機能性フィルムの製造方法および製造装置
【課題】積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化した場合であっても、基材と保護フィルムとを適正に剥離させることができ、基材の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材が損傷することを防止する。
【解決手段】処理を行なう前の積層体の搬送中に、基材上の保護フィルムの有無を検出する第１検出工程と、第１検出工程と成膜処理との間に、基材上の保護フィルムの有無を検出する第２検出工程と、第１検出工程と第２検出工程の検出結果に応じて、第１検出工程と第２検出工程との間で、保護フィルムが基材から剥離するように、剥離力を制御する制御工程とを有することにより、前記課題を解決する。
【解決手段】処理を行なう前の積層体の搬送中に、基材上の保護フィルムの有無を検出する第１検出工程と、第１検出工程と成膜処理との間に、基材上の保護フィルムの有無を検出する第２検出工程と、第１検出工程と第２検出工程の検出結果に応じて、第１検出工程と第２検出工程との間で、保護フィルムが基材から剥離するように、剥離力を制御する制御工程とを有することにより、前記課題を解決する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空中において、基材と保護フィルムとを積層してなる積層体から保護フィルムを剥離して、基材の表面に処理を行う、機能性フィルムの製造方法および製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基材の表面に、ガスバリア膜、光反射膜、光反射防止膜、表面保護など、目的とする機能を発現する膜（以下、便宜的に『機能膜』とする）を成膜してなる機能性フィルムが、各種の用途に利用されている。
さらに、機能性フィルムの製造においては、基材の表面に、平滑化、活性化、清浄化、粗面化、表面改質、貼着性付与などの各種の表面処理を施すことも、行われている。
【０００３】
また、機能性フィルムを、高い生産性や生産効率での製造を可能とする方法として、長尺な基材を、ロール状に巻回してなる基材ロールから送り出し、長手方向に搬送しつつガスバリア膜の成膜等を行って、成膜済みの基材をロール状に巻き取る、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll 以下、ＲｔｏＲともいう)による成膜を行なう装置が知られている。
【０００４】
このような機能性フィルムの製造において、搬送ローラ対による搬送や、他の部材との接触等に起因して基材の表面（被処理面）が損傷すると、目的とする性能を有する機能性フィルムが製造できなくなってしまう可能性が生じる。
特に、前述のＲｔｏＲによる装置では、基材の巻回によって、基材の表面と裏面とが摺接するので、基材の損傷が生じ易い。さらに、成膜等のために基材ロールの装填空間を真空にすると、基材間の空気が抜けて、いわゆる巻き締まりが生じ、巻回された基材の表面と裏面とが強く摺接して、基材表面を損傷してしまい、目的とする性能を有する機能性フィルムが製造できなくなってしまう可能性が高くなる。
また、高品質な製品を製造するためには、基材の表面は、清浄に保つのが好ましい。
【０００５】
そのため、ガスバリアフィルム等の機能性フィルムの製造においては、基材の表面を保護するために、基材の表面に保護フィルム（ラミネートフィルム）を貼着して、基材の表面を保護することが行われている。
このような積層体を用いる機能性フィルムの製造においては、通常、この基材と保護フィルムとの積層体のまま、成膜装置や表面処理装置等の基材の処理装置に装填し、処理装置中において、保護フィルムを剥離して、基材表面に処理を施す。
【０００６】
例えば、特許文献１には、保護材が積層され、ロール状に巻かれた基材を保護材と共に巻き出す巻き出しロールと、巻き出しロールから前記保護材と共に巻き出された基材を保護材が接触するように回転自在に支持し、下流側へ搬送する巻出側支持ロールと、基材が保護材と共に巻出側支持ロールを通過する際、基材から保護材を分離する保護材分離手段を備えた巻き出し部とを有することにより、成膜を行なう直前まで基材の表面を保護することが記載されている。
【０００７】
また、特許文献２および３には、フィルムロールから連続的にラミネートフィルムが付与された支持体を送り出し、ラミネートフィルムを剥離し、支持体のコーティング膜上に無機膜を成膜し、支持体をフィルムロールに巻き取ることにより、支持体の表面を保護することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−１８９９５７号公報
【特許文献２】特開２０１０−２２２７０２号公報
【特許文献３】特開２０１０−２３４３４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、ガスバリア膜等の各種の機能膜の成膜は、プラズマＣＶＤや真空蒸着など、真空中で行われる場合が多い。また、活性化処理や清浄化処理等の基材の表面処理も、真空中でのプラズマ照射やイオン照射などによって行われる場合が多い。
ここで、前述のように、真空中においては、基材と保護フィルムとを積層してなる積層体をロール状に巻回した積層体ロールにおいて、積層体間の空気が抜けて、巻き締まりが生じる。そのため、基材と保護フィルムとが押圧されて、基材と保護フィルムとの密着力が高くなる。特に、積層体ロールの内径側に向かうに従って、巻き締まりが強くなるため、積層体ロールの内径側の積層体ほど、基材と保護フィルムとの密着力が高くなる。すなわち、積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化してしまう。
【００１０】
そのため、特許文献１〜３に記載されるように、保護フィルムを貼着した基材を、ＲｔｏＲの装置で搬送しつつ、真空中で成膜を行なう場合には、処理が進むに従って、基材と保護フィルムとを剥離するために、保護フィルムを引っ張る力（剥離力）に対して、基材と保護フィルムとの密着力が高くなる。その結果、保護フィルムが基材から剥離されなくなってしまう。
また、保護フィルムを引っ張る力（剥離力）を十分に大きくして、密着力が高くても保護フィルムを剥離できるようにした場合には、基材と保護フィルムとの密着力が弱い状態の時には、基材を過剰に引っ張ってしまうので、基材の搬送テンションが緩んでしまい、基材にツレシワが発生して基材が損傷してしまう。また、基材をドラムに巻き掛けて成膜を行なう場合には、基材とドラムとの密着が緩んでしまい、正常な成膜ができないおそれがある。また、ドラムによって基材を冷却している場合には、基材が十分に冷却されず、熱によって変形してしまう。
【００１１】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、基材と保護フィルムを貼着した積層体を用いる機能性フィルムの製造において、積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化した場合であっても、基材と保護フィルムとを適正に剥離させることができ、基材の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材が損傷することを防止して、目的とする性能を有する機能性フィルムを、安定して製造できる機能性フィルムの製造方法および製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するために、本発明は、真空中において、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記基材から前記保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に処理を行うに際し、前記処理を行なう前の前記積層体の搬送中に、所定の第１の検出位置で、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出し、前記第１の検出位置と前記処理との間の、所定の第２の検出位置で、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出し、前記第１の検出位置と前記第２の検出位置での検出結果に応じて、前記第１の検出位置と前記第２の検出位置との間で、前記保護フィルムが前記基材から剥離するように、剥離力を制御することを有することを特徴とする機能性フィルムの製造方法を提供する。
【００１３】
このような本発明の機能性フィルムの製造方法において、前記第２の検出位置で、前記保護フィルムが検出された場合に、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力が大きくなるように制御するのが好ましい。
また、前記第１の検出位置で、前記保護フィルムが検出されなかった場合に、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力が小さくなるように制御するのが好ましい。
【００１４】
また、前記処理は、前記基材を円筒状のドラムの周面に巻き掛けて、長手方向に搬送しつつ、前記ドラムの周面に対面して配置された処理手段によって行なうものであるのが好ましい。
また、前記第２の検出位置は、前記処理手段と前記ドラムの直上流側の搬送ロールとの間に配置されるのが好ましい。
さらに、前記第２の検出位置は、前記基板が前記ドラムに巻き掛かけられている位置に配置されるのが好ましい。
また、前記ドラムの周面を冷却する冷却手段を有するのが好ましい。
【００１５】
また、前記保護フィルムの巻取り手段のトルクおよび／または回転速度を制御することにより、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力を制御するのが好ましい。
また、前記第１の検出位置で前記保護フィルムの有無を検出する第１検出手段、および、前記第２の検出位置で前記保護フィルムの有無を検出する第２検出手段が、光の透過率を検出することにより、前記保護フィルムの有無を検出するものであるのが好ましい。
【００１６】
前記目的を達成するために、本発明は、真空中で、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記基材から前記保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に成膜処理を行う機能性フィルムの製造装置において、前記基材から剥離した前記保護フィルムを巻き取る巻取り手段と、前記基材に所定の処理を行なう処理手段と、前記基材の搬送方向において、前記処理手段よりも上流側に配置され、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出する第１検出手段と、前記処理手段と前記第１検出手段との間に配置され、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出する第２検出手段と、前記第１検出手段および前記第２検出手段の検出結果に応じて、前記第１検出手段と前記第２検出手段との間で、前記保護フィルムが前記基材から剥離するように、前記巻取り手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする機能性フィルムの製造装置を提供する。
【００１７】
ここで、前記制御手段は、前記第２検出手段が前記保護フィルムを検出した場合に、前記巻取り手段のトルクおよび／または回転速度が大きくなるように制御するのが好ましい。
また、前記制御手段は、前記第１検出工程で前記保護フィルムを検出しなかった場合に、前記巻取り手段のトルクおよび／または回転速度が小さくなるように制御するのが好ましい。
また、前記第２検出手段は、前記処理手段と前記処理手段の直上流側の搬送ロールとの間に配置されるのが好ましい。
また、周面が前記処理手段に対面するように配置され、前記基板を周面の所定領域に巻き掛けて搬送する円筒状のドラムを有するのが好ましい。
さらに、前記第２検出手段は、前記基板が前記ドラムに巻き掛かけられている位置で、前記基板上の前記保護フィルムの有無を検出するのが好ましい。
また、前記ドラムの周面を冷却する冷却手段を有するのが好ましい。
【００１８】
また、前記第１検出手段、および、前記第２検出手段が、光の透過率を検出することにより、前記保護フィルムの有無を検出するものであるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の機能性フィルムの製造方法および製造装置は、真空中で、基材に保護フィルムを貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、基材から保護フィルムを剥離し、基材の被処理面に処理を行うに際し、処理を行なう前の積層体の搬送中に、所定の第１の検出位置で、基材上の保護フィルムの有無を検出し、第１の検出位置と処理との間の、所定の第２の検出位置で、基材上の保護フィルムの有無を検出し、第１の検出位置と第２の検出位置での検出結果に応じて、第１の検出位置と第２の検出位置との間で、保護フィルムが基材から剥離するように、剥離力を制御する制御工程とを有する。
【００２０】
