説明

有機EL素子

【課題】有機EL素子の発光面積を小さくすることなく、有機EL素子の正面方向の発光強度を向上させることが可能な有機EL素子を提供する。
【解決手段】反射電極3と、発光層5を含む有機EL層4と、透明電極6と、反射電極3と有機EL層4との間に反射電極3から光取り出し側に向かって幅が徐々に細くなる傾斜部9を有する凸形状の光取り出し構造体8と、を備えた有機EL素子であって、光取り出し構造体8が、反射電極3上に、発光領域15を取り囲むように設けられており、反射電極3に垂直な面で切断したときに反射電極3と傾斜部9とでつくられる傾斜角の角度が最大になる断面において、該傾斜角の角度が23°以上33°以下であることを特徴とする有機EL素子。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、有機EL素子に関し、特に導波光を正面方向に取り出す構造を有する有機EL素子に関する。
【背景技術】
【0002】
有機EL素子の消費電力を低減するためには、有機EL素子の発光強度を向上させることが必要である。有機EL素子の発光強度を向上させる手法としては、有機EL素子の発光層で発光した光のうち、全反射によって有機EL素子内に閉じ込められている導波光を取り出す手法が知られている。
【0003】
図7は従来の有機EL素子101の概略断面図である。図7を用いて全反射による導波光の閉じ込めについて説明する。基板102には一般にガラス(屈折率1.5程度)が使用され、透明電極106には一般にITOやIZO(登録商標)等(屈折率1.9〜2.1程度)が使用され、有機EL層中の発光層105には一般にAlq3等(屈折率1.7〜1.9程度)が使用される。これらの材料は概ね平行に積層されている。全反射は光が屈折率の高い媒質から低い媒質に入射する際にスネルの法則に従って臨界角以上の入射角で発生する。有機EL素子101の構成では大きく分けて2つの全反射が発生する。
【0004】
第一の全反射は透明電極106と基板102との界面で発生する。これは発光層105よりも基板102の屈折率が低いためである。ここで全反射した光は、基板102と透明電極106との界面と、反射電極103と有機EL層104との界面との間で反射を繰り返して導波光111となるため有機EL素子101内に閉じ込められる。このような導波光111は有機EL素子101の外部領域110(空気)には取り出されないため有機EL素子101の発光強度を低下させる要因となる。従って発光強度を向上させるためには、発光層105から外部領域110に取り出されるまでの間に、発光層105の屈折率よりも低屈折率の媒質を設けないことが必要である。
【0005】
第二の全反射は基板102と外部領域110との界面で発生する。これは外部領域110(空気)の屈折率が発光層105の屈折率よりも低いためである。ここで全反射した光は、基板102と外部領域110との界面と、反射電極103と有機EL層104との界面との間で反射を繰り返して導波光111’となるため有機EL素子101内に閉じ込められる。有機EL素子101で発光した光を人間の目で認識するためには外部領域110に取り出す必要がある。このため上記第一の全反射のように高屈折率の材料で代替することはできない。従って発光強度を向上させるためには、有機EL素子101と外部領域110との界面の角度を変える、又はこの界面で散乱させることにより、有機EL素子101と外部領域110との界面で全反射条件を満たさないようにすることが必要である。
【0006】
非特許文献1では、上記二つの全反射を低減するために、基板に発光層の屈折率よりも高屈折率の材料(屈折率2.0)を用いて発光層から有機EL素子の外部領域までの間の低屈折率の材料をなくし、更に基板上の外部領域との界面に球面状レンズを形成している。これにより外部光取り出し効率が向上すると報告されている。
【0007】
特許文献1では、上記第二の全反射を低減するために、有機EL素子上の外部領域との界面に、傾斜部を有する立体である正四角錐からなる光取り出し構造体を設けている。このように有機EL素子の光取り出し側に傾斜部を有する光取り出し構造体を設けると、傾斜部により導波光に対する有機EL素子と外部領域との界面の角度が変わるため、特許文献1では傾斜部を全反射が発生しにくい角度に設計している。これにより外部光取り出し効率を向上させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【特許文献1】特開2005−055481号公報
【非特許文献】
【0009】
【非特許文献1】Akiyoshi Mikami SID’09 DIGEST P.907 60.4L
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
