有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
【課題】
基板と、この基板上に設けられたパターン状の第一電極と、これら第一の電極の間に設けられた隔壁と、第一の電極上であって、隔壁で区画された領域に設けられた有機発光媒体層と、この有機発光媒体層を挟んで第一の電極に対向する第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子において、ウエットコート方式で有機発光媒体層を形成する場合、その材料と前記隔壁との親和性が高いと隔壁近傍において液溜りが発生しやすい。そして、このため、有機発光媒体層の膜厚が不均一になり、発光ムラが生じる問題点がある。
【解決手段】
本発明は、上記課題を解決するために、壁の下部が逆テーパー形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
基板と、この基板上に設けられたパターン状の第一電極と、これら第一の電極の間に設けられた隔壁と、第一の電極上であって、隔壁で区画された領域に設けられた有機発光媒体層と、この有機発光媒体層を挟んで第一の電極に対向する第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子において、ウエットコート方式で有機発光媒体層を形成する場合、その材料と前記隔壁との親和性が高いと隔壁近傍において液溜りが発生しやすい。そして、このため、有機発光媒体層の膜厚が不均一になり、発光ムラが生じる問題点がある。
【解決手段】
本発明は、上記課題を解決するために、壁の下部が逆テーパー形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報表示端末などのディスプレイや面発光光源として幅広い用途が期待される有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子とする）有機ＥＬ素子とその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報表示端末のディスプレイ用途として、大小の光学式表示装置が使用されるようになってきている。中でも、有機ＥＬ素子を用いた表示装置は、自発光型であるため、応答速度が速く、消費電力も低いことから次世代のディスプレイとして注目されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、有機発光媒体層を第一の電極と第二の電極とで挟んだ単純な基本構造を有している。この電極間に電圧を印加し、一方の電極から注入されるホールと、他方の電極から注入される電子とが発光層内で再結合する際に生じる光を画像表示や光源として用いるというものである。なお、有機発光媒体層はこの発光層単独から構成される場合もあるが、これに加えて発光効率を向上させる発光補助層を積層した積層構造から構成されている場合もある。発光補助層としては、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層等がある。
【０００４】
有機ＥＬ素子で何らかの画像表示をおこなうためには画素毎に発光のオンオフを調整する必要がある、そのため、少なくとも一方の電極はパターニングされて設けられる必要がある。例えば、先に基板上に形成される第一の電極をストライプ状に構成すると共に、第二の電極をこれと交差する方向のストライプ状に構成し、これら第一の電極と第二の電極の交点を画素として画面表示している。
【０００５】
この有機ＥＬ素子の製造工程を説明すると、まず、基板上に、ストライプ状の前記第一の電極を形成する。この第一の電極は陽極として利用されることが多い。また、その材質としてはＩＴＯ薄膜が好便に利用されている。
【０００６】
次に、ストライプ状のこれら第一電極の間に隔壁を設ける。この隔壁は、隣接する画素の有機発光層同士の混色を防ぐと共に、第一の電極と第二の電極との短絡を防ぐものである。このため隔壁は電気絶縁材料で構成される。
【０００７】
そして、これらの隔壁の間、すなわち、画素部位に有機発光媒体層を形成する。有機発光媒体層を形成する方法にはドライコート方式をウェットコート方式があるが、大面積の有機ＥＬ素子を製造しやすい点で、ウェットコート法が有利である。ウェットコート方式としては、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、吐出コート法、スプレーコート法、ロールコート法、バーコート法、印刷法などがある。ウェットコート方式によって、液状の材料が隔壁で区分された画素部位に皮膜を作り、有機発光媒体層を構成する各層を形成する。これら各層を順次塗布することにより、積層構造の有機発光媒体層を形成することができる。
【０００８】
そして、その後、蒸着法等のドライコート方式によって第二の電極を形成する。最後に封止することによって、有機ＥＬ素子を製造することができる。
【０００９】
ところで、ウエットコート方式で有機発光媒体層を形成する場合、その材料と前記隔壁との親和性が高いと隔壁近傍において液溜りが発生しやすい。そして、このため、有機発光媒体層の膜厚が不均一になり、発光ムラが生じる問題点がある。
【００１０】
この問題点を解決するために、隔壁に撥液性を持たせて、液溜りを減らす方法が提案されている。具体的には仕切りバンクにフッ素系撥液剤を含有させるなどの方法が用いられる（特許文献１）。しかし、有機発光媒体層が積層構造を有する場合には、各層の隔壁に対する親和性が異なるため、均一的な多層発光膜を得ることが難しく、また、有機発光媒体層が発光層単独から構成される場合でも、均一な膜を形成するために、隔壁の撥液性の適切な強さを得ることが困難であるなどの問題点があった。
【００１１】
本発明は、隔壁の形状を工夫することによって隔壁底部の液溜りによる発光ムラを防止し、均一な発光が可能な有機ＥＬ素子とその製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【特許文献１】特開平６−３４７６３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、隔壁の形状を工夫することによって、隔壁の底部の液溜りによる発光ムラを防止し、均一な発光が可能な有機ＥＬ素子と、その製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために請求項１に係る発明は、基板と、この基板上に設けられたパターン状の第一電極と、これら第一の電極の間に設けられた隔壁と、第一の電極上であって、隔壁で区画された領域に設けられた有機発光媒体層と、この有機発光媒体層を挟んで第一の電極に対向する第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記隔壁の下部が逆テーパー形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【００１５】
また、請求項２に係る発明は、前記逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さ方向における最大幅と最小幅の差が０．１μｍ以上５００μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【００１６】
