洗浄槽排気装置
【課題】洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置を提供することにある。
【解決手段】洗浄槽排気装置は、１つ以上の洗浄槽１０−１、２を覆う各上蓋２０−１、２と、洗浄液のミスト６６を誘導する集合ダクト３０と、洗浄液のミスト６６を吸引、排気する吸引排気部４０とを具備し、各上蓋２０−１、２は、それぞれ中空箱型の構造を成し、各上蓋２０−１、２の下面は複数の吸気口２２を有し、側面の１つは集合ダクトと接続される通気口２４を有し、集合ダクト３０は、各上蓋２０−１、２の通気口２４と接続される１つ以上のダクト入口３２と、吸引排気部４０に接続されるダクト出口３４とを有する。
【解決手段】洗浄槽排気装置は、１つ以上の洗浄槽１０−１、２を覆う各上蓋２０−１、２と、洗浄液のミスト６６を誘導する集合ダクト３０と、洗浄液のミスト６６を吸引、排気する吸引排気部４０とを具備し、各上蓋２０−１、２は、それぞれ中空箱型の構造を成し、各上蓋２０−１、２の下面は複数の吸気口２２を有し、側面の１つは集合ダクトと接続される通気口２４を有し、集合ダクト３０は、各上蓋２０−１、２の通気口２４と接続される１つ以上のダクト入口３２と、吸引排気部４０に接続されるダクト出口３４とを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子デバイス用の基板類を洗浄する洗浄装置の排気に係り、詳しくは、洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図３は、従来の洗浄槽排気装置の構成を示す装置構成図である。図３において、洗浄槽１０−１、２には搬送ローラ６０が設けられ、基板７０を搬送している。さらに洗浄槽１０−１には洗浄ブラシ６８及び洗浄ノズル６２が設けられている。基板７０は、洗浄ノズル６２から洗浄液６４が供給され、洗浄ブラシ６８によりブラッシングされることにより、洗浄される。洗浄槽１０−２は、洗浄槽１０−１と同様の洗浄槽として用いられるか、他の周知の洗浄槽として用いられる。
【０００３】
洗浄ノズル６２から供給される洗浄液６４は、洗浄処理の目的に応じた薬液を含み、超音波の印加や、加熱が行なわれて、基板７０上へシャワー状に噴出され、基板７０が洗浄される。これにより発生した洗浄液のミスト６６は、洗浄槽１０−１、２に共通に設置されたダクト９０により、洗浄槽１０−１、２の外へと排出される。また洗浄槽１０−１、２は、搬送ローラ６０、洗浄ブラシ６８及び洗浄ノズル６２のメンテナンスのため上蓋８０−１、２を有している。
【０００４】
このように従来の洗浄槽排気装置においては、ダクト９０が洗浄槽１０−１、２に共通に設置され、洗浄槽１０−１、２の上側のコーナーの限られたスペースから洗浄液のミスト６６を吸引しているため、ミストの発生が多い場合は十分な吸引ができないという問題があった。また、十分な吸引ができない場合は、洗浄液のミスト６６が上蓋８０−１、２の隙間から漏れ、洗浄液に含まれていた薬液が蒸発して、室内に充満するという問題があった。さらに、吸引力を上げるためにダクト９０を大型化すると、上蓋８０−１、２の幅Ｄ２を狭める必要が生じ、十分なメンテナンススペースを確保できないため、長尺の搬送ローラ６０や洗浄ブラシ６８の取り外しが困難となるという問題があった。
【０００５】
特許文献１には、基板にレジスト塗布や現像などの薬液処理を施すスピンコーターやスピンデベロッパーを含む薬液処理部側の側面に隣接する、基板を上面に支持して加熱するホットプレートを備えた基板加熱処理部の側面に排気源に連通接続されたシステム排気ダクトが設けられた基板処理装置において、基板加熱処理部の薬液処理部側の側面に、排気源に連通接続されたシステム排気ダクトと別個の排気ダクトを設ける旨の記載がされている。