そのため、積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化した場合であっても、保護フィルムが適正な位置で剥離するように、保護フィルムの剥離力を制御するので、保護フィルムが基板から剥離しないことを防止できる。また、剥離力が過剰に大きくなって基材を引っ張り、基材の搬送テンションが緩んでしまうことを防止できるので、基材にツレシワが発生したり、ドラムとの密着が緩んで熱によって変形したりすることを防止できる。これにより、本発明の製造方法は、目的とする性能を有する機能性フィルムを、安定して製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する装置の一例を概念的に示す図である。
【図２】本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する装置の他の一例を概念的に示す図である。
【図３】本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する装置の他の一例を概念的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の機能性フィルムの製造方法および製造装置について、添付の図面に示される好適例を基に、詳細に説明する。
【００２３】
図１に、本発明の機能性フィルムの製造方法の一例を実施する基材表面の処理装置の一例の概念図を示す。
図１に示す処理装置１０は、基材１２の表面に当接して、保護フィルム１４を積層して貼着してなる積層体１６を用い、真空中において、基材１２から保護フィルム１４を剥離して、基材１２の表面を処理して、機能性フィルム（機能性フィルムの中間体も含む）２０を製造するものである。
なお、基材１２の表面とは、被処理面であり、すなわち、後述する成膜や各種の表面処理等の処理を施される面である。
【００２４】
図示例の処理装置１０は、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll 以下、ＲｔｏＲともいう)によって、基材１２の処理を行うもので、長尺な基材１２（ウエブ状の基材）と長尺な保護フィルム１４とを積層してなる長尺な積層体１６を、ロール状に巻回してなる基材ロール２４から、積層体１６を引き出して、長手方向に搬送しつつ、積層体１６から保護フィルム１４を剥離して、基材１２の表面を処理して、処理済の基材１２すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム２０を、再度、ロール状に巻回する。
【００２５】
図示例の処理装置１０は、一例として、真空チャンバ２６と、この真空チャンバ２６内に配置される、回転軸２８、テンションピックロール３０、ドラム３２、処理手段３４、巻取り軸３６、テンションピックロール３８、第２巻取り軸４０、ガイドローラ４４、第１検出手段４６、および、第２検出手段４８と、真空チャンバ２６内を排気する真空排気手段４２と、第１検出手段４６および第２検出手段４８の検出結果から第２巻取り軸４０のトルクおよび回転速度を制御する制御手段５０とを有して構成される。
なお、本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する処理装置１０には、これらの部材以外にも、積層体１６や基材１２の搬送ガイド、各種のセンサなど、真空中において、積層体１６および基材１２を長手方向に搬送しつつ、保護フィルム１４を剥離して、基材１２の表面を処理する装置に配置される、各種の部材を有してもよい。
【００２６】
本発明において、基材（基板）１２には、特に限定はなく、真空中での成膜や表面処理を行うことが可能でものあれば、各種のシート状物が利用可能である。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどの有機物からなるプラスチック（樹脂）フィルムや、アルミニウム、ステンレスなどの金属シート状物等が、基材１２として、好適に利用可能である。
【００２７】
また、本発明においては、このようなプラスチックフィルム等を支持体として、その上に、保護層、貼着層、光反射層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層、ガスバリア膜等の、各種の機能を得るための膜（層）が成膜されているものを、基材１２として用いてもよい。この場合には、通常、これらの膜の表面が、基材１２の表面となる。
この際においては、支持体の上に１層のみが成膜されたものを基材１２として用いてもよく、あるいは、支持体の複数層が成膜されたものを基材１２として用いてもよい。また、基材１２が、支持体の上に複数層の膜が成膜されたものである場合には、同じ層を複数層有してもよく、例えば、平坦化層とガスバリア膜との組み合わせを複数回繰り返し積層した構成のように、２層以上を組み合わせてなる膜を、複数回、繰り返し積層したものであってもよい。
【００２８】
保護フィルム（ラミネートフィルム）１４は、このような基材１２の表面を保護するためのものであり、表面に当接して、基材１２に積層／貼着される。
本発明の製造方法において、保護フィルム１４には、特に限定はなく、機能性フィルムの製造において利用されている、粘着性を有する保護フィルムが、各種、利用可能である。
従って、保護フィルム１４は、基材１２の表面との当接面に貼着剤層（粘着剤層／接着剤層）が形成されたものであっても、保護フィルム１４自身が粘着性を有するものであってもよい。
【００２９】
なお、基材１２の表面の保護を考慮すると、保護フィルム１４は、基材１２（基材１２の表面）よりも剛性や硬さの低い物を用いるのが、一般的である。
【００３０】
図示例の処理装置１０において、このような積層体１６を巻回してなる基材ロール２４は、回転軸２８に装填される。
積層体１６は、この回転軸２８に装填された基材ロール２４から引き出されて、長手方向に搬送されつつ、テンションピックロール３０およびガイドローラ４４に案内された後、基材１２から保護フィルム１４が剥離される。
保護フィルム１４が剥離された基材１２は、ドラム３２巻き掛けられた状態で搬送され、処理装置３４によって、成膜や表面処理等の処理が行われた後、テンションピックロール３８に案内されて、巻取り軸３６に巻き取られる。
【００３１】
他方、基材１２と剥離された保護フィルム１４は、第２巻取り軸４０に巻き取られる。
ここで、本発明の製造方法においては、第１検出手段４６および第２検出手段４８が、保護フィルム１４の有無を検出し、この検出結果に応じて、第２巻取り軸４０が保護フィルム１４を巻き取る際の、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を制御することによって、保護フィルム１４と基材１２との剥離が所定の範囲内で起こるようにするものである。この点に関しては後に詳述する。
【００３２】
テンションピックロール３０は、搬送される積層体１６を所定の経路に案内するためのものであると共に、搬送される積層体１６（基材１２）にかかるテンション（張力）を測定するためのものである。テンションピックロール３０、および、後述するテンションピックロール３８が測定したテンションの測定結果は、図示しない搬送制御手段に送られ、所定のテンションとなるように、搬送制御手段により、回転軸２８および巻取り軸３６が制御される。
【００３３】
積層体１６（基材１２）の張力を測定するためのテンションピックロール３０としては、ロードセルにより張力を検出するものや、ローラの変位を測定して張力を検出するもの等、ロール・ツー・ロールの成膜装置等に利用されている公知のテンションピックロールが、各種利用可能である。この点に関しては、後述するテンションピックアップロール３８も同様である。
【００３４】
ガイドローラ４４は、積層体１６を所定の搬送経路で案内する通常のガイドローラである。
【００３５】
第２巻取り軸４０は、基材１２から剥離された保護フィルム１４を巻き取るものである。
また、第２巻取り軸４０は、巻取りの回転速度および／またはトルクを、後述する制御手段５０によって制御されることにより、保護フィルム１４と基材１２との剥離が所定の位置で起こるように、保護フィルム１４の剥離力を制御するものである。
この点に関しては、後に詳述する。
【００３６】
第１検出手段４６は、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出するものであり、基材１２の搬送方向において、ガイドローラ４４と第２検出手段４８との間に配置される。
第１検出手段４６は、光照射部４６ａと受光部４６ｂとを有する。
【００３７】
光照射部４６ａと受光部４６ｂとは、基材１２（積層体１６）を挟むように配置されている。
光照射部４６ａは基材１２（積層体１６）を挟んで配置される受光部４６ｂに向かって光を照射するものである。
光照射部４６ａとしては、特に限定はなく、レーザ光源やＬＥＤ光源等の種々の公知の光源を用いることができる。
【００３８】
受光部４６ｂは、光照射部４６ａが照射した光を受光するものである。
ここで、保護フィルム１４が基材１２から剥離する位置である剥離点Ｐが第１検出手段４６よりも、搬送方向下流側である場合には、光照射部４６ａが照射した光は、剥離済みの保護フィルム１４と積層体１６（基材１２と保護フィルム１４）とを通過して、受光部４６ｂにて受光される。他方、剥離点Ｐが第１検出手段４６よりも搬送方向上流側である場合には、光照射部４６ａが照射した光は、基材１２のみを通過して、受光部４６ｂにて受光される。
【００３９】
すなわち、剥離点Ｐの位置に応じて、光が通過するフィルムが異なることにより、受光部４６ｂが受光する光の状態が変化するので、受光部４６ｂは、受光した光の状態によって、基材１２上に保護フィルム１４が貼着しているか否かを検出する。
例えば、基材１２が光を透過する材料で形成され、保護フィルム１４が光を透過しない材料で形成される場合には、受光部４６ｂが光を受光した場合に保護フィルム１４が基材１２上に無いことを検出し、光を受光しない場合に保護フィルム１４が基材１２上に在ることを検出する。あるいは、基材１２および保護フィルム１４共に光を透過する場合には、保護フィルム１４の有無によって、受光部４６ｂが受光する光の強度（透過率）が変化するので、受光した光の強度によって、保護フィルム１４の有無を検出すればよい。
受光部４６ｂは、検出結果を制御手段５０に供給する。
【００４０】
第２検出手段４８は、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出するものであり、基材１２の搬送方向において、第１検出手段４６と処理手段３４との間に配置される。
図示例においては、第２検出手段４８は、基材１２がドラム３２に巻き掛けられた位置で、基材１２に対面して配置されている。
第２検出手段４８は、基材１２に向かって光を照射すると共に、基材１２を透過し、ドラム３２から反射された光を受光するものである。
【００４１】
ここで、保護フィルム１４が基材１２から剥離する位置である剥離点Ｐが第２検出手段４８よりも、搬送方向上流側である場合には、第２検出手段４８が照射した光は、基材１２のみを通過してドラム３２に反射され、再び、基材１２を通過して、第２検出手段４８にて受光される。他方、剥離点Ｐが第２検出手段４８よりも搬送方向下流側である場合には、第２検出手段４８が照射した光は、保護フィルム１４と積層体１６（基材１２と保護フィルム１４）とを通過して、ドラム３２に反射されて、再び、積層体１６と保護フィルム１４とを通過して、第２検出手段４８にて受光される。
すなわち、剥離点Ｐの位置に応じて、第２検出手段４８が受光する光の状態が変化するので、第２検出手段４８は、受光した光の状態によって、基材１２上に保護フィルム１４が貼着しているか否かを検出する。
【００４２】
なお、第１検出手段および第２検出手段はいずれも、第１検出手段のように、光を透過させて保護フィルム１４を検出するものであってもよく、第２検出手段のように、光を反射させて保護フィルム１４を検出するものであってもよい。ここで、光を反射させて保護フィルムの１４の有無を検出する手段は、光が往復して各フィルムを２度通過するため、検出能が向上し、好ましい。
【００４３】
また、第２検出手段のように、基材１２を巻き掛けた位置で、ドラム３２に光を反射させて検出することにより、ドラム３２（反射物）と基材１２（積層体１６）との間に空気が介在しないため、反射した光を検出する際に、誤差が生じにくく、検出能が向上する。
第２検出手段４８は、検出結果を制御手段５０に供給する。
【００４４】
制御手段５０は、第１検出手段４６および第２検出手段４８が検出した保護フィルム１４の有無の検出結果に応じて、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を制御するものである。
具体的には、第１検出手段４６が保護フィルム１４を検出し、第２検出手段４８が保護フィルム１４を検出しない場合には、剥離点Ｐが、第１検出手段４６と第２検出手段４８との間に在るので、正常に剥離が行なわれていると判断して、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を、変更しない。
【００４５】
