有機ＥＬパネル及びその製造方法
【目的】生産性を低下させることなく輝度ムラを抑制することができる有機ＥＬパネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【構成】基板の表面内において矩形の凹形状部及び凸形状部が周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部を有する絶縁膜を基板上に形成し、絶縁膜上においてこの絶縁膜の縁部よりも内側の領域に機能層を形成する。
【構成】基板の表面内において矩形の凹形状部及び凸形状部が周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部を有する絶縁膜を基板上に形成し、絶縁膜上においてこの絶縁膜の縁部よりも内側の領域に機能層を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子が配列された有機ＥＬパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、基板上に複数の陽極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極が積層された構造を有する。このような有機ＥＬ素子を複数個配列した有機ＥＬパネルでは、各素子を区画する為に、基板上に絶縁材料からなるバンクが設けられている。
【０００３】
ここで、上記有機ＥＬパネルを製造する手法のひとつとして、インクジェット法が知られている。
【０００４】
インクジェット法では、先ず、複数のノズルを備えた射出ヘッドをバンクの長手方向に沿って移動させつつ、各ノズルから有機材料を含む液体を微小フロー（噴流又は滴下流）の形態で基板表面に射出することにより、基板表面上に液滴を堆積させて行く。そして、堆積した液滴を乾燥させることにより、バンクで区画された領域に上記した正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び電子注入層からなる機能層を成膜するのである。
【０００５】
ところで、上記した射出ヘッドの幅が有機ＥＬパネルの基板の幅に比して小さい場合には、この射出ヘッドを基板の一端から他端に移動させた後、射出ヘッドをバンク長手方向に直交する方向に移動させ、その位置から基板の一端に向けて移動させるという往復動作を実行する。これにより、先ず、射出ヘッドが基板の一端から他端に移動した際にトレースした基板表面の領域（往路領域と称する）に液滴が堆積し、引き続き射出ヘッドが基板の他端から一端に移動した際にトレースした基板表面の領域（復路領域と称する）に液滴が堆積する。しかしながら、かかる往路領域と復路領域との境界線上においてバンク長手方向の端部側に堆積する液滴の量が他の箇所に比して多くなる。これにより、バンク長手方向の端部側付近で、往路領域で堆積した液滴が復路領域側に流れ込む、或いは復路領域で堆積した液滴が往路領域側に流れ込む場合があった。よって、製造後の有機ＥＬパネルの中央部と端部との間で機能層の膜厚にばらつきが生じ、それに伴い輝度ムラが発生してしまうという問題が生じた。
【０００６】
そこで、隣接する領域側に液滴が流れ込むのを防止する為に、バンクの上面を凹凸形態にするようにした技術が提案された（例えば、特許文献１の図３参照）。
【０００７】
しかしながら、このような構造を採用した場合、バンク上面を凹凸形態にする為の製造ステップが新たに増えるので、生産性が低下してしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−１８８０９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記した点に鑑みて為されたものであり、生産性を低下させることなく輝度ムラを抑制することができる有機ＥＬパネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１記載に係る有機ＥＬパネルは、基板と、前記基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された有機機能層を含む有機ＥＬ積層体と、を含む有機ＥＬパネルであって、前記有機機能層は前記絶縁膜上において前記絶縁膜の縁部よりも内側の領域に形成されており、前記絶縁膜は、互いに対向する縁部を有し、前記縁部の各々が凹形状部及び凸形状部が周期的に繰り返す凹凸形状を有し、前記凹形状部の長さと前記凸形状部の長さとが同一である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る有機ＥＬパネルの構造を示す透視図及び断面図である。
【図２】基板１の上面側から眺めたバンク３各々の配列形態の一例を示す図である。
【図３】有機ＥＬパネルの製造方法を示すフローチャートである。
【図４】有機ＥＬパネルの製造過程における各段階毎の形態を示す図である。
【図５】インクジェット法によって機能層を形成する際に用いられる液滴射出装置の概略構成を示す斜視図である。
【図６】液滴射出ヘッド１０２のノズル形成面を示す図である。
【図７】バンク３が形成されている基板１の表面上を移動する液滴射出ヘッド１０２の移動形態の一例を示す図である。
【図８】本発明に係る有機ＥＬパネルの構造の他の一例を示す上面透視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明に係る有機ＥＬパネルは、基板（１）の表面内において矩形の凹形状部（ＣＮ）及び凸形状部（ＣＰ）が周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部を有する絶縁膜（３）を基板上に形成し、絶縁膜上においてこの絶縁膜の縁部よりも内側の機能層領域（ＦＡ）に機能層を形成したものである。ここで、インクジェット法に基づき、かかる有機ＥＬパネルの絶縁膜上に機能層を形成するにあたり、機能層領域の端部（Ｅ１、Ｅ２）であって絶縁膜の縁部の凸形状部に対応する位置を、液滴射出ヘッド（１０２）による液滴射出開始位置とし、その位置から液滴射出ヘッドを機能層領域の他方の端部に向けて移動させつつ液滴を堆積させて行く。この際、絶縁膜上の液滴射出の開始位置から絶縁膜の縁部の凸形状部までの距離は、その開始位置から凹形状部までの距離よりも長いので、液滴射出の開始位置よりも後方（液滴射出ヘッドの進行方向の反対方向）には、比較的広い絶縁膜表面領域が存在する。よって、液滴射出の開始位置付近に堆積した液滴は、この拡張された絶縁膜表面領域に流れ込んで吸収されることになるので、液滴射出の開始位置付近に堆積した液滴がその直前又は直後にトレース対象となる隣接領域に流れ込むのが防止される。従って、堆積した液滴の隣接領域への流れ込みを防止する為の加工を施すことなく、機能層領域内において均一の厚さを有する機能層を形成することが可能となるので、生産性を低下させることなく輝度ムラを抑制させることができるようになる。
【実施例】
【００１３】
図１（ａ）は、本発明に係る有機ＥＬパネルの一部（角部）を上面側から眺めた透視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＶ−Ｖ線における有機ＥＬパネルの断面を示す断面図である。
