新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体
【課題】高い耐熱性を有する新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体を提供する。
【解決手段】式（１）で示される化合物。
Ｒ１は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の（ハロゲン化）炭化水素であり、Ｒ２は、それぞれ独立に、単結合又は−ＣＯ−であり、Ｒ３,Ｒ５は２価であり、Ｒ４は一価であり、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の(ハロゲン化）炭化水素であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の(ハロゲン化）炭化水素、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、又は−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。
【解決手段】式（１）で示される化合物。
Ｒ１は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の（ハロゲン化）炭化水素であり、Ｒ２は、それぞれ独立に、単結合又は−ＣＯ−であり、Ｒ３,Ｒ５は２価であり、Ｒ４は一価であり、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の(ハロゲン化）炭化水素であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の(ハロゲン化）炭化水素、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、又は−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合成樹脂などの高分子材料の酸化防止剤に有用な新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含んでなる酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体に関する。
【背景技術】
【０００２】
合成樹脂などの高分子材料はその優れた機械的、化学的特性から包装用資材、建材、自動車用部品、日常雑貨品、農業用資材、医療用器具、デジタルカメラ用レンズ、携帯電話用レンズ、ＣＤ、ブルーレイ用ピックアップレンズ、マイクロレンズに代表される光学レンズ、ディスク等の基板、導光板、プリズムシート等の幅広い用途に利用されている。しかし、高分子材料は通常、加熱加工時に高温に曝されることによって着色などの劣化現象が見られ、本来の機能を失い易く、実用に適さなくなる場合がある。また、高分子材料は各種用途に使用される場合も、経時的に着色などの劣化現象が見られる場合がある。
【０００３】
この着色などの劣化現象を抑制する方法として、種々の酸化防止剤を合成樹脂に添加する方法が知られている。ここに使用される酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等の一次酸化防止剤やリン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等の二次酸化防止剤がある。
【０００４】
これらの化合物の中で、フェノール系酸化防止剤としては、例えば、特許文献１に示すような化合物が知られている。しかしながら、該化合物は、耐熱性が不十分であり、加熱加工時に高温に曝されることによって分解してしまうなどの問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０８−０４０９８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものである。すなわち本発明は、高い耐熱性を有する新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、下記構造を有する化合物を用いることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、以下の［１］〜［６］を提供するものである。
【０００８】
［１］ 下記式（１）で示される化合物。
【０００９】
【化１】
（式（１）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。）
【００１０】
［２］ 上記式（１）において、Ｒ2が単結合である、［１］に記載の化合物。
［３］ ［１］または［２］に記載の化合物を含有する酸化防止剤。
［４］ ［１］または［２］に記載の化合物を含有する樹脂組成物。
［５］ ［１］または［２］に記載の化合物を含有する樹脂成型体。
［６］ 下記式（２）で表わされる化合物と下記式（３）で表わされる化合物とを反応させる工程を含むことを特徴とする、下記式（１）で表わされる化合物の合成方法。
【００１１】
【化２】
（式（２）において、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。）
【００１２】
【化３】
（式（３）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｙは、Ｒ6ＳＯ3−で表される基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基である。ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）
【００１３】
【化４】
（式（１）において、Ｒ1およびＲ3は、式（３）中のＲ1およびＲ3と同義であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎは式（２）中のＲ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎと同義である。）
【発明の効果】
【００１４】
本発明の新規化合物は、高い耐熱性を有し、酸化防止作用を有する。このため、該化合物は、合成樹脂などの高分子材料の酸化防止剤として好適に用いることができる。
また、着色などの劣化現象化起こりにくい樹脂組成物および樹脂成型体を提供することができる。
【００１５】
さらに、本発明に係る合成方法は、高純度の新規化合物を収率良く、容易に合成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の新規化合物および該化合物の製造方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体について詳細に説明する。
【００１７】
［化合物］
本発明の新規な化合物は、下記式（１）で表わされる化合物である。なお、以下において、下記式（１）で表される化合物を「化合物（１）」ともいう。
【００１８】
【化５】
式（１）中、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。
【００１９】
上記Ｒ1における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基などの炭素数１〜２０のアルキル基；シクロペンチル基およびシクロヘキシル基などの炭素数３〜２０のシクロアルキル基；フェニル基、ナフチル基およびビフェニル基などの炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基；ビニル基およびアリル基などの炭素数２〜２０のアルケニル基などが挙げられる。
【００２０】
上記Ｒ1における炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数３〜２０のハロゲン化シクロアルキル基および炭素数６〜２０のハロゲン化芳香族炭化水素基などが挙げられる。前記ハロゲン化アルキル基としては、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリブロモメチル基、ペンタクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基およびペンタブロモエチル基などが挙げられ；前記ハロゲン化芳香族炭化水素基としては、クロロフェニル基およびクロロナフチル基などが挙げられる。
【００２１】
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数１〜２０の２価の炭化水素基としては、炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数３〜２０の２価の脂環式炭化水素基および炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基などが挙げられる。
【００２２】
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基などのアルキレン基；プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基およびヘキシリデン基等の分岐鎖のアルキリデン基；アルケニレン基；アルキニレン基などが挙げられる。これらの中では、メチレン基および／またはアルキレン基が好ましい。
【００２３】
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数３〜２０の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などのシクロアルキレン基；シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基などのシクロアルケニレン基などが挙げられる。上記脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上の何れの炭素上でもよい。
【００２４】
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ビフェニレン基およびナフチレン基などのアリーレン基などが挙げられる。
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基としては、上記例示の炭素数１〜２０の２価の炭化水素基が有する水素原子の少なくとも１つを、ハロゲン原子（例：フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換した基が挙げられる。
【００２５】
上記Ｒ4における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、上記Ｒ1と同様の官能基を挙げることができる。
上記Ｒ4における炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基としては、上記Ｒ1と同様の官能基を挙げることができる。
【００２６】
上記Ａにおける炭素数１〜２０の２価の炭化水素基としては、炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数３〜２０の２価の脂環式炭化水素基あるいは炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基などを挙げることができ、具体的には、上記Ｒ3と同様の官能基を挙げることができる。
上記Ａにおける炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基も上記Ｒ3と同様の官能基を挙げることができる。
【００２７】
上記式（１）において、
Ｒ1としては、それぞれ独立に、水素原子または炭素数３〜２０の１価の炭化水素基であることが好ましい。また、任意の一つの芳香環に結合する少なくとも一つのＲ1が炭素数３〜２０の１価の炭化水素基であることが好ましく、芳香環に結合する−ＯＨ基に隣接する１つまたは２つのＲ1が炭素数３〜２０の１価の炭化水素基であることがより好ましい。また、炭素数３〜２０の１価の炭化水素基としては、ｔ−ブチル基であることが特に好ましい。
【００２８】
Ｒ2としては、それぞれ独立に、単結合であることがより好ましい。
Ｒ3としては、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基であることが好ましく、メチレン基；エチレン基またはトリメチレン基であることがより好ましい。
【００２９】
Ａとしては、それぞれ独立に、イソプロピリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であることが好ましい。
ｎとしては、０であることが好ましい。
【００３０】
ｍとしては、０または１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
