説明

水酸基を末端に有する炭化水素系重合体の製造方法

【課題】 末端に水酸基を導入した飽和炭化水素系重合体は高耐候性ウレタン原料として有用である。これまでは、重合終了後にオレフィン末端へと変換し、さらにハイドロボレーション反応を行うといった多段階の反応が必要であった。
【解決手段】カチオン重合によって得られるハロゲン末端炭化水素系重合体に、水酸基を保護した置換基および不飽和結合を含む化合物を反応させることによって、保護した水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体を容易に得ることができる。この化合物は加水分解によって容易に水酸基末端の重合体に変換が可能である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、水酸基を末端に有する炭化水素系重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
一般に、アニオン重合によって合成されるポリブタジエンポリオールおよびポリイソプレンポリオールを水素添加することによって、末端に水酸基を有する飽和炭化水素系重合体が得られることが知られている。リビングアニオン重合では、重合終了後にエチレンオキシドを作用させることにより、1級の水酸基を容易に末端に定量的に導入することが可能である。
【0003】
これらの水酸基末端ポリオールはイソシアネート化合物と容易に反応し、ウレタン系の硬化物を与える。このポリマーを用いることによって、ポリエーテル系あるいはポリエステル系ポリオールを成分とするウレタン組成物で問題とされている、耐候性、耐薬品性等の性能を向上させることが知られている。しかしこれらの水酸基末端ポリオールを用いたウレタン組成物の素材としての各種耐久性については、まだ十分とは言えない。また水酸基末端ポリオールを製造する際には、水素添加という困難な工程を経る必要があるという問題もある。
【0004】
一方、高耐候性が期待される飽和炭化水素系高分子重合体として、カチオン重合により得られるポリイソブチレンが知られている。特にリビングカチオン重合により、定量的にポリイソブチレンの末端に官能基を導入する反応は知られている。J.P.Kennedyらはリビングカチオン重合によって合成される塩素基を末端に有するポリイソブチレンをまず合成し、次いでi)tBuOKを用いて末端の脱塩酸反応をおこなうことによりイソプロペニル基末端基に誘導したり、あるいはii)四塩化チタン存在下でアリルトリメチルシランを反応させることでアリル基末端のポリイソブチレンを合成した後に、BHまたは9−BBNといったヒドリド−ボラン試薬と過酸化水素を用いることによって定量的に末端に水酸基を導入する方法を開示している(例えば非特許文献1,非特許文献2)。さらにJ.P.Kennedyらは、水酸基末端ポリイソブチレンとイソシアネート基を複数有する化合物との反応によって得られたウレタン樹脂が高耐候性を示すことも報告している。しかしながら、この方法はリビングカチオン重合によって得られた塩素末端のポリイソブチレンをオレフィン末端に誘導した後に、水酸基に変換する必要がある。さらに、用いる原料が極めて特殊であり、この方法は工業的スケールで飽和炭化水素系ポリオールを製造するには適していない。
【0005】
【非特許文献1】B. Ivan,J.P. Kennedy,V. S. C. Chang、「J. Polym. Sci., Polym. Chem, Ed.」、1980年、第18巻、p. 3177
【非特許文献2】B. Ivan,J. P. Kennedy、「Polym. Mater. Sci. Eng.」、1988年、第58巻、p. 866
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
そこで、本発明はヒドリド−ボラン試薬のような特殊で高価な試薬を用いることなく、カチオン重合によって得られる飽和炭化水素系重合体のハロゲン末端から一段反応で合成可能な、脱保護によって容易に水酸基を与える保護された水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体の製法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、カチオン重合性単量体を主成分とする単量体成分を、炭素−炭素単結合を形成するようにカチオン重合して得られるハロゲン末端重合体と、保護された水酸基および炭素−炭素二重結合を有する化合物との反応により得られる、保護された水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体を脱保護する事によって得られる水酸基を末端に有する重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法に関する。
【発明の効果】
【0008】