【００１４】
図１（ａ）及び図１（ｂ）において、ガラスや樹脂等からなる平板又はフィルム状の基板１上には、パネル平面におけるＹ方向に夫々伸張する帯状の陽極２が所定間隔おきに複数個形成されている。陽極２は、仕事関数の高い、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）等の酸化金属、或いはＣｒ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ａｕ等の金属、又はその化合物、それらを含む合金等からなる。
【００１５】
基板１及び陽極２上には、有機材料（後述する）に対して高い親液性を有する絶縁膜３が形成されている。
【００１６】
図２は、絶縁膜３の全体を基板１の上面側から眺めた正面図である。
【００１７】
図２に示すように、絶縁膜３の表面には、夫々がＹ方向に伸張する開口部ＡＰがストライプ状に形成されている。開口部ＡＰの各々は、図１（ｂ）に示す如く、絶縁膜３を貫通して形成されたものであり、陽極２各々の表面を露出させるべく各陽極２に対応した位置に夫々設けられている。開口部ＡＰ各々の位置には、この開口部ＡＰの長手方向（Ｙ方向）における長さと同一長を有する帯状の有機発光層７が形成される（後述する）。よって、各開口部ＡＰは、有機発光層７の各々が形成されるべき形成予定領域と捉えることができる。尚、図２に示す如く、絶縁膜３の表面に複数の開口部ＡＰを設けることにより、互いに隣接する開口部ＡＰ各々の間には、図１（ｂ）に示すように、絶縁膜３によるバンクが形成されることになる。この際、開口部ＡＰ各々のストライプ長手方向における一方の端部同士を結ぶ線分Ｅ１と、開口部ＡＰ各々のストライプ長手方向における他方の端部同士を結ぶ線分Ｅ２とに挟まれた領域が機能層（後述する）が形成される機能層領域ＦＡとなる。
【００１８】
更に、図２に示すように、絶縁膜３は、夫々が絶縁膜３からの突出部及び窪み部である矩形の凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮが周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部Ｐ１及びＰ２を有する。この際、縁部Ｐ１は、図２に示す如く絶縁膜３の縁部（太実線にて示す）のうちで、機能層領域ＦＡの一端である線分Ｅ１に沿った縁部であり、縁部Ｐ２は、この一端に対向する機能層領域ＦＡの他端である線分Ｅ２に沿った縁部である。尚、縁部としての凸形状部ＣＰの長さＷと凹形状部ＣＮの長さＷは同一である。また、機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）又は他端（Ｅ２）から凸形状部ＣＰまでの距離と、凹形状部ＣＮまでの距離との差は、距離Ｌである。つまり、絶縁膜３の縁部において、凸形状部ＣＰは凹形状部ＣＮに対して距離Ｌの分だけ外側に突出しているのである。
【００１９】
各陽極２上において上記した如き絶縁膜３に覆われた部分には、図１（ｂ）に示すように、陽極２に電源電圧を供給する為のバスライン４が形成されている。バスライン４の各々は、各陽極２上において、その陽極２に沿った方向、つまりＹ方向に伸張して形成されている。
【００２０】
更に、図２に示す如き機能層領域ＦＡ内において、絶縁膜３及び陽極２の表面を覆うように正孔注入層５が形成されており、かかる正孔注入層５の表面を覆うように正孔輸送層６が積層されている。正孔注入層５及び正孔輸送層６の材料としては、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ベンジルフェニル誘導体、フルオレン基で３級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン誘導体、シラザン誘導体、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、カーボン等が挙げられる。
【００２１】
また、かかる正孔輸送層６の表面上において、絶縁膜３の各開口部ＡＰによる窪部には、夫々がＹ方向に伸長する有機発光層７が図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように形成されている。尚、各開口部ＡＰの長手方向における長さと、有機発光層７の長手方向における長さとは同一である。つまり、絶縁膜３上には、図２に示す如き開口部ＡＰと同様な形態で、複数の有機発光層７がストライプ状に形成されているのである。
【００２２】
要するに、有機発光層７各々のストライプ長手方向における一方の端部同士を結ぶ線分Ｅ１と、有機発光層７各々のストライプ長手方向における他方の端部同士を結ぶ線分Ｅ２とに挟まれた領域、つまり、絶縁膜３の縁部よりも内側の領域が上記した如き機能層領域ＦＡとなる。この際、絶縁膜３の縁部（太実線にて示す）の内で、有機発光層７のストライプの長手方向における一方の端部同士を結ぶ線分Ｅ１に沿った縁部Ｐ１、及び有機発光層７のストライプ長手方向における他方の端部同士を結ぶ線分Ｅ２に沿った絶縁膜の縁部Ｐ２が、図２に示す如く矩形の凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮが周期的に繰り返す矩形凹凸形状を有する。更に、図２に示すように、凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮは有機発光層７を含む機能層領域ＦＡを挟んで互いに対向した位置に形成されている。つまり、図２に示すように、縁部Ｐ１の凸形状部ＣＰに対向する縁部Ｐ２の位置には凹形状部ＣＮが形成されており、縁部Ｐ１の凹形状部ＣＮに対向する縁部Ｐ２の位置には凸形状部ＣＰが形成されている。
【００２３】
尚、有機発光層７は、発光性有機金属化合物等で成膜されたものであり、実際には、図１（ａ）に示すように、赤色発光を行う有機発光層７R、緑色発光を行う有機発光層７G、及び青色発光を行う有機発光層７Bの如き３系統分の有機発光層７が、正孔輸送層６上においてストライプ状に形成されている。よって、図２に示す如き機能層領域ＦＡ内において、有機発光層７Rが形成されている領域は赤色発光領域となり、有機発光層７Gが形成されている領域は緑色発光領域となり、有機発光層７Bが形成されている領域は青色発光領域となる。
【００２４】
更に、これら有機発光層７R、７G及び７B、並びに正孔輸送層６の表面を覆うように、機能層領域ＦＡ内に電子輸送層８が形成されており、この電子輸送層８の表面上に夫々がパネル平面におけるＸ方向に伸張する複数の帯状の陰極９が形成されている。尚、陰極９は、仕事関数の低い、例えば、Ａｌなどの金属またはその化合物、あるいはそれらを含む合金等からなる。
【００２５】
以下に、かかる有機ＥＬパネルの製造方法について図３に示す製造フローに沿って説明する。
【００２６】
