流体吐出装置、および流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法
【課題】高分子流体を吐出するインクジェットプリンタにおいて、生産性を低下させないインクジェットヘッドの清浄化処理を実現することを目的とする。
【解決手段】流体吐出装置において、制御手段が圧力供給手段による吐出手段の清浄化処理実行中に、流体吐出手段による流体吐出処理を実行させることで、圧力を供給することによる流体の移動に流体吐出手段の流体吐出処理が加わることにより、圧力を供給するだけでは清浄化できなかった流体吐出手段の清浄化を実現することができる。
【解決手段】流体吐出装置において、制御手段が圧力供給手段による吐出手段の清浄化処理実行中に、流体吐出手段による流体吐出処理を実行させることで、圧力を供給することによる流体の移動に流体吐出手段の流体吐出処理が加わることにより、圧力を供給するだけでは清浄化できなかった流体吐出手段の清浄化を実現することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置、および該流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットプリンタにおいて、インクを吐出するためのインクジェットヘッドに備えられた複数のノズルを常に正常吐出するための処理が必須である。
すなわち、ノズル開口部周辺のインクが乾燥などで詰ると、該ノズルが担当するインクによる印字が行なわれないことになるため、印刷物の品質が低下するためである。
【０００３】
そのようなトラブルが生じるのを避けるため、インクジェットプリンタは定期的、あるいは任意の時期にノズルからのインク吐出を正常に行なうためのインクジェットヘッドの清浄化処理を実行する。
インクジェットヘッドの清浄化処理としては、物理的にインクジェットヘッドを清浄化するワイピングの他、インクジェットヘッドを被覆し負圧を付加することによりノズルからのインク放出を行なわせるキャッピングや、印字処理とは別にインクを吐出するフラッシングなど、様々な手法が存在する。
【０００４】
さらに、インクジェットヘッドの清浄化処理として、上記複数の手法を組み合わせた技術が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１ー６０３９３
【特許文献２】特開２００６−３１５２００
【特許文献３】特開２００７−１３６９８９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記各特許文献に記載された技術は、インクジェットプリンタが印字処理を中断し、キャッピングを伴うメンテナンス時にインク吐出には至らないレベルでインクジェットヘッドを駆動することにより、ノズル開口部周辺の固着または増粘したインクを排出する、というものである。
【０００７】
しかし、近来インクジェットプリンタは、一般的な印刷を行なうためのインクのみならず、医薬品製造のための高分子インク、回路基板製造、液晶ディスプレイのためのカラーフィルタ製造を行なうための機能性溶液など、高分子を含有する流体を吐出することに応用されている。
このような高分子流体は、印刷に使用されるインクに対して比較的粘度が高いので、頻繁にノズル開口部周辺で増粘状態となるため、流体吐出が不良となることが多く生じる。
【０００８】
従って、高分子流体を吐出するインクジェットプリンタでは、頻繁にインクジェットヘッドの清浄化処理を実行する必要があるが、上記各特許文献にて開示された技術で清浄化処理を行なう場合、キャッピングを伴うメンテナンスを行なわなければならないため、吐出対象に対して高分子流体を吐出する実動時間が減少するという問題があった。
【０００９】
特に、吐出対象の搬送方向に直交する幅（以降搬送幅と称する）以上の吐出幅を実現するために複数のノズルが列設されている吐出ヘッドを備えることを特徴としたワンパス方式のインクジェットプリンタでは、吐出ヘッドをメンテナンスを行なうための待機位置へ移動させる時間、およびメンテナンス終了後に吐出ヘッドを吐出位置へ復帰させる時間を必要とするため、上記特許文献に開示された技術を使用するとインクジェットプリンタによる生産性が極めて低下するという問題があった。
【００１０】
そこで、本発明は、高分子流体を吐出するインクジェットプリンタにおいて、生産性を低下させないインクジェットヘッドの清浄化処理を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
かかる課題を解決する為に、請求項１に係る発明は、所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置であって、前記流体吐出手段に吐出用流体を供給する流体供給手段と、前記流体吐出手段に対する清浄化処理のための圧力を供給する圧力供給手段と、前記流体吐出手段による流体吐出処理、および前記圧力供給手段による清浄化処理の制御を行なう制御手段と、を有し、前記制御手段が、前記圧力供給手段による前記吐出手段の清浄化処理実行中に、前記流体吐出手段による流体吐出処理を実行させること、を特徴としている。
【００１２】
また、請求項２に係わる発明は、請求項１に記載の液体吐出装置であって、前記圧力供給手段が、前記流体供給手段が供給する吐出用流体に対して圧力を供給することで前記流体吐出手段の清浄化処理を実行すること、を特徴としている。
【００１３】
さらに、請求項３に係わる発明は、請求項１に記載の流体吐出装置であって、前記流体吐出手段が、相対的に移動する前記吐出対象に対して直交方向に交差して流体の吐出を行なう構成を有すること、を特徴としている。
【００１４】
加えて、請求項４に係わる発明は、請求項１に記載の流体吐出装置であって、前記流体吐出手段が吐出する流体が高分子化合物を含むインクであること、を特徴としている。
【００１５】
請求項５に係わる発明は、所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法であって、前記流体吐出装置が、前記流体吐出手段に対する清浄化処理のための圧力を供給する圧力供給手段と、前記流体吐出手段による流体吐出処理、および前記圧力供給手段による清浄化処理の制御を行なう制御手段と、を有し、前記制御手段によって、前記圧力供給手段による前記吐出手段の清浄化処理実行中に、前記流体吐出手段による流体吐出処理が実行されること、を特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１に記載の流体吐出装置は、制御手段が圧力供給手段による吐出手段の清浄化処理実行中に、流体吐出手段による流体吐出処理を実行させることで、圧力を供給することによる流体の移動に流体吐出手段の流体吐出処理が加わることにより、圧力を供給するだけでは清浄化できなかった流体吐出手段の清浄化を実現することができる。
