水中分散性化粧料用粉体
【課題】 水中分散性に優れた化粧料用粉体及びこれを配合した化粧料を提供すること。
【解決手段】 下記式（１）で示されるホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合していることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体及びこれを配合した化粧料。さらに、粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする水中分散性化粧料粉体の製造法。
（１）
【解決手段】 下記式（１）で示されるホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合していることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体及びこれを配合した化粧料。さらに、粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする水中分散性化粧料粉体の製造法。
（１）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は化粧料用粉体に関する。さらに詳しくは、ホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合し、水中分散性に優れた化粧料用粉体及びこれを配合した化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
ホスホリルコリン基を有する重合体は生体適合性高分子として検討されており、この重合体を各種基剤に被覆させた生体適合性材料が開発されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、２−メタクロイルオキシエチルホスホリルコリンの単独重合体及び共重合体で被覆した粉末を、化粧料用粉末として利用して保湿性や皮膚密着性を改善した化粧料が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２及び特許文献３には、ホスホリルコリン基を有する重合体で被覆した医療用材料や分離剤が開示されている。
【０００５】
上記の材料は、主に水酸基を有するアクリル系モノマーと２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホラン−２−オキシドを反応させ、更にトリメチルアミンにより４級アンモニウムとすることによりホスホリルコリン構造を有するモノマーを合成しこれを重合して得られる重合体により、その表面が被覆されたものである（重合体の製造方法に関しては特許文献４及び５を参照）。
【０００６】
特許文献４には、２−メタクロイルオキシエチルホスホリルコリンとメタクリル酸エステルの共重合体が製造され、特許文献５には２−メタクロイルオキシエチルホスホリルコリンの単独重合体が製造されている。
【０００７】
一方、従来、顔料を水に分散させようとする場合、金属酸化物のような無機顔料では、一般的に親水性が高いにも関わらず水中で顔料粒子同士が凝縮しすぐに沈降してしまう。
そこで、さらに親水性を上げ分散安定性を向上させるために、等電点がアルカリ性側にあるアルミナや等電点が酸性側にあるシリカで顔料粒子表面を被覆するという方法が一般的に採られている。
【０００８】
また、水に対して分散性の良好な粉体と混合して顆粒状にしたり、界面活性剤で処理して水に対する分散性を高めたりしている（特許文献６）。
一方、白濁性の入浴剤に使用される二酸化チタンでは、アシル化アミノ酸系界面活性剤や、ポリエチレングリコールのような分散性非イオン界面活性剤と脂肪酸石ケンで被覆するという方法が採られている。（特許文献７、８）。
【０００９】
また、カーボンブラックのような疎水性が強い無機粉体は水には容易に分散されないため、水分散液を調整することはきわめて難しい。そのため、カーボンブラックではその親水性を上げるため、酸化反応により水酸基やカルボキシル基を導入する試みや（特許文献９）、プラズマ照射により水酸基のような親水性の官能基を導入する試み（特許文献１０）が採用されていた。
【００１０】
【特許文献１】特開平７−１１８１２３号公報
【特許文献２】特開２０００−２７９５１２号公報
【特許文献３】特開２００２−９８６７６号公報
【特許文献４】特開平９−３１３２号公報
【特許文献５】特開平１０−２９８２４０号公報
【特許文献６】特開平７−１９６４３５号公報
【特許文献７】特公平７−１７４９４号公報
【特許文献８】特開平３−２９４２２０号公報
【特許文献９】特開平１１−１４８０２７号公報
【特許文献１０】特開２０００−０４４８２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、ホスホリルコリン基を有する重合体により、粉体の表面を被覆して改質する方法では、表面全体を効果的に被覆することは難しい。また、被覆した重合体が粉体から剥離するため、耐久性に問題が生じる場合がある。さらには、粉体の表面が重合体により被覆されるため、ホスホリルコリン基による生体適合性等の目的とする機能を付与する目的から逸脱して、化粧料用粉体自体に要求されている基本的性質が失われる場合もある。
【００１２】
また、粉体の分散性を改良するための上記の方法は、適用できる粉体の種類が限定されるだけでなく、化粧料用粉体に要求される、水中にて経時で安定的に分散性を保つ方法ではなかった。
【００１３】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされた発明であり、ホスホリルコリン基を粉体表面に直接的に共有結合させて、水中分散性に優れた化粧料用粉体及びこれを配合した化粧料を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
すなわち、本発明は、下記式（１）で示されるホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合していることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体を提供するものである。
【化４】
（１）
【００１５】
また、本発明は、前記粉体が、表面に水酸基を有する粉体であることを特徴とする上記の化粧料用粉体を提供するものである。
【００１６】
さらに、本発明は、粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする上記の化粧料用粉体の製造方法を提供するものである。
【００１７】
また、本発明は、粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする上記の化粧料用粉体の製造方法を提供するものである。
【００１８】
さらに、本発明は、粉体表面に直接的に下記式（２）及び／又は（３）で示される化合物を反応させて得られることを特徴とする上記の化粧料用粉体の製造方法を提供するものである。
【化５】
（２）
【化６】
（３）
式中、ｍは２〜６、ｎは１〜４である。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、それぞれ単独に、メトキシ基、エトキシ基またはハロゲンである。ただし、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3のうち、２つまではメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基のいずれでも良い。
【００１９】
さらに、本発明は、上記の水中分散性化粧料用粉体を含有することを特徴とする化粧料を提供するものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の化粧料用粉体は水中分散性の効果に優れた粉体であり、専ら化粧料の配合原料として使用される粉体である。特に高分散性粉体として、各種の粉体配合化粧料原料として極めて有用である。
【００２１】
本発明の化粧料用粉体は、ホスホリルコリン基を有する重合体で被覆することによりホスホリルコリン基を導入した粉体と比較して、重合体の剥れによりホスホリルコリン基を失うことがないという利点を有する。また、重合体で被覆されていないので、粉体自体の表面特性をすべて殺すことがないという利点を有する。例えば、粉体表面が有する立体的な数ｎｍ程度の微細構造（微細孔など）を埋めることなく表面をホスホリルコリン基で被覆することが可能である。また、本発明の化粧料用粉体は、化粧料中に分散させておきたいタンパク質や脂質等の配合原料がある場合には、粉体への吸着を防止して吸着変性を防止する効果をも有する。
【００２２】
本発明の製造方法によれば、化粧料に配合を希望する各種化粧料用粉体の表面を、簡便な反応によって、希望する任意の量のホスホリルコリン基を付与することが可能である。その結果、ホスホリルコリン基により希望する機能を有する化粧料用改質粉体が容易に提供できる。
このように製造された本発明の化粧料用粉体は各種化粧料に有効に配合される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の化粧料用粉体において、式（１）のホスホリルコリン基が化粧料用粉体表面に直接的に共有結合しているとは、ホスホリルコリン基が化粧料用粉体表面の官能基に化学的な結合状態によって導入されていることを意味し、ホスホリルコリン基を有する重合体で被覆することによりホスホリルコリン基を導入した化粧料用粉体表面は含まないという意味である。
なお、式（１）のホスホリルコリン基が、素材表面と官能基に共有結合により導入されている限り、ホスホリルコリン基との官能基の間に任意のスペーサーが入っていてもかまわない。
【００２４】
粉体は化粧料に使用される粉体であれば限定されない。用いる粉体は特に制限されない。
