際の除去の容易さを考慮すると、特にメタノールが好ましい。容量は反応原料を１重量部として１５〜６０重量部、好ましくは２５〜３５重量部用いる。反応を終了させる際、例えばトリエチルアミンなどの塩基を用いて反応溶液を中和することにより、任意の時点で反応を終了することが出来る。反応終了後は、分液操作など一般的な方法により処理し、さらに再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（５）で示される目的の化合物を得ることが出来る。特に精製を行わずに次の工程に進むことも可能である。
【００４０】
＜製造工程Ａ−４＞
本工程は、製造工程Ａ−３によって得られた一般式（５）化合物の構造中、遊離状態になったジオールのアシル化、さらには同時にカルボニル基をエノールエステルに変換する工程を含む。原料である一般式（５）化合物は通常のアシル化条件に付すと、ヒドロキシル基のアシル化のみならず、カルボニル基部分をエノールエステルに一段階で変換することが出来る。生成させるアシル基およびエノールエステルとしてはアセチル、ピバロイル、ベンゾイルなど一般に知られたものが挙げられるが、反応性、生成物の固化の容易性、反応試剤のコストおよび入手しやすさ等を考慮すると、なかでもベンゾイル化反応条件に付すことが好ましい。
【００４１】
反応は、原料を適当なアシル化剤と共にピリジン中、またはトリエチルアミンなどの塩基を加えたＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で行うことが出来るが、反応終了後の除去の容易さ等を考慮するとピリジンが好ましい。溶媒の容量としては、製造工程Ａ−３から未精製で反応を行う場合、製造工程Ａ−３で原料として用いた一般式（４）化合物を１重量部として２０〜８０重量部、好ましくは３５〜４５重量部用いることが出来る。反応試剤としては塩化ベンゾイルや無水安息香酸が挙げられるが、反応性の高さから塩化ベンゾイルが好ましい。用いた原料に対して塩化ベンゾイルを６〜１０当量、好ましくは７〜９当量作用させることで、遊離状態になったジオールのアシル化、さらには同時にカルボニル基をエノールエステルに変換し、本工程の目的物である一般式（１）で表される化合物を得ることが出来る。通常、反応温度は特に限定されないが、反応試剤を加える際に発熱することがあるので、試剤を加えるときは冷却下（−５〜５℃）で行うことが好ましい。反応は常温（１５〜２５℃）でも問題なく進行する。反応終了後は、分液操作など一般的な方法や、塩基性の水溶液を反応溶液に加え沈殿物を回収するなどの操作により処理し、さらに再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（１）で示される目的の化合物を得ることが出来る。
【００４２】
＜製造工程Ａ−５＞
本工程は、前製造工程によって得られた一般式（１）化合物中のエノールエステル基をメチレン化し、同時に図中Ｒ１Ｏで表したアシルオキシル基を脱離させる工程を含む。この反応は、一般に知られたWittig反応条件下で行うことが出来る。すなわち、原料である一般式（１）化合物をWittig反応条件に付すと、カルボニル基のメチレン化が起こるのみならず、一般式（１）中Ｒ１Ｏで表したアシルオキシル基が脱離し、結果として一般式（６）で表されるジエン化合物を得ることが出来る。
【００４３】
このアシルオキシル基の脱離を伴うWittig反応に用いる試剤として、ホスホニウム塩としては例えばメチルトリフェニルホスホニウムブロミドが挙げられる。塩基としては、ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、水素化ナトリウム、リチウムヘキサメチルジシラミド、カリウムヘキサメチルジシラミドなどの強塩基が挙げられるが、塩基の強さ、コスト等を考慮すると、なかでもｎ−ブチルリチウムが好ましい。上記のホスホニウム塩と塩基を反応原料に対し３〜８当量、収率および経済的な観点から、ホスホニウム塩は４〜６当量、塩基は３．５〜４．５当量の範囲で用い、特にホスホニウム塩が塩基よりも過剰となるように用いることが好ましい。反応溶媒としてはこの反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用されるが、例えばテトラヒドロフランが挙げられ、またよく乾燥しており出来るだけ水分を含まないものを用いることが好ましい。容量は反応原料を１重量部として１０〜３５重量部、好ましくは１５〜２０重量部用いる。
【００４４】
通常、反応温度は冷却下（−７８〜５℃）から常温（１５〜２５℃）までの範囲で反応が行われる。特に、反応溶液に塩基を加える際、また反応原料を加える際には冷却することが好ましい。反応終了後は、ろ過、分液操作など慣用の方法により処理し、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（６）で示される目的の化合物を得ることが出来る。
【００４５】
＜製造工程Ａ−６＞
