浸漬処理装置
【課題】浸漬槽のワーク搬送装置において、ワークの搬送姿勢を変更することなく、速やかに、かつ、ワークが擦れることなく、ワークを浸漬槽内に搬入し、あるいは浸漬槽外に搬出し、めっきむらの発生を防止できるようにする。
【解決手段】浸漬槽５内に配置されると共に前記ワークＷを処理液内で搬送する低位搬送機構３５と、前記浸漬槽５の外側で前記低位搬送機構３５よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽５の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークＷを搬送する高位搬送機構５６と、前記低位搬送機構３５又は高位搬送機構５６の一方の搬送機構から、ワークＷを略水平移動により受け取り、下降又は上昇し、ワークを略水平移動により他方の搬送機構に移載する昇降自在な移載機構７２とを備えている。好ましくは、前記移載機構７２の搬送速度は変更可能となっている。
【解決手段】浸漬槽５内に配置されると共に前記ワークＷを処理液内で搬送する低位搬送機構３５と、前記浸漬槽５の外側で前記低位搬送機構３５よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽５の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークＷを搬送する高位搬送機構５６と、前記低位搬送機構３５又は高位搬送機構５６の一方の搬送機構から、ワークＷを略水平移動により受け取り、下降又は上昇し、ワークを略水平移動により他方の搬送機構に移載する昇降自在な移載機構７２とを備えている。好ましくは、前記移載機構７２の搬送速度は変更可能となっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき液等の処理液を貯留してワークを浸漬する浸漬槽のワーク搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ワークを浸漬槽外から浸漬槽内に搬入し、浸漬槽の処理液内で搬送しながら浸漬処理し、浸漬処理後、浸漬槽内から浸漬槽外に搬出するワーク搬送装置の従来例１として、図４１に示すようなワーク搬送装置がある（特許文献１）。図４１に示す装置は、浸漬槽３００外に配置されたローラ式搬送機構３０１と、浸漬槽３００内に配置されたローラ式搬送機構３０２とを、同一高さに揃え、浸漬槽３００のワーク搬送方向Ｆの後端璧３０５にワーク入口３０６を開口し、該ワーク入口３０６にシールローラ３１０を配置している。ワーク入口３０６は処理液面Ｌよりも低い位置に形成されている。この装置によると、ワークＷの搬送高さを変更せずに、浸漬槽３００の外側から内側にワークＷを搬送することができる。なお、図示しないが浸漬槽３００のワーク出口も入口と同様な構造となっている。
【０００３】
別の従来例２としては、図４２に示すようなワーク反転式のワーク搬送装置がある（特許文献２）。図４２に示す装置は、浸漬槽４００外に配置されたローラ式搬送機構４０１と、該ローラ式搬送機構４０１よりも低い位置で処理液に浸るように浸漬槽４００内に配置されたローラ式搬送機構４０２とを備えると共に、浸漬槽４００内のワーク搬送方向Ｆの前後端部に、ワーク保持溝４１０を有する回転自在なドラム状又はディスク状の移載機構４１１を備えている。この装置によると、浸漬槽４００外の搬送機構４０１により浸漬槽４００の入口部の上方位置までワークＷを搬送し、該ワークＷの前端部を、移載機構４１１のワーク保持溝４１０により保持し、移載機構４１１の回転によりワークＷを反転し、処理液内の搬送機構４０２上に投入するようになっている。また、ワーク出口部では、移載機構４１１の回転により、浸漬槽４００内の搬送機構４０２から浸漬槽４００外の搬送機構４０１にワークＷを反転させながら移載するようになっている。
【特許文献１】特開昭５８−８１９９７号公報
【特許文献２】特公平２−２４３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
図４１の従来例１の装置では、回路基板等の板状ワークＷを搬送する場合、シールローラ３１０によって板状ワークＷを上下から一定の圧力で挟持するため、基板表面に非接触が要求される基板（たとえばガラス表示基板又はウエハ基板等）を、ワークとして搬送処理することはできない。また、ワークＷの上下両面を挟持することにより、めっきむらが発生しやすい。すなわち、浸漬槽３００へのワークＷの搬入速度は、速くとも２０mm/secであり、ワークＷの先端が浸漬槽３００内に侵入してからワーク後端が完全に浸漬槽内へ侵入し終えるまでに、２０秒以上かかるためと推測される。また、シールローラ３１０等のシール機構が必要になると共にメンテナンスにも手間がかかる。
【０００５】
図４２の従来例２の装置では、回転式の移載機構４１１によりワークＷを反転させて移載するので、基板等の板状のワークＷを反転させるためには広い反転スペースが必要となり、浸漬槽４００が大形化し、コンパクト化が困難である。また、基板等のワークＷが表裏逆向きに移載されるため、前記従来例１と同様に、表面に非接触が要求される回路基板（たとえばガラス表示基板又はウエハ基板等）を、ワークとして搬送処理することはできない。
【０００６】
本発明の目的は、ワーク出入部にシール装置を施す必要のないワーク搬送装置であって、回路基板等のように、基板表面に非接触が要求されるワークでも、ワークの搬送姿勢を変更することなく、速やかに、かつ、ワークが擦れることなく、ワークを浸漬槽内に搬入し、あるいは浸漬槽外に搬出し、めっきむらの発生を防止でき、しかもコンパクトな浸漬槽のワーク搬送装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため、請求項１記載の発明は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記槽内搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、前記低位搬送機構又は高位搬送機構の一方の搬送機構から、ワークを略水平移動により受け取り、下降又は上昇し、ワークを略水平移動により他方の搬送機構に移載する昇降自在な移載機構と、を備えている。
【０００８】
上記構成によると、浸漬槽のワーク出入口部にシール機構を施す必要がなく、メンテナンスが容易になる。また、ワークの姿勢を変化させることなく、すなわち、ワークを反転させることなく、かつ、上下から挟持することなく、速やかに、かつ円滑にワークを移載できるので、基板表面に非接触が要求される回路基板等の板状ワークにも簡単に対応でき、しかも、浸漬槽自体をコンパクトに維持することができる。特に、めっき槽に適用する場合には、めっきむらの発生が防止できる。
【０００９】
請求項２記載の発明は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、上向きの液噴流を噴流圧制御自在に発生させるノズルを備え、上向きの前記液噴流により高位搬送機構からのワークを受け取り、液噴流の噴流圧を低下させることによりワークを低位搬送機構に載せるように構成している。
【００１０】
上記構成のように、上向きの液噴流でワークを支持し、噴流圧を制御することにより、高位搬送機構から低位搬送機構へ移載するようにしていると、移載機構の配置スペースがコンパクトになり、また、ワーク移載中に、ワークの表面には固体物が接触しないので、ワークの表面を傷付けるおそれもない。
【００１１】
請求項３記載の発明は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、搬送幅方向に所定間隔をおいて配置された一対の移載用搬送ローラからなる移載用搬送ローラ対を、搬送方向に所定間隔をおいて複数対配置し、前記複数の移載用搬送ローラ対のうち、最も高位搬送機構側の移載用搬送ローラ対の移載用搬送ローラは略鉛直姿勢に配置し、低位搬送機構側の移載用搬送ローラ対に行くに従い、移載用搬送ローラ間でなす上開きの角度が順次大きくなるように、各移載用搬送ローラを傾斜させている。
【００１２】
上記構成によると、移載機構自体を昇降させる必要がなく、昇降用の駆動機構も必要無くなるので、構造が簡単になると共に、コストも低減できる。また、移載用搬送ローラにより、ワークの両側端を支持するので、ワークの表面を傷付けるおそれもない。
【００１３】
請求項４記載のワーク搬送装置は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、複数の移載用搬送ローラにより構成されると共に、高位搬送機構の搬送面と低位搬送機構の搬送面との間で、高さの異なる複数の移載面を有しており、前記複数の移載面は、高位搬送機構側から低位搬送機構側に行くに従い、階段状に順次低位置になるように配置されている。
【００１４】
上記構成によると、移載機構自体を昇降させる必要がなく、昇降用の駆動機構も必要無くなるので、構造が簡単になると共に、コストも低減できる。
【００１５】
請求項５記載の発明は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、高位搬送機構側の端部を回動支点として回動することにより、低位搬送機構側の端部を昇降するようになっている。
【００１６】
上記構成によると、移載機構を上下に回動させるだけであるので、移載機構の配置スペースをコンパクトにできる。
【００１７】
請求項６記載の発明は、請求項１乃至５のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記高位搬送機構の搬送速度が変更可能となっている。
【００１８】
上記構成によると、高位搬送機構と移載機構の間でワークを移載する時に、高位搬送機構の搬送速度を移載機構の搬送速度に合わせることができ、それにより、ワークを、速やかに、かつ、搬送面上で変形したり、擦れたりすることなく、移載することができ、ワークの品質を維持することができる。
【００１９】