粉体とは一般に平均粒径０．０１〜１００μｍ程度の任意の物体を意味する。具体的な粉体としては、例えば、無機粉末（例えば、タルク、カオリン、雲母、絹雲母(セリサイト)、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、パーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、マグネシウム、シリカ、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、リン酸カルシウム、弗素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、金属石鹸(例えば、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム)、窒化ホウ素、酸化セリウム等）；有機粉末（例えば、ポリアミド樹脂粉末(ナイロン粉末)、ポリエチレン粉末、ポリメタクリル酸メチル粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、ポリ四弗化エチレン粉末、ポリメチルシルセスキオキサン粉末、シリコーンエラストマー粉末、セルロース粉末等）；無機白色顔料（例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛等）；無機赤色系顔料（例えば、酸化鉄(ベンガラ)、チタン酸鉄等）；無機褐色系顔料（例えば、γ−酸化鉄等）；無機黄色系顔料（例えば、黄酸化鉄、黄土等）；無機黒色系顔料（例えば、黒酸化鉄、低次酸化チタン等）；無機紫色系顔料（例えば、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット等）；無機緑色系顔料（例えば、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルト等）；無機青色系顔料（例えば、群青、紺青等）；パール顔料（例えば、酸化チタンコーテッドマイカ、酸化チタンコーテッドオキシ塩化ビスマス、酸化チタンコーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマス、魚鱗箔等）；金属粉末顔料（例えば、アルミニウムパウダー、カッパーパウダー等）；ジルコニウム、バリウム又はアルミニウムレーキ等の有機顔料（例えば、赤色２０１号、赤色２０２号、赤色２０４号、赤色２０５号、赤色２２０号、赤色２２６号、赤色２２８号、赤色４０５号、橙色２０３号、橙色２０４号、黄色２０５号、黄色４０１号、及び青色４０４号などの有機顔料、赤色３号、赤色１０４号、赤色１０６号、赤色２２７号、赤色２３０号、赤色４０１号、赤色５０５号、橙色２０５号、黄色４号、黄色５号、黄色２０２号、黄色２０３号、緑色３号及び青色１号等）；天然色素（例えば、クロロフィル、β−カロチン等）等が挙げられる。
本発明においては表面に水酸基を有する粉体が好ましい。好ましく使用される粉体は、シリカ、タルク、カリオン、雲母、絹雲母（セリサイト）、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、パーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、マグネシウム、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、リン酸カルシウム、弗素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、窒化ホウ素等の化粧料用顔料粉体、二酸化チタン、酸化亜鉛等の化粧料用白色顔料、酸化鉄（ベンガラ）、チタン酸鉄、γ−酸化鉄、黄酸化鉄、黄土、黒酸化鉄、カーボンブラック、低次酸化チタン、マンゴバイオレット、コバルトバイオレット、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルト、群青、紺青等の着色顔料、酸化チタンコーテッドマイカ、酸化チタンコーテッドオキシ塩化ビスマス、酸化チタンコーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマス等のパール顔料、アルミニウムパウダー、カッパーパウダー等の金属粉末顔料等が挙げられる。
【００２５】
「粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させる、或いは粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることによる、水中高分散性化粧料用粉体の製造方法」
例えば、下記のステップにより製造される。すでに化粧料用粉体表面にアミノ基を有しており、それ以上のアミノ基を導入する必要がない場合は、ステップ１は省略される。
【００２６】
ステップ１：任意の化粧料用粉体に、公知の方法若しくは今後開発される方法にてアミノ基を導入する。アミノ基は粉体表面に直接的に導入される。直接的とは、アミノ基を有する重合体で被覆する方法は含まないことを意味する。アミノ基は一級アミン若しくは二級アミンである。
ステップ２：アミノ基を有する粉体に対し、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られたアルデヒド体あるいはハイドレート体あるいはカルボキシル体を、還元的アミノ化反応またはアミド化によって、ホスホリルコリン基を化粧料用粉体表面に直接的に付加させる。グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られたカルボキシル体を用いる場合は、表面の水酸基とエステル化によって、ホスホリルコリン基を化粧料用粉体表面に直接的に付加させることも可能である。
これらの粉体にアミノ基または水酸基を導入する公知の方法（ステップ１）としては、下記が挙げられる。
【００２７】
１．プラズマ処理の表面反応によるアミノ基の導入
窒素ガス雰囲気下で低温プラズマにより粉体表面にアミノ基を導入する。具体的には粉体をプラズマ反応容器内に収容し、反応容器内を真空ポンプで真空にした後、窒素ガスを導入する。続いてグロー放電により、粉体表面にアミノ基を導入できる。
また、酸素ガス雰囲気下または酸素ガス、水素ガス雰囲気下で低温プラズマにより粉体表面に水酸基を導入することも可能である。具体的には、粉体をプラズマ反応容器内に収容し、反応容器内を真空ポンプで真空にした後、酸素ガスまたは酸素ガス、水素ガスを導入する。続いてグロー放電により、粉体表面に水酸基を導入できる。
プラズマ処理した粉体を機械的に粉体化することも可能である。プラズマ処理に関する文献を下記に示す。
1. M. Muller, C. oehr
Plasma aminofunctionalisation of PVDF microfiltration membranes: comparison of the in plasma modifications with a grafting method using ESCA and an amino-selective fluorescent probe
Surface and Coatings Technology 116-119 (1999) 802-807
2. Lidija Tusek, Mirko Nitschke, Carsten Werner, Karin Stana-Kleinschek, Volker Ribitsch
Surface characterization of NH3 plasma treated polyamide 6 foils
Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects 195 (2001) 81-95
3. Fabienne Poncin-Epaillard, Jean-Claude Brosse, Thierry Falher
Reactivity of surface groups formed onto a plasma treated poly (propylene) film
Macromol. Chem. Phys. 200. 989-996 (1999)
【００２８】
２．表面改質剤によるアミノ基の導入
アミノ基を有するアルコキシシラン、クロロシラン、シラザンなどの表面改質剤を用いて、水酸基含有化粧料用粉体表面を処理する。
例えば、１級アミノ基を有する３−アミノプロピルトリメトキシシランにより、二酸化ケイ素を処理してアミノ基を導入する。具体的には、シリカを水−２−プロパノール混合液中に浸し、３−アミノプロピルトリメトキシシランを添加後、１００℃に加熱し６時間反応させる。室温に冷却後、シリカをメタノールで洗浄し、乾燥してアミノ基がシリカ表面に直接導入されたシリカ粉体が得られる。
本方法に好ましく使用される粉体は、シリカ、タルク、カリオン、雲母、絹雲母（セリサイト）、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、パーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、マグネシウム、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、リン酸カルシウム、弗素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、窒化ホウ素等の化粧料用顔料粉体、二酸化チタン、酸化亜鉛等の化粧料用白色顔料、酸化鉄（ベンガラ）、チタン酸鉄、γ−酸化鉄、黄酸化鉄、黄土、黒酸化鉄、カーボンブラック、低次酸化チタン、マンゴバイオレット、コバルトバイオレット、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルト、群青、紺青等の着色顔料、酸化チタンコーテッドマイカ、酸化チタンコーテッドオキシ塩化ビスマス、酸化チタンコーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマス等のパール顔料、アルミニウムパウダー、カッパーパウダー等の金属粉末顔料等が挙げられる。
【００２９】
次に、アミノ化された粉体表面にホスホリルコリン基を導入する方法（ステップ２）を以下に示す。
ステップ１で得られた化粧料用粉体をメタノール中に浸漬し、ホスファチジルグリセロアルデヒドを添加後、室温で６時間放置する。そして、シアノホウ素酸ナトリウムを０℃で添加、一晩加熱攪拌し、アミノ基にホスホリルコリン基を付加させる。化粧料用粉体をメタノールで洗浄後、乾燥し、ホスホリルコリン基を表面に直接有する化粧料用粉体が得られる。反応溶媒はメタノール以外にも水、エタノール、２−プロパノール等プロトン性溶媒であれば使用可能であるが、メタノールを用いた場合の導入率が高い傾向にある。
または、ホスホリルコリン基を有するカルボキシル体をアセトニトリル中で塩化チオニルやオキザリルクロライドと一定時間反応させて生成したカルボン酸塩化物に、ステップ１で得られた化粧料用粉体を添加し、室温で６時間攪拌し、アミノ基にホスホリルコリン基を付加させる。
【００３０】
表面改質剤に３−アミノプロピルトリメトキシシランを用いて、ホスホリルコリン基を導入する方法のスキームをシリカの例にとって下記に示す。
ステップ１「シリカ表面のアミノプロピル化（一般的な手法）」
【化７】
ステップ２「ホスホリルコリン基の導入（アルデヒド経由）」
【化８】
ステップ２「ホスホリルコリン基の導入（カルボン酸経由）」
【化９】
【００３１】