非特許文献1のように面光源の有機EL素子に対して高屈折率レンズを複数個設けた構成では、外部光取り出し効率や高角度側の発光強度は向上しやすいものの、特に重要な正面方向の発光強度が向上しにくいという問題がある。この要因としては、有機EL素子の発光のように指向性を持たず全方位に発光する面光源に対してレンズを複数個設けると、任意の方向に集光させる光学設計ができないことが挙げられる。
【0011】
一方、有機EL素子の発光面積をレンズに対して十分に小さくして点光源とした構成では、点光源に対して最適なレンズ設計にすることにより、正面方向の発光強度を向上させることができる。しかし、発光面積を小さくすると有機EL素子の発光に必要な電流密度が増大し、有機EL素子の発光強度の劣化進行が早くなるという問題がある。
【0012】
また、本発明者らは、傾斜部を有する光取り出し構造体を、反射電極と有機EL層との間に配置した場合に、光取り出し構造体の傾斜部の角度を、特許文献1の記載に基づく角度に設定しなくても、導波光を正面方向に多く取り出す効果があることを見出した。
【0013】
そこで、本発明は、反射電極と有機EL層との間に導波光を正面方向に多く取り出せる構造を設けることにより、有機EL素子の発光面積を小さくすることなく、有機EL素子の正面方向の発光強度を向上させることが可能な有機EL素子の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0014】
上記課題を解決するために、本発明は、反射電極と、発光層を含む有機EL層と、透明電極と、該反射電極と該有機EL層との間に該反射電極から光取り出し側に向かって幅が徐々に細くなる傾斜部を有する凸形状の光取り出し構造体と、を備えた有機EL素子であって、
前記光取り出し構造体が、前記反射電極上に、発光領域を取り囲むように設けられており、
前記反射電極に垂直な面で切断したときに前記反射電極と前記傾斜部とでつくられる傾斜角の角度が最大になる断面において、該傾斜角の角度が23°以上33°以下であることを特徴とする有機EL素子を提供するものである。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、有機EL素子の発光領域の大きさに関係なく導波光を正面方向に多く取り出すことができる。これにより有機EL素子の正面方向の発光強度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】本発明の有機EL素子の(a)概略断面図、(b)概略平面図である。
【図2】有機EL素子の正面方向の発光強度向上メカニズムの説明図である。
【図3】実施例10の有機EL素子の概略断面図である。
【図4】比較例1の有機EL素子の概略断面図である。
【図5】光取り出し構造体の傾斜角と比較例1に対する正面発光強度比の関係を示す図である。
【図6】光取り出し構造体の屈折率と比較例1に対する正面発光強度比の関係を示す図である。
【図7】従来の有機EL素子の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、本発明の有機EL素子の好適な実施形態について図面を参照して説明する。尚、本明細書で特に図示又は記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知又は公知技術を適用する。また、本発明は以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
【0018】
図1(a)(b)は本発明の有機EL素子の一例を示す概略図である。図1(b)は有機EL素子を正面方向から見たときの概略平面図(有機EL層4及び透明電極6は不図示)、図1(a)は有機EL素子を図1(b)の線分14を含む平面で切断したときの概略断面図である。有機EL素子1は基板2側から順に反射電極3、発光層5を含む有機EL層4、透明電極6を備え、反射電極3と有機EL層4との間に光取り出し構造体8を備えている。
【0019】
基板2はガラス、プラスチック、シリコン等で形成される。基板2にはTFT等のスイッチング素子(不図示)が形成されていても良い。
【0020】
基板2上には有機EL素子1の発光を光取り出し側に反射する反射電極3が形成されている。反射電極3は高反射率を有する金属又はその合金で形成されるのが好ましく、特にAl、Ag、Pt、Au、Cu、Pd、Ni等が好適であるが、前記金属又はその合金上に、仕事関数の高いITOやIZO(登録商標)等の透明導電材料を積層した積層体でも良い。
【0021】