まず、基板１の表面上に、例えばスパッタ法等によってＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透光性を有する導電性薄膜を形成する。そして、例えばフォトリソグラフィー法によって図１（ａ）及び図１（ｂ）に示す如き陽極２各々の形状を有するマスクを形成し、このマスクを介して上記した導電性薄膜をエッチングすることにより、図４（ａ）に示す如く、基板１の表面上に複数の陽極２を形成する。更に、各陽極２上に、例えばスパッタ法等によってＡｌＮｄ（アルミニウム−ネオジウム合金）からなる金属膜を形成する。そして、例えばフォトリソグラフィー法によって図１（ａ）及び図１（ｂ）に示す如きバスライン４各々の形状を有するマスクを形成し、このマスクを介して上記した金属膜をエッチングすることにより、図４（ａ）に示す如く、各陽極２の表面上において陽極２に沿ってＹ方向に伸長するバスライン４を形成する（ステップＳ１）。
【００２７】
次に、例えばスピンコート法等によって基板１、陽極２及びバスライン４各々を覆うように絶縁材料からなる絶縁膜を形成する。そして、例えばフォトリソグラフィー法によって、図２に示す如き矩形凹凸形状の縁部Ｐ１及びＰ２を有する絶縁膜３を、基板１及び陽極２上に図４（ｂ）に示す如く形成させる（ステップＳ２）。
【００２８】
次に、インクジェット法により、図４（ｃ）に示す如く、絶縁膜３の表面と、絶開口部ＡＰによって露出している陽極２の表面とを覆うように、正孔注入層５及び正孔輸送層６を積層形成すると共に、正孔輸送層６の表面上に有機発光層７を形成する（ステップＳ３）。すなわち、ステップＳ３により、絶縁膜３上に、正孔注入層５、正孔輸送層６及び有機発光層７を含む機能層を形成するのである。
【００２９】
図５は、インクジェット法によってこれら正孔注入層５、正孔輸送層６及び有機発光層７を形成させるべく用いる液滴射出装置の概略構成を示す図である。
【００３０】
図５に示すように、かかる液滴射出装置は、絶縁膜３形成済みの基板１を固定するステージ１００、ステージ１００をＹ方向に移動させるステージ移動機構１０１、液滴射出ヘッド１０２、液滴射出ヘッド１０２をＹ方向に直交するＸ方向に移動させるヘッド移動機構１０３、及び制御部２００を備える。
【００３１】
液滴射出ヘッド１０２の下面には、例えば図６に示されるように、正孔注入層５、正孔輸送層６又は有機発光層７の原料となる有機材料を含む液滴を絶縁膜３の表面に向けて射出する複数のノズルＮＺが形成されている。尚、ノズルＮＺの各々は、ステージ１００に固定されている基板１に形成されている絶縁膜３の開口部ＡＰの長手方向（Ｙ方向）に直交する方向（Ｘ方向）に沿って配列されている。この際、図６に示す如き、夫々が最端に位置するノズルＮＺ同士の間隔、つまり液滴射出ヘッド１０２の液滴射出幅は、図２に示す如き凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮ各々の長さＷと同一となるように設定されている。
【００３２】
制御部２００は、ステージ移動機構１０１及びヘッド移動機構１０３各々に対する移動制御を行うことにより、液滴射出ヘッド１０２を、ステージ１００に固定されている基板１の上方の空間において移動させる。更に、制御部２００は、液滴射出ヘッド１０２に対して液滴の射出制御を行う。
【００３３】
以下に、図５に示す液滴射出装置において上記ステップＳ３で実施される動作の一例について説明する。
【００３４】
制御部２００は、先ず、図７（ａ）に示す如く、液滴射出ヘッド１０２を、機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）であって矩形凹凸形状の縁部における凸形状部ＣＰに対応する位置に移動させる。
【００３５】
次に、制御部２００は、その位置から、液滴射出ヘッド１０２による液滴の射出を開始させ、液滴射出ヘッド１０２を機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）に向けてＹ方向に移動させつつ液滴を射出させる。これにより、図７（ｂ）に示す如き液滴射出ヘッド１０２がトレースした領域（斜線部にて示す）に、液滴射出ヘッド１０２から射出された有機材料の液滴が堆積する。
【００３６】
ここで、液滴射出ヘッド１０２が図７（ｂ）に示す如き機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）の位置に到達したら、制御部２００は、液滴の射出を停止させてから液滴射出ヘッド１０２を距離ＷだけＸ方向に移動させることにより、図７（ｃ）に示す如き機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）上における、凸形状部ＣＰに対応する位置まで液滴射出ヘッド１０２を移動せしめる。
【００３７】
そして、制御部２００は、液滴射出ヘッド１０２による液滴の射出を開始させ、液滴射出ヘッド１０２を機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）に向けて移動させつつ液滴を射出させる。これにより、図７（ｄ）に示す如き液滴射出ヘッド１０２がトレースした領域（斜線部にて示す）に、液滴射出ヘッド１０２から射出された有機材料の液滴が堆積する。
【００３８】
液滴射出ヘッド１０２が図７（ｄ）に示す如き機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）の位置に到達すると、制御部２００は、かかる液滴射出ヘッド１０２を距離ＷだけＸ方向に移動させる。そして、引き続き制御部２００は、上記した図７（ａ）〜図７（ｄ）と同様な動作を繰り返し実行することにより、図２に示す如き機能層領域ＦＡ内に、順次、液滴射出ヘッド１０２から射出された有機材料の液滴を堆積させて行く。
【００３９】
上記した如き有機材料の液滴を堆積させる動作と、これを乾燥させる動作とを繰り返し実行することにより、絶縁膜３上に正孔注入層５及び正孔輸送層６を順次積層形成して行く。その後、上記した液滴射出装置により、正孔輸送層６上における絶縁膜３の開口部ＡＰの位置に有機材料の液滴を堆積させて有機発光層７を形成する。
【００４０】
これら正孔注入層５、正孔輸送層６及び有機発光層７の形成後、例えば８−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体等の金属錯体を正孔輸送層６及び有機発光層７の表面に蒸着することにより、図４（ｄ）に示す如く電子輸送層８を形成する（ステップＳ４）。
【００４１】
そして、Ａｌなどの金属材料からなり夫々が平面パネルにおけるＸ方向に伸長する複数の電極を電子輸送層８に蒸着することにより、図４（ｅ）に示す如き陰極９を電子輸送層８上に形成する（ステップＳ５）。
【００４２】
ここで、上記したステップＳ３にて絶縁膜３及び陽極２の表面に機能層（５〜８）を形成させるべく、図７（ａ）〜図７（ｄ）に示す如く液滴射出ヘッド１０２をＹ方向に沿って機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）及び他端（Ｅ２）間で往復させつつ液滴の射出を行うと、以下の如き現象が生じる。
【００４３】
