有害生物防除剤組成物及びその使用方法
【解決手段】ａ）一般式（Ｉ）：
｛式中、Ｒ1はＨ、アルキル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、シクロアルキル、フェニルアルキル、フェニルカルボニル等；Ｒ2はＨ、ハロゲン、アルコキシ；Ｇはアルキル、アルケニル、；ＺはＯ又はＳ；ＸはＨ、ハロゲン、アルキル；Ｙ1は（ハロ）アルキル、アルキルカルボニル、（置換）フェニルカルボニル等；Ｙ2はハロゲン、（ハロ）アルキル；ｍは１又は２、ｎは０〜３。｝で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、ｂ）殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物。
【効果】農園芸用殺虫剤又は殺ダニ剤として優れた効果を示す。
｛式中、Ｒ1はＨ、アルキル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、シクロアルキル、フェニルアルキル、フェニルカルボニル等；Ｒ2はＨ、ハロゲン、アルコキシ；Ｇはアルキル、アルケニル、；ＺはＯ又はＳ；ＸはＨ、ハロゲン、アルキル；Ｙ1は（ハロ）アルキル、アルキルカルボニル、（置換）フェニルカルボニル等；Ｙ2はハロゲン、（ハロ）アルキル；ｍは１又は２、ｎは０〜３。｝で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、ｂ）殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物。
【効果】農園芸用殺虫剤又は殺ダニ剤として優れた効果を示す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物及びその使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、本発明類似の置換ピラゾールカルボン酸アミド誘導体が農園芸用殺虫剤、殺菌剤又は殺ダニ剤として有用であり、各種殺虫、殺ダニ剤と混合して使用できることが知られている（例えば、特許文献１乃至３参照。）。特許文献１では置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体が開示されているが、アニリン部分の置換基においては、ほぼ２位置換体に限られ、３位の置換基としてはメチル基のみであり、本発明の３位に炭素数２以上のアルキル基を導入した化合物は化合物一覧表にも開示されていない。更に、そこに具体的に開示されている３位メチル体は殺ダニ活性を示していない。特許文献２では置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体が開示されているが、アニリン部分の置換基においては、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキルアミノ基に限定されており、本発明の３位に炭素数２以上のアルキル基を直接導入した化合物は化合物一覧表にも開示されていない。特許文献３では置換ピラゾールカルボン酸アミド誘導体が開示されているが、複素環アミンとのアミド化合物が開示されているだけであり、本発明の置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体は開示されていない。
上記のように、本発明を構成する化合物の一つである置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体は従来技術には開示されていない新規化合物であり、これと殺虫活性又は殺ダニ活性を有する１又は２以上の化合物とを含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物もまた従来技術には開示されていない新規な技術である。
【特許文献１】特開２００３−４８８７８号公報
【特許文献２】特開２００４−１８９７３８号公報
【特許文献３】特開２００４−２６９５１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
農業及び園芸等の作物生産において、害虫等による被害は今なお大きく、既存薬に対する抵抗性害虫の発生等の要因から新規な有害生物防除剤組成物の開発が望まれている。又、就農者の老齢化等により各種の省力的施用方法が求められるとともに、これらの施用方法に適した性格を有する有害生物防除剤組成物の創出が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者等は新規な有害生物防除剤組成物を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物が、前記従来文献に記載された内容からは全く予想することの出来ない優れた防除効果を示すことを見いだし、本発明を完成させたものである。
【０００５】
即ち本発明は、
［１］ ａ）一般式（Ｉ）
【化１】
｛式中、Ｒ1は水素原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C2-C6アルケニルカルボニル基、ハロC2-C6アルケニルカルボニル基、C1-C6アルキルカルボニルC1-C6アルキル基、シクロC3-C6アルキル基、ハロシクロC3-C6アルキル基、シクロC3-C6アルキルC1-C6アルキル基、ハロシクロC3-C6アルキルC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニルオキシ C1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルチオC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルチオC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルキル基、モノC1-C6アルキルアミノC1-C6アルキル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノC1-C6アルキル基、フェニルC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基、C2-C6アルケニルオキシカルボニル基、C1-C6アルキルチオカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、シアノC1-C6アルキル基、フェニルC1-C6アルキル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を環上に有する置換フェニルC1-C6アルキル基、フェニルカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基、
【０００６】
複素環カルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換複素環カルボニル基、フェノキシカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アル
キルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェノキシカルボニル基、フェノキシC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルスルホニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルスルホニル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルホスホノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルホスホノチオ基、N-C1-C6アルキル-N-C1-C6アルコキシカルボニルアミノチオ基、N-C1-C6アルキル-N-C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルアミノチオ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノチオ基、シクロC3-C6アルキルカルボニル基、ハロシクロC3-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルキルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、フェニルC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、シクロC3-C6アルキルC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基、ハロシクロC3-C6アルキルC1-C6アルキルカルボニル基、フェノキシC1-C6アルコキシカルボニル基、C1-C6アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニルC1-C6アルキルカルボニル基又はC1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルカルボニル基を示す。
【０００７】
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基を示す。
ＧはC2-C10アルキル基又はC3-C10アルケニル基を示す。
Ｘは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基を示し、ｎは０〜３の整数を示す。
Ｙ1はC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、C3-C6シクロアルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基を示す。
Ｙ2は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基又はハロC1-C6アルキル基を示し、ｍは１又は２を示す。
Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。｝で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、ｂ）殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物、
【０００８】
［２］ 一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、Ｒ1が水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基であり、Ｒ2が水素原子又はC1-C6アルコキシ基であり、ＧがC2-C10アルキル基であり、ｎが０であり、Ｙ1がC1-C6アルキル基であり、Ｙ2が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍが２であり、Ｚが酸素原子である［１］に記載の有害生物防除剤組成物、
【０００９】
［３］ 殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物がフェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、トルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチン、エトキサゾール、プロパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、
メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド及びカルタップから選択される化合物である［１］又は［２］に記載の有害生物防除剤組成物、
【００１０】
［４］ 有用植物から有害生物を防除するために、［１］乃至［３］いずれか１つに記載の有害生物防除剤組成物の有効量を対象植物又は土壌に処理することを特徴とする有害生物防除剤組成物の使用方法、
［５］ 一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類を有効成分として含有する組成物と、殺虫活性或は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上を有効成分として含有する組成物とをそれぞれ同時期に植物、土壌又は栽培担体に処理することを特徴とする有害生物の防除方法、及び、
【００１１】
［６］ 一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、Ｒ1が水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基であり、Ｒ2が水素原子又はC1-C6アルコキシ基であり、ＧがC2-C10アルキル基であり、ｎが０であり、Ｙ1がC1-C6アルキル基であり、Ｙ2が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍが２であり、Ｚが酸素原子であり、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物がフェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、トルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチン、エトキサゾール、プリパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド及びカルタップから選択される化合物である［５］に記載の有害生物の防除方法に関する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、従来技術に比べて優れた性能を有する有害生物防除剤組成物を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
１）置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、各置換基における「ハロ」、「C1-C6アルキル」、「C1-C6アルコキシ」、「C2-C6アルケニル」、「C2-C6アルキニル」又は「複素環」等は以下の意味を示す。
「ハロ」又は「ハロゲン原子」とは、塩素原子、臭素原子、沃素原子又はフッ素原子を示す。「C1-C6アルキル」とは、直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキルを示し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられる。「C3-C6シクロアルキル」とは、環状の炭素原子数３〜６個のアルキルを示し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。「C1-C6アルコキシ」とは、そのアルキル部位が上記「C1-C6アルキル」であるアルコキシを示し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。「C2-C6アルケニル」とは、少なくとも１個の二重結合を有する直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数２〜６個のアルケニルを示し、例えば、ビニル、１−プロペニル、アリル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ペン
テニル、２，４−ペンタジエニル、３−ヘキセニル等が挙げられる。「C2-C6アルキニル」とは、少なくとも１個の三重結合を有する直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数２〜６個のアルキニルを示し、例えば、エチニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、２−ペンチニル、３−ヘキシニル等が挙げられる。又、「C2-C6」、「C3-C10」等の数字は炭素原子２個〜６個、３個〜１０個のように炭素原子数の範囲を示す。更に、上記置換基が連結した基についても上記定義を示すことができ、例えば、「ハロC1-C6アルキル」の場合は、同一又は異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、例えば、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、パーフルオロヘキシル等が挙げられる。
【００１４】
「複素環」とは、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される１以上のヘテロ原子を有する５又は６員複素環を示し、例えば、ピリジン、ピリジン−Ｎ−オキシド、ピリミジン、フラン、テトラヒドロフラン、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、トリアゾール、ピラゾール等が挙げられる。
【００１５】
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体の塩としては、アルカリ金属（リチウム、ナトリウム、カリウム等）の塩、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウム等）の塩、アンモニウム塩、有機アミン（メチルアミン、トリエチルアミン、ジエタノールアミン、ピペリジン、ピリジン等）の塩又は酸付加塩等が挙げられ、酸付加塩としては、例えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、安息香酸塩等のカルボン酸塩、メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩が挙げられる。
【００１６】
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体において、Ｒ1として好ましくは水素原子、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基であり、更に好ましくは水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基である。
【００１７】
Ｒ2として好ましくは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子又はC1-C6アルコキシ基である。Ｇとして好ましくはC2-C10アルキル基である。Ｘとして好ましくは水素原子又はC1-C6アルキル基であり、更に好ましくは水素原子である。ｎとして好ましくは０であり、これはＸが水素原子であることを表す。Ｚとして好ましくは酸素原子である。Ｙ1として好ましくはC1-C6アルキル基又はハロC1-C6アルキル基であり、更に好ましくはC1-C6アルキル基である。Ｙ2として好ましくは水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基又はハロC1-C6
アルキル基であり、更に好ましくはハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍとして好ましくは２である。
【００１８】
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類は、その構造式中に１つ又は複数個の不斉中心を含む場合があり、２種以上の光学異性体及びジアステレオマーが存在する場合もあり、本発明は各々の光学異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含する。又、その構造式中に炭素−炭素二重結合に由来する２種の幾何異性体が存在する場合もあるが、本発明は各々の幾何異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含するものである。更に、水和物として存在する場合もあり、それらをも全て包含するものである。
【００１９】
以下に本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体の代表的な製造方法を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２０】
製造方法１
【化２】
（式中、Ｇ、Ｒ1、Ｘ、ｎ、Ｙ1、Ｙ2及びｍは前記に同じくし、Ｒ3は水素原子、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、フェニル基、置換フェニル基又はフェニルC1-C4アルキル基を示し、Ｗは−Ｏ−を示し、Ｑはハロゲン原子又はC1-C6アルコキシ基を示す。）
【００２１】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体のうち、ＺがＯで表され、Ｒ2が水素原子、ハロゲン原子又はＯＲ3（式中、Ｒ3は前記に同じ。）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体（I−１）は、一般式（II−１）〜一般式（II−３） で表されるアニリン誘導体と一般式（III）で表されるピラゾールカルボン酸ハライド又はピラゾールカルボン酸エステルを塩基の存在下又は不存在下に、不活性溶媒中で反応させることにより、又は一般式（II−１）〜一般式（II−３）で表されるアニリン誘導体と一般式（IV）で表されるピラゾールカルボン酸を縮合剤の存在下に、塩基の存在下又は不存在下、不活性溶媒中で反応させることにより製造することができるが、通常のアミド類の製造方法であれば良い。
一般式（II−２）で表されるアニリン誘導体は、一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体を還元剤の存在下、不活性溶媒中で還元することにより製造することができる。
一般式（II−３）で表されるアニリン誘導体は、一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体を塩基の存在下又は不存在下、不活性溶媒中で一般式（Ｖ）で表されるアルコール
誘導体と反応させることにより製造することができる。
【００２２】
一般式（II−１）→一般式（II−２）
本反応で使用できる還元剤としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム等の金属水素化物、金属リチウム等の金属又は金属塩等を例示することができ、その使用量は一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体に対して当量乃至過剰量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類、ジメチルスルホキシド等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至５０時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。又、反応系から目的物を単離せずに次の反応工程に供することも可能である。
【００２３】
一般式（II−１）→一般式（II−３）
本反応で使用できる塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等のアルキル金属類を例示することができ、その使用量は一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体に対して当量乃至過剰量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
反応温度は−７０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至５０時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。又、反応系から目的物を単離せずに次の反応工程に供することも可能である。
【００２４】
一般式（II−１）、一般式（II−２）又は一般式（II−３）→一般式（I−１）
本反応で使用する縮合剤としては、例えばシアノリン酸ジエチル（ＤＥＰＣ）、カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、クロロ炭酸エステル類、ヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウム等を例示することができる。
本反応で使用する塩基としては、無機塩基又は有機塩基が挙げられ、無機塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属原子の水酸化物や水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属の水素化物、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルコールのアルカリ金属塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類、有機塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ＤＢＵ等を例示することができ、その使用量は一般式（III）又は（IV）で表されるピラゾールカルボン酸誘導体に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良
