有機ＥＬ表示装置
【課題】複数の表示領域を形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることできる。
【解決手段】本発明に係る有機ＥＬ表示装置は表示領域１００ａ、１００ｂを有する。また、有機ＥＬ表示装置は、基板１０１と、表示領域１００ａ、１００ｂ内に配置された陽極配線１０２と、表示領域１００ａ、１００ｂ内に配置された陰極配線１０５と、表示領域１００ａ、１００ｂ内における陽極配線１０２および陰極配線１０５間に形成された有機発光層１０７と、表示領域１００ａ、１００ｂ間に形成され、それぞれの表示領域１００ａ、１００ｂ内の陰極配線１０５を表示領域１００ａ、１００ｂ間で接続する接続配線２００とを備え、接続配線２００の面抵抗は陰極配線１０５の面抵抗よりも小さい。
【解決手段】本発明に係る有機ＥＬ表示装置は表示領域１００ａ、１００ｂを有する。また、有機ＥＬ表示装置は、基板１０１と、表示領域１００ａ、１００ｂ内に配置された陽極配線１０２と、表示領域１００ａ、１００ｂ内に配置された陰極配線１０５と、表示領域１００ａ、１００ｂ内における陽極配線１０２および陰極配線１０５間に形成された有機発光層１０７と、表示領域１００ａ、１００ｂ間に形成され、それぞれの表示領域１００ａ、１００ｂ内の陰極配線１０５を表示領域１００ａ、１００ｂ間で接続する接続配線２００とを備え、接続配線２００の面抵抗は陰極配線１０５の面抵抗よりも小さい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置に関し、特に互いに離間された複数の表示領域を有する有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＦＰＤ(Flat Panel Display)として有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置は自発光表示素子であり、液晶表示装置と比較して視野角が広く、バックライトが不要なため薄型化が可能である。また、応答速度も速く、有機物が有する発光性の多様性から、次世代の表示装置として期待されている。
【０００３】
また、近年、複数の表示領域を設けて、複数の情報を複数の表示領域の各々に一度に表示する有機ＥＬ表示装置も提案されている。
特許文献１には、複数の有機ＥＬ表示素子がマトリクス状に配列された有機ＥＬ表示装置が記載されている。複数の有機ＥＬ表示素子の各々により、複数の表示領域が形成されている。
【特許文献１】特開２００５−５０９９０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の技術では、複数の有機ＥＬ表示素子を用いて、複数の表示領域を形成しているが、製造コストや製造工数の低減のため、ひとつの有機ＥＬ表示素子内に複数の表示領域を形成する試みがなされている。
ところが、ひとつの有機ＥＬ表示素子内に複数の表示領域を形成しようとした場合、たとえば複数の表示領域内の複数の陰極配線を、複数の表示領域間でそれぞれ接続する複数の接続配線を新たに形成する必要が生じる。この接続配線は、複数の表示領域間に設けられるため、全体として、配線が長くなり、配線の電気抵抗が高くなってしまっていた。このため、有機ＥＬ表示装置の輝度を十分得ることができないという問題があった。
【０００５】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、複数の表示領域を形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることができる有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、互いに離間された複数の表示領域を有する有機ＥＬ表示装置であって、基板と、基板上に形成され、上記複数の表示領域内に配置された第１の配線と、第１の配線上に交差して形成され、上記複数の表示領域内に配置された第２の配線と、上記複数の表示領域内における第１および第２の配線間に形成された有機発光層と、上記複数の表示領域の間に形成され、上記複数の表示領域内の第１または第２の配線の一方を、上記複数の表示領域の間で接続する接続配線とを備え、上記接続配線の面抵抗は、接続する第１または第２の配線の面抵抗よりも小さいことを特徴とするものである。
【０００７】
このような構成にしたことにより、複数の表示領域を形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることできる。
【０００８】
また、上記接続配線は、接続する第１または第２の配線の一方と、接続する第１または第２の配線よりも面抵抗の小さい金属膜との積層体としてもよい。
このようにしたことにより、複数の表示領域を形成しても、簡単な構成で、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることできる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、複数の表示領域を形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
発明の実施の形態１．
本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置について、図に基づいて説明する。図１は、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、電極が形成される側から基板を観察した状況を示す模式図である。図２は本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＸ−Ｘ切断線における断面図である。なお、図１では封止基板１０８および捕水剤１１０を省略している。
【００１１】
図１および図２に示されるように、有機ＥＬ素子基板１０００は、基板１０１上に、第１の配線としての陽極配線１０２、絶縁膜１０３、第２の配線としての陰極配線１０５、陰極隔壁１０６、有機発光層１０７、低抵抗金属膜１５０などが形成されて構成されている。また、有機ＥＬ素子基板１０００には、互いに離間された２つの表示領域１００ａおよび１００ｂが設けられている。表示領域１００ａおよび表示領域１００ｂの間には、たとえば５ｍｍ〜１０ｍｍ以上の間隙が設けられている。
図１に示されるように、基板１０１上に陽極配線１０２がストライプ状に形成されている。陽極配線１０２は、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂ内を通じて配置されている。基板１０１には例えばガラス基板が用いられる。陽極配線１０２の材料には、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が用いられる。