すなわち、絶縁膜３上において、液滴射出ヘッド１０２の移動に伴って順次付着した液滴の各々は、その直前に付着した液滴の方に引き寄せられる形態で吸収合体することにより堆積して行く。従って、絶縁膜３上の機能層領域ＦＡ内を、図７（ａ）〜図７（ｄ）に示すように、液滴射出ヘッド１０２の液滴射出幅Ｗに対応した領域毎に順次トレースする場合、各領域での液滴射出の開始位置では他の部分に比して液滴の堆積量が多くなる。例えば、図７（ａ）において、凸形状部ＣＰ1及び凹形状部ＣＮ1に挟まれた機能層領域ＦＡ内の領域（以下、第１トレース領域と称する）では、機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）の位置が液滴射出ヘッド１０２による液滴射出の開始位置となる。また、図７（ａ）において、凹形状部ＣＮ2及び凸形状部ＣＰ2に挟まれた機能層領域ＦＡ内の領域（以下、第２トレース領域と称する）では、機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）の位置が液滴射出ヘッド１０２による液滴射出の開始位置となる。従って、第１トレース領域内では、機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）の位置で堆積した液滴の量が、その中央部で堆積した液滴の量よりも多くなる。よって、第１トレース領域において機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）付近に堆積した液滴が、隣接する第２トレース領域に流れ込む虞が生じる。また、第２トレース領域では、機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）付近で堆積した液滴の量が、その中央部で堆積した液滴の量よりも多くなる。よって、第２トレース領域において機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）付近に堆積した液滴が、隣接する第１トレース領域に流れ込む虞が生じる。
【００４４】
このように、液滴射出の開始位置（Ｅ１、Ｅ２）付近に堆積した液滴が隣接領域に流れ込む場合、その領域の中央部で堆積した液滴の量よりも堆積する液滴の量が多くなるので、製造後の有機ＥＬパネルにおける発光領域内において、中央部と端部とで機能層の膜厚にばらつきが生じ、それに伴い輝度ムラが発生してしまうという問題が生じる。
【００４５】
そこで、本発明では、図２に示す如く、基板１の表面内において矩形の凹形状部ＣＮ及び凸形状部ＣＰが周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部を有する絶縁膜３を基板１上に形成するようにしている。これにより、インクジェット法に基づき以下の如き手順で絶縁膜３上に機能層を形成するようにすれば、上記した如き問題点を解消することが可能となる。
【００４６】
すなわち、機能層領域ＦＡの端部（Ｅ１、Ｅ２）であって絶縁膜３の縁部における凸形状部ＣＰに対応する位置を、液滴射出ヘッド１０２による液滴射出の開始位置とし、その位置から液滴射出ヘッドを機能層領域ＦＡの他方の端部に向けて移動させつつ液滴を堆積させて行くのである。この際、液滴射出ヘッド１０２による液滴射出の開始位置付近では、前述したように、それ以外の箇所に比べて液滴の堆積量が多くなる。ところが、図７（ａ）及び図７（ｃ）に示す如く、絶縁膜３上における液滴射出の開始位置（Ｅ１又はＥ２）から凸形状部ＣＰまでの距離は、その開始位置から凹形状部ＣＮまでの距離よりも距離Ｌだけ長くなっている。従って、液滴射出の開始位置よりも後方（液滴射出ヘッド１０２の進行方向の反対方向）には、距離Ｌ分だけ広い絶縁膜表面領域が存在することになる。よって、液滴射出の開始位置付近に堆積した液滴は、上記した絶縁膜表面領域に流れ込んで吸収されることになるので、液滴射出の開始位置付近に堆積した液滴がその直前又は直後にトレース対象となる隣接領域に流れ込むのを防止することが可能となる。
【００４７】
従って、本発明によれば、１回分のトレースで堆積した液滴が隣接トレース領域へ流れ込むのを防止する為の加工を施すことなく、機能層領域ＦＡ内において均一の厚さを有する機能層を形成することが可能となる。よって、インクジェット法に基づき機能層を形成するにあたり、生産性を低下させることなく輝度ムラを抑制した有機ＥＬパネルを提供することが可能となるのである。
【００４８】
尚、図７（ｂ）及び図７（ｄ）に示す如き液滴射出ヘッド１０２の液滴射出の終了位置（Ｅ１又はＥ２）では液滴の堆積量は少ないので、この液滴射出の終了位置では絶縁膜表面領域を広くする必要は無い。そこで、図２に示すように、絶縁膜３の矩形凹凸形状の縁部Ｐ１及びＰ２では、凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮを機能層領域ＦＡを挟んで互いに対向した位置に形成するようにしている。
【００４９】
かかる構成によれば、液滴射出の終了位置側では、その終了位置よりも後方に距離Ｌに亘る絶縁膜表面領域の拡張は為されないので、液滴射出の開始位置側及び終了位置側の双方で一律に縁部までの距離を距離Ｌ分だけ拡張する場合に比して、絶縁膜３を構築する際に必要となる絶縁材料の量を抑えることが可能となる。
【００５０】
また、上記実施例においては、インクジェット法によって機能層（５〜８）を形成するようにしているが、有機発光層７及び正孔注入層６は、これを蒸着法によって形成するようにしても良い。よって、有機発光層７を除く機能層をインクジェット法によって形成する場合、或いは有機発光層７、正孔輸送層６を除く機能層をインクジェット法によって形成する場合、液滴射出ヘッド１０２の移動方向は、有機発光層７のストライプ長手方向に限らず、これに直交する方向であっても良い。従って、絶縁膜３としては、有機発光層７のストライプの長手方向に沿った縁部が矩形凹凸形状を有するものであっても良い。
【００５１】
また、図１に示す有機ＥＬパネルでは、電子輸送層８の表面上に夫々がパネル平面におけるＸ方向に伸張する複数の帯状の陰極９を形成するようにしているが、これら帯状の陰極９に代えて、図８に示す如き単一の板状の陰極９ａを電子輸送層８の表面上に形成するようにしても良い。
【符号の説明】
【００５２】
１ 基板
２ 陽極
３ 絶縁膜
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子が配列された有機ＥＬパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、基板上に複数の陽極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極が積層された構造を有する。このような有機ＥＬ素子を複数個配列した有機ＥＬパネルでは、各素子を区画する為に、基板上に絶縁材料からなるバンクが設けられている。
【０００３】
ここで、上記有機ＥＬパネルを製造する手法のひとつとして、インクジェット法が知られている。
【０００４】