い。
【００２５】
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン及びアセトン、メチルエチルケトン等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
本反応は等モル反応であるので、各反応剤を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。
本反応の原料化合物である一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体は、特開平１１−３０２２３３号公報、特開２００１−１２２８３６号公報又は特開２００６−８６７５号公報の明細書に開示の製造方法等に準じて製造することができる。
【００２６】
一般式（III）又は（IV）で表されるピラゾールカルボン酸誘導体は公知文献（例えば、Ａｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，１９８３，３６，１３５−１４７、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８６，７５３−７５５、特開昭５２−８７１６８号公報、特開昭６３−４５２６4号公報、特開平１−１０６８６６号公報等。）記載の方法に準じて製造することができる。
【００２７】
製造方法２
【化３】
（式中、Ｇ、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、ｎ、Ｙ1、Ｙ2及びｍは前記に同じ。）
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体のうち、ＺがＳで表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体（I−２）は、（I−１）で表されるアニリン誘導体を公知の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２１（４２），４０６１（１９８０））に準じてローソン試薬と反応させることにより製造することができる。
【００２８】
製造方法３
【化４】
（式中、Ｇ、Ｒ2、Ｘ、ｎ、Ｙ1、Ｙ2、ｍ及びＱは前記に同じ。Ｒ1'はＲ1に同じくし、但し水素原子を除く。）
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体のうち、Ｒ1が水素原子以外の置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体（I−４）は、一般式（I−３）で表されるアミド誘導体と一般式（VI）で表されるハライド誘導体又はエステル誘導体を塩基の存在下又は不存在下に、不活性溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【００２９】
本反応で使用できる塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等のアルキル金属類を例示することができ、その使用量は一般式（I−３）で表されるアミド誘導体に対して当量乃至過剰量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
反応温度は−７０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至５０時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。
【００３０】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体の代表的な化合物を第１表および第２表に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。又、表中の「物性」欄には融点（℃）又は屈折率［ｎD（℃）］を記載し、アモルファスあるいはペーストと記載した化合物については、その1ＨＮＭＲデータを第３表に示した。尚、表中、「ｎ−」はノルマルを、「ｉ−」はイソを、「ｔ−」はターシャリーを、「ｃ−」はシクロを、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｅｔ」はエチル基を、「Ｐｒ」はプロピル基を、「Ｂｕ」はブチル基を、「Ｐｅｎ」はペンチル基を、「Ｈｅｘ」はヘキシル基を、「Ｐｈ」はフェニル基を、「Ｂｎ」はベンジル基を、「Ａｃ」はアセチル基を、「Ｐｙｒ」はピラジニル基を示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】
【表３】
【００３４】
【表４】
【００３５】
【表５】
【００３６】
【表６】
【００３７】
【表７】
【００３８】
【表８】
【００３９】
【表９】
【００４０】
【表１０】
【００４１】
【表１１】
【００４２】
【表１２】
【００４３】
【表１３】
【００４４】
【表１４】
【００４５】
【表１５】
【００４６】
【表１６】
【００４７】
【表１７】
【００４８】
【表１８】
【００４９】
【表１９】
【００５０】
【表２０】
【００５１】
【表２１】
【００５２】
【表２２】
【００５３】
【表２３】
【００５４】
【表２４】
【００５５】
【表２５】
【００５６】
【表２６】
【００５７】
【表２７】
【００５８】
２）殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物
殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物としては、クロロニコチニル系化合物、カーバメート系化合物、ピレスロイド系化合物、マクロライド系化合物、有機リン系などの殺虫剤等が挙げられ、例えば以下に一般名で示す化合物を例示することができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
アセタミプリド(acetamiprid) 、ピメトロジン(pymetrozine) 、フェニトロチオン(fenitrothion)、アセフェート(acephate)、カルバリル(carbaryl)、メソミル(methomyl)、カルタップ(cartap)、シハロトリン(cyhalothrine)、エトフェンプロックス(ethofenprox) 、テフルベンズロン(teflubenzuron) 、フルベンジアミド(flubendiamide)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、テブフェノジド(tebufenozide)、フェンピロキシメート(fenpyroximate) 、ピリダベン(pyridaben) 、イミダクロプリド(imidacloprid)、ブプロフェジン(buprofezin)、ＢＰＭＣ(fenobucarb)、ＭＩＰＣ(isoprocarb)、マラチオン(malathion) 、メチダチオン(methidathion)、フェンチオン(fenthion)、ダイアジノン(diazinon)、オキシデプロホス(oxydeprofos) 、バミドチオン(vamidothion) 、エチオフェンカルブ(ethiophencarbe)、ピリミカーブ(pirimicarb)、ペルメトリン(permethrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、シラフルオフェン(silafluofen) 、ニテンピラム(nitenpyram)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide) 、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、ピリミジフェン(pyrimidifen) 、ケルセン(dicofol) 、プロパルギット(propargite)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox) 、クロフェンテジン(clofentezine)、スピノサド(spinosad)、ミルベメクチン(milbemectin) 、ＢＴ(bacillus thuringiensis)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メタフルミゾン(metaflumizone)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、フィプロニル(fipronil)、エトキサゾール(etoxazole) 、アセキノシル(acequinocyl) 、ピリミホスメチル(pirimiphos-methyl) 、アクリナトリン(acrinathrin) 、キノメチオネート(quinomethionate) 、クロルピリホス(chlorpyriphos) 、アバメクチン(avermectin)、エマメクチン安息香酸塩(emamecti benzoate)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、テルブホス(terbufos)、エトプロホス(ethoprophos) 、カズサホス(cadusafos) フェナミフォス(fenamiphos)、フェンスルフォチオン(fensulfothion) 、ＤＳＰ、ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、ホスチアゼート(fosthiazate) 、オキサミル(oxamyl)、イサミドホス(isamidofos)、ホスチエタン(fosthietan)、イサゾホス(isazofos)、チオナジン(thionazin) 、ベンフラカルブ(benfuracarb) 、スピロジクロフェン(spirodiclofen) エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、アジンホス・メチル(azinphos-methyl)、ジスルホトン(disulfoton)、メチオカルブ(methiocarb)、オキシジメトン・メチル(oxydemeto n-methyl)、パラチオン(parathions)、シフルトリン(cyfluthrin)、ベータ・シフルトリン(beta-cyfluthrin)、テブピリムホス(tebupirimfos)、スピロメシフェン(spiromesifen)、エンドスルファン(endosulfan)、アミトラズ(amitraz)、トラロメトリン(tralomethrin)
、アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、
【００５９】
エチオン(ethion)、トリクロルホン(trichlorfon, DEP)、メタミドホス(metamidophos)、ジクロルボス(dichlorvos, DDVP)、メビンホス(mevinphos) 、モノクロトホス(monocrotophos) 、ジメトエート(dimethoate ) 、フォルメタネート(formetanate)、ホルモチオン(formothion)、メカルバム(mecarbam)、チオメトン(thiometon) 、ジスルホトン(disulfoton)、ナレッド(naled, BRP)、メチルパラチオン(methylparathion) 、シアノホス(cyanophos) 、ジアミダホス(diamidafos)、アルベンダゾール(albendazole) 、オキシベンダゾール(oxibendazole)、フェンベンダゾール(fenbendazole)、オクスフェンダゾール(oxfendazole) 、プロパホス(propaphos) 、スルプロホス(sulprofos) 、プロチオホス(prothiofos)、プロフェノホス(profenofos)、イソフェンホス(isofenphos)、テメホス(temephos)、フェントエート(phenthoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos) 、クロルフェビンホス(chlorfevinphos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos) 、ホキシム(phoxim)、イソキサチオン(isoxathion)、ピラクロホス(pyraclofos)、クロルピリホス−メチル(chlorpyrifos-methyl) 、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、ホサロン(phosalone) 、ホスメット(phosmet) 、ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos) 、キナルホス(quinalphos)、ピレトリン(pyrethrins)、アレスリン(allethrin) 、プラレトリン(prallethrin) 、レスメトリン(resmethrin)、ペルメトリン(permethrin)、テフルトリン(tefluthrin)、フェンプロパトリン(fenpropathrin) 、アルファシペルメトリン(alpha-cypermethrin)、ラムダ・シハルトリン(lambda-cyhalothrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、フェンバレレート(fenvalerate) 、エスフェンバレレート(esfenvalerate) 、フルシトリネート(flucythrinate) 、フルバリネート(fluvalinate) 、シクロプロトリン(cycloprothrin) 、チオジカルブ(thiodicarb)、アルジカルブ(aldicarb)、アラニカルブ(alanycarb) 、メトルカルブ(metolcarb) 、キシリカルブ(xylycarb)、プロポキスル(propoxur)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、ビフェナゼート(bifenazate)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan) 、硫黄、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、
【００６０】
フラチオカルブ(furathiocarb)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron) 、ジフルベンズロン(diflubenzuron) 、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ノバルロン(novaluron) 、ルフェヌロン(lufenuron) 、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、水酸化トリシクロヘキシルスズ(cyhexatin) 、オレイン酸ナトリウム(Oleic acid sodium salt)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、メトプレン(methoprene)、ハイドロプレン(hydroprene)、ビナパクリル(binapacryl)、アミトラズ(amitraz) 、クロルベンジレート(chlorbenzilate)、フェニソブロモレート(phenisobromolate)、テトラジホン(tetradifon)、ベンスルタップ(bensultap) 、ベンゾメート(benzomate) 、クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、エンドスルファン(endosulfan)、ジオフェノラン(diofenolan)、トルフェンピラド(tolfenpyrad) 、トリアザメート(triazamate)、硫酸ニコチン(nicotine-sulfate)、チアクロプリド(thiacloprid) 、チアメトキサム(thiamethoxam)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、フルアジナム(fluazinam) 、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、シロマジン(cyromazine)、ＴＰＩＣ(tripropylisocyanurate)、チオシクラム(thiocyclam)、フェナザキン(fenazaquin)、ポリナクチン複合体(polynactins) 、アザディラクチン(azadirachtin)、ロテノン(rotenone)、ヒドロキシプロピルデンプン（hydroxy propyl starch）、メスルフェンホス(mesulfenfos) 、ホスホカルブ(phosphocarb) 、イソアミドホス(isoamidofos) 、アルドキシカルブ(aldoxycarb)、メタム・ナトリウム(metam-sodium)、酒石酸モランテル(morantel tartrate) 、ダゾメット(dazomet) 、塩酸レバミゾール(levamisol) 、トリクラミド(trichlamide) 、ピリダリル(pyridalyl)等。
これらのうち好ましくは、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、ト
ルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチン、エトキサゾール、プロパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド、カルタップである。
これらは、公知文献（例えば、Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ Ｔｈｉｒｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ ２００３、渋谷成美，他３名，「ＳHＩＢＵＹＡ ＩＮＤＥＸ−２００６−１１ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ」，ＳHＩＢＵＹＡ ＩＮＤＥＸ研究会，２００６年５月２５日発行などを参照。）記載の公知化合物である。
【００６１】
３）有害生物防除剤組成物
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物は、水稲、果樹、野菜、その他の作物及び花卉類を加害する各種農林、園芸、貯穀害虫や衛生害虫或いは線虫等の害虫防除に適しており、例えばリンゴコカクモンハマキ（Adoxophyes orana fasciata）、チャノコカクモンハマキ（Adoxophyes sp.） 、リンゴコシンクイ（Grapholita inopinata）、ナシヒメシンクイ（Grapholita molesta）、マメシンクイガ（Leguminivora glycinivorella）、クワハマキ（Olethreutes mori）、チャノホソガ（Caloptilia thevivora）、リンゴホソガ（Caloptilia zachrysa）、キンモンホソガ（Phyllonorycter ringoniella）、ナシホソガ（Spulerrina astaurota）、モンシロチョウ（Piers rapae crucivora） 、オオタバコガ類（Heliothis sp.）、コドリンガ（Laspey resia pomonella）、コナガ（Plutella xylostella）、リンゴヒメシンクイ（Argyresthia conjugella）、モモシンクイガ（Carposina niponensis）、ニカメイガ（Chilo suppressalis）、コブノメイガ（Cnaphalocrocis medinalis）、チャマダラメイガ（Ephestia elutella）、クワノメイガ（Glyphodes pyloalis）、サンカメイガ（Scirpophaga incertulas）、イチモンジセセリ（Parnara guttata）、アワヨトウ（Pseudaletia separata）、イネヨトウ（Sesamia inferens）、ハスモンヨトウ（Spodoptera litura）、シロイチモジヨトウ（Spodoptera exigua）等の鱗翅目害虫、
【００６２】
フタテンヨコバイ（Macrosteles fascifrons）、ツマグロヨコバイ（Nephotettix cincticeps）、トビイロウンカ（Nilaparvata lugens）、セジロウンカ（Sogatella furcifera）、ミカンキジラミ（Diaphorina citri）、ブドウコナジラミ（Aleurolobus taonabae）、タバココナジラミ（Bemisia tabaci）、オンシツコナジラミ（Trialeurodes vaporariorum） 、ニセダイコンアブラムシ（Lipaphis erysimi）、モモアカアブラムシ（Myzus persicae）、ツノロウムシ（Ceroplastes ceriferus） 、ミカンワタカイガラムシ（Pulvinaria aurantii）、ミカンマルカイガラムシ（Pseudaonidia duplex）、ナシマルカイガラムシ（Comstockaspis perniciosa）、ヤノネカイガラムシ（Unaspis yanonensis）等の半翅目害虫、ヒメコガネ（Anomala rufocuprea）、マメコガネ（Popilla japonica）、タバコシバンムシ（Lasioderma serricorne）、ヒラタキクイムシ（Lyctus brunneus）、ニジュウヤホシテントウ（Epilachna vigintiotopunctata）、アズキゾウムシ（Callosobruchus chinensis）、ヤサイゾウムシ（Listroderes costirostris）、コクゾウムシ（Sitophilus zeamais）、ワタミゾウムシ（Anthonomus grandis grandis）、イネミズゾウムシ（Lissorhoptrus oryzophilus）、ウリハムシ（Aulacophora femoralis）、イネドロオイムシ（Oulema oryzae）、キスジノミハムシ（Phyllotreta striolata）、マツノキクイムシ（Tomicus piniperda）、コロラドポテトビートル（Leptinotarsa decemlineata）、メキシカンビーンビートル（Epilachna varivestis）、コーンルートワーム類（Diabrotica sp.）等の甲虫目害虫、
【００６３】
ウリミバエ（Dacus（Zeugodacus）cucurbitae）、ミカンコミバエ（Dacus（Bactrocera）
dorsalis）、イネハモグリバエ（Agromyza oryzae）、タマネギバエ（Delia antiqua）、タネバエ（Dalia platura）、ダイズサヤタマバエ（Asphondylis sp.）等の双翅目害虫、ミナミネグサレセンチュウ（Pratylenchus coffeae）、ジャガイモシストセンチュウ（Glabodera rostchiensis）、ネコブセンチュウ（Meloidogyne sp.）、ミカンネセンチュウ（Tylenchulus semipenetrans）、ニセネグサレセンチュウ（Aphelenchus avenae）、ハガレセンチュウ（Aphelenchoides ritzemabosi）等のハリセンチュウ目害虫、ミカンハダニ（Panonychus citri）、リンゴハダニ（Panonychus ulmi）、ニセナミハダニ（Tetranychus cinnabarinus）、カンザワハダニ（Tetranychus kanzawai Kishida）、ナミハダニ（Tetranychus urticae Koch）、チャノナガサビダニ（Acaphylla theae）、ミカンサビハダニ（Aculops pelekassi）、チャノサビダニ（Calacarus carinatus）、ナシサビダニ（Epitrimerus pyri）、トマトサビダニ（Aculops lycopersici）等のダニ目害虫、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis) 、ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)、ネギアザミウマ(Thrips tabaci) 、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)等のアザミウマ目害虫等に対して強い殺虫効果を有するものである。
【００６４】
本発明の有害生物防除剤組成物は、農園芸用殺虫剤又は殺ダニ剤としての使用が好ましいが、森林・木材用害虫、畜産用害虫、衛生用害虫等の種々の害虫類に対して優れた防除効果を示し、幅広い分野で害虫防除剤として使用することができ、これらの害虫類としては、例えば、ヤマトアブ等のアブ科、イエバエ等のイエバエ科、ウマバエ等のウマバエ科、ウシバエ等のウシバエ科、オオキモンノミバエ等のノミバエ科、アカイエカ、シマハマダラカ、ヒトスジシマカ、ヤマトヤブカ等のカ科、ネコノミ、イヌノミ、ヒトノミ等のヒトノミ科、ヤマトマダニ等のマダニ科、モンシロドクガ等のドクガ科、コクゾウムシ等のオサゾウムシ科、キイロスズメバチ等のスズメバチ科、チャバネゴキブリ等のチャバネゴキブリ科、ワモンゴキブリ、ヤマトゴキブリ等のゴキブリ科、ケジラミ等のケジラミ科、ヤマトシロアリ、イエシロアリ等のシロアリ科、シュルツェマダニ等のマダニ科、イエダニ等のオオサシダニ科等を挙げることができる。