【００１２】
図１および図２に示されるように、陽極配線１０２上に積層して、開口部１０３ａを有する絶縁膜１０３が形成されている。開口部１０３ａは、陽極配線１０２と陰極配線１０５との交差部に設けられる。
図１および図２に示されるように、有機発光層１０７は陽極配線１０２上に積層して形成されている。なお、有機発光層１０７は、たとえば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などの積層体により形成されている。なお、このような構成に限定されず、これと異なる構成を有する場合もある。
【００１３】
図１および図２に示されるように、陰極配線１０５は、陽極配線１０２に略直交して、ストライプ状に形成されている。陰極配線１０５は、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂ内を通して配置されている。陰極配線１０５の材料には、通常はアルミニウムまたはアルミニウム合金が用いられる。なお、ＡｌやＡｌ合金の他に、Ｌｉ等のアルカリ金属、Ａｇ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｉｎやこれらを含む合金を、陰極配線１０５の材料に用いてもよい。陰極配線１０５は、基板１０１の端辺に配列された陰極補助配線１０５ａに接続されている。陰極補助配線１０５ａは、基板上１０１に形成されている。また、陰極補助配線１０５ａは、たとえば、ＮｉＭｏ膜、Ａｌ膜、ＭｏＮｂ膜を順次積層して形成されている。
【００１４】
図１および図２に示されるように、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂの間では、低抵抗金属膜１５０が、基板１０１と陰極配線１０５との間に形成されている。また、低抵抗金属膜１５０は、陰極配線１０５に密着して形成されている。
ここで、図２に示されるように、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂの間における、陰極配線１０５および低抵抗金属膜１５０の積層体を、接続配線２００とする。
【００１５】
接続配線２００は、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂの間に形成されている。第１の表示領域１００ａ内の陰極配線１０５と、第２の表示領域１００ｂ内の陰極配線１０５とが、接続配線２００により、電気的に接続されている。接続配線２００の面抵抗は、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくなるように設定されている。
図１および図２に示されるように、接続配線２００内の陰極配線１０５は、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂの陰極配線１０５と一体に形成されている。
【００１６】
低抵抗金属膜１５０は、陰極配線１０５よりも面抵抗が小さい金属材料により形成されている。このように、低抵抗金属膜１５０に、陰極配線１０５よりも面抵抗が小さい金属材料を用い、低抵抗金属膜１５０上に陰極配線１０５を積層して、接続配線２００を構成することにより、接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることができる。
【００１７】
低抵抗金属膜１５０を、たとえば、ＮｉＭｏ膜、Ａｌ膜、ＭｏＮｂ膜、ＮｉＭｏ膜を順次積層した積層体により形成することができる。
具体的に、膜厚５０ｎｍのＮｉＭｏ膜、膜厚３７０ｎｍのＡｌ膜、膜厚３０ｎｍのＭｏＮｂ膜、膜厚５０ｎｍのＮｉＭｏ膜を順次積層した積層体により、低抵抗金属膜１５０を形成したところ、低抵抗金属膜１５０の面抵抗を約０．１オーム（Ω）／□とすることができた。
一方、陰極配線１０５にアルミニウムを用いた場合、アルミニウムの面抵抗は、約０．５オーム（Ω）／□である。
【００１８】
以上のように、低抵抗金属膜１５０の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることができる。また、低抵抗金属膜１５０の幅（図１紙面上において上下方向）を陰極配線１０５の幅（図１紙面上において上下方向）と同一とした場合、陰極配線１０５および低抵抗金属膜１５０の積層体である接続配線２００の面抵抗は、理論上、（０．１×０．５）／ （０．１＋０．５）＝約０．０８オーム（Ω）／□となり、接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも大幅に小さくすることができる。
【００１９】
このように、複数の表示領域１００ａ、１００ｂを形成したことにより、複数の表示領域１００ａ、１００ｂの間を接続する接続配線２００を追加する必要が生じるが、接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることにより、配線の電気抵抗の増加を抑制することができる。
なお、陰極補助配線１０５ａを低抵抗金属膜１５０と同一材料で構成される積層体としてもよい。このようにすることにより、製造工程を追加せずに、低抵抗金属膜１５０と陰極補助配線１０５ａとを基板１０１上に同時に形成することができる。
【００２０】
図１および図２に示されるように、陰極隔壁１０６が、陽極配線１０２と直交するように、絶縁膜１０３上に形成されている。陰極隔壁１０６およびフォトマスクを用いて、有機発光層１０７や陰極配線１０５や低抵抗金属膜１５０を分離することにより、陰極隔壁１０６間に有機発光層１０７が形成され、ストライプ状にされた陰極配線１０５が形成され、低抵抗金属膜１５０が第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間に形成される。
【００２１】
陽極配線１０２と陰極配線１０５の交差部では、陽極配線１０２は陽極として、陰極配線１０５は陰極として機能する。
なお、陰極隔壁１０６の断面形状は逆テーパ形状となっており、陰極隔壁１０６を逆テーパ形状にすることにより、陰極隔壁１０６の側壁および立ち上がり部分が影となり、製造工程において、複数の陰極配線１０５や低抵抗金属膜１５０を空間的に分離することができる。なお、低抵抗金属膜１５０は、フォトエッチングにより分離形成してもよい。
【００２２】