請求項７記載の発明は、請求項１、３、４、５及び６のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記移載機構の搬送速度が変更可能となっている。
【００２０】
上記構成によると、高位搬送機構と移載機構の間でワークを移載する時には、移載機構の搬送速度を高位搬送機構の搬送速度に合わせ、低位搬送機構と移載機構の間でワークを移載する時には、移載機構の搬送速度を低位搬送機構の搬送速度に合わせることができ、それにより、ワークを、速やかに、かつ、搬送面上で変形したり、擦れたりすることなく、移載することができ、ワークの品質を維持することができる。
【００２１】
請求項８記載の発明は、請求項１、３、４、５及び６のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記低位搬送機構、高位搬送機構及び移載機構は、複数の搬送ローラからなると共に搬送面上にワークを載置して搬送するように構成されている。
【００２２】
上記構成のように、搬送機構として、搬送ローラ上にワークを載置して搬送する搬送機構及び移載機構を備えていると、薄板状のワークを搬送する場合に、ワークにかかる曲げ応力等を軽減することができる。たとえば、１mm以下の薄板の基板でも、基板自体に無理な曲げ応力をかけることなく、安定した平面状態で移載でき、これによってもワークの品質を維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
［第１の実施の形態］
図１〜図１６は、本発明にかかるワーク搬送装置を備えた浸漬処理装置の一例を示し、めっき処理装置に適用した例である。
【００２４】
（めっき装置全体の概略）
図１はめっき処理装置全体の側面略図であり、紙面のスペース的な制限からめっき処理ラインを上下２段に分けて表示しているが、実際の装置は、搬送始端（上段の左端）Ｐsから搬送終端（下段の右端）Ｐeに至るまで、搬送方向Ｆに沿って一つのライン上に揃えられている。なお、説明の都合上、搬送方向Ｆを基準として、搬送方向Ｆ側（搬送終端Ｐｅ）側を「前側」とし、搬送方向Ｆと反対側（搬送始端端Ｐｓ側）を「後側」とし、また、搬送方向Ｆと直交する水平方向（搬送幅方向）を左右方向として、以下説明する。
【００２５】
めっき処理ライン上には、搬送始端Ｐsに配置されたローディング装置１から搬送終端Ｐeに配置されたアンロード装置２の間に、浸漬槽として、搬送始端Ｐｓ側から順に、脱脂用浸漬槽４、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６及び無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７が配置されている。
【００２６】
脱脂用浸漬槽４と無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５との間には、温水洗槽１１、水洗槽１２、酸活性槽１３、水洗槽１４、温水洗槽１５及び早送り中継槽１６が前から順に配置され、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５と無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６の間には、早送り水洗槽２１、水洗槽２２及び温水洗槽２３が前から順に配置され、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６と無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７の間には、水洗槽２５及び温水洗槽２６が前から順に配置され、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７とアンロード装置２の間には、水洗槽２８、温水洗槽２９及び熱風乾燥槽３０が配置されている。
【００２７】
各浸漬槽４、５、６、７内には、貯留されているめっき液（処理液）の液面より低い位置に、ローラ式の低位搬送機構３４、３５、３６、３７がそれぞれ配置され、各水洗槽１２、１４、２２、２５、２８、各温水洗槽１１、１５、２３、２６、２９、早送り水洗槽２１、早送り中継槽１６及び熱風乾燥槽３０には、前記低位搬送機構３４、３５、３６、３７よりも高い位置に、ローラ式の高位搬送機構５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９、６０、６１、６２、６３、６４がそれぞれ配置され、そして、各浸漬槽４、５、６、７内の前後端部には、高位搬送機構５１等と略同じ上昇位置と、低位搬送機構３４等と略同じ下降位置の間で昇降するローラ式の移載機構７０、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７が、昇降自在に配置されている。
【００２８】
ローディング装置１の搬送速度は１５０mm/secに設定されている。その後ろの脱脂用浸漬槽４内の低位搬送機構３４の搬送速度は９mm/secに設定されている。その後ろの温水洗槽１１、水洗槽１２、酸活性槽１３、水洗槽１４及び温水洗槽１５内の各高位搬送機構５１、５２、５３、５４、５５の搬送速度は９mm/secに設定されている。その後ろの早送り中継槽１６の高位搬送機構５６の搬送速度は、９mm/secと１５０mm/secとの間で切り換え可能に設定されている。その後ろの無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の低位搬送機構３５の搬送速度は１０mm/secに設定されている。その後ろの早送り水洗槽２１内の高位搬送機構５７の搬送速度は１５０mm/secと９mm/secとの間で切り換え可能に設定されている。その後ろの水洗槽２２及び温水洗槽２３内の高位搬送機構５８、５９の搬送速度は９mm/secに設定されている。その後ろの無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６内の低位搬送機構３６の搬送速度は１５mm/secに設定されている。その後ろの水洗槽２５及び温水洗槽２６内の高位搬送機構６０、６１の搬送速度は９mm/secに設定されている。その後ろの無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７内の低位搬送機構３７の搬送速度は６．５mm/secに設定されている。その後ろの水洗槽２８及び温水洗槽２９内の高位搬送機構６２、６３の搬送速度は９mm/secに設定されている。
【００２９】
すなわち、各浸漬槽４、５、６、７内に配置された低位搬送機構３４、３５、３６、３７は、９mm/sec又は１５０mm/secの速度一定型であり、各浸漬槽４、５、６、７内の通過時間（浸漬時間）は、脱脂用浸漬槽４内が３００秒、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５内が４００秒、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６内が１２０秒、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７内が２７０秒となっている。
【００３０】
また、各水洗槽１２、１４、２２、２５、２８、温水洗槽１１、１５、２３、２６、２９、酸活性槽１３及び熱風乾燥槽３０の各搬送機構５１、５２、５３、５４、５５、５８、５９、６０、６１、６２、６３、６４も速度一定型であり、各槽内の通過時間は、脱脂用浸漬槽４と無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５との間の各水洗槽２２、２５、２８、温水洗槽２３、２６、２９内がそれぞれ２秒である。なお、早送り中継槽１６及び早送り水洗槽２１内の搬送時間（通過時間）は、それぞれ６秒である。
【００３１】
脱脂用浸漬槽４の前端出口部に配置されたローラ式の移載機構７１も速度一定型であるが、その他の移載機構７０、７２、７３、７４、７５、７６、７７は、前記早送り中継槽１６及び早送り水洗槽２１の高位搬送機構５６、５７と同様に、搬送速度が切り換え自在となっている。具体的には、移載機構７０、７２、７３、７４、７５、７６、７７は、それらの前後の搬送機構の搬送速度にそれぞれ同調できるように、切り換え自在となっている。
【００３２】
すなわち、脱脂用浸漬槽４の後端入口部の移載機構７０は１５０mm/secと９mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部の移載機構７２は１５０mm/secと１０mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の前端出口部の移載機構７３は１０mm/secと１５mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６の後端入口部の移載機構７４は９mm/secと１５mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６の前端出口部の移載機構７５は１５mm/secと９mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７の後端入口部の移載機構７６は９mm/secと６．５mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７の後端出口部の移載機構７７は６．５mm/secと９mm/secとの間で切り換え可能である。
【００３３】