インクジェット法では、先ず、複数のノズルを備えた射出ヘッドをバンクの長手方向に沿って移動させつつ、各ノズルから有機材料を含む液体を微小フロー（噴流又は滴下流）の形態で基板表面に射出することにより、基板表面上に液滴を堆積させて行く。そして、堆積した液滴を乾燥させることにより、バンクで区画された領域に上記した正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び電子注入層からなる機能層を成膜するのである。
【０００５】
ところで、上記した射出ヘッドの幅が有機ＥＬパネルの基板の幅に比して小さい場合には、この射出ヘッドを基板の一端から他端に移動させた後、射出ヘッドをバンク長手方向に直交する方向に移動させ、その位置から基板の一端に向けて移動させるという往復動作を実行する。これにより、先ず、射出ヘッドが基板の一端から他端に移動した際にトレースした基板表面の領域（往路領域と称する）に液滴が堆積し、引き続き射出ヘッドが基板の他端から一端に移動した際にトレースした基板表面の領域（復路領域と称する）に液滴が堆積する。しかしながら、かかる往路領域と復路領域との境界線上においてバンク長手方向の端部側に堆積する液滴の量が他の箇所に比して多くなる。これにより、バンク長手方向の端部側付近で、往路領域で堆積した液滴が復路領域側に流れ込む、或いは復路領域で堆積した液滴が往路領域側に流れ込む場合があった。よって、製造後の有機ＥＬパネルの中央部と端部との間で機能層の膜厚にばらつきが生じ、それに伴い輝度ムラが発生してしまうという問題が生じた。
【０００６】
そこで、隣接する領域側に液滴が流れ込むのを防止する為に、バンクの上面を凹凸形態にするようにした技術が提案された（例えば、特許文献１の図３参照）。
【０００７】
しかしながら、このような構造を採用した場合、バンク上面を凹凸形態にする為の製造ステップが新たに増えるので、生産性が低下してしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−１８８０９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記した点に鑑みて為されたものであり、生産性を低下させることなく輝度ムラを抑制することができる有機ＥＬパネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１記載に係る有機ＥＬパネルは、基板と、前記基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された有機機能層を含む有機ＥＬ積層体と、を含む有機ＥＬパネルであって、前記有機機能層は前記絶縁膜上において前記絶縁膜の縁部よりも内側の領域に形成されており、前記絶縁膜は、互いに対向する縁部を有し、前記縁部の各々が凹形状部及び凸形状部が周期的に繰り返す凹凸形状を有し、前記凹形状部の長さと前記凸形状部の長さとが同一である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る有機ＥＬパネルの構造を示す透視図及び断面図である。
【図２】基板１の上面側から眺めたバンク３各々の配列形態の一例を示す図である。
【図３】有機ＥＬパネルの製造方法を示すフローチャートである。
【図４】有機ＥＬパネルの製造過程における各段階毎の形態を示す図である。
【図５】インクジェット法によって機能層を形成する際に用いられる液滴射出装置の概略構成を示す斜視図である。
【図６】液滴射出ヘッド１０２のノズル形成面を示す図である。
【図７】バンク３が形成されている基板１の表面上を移動する液滴射出ヘッド１０２の移動形態の一例を示す図である。
【図８】本発明に係る有機ＥＬパネルの構造の他の一例を示す上面透視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明に係る有機ＥＬパネルは、基板（１）の表面内において矩形の凹形状部（ＣＮ）及び凸形状部（ＣＰ）が周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部を有する絶縁膜（３）を基板上に形成し、絶縁膜上においてこの絶縁膜の縁部よりも内側の機能層領域（ＦＡ）に機能層を形成したものである。ここで、インクジェット法に基づき、かかる有機ＥＬパネルの絶縁膜上に機能層を形成するにあたり、機能層領域の端部（Ｅ１、Ｅ２）であって絶縁膜の縁部の凸形状部に対応する位置を、液滴射出ヘッド（１０２）による液滴射出開始位置とし、その位置から液滴射出ヘッドを機能層領域の他方の端部に向けて移動させつつ液滴を堆積させて行く。この際、絶縁膜上の液滴射出の開始位置から絶縁膜の縁部の凸形状部までの距離は、その開始位置から凹形状部までの距離よりも長いので、液滴射出の開始位置よりも後方（液滴射出ヘッドの進行方向の反対方向）には、比較的広い絶縁膜表面領域が存在する。よって、液滴射出の開始位置付近に堆積した液滴は、この拡張された絶縁膜表面領域に流れ込んで吸収されることになるので、液滴射出の開始位置付近に堆積した液滴がその直前又は直後にトレース対象となる隣接領域に流れ込むのが防止される。従って、堆積した液滴の隣接領域への流れ込みを防止する為の加工を施すことなく、機能層領域内において均一の厚さを有する機能層を形成することが可能となるので、生産性を低下させることなく輝度ムラを抑制させることができるようになる。
【実施例】
【００１３】
図１（ａ）は、本発明に係る有機ＥＬパネルの一部（角部）を上面側から眺めた透視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＶ−Ｖ線における有機ＥＬパネルの断面を示す断面図である。
【００１４】
図１（ａ）及び図１（ｂ）において、ガラスや樹脂等からなる平板又はフィルム状の基板１上には、パネル平面におけるＹ方向に夫々伸張する帯状の陽極２が所定間隔おきに複数個形成されている。陽極２は、仕事関数の高い、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）等の酸化金属、或いはＣｒ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ａｕ等の金属、又はその化合物、それらを含む合金等からなる。
【００１５】
基板１及び陽極２上には、有機材料（後述する）に対して高い親液性を有する絶縁膜３が形成されている。
【００１６】
図２は、絶縁膜３の全体を基板１の上面側から眺めた正面図である。
【００１７】
図２に示すように、絶縁膜３の表面には、夫々がＹ方向に伸張する開口部ＡＰがストライプ状に形成されている。開口部ＡＰの各々は、図１（ｂ）に示す如く、絶縁膜３を貫通して形成されたものであり、陽極２各々の表面を露出させるべく各陽極２に対応した位置に夫々設けられている。開口部ＡＰ各々の位置には、この開口部ＡＰの長手方向（Ｙ方向）における長さと同一長を有する帯状の有機発光層７が形成される（後述する）。よって、各開口部ＡＰは、有機発光層７の各々が形成されるべき形成予定領域と捉えることができる。尚、図２に示す如く、絶縁膜３の表面に複数の開口部ＡＰを設けることにより、互いに隣接する開口部ＡＰ各々の間には、図１（ｂ）に示すように、絶縁膜３によるバンクが形成されることになる。この際、開口部ＡＰ各々のストライプ長手方向における一方の端部同士を結ぶ線分Ｅ１と、開口部ＡＰ各々のストライプ長手方向における他方の端部同士を結ぶ線分Ｅ２とに挟まれた領域が機能層（後述する）が形成される機能層領域ＦＡとなる。