本発明によって得られる重合体は末端に脱保護によって容易に水酸基に変換することが可能な官能基を有する新規な飽和炭化水素系重合体であり、重合終了後、溶媒の交換、触媒の除去等の特別な処理することなく、1ポットで水酸基を効率的に導入することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
重合開始剤を用いるリビングカチオン重合(イニファー法)によって得られるハロゲン基末端のテレケリックなポリイソブチレンに他の基質を反応させることにより、末端を修飾する反応に関しては多くの報告がなされている。ポリイソブチレン末端の塩素−炭素間にオレフィンを挿入する方法として、例えば塩化メチレン/ヘキサンの混合溶剤系、−80℃〜−30℃においてルイス酸を触媒として用いることで、共役および非共役のジエンをポリマー末端に導入する系が知られている(例えばUS5212248、特開平4−288309等)。ブタジエンなどの共役ジエンを反応させた系では高い反応性が期待されるハロゲン化アリル末端となり、更なる脱保護等で末端水酸基への変換も期待される。しかしながら、この方法ではハロゲン末端ポリイソブチレンから1ステップで水酸基末端に変換することは出来ない。そこで、検討を重ね、本発明をなすに至った。
【0010】
本発明における重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体とは、カチオン重合性単量体を主成分とする単量体成分を、炭素−炭素単結合を形成するようにカチオン重合することによって得られる、主鎖中にはC−C二重結合を有さない(すなわち飽和な)重合体を意味するが、主鎖にぶら下がったグラフト基にはC−C二重結合を有していてもよい。また、カチオン重合の際に用いる重合開始剤中にはC−C二重結合を有していても構わない。なお、本願においては、このような重合体を炭化水素系重合体または飽和炭化水素系重合体とよぶ場合がある。
【0011】
保護された水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体の構造は、カチオン重合によって得られるハロゲン末端炭化水素系重合体が式(3):
(A−X) (3)
(式中、R1は単環または複数の芳香環を含む1価から4価までの炭化水素基、Xは塩素基または臭素基、aは1から4の整数。Aは一種又は二種以上のカチオン重合性単量体の重合体で、aが2以上の時は同じでも異なっていてもよい。)で表され、保護された水酸基および炭素−炭素二重結合を有する化合物が式(1):
CH=C(R)−B−OG (1)
(式中、Rは水素または炭素数1から18の飽和炭化水素基を、Bは炭素数1から30の2価の炭化水素基を、Gは水酸基の保護基を表す。)で表されるものであることが好ましい。
【0012】
なお式(1)中のBは、炭素数1から30の2価の炭化水素基であって、0〜5個の炭素−炭素二重結合〔ただしCH=C(R)−基(Rは上記と同じ)を有するものを除く〕及び/又は0〜3個の芳香環を有することが好ましい。また、式(1)中のBは、0〜3個の−CH=CH−で表される2価の基を有することがさらに好ましい。
【0013】
また前記式(1)の化合物としては、式(2):
CH=C(R)−(CH―{−CH=CH−(CH−OG (2)
(式中、Rは水素または炭素数1から18の飽和炭化水素基を表し、b及びcは1から30の整数であって同一であっても異なっていても良く、nは0から5の整数を、Gは水酸基の保護基を表す。)で表されるものであることがより好ましい。
【0014】
この方法によって得られる保護した水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体は脱保護によって容易に水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体に変換することが可能である。
【0015】
前記式(3)におけるカチオン重合性のモノマーには特に制限はないが、好ましいモノマーとしては、例えばイソブチレン、インデン、ピネン、スチレン、メトキシスチレン、クロルスチレン等を挙げることができる。
【0016】
また本発明の重合体を硬化性組成物の原料とする場合には、架橋前には液状であり、架橋後にはゴム状の硬化物を与え得るイソブチレン系重合体を製造するのが好ましい。
【0017】
イソブチレン系重合体は、単量体単位のすべてがイソブチレン単位から形成されていてもよいし、イソブチレンと共重合体を有する単量体単位をイソブチレン系重合体中の好ましくは50%以下(重量%、以下同じ)、さらに好ましくは30%以下、とくに好ましくは10%以下の範囲で含有してもよい。
【0018】