各水洗槽１２、１４、２２、２５、２８、温水洗槽１１、１５、２３、２６、２９及び早送り水洗槽２１には、各槽内の高位搬送機構５１等の搬送面よりも高い位置にそれぞれシャワーノズル８０がそれぞれ備えられ、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６の後側の温水洗槽２３の前端部と、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７の後側の温水洗槽２６の前端部には、それぞれワーク表面に付着した処理液を風圧で吹き飛ばすエアナイフ８１が設けられている。なお、エアナイフ８１は、ワーク搬送面の上方位置と下方位置とに配置されている。シャワーノズル８０等によりワークの上方から吹き付けられた処理液は、高位搬送機構５１等の搬送ローラ間の隙間を通って各槽の底部に溜まり、ポンプによって再びシャワーノズル８０に循環される。
【００３４】
（浸漬槽の基本的構造）
図４は、図１のIV-IV断面拡大図であり、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の縦断面図である。この図４において、箱形の浸漬槽５は、装置本体１０１内に設けられた外槽１０２の底壁部分の上方に、複数の支柱１０３を介して支持されており、浸漬槽５内には複数の水平な搬送ローラ１０５からなる前記低位搬送機構３５が収納され、各搬送ローラ１０５の回転軸１０５ａは、浸漬槽５の左側の側壁１０７の外側に形成された隔壁１１０の外側まで延び、ギヤ１１１及びチェーン１１２を介して定速モータ１１３に連動連結している。搬送ローラ１０５の搬送面上に、回路基板等の板状のワークＷが水平姿勢に載置され、めっき液内を水平に搬送するようになっている。
【００３５】
浸漬槽５の底板１１５には補強部材１１６が設けられている。前記外槽１０２の底壁部分は、前記ギヤ１１１等の配置側とは反対側の右側が低くなるように傾斜しており、該右側に、浸漬槽５からオーバーフローしためっき液を貯留する第１液受け部１２１が設けられている。該第１液受け部１２１には、フィルター１２２及び液排出用ポンプ１２３が接続され、該液排出用ポンプ１２３は予備槽１２４内に液を排出するようになっている。該予備槽１２４は、フィルター１２５ａ、液循環ポンプ１２５及び液吐出管１２６を介して、浸漬槽５内にめっき液を戻すようになっている。
【００３６】
図６は、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部を左側から見た縦断面拡大側面図（図３のVI-VI断面拡大図）であり、前記液吐出管１２６は、低位搬送機構３５の搬送面よりも高い位置で浸漬槽５内に開口しており、該液吐出管１２６から前述のように浸漬槽５内にめっき液を吐出する。低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５は、縦長の軸受け部材１２８の下端部に支持されており、該軸受け部材１２８は、浸漬槽５の側壁１０７に形成された上下方向に長い長孔１３０に上方から差し込まれている。
【００３７】
図７は前記軸受け部材１２８の斜視図であり、軸受け部材１２８の前後面及び下端面には、浸漬槽５の側壁１０７の長孔１３０に嵌合するための溝１３１が形成されており、また、下端部には搬送ローラ１０５の回転軸１０５ａを支持するための軸受孔１３２が形成されている。
【００３８】
図２は、図１のII-II断面拡大図であり、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部の端壁５ａには、ワークＷが水平載置姿勢で通過可能なワークで入口１３３が形成されている。
【００３９】
（移載機構の構成）
図３は図１のIII-III断面拡大図であり、この図３において、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部に配置されているローラ式の移載機構７２は、ワークＷを上面に載置して搬送する複数の水平な搬送ローラ１４０と、該搬送ローラ１４０を支持するフレーム１４２と、該フレーム１４２を昇降自在に支持する左右一対のシリンダ１４３、１４４と、前記搬送ローラ１４０を駆動するために各搬送ローラ１４０の回転軸１４０ａに固着されたギヤ１４５等からなるギヤ列と、変速モータ１４６により構成されている。前記フレーム１４２の右端部は、装置本体１０１の右側壁に形成された貫通孔１４８を通って装置本体１０１外部に突出し、装置本体１０１の右側壁に固定された右側シリンダ１４４に支持され、フレーム１４２の左端部は、装置本体１０１内の前記隔壁１１０に形成された貫通孔１４９を通り、装置本体１０１の左側壁と隔壁１１０との空間部内に突出し、隔壁１１０に固定された左側シリンダ１４３に支持されている。前記ギヤ１４５のギヤ列は、浸漬槽５の左側の側壁１０７と隔壁１１０との間の空間部に配置されており、該空間部の下側には、前記外槽１０２の底壁部分よりも下方に突出する第２液受け部１５１が形成されている。該第２液受け部１５１の底壁には、フィルター１５２を介して液排出ポンプ１５３が接続されており、該液排出ポンプ１５３は前記予備槽１２４に液を排出するようになっている。前記各ギヤ１４５は、図８及び図１３に示すように、それぞれ中間ギヤ１５５を介して噛み合うことにおり、同一方向に回転するように構成されており、ギヤ１４５と中間ギヤ１５５とのギヤ列は、オーバーフローした処理液が外槽１０２の開口部から飛び散るのを防止する液飛散防止壁としての役目も果たしている。
【００４０】
図６において、移載機構７２が配置されている浸漬槽５の側壁１０７にも、上下方向に長い長孔１６０が前後方向に所定間隔を置いて複数形成されており、各長孔１６０内に、移載機構７２の各搬送ローラ１４０の回転軸１４０ａが上下方向移動可能に挿通されている。また、装置本体１０１の後端部には、フリーローラ１６１が回転自在に支持されている。
【００４１】
図１６は、上昇時の移載機構７２を示す側面図であり、上昇時の移載機構７２の前方位置には、移載機構７２の搬送ローラ１４０上を前方に搬送されるワークＷが所定の前進位置で停止させられるストッパー１６２が配設されている。
【００４２】
図８は図１の無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部に配置された移載機構７２の平面図（図６の平面図）であり、フレーム１４２は左右に長い矩形状に形成されると共に、下側に前後方向に延びる左右一対にローラ支持片１６５が固着され、該ローラ支持片１６５に前記搬送ローラ１４０の回転軸１４０ａの左右端部が回転自在に支持されている。各搬送ローラ１４０の材質は、ポリプロピレン、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）又はＰＰＳ（ポリフェニレンスルフィド）等の樹脂であり、また、ギヤ１４５、１５５の材質も同じである。フレーム１４２の材質は、ポリプロピレンもしくはＰＥＥＫ、ＰＰＳ等の樹脂又はステンレス鋼等の耐腐食性の金属である。
【００４３】
図１１は、移載機構７２のフレーム１４２と左右のシリンダ１４３（１４４）との連結構造を示す側面略図であり、フレーム１４２の左右端部の下面には前後一対の支持ブラケット１６８が形成されており、該支持ブラケット１６８間には、前後方向に延びる支持バー１６９が架設され、該支持バー１６９に、前記シリンダ１４３（１４４）のロッド部に連結された二股状の連結部材１７０の前後端部が枢着連結されている。
【００４４】
図１２は図１１のXII矢視図、図１３は図１２の左側のシリンダ１４３の連結部材１７０の拡大図、図１４は図１２の右側のシリンダ１４４の連結部材１７０の拡大図である。図１３において、左側のシリンダ１４３の連結部材１７０の上端枢着部は、支持バー１６９に対応する円形の嵌合１７０ａ孔が形成されているが、図１４に示すように、右側のシリンダ１４４の連結部材１７０の上端枢着部には、左右方向に長い長孔１７０ｂが形成され、該長孔１７０ｂに支持バー１６９が左右方向相対移動可能に嵌合している。このように右側のシリンダ１４４の連結部材１７０を、長孔１７０ｂにより支持バー１６９に嵌合している理由は、後述するように、移載機構７２の昇降時に、搬送ローラ１４０を左右に傾斜させた状態で昇降させるためである。
【００４５】
図１５は、移載機構７２の搬送ローラ一１４０の拡大図であり、左右端部につば部１４０ｂが形成され、ワークＷの左右方向に移動を規制している。
【００４６】
（作動）
図９の（ａ）〜（ｅ）は、移載動作の一例として、図１の無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後後端入口部において、早送り中継槽１６の高位搬送機構５６から無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５内の低位搬送機構３５へ、移載機構７２によりワークを移載する場合の作動を段階的に示している。
【００４７】
（１）図９の（ａ）において、ワークＷは高位搬送機構５６の搬送面上に載置され、搬送ローラ１０５の回転により高速の搬送速度（１５０mm/sec)でもって前方（搬送Ｆ方向）に搬送されており、一方、浸漬槽５の後端部に配置された移載機構７２は、高位搬送機構５６と略同一高さの上昇位置まで上昇した状態で待機すると共に、前記高位搬送機構５６の搬送速度と同じ搬送速度（１５０mm/sec)で搬送ローラ１４０が駆動している。
【００４８】
（２）次の段階の図９の（ｂ）において、ワークＷは、高位搬送機構５６の搬送面上から、上下方向に変位することなく、略水平移動により移載機構７２の搬送面上に前記高速の搬送速度で移載される。この時、移載機構７２の搬送速度と高位搬送機構５６の搬送速度とが同一であるので、ワークＷは、いずれの搬送ローラ１０５、１４０とも擦れることなく、円滑に高位搬送機構５６から移載機構７２に移載される。ワークＷが移載機構７２上の所定位置まで前進すると、ワークＷはストッパー１６２により係止されると共に、移載機構７２の搬送ローラ１４０は回転を停止する。
【００４９】
（３）次の段階の図９の（ｃ）において、移載機構７２は、浸漬槽５内の低位搬送機構３５と略同一高さの下降位置まで下降し、今度は、低位搬送機構３５の搬送速度（１０mm/sec)と同じ搬送速度で搬送ローラ１４０が駆動し、低位搬送機構３５の搬送面上にワークＷを水平に送り出す。この時は、移載機構７２の搬送ローラ１４０の搬送速度は低位搬送機構３５の搬送速度と同一の速度（１０mm/sec)に切り換えられており、ワークＷは、搬送ローラ１０５、１４０と擦れることなく、円滑に移載機構７２の搬送面上から低位搬送機構３５の搬送面上に移載される。ワークＷが完全に低位搬送機構３５の搬送面上に移載された時点で、移載機構７２の搬送ローラ１４０は回転を停止する。