【００１７】
請求項２に記載の流体吐出装置は、流体吐出手段の清浄化処理に際して、流体供給手段が供給する吐出用流体に対して圧力供給手段が圧力を供給するので、圧力供給が可能な状態ならばいつでも流体吐出手段の清浄化処理を実行することができる。
【００１８】
請求項３に記載の流体吐出装置は、流体吐出手段が、相対的に移動する前記吐出対象に対して直交方向に交差して流体の吐出を行なう構成を有するので、生産性の高い流体吐出装置を実現することができる。
【００１９】
請求項４に記載の流体吐出装置は、高分子化合物を含むインクを吐出することが可能な流体吐出装置を実現することができる。
【００２０】
請求項５に記載の流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法は、制御手段が圧力供給手段による吐出手段の清浄化処理実行中に、流体吐出手段による流体吐出処理を実行させることにより、圧力を供給することによる流体の移動に流体吐出手段の流体吐出処理が加わることにより、圧力を供給するだけでは清浄化できなかった流体吐出手段の清浄化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】流体吐出装置１を説明するための図である。
【図２】流体吐出装置１における流体吐出部２０の清浄化処理に関わる構成を説明するための図である。
【図３】流体吐出装置１の動作を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を利用しながら、本発明を実施形態について、説明を行なう。
【００２３】
〈第１の実施形態〉
図1は、本発明に係わる流体吐出装置１を説明するための図である。
流体吐出装置１は、制御部１０、流体吐出部２０、基材搬送部３０を備えている。
【００２４】
制御部１０は、流体吐出装置１全体を制御するためのものであり、流体吐出部２０による流体吐出、基材搬送部３０による基材搬送を制御することにより、基材Ｋを対象とする流体吐出を実行して所望の生産物を流体吐出装置１により生産する。
【００２５】
流体吐出部２０は、錠剤・顆粒剤の滑沢剤、コーティング剤、崩壊剤、結合剤、シロップの懸濁・安定化剤、パップ剤の増粘剤、軟膏、ゼリー基剤等に使用されるヒドロキシプロセルピルグルコース(HPC)等の高分子化合物を含有するインクのような流体を基材搬送部３０によって搬送される基材Ｋに対して吐出する。
【００２６】
流体吐出部２０は、吐出を行なう流体を供給するための流体供給部２０Ｓと、基材搬送部３０が搬送する基材に対して流体を吐出する流体吐出ヘッド２０Ｈとを有する。
流体供給部２０Ｓは、蓄積した流体に対して任意の圧力を供給することによって、該流体を流体吐出ヘッド２０Ｈに供給する。
流体吐出ヘッド２０Ｈは、所望に応じて断続的に流体を吐出するオンデマンド方式の吐出機構を有しており、制御部１０からの制御に基づいて、供給された流体を基材搬送部３０が搬送する基材Ｋに吐出する。流体吐出ヘッド２０Ｈは、吐出対象となる基材Ｋの搬送方向に直交する幅以上の吐出幅を実現するために複数の吐出ノズルが列設されているワンパス方式の構成である。
なお、流体吐出部２０は、流体の吐出を行なわない場合、図示しない移動機構により待機位置Ｗへ移動して、待機位置Ｗに備えられたメンテナンス機材（図示せず）により、キャッピング、ワイピングなどのメンテナンスを行なうことが可能である。
【００２７】
基材搬送部３０は、流体吐出部２０による流体吐出に合わせて基材Ｋを搬送する。基材搬送部３０は、基材Ｋを載置するためのテーブル３０Ｔ、該テーブル３０Ｔを搬送する搬送駆動部３０Ｍを有する。
テーブル３０Ｔは、負圧吸着やクランパなどによって基材Ｋを表面上に固定することで基材Ｋの載置を実行する。また、テーブル３０Ｔは、搬送方向に直交する方向に余剰吐出受け３０Ｐを備えている。余剰吐出受け３０Ｐは、基材Ｋに対する流体吐出の最中に、流体吐出ヘッド２０Ｈの清浄化処理を実行する際に、余剰吐出を行なう流体を受けるための領域である。
搬送駆動部３０Ｍは、基材Ｋが載置されたテーブル３０Ｔを搬送するための駆動機構である。搬送駆動部３０Ｍを実現するための駆動機構としては、リニアモータやボールネジ、チェーン、あるいはエアシリンダなど、所望の既知の駆動機構を使用することが可能である。
【００２８】
図２は、流体吐出装置１における流体吐出部２０の清浄化処理に関わる構成を説明するための図である。流体吐出部２０の清浄化処理に関わる構成は、制御部１０、流体供給部２０Ｓ、流体吐出ヘッド２０Ｈとからなる。
【００２９】
制御部１０は、所定のタイミング、あるいは流体吐出装置１のオペレータの所望に応じて、流体吐出部２０の清浄化処理を実行する。制御部１０が、流体供給部２０Ｓ、流体吐出ヘッド２０Ｈと電気的に接続した通信線TLを介して清浄化処理を実行するための各種信号を伝送することにより、流体供給部２０Ｓ、流体吐出ヘッド２０Ｈとが動作して、清浄化処理が実行される。
【００３０】
流体供給部２０Ｓは、圧力供給部２０Ｓ１、流体蓄積部２０Ｓ２、流体管路２０Ｓ３を備えている。
【００３１】
圧力供給部２０Ｓ１は、流体蓄積部２０Ｓ２に対して圧力を加えるためのポンプである。圧力供給部２０Ｓ１は、流体吐出ヘッド２０Ｈによる流体吐出を行なうための流体供給圧力ＰＨと、流体吐出ヘッド２０Ｈの清浄化処理を行なうための流体供給圧力ＰＣとを、流体蓄積部２０Ｓに加えることができる。流体供給圧力ＰＨは流体吐出ヘッド２０Ｈにおいてメニスカスを形成するための負圧であり、流体供給圧力ＰＣは流体吐出ヘッド２０Ｈの吐出動作が行なわれなくても流体が吐出される程度の正圧である。
圧力供給部２０Ｓ１は、通信線TLを介して制御部１０と電気的に接続されており、制御部１０から吐出信号ＰＳが出力された場合、流体供給圧力ＰＨを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。一方、制御部１０から清浄信号ＣＳが出力された場合、圧力供給部２０Ｓ１は流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。
【００３２】
流体蓄積部２０Ｓ２は、ヒドロキシプロセルピルグルコース(HPC)等の高分子化合物を含有するインクなどの流体を蓄積する。流体蓄積部２０Ｓ２に圧力供給部２０Ｓ１から流体供給圧力ＰＨを加えられると、負圧によって流体管路２０Ｓ３における流体の自然移送が停止され、後述する流体吐出ヘッド２０Ｈ２にメニスカスが形成される。一方、流体供給圧力ＰＣを加えられると、流体蓄積部２０Ｓ２の流体表面が流体供給圧力ＰＣによって押下されることにより、流体管路２０Ｓ３を介して、流体が流体吐出ヘッド２０Ｈへと供給される。