このような単量体成分としては、たとえば、炭素数4〜12のオレフィン、ビニルエーテル、芳香族ビニル化合物、ビニルシラン類、アリルシラン類などがあげられる。このような共重合体成分としては、たとえば1−ブテン、2−ブテン、2−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ブテン、ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、ヘキセン、ビニルシクロヘキセン、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、ジメチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、β−ピネン、インデン、ビニルトリクロロシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリメチルシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジメチルシラン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、トリビニルメチルシラン、テトラビニルシラン、アリルトリクロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、アリルジメチルクロロシラン、アリルジメチルメトキシシラン、アリルトリメチルシラン、ジアリルジクロロシラン、ジアリルジメトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシランなどがあげられる。
【0019】
さらに、架橋反応によって架橋性高分子化合物を得る際に充分な強度、耐候性、ゲル分率等を達成するためには、前記式(3)の重合体のaが2または3の塩素基末端ポリイソブチレンである飽和炭化水素系重合体が好ましい。
【0020】
保護した水酸基および炭素−炭素二重結合を含む化合物の保護基は脱保護によって水酸基を与えるものであれば特に限定されるものではないが、通常、炭素数0〜54の無機基又は有機基である。また、温和な条件下で脱保護が行える好ましい保護基として、下記のものを挙げることができる。
【0021】
【化2】

(式中、R、R、Rは水素、または炭素数1から18の飽和炭化水素基を表し、Rを複数含む基においては同一であっても異なっていてもよい。XはCl、Br、Iから選ばれる官能基である。MはLi、Na、Kから選ばれる1価の金属、MはMg、Ca、Sr、Baから選ばれる2価の金属、MはB、Al、Gaから選ばれる3価の金属、MはTi、Zr、Hf、Si、Ge、Sn、Pbから選ばれる4価の金属である。)
保護基としては、入手性や、脱保護後の重合体と保護基成分の分離のしやすさなどから、アルキル基、アシル基、RC(O)−基(ただしRは炭素数1〜10の飽和炭化水素基)、シリル基、金属アルコキシドが好ましく、メチル基、エチル基、n-及びi-プロピル基、n-、i-およびt-ブチル基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイル基、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基がさらに好ましく、これらの保護基が0〜54個の炭素原子を有するものであることが特に好ましい。
【0022】
ハロゲン末端炭化水素系重合体に反応させる基質である、前記式(1)で表される化合物としては、1置換あるいは1,1’−2置換の末端に保護した水酸基を有するオレフィンであれば特に制限されるものではないが、反応性の高さから、前記式(1)においてGを水素としたときに、アリルアルコール、メタリルアルコール、3−ブテン−1−オール、3−メチル−3−ブテン−1−オール、4−ペンテン−1−オール、5−ヘキセン−1−オール、6−ヘプテン−1−オール、7−オクテン−1−オール、8−ノネン−1−オール、9−デセン−1−オールおよび10−ウンデセン−1−オール、2,5−ヘキサジエノール、2,6−ヘプタジエノール、3,6−ヘプタジエノール、2,7−オクタジエノール、3,7−オクタジエノール、4,7−オクタジエノール、2,8−ノナジエノール、3,8−ノナジエノール、4,8−ノナジエノール、5,8−ノナジエノール、2,9−デカジエノール、3,9−デカジエノール、4,9−デカジエノール、5,9−デカジエノールまたは6,9−デカジエノールから選ばれる化合物が好ましい。
【0023】
前記式(3)のカチオン重合によって得られるハロゲン末端炭化水素系重合体に前記式(1)で表される保護した水酸基および素−炭素二重結合を含む化合物を反応させる際に、触媒としてルイス酸を用いることが可能である。この場合ルイス酸であれば特に限定されるものではないが、TiCl、AlCl、BCl、SnClが反応活性が高く、選択性が良好である点から好ましい。
【0024】
本発明において、反応溶剤としてハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、及び脂肪族炭化水素から任意に選ばれる単独又は混合溶剤を用いることが可能であるが、ポリマーの重合条件下での溶解性や反応性からハロゲン化炭化水素として塩化メチレン、クロロホルム、1,1−ジクロルエタン、1,2−ジクロルエタン、n−プロピルクロライド、n−ブチルクロライドのなかから選ばれる1種以上の成分であることが好ましい。同様の理由で、芳香族炭化水素はトルエンが好ましく、脂肪族炭化水素としてはペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンのなかから選ばれる1種以上の成分が好ましい。