本工程は、製造工程Ａ−５によって得られた化合物のジエン部分にハロゲン分子を１，４−付加させる工程を含む。ハロゲン分子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられるが、実験操作としては塩素、臭素を用いることが好ましく、さらには取り扱いの容易さから、常温で液体である臭素を用いることが好ましい。ハロゲン分子は反応原料の１．０〜１．３当量、好ましくは１．０〜１．１５当量用いる。反応溶媒としては、特に反応に悪影響を及ぼさないものとして四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテルなどを用いることが出来、例えば四塩化炭素を用いる際の容量は反応原料を１重量部として３０〜１００重量部、好ましくは５０〜６０重量部用いる。ハロゲン付加の好ましい方法としては、ハロゲンを直接または用いる溶媒に希釈した状態で加える。さらに、反応原料が酸性に弱い保護基を持つ化合物である場合は、脱保護反応を防ぐために、例えば炭酸水素ナトリウムのような塩基を反応原料の１．０〜２．０当量、系中に添加することが好ましい。
【００４６】
反応温度は特に限定されないが、通常、常温（１５〜２５℃）で行われる。反応終了後は、分液操作または窒素等の不活性ガスによるバブリングなど一般的に知られた方法により処理し、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（７）で示される目的の化合物を得ることが出来る。通常、得られる化合物は第２級ハロゲン基の部分に、ハロゲンがそれぞれエカトリアルとアキシャルに導入された２種類の立体異性体の混合物となる。
【００４７】
＜製造工程Ａ−７＞
製造工程Ａ−６によって得られたジハロゲン化物である一般式（７）化合物の構造中、第２級ハロゲン基はそのままに、第１級ハロゲン基のみを選択的にアシルオキシル基に置換することによって、本工程の目的物である一般式（８）で示される化合物が得られる。この置換反応については、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどの酢酸塩、以下同様に安息香酸塩、イソ酪酸塩、サリチル酸塩、乳酸塩、などのカルボン酸塩を用いる方法が挙げられる。上記のなかでも、コスト面、入手のしやすさ、また製造工程Ａ−４で述べた理由から、化合物中のアシル基として特にベンゾイル基を用いる場合は、同様にベンゾイルオキシル基を導入したほうが、後の脱保護反応やその精製時の工程が単純化され容易になることから、安息香酸塩ナトリウムまたは安息香酸カリウムを用いる方法が好ましい。反応試剤は反応原料の１．０〜１．３当量、好ましくは１．１〜１．２当量用いる。反応溶媒としては、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用されるが、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒が用いられ、なかでも比較的除去の容易なＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが好ましい。溶媒の容量としては、反応原料を１重量部として１２〜４５重量部、好ましくは２０〜２５重量部用いる。
【００４８】
通常反応温度は特に限定されないが、反応は常温（１５〜２５℃）でも問題なく進行する。反応終了後に分液操作、カラムクロマトグラフィー等慣用の方法を用いて精製し、一般式（８）で示される目的の化合物を得ることが出来る。なお、カラムクロマトグラフィーによって精製することで、第２級ハロゲン基がエカトリアル位とアキシャル位に導入された異性体をそれぞれ単離することが出来る。
【００４９】
＜製造工程Ａ−８＞
続いて有機アミンを一般式（８）中の第２級ハロゲン基と立体選択的に置換させ、一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体を得ることが出来る。このようなアミノ化の方法については、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの反応に悪影響を及ぼさない適当な非プロトン性極性溶媒に当該化合物を溶解し、これに導入したい有機アミンを加えればよい。種々の有機アミンを導入することが出来るが、特にｎ−ブチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−オクチルアミンなどのアルキルアミン、なかでもｎ−オクチルアミンを用いれば、前述の特許文献１または非特許文献２に記載されている医薬剤として有用な化合物を得ることが出来る。このような有機アミンは反応原料の１．５〜５当量、好ましくは２〜４当量を用いる。また、溶媒としては、比較的除去が容易であるアセトニトリルが好ましく、反応原料１重量部に対して１０〜５０重量部を用いる。反応温度は特に限定されないが、加熱（５０〜８０℃、好ましくは６０〜７０℃）下に反応が行われる。得られた一般式（２）化合物はシリカゲルカラムやイオン交換樹脂カラムなどを用いて精製することにより、より純度の高いものを得ることが出来る。加えて、一般式（２）化合物を適当な酸で処理することにより、その酸付加塩を製造できる。本発明で製造される一般式（２）化合物の塩としては、薬学的に許容できる酸との塩が用いられる。このような塩としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸などの無機塩、酢酸、リンゴ酸、クエン酸、アスコルビン酸、マンデル酸、メタンスルホン酸などの有機塩が用いられる。