【特許文献１】特開平９−１４１１７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の洗浄槽排気装置は、１つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の排気を行う洗浄槽排気装置であって、洗浄槽排気装置は、１つ以上の洗浄槽を覆う各上蓋と、洗浄液のミストを誘導する集合ダクトと、洗浄液のミストを吸引、排気する吸引排気部とを具備し、各上蓋は、それぞれ中空箱型の構造を成し、各上蓋の下面は複数の吸気口を有し、側面の１つは集合ダクトと接続される通気口を有し、集合ダクトは、各上蓋の通気口と接続される１つ以上のダクト入口と、吸引排気部に接続されるダクト出口とを有し、１つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の洗浄液のミストは、各上蓋と集合ダクトとを介して、吸引排気部により吸引、排気されることを特徴とする。
【０００８】
本発明の洗浄槽排気装置の各上蓋は、吸気口と同型の複数の穴を有した可動自在の吸引制御板を具備し、吸引制御板は、それぞれ各上蓋の下面に設置されて可動し、洗浄液のミストの吸引量を制御することを特徴とする。
【０００９】
本発明の洗浄槽排気装置の各上蓋、集合ダクト、及び、各上蓋に設置された吸引制御板の部材は、ＳＵＳ、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、洗浄槽の洗浄液のミストを、上蓋の最大面積を利用して吸引し、且つ、吸引制御板により吸気量が任意に制御されて排気され、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースも従来の上蓋の幅より広い上蓋を確保できるため、排気効率と、洗浄槽のメンテナンス性の良い洗浄槽排気装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の実施の形態について、図を用いて説明する。図１は、本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向から見た構成を示す構成図である。図２は、本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向の垂直方向から見た構成を示す構成図である。図１、２において、洗浄槽排気装置は、１つ以上の洗浄槽１０−１、２を覆う各上蓋２０−１、２と、洗浄液のミスト６６を誘導する集合ダクト３０と、洗浄液のミスト６６を吸引、排気する吸引排気部３０とを有している。
【００１２】
各上蓋２０−１、２は、それぞれ幅Ｄ１の中空箱型の構造を成し、各上蓋２０−１、２の下面は複数の吸気口２２を有し、側面の１つは集合ダクト３０と接続される通気口２４を有している。集合ダクト３０は、各上蓋２０−１、２の通気口２４と接続される１つ以上のダクト入口３２と、吸引排気部４０に接続されるダクト出口３４とを有している。
【００１３】
各上蓋２０−１、２は、吸気口２２と同型の複数の穴５２を有した可動自在の吸引制御板５０を具備している。また、各上蓋２０−１、２、集合ダクト３０、及び、各上蓋２０−１、２に設置された吸引制御板５０は、ＳＵＳ、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンの部材を用いて形成されている。基板７０の搬送及び洗浄の構成は、図３の場合と同じであるため説明を省略する。
【００１４】
洗浄ノズル６２及び洗浄ブラシ６８により発生した洗浄液のミスト６６は、吸引制御板５０の複数の穴５２と、各上蓋２０−１、２の複数の吸気口２２を介して中空箱型の空洞内に吸引される。この洗浄液のミスト６６は、各上蓋２０−１、２の通気口２４と接続されたダクト入口３２を介して集合ダクト３０に集められた後、ダクト出口３４へと誘導され、吸引排気部４０に吸引されて排気される。吸引制御板５０は、それぞれ各上蓋２０−１、２の下面に設置されて任意の位置に可動し、洗浄液のミスト６６の吸引量を制御する。
【００１５】
以上説明したように本発明によれば、従来の排気ダクトが各上蓋２０−１、２に取り込まれるため、従来の上蓋開口幅Ｄ２より広い上蓋開口幅Ｄ１が得られるため、長尺の搬送ローラ６０や洗浄ブラシ６８の取り外しが容易となるメンテナンススペースを確保することが可能となる。また、洗浄槽１０−１、２の洗浄液のミスト６６を、各上蓋２０−１、２の最大面積を利用して効率よく吸引できると共に、吸引制御板５０により適切な吸引量を設定することができる。このため、排気効率と、洗浄槽のメンテナンス性の良い洗浄槽排気装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向から見た構成を示す構成図。