これに対して、第１検出手段４６が保護フィルム１４を検出しなかった場合には、剥離点Ｐが第１検出手段４６よりも上流側に在る。すなわち、保護フィルム１４を引っ張る力（剥離力）が大きすぎるおそれがある。したがって、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を低くして、剥離力が小さくなるように制御する。他方、第２検出手段４８が保護フィルム１４を検出した場合には、剥離点Ｐが第２検出手段４８よりも下流側に在る。すなわち、保護フィルム１４の剥離力が小さすぎるので、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を高くして、剥離力が大きくなるように制御する。
【００４６】
前述のとおり、真空中で、ＲｔｏＲによって長尺な基板に連続的に処理を行なう装置において、基材の表面を保護するために、基材と保護フィルムとを積層してなる積層体をロール状に巻回した積層体ロールを用いる場合には、積層体ロールの積層体間の空気が抜けて、巻き締まりが生じる。そのため、基材と保護フィルムとが押圧されて、基材と保護フィルムとの密着力が高くなる。特に、積層体ロールの内径側に向かうに従って、巻き締まりが強くなるため、積層体ロールの内径側の積層体ほど、基材と保護フィルムとの密着力が高くなり、積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化してしまう。
【００４７】
そのため、従来の成膜方法では、処理が進むに従って、基材と保護フィルムとを剥離するために、保護フィルムを引っ張る力（剥離力）に対して、基材と保護フィルムとの密着力が高くなり、保護フィルムが基材から剥離されなくなってしまう。
また、保護フィルムを引っ張る力（剥離力）を十分に大きくして、密着力が高くても保護フィルムを剥離できるようにした場合には、基材と保護フィルムとの密着力が弱い状態の時には、基材を過剰に引っ張ってしまうので、基材の搬送テンションが緩んでしまう。これにより、基材にツレシワが発生して基材が損傷してしまう。また、ドラムによって基材を冷却している場合には、基材とドラムとの密着が緩んで冷却が不十分になってしまい、熱ダメージを受けてしまう。
【００４８】
これに対して、本発明の機能膜の製造方法においては、第１検出手段４６および第２検出手段４８が、保護フィルム１４の有無を検出し、この検出結果に応じて、第２巻取り軸４０が保護フィルム１４を巻き取る際の、第２巻取り軸４０のトルクおよび回転速度を制御することによって、保護フィルム１４と基材１２との剥離が所定の範囲内で起こるようにするので、積層体の長手方向に、基材１２と保護フィルム１４との密着力が変化した場合であっても、保護フィルム１４を剥離させる剥離力を適正な値にすることができ、基材１２と保護フィルム１４とを所定の位置で剥離させることができ、保護フィルム１４が剥離されずに搬送されてしまうことがない。また、剥離力が大きすぎて、基材１２の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材１２が損傷することを防止することができる。また、保護フィルム１４を剥離しつつ、基材１２を安定して搬送することができるので、目的とする性能を有する機能性フィルムを、安定して製造することができる。
【００４９】
前述のように、処理装置１０において、保護フィルム１４が剥離された基材１２は、ドラム３２に搬送される。
ドラム３２は、基材１２を所定の処理位置に位置しつつ、長手方向に搬送する円筒状の物である。基材１２は、ドラム３２の所定領域に巻き掛けられて、長手方向に搬送されつつ、処理手段３４によって、成膜や表面処理等の処理に供される。
【００５０】
本発明の機能性フィルムの製造方法において、基材１２の表面に施す処理には、特に限定はなく、真空中で行う各種の成膜や表面処理が、いずれも利用可能である。また、これらの処理は、公知の方法で行えばよい。
従って、処理手段３４は、処理装置１０で基材１２の表面に施す処理に応じた、公知の構成を有する。
【００５１】
一例として、処理装置１０が、ＩＣＰ−ＣＶＤ法（誘導結合型プラズマＣＶＤ）によって成膜を行なう装置であれば、処理手段３４、誘導磁場を形成するための誘導コイルや、成膜領域に原料ガスを供給するためのガス供給手段等を有して構成される。
処理装置１０が、ＣＣＰ−ＣＶＤ法（容量結合型プラズマＣＶＤ）によって成膜を行なう装置であれば、処理手段３４は、中空状で多数の小孔を有し電極および原料ガス供給部として作用するシャワー電極、プラズマ励起電力を供給する高周波電源（１３．５６ＭＨｚ等）、原料ガスの供給手段等を有して構成される。
処理装置１０が、スパッタリングによって成膜を行なう装置であれば、処理手段３４は、ターゲットの保持手段や高周波電極、スパッタガスの供給手段等を有して構成される。処理手段３４が、反応性スパッタリングによって成膜を行うものであれば、さらに、反応ガスの供給手段を有して構成される。
処理装置１０が、成膜室が真空蒸着によって成膜を行う装置であれば、処理手段３４は、蒸発源（ルツボ）、電子銃や抵抗加熱電源などの成膜材料の加熱手段、蒸発源のシャッタ等を有して構成される。
【００５２】
また、基材１２の表面の処理は、成膜に限定はされず、真空中で行う処理であれば、活性化、清浄化、粗面化、平坦化等の公知の表面処理も、好適に利用可能であり、また、基材１２の脱ガス処理も好適に利用可能である。
一例として、処理装置１０が、プラズマによる表面の活性化や清浄化等を行う装置である場合には、前記シャワー電極、プラズマ励起電力を供給する高周波電源（１３．５６ＭＨｚ等）、プロセスガスの供給手段等を有して構成される。
また、処理像値１０が、熱アニールによる表面の平坦化や、基材１２からの脱ガスを行なう装置である場合には、シースヒータや温度を測定する熱電対等を有して構成される。
【００５３】
ここで、本発明の製造方法によれば、所定の剥離工程によって剥離されるまで、基材１２の表面を保護フィルム１４で保護できる。
従って、ガスバリア膜の成膜によるガスバリアフィルムの製造のように、基材表面に高い平滑性等を要求される用途には、好適である。
【００５４】
また、処理装置１０による処理の際に、基材１２に熱が加わる場合には、ドラム３２が冷却手段を有して、基材１２を冷却する構成としてもよい。
【００５５】
テンションピックロール３８は、ドラム３２上で処理された基材１２を所定の経路に案内するものであると共に、搬送される基材１２にかかるテンション（張力）を測定するためのものである。テンションピックロール３８測定したテンションの測定結果は、図示しない搬送制御手段に送られる。
【００５６】
真空排気手段４２は、真空チャンバ２６内を排気して、実施する処理に応じた所定の圧力にするものである。
真空排気手段４２には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ、さらには、クライオコイル等の補助手段、到達真空度や排気量の調整手段等を利用する、真空成膜装置に用いられている公知の（真空）排気手段が、各種、利用可能である。
【００５７】
ドラム３２に巻き掛けられて長手方向に搬送されつつ、処理手段３４によって成膜等の処理を行われた基材１２、すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム２０は、テンションピックロール３８に案内されて、巻取り軸３６によって巻回され、再度、ロール状にされる。
【００５８】
以下、図１に示す処理装置１０の作用を説明する。
前述のように、長尺な積層体１６は、ロール状に巻回されて基材ロール２４として供給される。
基材ロール２４は、処理装置１０の回転軸２８に回転可能に装填される。基材ロール２４を回転軸２８に装填したら、積層体１６を引き出し、テンションピックロール３０およびガイドローラ４４に巻き掛けられた後に、基材１２と保護フィルム１４とが剥離される。基材１２から剥離された保護フィルム１４は、第２巻取り軸４０に送られ、所定の搬送経路で挿通される。一方、基材１２は、ガイドローラ４４から、ドラム３２の所定領域に巻き掛けられ、テンションピックロール３８によって案内され、巻取り軸３６に巻き掛けられる、所定の搬送経路で挿通される。
【００５９】
積層体１６、基材１２および保護フィルム１４を挿通したら、真空チャンバ２６を閉塞して、真空排気手段４２を駆動して、真空チャンバ２６内の排気を開始する。並行して、処理手段３４において、基材１２の表面に施す処理の準備を開始する。
真空チャンバ２６内が所定の圧力で安定し、また、処理手段３４が処理を実施できる状態となったら、巻取り軸３６および第２巻取り軸４０による巻取り、ドラム３２による基材１２の搬送、ならびに、回転軸２８による基材ロール２４からの積層体１６の送り出しを同期して行って、基材１２等の搬送を開始する。
【００６０】
基材１２等の搬送が安定したら、基材１２の表面の処理を開始する。
これにより、積層体１６を長手方向に搬送しつつ、基材１２と保護フィルム１４との剥離を行い、保護フィルム１４を第２巻取り軸４０に巻取り、基材１２を長手方向に搬送しつつ、処理手段３４によって成膜等の基材１２の処理を行う。また、処理済の基材１２すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム２０は、巻取り軸３６に巻き取られ、機能性フィルム２０のロールとされる。
【００６１】
ここで、本発明の製造方法を実施する処理装置１０では、基材１２の搬送方向において、ガイドローラ４４と処理手段３４との間に配置される第１検出手段４６と第２検出手段とによって、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出して、この検出結果に応じて、第２巻取り軸４０が保護フィルム１４を巻き取る際の、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を制御することによって、保護フィルム１４と基材１２との剥離が所定の第１検出手段４６と第２検出手段４８との間で起こるようにするので、積層体の長手方向に、基材１２と保護フィルム１４との密着力が変化した場合であっても、保護フィルム１４を剥離させる剥離力を適正な値にすることができ、基材１２と保護フィルム１４とを所定の位置で剥離させることができる。そのため、保護フィルム１４が剥離されずに搬送されてしまうことがない。また、剥離力が大きすぎて、基材１２の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材１２が損傷することを防止することができる。
【００６２】
以上、本発明の機能性フィルムの製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
【００６３】
例えば、図示例においては、ドラム３２に基材を巻き掛けて長手方向に搬送しつつ、処理を行う装置に利用した例であるが、本発明は、これに限定はされない。例えば、本発明は、搬送ローラ対等を用いて、長尺な積層体を長手方向に直線状に搬送しながら、保護フィルムの剥離や、基材表面の処理を行う装置にも、好適に利用可能である。
【００６４】
また、図示例においては、第１検出手段４６として、基材１２（積層体１６）に光を透過させて保護フィルム１４を検出する手段を用い、第２検出手段４８として、基材１２（積層体１６）を透過した光をドラム３２に反射させて保護フィルム１４を検出する手段を用いたが、本発明は、これに限定はされず、保護フィルム１４の有無を検出できればよく、第１検出手段４６および第２検出手段４８のいずれも、光を透過させて保護フィルム１４を検出するものであっても、光を反射させて保護フィルム１４を検出するものであってもよい。
【００６５】
また、図示例においては、剥離点Ｐの位置が、基材１２がドラム３２に巻き掛かる直前の位置となるようにしたが、本発明は、これに限定はされず、剥離点Ｐの位置が、基材１２がドラムに巻き掛かった位置となるようにしてもよい。すなわち、積層体１６がドラム３２に巻き掛かった状態で、保護フィルム１４を基材１２から剥離してもよい。
【００６６】
図２は、本発明の製造方法を実施する処理装置の他の一例を概念的に示す図である。
なお、図２に示す処理装置８０は、図１に示す処理装置１０において、第１検出手段４６に代えて、第１検出手段８２を有する以外は、同じ構成を有するので、同じ部位には、同じ符号を付し、以下の説明は異なる部位を主に行なう。
【００６７】
処理装置８０は、第１検出手段８２が、ドラム３２に巻き掛けられた積層体１６（基材１２）に対面する位置に配置される構成を有する。
第１検出手段８２は、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出するものであり、基材１２に向かって光を照射すると共に、ドラム３２から反射された光を受光することにより、保護フィルム１４の有無を検出する。
第１検出手段８２は、検出結果を制御手段５０に供給する。
【００６８】
第１検出手段８２と第２検出手段４８とを、ドラム３２に巻き掛けられた積層体１６（基材１２）に対面する位置に配置する構成とすることで、基材１２がドラム３２に巻き掛かった状態で、保護フィルム１４を基材１２から剥離することができるので、保護フィルム１４の剥離の際に、基材１２が揺動することを防止でき、より好適に安定して基材１２の搬送を行なうことができる。
【００６９】
また、図示例においては、第１検出手段４６と第２検出手段４８とを、ドラム３２の直上流のガイドローラ４４と、ドラム３２との間に配置したが、本発明はこれに限定はされず、処理手段３４よりも上流側に配置されていればよく、例えば、ガイドローラ４４とテンションピックロール３０との間に配置してもよい。
【００７０】