また、請求項３に係る発明は、前記逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さが０．０１μｍ以上１μｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【００１７】
また、請求項４に係る発明は、前記隔壁の高さが０．５μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【００１８】
また、請求項５に係る発明は、前記隔壁が感光性樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬ素子とした。
【００１９】
また、請求項６に係る発明は、前記有機発光媒体層の中の一層が、ウェットコート方式で形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子とした。
【００２０】
また、請求項７に係る発明は、 請求項１乃至６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記第一の電極を備える基板上に、感光性樹脂を塗布し、露光・現像した後、ポストベークして、前記隔壁を形成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とした。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、隔壁の下部に逆テーパー形状を持たせることによって、隔壁底部の液溜りを非発光部とすることにより、発光領域に液溜り部を含まない、発光ムラの無い有機ＥＬ素子を得ることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を参照して、本発明を説明する。
【００２３】
図１は、本発明のパッシブマトリックス方式の有機ＥＬ素子の説明用断面図である。なお、本発明はパッシブマトリックス方式の有機ＥＬ素子に限定されるものではなく、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子にも適用可能である。パッシブマトリックス方式とはストライプ状の電極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎にトランジスタを形成した、いわゆる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板を用いることにより、画素毎に独立して発光する方式である。
【００２４】
図１に示すように、本発明の有機ＥＬ素子は、基板１の上に、第一の電極２を有している。この第一の電極２はストライプ状のパターンを有している。なお、アクティブマトリックス方式の場合、第一の電極２は画素電極ごとにパターン化される。
【００２５】
そして、この有機ＥＬ素子は、これら第一の電極２の間に設けられた隔壁３を有している。隔壁３も、第一の電極２と同じ方向に伸びるストライプ状である。
【００２６】
そして、本発明の有機ＥＬ素子は、第一の電極２上であって、隔壁３で区画された領域（画素部）に有機発光媒体層を有している。有機発光媒体層は、発光層単独から構成されたものであってもよいし、発光層と発光補助層との積層構造から構成されたものでもよい。図１では発光補助層である正孔輸送層４１と発光層４２との積層構造から構成された有機発光媒体層を示している。更に、第一の電極のストライプ状のパターンと直交する形でストライプ状のパターンを有する第二の電極が配置される。なお、アクティブマトリックス方式の場合、第二の電極は、有機ＥＬ素子全面に形成される。
【００２７】
隔壁３は下部が逆テーパー形状を有する。液溜り部分は逆テーパー部分がひさしとなり非発光部分となり、発光領域Ｌは液溜りの部分を除いた厚みの一定な部分のみとなる。また、図２従来の有機ＥＬ素子の説明用断面図を示した。図２では隔壁３は高さ方向に幅が一定となっており、発光領域Ｌは液溜り部分を含んでいる。したがって、有機ＥＬ素子とした場合に発光ムラが発生してしまう。
【００２８】
図１（ｂ）に隔壁部分の拡大図を示した。図１（ａ）において逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さ方向における最大幅（Ｘ）と最大幅（Ｙ）の差（Ｙ−Ｘ）は０．１μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましい。最大幅（Ｘ）と最大幅（Ｙ）の差（Ｙ−Ｘ）が０．１μｍ未満の場合、液溜り部分を部分を隔壁下部が覆うことができなくなってしまうことがある。また、最大幅（Ｘ）と最大幅（Ｙ）の差（Ｙ−Ｘ）が５００μｍを超える場合、発光部分に対して非発光部分が大きくなってしまい、素子としての明るさが低下してしまうことがある。
【００２９】
また、逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さ（ｈ）は０．０１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。隔壁下部の高さが０．０１μｍ未満の場合、液溜り部分を部分を隔壁下部が覆うことができなくなってしまうことがある。また、隔壁下部の高さが１μｍを超える場合、図１のように第二の電極を有機発光媒体層と隔壁をまたぐ形で形成する場合や第二の電極を有機ＥＬ素子全面に形成する場合に、逆テーパー形状によって第二の電極が断線してしまうことがある。
【００３０】
また、隔壁の高さ（Ｈ）は０．５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。隔壁の高さが０．５μｍ未満の場合、有機発光層の混色を防ぐことができなくなってしまうことがある。また、隔壁の高さが１００μｍを超える場合、逆テーパー形状によって第二の電極が断線してしまうことがある。
【００３１】
本発明では、隔壁下部にのみ逆テーパー形状を有することにより、隔壁全体を逆テーパー形状とした場合と比較して、第二の電極を第一の電極と隔壁をまたぐ形で形成する場合や第二の電極を有機ＥＬ素子全面に形成する場合においても第二の電極の断線を防ぐことができる。
【００３２】
次に、本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する。
【００３３】
本発明にかかる基板１としては、絶縁性を有する基板であればいかなる基板も使用することができる。この基板側から光を出射するボトムエミッション素子の場合には、基板として透明なものを使用する必要がある。
【００３４】
例えば、ガラス基板や石英基板が使用できる。また、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシートであっても良い。これら、プラスチックフィルムやシートに、金属酸化物薄膜、金属弗化物薄膜、金属窒化物薄膜、金属酸窒化膜薄膜、あるいは高分子樹脂膜を積層したものを基板として利用してもよい。
【００３５】