【0025】
環境への悪影響が心配されるハロゲン化炭化水素を用いない反応溶剤として、例えばトルエン、エチルシクロヘキサン、あるいはこれらの混合溶剤を用いることで、保護された水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体の製造が容易に達成できる。
【0026】
脱保護反応は、保護基を水酸基に誘導する反応であれば特に制限されるものではないが、好ましい反応としては加水分解反応、熱分解反応などがあげられる。
【0027】
加水分解反応は溶剤系、無溶剤系のどちらでも行うことが可能である。溶剤系の反応に用いる溶剤は特に限定されるものではないが、保護された水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体を製造する溶剤を用いることが好ましい。加水分解を行う条件としては酸性、塩基性条件のどちらでも可能であるが、加水分解反応の効率から塩基性水溶液を用いて加水分解反応を行うことが好ましい。
【0028】
塩基条件下での加水分解に用いる試薬としては、通常の加水分解反応に用いる有機または無機の塩基化合物であれば特に制限されるものではないが、取り扱いの容易さなどから水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム、t−ブトキシカリウム、t−ブトキシナトリウム、カリウムメトキシド、ナトリウムメトキシドなどが特に好ましい。
【0029】
加水分解反応では、触媒の添加を行うことによって、効率的に反応を進行させることが可能である。このような触媒としては有機および無機の触媒のいずれでも反応が可能であるが、反応の容易さから有機塩が好ましく、特に4級アンモニウム塩が好ましい。代表的なアンモニウム塩としては、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化トリエチルベンジルアンモニウム、塩化トリオクチルメチルアンモニウム、塩化トリブチルベンジルアンモニウム、塩化トリメチルベンジルアンモニウム、塩化N−ラウリルピリジニウム、水酸化テトラ−n−ブチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、臭化トリメチルフェニルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム。臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハイドロゲンサルフェート、N−ベンジルピコリニウムクロライド、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、ヨウかテトラ-n-ブチルアンモニウム、N−ラウリル−4−ピコリニウムクロライド、N−ラウリルピコリニウムクロライドなどが挙げられる。
【0030】
本発明にかかる保護された水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体の製造は、例えば以下のようにして行われる。すなわち、式(3)で示されるハロゲン基を末端に有する重合体に1〜4当量の式(1)で表される保護した水酸基を末端に有するオレフィン化合物を反応溶剤としてクロロホルム、塩化メチレン、1,1−ジクロルエタン、1,2−ジクロルエタン、n−プロピルクロライド、n−ブチルクロライド、トルエン、ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンのなかから選ばれる1種以上の成分からなる溶剤に溶解する。これに、ピリジン、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、2,6−ジ−t−ブチルピリジン等のエレクトロンドナー共存下、−100℃〜−30℃の温度範囲でTiCl、AlCl、BCl、SnCl等のルイス酸触媒を添加し、30分〜5時間反応させることで、目的とする水酸基を末端に有する飽和炭化水素系重合体が得られる。
【0031】
ここで、本発明に到達した過程について若干説明する。
【0032】
ルイス酸と水酸基を持つ化合物は反応することによってハロゲン化水素を与えることが知られている。水酸基末端のオレフィン化合物をルイス酸と接触させるとハロゲン化水素が生成し、さらにオレフィンへのハロゲン化水素の付加反応が進行することが検討の結果明らかになった。
【0033】
そこで、オレフィン基質の末端を脱保護反応によって容易に水酸基に誘導することが可能な基で保護することにより、HClが発生する副反応を抑えた。
【0034】
すなわち水酸基を持つオレフィン化合物の水酸基の水素原子を以下の基