図３は、本発明の製造方法を実施する処理装置の他の一例を概念的に示す図である。
なお、図３に示す処理装置１００は、図１に示す処理装置１０において、剥離点Ｐおよび第１検出手段４６をテンションピックロール３０とガイドローラ４４との間に配置し、第２検出手段４８に代えて、第２検出手段１０４を有する以外は、同じ構成を有するので、同じ部位には、同じ符号を付し、以下の説明は異なる部位を主に行なう。
【００７１】
処理装置１００は、第１検出手段４６と第２検出手段１０４、および、剥離点Ｐが、テンションピックロール３０とガイドローラ４４との間に配置される構成を有する。
第２検出手段１０４は、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出するものであり、光照射部１０４ａと受光部１０４ｂとを有する。
【００７２】
光照射部１０４ａと受光部１０４ｂとは、基材１２（積層体１６）を挟むように配置されており、光照射部１０４ａは基材１２（積層体１６）を挟んで配置される受光部１０４ｂに向かって光を照射するものである。受光部１０４ｂは、光照射部１０４ａから照射された光の状態から、保護フィルム１４の有無を検出する。
第２検出手段１０４は、検出結果を制御手段５０に供給する。
【００７３】
このように、第１検出手段４６と第２検出手段４８とを、テンションピックロール３０とガイドローラ４４との間に配置した場合であっても、保護フィルム１４を剥離させる剥離力を適正な値にすることができ、基材１２と保護フィルム１４とを所定の位置で剥離させることができる。そのため、保護フィルム１４が剥離されずに搬送されてしまうことがない。また、剥離力が大きすぎて、基材１２の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材１２が損傷することを防止することができる。
なお、基材１２の表面（被処理面）を好適に保護できる点で、第１検出手段４６と第２検出手段４８とは、処理手段３４（ドラム３２）の直上流に配置することが好ましい。
【実施例】
【００７４】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。
［実施例１］
図１に示す処理装置１０を用いて、積層体の搬送を行なった。
基材１２として、厚さ１００μｍ、幅７００ｍｍのＰＥＴフィルムを用意した。
また、保護フィルム１４として、幅７００ｍｍのサンエー化研社製のＰＡＣ−３−５０ＴＨＫを用意した。この粘着性シートの粘着力は、０．０４Ｎ／２５ｍｍである。
また、真空チャンバ２６内の真空度は、５×１０−４Ｐａとした。
また、処理手段３４による処理として、プラズマＣＶＤ法によるＳｉＮ膜の成膜を行なった。
また、ドラム３２は冷却手段を有し、基材１２を冷却する構成とした。
また、搬送速度は、１ｍ／ｍｉｎとし、搬送テンションは、５０Ｎ／７００ｍｍとして、５００ｍの積層体１６の搬送を行なった。
【００７５】
基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。
なお、基材の熱負けは、処理後に基材を取り出して確認した。また、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常は、真空チャンバ２６に形成された除き窓から、積層体１６を目視して評価した。
基材の熱負けが発生した場合を『Ａ』、基材のツレシワが発生した場合を『Ｂ』、保護フィルムの剥離異常が発生した場合を『Ｃ』、異常なしの場合を『Ｎ』と評価した。
評価結果を、下記表１に示す。
【００７６】
［実施例２］
第１検出手段および第２検出手段をテンションピックロールとガイドローラとの間に配置する構成（図３）とした以外は、実施例１と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００７７】
［比較例１］
第１検出手段を配置せず、第２検出手段のみを有する構成とした以外は、実施例１と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００７８】
［比較例２］
第１検出手段を配置せず、第２検出手段のみを有する構成とした以外は、実施例２と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００７９】
［比較例３］
第１検出手段および第２検出手段を有さない構成とした以外は、実施例１と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００８０】
［比較例４］
第１検出手段および第２検出手段を有さない構成とした以外は、実施例２と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００８１】
【表１】
【００８２】
上記表１に示されるように、本発明の機能膜の製造方法においては、第１検出手段および第２検出手段が、保護フィルムの有無を検出し、この検出結果に応じて、第２巻取り軸が保護フィルムを巻き取る際の、第２巻取り軸のトルクおよび回転速度を制御することによって、保護フィルムと基材との剥離が所定の範囲内で起こるようにするので、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常を好適に防止できる。
なお、第１検出手段および第２検出手段をテンションピックロール３０とガイドローラ４４との間に配置する実施例２においては、保護フィルム１４を剥離した基材１２の表面の損傷を防止するために、ガイドローラ４４として段付きローラを用いたところ、ガイドローラ４４の位置で若干、クニックが発生した。これに対して、第１検出手段および第２検出手段をドラム３２（処理手段３４）の直上流に配置する実施例１においては、処理手段３４の直前まで、基材１２の表面を保護フィルム１４で保護しているので、ガイドローラ４４として段付きローラを用いる必要がなく、より好適に基材１２の損傷を防止できる。
【００８３】
これに対して、検出手段を１つにした比較例１および２においては、保護フィルムの剥離異常は抑制できるものの、剥離力が大きくなりすぎて基材の搬送テンションが緩んでしまうので、２５０ｍ以降に、基材の熱負けや基材のツレシワが断続的に発生した。
また、検出手段を有さない比較例３および４においては、２００ｍ以降に、保護フィルムが基材から剥離されず、剥離異常が発生した。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
基材の表面にガスバリア膜を成膜するガスバリアフィルムの製造など、基材の表面に所定の機能を発現する機能性フィルムの製造等に、好適に利用可能である。
【符号の説明】
【００８５】
１０、８０、１００ 処理装置
１２ 基材
１４ 保護フィルム
１６ 積層体
２０ 機能性フィルム
２４ 基材ロール
２６ 真空チャンバ
２８ 回転軸
３０、３８ テンションピックロール
３２ ドラム
３６ 巻取り軸
４０ 第２巻取り軸
４２ 真空排気手段
４４ ガイドローラ
４６、８２、 第１検出手段
４６ａ、１０４ａ 光照射部
４６ｂ、１０４ｂ 受光部
４８、１０４ 第２検出手段
５０ 制御手段
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空中において、基材と保護フィルムとを積層してなる積層体から保護フィルムを剥離して、基材の表面に処理を行う、機能性フィルムの製造方法および製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基材の表面に、ガスバリア膜、光反射膜、光反射防止膜、表面保護など、目的とする機能を発現する膜（以下、便宜的に『機能膜』とする）を成膜してなる機能性フィルムが、各種の用途に利用されている。
さらに、機能性フィルムの製造においては、基材の表面に、平滑化、活性化、清浄化、粗面化、表面改質、貼着性付与などの各種の表面処理を施すことも、行われている。
【０００３】
また、機能性フィルムを、高い生産性や生産効率での製造を可能とする方法として、長尺な基材を、ロール状に巻回してなる基材ロールから送り出し、長手方向に搬送しつつガスバリア膜の成膜等を行って、成膜済みの基材をロール状に巻き取る、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll 以下、ＲｔｏＲともいう)による成膜を行なう装置が知られている。
【０００４】
このような機能性フィルムの製造において、搬送ローラ対による搬送や、他の部材との接触等に起因して基材の表面（被処理面）が損傷すると、目的とする性能を有する機能性フィルムが製造できなくなってしまう可能性が生じる。
特に、前述のＲｔｏＲによる装置では、基材の巻回によって、基材の表面と裏面とが摺接するので、基材の損傷が生じ易い。さらに、成膜等のために基材ロールの装填空間を真空にすると、基材間の空気が抜けて、いわゆる巻き締まりが生じ、巻回された基材の表面と裏面とが強く摺接して、基材表面を損傷してしまい、目的とする性能を有する機能性フィルムが製造できなくなってしまう可能性が高くなる。
また、高品質な製品を製造するためには、基材の表面は、清浄に保つのが好ましい。
【０００５】
そのため、ガスバリアフィルム等の機能性フィルムの製造においては、基材の表面を保護するために、基材の表面に保護フィルム（ラミネートフィルム）を貼着して、基材の表面を保護することが行われている。
このような積層体を用いる機能性フィルムの製造においては、通常、この基材と保護フィルムとの積層体のまま、成膜装置や表面処理装置等の基材の処理装置に装填し、処理装置中において、保護フィルムを剥離して、基材表面に処理を施す。
【０００６】
例えば、特許文献１には、保護材が積層され、ロール状に巻かれた基材を保護材と共に巻き出す巻き出しロールと、巻き出しロールから前記保護材と共に巻き出された基材を保護材が接触するように回転自在に支持し、下流側へ搬送する巻出側支持ロールと、基材が保護材と共に巻出側支持ロールを通過する際、基材から保護材を分離する保護材分離手段を備えた巻き出し部とを有することにより、成膜を行なう直前まで基材の表面を保護することが記載されている。
【０００７】
また、特許文献２および３には、フィルムロールから連続的にラミネートフィルムが付与された支持体を送り出し、ラミネートフィルムを剥離し、支持体のコーティング膜上に無機膜を成膜し、支持体をフィルムロールに巻き取ることにより、支持体の表面を保護することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−１８９９５７号公報
【特許文献２】特開２０１０−２２２７０２号公報
【特許文献３】特開２０１０−２３４３４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、ガスバリア膜等の各種の機能膜の成膜は、プラズマＣＶＤや真空蒸着など、真空中で行われる場合が多い。また、活性化処理や清浄化処理等の基材の表面処理も、真空中でのプラズマ照射やイオン照射などによって行われる場合が多い。
ここで、前述のように、真空中においては、基材と保護フィルムとを積層してなる積層体をロール状に巻回した積層体ロールにおいて、積層体間の空気が抜けて、巻き締まりが生じる。そのため、基材と保護フィルムとが押圧されて、基材と保護フィルムとの密着力が高くなる。特に、積層体ロールの内径側に向かうに従って、巻き締まりが強くなるため、積層体ロールの内径側の積層体ほど、基材と保護フィルムとの密着力が高くなる。すなわち、積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化してしまう。
【００１０】
そのため、特許文献１〜３に記載されるように、保護フィルムを貼着した基材を、ＲｔｏＲの装置で搬送しつつ、真空中で成膜を行なう場合には、処理が進むに従って、基材と保護フィルムとを剥離するために、保護フィルムを引っ張る力（剥離力）に対して、基材と保護フィルムとの密着力が高くなる。その結果、保護フィルムが基材から剥離されなくなってしまう。
また、保護フィルムを引っ張る力（剥離力）を十分に大きくして、密着力が高くても保護フィルムを剥離できるようにした場合には、基材と保護フィルムとの密着力が弱い状態の時には、基材を過剰に引っ張ってしまうので、基材の搬送テンションが緩んでしまい、基材にツレシワが発生して基材が損傷してしまう。また、基材をドラムに巻き掛けて成膜を行なう場合には、基材とドラムとの密着が緩んでしまい、正常な成膜ができないおそれがある。また、ドラムによって基材を冷却している場合には、基材が十分に冷却されず、熱によって変形してしまう。