金属酸化物薄膜としては、酸化珪素、酸化アルミニウム等が例示できる。金属弗化物薄膜としては、弗化アルミニウム、弗化マグネシウム等が例示できる。金属窒化物薄膜としては、窒化珪素、窒化アルミニウム等が例示できる。また、高分子樹脂膜としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂等が例示できる。また、トップエミッション素子の場合には、不透明な基板を使用することもできる。例えば、シリコンウエハ、アルミニウムやステンレスなどの金属箔、金属シート金属板等である。また、前記プラスチックフィルムやシートにアルミニウム、銅、ニッケル、ステンレスなどの金属薄膜を積層させたものを用いることも可能である。
【００３６】
また、これらの基板は、あらかじめ加熱処理を行うことにより、基板内部や表面に吸着した水分を極力低減することがより好ましい。また、基板上に積層される材料に応じて、密着性を向上させるために、超音波洗浄処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理などの表面処理を施してから使用することが好ましい。
【００３７】
また、これらに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成して、駆動用基板としても良い。ＴＦＴの材料としては、ポリチオフェンやポリアニリン、銅フタロシアニンやペリレン誘導体等の有機ＴＦＴでもよく、また、アモルファスシリコンやポリシリコンＴＦＴでもよい。また、カラーフィルター層や光さん卵巣、光偏向層等を設けて基板としてよい。
【００３８】
次に、この基板１上に、第一の電極２を形成する。第一の電極２を陽極とした場合その材料として、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物が利用できる。皮膜形成方法としてはドライコーティング方式が利用できる。例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング蜂等である。そして、真空製膜された金属酸化物被膜にフォトレジストを塗布して露光・現像し、ウェットエッチング又はドライエッチングして、パターン状に加工することができる。なお、抵抗を下げるために透明電極には銅、クロム、アルミニウム、チタン等の金属もしくはこれらの積層物を補助電極として部分的に併設することができる。
【００３９】
次に、感光性樹脂を塗布し、露光・現像した後ポストベークして、隔壁を形成する。この露光・現像の際に露光量、現像液、現像時間を制御することによって、下部に逆テーパー形状を有する隔壁を形成することができる。感光性樹脂は大きくポジ型とネガ型に分類され、ネガ型感光性樹脂組成物の場合、樹脂バインダー、モノマー、光重合開始剤を含む。ポジ型感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂を含む。本発明では、ネガ型、ポジ型どちらの感光性樹脂も使用可能であるが、ポジ型の感光性樹脂を用いた場合、露光条件もしくは現像条件を穏やかにすることによりペーパー形状となり、露光条件もしくは現像条件を過酷にすることにより、逆テーパー形状となる。したがって、露光量を増やす、現像時間を増やすことにより、逆テーパー形状の隔壁を容易に得ることができる。なお、感光性樹脂としては、具体的にはポリイミド系やアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系といったものが挙げられる。なお、隔壁は多層構成であってもよいし、単層構成であってもよい。また、ディスプレイとしてのコントラスト向上のために遮光性材料を含有させてもよい。
【００４０】
次に、ウエットコート方式により、有機発光媒体層を形成する。有機発光媒体層は、発光層単独から構成されたものであっても良いし、発光層と発光補助層との積層構造から構成されたものでも良い。積層構造から構成される場合には、その各層の全てをウェットコート方式により形成する必要がないが、第一の電極２に接触する最初の層をウェットコート方式により形成することが望ましい。全ての層をウェットコート方式により形成することも可能である。
【００４１】
ウェットコート方式としては、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、吐出コート法、プレコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗布方式や凸版印刷法、インクジェット印刷法の印刷方式が挙げられる。特に印刷方式による場合には、画素部に選択的に適用することができるため、各画素に、互いに異なる色彩に発光する発光層を印刷して、カラー表示のできる有機ＥＬ素子を容易に製造することが可能である。
【００４２】
発光層の主成分は、電圧の印加によって発光する発光材料である。このような発光材料としては、９，１０−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノラート）アルミニウム錯体、ビス（８−キノラート）亜鉛錯体、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−５−シアノ−８−キノラート）アルミニウム錯体、ビス（２−メチルー５−トリフルオロメチルー８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、ビス（２−メチルー５−シアノー８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリノラート）スカンジウム錯体、ビス［８−（パラートシル）アミノキノリン］亜鉛錯体及びカドミウム錯体、１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、ポリー２，５−ジヘプチルオキシーパラーフェニレンビニレンなどの低分子系発光材料が使用できる。また、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポリフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等、Ｉｒ錯体等の燐光性発光体などの低分子系発光材料を、高分子中に分散させたものが使用できる。高分子としてはポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等が使用できる。また、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロなどの高分子発光材料であってもよい。また、これら高分子材料に前記低分子材料の分散又は共重合した材料や、その他既存の発光材料を用いることもできる。
【００４３】
発光補助層としては、例えば、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、正孔輸送層が例示できる。これらの層は必要に応じて適宜選択される。このうち、正孔輸送層の材料としては、銅フタロシアニン、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、１，１−ビス（４−ジーｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ’Ｎ’−ジフェニルーＮ’Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’―ビフェニルー４、４’−ジアミン、Ｎ’Ｎ’−ジ（１−ナフチル）ーＮ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’―ビフェニルー４、４’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正孔輸送材料が例示できる。また、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料を使用してもよい。また、ポリチオフェンオリゴマー材料を使用することもできる。