【0035】
【化3】

(式中、R、R、Rは水素、または炭素数1から18の飽和炭化水素基を表し、Rを複数含む基においては同一であっても異なっていてもよい。XはCl、Br、Iから選ばれる官能基である。MはLi、Na、Kから選ばれる1価の金属、MはMg、Ca、Sr、Baから選ばれる2価の金属、MはB、Al、Gaから選ばれる3価の金属、MはTi、Zr、Hf、Si、Ge、Sn、Pbから選ばれる4価の金属である。)に変換することで、オレフィン基質のハロゲン末端炭化水素系重合体への付加反応における副反応を抑制した。
【0036】
水酸基の保護基によっては、ルイス酸に配位するものもある。基質の触媒への配位は反応活性を低下させることから、付加反応の際にはオレフィン化合物に対して当量以上のルイス酸を用いることが好ましく、特に好ましくは1〜20当量である。
【0037】
本発明において用いるルイス酸は、イニファー法によるリビングカチオン重合に用いることが可能である。まず、イニファー法によりハロゲン基を末端に有する重合体を得てから、単離等の処理をすること無しに、保護した水酸基を末端に有するオレフィン化合物および必要に応じてルイス酸、エレクトロンドナー等を加えることにより、保護した水酸基を末端に有する重合体を1ポットで得ることが可能である。
【0038】
式(3)におけるRは重合開始剤の残基であり、イニファー法によるリビングカチオン重合に用いることが出来る1から4官能の開始剤の残基であれば特に制限されるものではない。開始剤の官能基数は2又は3であることが好ましい。このうち、以下に示したベンジル位に置換基を有する化合物は、重合時の開始剤効率が高いので好ましい。
【0039】
【化4】

(式中、Yは塩素基、臭素基、メトキシ基、アセチル基を表す。)
【0040】
重合反応の溶剤は特に制限されるものではないが、重合反応の後、1ポットでオレフィン化合物を製造することも可能となることから、末端に保護された水酸基を導入する反応の溶剤と同じであることが好ましい。重合反応と末端への水酸基の導入反応に共通する反応溶剤としてハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、及び脂肪族炭化水素から任意に選ばれる単独又は混合溶剤を用いることが可能であるが、ポリマーの重合条件下での溶解性や反応性からハロゲン化炭化水素として塩化メチレン、クロロホルム、1,1−ジクロルエタン、1,2−ジクロルエタン、n−プロピルクロライド、n−ブチルクロライドのなかから選ばれる1種以上の成分であることが好ましい。同様の理由で、芳香族炭化水素がトルエンが好ましく、脂肪族炭化水素としてはペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンのなかから選ばれる1種以上の成分が好ましい。
【0041】
近年、環境問題上、非ハロゲン化が重要な技術となっているが、本系に於いてもトルエンとエチルシクロヘキサンの溶剤系はリビングカチオン重合で、狭い分子量分布でポリマーを得ることが可能であり、この条件下で保護された水酸基を有するオレフィン化合物の付加反応も速やかに進行する。重合性、重合体の低温での溶解度の観点から、溶剤の混合比率としてはトルエン:エチルシクロヘキサン=6:4〜9:1(重量比)が好ましい。
【0042】
このようにして得られた保護された水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体は加水分解反応によって容易に水酸基を末端に有する重合体主鎖が飽和な炭化水素系重合体へと変換可能である。
【0043】
式(1)又は式(2)で表される化合物中の保護基Gが炭素数2以上のアルキル基である系では熱分解反応が有効であり、通常50から250℃の条件下、加熱する事によって脱保護反応が進行する。この反応に際しては必要に応じて触媒を添加することで反応をより容易に進行させることが可能である。また、脱保護により水酸基を生成する反応としては、加水分解反応が有効である。加水分解反応は、通常酸性あるいは塩基性条件下で反応する。この際に溶剤を用いずに反応を行うことも可能であるが、有機溶剤に重合体を溶解して反応を行うことが好ましい。反応は、通常の加水分解反応を行う温度であれば行うことが可能であり、塩の存在及び高圧下での反応により−70℃から200℃での反応が可能である。ハンドリング性(すなわち取り扱いの容易さ)及び反応性が良好である点から、0℃から120℃での反応が好ましく、50℃から110℃での反応がさらに好ましい。塩基条件下でのの加水分解反応では、塩基濃度によって反応性が変化する。反応性が良好でハンドリングしやすい点から、塩基濃度としては10−7〜10モル/Lが好ましく、10−6〜10モル/Lがさらに好ましい。触媒の添加量は特に制限されるものではないが、反応速度および触媒除去の容易さから、加水分解基質に対して0.0001〜10倍モルが好ましく、0.01〜1倍モルであることがさらに好ましい。
【実施例】
【0044】