【００３３】
流体吐出ヘッド２０Ｈは、ドライバ２０Ｈ１、吐出ノズル２０Ｈ２を備えている。
【００３４】
ドライバ２０Ｈ１は、制御部１０から出力された通常吐出信号ＮＳ、あるいはと清浄化処理信号ＳＳに基づいて、ノズル駆動信号ＤＳを出力する。通常吐出信号ＮＳは、所望の生産物を得るために基材Ｋに対して所望の吐出ノズル２０Ｈ２が吐出を行なうための信号である。一方、清浄化処理信号ＳＳは吐出ノズル２０Ｈ２に滞留した流体を吐出するための吐出信号であり、全ての吐出ノズル２０Ｈ２が流体を吐出する。清浄化処理信号ＳＳによる流体の吐出は、図１に示した余剰吐出受け３０Ｐに対して行なわれる。あるいは、基材Ｋの実用しない領域に、清浄化処理信号ＳＳによる流体の吐出を行なってもよい。
【００３５】
吐出ノズル２０Ｈ２は、ドライバ２０Ｈ１から出力されたノズル駆動信号ＤＳに基づいて、流体供給部２０Ｓから供給された流体を吐出する。吐出ノズル２０Ｈ２の吐出口は極めて狭い構造となっており、流体蓄積部２０Ｓ２に加えられた負圧である流体供給圧力ＰＨによって流体の自然移送が停止されると、流体によってメニスカスが形成されることで不要な流体漏出が防止される。吐出ノズル２０Ｈ２は、ノズル駆動信号で動作するピエゾ素子を備えており、ノズル駆動信号ＤＳによってピエゾ素子が動作にすることでメニスカスを破壊して流体を吐出する。
ここでは、説明を容易にするため、単一の吐出ノズル２０Ｈ２を図示しているが、流体吐出ヘッド２０Ｈは複数の吐出ノズル２０Ｈ２を備えているものとする。
なお、吐出ノズル２０Ｈ２による吐出手法は、ピエゾ方式に限定されることはなく、例えばサーマル式、電磁誘導式を採用することができる。
【００３６】
流体吐出装置１は、図２に示した構成において、次のように動作する。
(1)基材に対する吐出
基材搬送部３０のテーブル３０Ｔに載置された基材Ｋに対して流体を吐出する場合、制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して吐出信号ＰＳを出力して流体供給圧力ＰＨを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。流体供給圧力ＰＨが供給されると流体蓄積部２０Ｓ２に蓄積された流体は流体管路２０Ｓ３の自然移送が停止し、吐出ノズル２０Ｈ２において流体によるメニスカスが形成される。
制御部１０は、ドライバ２０Ｈ１に対して通常吐出信号ＮＳを出力し、ドライバ２０Ｈ１が該通常吐出信号ＮＳに基づいて、ノズル駆動信号ＤＳを出力する。ドライバ２０Ｈ１が出力したノズル駆動信号ＤＳによって、吐出ノズル２０Ｈ２は基材Ｋに対して流体を吐出し所望の生産物を得る。
(2)起動時／待機時の流体吐出部２０の清浄化
流体吐出装置１の起動時など、待機位置Ｗに流体吐出部２０が位置した時に該流体吐出部２０の清浄化を行なう場合、制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して清浄加圧信号ＣＳを出力して流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。流体蓄積部２０Ｓ２に蓄積された流体は、流体供給圧力ＰＣによって流体管路２０Ｓ３を介して流体吐出ヘッド２０Ｈへ押し出される。流体供給圧力ＰＣによって押し出された流体は吐出ノズル２０Ｈ２から吐出されるので、流体吐出部２０の清浄化処理が実行される。また、この処理を実行することにより、流体吐出ヘッド２０Ｈに流体が装填され、(1)に示した基材Ｋへの吐出準備が完了する。
なお、この時にキャッピングやワイピング等、既知の清浄化処理を行なうようにしてもよい。
(3)吐出動作間の流体吐出部２０の清浄化
(1)に示した基材Ｋに対する吐出動作時に、例えばテーブル３０Ｔに載置した基材Ｋの交換を行なうなど、流体吐出部２０が待機位置Ｗへの移動は行なわないが吐出も行なわない時間が生じると、数分であっても高分子化合物を含有する流体は凝縮が生じてしまうので、流体吐出部２０による正常な吐出が保証されないことがある。
そこで、流体吐出装置１は、吐出動作に間隙が生じた場合、制御部１０が圧力供給部２０Ｓ１に対して清浄加圧信号ＣＳを出力して、流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給することにより、流体が吐出ノズル２０Ｈ２から吐出される。
一方、制御部１０は清浄化処理信号ＳＳをドライバ２０Ｈ１に対して出力し、該清浄化処理信号ＳＳに基づいてドライバ２０Ｈ１がノズル駆動信号ＤＳを出力することで、吐出ノズル２０Ｈ２による流体吐出も行なわれる。この時、流体の吐出は、図１に示した余剰吐出受け３０Ｐに対して行なわれる。あるいは、基材Ｋの不要部分に吐出するようにしてもよい。
このように、圧力供給による吐出と吐出処理による吐出との、どちらか一方の吐出では吐出ノズル２０Ｈ２に凝縮によって滞留した流体が取り除けなかったとしても、圧力供給および吐出動作による吐出とを同時に行なうことにより、吐出ノズル２０Ｈ２に滞留した流体は確実に吐出されるので、流体吐出部２０の清浄化処理を実現することができる。
【００３７】
図３は、流体吐出装置１の動作を説明するためのフローチャートである。
【００３８】
液体吐出装置１は起動した時、流体供給部２０の初期清浄化処理を実行する（ステップS1）。起動時、流体供給部２０は待機位置Ｗに位置しているので、制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して清浄加圧信号ＣＳを出力して流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。流体蓄積部２０Ｓ２に蓄積された流体は、流体供給圧力ＰＣによって流体管路２０Ｓ３を介して流体吐出ヘッド２０Ｈへ押し出される。流体供給圧力ＰＣによって押し出された流体が吐出ノズル２０Ｈ２から吐出されることにより、流体吐出部２０の清浄化処理が実行される。
なお、この時に図示しないメンテナンス機材によって、キャッピングやワイピング等、既知の清浄化処理を行なうようにしてもよい。
【００３９】
初期清浄化処理終了後、流体吐出装置１は、基材搬送部３０のテーブル３０Ｔに載置された基材Ｋに対する流体吐出動作を実行して、所望の生産物を得る（ステップS2）。制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して吐出信号ＰＳを出力して流体供給圧力ＰＨを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。負圧である流体供給圧力ＰＨが流体蓄積部２０Ｓ２に供給されると、流体管路２０Ｓ３を自然移送していた流体が停止し、吐出ノズル２０Ｈ２にメニスカスが形成される。