【図２】本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向の垂直方向から見た構成を示す構成図。
【図３】従来の洗浄槽排気装置の構成を示す装置構成図。
【符号の説明】
【００１７】
１０−１、２ 洗浄槽
２０−１、２ 上蓋
２２ 吸気口
２４ 通気口
３０ 集合ダクト
３２ ダクト入口
３４ ダクト出口
４０ 吸引排気部
５０ 吸引制御板
５２ 穴
６０ 搬送ローラ
６２ 洗浄ノズル
６４ 洗浄液
６６ 洗浄液のミスト
６８ 洗浄ブラシ
７０ 基板
８０ 上蓋
９０ ダクト
Ｄ１ 本発明の上蓋開口幅
Ｄ２ 従来の上蓋開口幅
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子デバイス用の基板類を洗浄する洗浄装置の排気に係り、詳しくは、洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図３は、従来の洗浄槽排気装置の構成を示す装置構成図である。図３において、洗浄槽１０−１、２には搬送ローラ６０が設けられ、基板７０を搬送している。さらに洗浄槽１０−１には洗浄ブラシ６８及び洗浄ノズル６２が設けられている。基板７０は、洗浄ノズル６２から洗浄液６４が供給され、洗浄ブラシ６８によりブラッシングされることにより、洗浄される。洗浄槽１０−２は、洗浄槽１０−１と同様の洗浄槽として用いられるか、他の周知の洗浄槽として用いられる。
【０００３】
洗浄ノズル６２から供給される洗浄液６４は、洗浄処理の目的に応じた薬液を含み、超音波の印加や、加熱が行なわれて、基板７０上へシャワー状に噴出され、基板７０が洗浄される。これにより発生した洗浄液のミスト６６は、洗浄槽１０−１、２に共通に設置されたダクト９０により、洗浄槽１０−１、２の外へと排出される。また洗浄槽１０−１、２は、搬送ローラ６０、洗浄ブラシ６８及び洗浄ノズル６２のメンテナンスのため上蓋８０−１、２を有している。
【０００４】
このように従来の洗浄槽排気装置においては、ダクト９０が洗浄槽１０−１、２に共通に設置され、洗浄槽１０−１、２の上側のコーナーの限られたスペースから洗浄液のミスト６６を吸引しているため、ミストの発生が多い場合は十分な吸引ができないという問題があった。また、十分な吸引ができない場合は、洗浄液のミスト６６が上蓋８０−１、２の隙間から漏れ、洗浄液に含まれていた薬液が蒸発して、室内に充満するという問題があった。さらに、吸引力を上げるためにダクト９０を大型化すると、上蓋８０−１、２の幅Ｄ２を狭める必要が生じ、十分なメンテナンススペースを確保できないため、長尺の搬送ローラ６０や洗浄ブラシ６８の取り外しが困難となるという問題があった。
【０００５】
特許文献１には、基板にレジスト塗布や現像などの薬液処理を施すスピンコーターやスピンデベロッパーを含む薬液処理部側の側面に隣接する、基板を上面に支持して加熱するホットプレートを備えた基板加熱処理部の側面に排気源に連通接続されたシステム排気ダクトが設けられた基板処理装置において、基板加熱処理部の薬液処理部側の側面に、排気源に連通接続されたシステム排気ダクトと別個の排気ダクトを設ける旨の記載がされている。
【特許文献１】特開平９−１４１１７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の洗浄槽排気装置は、１つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の排気を行う洗浄槽排気装置であって、洗浄槽排気装置は、１つ以上の洗浄槽を覆う各上蓋と、洗浄液のミストを誘導する集合ダクトと、洗浄液のミストを吸引、排気する吸引排気部とを具備し、各上蓋は、それぞれ中空箱型の構造を成し、各上蓋の下面は複数の吸気口を有し、側面の１つは集合ダクトと接続される通気口を有し、集合ダクトは、各上蓋の通気口と接続される１つ以上のダクト入口と、吸引排気部に接続されるダクト出口とを有し、１つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の洗浄液のミストは、各上蓋と集合ダクトとを介して、吸引排気部により吸引、排気されることを特徴とする。
