水溶性洗浄剤組成物
【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。
【解決手段】（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水溶性洗浄剤組成物に関し、特に、エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄に供する水溶性洗浄剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等を洗浄する工程において、製品表面の清浄度はかつてにも増して求められており、製品の品質や歩留まりの悪化を抑えるべく、製品表面上の油分汚れや微粒子の異物が十分な清浄度が必要である。しかし近年、更なる品質向上を満たすためには洗浄剤自身の成分残渣が少ない、高いリンス性も求められている。
【０００３】
特許文献１〜３は、いずれも洗浄剤組成物を開示しているが、洗浄性またはリンス性において改善の余地があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平8-053694号公報
【特許文献２】特開平11-209789 号公報
【特許文献３】特開2010-077190 号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄、リンス工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、製品表面の清浄度について研究を行った結果、アルキルアミンオキサイド、硫酸残基を有する陰イオン性界面活性剤、スルホン酸基を有する陰イオン性界面活性剤、キレート剤を特定割合で混合することにより、製品表面の洗浄性及びリンス性に優れた水溶性洗浄剤組成物が得られることを見出し、更に鋭意検討を重ねて本発明を完成するに至った。本発明は、下記項１〜７に示す水溶性洗浄剤組成物を提供する。
項１．
（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、
（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、
（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、
（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％
を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。
項２．
上記成分（Ａ）アルキルアミンオキサイドが次の一般式（Ｉ）
【０００７】
【化１】
【０００８】
〔式中、Ｒ１は炭素数８〜１８の直鎖もしくは分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜３のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示す〕で表わされる項１記載の水溶性洗浄剤組成物。
項３．
上記成分（Ｂ）が、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有し、エチレンオキシドの平均付加モル数が１〜９のポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有するアルキル硫酸エステル及び、その塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する項１〜２のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
項４．
上記成分（Ｃ）が炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有する、アルキルスルホン酸及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有する項１〜３のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
項５．
上記成分（Ｄ）が、ヒドロキシカルボン酸系キレート剤及び／又はアミノポリカルボン酸系キレート剤である項１〜４のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
項６．
成分（Ａ）〜成分（Ｄ）を水に溶解した水溶液の形態である、項１〜５のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
項７．
水酸化アルカリ、水酸化テトラメチルアンモニウム、及びアミンからなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する項１〜６のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の水溶性洗浄剤組成物を用いることにより、エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程及びリンス工程で要求される製品表面の高清浄度を実現でき、製品の品質や歩留まりの悪化を抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、以下の（Ａ）〜（Ｄ）の成分を含み、（Ｅ）の成分を必要に応じて含み得る。
【００１１】
（Ａ）アルキルアミンオキサイド
本発明で使用するアルキルアミンオキサイドは、一般式（Ｉ）
【００１２】
【化２】
【００１３】
〔式中、Ｒ１は炭素数８〜１８の直鎖もしくは分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜３のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示す〕で表わされる。
【００１４】
Ｒ１のアルキル基としては、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、イソオクタデシル(イソステアリル)などの炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基が挙げられる。
【００１５】
アルケニル基としては、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基が挙げられる。
【００１６】