【００５０】
（４）次の段階の図９の（ｄ）において、ワークＷが完全に低位搬送機構３５に移載された後、移載機構７２の搬送ローラ１４０の回転は停止し、そして次の段階の図９の（ｅ）に示すように、移載機構７２は上昇位置まで上昇し、高位搬送機構５６と同一の搬送速度で移載機構７２の搬送ローラ１４０が駆動し、次のワークＷを受け取る。
【００５１】
移載機構７２の昇降動作並びに各搬送ローラ１４０、１０５の駆動及び停止の制御は、移載機構７２、高位搬送機構５６及び低位搬送機構３５に配置された各種センサー（図示せず）により、コントローラを介して行われる。
【００５２】
前記各種センサーとしては、たとえば、高位搬送機構５６の搬送面上にワークＷが供給されたことを検出するセンサーと、移載機構７２の搬送面上でワークＷが所定位置まで前進した状態（ストッパー１６２に当接した状態）を検出するセンサーと、移載機構７２が上昇位置まで上昇した状態（又はシリンダ１４３等が伸長した状態）を検出するセンサーと、移載機構７２が下降位置まで下降した状態（又はシリンダ１４３等が収縮した状態）を検出するセンサーと、移載機構７２からワークＷが完全に排出されたことを検出するセンサー等を備えることができる。
【００５３】
すなわち、早送り中継槽１６の高位搬送機構５６にワークＷの先端が載置されたことをセンサーにより検知すると、早送り中継槽１６の高位搬送機構５６の搬送ローラ１０５と、移載機構７２の搬送ローラ１４０とが、同一の搬送速度（１５０mm/sec)で駆動し、これにより高位搬送機構５６の搬送面上から移載機構７２の搬送面上に上記搬送速度でワークＷを移載する（図９の（ａ））。
【００５４】
次に、移載機構７２の搬送面上でワークＷが所定位置まで前進したことをセンサーにより検知すると、移載機構７２の搬送ローラ１４０が停止し、シリンダ１４３、１４４（図１０）が収縮して搬送ローラ１４０が下降位置まで下降する（図９の（ｂ）及び（ｃ））。
【００５５】
次に、シリンダ１４３、１４４が収縮して搬送ローラ１４０が下降位置まで下降したことをセンサーにより検知すると、移載機構７２の搬送ローラ１４０が、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５と同一の速度（１０mm/sec)で駆動し、ワークＷを低位搬送機構３５の搬送面上に移載する（図９の（ｃ）及び（ｄ））。
【００５６】
そして、移載機構７２のからワークＷが完全に搬出されたことをセンサーにより検知すると、移載機構７２の搬送ローラ１４０が停止し、搬送ローラ１４０を上昇位置まで上昇させるのである（図９の（ｄ）（ｅ））。
【００５７】
図１０の（ａ）（ｂ）（ｃ）は、移載機構７２の昇降時の動作を示した図であり、移載機構を下降させる場合には、左右のシリンダ１４３、１４４の収縮開始タイミング（上昇時には伸長開始タイミング）をずらすことにより、図１０の（ｂ）のように、たとえば搬送ローラ１４０を右下がり状に傾斜させ、それによりワークＷを傾斜させる。これにより、ワークＷが、めっき液内に浸漬する時に浮かび上がるのを防止することができる。
【００５８】
なお、図１の無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の前端出口部において、前側の早送り水洗槽２１の高位搬送機構５７にワークＷを移載する際の作動も、前述の後端入口部の作動と順序が逆になるだけで、基本的には後端入口部における作動と同様である。
【００５９】
また、図１の他の浸漬槽４、６、７の各前端出口部及び後端入口部におけるワークＷの移載作動も、前記無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の場合と同様である。
【００６０】
（実施の形態の効果）
（１）図９の（ａ）〜（ｅ）で説明したように、水平姿勢で送られて来るワークＷを、反転させたり、上下から挟持したりすることなく、一方の搬送機構５６から他方の搬送機構３５に略水平移動により、速やかに、かつ円滑に移載するので、基板表面に非接触が要求される回路基板等のワークにも簡単に対応でき、しかも、浸漬槽自体をコンパクトに維持することができる。特に、めっき槽に適用する場合には、めっきむらの発生を防止できる。
【００６１】
（２）図９の（ａ）〜（ｅ）で説明したように、高位搬送機構５６と移載機構７２との間でワークを移載する時には、移載機構７２の搬送速度を高位搬送機構５６の搬送速度に合わせ、低位搬送機構３５と移載機構７２の間でワークＷを移載する時には、移載機構７２の搬送速度を低位搬送機構３５の搬送速度に合わせているので、ワークを、速やかに、かつ、搬送面上で変形したり、擦れたりすることなく、移載することができる。
【００６２】
（３）図１０の（ａ）（ｂ）（ｃ）で説明したように、移載機構７２を下降させる場合（又は上昇させる場合）には、左右のシリンダ１４３、１４４の収縮開始タイミング（上昇時には伸長開始タイミング）をずらすことにより、図１０の（ｂ）のように、搬送ローラ１４０を左右に傾斜させ、それによりワークＷを傾斜させるようにしていることにより、次のような利点が有る。
【００６３】
すなわち、下降時には、めっき液にワークＷが浸かる時に、ワークＷが浮き上がるのを防止し、それによりワークの姿勢が崩れるのを防止でき、一方、上昇時には、ワークＷの表面のめっき液を流し落とすことができる。
【００６４】
（４）移載機構７２の搬送ローラ１４０による搬送速度を変更可能とすることにより、速度変換手段としての機能を持たせているので、浸漬槽５の搬送方向長さをコンパクトにしつつ、所定処理時間を保てるように、浸漬槽５内の搬送速度を遅くすることができる。このように、浸漬槽５内での搬送速度を遅くすることにより、移載機構７２の作動サイクル（ワーク受け入れ→上昇→ワーク排出→下降、又は、ワーク受け入れ→下降→ワーク排出→上昇）が長くなり、次のワークＷが来るまでの時間を移載機構７２で調節することで、様々な搬送速度に対応可能としているのである。
【００６５】
［第２の実施の形態］
図１７〜図２０は本発明の第２の実施の形態であり、図１７は移載機構７２の平面図、図１８は移載機構７２の側面図、図１９は図１８のXIX矢視図、図２０は移載機構７２の昇降動作を示す側面図である。図１７において、移載機構７２の搬送ローラ１４０は、フリーローラとして構成されており、図２０に示すように、移載機構７２の下降時に、移送機構７２の搬送ローラ１４０が、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５間を下方に通過し、所定量ｈ１だけ下方位置で停止するように構成されている。なお、第２の実施の形態において、第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【００６６】
図２０において、移載機構７２が下降した時には、前述のように、移載機構７２の各搬送ローラ１４０は、浸漬槽５内の低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５間を下方に通過し、それにより移載機構７２上のワークＷが自動的に低位搬送機構２５の搬送面上に移載される。このように移載された後、図２０の実線の状態から、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５の駆動により、ワークＷは前方に搬送される。
【００６７】
一方、仮想線で示すように、移載機構７２の上昇時には、後方の高位搬送機構５６の駆動のみにより、高位搬送機構５６から移載機構７２の搬送面上にワークＷが移載される。
【００６８】
該実施の形態によると、移載機構７２の搬送ローラ１４０を駆動するための変速モータは不要となり、部品コストを低減できる。
【００６９】
ただし、この実施の形態は、浸漬槽５等の後端入口部に配置される移載機構のみに適用可能であり、前端出口部に配置される移載機構には適用できない。
【００７０】
［第３の実施の形態］
図２１及び図２２は本発明の第３の実施の形態であり、図２１は移載機構７２の平面図、図２２は図２１のXXII-XXII断面図を示しており、移載機構７２の搬送ローラ２００として、縦向きの回転軸２００ａを有すると共に、外周に断面Ｖ形溝２００ｂを有するローラを用いている。各搬送ローラ２００は、左右方向に所定間隔をおいて２列に対向配置されており、水平姿勢のワークＷの左右端部を、搬送ローラ２００のＶ形溝２００ｂで保持し、搬送ローラ２００の回転により搬送するように構成されている
【００７１】
各搬送ローラ２００の回転軸２００ａの上端には、それぞれギヤ２０１が設けられ、各ギヤ２０１は中間伝達ギヤ２０２を介して互いに噛み合うことにより、同一方向に回転するようになっており、変速モータ２０３に連動連結している。
【００７２】
該実施の形態によると、回路基板等の板状ワークＷの表面両面共に、非接触状態で移載することができる。
【００７３】
［第４の実施の形態］
図２６〜図２８は本発明の第４の実施の形態であり、液噴流式の移載機構７２を備えており、図２６は移載機構７２の縦断面図、図２７は移載機構７２の平面図、図２８は図２６のXXVIII-XXVIII断面図であり、第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【００７４】
図２６において、移載機構７２として、低位搬送機構３５の後端部（搬送始端部）に、前後方向（搬送方向）に間隔をおいて複数の上向きノズル２０５を配置し、これらノズル２０５は、液管２０６を介して液圧ポンプ２０７に接続すると共に、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５間に位置し、搬送ローラ１０５間から上向きに液噴流を噴出するように構成されている。ポンプ２０７は吐出液圧が制御可能となっており、吸込口は、図示しないが液タンク又は浸漬槽５内に接続している。