次に実施例を挙げて、本発明をより一層明らかにするが、実施例により本発明は何ら限定されるものではない。
【0045】
(実施例1)
500mlのセパラブルフラスコに三方コック、熱電対、および真空用シール付き撹拌機をつけて窒素置換を行った。これにモレキュラーシーブス3Aによって脱水したトルエン175ml、エチルシクロヘキサン21.7mlを加え、さらに1,4−ビス(1−クロル−1−メチルエチル)ベンゼン(1.63g,7.04mmol)、2−メチルピリジン(77.4mg,0.83mmol)を加えて−70℃に冷却した。冷却後、イソブチレンモノマー(35.5ml,598mmol)を導入し、さらに、この温度で四塩化チタン(0.98ml,8.93mmol)を添加し重合を開始した。この際に約15℃昇温した。約40分で重合は終了した(これに伴い反応系の発熱は観察されなくなった)。重合終了後に10−アセトキシ−1−デセン(2.80g,14.1mmol)および四塩化チタン(5.7ml,51.7mmol)を添加した。5時間反応の後に、80℃に加熱したイオン交換水300mlに反応混合物を導入し、さらに、1Lの分液ロートに移液して振盪した。水層を除去した後、300mlのイオン交換水で3回水洗した後に、有機層を単離し、これに1Lのアセトンを加えてポリマーを再沈殿させ、低分子化合物を除去した。沈殿物をさらにアセトン100mlで2回洗浄し、さらにヘキサン50mlに溶解した。溶液を300mlのなす型フラスコに移液し、オイルバスによる加熱条件下(180℃)、減圧(最終1Torr以下)によって溶媒留去を行い、目的とする保護した水酸基を末端に有するポリイソブチレンを得た。
【0046】
得られたポリイソブチレンの官能化率の分析はNMRを用いて行った。
(NMR)Valian社製Gemini−300、測定溶剤;四塩化炭素/重アセトン=4/1混合溶剤、定量方法;開始剤残基のシグナル(7.2ppm)を基準に末端のアセチル基に隣接するメチレンのシグナル(4.00ppm)を比較して定量化した。Fn(CHOMe)は重合体末端への官能基導入量であり、定量的に導入した時には今回用いた開始剤では2.0となる。
【0047】
実施例1で得られたポリマーの水酸基導入量は以下の通り;Fn(CHOMe)=1.48。
【0048】
(実施例2)
10−アセトキシ−1−デセン添加時の四塩化チタン添加量を2.1ml(19.2mmol)とした以外は実施例1と同様に行った。得られたポリマーの官能基導入量は以下の通り;Fn(CHOMe)=0.78。
【0049】
(実施例3)
10−アセトキシ−1−デセンの量を4.19g(21.2mmol)とした以外は実施例1と同様に行った。得られたポリマーの官能基導入量は以下の通り;Fn(CHOMe)=1.62。
【0050】
(実施例4)
10−アセトキシ−1−デセン添加時の四塩化チタン添加量を11.4ml(103.4mmol)とした以外は実施例1と同様に行った。得られたポリマーの官能基導入量は以下の通り;Fn(CHOMe)=1.43。
【0051】
(実施例5)
10−アセトキシ−1−デセン量を5.60g(28.2mmol),同化合物添加時の四塩化チタン添加量を11.4ml(103.4mmol)とした以外は実施例1と同様に行った。得られたポリマーの官能基導入量は以下の通り;Fn(CHOMe)=1.96。
【0052】
(実施例6)
5000mlのセパラブルフラスコに三方コック、熱電対、および真空用シール付き撹拌機をつけて窒素置換を行った。これにモレキュラーシーブス3Aによって脱水したトルエン1484ml、エチルシクロヘキサン184mlを加え、さらに1,4−ビス(1−クロル−1−メチルエチル)ベンゼン(13.87g,60.0mmol)、2−メチルピリジン(657.9mg,7.06mmol)を加えて−70℃に冷却した。冷却後、イソブチレンモノマー(299ml,3.58mol)を導入し、さらに、この温度で四塩化チタン(8.33ml、76.0mmol)を添加し重合を開始した。この際に約15℃昇温した。約60分で重合は終了した(これに伴い反応系の発熱は観察されなくなった)。重合終了後に4−アセトキシ−2−メチル−1−ブテン(30.8g,240mmol)および四塩化チタン(44.4ml,406mmol)を添加した。5時間反応の後に、80℃に加熱したイオン交換水1.5Lを反応混合物を導入し、20分間攪拌を行った。静置の後に水層を除去し、1Lの4N水酸化ナトリウム水溶液及び臭化テトラブチルアンモニウム15.0gを添加し、100℃にて12時間攪拌を行った。反応終了後、アルカリ水溶液を除去し、1Lのイオン交換水で3回水洗した後に、有機層を単離した。これに10Lのアセトンを加えてポリマーを再沈殿させ、低分子化合物を除去した。沈殿物をさらにアセトン1Lで2回洗浄し、さらにヘキサン500mlに溶解した。溶液を1Lのなす型フラスコに移液し、オイルバスによる加熱条件下(180℃)、減圧(最終1Torr以下)によって溶媒留去を行い、目的とする水酸基を末端に有するポリイソブチレンを得た。得られたポリイソブチレンの官能化率の分析はNMRを用いて行った。実施例6で得られたポリマーの水酸基導入量は以下の通り;Fn(CHOH)=1.66(分析方法は実施例1と同様である。なお、末端水酸基に隣接するメチレンのシグナルは3.55ppmに観察される)。