【００５０】
なお、所望により、一般式（２）で表されるカルバ糖アミン誘導体に対し脱保護化反応を行うことで、特に一般式（２）−Ａで表されるカルバ糖アミン誘導体が得られる。脱保護化反応は慣用の方法で行うことが出来るが、一般式（２）および一般式（８）化合物中に含まれるアシル型保護基を脱保護する場合、求核性を持つ塩基を用いてもよい。好ましくはメタノール中、反応原料と０．２〜１．０当量のナトリウムメトキシドとを反応させることによって当該保護基の脱保護反応が可能である。また保護基としてアセタール型保護基を用いている場合は、適当な酸性条件下に置くことにより脱保護化反応を行うことが出来、例えば７０〜９０％の濃度の酢酸水溶液中で加熱下（好ましくは７５〜８５℃）反応させることによって当該保護基の脱保護反応が可能である。
【００５１】
さらに本発明において、特にアシル型保護基の脱保護反応は前述のアミノ化反応の前後どちらでも行うことが可能であり、特に、一般式（８）化合物中のアシル型保護基を脱保護し、その後アミノ化反応を行うことによって一般式（２）−Ａで表される化合物を製造することが出来る。このとき、反応原料である一般式（８）化合物には２種類の立体異性体が含まれるが、異性体をそれぞれ単離した後に、または混合物のままでも、アシル型保護基の脱保護反応に続いてアミノ化反応に付すと、いずれも等しく同一の化合物、すなわち目的物である一般式（２）−Ａ化合物を与える。加えて、一般式（２）−Ａで表されるカルバ糖アミン誘導体は、一般式（２）の化合物と同様の方法で精製することが出来、またその酸付加塩を製造できる。
【実施例】
【００５２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。実施例１〜１１までの製造工程を下記＜製造工程式２＞に示した。
【００５３】
＜製造工程式２＞
【００５４】
【数２】
【００５５】
上記において、Ａｃはアセチル基、Ｂｚはベンゾイル基、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、Ｏｃｔｙｌはオクチル基、ＴＨＦはテトラヒドロフラン、ＤＭＦはN，N−ジメチルホルムアミド、ｐｙはピリジン、ＣＳＡは（±）−１０−カンファースルホン酸、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシド、ＰＰＴＳはピリジニウム−パラ−トルエンスルホナートを表す。
【００５６】
下記実施例における反応生成物の解析における薄層クロマトグラフィーには、メルク社製シリカゲルＴＬＣ、６０Ｆ２５４を用い、ＮＭＲ構造解析には、日本電子社製ＪＮＭ−ＥＣＳ４００装置または、日本電子社製Ｌａｍｂｄａ３００装置を用いた。旋光度の測定には、ＨＯＲＩＢＡ社製ＳＥＰＡ−２００装置を使用し、解析した。また、反応生成物の精製に使用したシリカゲルカラムクロマトグラフィーには、和光純薬社製Ｗａｋｏ−ｇｅｌＣ−３００を用いた。
【００５７】
＜実施例１＞(1R,4R,8S,9R)-6,6,11,11-Tetramethyl-5,7,10,12-tetraoxatricyclo[7,3,04,8,0]dodecan-2-one，化合物４’の合成（化合物の番号は、一般式の番号と同じ、以下同様。）
出発原料である（＋）−プロト−クエルシトールを５．００ｇ（３０．５ｍｍｏｌ）取りアセトン３５０ｍＬに溶解させ、３６．８ｍＬ（３０１ｍｍｏｌ）の２，２−ジメトキシプロパンおよび、１．４２ｇ（６．０９ｍｍｏｌ）の（±）−１０−カンファースルホン酸を加えた。室温で１９時間攪拌し、３０ｍＬの飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え１０分間攪拌した。溶液をろ過して不溶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮液を酢酸エチルで２回抽出した後、有機相を再び減圧濃縮した。得られた残渣を３０ｍＬのジメチルスルホキシドに加え、さらに氷浴中で冷却しながらトリエチルアミン１２．７ｍＬ（９１．５ｍｍｏｌ）、続いて三酸化硫黄−ピリジン錯体を９．７１ｇ（６１．０ｍｍｏｌ）加えた。室温で４．５時間攪拌した後、３０ｍＬの飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止し、１５０ｍＬのジエチルエーテルで２回抽出した。有機相を水、飽和食塩水それぞれ１００ｍＬで洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧濃縮した。得られた残渣を熱エタノールから再結晶し、３．９４ｇの化合物４’を得た（２工程収率５３％）。