上記式（１）において、Ｒ2が単結合であると、酸化防止効果を有し、耐熱性がより高く、また樹脂との相溶性に優れた化合物を得ることができる。
【００３１】
また、上記式（１）で表される化合物が、下記式（１’）で表される化合物（以下、化合物（１'）ともいう。）であると、酸化防止剤として好適に用いることができる。
【００３２】
【化６】
（式（１’）中、Ｒ1〜Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎは式（１）中のＲ1〜Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎと同義である。）
【００３３】
［化合物（１）の合成方法］
続いて本発明の化合物（１）の合成方法について詳細に説明する。本発明の化合物（１）は、以下の式（２）で表される化合物（以下、化合物（２）ともいう。）と、以下の式（３）で表される化合物（以下、化合物（３）ともいう。）とを反応させる工程を含む方法で合成することができる。化合物（２）と化合物（３）とを反応させることで、高純度の新規化合物（１）を収率良く、容易に合成することができる。
【００３４】
【化７】
（式（２）において、Ｒ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎは式（１）中のＲ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎと同義である。）
【００３５】
【化８】
（式（３）において、Ｒ1およびＲ3は、式（１）中のＲ1およびＲ3と同義であり、Ｙは、Ｒ6ＳＯ3−で表される基、またはカルボキシル基である。ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）
【００３６】
上記Ｒ6における炭素数１〜２０の炭化水素基としては、上記Ｒ1における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基と同様の官能基を挙げることができる。
【００３７】
化合物（２）と化合物（３）との反応において、化合物（２）と化合物（３）とのモル比（化合物（３）／化合物（２））は、通常は４〜２０、好ましくは４．０５〜５である。
このような量で化合物（２）と化合物（３）とを反応させると、高純度の新規化合物（１）をより収率良く、容易に合成することができる。
【００３８】
上記反応の条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は−３０〜１２０℃、好ましくは−２０〜９０℃、特に好ましくは−１０〜８０℃であり；反応時間は、通常は０．１〜４８時間、好ましくは０．５〜２４時間、特に好ましくは１〜１０時間である。
【００３９】
＜化合物（１）においてＲ2が−ＣＯ−である化合物の合成方法＞
化合物（１）において、Ｒ2が−ＣＯ−である化合物は、化合物（２）と、化合物（３）においてＹがカルボキシル基である化合物とを反応させることで得ることができる（以下、反応Ａともいう。）。
【００４０】
該反応Ａは、カルボジイミドおよび／または塩基触媒などの存在下で行うことができる。カルボジイミドとしては、ジシクロヘキシルカルボジイミドおよびジイソプロピルカルボジイミドなどを挙げることができる。
化合物（３）とカルボジイミドとのモル比（カルボジイミド／化合物（３））は、通常は１〜２０、好ましくは１．０５〜５である。
【００４１】
また、塩基触媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ピリジンおよび炭酸ナトリウムなどが挙げられる。
化合物（３）と塩基触媒とのモル比（塩基触媒／化合物（３））は、通常は０．０１〜１、好ましくは０．０５〜０．５である。
【００４２】
また、上記反応Ａでは、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素および／または１，２−ジクロロエタンなどの有機溶媒や水などを溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、化合物（３）１ｇあたり、通常は０．１〜５０ｍｌ、好ましくは１〜２０ｍｌ、特に好ましくは２〜１０ｍｌである。
反応Ａにおいて、化合物（２）と化合物（３）とのモル比、および、反応の条件は上記と同様である。
【００４３】
＜化合物（１）においてＲ2が単結合である化合物の合成方法＞
また、化合物（１）において、Ｒ2が単結合である化合物は、化合物（２）と、化合物（３）においてＹがヒドロキシル基またはＲ6ＳＯ3−で表される基（ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）である化合物とを反応させることで得ることができる（以下、反応Ｂともいう。）。
【００４４】
該反応Ｂは、触媒などの存在下で行うことができる。該触媒としては、水素化ナトリウムなどが挙げられる。化合物（２）と触媒とのモル比（触媒／化合物（２））は、通常は０．０１〜２０、好ましくは０．１〜１０である。
【００４５】
また、反応Ｂでは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素および／または１，２−ジクロロエタンなどの有機溶媒や水などを溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、化合物（３）１ｇあたり、通常は０．１〜５０ｍｌ、好ましくは１〜２０ｍｌ、特に好ましくは２〜１０ｍｌ以下である。
反応Ｂにおいて、化合物（２）と化合物（３）とのモル比、および、反応の条件は上記と同様である。
【００４６】
＜化合物（１’）の合成方法＞
なお、化合物（１’）を合成する場合には、上記合成方法において、化合物（３）の代わりに下記式（３’）で表わされる化合物を用いればよい。
【００４７】
【化９】
（式（３'）において、Ｒ1、Ｒ3およびＹは、式（３）中のＲ1、Ｒ3およびＹと同義である。）
【００４８】
〈化合物（２）の合成方法〉
上記化合物（２）は、公知の方法で得ることができ、例えば、下記式（５）で表わされる化合物を水素化して下記式（６）で表わされる化合物（以下、化合物（６）ともいう。）を得る工程（ｉ）、化合物（６）を酸化して下記式（７）で表わされる化合物（以下、化合物（７）ともいう。）を得る工程（ｉｉ）、化合物（７）と下記式（８）で表わされる化合物（以下、化合物（８）ともいう。）とを反応させる工程（ｉｉｉ）、および、工程（ｉｉｉ）で得られた化合物（以下、化合物（８'）ともいう。）と、アルキレンカーボネートまたは下記式（９）で表わされる化合物（以下、化合物（９）ともいう。）とを反応させる工程（ｉｖ）をこの順序で含んでなる製造方法を挙げることができる。なお、化合物（２）において、ｍが０である化合物を合成する場合には、上記工程（ｉｖ）は不要である。
【００４９】
【化１０】
（式（５）において、Ａは、式（１）中のＡと同義である。）
【００５０】
【化１１】
（式（６）において、Ａは、式（１）中のＡと同義である。）
【００５１】
【化１２】
（式（７）において、Ａは、式（１）中のＡと同義である。）
【００５２】
【化１３】
（式（８）において、Ｒ4およびｎは、式（１）中のＲ4およびｎと同義である。）
【００５３】
【化１４】
（式（９）において、Ｒ5およびｍは、式（１）中のＲ5およびｍと同義であり、Ｚは、ハロゲン原子である。）
【００５４】
上記工程（ｉ）は、従来公知の方法を適用できる。
上記工程（ｉｉ）は、従来公知の方法を適用することができるが、例えば、上記化合物（６）を、酸化剤および溶媒の存在下で反応させればよい。
【００５５】
酸化剤としては、次亜塩素酸および次亜臭素酸などの次亜ハロゲン酸、これらの塩、ならびに塩素などのハロゲンを挙げることができる。
化合物（６）と酸化剤とのモル比（酸化剤／化合物（６））は、好ましくは２〜３、さらに好ましくは２．１〜２．３である。
【００５６】
また、溶媒としては、特に制限されないが、上記酸化剤と反応し難いものであって、化合物（６）の溶解性が高いものが望ましく、例えば、メタノール、酢酸、トルエン、クロロベンゼン、ジオキサンおよびこれらを含む混合溶媒を挙げることができる。
溶媒の使用量は、化合物（６）１ｇあたり、通常は０．１〜５０ｍｌである。
また、この工程（ｉｉ）の条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は０℃〜溶媒の沸点以下の温度、好ましくは１０〜４０℃であり；反応時間は、通常は０．１〜１０時間である。
【００５７】
上記工程（ｉｉｉ）は、従来公知の方法で製造することができるが、例えば、上記化合物（７）と上記化合物（８）とを、酸触媒の存在下で反応させればよい。
化合物（７）と化合物（８）とのモル比（化合物（８）／化合物（７））は、通常は４〜５０、好ましくは４〜１０である。
【００５８】
酸触媒としては、例えば、塩化水素ガス、塩酸、硫酸およびリン酸等の無機酸ならびにＰ−トルエンスルホン酸、シュウ酸およびメタンスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。
化合物（７）と酸触媒との重量比（酸触媒／化合物（７））は、好ましくは０．０５〜１、さらに好ましくは０．３〜０．７である。
【００５９】
また、工程（ｉｉｉ）では、上記酸触媒と共に適当な助触媒、例えばメチルメルカプタン、エチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンおよび／またはオクチルメルカプタン等のアルキルメルカプタン類などを添加して反応を促進させることができる。
化合物（７）と助触媒との重量比（助触媒／化合物（７））は、好ましくは０．０１〜０．１、さらに好ましくは０．０２〜０．０６である。
【００６０】
工程（ｉｉｉ）では、必要に応じて溶媒を用いてもよく、例えば、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族化合物、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサンおよびｎ−ペンタン等の飽和炭化水素、メタノールおよびｔ−ブタノール等のアルコール類などを適宣単独で、あるいは混合して使用することができる。
【００６１】
化合物（８）と溶媒との重量比（溶媒／化合物（８））は、好ましくは０．０１〜１０、さらに好ましくは０．１〜２である。
また、この工程（ｉｉｉ）の条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は０℃〜６０℃、好ましくは１０〜４０℃であり；反応時間は、通常は１〜１０時間、好ましくは、１〜５時間である。
【００６２】
上記工程（ｉｖ）は、従来公知の方法で製造することができるが、例えば、化合物（８'）（上記化合物（２）においてｍ＝０である化合物）と、アルキレンカーボネートまたは上記化合物（９）とを、塩基触媒の存在下で反応させればよい。
【００６３】
化合物（８'）とアルキレンカーボネートとのモル比（アルキレンカーボネート／化合物（８'））は、通常は４〜２０、好ましくは４〜１０であり、化合物（８'）と化合物（９）とのモル比（化合物（９）／化合物（８'））は、通常は４〜２０、好ましくは４〜１０である。
ここで、アルキレンカーボネートとしては、例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートおよびブチレンカーボネートなどを挙げることができる。
【００６４】
塩基触媒としては、例えば、炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどの炭酸塩、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミドおよびテトラメチルアンモニウムクロリド等の四級アンモニウム塩などを挙げることができる。
化合物（８'）と、塩基触媒との重量比（塩基触媒／化合物（８'））は、好ましくは０．０１〜１、さらに好ましくは０．０５〜０．５である。
【００６５】
工程（ｉｖ）では、さらに、必要に応じて溶媒を用いてもよく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリルおよび／またはジメチルスルホキシド等の極性非プロトン性溶媒などを適宣単独であるいは混合して使用することができる。
化合物（８'）と溶媒との重量比（溶媒／化合物（８'））は、好ましくは０．０１〜１０、さらに好ましくは０．１〜２である。
【００６６】
また、この工程（ｉｖ）の条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は０℃〜２００℃、好ましくは３０〜１６０℃であり；反応時間は、通常は１〜１０時間、好ましくは、１〜５時間である。
【００６７】
〈化合物（３）においてＹがＲ6ＳＯ3−で表される基である化合物の合成方法〉