【０００８】
本発明の洗浄槽排気装置の各上蓋は、吸気口と同型の複数の穴を有した可動自在の吸引制御板を具備し、吸引制御板は、それぞれ各上蓋の下面に設置されて可動し、洗浄液のミストの吸引量を制御することを特徴とする。
【０００９】
本発明の洗浄槽排気装置の各上蓋、集合ダクト、及び、各上蓋に設置された吸引制御板の部材は、ＳＵＳ、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、洗浄槽の洗浄液のミストを、上蓋の最大面積を利用して吸引し、且つ、吸引制御板により吸気量が任意に制御されて排気され、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースも従来の上蓋の幅より広い上蓋を確保できるため、排気効率と、洗浄槽のメンテナンス性の良い洗浄槽排気装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の実施の形態について、図を用いて説明する。図１は、本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向から見た構成を示す構成図である。図２は、本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向の垂直方向から見た構成を示す構成図である。図１、２において、洗浄槽排気装置は、１つ以上の洗浄槽１０−１、２を覆う各上蓋２０−１、２と、洗浄液のミスト６６を誘導する集合ダクト３０と、洗浄液のミスト６６を吸引、排気する吸引排気部３０とを有している。
【００１２】
各上蓋２０−１、２は、それぞれ幅Ｄ１の中空箱型の構造を成し、各上蓋２０−１、２の下面は複数の吸気口２２を有し、側面の１つは集合ダクト３０と接続される通気口２４を有している。集合ダクト３０は、各上蓋２０−１、２の通気口２４と接続される１つ以上のダクト入口３２と、吸引排気部４０に接続されるダクト出口３４とを有している。
【００１３】
各上蓋２０−１、２は、吸気口２２と同型の複数の穴５２を有した可動自在の吸引制御板５０を具備している。また、各上蓋２０−１、２、集合ダクト３０、及び、各上蓋２０−１、２に設置された吸引制御板５０は、ＳＵＳ、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンの部材を用いて形成されている。基板７０の搬送及び洗浄の構成は、図３の場合と同じであるため説明を省略する。
【００１４】
洗浄ノズル６２及び洗浄ブラシ６８により発生した洗浄液のミスト６６は、吸引制御板５０の複数の穴５２と、各上蓋２０−１、２の複数の吸気口２２を介して中空箱型の空洞内に吸引される。この洗浄液のミスト６６は、各上蓋２０−１、２の通気口２４と接続されたダクト入口３２を介して集合ダクト３０に集められた後、ダクト出口３４へと誘導され、吸引排気部４０に吸引されて排気される。吸引制御板５０は、それぞれ各上蓋２０−１、２の下面に設置されて任意の位置に可動し、洗浄液のミスト６６の吸引量を制御する。
【００１５】
以上説明したように本発明によれば、従来の排気ダクトが各上蓋２０−１、２に取り込まれるため、従来の上蓋開口幅Ｄ２より広い上蓋開口幅Ｄ１が得られるため、長尺の搬送ローラ６０や洗浄ブラシ６８の取り外しが容易となるメンテナンススペースを確保することが可能となる。また、洗浄槽１０−１、２の洗浄液のミスト６６を、各上蓋２０−１、２の最大面積を利用して効率よく吸引できると共に、吸引制御板５０により適切な吸引量を設定することができる。このため、排気効率と、洗浄槽のメンテナンス性の良い洗浄槽排気装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向から見た構成を示す構成図。
【図２】本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向の垂直方向から見た構成を示す構成図。
【図３】従来の洗浄槽排気装置の構成を示す装置構成図。
【符号の説明】
【００１７】
１０−１、２ 洗浄槽
２０−１、２ 上蓋