RF = 0.47 (ヘキサン/酢酸エチル=1/1), C12H18O5 MW: 242.27（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.37, 1.45, 1.47, 1.49 (s, each 3H), 2.48 (dd, 1H, J = 10.8, 18.0 Hz), 2.98 (dd, 1H, J = 7.0, 18.0 Hz ), 3.55 (dd, 1H, J = 7.5, 10.3 Hz), 4.10 (ddd, 1H, J = 7.1, 10.8, 10.6 Hz), 4.47 (d, 1H, J = 8.4 Hz). 4.63 (dd, 1H, J = 7.5, 8.4 Hz)
【００５８】
＜実施例２＞(1S,4R,5R,6S)-4,5-Dibenzoyloxy-2-(benzoyloxymethyl)-8,8-dimethyl-7,9-dioxabicyclo[4.3.0]non-8-ene，化合物１’の合成
１０．０ｇ（４１．３ｍｍｏｌ）の化合物４’を４００ ｍＬのメタノールに溶解し、氷浴中で冷却しながら２．０７ｇ（８．２５ｍｍｏｌ）のピリジニウム−パラ−トルエンスルホナートを加えた。４℃に冷却しながら２３時間静置した後、トリエチルアミンで中和した。反応溶液を減圧濃縮した後、アセトンで２回共沸させて溶媒を除いた。
得られた残渣を４００ｍＬのピリジンに溶解させ、氷浴中で冷却しながら塩化ベンゾイル３８．４ｍＬ（３３０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２１時間攪拌した後、氷を加えた飽和炭酸水素ナトリウム水溶液約５００ｍＬを注ぎ入れ、そのまま３０分間攪拌した。生じた沈殿物をよく水洗した後にろ別し、エタノール／水から再結晶した。得られた結晶をトルエンおよびエタノールによって共沸させ混入した水を除き、減圧乾燥させて１２．８ｇの化合物１’を得た（２工程収率６０％）
RF = 0.35 (ヘキサン/酢酸エチル=4/1), [α]D25=-43.0o (c 1.0, CHCl3), C30H26O8 MW: 514.52（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.39, 1.63 (s, each 3H), 4.64 (dd, 1H, J = 6.0, 7.4 Hz), 5.01 (d, 1H, J = 6.0 Hz ), 5.81-5.91 (m, 2H, J = 7.5, 10.3 Hz), 5.95 (d, 1H, J = 2.6 Hz), 7.35-7.63 (m, 9H), 7.97-8.13 (m, 6H), 13C-NMR (75MHz / CDCl3) δ(ppm)：26.42, 27.83, 69.44, 71.33, 72.25, 75.05, 112.23, 116.96, 128.38, 128.40, 128.60, 129.34, 129.52, 129.89, 130.27, 133.23, 133.30, 133.85, 146.34
【００５９】
＜実施例３＞(1S,2S,6S)-2-(Benzoyloxy)-8,8-dimethyl-5-methylene-7,9-dioxabicyclo[4.3.0]non-3-ene，化合物６’の合成
メチルホスホニウムブロミド１２．５ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）をナスフラスコに加え窒素置換した後、１２ｍＬの無水ＴＨＦに懸濁し、ドライアイス−アセトン浴中で冷却した。これに１４．２ｍＬ（２３．４ｍｍｏｌ）のｎ−ＢｕＬｉ（１．６５Ｍヘキサン溶液）をシリンジでゆっくり加え、氷浴中に移して１時間攪拌した。再びドライアイス−アセトン浴中で冷却しながら、３０ｍＬの無水ＴＨＦに溶解した３．００ｇ（５．８３ｍｍｏｌ）の化合物１’をゆっくり加えた。容器を８ｍＬの無水ＴＨＦで２回リンスし、これらも加えた。４度に冷却しながら２１時間攪拌した後、反応溶液をショートシリカゲルカラムに通し、ヘキサン／酢酸エチル＝４／１の混合液６０ｍＬ×３で溶出させた。続いて溶液を、セライト粉末を通じてろ過し、セライトを少量の酢酸エチルで洗浄した後、合わせた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５）によって精製し、１．１０５ｇの化合物６’を得た（収率６６％）。
RF = 0.45 (ヘキサン/酢酸エチル=4/1)、C17H18O4 MW: 286.32（計算値）、1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.43, 1.50 (s, each 3H), 4.37 (dd, 1H, J = 5.1, 5.5 Hz), 4.76 (d, 1H, J = 5.5 Hz), 5.43, 5.46 (each s, 2H), 5.67 (broad s, 1H), 5.78 (d, 1H, J = 9.9 Hz), 6.33 (d, 1H, J = 9.9 Hz), 7.39-7.44 ( m, 2H), 7.52-7.57 (m, 1H), 8.02-8.06 (m, 2H)