制御部１０は、ドライバ２０Ｈ１に対して通常吐出信号ＮＳを出力し、ドライバ２０Ｈ１が該通常吐出信号ＮＳに基づいて、ノズル駆動信号ＤＳを出力する。ドライバ２０Ｈ１が出力したノズル駆動信号ＤＳによって、吐出ノズル２０Ｈ２は基材Ｋに対して流体を吐出し所望の生産物を得る。
【００４０】
所望の生産物を作成後、流体吐出装置１は、流体吐出動作の間隙に清浄化処理を行うか否かを判断する（ステップS3）。例えば、テーブル３０Ｔに載置した基材Ｋの交換を行なうなど、流体吐出部２０が待機位置Ｗへの移動は行なわないが吐出も行なわない時間が生じると、数分であっても高分子化合物を含有する流体は凝縮が生じてしまうので、流体吐出部２０による正常な吐出が保証されないことがある。
そこで、流体吐出装置１は、流体吐出動作に間隙が生じたか否かによって、流体吐出部２０の清浄化処理を行うか否かを判断し、間隙が生じていないと判断した場合は清浄化処理を行なわないものとして、ステップS2に帰還する。
【００４１】
一方、吐出動作に間隙が生じたと判断した場合（ステップS4）、流体吐出装置１の制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して清浄加圧信号ＣＳを出力して、流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給し、吐出ノズル２０Ｈ２から流体を吐出する。また、制御部１０は清浄化処理信号ＳＳをドライバ２０Ｈ１に対して出力し、該清浄化処理信号ＳＳに基づいてドライバ２０Ｈ１がノズル駆動信号ＤＳを出力することで、吐出ノズル２０Ｈ２による流体吐出も行なわれる。この時、流体の吐出は、図１に示した余剰吐出受け３０Ｐに対して行なわれる。あるいは、基材Ｋの不要部分に吐出するようにしてもよい。
このように、圧力供給による吐出と吐出動作による吐出との、どちらか一方の吐出では吐出ノズル２０Ｈ２に凝縮によって滞留した流体が取り除けなかったとしても、圧力供給および吐出動作による吐出とを同時に行なうことにより、吐出ノズル２０Ｈ２に滞留した流体は確実に吐出されるので、流体吐出部２０の清浄化処理を実現することができる。
【００４２】
流体吐出装置１は、基材Ｋに対する吐出動作について、全て完了したか否かを判断する（ステップS5）。基材Ｋに対する吐出動作が全て完了したと判断した場合、流体吐出装置１は動作を終了する。
一方、基材Ｋに対する吐出動作が完了していないと判断した場合、ステップS2に帰還して、流体吐出装置１は基材Ｋに対する吐出動作を再開する。
【００４３】
このように、図１に示した流体吐出装置１が図３に示したフローチャートのような動作を行なうことにより、制御手段が圧力供給手段による吐出手段の清浄化処理実行中に、流体吐出手段による流体吐出処理を実行させることにより、圧力を供給することによる流体の移動に流体吐出手段の流体吐出処理が加わることにより、圧力を供給するだけでは清浄化できなかった流体吐出手段の清浄化を実現することができる。
〈変形例〉
これまでの説明では、流体吐出装置１の流体吐出部２０について、流体吐出ヘッド２０Ｈがワンパス方式の構成を有するものとして説明を行なってきたが、基材Ｋの搬送方向に直交する方向に往復移動を行ないながら吐出を行なうシャトル方式の構成を有する流体吐出ヘッド２０Ｈを備えた流体吐出部２０であってもよい。
【００４４】
また、これまでの説明では、流体吐出動作間の清浄化処理の要否について流体吐出装置１が判断するように説明を行なってきたが、流体吐出装置１のオペレータが判断するようにしてもよい。
【００４５】
さらに、流体吐出動作間の清浄化処理の要否について、流体吐出動作間に間隙が生じた場合に清浄化処理を実行すると説明を行なってきたが、流体吐出ヘッド２０Ｈに監視手段を備えるようにし、該監視手段による監視の結果、流体吐出ヘッド２０Ｈの吐出処理に不良が生じた場合に、清浄化処理を実行するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００４６】
１ 流体吐出装置
１０ 制御部
２０ 流体吐出部
２０Ｈ 流体吐出ヘッド
２０Ｈ１ ドライバ
２０Ｈ２ 吐出ノズル
２０Ｓ 流体供給部
２０Ｓ１ 圧力供給部
２０Ｓ２ 流体蓄積部
２０Ｓ３ 流体管路
３０ 基材搬送部
３０Ｍ 搬送駆動部
３０Ｐ 余剰吐出受け
３０Ｔ テーブル
ＣＳ 清浄加圧信号
ＤＳ ノズル駆動信号
ＮＳ 通常吐出信号
ＰＣ、ＰＨ 流体供給圧力
ＰＳ 吐出信号
ＳＳ 清浄化処理信号
TL 通信線
Ｗ 待機位置
【技術分野】
【０００１】
所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置、および該流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットプリンタにおいて、インクを吐出するためのインクジェットヘッドに備えられた複数のノズルを常に正常吐出するための処理が必須である。
すなわち、ノズル開口部周辺のインクが乾燥などで詰ると、該ノズルが担当するインクによる印字が行なわれないことになるため、印刷物の品質が低下するためである。
【０００３】
そのようなトラブルが生じるのを避けるため、インクジェットプリンタは定期的、あるいは任意の時期にノズルからのインク吐出を正常に行なうためのインクジェットヘッドの清浄化処理を実行する。
インクジェットヘッドの清浄化処理としては、物理的にインクジェットヘッドを清浄化するワイピングの他、インクジェットヘッドを被覆し負圧を付加することによりノズルからのインク放出を行なわせるキャッピングや、印字処理とは別にインクを吐出するフラッシングなど、様々な手法が存在する。
【０００４】
さらに、インクジェットヘッドの清浄化処理として、上記複数の手法を組み合わせた技術が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１ー６０３９３
【特許文献２】特開２００６−３１５２００
【特許文献３】特開２００７−１３６９８９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記各特許文献に記載された技術は、インクジェットプリンタが印字処理を中断し、キャッピングを伴うメンテナンス時にインク吐出には至らないレベルでインクジェットヘッドを駆動することにより、ノズル開口部周辺の固着または増粘したインクを排出する、というものである。