Ｒ２、Ｒ３のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなどの炭素数１〜３の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基が挙げられる。
【００１７】
ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、１−メチル−２−ヒドロキシエチルなどの炭素数１〜３の直鎖もしくは分岐を有するヒドロキシアルキル基が挙げられる。
【００１８】
アルキルアミンオキシドの含有量は水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜２０質量％、好ましくは０．１〜１５質量％である。
【００１９】
（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤としては、下記の一般式（II）：
R-O- (CH2CH2O)m-SO3X (II)
（式中、Ｒは炭素数１〜１８の炭化水素基である。Xは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム(NH4)またはアミンを示す。ｍは０〜９の整数である。）で表されるポリオキシエチレン有機硫酸エステル（ｍは１〜９）、炭素数１〜１８の有機硫酸エステル（ｍ＝０）およびその塩が挙げられ、Ｒが炭素数１〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基であるポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル、炭素数１〜１８のアルキル硫酸エステルが好ましく例示される。Ｒで表される炭化水素基としては、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基、炭素数２〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基、アリール基（フェニル、ナフチル、アントラニル、フェナントリルなど）、アラルキル基（ベンジル、フェネチルなど）などが挙げられる。
【００２０】
炭素数１〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数１〜１８、好ましくは炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基が挙げられる。
【００２１】
炭素数２〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基としては、ビニル、アリル、1-ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、へキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数２〜１８、好ましくは炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基が挙げられる。
【００２２】
アリール基としては、フェニル、トルイル、キシリル、ナフチル、アントラセニル、フェナントリルなどが挙げられる。
【００２３】
アラルキル基としては、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、オクチルフェニル、ノニルフェニルなどが挙げられる。
【００２４】
ｍは０〜９の整数、好ましくは３〜７の整数である。
【００２５】
（Ｂ）成分は一種単独で使用してもよいし、二種以上を混合して使用してもよい。
【００２６】
（Ｂ）成分の具体例としてはメチル硫酸エステル、エチル硫酸エステル、ブチル硫酸エステル、プロピル硫酸エステル、ペンチル硫酸エステル、ヘキシル硫酸エステル、シクロヘキシル硫酸エステル、オクチル硫酸エステル、イソオクチル硫酸エステル、デシル硫酸エステル、イソデシル硫酸エステル、トリデシル硫酸エステル、イソトリデシル硫酸エステル、オレイル硫酸エステル、イソステアリル硫酸エステル、ベンジル硫酸エステル、ノニルフェニル硫酸エステル、オクチルフェニル硫酸エステルおよびその塩またはこれらのＥＯ付加物及びその塩等が挙げられる。硫酸基の塩としては、ナトリウム、カリウム、リチウム、ルビジウム、セシウムなどのアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩などが挙げられ、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩が特に好ましい。
【００２７】
（Ｂ）成分の配合量は水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜２０質量％、好ましくは０．１〜１５質量％である。
【００２８】
（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤としては、炭素数１〜１８のアルキルスルホン酸およびその塩が挙げられる。
【００２９】
（Ｃ）炭化水素基としては、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基、炭素数２〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基が挙げられる。炭素数１〜１８のアルキル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数１〜１８、好ましくは炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基が挙げられる。成分の具体例としては、オクチルスルホン酸、デシルスルホン酸、ドデシルスルホン酸、テトラデシルスルホン酸、ヘキサデシルスルホン酸、オクタデシルスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、が挙げられ、これらは遊離の酸もしくは塩の形態であってもよく、１種又は２種以上含有してもよい。スルホ基（スルホン酸基）の塩としては、ナトリウム、カリウム、リチウム、ルビジウム、セシウムなどのアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩などが挙げられ、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩が特に好ましい。
【００３０】