【００６５】
本発明の有害生物防除剤組成物は、水田作物、畑作物、果樹、野菜、その他の作物及び花卉等に被害を与える前記害虫に対して顕著な防除効果を有するので、害虫の発生が予測される時期に合わせて、害虫の発生前又は発生が確認された時点で水田、畑、果樹、野菜、その他の作物、花卉等の種子、水田水、茎葉又は土壌に処理することにより本発明の有害生物防除剤組成物の所期の効果が奏せられるものである。
本発明の有害生物防除剤組成物はそのまま、又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた形で有害生物防除に有効な量を有害生物の発生が予測される植物に使用すればよく、例えば果樹、穀類、野菜等において発生する有害生物に対しては茎葉部に散布する他に、種子の薬剤への浸漬、種子粉衣、カルパー処理等の種子処理、土壌全層混和、作条施用、床土混和、セル苗処理、植え穴処理、株元処理、トップドレス、イネの箱処理、水面施用等、土壌等に処理して根から吸収させて使用することもできる。加えて、養液（水耕）栽培における養液への施用、くん煙あるいは樹幹注入等による使用もできる。
更に、例えば貯穀害虫、家屋害虫、衛生害虫、森林害虫等に散布する他に、家屋建材への塗布、くん煙、ベイト等としての使用することもできる。
【００６６】
種子処理の方法としては、例えば、液状又は固体状の製剤を希釈又は希釈せずして液体状態にて種子を浸漬して薬剤を浸透させる方法、固形製剤又は液状製剤を種子と混和、粉衣処理して種子の表面に付着させる方法、樹脂、ポリマー等の付着性の担体と混和して種子にコーティングする方法、植え付けと同時に種子付近に散布する方法等が挙げられる。
当該種子処理を行う「種子」とは、植物の繁殖に用いられる栽培初期の植物体を意味し、例えば、種子の他、球根、塊茎、種芋、株芽、むかご、鱗茎又は挿し木栽培等を挙げることができる。
本発明の使用方法を実施する場合の植物の「土壌」又は「栽培担体」とは、作物を栽培
するための支持体、特に根を生えさせる支持体を示すものであり、材質は特に制限されないが、植物が生育しうる材質であれば良く、いわゆる土壌、育苗マット、水等であっても良く、具体的な素材としては例えば、砂、軽石、バーミキュライト、珪藻土、寒天、ゲル状物質、高分子物質、ロックウール、グラスウール、木材チップ、バーク、紙等であっても良い。
【００６７】
作物茎葉部あるいは貯穀害虫、家屋害虫、衛生害虫、森林害虫等への散布方法としては、乳剤、フロアブル剤等の液体製剤又は水和剤もしくは顆粒水和剤等の固形製剤を水で適宜希釈し、散布する方法、粉剤を散布する方法又はくん煙等が挙げられる。
土壌への施用方法としては、例えば、液体製剤を水に希釈又は希釈せずして植物体の株元又は育苗用苗床等に施用する方法、粒剤を植物体の株元又は育苗のための苗床等に散布する方法、播種前又は移植前に粉剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤等を散布し土壌全体と混和する方法、播種前又は植物体を植える前に植え穴、作条等に粉剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤等を散布する方法等が挙げられる。
【００６８】
水稲の育苗箱への施用方法としては、剤型は、例えば播種時施用、緑化期施用、移植時施用などの施用時期により異なる場合もあるが、粉剤、顆粒水和剤、粒剤等の剤型で施用すれば良い。培土との混和によっても施用することができ、培土と粉剤、顆粒水和剤又は粒剤等との混和、例えば、床土混和、覆土混和、培土全体への混和等することができ、単に、培土と各種製剤を交互に層状にして施用してもよい。
【００６９】
水田への施用方法としては、ジャンボ剤、パック剤、粒剤、顆粒水和剤等の固形製剤、フロアブル、乳剤等の液体状製剤を、通常は、湛水状態の水田に散布する。その他、田植え時には、適当な製剤をそのまま又は肥料等に混和して土壌に散布、注入することもできる。又、水口や灌漑装置等の水田への水の流入元に乳剤、フロアブル等の薬液を利用することにより、水の供給に伴い省力的に施用することもできる。
畑作物においては、播種から育苗期、生育期において、種子又は植物体に近接する栽培担体等へ処理ができる。畑に直接播種する植物においては、種子への直接処理の他、栽培中の植物の株元への処理が好適である。粒剤を用いて散布処理又は水に希釈又は希釈しない薬剤を液状にて潅注処理を行うことができる。粒剤を播種前の栽培担体と混和させた後、播種するのも好ましい処理である。
移植を行う栽培植物の播種、育苗期の処理としては、種子への直接処理の他、育苗用苗床への、液状とした薬剤の潅注処理又は粒剤の散布処理が好ましい。又、定植時に粒剤を植え穴に処理したり、移植場所近辺の栽培担体に混和することも好ましい処理である。
本発明の有害生物防除剤組成物を使用できる植物は特に限定されるものではないが、例えば以下に示した植物が挙げられる。
【００７０】
穀類（例えば、稲、大麦、小麦、ライ麦、オート麦、トウモロコシ、高粱等）、豆類（大豆、小豆、そら豆、えんどう豆、落花生等）、果樹・果実類（リンゴ、柑橘類、梨、ブドウ、桃、梅、桜桃、クルミ、アーモンド、バナナ、イチゴ等）、野菜類（キャベツ、トマト、ほうれん草、ブロッコリー、レタス、タマネギ、ネギ、ピーマン等）、根菜類（ニンジン、馬鈴薯、サツマイモ、大根、蓮根、かぶ等）、加工用作物類（綿、麻、コウゾ、ミツマタ、菜種、ビート、ホップ、サトウキビ、テンサイ、オリーブ、ゴム、コーヒー、タバコ、茶等）、瓜類（カボチャ、キュウリ、スイカ、メロン等）、牧草類（オーチャードグラス、ソルガム、チモシー、クローバー、アルファルファ等）、芝類（高麗芝、ベントグラス等）、香料等用作物類（ラベンダー、ローズマリー、タイム、パセリ、胡椒、しょうが等）、花卉類（キク、バラ、蘭等）等の植物に使用できる。
また、近年、遺伝子組み換え作物（除草剤耐性作物、殺虫性タンパク産生遺伝子を組み込んだ害虫耐性作物、病害に対する抵抗性誘導物質産生遺伝子を組み込んだ病害耐性作物、食味向上作物、保存性向上作物、収量向上作物など）、昆虫性フェロモン（ハマキガ類
、ヨトウガ類の交信攪乱剤など）、天敵昆虫などを用いたＩＰＭ（総合的害虫管理）技術が進歩しており、本発明の有害生物防除剤組成物はそれらの技術と併用、あるいは体系化して用いることができる。
【００７１】
本発明の有害生物防除剤組成物は、農薬製剤上の常法に従い使用上都合の良い形状に製剤して使用するのが一般的である。
即ち、一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを適当な不活性担体に、又は必要に応じて補助剤と一緒に適当な割合に配合して溶解、分離、懸濁、混合、含浸、吸着若しくは付着させて適宜の剤型、例えば懸濁剤、乳剤、液剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤、粉剤、錠剤、パック剤等に製剤して使用すれば良い。
【００７２】
本発明で使用できる不活性担体としては固体又は液体の何れであっても良く、固体の担体になりうる材料としては、例えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉末、植物エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘土類（例えばカオリン、ベントナイト、酸性白土等）、タルク類（例えばタルク、ピロフィライト等）、シリカ類｛例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン（含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分として含むものもある。）｝、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック担体、硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を挙げることができ、これらは単独で若しくは二種以上の混合物の形で使用される。
【００７３】
液体の担体になりうる材料としては、それ自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助剤の助けにより有効成分化合物を分散させうることとなるものから選択され、例えば代表例として次に挙げる担体を例示できるが、これらは単独で若しくは２種以上の混合物の形で使用され、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えばエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えばケロシン、鉱油等）、芳香族炭化水素類（例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、塩素化ベンゼン等）、エステル類（例えば酢酸エチル、ジイソプロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等）、アミド類（例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリル類（例えばアセトニトリル等）、ジメチルスルホキシド類等を挙げることができる。
【００７４】
他の補助剤としては次に例示する代表的な補助剤をあげることができ、これらの補助剤は目的に応じて使用され、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を併用し、又ある場合には全く補助剤を使用しないことも可能である。
有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び／又は湿潤の目的のために界面活性剤が使用され、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等の界面活性剤を例示することができる。
又、有効成分化合物の分散安定化、粘着及び／又は結合の目的のために、次に例示する補助剤を使用することもでき、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、松根油、糠油、ベントナイト、リグニンスルホン酸塩等の補助剤を使用することもできる。
【００７５】
固体製品の流動性改良のために次に挙げる補助剤を使用することもでき、例えばワックス、ステアリン酸塩、燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用できる。懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレンスルホン酸縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を使用することもできる。
消泡剤としては、例えばシリコーン油等の補助剤を使用することもできる。
防腐剤としては、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、パラクロロメタキシレノール、パラオキシ安息香酸ブチル等も添加することができる。
更に必要に応じて機能性展着剤、ピペロニルブトキサイド等の代謝分解阻害剤等の活性増強剤、プロピレングリコール等の凍結防止剤、ＢＨＴ等の酸化防止剤、紫外線吸収剤等その他の添加剤も加えることが可能である。
【００７６】
本発明の有害生物防除剤組成物中の有効成分化合物の配合割合は必要に応じて加減することができ、有害生物防除剤組成物１００重量部中、０．０１〜９０重量部の範囲から適宜選択して使用すれば良く、例えば粉剤又は粒剤とする場合は０．０１〜５０重量％、又乳剤又は水和剤とする場合も同様０．０１〜５０重量％が適当である。また、一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する１又は２以上の化合物の配合割合は、一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類１重量部に対して殺虫活性又は殺ダニ活性を有する１又は２以上の化合物を０．０１〜３００重量部の範囲で適宜選択して使用すれば良い。
本発明の有害生物防除剤組成物は各種害虫を防除するためにそのまま、又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた形で害虫防除に有効な量を当該害虫の発生が予測される作物若しくは発生が好ましくない場所に適用して使用すれば良い。
本発明の有害生物防除剤組成物の使用量は種々の因子、例えば目的、対象害虫、作物の生育状況、害虫の発生傾向、天候、環境条件、剤型、施用方法、施用場所、施用時期等により変動するが、有効成分化合物として１０アール当たり０．００１ｇ〜１０ｋｇ、好ましくは０．０１ｇ〜１ｋｇの範囲から目的に応じて適宜選択すれば良い。
また、本発明の使用方法では、一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類を有効成分として含有する組成物と、殺虫活性或は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上を有効成分として含有する組成物とをそれぞれ同時期に植物、土壌又は栽培担体に処理することもできる。
【００７７】
本発明の有害生物防除剤組成物は、更に防除対象病害虫、防除適期の拡大のため、或いは薬量の低減をはかる目的で他の殺菌剤、生物農薬等と混合して使用することも可能であり、又、使用場面に応じて除草剤、植物成長調節剤、肥料等と混合して使用することも可能である。
かかる目的で使用する他の農園芸用殺菌剤としては、例えば硫黄、石灰硫黄合剤、塩基性硫酸銅、イプロベンホス、エディフェンホス、トルクロホス・メチル、チラム、ポリカーバメイト、ジネブ、マンゼブ、マンコゼブ、プロピネブ、チオファネート、チオファネートメチル、ベノミル、イミノクタジン酢酸塩、イミノクタジンアルベシル酸塩、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、フラメトピル、チフルザミド、メタラキシル、オキサジキシル、カルプロパミド、ジクロフルアニド、フルスルファミド、クロロタロニル、クレソキシム・メチル、フェノキサニル、ヒメキサゾール、エクロメゾール、フルオルイミド、プロシミドン、ビンクロゾリン、イプロジオン、トリアジメホン、ビテルタノール、トリフルミゾール、イプコナゾール、フルコナゾール、プロピコナゾール、ジフェノコナゾール、ミクロブタニル、テトラコナゾール、ヘキサコナゾール、テブコナゾール、チアジニル、イミベンコナゾール、プロクロラズ、ペフラゾエート、シプロコナゾール、イ
ソプロチオラン、フェナリモル、ピリメタニル、メパニピリム、ピリフェノックス、フルアジナム、トリホリン、ジクロメジン、アゾキシストロビン、チアジアジン、キャプタン、プロベナゾール、アシベンゾフラルＳメチル、フサライド、トリシクラゾール、ピロキロン、キノメチオネート、オキソリニック酸、ジチアノン、カスガマイシン、バリダマイシン、ポリオキシン、ブラストサイジン、ストレプトマイシン等の農園芸用殺菌剤を例示することができ、
【００７８】
同様に除草剤としては、例えばグリホサート、スルホセート、グルホシネート、ビアラホス、ブタミホス、エスプロカルブ、プロスルホカルブ、ベンチオカーブ、ピリブチカルブ、アシュラム、リニュロン、ダイムロン、イソウロン、ベンスルフロンメチル、シクロスルファムロン、シノスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、テニルクロール、アラクロール、プレチラクロール、クロメプロップ、エトベンザニド、メフェナセット、ペンディメタリン、ビフェノックス、アシフルオフェン、ラクトフェン、シハロホップブチル、アイオキシニル、ブロモブチド、アロキシジム、セトキシジム、ナプロパミド、インダノファン、ピラゾレート、ベンゾフェナップ、ピラフルフェンエチル、イマザピル、スルフェントラゾン、カフェンストロール、ベントキサゾン、オキサジアゾン、パラコート、ジクワット、ピリミノバック、シマジン、アトラジン、ジメタメトリン、トリアジフラム、ベンフレセート、フルチアセットメチル、キザロホップ・エチル、ベンタゾン、過酸化カルシウム等の除草剤を例示することができる。
【００７９】
又、生物農薬として、例えば核多角体ウイルス（Nuclear polyhedrosis virus、NPV）、顆粒病ウイルス（Granulosis virus、GV）、細胞質多角体病ウイルス（Cytoplasmic polyhedrosis virus、CPV）、昆虫ポックスウイルス（Entomopox virus 、EPV）等のウイルス製剤、モノクロスポリウム・フィマトパガム（Monacrosporium phymatophagum）、スタイナ−ネマ・カーポカプサエ（Steinernema carpocapsae）、スタイナ−ネマ・クシダエ（Steinernema kushidai）、パスツーリア・ペネトランス（Pasteuria penetrans）等の殺虫又は殺線虫剤として利用される微生物農薬、トリコデルマ・リグノラン（Trichoderma lignorum）、アグロバクテリウウム・ラジオバクター（Agrobacterium radiobactor）、非病原性エルビニア・カロトボーラ（Erwinia carotovora）、バチルス・ズブチリス（Bacillus subtilis）等の殺菌剤として使用される微生物農薬、ザントモナス・キャンペストリス（Xanthomonas campestris）等の除草剤として利用される生物農薬などと混合して使用することにより、同様の効果が期待できる。
【００８０】
更に、生物農薬として例えばオンシツツヤコバチ（Encarsia formosa）、コレマンアブラバチ（Aphidius colemani）、ショクガタマバエ（Aphidoletes aphidimyza）、イサエアヒメコバチ（Diglyphus isaea）、ハモグリコマユバチ（Dacnusa sibirica）、チリカブリダニ（Phytoseiulus persimilis）、ククメリスカブリダニ（Amblyseius cucumeris）、ナミヒメハナカメムシ（Orius sauteri）等の天敵生物、ボーベリア・ブロンニアティ（Beauveria brongniartii）等の微生物農薬、（Ｚ）−１０−テトラデセニル＝アセタート、（Ｅ，Ｚ）−４，１０−テトラデカジニエル＝アセタート、（Ｚ）−８−ドデセニル＝アセタート、（Ｚ）−１１−テトラデセニル＝アセタート、（Ｚ）−１３−イコセン−１０−オン、（Ｚ）−１３−イコセン−１０−オン、１４−メチル−１−オクタデセン等のフェロモン剤と併用することも可能である。
【実施例】
【００８１】
以下に本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体について、実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
参考例１ １，３−ジメチル−５−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸化合物Ｎｏ．４−１）の製造
４−ヨード−１，３−ジメチル−５−トリフルオロメチルピラゾール（８．７ｇ，３０
ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８７ｍｌ）に溶解し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，２８ｍｌ）をアルゴン雰囲気下、ドライアイス−アセトンで冷却下（−６０℃以下）、ゆっくりと加えた。３０分間−７０℃で攪拌したのち、二酸化炭素を吹き込みながら室温まで徐々に昇温させた。反応液を水に注ぎ、有機層を除いた後、水層を塩酸で酸性にした。酢酸エチルで抽出、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、得られた粗結晶をヘキサンで洗浄することにより目的物４．６７ｇを結晶として得た。
収率 ７４％
物性：融点 １２４‐１２５．５℃
【００８２】
実施例１ Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１,５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−２１１）の製造
１，５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸（２.０９ｇ，１０ｍｍｏｌ）を塩化チオニルに溶解し、３時間加熱還流した。減圧濃縮により、１，５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸クロリドを得た。これを、３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（３．２９ｇ,１０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．０３ｇ，３０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液に加え、２時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈後、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて分離精製することにより目的物３．６４ｇを結晶として得た。
収率 ７０％
物性：融点 １３８−１３９℃
【００８３】
実施例２ Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−２２２）の製造
水素化ナトリウム（３２ｍｇ，６０％，０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（テトラヒドロフラン、１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（２５０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、クロロメチルメチルエーテル（６４ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、５時間攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて分離精製することにより目的物２３８ｍｇを得た。
収率：８８％
物性：ｎD１．４６６９（２２．４℃）
【００８４】
参考例２ ２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（化合物Ｎｏ．３−１）の製造
５−ｎ−プロピル−２−メチルアニリン（１４．９ｇ，０．１ｍｏｌ）をターシャリーブチルメチルエーテル−水（１：１）混合溶媒３００ｍｌに希釈し、ヘプタフルオロイソプロピルヨージド（２９．６ｇ，０．１ｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムハイドロゲンサルフェート（３．４ｇ，０．０１ｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム（８．４ｇ，０．１ｍｏｌ）、亜ジチオン酸ナトリウム（１７ｇ，０．１ｍｏｌ）を順次加え、室温で一晩攪拌した。反応液をヘキサンで希釈し、３規定塩酸で２回洗浄し、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ５：１）にて分離精製して、目的物２８．５ｇを得た。
収率：９０％
物性：1H-NMR［CDCl3/TMS,δ値（ppm）］
7.09（s,1H）,6.54（s,1H）,3.76（bs,2H）,2.63（m,2H）,2.13(s,3H),
1.58（m,2H）,0.96（t,3H）
【００８５】
参考例３ ４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルアニリン（化合物Ｎｏ．３−３）の製造
２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（１．６ｇ，５ｍｍｏｌ）を２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液（９．６ｇ）に溶解し、３時間加熱攪拌した。放冷後、反応液を氷水中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて分離精製することにより目的物１．３１ｇを得た。
収率：７９％
物性：1H-NMR[CDCl3/TMS,δ値（ppm）]
7.10(s,1H),6.66(s,1H),3.72(bs,2H),3.42(s,3H),2.84(m,2H),2.14(s,3H),
1.61(m,2H),1.00(t,3H)
【００８６】
参考例４ ２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（化合物Ｎｏ．３−２）の製造