【００４４】
また、電子輸送層としては、２−（４−ビフィニルイル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、オキサジアゾール誘導体やビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム錯体、トリアゾール化合物等を用いることができる。
【００４５】
これら各層の材料に、溶剤と必要な添加剤を添加することで塗料またはインキとすることができる。溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジクロロメタンジクロロエタン、クロロホルム、エチルアセテート、エタノール、メタノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−エチルエトキシアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−メトキシエチルエーテル、２−エトキシエチルエーテル、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール、２−（２’エトキシエトキシ）エチルアセテート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、グリコール、エチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、水等を用いることができる。これは単独で用いてもよいし、混合して使用してもよい。中でも、発光材料をインキとする場合、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が発光材料の溶解性の面から好適である。
【００４６】
次に、第二の電極を形成する。第二電極を陰極とした場合その材料としては電子注入効率の高い物質を用いる。具体的にはＭｇ、ＡＬ、Ｙｂ等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界面にＬｉや参加Ｌｉ、ＬｉＦ等の化合物を１ｎｍ程度挟んで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層して用いる。または電子注入効率と安定性を両立させるため、低仕事関数なＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ等の金属１種以上と、安定なＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属元素との合金系が用いられる。具体的にはＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ，ＣｕＬｉ等の合金が使用できる。
【００４７】
第二の電極の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。厚さは１０ｎｍ〜１μｍ程度が望ましい。なお、本発明では第一の電極を陰極、第二の電極を陽極とすることも可能である。
【００４８】
そして、ガラスキャップ等により接着剤を介して封止をおこない、水分や酸素による陰極や発光媒体層の劣化を防止する。
【実施例】
【００４９】
まず、ガラス基板上にスパッタリングで第一電極としてＩＴＯ層を形成した。さらに、透明性と導電性を向上させるために、空気中で加熱処理を行いＩＴＯを結晶化した。
【００５０】
次に、フォトリソグラフィ及びウェットエッチングによってＩＴＯをパターニングし、ライン／スペースは２００μｍ／３０μｍの第一電極ラインを形成した。
【００５１】
その上にポリイミド系ポジ型感光性樹脂をスピンコート法により、塗布してから、プリベークし、露光・現像・ポストベークによって隔壁を形成した。
【００５２】
形成された隔壁の高さは１．５μｍで、逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さは２００ｎｍであった。また、逆テーパー形状を有する隔壁下部において、最大幅は５５μｍ、最小幅は４０μｍであった。
【００５３】
次に、ＵＶ洗浄を行った後、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸（以下ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳという）の１ｗｔ％水分散溶液、スピンコート法を用いて厚み８０ｎｍで塗布して正孔輸送層を形成した。
【００５４】
次に、発光層として、高分子発光材料であるポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＥＨ−ＰＰＶ）の１．８ｗｔ％ｏ−キシレン溶液を凸版印刷法により膜厚８０ｎｍで形成した。
【００５５】
次いで、第二の電極を陰極としてＭｇＡｇを２元共蒸着により２００ｎｍの厚みをマスク蒸着することで形成した。最後に素子全体をガラスキャップで封止して本発明の有機ＥＬ素子を作製した。
【００５６】
得られた有機ＥＬ素子の発光部からムラなく、均一な発光が観察された。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の有機ＥＬ素子の断面図である。
【図２】従来の有機ＥＬ素子の断面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１ 基板
２ 第一の電極
３ 隔壁
４１ 発光補助層（正孔輸送層）
４２ 発光層
５ 第二の電極
Ｌ 発光領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報表示端末などのディスプレイや面発光光源として幅広い用途が期待される有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子とする）有機ＥＬ素子とその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報表示端末のディスプレイ用途として、大小の光学式表示装置が使用されるようになってきている。中でも、有機ＥＬ素子を用いた表示装置は、自発光型であるため、応答速度が速く、消費電力も低いことから次世代のディスプレイとして注目されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、有機発光媒体層を第一の電極と第二の電極とで挟んだ単純な基本構造を有している。この電極間に電圧を印加し、一方の電極から注入されるホールと、他方の電極から注入される電子とが発光層内で再結合する際に生じる光を画像表示や光源として用いるというものである。なお、有機発光媒体層はこの発光層単独から構成される場合もあるが、これに加えて発光効率を向上させる発光補助層を積層した積層構造から構成されている場合もある。発光補助層としては、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層等がある。