（Ｃ）成分の配合量は、水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜２０質量％、好ましくは０．１〜１５質量％である。
【００３１】
（Ｄ）キレート剤
キレート剤は、本発明の水溶性洗浄剤組成物の効果を阻害しない限り特に限定されない。
【００３２】
（Ｄ）成分としては、例えば、シュウ酸、クエン酸、アスパラギン酸、マレイン酸、マロン酸、グルコン酸、リンゴ酸、酒石酸、チオグリコール酸、ニトリロトリ酢酸、ニトリロトリスメチレンホスホン酸、エチレンジアミン４酢酸、ジエチレントリアミン５酢酸、ピロリン酸カリウム等のオキシ酸、アラニン、アルギニン、グアノシン、グリシン、システイン、セリン、トリプトファン、スレオニン、ニコチン酸、ヒスチジン、フェニルアラニン、プロリン、メチオニン、リジン、ロイシン等のアミノ酸類、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸等のポリカルボン酸類、アセチルアセトン等のケトン類が挙げられ、これらは遊離の酸、遊離のアミノ酸、遊離のポリカルボン酸、遊離のケトン類を含む単体もしくは塩の形態であってもよく、１種又は２種以上含有してもよい。（Ｄ）成分は市販品を使用すればよい。
【００３３】
（Ｄ）成分は、これらの中でも、エチレンジアミン４酢酸、ヒドロキシエチレンジアミン３酢酸、ジエチレントリアミン５酢酸、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸又はこれらの塩、ピロリン酸カリウムが好ましい。
【００３４】
キレート剤の含有量は、水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜３０質量％、好ましくは０．１〜２０質量％である。
【００３５】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、上記の（Ａ）〜（Ｄ）成分に加えてさらに、（Ｅ）水酸化アルカリ、水酸化テトラメチルアンモニウム、及びアミンからなる群から選ばれる少なくとも一種を含有することができる。これらの塩基性成分は、水溶性洗浄剤組成物のｐＨを調整するために配合することができる。水溶性洗浄剤組成物のｐＨは、７．０〜１４．０好ましくは８．０〜１４．０である。
【００３６】
水酸化アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物が挙げられる。
【００３７】
アミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、１−メチルモノエタノールアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、などが挙げられる。
【００３８】
（Ｅ）成分の配合量は、水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜３０質量％、好ましくは０．０１〜２０質量％である。
【００３９】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、（Ａ）〜（Ｄ）の成分に加えて、さらに（Ｆ）水を含むことができる。
【００４０】
（Ｆ）成分（水）の配合量は、水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして３０〜９９質量％、好ましくは３０〜９８質量％である。水の含有量が３０質量％未満では不均一となったり、粘度が高くなり取り扱いにくい。
【００４１】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、水溶液として洗浄対象物に適用することができる。洗浄対象物としてはエレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂などが挙げられ、これらの材料を水溶性洗浄剤組成物の水溶液に浸漬、あるいはこれらの材料に対し水溶性洗浄剤組成物の水溶液を噴霧などにより適用して洗浄し、その後、水によりリンスすることで洗浄対象物の洗浄を行うことができる。
【００４２】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、前記原液をそのまま洗浄剤として使用してもよいし、原液をさらに水により希釈して洗浄剤として使用してもよい。希釈する場合、希釈水の種類は、原液に用いた水を用いればよい。原液の希釈度は、要求される性能に応じて決めればよいが、通常は前記原液を０．１重量％以上１００重量％以下に希釈して用いる。好ましくは、０．５重量％以上３０重量％以下に希釈して用いる。
【００４３】
原液に用いる水は、通常、水道水、イオン交換水、純水、超純水であり、好ましくは、イオン交換水、純水、超純水である。
【実施例】
【００４４】
以下に、本発明の水溶性洗浄剤組成物の評価を挙げて、本発明を一層明らかにするが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４５】
１．洗浄性評価
以下の条件で洗浄試験の評価を行った。
（i）十分に脱脂した、ステンレス板（ＳＵＳ３０４：０．８×２５×５０ｍｍ）を６枚１組として重量を測定した。
（ii）ステンレス板に加工油（新日本石油社製ユニカットテラミＡＨ３０）を塗布し、乾燥後重量を測定し加工油の付着量を算出した。
（iii）テストピース６枚を表１及び表２に記載の配合割合で調製した洗浄剤の５重量％希釈液に浸漬させ、攪拌回転数１００ｒｐｍで２分間、４０℃にて洗浄操作を行った。
（iv）洗浄後、常温で１分間イオン交換水に浸漬させることにより水洗を行い、十分に自然乾燥させた。
（v）テストピース６枚分の合計重量をそれぞれ測定し、加工油の除去量・除去率を算出した。
（vi）洗浄性の判定は、除去率６０％未満を×、６０％以上７０％未満を○、７０％以上を◎として行った。
【００４６】
２．リンス性評価
（i）十分に脱脂した、ステンレス板（ＳＵＳ３０４：０．８×２５×５０ｍｍ）を表１及び表２に記載の配合割合で調製した洗浄剤の原液に１分間浸漬させ、常温で１分間イオン交換水に浸漬させることにより水洗を行い、十分に自然乾燥させた。
（ii）ステンレス板に対する水の接触角を測定した。接触角
（iii）洗浄性の判定は、ブランクが８０°前後であるのに対して３０°未満を×、３０°以上４０°未満を○、４０°以上を◎として行った。
【００４７】
洗浄性及びリンス性の評価結果を表１に示す。
【００４８】
【表１】
【００４９】
【表２】
【００５０】