２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（１．６ｇ，５ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（２０ｍｌ）に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム（３７８ｍｇ，１０ｍｍｏｌ）を少しずつ加え、６０℃で５時間攪拌した。反応液に氷を少量ずつ加え、その後酢酸を滴下した。酢酸エチルにて反応液を希釈し、４回水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮することにより、目的物１．４７ｇを得た。
収率：９９％
物性：1H-NMR[CDCl3/TMS,δ値（ppm）]
7.18(s,1H),6.54(s,1H),4.45-4.20(br,2H),4.27(m,1H),2.50(dd,2H),
2.14(s,3H),1.57(m,2H),0.98(t,3H)
【００８７】
実施例３ Ｎ−｛４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルフェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−１５）の製造
１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸クロリド（１７２ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルアニリン（３２９ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、及びトリエチルアミン（３０３ｍｇ，３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に溶解し、３時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈後、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）にて分離精製することにより目的物３６０ｍｇを得た。
収率：７７％
物性：融点 １３２〜１３４℃
【００８８】
実施例４ Ｎ−アセチル−Ｎ−｛４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルフェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−１６）の製造
水素化ナトリウム（３２ｍｇ，６０％，０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルフェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾ
ール−４−カルボン酸アミド（２５０ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、無水酢酸（８０ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、１昼夜攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて分離精製することにより目的物１３９ｍｇを得た。
収率：５２％
物性：ｎD１．４９０５（２５．９℃）
【００８９】
実施例５ Ｎ−｛２−メチル−５−n−プロピル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル−２−メチル−５−n−プロピルフェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−１３）の製造
４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルアニリンの代わりに２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリンを用いた以外は実施例３と同様にして３時間反応を行なうことにより目的物を得た。
収率：６６％
物性：融点 １２８−１３１℃
【００９０】
実施例６ Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−１５５）の製造
１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸クロリド（３．９３ｇ，２２．８ｍｍｏｌ）、３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（５．０ｇ，１５．２ｍｍｏｌ）、及びトリエチルアミン（３．０７ｇ，３０．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１００ｍｌ）に溶解し、５時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈後、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた粗結晶をエーテル洗浄することにより目的物５．６２ｇを得た。
収率：８０％
物性：融点 １８９〜１９０℃
【００９１】
実施例７ Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−1４５）の製造
水素化ナトリウム（２９ｍｇ，６０％，０．７３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（２６０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、クロルメチルエチルエーテル（７０ｍｇ，０．７３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、１昼夜攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて分離精製することにより目的物２００ｍｇを得た。
収率：６９％
物性：ｎD１．４８９２（２２．２℃）
【００９２】
実施例８ Ｎ−イソブチルオキシカルボニル−Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，
３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−1５２）の製造
水素化ナトリウム（２９ｍｇ，６０％，０．７３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（２６０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、クロル炭酸イソブチル（１００ｍｇ，０．７３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、１昼夜攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて分離精製することにより目的物２８０ｍｇを得た。
収率：９１％
物性：ｎD１．４８２９（２２．３℃）
【００９３】
実施例９ Ｎ−｛３−イソブチル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−１２３）の製造
１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸クロリド（２．０９ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（２．０ｇ，６．６９ｍｍｏｌ）、及びトリエチルアミン（１．３５ｇ，１３．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（６０ｍｌ）に溶解し、５時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈後、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて分離精製することにより目的物２．４１ｇを得た。
収率：７７％
物性：融点 １４８〜１５１℃
【００９４】
実施例１０ Ｎ−アセチル−Ｎ−｛３−イソブチル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−1２５）の製造
水素化ナトリウム（３８ｍｇ，６０％，０．９６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛３−イソブチル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（３００ｍｇ，０．６４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、アセチルクロリド（７５ｍｇ，０．９６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、１昼夜攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて分離精製することにより目的物９０ｍｇを得た。
収率：２８％
物性：ｎD１．５０２１（２２．５℃）
【００９５】
以下に本発明の代表的な製剤例及び試験例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
尚、製剤例中、部とあるのは重量部を示す。
製剤例１
第１表又は第２表に記載の化合物 ５部
フェンピロキシメート ５部
キシレン ７０部
Ｎ−メチルピロリドン １０部
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 １０部
以上を均一に混合溶解して乳剤とする。
製剤例２
第１表又は第２表に記載の化合物 １．５部
クロルフェナピル １．５部
クレー粉末 ８２部
珪藻土粉末 １５部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
【００９６】
製剤例３
第１表又は第２表に記載の化合物 ２．５部
スピロジクロフェン ２．５部
ベントナイトとクレーの混合粉末 ９０部
リグニンスルホン酸カルシウム ５部
以上を均一に混合し、適量の水を加えて混練し、造粒、乾燥して粒剤とする。
製剤例４
第１表又は第２表に記載の化合物 １０部
トルフェンピラド １０部
カオリンと合成高分散珪酸 ７５部
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 ５部
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
【００９７】
試験例１ ナミハダニ（Tetranychus urticae）に対する殺ダニ試験
ナミハダニ雌成虫をそれぞれ寄生させたインゲンリーフディスク（直径２０ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは１０日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理２日後に雌成虫、処理１０日後に次世代幼虫の生存数をそれぞれ調査し、下記式により殺成虫率、次世代防除率を算出した（１区１０頭、２連制）。結果を第４表に示す。
尚、以降の表における化合物Ｎｏ．は第１表又は第２表の化合物Ｎｏ．に対応する。
［式１］
殺成虫率＝（１−生存虫数／供試虫数）×１００
［式２］
次世代防除率＝（１−処理区の次世代幼虫数／無処理区の次世代幼虫数）×１００
【００９８】
【表２８】
【００９９】
【表２９】
【０１００】
試験例２ ミカンハダニ（Panonychus citri）に対する殺ダニ試験
ミカンハダニ雌成虫を寄生させたカンキツリーフディスク（直径２０ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは１２日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理２日後に雌成虫、処理１２日後に次世代幼虫の生存数をそれぞれ調査し、試験例１と同様に殺成虫率、次世代防除率を算出した（１区１０頭、２連制）。結果を第５表に示す。
【０１０１】
【表３０】
【０１０２】
【表３１】
【０１０３】
試験例３ ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）に対する殺ダニ試験
ミカンサビダニ成幼虫を寄生させたカンキツリーフディスク（直径１６ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは１２日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理前および処理２日後に成虫の生存数を調査し、試験例１と同様にして殺成虫率を算出した。処理１２日後に次世代抑制率を無処理区対比で、１００、９０、７５、５０、２５、０％のグレードに分けて調査し、その平
均値を次世代防除率とした（３０−１００頭／ディスク、２連制）。結果を第６表に示す。
【０１０４】
【表３２】
【０１０５】
【表３３】
【０１０６】
試験例４ トマトサビダニ（Aculops lycopersici）に対する殺ダニ試験
トマトサビダニ成幼虫を寄生させたトマトリーフディスク（直径８ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは７日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理前および処理３日後に成虫の生存数を調査し、試験例１と同様に殺成虫率を算出した。処理７日後に次世代抑制率を無処理区対比で、１００、９０、７５、５０、２５、０％のグレードに分けて調査し、その平均値を次世代
防除率とした（４０−１００頭／ディスク、２連制）。結果を第７表に示す。
【０１０７】
【表３４】
【０１０８】
試験例５ ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)に対する殺ダニ試験
ミカンキイロアザミウマ孵化幼虫を寄生させたインゲンリーフディスク（直径３０ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは７日間２５℃恒温室内にて寒天上で管理した。処理前および処理７日後に幼虫の生存数を調査し、下記式に従って、殺虫率を算出した。（１５−３０頭／ディスク、２連制）。結果を第８表に示す。
［式３］
殺虫率＝（１−生存虫数／供試虫数）×１００
【０１０９】
【表３５】
【０１１０】
【表３６】
【０１１１】
試験例６ ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）に対する殺ダニ試験
ミカンサビダニ成幼虫を寄生させたカンキツリーフディスク（直径１６ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは１２日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理前および処理２日後に成虫の生存数を調査し、試験例１と同様にして殺成虫率を算出した。処理１２日後に次世代抑制率を無処理区対比で、１００、９０、７５、５０、２５、０％のグレードに分けて調査し、その平均値を次世代防除率とした（３０−１００頭／ディスク、２連制）。結果を第９表に示す
。
［式４］
殺成虫率＝（１−生存虫数／供試虫数）×１００
［式５］
次世代防除率＝（１−処理区の次世代幼虫数／無処理区の次世代幼虫数）×１００
【表３７】
【０１１２】
試験例７ ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）（クロルフェナピル低感受性）に対する殺ダニ試験
試験例６と同様にして処理した。結果を第１０表に示す。
【表３８】
【０１１３】
試験例８ ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）（クロルフェナピル低感受性）に対する殺ダニ試験
試験例６と同様にして処理した。結果を第１１表に示す。
【表３９】
【技術分野】
【０００１】
本発明は置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物及びその使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、本発明類似の置換ピラゾールカルボン酸アミド誘導体が農園芸用殺虫剤、殺菌剤又は殺ダニ剤として有用であり、各種殺虫、殺ダニ剤と混合して使用できることが知られている（例えば、特許文献１乃至３参照。）。特許文献１では置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体が開示されているが、アニリン部分の置換基においては、ほぼ２位置換体に限られ、３位の置換基としてはメチル基のみであり、本発明の３位に炭素数２以上のアルキル基を導入した化合物は化合物一覧表にも開示されていない。更に、そこに具体的に開示されている３位メチル体は殺ダニ活性を示していない。特許文献２では置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体が開示されているが、アニリン部分の置換基においては、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキルアミノ基に限定されており、本発明の３位に炭素数２以上のアルキル基を直接導入した化合物は化合物一覧表にも開示されていない。特許文献３では置換ピラゾールカルボン酸アミド誘導体が開示されているが、複素環アミンとのアミド化合物が開示されているだけであり、本発明の置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体は開示されていない。
上記のように、本発明を構成する化合物の一つである置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体は従来技術には開示されていない新規化合物であり、これと殺虫活性又は殺ダニ活性を有する１又は２以上の化合物とを含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物もまた従来技術には開示されていない新規な技術である。
【特許文献１】特開２００３−４８８７８号公報
【特許文献２】特開２００４−１８９７３８号公報
【特許文献３】特開２００４−２６９５１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
農業及び園芸等の作物生産において、害虫等による被害は今なお大きく、既存薬に対する抵抗性害虫の発生等の要因から新規な有害生物防除剤組成物の開発が望まれている。又、就農者の老齢化等により各種の省力的施用方法が求められるとともに、これらの施用方法に適した性格を有する有害生物防除剤組成物の創出が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者等は新規な有害生物防除剤組成物を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物が、前記従来文献に記載された内容からは全く予想することの出来ない優れた防除効果を示すことを見いだし、本発明を完成させたものである。
【０００５】
即ち本発明は、
［１］ ａ）一般式（Ｉ）
【化１】
｛式中、Ｒ1は水素原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C2-C6アルケニルカルボニル基、ハロC2-C6アルケニルカルボニル基、C1-C6アルキルカルボニルC1-C6アルキル基、シクロC3-C6アルキル基、ハロシクロC3-C6アルキル基、シクロC3-C6アルキルC1-C6アルキル基、ハロシクロC3-C6アルキルC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニルオキシ C1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルチオC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルチオC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルキル基、モノC1-C6アルキルアミノC1-C6アルキル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノC1-C6アルキル基、フェニルC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基、C2-C6アルケニルオキシカルボニル基、C1-C6アルキルチオカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、シアノC1-C6アルキル基、フェニルC1-C6アルキル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を環上に有する置換フェニルC1-C6アルキル基、フェニルカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基、
【０００６】
複素環カルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換複素環カルボニル基、フェノキシカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アル
キルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェノキシカルボニル基、フェノキシC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルスルホニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルスルホニル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルホスホノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルホスホノチオ基、N-C1-C6アルキル-N-C1-C6アルコキシカルボニルアミノチオ基、N-C1-C6アルキル-N-C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルアミノチオ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノチオ基、シクロC3-C6アルキルカルボニル基、ハロシクロC3-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルキルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、フェニルC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、シクロC3-C6アルキルC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基、ハロシクロC3-C6アルキルC1-C6アルキルカルボニル基、フェノキシC1-C6アルコキシカルボニル基、C1-C6アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニルC1-C6アルキルカルボニル基又はC1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルカルボニル基を示す。
【０００７】
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基を示す。
ＧはC2-C10アルキル基又はC3-C10アルケニル基を示す。
Ｘは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基を示し、ｎは０〜３の整数を示す。
Ｙ1はC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、C3-C6シクロアルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基を示す。
Ｙ2は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基又はハロC1-C6アルキル基を示し、ｍは１又は２を示す。
Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。｝で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、ｂ）殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物、
【０００８】
［２］ 一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、Ｒ1が水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基であり、Ｒ2が水素原子又はC1-C6アルコキシ基であり、ＧがC2-C10アルキル基であり、ｎが０であり、Ｙ1がC1-C6アルキル基であり、Ｙ2が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍが２であり、Ｚが酸素原子である［１］に記載の有害生物防除剤組成物、