【０００４】
有機ＥＬ素子で何らかの画像表示をおこなうためには画素毎に発光のオンオフを調整する必要がある、そのため、少なくとも一方の電極はパターニングされて設けられる必要がある。例えば、先に基板上に形成される第一の電極をストライプ状に構成すると共に、第二の電極をこれと交差する方向のストライプ状に構成し、これら第一の電極と第二の電極の交点を画素として画面表示している。
【０００５】
この有機ＥＬ素子の製造工程を説明すると、まず、基板上に、ストライプ状の前記第一の電極を形成する。この第一の電極は陽極として利用されることが多い。また、その材質としてはＩＴＯ薄膜が好便に利用されている。
【０００６】
次に、ストライプ状のこれら第一電極の間に隔壁を設ける。この隔壁は、隣接する画素の有機発光層同士の混色を防ぐと共に、第一の電極と第二の電極との短絡を防ぐものである。このため隔壁は電気絶縁材料で構成される。
【０００７】
そして、これらの隔壁の間、すなわち、画素部位に有機発光媒体層を形成する。有機発光媒体層を形成する方法にはドライコート方式をウェットコート方式があるが、大面積の有機ＥＬ素子を製造しやすい点で、ウェットコート法が有利である。ウェットコート方式としては、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、吐出コート法、スプレーコート法、ロールコート法、バーコート法、印刷法などがある。ウェットコート方式によって、液状の材料が隔壁で区分された画素部位に皮膜を作り、有機発光媒体層を構成する各層を形成する。これら各層を順次塗布することにより、積層構造の有機発光媒体層を形成することができる。
【０００８】
そして、その後、蒸着法等のドライコート方式によって第二の電極を形成する。最後に封止することによって、有機ＥＬ素子を製造することができる。
【０００９】
ところで、ウエットコート方式で有機発光媒体層を形成する場合、その材料と前記隔壁との親和性が高いと隔壁近傍において液溜りが発生しやすい。そして、このため、有機発光媒体層の膜厚が不均一になり、発光ムラが生じる問題点がある。
【００１０】
この問題点を解決するために、隔壁に撥液性を持たせて、液溜りを減らす方法が提案されている。具体的には仕切りバンクにフッ素系撥液剤を含有させるなどの方法が用いられる（特許文献１）。しかし、有機発光媒体層が積層構造を有する場合には、各層の隔壁に対する親和性が異なるため、均一的な多層発光膜を得ることが難しく、また、有機発光媒体層が発光層単独から構成される場合でも、均一な膜を形成するために、隔壁の撥液性の適切な強さを得ることが困難であるなどの問題点があった。
【００１１】
本発明は、隔壁の形状を工夫することによって隔壁底部の液溜りによる発光ムラを防止し、均一な発光が可能な有機ＥＬ素子とその製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【特許文献１】特開平６−３４７６３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、隔壁の形状を工夫することによって、隔壁の底部の液溜りによる発光ムラを防止し、均一な発光が可能な有機ＥＬ素子と、その製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために請求項１に係る発明は、基板と、この基板上に設けられたパターン状の第一電極と、これら第一の電極の間に設けられた隔壁と、第一の電極上であって、隔壁で区画された領域に設けられた有機発光媒体層と、この有機発光媒体層を挟んで第一の電極に対向する第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記隔壁の下部が逆テーパー形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【００１５】
また、請求項２に係る発明は、前記逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さ方向における最大幅と最小幅の差が０．１μｍ以上５００μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【００１６】
また、請求項３に係る発明は、前記逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さが０．０１μｍ以上１μｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【００１７】
また、請求項４に係る発明は、前記隔壁の高さが０．５μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
【００１８】
また、請求項５に係る発明は、前記隔壁が感光性樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬ素子とした。
【００１９】
また、請求項６に係る発明は、前記有機発光媒体層の中の一層が、ウェットコート方式で形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子とした。
【００２０】
また、請求項７に係る発明は、 請求項１乃至６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記第一の電極を備える基板上に、感光性樹脂を塗布し、露光・現像した後、ポストベークして、前記隔壁を形成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とした。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、隔壁の下部に逆テーパー形状を持たせることによって、隔壁底部の液溜りを非発光部とすることにより、発光領域に液溜り部を含まない、発光ムラの無い有機ＥＬ素子を得ることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を参照して、本発明を説明する。
【００２３】
図１は、本発明のパッシブマトリックス方式の有機ＥＬ素子の説明用断面図である。なお、本発明はパッシブマトリックス方式の有機ＥＬ素子に限定されるものではなく、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子にも適用可能である。パッシブマトリックス方式とはストライプ状の電極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎にトランジスタを形成した、いわゆる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板を用いることにより、画素毎に独立して発光する方式である。
【００２４】
図１に示すように、本発明の有機ＥＬ素子は、基板１の上に、第一の電極２を有している。この第一の電極２はストライプ状のパターンを有している。なお、アクティブマトリックス方式の場合、第一の電極２は画素電極ごとにパターン化される。