反射電極3上には光取り出し構造体8が形成されている。光取り出し構造体8は反射電極3から光取り出し側(外部領域10側)に向かって幅が徐々に細くなる傾斜部9を有する凸形状になっており(図1(a))、かつ反射電極上に発光領域を取り囲むように設けられている(図1(b))。光取り出し構造体8は絶縁材料で形成されており、光取り出し構造体8に取り囲まれた領域の内側が発光領域15となる。このように、光取り出し構造体8は発光領域を規定する機能も有している。光取り出し構造体8は傾斜部9を2つ有しており、内周側に設けられたものが傾斜部(1)、外周側に設けられたものが傾斜部(2)である。傾斜部(1)と傾斜部(2)は稜線16で接している。また反射電極3に垂直な面で切断したときに反射電極3と傾斜部とでつくられる傾斜角の角度が最大になる断面において、傾斜部(1)と反射電極3がなす傾斜角φ1、及び傾斜部(2)と反射電極3がなす傾斜角φ2は23°以上33°以下の範囲で設けられている。傾斜角はこの範囲であれば正面発光強度向上の効果が得られるが、特に25°以上30°以下であることが好ましい。尚、図1(b)では光取り出し構造体8の内周の形状が円形になるように光取り出し構造体8を形成し、これにより発光領域15が円形に規定されているが、光取り出し構造体8の内周の形状は特に制限されるものではなく、楕円、四角形など任意の形状で良い。
【0022】
また、反射電極に垂直な面で切断したときに、光取り出し構造体はその最も膜厚の厚い位置が反射電極の上に位置しているのが良い。反射電極に垂直な面で切断したときには更に、光取り出し構造体の最も膜厚の厚い位置よりも発光領域に近い傾斜面と、光取り出し構造体の最も膜厚の厚い位置よりも発光領域から遠い傾斜面と、を反射電極上に有しているのが良い。
【0023】
光取り出し構造体8は上述のように絶縁材料であることが必要であると共に、光の吸収が低く透過率が高い材料で形成されるのが好ましい。これらの条件より、特にSiN、TiN等の無機窒化物、SiO2、TiO2、ZnO、Al23、ZrO等の無機酸化物、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の有機材料が好適である。また、光取り出し構造体8はこれらの複数の材料を混合した材料や複数の材料を積層したものであっても良い。また、光取り出し構造体8の屈折率は特に規定されるものではないが、発光層5と同程度の屈折率であることが好ましい。
【0024】
少なくとも発光層5を含む有機EL層4は反射電極3上及び光取り出し構造体8で形成される凸形状に沿うように形成されており、有機EL層4の表面の一部も傾斜部を有する凸形状になっている。有機EL層4は発光層5以外に、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロッキング層、正孔ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層等を含んでいても良い。各層には公知の有機EL材料を使用することができる。
【0025】
有機EL層4上には発光層5の屈折率以上の屈折率を有する透明電極6が有機EL層4の凸形状に沿うように形成されており、透明電極6の表面の一部も傾斜部を有する凸形状になっている。透明電極6は光の吸収が低く透過率が高い材料で形成されるのが好ましく、特にITOやIZO(登録商標)等の透明導電材料が好適である。
【0026】
透明電極6の外側、即ち有機EL素子1の外部領域10は発光層5よりも低屈折率の材料で形成されるのが好ましく、特に空気、窒素等の気体、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の有機材料、SiO2等の無機酸化物が好適である。
【0027】
次に、図2(a)(b)を用いて本発明の有機EL素子における正面方向の発光強度向上の二つのメカニズムについて説明する。これらのメカニズムの特徴は光取り出し構造体8の凸形状が反映された透明電極6と外部領域10との界面で有機EL素子1内の導波光11を全反射させた後、反射電極3で反射させて正面方向へ取り出すものである。「正面方向」とは、反射電極3に対して垂直な方向であって、反射電極3から光取り出し側に向かう方向のことである。
【0028】
図2(a)は本発明の有機EL素子の正面発光強度(正面方向の発光強度)向上の第一メカニズムである「3回反射モード」を説明する図である。「3回反射モード」とは、有機EL素子1内の導波光11を、光取り出し構造体8上の透明電極6と外部領域10との界面で2回反射させ、次に反射電極3で反射させることにより有機EL素子1の正面方向に導波光11を取り出すものである。図2(a)は反射電極3に対して垂直な面で切断したときの断面図であり、光取り出し構造体8の傾斜部(1)と反射電極3とがなす角である傾斜角φ1、及び傾斜部(2)と反射電極3とがなす角である傾斜角φ2が最大となる断面である。尚、有機EL層は図示していない。
【0029】
図2(a)に示すように、発光層5で発光した光のうち、外部領域10の界面において全反射条件を満たす導波光11は、透明電極6と外部領域10との界面と、反射電極3との間で反射を繰り返し、有機EL素子1内を導波している。
【0030】
光取り出し構造体8まで到達した導波光11は傾斜部(1)上の透明電極6と外部領域10の界面で全反射され、導波光11は傾斜部(2)上の透明電極6と外部領域10の界面の方向に進む。次に、導波光11は傾斜部(2)上の透明電極6と外部領域10の界面で全反射され、導波光11は反射電極3の方向に進む。そして、導波光11は反射電極3で反射された後、傾斜部(2)上の透明電極6と外部領域10の界面で全反射されることなく正面方向に出射され、外部領域10に取り出される。