【００１１】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、基材と保護フィルムを貼着した積層体を用いる機能性フィルムの製造において、積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化した場合であっても、基材と保護フィルムとを適正に剥離させることができ、基材の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材が損傷することを防止して、目的とする性能を有する機能性フィルムを、安定して製造できる機能性フィルムの製造方法および製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するために、本発明は、真空中において、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記基材から前記保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に処理を行うに際し、前記処理を行なう前の前記積層体の搬送中に、所定の第１の検出位置で、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出し、前記第１の検出位置と前記処理との間の、所定の第２の検出位置で、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出し、前記第１の検出位置と前記第２の検出位置での検出結果に応じて、前記第１の検出位置と前記第２の検出位置との間で、前記保護フィルムが前記基材から剥離するように、剥離力を制御することを有することを特徴とする機能性フィルムの製造方法を提供する。
【００１３】
このような本発明の機能性フィルムの製造方法において、前記第２の検出位置で、前記保護フィルムが検出された場合に、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力が大きくなるように制御するのが好ましい。
また、前記第１の検出位置で、前記保護フィルムが検出されなかった場合に、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力が小さくなるように制御するのが好ましい。
【００１４】
また、前記処理は、前記基材を円筒状のドラムの周面に巻き掛けて、長手方向に搬送しつつ、前記ドラムの周面に対面して配置された処理手段によって行なうものであるのが好ましい。
また、前記第２の検出位置は、前記処理手段と前記ドラムの直上流側の搬送ロールとの間に配置されるのが好ましい。
さらに、前記第２の検出位置は、前記基板が前記ドラムに巻き掛かけられている位置に配置されるのが好ましい。
また、前記ドラムの周面を冷却する冷却手段を有するのが好ましい。
【００１５】
また、前記保護フィルムの巻取り手段のトルクおよび／または回転速度を制御することにより、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力を制御するのが好ましい。
また、前記第１の検出位置で前記保護フィルムの有無を検出する第１検出手段、および、前記第２の検出位置で前記保護フィルムの有無を検出する第２検出手段が、光の透過率を検出することにより、前記保護フィルムの有無を検出するものであるのが好ましい。
【００１６】
前記目的を達成するために、本発明は、真空中で、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記基材から前記保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に成膜処理を行う機能性フィルムの製造装置において、前記基材から剥離した前記保護フィルムを巻き取る巻取り手段と、前記基材に所定の処理を行なう処理手段と、前記基材の搬送方向において、前記処理手段よりも上流側に配置され、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出する第１検出手段と、前記処理手段と前記第１検出手段との間に配置され、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出する第２検出手段と、前記第１検出手段および前記第２検出手段の検出結果に応じて、前記第１検出手段と前記第２検出手段との間で、前記保護フィルムが前記基材から剥離するように、前記巻取り手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする機能性フィルムの製造装置を提供する。
【００１７】
ここで、前記制御手段は、前記第２検出手段が前記保護フィルムを検出した場合に、前記巻取り手段のトルクおよび／または回転速度が大きくなるように制御するのが好ましい。
また、前記制御手段は、前記第１検出工程で前記保護フィルムを検出しなかった場合に、前記巻取り手段のトルクおよび／または回転速度が小さくなるように制御するのが好ましい。
また、前記第２検出手段は、前記処理手段と前記処理手段の直上流側の搬送ロールとの間に配置されるのが好ましい。
また、周面が前記処理手段に対面するように配置され、前記基板を周面の所定領域に巻き掛けて搬送する円筒状のドラムを有するのが好ましい。
さらに、前記第２検出手段は、前記基板が前記ドラムに巻き掛かけられている位置で、前記基板上の前記保護フィルムの有無を検出するのが好ましい。
また、前記ドラムの周面を冷却する冷却手段を有するのが好ましい。
【００１８】
また、前記第１検出手段、および、前記第２検出手段が、光の透過率を検出することにより、前記保護フィルムの有無を検出するものであるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の機能性フィルムの製造方法および製造装置は、真空中で、基材に保護フィルムを貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、基材から保護フィルムを剥離し、基材の被処理面に処理を行うに際し、処理を行なう前の積層体の搬送中に、所定の第１の検出位置で、基材上の保護フィルムの有無を検出し、第１の検出位置と処理との間の、所定の第２の検出位置で、基材上の保護フィルムの有無を検出し、第１の検出位置と第２の検出位置での検出結果に応じて、第１の検出位置と第２の検出位置との間で、保護フィルムが基材から剥離するように、剥離力を制御する制御工程とを有する。
【００２０】
そのため、積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化した場合であっても、保護フィルムが適正な位置で剥離するように、保護フィルムの剥離力を制御するので、保護フィルムが基板から剥離しないことを防止できる。また、剥離力が過剰に大きくなって基材を引っ張り、基材の搬送テンションが緩んでしまうことを防止できるので、基材にツレシワが発生したり、ドラムとの密着が緩んで熱によって変形したりすることを防止できる。これにより、本発明の製造方法は、目的とする性能を有する機能性フィルムを、安定して製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する装置の一例を概念的に示す図である。
【図２】本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する装置の他の一例を概念的に示す図である。
【図３】本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する装置の他の一例を概念的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の機能性フィルムの製造方法および製造装置について、添付の図面に示される好適例を基に、詳細に説明する。
【００２３】
図１に、本発明の機能性フィルムの製造方法の一例を実施する基材表面の処理装置の一例の概念図を示す。
図１に示す処理装置１０は、基材１２の表面に当接して、保護フィルム１４を積層して貼着してなる積層体１６を用い、真空中において、基材１２から保護フィルム１４を剥離して、基材１２の表面を処理して、機能性フィルム（機能性フィルムの中間体も含む）２０を製造するものである。
なお、基材１２の表面とは、被処理面であり、すなわち、後述する成膜や各種の表面処理等の処理を施される面である。
【００２４】
図示例の処理装置１０は、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll 以下、ＲｔｏＲともいう)によって、基材１２の処理を行うもので、長尺な基材１２（ウエブ状の基材）と長尺な保護フィルム１４とを積層してなる長尺な積層体１６を、ロール状に巻回してなる基材ロール２４から、積層体１６を引き出して、長手方向に搬送しつつ、積層体１６から保護フィルム１４を剥離して、基材１２の表面を処理して、処理済の基材１２すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム２０を、再度、ロール状に巻回する。
【００２５】
図示例の処理装置１０は、一例として、真空チャンバ２６と、この真空チャンバ２６内に配置される、回転軸２８、テンションピックロール３０、ドラム３２、処理手段３４、巻取り軸３６、テンションピックロール３８、第２巻取り軸４０、ガイドローラ４４、第１検出手段４６、および、第２検出手段４８と、真空チャンバ２６内を排気する真空排気手段４２と、第１検出手段４６および第２検出手段４８の検出結果から第２巻取り軸４０のトルクおよび回転速度を制御する制御手段５０とを有して構成される。
なお、本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する処理装置１０には、これらの部材以外にも、積層体１６や基材１２の搬送ガイド、各種のセンサなど、真空中において、積層体１６および基材１２を長手方向に搬送しつつ、保護フィルム１４を剥離して、基材１２の表面を処理する装置に配置される、各種の部材を有してもよい。
【００２６】
本発明において、基材（基板）１２には、特に限定はなく、真空中での成膜や表面処理を行うことが可能でものあれば、各種のシート状物が利用可能である。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどの有機物からなるプラスチック（樹脂）フィルムや、アルミニウム、ステンレスなどの金属シート状物等が、基材１２として、好適に利用可能である。
【００２７】
また、本発明においては、このようなプラスチックフィルム等を支持体として、その上に、保護層、貼着層、光反射層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層、ガスバリア膜等の、各種の機能を得るための膜（層）が成膜されているものを、基材１２として用いてもよい。この場合には、通常、これらの膜の表面が、基材１２の表面となる。
この際においては、支持体の上に１層のみが成膜されたものを基材１２として用いてもよく、あるいは、支持体の複数層が成膜されたものを基材１２として用いてもよい。また、基材１２が、支持体の上に複数層の膜が成膜されたものである場合には、同じ層を複数層有してもよく、例えば、平坦化層とガスバリア膜との組み合わせを複数回繰り返し積層した構成のように、２層以上を組み合わせてなる膜を、複数回、繰り返し積層したものであってもよい。
【００２８】
保護フィルム（ラミネートフィルム）１４は、このような基材１２の表面を保護するためのものであり、表面に当接して、基材１２に積層／貼着される。
本発明の製造方法において、保護フィルム１４には、特に限定はなく、機能性フィルムの製造において利用されている、粘着性を有する保護フィルムが、各種、利用可能である。
従って、保護フィルム１４は、基材１２の表面との当接面に貼着剤層（粘着剤層／接着剤層）が形成されたものであっても、保護フィルム１４自身が粘着性を有するものであってもよい。
【００２９】
なお、基材１２の表面の保護を考慮すると、保護フィルム１４は、基材１２（基材１２の表面）よりも剛性や硬さの低い物を用いるのが、一般的である。
【００３０】
図示例の処理装置１０において、このような積層体１６を巻回してなる基材ロール２４は、回転軸２８に装填される。
積層体１６は、この回転軸２８に装填された基材ロール２４から引き出されて、長手方向に搬送されつつ、テンションピックロール３０およびガイドローラ４４に案内された後、基材１２から保護フィルム１４が剥離される。
保護フィルム１４が剥離された基材１２は、ドラム３２巻き掛けられた状態で搬送され、処理装置３４によって、成膜や表面処理等の処理が行われた後、テンションピックロール３８に案内されて、巻取り軸３６に巻き取られる。
【００３１】
他方、基材１２と剥離された保護フィルム１４は、第２巻取り軸４０に巻き取られる。
ここで、本発明の製造方法においては、第１検出手段４６および第２検出手段４８が、保護フィルム１４の有無を検出し、この検出結果に応じて、第２巻取り軸４０が保護フィルム１４を巻き取る際の、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を制御することによって、保護フィルム１４と基材１２との剥離が所定の範囲内で起こるようにするものである。この点に関しては後に詳述する。
【００３２】
テンションピックロール３０は、搬送される積層体１６を所定の経路に案内するためのものであると共に、搬送される積層体１６（基材１２）にかかるテンション（張力）を測定するためのものである。テンションピックロール３０、および、後述するテンションピックロール３８が測定したテンションの測定結果は、図示しない搬送制御手段に送られ、所定のテンションとなるように、搬送制御手段により、回転軸２８および巻取り軸３６が制御される。
【００３３】
積層体１６（基材１２）の張力を測定するためのテンションピックロール３０としては、ロードセルにより張力を検出するものや、ローラの変位を測定して張力を検出するもの等、ロール・ツー・ロールの成膜装置等に利用されている公知のテンションピックロールが、各種利用可能である。この点に関しては、後述するテンションピックアップロール３８も同様である。