【００１８】
更に、図２に示すように、絶縁膜３は、夫々が絶縁膜３からの突出部及び窪み部である矩形の凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮが周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部Ｐ１及びＰ２を有する。この際、縁部Ｐ１は、図２に示す如く絶縁膜３の縁部（太実線にて示す）のうちで、機能層領域ＦＡの一端である線分Ｅ１に沿った縁部であり、縁部Ｐ２は、この一端に対向する機能層領域ＦＡの他端である線分Ｅ２に沿った縁部である。尚、縁部としての凸形状部ＣＰの長さＷと凹形状部ＣＮの長さＷは同一である。また、機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）又は他端（Ｅ２）から凸形状部ＣＰまでの距離と、凹形状部ＣＮまでの距離との差は、距離Ｌである。つまり、絶縁膜３の縁部において、凸形状部ＣＰは凹形状部ＣＮに対して距離Ｌの分だけ外側に突出しているのである。
【００１９】
各陽極２上において上記した如き絶縁膜３に覆われた部分には、図１（ｂ）に示すように、陽極２に電源電圧を供給する為のバスライン４が形成されている。バスライン４の各々は、各陽極２上において、その陽極２に沿った方向、つまりＹ方向に伸張して形成されている。
【００２０】
更に、図２に示す如き機能層領域ＦＡ内において、絶縁膜３及び陽極２の表面を覆うように正孔注入層５が形成されており、かかる正孔注入層５の表面を覆うように正孔輸送層６が積層されている。正孔注入層５及び正孔輸送層６の材料としては、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ベンジルフェニル誘導体、フルオレン基で３級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン誘導体、シラザン誘導体、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、カーボン等が挙げられる。
【００２１】
また、かかる正孔輸送層６の表面上において、絶縁膜３の各開口部ＡＰによる窪部には、夫々がＹ方向に伸長する有機発光層７が図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように形成されている。尚、各開口部ＡＰの長手方向における長さと、有機発光層７の長手方向における長さとは同一である。つまり、絶縁膜３上には、図２に示す如き開口部ＡＰと同様な形態で、複数の有機発光層７がストライプ状に形成されているのである。
【００２２】
要するに、有機発光層７各々のストライプ長手方向における一方の端部同士を結ぶ線分Ｅ１と、有機発光層７各々のストライプ長手方向における他方の端部同士を結ぶ線分Ｅ２とに挟まれた領域、つまり、絶縁膜３の縁部よりも内側の領域が上記した如き機能層領域ＦＡとなる。この際、絶縁膜３の縁部（太実線にて示す）の内で、有機発光層７のストライプの長手方向における一方の端部同士を結ぶ線分Ｅ１に沿った縁部Ｐ１、及び有機発光層７のストライプ長手方向における他方の端部同士を結ぶ線分Ｅ２に沿った絶縁膜の縁部Ｐ２が、図２に示す如く矩形の凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮが周期的に繰り返す矩形凹凸形状を有する。更に、図２に示すように、凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮは有機発光層７を含む機能層領域ＦＡを挟んで互いに対向した位置に形成されている。つまり、図２に示すように、縁部Ｐ１の凸形状部ＣＰに対向する縁部Ｐ２の位置には凹形状部ＣＮが形成されており、縁部Ｐ１の凹形状部ＣＮに対向する縁部Ｐ２の位置には凸形状部ＣＰが形成されている。
【００２３】
尚、有機発光層７は、発光性有機金属化合物等で成膜されたものであり、実際には、図１（ａ）に示すように、赤色発光を行う有機発光層７R、緑色発光を行う有機発光層７G、及び青色発光を行う有機発光層７Bの如き３系統分の有機発光層７が、正孔輸送層６上においてストライプ状に形成されている。よって、図２に示す如き機能層領域ＦＡ内において、有機発光層７Rが形成されている領域は赤色発光領域となり、有機発光層７Gが形成されている領域は緑色発光領域となり、有機発光層７Bが形成されている領域は青色発光領域となる。
【００２４】
更に、これら有機発光層７R、７G及び７B、並びに正孔輸送層６の表面を覆うように、機能層領域ＦＡ内に電子輸送層８が形成されており、この電子輸送層８の表面上に夫々がパネル平面におけるＸ方向に伸張する複数の帯状の陰極９が形成されている。尚、陰極９は、仕事関数の低い、例えば、Ａｌなどの金属またはその化合物、あるいはそれらを含む合金等からなる。
【００２５】
以下に、かかる有機ＥＬパネルの製造方法について図３に示す製造フローに沿って説明する。
【００２６】
まず、基板１の表面上に、例えばスパッタ法等によってＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透光性を有する導電性薄膜を形成する。そして、例えばフォトリソグラフィー法によって図１（ａ）及び図１（ｂ）に示す如き陽極２各々の形状を有するマスクを形成し、このマスクを介して上記した導電性薄膜をエッチングすることにより、図４（ａ）に示す如く、基板１の表面上に複数の陽極２を形成する。更に、各陽極２上に、例えばスパッタ法等によってＡｌＮｄ（アルミニウム−ネオジウム合金）からなる金属膜を形成する。そして、例えばフォトリソグラフィー法によって図１（ａ）及び図１（ｂ）に示す如きバスライン４各々の形状を有するマスクを形成し、このマスクを介して上記した金属膜をエッチングすることにより、図４（ａ）に示す如く、各陽極２の表面上において陽極２に沿ってＹ方向に伸長するバスライン４を形成する（ステップＳ１）。
【００２７】
次に、例えばスピンコート法等によって基板１、陽極２及びバスライン４各々を覆うように絶縁材料からなる絶縁膜を形成する。そして、例えばフォトリソグラフィー法によって、図２に示す如き矩形凹凸形状の縁部Ｐ１及びＰ２を有する絶縁膜３を、基板１及び陽極２上に図４（ｂ）に示す如く形成させる（ステップＳ２）。
【００２８】
次に、インクジェット法により、図４（ｃ）に示す如く、絶縁膜３の表面と、絶開口部ＡＰによって露出している陽極２の表面とを覆うように、正孔注入層５及び正孔輸送層６を積層形成すると共に、正孔輸送層６の表面上に有機発光層７を形成する（ステップＳ３）。すなわち、ステップＳ３により、絶縁膜３上に、正孔注入層５、正孔輸送層６及び有機発光層７を含む機能層を形成するのである。
【００２９】
図５は、インクジェット法によってこれら正孔注入層５、正孔輸送層６及び有機発光層７を形成させるべく用いる液滴射出装置の概略構成を示す図である。