上記で説明したように、アミノ基を有する化粧料用粉体を調製し、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られたアルデヒド体あるいはハイドレート体との還元的アミノ化反応によりホスホリルコリン基が化粧料用粉体表面に直接付加した化粧料用粉体を製造する方法よって、本発明の化粧料用粉体が容易に得られ、かつ様々な化粧料用粉体の表面を修飾できるという大きな利点がある。
また、アミノ基を有する化粧料用粉体を調製し、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られたカルボキシル体とのアミド化反応によって、同様にホスホリルコリン基が化粧料用粉体表面に直接付加した化粧料用粉体を製造することも可能である。
上記の製造方法において、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物は、公知のグリセロホスホリルコリン基を、公知の方法により酸化的解裂を行わせるもので、極めて簡単なステップである。例えば、１，２−ジオールを過ヨウ素酸、或いは過ヨウ素酸塩を用いて酸化することにより結合を解裂させ、アルデヒド体が得られる。反応は通常水中または水を含む有機溶媒中で行われる。反応温度は０度から室温である。アルデヒド体は水中で平衡反応を経てハイドレートとなることもあるが、続くアミンとの反応には影響しない。下記にホスホリルコリン基を含有する一官能のアルデヒド体を調製するスキームの一例を示す。
【化１０】
【００３２】
「粉体表面に直接的に式（２）で示される化合物を反応させることによる、水中分散性化粧料用粉体の製造方法」
下記式（４）に示したホスホリルコリン誘導体を蒸留水に溶解させる。下記式（４）のホスホリルコリン誘導体は公知の化合物であり市販品を入手できる。
【化１１】
（４）
【００３３】
式（４）の化合物の水溶液を氷水浴中で冷却し、過ヨウ素酸ナトリウムを添加し、５時間攪拌した。反応液を減圧濃縮、減圧乾燥し、メタノールにより下記式（５）に示すアルデヒド基を有するホスホリルコリン誘導体を抽出する。
【化１２】
（５）
【００３４】
次に、式（５）のメタノール溶液に３−アミノプロピルトリメトキシシランを０．９当量添加する。この混合溶液を室温で所定時間撹拌したのち、氷冷し、シアノヒドロホウ素化ナトリウムを適量添加し、室温に戻して１６時間撹拌する。この間も反応容器には乾燥窒素を流し続ける。沈殿をろ過した後、式（６）のメタノール溶液を得る。なお、このメタノール溶液には、式（７）の化合物も副生成物として含まれる。
【化１３】
（６）
【化１４】
（７）
【００３５】
次に、式（６）の化合物を含有する０．３ｍｍｏｌ／ｍＬ程度の濃度のメタノール溶液２０ｍＬに、蒸留水２０ｍＬを加え、改質したい粉体を添加する。粉体の質量はその比表面積によって調整する必要がある。例えば、１００ｍ2／ｇの粉体の場合、その添加量は１０ｇ程度が適当である。この粉体分散液をオイルバス中８０℃で還流し、５時間後に粉体をろ過し、メタノールで洗浄し、８０℃で３時間減圧乾燥することで、本発明の水中高分散性化粧料用粉体が得られる。
【００３６】
「粉体表面に直接的に式（３）で示される化合物を反応させることによる、水中分散性化粧料用粉体の製造方法」
下記式（４）に示したホスホリルコリン誘導体を蒸留水に溶解させる。下記式（４）のホスホリルコリン誘導体は公知の化合物であり市販品を入手できる。
【化１５】
（４）
式（４）の化合物の水溶液を氷水浴中で冷却し、過ヨウ素酸ナトリウム、三塩化ルテニウムを添加し、３時間攪拌した。反応液をろ過、減圧濃縮、減圧乾燥し、メタノールにより下記式（８）に示すカルボキシル基を有するホスホリルコリン誘導体を抽出する。
【化１６】
（８）
次に、アセトニトリルに式（８）及び塩化チオニルを添加、所定時間攪拌した後、２当量のトリエチルアミンと３−アミノプロピルトリメトキシシランを０．９当量添加する。この混合溶液を室温で所定時間撹拌する。この間も反応容器には乾燥窒素を流し続ける。沈殿をろ過した後、式（７）のアセトニトリル溶液を得る。
【化１７】
（７）
次に式（７）を含有する０．３ｍｍｏｌ／ｍＬ程度の濃度のアセトニトリル溶液２０ｍＬに、蒸留水１０ｍＬ、メタノール１０ｍｌを加え、改質したい粉体を添加する。粉体の質量はその比表面積によって調整する必要がある。例えば、１００ｍ2／ｇの粉体の場合、その添加量は１０ｇ程度が適当である。この粉体分散液をオイルバス中８０℃で還流し、５時間後に粉体をろ過し、メタノールで洗浄し、８０℃で３時間減圧乾燥することで、本発明の水中高分散性化粧料用粉体が得られる。
【００３７】
本発明の水中高分散性化粧料用粉体は任意の化粧料に配合される。化粧料は限定されないが、特に、Ｏ／Ｗ乳化化粧料、化粧水などの、粉体を水中に高分散させる化粧料や製造過程に粉体を高分散させる工程を有する製品に配合することが好ましい。
その配合量は、化粧料の種類、目的によって適宜決定され、特に限定されないが、化粧料全量に対して通常０．１〜９５質量％程度の範囲である。製品の種類に応じて、例えば、粉末２層化粧水の場合は０．１〜１０質量％、Ｏ/Ｗ型乳化ファンデーションや粉体含有クリーム、Ｏ/Ｗ型乳化サンスクリーンの場合は１〜５０質量％、パウダリーファンデーション、スティックファンデーションの場合は１０〜９５質量％の配合量が好ましい場合もある。
【００３８】
本発明の化粧料は、水中高分散性化粧料用粉体の他に、通常化粧品に用いられる他の成分を配合して製造される。例えば、通常の粉体成分、液体油脂、固体油脂、ロウ、炭化水素油、高級脂肪酸、高級アルコール、エステル油、シリコーン油、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤、保湿剤、水溶性高分子、増粘剤、皮膜剤、紫外線吸収剤、金属イオン封鎖剤、低級アルコール、多価アルコール、糖、アミノ酸、有機アミン、高分子エマルジョン、pＨ調整剤、皮膚栄養剤、ビタミン、酸化防止剤、酸化防止助剤、香料、水等を必要に応じて適宜配合し、目的とする剤形に応じて常法により製造することが出来る。
【実施例】
【００３９】
次に本発明を実施例に基づきさらに詳しく説明する。なお、本発明はこれらの実施例に
限定されるものではない。配合量は特に断わりのない限り、全量に対する質量％である。
【００４０】
「合成例１ ホスホリルコリン基を含有するアルデヒド化合物」
１−α−グリセロホスホリルコリン（４５０ｍｇ）を蒸留水１５ｍｌに溶解し、氷水浴中で冷却した。過ヨウ素酸ナトリウム（７５０ｍｇ）を添加し、５時間攪拌した。反応液を減圧濃縮、減圧乾燥し、メタノールにより目的物を抽出した。下記化合物（５）に構造を示す。式（５）の化合物の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１に示す。
【化１８】
（５）
【００４１】
「合成例２ 式（２）のホスホリルコリン基含有化合物」
合成例１の化合物７．５ｇを含むメタノール溶液を脱水したメタノール３０ｍＬに溶解させ、容器内を乾燥窒素で置換する。次に、化合物１のメタノール溶液に3-アミノプロピルトリメトキシシランを５．４ｇ添加した。この混合溶液を、室温で5時間撹拌したのち、氷冷し、シアノヒドロホウ素化ナトリウム２．５ｇを添加し、室温に戻して１６時間撹拌した。この間も反応容器には乾燥窒素を流し続けた。沈殿をろ過し目的物質である下記式（６）の化合物｛式（２）でｍ＝３、ｎ＝２｝のメタノール溶液を得た。
【化１９】
（６）
【００４２】
「合成例３ ホスホリルコリン基を含有するカルボキシ化合物」
１−α−グリセロホスホリルコリン５ｇを水７０ｍｌ−アセトニトリル３０ｍｌに溶解した。氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム１７ｇと三塩化ルテニウム８０ｍｇを添加し、一晩攪拌した。沈殿物をろ過し、減圧濃縮、メタノール抽出により目的とするカルボキシメチルホスホリルコリン（８）３．８６ｇ（収率８２％）を得た。式（８）の化合物の１Ｈ−ＮＭＲを図２に示す。
【化２０】
（８）
【００４３】
「合成例４ 式（３）のホスホリルコリン基含有化合物」
化学式（８）に示すカルボキシメチルホスホリルコリン化合物３．８６ｇ及び塩化チオニル３ｇをアセトニトリルに氷冷下で添加、３０分間攪拌し、３−アミノプロピルトリメトキシシラン３．８ｇを及びトリエチルアミン３ｇ添加、反応容器には乾燥窒素を流し続け、３時間室温で攪拌して目的とする式（７）の化合物｛｛式（３）でｍ＝３、ｎ＝２｝のアセトニトリル溶液を得た。
【化２１】
（７）
【００４４】
「実施例１：粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることにより、水中高分散性化粧料用粉体の製造方法：２段階製造法」
５００ｍＬ三角フラスコに１００ｇのイオン交換水、１００ｇの２−プロパノール、５ｇの３−アミノプロピルトリメトキシシランを入れ、かき混ぜた。
これに微粒子酸化亜鉛（粒径：0.02〜0.05μm）１０ｇを添加後、８０℃に加熱し５時間還流煮沸した。室温に冷却後、微粒子酸化亜鉛粉末をメタノール１００ｍＬで３回ろ過、洗浄し、減圧乾燥してアミノプロピル基の導入された微粒子酸化亜鉛粉体を得た。
次にアミノプロピル基が導入された微粒子酸化亜鉛粉末１０ｇ１００ｍｌのメタノールに入れ、合成例１により得られた化合物１ｇを含むメタノール溶液を混合し室温で５時間静置した。続いてこの混合液を氷浴中で冷却し、シアノヒドロホウ酸ナトリウム０．３ｇを添加し、室温で一晩撹拌した後、フィルターをろ過、メタノール１００ｍＬで３回洗浄、減圧乾燥して、式（１）のホスホリルコリン基を表面に直接有する微粒子酸化亜鉛粉体からなる、本発明の化粧料用粉体を得た。
【００４５】
「実施例２：粉体表面に直接的に式（２）で示される化合物を反応させることによる、水中分散性化粧料用粉体の製造方法：１段階製造法」
合成例２で製造した式（６）の化合物約１ｍｍｏｌを含むメタノール溶液５０ｍLに蒸留水５０ｍＬを加え微粒子酸化亜鉛粉末１０ｇを添加した。この粉体分散溶液を８０℃で５ｈ還流させ反応させた。還流後、メタノール１００ｍＬで３回ろ過、洗浄した後、乾燥することにより、本発明の式（１）のホスホリルコリン基を表面に直接有する微粒子酸化亜鉛粉体からなる、本発明の化粧料用粉体を得た。
【００４６】
「水中分散性の効果実験１」
実施例１、２の化粧料用粉体、式（１）のホスホリルコリン基で修飾していない微粒子酸化亜鉛粉体（比較例１）各１.０ｇを９９．０ｇのイオン交換水に十分懸濁させたあと、沈降容積管に入れ沈降容積が５０％になる時間を比較した。結果を下記［表１］に示す。
［表１］
――――――――――――――――――――――
実施例１の化粧料用粉体： 約７日後
実施例２の化粧料用粉体： 約７日後
比較例１の化粧料用粉体： 約３分後
――――――――――――――――――――――
【００４７】
これにより、本発明の化粧料用粉体は、式（１）のホスホリルコリン基で直接的に修飾することにより、大幅に水中での分散安定性が向上することが分った。