【００６０】
＜実施例４＞(1S,4S,5R,6S)- and (1S,4R,5R,6S)-5-Benzoyloxy-4-bromo-2-(bromomethyl)-8,8-dimethyl-7,9-dioxabicyclo[4.3.0]non-2-ene，化合物７’の合成
１．３６ｇ（４．７５ｍｍｏｌ）の化合物６’を４８ｍＬの四塩化炭素に溶解させ、これに炭酸水素ナトリウム７４８ｍｇ（５．２３ｍｍｏｌ）を加え懸濁させた。続いて臭素２８０μＬ（５．４６ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下して加えた。そのまま室温で３０分間攪拌した後、１００ｍＬのクロロホルムで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水それぞれ５０ｍＬで洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５→９／１）によって精製し、１．４５ｇの化合物７’を得た（異性体混合物で収率６８％、異性体比α／β＝１．７／１）。
RF = 0.63 (トルエン/酢酸エチル=95/5), C17H18Br2O4 MW: 446.13（計算値）, 1H-NMRより異性体混合比はα/β=1.7/1
【００６１】
＜実施例５＞(1S,4R,5R,6S)- and (1S,4S,5R,6S)-5-Benzoyloxy-2-(benzoyloxymethyl)-4-bromo-8,8-dimethyl-7,9-dioxabicyclo[4.3.0]non-2-ene，化合物８’−α、８’−βの合成
１．４１ｇ（３．１５ｍｍｏｌ）の化合物８’を３２ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させ、５２２ｍｇ（３．６２ｍｍｏｌ）の安息香酸ナトリウムを加え懸濁させた。室温で２２時間攪拌した後、３００ｍＬの酢酸エチルで希釈し、１００ｍＬの水で２回、１００ｍＬの飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させた。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５）によって精製し、７３２ｍｇの化合物８’−α（収率４８％）、４１９ｍｇの化合物８’−β（２７％）を得た。
化合物8’-α: RF = 0.36 (ヘキサン/酢酸エチル=4/1), C24H23BrO6 MW: 487.34（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.39, 1.47 (s, each 3H), 4.73 (dd, 1H, J = 7.0, 7.0 Hz), 4.83 (d, 1H, J = 6.6 Hz), 4.91-4.94 (m, 1H), 5.03 (d, 2H, J = 24.2 Hz), 5.15 (dd, 1H, J = 3.8, 8.4 Hz), 6.22 (d, 1H, J = 5.9 Hz), 7.41-7.58 (m, 6H), 8.07-8.14 (m, 4H)
化合物8’−β：RF = 0.24 (ヘキサン/酢酸エチル=4/1), C24H23BrO6 MW: 487.34（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.41, 1.56 (s, each 3H), 4.36 (dd, 1H, J = 5.9, 7.9 Hz), 4.67 (br d, 1H, J = 7.5 Hz), 4.73 (d, 1H, J = 5.5 Hz), 4.99 (br s, 1H), 5.68 (dd, 1H, J = 7.7, 7.7 Hz), 6.17 (br d, 1H), 7.30-7.61 (m, 5H), 7.91-8.08 (m, 5H)
【００６２】
＜実施例６＞ (1S,5R,6R,7R)-9-(Hydroxymethyl)-7-bromo-2,4-dioxabicyclo[4.3.0]non-8-ene-6-ol，化合物 ８’’−αの合成
実施例５で得られた二つの異性体のうち、化合物８’−αを６９２ｍｇ（１．４０ｍｍｏｌ）取り、１４ｍＬの無水メタノールに溶解させた。これに、１Ｍのナトリウムメトキシド／メタノール溶液４９８μＬ（０．４９ｍｍｏｌ）を加え、２００μＬのメタノールで容器をリンスしてこれも加えた。室温で２時間攪拌した後、さらに１Ｍナトリウムメトキシド／メタノール溶液を２８０μＬ（０．２８ｍｍｏｌ）加え、室温で３０分間攪拌した。強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］、住友ケムテックス社製）を反応溶液が中性になるまで加え、樹脂を除いた溶液を減圧濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→２／１）によって精製し、２５４ｍｇの化合物８’’−α（収率６５％）を得た。