【0053】
(実施例7)
添加するアルケニル化合物を10−アセトキシ−1−デセンから酢酸オクタジエニル(4.74g、28.2mmol)に変更した以外は実施例3と同様に反応を行った。得られたポリマーの官能基導入量は以下の通り;Fn(CHOMe)=1.70(分析方法は実施例1と同様である。なお、アセトキシ基に隣接するメチレンのシグナルは4.20ppmに観察される)。
【0054】
(実施例8)
実施例6において用いる試薬を量を以下のように変更して、同様に反応を行った。トルエン592ml、エチルシクロヘキサン73.6ml、1,4−ビス(1−クロル−1−メチルエチル)ベンゼン(5.56g、24.0mmol)、2−メチルピリジン(264mg、2.83mmol)、イソブチレンモノマー(120ml,1.44mol)
重合反応時添加の塩化チタン(2.52ml、23.0mmol)。アルケニル付加反応時添加の酢酸オクタジエニル(32.4g,193mmol)及び四塩化チタン(39.8ml、386mmol)。加水分解反応時添加の2N水酸化ナトリウム水溶液1Lおよび臭化テトラブチルアンモニウム10.0g。得られたポリマーの水酸基導入量は以下の通り;Fn(CHOH)=1.90(分析方法は実施例1と同様である。なお、末端水酸基に隣接するメチレンのシグナルは4.00ppmに観察される)。
【0055】
(比較例1)
アルケニルアルコールとルイス酸の反応によるオレフィンへのハロゲン化水素の付加反応の観察
200mlの3口フラスコに三方コック、熱電対、および真空用シール付き撹拌機をつけて窒素置換を行った。これにモレキュラーシーブス3Aによって脱水したトルエン35ml、エチルシクロヘキサン4.3mlを加え、さらに2−メチルピリジン(15.5mg,0.17mmol)を加えて−70℃に冷却した。冷却後、9−デセン−1−オール(0.87g,5.6mmol)および四塩化チタン(1.3ml,11.8mmol)を添加した。2時間毎にサンプリングを行い(最終6時間)、サンプル中の四塩化チタンを純水にて失活した。水層を除去した後、H−NMRによって分析を行った。測定溶剤;重クロロホルム、定量方法;末端の水酸基に隣接するメチレンのシグナル(3.55ppm、3重線、2H)を基準にして新たに生成したオレフィンへの塩化水素付加物のシグナル(4.05ppm、6重線、1H)のエリアを比較し定量化した。9−デセン−1−オールの塩化水素付加化合物の生成量は以下のように時間とともに増加していた。
【0056】
【表1】

【0057】
(比較例2)水酸基末端アルケニル化合物の重合基末端への付加反応
実施例1において10−アセチル−1−デセンを添加する代わりに9−デセン−1−オール(2.20g、14.1mmol)に変更した以外は実施例1と同様に行った。
【0058】
得られたポリイソブチレンの官能化率の分析はNMRを用いて行った。測定溶剤;四塩化炭素/重アセトン=4/1混合溶剤、定量方法;開始剤残基のシグナル(7.2ppm)を基準に末端の水酸基に隣接するメチレンのシグナル(3.45ppm)を比較して定量化した。Fn(CHOH)は重合体末端への官能基導入量であり、定量的に導入した時には今回用いた開始剤では2.0となる。
【0059】
得られたポリマーの官能基導入量は以下の通り;Fn(CHOH)=1.21。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
炭素−炭素単結合を形成するカチオン重合性単量体を主成分とする単量体成分をカチオン重合して得られるハロゲン末端重合体と、式(1):
CH=C(R)−B−OG (1)
(式中、Rは水素または炭素数1から18の飽和炭化水素基を、Bは炭素数1から30の2価の炭化水素基を、Gは
【化1】

(式中、R、R、Rは水素、または炭素数1から18の飽和炭化水素基を表し、Rを複数含む基においては同一であっても異なっていてもよい。XはCl、Br、Iから選ばれる官能基である。MはLi、Na、Kから選ばれる1価の金属、MはMg、Ca、Sr、Baから選ばれる2価の金属、MはB、Al、Gaから選ばれる3価の金属、MはTi、Zr、Hf、Si、Ge、Sn、Pbから選ばれる4価の金属である。)で表される水酸基の保護基を表す。)
で表される保護された水酸基および炭素−炭素二重結合を有する化合物とを反応させて、保護された水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体を得た後、保護された水酸基を脱保護して水酸基に変換することを特徴とする、水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項2】
保護された水酸基および炭素−炭素二重結合を有する化合物が式(2):