実施例の洗浄剤においては、油脂分の洗浄性及びリンス性において優れた結果を示した。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水溶性洗浄剤組成物に関し、特に、エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄に供する水溶性洗浄剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等を洗浄する工程において、製品表面の清浄度はかつてにも増して求められており、製品の品質や歩留まりの悪化を抑えるべく、製品表面上の油分汚れや微粒子の異物が十分な清浄度が必要である。しかし近年、更なる品質向上を満たすためには洗浄剤自身の成分残渣が少ない、高いリンス性も求められている。
【０００３】
特許文献１〜３は、いずれも洗浄剤組成物を開示しているが、洗浄性またはリンス性において改善の余地があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平8-053694号公報
【特許文献２】特開平11-209789 号公報
【特許文献３】特開2010-077190 号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄、リンス工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、製品表面の清浄度について研究を行った結果、アルキルアミンオキサイド、硫酸残基を有する陰イオン性界面活性剤、スルホン酸基を有する陰イオン性界面活性剤、キレート剤を特定割合で混合することにより、製品表面の洗浄性及びリンス性に優れた水溶性洗浄剤組成物が得られることを見出し、更に鋭意検討を重ねて本発明を完成するに至った。本発明は、下記項１〜７に示す水溶性洗浄剤組成物を提供する。
項１．
（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、
（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、
（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、
（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％
を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。
項２．
上記成分（Ａ）アルキルアミンオキサイドが次の一般式（Ｉ）
【０００７】
【化１】
【０００８】
〔式中、Ｒ１は炭素数８〜１８の直鎖もしくは分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜３のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示す〕で表わされる項１記載の水溶性洗浄剤組成物。
項３．
上記成分（Ｂ）が、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有し、エチレンオキシドの平均付加モル数が１〜９のポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有するアルキル硫酸エステル及び、その塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する項１〜２のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
項４．
上記成分（Ｃ）が炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有する、アルキルスルホン酸及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有する項１〜３のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
項５．
上記成分（Ｄ）が、ヒドロキシカルボン酸系キレート剤及び／又はアミノポリカルボン酸系キレート剤である項１〜４のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
項６．
成分（Ａ）〜成分（Ｄ）を水に溶解した水溶液の形態である、項１〜５のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
項７．
水酸化アルカリ、水酸化テトラメチルアンモニウム、及びアミンからなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する項１〜６のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の水溶性洗浄剤組成物を用いることにより、エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程及びリンス工程で要求される製品表面の高清浄度を実現でき、製品の品質や歩留まりの悪化を抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、以下の（Ａ）〜（Ｄ）の成分を含み、（Ｅ）の成分を必要に応じて含み得る。
【００１１】
（Ａ）アルキルアミンオキサイド
本発明で使用するアルキルアミンオキサイドは、一般式（Ｉ）
【００１２】
【化２】
【００１３】
〔式中、Ｒ１は炭素数８〜１８の直鎖もしくは分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜３のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示す〕で表わされる。
【００１４】
Ｒ１のアルキル基としては、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、イソオクタデシル(イソステアリル)などの炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基が挙げられる。
【００１５】
アルケニル基としては、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基が挙げられる。
【００１６】
Ｒ２、Ｒ３のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなどの炭素数１〜３の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基が挙げられる。