なお、化合物（３）において、ＹがＲ6ＳＯ3−で表される基（ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）である化合物は、化合物（３）においてＹがヒドロキシル基である化合物と、下記式（４）で表される化合物（以下、化合物（４）ともいう。）とを反応させることで得ることができる（以下、反応Ｃともいう。）。
【００６８】
【化１５】
（式（４）において、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基であり、Ｘは、ハロゲン原子である。）
【００６９】
上記反応Ｃにおいて、化合物（３）と化合物（４）とのモル比（化合物（４）／化合物（３））は、通常は１〜２０、好ましくは２〜５である。
反応Ｃは、塩基触媒の存在下で行うことができる。塩基触媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ピリジンおよび炭酸ナトリウムなどが挙げられる。化合物（４）と塩基触媒とのモル比（塩基触媒／化合物（４））は、通常は０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５である。
【００７０】
また、反応Ｃにおいて、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素および／または１，２−ジクロロエタンなどの有機溶媒や水などを溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、化合物（３）１ｇあたり、通常は０．１〜５０ｍｌであり、１〜２０ｍｌが好ましく、２〜１０ｍｌが特に好ましい。
【００７１】
上記反応Ｃの条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は−３０〜１２０℃、好ましくは−２０〜９０℃、特に好ましくは−１０〜８０℃であり；反応時間は、通常は０．１〜４８時間、好ましくは０．５〜２４時間、特に好ましくは１〜１０時間である。
【００７２】
［酸化防止剤］
本発明に係る酸化防止剤は、上記化合物（１）を含有すればよく、上記化合物（１）のみからなることが好ましい。
【００７３】
上記化合物（１）は、耐熱性および樹脂との相溶性などに優れるため、特に、加工や成形の際などにおいて、高温に曝されることのある樹脂および樹脂成型体の酸化防止剤として好適に使用することができる。
【００７４】
［樹脂組成物］
本発明に係る樹脂組成物は、樹脂と上記化合物（１）とを含有する。
該樹脂としては、環状オレフィン系重合体、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリアリレート樹脂（ＰＡＲ）、ポリサルホン樹脂（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン樹脂（ＰＥＳ）、ポリパラフェニレン樹脂（ＰＰＰ）、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂（ＰＥＰＯ）、ポリイミド樹脂（ＰＰＩ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ）およびポリアミドイミド樹脂（ＰＡＩ）などを挙げることができる。これらの樹脂の中でも、上記化合物（１）との相溶性などの観点から環状オレフィン系重合体が好適に用いられる。
【００７５】
なお、樹脂組成物において、化合物（１）配合量は、樹脂１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部であることが好ましく、０．１〜１０質量部であることがより好ましい。
【００７６】
［樹脂成型体］
本発明に係る樹脂成型体は、上記化合物（１）を含有することを特徴とする。本発明の樹脂成型体は、上記樹脂組成物を成形したものが好ましい。
【００７７】
このような樹脂成型体としては、特に制限されないが、具体的には、包装用資材、建材、自動車用部品、日常雑貨品、農業用資材、医療用器具、デジタルカメラ用レンズ、携帯電話用レンズ、ＣＤ、ブルーレイ用ピックアップレンズ、マイクロレンズに代表される光学レンズ、ディスク等の基板、導光板およびプリズムシート等の幅広い用途に用いられている樹脂成型体を挙げることができる。
【００７８】
上記化合物（１）は、特に耐熱性、樹脂との相溶性に優れるため、該化合物（１）を含有する樹脂組成物および樹脂成型体は、保存安定性に優れ、特に、高温に曝されても、着色などの劣化現象が起こりにくい。
【実施例】
【００７９】
実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により制限されない。
【００８０】
（合成例１）
滴下ロートと温度計を装着した１Ｌ三口フラスコに、下記式（３−Ａ）で表わされる３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）−プロピルアルコール１０５．８ｇ（０．４ｍｏｌ）を量り取り、窒素雰囲気下、塩化メチレン５００ｍｌを加え溶解し、該フラスコを氷浴で冷却した。この溶液に、トリエチルアミン１２１ｇ（１．２ｍｏｌ）を加え、次いで溶液温度を５℃以下に保持し、メタンスルホニルクロリド１０５．４ｇ（０．９２ｍｏｌ）を９０分間かけて滴下ロートを通じて滴下した。次いで、氷浴をはずし、２０℃まで昇温し、２０℃で１時間攪拌後、反応液に氷水を加え、塩化メチレン層を分液作業で分取した。この塩化メチレン層を更に蒸留水２００ｍｌで分液洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、溶媒を留去し、粗生成物（メタンスルホネート）を１３７ｇ得た。
【００８１】
【化１６】
滴下ロートと温度計を装着した１Ｌ三口フラスコに、水素化ナトリウムミネラルオイル懸濁液より精製した水素化ナトリウム３．８４ｇ（１６０ｍｍｏｌ）を量り取った。ここに窒素雰囲気下でＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌを加え、懸濁液を作成し、次いで氷浴で冷却した。ついで、下記式（２−Ａ）で表わされる４，４’，４’’，４’’’−［（１−メチルエチリデン）ジ−４−シクロヘキサニル−１−イリデン］テトラキスフェノール１８．５ｇ（３２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解し、懸濁液中に、３０分間かけて滴下した。この溶液を氷冷下３０分間攪拌し、ついで、この溶液中に、上記で合成したメタンスルホネート５４．８ｇ（１６０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２００ｍｌに溶解した溶液を、３０分間かけて滴下した。３０分後、この溶液を室温まで昇温し、さらに３０分後、７０℃まで加温した。５時間後、反応液を室温まで冷却し、塩化アンモニウムを反応液に注ぎ、反応を終了した。反応後の溶液を酢酸エチル３００ｍｌで３回抽出後、この有機層を集めて、蒸留水で洗浄し、これを減圧留去し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、酢酸エチル−ヘキサン留分より白色固体３５．１ｇを得た。更に、この白色固体３５．１ｇをジエチルエーテル−ヘキサンの混合溶媒で再結晶化することにより、下記式（１−Ａ）で表わされる目的物を３０．３ｇ（収率６１％）得た。
【００８２】
【化１７】
【００８３】
【化１８】
【００８４】
この化合物の1Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー株式会社製 ＡＶＡＮＣＥ５００型）、ＭＳ分析（日本ウォーターズ株式会社製 ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ＆ｒｅｇ；システム並びにＳＹＮＡＰＴ ＨＤＭＳ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ)システム）およびＴＧ−ＤＴＡによる分析（理学電気株式会社製ＴＧ８１２０）を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。
【００８５】
1Ｈ-ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3） 化学シフトσ：７．２３ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０３ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．９９ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．９６ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．８３ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．７２ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、５．０１ｐｐｍ（フェノール性水酸基、４Ｈ）、３．９５ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、３．８９ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、２．７３ｐｐｍ〜２．６５ｐｐｍ（１２Ｈ）、２．０３ｐｐｍ（芳香環−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、８Ｈ）、１．８４ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．５８ｐｐｍ〜１．２１ｐｐｍ（１４Ｈ）、１．４１ｐｐｍ（ｔｅｒｔ−ブチル基、７２Ｈ）、０．５２ｐｐｍ（メチル基、６Ｈ）。
【００８６】
ＬＣ−ＭＳ：［Ｍ+＋Ｎａ］＝１５８５．１１５０ （ｃａｌｃ．１１８５．１１０６）、［Ｍ+＋Ｋ］＝１６０１．１０７３ （ｃａｌｃ． １６０１．０８４６）
ＴＧ−ＤＴＡ：融点＝１７０℃
【００８７】
（合成例２）
上記式（２−Ａ）で表わされる４，４’，４’’，４’’’−［（１−メチルエチリデン）ジ−４−シクロヘキサニル−１−イリデン］テトラキスフェノール２５．９ｇ（４５ｍｍｏｌ）、および、下記式（３−Ｂ）で表わされる３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオン酸５６．２ｇ（２０２．５ｍｍｏｌ）を、２Ｌ三口フラスコに量り取り、塩化メチレン８００ｍｌを加え溶解し、氷浴で冷却した。冷却後、この溶液に、窒素雰囲気下でジシクロヘキシルカルボジイミド４４．５ｇ（２１６ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン２．７ｇ（２５ｍｍｏｌ）を加え攪拌した。３０分後、室温まで反応液を昇温させ、室温２５℃で４時間攪拌した。４時間後、反応液中で析出した溶媒不溶分を、吸引ろ過により除去し、溶媒可溶分を集めて減圧留去した。残渣溶液が総量５００ｍｌ程度になった所で、該残渣溶液を分液ロートに移し、１０％希塩酸１００ｍｌで洗浄し、次いで、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌで洗浄し、蒸留水１００ｍｌで２回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥後の溶液を、ろ過、減圧留去し、目的物の粗生成物として白色固体を得た。この白色固体をn−ヘキサンで再結晶化することにより、下記式（１−Ｂ）で表わされる目的物５２．６ｇ（収率７２%）を得た。
【００８８】
【化１９】
【００８９】
【化２０】
【００９０】
この化合物の1Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー株式会社製 ＡＶＡＮＣＥ５００型 ）、ＭＳ分析（日本ウォーターズ株式会社製 ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ＆ｒｅｇ；システム並びにＳＹＮＡＰＴ ＨＤＭＳ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ)システム）、ＴＧ−ＤＴＡによる分析（理学電気株式会社製ＴＧ８１２０）を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。
【００９１】