図２および図３に示されるように、有機ＥＬ素子基板１０００の表面、すなわち基板１０１の有機発光層１０７等が配置された面上には、封止基板１０８が対向するように配置され、基板１０１上の有機発光層１０７等が外気と遮断されるように封止されている。すなわち、封止基板１０８と基板１０１とは、封止基板１０８の外周に塗布されたシール材１０９により貼り合わされる。
図２および図３に示されるように、封止基板１０８の基板１０１との対向側の中央部には、捕水剤１１０が塗布されている。なお、基板１０１と封止基板１０８との間の封止空間には、酸素や窒素等の支燃性ガスが封入されている。
【００２３】
以上のように、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂ内の陰極配線１０５を第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間で接続する接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることにより、複数の表示領域１００ａ、１００ｂを形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、有機発光層１０７内の発光層を効率よく発光させることができる。
【００２４】
発明の実施の形態２．
次に、本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置について、図に基づいて説明する。図４は、本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、電極が形成される側から基板を観察した状況を示す模式図である。図５は本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＺ−Ｚ切断線における断面図である。なお、図４では封止基板１０８および捕水剤１１０を省略している。
【００２５】
本発明の実施の形態１では、図１および図２に示されるように、接続配線２００は、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間に形成され、第１の表示領域１００ａ内の陰極配線１０５と、第２の表示領域１００ｂ内の陰極配線１０５とを、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間で接続しているのに対し、本発明の実施の形態２では、図４および図５に示されるように、接続配線２００ａは、第１および第２の表示領域１００ｃ、１００ｄの間に形成され、第１の表示領域１００ｃ内の陽極配線１０２と、第２の表示領域１００ｄ内の陽極配線１０２とを、第１および第２の表示領域１００ｃ、１００ｄの間で接続している点で相違する。
【００２６】
また、本発明の実施の形態１では、図２に示されるように、低抵抗電気膜１５０は、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間であって、基板１０１および陰極配線１０５の間に設けられているのに対し、本発明の実施の形態２では、図５に示されるように、低抵抗電気膜１５０は、第１および第２の表示領域１００ｃ、１００ｄの間であって、基板１０１上に形成された陽極配線１０２上に積層されて設けられている点で相違する。
【００２７】
ここで、図４および図５に示されるように、接続配線２００ａは、第１の表示領域１００ｃおよび第２の表示領域１００ｄの間における、陽極配線１０２および低抵抗金属膜１５０の積層体により構成されている。
接続配線２００ａは、第１の表示領域１００ｃおよび第２の表示領域１００ｄの間に形成されている。第１の表示領域１００ｃ内の陽極配線１０２と、第２の表示領域１００ｄ内の陽極配線１０２とが、接続配線２００ａにより、電気的に接続されている。接続配線２００ａの面抵抗は、陽極配線１０２の面抵抗よりも小さくなるように設定されている。
【００２８】
図４および図５に示されるように、接続配線２００ａを構成する陽極配線１０２は、第１の表示領域１００ｃおよび第２の表示領域１００ｄの陽極配線１０２と一体に形成されている。
低抵抗金属膜１５０は、陽極配線１０２よりも面抵抗が小さい金属材料により形成されている。低抵抗金属膜１５０に、陽極配線１０２よりも面抵抗が小さい金属材料を用い、陽極配線１０２上に低抵抗金属膜１５０を積層して、接続配線２００ａを構成することにより、接続配線２００ａの面抵抗を陽極配線１０２の面抵抗よりも小さくすることができる。
【００２９】
このように、複数の表示領域１００ｃ、１００ｄを形成したことにより、複数の表示領域１００ｃ、１００ｄの間を接続する接続配線２００ａを追加する必要が生じるが、接続配線２００ａの面抵抗を、陽極配線１０２の面抵抗よりも小さくすることにより、配線の電気抵抗の増加を抑制することができ、有機発光層１０７内の発光層を効率よく発光させることができる。
【００３０】
以下、本発明の実施例および従来例について説明する。
まず、はじめに、実施例および従来例で使用した有機ＥＬ素子基板１０００ｂの構成および寸法などについて、図に基づいて説明する。図６は、本発明の実施の形態１における実施例および従来例の有機ＥＬ素子基板の構成を示す平面図である。
【００３１】
図６に示されるように、有機ＥＬ素子基板１０００ｂには、３つの表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇが設けられている。また、図示しないが、各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇの内側には、図１および図２で示されるものと同様に、陽極配線１０２および陰極配線１０５が、互いに略直交するように、各々がストライプ状に形成されている。このとき、陽極配線１０２および陰極配線１０５の間には、有機発光層１０７が形成されている。なお、各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ内の陽極配線１０２および陰極配線１０５の配線中心間距離は０．３５ｍｍに設定され、各配線１０２、１０５の幅は０．３３ｍｍに設定されている。
【００３２】
また、有機ＥＬ素子基板１０００ｂの外形寸法は、ａ＝８５．６ｍｍ、ｂ＝１８．３ｍｍに設定されている。また、表示領域１００ｅおよび１００ｇの外形寸法は、ｄ＝ｈ＝１６．１ｍｍ、ｊ＝９．１ｍｍに設定されており、表示領域１００ｆの外形寸法は、ｆ＝１２．６ｍｍ、ｊ＝９．１ｍｍに設定されている。また、表示領域１００ｅおよび表示領域１００ｆとの間の間隙ｅ、ｇは、ｅ＝ｇ＝１６．０ｍｍに設定されている。そのほかの寸法として、ｃ＝４．４ｍｍ、ｉ＝５．４ｍｍ、ｋ＝７６．８ｍｍに設定されている。なお、図１および図３で示されている陰極補助配線１０５ａは設けていないものとする。