【０００９】
［３］ 殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物がフェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、トルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチン、エトキサゾール、プロパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、
メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド及びカルタップから選択される化合物である［１］又は［２］に記載の有害生物防除剤組成物、
【００１０】
［４］ 有用植物から有害生物を防除するために、［１］乃至［３］いずれか１つに記載の有害生物防除剤組成物の有効量を対象植物又は土壌に処理することを特徴とする有害生物防除剤組成物の使用方法、
［５］ 一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類を有効成分として含有する組成物と、殺虫活性或は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上を有効成分として含有する組成物とをそれぞれ同時期に植物、土壌又は栽培担体に処理することを特徴とする有害生物の防除方法、及び、
【００１１】
［６］ 一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、Ｒ1が水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基であり、Ｒ2が水素原子又はC1-C6アルコキシ基であり、ＧがC2-C10アルキル基であり、ｎが０であり、Ｙ1がC1-C6アルキル基であり、Ｙ2が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍが２であり、Ｚが酸素原子であり、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物がフェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、トルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチン、エトキサゾール、プリパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド及びカルタップから選択される化合物である［５］に記載の有害生物の防除方法に関する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、従来技術に比べて優れた性能を有する有害生物防除剤組成物を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
１）置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、各置換基における「ハロ」、「C1-C6アルキル」、「C1-C6アルコキシ」、「C2-C6アルケニル」、「C2-C6アルキニル」又は「複素環」等は以下の意味を示す。
「ハロ」又は「ハロゲン原子」とは、塩素原子、臭素原子、沃素原子又はフッ素原子を示す。「C1-C6アルキル」とは、直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキルを示し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられる。「C3-C6シクロアルキル」とは、環状の炭素原子数３〜６個のアルキルを示し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。「C1-C6アルコキシ」とは、そのアルキル部位が上記「C1-C6アルキル」であるアルコキシを示し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。「C2-C6アルケニル」とは、少なくとも１個の二重結合を有する直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数２〜６個のアルケニルを示し、例えば、ビニル、１−プロペニル、アリル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ペン
テニル、２，４−ペンタジエニル、３−ヘキセニル等が挙げられる。「C2-C6アルキニル」とは、少なくとも１個の三重結合を有する直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数２〜６個のアルキニルを示し、例えば、エチニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、２−ペンチニル、３−ヘキシニル等が挙げられる。又、「C2-C6」、「C3-C10」等の数字は炭素原子２個〜６個、３個〜１０個のように炭素原子数の範囲を示す。更に、上記置換基が連結した基についても上記定義を示すことができ、例えば、「ハロC1-C6アルキル」の場合は、同一又は異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された直鎖又は分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示し、例えば、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、パーフルオロヘキシル等が挙げられる。
【００１４】
「複素環」とは、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選択される１以上のヘテロ原子を有する５又は６員複素環を示し、例えば、ピリジン、ピリジン−Ｎ−オキシド、ピリミジン、フラン、テトラヒドロフラン、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、イミダゾール、トリアゾール、ピラゾール等が挙げられる。
【００１５】
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体の塩としては、アルカリ金属（リチウム、ナトリウム、カリウム等）の塩、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウム等）の塩、アンモニウム塩、有機アミン（メチルアミン、トリエチルアミン、ジエタノールアミン、ピペリジン、ピリジン等）の塩又は酸付加塩等が挙げられ、酸付加塩としては、例えば、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、安息香酸塩等のカルボン酸塩、メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩が挙げられる。
【００１６】
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体において、Ｒ1として好ましくは水素原子、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基であり、更に好ましくは水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基である。
【００１７】
Ｒ2として好ましくは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子又はC1-C6アルコキシ基である。Ｇとして好ましくはC2-C10アルキル基である。Ｘとして好ましくは水素原子又はC1-C6アルキル基であり、更に好ましくは水素原子である。ｎとして好ましくは０であり、これはＸが水素原子であることを表す。Ｚとして好ましくは酸素原子である。Ｙ1として好ましくはC1-C6アルキル基又はハロC1-C6アルキル基であり、更に好ましくはC1-C6アルキル基である。Ｙ2として好ましくは水素原子、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基又はハロC1-C6
アルキル基であり、更に好ましくはハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍとして好ましくは２である。
【００１８】
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類は、その構造式中に１つ又は複数個の不斉中心を含む場合があり、２種以上の光学異性体及びジアステレオマーが存在する場合もあり、本発明は各々の光学異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含する。又、その構造式中に炭素−炭素二重結合に由来する２種の幾何異性体が存在する場合もあるが、本発明は各々の幾何異性体及びそれらが任意の割合で含まれる混合物をも全て包含するものである。更に、水和物として存在する場合もあり、それらをも全て包含するものである。
【００１９】
以下に本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体の代表的な製造方法を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２０】
製造方法１
【化２】
（式中、Ｇ、Ｒ1、Ｘ、ｎ、Ｙ1、Ｙ2及びｍは前記に同じくし、Ｒ3は水素原子、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、フェニル基、置換フェニル基又はフェニルC1-C4アルキル基を示し、Ｗは−Ｏ−を示し、Ｑはハロゲン原子又はC1-C6アルコキシ基を示す。）
【００２１】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体のうち、ＺがＯで表され、Ｒ2が水素原子、ハロゲン原子又はＯＲ3（式中、Ｒ3は前記に同じ。）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体（I−１）は、一般式（II−１）〜一般式（II−３） で表されるアニリン誘導体と一般式（III）で表されるピラゾールカルボン酸ハライド又はピラゾールカルボン酸エステルを塩基の存在下又は不存在下に、不活性溶媒中で反応させることにより、又は一般式（II−１）〜一般式（II−３）で表されるアニリン誘導体と一般式（IV）で表されるピラゾールカルボン酸を縮合剤の存在下に、塩基の存在下又は不存在下、不活性溶媒中で反応させることにより製造することができるが、通常のアミド類の製造方法であれば良い。
一般式（II−２）で表されるアニリン誘導体は、一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体を還元剤の存在下、不活性溶媒中で還元することにより製造することができる。
一般式（II−３）で表されるアニリン誘導体は、一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体を塩基の存在下又は不存在下、不活性溶媒中で一般式（Ｖ）で表されるアルコール
誘導体と反応させることにより製造することができる。
【００２２】
一般式（II−１）→一般式（II−２）
本反応で使用できる還元剤としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム等の金属水素化物、金属リチウム等の金属又は金属塩等を例示することができ、その使用量は一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体に対して当量乃至過剰量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類、ジメチルスルホキシド等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至５０時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。又、反応系から目的物を単離せずに次の反応工程に供することも可能である。
【００２３】
一般式（II−１）→一般式（II−３）
本反応で使用できる塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等のアルキル金属類を例示することができ、その使用量は一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体に対して当量乃至過剰量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
反応温度は−７０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至５０時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。又、反応系から目的物を単離せずに次の反応工程に供することも可能である。
【００２４】
一般式（II−１）、一般式（II−２）又は一般式（II−３）→一般式（I−１）
本反応で使用する縮合剤としては、例えばシアノリン酸ジエチル（ＤＥＰＣ）、カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、クロロ炭酸エステル類、ヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウム等を例示することができる。
本反応で使用する塩基としては、無機塩基又は有機塩基が挙げられ、無機塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属原子の水酸化物や水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属の水素化物、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルコールのアルカリ金属塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類、有機塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ＤＢＵ等を例示することができ、その使用量は一般式（III）又は（IV）で表されるピラゾールカルボン酸誘導体に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良
い。
【００２５】
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン及びアセトン、メチルエチルケトン等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
本反応は等モル反応であるので、各反応剤を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。
本反応の原料化合物である一般式（II−１）で表されるアニリン誘導体は、特開平１１−３０２２３３号公報、特開２００１−１２２８３６号公報又は特開２００６−８６７５号公報の明細書に開示の製造方法等に準じて製造することができる。
【００２６】
一般式（III）又は（IV）で表されるピラゾールカルボン酸誘導体は公知文献（例えば、Ａｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，１９８３，３６，１３５−１４７、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８６，７５３−７５５、特開昭５２−８７１６８号公報、特開昭６３−４５２６4号公報、特開平１−１０６８６６号公報等。）記載の方法に準じて製造することができる。
【００２７】
製造方法２
【化３】
（式中、Ｇ、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、ｎ、Ｙ1、Ｙ2及びｍは前記に同じ。）
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体のうち、ＺがＳで表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体（I−２）は、（I−１）で表されるアニリン誘導体を公知の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２１（４２），４０６１（１９８０））に準じてローソン試薬と反応させることにより製造することができる。
【００２８】
製造方法３
【化４】
（式中、Ｇ、Ｒ2、Ｘ、ｎ、Ｙ1、Ｙ2、ｍ及びＱは前記に同じ。Ｒ1'はＲ1に同じくし、但し水素原子を除く。）
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体のうち、Ｒ1が水素原子以外の置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体（I−４）は、一般式（I−３）で表されるアミド誘導体と一般式（VI）で表されるハライド誘導体又はエステル誘導体を塩基の存在下又は不存在下に、不活性溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【００２９】
本反応で使用できる塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム等のアルキル金属類を例示することができ、その使用量は一般式（I−３）で表されるアミド誘導体に対して当量乃至過剰量の範囲から適宜選択して使用すれば良い。
本反応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の不活性溶媒を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種以上混合して使用することができる。
反応温度は−７０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域で行うことができ、反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、数分乃至５０時間の範囲で行えば良い。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単離すれば良く、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製することにより目的物を製造することができる。
【００３０】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体の代表的な化合物を第１表および第２表に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。又、表中の「物性」欄には融点（℃）又は屈折率［ｎD（℃）］を記載し、アモルファスあるいはペーストと記載した化合物については、その1ＨＮＭＲデータを第３表に示した。尚、表中、「ｎ−」はノルマルを、「ｉ−」はイソを、「ｔ−」はターシャリーを、「ｃ−」はシクロを、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｅｔ」はエチル基を、「Ｐｒ」はプロピル基を、「Ｂｕ」はブチル基を、「Ｐｅｎ」はペンチル基を、「Ｈｅｘ」はヘキシル基を、「Ｐｈ」はフェニル基を、「Ｂｎ」はベンジル基を、「Ａｃ」はアセチル基を、「Ｐｙｒ」はピラジニル基を示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】
【表３】
【００３４】
【表４】
【００３５】
【表５】
【００３６】
【表６】
【００３７】
【表７】
【００３８】
【表８】
【００３９】
【表９】
【００４０】
【表１０】
【００４１】
【表１１】
【００４２】
【表１２】
【００４３】
【表１３】
【００４４】
【表１４】
【００４５】
【表１５】
【００４６】
【表１６】
【００４７】
【表１７】
【００４８】
【表１８】
【００４９】
【表１９】
【００５０】
【表２０】
【００５１】
【表２１】
【００５２】
【表２２】
【００５３】
【表２３】
【００５４】
【表２４】
【００５５】
【表２５】
【００５６】
【表２６】
【００５７】
【表２７】
【００５８】
２）殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物
殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物としては、クロロニコチニル系化合物、カーバメート系化合物、ピレスロイド系化合物、マクロライド系化合物、有機リン系などの殺虫剤等が挙げられ、例えば以下に一般名で示す化合物を例示することができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
アセタミプリド(acetamiprid) 、ピメトロジン(pymetrozine) 、フェニトロチオン(fenitrothion)、アセフェート(acephate)、カルバリル(carbaryl)、メソミル(methomyl)、カルタップ(cartap)、シハロトリン(cyhalothrine)、エトフェンプロックス(ethofenprox) 、テフルベンズロン(teflubenzuron) 、フルベンジアミド(flubendiamide)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、テブフェノジド(tebufenozide)、フェンピロキシメート(fenpyroximate) 、ピリダベン(pyridaben) 、イミダクロプリド(imidacloprid)、ブプロフェジン(buprofezin)、ＢＰＭＣ(fenobucarb)、ＭＩＰＣ(isoprocarb)、マラチオン(malathion) 、メチダチオン(methidathion)、フェンチオン(fenthion)、ダイアジノン(diazinon)、オキシデプロホス(oxydeprofos) 、バミドチオン(vamidothion) 、エチオフェンカルブ(ethiophencarbe)、ピリミカーブ(pirimicarb)、ペルメトリン(permethrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、シラフルオフェン(silafluofen) 、ニテンピラム(nitenpyram)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide) 、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、ピリミジフェン(pyrimidifen) 、ケルセン(dicofol) 、プロパルギット(propargite)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox) 、クロフェンテジン(clofentezine)、スピノサド(spinosad)、ミルベメクチン(milbemectin) 、ＢＴ(bacillus thuringiensis)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メタフルミゾン(metaflumizone)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、フィプロニル(fipronil)、エトキサゾール(etoxazole) 、アセキノシル(acequinocyl) 、ピリミホスメチル(pirimiphos-methyl) 、アクリナトリン(acrinathrin) 、キノメチオネート(quinomethionate) 、クロルピリホス(chlorpyriphos) 、アバメクチン(avermectin)、エマメクチン安息香酸塩(emamecti benzoate)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、テルブホス(terbufos)、エトプロホス(ethoprophos) 、カズサホス(cadusafos) フェナミフォス(fenamiphos)、フェンスルフォチオン(fensulfothion) 、ＤＳＰ、ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、ホスチアゼート(fosthiazate) 、オキサミル(oxamyl)、イサミドホス(isamidofos)、ホスチエタン(fosthietan)、イサゾホス(isazofos)、チオナジン(thionazin) 、ベンフラカルブ(benfuracarb) 、スピロジクロフェン(spirodiclofen) エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、アジンホス・メチル(azinphos-methyl)、ジスルホトン(disulfoton)、メチオカルブ(methiocarb)、オキシジメトン・メチル(oxydemeto n-methyl)、パラチオン(parathions)、シフルトリン(cyfluthrin)、ベータ・シフルトリン(beta-cyfluthrin)、テブピリムホス(tebupirimfos)、スピロメシフェン(spiromesifen)、エンドスルファン(endosulfan)、アミトラズ(amitraz)、トラロメトリン(tralomethrin)
、アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、
【００５９】
エチオン(ethion)、トリクロルホン(trichlorfon, DEP)、メタミドホス(metamidophos)、ジクロルボス(dichlorvos, DDVP)、メビンホス(mevinphos) 、モノクロトホス(monocrotophos) 、ジメトエート(dimethoate ) 、フォルメタネート(formetanate)、ホルモチオン(formothion)、メカルバム(mecarbam)、チオメトン(thiometon) 、ジスルホトン(disulfoton)、ナレッド(naled, BRP)、メチルパラチオン(methylparathion) 、シアノホス(cyanophos) 、ジアミダホス(diamidafos)、アルベンダゾール(albendazole) 、オキシベンダゾール(oxibendazole)、フェンベンダゾール(fenbendazole)、オクスフェンダゾール(oxfendazole) 、プロパホス(propaphos) 、スルプロホス(sulprofos) 、プロチオホス(prothiofos)、プロフェノホス(profenofos)、イソフェンホス(isofenphos)、テメホス(temephos)、フェントエート(phenthoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos) 、クロルフェビンホス(chlorfevinphos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos) 、ホキシム(phoxim)、イソキサチオン(isoxathion)、ピラクロホス(pyraclofos)、クロルピリホス−メチル(chlorpyrifos-methyl) 、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、ホサロン(phosalone) 、ホスメット(phosmet) 、ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos) 、キナルホス(quinalphos)、ピレトリン(pyrethrins)、アレスリン(allethrin) 、プラレトリン(prallethrin) 、レスメトリン(resmethrin)、ペルメトリン(permethrin)、テフルトリン(tefluthrin)、フェンプロパトリン(fenpropathrin) 、アルファシペルメトリン(alpha-cypermethrin)、ラムダ・シハルトリン(lambda-cyhalothrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、フェンバレレート(fenvalerate) 、エスフェンバレレート(esfenvalerate) 、フルシトリネート(flucythrinate) 、フルバリネート(fluvalinate) 、シクロプロトリン(cycloprothrin) 、チオジカルブ(thiodicarb)、アルジカルブ(aldicarb)、アラニカルブ(alanycarb) 、メトルカルブ(metolcarb) 、キシリカルブ(xylycarb)、プロポキスル(propoxur)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、ビフェナゼート(bifenazate)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan) 、硫黄、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、
【００６０】
フラチオカルブ(furathiocarb)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron) 、ジフルベンズロン(diflubenzuron) 、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ノバルロン(novaluron) 、ルフェヌロン(lufenuron) 、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、水酸化トリシクロヘキシルスズ(cyhexatin) 、オレイン酸ナトリウム(Oleic acid sodium salt)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、メトプレン(methoprene)、ハイドロプレン(hydroprene)、ビナパクリル(binapacryl)、アミトラズ(amitraz) 、クロルベンジレート(chlorbenzilate)、フェニソブロモレート(phenisobromolate)、テトラジホン(tetradifon)、ベンスルタップ(bensultap) 、ベンゾメート(benzomate) 、クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、エンドスルファン(endosulfan)、ジオフェノラン(diofenolan)、トルフェンピラド(tolfenpyrad) 、トリアザメート(triazamate)、硫酸ニコチン(nicotine-sulfate)、チアクロプリド(thiacloprid) 、チアメトキサム(thiamethoxam)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、フルアジナム(fluazinam) 、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、シロマジン(cyromazine)、ＴＰＩＣ(tripropylisocyanurate)、チオシクラム(thiocyclam)、フェナザキン(fenazaquin)、ポリナクチン複合体(polynactins) 、アザディラクチン(azadirachtin)、ロテノン(rotenone)、ヒドロキシプロピルデンプン（hydroxy propyl starch）、メスルフェンホス(mesulfenfos) 、ホスホカルブ(phosphocarb) 、イソアミドホス(isoamidofos) 、アルドキシカルブ(aldoxycarb)、メタム・ナトリウム(metam-sodium)、酒石酸モランテル(morantel tartrate) 、ダゾメット(dazomet) 、塩酸レバミゾール(levamisol) 、トリクラミド(trichlamide) 、ピリダリル(pyridalyl)等。
これらのうち好ましくは、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、ト
ルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチン、エトキサゾール、プロパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド、カルタップである。
これらは、公知文献（例えば、Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ Ｔｈｉｒｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ ２００３、渋谷成美，他３名，「ＳHＩＢＵＹＡ ＩＮＤＥＸ−２００６−１１ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ」，ＳHＩＢＵＹＡ ＩＮＤＥＸ研究会，２００６年５月２５日発行などを参照。）記載の公知化合物である。
【００６１】
３）有害生物防除剤組成物
本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物は、水稲、果樹、野菜、その他の作物及び花卉類を加害する各種農林、園芸、貯穀害虫や衛生害虫或いは線虫等の害虫防除に適しており、例えばリンゴコカクモンハマキ（Adoxophyes orana fasciata）、チャノコカクモンハマキ（Adoxophyes sp.） 、リンゴコシンクイ（Grapholita inopinata）、ナシヒメシンクイ（Grapholita molesta）、マメシンクイガ（Leguminivora glycinivorella）、クワハマキ（Olethreutes mori）、チャノホソガ（Caloptilia thevivora）、リンゴホソガ（Caloptilia zachrysa）、キンモンホソガ（Phyllonorycter ringoniella）、ナシホソガ（Spulerrina astaurota）、モンシロチョウ（Piers rapae crucivora） 、オオタバコガ類（Heliothis sp.）、コドリンガ（Laspey resia pomonella）、コナガ（Plutella xylostella）、リンゴヒメシンクイ（Argyresthia conjugella）、モモシンクイガ（Carposina niponensis）、ニカメイガ（Chilo suppressalis）、コブノメイガ（Cnaphalocrocis medinalis）、チャマダラメイガ（Ephestia elutella）、クワノメイガ（Glyphodes pyloalis）、サンカメイガ（Scirpophaga incertulas）、イチモンジセセリ（Parnara guttata）、アワヨトウ（Pseudaletia separata）、イネヨトウ（Sesamia inferens）、ハスモンヨトウ（Spodoptera litura）、シロイチモジヨトウ（Spodoptera exigua）等の鱗翅目害虫、
【００６２】
フタテンヨコバイ（Macrosteles fascifrons）、ツマグロヨコバイ（Nephotettix cincticeps）、トビイロウンカ（Nilaparvata lugens）、セジロウンカ（Sogatella furcifera）、ミカンキジラミ（Diaphorina citri）、ブドウコナジラミ（Aleurolobus taonabae）、タバココナジラミ（Bemisia tabaci）、オンシツコナジラミ（Trialeurodes vaporariorum） 、ニセダイコンアブラムシ（Lipaphis erysimi）、モモアカアブラムシ（Myzus persicae）、ツノロウムシ（Ceroplastes ceriferus） 、ミカンワタカイガラムシ（Pulvinaria aurantii）、ミカンマルカイガラムシ（Pseudaonidia duplex）、ナシマルカイガラムシ（Comstockaspis perniciosa）、ヤノネカイガラムシ（Unaspis yanonensis）等の半翅目害虫、ヒメコガネ（Anomala rufocuprea）、マメコガネ（Popilla japonica）、タバコシバンムシ（Lasioderma serricorne）、ヒラタキクイムシ（Lyctus brunneus）、ニジュウヤホシテントウ（Epilachna vigintiotopunctata）、アズキゾウムシ（Callosobruchus chinensis）、ヤサイゾウムシ（Listroderes costirostris）、コクゾウムシ（Sitophilus zeamais）、ワタミゾウムシ（Anthonomus grandis grandis）、イネミズゾウムシ（Lissorhoptrus oryzophilus）、ウリハムシ（Aulacophora femoralis）、イネドロオイムシ（Oulema oryzae）、キスジノミハムシ（Phyllotreta striolata）、マツノキクイムシ（Tomicus piniperda）、コロラドポテトビートル（Leptinotarsa decemlineata）、メキシカンビーンビートル（Epilachna varivestis）、コーンルートワーム類（Diabrotica sp.）等の甲虫目害虫、
【００６３】
ウリミバエ（Dacus（Zeugodacus）cucurbitae）、ミカンコミバエ（Dacus（Bactrocera）
dorsalis）、イネハモグリバエ（Agromyza oryzae）、タマネギバエ（Delia antiqua）、タネバエ（Dalia platura）、ダイズサヤタマバエ（Asphondylis sp.）等の双翅目害虫、ミナミネグサレセンチュウ（Pratylenchus coffeae）、ジャガイモシストセンチュウ（Glabodera rostchiensis）、ネコブセンチュウ（Meloidogyne sp.）、ミカンネセンチュウ（Tylenchulus semipenetrans）、ニセネグサレセンチュウ（Aphelenchus avenae）、ハガレセンチュウ（Aphelenchoides ritzemabosi）等のハリセンチュウ目害虫、ミカンハダニ（Panonychus citri）、リンゴハダニ（Panonychus ulmi）、ニセナミハダニ（Tetranychus cinnabarinus）、カンザワハダニ（Tetranychus kanzawai Kishida）、ナミハダニ（Tetranychus urticae Koch）、チャノナガサビダニ（Acaphylla theae）、ミカンサビハダニ（Aculops pelekassi）、チャノサビダニ（Calacarus carinatus）、ナシサビダニ（Epitrimerus pyri）、トマトサビダニ（Aculops lycopersici）等のダニ目害虫、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis) 、ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)、ネギアザミウマ(Thrips tabaci) 、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)等のアザミウマ目害虫等に対して強い殺虫効果を有するものである。
【００６４】
本発明の有害生物防除剤組成物は、農園芸用殺虫剤又は殺ダニ剤としての使用が好ましいが、森林・木材用害虫、畜産用害虫、衛生用害虫等の種々の害虫類に対して優れた防除効果を示し、幅広い分野で害虫防除剤として使用することができ、これらの害虫類としては、例えば、ヤマトアブ等のアブ科、イエバエ等のイエバエ科、ウマバエ等のウマバエ科、ウシバエ等のウシバエ科、オオキモンノミバエ等のノミバエ科、アカイエカ、シマハマダラカ、ヒトスジシマカ、ヤマトヤブカ等のカ科、ネコノミ、イヌノミ、ヒトノミ等のヒトノミ科、ヤマトマダニ等のマダニ科、モンシロドクガ等のドクガ科、コクゾウムシ等のオサゾウムシ科、キイロスズメバチ等のスズメバチ科、チャバネゴキブリ等のチャバネゴキブリ科、ワモンゴキブリ、ヤマトゴキブリ等のゴキブリ科、ケジラミ等のケジラミ科、ヤマトシロアリ、イエシロアリ等のシロアリ科、シュルツェマダニ等のマダニ科、イエダニ等のオオサシダニ科等を挙げることができる。
【００６５】
本発明の有害生物防除剤組成物は、水田作物、畑作物、果樹、野菜、その他の作物及び花卉等に被害を与える前記害虫に対して顕著な防除効果を有するので、害虫の発生が予測される時期に合わせて、害虫の発生前又は発生が確認された時点で水田、畑、果樹、野菜、その他の作物、花卉等の種子、水田水、茎葉又は土壌に処理することにより本発明の有害生物防除剤組成物の所期の効果が奏せられるものである。
本発明の有害生物防除剤組成物はそのまま、又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた形で有害生物防除に有効な量を有害生物の発生が予測される植物に使用すればよく、例えば果樹、穀類、野菜等において発生する有害生物に対しては茎葉部に散布する他に、種子の薬剤への浸漬、種子粉衣、カルパー処理等の種子処理、土壌全層混和、作条施用、床土混和、セル苗処理、植え穴処理、株元処理、トップドレス、イネの箱処理、水面施用等、土壌等に処理して根から吸収させて使用することもできる。加えて、養液（水耕）栽培における養液への施用、くん煙あるいは樹幹注入等による使用もできる。
更に、例えば貯穀害虫、家屋害虫、衛生害虫、森林害虫等に散布する他に、家屋建材への塗布、くん煙、ベイト等としての使用することもできる。
【００６６】
種子処理の方法としては、例えば、液状又は固体状の製剤を希釈又は希釈せずして液体状態にて種子を浸漬して薬剤を浸透させる方法、固形製剤又は液状製剤を種子と混和、粉衣処理して種子の表面に付着させる方法、樹脂、ポリマー等の付着性の担体と混和して種子にコーティングする方法、植え付けと同時に種子付近に散布する方法等が挙げられる。
当該種子処理を行う「種子」とは、植物の繁殖に用いられる栽培初期の植物体を意味し、例えば、種子の他、球根、塊茎、種芋、株芽、むかご、鱗茎又は挿し木栽培等を挙げることができる。
本発明の使用方法を実施する場合の植物の「土壌」又は「栽培担体」とは、作物を栽培
するための支持体、特に根を生えさせる支持体を示すものであり、材質は特に制限されないが、植物が生育しうる材質であれば良く、いわゆる土壌、育苗マット、水等であっても良く、具体的な素材としては例えば、砂、軽石、バーミキュライト、珪藻土、寒天、ゲル状物質、高分子物質、ロックウール、グラスウール、木材チップ、バーク、紙等であっても良い。
【００６７】
作物茎葉部あるいは貯穀害虫、家屋害虫、衛生害虫、森林害虫等への散布方法としては、乳剤、フロアブル剤等の液体製剤又は水和剤もしくは顆粒水和剤等の固形製剤を水で適宜希釈し、散布する方法、粉剤を散布する方法又はくん煙等が挙げられる。
土壌への施用方法としては、例えば、液体製剤を水に希釈又は希釈せずして植物体の株元又は育苗用苗床等に施用する方法、粒剤を植物体の株元又は育苗のための苗床等に散布する方法、播種前又は移植前に粉剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤等を散布し土壌全体と混和する方法、播種前又は植物体を植える前に植え穴、作条等に粉剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤等を散布する方法等が挙げられる。
【００６８】
水稲の育苗箱への施用方法としては、剤型は、例えば播種時施用、緑化期施用、移植時施用などの施用時期により異なる場合もあるが、粉剤、顆粒水和剤、粒剤等の剤型で施用すれば良い。培土との混和によっても施用することができ、培土と粉剤、顆粒水和剤又は粒剤等との混和、例えば、床土混和、覆土混和、培土全体への混和等することができ、単に、培土と各種製剤を交互に層状にして施用してもよい。
【００６９】
水田への施用方法としては、ジャンボ剤、パック剤、粒剤、顆粒水和剤等の固形製剤、フロアブル、乳剤等の液体状製剤を、通常は、湛水状態の水田に散布する。その他、田植え時には、適当な製剤をそのまま又は肥料等に混和して土壌に散布、注入することもできる。又、水口や灌漑装置等の水田への水の流入元に乳剤、フロアブル等の薬液を利用することにより、水の供給に伴い省力的に施用することもできる。
畑作物においては、播種から育苗期、生育期において、種子又は植物体に近接する栽培担体等へ処理ができる。畑に直接播種する植物においては、種子への直接処理の他、栽培中の植物の株元への処理が好適である。粒剤を用いて散布処理又は水に希釈又は希釈しない薬剤を液状にて潅注処理を行うことができる。粒剤を播種前の栽培担体と混和させた後、播種するのも好ましい処理である。
移植を行う栽培植物の播種、育苗期の処理としては、種子への直接処理の他、育苗用苗床への、液状とした薬剤の潅注処理又は粒剤の散布処理が好ましい。又、定植時に粒剤を植え穴に処理したり、移植場所近辺の栽培担体に混和することも好ましい処理である。
本発明の有害生物防除剤組成物を使用できる植物は特に限定されるものではないが、例えば以下に示した植物が挙げられる。
【００７０】
穀類（例えば、稲、大麦、小麦、ライ麦、オート麦、トウモロコシ、高粱等）、豆類（大豆、小豆、そら豆、えんどう豆、落花生等）、果樹・果実類（リンゴ、柑橘類、梨、ブドウ、桃、梅、桜桃、クルミ、アーモンド、バナナ、イチゴ等）、野菜類（キャベツ、トマト、ほうれん草、ブロッコリー、レタス、タマネギ、ネギ、ピーマン等）、根菜類（ニンジン、馬鈴薯、サツマイモ、大根、蓮根、かぶ等）、加工用作物類（綿、麻、コウゾ、ミツマタ、菜種、ビート、ホップ、サトウキビ、テンサイ、オリーブ、ゴム、コーヒー、タバコ、茶等）、瓜類（カボチャ、キュウリ、スイカ、メロン等）、牧草類（オーチャードグラス、ソルガム、チモシー、クローバー、アルファルファ等）、芝類（高麗芝、ベントグラス等）、香料等用作物類（ラベンダー、ローズマリー、タイム、パセリ、胡椒、しょうが等）、花卉類（キク、バラ、蘭等）等の植物に使用できる。
また、近年、遺伝子組み換え作物（除草剤耐性作物、殺虫性タンパク産生遺伝子を組み込んだ害虫耐性作物、病害に対する抵抗性誘導物質産生遺伝子を組み込んだ病害耐性作物、食味向上作物、保存性向上作物、収量向上作物など）、昆虫性フェロモン（ハマキガ類
、ヨトウガ類の交信攪乱剤など）、天敵昆虫などを用いたＩＰＭ（総合的害虫管理）技術が進歩しており、本発明の有害生物防除剤組成物はそれらの技術と併用、あるいは体系化して用いることができる。
【００７１】
本発明の有害生物防除剤組成物は、農薬製剤上の常法に従い使用上都合の良い形状に製剤して使用するのが一般的である。
即ち、一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを適当な不活性担体に、又は必要に応じて補助剤と一緒に適当な割合に配合して溶解、分離、懸濁、混合、含浸、吸着若しくは付着させて適宜の剤型、例えば懸濁剤、乳剤、液剤、水和剤、顆粒水和剤、粒剤、粉剤、錠剤、パック剤等に製剤して使用すれば良い。
【００７２】
本発明で使用できる不活性担体としては固体又は液体の何れであっても良く、固体の担体になりうる材料としては、例えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉末、植物エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘土類（例えばカオリン、ベントナイト、酸性白土等）、タルク類（例えばタルク、ピロフィライト等）、シリカ類｛例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン（含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分として含むものもある。）｝、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック担体、硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を挙げることができ、これらは単独で若しくは二種以上の混合物の形で使用される。
【００７３】
液体の担体になりうる材料としては、それ自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助剤の助けにより有効成分化合物を分散させうることとなるものから選択され、例えば代表例として次に挙げる担体を例示できるが、これらは単独で若しくは２種以上の混合物の形で使用され、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えばエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えばケロシン、鉱油等）、芳香族炭化水素類（例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、塩素化ベンゼン等）、エステル類（例えば酢酸エチル、ジイソプロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等）、アミド類（例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリル類（例えばアセトニトリル等）、ジメチルスルホキシド類等を挙げることができる。
【００７４】
他の補助剤としては次に例示する代表的な補助剤をあげることができ、これらの補助剤は目的に応じて使用され、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を併用し、又ある場合には全く補助剤を使用しないことも可能である。
有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び／又は湿潤の目的のために界面活性剤が使用され、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等の界面活性剤を例示することができる。
又、有効成分化合物の分散安定化、粘着及び／又は結合の目的のために、次に例示する補助剤を使用することもでき、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、松根油、糠油、ベントナイト、リグニンスルホン酸塩等の補助剤を使用することもできる。