1Ｈ-ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3） 化学シフトσ：７．３２ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．１２ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０４ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０２ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．９９ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．８５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、５．０８ｐｐｍ（フェノール性水酸基、４Ｈ）、２．９７ｐｐｍ（芳香環−ＯＣＯ−ＣＨ2−、4Ｈ）、２．８２ｐｐｍ（芳香環−ＯＣＯ−ＣＨ2−、4Ｈ）、２．６６ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、２Ｈ）、１．９０ｐｐｍ〜１．２１ｐｐｍ（１６Ｈ）、１．４３ｐｐｍ（ｔｅｒｔ−ブチル基、７２Ｈ）、０．５１ｐｐｍ（メチル基、６Ｈ）。
【００９２】
ＬＣ−ＭＳ：［Ｍ+＋Ｎａ］＝１６４１．０１７２ （ｃａｌｃ． １６４１．０２７７）、［Ｍ+＋Ｋ］＝１６５７．０２４０ （ｃａｌｃ． １６５７．００１６）
ＴＧ−ＤＴＡ ：融点＝１８１℃
【００９３】
（合成例３）
上記式（２−Ａ）で表わされる４，４’，４’’，４’’’−［（１−メチルエチリデン）ジ−４−シクロヘキサニル−１−イリデン］テトラキスフェノール１００ｇ（１７３ｍｍｏｌ）、エチレンカーボネート １２２ｇ（１３８４ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド １１．１ｇ（３５ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌを、ジムロート冷却管並びに温度計を装着した５００ｍｌ三口フラスコに加え、１５０℃で４時間加熱攪拌を行なった。反応液を冷却し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを減圧留去した後にクロロホルム５００ｍｌを加え分液ロートに移した。ここに５％水酸化カリウム水溶液１００ｍｌを加え、有機層を分取した。この有機層にさらに５％水酸化カリウム水溶液１００ｍｌを加え、有機層を分取した。その後、この溶液を蒸留水１００ｍｌで２度洗浄した。ここで得たクロロホルム溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、粗結晶を得た。この粗結晶を酢酸エチルで再結晶することで、下記式（２−Ｂ）で表わされる化合物を１１１ｇ（収率８５％）得た。
【００９４】
【化２１】
【００９５】
この化合物の1Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー株式会社製 ＡＶＡＮＣＥ５００型）により、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。
【００９６】
1Ｈ-ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3） 化学シフトσ：７．２５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．８６ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．７５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、４．０７ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、４．０１ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、３．９５ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨ、4Ｈ）、３．９０ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨ、4Ｈ）、２．６３ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．９９ｐｐｍ（水酸基水素、２Ｈ）、１．９４ｐｐｍ（水酸基水素、２Ｈ）、１．８４ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．６０ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．３８ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、２Ｈ）、１．２０ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、０．５２ｐｐｍ（メチル基、６Ｈ）。
【００９７】
上記工程で合成した上記式（２−Ｂ）で表わされる化合物 ３．０７ｇ（４．０９ｍｍｏｌ）および下記式（３−Ｂ）で表わされる３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオン酸５．０ｇ（１８．０ｍｍｏｌ）を１００ｍＬ三口フラスコに量り取り、塩化メチレン４０ｍｌを加え溶解した。この溶液に、窒素雰囲気下でジシクロヘキシルカルボジイミド４．０５ｇ（１９．６ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２５ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え攪拌した。４時間攪拌後、反応液中で、析出した溶媒不溶分を吸引ろ過により除去し、溶媒可溶分を集めて減圧留去した。該残渣溶液をクロロホルム１００ｍｌに溶解し、分液ロートに移し、１０％希塩酸２０ｍｌで洗浄し、次いで、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、さらに蒸留水２０ｍｌで２回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥後の溶液を、ろ過、減圧留去し、目的物の粗生成物として白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、酢酸エチル：n−ヘキサン留分より、下記式（１−Ｃ）で表わされる目的物４．２３ｇ（収率５８%）を得た。
【００９８】
【化２２】
【００９９】
この化合物の1Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー株式会社製 ＡＶＡＮＣＥ５００型 ）、ＴＧ−ＤＴＡによる分析（理学電気株式会社製 ＴＧ８１２０）を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。
【０１００】
1Ｈ-ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3） 化学シフトσ：７．２５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．９８ｐｐｍ（芳香環水素、８Ｈ）、６．８４ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．７３ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、５．０５ｐｐｍ（フェノール性水酸基、4Ｈ）、４．４３ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＣ＝Ｏ、4Ｈ）、４．３８ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＣ＝Ｏ）、４．１４ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、４．０８ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、２．８７ｐｐｍ（芳香環−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｃ＝Ｏ、４Ｈ）、２．６３ｐｐｍ（芳香環−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｃ＝Ｏ、シクロヘキサン環状水素、１２Ｈ）、１．８４ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．６０ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．３８〜１．２０ｐｐｍ（t-ブチル基、シクロヘキサン環状水素、７８Ｈ）、０．５２ｐｐｍ（メチル基、６Ｈ）。
【０１０１】
（評価例１） 酸化防止効果
ＡＲＴＯＮ樹脂（ＡＲＴＯＮ Ｒ５３００、ＪＳＲ株式会社製）の１０％（ｗｔ／ｗｔ）トルエン溶液１ｋｇを調製し、そこに、上記合成例１、２で合成した化合物または市販の代表的なフェノール系酸化防止剤であるＩｒｇａｎｏｘ１０１０（日本チバガイギー株式会社製）をそれぞれ０．３ｇ（ＡＲＴＯＮ樹脂に対して０．３％）添加、溶解した。次いで、ＰＴＦＥフィルターでろ過後、トルエン溶液を減圧留去し、濃縮固化した。この固形物をアルゴン雰囲気下、３３０℃で３時間加熱した後、トルエンに再溶解し、１０％（ｗ／ｗ）トルエン溶液に調整した後、黄色度をそれぞれ測定した。結果を表１に示す。
【０１０２】
【表１】
（評価例１） 熱分析（ＴＧ−ＤＴＡ）
上記合成例１〜３で合成した化合物、およびＩｒｇａｎｏｘ１０１０（日本チバガイギー株式会社製）について、３００℃で１時間保持した場合の重量減少率を、ＴＧ−ＤＴＡ（理学電気株式会社製 ＴＧ８１２０）により測定した。
測定条件：窒素雰囲気で、４０℃／ｍｉｎで３００℃まで昇温、次いで、３００℃で１時間保持し、その重量減少率を算出した。結果を表２に示す。
【０１０３】
【表２】
上記合成例１〜３で合成した化合物については、いずれもＩｒｇａｎｏｘ１０１０と比較して重量減少率は小さく、合成例１で合成した化合物は、特に重量減少率が小さいことが分かった。
【０１０４】
（評価例３） 保存安定性
ＡＲＴＯＮ樹脂（ＡＲＴＯＮ Ｒ５３００、ＪＳＲ株式会社製）０．９ｇと、上記合成例１で合成した化合物０．１ｇとを混合し、該混合物を塩化メチレン９ｇに溶解して固形分濃度１０ｗｔ％の溶液を調製した。シャーレに該溶液を塗布し、乾燥した後、一晩静置してフィルムを形成した。その後、得られたフィルムをシャーレから剥離してから、減圧乾燥機にて１００℃で２４時間乾燥した。得られたフィルムを切り刻んで試験管に入れ、窒素ガスフローしながら、はんだ槽を用いて３００℃で１８時間加熱した。加熱前後のフィルム３０ｍｇを、それぞれ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５ｍＬに溶解させ、これらの溶液を用い、ＧＰＣ測定を行なった。ＲＩ検出領域のピーク面積(ポリマー部)を求め、加熱前後の面積からゲル分率を以下式に従って算出した。
【０１０５】
また、合成例１で合成した化合物に代えてＩｒｇａｎｏｘ１０１０（日本チバガイギー株式会社製）を用いて同様にゲル分率を測定した。それぞれ、結果を表３に示す。
ゲル分率（％）＝（１−加熱後の樹脂のＲＩ検出領域のピーク面積／加熱前後の樹脂のＲＩ検出領域のピーク面積）×１００
【０１０６】
【表３】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合成樹脂などの高分子材料の酸化防止剤に有用な新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含んでなる酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体に関する。
【背景技術】
【０００２】
合成樹脂などの高分子材料はその優れた機械的、化学的特性から包装用資材、建材、自動車用部品、日常雑貨品、農業用資材、医療用器具、デジタルカメラ用レンズ、携帯電話用レンズ、ＣＤ、ブルーレイ用ピックアップレンズ、マイクロレンズに代表される光学レンズ、ディスク等の基板、導光板、プリズムシート等の幅広い用途に利用されている。しかし、高分子材料は通常、加熱加工時に高温に曝されることによって着色などの劣化現象が見られ、本来の機能を失い易く、実用に適さなくなる場合がある。また、高分子材料は各種用途に使用される場合も、経時的に着色などの劣化現象が見られる場合がある。
【０００３】
この着色などの劣化現象を抑制する方法として、種々の酸化防止剤を合成樹脂に添加する方法が知られている。ここに使用される酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等の一次酸化防止剤やリン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等の二次酸化防止剤がある。
【０００４】