【００３３】
実施例．
実施例では、図示しないが、表示領域１００ｅおよび表示領域１００ｆとの間の間隙に、図１および図２に示されるものと同様に、低抵抗金属膜１５０および陰極配線１０５の積層体からなる接続配線２００が形成されている。
低抵抗金属膜１５０には面抵抗約０．１オーム（Ω）／□の材料を用いた。具体的には、低抵抗金属膜１５０には、膜厚５０ｎｍのＮｉＭｏ膜、膜厚３７０ｎｍのＡｌ膜、膜厚３０ｎｍのＭｏＮｂ膜、膜厚５０ｎｍのＮｉＭｏ膜を順次積層した積層体を用いた。一方、陰極配線１０５には面抵抗約０．５オーム（Ω）／□のアルミニウムを用いた。
【００３４】
接続配線２００の配線中心間距離は、陰極配線１０５の配線中心間距離と同じ０．３５ｍｍに設定されている。また、低抵抗金属膜１５０の幅は陰極配線１０５の幅と同じ０．３３ｍｍに設定されている。接続配線２００を構成する陰極配線１０５は、各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ内の陰極配線１０５と一体に形成されている。
このように構成された有機ＥＬ表示装置の実施例に対して、たとえば、Ｓｏｌｏｍｏｎ社製商品名ＳＳＤ１３０３（耐圧１６Ｖ）を用いて駆動電圧を印加して動作させたことを想定したところ、図６で示される長さｋ＝７６．８ｍｍの配線の両端間の仮想最大抵抗は４２００オーム（Ω）となり、想定輝度（表示領域１００ｆの中心部における輝度）は１５０カンデラ（ｃｄ）／ｍ２となった。
【００３５】
従来例．
実施例では、表示領域１００ｅおよび表示領域１００ｆとの間の間隙に、低抵抗金属膜１５０および陰極配線１０５の積層体から形成された接続配線２００が形成されているものを用いたが、従来例では、低抵抗金属膜１５０を形成しないで、表示領域１００ｅおよび表示領域１００ｆとの間の間隙には単に陰極配線１０５を設けたものを用いた。各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ間の陰極配線１０５は、各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ内の陰極配線１０５と一体に形成されている。陰極配線１０５には、実施例と同様に、面抵抗約０．５オーム（Ω）／□のアルミニウムを用いた。
【００３６】
このように構成された有機ＥＬ表示装置の従来例に対して、たとえば、Ｓｏｌｏｍｏｎ社製商品名ＳＳＤ１３０３（耐圧１６Ｖ）を用いて駆動電圧を印加して、動作させたことを想定したところ、図６で示される長さｋ＝７６．８ｍｍの配線の両端間の仮想最大抵抗は７２００オーム（Ω）となり、想定輝度（表示領域１００ｆの中心部における輝度）は９０カンデラ（ｃｄ）／ｍ２となった。
【００３７】
実施例および従来例について、表１にまとめた。
【表１】
【００３８】
表１に示されるように、仮想最大抵抗では、実施例は従来例よりも３０００Ω低い結果となった。また、想定輝度では、実施例は従来例よりも６０ｃｄ／ｍ２小さい結果となった。
【００３９】
このように、複数の表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇを形成したことにより、複数の表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇの間を接続する接続配線２００を追加する必要が生じるが、接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることにより、配線の電気抵抗の増加を抑制することができ、有機発光層１０７を効率よく高い輝度で発光させることができる。
【００４０】
以上の説明は、本発明を実施の形態を説明するものであり、本発明が以上の実施の形態に限定されるものではない。また、当業者であれば、以上の実施の形態の各要素を、本発明の範囲において、容易に変更、追加、変換することが可能である。
上記発明の実施態様では、パッシブ型有機ＥＬ表示装置として説明したが、アクティブ型有機ＥＬ表示装置にも本発明を適用できる。
【００４１】
また、上記実施の形態の説明ではドットマトリクス方式の有機ＥＬ表示装置を用いて例示したが、これに限らず、本実施の形態に係る発明を、セグメント方式の有機ＥＬ表示装置などにも採用できる。
また、上記発明の実施態様では、有機ＥＬ表示装置として説明したが、有機ＥＬ照明装置等の表示以外の目的で製造された有機ＥＬ装置にも本発明を適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、電極が形成される側から基板を観察した状況を示す模式図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＸ−Ｘ切断線における断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＹ−Ｙ切断線における断面図である。
【図４】本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、電極が形成される側から基板を観察した状況を示す模式図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＺ−Ｚ切断線における断面図である。
【図６】本発明の実施の形態１における実施例および従来例の有機ＥＬ素子基板の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１０００、１０００ａ、１０００ｂ 有機ＥＬ素子基板
１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ 表示領域
１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ 表示領域
１０１ 基板
１０２ 陽極配線
１０３ 絶縁膜
１０３ａ 開口部
１０５ 陰極配線
１０５ａ 陰極補助配線
１０６ 陰極隔壁
１０７ 有機発光層
１０８ 封止基板
１０９ シール材
１１０ 捕水剤
１５０ 低抵抗金属膜
２００、２００ａ 接続配線
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置に関し、特に互いに離間された複数の表示領域を有する有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＦＰＤ(Flat Panel Display)として有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置は自発光表示素子であり、液晶表示装置と比較して視野角が広く、バックライトが不要なため薄型化が可能である。また、応答速度も速く、有機物が有する発光性の多様性から、次世代の表示装置として期待されている。