【００７５】
図２７及び図２８において、各ノズル２０５は、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５の略全幅に亘るように左右方向（搬送幅方向）に細長く形成されると共に、噴口２０５ａも低位搬送機構３５の略全幅に亘るようにスリット状に形成されており、これにより、低位搬送機構３５の左右幅の略全幅に亘る範囲で液噴流を噴出することができるようになっている。
【００７６】
（作動）
（１）図２６において、高位搬送機構５６上を板状のワークＷが前方に搬送され、高位搬送機構５６の前端部又はその近傍位置まで至ると、液圧ポンプ２０７を駆動することにより、各ノズル２０５の上端噴口２０５ａから上向きに液噴流を噴出させる。
【００７７】
（２）ワークＷが高位搬送機構５６の前端部からさらに前方に搬送されて、浸漬槽５の後端部の上方位置まで至ると、ノズル２０５からの液噴流により、ワークＷは、高位搬送機構５６の搬送面と略同一高さに支持される。
【００７８】
（３）次にポンプ２０７の吐出圧制御により、ノズル２０５からの液噴流を停止し、あるいは噴流圧を低下させ、それにより、ワークＷを自重により下降させ、浸漬槽５内に浸漬させると共に、常時定速で駆動している低位搬送機構３５上に載せる。
【００７９】
（４）その後、ワークＷは、低位搬送機構３５によって、浸漬槽３５を搬送される。
【００８０】
このように、上向きの液噴流でワークＷを支持し、噴流圧を制御することにより、高位搬送機構５６から低位搬送機構３５へ移載するようにしていると、移載機構７２の配置スペースがコンパクトになり、また、液噴流でワークＷを支持するために、移載中にワークＷの表面を傷付けるおそれもない。
【００８１】
［第５の実施の形態］
図２９〜図３１は本発明の第５の実施の形態であり、複数の移載用搬送ローラ対２１１を立設してなる移載機構７２を備えており、図２９は移載機構７２の縦断面図、図３０は図２９のXXX-XXX断面拡大図、図３１は移載用搬送ローラ対の支持箇所の変位を示す概念図（図２９のXXX-XXX断面拡大相当図）であり、第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【００８２】
図２９において、浸漬槽５の後端部には、高位搬送機構５６と低位搬送機構３５との間に、移載機構７２として、前後方向に略等間隔をおいて複数の移載用搬送ローラ対２１１、２１２、２１３、２１４が配置されている。
【００８３】
図３０において、各移載用搬送ローラ対２１１、２１２、２１３、２１４は、それぞれ左右方向に所定間隔をおいて配置された１対の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ、２１２ａ、２１２ｂ、２１３ａ、２１３ｂ、２１４ａ、２１４ｂから構成されている。各移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ、…２１４ａ、２１４ｂは、装置本体１０１の側壁に架設されたフレーム２１５と浸漬槽５の底壁とにより回転可能に支持されており、表面に弾性圧縮可能なゴム層を有すると共に、上端部にそれぞれ駆動モータ２２０が連結され、各駆動モータ２２０により、それぞれ矢印Ｙａ、Ｙｂ方向に回転するようになっている。
【００８４】
図３１において、最後端に配置された移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂは略鉛直姿勢となっており、左右方向の間隔Ｌ１は、たとえばワークＷの左右幅と略同じか、あるいは弱冠狭くなっており、表面のゴム層により、ワークＷの左右両側端を挟持できるようになっている。したがって、高位搬送機構５６から搬送されて来たワークＷは、まず、最後端の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂにより、高位搬送機構５６の搬送面と略同じ高さＨ１のワーク挟持点Ｐ１で、両側端が挟持される。
【００８５】
前記最後端の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ以外の移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂ、２１３ａ、２１３ｂ、２１４ａ、２１４ｂは、前方に行くに従い、鉛直に対する上開きの角度θ2、θ3、θ4が順次大きくなるように、外向きに倒れるように傾斜している。したがって、各移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂ、２１３ａ、２１３ｂ、２１４ａ、２１４ｂによるワーク挟持点（間隔Ｌ１に対応する点）Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４は、低位搬送機構３５側（前側）に行くに従い順次下方に変位し（Ｈ１→Ｈ２→Ｈ３→Ｈ４）、最も低位搬送機構３５側（前端側）の移載用搬送ローラ２１４a、２１４ｂのワーク挟持点Ｐ４は、低位搬送機構３５の搬送面に対して、弱冠高い位置となっている。
【００８６】
（作動）
（１）図３１において、移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ、…２１４ａ、２１４ｂは、矢印Ｙａ、Ｙｂ方向に常時回転しており、高位搬送機構５６によって前方に搬送されてくる板状のワークＷは、まず最後端の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂにより、高さＨ１において挟持点Ｐ１により挟持され、さらに前方に搬送される。
【００８７】
（２）最後端の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂから前方の次位の移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂに至までの間、板状ワークＷは自重により前端部が下降し、次位の移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂの挟持点Ｐ２により、高さＨ２で挟持される。
【００８８】
（３）上記同様に、移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂから次の移載用搬送ローラ２１３ａ、２１３ｂへ、続いて最前端の移載用搬送ローラ２１４ａ、２１４ｂへと、挟持高さをＨ２→Ｈ３→Ｈ４へと順次下降させながら受け渡され、その間にめっき液中に浸漬されてゆく。
【００８９】
（４）そして、最前端の移載用搬送ローラ２１４ａ、２１４ｂから低位搬送機構３５へと受け渡され、定速で搬送される。
【００９０】
該実施の形態によると、移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ等は、昇降等により移動しないので、移載機構７２の配置スペースがコンパクトになる。また、ワークＷの表裏面を支持しないので、ワークＷの表裏面を傷付けるおそれもない。
【００９１】
［第６の実施の形態］
図３２〜図３４は本発明の第６の実施の形態であり、高さの異なる複数の移載面２２３、２２４を階段状に配置してなる移載機構７２を備えており、図３２は移載機構７２の縦断面図、図３３は移載用搬送ローラの駆動機構を示す縦断面図、図３４は平面図であり、第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【００９２】
図３２において、移載機構７２は、多数の移載用搬送ローラ２２０、２２１により構成されると共に、後半部（高位搬送機構５６側の部分）の第１の移載面２２３と、第１の移載面２２３よりも低く配置された前半部（低位搬送機構３５側の部分）の第２の移載面２２４とを、階段状に備えている。
【００９３】
図３４において、第１の移載面２２３の後半部に配置された複数の移載用搬送ローラ２２０は、複数の短いローラ部分に分割されており、前後に隣り合う移載用搬送ローラ２２０の各ローラ部分は千鳥状に配列され、しかも、前後方向にオーバーラップするように配列されている。一方、第１の移載面２２３の前半部に配置された複数の移載用搬送ローラ２２１は、左右方向の略幅に亘る長い構造となっており、しかも、前後に一定のすき間を置いて配置されている。
【００９４】
第２の移載面２２４も、第１の移載面２２３と同様な構造となっており、後半部の分割式の移載用搬送ローラ２２０と、前半部の細長い移載用搬送ローラ２２１とから構成されている。
【００９５】
第１の移載面２２３の前半部の移載用搬送ローラ２２１の軸端部には、いずれにも伝動ギヤ２２５が固着され、後半部の移載用搬送ローラ２２０の軸端部には、一つ置きに伝動ギヤ２２５が固着されている。
【００９６】
図３３において、第１の記載面２２３の各伝動ギヤ２２５は、それぞれウォーム２２６を介して共通の第１の駆動軸２３０に連動連結されており、該第１の駆動軸２３０は、前後一対の軸受２３５、２３６により支持されている。
【００９７】
また、第２移載面２２４についても第１の移載面２２３と同様に、図３４のように、前半部の移載用搬送ローラ２２１の軸端部には伝動ギヤ２２５が固着され、後半部の分割式の移載用搬送ローラ２２０の軸端部には、一つ置きに伝動ギヤ２２５が固着され、各伝動ギヤ２２５は、図３３に示すように、それぞれウォーム２２６を介して共通の第２の駆動軸２３１に連動連結されており、第２の駆動軸２３１は、前後一対の軸受２３、２３７により支持されている。
している。
【００９８】
前記第１の駆動軸２３０と第２の駆動軸２３１は、チェーン伝動機構２３２を介して連動連結し、第２の駆動軸２３１の前端部は、チェーン伝動機構２３３を介して低位搬送機構３５の駆動軸２３８に連動連結している。すなわち、移載機構７２の各移載用搬送ローラ２２０、２２１は、低位搬送機構３５と共に駆動されるようになっている。