RF = 0.20 (ヘキサン/酢酸エチル=1/1), C10H15BrO4 MW: 279.13（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.34, 1.41 (s, each 3H), 3.65 (dd, 1H, J = 3.7, 7.9 Hz), 4.14-4.66 (m, 3H), 4.66-4.71 (m, 2H), 6.04 (d, 1H, J = 5.5 Hz)
【００６３】
＜実施例７＞ (1R,2S,4S,7S)-6-(Hydroxymethyl)-3,8,10-trioxatricyclo[5.3.02,4.0]decan-5-ene，化合物 ８’’−βの合成
実施例５で得られた二つの異性体のうち、２７０ｍｇ（０．５５４ｍｍｏｌ）の化合物８’−βを４．４ｍＬの無水メタノールに溶解した。これに、１Ｍのナトリウムメトキシド／メタノール溶液５８０μＬ（０．５８ｍｍｏｌ）を加え、２００μＬのメタノールで容器をリンスしてこれも加えた。室温で１時間攪拌した後、０．１Ｍ塩酸／メタノール溶液を反応溶液のｐＨが中性付近になるまで加えた。溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→２／１）によって精製し、４８ｍｇの化合物８’’−β（収率４４％）を得た。
RF = 0.41 (ヘキサン/酢酸エチル=1/1), C10H14O4 MW: 198.22（計算値）, 1H-NMR (300MHz/CDCl3) δ (ppm): 1.39 (s, 6H), 3.35 (dd, 1H, J = 3.9, 4.0 Hz), 3.54 (dd, 1H, J = 1.7, 3.7 Hz), 4.22 (br d, 2H, J = 4.8 Hz), 4.45 (d, 1H, J = 7.1 Hz), 4.79 (d, 1H, J = 6.2 Hz), 6.05 (br d, 1H, J = 2.9 Hz)
【００６４】
＜実施例８＞(1S,2R,3S,6R)-4-(Hydroxymethyl)-6-octylaminocyclohex-4-ene-1,2,3-triol，化合物２’の合成（化合物８’’−αより）
１８７ｍｇ（０．６７０ｍｍｏｌ）の化合物８’’−αを３．４ｍＬのアセトニトリルに溶解させ、炭酸カリウム１４０ｍｇ（１．０１ｍｍｏｌ）およびｎ−オクチルアミン２７９μＬ（１．６８ｍｍｏｌ）を加えた。６０−６５℃に加温しながら２２時間攪拌し、室温まで放冷した。溶液をろ過し、ろ液を減圧濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９７／３）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。
得られた残渣を８０％酢酸水溶液６．５ｍＬに溶解し、８０℃に加温しながら４時間攪拌した。反応溶液をトルエンと共沸させて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸／クロロホルム／メタノール＝１０／８６／４→１０／６０／３０）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。残渣を強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］）カラム（８０％メタノール水溶液→メタノール／２５％アンモニア水＝８／２）によって遊離塩基とし、化合物２’を１００ｍｇ（２工程収率５２％）得た。
RF = 0.41 (酢酸/クロロホルム/メタノール=1/6/3), C15H29NO4 MW: 287.40（計算値）, [α]D25=+1.8o (c 1.0, MeOH), 1H-NMR (300MHz/CD3OD) δ(ppm): 0.800 (t, 3H, J = 7.0 Hz), 1.21 (br, 10H), 1.43 (br, 2H), 2.42-2.48 (m, 1H), 2.60-2.69 (m, 1H), 3.00 (br d, 1H, J = 6.4 Hz), 3.24 (d, 1H, J = 8.4 Hz ), 3.34 (dd, 1H, J = 4.2, 10.2 Hz), 3.60 (dd, 1H, J = 8.2, 10.1 Hz), 4.03 (br s, 2H), 4.06 (d, 1H, J = 4.2 Hz), 5.62 (br s, 1H), 13C-NMR (75MHz/CDCl3) δ(ppm)：14.40, 23.70, 28.42, 30.38, 30.60, 30.94, 32.99, 46.91, 61.80, 63.94, 68.16, 70.86, 73.89, 125.34, 140.65
【００６５】
＜実施例９＞化合物２’の合成（化合物 ８’’−βより）