これらの化合物の中で、フェノール系酸化防止剤としては、例えば、特許文献１に示すような化合物が知られている。しかしながら、該化合物は、耐熱性が不十分であり、加熱加工時に高温に曝されることによって分解してしまうなどの問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０８−０４０９８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものである。すなわち本発明は、高い耐熱性を有する新規化合物および該化合物の合成方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、下記構造を有する化合物を用いることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、以下の［１］〜［６］を提供するものである。
【０００８】
［１］ 下記式（１）で示される化合物。
【０００９】
【化１】
（式（１）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。）
【００１０】
［２］ 上記式（１）において、Ｒ2が単結合である、［１］に記載の化合物。
［３］ ［１］または［２］に記載の化合物を含有する酸化防止剤。
［４］ ［１］または［２］に記載の化合物を含有する樹脂組成物。
［５］ ［１］または［２］に記載の化合物を含有する樹脂成型体。
［６］ 下記式（２）で表わされる化合物と下記式（３）で表わされる化合物とを反応させる工程を含むことを特徴とする、下記式（１）で表わされる化合物の合成方法。
【００１１】
【化２】
（式（２）において、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。）
【００１２】
【化３】
（式（３）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｙは、Ｒ6ＳＯ3−で表される基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基である。ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）
【００１３】
【化４】
（式（１）において、Ｒ1およびＲ3は、式（３）中のＲ1およびＲ3と同義であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎは式（２）中のＲ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎと同義である。）
【発明の効果】
【００１４】
本発明の新規化合物は、高い耐熱性を有し、酸化防止作用を有する。このため、該化合物は、合成樹脂などの高分子材料の酸化防止剤として好適に用いることができる。
また、着色などの劣化現象化起こりにくい樹脂組成物および樹脂成型体を提供することができる。
【００１５】
さらに、本発明に係る合成方法は、高純度の新規化合物を収率良く、容易に合成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の新規化合物および該化合物の製造方法、ならびに該化合物を含有する酸化防止剤、樹脂組成物および樹脂成型体について詳細に説明する。
【００１７】
［化合物］
本発明の新規な化合物は、下記式（１）で表わされる化合物である。なお、以下において、下記式（１）で表される化合物を「化合物（１）」ともいう。
【００１８】
【化５】
式（１）中、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。
【００１９】
上記Ｒ1における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基などの炭素数１〜２０のアルキル基；シクロペンチル基およびシクロヘキシル基などの炭素数３〜２０のシクロアルキル基；フェニル基、ナフチル基およびビフェニル基などの炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基；ビニル基およびアリル基などの炭素数２〜２０のアルケニル基などが挙げられる。
【００２０】
上記Ｒ1における炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素数３〜２０のハロゲン化シクロアルキル基および炭素数６〜２０のハロゲン化芳香族炭化水素基などが挙げられる。前記ハロゲン化アルキル基としては、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリブロモメチル基、ペンタクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基およびペンタブロモエチル基などが挙げられ；前記ハロゲン化芳香族炭化水素基としては、クロロフェニル基およびクロロナフチル基などが挙げられる。
【００２１】
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数１〜２０の２価の炭化水素基としては、炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数３〜２０の２価の脂環式炭化水素基および炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基などが挙げられる。
【００２２】
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基などのアルキレン基；プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基およびヘキシリデン基等の分岐鎖のアルキリデン基；アルケニレン基；アルキニレン基などが挙げられる。これらの中では、メチレン基および／またはアルキレン基が好ましい。
【００２３】
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数３〜２０の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などのシクロアルキレン基；シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基などのシクロアルケニレン基などが挙げられる。上記脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上の何れの炭素上でもよい。
【００２４】
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ビフェニレン基およびナフチレン基などのアリーレン基などが挙げられる。
上記Ｒ3およびＲ5における炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基としては、上記例示の炭素数１〜２０の２価の炭化水素基が有する水素原子の少なくとも１つを、ハロゲン原子（例：フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）で置換した基が挙げられる。
【００２５】
上記Ｒ4における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、上記Ｒ1と同様の官能基を挙げることができる。
上記Ｒ4における炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基としては、上記Ｒ1と同様の官能基を挙げることができる。
【００２６】
上記Ａにおける炭素数１〜２０の２価の炭化水素基としては、炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数３〜２０の２価の脂環式炭化水素基あるいは炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基などを挙げることができ、具体的には、上記Ｒ3と同様の官能基を挙げることができる。
上記Ａにおける炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基も上記Ｒ3と同様の官能基を挙げることができる。
【００２７】
上記式（１）において、
Ｒ1としては、それぞれ独立に、水素原子または炭素数３〜２０の１価の炭化水素基であることが好ましい。また、任意の一つの芳香環に結合する少なくとも一つのＲ1が炭素数３〜２０の１価の炭化水素基であることが好ましく、芳香環に結合する−ＯＨ基に隣接する１つまたは２つのＲ1が炭素数３〜２０の１価の炭化水素基であることがより好ましい。また、炭素数３〜２０の１価の炭化水素基としては、ｔ−ブチル基であることが特に好ましい。
【００２８】
Ｒ2としては、それぞれ独立に、単結合であることがより好ましい。
Ｒ3としては、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基であることが好ましく、メチレン基；エチレン基またはトリメチレン基であることがより好ましい。
【００２９】
Ａとしては、それぞれ独立に、イソプロピリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であることが好ましい。
ｎとしては、０であることが好ましい。
【００３０】
ｍとしては、０または１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
上記式（１）において、Ｒ2が単結合であると、酸化防止効果を有し、耐熱性がより高く、また樹脂との相溶性に優れた化合物を得ることができる。
【００３１】
また、上記式（１）で表される化合物が、下記式（１’）で表される化合物（以下、化合物（１'）ともいう。）であると、酸化防止剤として好適に用いることができる。
【００３２】
【化６】
（式（１’）中、Ｒ1〜Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎは式（１）中のＲ1〜Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎと同義である。）
【００３３】
［化合物（１）の合成方法］
続いて本発明の化合物（１）の合成方法について詳細に説明する。本発明の化合物（１）は、以下の式（２）で表される化合物（以下、化合物（２）ともいう。）と、以下の式（３）で表される化合物（以下、化合物（３）ともいう。）とを反応させる工程を含む方法で合成することができる。化合物（２）と化合物（３）とを反応させることで、高純度の新規化合物（１）を収率良く、容易に合成することができる。
【００３４】
【化７】
（式（２）において、Ｒ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎは式（１）中のＲ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎと同義である。）
【００３５】
【化８】
（式（３）において、Ｒ1およびＲ3は、式（１）中のＲ1およびＲ3と同義であり、Ｙは、Ｒ6ＳＯ3−で表される基、またはカルボキシル基である。ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）
【００３６】
上記Ｒ6における炭素数１〜２０の炭化水素基としては、上記Ｒ1における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基と同様の官能基を挙げることができる。
【００３７】
化合物（２）と化合物（３）との反応において、化合物（２）と化合物（３）とのモル比（化合物（３）／化合物（２））は、通常は４〜２０、好ましくは４．０５〜５である。
このような量で化合物（２）と化合物（３）とを反応させると、高純度の新規化合物（１）をより収率良く、容易に合成することができる。
【００３８】
上記反応の条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は−３０〜１２０℃、好ましくは−２０〜９０℃、特に好ましくは−１０〜８０℃であり；反応時間は、通常は０．１〜４８時間、好ましくは０．５〜２４時間、特に好ましくは１〜１０時間である。
【００３９】
＜化合物（１）においてＲ2が−ＣＯ−である化合物の合成方法＞
化合物（１）において、Ｒ2が−ＣＯ−である化合物は、化合物（２）と、化合物（３）においてＹがカルボキシル基である化合物とを反応させることで得ることができる（以下、反応Ａともいう。）。
【００４０】
該反応Ａは、カルボジイミドおよび／または塩基触媒などの存在下で行うことができる。カルボジイミドとしては、ジシクロヘキシルカルボジイミドおよびジイソプロピルカルボジイミドなどを挙げることができる。
化合物（３）とカルボジイミドとのモル比（カルボジイミド／化合物（３））は、通常は１〜２０、好ましくは１．０５〜５である。