【0031】
上述のように、「3回反射モード」では、反射電極3と有機EL層4との間に傾斜部9を有する光取り出し構造体8を設けることによって、導波光11を有機EL素子1の正面方向に取り出すことができ、正面方向の発光強度を向上させることが可能となる。
【0032】
図2(b)は本発明の有機EL素子の正面発光強度(正面方向の発光強度)向上の第二メカニズムである「2回反射モード」を説明する図である。「2回反射モード」とは、有機EL素子1内の導波光11を、光取り出し構造体8上の透明電極6と外部領域10との界面で1回反射させ、次に反射電極3で反射させることにより有機EL素子1の正面方向に導波光11を取り出すものである。図2(b)は反射電極3に対して垂直な面で切断したときの断面図であり、光取り出し構造体8の傾斜部(1)と反射電極3とがなす角である傾斜角φ1、及び傾斜部(2)と反射電極3とがなす角である傾斜角φ2が最大となる断面である。尚、有機EL層は図示していない。
【0033】
図2(b)に示すように、発光層5で発光した光のうち、外部領域10の界面において全反射条件を満たす導波光11は、透明電極6と外部領域10との界面と、反射電極3との間で反射を繰り返し、有機EL素子1内を導波している。
【0034】
光取り出し構造体8まで到達した導波光11は傾斜部(2)上の透明電極6と外部領域10の界面で全反射され、導波光11は反射電極3の方向に進む。次に、導波光11は反射電極3で反射された後、傾斜部(2)上の透明電極6と外部領域10の界面で全反射されることなく正面方向に出射され、外部領域10に取り出される。
【0035】
上述のように、「2回反射モード」では、反射電極3と有機EL層4との間に傾斜部9を有する光取り出し構造体8を設けたことによって、導波光11を有機EL素子1の正面方向に取り出すことができ、正面方向の発光強度を向上させることが可能となる。
【0036】
本発明の有機EL素子は、傾斜角φ1及び傾斜角φ2が23°以上33°以下の場合に、上述した「3回反射モード」と「2回反射モード」の2つのモードを両立させることができ、正面発光強度を大幅に向上させることが可能となる。
【0037】
また、図3に示すように、透明電極6と外部領域10の間には発光層5の屈折率以上の屈折率を有する透明層7が透明電極6の凸形状に沿うように形成されていても良い。透明層7を設けた場合には、透明層7と外部領域10の界面で全反射が発生する。透明層7を設けることにより、反射電極3と外部領域10の距離が大きくなる。これにより、導波光11は導波する際に反射電極3で反射する回数が減少するため、導波時の反射電極3での光吸収を低減することができる。結果としてより多くの導波光を光取り出し構造体8まで導波することができるようになるため、より正面発光強度を向上させることができる。透明層7は光の吸収が低く透過率が高い材料で形成されるのが好ましく、特にSiN、TiN等の無機窒化物、TiO2、ZnO、Al23、ZrO、ITO、IZO(登録商標)等の無機酸化物、Alq3、αNPD等の有機材料が好適である。また、透明層7は発光層5の屈折率以上の屈折率を有する材料の積層体であっても良い。
【0038】
本発明の有機EL素子は、基板上に複数個設けることで表示ディスプレイとすることが可能であり、有機EL素子毎に発光層で発光する光の波長を変えることでフルカラーのディスプレイとすることも可能である。
【実施例】
【0039】
以下、本発明の有機EL素子について、モンテカルロ法による光線追跡シミュレーションを実施し、正面方向の発光強度及び外部光取り出し効率の評価を行った。有機EL素子の発光強度の評価のため、有機EL素子から30cm離れた位置に光線ディテクターを設置した。
【0040】
[実施例1]
図1(a)(b)は本実施例の有機EL素子の概略図である。本実施例の有機EL素子の構成については上述のとおりであるため説明は省略する。
【0041】
本実施例では以下のシミュレーションモデルを用いてシミュレーションを行った。本実施例の反射電極3、有機EL層4、発光層5、透明電極6、光取り出し構造体8、外部領域10は以下のとおりである。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
<反射電極3>
・反射率:95%、直径:31μmφ
<有機EL層4>
・厚み:0.2μm、直径:31μmφ、屈折率:1.85、吸収なし
<発光層5>
・屈折率:1.85、吸収なし
・有機EL層4の厚みの中心位置を発光層5とした。
<透明電極6>
・厚み:0.1μm、屈折率:2.00、吸収率:5%/μm
<光取り出し構造体8>
・屈折率:1.85、吸収率:1%/μm
・内周直径:29μmφ
・外周直径:52μmφ