【００２５】
そして、この有機ＥＬ素子は、これら第一の電極２の間に設けられた隔壁３を有している。隔壁３も、第一の電極２と同じ方向に伸びるストライプ状である。
【００２６】
そして、本発明の有機ＥＬ素子は、第一の電極２上であって、隔壁３で区画された領域（画素部）に有機発光媒体層を有している。有機発光媒体層は、発光層単独から構成されたものであってもよいし、発光層と発光補助層との積層構造から構成されたものでもよい。図１では発光補助層である正孔輸送層４１と発光層４２との積層構造から構成された有機発光媒体層を示している。更に、第一の電極のストライプ状のパターンと直交する形でストライプ状のパターンを有する第二の電極が配置される。なお、アクティブマトリックス方式の場合、第二の電極は、有機ＥＬ素子全面に形成される。
【００２７】
隔壁３は下部が逆テーパー形状を有する。液溜り部分は逆テーパー部分がひさしとなり非発光部分となり、発光領域Ｌは液溜りの部分を除いた厚みの一定な部分のみとなる。また、図２従来の有機ＥＬ素子の説明用断面図を示した。図２では隔壁３は高さ方向に幅が一定となっており、発光領域Ｌは液溜り部分を含んでいる。したがって、有機ＥＬ素子とした場合に発光ムラが発生してしまう。
【００２８】
図１（ｂ）に隔壁部分の拡大図を示した。図１（ａ）において逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さ方向における最大幅（Ｘ）と最大幅（Ｙ）の差（Ｙ−Ｘ）は０．１μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましい。最大幅（Ｘ）と最大幅（Ｙ）の差（Ｙ−Ｘ）が０．１μｍ未満の場合、液溜り部分を部分を隔壁下部が覆うことができなくなってしまうことがある。また、最大幅（Ｘ）と最大幅（Ｙ）の差（Ｙ−Ｘ）が５００μｍを超える場合、発光部分に対して非発光部分が大きくなってしまい、素子としての明るさが低下してしまうことがある。
【００２９】
また、逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さ（ｈ）は０．０１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。隔壁下部の高さが０．０１μｍ未満の場合、液溜り部分を部分を隔壁下部が覆うことができなくなってしまうことがある。また、隔壁下部の高さが１μｍを超える場合、図１のように第二の電極を有機発光媒体層と隔壁をまたぐ形で形成する場合や第二の電極を有機ＥＬ素子全面に形成する場合に、逆テーパー形状によって第二の電極が断線してしまうことがある。
【００３０】
また、隔壁の高さ（Ｈ）は０．５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。隔壁の高さが０．５μｍ未満の場合、有機発光層の混色を防ぐことができなくなってしまうことがある。また、隔壁の高さが１００μｍを超える場合、逆テーパー形状によって第二の電極が断線してしまうことがある。
【００３１】
本発明では、隔壁下部にのみ逆テーパー形状を有することにより、隔壁全体を逆テーパー形状とした場合と比較して、第二の電極を第一の電極と隔壁をまたぐ形で形成する場合や第二の電極を有機ＥＬ素子全面に形成する場合においても第二の電極の断線を防ぐことができる。
【００３２】
次に、本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法を説明する。
【００３３】
本発明にかかる基板１としては、絶縁性を有する基板であればいかなる基板も使用することができる。この基板側から光を出射するボトムエミッション素子の場合には、基板として透明なものを使用する必要がある。
【００３４】
例えば、ガラス基板や石英基板が使用できる。また、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシートであっても良い。これら、プラスチックフィルムやシートに、金属酸化物薄膜、金属弗化物薄膜、金属窒化物薄膜、金属酸窒化膜薄膜、あるいは高分子樹脂膜を積層したものを基板として利用してもよい。
【００３５】
金属酸化物薄膜としては、酸化珪素、酸化アルミニウム等が例示できる。金属弗化物薄膜としては、弗化アルミニウム、弗化マグネシウム等が例示できる。金属窒化物薄膜としては、窒化珪素、窒化アルミニウム等が例示できる。また、高分子樹脂膜としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂等が例示できる。また、トップエミッション素子の場合には、不透明な基板を使用することもできる。例えば、シリコンウエハ、アルミニウムやステンレスなどの金属箔、金属シート金属板等である。また、前記プラスチックフィルムやシートにアルミニウム、銅、ニッケル、ステンレスなどの金属薄膜を積層させたものを用いることも可能である。
【００３６】
また、これらの基板は、あらかじめ加熱処理を行うことにより、基板内部や表面に吸着した水分を極力低減することがより好ましい。また、基板上に積層される材料に応じて、密着性を向上させるために、超音波洗浄処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理などの表面処理を施してから使用することが好ましい。
【００３７】
また、これらに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成して、駆動用基板としても良い。ＴＦＴの材料としては、ポリチオフェンやポリアニリン、銅フタロシアニンやペリレン誘導体等の有機ＴＦＴでもよく、また、アモルファスシリコンやポリシリコンＴＦＴでもよい。また、カラーフィルター層や光さん卵巣、光偏向層等を設けて基板としてよい。
【００３８】
次に、この基板１上に、第一の電極２を形成する。第一の電極２を陽極とした場合その材料として、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物が利用できる。皮膜形成方法としてはドライコーティング方式が利用できる。例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング蜂等である。そして、真空製膜された金属酸化物被膜にフォトレジストを塗布して露光・現像し、ウェットエッチング又はドライエッチングして、パターン状に加工することができる。なお、抵抗を下げるために透明電極には銅、クロム、アルミニウム、チタン等の金属もしくはこれらの積層物を補助電極として部分的に併設することができる。
【００３９】