また、微粒子酸化亜鉛本来の性能（紫外線防御性能、色調等）は損なわれていないことも分った。
【００４８】
「実施例３：粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることによる、水中高分散性化粧料用粉体の製造方法：２段階製造法」
５００ｍＬ三角フラスコに１００ｇのイオン交換水、１００ｇの２−プロパノール、５ｇの３−アミノプロピルトリメトキシシランを入れ、かき混ぜた。
これに微粒子二酸化チタン（粒径：0.02〜0.05μm）１０ｇを添加後、８０℃に加熱し５時間還流煮沸した。室温に冷却後、微粒子二酸化チタン粉末をメタノール１００ｍＬで３回ろ過、洗浄し、減圧乾燥してアミノプロピル基の導入された微粒子二酸化チタン粉体を得た。
次にアミノプロピル基が導入された微粒子二酸化チタン粉末１０ｇと、合成例３により得られた化合物１ｇ及び塩化チオニル０．７ｇを１時間反応させたアセトニトリル溶液３０ｍｌ、トリエチルアミン０．５ｇを混合し室温で５時間攪拌した。続いてこの混合液をメタノール１００ｍＬで３回洗浄、減圧乾燥して、式（１）のホスホリルコリン基を表面に直接有する微粒子二酸化チタンからなる、本発明の化粧料用粉体を得た。
【００４９】
「実施例４：粉体表面に直接的に式（７）で示される化合物を反応させることによる、水中分散性化粧料用粉体の製造方法：１段階製造法」
合成例４で製造した式（７）の化合物約１ｍｍｏｌを含むアセトニトリル溶液２０ｍLにメタノール３０ｍｌと蒸留水１０ｍＬを加え微粒子二酸化チタン粉末１０ｇを添加した。この粉体分散溶液を８０℃で５ｈ還流させ反応させた。還流後、メタノール１００ｍＬで３回ろ過、洗浄した後、乾燥することにより、本発明の式（１）のホスホリルコリン基を表面に直接有する微粒子二酸化チタン粉体からなる、本発明の化粧料用粉体を得た。
【００５０】
「水中分散性の効果実験２」
実施例３、４の化粧料用粉体、式（１）のホスホリルコリン基で修飾していない微粒子二酸化チタン粉体（比較例２）各１.０ｇを９９．０ｇのイオン交換水に十分懸濁させたあと、沈降容積管に入れ沈降容積が５０％になる時間を比較した。結果を下記［表２］に示す。
［表２］
――――――――――――――――――――――
実施例３の化粧料用粉体： 約１０日後
実施例４の化粧料用粉体： 約１０日後
比較例２の化粧料用粉体： 約３０分後
――――――――――――――――――――――
【００５１】
これにより、本発明の化粧料用粉体は、式（１）のホスホリルコリン基で直接的に修飾することにより、大幅に水中での分散安定性が向上することが分った。
また、微粒子二酸化チタン本来の性能（紫外線防御性能、色調等）は損なわれていないことも分った。
【００５２】
「実施例５〜１２」
実施例１と同様の方法で、式（１）のホスホリルコリン基を導入する粉体を、シリカ（実施例５）、セリサイト（実施例６）、マイカ（実施例７）、タルク（実施例８）、カオリン（実施例９）、べンガラ（実施例１０）、黄酸化鉄（実施例１１）、黒酸化鉄（実施例１２）に変更して、式（１）のホスホリルコリン基修飾粉体を製造した。いずれの粉体も、本発明の製造方法により、式（１）のホスホリルコリン基を粉体表面に直接的に共有結合にて導入可能であることが分った。
【００５３】
「実施例１３〜２０」
実施例２と同様の方法で、式（１）のホスホリルコリン基を導入する粉体を、シリカ（実施例１３）、セリサイト（実施例１４）、マイカ（実施例１５）、タルク（実施例１６）、カオリン（実施例１７）、べンガラ（実施例１８）、黄酸化鉄（実施例１９）、黒酸化鉄（実施例２０）に変更して、ホスホリルコリン基修飾反応を行った。いずれの粉体も、本発明の製造方法で、式（１）のホスホリルコリン基を粉体表面に直接的に共有結合にて導入可能であることが分った。
【００５４】
＜化粧料における性能確認＞
「実施例２１ Ｏ/Ｗ型乳化ファンデーション」
（処方）
１）ホスホリルコリン基修飾酸化セリサイト（実施例６） １７．０
２）ホスホリルコリン基修飾酸化マイカ（実施例７） ２０．０
３）ホスホリルコリン基修飾酸化亜鉛（実施例１） ８．０
４）ホスホリルコリン基修飾ベンガラ（実施例１０） ０．３
５）ホスホリルコリン基修飾黄酸化鉄（実施例１１） １．２
６）ホスホリルコリン基修飾黒酸化鉄（実施例１２） ０．６
７）球状ポリエチレン粉体 ６．０
８）スクワラン １０．０
９）オリーブ油 １０．０
10）ステアリン酸 ２．０
11）グリセリルモノステアレート ２．０
12）POE（40）モノステアリン酸ソルビタン ２．０
13）グリセリン ５．０
14）トリエタノールアミン ０．８
15）ｐＨ調整剤 適量
16）防腐剤 適量
17）イオン交換水 残部
（製法）
１）〜12）を８５℃に加熱溶解する（油相）。17）に13）〜15）を添加し均一に分散する（水相）。水相中に油相を添加し、８５℃で１００分間保持して攪拌した後、16）を加え、攪拌冷却して４５℃とする。
上記のホスホリルコリン基を修飾した粉体を配合した化粧料は、粉体分散性の経時安定性が高く、使用性に優れるものであった。
【００５５】
「実施例２２ Ｏ/Ｗ型乳化化粧下地」
（処方）
１）イオン交換水 残部
２）グリセリン ２０．０
３）１，２−ペンタンジオール ３．０
４）１，３−ブチレングリコール １．０
５）流動パラフィン ７．５
６）イソステアリン酸 ０．５
７）アスコルビン酸（美白剤） ０．２
８）カミツレエキス（美白剤） ０．１
９）ユキノシタエキス（美白剤） ０．３
10）フタル酸ジ２−エチルヘキシル ０．３
11）ホスホリルコリン基修飾球状シリカ（実施例５） ４．０
12）ホスホリルコリン基修飾酸化亜鉛（実施例１） ５．０
13）ホスホリルコリン基修飾タルク（実施例８） ５．０
14）安定化剤 適量
15）香料 適量
（製法）
５）〜14）を８５℃に加熱溶解する（油相）。１）に２）〜４）を添加し均一に分散する（水相）。水相中に油相を添加し、８５℃で１００分間保持して攪拌した後、15）を加え、攪拌冷却して４５℃とする。
上記のホスホリルコリン基を修飾した粉体を配合した化粧料は、粉体分散性の経時安定性が高く、使用性に優れるものであった。
【００５６】
「実施例２３ ２層化粧水」
（処方）
１）グリセリン ４．０
２）ポリエチレングリコール(分子量1500) ３．０
３）エタノール(95％) １５．０
４）カンファー ０．１
５）液状フェノール（95％） ０．３
６）ホスホリルコリン基修飾酸化亜鉛（実施例２） ２．０
７）ホスホリルコリン基修飾カオリン（実施例１７） ２．０
８）ベントナイト １．５
９）ポリメチルシルセスキオキサン ０．０１
10）ジカプリン酸ネオペンチルグリコール ０．８
11）香料 ０．０１
12）エデント酸三ナトリウム ０．１
13）精製水 残部
（製法）
６)、７）、８）、９）を室温にて湿潤し同じく室温溶解した３）、４）、５）、１０）、１２）を同じく室温溶解した１）、２）、１１）、１３）の中へ均一混合した。
上記のホスホリルコリン基を修飾した粉体を配合した化粧料製品は粉体層の再分散性が良好で使用性に優れるものであった。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明の化粧料用粉体は水分散性に優れているので、粉体の分散安定性に優れた粉体配合化粧料に好ましく使用される。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】合成例１の構造式及びＮＭＲスペクトルである。
【図２】合成例３の構造式及びＮＭＲスペクトルである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は化粧料用粉体に関する。さらに詳しくは、ホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合し、水中分散性に優れた化粧料用粉体及びこれを配合した化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
ホスホリルコリン基を有する重合体は生体適合性高分子として検討されており、この重合体を各種基剤に被覆させた生体適合性材料が開発されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、２−メタクロイルオキシエチルホスホリルコリンの単独重合体及び共重合体で被覆した粉末を、化粧料用粉末として利用して保湿性や皮膚密着性を改善した化粧料が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２及び特許文献３には、ホスホリルコリン基を有する重合体で被覆した医療用材料や分離剤が開示されている。
【０００５】
上記の材料は、主に水酸基を有するアクリル系モノマーと２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホラン−２−オキシドを反応させ、更にトリメチルアミンにより４級アンモニウムとすることによりホスホリルコリン構造を有するモノマーを合成しこれを重合して得られる重合体により、その表面が被覆されたものである（重合体の製造方法に関しては特許文献４及び５を参照）。
【０００６】
特許文献４には、２−メタクロイルオキシエチルホスホリルコリンとメタクリル酸エステルの共重合体が製造され、特許文献５には２−メタクロイルオキシエチルホスホリルコリンの単独重合体が製造されている。
【０００７】
一方、従来、顔料を水に分散させようとする場合、金属酸化物のような無機顔料では、一般的に親水性が高いにも関わらず水中で顔料粒子同士が凝縮しすぐに沈降してしまう。
そこで、さらに親水性を上げ分散安定性を向上させるために、等電点がアルカリ性側にあるアルミナや等電点が酸性側にあるシリカで顔料粒子表面を被覆するという方法が一般的に採られている。
【０００８】
また、水に対して分散性の良好な粉体と混合して顆粒状にしたり、界面活性剤で処理して水に対する分散性を高めたりしている（特許文献６）。
一方、白濁性の入浴剤に使用される二酸化チタンでは、アシル化アミノ酸系界面活性剤や、ポリエチレングリコールのような分散性非イオン界面活性剤と脂肪酸石ケンで被覆するという方法が採られている。（特許文献７、８）。
【０００９】
また、カーボンブラックのような疎水性が強い無機粉体は水には容易に分散されないため、水分散液を調整することはきわめて難しい。そのため、カーボンブラックではその親水性を上げるため、酸化反応により水酸基やカルボキシル基を導入する試みや（特許文献９）、プラズマ照射により水酸基のような親水性の官能基を導入する試み（特許文献１０）が採用されていた。
【００１０】
【特許文献１】特開平７−１１８１２３号公報
【特許文献２】特開２０００−２７９５１２号公報
【特許文献３】特開２００２−９８６７６号公報
【特許文献４】特開平９−３１３２号公報
【特許文献５】特開平１０−２９８２４０号公報