【００４１】
また、塩基触媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ピリジンおよび炭酸ナトリウムなどが挙げられる。
化合物（３）と塩基触媒とのモル比（塩基触媒／化合物（３））は、通常は０．０１〜１、好ましくは０．０５〜０．５である。
【００４２】
また、上記反応Ａでは、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素および／または１，２−ジクロロエタンなどの有機溶媒や水などを溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、化合物（３）１ｇあたり、通常は０．１〜５０ｍｌ、好ましくは１〜２０ｍｌ、特に好ましくは２〜１０ｍｌである。
反応Ａにおいて、化合物（２）と化合物（３）とのモル比、および、反応の条件は上記と同様である。
【００４３】
＜化合物（１）においてＲ2が単結合である化合物の合成方法＞
また、化合物（１）において、Ｒ2が単結合である化合物は、化合物（２）と、化合物（３）においてＹがヒドロキシル基またはＲ6ＳＯ3−で表される基（ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）である化合物とを反応させることで得ることができる（以下、反応Ｂともいう。）。
【００４４】
該反応Ｂは、触媒などの存在下で行うことができる。該触媒としては、水素化ナトリウムなどが挙げられる。化合物（２）と触媒とのモル比（触媒／化合物（２））は、通常は０．０１〜２０、好ましくは０．１〜１０である。
【００４５】
また、反応Ｂでは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素および／または１，２−ジクロロエタンなどの有機溶媒や水などを溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、化合物（３）１ｇあたり、通常は０．１〜５０ｍｌ、好ましくは１〜２０ｍｌ、特に好ましくは２〜１０ｍｌ以下である。
反応Ｂにおいて、化合物（２）と化合物（３）とのモル比、および、反応の条件は上記と同様である。
【００４６】
＜化合物（１’）の合成方法＞
なお、化合物（１’）を合成する場合には、上記合成方法において、化合物（３）の代わりに下記式（３’）で表わされる化合物を用いればよい。
【００４７】
【化９】
（式（３'）において、Ｒ1、Ｒ3およびＹは、式（３）中のＲ1、Ｒ3およびＹと同義である。）
【００４８】
〈化合物（２）の合成方法〉
上記化合物（２）は、公知の方法で得ることができ、例えば、下記式（５）で表わされる化合物を水素化して下記式（６）で表わされる化合物（以下、化合物（６）ともいう。）を得る工程（ｉ）、化合物（６）を酸化して下記式（７）で表わされる化合物（以下、化合物（７）ともいう。）を得る工程（ｉｉ）、化合物（７）と下記式（８）で表わされる化合物（以下、化合物（８）ともいう。）とを反応させる工程（ｉｉｉ）、および、工程（ｉｉｉ）で得られた化合物（以下、化合物（８'）ともいう。）と、アルキレンカーボネートまたは下記式（９）で表わされる化合物（以下、化合物（９）ともいう。）とを反応させる工程（ｉｖ）をこの順序で含んでなる製造方法を挙げることができる。なお、化合物（２）において、ｍが０である化合物を合成する場合には、上記工程（ｉｖ）は不要である。
【００４９】
【化１０】
（式（５）において、Ａは、式（１）中のＡと同義である。）
【００５０】
【化１１】
（式（６）において、Ａは、式（１）中のＡと同義である。）
【００５１】
【化１２】
（式（７）において、Ａは、式（１）中のＡと同義である。）
【００５２】
【化１３】
（式（８）において、Ｒ4およびｎは、式（１）中のＲ4およびｎと同義である。）
【００５３】
【化１４】
（式（９）において、Ｒ5およびｍは、式（１）中のＲ5およびｍと同義であり、Ｚは、ハロゲン原子である。）
【００５４】
上記工程（ｉ）は、従来公知の方法を適用できる。
上記工程（ｉｉ）は、従来公知の方法を適用することができるが、例えば、上記化合物（６）を、酸化剤および溶媒の存在下で反応させればよい。
【００５５】
酸化剤としては、次亜塩素酸および次亜臭素酸などの次亜ハロゲン酸、これらの塩、ならびに塩素などのハロゲンを挙げることができる。
化合物（６）と酸化剤とのモル比（酸化剤／化合物（６））は、好ましくは２〜３、さらに好ましくは２．１〜２．３である。
【００５６】
また、溶媒としては、特に制限されないが、上記酸化剤と反応し難いものであって、化合物（６）の溶解性が高いものが望ましく、例えば、メタノール、酢酸、トルエン、クロロベンゼン、ジオキサンおよびこれらを含む混合溶媒を挙げることができる。
溶媒の使用量は、化合物（６）１ｇあたり、通常は０．１〜５０ｍｌである。
また、この工程（ｉｉ）の条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は０℃〜溶媒の沸点以下の温度、好ましくは１０〜４０℃であり；反応時間は、通常は０．１〜１０時間である。
【００５７】
上記工程（ｉｉｉ）は、従来公知の方法で製造することができるが、例えば、上記化合物（７）と上記化合物（８）とを、酸触媒の存在下で反応させればよい。
化合物（７）と化合物（８）とのモル比（化合物（８）／化合物（７））は、通常は４〜５０、好ましくは４〜１０である。
【００５８】
酸触媒としては、例えば、塩化水素ガス、塩酸、硫酸およびリン酸等の無機酸ならびにＰ−トルエンスルホン酸、シュウ酸およびメタンスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。
化合物（７）と酸触媒との重量比（酸触媒／化合物（７））は、好ましくは０．０５〜１、さらに好ましくは０．３〜０．７である。
【００５９】
また、工程（ｉｉｉ）では、上記酸触媒と共に適当な助触媒、例えばメチルメルカプタン、エチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンおよび／またはオクチルメルカプタン等のアルキルメルカプタン類などを添加して反応を促進させることができる。
化合物（７）と助触媒との重量比（助触媒／化合物（７））は、好ましくは０．０１〜０．１、さらに好ましくは０．０２〜０．０６である。
【００６０】
工程（ｉｉｉ）では、必要に応じて溶媒を用いてもよく、例えば、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族化合物、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサンおよびｎ−ペンタン等の飽和炭化水素、メタノールおよびｔ−ブタノール等のアルコール類などを適宣単独で、あるいは混合して使用することができる。
【００６１】
化合物（８）と溶媒との重量比（溶媒／化合物（８））は、好ましくは０．０１〜１０、さらに好ましくは０．１〜２である。
また、この工程（ｉｉｉ）の条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は０℃〜６０℃、好ましくは１０〜４０℃であり；反応時間は、通常は１〜１０時間、好ましくは、１〜５時間である。
【００６２】
上記工程（ｉｖ）は、従来公知の方法で製造することができるが、例えば、化合物（８'）（上記化合物（２）においてｍ＝０である化合物）と、アルキレンカーボネートまたは上記化合物（９）とを、塩基触媒の存在下で反応させればよい。
【００６３】
化合物（８'）とアルキレンカーボネートとのモル比（アルキレンカーボネート／化合物（８'））は、通常は４〜２０、好ましくは４〜１０であり、化合物（８'）と化合物（９）とのモル比（化合物（９）／化合物（８'））は、通常は４〜２０、好ましくは４〜１０である。
ここで、アルキレンカーボネートとしては、例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートおよびブチレンカーボネートなどを挙げることができる。
【００６４】
塩基触媒としては、例えば、炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどの炭酸塩、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミドおよびテトラメチルアンモニウムクロリド等の四級アンモニウム塩などを挙げることができる。
化合物（８'）と、塩基触媒との重量比（塩基触媒／化合物（８'））は、好ましくは０．０１〜１、さらに好ましくは０．０５〜０．５である。
【００６５】
工程（ｉｖ）では、さらに、必要に応じて溶媒を用いてもよく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリルおよび／またはジメチルスルホキシド等の極性非プロトン性溶媒などを適宣単独であるいは混合して使用することができる。
化合物（８'）と溶媒との重量比（溶媒／化合物（８'））は、好ましくは０．０１〜１０、さらに好ましくは０．１〜２である。
【００６６】
また、この工程（ｉｖ）の条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は０℃〜２００℃、好ましくは３０〜１６０℃であり；反応時間は、通常は１〜１０時間、好ましくは、１〜５時間である。
【００６７】
〈化合物（３）においてＹがＲ6ＳＯ3−で表される基である化合物の合成方法〉
なお、化合物（３）において、ＹがＲ6ＳＯ3−で表される基（ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）である化合物は、化合物（３）においてＹがヒドロキシル基である化合物と、下記式（４）で表される化合物（以下、化合物（４）ともいう。）とを反応させることで得ることができる（以下、反応Ｃともいう。）。
【００６８】
【化１５】
（式（４）において、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基であり、Ｘは、ハロゲン原子である。）
【００６９】
上記反応Ｃにおいて、化合物（３）と化合物（４）とのモル比（化合物（４）／化合物（３））は、通常は１〜２０、好ましくは２〜５である。
反応Ｃは、塩基触媒の存在下で行うことができる。塩基触媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ピリジンおよび炭酸ナトリウムなどが挙げられる。化合物（４）と塩基触媒とのモル比（塩基触媒／化合物（４））は、通常は０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５である。
【００７０】
また、反応Ｃにおいて、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素および／または１，２−ジクロロエタンなどの有機溶媒や水などを溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は、化合物（３）１ｇあたり、通常は０．１〜５０ｍｌであり、１〜２０ｍｌが好ましく、２〜１０ｍｌが特に好ましい。
【００７１】
上記反応Ｃの条件は特に限定されないが、反応温度は、通常は−３０〜１２０℃、好ましくは−２０〜９０℃、特に好ましくは−１０〜８０℃であり；反応時間は、通常は０．１〜４８時間、好ましくは０．５〜２４時間、特に好ましくは１〜１０時間である。
【００７２】
［酸化防止剤］
本発明に係る酸化防止剤は、上記化合物（１）を含有すればよく、上記化合物（１）のみからなることが好ましい。
【００７３】
上記化合物（１）は、耐熱性および樹脂との相溶性などに優れるため、特に、加工や成形の際などにおいて、高温に曝されることのある樹脂および樹脂成型体の酸化防止剤として好適に使用することができる。
【００７４】
［樹脂組成物］
本発明に係る樹脂組成物は、樹脂と上記化合物（１）とを含有する。
該樹脂としては、環状オレフィン系重合体、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリアリレート樹脂（ＰＡＲ）、ポリサルホン樹脂（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン樹脂（ＰＥＳ）、ポリパラフェニレン樹脂（ＰＰＰ）、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂（ＰＥＰＯ）、ポリイミド樹脂（ＰＰＩ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ）およびポリアミドイミド樹脂（ＰＡＩ）などを挙げることができる。これらの樹脂の中でも、上記化合物（１）との相溶性などの観点から環状オレフィン系重合体が好適に用いられる。
【００７５】