次に、感光性樹脂を塗布し、露光・現像した後ポストベークして、隔壁を形成する。この露光・現像の際に露光量、現像液、現像時間を制御することによって、下部に逆テーパー形状を有する隔壁を形成することができる。感光性樹脂は大きくポジ型とネガ型に分類され、ネガ型感光性樹脂組成物の場合、樹脂バインダー、モノマー、光重合開始剤を含む。ポジ型感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂を含む。本発明では、ネガ型、ポジ型どちらの感光性樹脂も使用可能であるが、ポジ型の感光性樹脂を用いた場合、露光条件もしくは現像条件を穏やかにすることによりペーパー形状となり、露光条件もしくは現像条件を過酷にすることにより、逆テーパー形状となる。したがって、露光量を増やす、現像時間を増やすことにより、逆テーパー形状の隔壁を容易に得ることができる。なお、感光性樹脂としては、具体的にはポリイミド系やアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系といったものが挙げられる。なお、隔壁は多層構成であってもよいし、単層構成であってもよい。また、ディスプレイとしてのコントラスト向上のために遮光性材料を含有させてもよい。
【００４０】
次に、ウエットコート方式により、有機発光媒体層を形成する。有機発光媒体層は、発光層単独から構成されたものであっても良いし、発光層と発光補助層との積層構造から構成されたものでも良い。積層構造から構成される場合には、その各層の全てをウェットコート方式により形成する必要がないが、第一の電極２に接触する最初の層をウェットコート方式により形成することが望ましい。全ての層をウェットコート方式により形成することも可能である。
【００４１】
ウェットコート方式としては、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、吐出コート法、プレコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗布方式や凸版印刷法、インクジェット印刷法の印刷方式が挙げられる。特に印刷方式による場合には、画素部に選択的に適用することができるため、各画素に、互いに異なる色彩に発光する発光層を印刷して、カラー表示のできる有機ＥＬ素子を容易に製造することが可能である。
【００４２】
発光層の主成分は、電圧の印加によって発光する発光材料である。このような発光材料としては、９，１０−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノラート）アルミニウム錯体、ビス（８−キノラート）亜鉛錯体、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−５−シアノ−８−キノラート）アルミニウム錯体、ビス（２−メチルー５−トリフルオロメチルー８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、ビス（２−メチルー５−シアノー８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリノラート）スカンジウム錯体、ビス［８−（パラートシル）アミノキノリン］亜鉛錯体及びカドミウム錯体、１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、ポリー２，５−ジヘプチルオキシーパラーフェニレンビニレンなどの低分子系発光材料が使用できる。また、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポリフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等、Ｉｒ錯体等の燐光性発光体などの低分子系発光材料を、高分子中に分散させたものが使用できる。高分子としてはポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等が使用できる。また、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロなどの高分子発光材料であってもよい。また、これら高分子材料に前記低分子材料の分散又は共重合した材料や、その他既存の発光材料を用いることもできる。
【００４３】
発光補助層としては、例えば、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、正孔輸送層が例示できる。これらの層は必要に応じて適宜選択される。このうち、正孔輸送層の材料としては、銅フタロシアニン、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、１，１−ビス（４−ジーｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ’Ｎ’−ジフェニルーＮ’Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’―ビフェニルー４、４’−ジアミン、Ｎ’Ｎ’−ジ（１−ナフチル）ーＮ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’―ビフェニルー４、４’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正孔輸送材料が例示できる。また、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料を使用してもよい。また、ポリチオフェンオリゴマー材料を使用することもできる。
【００４４】
また、電子輸送層としては、２−（４−ビフィニルイル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、オキサジアゾール誘導体やビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム錯体、トリアゾール化合物等を用いることができる。
【００４５】
これら各層の材料に、溶剤と必要な添加剤を添加することで塗料またはインキとすることができる。溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジクロロメタンジクロロエタン、クロロホルム、エチルアセテート、エタノール、メタノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−エチルエトキシアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−メトキシエチルエーテル、２−エトキシエチルエーテル、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール、２−（２’エトキシエトキシ）エチルアセテート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、グリコール、エチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、水等を用いることができる。これは単独で用いてもよいし、混合して使用してもよい。中でも、発光材料をインキとする場合、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が発光材料の溶解性の面から好適である。
【００４６】