【０００７】
しかし、近来インクジェットプリンタは、一般的な印刷を行なうためのインクのみならず、医薬品製造のための高分子インク、回路基板製造、液晶ディスプレイのためのカラーフィルタ製造を行なうための機能性溶液など、高分子を含有する流体を吐出することに応用されている。
このような高分子流体は、印刷に使用されるインクに対して比較的粘度が高いので、頻繁にノズル開口部周辺で増粘状態となるため、流体吐出が不良となることが多く生じる。
【０００８】
従って、高分子流体を吐出するインクジェットプリンタでは、頻繁にインクジェットヘッドの清浄化処理を実行する必要があるが、上記各特許文献にて開示された技術で清浄化処理を行なう場合、キャッピングを伴うメンテナンスを行なわなければならないため、吐出対象に対して高分子流体を吐出する実動時間が減少するという問題があった。
【０００９】
特に、吐出対象の搬送方向に直交する幅（以降搬送幅と称する）以上の吐出幅を実現するために複数のノズルが列設されている吐出ヘッドを備えることを特徴としたワンパス方式のインクジェットプリンタでは、吐出ヘッドをメンテナンスを行なうための待機位置へ移動させる時間、およびメンテナンス終了後に吐出ヘッドを吐出位置へ復帰させる時間を必要とするため、上記特許文献に開示された技術を使用するとインクジェットプリンタによる生産性が極めて低下するという問題があった。
【００１０】
そこで、本発明は、高分子流体を吐出するインクジェットプリンタにおいて、生産性を低下させないインクジェットヘッドの清浄化処理を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
かかる課題を解決する為に、請求項１に係る発明は、所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置であって、前記流体吐出手段に吐出用流体を供給する流体供給手段と、前記流体吐出手段に対する清浄化処理のための圧力を供給する圧力供給手段と、前記流体吐出手段による流体吐出処理、および前記圧力供給手段による清浄化処理の制御を行なう制御手段と、を有し、前記制御手段が、前記圧力供給手段による前記吐出手段の清浄化処理実行中に、前記流体吐出手段による流体吐出処理を実行させること、を特徴としている。
【００１２】
また、請求項２に係わる発明は、請求項１に記載の液体吐出装置であって、前記圧力供給手段が、前記流体供給手段が供給する吐出用流体に対して圧力を供給することで前記流体吐出手段の清浄化処理を実行すること、を特徴としている。
【００１３】
さらに、請求項３に係わる発明は、請求項１に記載の流体吐出装置であって、前記流体吐出手段が、相対的に移動する前記吐出対象に対して直交方向に交差して流体の吐出を行なう構成を有すること、を特徴としている。
【００１４】
加えて、請求項４に係わる発明は、請求項１に記載の流体吐出装置であって、前記流体吐出手段が吐出する流体が高分子化合物を含むインクであること、を特徴としている。
【００１５】
請求項５に係わる発明は、所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法であって、前記流体吐出装置が、前記流体吐出手段に対する清浄化処理のための圧力を供給する圧力供給手段と、前記流体吐出手段による流体吐出処理、および前記圧力供給手段による清浄化処理の制御を行なう制御手段と、を有し、前記制御手段によって、前記圧力供給手段による前記吐出手段の清浄化処理実行中に、前記流体吐出手段による流体吐出処理が実行されること、を特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１に記載の流体吐出装置は、制御手段が圧力供給手段による吐出手段の清浄化処理実行中に、流体吐出手段による流体吐出処理を実行させることで、圧力を供給することによる流体の移動に流体吐出手段の流体吐出処理が加わることにより、圧力を供給するだけでは清浄化できなかった流体吐出手段の清浄化を実現することができる。
【００１７】
請求項２に記載の流体吐出装置は、流体吐出手段の清浄化処理に際して、流体供給手段が供給する吐出用流体に対して圧力供給手段が圧力を供給するので、圧力供給が可能な状態ならばいつでも流体吐出手段の清浄化処理を実行することができる。
【００１８】
請求項３に記載の流体吐出装置は、流体吐出手段が、相対的に移動する前記吐出対象に対して直交方向に交差して流体の吐出を行なう構成を有するので、生産性の高い流体吐出装置を実現することができる。
【００１９】
請求項４に記載の流体吐出装置は、高分子化合物を含むインクを吐出することが可能な流体吐出装置を実現することができる。
【００２０】
請求項５に記載の流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法は、制御手段が圧力供給手段による吐出手段の清浄化処理実行中に、流体吐出手段による流体吐出処理を実行させることにより、圧力を供給することによる流体の移動に流体吐出手段の流体吐出処理が加わることにより、圧力を供給するだけでは清浄化できなかった流体吐出手段の清浄化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】流体吐出装置１を説明するための図である。
【図２】流体吐出装置１における流体吐出部２０の清浄化処理に関わる構成を説明するための図である。
【図３】流体吐出装置１の動作を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を利用しながら、本発明を実施形態について、説明を行なう。
【００２３】
〈第１の実施形態〉
図1は、本発明に係わる流体吐出装置１を説明するための図である。
流体吐出装置１は、制御部１０、流体吐出部２０、基材搬送部３０を備えている。
【００２４】
制御部１０は、流体吐出装置１全体を制御するためのものであり、流体吐出部２０による流体吐出、基材搬送部３０による基材搬送を制御することにより、基材Ｋを対象とする流体吐出を実行して所望の生産物を流体吐出装置１により生産する。
【００２５】
流体吐出部２０は、錠剤・顆粒剤の滑沢剤、コーティング剤、崩壊剤、結合剤、シロップの懸濁・安定化剤、パップ剤の増粘剤、軟膏、ゼリー基剤等に使用されるヒドロキシプロセルピルグルコース(HPC)等の高分子化合物を含有するインクのような流体を基材搬送部３０によって搬送される基材Ｋに対して吐出する。
【００２６】
流体吐出部２０は、吐出を行なう流体を供給するための流体供給部２０Ｓと、基材搬送部３０が搬送する基材に対して流体を吐出する流体吐出ヘッド２０Ｈとを有する。