【００７５】
固体製品の流動性改良のために次に挙げる補助剤を使用することもでき、例えばワックス、ステアリン酸塩、燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用できる。懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレンスルホン酸縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を使用することもできる。
消泡剤としては、例えばシリコーン油等の補助剤を使用することもできる。
防腐剤としては、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、パラクロロメタキシレノール、パラオキシ安息香酸ブチル等も添加することができる。
更に必要に応じて機能性展着剤、ピペロニルブトキサイド等の代謝分解阻害剤等の活性増強剤、プロピレングリコール等の凍結防止剤、ＢＨＴ等の酸化防止剤、紫外線吸収剤等その他の添加剤も加えることが可能である。
【００７６】
本発明の有害生物防除剤組成物中の有効成分化合物の配合割合は必要に応じて加減することができ、有害生物防除剤組成物１００重量部中、０．０１〜９０重量部の範囲から適宜選択して使用すれば良く、例えば粉剤又は粒剤とする場合は０．０１〜５０重量％、又乳剤又は水和剤とする場合も同様０．０１〜５０重量％が適当である。また、一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する１又は２以上の化合物の配合割合は、一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類１重量部に対して殺虫活性又は殺ダニ活性を有する１又は２以上の化合物を０．０１〜３００重量部の範囲で適宜選択して使用すれば良い。
本発明の有害生物防除剤組成物は各種害虫を防除するためにそのまま、又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた形で害虫防除に有効な量を当該害虫の発生が予測される作物若しくは発生が好ましくない場所に適用して使用すれば良い。
本発明の有害生物防除剤組成物の使用量は種々の因子、例えば目的、対象害虫、作物の生育状況、害虫の発生傾向、天候、環境条件、剤型、施用方法、施用場所、施用時期等により変動するが、有効成分化合物として１０アール当たり０．００１ｇ〜１０ｋｇ、好ましくは０．０１ｇ〜１ｋｇの範囲から目的に応じて適宜選択すれば良い。
また、本発明の使用方法では、一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類を有効成分として含有する組成物と、殺虫活性或は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上を有効成分として含有する組成物とをそれぞれ同時期に植物、土壌又は栽培担体に処理することもできる。
【００７７】
本発明の有害生物防除剤組成物は、更に防除対象病害虫、防除適期の拡大のため、或いは薬量の低減をはかる目的で他の殺菌剤、生物農薬等と混合して使用することも可能であり、又、使用場面に応じて除草剤、植物成長調節剤、肥料等と混合して使用することも可能である。
かかる目的で使用する他の農園芸用殺菌剤としては、例えば硫黄、石灰硫黄合剤、塩基性硫酸銅、イプロベンホス、エディフェンホス、トルクロホス・メチル、チラム、ポリカーバメイト、ジネブ、マンゼブ、マンコゼブ、プロピネブ、チオファネート、チオファネートメチル、ベノミル、イミノクタジン酢酸塩、イミノクタジンアルベシル酸塩、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、フラメトピル、チフルザミド、メタラキシル、オキサジキシル、カルプロパミド、ジクロフルアニド、フルスルファミド、クロロタロニル、クレソキシム・メチル、フェノキサニル、ヒメキサゾール、エクロメゾール、フルオルイミド、プロシミドン、ビンクロゾリン、イプロジオン、トリアジメホン、ビテルタノール、トリフルミゾール、イプコナゾール、フルコナゾール、プロピコナゾール、ジフェノコナゾール、ミクロブタニル、テトラコナゾール、ヘキサコナゾール、テブコナゾール、チアジニル、イミベンコナゾール、プロクロラズ、ペフラゾエート、シプロコナゾール、イ
ソプロチオラン、フェナリモル、ピリメタニル、メパニピリム、ピリフェノックス、フルアジナム、トリホリン、ジクロメジン、アゾキシストロビン、チアジアジン、キャプタン、プロベナゾール、アシベンゾフラルＳメチル、フサライド、トリシクラゾール、ピロキロン、キノメチオネート、オキソリニック酸、ジチアノン、カスガマイシン、バリダマイシン、ポリオキシン、ブラストサイジン、ストレプトマイシン等の農園芸用殺菌剤を例示することができ、
【００７８】
同様に除草剤としては、例えばグリホサート、スルホセート、グルホシネート、ビアラホス、ブタミホス、エスプロカルブ、プロスルホカルブ、ベンチオカーブ、ピリブチカルブ、アシュラム、リニュロン、ダイムロン、イソウロン、ベンスルフロンメチル、シクロスルファムロン、シノスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、テニルクロール、アラクロール、プレチラクロール、クロメプロップ、エトベンザニド、メフェナセット、ペンディメタリン、ビフェノックス、アシフルオフェン、ラクトフェン、シハロホップブチル、アイオキシニル、ブロモブチド、アロキシジム、セトキシジム、ナプロパミド、インダノファン、ピラゾレート、ベンゾフェナップ、ピラフルフェンエチル、イマザピル、スルフェントラゾン、カフェンストロール、ベントキサゾン、オキサジアゾン、パラコート、ジクワット、ピリミノバック、シマジン、アトラジン、ジメタメトリン、トリアジフラム、ベンフレセート、フルチアセットメチル、キザロホップ・エチル、ベンタゾン、過酸化カルシウム等の除草剤を例示することができる。
【００７９】
又、生物農薬として、例えば核多角体ウイルス（Nuclear polyhedrosis virus、NPV）、顆粒病ウイルス（Granulosis virus、GV）、細胞質多角体病ウイルス（Cytoplasmic polyhedrosis virus、CPV）、昆虫ポックスウイルス（Entomopox virus 、EPV）等のウイルス製剤、モノクロスポリウム・フィマトパガム（Monacrosporium phymatophagum）、スタイナ−ネマ・カーポカプサエ（Steinernema carpocapsae）、スタイナ−ネマ・クシダエ（Steinernema kushidai）、パスツーリア・ペネトランス（Pasteuria penetrans）等の殺虫又は殺線虫剤として利用される微生物農薬、トリコデルマ・リグノラン（Trichoderma lignorum）、アグロバクテリウウム・ラジオバクター（Agrobacterium radiobactor）、非病原性エルビニア・カロトボーラ（Erwinia carotovora）、バチルス・ズブチリス（Bacillus subtilis）等の殺菌剤として使用される微生物農薬、ザントモナス・キャンペストリス（Xanthomonas campestris）等の除草剤として利用される生物農薬などと混合して使用することにより、同様の効果が期待できる。
【００８０】
更に、生物農薬として例えばオンシツツヤコバチ（Encarsia formosa）、コレマンアブラバチ（Aphidius colemani）、ショクガタマバエ（Aphidoletes aphidimyza）、イサエアヒメコバチ（Diglyphus isaea）、ハモグリコマユバチ（Dacnusa sibirica）、チリカブリダニ（Phytoseiulus persimilis）、ククメリスカブリダニ（Amblyseius cucumeris）、ナミヒメハナカメムシ（Orius sauteri）等の天敵生物、ボーベリア・ブロンニアティ（Beauveria brongniartii）等の微生物農薬、（Ｚ）−１０−テトラデセニル＝アセタート、（Ｅ，Ｚ）−４，１０−テトラデカジニエル＝アセタート、（Ｚ）−８−ドデセニル＝アセタート、（Ｚ）−１１−テトラデセニル＝アセタート、（Ｚ）−１３−イコセン−１０−オン、（Ｚ）−１３−イコセン−１０−オン、１４−メチル−１−オクタデセン等のフェロモン剤と併用することも可能である。
【実施例】
【００８１】
以下に本発明の一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体について、実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
参考例１ １，３−ジメチル−５−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸化合物Ｎｏ．４−１）の製造
４−ヨード−１，３−ジメチル−５−トリフルオロメチルピラゾール（８．７ｇ，３０
ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８７ｍｌ）に溶解し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，２８ｍｌ）をアルゴン雰囲気下、ドライアイス−アセトンで冷却下（−６０℃以下）、ゆっくりと加えた。３０分間−７０℃で攪拌したのち、二酸化炭素を吹き込みながら室温まで徐々に昇温させた。反応液を水に注ぎ、有機層を除いた後、水層を塩酸で酸性にした。酢酸エチルで抽出、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、得られた粗結晶をヘキサンで洗浄することにより目的物４．６７ｇを結晶として得た。
収率 ７４％
物性：融点 １２４‐１２５．５℃
【００８２】
実施例１ Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１,５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−２１１）の製造
１，５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸（２.０９ｇ，１０ｍｍｏｌ）を塩化チオニルに溶解し、３時間加熱還流した。減圧濃縮により、１，５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸クロリドを得た。これを、３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（３．２９ｇ,１０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．０３ｇ，３０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液に加え、２時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈後、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて分離精製することにより目的物３．６４ｇを結晶として得た。
収率 ７０％
物性：融点 １３８−１３９℃
【００８３】
実施例２ Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−２２２）の製造
水素化ナトリウム（３２ｍｇ，６０％，０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（テトラヒドロフラン、１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，５−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（２５０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、クロロメチルメチルエーテル（６４ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、５時間攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて分離精製することにより目的物２３８ｍｇを得た。
収率：８８％
物性：ｎD１．４６６９（２２．４℃）
【００８４】
参考例２ ２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（化合物Ｎｏ．３−１）の製造
５−ｎ−プロピル−２−メチルアニリン（１４．９ｇ，０．１ｍｏｌ）をターシャリーブチルメチルエーテル−水（１：１）混合溶媒３００ｍｌに希釈し、ヘプタフルオロイソプロピルヨージド（２９．６ｇ，０．１ｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムハイドロゲンサルフェート（３．４ｇ，０．０１ｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム（８．４ｇ，０．１ｍｏｌ）、亜ジチオン酸ナトリウム（１７ｇ，０．１ｍｏｌ）を順次加え、室温で一晩攪拌した。反応液をヘキサンで希釈し、３規定塩酸で２回洗浄し、重曹水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ５：１）にて分離精製して、目的物２８．５ｇを得た。
収率：９０％
物性：1H-NMR［CDCl3/TMS,δ値（ppm）］
7.09（s,1H）,6.54（s,1H）,3.76（bs,2H）,2.63（m,2H）,2.13(s,3H),
1.58（m,2H）,0.96（t,3H）
【００８５】
参考例３ ４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルアニリン（化合物Ｎｏ．３−３）の製造
２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（１．６ｇ，５ｍｍｏｌ）を２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液（９．６ｇ）に溶解し、３時間加熱攪拌した。放冷後、反応液を氷水中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて分離精製することにより目的物１．３１ｇを得た。
収率：７９％
物性：1H-NMR[CDCl3/TMS,δ値（ppm）]
7.10(s,1H),6.66(s,1H),3.72(bs,2H),3.42(s,3H),2.84(m,2H),2.14(s,3H),
1.61(m,2H),1.00(t,3H)
【００８６】
参考例４ ２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（化合物Ｎｏ．３−２）の製造
２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（１．６ｇ，５ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（２０ｍｌ）に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム（３７８ｍｇ，１０ｍｍｏｌ）を少しずつ加え、６０℃で５時間攪拌した。反応液に氷を少量ずつ加え、その後酢酸を滴下した。酢酸エチルにて反応液を希釈し、４回水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮することにより、目的物１．４７ｇを得た。
収率：９９％
物性：1H-NMR[CDCl3/TMS,δ値（ppm）]
7.18(s,1H),6.54(s,1H),4.45-4.20(br,2H),4.27(m,1H),2.50(dd,2H),
2.14(s,3H),1.57(m,2H),0.98(t,3H)
【００８７】
実施例３ Ｎ−｛４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルフェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−１５）の製造
１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸クロリド（１７２ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルアニリン（３２９ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、及びトリエチルアミン（３０３ｍｇ，３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）に溶解し、３時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈後、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）にて分離精製することにより目的物３６０ｍｇを得た。
収率：７７％
物性：融点 １３２〜１３４℃
【００８８】
実施例４ Ｎ−アセチル−Ｎ−｛４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルフェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−１６）の製造
水素化ナトリウム（３２ｍｇ，６０％，０．８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルフェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾ
ール−４−カルボン酸アミド（２５０ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、無水酢酸（８０ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、１昼夜攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて分離精製することにより目的物１３９ｍｇを得た。
収率：５２％
物性：ｎD１．４９０５（２５．９℃）
【００８９】
実施例５ Ｎ−｛２−メチル−５−n−プロピル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル−２−メチル−５−n−プロピルフェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−１３）の製造
４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］−２−メチル−５−ｎ−プロピルアニリンの代わりに２−メチル−５−ｎ−プロピル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリンを用いた以外は実施例３と同様にして３時間反応を行なうことにより目的物を得た。
収率：６６％
物性：融点 １２８−１３１℃
【００９０】
実施例６ Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−１５５）の製造
１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸クロリド（３．９３ｇ，２２．８ｍｍｏｌ）、３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（５．０ｇ，１５．２ｍｍｏｌ）、及びトリエチルアミン（３．０７ｇ，３０．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１００ｍｌ）に溶解し、５時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈後、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた粗結晶をエーテル洗浄することにより目的物５．６２ｇを得た。
収率：８０％
物性：融点 １８９〜１９０℃
【００９１】
実施例７ Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−1４５）の製造
水素化ナトリウム（２９ｍｇ，６０％，０．７３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（２６０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、クロルメチルエチルエーテル（７０ｍｇ，０．７３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、１昼夜攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて分離精製することにより目的物２００ｍｇを得た。
収率：６９％
物性：ｎD１．４８９２（２２．２℃）
【００９２】
実施例８ Ｎ−イソブチルオキシカルボニル−Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，
３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−1５２）の製造
水素化ナトリウム（２９ｍｇ，６０％，０．７３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（２６０ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、クロル炭酸イソブチル（１００ｍｇ，０．７３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、１昼夜攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて分離精製することにより目的物２８０ｍｇを得た。
収率：９１％
物性：ｎD１．４８２９（２２．３℃）
【００９３】
実施例９ Ｎ−｛３−イソブチル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−１２３）の製造
１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸クロリド（２．０９ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、３−イソブチル−４−［１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］アニリン（２．０ｇ，６．６９ｍｍｏｌ）、及びトリエチルアミン（１．３５ｇ，１３．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（６０ｍｌ）に溶解し、５時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈後、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて分離精製することにより目的物２．４１ｇを得た。
収率：７７％
物性：融点 １４８〜１５１℃
【００９４】
実施例１０ Ｎ−アセチル−Ｎ−｛３−イソブチル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．１−1２５）の製造
水素化ナトリウム（３８ｍｇ，６０％，０．９６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に懸濁し、Ｎ−｛３−イソブチル−４−［２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル］フェニル｝−１，３，５−トリメチルピラゾール−４−カルボン酸アミド（３００ｍｇ，０．６４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を滴下した。室温で３０分間攪拌後、アセチルクロリド（７５ｍｇ，０．９６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を加え、１昼夜攪拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルにて抽出し、水洗した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）にて分離精製することにより目的物９０ｍｇを得た。
収率：２８％
物性：ｎD１．５０２１（２２．５℃）
【００９５】
以下に本発明の代表的な製剤例及び試験例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
尚、製剤例中、部とあるのは重量部を示す。
製剤例１
第１表又は第２表に記載の化合物 ５部
フェンピロキシメート ５部
キシレン ７０部
Ｎ−メチルピロリドン １０部
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 １０部
以上を均一に混合溶解して乳剤とする。
製剤例２
第１表又は第２表に記載の化合物 １．５部
クロルフェナピル １．５部
クレー粉末 ８２部