化合物８’’−βを４８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）取り、２．４ｍＬのアセトニトリルに溶解させ、ｎ−オクチルアミン１００μＬ（０．６０６ｍｍｏｌ）を加えた。６０−７０℃に加温しながら２２時間攪拌、室温まで放冷した後、減圧濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９７／３）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。
得られた残渣を８０％酢酸水溶液２．５ｍＬに溶解し、８０℃に加温しながら４時間攪拌した。反応溶液をトルエンと共沸させて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸／クロロホルム／メタノール＝１０／８６／４→１０／６０／３０）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。残渣を強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］）カラム（８０％メタノール水溶液→メタノール／２５％アンモニア水＝８／２）によって遊離塩基とし、化合物２’を３３ｍｇ（２工程収率４８％）得た。
【００６６】
＜実施例１０＞化合物２’の合成（化合物７’より）
１．０７ｇ（２．３９ｍｍｏｌ）の化合物７’を２４ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、安息香酸ナトリウム３９６ｍｇ（２．７５ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２２時間攪拌した後、反応溶液を２４０ｍＬの酢酸エチルで希釈し、これを８０ｍＬの水で２回、８０ｍＬの飽和食塩水で１回洗浄した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧濃縮した。
得られた残渣を無水メタノール２０ｍＬに溶解させ、これに１．２ｍＬの１Ｍナトリウムメトキシド／メタノール溶液を加えた。室温で２時間攪拌し、強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］）を加え反応溶液を中和し、樹脂を除いた後に減圧濃縮した。シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１→２／１）によって精製し、化合物８’’−αを２３７ｍｇ、化合物８’’−βを９１ｍｇ、さらに化合物８’−βのエステル基がすべて脱保護された化合物を８６ｍｇ得た。この化合物をメタノールに溶解し、強塩基性イオン交換樹脂（デュオライトＡ１１６［ＯＨ−］、住友ケムテックス社製）カラムを数回通過させた後、溶液を減圧濃縮すると５８ｍｇの化合物８’’−βが得られた。
得られた化合物８’’−αおよび化合物８’’−βを合わせ、１６ｍＬのアセトニトリルに溶解し、炭酸カリウム１７６ｍｇ（１．２７ｍｍｏｌ）、続いてｎ−オクチルアミン６６３μＬ（４．００ｍｍｏｌ）を加えた。６０−７０℃に加温しながら２０時間攪拌した後、室温まで放冷した。溶液をろ過し、ろ液を減圧濃縮した後、得られた残渣を８０％酢酸水溶液１６ｍＬに溶解し、８０℃に加温しながら４時間攪拌した。反応溶液をトルエンと共沸させて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸／クロロホルム／メタノール＝１０／８６／４→１０／６０／３０）によって精製し、目的物が含まれる画分を濃縮した。残渣を強酸性イオン交換樹脂（デュオライトＣ２０［Ｈ＋］）カラム（８０％メタノール水溶液→メタノール／２５％アンモニア水＝８／２）によって遊離塩基とし、化合物２’を１５５ｍｇ（７’より４工程収率２３％）得た。
【００６７】
＜実施例１１＞(1S,2R,3S,6R)-4-(Hydroxymethyl)-6-octylaminocyclohex-4-ene-1,2,3-triol hydrochloride，化合物２’’の合成
化合物２’を７８ｍｇ（０．２７ｍｍｏｌ）取り、１Ｎの塩酸水溶液６ｍＬに溶解させた。エタノールで数回共沸し、減圧濃縮した。減圧乾燥後、８６ｍｇの化合物２’’が得られた（収率９８％）。
RF = 0.41 (酢酸/クロロホルム/メタノール=1/6/3), C15H30ClNO4 MW: 323.86（計算値）, [α]D25=+9.8o (c 1.0, MeOH), 1H-NMR (300MHz/D2O) δ(ppm): 0.894 (t, 3H, J = 6.4 Hz), 1.31 (br, 10H), 1.72-2.78 (br, 2H), 3.09-3.28 (m, 2H), 3.72 (ddd, 1H, J = 1.5, 3.7, 10.0 Hz), 3.90 (br d, 1H, J = 8.6 Hz), 4.00 (dd, 1H, J = 8.9. 10.1 Hz ), 4.24 (br s, 2H), 4.31 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 5.82 (d, 1H, J = 1.3 Hz), 13C-NMR (75MHz/D2O, dioxane as internal reference) δ(ppm)：13.82, 22.38, 26.07, 26.12, 28.50, 28.57, 31.40, 44.98, 60.17, 62.18, 66.38, 67.23, 71.47, 117.09, 144.22