【００９９】
また、移載機構７２と高位搬送機構５６との間には、高位搬送機構５６の搬送面と略同一高さの搬送面を有するフリーローラ２０８が配置されている。
【０１００】
（作動）
図３２において、高位搬送機構５６上を前方に搬送されてくる板状のワークＷは、フリーローラ２０８を介して、まず、移載機構７２の第１の移載面２２３に受け渡され、次に下位の第２の移載面２２４に受け渡され、該第２の移載面２２４から低位搬送機構３５に受け渡され、定速で搬送される。
【０１０１】
図３２において、高位搬送機構５６から第１の移載面２２３への受け渡し時、第１の移載面２２３の後半部は、図３４のように、前後方向にローラ同士がオーバーラップするように各移載用搬送ローラ２２０が配置されているので、ワークＷを確実に第１の移載面２２３上で受け取ることができ、移載用搬送ローラ２２０間にワークＷが挟まるようなことはない。第１の移載面２２３から第２の移載面２２４への移載時も同様である。
【０１０２】
なお、図３２の実施の形態は、移載面を２段に構成しているが、３段以上の階段状に構成することも可能である。
【０１０３】
［第７の実施の形態］
図３５〜図４０は本発明の第７の実施の形態であり、上下に揺動可能な移載機構７２を備えており、図３５は移載機構７２の縦断面図、図３６は移載機構の駆動部を示す縦断面図、図３７は図３６のXXXVII-XXXVII断面図、図３８は平面図、図３９はローラ支持部分の拡大図、図４０は図３９のXXXX矢視図である。第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【０１０４】
図３５において、移載機構７２として、高位搬送機構５６と低位搬送機構３５との間に、前後方向に所定間隔置いて複数の移載用搬送ローラ２５０が配置されており、この移載機構２５０は、後端部を回動（揺動）支点として上下揺動することにより、前端部が昇降するようになっている。
【０１０５】
図３８において、各移載用搬送ローラ２５０は、左右一対のローラ支持板２５６により水平軸芯回り回転可能に支持されており、両支持板２５６は前後の補強板２７２により連結されている。各移載用搬送ローラ２５０の軸端部にはそれぞれ伝動ギヤ２５８が固着されており、各ギヤ２５８はアイドルギヤ２７０を介して相互に噛み合い、同時に回転するようになっている。
【０１０６】
図３７において、最後端部の移載用搬送ローラ２５０の軸端部には、チェーンスプロケット２５８が固着され、該チェーンスプロケット２５８は、チェーン２５９を介して上方の駆動モータ２５６のチェーンスプロケット２６０に連動連結している。
【０１０７】
装置本体１０１の側壁間にはフレーム２５２が架設され、該フレーム２５２には、下方に延びる一対の支持腕２５３が固着されると共に、移載機構揺動用のシリンダ２５４が設けられ、また、前記駆動モータ２５６が取り付けられている。前記シリンダ２５４から下方に延びる伸縮ロッド２５４ａの下端部には、下向きコの字状の連結アーム２５７が固着されており、該連結アーム２５７の左右両下端部には、下向きコの字形のブラケット２５５が固着され、該ブラケット２５５により、両ローラ支持板２５１の前端部を支持している。
【０１０８】
図３６において、ローラ支持板２５１の後端部は、前記支持腕２５３の下端部に水平なヒンジピン２７０を介して回動自在に支持されており、ローラ支持板２５１の前端部は、前述のように、連結アーム２５７の両ブラケット２５５により支持されており、伸縮ロッド２５４ａの伸縮により、移載機構７２を、後端のヒンジピン２７０回りに上下に揺動するようになっている。
【０１０９】
図３９において、前記ブラケット２５５には連結ピン２７４が固着されており、この連結ピン２７４は、ローラ支持板２５１に設けられた長孔２７３に係合している。
【０１１０】
図４０において、前記長孔２７３は前後方向に長く形成されており、これにより、ローラ支持板２５１の揺動時に、ブラケット２５５に対するローラ支持板２５１の前後方向の相対的な移動を可能としている。
【０１１１】
（作動）
（１）図３５において、移載機構７２は、高位搬送機構５６と略同じ高さで水平姿勢に維持されると共に、各移載用搬送ローラ２５０が高位搬送機構５６の搬送ローラと同じ搬送速度で回転しており、この状態で、高位搬送機構５６からの板状ワークＷを受け取る。
【０１１２】
（２）移載機構７２上にワークＷが載せられた時点で、移載機構７２の移載用搬送ローラ２５０の回転は停止し、続いて、図３６に仮想線で示すようにシリンダ２５４の伸縮ロッド２５４ａが伸長することにより、移載機構７２は後端ヒンジピン２７０回りに下方へ揺動し、前端部を下降させる。
【０１１３】
（３）図３６の仮想線で示す下降位置にて、シリンダ２５４の作動を停止し、次に、移載機構７２の移載用搬送ローラ２５０を、低位搬送機構３５の搬送速度と同じ速度で回転し、移載機構７２から低位搬送機構３５へワークＷを移載し、定速で浸漬槽５内を搬送する。
【０１１４】
該実施の形態によると、移載機構７２は、後端部を回動支点として上下に揺動するだけであるので、移載機構配置用のスペースを節約することができる。
【０１１５】
［その他の実施の形態］
（１）請求項１に記載した「略水平移動」とは、前記第１〜第２３実施の形態で示したような水平移動だけには限定されないことを意味しており、弱冠傾斜した移動も含むものである。また、図９に示す移載機構７２を、前下がりに傾斜した姿勢でワークＷを受け取るような構造とすることもできる。
【０１１６】
（２）請求項１に記載した「下降又は上昇」は鉛直方向の移動には限定されない。たとえば、図９に示す移載機構７２を、前後左右にスライドしながら昇降する構造とすることもできる。
【０１１７】
（３）請求項１並びに請求項４〜請求項７に記載した「高位搬送機構」は、前記各実施の形態のように一様な高さの搬送でなくともよく、たとえば図２３のように、高位搬送機構５６の途中にスロープ部５６ａを介在させることにより、搬送高さを変化させる構造とすることもできる。また、高位搬送機構は、必ずしも駆動機構を備えている必要はなく、たとえば、図２４のように、フリーローラ５６ｂのみで高位搬送機構を構成することも可能である。
【０１１８】
（４）前記第１、第２、第３、第５、第６及び第７の実施の形態において、移載機構はローラによりワークＷの受取り及び受渡しを行うように構成されているが、ローラを備えた移載機構には限定されない。たとえば、ローラのような回動可能な要素で構成する場合には、タイミングベルトとすることも可能である。回動しない要素による構成としては、たとえば図１８及び図１９のようにローラ支持片１６５によりローラを支持する代わりに、図２５のように、左右の一対のＬ字形吊持部材１６５ａにより、ワークＷの左右端部を下から抱えて保持する構造とすることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】本発明にかかる搬送装置を備えためっき装置の全体側面図である。
【図２】図１のII-II断面拡大図である。
【図３】図１のIII-III断面拡大図である。
【図４】図１のIV-IV断面拡大図である。
【図５】図３のV-V断面拡大図である。
【図６】図３のVI-VI断面拡大図である。
【図７】図６の軸受部材の斜視図である。
【図８】図１の矢印VIII部分の移載機構の平面拡大図である。
【図９】図８の移載機構によるワーク移載作業を段階的に示す作業行程図である。
【図１０】図８の移載機構の昇降作動を示す正面略図である。
【図１１】図８の移載機構のフレーム及びシリンダ等の側面図である。
【図１２】図１１のXII矢視図である。
【図１３】図１２の左側のシリンダの連結部材の拡大図である。
【図１４】図１２の右側のシリンダの連結部材の拡大図である。
【図１５】移載機構の搬送ローラの正面図である。
【図１６】移載機構の駆動伝達部の側面図である。
【図１７】第２の実施の形態の移載機構を示す平面図である。
【図１８】図１７の移載機構の側面図である。
【図１９】図１８のXIX矢視図である。
【図２０】昇降作動を示す図１８と同じ移載機構の側面図である。
【図２１】第３の実施の形態の移載機構示す平面図である。
【図２２】図２１のXXII-XXII矢視図である。
【図２３】その他の実施の形態を示す側面図である。
【図２４】その他の実施の形態を示す側面図である。
【図２５】移載機構の変形例を示す正面図。
【図２６】第４の実施の形態の移載機構を示す縦断面図である。
【図２７】図２６の移載機構の平面図である。
【図２８】図２６のXXVIII-XXVIII断面図である。
【図２９】第５の実施の形態の移載機構を示す縦断面図である。
【図３０】図２９の移載機構のXXX-XXX断面図である。
【図３１】図２９の移載機構の移載用搬送ローラ対の支持箇所の変位を示す概念図である。
【図３２】第６の実施の形態の移載機構示す縦断面図である。
【図３３】図３２の移載用搬送ローラの駆動機構を示す縦断面図である。
【図３４】図３２の移載機構の平面図である。
【図３５】第７の実施の形態の移載機構示す縦断面図である。
【図３６】図３５の移載機構の駆動部を示す縦断面図である。
【図３７】図３６のXXXVII-XXXVII断面図である。
【図３８】図３５の移載機構の平面図である。
【図３９】図３５のローラ支持部分の拡大図である。
【図４０】図３９のXXXX矢視図である。
【図４１】従来例１の縦断側面図である。
【図４２】従来例２の縦断側面図である。
【符号の説明】
【０１２０】
４、５、６、７ 浸漬槽
３４、３５、３６、３７ 低位搬送機構
５１、５２、５３、…、６２、６３、６４ 高位搬送機構
７０、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７ 移載機構
１０５ 高位及び低位搬送機構の搬送ローラ
１４０ 移載機構の搬送ローラ
１４３、１４４ 移載機構昇降用のシリンダ
２００ 移載機構の搬送ローラ
２０５ ノズル