【００１７】
ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、１−メチル−２−ヒドロキシエチルなどの炭素数１〜３の直鎖もしくは分岐を有するヒドロキシアルキル基が挙げられる。
【００１８】
アルキルアミンオキシドの含有量は水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜２０質量％、好ましくは０．１〜１５質量％である。
【００１９】
（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤としては、下記の一般式（II）：
R-O- (CH2CH2O)m-SO3X (II)
（式中、Ｒは炭素数１〜１８の炭化水素基である。Xは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム(NH4)またはアミンを示す。ｍは０〜９の整数である。）で表されるポリオキシエチレン有機硫酸エステル（ｍは１〜９）、炭素数１〜１８の有機硫酸エステル（ｍ＝０）およびその塩が挙げられ、Ｒが炭素数１〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基であるポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル、炭素数１〜１８のアルキル硫酸エステルが好ましく例示される。Ｒで表される炭化水素基としては、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基、炭素数２〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基、アリール基（フェニル、ナフチル、アントラニル、フェナントリルなど）、アラルキル基（ベンジル、フェネチルなど）などが挙げられる。
【００２０】
炭素数１〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数１〜１８、好ましくは炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基が挙げられる。
【００２１】
炭素数２〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基としては、ビニル、アリル、1-ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、へキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数２〜１８、好ましくは炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基が挙げられる。
【００２２】
アリール基としては、フェニル、トルイル、キシリル、ナフチル、アントラセニル、フェナントリルなどが挙げられる。
【００２３】
アラルキル基としては、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、オクチルフェニル、ノニルフェニルなどが挙げられる。
【００２４】
ｍは０〜９の整数、好ましくは３〜７の整数である。
【００２５】
（Ｂ）成分は一種単独で使用してもよいし、二種以上を混合して使用してもよい。
【００２６】
（Ｂ）成分の具体例としてはメチル硫酸エステル、エチル硫酸エステル、ブチル硫酸エステル、プロピル硫酸エステル、ペンチル硫酸エステル、ヘキシル硫酸エステル、シクロヘキシル硫酸エステル、オクチル硫酸エステル、イソオクチル硫酸エステル、デシル硫酸エステル、イソデシル硫酸エステル、トリデシル硫酸エステル、イソトリデシル硫酸エステル、オレイル硫酸エステル、イソステアリル硫酸エステル、ベンジル硫酸エステル、ノニルフェニル硫酸エステル、オクチルフェニル硫酸エステルおよびその塩またはこれらのＥＯ付加物及びその塩等が挙げられる。硫酸基の塩としては、ナトリウム、カリウム、リチウム、ルビジウム、セシウムなどのアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩などが挙げられ、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩が特に好ましい。
【００２７】
（Ｂ）成分の配合量は水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜２０質量％、好ましくは０．１〜１５質量％である。
【００２８】
（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤としては、炭素数１〜１８のアルキルスルホン酸およびその塩が挙げられる。
【００２９】
（Ｃ）炭化水素基としては、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基、炭素数２〜１８の直鎖又は分岐を有するアルケニル基が挙げられる。炭素数１〜１８のアルキル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数１〜１８、好ましくは炭素数８〜１８の直鎖又は分岐を有するアルキル基が挙げられる。成分の具体例としては、オクチルスルホン酸、デシルスルホン酸、ドデシルスルホン酸、テトラデシルスルホン酸、ヘキサデシルスルホン酸、オクタデシルスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、が挙げられ、これらは遊離の酸もしくは塩の形態であってもよく、１種又は２種以上含有してもよい。スルホ基（スルホン酸基）の塩としては、ナトリウム、カリウム、リチウム、ルビジウム、セシウムなどのアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩などが挙げられ、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩が特に好ましい。
【００３０】
（Ｃ）成分の配合量は、水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜２０質量％、好ましくは０．１〜１５質量％である。
【００３１】
（Ｄ）キレート剤
キレート剤は、本発明の水溶性洗浄剤組成物の効果を阻害しない限り特に限定されない。