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表される絶対配置を有することを特徴とする新規カルバ糖前駆体。
【化１】
［式中、Ｒ２〜Ｒ４の一部または全部はそれぞれ独立に水素原子もしくはヒドロキシル基の保護基を示す。保護基としては、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを示す。Ｒ１およびＲ５は炭素数２〜１５のアシル基を示す。
【請求項２】
（＋）−プロト−クエルシトールを出発原料とし、ヒドロキシル基の保護化、次いでヒドロキシル基の酸化を行い、得られた誘導体に対し脱保護化、さらにアシル化することによって得られる請求項１に記載の一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体の製造方法。
【請求項３】
一般式（１）で表されるカルバ糖前駆体をWittig反応条件に付し、生じたジエンに対しハロゲン付加を行い、続いて置換反応によってアシルオキシル基を導入し、その後アルキルアミノ基を導入することを特徴とする一般式（２）
【化２】
［式中、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基、炭素数２〜１５のアシル基、炭素数２〜１５のアリル基、または炭素数７〜１５のアラルキル基を表す。ただし、Ｒ１およびＲ２は双方が同時に水素原子であることはない。Ｒ３〜Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子またはヒドロキシル基の保護基を示す。保護基として、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを表す。また、窒素原子上に酸付加した塩であってもよい。］
で表されるカルバ糖アミン誘導体の製造方法。
【請求項１】
一般式（１）で表される絶対配置を有することを特徴とする新規カルバ糖前駆体。
【化１】
［式中、Ｒ２〜Ｒ４の一部または全部はそれぞれ独立に水素原子もしくはヒドロキシル基の保護基を示す。保護基としては、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを示す。Ｒ１およびＲ５は炭素数２〜１５のアシル基を示す。
【請求項２】
（＋）−プロト−クエルシトールを出発原料とし、ヒドロキシル基の保護化、次いでヒドロキシル基の酸化を行い、得られた誘導体に対し脱保護化、さらにアシル化することによって得られる請求項１に記載の一般式（１）で表される新規カルバ糖前駆体の製造方法。
【請求項３】
一般式（１）で表されるカルバ糖前駆体をWittig反応条件に付し、生じたジエンに対しハロゲン付加を行い、続いて置換反応によってアシルオキシル基を導入し、その後アルキルアミノ基を導入することを特徴とする一般式（２）
【化２】
［式中、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数２〜１５のアルキニル基、炭素数２〜１５のアシル基、炭素数２〜１５のアリル基、または炭素数７〜１５のアラルキル基を表す。ただし、Ｒ１およびＲ２は双方が同時に水素原子であることはない。Ｒ３〜Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子またはヒドロキシル基の保護基を示す。保護基として、炭素数２〜１５のアシル型保護基、炭素数１〜１５のエーテル型保護基、炭素数３〜１５のアセタール型保護基、炭素数３〜１５のシリルエーテル型保護基、炭素数７〜１５のアラルキル型保護基、または炭素数３〜１５のアリル型保護基などを表す。また、窒素原子上に酸付加した塩であってもよい。］
で表されるカルバ糖アミン誘導体の製造方法。
【公開番号】特開２０１２−１５８５２４（Ｐ２０１２−１５８５２４Ａ）
【公開日】平成２４年８月２３日（２０１２．８．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１７２４３（Ｐ２０１１−１７２４３）
【出願日】平成２３年１月２８日（２０１１．１．２８）
【出願人】（０００２４２００２）北興化学工業株式会社 (182)
【出願人】（５１１０２６２８９）
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月２３日（２０１２．８．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１月２８日（２０１１．１．２８）
【出願人】（０００２４２００２）北興化学工業株式会社 (182)
【出願人】（５１１０２６２８９）
【Ｆターム（参考）】
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