流体供給部２０Ｓは、蓄積した流体に対して任意の圧力を供給することによって、該流体を流体吐出ヘッド２０Ｈに供給する。
流体吐出ヘッド２０Ｈは、所望に応じて断続的に流体を吐出するオンデマンド方式の吐出機構を有しており、制御部１０からの制御に基づいて、供給された流体を基材搬送部３０が搬送する基材Ｋに吐出する。流体吐出ヘッド２０Ｈは、吐出対象となる基材Ｋの搬送方向に直交する幅以上の吐出幅を実現するために複数の吐出ノズルが列設されているワンパス方式の構成である。
なお、流体吐出部２０は、流体の吐出を行なわない場合、図示しない移動機構により待機位置Ｗへ移動して、待機位置Ｗに備えられたメンテナンス機材（図示せず）により、キャッピング、ワイピングなどのメンテナンスを行なうことが可能である。
【００２７】
基材搬送部３０は、流体吐出部２０による流体吐出に合わせて基材Ｋを搬送する。基材搬送部３０は、基材Ｋを載置するためのテーブル３０Ｔ、該テーブル３０Ｔを搬送する搬送駆動部３０Ｍを有する。
テーブル３０Ｔは、負圧吸着やクランパなどによって基材Ｋを表面上に固定することで基材Ｋの載置を実行する。また、テーブル３０Ｔは、搬送方向に直交する方向に余剰吐出受け３０Ｐを備えている。余剰吐出受け３０Ｐは、基材Ｋに対する流体吐出の最中に、流体吐出ヘッド２０Ｈの清浄化処理を実行する際に、余剰吐出を行なう流体を受けるための領域である。
搬送駆動部３０Ｍは、基材Ｋが載置されたテーブル３０Ｔを搬送するための駆動機構である。搬送駆動部３０Ｍを実現するための駆動機構としては、リニアモータやボールネジ、チェーン、あるいはエアシリンダなど、所望の既知の駆動機構を使用することが可能である。
【００２８】
図２は、流体吐出装置１における流体吐出部２０の清浄化処理に関わる構成を説明するための図である。流体吐出部２０の清浄化処理に関わる構成は、制御部１０、流体供給部２０Ｓ、流体吐出ヘッド２０Ｈとからなる。
【００２９】
制御部１０は、所定のタイミング、あるいは流体吐出装置１のオペレータの所望に応じて、流体吐出部２０の清浄化処理を実行する。制御部１０が、流体供給部２０Ｓ、流体吐出ヘッド２０Ｈと電気的に接続した通信線TLを介して清浄化処理を実行するための各種信号を伝送することにより、流体供給部２０Ｓ、流体吐出ヘッド２０Ｈとが動作して、清浄化処理が実行される。
【００３０】
流体供給部２０Ｓは、圧力供給部２０Ｓ１、流体蓄積部２０Ｓ２、流体管路２０Ｓ３を備えている。
【００３１】
圧力供給部２０Ｓ１は、流体蓄積部２０Ｓ２に対して圧力を加えるためのポンプである。圧力供給部２０Ｓ１は、流体吐出ヘッド２０Ｈによる流体吐出を行なうための流体供給圧力ＰＨと、流体吐出ヘッド２０Ｈの清浄化処理を行なうための流体供給圧力ＰＣとを、流体蓄積部２０Ｓに加えることができる。流体供給圧力ＰＨは流体吐出ヘッド２０Ｈにおいてメニスカスを形成するための負圧であり、流体供給圧力ＰＣは流体吐出ヘッド２０Ｈの吐出動作が行なわれなくても流体が吐出される程度の正圧である。
圧力供給部２０Ｓ１は、通信線TLを介して制御部１０と電気的に接続されており、制御部１０から吐出信号ＰＳが出力された場合、流体供給圧力ＰＨを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。一方、制御部１０から清浄信号ＣＳが出力された場合、圧力供給部２０Ｓ１は流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。
【００３２】
流体蓄積部２０Ｓ２は、ヒドロキシプロセルピルグルコース(HPC)等の高分子化合物を含有するインクなどの流体を蓄積する。流体蓄積部２０Ｓ２に圧力供給部２０Ｓ１から流体供給圧力ＰＨを加えられると、負圧によって流体管路２０Ｓ３における流体の自然移送が停止され、後述する流体吐出ヘッド２０Ｈ２にメニスカスが形成される。一方、流体供給圧力ＰＣを加えられると、流体蓄積部２０Ｓ２の流体表面が流体供給圧力ＰＣによって押下されることにより、流体管路２０Ｓ３を介して、流体が流体吐出ヘッド２０Ｈへと供給される。
【００３３】
流体吐出ヘッド２０Ｈは、ドライバ２０Ｈ１、吐出ノズル２０Ｈ２を備えている。
【００３４】
ドライバ２０Ｈ１は、制御部１０から出力された通常吐出信号ＮＳ、あるいはと清浄化処理信号ＳＳに基づいて、ノズル駆動信号ＤＳを出力する。通常吐出信号ＮＳは、所望の生産物を得るために基材Ｋに対して所望の吐出ノズル２０Ｈ２が吐出を行なうための信号である。一方、清浄化処理信号ＳＳは吐出ノズル２０Ｈ２に滞留した流体を吐出するための吐出信号であり、全ての吐出ノズル２０Ｈ２が流体を吐出する。清浄化処理信号ＳＳによる流体の吐出は、図１に示した余剰吐出受け３０Ｐに対して行なわれる。あるいは、基材Ｋの実用しない領域に、清浄化処理信号ＳＳによる流体の吐出を行なってもよい。
【００３５】
吐出ノズル２０Ｈ２は、ドライバ２０Ｈ１から出力されたノズル駆動信号ＤＳに基づいて、流体供給部２０Ｓから供給された流体を吐出する。吐出ノズル２０Ｈ２の吐出口は極めて狭い構造となっており、流体蓄積部２０Ｓ２に加えられた負圧である流体供給圧力ＰＨによって流体の自然移送が停止されると、流体によってメニスカスが形成されることで不要な流体漏出が防止される。吐出ノズル２０Ｈ２は、ノズル駆動信号で動作するピエゾ素子を備えており、ノズル駆動信号ＤＳによってピエゾ素子が動作にすることでメニスカスを破壊して流体を吐出する。
ここでは、説明を容易にするため、単一の吐出ノズル２０Ｈ２を図示しているが、流体吐出ヘッド２０Ｈは複数の吐出ノズル２０Ｈ２を備えているものとする。
なお、吐出ノズル２０Ｈ２による吐出手法は、ピエゾ方式に限定されることはなく、例えばサーマル式、電磁誘導式を採用することができる。
【００３６】
流体吐出装置１は、図２に示した構成において、次のように動作する。
(1)基材に対する吐出
基材搬送部３０のテーブル３０Ｔに載置された基材Ｋに対して流体を吐出する場合、制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して吐出信号ＰＳを出力して流体供給圧力ＰＨを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。流体供給圧力ＰＨが供給されると流体蓄積部２０Ｓ２に蓄積された流体は流体管路２０Ｓ３の自然移送が停止し、吐出ノズル２０Ｈ２において流体によるメニスカスが形成される。
制御部１０は、ドライバ２０Ｈ１に対して通常吐出信号ＮＳを出力し、ドライバ２０Ｈ１が該通常吐出信号ＮＳに基づいて、ノズル駆動信号ＤＳを出力する。ドライバ２０Ｈ１が出力したノズル駆動信号ＤＳによって、吐出ノズル２０Ｈ２は基材Ｋに対して流体を吐出し所望の生産物を得る。