【０００３】
また、近年、複数の表示領域を設けて、複数の情報を複数の表示領域の各々に一度に表示する有機ＥＬ表示装置も提案されている。
特許文献１には、複数の有機ＥＬ表示素子がマトリクス状に配列された有機ＥＬ表示装置が記載されている。複数の有機ＥＬ表示素子の各々により、複数の表示領域が形成されている。
【特許文献１】特開２００５−５０９９０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の技術では、複数の有機ＥＬ表示素子を用いて、複数の表示領域を形成しているが、製造コストや製造工数の低減のため、ひとつの有機ＥＬ表示素子内に複数の表示領域を形成する試みがなされている。
ところが、ひとつの有機ＥＬ表示素子内に複数の表示領域を形成しようとした場合、たとえば複数の表示領域内の複数の陰極配線を、複数の表示領域間でそれぞれ接続する複数の接続配線を新たに形成する必要が生じる。この接続配線は、複数の表示領域間に設けられるため、全体として、配線が長くなり、配線の電気抵抗が高くなってしまっていた。このため、有機ＥＬ表示装置の輝度を十分得ることができないという問題があった。
【０００５】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、複数の表示領域を形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることができる有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、互いに離間された複数の表示領域を有する有機ＥＬ表示装置であって、基板と、基板上に形成され、上記複数の表示領域内に配置された第１の配線と、第１の配線上に交差して形成され、上記複数の表示領域内に配置された第２の配線と、上記複数の表示領域内における第１および第２の配線間に形成された有機発光層と、上記複数の表示領域の間に形成され、上記複数の表示領域内の第１または第２の配線の一方を、上記複数の表示領域の間で接続する接続配線とを備え、上記接続配線の面抵抗は、接続する第１または第２の配線の面抵抗よりも小さいことを特徴とするものである。
【０００７】
このような構成にしたことにより、複数の表示領域を形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることできる。
【０００８】
また、上記接続配線は、接続する第１または第２の配線の一方と、接続する第１または第２の配線よりも面抵抗の小さい金属膜との積層体としてもよい。
このようにしたことにより、複数の表示領域を形成しても、簡単な構成で、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることできる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、複数の表示領域を形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、効率よく発光させることできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
発明の実施の形態１．
本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置について、図に基づいて説明する。図１は、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、電極が形成される側から基板を観察した状況を示す模式図である。図２は本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＸ−Ｘ切断線における断面図である。なお、図１では封止基板１０８および捕水剤１１０を省略している。
【００１１】
図１および図２に示されるように、有機ＥＬ素子基板１０００は、基板１０１上に、第１の配線としての陽極配線１０２、絶縁膜１０３、第２の配線としての陰極配線１０５、陰極隔壁１０６、有機発光層１０７、低抵抗金属膜１５０などが形成されて構成されている。また、有機ＥＬ素子基板１０００には、互いに離間された２つの表示領域１００ａおよび１００ｂが設けられている。表示領域１００ａおよび表示領域１００ｂの間には、たとえば５ｍｍ〜１０ｍｍ以上の間隙が設けられている。
図１に示されるように、基板１０１上に陽極配線１０２がストライプ状に形成されている。陽極配線１０２は、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂ内を通じて配置されている。基板１０１には例えばガラス基板が用いられる。陽極配線１０２の材料には、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が用いられる。
【００１２】
図１および図２に示されるように、陽極配線１０２上に積層して、開口部１０３ａを有する絶縁膜１０３が形成されている。開口部１０３ａは、陽極配線１０２と陰極配線１０５との交差部に設けられる。
図１および図２に示されるように、有機発光層１０７は陽極配線１０２上に積層して形成されている。なお、有機発光層１０７は、たとえば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などの積層体により形成されている。なお、このような構成に限定されず、これと異なる構成を有する場合もある。
【００１３】
図１および図２に示されるように、陰極配線１０５は、陽極配線１０２に略直交して、ストライプ状に形成されている。陰極配線１０５は、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂ内を通して配置されている。陰極配線１０５の材料には、通常はアルミニウムまたはアルミニウム合金が用いられる。なお、ＡｌやＡｌ合金の他に、Ｌｉ等のアルカリ金属、Ａｇ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｉｎやこれらを含む合金を、陰極配線１０５の材料に用いてもよい。陰極配線１０５は、基板１０１の端辺に配列された陰極補助配線１０５ａに接続されている。陰極補助配線１０５ａは、基板上１０１に形成されている。また、陰極補助配線１０５ａは、たとえば、ＮｉＭｏ膜、Ａｌ膜、ＭｏＮｂ膜を順次積層して形成されている。
【００１４】