２２ 吸気口
２４ 通気口
３０ 集合ダクト
３２ ダクト入口
３４ ダクト出口
４０ 吸引排気部
５０ 吸引制御板
５２ 穴
６０ 搬送ローラ
６２ 洗浄ノズル
６４ 洗浄液
６６ 洗浄液のミスト
６８ 洗浄ブラシ
７０ 基板
８０ 上蓋
９０ ダクト
Ｄ１ 本発明の上蓋開口幅
Ｄ２ 従来の上蓋開口幅
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の排気を行う洗浄槽排気装置であって、
前記洗浄槽排気装置は、前記１つ以上の洗浄槽を覆う各上蓋と、洗浄液のミストを誘導する集合ダクトと、前記洗浄液のミストを吸引、排気する吸引排気部とを具備し、
前記各上蓋は、それぞれ中空箱型の構造を成し、前記各上蓋の下面は複数の吸気口を有し、側面の１つは前記集合ダクトと接続される通気口を有し、
前記集合ダクトは、前記各上蓋の前記通気口と接続される１つ以上のダクト入口と、前記吸引排気部に接続されるダクト出口とを有し、
前記１つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の前記洗浄液のミストは、前記各上蓋と前記集合ダクトとを介して、前記吸引排気部により吸引、排気されることを特徴とする洗浄槽排気装置。
【請求項２】
前記各上蓋は、前記吸気口と同型の複数の穴を有した可動自在の吸引制御板を具備し、
前記吸引制御板は、それぞれ前記各上蓋の下面に設置されて可動し、前記洗浄液のミストの吸引量を制御することを特徴とする請求項１に記載の洗浄槽排気装置。
【請求項３】
前記各上蓋、前記集合ダクト、及び、前記各上蓋に設置された前記吸引制御板の部材は、ＳＵＳ、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンであることを特徴とする請求項２に記載の洗浄槽排気装置。
【請求項１】
１つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の排気を行う洗浄槽排気装置であって、
前記洗浄槽排気装置は、前記１つ以上の洗浄槽を覆う各上蓋と、洗浄液のミストを誘導する集合ダクトと、前記洗浄液のミストを吸引、排気する吸引排気部とを具備し、
前記各上蓋は、それぞれ中空箱型の構造を成し、前記各上蓋の下面は複数の吸気口を有し、側面の１つは前記集合ダクトと接続される通気口を有し、
前記集合ダクトは、前記各上蓋の前記通気口と接続される１つ以上のダクト入口と、前記吸引排気部に接続されるダクト出口とを有し、
前記１つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の前記洗浄液のミストは、前記各上蓋と前記集合ダクトとを介して、前記吸引排気部により吸引、排気されることを特徴とする洗浄槽排気装置。
【請求項２】
前記各上蓋は、前記吸気口と同型の複数の穴を有した可動自在の吸引制御板を具備し、
前記吸引制御板は、それぞれ前記各上蓋の下面に設置されて可動し、前記洗浄液のミストの吸引量を制御することを特徴とする請求項１に記載の洗浄槽排気装置。
【請求項３】
前記各上蓋、前記集合ダクト、及び、前記各上蓋に設置された前記吸引制御板の部材は、ＳＵＳ、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンであることを特徴とする請求項２に記載の洗浄槽排気装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００９−１７２５２０（Ｐ２００９−１７２５２０Ａ）
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１３９５５（Ｐ２００８−１３９５５）
【出願日】平成２０年１月２４日（２００８．１．２４）
【出願人】（０００２１９００４）島田理化工業株式会社 (205)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月２４日（２００８．１．２４）
【出願人】（０００２１９００４）島田理化工業株式会社 (205)
【Ｆターム（参考）】
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