【００３０】
図５に示すように、かかる液滴射出装置は、絶縁膜３形成済みの基板１を固定するステージ１００、ステージ１００をＹ方向に移動させるステージ移動機構１０１、液滴射出ヘッド１０２、液滴射出ヘッド１０２をＹ方向に直交するＸ方向に移動させるヘッド移動機構１０３、及び制御部２００を備える。
【００３１】
液滴射出ヘッド１０２の下面には、例えば図６に示されるように、正孔注入層５、正孔輸送層６又は有機発光層７の原料となる有機材料を含む液滴を絶縁膜３の表面に向けて射出する複数のノズルＮＺが形成されている。尚、ノズルＮＺの各々は、ステージ１００に固定されている基板１に形成されている絶縁膜３の開口部ＡＰの長手方向（Ｙ方向）に直交する方向（Ｘ方向）に沿って配列されている。この際、図６に示す如き、夫々が最端に位置するノズルＮＺ同士の間隔、つまり液滴射出ヘッド１０２の液滴射出幅は、図２に示す如き凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮ各々の長さＷと同一となるように設定されている。
【００３２】
制御部２００は、ステージ移動機構１０１及びヘッド移動機構１０３各々に対する移動制御を行うことにより、液滴射出ヘッド１０２を、ステージ１００に固定されている基板１の上方の空間において移動させる。更に、制御部２００は、液滴射出ヘッド１０２に対して液滴の射出制御を行う。
【００３３】
以下に、図５に示す液滴射出装置において上記ステップＳ３で実施される動作の一例について説明する。
【００３４】
制御部２００は、先ず、図７（ａ）に示す如く、液滴射出ヘッド１０２を、機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）であって矩形凹凸形状の縁部における凸形状部ＣＰに対応する位置に移動させる。
【００３５】
次に、制御部２００は、その位置から、液滴射出ヘッド１０２による液滴の射出を開始させ、液滴射出ヘッド１０２を機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）に向けてＹ方向に移動させつつ液滴を射出させる。これにより、図７（ｂ）に示す如き液滴射出ヘッド１０２がトレースした領域（斜線部にて示す）に、液滴射出ヘッド１０２から射出された有機材料の液滴が堆積する。
【００３６】
ここで、液滴射出ヘッド１０２が図７（ｂ）に示す如き機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）の位置に到達したら、制御部２００は、液滴の射出を停止させてから液滴射出ヘッド１０２を距離ＷだけＸ方向に移動させることにより、図７（ｃ）に示す如き機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）上における、凸形状部ＣＰに対応する位置まで液滴射出ヘッド１０２を移動せしめる。
【００３７】
そして、制御部２００は、液滴射出ヘッド１０２による液滴の射出を開始させ、液滴射出ヘッド１０２を機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）に向けて移動させつつ液滴を射出させる。これにより、図７（ｄ）に示す如き液滴射出ヘッド１０２がトレースした領域（斜線部にて示す）に、液滴射出ヘッド１０２から射出された有機材料の液滴が堆積する。
【００３８】
液滴射出ヘッド１０２が図７（ｄ）に示す如き機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）の位置に到達すると、制御部２００は、かかる液滴射出ヘッド１０２を距離ＷだけＸ方向に移動させる。そして、引き続き制御部２００は、上記した図７（ａ）〜図７（ｄ）と同様な動作を繰り返し実行することにより、図２に示す如き機能層領域ＦＡ内に、順次、液滴射出ヘッド１０２から射出された有機材料の液滴を堆積させて行く。
【００３９】
上記した如き有機材料の液滴を堆積させる動作と、これを乾燥させる動作とを繰り返し実行することにより、絶縁膜３上に正孔注入層５及び正孔輸送層６を順次積層形成して行く。その後、上記した液滴射出装置により、正孔輸送層６上における絶縁膜３の開口部ＡＰの位置に有機材料の液滴を堆積させて有機発光層７を形成する。
【００４０】
これら正孔注入層５、正孔輸送層６及び有機発光層７の形成後、例えば８−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体等の金属錯体を正孔輸送層６及び有機発光層７の表面に蒸着することにより、図４（ｄ）に示す如く電子輸送層８を形成する（ステップＳ４）。
【００４１】
そして、Ａｌなどの金属材料からなり夫々が平面パネルにおけるＸ方向に伸長する複数の電極を電子輸送層８に蒸着することにより、図４（ｅ）に示す如き陰極９を電子輸送層８上に形成する（ステップＳ５）。
【００４２】
ここで、上記したステップＳ３にて絶縁膜３及び陽極２の表面に機能層（５〜８）を形成させるべく、図７（ａ）〜図７（ｄ）に示す如く液滴射出ヘッド１０２をＹ方向に沿って機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）及び他端（Ｅ２）間で往復させつつ液滴の射出を行うと、以下の如き現象が生じる。
【００４３】
すなわち、絶縁膜３上において、液滴射出ヘッド１０２の移動に伴って順次付着した液滴の各々は、その直前に付着した液滴の方に引き寄せられる形態で吸収合体することにより堆積して行く。従って、絶縁膜３上の機能層領域ＦＡ内を、図７（ａ）〜図７（ｄ）に示すように、液滴射出ヘッド１０２の液滴射出幅Ｗに対応した領域毎に順次トレースする場合、各領域での液滴射出の開始位置では他の部分に比して液滴の堆積量が多くなる。例えば、図７（ａ）において、凸形状部ＣＰ1及び凹形状部ＣＮ1に挟まれた機能層領域ＦＡ内の領域（以下、第１トレース領域と称する）では、機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）の位置が液滴射出ヘッド１０２による液滴射出の開始位置となる。また、図７（ａ）において、凹形状部ＣＮ2及び凸形状部ＣＰ2に挟まれた機能層領域ＦＡ内の領域（以下、第２トレース領域と称する）では、機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）の位置が液滴射出ヘッド１０２による液滴射出の開始位置となる。従って、第１トレース領域内では、機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）の位置で堆積した液滴の量が、その中央部で堆積した液滴の量よりも多くなる。よって、第１トレース領域において機能層領域ＦＡの一端（Ｅ１）付近に堆積した液滴が、隣接する第２トレース領域に流れ込む虞が生じる。また、第２トレース領域では、機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）付近で堆積した液滴の量が、その中央部で堆積した液滴の量よりも多くなる。よって、第２トレース領域において機能層領域ＦＡの他端（Ｅ２）付近に堆積した液滴が、隣接する第１トレース領域に流れ込む虞が生じる。