【００３２】
（Ｄ）成分としては、例えば、シュウ酸、クエン酸、アスパラギン酸、マレイン酸、マロン酸、グルコン酸、リンゴ酸、酒石酸、チオグリコール酸、ニトリロトリ酢酸、ニトリロトリスメチレンホスホン酸、エチレンジアミン４酢酸、ジエチレントリアミン５酢酸、ピロリン酸カリウム等のオキシ酸、アラニン、アルギニン、グアノシン、グリシン、システイン、セリン、トリプトファン、スレオニン、ニコチン酸、ヒスチジン、フェニルアラニン、プロリン、メチオニン、リジン、ロイシン等のアミノ酸類、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸等のポリカルボン酸類、アセチルアセトン等のケトン類が挙げられ、これらは遊離の酸、遊離のアミノ酸、遊離のポリカルボン酸、遊離のケトン類を含む単体もしくは塩の形態であってもよく、１種又は２種以上含有してもよい。（Ｄ）成分は市販品を使用すればよい。
【００３３】
（Ｄ）成分は、これらの中でも、エチレンジアミン４酢酸、ヒドロキシエチレンジアミン３酢酸、ジエチレントリアミン５酢酸、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸又はこれらの塩、ピロリン酸カリウムが好ましい。
【００３４】
キレート剤の含有量は、水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜３０質量％、好ましくは０．１〜２０質量％である。
【００３５】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、上記の（Ａ）〜（Ｄ）成分に加えてさらに、（Ｅ）水酸化アルカリ、水酸化テトラメチルアンモニウム、及びアミンからなる群から選ばれる少なくとも一種を含有することができる。これらの塩基性成分は、水溶性洗浄剤組成物のｐＨを調整するために配合することができる。水溶性洗浄剤組成物のｐＨは、７．０〜１４．０好ましくは８．０〜１４．０である。
【００３６】
水酸化アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物が挙げられる。
【００３７】
アミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、１−メチルモノエタノールアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、などが挙げられる。
【００３８】
（Ｅ）成分の配合量は、水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして０．０１〜３０質量％、好ましくは０．０１〜２０質量％である。
【００３９】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、（Ａ）〜（Ｄ）の成分に加えて、さらに（Ｆ）水を含むことができる。
【００４０】
（Ｆ）成分（水）の配合量は、水溶性洗浄剤組成物の総量を基準にして３０〜９９質量％、好ましくは３０〜９８質量％である。水の含有量が３０質量％未満では不均一となったり、粘度が高くなり取り扱いにくい。
【００４１】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、水溶液として洗浄対象物に適用することができる。洗浄対象物としてはエレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂などが挙げられ、これらの材料を水溶性洗浄剤組成物の水溶液に浸漬、あるいはこれらの材料に対し水溶性洗浄剤組成物の水溶液を噴霧などにより適用して洗浄し、その後、水によりリンスすることで洗浄対象物の洗浄を行うことができる。
【００４２】
本発明の水溶性洗浄剤組成物は、前記原液をそのまま洗浄剤として使用してもよいし、原液をさらに水により希釈して洗浄剤として使用してもよい。希釈する場合、希釈水の種類は、原液に用いた水を用いればよい。原液の希釈度は、要求される性能に応じて決めればよいが、通常は前記原液を０．１重量％以上１００重量％以下に希釈して用いる。好ましくは、０．５重量％以上３０重量％以下に希釈して用いる。
【００４３】
原液に用いる水は、通常、水道水、イオン交換水、純水、超純水であり、好ましくは、イオン交換水、純水、超純水である。
【実施例】
【００４４】
以下に、本発明の水溶性洗浄剤組成物の評価を挙げて、本発明を一層明らかにするが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４５】
１．洗浄性評価
以下の条件で洗浄試験の評価を行った。
（i）十分に脱脂した、ステンレス板（ＳＵＳ３０４：０．８×２５×５０ｍｍ）を６枚１組として重量を測定した。
（ii）ステンレス板に加工油（新日本石油社製ユニカットテラミＡＨ３０）を塗布し、乾燥後重量を測定し加工油の付着量を算出した。
（iii）テストピース６枚を表１及び表２に記載の配合割合で調製した洗浄剤の５重量％希釈液に浸漬させ、攪拌回転数１００ｒｐｍで２分間、４０℃にて洗浄操作を行った。
（iv）洗浄後、常温で１分間イオン交換水に浸漬させることにより水洗を行い、十分に自然乾燥させた。
（v）テストピース６枚分の合計重量をそれぞれ測定し、加工油の除去量・除去率を算出した。
（vi）洗浄性の判定は、除去率６０％未満を×、６０％以上７０％未満を○、７０％以上を◎として行った。
【００４６】
２．リンス性評価
（i）十分に脱脂した、ステンレス板（ＳＵＳ３０４：０．８×２５×５０ｍｍ）を表１及び表２に記載の配合割合で調製した洗浄剤の原液に１分間浸漬させ、常温で１分間イオン交換水に浸漬させることにより水洗を行い、十分に自然乾燥させた。
（ii）ステンレス板に対する水の接触角を測定した。接触角
（iii）洗浄性の判定は、ブランクが８０°前後であるのに対して３０°未満を×、３０°以上４０°未満を○、４０°以上を◎として行った。
【００４７】
洗浄性及びリンス性の評価結果を表１に示す。
【００４８】
【表１】
【００４９】
【表２】
【００５０】
実施例の洗浄剤においては、油脂分の洗浄性及びリンス性において優れた結果を示した。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、
（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、
（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、