図１および図２に示されるように、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂの間では、低抵抗金属膜１５０が、基板１０１と陰極配線１０５との間に形成されている。また、低抵抗金属膜１５０は、陰極配線１０５に密着して形成されている。
ここで、図２に示されるように、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂの間における、陰極配線１０５および低抵抗金属膜１５０の積層体を、接続配線２００とする。
【００１５】
接続配線２００は、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂの間に形成されている。第１の表示領域１００ａ内の陰極配線１０５と、第２の表示領域１００ｂ内の陰極配線１０５とが、接続配線２００により、電気的に接続されている。接続配線２００の面抵抗は、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくなるように設定されている。
図１および図２に示されるように、接続配線２００内の陰極配線１０５は、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂの陰極配線１０５と一体に形成されている。
【００１６】
低抵抗金属膜１５０は、陰極配線１０５よりも面抵抗が小さい金属材料により形成されている。このように、低抵抗金属膜１５０に、陰極配線１０５よりも面抵抗が小さい金属材料を用い、低抵抗金属膜１５０上に陰極配線１０５を積層して、接続配線２００を構成することにより、接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることができる。
【００１７】
低抵抗金属膜１５０を、たとえば、ＮｉＭｏ膜、Ａｌ膜、ＭｏＮｂ膜、ＮｉＭｏ膜を順次積層した積層体により形成することができる。
具体的に、膜厚５０ｎｍのＮｉＭｏ膜、膜厚３７０ｎｍのＡｌ膜、膜厚３０ｎｍのＭｏＮｂ膜、膜厚５０ｎｍのＮｉＭｏ膜を順次積層した積層体により、低抵抗金属膜１５０を形成したところ、低抵抗金属膜１５０の面抵抗を約０．１オーム（Ω）／□とすることができた。
一方、陰極配線１０５にアルミニウムを用いた場合、アルミニウムの面抵抗は、約０．５オーム（Ω）／□である。
【００１８】
以上のように、低抵抗金属膜１５０の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることができる。また、低抵抗金属膜１５０の幅（図１紙面上において上下方向）を陰極配線１０５の幅（図１紙面上において上下方向）と同一とした場合、陰極配線１０５および低抵抗金属膜１５０の積層体である接続配線２００の面抵抗は、理論上、（０．１×０．５）／ （０．１＋０．５）＝約０．０８オーム（Ω）／□となり、接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも大幅に小さくすることができる。
【００１９】
このように、複数の表示領域１００ａ、１００ｂを形成したことにより、複数の表示領域１００ａ、１００ｂの間を接続する接続配線２００を追加する必要が生じるが、接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることにより、配線の電気抵抗の増加を抑制することができる。
なお、陰極補助配線１０５ａを低抵抗金属膜１５０と同一材料で構成される積層体としてもよい。このようにすることにより、製造工程を追加せずに、低抵抗金属膜１５０と陰極補助配線１０５ａとを基板１０１上に同時に形成することができる。
【００２０】
図１および図２に示されるように、陰極隔壁１０６が、陽極配線１０２と直交するように、絶縁膜１０３上に形成されている。陰極隔壁１０６およびフォトマスクを用いて、有機発光層１０７や陰極配線１０５や低抵抗金属膜１５０を分離することにより、陰極隔壁１０６間に有機発光層１０７が形成され、ストライプ状にされた陰極配線１０５が形成され、低抵抗金属膜１５０が第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間に形成される。
【００２１】
陽極配線１０２と陰極配線１０５の交差部では、陽極配線１０２は陽極として、陰極配線１０５は陰極として機能する。
なお、陰極隔壁１０６の断面形状は逆テーパ形状となっており、陰極隔壁１０６を逆テーパ形状にすることにより、陰極隔壁１０６の側壁および立ち上がり部分が影となり、製造工程において、複数の陰極配線１０５や低抵抗金属膜１５０を空間的に分離することができる。なお、低抵抗金属膜１５０は、フォトエッチングにより分離形成してもよい。
【００２２】
図２および図３に示されるように、有機ＥＬ素子基板１０００の表面、すなわち基板１０１の有機発光層１０７等が配置された面上には、封止基板１０８が対向するように配置され、基板１０１上の有機発光層１０７等が外気と遮断されるように封止されている。すなわち、封止基板１０８と基板１０１とは、封止基板１０８の外周に塗布されたシール材１０９により貼り合わされる。
図２および図３に示されるように、封止基板１０８の基板１０１との対向側の中央部には、捕水剤１１０が塗布されている。なお、基板１０１と封止基板１０８との間の封止空間には、酸素や窒素等の支燃性ガスが封入されている。
【００２３】
以上のように、第１の表示領域１００ａおよび第２の表示領域１００ｂ内の陰極配線１０５を第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間で接続する接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることにより、複数の表示領域１００ａ、１００ｂを形成しても、配線の電気抵抗の増加を抑制し、有機発光層１０７内の発光層を効率よく発光させることができる。
【００２４】
発明の実施の形態２．
次に、本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置について、図に基づいて説明する。図４は、本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、電極が形成される側から基板を観察した状況を示す模式図である。図５は本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＺ−Ｚ切断線における断面図である。なお、図４では封止基板１０８および捕水剤１１０を省略している。
【００２５】