【特許文献６】特開平７−１９６４３５号公報
【特許文献７】特公平７−１７４９４号公報
【特許文献８】特開平３−２９４２２０号公報
【特許文献９】特開平１１−１４８０２７号公報
【特許文献１０】特開２０００−０４４８２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、ホスホリルコリン基を有する重合体により、粉体の表面を被覆して改質する方法では、表面全体を効果的に被覆することは難しい。また、被覆した重合体が粉体から剥離するため、耐久性に問題が生じる場合がある。さらには、粉体の表面が重合体により被覆されるため、ホスホリルコリン基による生体適合性等の目的とする機能を付与する目的から逸脱して、化粧料用粉体自体に要求されている基本的性質が失われる場合もある。
【００１２】
また、粉体の分散性を改良するための上記の方法は、適用できる粉体の種類が限定されるだけでなく、化粧料用粉体に要求される、水中にて経時で安定的に分散性を保つ方法ではなかった。
【００１３】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされた発明であり、ホスホリルコリン基を粉体表面に直接的に共有結合させて、水中分散性に優れた化粧料用粉体及びこれを配合した化粧料を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
すなわち、本発明は、下記式（１）で示されるホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合していることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体を提供するものである。
【化４】
（１）
【００１５】
また、本発明は、前記粉体が、表面に水酸基を有する粉体であることを特徴とする上記の化粧料用粉体を提供するものである。
【００１６】
さらに、本発明は、粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする上記の化粧料用粉体の製造方法を提供するものである。
【００１７】
また、本発明は、粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする上記の化粧料用粉体の製造方法を提供するものである。
【００１８】
さらに、本発明は、粉体表面に直接的に下記式（２）及び／又は（３）で示される化合物を反応させて得られることを特徴とする上記の化粧料用粉体の製造方法を提供するものである。
【化５】
（２）
【化６】
（３）
式中、ｍは２〜６、ｎは１〜４である。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、それぞれ単独に、メトキシ基、エトキシ基またはハロゲンである。ただし、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3のうち、２つまではメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基のいずれでも良い。
【００１９】
さらに、本発明は、上記の水中分散性化粧料用粉体を含有することを特徴とする化粧料を提供するものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の化粧料用粉体は水中分散性の効果に優れた粉体であり、専ら化粧料の配合原料として使用される粉体である。特に高分散性粉体として、各種の粉体配合化粧料原料として極めて有用である。
【００２１】
本発明の化粧料用粉体は、ホスホリルコリン基を有する重合体で被覆することによりホスホリルコリン基を導入した粉体と比較して、重合体の剥れによりホスホリルコリン基を失うことがないという利点を有する。また、重合体で被覆されていないので、粉体自体の表面特性をすべて殺すことがないという利点を有する。例えば、粉体表面が有する立体的な数ｎｍ程度の微細構造（微細孔など）を埋めることなく表面をホスホリルコリン基で被覆することが可能である。また、本発明の化粧料用粉体は、化粧料中に分散させておきたいタンパク質や脂質等の配合原料がある場合には、粉体への吸着を防止して吸着変性を防止する効果をも有する。
【００２２】
本発明の製造方法によれば、化粧料に配合を希望する各種化粧料用粉体の表面を、簡便な反応によって、希望する任意の量のホスホリルコリン基を付与することが可能である。その結果、ホスホリルコリン基により希望する機能を有する化粧料用改質粉体が容易に提供できる。
このように製造された本発明の化粧料用粉体は各種化粧料に有効に配合される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の化粧料用粉体において、式（１）のホスホリルコリン基が化粧料用粉体表面に直接的に共有結合しているとは、ホスホリルコリン基が化粧料用粉体表面の官能基に化学的な結合状態によって導入されていることを意味し、ホスホリルコリン基を有する重合体で被覆することによりホスホリルコリン基を導入した化粧料用粉体表面は含まないという意味である。
なお、式（１）のホスホリルコリン基が、素材表面と官能基に共有結合により導入されている限り、ホスホリルコリン基との官能基の間に任意のスペーサーが入っていてもかまわない。
【００２４】
粉体は化粧料に使用される粉体であれば限定されない。用いる粉体は特に制限されない。
粉体とは一般に平均粒径０．０１〜１００μｍ程度の任意の物体を意味する。具体的な粉体としては、例えば、無機粉末（例えば、タルク、カオリン、雲母、絹雲母(セリサイト)、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、パーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、マグネシウム、シリカ、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、リン酸カルシウム、弗素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、金属石鹸(例えば、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム)、窒化ホウ素、酸化セリウム等）；有機粉末（例えば、ポリアミド樹脂粉末(ナイロン粉末)、ポリエチレン粉末、ポリメタクリル酸メチル粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、ポリ四弗化エチレン粉末、ポリメチルシルセスキオキサン粉末、シリコーンエラストマー粉末、セルロース粉末等）；無機白色顔料（例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛等）；無機赤色系顔料（例えば、酸化鉄(ベンガラ)、チタン酸鉄等）；無機褐色系顔料（例えば、γ−酸化鉄等）；無機黄色系顔料（例えば、黄酸化鉄、黄土等）；無機黒色系顔料（例えば、黒酸化鉄、低次酸化チタン等）；無機紫色系顔料（例えば、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット等）；無機緑色系顔料（例えば、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルト等）；無機青色系顔料（例えば、群青、紺青等）；パール顔料（例えば、酸化チタンコーテッドマイカ、酸化チタンコーテッドオキシ塩化ビスマス、酸化チタンコーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマス、魚鱗箔等）；金属粉末顔料（例えば、アルミニウムパウダー、カッパーパウダー等）；ジルコニウム、バリウム又はアルミニウムレーキ等の有機顔料（例えば、赤色２０１号、赤色２０２号、赤色２０４号、赤色２０５号、赤色２２０号、赤色２２６号、赤色２２８号、赤色４０５号、橙色２０３号、橙色２０４号、黄色２０５号、黄色４０１号、及び青色４０４号などの有機顔料、赤色３号、赤色１０４号、赤色１０６号、赤色２２７号、赤色２３０号、赤色４０１号、赤色５０５号、橙色２０５号、黄色４号、黄色５号、黄色２０２号、黄色２０３号、緑色３号及び青色１号等）；天然色素（例えば、クロロフィル、β−カロチン等）等が挙げられる。
本発明においては表面に水酸基を有する粉体が好ましい。好ましく使用される粉体は、シリカ、タルク、カリオン、雲母、絹雲母（セリサイト）、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、パーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、マグネシウム、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、リン酸カルシウム、弗素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、窒化ホウ素等の化粧料用顔料粉体、二酸化チタン、酸化亜鉛等の化粧料用白色顔料、酸化鉄（ベンガラ）、チタン酸鉄、γ−酸化鉄、黄酸化鉄、黄土、黒酸化鉄、カーボンブラック、低次酸化チタン、マンゴバイオレット、コバルトバイオレット、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルト、群青、紺青等の着色顔料、酸化チタンコーテッドマイカ、酸化チタンコーテッドオキシ塩化ビスマス、酸化チタンコーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマス等のパール顔料、アルミニウムパウダー、カッパーパウダー等の金属粉末顔料等が挙げられる。
【００２５】
「粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させる、或いは粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることによる、水中高分散性化粧料用粉体の製造方法」
例えば、下記のステップにより製造される。すでに化粧料用粉体表面にアミノ基を有しており、それ以上のアミノ基を導入する必要がない場合は、ステップ１は省略される。
【００２６】
ステップ１：任意の化粧料用粉体に、公知の方法若しくは今後開発される方法にてアミノ基を導入する。アミノ基は粉体表面に直接的に導入される。直接的とは、アミノ基を有する重合体で被覆する方法は含まないことを意味する。アミノ基は一級アミン若しくは二級アミンである。