(2)起動時／待機時の流体吐出部２０の清浄化
流体吐出装置１の起動時など、待機位置Ｗに流体吐出部２０が位置した時に該流体吐出部２０の清浄化を行なう場合、制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して清浄加圧信号ＣＳを出力して流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。流体蓄積部２０Ｓ２に蓄積された流体は、流体供給圧力ＰＣによって流体管路２０Ｓ３を介して流体吐出ヘッド２０Ｈへ押し出される。流体供給圧力ＰＣによって押し出された流体は吐出ノズル２０Ｈ２から吐出されるので、流体吐出部２０の清浄化処理が実行される。また、この処理を実行することにより、流体吐出ヘッド２０Ｈに流体が装填され、(1)に示した基材Ｋへの吐出準備が完了する。
なお、この時にキャッピングやワイピング等、既知の清浄化処理を行なうようにしてもよい。
(3)吐出動作間の流体吐出部２０の清浄化
(1)に示した基材Ｋに対する吐出動作時に、例えばテーブル３０Ｔに載置した基材Ｋの交換を行なうなど、流体吐出部２０が待機位置Ｗへの移動は行なわないが吐出も行なわない時間が生じると、数分であっても高分子化合物を含有する流体は凝縮が生じてしまうので、流体吐出部２０による正常な吐出が保証されないことがある。
そこで、流体吐出装置１は、吐出動作に間隙が生じた場合、制御部１０が圧力供給部２０Ｓ１に対して清浄加圧信号ＣＳを出力して、流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給することにより、流体が吐出ノズル２０Ｈ２から吐出される。
一方、制御部１０は清浄化処理信号ＳＳをドライバ２０Ｈ１に対して出力し、該清浄化処理信号ＳＳに基づいてドライバ２０Ｈ１がノズル駆動信号ＤＳを出力することで、吐出ノズル２０Ｈ２による流体吐出も行なわれる。この時、流体の吐出は、図１に示した余剰吐出受け３０Ｐに対して行なわれる。あるいは、基材Ｋの不要部分に吐出するようにしてもよい。
このように、圧力供給による吐出と吐出処理による吐出との、どちらか一方の吐出では吐出ノズル２０Ｈ２に凝縮によって滞留した流体が取り除けなかったとしても、圧力供給および吐出動作による吐出とを同時に行なうことにより、吐出ノズル２０Ｈ２に滞留した流体は確実に吐出されるので、流体吐出部２０の清浄化処理を実現することができる。
【００３７】
図３は、流体吐出装置１の動作を説明するためのフローチャートである。
【００３８】
液体吐出装置１は起動した時、流体供給部２０の初期清浄化処理を実行する（ステップS1）。起動時、流体供給部２０は待機位置Ｗに位置しているので、制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して清浄加圧信号ＣＳを出力して流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。流体蓄積部２０Ｓ２に蓄積された流体は、流体供給圧力ＰＣによって流体管路２０Ｓ３を介して流体吐出ヘッド２０Ｈへ押し出される。流体供給圧力ＰＣによって押し出された流体が吐出ノズル２０Ｈ２から吐出されることにより、流体吐出部２０の清浄化処理が実行される。
なお、この時に図示しないメンテナンス機材によって、キャッピングやワイピング等、既知の清浄化処理を行なうようにしてもよい。
【００３９】
初期清浄化処理終了後、流体吐出装置１は、基材搬送部３０のテーブル３０Ｔに載置された基材Ｋに対する流体吐出動作を実行して、所望の生産物を得る（ステップS2）。制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して吐出信号ＰＳを出力して流体供給圧力ＰＨを流体蓄積部２０Ｓ２に供給する。負圧である流体供給圧力ＰＨが流体蓄積部２０Ｓ２に供給されると、流体管路２０Ｓ３を自然移送していた流体が停止し、吐出ノズル２０Ｈ２にメニスカスが形成される。
制御部１０は、ドライバ２０Ｈ１に対して通常吐出信号ＮＳを出力し、ドライバ２０Ｈ１が該通常吐出信号ＮＳに基づいて、ノズル駆動信号ＤＳを出力する。ドライバ２０Ｈ１が出力したノズル駆動信号ＤＳによって、吐出ノズル２０Ｈ２は基材Ｋに対して流体を吐出し所望の生産物を得る。
【００４０】
所望の生産物を作成後、流体吐出装置１は、流体吐出動作の間隙に清浄化処理を行うか否かを判断する（ステップS3）。例えば、テーブル３０Ｔに載置した基材Ｋの交換を行なうなど、流体吐出部２０が待機位置Ｗへの移動は行なわないが吐出も行なわない時間が生じると、数分であっても高分子化合物を含有する流体は凝縮が生じてしまうので、流体吐出部２０による正常な吐出が保証されないことがある。
そこで、流体吐出装置１は、流体吐出動作に間隙が生じたか否かによって、流体吐出部２０の清浄化処理を行うか否かを判断し、間隙が生じていないと判断した場合は清浄化処理を行なわないものとして、ステップS2に帰還する。
【００４１】
一方、吐出動作に間隙が生じたと判断した場合（ステップS4）、流体吐出装置１の制御部１０は圧力供給部２０Ｓ１に対して清浄加圧信号ＣＳを出力して、流体供給圧力ＰＣを流体蓄積部２０Ｓ２に供給し、吐出ノズル２０Ｈ２から流体を吐出する。また、制御部１０は清浄化処理信号ＳＳをドライバ２０Ｈ１に対して出力し、該清浄化処理信号ＳＳに基づいてドライバ２０Ｈ１がノズル駆動信号ＤＳを出力することで、吐出ノズル２０Ｈ２による流体吐出も行なわれる。この時、流体の吐出は、図１に示した余剰吐出受け３０Ｐに対して行なわれる。あるいは、基材Ｋの不要部分に吐出するようにしてもよい。
このように、圧力供給による吐出と吐出動作による吐出との、どちらか一方の吐出では吐出ノズル２０Ｈ２に凝縮によって滞留した流体が取り除けなかったとしても、圧力供給および吐出動作による吐出とを同時に行なうことにより、吐出ノズル２０Ｈ２に滞留した流体は確実に吐出されるので、流体吐出部２０の清浄化処理を実現することができる。
【００４２】
流体吐出装置１は、基材Ｋに対する吐出動作について、全て完了したか否かを判断する（ステップS5）。基材Ｋに対する吐出動作が全て完了したと判断した場合、流体吐出装置１は動作を終了する。
一方、基材Ｋに対する吐出動作が完了していないと判断した場合、ステップS2に帰還して、流体吐出装置１は基材Ｋに対する吐出動作を再開する。
【００４３】
このように、図１に示した流体吐出装置１が図３に示したフローチャートのような動作を行なうことにより、制御手段が圧力供給手段による吐出手段の清浄化処理実行中に、流体吐出手段による流体吐出処理を実行させることにより、圧力を供給することによる流体の移動に流体吐出手段の流体吐出処理が加わることにより、圧力を供給するだけでは清浄化できなかった流体吐出手段の清浄化を実現することができる。