【００３４】
ガイドローラ４４は、積層体１６を所定の搬送経路で案内する通常のガイドローラである。
【００３５】
第２巻取り軸４０は、基材１２から剥離された保護フィルム１４を巻き取るものである。
また、第２巻取り軸４０は、巻取りの回転速度および／またはトルクを、後述する制御手段５０によって制御されることにより、保護フィルム１４と基材１２との剥離が所定の位置で起こるように、保護フィルム１４の剥離力を制御するものである。
この点に関しては、後に詳述する。
【００３６】
第１検出手段４６は、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出するものであり、基材１２の搬送方向において、ガイドローラ４４と第２検出手段４８との間に配置される。
第１検出手段４６は、光照射部４６ａと受光部４６ｂとを有する。
【００３７】
光照射部４６ａと受光部４６ｂとは、基材１２（積層体１６）を挟むように配置されている。
光照射部４６ａは基材１２（積層体１６）を挟んで配置される受光部４６ｂに向かって光を照射するものである。
光照射部４６ａとしては、特に限定はなく、レーザ光源やＬＥＤ光源等の種々の公知の光源を用いることができる。
【００３８】
受光部４６ｂは、光照射部４６ａが照射した光を受光するものである。
ここで、保護フィルム１４が基材１２から剥離する位置である剥離点Ｐが第１検出手段４６よりも、搬送方向下流側である場合には、光照射部４６ａが照射した光は、剥離済みの保護フィルム１４と積層体１６（基材１２と保護フィルム１４）とを通過して、受光部４６ｂにて受光される。他方、剥離点Ｐが第１検出手段４６よりも搬送方向上流側である場合には、光照射部４６ａが照射した光は、基材１２のみを通過して、受光部４６ｂにて受光される。
【００３９】
すなわち、剥離点Ｐの位置に応じて、光が通過するフィルムが異なることにより、受光部４６ｂが受光する光の状態が変化するので、受光部４６ｂは、受光した光の状態によって、基材１２上に保護フィルム１４が貼着しているか否かを検出する。
例えば、基材１２が光を透過する材料で形成され、保護フィルム１４が光を透過しない材料で形成される場合には、受光部４６ｂが光を受光した場合に保護フィルム１４が基材１２上に無いことを検出し、光を受光しない場合に保護フィルム１４が基材１２上に在ることを検出する。あるいは、基材１２および保護フィルム１４共に光を透過する場合には、保護フィルム１４の有無によって、受光部４６ｂが受光する光の強度（透過率）が変化するので、受光した光の強度によって、保護フィルム１４の有無を検出すればよい。
受光部４６ｂは、検出結果を制御手段５０に供給する。
【００４０】
第２検出手段４８は、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出するものであり、基材１２の搬送方向において、第１検出手段４６と処理手段３４との間に配置される。
図示例においては、第２検出手段４８は、基材１２がドラム３２に巻き掛けられた位置で、基材１２に対面して配置されている。
第２検出手段４８は、基材１２に向かって光を照射すると共に、基材１２を透過し、ドラム３２から反射された光を受光するものである。
【００４１】
ここで、保護フィルム１４が基材１２から剥離する位置である剥離点Ｐが第２検出手段４８よりも、搬送方向上流側である場合には、第２検出手段４８が照射した光は、基材１２のみを通過してドラム３２に反射され、再び、基材１２を通過して、第２検出手段４８にて受光される。他方、剥離点Ｐが第２検出手段４８よりも搬送方向下流側である場合には、第２検出手段４８が照射した光は、保護フィルム１４と積層体１６（基材１２と保護フィルム１４）とを通過して、ドラム３２に反射されて、再び、積層体１６と保護フィルム１４とを通過して、第２検出手段４８にて受光される。
すなわち、剥離点Ｐの位置に応じて、第２検出手段４８が受光する光の状態が変化するので、第２検出手段４８は、受光した光の状態によって、基材１２上に保護フィルム１４が貼着しているか否かを検出する。
【００４２】
なお、第１検出手段および第２検出手段はいずれも、第１検出手段のように、光を透過させて保護フィルム１４を検出するものであってもよく、第２検出手段のように、光を反射させて保護フィルム１４を検出するものであってもよい。ここで、光を反射させて保護フィルムの１４の有無を検出する手段は、光が往復して各フィルムを２度通過するため、検出能が向上し、好ましい。
【００４３】
また、第２検出手段のように、基材１２を巻き掛けた位置で、ドラム３２に光を反射させて検出することにより、ドラム３２（反射物）と基材１２（積層体１６）との間に空気が介在しないため、反射した光を検出する際に、誤差が生じにくく、検出能が向上する。
第２検出手段４８は、検出結果を制御手段５０に供給する。
【００４４】
制御手段５０は、第１検出手段４６および第２検出手段４８が検出した保護フィルム１４の有無の検出結果に応じて、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を制御するものである。
具体的には、第１検出手段４６が保護フィルム１４を検出し、第２検出手段４８が保護フィルム１４を検出しない場合には、剥離点Ｐが、第１検出手段４６と第２検出手段４８との間に在るので、正常に剥離が行なわれていると判断して、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を、変更しない。
【００４５】
これに対して、第１検出手段４６が保護フィルム１４を検出しなかった場合には、剥離点Ｐが第１検出手段４６よりも上流側に在る。すなわち、保護フィルム１４を引っ張る力（剥離力）が大きすぎるおそれがある。したがって、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を低くして、剥離力が小さくなるように制御する。他方、第２検出手段４８が保護フィルム１４を検出した場合には、剥離点Ｐが第２検出手段４８よりも下流側に在る。すなわち、保護フィルム１４の剥離力が小さすぎるので、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を高くして、剥離力が大きくなるように制御する。
【００４６】
前述のとおり、真空中で、ＲｔｏＲによって長尺な基板に連続的に処理を行なう装置において、基材の表面を保護するために、基材と保護フィルムとを積層してなる積層体をロール状に巻回した積層体ロールを用いる場合には、積層体ロールの積層体間の空気が抜けて、巻き締まりが生じる。そのため、基材と保護フィルムとが押圧されて、基材と保護フィルムとの密着力が高くなる。特に、積層体ロールの内径側に向かうに従って、巻き締まりが強くなるため、積層体ロールの内径側の積層体ほど、基材と保護フィルムとの密着力が高くなり、積層体の長手方向に、基材と保護フィルムとの密着力が変化してしまう。
【００４７】
そのため、従来の成膜方法では、処理が進むに従って、基材と保護フィルムとを剥離するために、保護フィルムを引っ張る力（剥離力）に対して、基材と保護フィルムとの密着力が高くなり、保護フィルムが基材から剥離されなくなってしまう。
また、保護フィルムを引っ張る力（剥離力）を十分に大きくして、密着力が高くても保護フィルムを剥離できるようにした場合には、基材と保護フィルムとの密着力が弱い状態の時には、基材を過剰に引っ張ってしまうので、基材の搬送テンションが緩んでしまう。これにより、基材にツレシワが発生して基材が損傷してしまう。また、ドラムによって基材を冷却している場合には、基材とドラムとの密着が緩んで冷却が不十分になってしまい、熱ダメージを受けてしまう。
【００４８】
これに対して、本発明の機能膜の製造方法においては、第１検出手段４６および第２検出手段４８が、保護フィルム１４の有無を検出し、この検出結果に応じて、第２巻取り軸４０が保護フィルム１４を巻き取る際の、第２巻取り軸４０のトルクおよび回転速度を制御することによって、保護フィルム１４と基材１２との剥離が所定の範囲内で起こるようにするので、積層体の長手方向に、基材１２と保護フィルム１４との密着力が変化した場合であっても、保護フィルム１４を剥離させる剥離力を適正な値にすることができ、基材１２と保護フィルム１４とを所定の位置で剥離させることができ、保護フィルム１４が剥離されずに搬送されてしまうことがない。また、剥離力が大きすぎて、基材１２の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材１２が損傷することを防止することができる。また、保護フィルム１４を剥離しつつ、基材１２を安定して搬送することができるので、目的とする性能を有する機能性フィルムを、安定して製造することができる。
【００４９】
前述のように、処理装置１０において、保護フィルム１４が剥離された基材１２は、ドラム３２に搬送される。
ドラム３２は、基材１２を所定の処理位置に位置しつつ、長手方向に搬送する円筒状の物である。基材１２は、ドラム３２の所定領域に巻き掛けられて、長手方向に搬送されつつ、処理手段３４によって、成膜や表面処理等の処理に供される。
【００５０】
本発明の機能性フィルムの製造方法において、基材１２の表面に施す処理には、特に限定はなく、真空中で行う各種の成膜や表面処理が、いずれも利用可能である。また、これらの処理は、公知の方法で行えばよい。
従って、処理手段３４は、処理装置１０で基材１２の表面に施す処理に応じた、公知の構成を有する。
【００５１】
一例として、処理装置１０が、ＩＣＰ−ＣＶＤ法（誘導結合型プラズマＣＶＤ）によって成膜を行なう装置であれば、処理手段３４、誘導磁場を形成するための誘導コイルや、成膜領域に原料ガスを供給するためのガス供給手段等を有して構成される。
処理装置１０が、ＣＣＰ−ＣＶＤ法（容量結合型プラズマＣＶＤ）によって成膜を行なう装置であれば、処理手段３４は、中空状で多数の小孔を有し電極および原料ガス供給部として作用するシャワー電極、プラズマ励起電力を供給する高周波電源（１３．５６ＭＨｚ等）、原料ガスの供給手段等を有して構成される。
処理装置１０が、スパッタリングによって成膜を行なう装置であれば、処理手段３４は、ターゲットの保持手段や高周波電極、スパッタガスの供給手段等を有して構成される。処理手段３４が、反応性スパッタリングによって成膜を行うものであれば、さらに、反応ガスの供給手段を有して構成される。
処理装置１０が、成膜室が真空蒸着によって成膜を行う装置であれば、処理手段３４は、蒸発源（ルツボ）、電子銃や抵抗加熱電源などの成膜材料の加熱手段、蒸発源のシャッタ等を有して構成される。
【００５２】
また、基材１２の表面の処理は、成膜に限定はされず、真空中で行う処理であれば、活性化、清浄化、粗面化、平坦化等の公知の表面処理も、好適に利用可能であり、また、基材１２の脱ガス処理も好適に利用可能である。
一例として、処理装置１０が、プラズマによる表面の活性化や清浄化等を行う装置である場合には、前記シャワー電極、プラズマ励起電力を供給する高周波電源（１３．５６ＭＨｚ等）、プロセスガスの供給手段等を有して構成される。
また、処理像値１０が、熱アニールによる表面の平坦化や、基材１２からの脱ガスを行なう装置である場合には、シースヒータや温度を測定する熱電対等を有して構成される。
【００５３】
ここで、本発明の製造方法によれば、所定の剥離工程によって剥離されるまで、基材１２の表面を保護フィルム１４で保護できる。
従って、ガスバリア膜の成膜によるガスバリアフィルムの製造のように、基材表面に高い平滑性等を要求される用途には、好適である。
【００５４】
また、処理装置１０による処理の際に、基材１２に熱が加わる場合には、ドラム３２が冷却手段を有して、基材１２を冷却する構成としてもよい。
【００５５】
テンションピックロール３８は、ドラム３２上で処理された基材１２を所定の経路に案内するものであると共に、搬送される基材１２にかかるテンション（張力）を測定するためのものである。テンションピックロール３８測定したテンションの測定結果は、図示しない搬送制御手段に送られる。
【００５６】
真空排気手段４２は、真空チャンバ２６内を排気して、実施する処理に応じた所定の圧力にするものである。
真空排気手段４２には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ、さらには、クライオコイル等の補助手段、到達真空度や排気量の調整手段等を利用する、真空成膜装置に用いられている公知の（真空）排気手段が、各種、利用可能である。
【００５７】
ドラム３２に巻き掛けられて長手方向に搬送されつつ、処理手段３４によって成膜等の処理を行われた基材１２、すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム２０は、テンションピックロール３８に案内されて、巻取り軸３６によって巻回され、再度、ロール状にされる。
【００５８】
以下、図１に示す処理装置１０の作用を説明する。
前述のように、長尺な積層体１６は、ロール状に巻回されて基材ロール２４として供給される。