CH=C(R)−(CH−{−CH=CH−(CH−OG (2)
(式中、Rは水素または炭素数1から18の飽和炭化水素基を表し、b及びcは1から30の整数であって同一であっても異なっていても良く、nは0から5の整数を、Gは水酸基の保護基を表す。)で表される、請求項1に記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項3】
カチオン重合によって得られるハロゲン末端重合体が式(3):
(A−X) (3)
(式中、Rは単環または複数の芳香環を含む1価から4価までの炭化水素基、Xは塩素基または臭素基、aは1から4の整数。Aは一種又は二種以上のカチオン重合性単量体の重合体で、aが2以上の時は同じでも異なっていてもよい。)で表される、請求項1または2に記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項4】
前記式(3)のカチオン重合によって得られる重合体がイソブチレン系重合体である、請求項3に記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項5】
前記式(3)のaが2または3で、Aがポリイソブチレンで、Xが塩素である、請求項3または4に記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項6】
前記式(1)または(2)の保護基Gがアルキル基、アシル基、RC(O)−基(ただしRは炭素数1〜10の飽和炭化水素基)、シリル基、および金属アルコキシドのいずれかであることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項7】
前記式(1)または(2)の保護基Gがメチル基、エチル基、n−及びi−プロピル基、n−、i−およびt−ブチル基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、およびトリメチルシリル基のいずれかであることを特徴とする、請求項6に記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項8】
前記式(1)で表される化合物が、アリルアルコール、メタリルアルコール、3−ブテン−1−オール、3−メチル−3−ブテン−1−オール、4−ペンテン−1−オール、5−ヘキセン−1−オール、6−ヘプテン−1−オール、7−オクテン−1−オール、8−ノネン−1−オール、9−デセン−1−オール、10−ウンデセン−1−オール、2,5−ヘキサジエノール、2,6−ヘプタジエノール、3,6−ヘプタジエノール、2,7−オクタジエノール、3,7−オクタジエノール、4,7−オクタジエノール、2,8−ノナジエノール、3,8−ノナジエノール、4,8−ノナジエノール、5,8−ノナジエノール、2,9−デカジエノール、3,9−デカジエノール、4,9−デカジエノール、5,9−デカジエノールおよび6,9−デカジエノールからなる群より選ばれる化合物の水酸基(OH基)をOG基とした化合物群から選ばれる請求項1〜7のいずれかに記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項9】
加熱により脱保護を行うことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項10】
50〜250℃に加熱することを特徴とする請求項9に記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項11】
加水分解により脱保護を行うことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項12】
塩基性条件下で加水分解することにより脱保護を行うことを特徴とする請求項11に記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項13】
10−7〜10モル/Lの塩基性溶液を用いて加水分解することを特徴とする請求項12に記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。
【請求項14】
0〜120℃に加熱することを特徴とする請求項11〜13のいずれかに記載の水酸基を末端に有し、重合体主鎖中に炭素−炭素二重結合を有さないカチオン重合性重合体の製造方法。

【公開番号】特開2006−104486(P2006−104486A)
【公開日】平成18年4月20日(2006.4.20)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−4563(P2006−4563)
【出願日】平成18年1月12日(2006.1.12)
【分割の表示】特願平11−112642の分割
【原出願日】平成11年4月20日(1999.4.20)
【出願人】(000000941)株式会社カネカ (3,932)
【Fターム(参考)】