Ｗ ワーク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき液等の処理液を貯留してワークを浸漬する浸漬槽のワーク搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ワークを浸漬槽外から浸漬槽内に搬入し、浸漬槽の処理液内で搬送しながら浸漬処理し、浸漬処理後、浸漬槽内から浸漬槽外に搬出するワーク搬送装置の従来例１として、図４１に示すようなワーク搬送装置がある（特許文献１）。図４１に示す装置は、浸漬槽３００外に配置されたローラ式搬送機構３０１と、浸漬槽３００内に配置されたローラ式搬送機構３０２とを、同一高さに揃え、浸漬槽３００のワーク搬送方向Ｆの後端璧３０５にワーク入口３０６を開口し、該ワーク入口３０６にシールローラ３１０を配置している。ワーク入口３０６は処理液面Ｌよりも低い位置に形成されている。この装置によると、ワークＷの搬送高さを変更せずに、浸漬槽３００の外側から内側にワークＷを搬送することができる。なお、図示しないが浸漬槽３００のワーク出口も入口と同様な構造となっている。
【０００３】
別の従来例２としては、図４２に示すようなワーク反転式のワーク搬送装置がある（特許文献２）。図４２に示す装置は、浸漬槽４００外に配置されたローラ式搬送機構４０１と、該ローラ式搬送機構４０１よりも低い位置で処理液に浸るように浸漬槽４００内に配置されたローラ式搬送機構４０２とを備えると共に、浸漬槽４００内のワーク搬送方向Ｆの前後端部に、ワーク保持溝４１０を有する回転自在なドラム状又はディスク状の移載機構４１１を備えている。この装置によると、浸漬槽４００外の搬送機構４０１により浸漬槽４００の入口部の上方位置までワークＷを搬送し、該ワークＷの前端部を、移載機構４１１のワーク保持溝４１０により保持し、移載機構４１１の回転によりワークＷを反転し、処理液内の搬送機構４０２上に投入するようになっている。また、ワーク出口部では、移載機構４１１の回転により、浸漬槽４００内の搬送機構４０２から浸漬槽４００外の搬送機構４０１にワークＷを反転させながら移載するようになっている。
【特許文献１】特開昭５８−８１９９７号公報
【特許文献２】特公平２−２４３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
図４１の従来例１の装置では、回路基板等の板状ワークＷを搬送する場合、シールローラ３１０によって板状ワークＷを上下から一定の圧力で挟持するため、基板表面に非接触が要求される基板（たとえばガラス表示基板又はウエハ基板等）を、ワークとして搬送処理することはできない。また、ワークＷの上下両面を挟持することにより、めっきむらが発生しやすい。すなわち、浸漬槽３００へのワークＷの搬入速度は、速くとも２０mm/secであり、ワークＷの先端が浸漬槽３００内に侵入してからワーク後端が完全に浸漬槽内へ侵入し終えるまでに、２０秒以上かかるためと推測される。また、シールローラ３１０等のシール機構が必要になると共にメンテナンスにも手間がかかる。
【０００５】
図４２の従来例２の装置では、回転式の移載機構４１１によりワークＷを反転させて移載するので、基板等の板状のワークＷを反転させるためには広い反転スペースが必要となり、浸漬槽４００が大形化し、コンパクト化が困難である。また、基板等のワークＷが表裏逆向きに移載されるため、前記従来例１と同様に、表面に非接触が要求される回路基板（たとえばガラス表示基板又はウエハ基板等）を、ワークとして搬送処理することはできない。
【０００６】
本発明の目的は、ワーク出入部にシール装置を施す必要のないワーク搬送装置であって、回路基板等のように、基板表面に非接触が要求されるワークでも、ワークの搬送姿勢を変更することなく、速やかに、かつ、ワークが擦れることなく、ワークを浸漬槽内に搬入し、あるいは浸漬槽外に搬出し、めっきむらの発生を防止でき、しかもコンパクトな浸漬槽のワーク搬送装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するため、請求項１記載の発明は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記槽内搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、前記低位搬送機構又は高位搬送機構の一方の搬送機構から、ワークを略水平移動により受け取り、下降又は上昇し、ワークを略水平移動により他方の搬送機構に移載する昇降自在な移載機構と、を備えている。
【０００８】
上記構成によると、浸漬槽のワーク出入口部にシール機構を施す必要がなく、メンテナンスが容易になる。また、ワークの姿勢を変化させることなく、すなわち、ワークを反転させることなく、かつ、上下から挟持することなく、速やかに、かつ円滑にワークを移載できるので、基板表面に非接触が要求される回路基板等の板状ワークにも簡単に対応でき、しかも、浸漬槽自体をコンパクトに維持することができる。特に、めっき槽に適用する場合には、めっきむらの発生が防止できる。
【０００９】
請求項２記載の発明は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、上向きの液噴流を噴流圧制御自在に発生させるノズルを備え、上向きの前記液噴流により高位搬送機構からのワークを受け取り、液噴流の噴流圧を低下させることによりワークを低位搬送機構に載せるように構成している。
【００１０】
上記構成のように、上向きの液噴流でワークを支持し、噴流圧を制御することにより、高位搬送機構から低位搬送機構へ移載するようにしていると、移載機構の配置スペースがコンパクトになり、また、ワーク移載中に、ワークの表面には固体物が接触しないので、ワークの表面を傷付けるおそれもない。
【００１１】
請求項３記載の発明は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、搬送幅方向に所定間隔をおいて配置された一対の移載用搬送ローラからなる移載用搬送ローラ対を、搬送方向に所定間隔をおいて複数対配置し、前記複数の移載用搬送ローラ対のうち、最も高位搬送機構側の移載用搬送ローラ対の移載用搬送ローラは略鉛直姿勢に配置し、低位搬送機構側の移載用搬送ローラ対に行くに従い、移載用搬送ローラ間でなす上開きの角度が順次大きくなるように、各移載用搬送ローラを傾斜させている。
【００１２】
上記構成によると、移載機構自体を昇降させる必要がなく、昇降用の駆動機構も必要無くなるので、構造が簡単になると共に、コストも低減できる。また、移載用搬送ローラにより、ワークの両側端を支持するので、ワークの表面を傷付けるおそれもない。
【００１３】
請求項４記載のワーク搬送装置は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、複数の移載用搬送ローラにより構成されると共に、高位搬送機構の搬送面と低位搬送機構の搬送面との間で、高さの異なる複数の移載面を有しており、前記複数の移載面は、高位搬送機構側から低位搬送機構側に行くに従い、階段状に順次低位置になるように配置されている。
【００１４】
上記構成によると、移載機構自体を昇降させる必要がなく、昇降用の駆動機構も必要無くなるので、構造が簡単になると共に、コストも低減できる。
【００１５】
請求項５記載の発明は、処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、前記移載機構は、高位搬送機構側の端部を回動支点として回動することにより、低位搬送機構側の端部を昇降するようになっている。
【００１６】
上記構成によると、移載機構を上下に回動させるだけであるので、移載機構の配置スペースをコンパクトにできる。
【００１７】
請求項６記載の発明は、請求項１乃至５のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記高位搬送機構の搬送速度が変更可能となっている。
【００１８】
上記構成によると、高位搬送機構と移載機構の間でワークを移載する時に、高位搬送機構の搬送速度を移載機構の搬送速度に合わせることができ、それにより、ワークを、速やかに、かつ、搬送面上で変形したり、擦れたりすることなく、移載することができ、ワークの品質を維持することができる。
【００１９】
請求項７記載の発明は、請求項１、３、４、５及び６のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記移載機構の搬送速度が変更可能となっている。
【００２０】
上記構成によると、高位搬送機構と移載機構の間でワークを移載する時には、移載機構の搬送速度を高位搬送機構の搬送速度に合わせ、低位搬送機構と移載機構の間でワークを移載する時には、移載機構の搬送速度を低位搬送機構の搬送速度に合わせることができ、それにより、ワークを、速やかに、かつ、搬送面上で変形したり、擦れたりすることなく、移載することができ、ワークの品質を維持することができる。
【００２１】
請求項８記載の発明は、請求項１、３、４、５及び６のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記低位搬送機構、高位搬送機構及び移載機構は、複数の搬送ローラからなると共に搬送面上にワークを載置して搬送するように構成されている。
【００２２】
上記構成のように、搬送機構として、搬送ローラ上にワークを載置して搬送する搬送機構及び移載機構を備えていると、薄板状のワークを搬送する場合に、ワークにかかる曲げ応力等を軽減することができる。たとえば、１mm以下の薄板の基板でも、基板自体に無理な曲げ応力をかけることなく、安定した平面状態で移載でき、これによってもワークの品質を維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
［第１の実施の形態］
図１〜図１６は、本発明にかかるワーク搬送装置を備えた浸漬処理装置の一例を示し、めっき処理装置に適用した例である。
【００２４】
（めっき装置全体の概略）