〈変形例〉
これまでの説明では、流体吐出装置１の流体吐出部２０について、流体吐出ヘッド２０Ｈがワンパス方式の構成を有するものとして説明を行なってきたが、基材Ｋの搬送方向に直交する方向に往復移動を行ないながら吐出を行なうシャトル方式の構成を有する流体吐出ヘッド２０Ｈを備えた流体吐出部２０であってもよい。
【００４４】
また、これまでの説明では、流体吐出動作間の清浄化処理の要否について流体吐出装置１が判断するように説明を行なってきたが、流体吐出装置１のオペレータが判断するようにしてもよい。
【００４５】
さらに、流体吐出動作間の清浄化処理の要否について、流体吐出動作間に間隙が生じた場合に清浄化処理を実行すると説明を行なってきたが、流体吐出ヘッド２０Ｈに監視手段を備えるようにし、該監視手段による監視の結果、流体吐出ヘッド２０Ｈの吐出処理に不良が生じた場合に、清浄化処理を実行するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００４６】
１ 流体吐出装置
１０ 制御部
２０ 流体吐出部
２０Ｈ 流体吐出ヘッド
２０Ｈ１ ドライバ
２０Ｈ２ 吐出ノズル
２０Ｓ 流体供給部
２０Ｓ１ 圧力供給部
２０Ｓ２ 流体蓄積部
２０Ｓ３ 流体管路
３０ 基材搬送部
３０Ｍ 搬送駆動部
３０Ｐ 余剰吐出受け
３０Ｔ テーブル
ＣＳ 清浄加圧信号
ＤＳ ノズル駆動信号
ＮＳ 通常吐出信号
ＰＣ、ＰＨ 流体供給圧力
ＰＳ 吐出信号
ＳＳ 清浄化処理信号
TL 通信線
Ｗ 待機位置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置であって、
前記流体吐出手段に吐出用流体を供給する流体供給手段と、
前記流体吐出手段に対する清浄化処理のための圧力を供給する圧力供給手段と、
前記流体吐出手段による流体吐出処理、および前記圧力供給手段による清浄化処理の制御を行なう制御手段と、
を有し、
前記制御手段が、前記圧力供給手段による前記吐出手段の清浄化処理実行中に、前記流体吐出手段による流体吐出処理を実行させること、
を特徴とする流体吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液体吐出装置であって、
前記圧力供給手段が、前記流体供給手段が供給する吐出用流体に対して圧力を供給することで前記流体吐出手段の清浄化処理を実行すること、
を特徴とする流体吐出装置。
【請求項３】
請求項１に記載の流体吐出装置であって、
前記流体吐出手段が、相対的に移動する前記吐出対象に対して直交方向に交差して流体の吐出を行なう構成を有すること、
を特徴とする流体吐出装置。
【請求項４】
請求項１に記載の流体吐出装置であって、
前記流体吐出手段が吐出する流体が高分子化合物を含むインクであること、
を特徴とする流体吐出装置。
【請求項５】
所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法であって、
前記流体吐出装置が、前記流体吐出手段に対する清浄化処理のための圧力を供給する圧力供給手段と、前記流体吐出手段による流体吐出処理、および前記圧力供給手段による清浄化処理の制御を行なう制御手段と、
を有し、
前記制御手段によって、前記圧力供給手段による前記吐出手段の清浄化処理実行中に、前記流体吐出手段による流体吐出処理が実行されること、
を特徴とする流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法。
【請求項１】
所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置であって、
前記流体吐出手段に吐出用流体を供給する流体供給手段と、
前記流体吐出手段に対する清浄化処理のための圧力を供給する圧力供給手段と、
前記流体吐出手段による流体吐出処理、および前記圧力供給手段による清浄化処理の制御を行なう制御手段と、
を有し、
前記制御手段が、前記圧力供給手段による前記吐出手段の清浄化処理実行中に、前記流体吐出手段による流体吐出処理を実行させること、
を特徴とする流体吐出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液体吐出装置であって、
前記圧力供給手段が、前記流体供給手段が供給する吐出用流体に対して圧力を供給することで前記流体吐出手段の清浄化処理を実行すること、
を特徴とする流体吐出装置。
【請求項３】
請求項１に記載の流体吐出装置であって、
前記流体吐出手段が、相対的に移動する前記吐出対象に対して直交方向に交差して流体の吐出を行なう構成を有すること、
を特徴とする流体吐出装置。
【請求項４】
請求項１に記載の流体吐出装置であって、
前記流体吐出手段が吐出する流体が高分子化合物を含むインクであること、
を特徴とする流体吐出装置。
【請求項５】
所望に応じて吐出対象に対して流体を吐出する流体吐出手段を備えた流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法であって、
前記流体吐出装置が、前記流体吐出手段に対する清浄化処理のための圧力を供給する圧力供給手段と、前記流体吐出手段による流体吐出処理、および前記圧力供給手段による清浄化処理の制御を行なう制御手段と、
を有し、
前記制御手段によって、前記圧力供給手段による前記吐出手段の清浄化処理実行中に、前記流体吐出手段による流体吐出処理が実行されること、
を特徴とする流体吐出装置における流体吐出手段の清浄化方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１２−５０９０１（Ｐ２０１２−５０９０１Ａ）
【公開日】平成２４年３月１５日（２０１２．３．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１９３２４３（Ｐ２０１０−１９３２４３）
【出願日】平成２２年８月３１日（２０１０．８．３１）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月１５日（２０１２．３．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年８月３１日（２０１０．８．３１）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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