（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％
を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。
【請求項２】
上記成分（Ａ）アルキルアミンオキサイドが次の一般式（Ｉ）
【化１】
〔式中、Ｒ１は炭素数８〜１８の直鎖もしくは分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜３のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示す〕で表わされる請求項１記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項３】
上記成分（Ｂ）が、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有し、エチレンオキシドの平均付加モル数が１〜９のポリオキシエチレンアルキル/アルケニル硫酸エステル、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有するアルキル/アルケニル硫酸エステル及びその塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する請求項１〜２のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項４】
上記成分（Ｃ）が炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有する、アルキルスルホン酸及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項５】
上記成分（Ｄ）が、ヒドロキシカルボン酸系キレート剤及び／又はアミノポリカルボン酸系キレート剤である請求項１〜４のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項６】
成分（Ａ）〜成分（Ｄ）を水に溶解した水溶液の形態である、請求項１〜５のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項７】
水酸化アルカリ、水酸化テトラメチルアンモニウム、及びアミンからなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する請求項１〜６のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項１】
（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、
（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、
（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、
（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％
を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。
【請求項２】
上記成分（Ａ）アルキルアミンオキサイドが次の一般式（Ｉ）
【化１】
〔式中、Ｒ１は炭素数８〜１８の直鎖もしくは分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜３のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基を示す〕で表わされる請求項１記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項３】
上記成分（Ｂ）が、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有し、エチレンオキシドの平均付加モル数が１〜９のポリオキシエチレンアルキル/アルケニル硫酸エステル、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有するアルキル/アルケニル硫酸エステル及びその塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する請求項１〜２のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項４】
上記成分（Ｃ）が炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキルまたはアルケニル基を有する、アルキルスルホン酸及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項５】
上記成分（Ｄ）が、ヒドロキシカルボン酸系キレート剤及び／又はアミノポリカルボン酸系キレート剤である請求項１〜４のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項６】
成分（Ａ）〜成分（Ｄ）を水に溶解した水溶液の形態である、請求項１〜５のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【請求項７】
水酸化アルカリ、水酸化テトラメチルアンモニウム、及びアミンからなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する請求項１〜６のいずれかに記載の水溶性洗浄剤組成物。
【公開番号】特開２０１３−７２００８（Ｐ２０１３−７２００８Ａ）
【公開日】平成２５年４月２２日（２０１３．４．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２１２１１１（Ｐ２０１１−２１２１１１）
【出願日】平成２３年９月２８日（２０１１．９．２８）
【出願人】（０００１３５２６５）株式会社ネオス (95)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月２２日（２０１３．４．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月２８日（２０１１．９．２８）
【出願人】（０００１３５２６５）株式会社ネオス (95)
【Ｆターム（参考）】
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