本発明の実施の形態１では、図１および図２に示されるように、接続配線２００は、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間に形成され、第１の表示領域１００ａ内の陰極配線１０５と、第２の表示領域１００ｂ内の陰極配線１０５とを、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間で接続しているのに対し、本発明の実施の形態２では、図４および図５に示されるように、接続配線２００ａは、第１および第２の表示領域１００ｃ、１００ｄの間に形成され、第１の表示領域１００ｃ内の陽極配線１０２と、第２の表示領域１００ｄ内の陽極配線１０２とを、第１および第２の表示領域１００ｃ、１００ｄの間で接続している点で相違する。
【００２６】
また、本発明の実施の形態１では、図２に示されるように、低抵抗電気膜１５０は、第１および第２の表示領域１００ａ、１００ｂの間であって、基板１０１および陰極配線１０５の間に設けられているのに対し、本発明の実施の形態２では、図５に示されるように、低抵抗電気膜１５０は、第１および第２の表示領域１００ｃ、１００ｄの間であって、基板１０１上に形成された陽極配線１０２上に積層されて設けられている点で相違する。
【００２７】
ここで、図４および図５に示されるように、接続配線２００ａは、第１の表示領域１００ｃおよび第２の表示領域１００ｄの間における、陽極配線１０２および低抵抗金属膜１５０の積層体により構成されている。
接続配線２００ａは、第１の表示領域１００ｃおよび第２の表示領域１００ｄの間に形成されている。第１の表示領域１００ｃ内の陽極配線１０２と、第２の表示領域１００ｄ内の陽極配線１０２とが、接続配線２００ａにより、電気的に接続されている。接続配線２００ａの面抵抗は、陽極配線１０２の面抵抗よりも小さくなるように設定されている。
【００２８】
図４および図５に示されるように、接続配線２００ａを構成する陽極配線１０２は、第１の表示領域１００ｃおよび第２の表示領域１００ｄの陽極配線１０２と一体に形成されている。
低抵抗金属膜１５０は、陽極配線１０２よりも面抵抗が小さい金属材料により形成されている。低抵抗金属膜１５０に、陽極配線１０２よりも面抵抗が小さい金属材料を用い、陽極配線１０２上に低抵抗金属膜１５０を積層して、接続配線２００ａを構成することにより、接続配線２００ａの面抵抗を陽極配線１０２の面抵抗よりも小さくすることができる。
【００２９】
このように、複数の表示領域１００ｃ、１００ｄを形成したことにより、複数の表示領域１００ｃ、１００ｄの間を接続する接続配線２００ａを追加する必要が生じるが、接続配線２００ａの面抵抗を、陽極配線１０２の面抵抗よりも小さくすることにより、配線の電気抵抗の増加を抑制することができ、有機発光層１０７内の発光層を効率よく発光させることができる。
【００３０】
以下、本発明の実施例および従来例について説明する。
まず、はじめに、実施例および従来例で使用した有機ＥＬ素子基板１０００ｂの構成および寸法などについて、図に基づいて説明する。図６は、本発明の実施の形態１における実施例および従来例の有機ＥＬ素子基板の構成を示す平面図である。
【００３１】
図６に示されるように、有機ＥＬ素子基板１０００ｂには、３つの表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇが設けられている。また、図示しないが、各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇの内側には、図１および図２で示されるものと同様に、陽極配線１０２および陰極配線１０５が、互いに略直交するように、各々がストライプ状に形成されている。このとき、陽極配線１０２および陰極配線１０５の間には、有機発光層１０７が形成されている。なお、各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ内の陽極配線１０２および陰極配線１０５の配線中心間距離は０．３５ｍｍに設定され、各配線１０２、１０５の幅は０．３３ｍｍに設定されている。
【００３２】
また、有機ＥＬ素子基板１０００ｂの外形寸法は、ａ＝８５．６ｍｍ、ｂ＝１８．３ｍｍに設定されている。また、表示領域１００ｅおよび１００ｇの外形寸法は、ｄ＝ｈ＝１６．１ｍｍ、ｊ＝９．１ｍｍに設定されており、表示領域１００ｆの外形寸法は、ｆ＝１２．６ｍｍ、ｊ＝９．１ｍｍに設定されている。また、表示領域１００ｅおよび表示領域１００ｆとの間の間隙ｅ、ｇは、ｅ＝ｇ＝１６．０ｍｍに設定されている。そのほかの寸法として、ｃ＝４．４ｍｍ、ｉ＝５．４ｍｍ、ｋ＝７６．８ｍｍに設定されている。なお、図１および図３で示されている陰極補助配線１０５ａは設けていないものとする。
【００３３】
実施例．
実施例では、図示しないが、表示領域１００ｅおよび表示領域１００ｆとの間の間隙に、図１および図２に示されるものと同様に、低抵抗金属膜１５０および陰極配線１０５の積層体からなる接続配線２００が形成されている。
低抵抗金属膜１５０には面抵抗約０．１オーム（Ω）／□の材料を用いた。具体的には、低抵抗金属膜１５０には、膜厚５０ｎｍのＮｉＭｏ膜、膜厚３７０ｎｍのＡｌ膜、膜厚３０ｎｍのＭｏＮｂ膜、膜厚５０ｎｍのＮｉＭｏ膜を順次積層した積層体を用いた。一方、陰極配線１０５には面抵抗約０．５オーム（Ω）／□のアルミニウムを用いた。
【００３４】
接続配線２００の配線中心間距離は、陰極配線１０５の配線中心間距離と同じ０．３５ｍｍに設定されている。また、低抵抗金属膜１５０の幅は陰極配線１０５の幅と同じ０．３３ｍｍに設定されている。接続配線２００を構成する陰極配線１０５は、各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ内の陰極配線１０５と一体に形成されている。
このように構成された有機ＥＬ表示装置の実施例に対して、たとえば、Ｓｏｌｏｍｏｎ社製商品名ＳＳＤ１３０３（耐圧１６Ｖ）を用いて駆動電圧を印加して動作させたことを想定したところ、図６で示される長さｋ＝７６．８ｍｍの配線の両端間の仮想最大抵抗は４２００オーム（Ω）となり、想定輝度（表示領域１００ｆの中心部における輝度）は１５０カンデラ（ｃｄ）／ｍ２となった。
【００３５】
従来例．
実施例では、表示領域１００ｅおよび表示領域１００ｆとの間の間隙に、低抵抗金属膜１５０および陰極配線１０５の積層体から形成された接続配線２００が形成されているものを用いたが、従来例では、低抵抗金属膜１５０を形成しないで、表示領域１００ｅおよび表示領域１００ｆとの間の間隙には単に陰極配線１０５を設けたものを用いた。各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ間の陰極配線１０５は、各表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ内の陰極配線１０５と一体に形成されている。陰極配線１０５には、実施例と同様に、面抵抗約０．５オーム（Ω）／□のアルミニウムを用いた。