次に、第二の電極を形成する。第二電極を陰極とした場合その材料としては電子注入効率の高い物質を用いる。具体的にはＭｇ、ＡＬ、Ｙｂ等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界面にＬｉや参加Ｌｉ、ＬｉＦ等の化合物を１ｎｍ程度挟んで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層して用いる。または電子注入効率と安定性を両立させるため、低仕事関数なＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ等の金属１種以上と、安定なＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属元素との合金系が用いられる。具体的にはＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ，ＣｕＬｉ等の合金が使用できる。
【００４７】
第二の電極の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。厚さは１０ｎｍ〜１μｍ程度が望ましい。なお、本発明では第一の電極を陰極、第二の電極を陽極とすることも可能である。
【００４８】
そして、ガラスキャップ等により接着剤を介して封止をおこない、水分や酸素による陰極や発光媒体層の劣化を防止する。
【実施例】
【００４９】
まず、ガラス基板上にスパッタリングで第一電極としてＩＴＯ層を形成した。さらに、透明性と導電性を向上させるために、空気中で加熱処理を行いＩＴＯを結晶化した。
【００５０】
次に、フォトリソグラフィ及びウェットエッチングによってＩＴＯをパターニングし、ライン／スペースは２００μｍ／３０μｍの第一電極ラインを形成した。
【００５１】
その上にポリイミド系ポジ型感光性樹脂をスピンコート法により、塗布してから、プリベークし、露光・現像・ポストベークによって隔壁を形成した。
【００５２】
形成された隔壁の高さは１．５μｍで、逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さは２００ｎｍであった。また、逆テーパー形状を有する隔壁下部において、最大幅は５５μｍ、最小幅は４０μｍであった。
【００５３】
次に、ＵＶ洗浄を行った後、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸（以下ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳという）の１ｗｔ％水分散溶液、スピンコート法を用いて厚み８０ｎｍで塗布して正孔輸送層を形成した。
【００５４】
次に、発光層として、高分子発光材料であるポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＥＨ−ＰＰＶ）の１．８ｗｔ％ｏ−キシレン溶液を凸版印刷法により膜厚８０ｎｍで形成した。
【００５５】
次いで、第二の電極を陰極としてＭｇＡｇを２元共蒸着により２００ｎｍの厚みをマスク蒸着することで形成した。最後に素子全体をガラスキャップで封止して本発明の有機ＥＬ素子を作製した。
【００５６】
得られた有機ＥＬ素子の発光部からムラなく、均一な発光が観察された。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の有機ＥＬ素子の断面図である。
【図２】従来の有機ＥＬ素子の断面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１ 基板
２ 第一の電極
３ 隔壁
４１ 発光補助層（正孔輸送層）
４２ 発光層
５ 第二の電極
Ｌ 発光領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、この基板上に設けられたパターン状の第一電極と、これら第一の電極の間に設けられた隔壁と、第一の電極上であって、隔壁で区画された領域に設けられた有機発光媒体層と、この有機発光媒体層を挟んで第一の電極に対向する第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記隔壁の下部が逆テーパー形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さ方向における最大幅と最小幅の差が０．１μｍ以上５００μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さが０．０１μｍ以上１μｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記隔壁の高さが０．５μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記隔壁が感光性樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記有機発光媒体層の中の一層が、ウェットコート方式で形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
前記第一の電極を備える基板上に、感光性樹脂を塗布し、露光・現像した後、ポストベークして、前記隔壁を形成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１】
基板と、この基板上に設けられたパターン状の第一電極と、これら第一の電極の間に設けられた隔壁と、第一の電極上であって、隔壁で区画された領域に設けられた有機発光媒体層と、この有機発光媒体層を挟んで第一の電極に対向する第二の電極を具備する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
前記隔壁の下部が逆テーパー形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さ方向における最大幅と最小幅の差が０．１μｍ以上５００μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記逆テーパー形状を有する隔壁下部の高さが０．０１μｍ以上１μｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記隔壁の高さが０．５μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記隔壁が感光性樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記有機発光媒体層の中の一層が、ウェットコート方式で形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
前記第一の電極を備える基板上に、感光性樹脂を塗布し、露光・現像した後、ポストベークして、前記隔壁を形成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００７−９５３４２（Ｐ２００７−９５３４２Ａ）
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２７９６４８（Ｐ２００５−２７９６４８）
【出願日】平成１７年９月２７日（２００５．９．２７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月２７日（２００５．９．２７）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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