珪藻土粉末 １５部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
【００９６】
製剤例３
第１表又は第２表に記載の化合物 ２．５部
スピロジクロフェン ２．５部
ベントナイトとクレーの混合粉末 ９０部
リグニンスルホン酸カルシウム ５部
以上を均一に混合し、適量の水を加えて混練し、造粒、乾燥して粒剤とする。
製剤例４
第１表又は第２表に記載の化合物 １０部
トルフェンピラド １０部
カオリンと合成高分散珪酸 ７５部
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 ５部
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
【００９７】
試験例１ ナミハダニ（Tetranychus urticae）に対する殺ダニ試験
ナミハダニ雌成虫をそれぞれ寄生させたインゲンリーフディスク（直径２０ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは１０日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理２日後に雌成虫、処理１０日後に次世代幼虫の生存数をそれぞれ調査し、下記式により殺成虫率、次世代防除率を算出した（１区１０頭、２連制）。結果を第４表に示す。
尚、以降の表における化合物Ｎｏ．は第１表又は第２表の化合物Ｎｏ．に対応する。
［式１］
殺成虫率＝（１−生存虫数／供試虫数）×１００
［式２］
次世代防除率＝（１−処理区の次世代幼虫数／無処理区の次世代幼虫数）×１００
【００９８】
【表２８】
【００９９】
【表２９】
【０１００】
試験例２ ミカンハダニ（Panonychus citri）に対する殺ダニ試験
ミカンハダニ雌成虫を寄生させたカンキツリーフディスク（直径２０ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは１２日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理２日後に雌成虫、処理１２日後に次世代幼虫の生存数をそれぞれ調査し、試験例１と同様に殺成虫率、次世代防除率を算出した（１区１０頭、２連制）。結果を第５表に示す。
【０１０１】
【表３０】
【０１０２】
【表３１】
【０１０３】
試験例３ ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）に対する殺ダニ試験
ミカンサビダニ成幼虫を寄生させたカンキツリーフディスク（直径１６ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは１２日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理前および処理２日後に成虫の生存数を調査し、試験例１と同様にして殺成虫率を算出した。処理１２日後に次世代抑制率を無処理区対比で、１００、９０、７５、５０、２５、０％のグレードに分けて調査し、その平
均値を次世代防除率とした（３０−１００頭／ディスク、２連制）。結果を第６表に示す。
【０１０４】
【表３２】
【０１０５】
【表３３】
【０１０６】
試験例４ トマトサビダニ（Aculops lycopersici）に対する殺ダニ試験
トマトサビダニ成幼虫を寄生させたトマトリーフディスク（直径８ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは７日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理前および処理３日後に成虫の生存数を調査し、試験例１と同様に殺成虫率を算出した。処理７日後に次世代抑制率を無処理区対比で、１００、９０、７５、５０、２５、０％のグレードに分けて調査し、その平均値を次世代
防除率とした（４０−１００頭／ディスク、２連制）。結果を第７表に示す。
【０１０７】
【表３４】
【０１０８】
試験例５ ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)に対する殺ダニ試験
ミカンキイロアザミウマ孵化幼虫を寄生させたインゲンリーフディスク（直径３０ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは７日間２５℃恒温室内にて寒天上で管理した。処理前および処理７日後に幼虫の生存数を調査し、下記式に従って、殺虫率を算出した。（１５−３０頭／ディスク、２連制）。結果を第８表に示す。
［式３］
殺虫率＝（１−生存虫数／供試虫数）×１００
【０１０９】
【表３５】
【０１１０】
【表３６】
【０１１１】
試験例６ ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）に対する殺ダニ試験
ミカンサビダニ成幼虫を寄生させたカンキツリーフディスク（直径１６ｍｍ）に対し、所定濃度の薬液３．５ｍｌを回転散布塔を用いて散布処理した。リーフディスクは１２日間２５℃恒温室内にて湿潤濾紙上で管理した。処理前および処理２日後に成虫の生存数を調査し、試験例１と同様にして殺成虫率を算出した。処理１２日後に次世代抑制率を無処理区対比で、１００、９０、７５、５０、２５、０％のグレードに分けて調査し、その平均値を次世代防除率とした（３０−１００頭／ディスク、２連制）。結果を第９表に示す
。
［式４］
殺成虫率＝（１−生存虫数／供試虫数）×１００
［式５］
次世代防除率＝（１−処理区の次世代幼虫数／無処理区の次世代幼虫数）×１００
【表３７】
【０１１２】
試験例７ ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）（クロルフェナピル低感受性）に対する殺ダニ試験
試験例６と同様にして処理した。結果を第１０表に示す。
【表３８】
【０１１３】
試験例８ ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）（クロルフェナピル低感受性）に対する殺ダニ試験
試験例６と同様にして処理した。結果を第１１表に示す。
【表３９】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）一般式（Ｉ）
【化１】
｛式中、Ｒ1は水素原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C2-C6アルケニルカルボニル基、ハロC2-C6アルケニルカルボニル基、C1-C6アルキルカルボニルC1-C6アルキル基、シクロC3-C6アルキル基、ハロシクロC3-C6アルキル基、シクロC3-C6アルキルC1-C6アルキル基、ハロシクロC3-C6アルキルC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニルオキシ C1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルチオC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルチオC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルキル基、モノC1-C6アルキルアミノC1-C6アルキル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノC1-C6アルキル基、フェニルC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基、C2-C6アルケニルオキシカルボニル基、C1-C6アルキルチオカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、シアノC1-C6アルキル基、フェニルC1-C6アルキル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を環上に有する置換フェニルC1-C6アルキル基、フェニルカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基、複素環カルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換複素環カルボニル基、フェノキシカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、
ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェノキシカルボニル基、フェノキシC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルスルホニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルスルホニル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルホスホノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルホスホノチオ基、N-C1-C6アルキル-N-C1-C6アルコキシカルボニルアミノチオ基、N-C1-C6アルキル-N-C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルアミノチオ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノチオ基、シクロC3-C6アルキルカルボニル基、ハロシクロC3-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルキルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、フェニルC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、シクロC3-C6アルキルC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基、ハロシクロC3-C6アルキルC1-C6アルキルカルボニル基、フェノキシC1-C6アルコキシカルボニル基、C1-C6アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニルC1-C6アルキルカルボニル基又はC1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルカルボニル基を示す。
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基を示す。
ＧはC2-C10アルキル基又はC3-C10アルケニル基を示す。
Ｘは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基を示し、ｎは０〜３の整数を示す。
Ｙ1はC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、C3-C6シクロアルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基を示す。
Ｙ2は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基又はハロC1-C6アルキル基を示し、ｍは１又は２を示す。
Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。｝で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、ｂ）殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物。
【請求項２】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、Ｒ1が水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基であり、Ｒ2が水素原子又はC1-C6アルコキシ基であり、ＧがC2-C10アルキル基であり、ｎが０であり、Ｙ1がC1-C6アルキル基であり、Ｙ2が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍが２であり、Ｚが酸素原子である請求項１に記載の有害生物防除剤組成物。
【請求項３】
殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物がフェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、トルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチ
ン、エトキサゾール、プロパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド及びカルタップから選択される化合物である請求項１又は２に記載の有害生物防除剤組成物。
【請求項４】
有用植物から有害生物を防除するために、請求項１乃至３いずれか１項に記載の有害生物防除剤組成物の有効量を対象植物又は土壌に処理することを特徴とする有害生物防除剤組成物の使用方法。
【請求項５】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類を有効成分として含有する組成物と、殺虫活性或は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上を有効成分として含有する組成物とをそれぞれ同時期に植物、土壌又は栽培担体に処理することを特徴とする有害生物の防除方法。
【請求項６】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、Ｒ1が水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基であり、Ｒ2が水素原子又はC1-C6アルコキシ基であり、ＧがC2-C10アルキル基であり、ｎが０であり、Ｙ1がC1-C6アルキル基であり、Ｙ2が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍが２であり、Ｚが酸素原子であり、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物がフェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、トルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチン、エトキサゾール、プリパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド及びカルタップから選択される化合物である請求項５に記載の有害生物の防除方法。
【請求項１】
ａ）一般式（Ｉ）
【化１】
｛式中、Ｒ1は水素原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C2-C6アルケニルカルボニル基、ハロC2-C6アルケニルカルボニル基、C1-C6アルキルカルボニルC1-C6アルキル基、シクロC3-C6アルキル基、ハロシクロC3-C6アルキル基、シクロC3-C6アルキルC1-C6アルキル基、ハロシクロC3-C6アルキルC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニルオキシ C1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルチオC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルチオC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルキル基、モノC1-C6アルキルアミノC1-C6アルキル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノC1-C6アルキル基、フェニルC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基、C2-C6アルケニルオキシカルボニル基、C1-C6アルキルチオカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノカルボニル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、シアノC1-C6アルキル基、フェニルC1-C6アルキル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を環上に有する置換フェニルC1-C6アルキル基、フェニルカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基、複素環カルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換複素環カルボニル基、フェノキシカルボニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、
ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェノキシカルボニル基、フェノキシC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルスルホニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノ基又はC1-C6アルコキシカルボニル基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルスルホニル基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルホスホノ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルホスホノチオ基、N-C1-C6アルキル-N-C1-C6アルコキシカルボニルアミノチオ基、N-C1-C6アルキル-N-C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルアミノチオ基、同一又は異なっても良いジC1-C6アルキルアミノチオ基、シクロC3-C6アルキルカルボニル基、ハロシクロC3-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルキルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、フェニルC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルシクロC3-C6アルキルカルボニル基、シクロC3-C6アルキルC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基、ハロシクロC3-C6アルキルC1-C6アルキルカルボニル基、フェノキシC1-C6アルコキシカルボニル基、C1-C6アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニルC1-C6アルキルカルボニル基又はC1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルカルボニル基を示す。
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基を示す。
ＧはC2-C10アルキル基又はC3-C10アルケニル基を示す。
Ｘは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基を示し、ｎは０〜３の整数を示す。
Ｙ1はC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルキルカルボニル基、C3-C6シクロアルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基又はハロC1-C6アルコキシ基から選択される１以上の置換基を有する置換フェニルカルボニル基を示す。
Ｙ2は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基又はハロC1-C6アルキル基を示し、ｍは１又は２を示す。
Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。｝で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類と、ｂ）殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上とを有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物。
【請求項２】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、Ｒ1が水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基であり、Ｒ2が水素原子又はC1-C6アルコキシ基であり、ＧがC2-C10アルキル基であり、ｎが０であり、Ｙ1がC1-C6アルキル基であり、Ｙ2が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍが２であり、Ｚが酸素原子である請求項１に記載の有害生物防除剤組成物。
【請求項３】
殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物がフェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、トルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチ
ン、エトキサゾール、プロパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド及びカルタップから選択される化合物である請求項１又は２に記載の有害生物防除剤組成物。
【請求項４】
有用植物から有害生物を防除するために、請求項１乃至３いずれか１項に記載の有害生物防除剤組成物の有効量を対象植物又は土壌に処理することを特徴とする有害生物防除剤組成物の使用方法。
【請求項５】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類を有効成分として含有する組成物と、殺虫活性或は殺ダニ活性を有する化合物の１種又は２種以上を有効成分として含有する組成物とをそれぞれ同時期に植物、土壌又は栽培担体に処理することを特徴とする有害生物の防除方法。
【請求項６】
一般式（Ｉ）で表される置換ピラゾールカルボン酸アニリド誘導体又はその塩類の定義において、Ｒ1が水素原子、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、C1-C10アルコキシC1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル基、C1-C16アルコキシカルボニル基、ハロC1-C6アルコキシカルボニル基又はC1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル基であり、Ｒ2が水素原子又はC1-C6アルコキシ基であり、ＧがC2-C10アルキル基であり、ｎが０であり、Ｙ1がC1-C6アルキル基であり、Ｙ2が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子又はC1-C6アルキル基であり、ｍが２であり、Ｚが酸素原子であり、殺虫活性又は殺ダニ活性を有する化合物がフェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリダベン、トルフェンピラド、クロルフェナピル、スピロジクロフェン、ミルベメクチン、エトキサゾール、プリパルギット、アミトラズ、酸化フェンブタスズ、硫黄、メチダチオン、BPMC、フルバリネート、テフルベンズロン、ブプロフェジン、アセタミプリド、ピリフルキナゾン、フルベンジアミド、アセフェート、エトフェンプロックス、アクリナトリン、フルフェノクスロン、テブフェノジド、メタフルミゾン、エマメクチン安息香酸塩、スピノサド及びカルタップから選択される化合物である請求項５に記載の有害生物の防除方法。
【公開番号】特開２００８−２２２７０９（Ｐ２００８−２２２７０９Ａ）
【公開日】平成２０年９月２５日（２００８．９．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３２２３２（Ｐ２００８−３２２３２）
【出願日】平成２０年２月１３日（２００８．２．１３）
【出願人】（０００２３２６２３）日本農薬株式会社 (97)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年９月２５日（２００８．９．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年２月１３日（２００８．２．１３）
【出願人】（０００２３２６２３）日本農薬株式会社 (97)
【Ｆターム（参考）】
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