ステップ２：アミノ基を有する粉体に対し、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られたアルデヒド体あるいはハイドレート体あるいはカルボキシル体を、還元的アミノ化反応またはアミド化によって、ホスホリルコリン基を化粧料用粉体表面に直接的に付加させる。グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られたカルボキシル体を用いる場合は、表面の水酸基とエステル化によって、ホスホリルコリン基を化粧料用粉体表面に直接的に付加させることも可能である。
これらの粉体にアミノ基または水酸基を導入する公知の方法（ステップ１）としては、下記が挙げられる。
【００２７】
１．プラズマ処理の表面反応によるアミノ基の導入
窒素ガス雰囲気下で低温プラズマにより粉体表面にアミノ基を導入する。具体的には粉体をプラズマ反応容器内に収容し、反応容器内を真空ポンプで真空にした後、窒素ガスを導入する。続いてグロー放電により、粉体表面にアミノ基を導入できる。
また、酸素ガス雰囲気下または酸素ガス、水素ガス雰囲気下で低温プラズマにより粉体表面に水酸基を導入することも可能である。具体的には、粉体をプラズマ反応容器内に収容し、反応容器内を真空ポンプで真空にした後、酸素ガスまたは酸素ガス、水素ガスを導入する。続いてグロー放電により、粉体表面に水酸基を導入できる。
プラズマ処理した粉体を機械的に粉体化することも可能である。プラズマ処理に関する文献を下記に示す。
1. M. Muller, C. oehr
Plasma aminofunctionalisation of PVDF microfiltration membranes: comparison of the in plasma modifications with a grafting method using ESCA and an amino-selective fluorescent probe
Surface and Coatings Technology 116-119 (1999) 802-807
2. Lidija Tusek, Mirko Nitschke, Carsten Werner, Karin Stana-Kleinschek, Volker Ribitsch
Surface characterization of NH3 plasma treated polyamide 6 foils
Colloids and Surfaces A: Physicochem. Eng. Aspects 195 (2001) 81-95
3. Fabienne Poncin-Epaillard, Jean-Claude Brosse, Thierry Falher
Reactivity of surface groups formed onto a plasma treated poly (propylene) film
Macromol. Chem. Phys. 200. 989-996 (1999)
【００２８】
２．表面改質剤によるアミノ基の導入
アミノ基を有するアルコキシシラン、クロロシラン、シラザンなどの表面改質剤を用いて、水酸基含有化粧料用粉体表面を処理する。
例えば、１級アミノ基を有する３−アミノプロピルトリメトキシシランにより、二酸化ケイ素を処理してアミノ基を導入する。具体的には、シリカを水−２−プロパノール混合液中に浸し、３−アミノプロピルトリメトキシシランを添加後、１００℃に加熱し６時間反応させる。室温に冷却後、シリカをメタノールで洗浄し、乾燥してアミノ基がシリカ表面に直接導入されたシリカ粉体が得られる。
本方法に好ましく使用される粉体は、シリカ、タルク、カリオン、雲母、絹雲母（セリサイト）、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、パーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、マグネシウム、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコウ）、リン酸カルシウム、弗素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、窒化ホウ素等の化粧料用顔料粉体、二酸化チタン、酸化亜鉛等の化粧料用白色顔料、酸化鉄（ベンガラ）、チタン酸鉄、γ−酸化鉄、黄酸化鉄、黄土、黒酸化鉄、カーボンブラック、低次酸化チタン、マンゴバイオレット、コバルトバイオレット、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルト、群青、紺青等の着色顔料、酸化チタンコーテッドマイカ、酸化チタンコーテッドオキシ塩化ビスマス、酸化チタンコーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマス等のパール顔料、アルミニウムパウダー、カッパーパウダー等の金属粉末顔料等が挙げられる。
【００２９】
次に、アミノ化された粉体表面にホスホリルコリン基を導入する方法（ステップ２）を以下に示す。
ステップ１で得られた化粧料用粉体をメタノール中に浸漬し、ホスファチジルグリセロアルデヒドを添加後、室温で６時間放置する。そして、シアノホウ素酸ナトリウムを０℃で添加、一晩加熱攪拌し、アミノ基にホスホリルコリン基を付加させる。化粧料用粉体をメタノールで洗浄後、乾燥し、ホスホリルコリン基を表面に直接有する化粧料用粉体が得られる。反応溶媒はメタノール以外にも水、エタノール、２−プロパノール等プロトン性溶媒であれば使用可能であるが、メタノールを用いた場合の導入率が高い傾向にある。
または、ホスホリルコリン基を有するカルボキシル体をアセトニトリル中で塩化チオニルやオキザリルクロライドと一定時間反応させて生成したカルボン酸塩化物に、ステップ１で得られた化粧料用粉体を添加し、室温で６時間攪拌し、アミノ基にホスホリルコリン基を付加させる。
【００３０】
表面改質剤に３−アミノプロピルトリメトキシシランを用いて、ホスホリルコリン基を導入する方法のスキームをシリカの例にとって下記に示す。
ステップ１「シリカ表面のアミノプロピル化（一般的な手法）」
【化７】
ステップ２「ホスホリルコリン基の導入（アルデヒド経由）」
【化８】
ステップ２「ホスホリルコリン基の導入（カルボン酸経由）」
【化９】
【００３１】
上記で説明したように、アミノ基を有する化粧料用粉体を調製し、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られたアルデヒド体あるいはハイドレート体との還元的アミノ化反応によりホスホリルコリン基が化粧料用粉体表面に直接付加した化粧料用粉体を製造する方法よって、本発明の化粧料用粉体が容易に得られ、かつ様々な化粧料用粉体の表面を修飾できるという大きな利点がある。
また、アミノ基を有する化粧料用粉体を調製し、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られたカルボキシル体とのアミド化反応によって、同様にホスホリルコリン基が化粧料用粉体表面に直接付加した化粧料用粉体を製造することも可能である。
上記の製造方法において、グリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物は、公知のグリセロホスホリルコリン基を、公知の方法により酸化的解裂を行わせるもので、極めて簡単なステップである。例えば、１，２−ジオールを過ヨウ素酸、或いは過ヨウ素酸塩を用いて酸化することにより結合を解裂させ、アルデヒド体が得られる。反応は通常水中または水を含む有機溶媒中で行われる。反応温度は０度から室温である。アルデヒド体は水中で平衡反応を経てハイドレートとなることもあるが、続くアミンとの反応には影響しない。下記にホスホリルコリン基を含有する一官能のアルデヒド体を調製するスキームの一例を示す。
【化１０】
【００３２】
「粉体表面に直接的に式（２）で示される化合物を反応させることによる、水中分散性化粧料用粉体の製造方法」
下記式（４）に示したホスホリルコリン誘導体を蒸留水に溶解させる。下記式（４）のホスホリルコリン誘導体は公知の化合物であり市販品を入手できる。
【化１１】
（４）
【００３３】
式（４）の化合物の水溶液を氷水浴中で冷却し、過ヨウ素酸ナトリウムを添加し、５時間攪拌した。反応液を減圧濃縮、減圧乾燥し、メタノールにより下記式（５）に示すアルデヒド基を有するホスホリルコリン誘導体を抽出する。
【化１２】
（５）
【００３４】
次に、式（５）のメタノール溶液に３−アミノプロピルトリメトキシシランを０．９当量添加する。この混合溶液を室温で所定時間撹拌したのち、氷冷し、シアノヒドロホウ素化ナトリウムを適量添加し、室温に戻して１６時間撹拌する。この間も反応容器には乾燥窒素を流し続ける。沈殿をろ過した後、式（６）のメタノール溶液を得る。なお、このメタノール溶液には、式（７）の化合物も副生成物として含まれる。
【化１３】
（６）
【化１４】
（７）
【００３５】
次に、式（６）の化合物を含有する０．３ｍｍｏｌ／ｍＬ程度の濃度のメタノール溶液２０ｍＬに、蒸留水２０ｍＬを加え、改質したい粉体を添加する。粉体の質量はその比表面積によって調整する必要がある。例えば、１００ｍ2／ｇの粉体の場合、その添加量は１０ｇ程度が適当である。この粉体分散液をオイルバス中８０℃で還流し、５時間後に粉体をろ過し、メタノールで洗浄し、８０℃で３時間減圧乾燥することで、本発明の水中高分散性化粧料用粉体が得られる。
【００３６】
「粉体表面に直接的に式（３）で示される化合物を反応させることによる、水中分散性化粧料用粉体の製造方法」
下記式（４）に示したホスホリルコリン誘導体を蒸留水に溶解させる。下記式（４）のホスホリルコリン誘導体は公知の化合物であり市販品を入手できる。
【化１５】
（４）
式（４）の化合物の水溶液を氷水浴中で冷却し、過ヨウ素酸ナトリウム、三塩化ルテニウムを添加し、３時間攪拌した。反応液をろ過、減圧濃縮、減圧乾燥し、メタノールにより下記式（８）に示すカルボキシル基を有するホスホリルコリン誘導体を抽出する。
【化１６】
（８）
次に、アセトニトリルに式（８）及び塩化チオニルを添加、所定時間攪拌した後、２当量のトリエチルアミンと３−アミノプロピルトリメトキシシランを０．９当量添加する。この混合溶液を室温で所定時間撹拌する。この間も反応容器には乾燥窒素を流し続ける。沈殿をろ過した後、式（７）のアセトニトリル溶液を得る。
【化１７】
（７）
次に式（７）を含有する０．３ｍｍｏｌ／ｍＬ程度の濃度のアセトニトリル溶液２０ｍＬに、蒸留水１０ｍＬ、メタノール１０ｍｌを加え、改質したい粉体を添加する。粉体の質量はその比表面積によって調整する必要がある。例えば、１００ｍ2／ｇの粉体の場合、その添加量は１０ｇ程度が適当である。この粉体分散液をオイルバス中８０℃で還流し、５時間後に粉体をろ過し、メタノールで洗浄し、８０℃で３時間減圧乾燥することで、本発明の水中高分散性化粧料用粉体が得られる。
【００３７】