【００３６】
このように構成された有機ＥＬ表示装置の従来例に対して、たとえば、Ｓｏｌｏｍｏｎ社製商品名ＳＳＤ１３０３（耐圧１６Ｖ）を用いて駆動電圧を印加して、動作させたことを想定したところ、図６で示される長さｋ＝７６．８ｍｍの配線の両端間の仮想最大抵抗は７２００オーム（Ω）となり、想定輝度（表示領域１００ｆの中心部における輝度）は９０カンデラ（ｃｄ）／ｍ２となった。
【００３７】
実施例および従来例について、表１にまとめた。
【表１】
【００３８】
表１に示されるように、仮想最大抵抗では、実施例は従来例よりも３０００Ω低い結果となった。また、想定輝度では、実施例は従来例よりも６０ｃｄ／ｍ２小さい結果となった。
【００３９】
このように、複数の表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇを形成したことにより、複数の表示領域１００ｅ、１００ｆ、１００ｇの間を接続する接続配線２００を追加する必要が生じるが、接続配線２００の面抵抗を、陰極配線１０５の面抵抗よりも小さくすることにより、配線の電気抵抗の増加を抑制することができ、有機発光層１０７を効率よく高い輝度で発光させることができる。
【００４０】
以上の説明は、本発明を実施の形態を説明するものであり、本発明が以上の実施の形態に限定されるものではない。また、当業者であれば、以上の実施の形態の各要素を、本発明の範囲において、容易に変更、追加、変換することが可能である。
上記発明の実施態様では、パッシブ型有機ＥＬ表示装置として説明したが、アクティブ型有機ＥＬ表示装置にも本発明を適用できる。
【００４１】
また、上記実施の形態の説明ではドットマトリクス方式の有機ＥＬ表示装置を用いて例示したが、これに限らず、本実施の形態に係る発明を、セグメント方式の有機ＥＬ表示装置などにも採用できる。
また、上記発明の実施態様では、有機ＥＬ表示装置として説明したが、有機ＥＬ照明装置等の表示以外の目的で製造された有機ＥＬ装置にも本発明を適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、電極が形成される側から基板を観察した状況を示す模式図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＸ−Ｘ切断線における断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＹ−Ｙ切断線における断面図である。
【図４】本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、電極が形成される側から基板を観察した状況を示す模式図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を示す図であって、図１のＺ−Ｚ切断線における断面図である。
【図６】本発明の実施の形態１における実施例および従来例の有機ＥＬ素子基板の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１０００、１０００ａ、１０００ｂ 有機ＥＬ素子基板
１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ 表示領域
１００ｅ、１００ｆ、１００ｇ 表示領域
１０１ 基板
１０２ 陽極配線
１０３ 絶縁膜
１０３ａ 開口部
１０５ 陰極配線
１０５ａ 陰極補助配線
１０６ 陰極隔壁
１０７ 有機発光層
１０８ 封止基板
１０９ シール材
１１０ 捕水剤
１５０ 低抵抗金属膜
２００、２００ａ 接続配線
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに離間された複数の表示領域を有する有機ＥＬ表示装置であって、
基板と、
上記基板上に形成され、上記複数の表示領域内に配置された第１の配線と、
上記第１の配線上に交差して形成され、上記複数の表示領域内に配置された第２の配線と、
上記複数の表示領域内における上記第１および第２の配線間に形成された有機発光層と、
上記複数の表示領域の間に形成され、上記複数の表示領域内の上記第１または第２の配線の一方を、上記複数の表示領域の間で接続する接続配線とを備え、
上記接続配線の面抵抗は、接続する上記第１または第２の配線の面抵抗よりも小さいことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
上記接続配線は、接続する上記第１または第２の配線の一方と、接続する上記第１または第２の配線よりも面抵抗の小さい金属膜との積層体であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１】
互いに離間された複数の表示領域を有する有機ＥＬ表示装置であって、
基板と、
上記基板上に形成され、上記複数の表示領域内に配置された第１の配線と、
上記第１の配線上に交差して形成され、上記複数の表示領域内に配置された第２の配線と、
上記複数の表示領域内における上記第１および第２の配線間に形成された有機発光層と、
上記複数の表示領域の間に形成され、上記複数の表示領域内の上記第１または第２の配線の一方を、上記複数の表示領域の間で接続する接続配線とを備え、
上記接続配線の面抵抗は、接続する上記第１または第２の配線の面抵抗よりも小さいことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
上記接続配線は、接続する上記第１または第２の配線の一方と、接続する上記第１または第２の配線よりも面抵抗の小さい金属膜との積層体であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００７−９５４０５（Ｐ２００７−９５４０５Ａ）
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２８１１６５（Ｐ２００５−２８１１６５）
【出願日】平成１７年９月２８日（２００５．９．２８）
【出願人】（０００１０３７４７）オプトレックス株式会社 (843)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月２８日（２００５．９．２８）
【出願人】（０００１０３７４７）オプトレックス株式会社 (843)
【Ｆターム（参考）】
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