・傾斜角φ1:30°、傾斜角φ2:30°
・稜線16の中心と発光領域15の中心が一致している。
<外部領域10>
・屈折率:1.0
【0042】
[実施例2]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=23°、傾斜角φ2=23°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
【0043】
[実施例3]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=25°、傾斜角φ2=25°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
【0044】
[実施例4]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=28°、傾斜角φ2=28°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
【0045】
[実施例5]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=33°、傾斜角φ2=33°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
【0046】
[比較例1]
図4は本比較例の有機EL素子の概略断面図である。本比較例の有機EL素子は、光取り出し構造体8を設けず、代わりに平坦な絶縁層12を設けている点が実施例1と異なる。絶縁層12を設けることにより発光領域15の直径を29μmφとした。また、光取り出し構造体8を設けていないため、有機EL層4及び透明電極6は平坦に形成されている。本比較例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしていない。
【0047】
[比較例2]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=20°、傾斜角φ2=20°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本比較例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしていない。
【0048】
[比較例3]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=22°、傾斜角φ2=22°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本比較例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしていない。
【0049】
[比較例4]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=35°、傾斜角φ2=35°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本比較例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしていない。
【0050】
[比較例5]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=40°、傾斜角φ2=40°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本比較例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしていない。
【0051】
[実施例6]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角を、傾斜角φ1=28°、傾斜角φ2=25°にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
【0052】
[実施例7]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の屈折率を1.50にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
【0053】
[実施例8]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の屈折率を1.75にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
【0054】
[実施例9]
本実施例の有機EL素子は、光取り出し構造体8の屈折率を2.00にした点が実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
【0055】
[実施例10]