本発明の水中高分散性化粧料用粉体は任意の化粧料に配合される。化粧料は限定されないが、特に、Ｏ／Ｗ乳化化粧料、化粧水などの、粉体を水中に高分散させる化粧料や製造過程に粉体を高分散させる工程を有する製品に配合することが好ましい。
その配合量は、化粧料の種類、目的によって適宜決定され、特に限定されないが、化粧料全量に対して通常０．１〜９５質量％程度の範囲である。製品の種類に応じて、例えば、粉末２層化粧水の場合は０．１〜１０質量％、Ｏ/Ｗ型乳化ファンデーションや粉体含有クリーム、Ｏ/Ｗ型乳化サンスクリーンの場合は１〜５０質量％、パウダリーファンデーション、スティックファンデーションの場合は１０〜９５質量％の配合量が好ましい場合もある。
【００３８】
本発明の化粧料は、水中高分散性化粧料用粉体の他に、通常化粧品に用いられる他の成分を配合して製造される。例えば、通常の粉体成分、液体油脂、固体油脂、ロウ、炭化水素油、高級脂肪酸、高級アルコール、エステル油、シリコーン油、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤、保湿剤、水溶性高分子、増粘剤、皮膜剤、紫外線吸収剤、金属イオン封鎖剤、低級アルコール、多価アルコール、糖、アミノ酸、有機アミン、高分子エマルジョン、pＨ調整剤、皮膚栄養剤、ビタミン、酸化防止剤、酸化防止助剤、香料、水等を必要に応じて適宜配合し、目的とする剤形に応じて常法により製造することが出来る。
【実施例】
【００３９】
次に本発明を実施例に基づきさらに詳しく説明する。なお、本発明はこれらの実施例に
限定されるものではない。配合量は特に断わりのない限り、全量に対する質量％である。
【００４０】
「合成例１ ホスホリルコリン基を含有するアルデヒド化合物」
１−α−グリセロホスホリルコリン（４５０ｍｇ）を蒸留水１５ｍｌに溶解し、氷水浴中で冷却した。過ヨウ素酸ナトリウム（７５０ｍｇ）を添加し、５時間攪拌した。反応液を減圧濃縮、減圧乾燥し、メタノールにより目的物を抽出した。下記化合物（５）に構造を示す。式（５）の化合物の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１に示す。
【化１８】
（５）
【００４１】
「合成例２ 式（２）のホスホリルコリン基含有化合物」
合成例１の化合物７．５ｇを含むメタノール溶液を脱水したメタノール３０ｍＬに溶解させ、容器内を乾燥窒素で置換する。次に、化合物１のメタノール溶液に3-アミノプロピルトリメトキシシランを５．４ｇ添加した。この混合溶液を、室温で5時間撹拌したのち、氷冷し、シアノヒドロホウ素化ナトリウム２．５ｇを添加し、室温に戻して１６時間撹拌した。この間も反応容器には乾燥窒素を流し続けた。沈殿をろ過し目的物質である下記式（６）の化合物｛式（２）でｍ＝３、ｎ＝２｝のメタノール溶液を得た。
【化１９】
（６）
【００４２】
「合成例３ ホスホリルコリン基を含有するカルボキシ化合物」
１−α−グリセロホスホリルコリン５ｇを水７０ｍｌ−アセトニトリル３０ｍｌに溶解した。氷冷下、過ヨウ素酸ナトリウム１７ｇと三塩化ルテニウム８０ｍｇを添加し、一晩攪拌した。沈殿物をろ過し、減圧濃縮、メタノール抽出により目的とするカルボキシメチルホスホリルコリン（８）３．８６ｇ（収率８２％）を得た。式（８）の化合物の１Ｈ−ＮＭＲを図２に示す。
【化２０】
（８）
【００４３】
「合成例４ 式（３）のホスホリルコリン基含有化合物」
化学式（８）に示すカルボキシメチルホスホリルコリン化合物３．８６ｇ及び塩化チオニル３ｇをアセトニトリルに氷冷下で添加、３０分間攪拌し、３−アミノプロピルトリメトキシシラン３．８ｇを及びトリエチルアミン３ｇ添加、反応容器には乾燥窒素を流し続け、３時間室温で攪拌して目的とする式（７）の化合物｛｛式（３）でｍ＝３、ｎ＝２｝のアセトニトリル溶液を得た。
【化２１】
（７）
【００４４】
「実施例１：粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることにより、水中高分散性化粧料用粉体の製造方法：２段階製造法」
５００ｍＬ三角フラスコに１００ｇのイオン交換水、１００ｇの２−プロパノール、５ｇの３−アミノプロピルトリメトキシシランを入れ、かき混ぜた。
これに微粒子酸化亜鉛（粒径：0.02〜0.05μm）１０ｇを添加後、８０℃に加熱し５時間還流煮沸した。室温に冷却後、微粒子酸化亜鉛粉末をメタノール１００ｍＬで３回ろ過、洗浄し、減圧乾燥してアミノプロピル基の導入された微粒子酸化亜鉛粉体を得た。
次にアミノプロピル基が導入された微粒子酸化亜鉛粉末１０ｇ１００ｍｌのメタノールに入れ、合成例１により得られた化合物１ｇを含むメタノール溶液を混合し室温で５時間静置した。続いてこの混合液を氷浴中で冷却し、シアノヒドロホウ酸ナトリウム０．３ｇを添加し、室温で一晩撹拌した後、フィルターをろ過、メタノール１００ｍＬで３回洗浄、減圧乾燥して、式（１）のホスホリルコリン基を表面に直接有する微粒子酸化亜鉛粉体からなる、本発明の化粧料用粉体を得た。
【００４５】
「実施例２：粉体表面に直接的に式（２）で示される化合物を反応させることによる、水中分散性化粧料用粉体の製造方法：１段階製造法」
合成例２で製造した式（６）の化合物約１ｍｍｏｌを含むメタノール溶液５０ｍLに蒸留水５０ｍＬを加え微粒子酸化亜鉛粉末１０ｇを添加した。この粉体分散溶液を８０℃で５ｈ還流させ反応させた。還流後、メタノール１００ｍＬで３回ろ過、洗浄した後、乾燥することにより、本発明の式（１）のホスホリルコリン基を表面に直接有する微粒子酸化亜鉛粉体からなる、本発明の化粧料用粉体を得た。
【００４６】
「水中分散性の効果実験１」
実施例１、２の化粧料用粉体、式（１）のホスホリルコリン基で修飾していない微粒子酸化亜鉛粉体（比較例１）各１.０ｇを９９．０ｇのイオン交換水に十分懸濁させたあと、沈降容積管に入れ沈降容積が５０％になる時間を比較した。結果を下記［表１］に示す。
［表１］
――――――――――――――――――――――
実施例１の化粧料用粉体： 約７日後
実施例２の化粧料用粉体： 約７日後
比較例１の化粧料用粉体： 約３分後
――――――――――――――――――――――
【００４７】
これにより、本発明の化粧料用粉体は、式（１）のホスホリルコリン基で直接的に修飾することにより、大幅に水中での分散安定性が向上することが分った。
また、微粒子酸化亜鉛本来の性能（紫外線防御性能、色調等）は損なわれていないことも分った。
【００４８】
「実施例３：粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることによる、水中高分散性化粧料用粉体の製造方法：２段階製造法」
５００ｍＬ三角フラスコに１００ｇのイオン交換水、１００ｇの２−プロパノール、５ｇの３−アミノプロピルトリメトキシシランを入れ、かき混ぜた。
これに微粒子二酸化チタン（粒径：0.02〜0.05μm）１０ｇを添加後、８０℃に加熱し５時間還流煮沸した。室温に冷却後、微粒子二酸化チタン粉末をメタノール１００ｍＬで３回ろ過、洗浄し、減圧乾燥してアミノプロピル基の導入された微粒子二酸化チタン粉体を得た。
次にアミノプロピル基が導入された微粒子二酸化チタン粉末１０ｇと、合成例３により得られた化合物１ｇ及び塩化チオニル０．７ｇを１時間反応させたアセトニトリル溶液３０ｍｌ、トリエチルアミン０．５ｇを混合し室温で５時間攪拌した。続いてこの混合液をメタノール１００ｍＬで３回洗浄、減圧乾燥して、式（１）のホスホリルコリン基を表面に直接有する微粒子二酸化チタンからなる、本発明の化粧料用粉体を得た。
【００４９】
「実施例４：粉体表面に直接的に式（７）で示される化合物を反応させることによる、水中分散性化粧料用粉体の製造方法：１段階製造法」
合成例４で製造した式（７）の化合物約１ｍｍｏｌを含むアセトニトリル溶液２０ｍLにメタノール３０ｍｌと蒸留水１０ｍＬを加え微粒子二酸化チタン粉末１０ｇを添加した。この粉体分散溶液を８０℃で５ｈ還流させ反応させた。還流後、メタノール１００ｍＬで３回ろ過、洗浄した後、乾燥することにより、本発明の式（１）のホスホリルコリン基を表面に直接有する微粒子二酸化チタン粉体からなる、本発明の化粧料用粉体を得た。
【００５０】
「水中分散性の効果実験２」
実施例３、４の化粧料用粉体、式（１）のホスホリルコリン基で修飾していない微粒子二酸化チタン粉体（比較例２）各１.０ｇを９９．０ｇのイオン交換水に十分懸濁させたあと、沈降容積管に入れ沈降容積が５０％になる時間を比較した。結果を下記［表２］に示す。
［表２］
――――――――――――――――――――――
実施例３の化粧料用粉体： 約１０日後
実施例４の化粧料用粉体： 約１０日後
比較例２の化粧料用粉体： 約３０分後
――――――――――――――――――――――
【００５１】
これにより、本発明の化粧料用粉体は、式（１）のホスホリルコリン基で直接的に修飾することにより、大幅に水中での分散安定性が向上することが分った。
また、微粒子二酸化チタン本来の性能（紫外線防御性能、色調等）は損なわれていないことも分った。
【００５２】
「実施例５〜１２」
実施例１と同様の方法で、式（１）のホスホリルコリン基を導入する粉体を、シリカ（実施例５）、セリサイト（実施例６）、マイカ（実施例７）、タルク（実施例８）、カオリン（実施例９）、べンガラ（実施例１０）、黄酸化鉄（実施例１１）、黒酸化鉄（実施例１２）に変更して、式（１）のホスホリルコリン基修飾粉体を製造した。いずれの粉体も、本発明の製造方法により、式（１）のホスホリルコリン基を粉体表面に直接的に共有結合にて導入可能であることが分った。
【００５３】
「実施例１３〜２０」
実施例２と同様の方法で、式（１）のホスホリルコリン基を導入する粉体を、シリカ（実施例１３）、セリサイト（実施例１４）、マイカ（実施例１５）、タルク（実施例１６）、カオリン（実施例１７）、べンガラ（実施例１８）、黄酸化鉄（実施例１９）、黒酸化鉄（実施例２０）に変更して、ホスホリルコリン基修飾反応を行った。いずれの粉体も、本発明の製造方法で、式（１）のホスホリルコリン基を粉体表面に直接的に共有結合にて導入可能であることが分った。
【００５４】
＜化粧料における性能確認＞
「実施例２１ Ｏ/Ｗ型乳化ファンデーション」
（処方）
１）ホスホリルコリン基修飾酸化セリサイト（実施例６） １７．０
２）ホスホリルコリン基修飾酸化マイカ（実施例７） ２０．０
３）ホスホリルコリン基修飾酸化亜鉛（実施例１） ８．０
４）ホスホリルコリン基修飾ベンガラ（実施例１０） ０．３
５）ホスホリルコリン基修飾黄酸化鉄（実施例１１） １．２
６）ホスホリルコリン基修飾黒酸化鉄（実施例１２） ０．６
７）球状ポリエチレン粉体 ６．０
８）スクワラン １０．０
９）オリーブ油 １０．０
10）ステアリン酸 ２．０
11）グリセリルモノステアレート ２．０
12）POE（40）モノステアリン酸ソルビタン ２．０
13）グリセリン ５．０
14）トリエタノールアミン ０．８