なお、樹脂組成物において、化合物（１）配合量は、樹脂１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部であることが好ましく、０．１〜１０質量部であることがより好ましい。
【００７６】
［樹脂成型体］
本発明に係る樹脂成型体は、上記化合物（１）を含有することを特徴とする。本発明の樹脂成型体は、上記樹脂組成物を成形したものが好ましい。
【００７７】
このような樹脂成型体としては、特に制限されないが、具体的には、包装用資材、建材、自動車用部品、日常雑貨品、農業用資材、医療用器具、デジタルカメラ用レンズ、携帯電話用レンズ、ＣＤ、ブルーレイ用ピックアップレンズ、マイクロレンズに代表される光学レンズ、ディスク等の基板、導光板およびプリズムシート等の幅広い用途に用いられている樹脂成型体を挙げることができる。
【００７８】
上記化合物（１）は、特に耐熱性、樹脂との相溶性に優れるため、該化合物（１）を含有する樹脂組成物および樹脂成型体は、保存安定性に優れ、特に、高温に曝されても、着色などの劣化現象が起こりにくい。
【実施例】
【００７９】
実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により制限されない。
【００８０】
（合成例１）
滴下ロートと温度計を装着した１Ｌ三口フラスコに、下記式（３−Ａ）で表わされる３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）−プロピルアルコール１０５．８ｇ（０．４ｍｏｌ）を量り取り、窒素雰囲気下、塩化メチレン５００ｍｌを加え溶解し、該フラスコを氷浴で冷却した。この溶液に、トリエチルアミン１２１ｇ（１．２ｍｏｌ）を加え、次いで溶液温度を５℃以下に保持し、メタンスルホニルクロリド１０５．４ｇ（０．９２ｍｏｌ）を９０分間かけて滴下ロートを通じて滴下した。次いで、氷浴をはずし、２０℃まで昇温し、２０℃で１時間攪拌後、反応液に氷水を加え、塩化メチレン層を分液作業で分取した。この塩化メチレン層を更に蒸留水２００ｍｌで分液洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後、溶媒を留去し、粗生成物（メタンスルホネート）を１３７ｇ得た。
【００８１】
【化１６】
滴下ロートと温度計を装着した１Ｌ三口フラスコに、水素化ナトリウムミネラルオイル懸濁液より精製した水素化ナトリウム３．８４ｇ（１６０ｍｍｏｌ）を量り取った。ここに窒素雰囲気下でＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌを加え、懸濁液を作成し、次いで氷浴で冷却した。ついで、下記式（２−Ａ）で表わされる４，４’，４’’，４’’’−［（１−メチルエチリデン）ジ−４−シクロヘキサニル−１−イリデン］テトラキスフェノール１８．５ｇ（３２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解し、懸濁液中に、３０分間かけて滴下した。この溶液を氷冷下３０分間攪拌し、ついで、この溶液中に、上記で合成したメタンスルホネート５４．８ｇ（１６０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２００ｍｌに溶解した溶液を、３０分間かけて滴下した。３０分後、この溶液を室温まで昇温し、さらに３０分後、７０℃まで加温した。５時間後、反応液を室温まで冷却し、塩化アンモニウムを反応液に注ぎ、反応を終了した。反応後の溶液を酢酸エチル３００ｍｌで３回抽出後、この有機層を集めて、蒸留水で洗浄し、これを減圧留去し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、酢酸エチル−ヘキサン留分より白色固体３５．１ｇを得た。更に、この白色固体３５．１ｇをジエチルエーテル−ヘキサンの混合溶媒で再結晶化することにより、下記式（１−Ａ）で表わされる目的物を３０．３ｇ（収率６１％）得た。
【００８２】
【化１７】
【００８３】
【化１８】
【００８４】
この化合物の1Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー株式会社製 ＡＶＡＮＣＥ５００型）、ＭＳ分析（日本ウォーターズ株式会社製 ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ＆ｒｅｇ；システム並びにＳＹＮＡＰＴ ＨＤＭＳ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ)システム）およびＴＧ−ＤＴＡによる分析（理学電気株式会社製ＴＧ８１２０）を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。
【００８５】
1Ｈ-ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3） 化学シフトσ：７．２３ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０３ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．９９ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．９６ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．８３ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．７２ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、５．０１ｐｐｍ（フェノール性水酸基、４Ｈ）、３．９５ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、３．８９ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、２．７３ｐｐｍ〜２．６５ｐｐｍ（１２Ｈ）、２．０３ｐｐｍ（芳香環−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−、８Ｈ）、１．８４ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．５８ｐｐｍ〜１．２１ｐｐｍ（１４Ｈ）、１．４１ｐｐｍ（ｔｅｒｔ−ブチル基、７２Ｈ）、０．５２ｐｐｍ（メチル基、６Ｈ）。
【００８６】
ＬＣ−ＭＳ：［Ｍ+＋Ｎａ］＝１５８５．１１５０ （ｃａｌｃ．１１８５．１１０６）、［Ｍ+＋Ｋ］＝１６０１．１０７３ （ｃａｌｃ． １６０１．０８４６）
ＴＧ−ＤＴＡ：融点＝１７０℃
【００８７】
（合成例２）
上記式（２−Ａ）で表わされる４，４’，４’’，４’’’−［（１−メチルエチリデン）ジ−４−シクロヘキサニル−１−イリデン］テトラキスフェノール２５．９ｇ（４５ｍｍｏｌ）、および、下記式（３−Ｂ）で表わされる３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオン酸５６．２ｇ（２０２．５ｍｍｏｌ）を、２Ｌ三口フラスコに量り取り、塩化メチレン８００ｍｌを加え溶解し、氷浴で冷却した。冷却後、この溶液に、窒素雰囲気下でジシクロヘキシルカルボジイミド４４．５ｇ（２１６ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン２．７ｇ（２５ｍｍｏｌ）を加え攪拌した。３０分後、室温まで反応液を昇温させ、室温２５℃で４時間攪拌した。４時間後、反応液中で析出した溶媒不溶分を、吸引ろ過により除去し、溶媒可溶分を集めて減圧留去した。残渣溶液が総量５００ｍｌ程度になった所で、該残渣溶液を分液ロートに移し、１０％希塩酸１００ｍｌで洗浄し、次いで、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌで洗浄し、蒸留水１００ｍｌで２回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥後の溶液を、ろ過、減圧留去し、目的物の粗生成物として白色固体を得た。この白色固体をn−ヘキサンで再結晶化することにより、下記式（１−Ｂ）で表わされる目的物５２．６ｇ（収率７２%）を得た。
【００８８】
【化１９】
【００８９】
【化２０】
【００９０】
この化合物の1Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー株式会社製 ＡＶＡＮＣＥ５００型 ）、ＭＳ分析（日本ウォーターズ株式会社製 ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ＆ｒｅｇ；システム並びにＳＹＮＡＰＴ ＨＤＭＳ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ)システム）、ＴＧ−ＤＴＡによる分析（理学電気株式会社製ＴＧ８１２０）を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。
【００９１】
1Ｈ-ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3） 化学シフトσ：７．３２ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．１２ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０４ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０２ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．９９ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．８５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、５．０８ｐｐｍ（フェノール性水酸基、４Ｈ）、２．９７ｐｐｍ（芳香環−ＯＣＯ−ＣＨ2−、4Ｈ）、２．８２ｐｐｍ（芳香環−ＯＣＯ−ＣＨ2−、4Ｈ）、２．６６ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、２Ｈ）、１．９０ｐｐｍ〜１．２１ｐｐｍ（１６Ｈ）、１．４３ｐｐｍ（ｔｅｒｔ−ブチル基、７２Ｈ）、０．５１ｐｐｍ（メチル基、６Ｈ）。
【００９２】
ＬＣ−ＭＳ：［Ｍ+＋Ｎａ］＝１６４１．０１７２ （ｃａｌｃ． １６４１．０２７７）、［Ｍ+＋Ｋ］＝１６５７．０２４０ （ｃａｌｃ． １６５７．００１６）
ＴＧ−ＤＴＡ ：融点＝１８１℃
【００９３】
（合成例３）
上記式（２−Ａ）で表わされる４，４’，４’’，４’’’−［（１−メチルエチリデン）ジ−４−シクロヘキサニル−１−イリデン］テトラキスフェノール１００ｇ（１７３ｍｍｏｌ）、エチレンカーボネート １２２ｇ（１３８４ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド １１．１ｇ（３５ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌを、ジムロート冷却管並びに温度計を装着した５００ｍｌ三口フラスコに加え、１５０℃で４時間加熱攪拌を行なった。反応液を冷却し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを減圧留去した後にクロロホルム５００ｍｌを加え分液ロートに移した。ここに５％水酸化カリウム水溶液１００ｍｌを加え、有機層を分取した。この有機層にさらに５％水酸化カリウム水溶液１００ｍｌを加え、有機層を分取した。その後、この溶液を蒸留水１００ｍｌで２度洗浄した。ここで得たクロロホルム溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、粗結晶を得た。この粗結晶を酢酸エチルで再結晶することで、下記式（２−Ｂ）で表わされる化合物を１１１ｇ（収率８５％）得た。
【００９４】
【化２１】
【００９５】
この化合物の1Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー株式会社製 ＡＶＡＮＣＥ５００型）により、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。
【００９６】