【００４４】
このように、液滴射出の開始位置（Ｅ１、Ｅ２）付近に堆積した液滴が隣接領域に流れ込む場合、その領域の中央部で堆積した液滴の量よりも堆積する液滴の量が多くなるので、製造後の有機ＥＬパネルにおける発光領域内において、中央部と端部とで機能層の膜厚にばらつきが生じ、それに伴い輝度ムラが発生してしまうという問題が生じる。
【００４５】
そこで、本発明では、図２に示す如く、基板１の表面内において矩形の凹形状部ＣＮ及び凸形状部ＣＰが周期的に繰り返す矩形凹凸形状の縁部を有する絶縁膜３を基板１上に形成するようにしている。これにより、インクジェット法に基づき以下の如き手順で絶縁膜３上に機能層を形成するようにすれば、上記した如き問題点を解消することが可能となる。
【００４６】
すなわち、機能層領域ＦＡの端部（Ｅ１、Ｅ２）であって絶縁膜３の縁部における凸形状部ＣＰに対応する位置を、液滴射出ヘッド１０２による液滴射出の開始位置とし、その位置から液滴射出ヘッドを機能層領域ＦＡの他方の端部に向けて移動させつつ液滴を堆積させて行くのである。この際、液滴射出ヘッド１０２による液滴射出の開始位置付近では、前述したように、それ以外の箇所に比べて液滴の堆積量が多くなる。ところが、図７（ａ）及び図７（ｃ）に示す如く、絶縁膜３上における液滴射出の開始位置（Ｅ１又はＥ２）から凸形状部ＣＰまでの距離は、その開始位置から凹形状部ＣＮまでの距離よりも距離Ｌだけ長くなっている。従って、液滴射出の開始位置よりも後方（液滴射出ヘッド１０２の進行方向の反対方向）には、距離Ｌ分だけ広い絶縁膜表面領域が存在することになる。よって、液滴射出の開始位置付近に堆積した液滴は、上記した絶縁膜表面領域に流れ込んで吸収されることになるので、液滴射出の開始位置付近に堆積した液滴がその直前又は直後にトレース対象となる隣接領域に流れ込むのを防止することが可能となる。
【００４７】
従って、本発明によれば、１回分のトレースで堆積した液滴が隣接トレース領域へ流れ込むのを防止する為の加工を施すことなく、機能層領域ＦＡ内において均一の厚さを有する機能層を形成することが可能となる。よって、インクジェット法に基づき機能層を形成するにあたり、生産性を低下させることなく輝度ムラを抑制した有機ＥＬパネルを提供することが可能となるのである。
【００４８】
尚、図７（ｂ）及び図７（ｄ）に示す如き液滴射出ヘッド１０２の液滴射出の終了位置（Ｅ１又はＥ２）では液滴の堆積量は少ないので、この液滴射出の終了位置では絶縁膜表面領域を広くする必要は無い。そこで、図２に示すように、絶縁膜３の矩形凹凸形状の縁部Ｐ１及びＰ２では、凸形状部ＣＰ及び凹形状部ＣＮを機能層領域ＦＡを挟んで互いに対向した位置に形成するようにしている。
【００４９】
かかる構成によれば、液滴射出の終了位置側では、その終了位置よりも後方に距離Ｌに亘る絶縁膜表面領域の拡張は為されないので、液滴射出の開始位置側及び終了位置側の双方で一律に縁部までの距離を距離Ｌ分だけ拡張する場合に比して、絶縁膜３を構築する際に必要となる絶縁材料の量を抑えることが可能となる。
【００５０】
また、上記実施例においては、インクジェット法によって機能層（５〜８）を形成するようにしているが、有機発光層７及び正孔注入層６は、これを蒸着法によって形成するようにしても良い。よって、有機発光層７を除く機能層をインクジェット法によって形成する場合、或いは有機発光層７、正孔輸送層６を除く機能層をインクジェット法によって形成する場合、液滴射出ヘッド１０２の移動方向は、有機発光層７のストライプ長手方向に限らず、これに直交する方向であっても良い。従って、絶縁膜３としては、有機発光層７のストライプの長手方向に沿った縁部が矩形凹凸形状を有するものであっても良い。
【００５１】
また、図１に示す有機ＥＬパネルでは、電子輸送層８の表面上に夫々がパネル平面におけるＸ方向に伸張する複数の帯状の陰極９を形成するようにしているが、これら帯状の陰極９に代えて、図８に示す如き単一の板状の陰極９ａを電子輸送層８の表面上に形成するようにしても良い。
【符号の説明】
【００５２】
１ 基板
２ 陽極
３ 絶縁膜
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された有機機能層を含む有機ＥＬ積層体と、を含む有機ＥＬパネルであって、
前記有機機能層は前記絶縁膜上において前記絶縁膜の縁部よりも内側の領域に形成されており、
前記絶縁膜は、互いに対向する縁部を有し、前記縁部の各々が凹形状部及び凸形状部が周期的に繰り返す凹凸形状を有し、
前記凹形状部の長さと前記凸形状部の長さとが同一であることを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項２】
夫々が前記絶縁膜からの突出部及び窪み部である前記凸形状部及び前記凹形状部は前記有機機能層を挟んで互いに対向した位置に形成されていることを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬパネル。
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された有機機能層を含む有機ＥＬ積層体と、を含む有機ＥＬパネルであって、
前記有機機能層は前記絶縁膜上において前記絶縁膜の縁部よりも内側の領域に形成されており、
前記絶縁膜は、互いに対向する縁部を有し、前記縁部の各々が凹形状部及び凸形状部が周期的に繰り返す凹凸形状を有し、
前記凹形状部の長さと前記凸形状部の長さとが同一であることを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項２】
夫々が前記絶縁膜からの突出部及び窪み部である前記凸形状部及び前記凹形状部は前記有機機能層を挟んで互いに対向した位置に形成されていることを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬパネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１３−５５０３２（Ｐ２０１３−５５０３２Ａ）
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−８６６８０（Ｐ２０１２−８６６８０）
【出願日】平成２４年４月５日（２０１２．４．５）
【分割の表示】特願２０１２−５１３３８４（Ｐ２０１２−５１３３８４）の分割
【原出願日】平成２３年９月５日（２０１１．９．５）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年４月５日（２０１２．４．５）
【分割の表示】特願２０１２−５１３３８４（Ｐ２０１２−５１３３８４）の分割
【原出願日】平成２３年９月５日（２０１１．９．５）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【Ｆターム（参考）】
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