15）ｐＨ調整剤 適量
16）防腐剤 適量
17）イオン交換水 残部
（製法）
１）〜12）を８５℃に加熱溶解する（油相）。17）に13）〜15）を添加し均一に分散する（水相）。水相中に油相を添加し、８５℃で１００分間保持して攪拌した後、16）を加え、攪拌冷却して４５℃とする。
上記のホスホリルコリン基を修飾した粉体を配合した化粧料は、粉体分散性の経時安定性が高く、使用性に優れるものであった。
【００５５】
「実施例２２ Ｏ/Ｗ型乳化化粧下地」
（処方）
１）イオン交換水 残部
２）グリセリン ２０．０
３）１，２−ペンタンジオール ３．０
４）１，３−ブチレングリコール １．０
５）流動パラフィン ７．５
６）イソステアリン酸 ０．５
７）アスコルビン酸（美白剤） ０．２
８）カミツレエキス（美白剤） ０．１
９）ユキノシタエキス（美白剤） ０．３
10）フタル酸ジ２−エチルヘキシル ０．３
11）ホスホリルコリン基修飾球状シリカ（実施例５） ４．０
12）ホスホリルコリン基修飾酸化亜鉛（実施例１） ５．０
13）ホスホリルコリン基修飾タルク（実施例８） ５．０
14）安定化剤 適量
15）香料 適量
（製法）
５）〜14）を８５℃に加熱溶解する（油相）。１）に２）〜４）を添加し均一に分散する（水相）。水相中に油相を添加し、８５℃で１００分間保持して攪拌した後、15）を加え、攪拌冷却して４５℃とする。
上記のホスホリルコリン基を修飾した粉体を配合した化粧料は、粉体分散性の経時安定性が高く、使用性に優れるものであった。
【００５６】
「実施例２３ ２層化粧水」
（処方）
１）グリセリン ４．０
２）ポリエチレングリコール(分子量1500) ３．０
３）エタノール(95％) １５．０
４）カンファー ０．１
５）液状フェノール（95％） ０．３
６）ホスホリルコリン基修飾酸化亜鉛（実施例２） ２．０
７）ホスホリルコリン基修飾カオリン（実施例１７） ２．０
８）ベントナイト １．５
９）ポリメチルシルセスキオキサン ０．０１
10）ジカプリン酸ネオペンチルグリコール ０．８
11）香料 ０．０１
12）エデント酸三ナトリウム ０．１
13）精製水 残部
（製法）
６)、７）、８）、９）を室温にて湿潤し同じく室温溶解した３）、４）、５）、１０）、１２）を同じく室温溶解した１）、２）、１１）、１３）の中へ均一混合した。
上記のホスホリルコリン基を修飾した粉体を配合した化粧料製品は粉体層の再分散性が良好で使用性に優れるものであった。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明の化粧料用粉体は水分散性に優れているので、粉体の分散安定性に優れた粉体配合化粧料に好ましく使用される。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】合成例１の構造式及びＮＭＲスペクトルである。
【図２】合成例３の構造式及びＮＭＲスペクトルである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示されるホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合していることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体。
【化１】
（１）
【請求項２】
前記粉体が、表面に水酸基を有する粉体であることを特徴とする請求項１記載の化粧料用粉体。
【請求項３】
粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする請求項１または２記載の化粧料用粉体の製造方法。
【請求項４】
粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする請求項１または２記載の化粧料用粉体の製造方法。
【請求項５】
粉体表面に直接的に下記式（２）及び／又は（３）で示される化合物を反応させて得られることを特徴とする請求項１または２記載の化粧料用粉体の製造方法。
【化２】
（２）
【化３】
（３）
式中、ｍは２〜６、ｎは１〜４である。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、それぞれ単独に、メトキシ基、エトキシ基またはハロゲンである。ただし、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3のうち、２つまではメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基のいずれでも良い。
【請求項６】
請求項１または２記載の水中分散性化粧料用粉体を含有することを特徴とする化粧料。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることによって、下記式（１）で示されるホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合していることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体。
【化１】
（１）
【請求項２】
粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする請求項１記載の水中分散性化粧料用粉体の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の水中分散性化粧料用粉体を含有することを特徴とする化粧料。
【請求項４】
粉体表面に直接的に下記式（２）及び／又は（３）で示される化合物を反応させて得られることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体を配合することを特徴とする化粧料。
【化２】
（２）
【化３】
（３）
式中、ｍは２〜６、ｎは１〜４である。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、それぞれ単独に、メトキシ基、エトキシ基またはハロゲンである。ただし、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3のうち、２つまではメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基のいずれでも良い。
【請求項１】
下記式（１）で示されるホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合していることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体。
【化１】
（１）
【請求項２】
前記粉体が、表面に水酸基を有する粉体であることを特徴とする請求項１記載の化粧料用粉体。
【請求項３】
粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるアルデヒド体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする請求項１または２記載の化粧料用粉体の製造方法。
【請求項４】
粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする請求項１または２記載の化粧料用粉体の製造方法。
【請求項５】
粉体表面に直接的に下記式（２）及び／又は（３）で示される化合物を反応させて得られることを特徴とする請求項１または２記載の化粧料用粉体の製造方法。
【化２】
（２）
【化３】
（３）
式中、ｍは２〜６、ｎは１〜４である。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、それぞれ単独に、メトキシ基、エトキシ基またはハロゲンである。ただし、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3のうち、２つまではメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基のいずれでも良い。
【請求項６】
請求項１または２記載の水中分散性化粧料用粉体を含有することを特徴とする化粧料。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることによって、下記式（１）で示されるホスホリルコリン基が粉体表面に直接的に共有結合していることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体。
【化１】
（１）
【請求項２】
粉体表面に直接的にアミノ基を導入し、次にグリセロホスホリルコリンの酸化的解裂反応により得られるカルボキシル体を含有する化合物を該アミノ基に反応させることを特徴とする請求項１記載の水中分散性化粧料用粉体の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の水中分散性化粧料用粉体を含有することを特徴とする化粧料。
【請求項４】
粉体表面に直接的に下記式（２）及び／又は（３）で示される化合物を反応させて得られることを特徴とする水中分散性化粧料用粉体を配合することを特徴とする化粧料。
【化２】
（２）
【化３】
（３）
式中、ｍは２〜６、ｎは１〜４である。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、それぞれ単独に、メトキシ基、エトキシ基またはハロゲンである。ただし、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3のうち、２つまではメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基のいずれでも良い。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００６−８６６１（Ｐ２００６−８６６１Ａ）
【公開日】平成１８年１月１２日（２００６．１．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１３６８３８（Ｐ２００５−１３６８３８）
【出願日】平成１７年５月１０日（２００５．５．１０）
【出願人】（０００００１９５９）株式会社資生堂 (1,748)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１月１２日（２００６．１．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年５月１０日（２００５．５．１０）
【出願人】（０００００１９５９）株式会社資生堂 (1,748)
【Ｆターム（参考）】
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