基材ロール２４は、処理装置１０の回転軸２８に回転可能に装填される。基材ロール２４を回転軸２８に装填したら、積層体１６を引き出し、テンションピックロール３０およびガイドローラ４４に巻き掛けられた後に、基材１２と保護フィルム１４とが剥離される。基材１２から剥離された保護フィルム１４は、第２巻取り軸４０に送られ、所定の搬送経路で挿通される。一方、基材１２は、ガイドローラ４４から、ドラム３２の所定領域に巻き掛けられ、テンションピックロール３８によって案内され、巻取り軸３６に巻き掛けられる、所定の搬送経路で挿通される。
【００５９】
積層体１６、基材１２および保護フィルム１４を挿通したら、真空チャンバ２６を閉塞して、真空排気手段４２を駆動して、真空チャンバ２６内の排気を開始する。並行して、処理手段３４において、基材１２の表面に施す処理の準備を開始する。
真空チャンバ２６内が所定の圧力で安定し、また、処理手段３４が処理を実施できる状態となったら、巻取り軸３６および第２巻取り軸４０による巻取り、ドラム３２による基材１２の搬送、ならびに、回転軸２８による基材ロール２４からの積層体１６の送り出しを同期して行って、基材１２等の搬送を開始する。
【００６０】
基材１２等の搬送が安定したら、基材１２の表面の処理を開始する。
これにより、積層体１６を長手方向に搬送しつつ、基材１２と保護フィルム１４との剥離を行い、保護フィルム１４を第２巻取り軸４０に巻取り、基材１２を長手方向に搬送しつつ、処理手段３４によって成膜等の基材１２の処理を行う。また、処理済の基材１２すなわち本発明の製造方法による機能性フィルム２０は、巻取り軸３６に巻き取られ、機能性フィルム２０のロールとされる。
【００６１】
ここで、本発明の製造方法を実施する処理装置１０では、基材１２の搬送方向において、ガイドローラ４４と処理手段３４との間に配置される第１検出手段４６と第２検出手段とによって、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出して、この検出結果に応じて、第２巻取り軸４０が保護フィルム１４を巻き取る際の、第２巻取り軸４０のトルクおよび／または回転速度を制御することによって、保護フィルム１４と基材１２との剥離が所定の第１検出手段４６と第２検出手段４８との間で起こるようにするので、積層体の長手方向に、基材１２と保護フィルム１４との密着力が変化した場合であっても、保護フィルム１４を剥離させる剥離力を適正な値にすることができ、基材１２と保護フィルム１４とを所定の位置で剥離させることができる。そのため、保護フィルム１４が剥離されずに搬送されてしまうことがない。また、剥離力が大きすぎて、基材１２の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材１２が損傷することを防止することができる。
【００６２】
以上、本発明の機能性フィルムの製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
【００６３】
例えば、図示例においては、ドラム３２に基材を巻き掛けて長手方向に搬送しつつ、処理を行う装置に利用した例であるが、本発明は、これに限定はされない。例えば、本発明は、搬送ローラ対等を用いて、長尺な積層体を長手方向に直線状に搬送しながら、保護フィルムの剥離や、基材表面の処理を行う装置にも、好適に利用可能である。
【００６４】
また、図示例においては、第１検出手段４６として、基材１２（積層体１６）に光を透過させて保護フィルム１４を検出する手段を用い、第２検出手段４８として、基材１２（積層体１６）を透過した光をドラム３２に反射させて保護フィルム１４を検出する手段を用いたが、本発明は、これに限定はされず、保護フィルム１４の有無を検出できればよく、第１検出手段４６および第２検出手段４８のいずれも、光を透過させて保護フィルム１４を検出するものであっても、光を反射させて保護フィルム１４を検出するものであってもよい。
【００６５】
また、図示例においては、剥離点Ｐの位置が、基材１２がドラム３２に巻き掛かる直前の位置となるようにしたが、本発明は、これに限定はされず、剥離点Ｐの位置が、基材１２がドラムに巻き掛かった位置となるようにしてもよい。すなわち、積層体１６がドラム３２に巻き掛かった状態で、保護フィルム１４を基材１２から剥離してもよい。
【００６６】
図２は、本発明の製造方法を実施する処理装置の他の一例を概念的に示す図である。
なお、図２に示す処理装置８０は、図１に示す処理装置１０において、第１検出手段４６に代えて、第１検出手段８２を有する以外は、同じ構成を有するので、同じ部位には、同じ符号を付し、以下の説明は異なる部位を主に行なう。
【００６７】
処理装置８０は、第１検出手段８２が、ドラム３２に巻き掛けられた積層体１６（基材１２）に対面する位置に配置される構成を有する。
第１検出手段８２は、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出するものであり、基材１２に向かって光を照射すると共に、ドラム３２から反射された光を受光することにより、保護フィルム１４の有無を検出する。
第１検出手段８２は、検出結果を制御手段５０に供給する。
【００６８】
第１検出手段８２と第２検出手段４８とを、ドラム３２に巻き掛けられた積層体１６（基材１２）に対面する位置に配置する構成とすることで、基材１２がドラム３２に巻き掛かった状態で、保護フィルム１４を基材１２から剥離することができるので、保護フィルム１４の剥離の際に、基材１２が揺動することを防止でき、より好適に安定して基材１２の搬送を行なうことができる。
【００６９】
また、図示例においては、第１検出手段４６と第２検出手段４８とを、ドラム３２の直上流のガイドローラ４４と、ドラム３２との間に配置したが、本発明はこれに限定はされず、処理手段３４よりも上流側に配置されていればよく、例えば、ガイドローラ４４とテンションピックロール３０との間に配置してもよい。
【００７０】
図３は、本発明の製造方法を実施する処理装置の他の一例を概念的に示す図である。
なお、図３に示す処理装置１００は、図１に示す処理装置１０において、剥離点Ｐおよび第１検出手段４６をテンションピックロール３０とガイドローラ４４との間に配置し、第２検出手段４８に代えて、第２検出手段１０４を有する以外は、同じ構成を有するので、同じ部位には、同じ符号を付し、以下の説明は異なる部位を主に行なう。
【００７１】
処理装置１００は、第１検出手段４６と第２検出手段１０４、および、剥離点Ｐが、テンションピックロール３０とガイドローラ４４との間に配置される構成を有する。
第２検出手段１０４は、基材１２上の保護フィルム１４の有無を検出するものであり、光照射部１０４ａと受光部１０４ｂとを有する。
【００７２】
光照射部１０４ａと受光部１０４ｂとは、基材１２（積層体１６）を挟むように配置されており、光照射部１０４ａは基材１２（積層体１６）を挟んで配置される受光部１０４ｂに向かって光を照射するものである。受光部１０４ｂは、光照射部１０４ａから照射された光の状態から、保護フィルム１４の有無を検出する。
第２検出手段１０４は、検出結果を制御手段５０に供給する。
【００７３】
このように、第１検出手段４６と第２検出手段４８とを、テンションピックロール３０とガイドローラ４４との間に配置した場合であっても、保護フィルム１４を剥離させる剥離力を適正な値にすることができ、基材１２と保護フィルム１４とを所定の位置で剥離させることができる。そのため、保護フィルム１４が剥離されずに搬送されてしまうことがない。また、剥離力が大きすぎて、基材１２の搬送テンションが緩んで、ツレシワが発生したり、熱ダメージを受けて、基材１２が損傷することを防止することができる。
なお、基材１２の表面（被処理面）を好適に保護できる点で、第１検出手段４６と第２検出手段４８とは、処理手段３４（ドラム３２）の直上流に配置することが好ましい。
【実施例】
【００７４】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。
［実施例１］
図１に示す処理装置１０を用いて、積層体の搬送を行なった。
基材１２として、厚さ１００μｍ、幅７００ｍｍのＰＥＴフィルムを用意した。
また、保護フィルム１４として、幅７００ｍｍのサンエー化研社製のＰＡＣ−３−５０ＴＨＫを用意した。この粘着性シートの粘着力は、０．０４Ｎ／２５ｍｍである。
また、真空チャンバ２６内の真空度は、５×１０−４Ｐａとした。
また、処理手段３４による処理として、プラズマＣＶＤ法によるＳｉＮ膜の成膜を行なった。
また、ドラム３２は冷却手段を有し、基材１２を冷却する構成とした。
また、搬送速度は、１ｍ／ｍｉｎとし、搬送テンションは、５０Ｎ／７００ｍｍとして、５００ｍの積層体１６の搬送を行なった。
【００７５】
基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。
なお、基材の熱負けは、処理後に基材を取り出して確認した。また、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常は、真空チャンバ２６に形成された除き窓から、積層体１６を目視して評価した。
基材の熱負けが発生した場合を『Ａ』、基材のツレシワが発生した場合を『Ｂ』、保護フィルムの剥離異常が発生した場合を『Ｃ』、異常なしの場合を『Ｎ』と評価した。
評価結果を、下記表１に示す。
【００７６】
［実施例２］
第１検出手段および第２検出手段をテンションピックロールとガイドローラとの間に配置する構成（図３）とした以外は、実施例１と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００７７】
［比較例１］
第１検出手段を配置せず、第２検出手段のみを有する構成とした以外は、実施例１と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００７８】
［比較例２］
第１検出手段を配置せず、第２検出手段のみを有する構成とした以外は、実施例２と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００７９】
［比較例３］
第１検出手段および第２検出手段を有さない構成とした以外は、実施例１と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００８０】
［比較例４］
第１検出手段および第２検出手段を有さない構成とした以外は、実施例２と同様にして機能性フィルムの製造を行い、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常の有無を、５０ｍごとに評価した。評価結果を、下記表１に併記する。
【００８１】
【表１】
【００８２】
上記表１に示されるように、本発明の機能膜の製造方法においては、第１検出手段および第２検出手段が、保護フィルムの有無を検出し、この検出結果に応じて、第２巻取り軸が保護フィルムを巻き取る際の、第２巻取り軸のトルクおよび回転速度を制御することによって、保護フィルムと基材との剥離が所定の範囲内で起こるようにするので、基材の熱負け、基材のツレシワ、および、保護フィルムの剥離異常を好適に防止できる。
なお、第１検出手段および第２検出手段をテンションピックロール３０とガイドローラ４４との間に配置する実施例２においては、保護フィルム１４を剥離した基材１２の表面の損傷を防止するために、ガイドローラ４４として段付きローラを用いたところ、ガイドローラ４４の位置で若干、クニックが発生した。これに対して、第１検出手段および第２検出手段をドラム３２（処理手段３４）の直上流に配置する実施例１においては、処理手段３４の直前まで、基材１２の表面を保護フィルム１４で保護しているので、ガイドローラ４４として段付きローラを用いる必要がなく、より好適に基材１２の損傷を防止できる。
【００８３】
これに対して、検出手段を１つにした比較例１および２においては、保護フィルムの剥離異常は抑制できるものの、剥離力が大きくなりすぎて基材の搬送テンションが緩んでしまうので、２５０ｍ以降に、基材の熱負けや基材のツレシワが断続的に発生した。
また、検出手段を有さない比較例３および４においては、２００ｍ以降に、保護フィルムが基材から剥離されず、剥離異常が発生した。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
基材の表面にガスバリア膜を成膜するガスバリアフィルムの製造など、基材の表面に所定の機能を発現する機能性フィルムの製造等に、好適に利用可能である。
【符号の説明】
【００８５】
１０、８０、１００ 処理装置
１２ 基材
１４ 保護フィルム
１６ 積層体
２０ 機能性フィルム
２４ 基材ロール
２６ 真空チャンバ
２８ 回転軸
３０、３８ テンションピックロール
３２ ドラム
３６ 巻取り軸
４０ 第２巻取り軸
４２ 真空排気手段
４４ ガイドローラ
４６、８２、 第１検出手段
４６ａ、１０４ａ 光照射部
４６ｂ、１０４ｂ 受光部
４８、１０４ 第２検出手段
５０ 制御手段
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空中において、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記基材から前記保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に処理を行うに際し、
前記処理を行なう前の前記積層体の搬送中に、所定の第１の検出位置で、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出し、