図3は本実施例の有機EL素子の概略断面図である。本実施例の有機EL素子は、透明電極6と外部領域10の間に透明層7を設けたことが実施例1と異なる。この点を除いては、実施例1と同じ材料を用い、実施例1と同じ構成としている。本実施例の透明層7は以下のとおりである。本実施例のシミュレーションモデルは上述した本発明の必要条件を満たしている。
<透明層7>
・屈折率:1.85、吸収なし、厚み:0.8μm
【0056】
(シミュレーション結果)
表1は実施例1乃至10、比較例1乃至5のシミュレーション結果であり、光取り出し構造体8を設けていない比較例1に対する正面発光強度の比率を示している。以下、表1を参照してシミュレーション結果の比較・評価を行う。
【0057】
【表1】

【0058】
(実施例1乃至5、比較例1乃至5のシミュレーション結果の比較・評価)
実施例1乃至5では正面発光強度が比較例1よりも向上している。ここで、表1の実施例1乃至5、比較例2乃至5のシミュレーション結果に基づいて、光取り出し構造体8の傾斜角φ1、φ2と正面発光強度比の関係を図5に示す。図5に示すように、本発明の有機EL素子は、光取り出し構造体8の傾斜角が23°以上33°以下の範囲において、特異的に正面発光強度が向上している。このグラフから、上述した本発明の必要条件を満たすことにより、正面発光強度が大幅に向上することが分かる。また、光取り出し構造体8の傾斜角が25°以上30°以下の範囲では、特に正面発光強度が向上しており、傾斜角が28°の場合には比較例1の3.9倍と大きく向上している。
【0059】
(実施例6、比較例1のシミュレーション結果の比較・評価)
実施例6では正面発光強度が比較例1の3.6倍に向上している。実施例6のように光取り出し構造体8の傾斜角φ1、φ2の角度が異なった場合でも、上述した本発明の必要条件を満たしている限り正面発光強度を向上させることができる。
【0060】
(実施例1及び7乃至9、比較例1のシミュレーション結果の比較・評価)
実施例7乃至9では正面発光強度が、実施例1には及ばないが比較例1よりも向上している。ここで、表1の実施例1及び7乃至9、比較例1のシミュレーション結果に基づいて、光取り出し構造体8の屈折率と正面発光強度比の関係を図6に示す。図6に示すように、本発明の有機EL素子は、光取り出し構造体8の屈折率が1.50乃至2.00のどの範囲においても、正面発光強度が向上している。また、光取り出し構造体8の屈折率と発光層5の屈折率が同じ場合に、特に正面発光強度が向上している。
【0061】
(実施例1及び10、比較例1のシミュレーション結果の比較・評価)
実施例10では正面発光強度が比較例1の3.8倍に向上しており、実施例1よりも正面発光強度が向上している。これは、透明層7を設けることにより、導波光11の反射電極3での光吸収を低減することができるからである。
【符号の説明】
【0062】
1:有機EL素子、2:基板、3:反射電極、4:有機EL層、5:発光層、6:透明電極、7:透明層、8:光取り出し構造体、9:傾斜部、9(1):傾斜部(1)、9(2):傾斜部(2)、10:外部領域、11:導波光、15:発光領域

【特許請求の範囲】
【請求項1】
反射電極と、発光層を含む有機EL層と、透明電極と、該反射電極と該有機EL層との間に該反射電極から光取り出し側に向かって幅が徐々に細くなる傾斜部を有する凸形状の光取り出し構造体と、を備えた有機EL素子であって、
前記光取り出し構造体が、前記反射電極上に、発光領域を取り囲むように設けられており、
前記反射電極に垂直な面で切断したときに前記反射電極と前記傾斜部とでつくられる傾斜角の角度が最大になる断面において、該傾斜角の角度が23°以上33°以下であることを特徴とする有機EL素子。
【請求項2】
前記透明電極の光取り出し側に前記発光層の屈折率以上の屈折率を有する透明層が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。
【請求項3】
前記反射電極に垂直な面で切断したときに、前記光取り出し構造体の最も膜厚の厚い位置が前記反射電極の上に位置し、
前記光取り出し構造体の最も膜厚の厚い位置よりも前記発光領域に近い傾斜面と、前記光取り出し構造体の最も膜厚の厚い位置よりも前記発光領域から遠い傾斜面と、を前記反射電極上に有することを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL素子。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【公開番号】特開2013−65441(P2013−65441A)
【公開日】平成25年4月11日(2013.4.11)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−203058(P2011−203058)
【出願日】平成23年9月16日(2011.9.16)
【出願人】(000001007)キヤノン株式会社 (59,756)
【Fターム(参考)】