1Ｈ-ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3） 化学シフトσ：７．２５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．８６ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．７５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、４．０７ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、４．０１ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、３．９５ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨ、4Ｈ）、３．９０ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨ、4Ｈ）、２．６３ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．９９ｐｐｍ（水酸基水素、２Ｈ）、１．９４ｐｐｍ（水酸基水素、２Ｈ）、１．８４ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．６０ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．３８ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、２Ｈ）、１．２０ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、０．５２ｐｐｍ（メチル基、６Ｈ）。
【００９７】
上記工程で合成した上記式（２−Ｂ）で表わされる化合物 ３．０７ｇ（４．０９ｍｍｏｌ）および下記式（３−Ｂ）で表わされる３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）−プロピオン酸５．０ｇ（１８．０ｍｍｏｌ）を１００ｍＬ三口フラスコに量り取り、塩化メチレン４０ｍｌを加え溶解した。この溶液に、窒素雰囲気下でジシクロヘキシルカルボジイミド４．０５ｇ（１９．６ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２５ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え攪拌した。４時間攪拌後、反応液中で、析出した溶媒不溶分を吸引ろ過により除去し、溶媒可溶分を集めて減圧留去した。該残渣溶液をクロロホルム１００ｍｌに溶解し、分液ロートに移し、１０％希塩酸２０ｍｌで洗浄し、次いで、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍｌで洗浄し、さらに蒸留水２０ｍｌで２回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させた。乾燥後の溶液を、ろ過、減圧留去し、目的物の粗生成物として白色固体を得た。この白色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、酢酸エチル：n−ヘキサン留分より、下記式（１−Ｃ）で表わされる目的物４．２３ｇ（収率５８%）を得た。
【００９８】
【化２２】
【００９９】
この化合物の1Ｈ−ＮＭＲ測定（ブルカー株式会社製 ＡＶＡＮＣＥ５００型 ）、ＴＧ−ＤＴＡによる分析（理学電気株式会社製 ＴＧ８１２０）を行い、目的の化合物が得られていることを確認した。分析結果は以下の通りであった。
【０１００】
1Ｈ-ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3） 化学シフトσ：７．２５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、７．０５ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．９８ｐｐｍ（芳香環水素、８Ｈ）、６．８４ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、６．７３ｐｐｍ（芳香環水素、４Ｈ）、５．０５ｐｐｍ（フェノール性水酸基、4Ｈ）、４．４３ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＣ＝Ｏ、4Ｈ）、４．３８ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＣ＝Ｏ）、４．１４ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、４．０８ｐｐｍ（芳香環−Ｏ−ＣＨ2−、4Ｈ）、２．８７ｐｐｍ（芳香環−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｃ＝Ｏ、４Ｈ）、２．６３ｐｐｍ（芳香環−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｃ＝Ｏ、シクロヘキサン環状水素、１２Ｈ）、１．８４ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．６０ｐｐｍ（シクロヘキサン環状水素、４Ｈ）、１．３８〜１．２０ｐｐｍ（t-ブチル基、シクロヘキサン環状水素、７８Ｈ）、０．５２ｐｐｍ（メチル基、６Ｈ）。
【０１０１】
（評価例１） 酸化防止効果
ＡＲＴＯＮ樹脂（ＡＲＴＯＮ Ｒ５３００、ＪＳＲ株式会社製）の１０％（ｗｔ／ｗｔ）トルエン溶液１ｋｇを調製し、そこに、上記合成例１、２で合成した化合物または市販の代表的なフェノール系酸化防止剤であるＩｒｇａｎｏｘ１０１０（日本チバガイギー株式会社製）をそれぞれ０．３ｇ（ＡＲＴＯＮ樹脂に対して０．３％）添加、溶解した。次いで、ＰＴＦＥフィルターでろ過後、トルエン溶液を減圧留去し、濃縮固化した。この固形物をアルゴン雰囲気下、３３０℃で３時間加熱した後、トルエンに再溶解し、１０％（ｗ／ｗ）トルエン溶液に調整した後、黄色度をそれぞれ測定した。結果を表１に示す。
【０１０２】
【表１】
（評価例１） 熱分析（ＴＧ−ＤＴＡ）
上記合成例１〜３で合成した化合物、およびＩｒｇａｎｏｘ１０１０（日本チバガイギー株式会社製）について、３００℃で１時間保持した場合の重量減少率を、ＴＧ−ＤＴＡ（理学電気株式会社製 ＴＧ８１２０）により測定した。
測定条件：窒素雰囲気で、４０℃／ｍｉｎで３００℃まで昇温、次いで、３００℃で１時間保持し、その重量減少率を算出した。結果を表２に示す。
【０１０３】
【表２】
上記合成例１〜３で合成した化合物については、いずれもＩｒｇａｎｏｘ１０１０と比較して重量減少率は小さく、合成例１で合成した化合物は、特に重量減少率が小さいことが分かった。
【０１０４】
（評価例３） 保存安定性
ＡＲＴＯＮ樹脂（ＡＲＴＯＮ Ｒ５３００、ＪＳＲ株式会社製）０．９ｇと、上記合成例１で合成した化合物０．１ｇとを混合し、該混合物を塩化メチレン９ｇに溶解して固形分濃度１０ｗｔ％の溶液を調製した。シャーレに該溶液を塗布し、乾燥した後、一晩静置してフィルムを形成した。その後、得られたフィルムをシャーレから剥離してから、減圧乾燥機にて１００℃で２４時間乾燥した。得られたフィルムを切り刻んで試験管に入れ、窒素ガスフローしながら、はんだ槽を用いて３００℃で１８時間加熱した。加熱前後のフィルム３０ｍｇを、それぞれ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５ｍＬに溶解させ、これらの溶液を用い、ＧＰＣ測定を行なった。ＲＩ検出領域のピーク面積(ポリマー部)を求め、加熱前後の面積からゲル分率を以下式に従って算出した。
【０１０５】
また、合成例１で合成した化合物に代えてＩｒｇａｎｏｘ１０１０（日本チバガイギー株式会社製）を用いて同様にゲル分率を測定した。それぞれ、結果を表３に示す。
ゲル分率（％）＝（１−加熱後の樹脂のＲＩ検出領域のピーク面積／加熱前後の樹脂のＲＩ検出領域のピーク面積）×１００
【０１０６】
【表３】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示される化合物。
【化１】
（式（１）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。）
【請求項２】
上記式（１）において、Ｒ2が単結合である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１または２に記載の化合物を含有する酸化防止剤。
【請求項４】
請求項１または２に記載の化合物を含有する樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１または２に記載の化合物を含有する樹脂成型体。
【請求項６】
下記式（２）で表わされる化合物と下記式（３）で表わされる化合物とを反応させる工程を含むことを特徴とする、下記式（１）で表わされる化合物の合成方法。
【化２】
（式（２）において、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。）
【化３】
（式（３）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｙは、Ｒ6ＳＯ3−で表される基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基である。ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）
【化４】
（式（１）において、Ｒ1およびＲ3は、式（３）中のＲ1およびＲ3と同義であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎは式（２）中のＲ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎと同義である。）
【請求項１】
下記式（１）で示される化合物。
【化１】
（式（１）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。）
【請求項２】
上記式（１）において、Ｒ2が単結合である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１または２に記載の化合物を含有する酸化防止剤。
【請求項４】
請求項１または２に記載の化合物を含有する樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１または２に記載の化合物を含有する樹脂成型体。
【請求項６】
下記式（２）で表わされる化合物と下記式（３）で表わされる化合物とを反応させる工程を含むことを特徴とする、下記式（１）で表わされる化合物の合成方法。
【化２】
（式（２）において、Ｒ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ5は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ａは、単結合、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、または−Ｏ−であり、ｍは０〜１０の整数であり、ｎは０〜４の整数である。）
【化３】
（式（３）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の１価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基、または炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基であり、Ｙは、Ｒ6ＳＯ3−で表される基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基である。ただし、Ｒ6は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）
【化４】
（式（１）において、Ｒ1およびＲ3は、式（３）中のＲ1およびＲ3と同義であり、Ｒ2は、それぞれ独立に、単結合または−ＣＯ−であり、Ｒ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎは式（２）中のＲ4、Ｒ5、Ａ、ｍおよびｎと同義である。）
【公開番号】特開２０１１−１４８７１３（Ｐ２０１１−１４８７１３Ａ）
【公開日】平成２３年８月４日（２０１１．８．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−９１７５（Ｐ２０１０−９１７５）
【出願日】平成２２年１月１９日（２０１０．１．１９）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年８月４日（２０１１．８．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１月１９日（２０１０．１．１９）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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