前記第１の検出位置と前記処理との間の、所定の第２の検出位置で、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出し、
前記第１の検出位置と前記第２の検出位置での検出結果に応じて、前記第１の検出位置と前記第２の検出位置との間で、前記保護フィルムが前記基材から剥離するように、剥離力を制御することを有することを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記第２の検出位置で、前記保護フィルムが検出された場合に、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力が大きくなるように制御する請求項１に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記第１の検出位置で、前記保護フィルムが検出されなかった場合に、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力が小さくなるように制御する請求項１または２に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記処理は、前記基材を円筒状のドラムの周面に巻き掛けて、長手方向に搬送しつつ、前記ドラムの周面に対面して配置された処理手段によって行なうものである請求項１〜３のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記第２の検出位置は、前記処理手段と前記ドラムの直上流側の搬送ロールとの間に配置される請求項４に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記第２の検出位置は、前記基板が前記ドラムに巻き掛かけられている位置に配置される請求項５に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記ドラムの周面を冷却する冷却手段を有する請求項４〜６のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記保護フィルムの巻取り手段のトルクおよび／または回転速度を制御することにより、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力を制御する請求項１〜７のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記第１の検出位置で前記保護フィルムの有無を検出する第１検出手段、および、前記第２の検出位置で前記保護フィルムの有無を検出する第２検出手段が、光の透過率を検出することにより、前記保護フィルムの有無を検出するものである請求項１〜８のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
真空中で、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記基材から前記保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に成膜処理を行う機能性フィルムの製造装置において、
前記基材から剥離した前記保護フィルムを巻き取る巻取り手段と、
前記基材に所定の処理を行なう処理手段と、
前記基材の搬送方向において、前記処理手段よりも上流側に配置され、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出する第１検出手段と、
前記処理手段と前記第１検出手段との間に配置され、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出する第２検出手段と、
前記第１検出手段および前記第２検出手段の検出結果に応じて、前記第１検出手段と前記第２検出手段との間で、前記保護フィルムが前記基材から剥離するように、前記巻取り手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする機能性フィルムの製造装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記第２検出手段が前記保護フィルムを検出した場合に、前記巻取り手段のトルクおよび／または回転速度が大きくなるように制御する請求項１０に記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１２】
前記制御手段は、前記第１検出工程で前記保護フィルムを検出しなかった場合に、前記巻取り手段のトルクおよび／または回転速度が小さくなるように制御する請求項１０または１１に記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１３】
前記第２検出手段は、前記処理手段と前記処理手段の直上流側の搬送ロールとの間に配置される請求項１０〜１２のいずれかに記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１４】
周面が前記処理手段に対面するように配置され、前記基板を周面の所定領域に巻き掛けて搬送する円筒状のドラムを有する請求項１０〜１３のいずれかに記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１５】
前記第２検出手段は、前記基板が前記ドラムに巻き掛かけられている位置で、前記基板上の前記保護フィルムの有無を検出する請求項１４に記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１６】
前記ドラムの周面を冷却する冷却手段を有する請求項１４または１５に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項１７】
前記第１検出手段、および、前記第２検出手段が、光の透過率を検出することにより、前記保護フィルムの有無を検出するものである請求項１０〜１６のいずれかに記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１】
真空中において、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記基材から前記保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に処理を行うに際し、
前記処理を行なう前の前記積層体の搬送中に、所定の第１の検出位置で、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出し、
前記第１の検出位置と前記処理との間の、所定の第２の検出位置で、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出し、
前記第１の検出位置と前記第２の検出位置での検出結果に応じて、前記第１の検出位置と前記第２の検出位置との間で、前記保護フィルムが前記基材から剥離するように、剥離力を制御することを有することを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記第２の検出位置で、前記保護フィルムが検出された場合に、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力が大きくなるように制御する請求項１に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記第１の検出位置で、前記保護フィルムが検出されなかった場合に、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力が小さくなるように制御する請求項１または２に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記処理は、前記基材を円筒状のドラムの周面に巻き掛けて、長手方向に搬送しつつ、前記ドラムの周面に対面して配置された処理手段によって行なうものである請求項１〜３のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記第２の検出位置は、前記処理手段と前記ドラムの直上流側の搬送ロールとの間に配置される請求項４に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記第２の検出位置は、前記基板が前記ドラムに巻き掛かけられている位置に配置される請求項５に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記ドラムの周面を冷却する冷却手段を有する請求項４〜６のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記保護フィルムの巻取り手段のトルクおよび／または回転速度を制御することにより、前記保護フィルムを剥離させる際の剥離力を制御する請求項１〜７のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記第１の検出位置で前記保護フィルムの有無を検出する第１検出手段、および、前記第２の検出位置で前記保護フィルムの有無を検出する第２検出手段が、光の透過率を検出することにより、前記保護フィルムの有無を検出するものである請求項１〜８のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
真空中で、基材の被処理面に貼着性を有する保護フィルムを積層して貼着してなる積層体を、ロール状に巻回してなる積層体ロールから、前記積層体を引き出し、長手方向に搬送しつつ、前記基材から前記保護フィルムを剥離し、前記基材の被処理面に成膜処理を行う機能性フィルムの製造装置において、
前記基材から剥離した前記保護フィルムを巻き取る巻取り手段と、
前記基材に所定の処理を行なう処理手段と、
前記基材の搬送方向において、前記処理手段よりも上流側に配置され、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出する第１検出手段と、
前記処理手段と前記第１検出手段との間に配置され、前記基材上の前記保護フィルムの有無を検出する第２検出手段と、
前記第１検出手段および前記第２検出手段の検出結果に応じて、前記第１検出手段と前記第２検出手段との間で、前記保護フィルムが前記基材から剥離するように、前記巻取り手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする機能性フィルムの製造装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記第２検出手段が前記保護フィルムを検出した場合に、前記巻取り手段のトルクおよび／または回転速度が大きくなるように制御する請求項１０に記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１２】
前記制御手段は、前記第１検出工程で前記保護フィルムを検出しなかった場合に、前記巻取り手段のトルクおよび／または回転速度が小さくなるように制御する請求項１０または１１に記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１３】
前記第２検出手段は、前記処理手段と前記処理手段の直上流側の搬送ロールとの間に配置される請求項１０〜１２のいずれかに記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１４】
周面が前記処理手段に対面するように配置され、前記基板を周面の所定領域に巻き掛けて搬送する円筒状のドラムを有する請求項１０〜１３のいずれかに記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１５】
前記第２検出手段は、前記基板が前記ドラムに巻き掛かけられている位置で、前記基板上の前記保護フィルムの有無を検出する請求項１４に記載の機能性フィルムの製造装置。
【請求項１６】
前記ドラムの周面を冷却する冷却手段を有する請求項１４または１５に記載の機能性フィルムの製造方法。
【請求項１７】
前記第１検出手段、および、前記第２検出手段が、光の透過率を検出することにより、前記保護フィルムの有無を検出するものである請求項１０〜１６のいずれかに記載の機能性フィルムの製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１２−１７７１７９（Ｐ２０１２−１７７１７９Ａ）
【公開日】平成２４年９月１３日（２０１２．９．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−４１４４６（Ｐ２０１１−４１４４６）
【出願日】平成２３年２月２８日（２０１１．２．２８）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年９月１３日（２０１２．９．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月２８日（２０１１．２．２８）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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