図１はめっき処理装置全体の側面略図であり、紙面のスペース的な制限からめっき処理ラインを上下２段に分けて表示しているが、実際の装置は、搬送始端（上段の左端）Ｐsから搬送終端（下段の右端）Ｐeに至るまで、搬送方向Ｆに沿って一つのライン上に揃えられている。なお、説明の都合上、搬送方向Ｆを基準として、搬送方向Ｆ側（搬送終端Ｐｅ）側を「前側」とし、搬送方向Ｆと反対側（搬送始端端Ｐｓ側）を「後側」とし、また、搬送方向Ｆと直交する水平方向（搬送幅方向）を左右方向として、以下説明する。
【００２５】
めっき処理ライン上には、搬送始端Ｐsに配置されたローディング装置１から搬送終端Ｐeに配置されたアンロード装置２の間に、浸漬槽として、搬送始端Ｐｓ側から順に、脱脂用浸漬槽４、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６及び無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７が配置されている。
【００２６】
脱脂用浸漬槽４と無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５との間には、温水洗槽１１、水洗槽１２、酸活性槽１３、水洗槽１４、温水洗槽１５及び早送り中継槽１６が前から順に配置され、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５と無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６の間には、早送り水洗槽２１、水洗槽２２及び温水洗槽２３が前から順に配置され、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６と無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７の間には、水洗槽２５及び温水洗槽２６が前から順に配置され、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７とアンロード装置２の間には、水洗槽２８、温水洗槽２９及び熱風乾燥槽３０が配置されている。
【００２７】
各浸漬槽４、５、６、７内には、貯留されているめっき液（処理液）の液面より低い位置に、ローラ式の低位搬送機構３４、３５、３６、３７がそれぞれ配置され、各水洗槽１２、１４、２２、２５、２８、各温水洗槽１１、１５、２３、２６、２９、早送り水洗槽２１、早送り中継槽１６及び熱風乾燥槽３０には、前記低位搬送機構３４、３５、３６、３７よりも高い位置に、ローラ式の高位搬送機構５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９、６０、６１、６２、６３、６４がそれぞれ配置され、そして、各浸漬槽４、５、６、７内の前後端部には、高位搬送機構５１等と略同じ上昇位置と、低位搬送機構３４等と略同じ下降位置の間で昇降するローラ式の移載機構７０、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７が、昇降自在に配置されている。
【００２８】
ローディング装置１の搬送速度は１５０mm/secに設定されている。その後ろの脱脂用浸漬槽４内の低位搬送機構３４の搬送速度は９mm/secに設定されている。その後ろの温水洗槽１１、水洗槽１２、酸活性槽１３、水洗槽１４及び温水洗槽１５内の各高位搬送機構５１、５２、５３、５４、５５の搬送速度は９mm/secに設定されている。その後ろの早送り中継槽１６の高位搬送機構５６の搬送速度は、９mm/secと１５０mm/secとの間で切り換え可能に設定されている。その後ろの無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の低位搬送機構３５の搬送速度は１０mm/secに設定されている。その後ろの早送り水洗槽２１内の高位搬送機構５７の搬送速度は１５０mm/secと９mm/secとの間で切り換え可能に設定されている。その後ろの水洗槽２２及び温水洗槽２３内の高位搬送機構５８、５９の搬送速度は９mm/secに設定されている。その後ろの無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６内の低位搬送機構３６の搬送速度は１５mm/secに設定されている。その後ろの水洗槽２５及び温水洗槽２６内の高位搬送機構６０、６１の搬送速度は９mm/secに設定されている。その後ろの無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７内の低位搬送機構３７の搬送速度は６．５mm/secに設定されている。その後ろの水洗槽２８及び温水洗槽２９内の高位搬送機構６２、６３の搬送速度は９mm/secに設定されている。
【００２９】
すなわち、各浸漬槽４、５、６、７内に配置された低位搬送機構３４、３５、３６、３７は、９mm/sec又は１５０mm/secの速度一定型であり、各浸漬槽４、５、６、７内の通過時間（浸漬時間）は、脱脂用浸漬槽４内が３００秒、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５内が４００秒、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６内が１２０秒、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７内が２７０秒となっている。
【００３０】
また、各水洗槽１２、１４、２２、２５、２８、温水洗槽１１、１５、２３、２６、２９、酸活性槽１３及び熱風乾燥槽３０の各搬送機構５１、５２、５３、５４、５５、５８、５９、６０、６１、６２、６３、６４も速度一定型であり、各槽内の通過時間は、脱脂用浸漬槽４と無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５との間の各水洗槽２２、２５、２８、温水洗槽２３、２６、２９内がそれぞれ２秒である。なお、早送り中継槽１６及び早送り水洗槽２１内の搬送時間（通過時間）は、それぞれ６秒である。
【００３１】
脱脂用浸漬槽４の前端出口部に配置されたローラ式の移載機構７１も速度一定型であるが、その他の移載機構７０、７２、７３、７４、７５、７６、７７は、前記早送り中継槽１６及び早送り水洗槽２１の高位搬送機構５６、５７と同様に、搬送速度が切り換え自在となっている。具体的には、移載機構７０、７２、７３、７４、７５、７６、７７は、それらの前後の搬送機構の搬送速度にそれぞれ同調できるように、切り換え自在となっている。
【００３２】
すなわち、脱脂用浸漬槽４の後端入口部の移載機構７０は１５０mm/secと９mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部の移載機構７２は１５０mm/secと１０mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の前端出口部の移載機構７３は１０mm/secと１５mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６の後端入口部の移載機構７４は９mm/secと１５mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６の前端出口部の移載機構７５は１５mm/secと９mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７の後端入口部の移載機構７６は９mm/secと６．５mm/secとの間で切り換え可能であり、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７の後端出口部の移載機構７７は６．５mm/secと９mm/secとの間で切り換え可能である。
【００３３】
各水洗槽１２、１４、２２、２５、２８、温水洗槽１１、１５、２３、２６、２９及び早送り水洗槽２１には、各槽内の高位搬送機構５１等の搬送面よりも高い位置にそれぞれシャワーノズル８０がそれぞれ備えられ、無電解Ｃｏめっき用浸漬槽６の後側の温水洗槽２３の前端部と、無電解Ｎｉ−Ｂめっき用浸漬槽７の後側の温水洗槽２６の前端部には、それぞれワーク表面に付着した処理液を風圧で吹き飛ばすエアナイフ８１が設けられている。なお、エアナイフ８１は、ワーク搬送面の上方位置と下方位置とに配置されている。シャワーノズル８０等によりワークの上方から吹き付けられた処理液は、高位搬送機構５１等の搬送ローラ間の隙間を通って各槽の底部に溜まり、ポンプによって再びシャワーノズル８０に循環される。
【００３４】
（浸漬槽の基本的構造）
図４は、図１のIV-IV断面拡大図であり、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の縦断面図である。この図４において、箱形の浸漬槽５は、装置本体１０１内に設けられた外槽１０２の底壁部分の上方に、複数の支柱１０３を介して支持されており、浸漬槽５内には複数の水平な搬送ローラ１０５からなる前記低位搬送機構３５が収納され、各搬送ローラ１０５の回転軸１０５ａは、浸漬槽５の左側の側壁１０７の外側に形成された隔壁１１０の外側まで延び、ギヤ１１１及びチェーン１１２を介して定速モータ１１３に連動連結している。搬送ローラ１０５の搬送面上に、回路基板等の板状のワークＷが水平姿勢に載置され、めっき液内を水平に搬送するようになっている。
【００３５】
浸漬槽５の底板１１５には補強部材１１６が設けられている。前記外槽１０２の底壁部分は、前記ギヤ１１１等の配置側とは反対側の右側が低くなるように傾斜しており、該右側に、浸漬槽５からオーバーフローしためっき液を貯留する第１液受け部１２１が設けられている。該第１液受け部１２１には、フィルター１２２及び液排出用ポンプ１２３が接続され、該液排出用ポンプ１２３は予備槽１２４内に液を排出するようになっている。該予備槽１２４は、フィルター１２５ａ、液循環ポンプ１２５及び液吐出管１２６を介して、浸漬槽５内にめっき液を戻すようになっている。
【００３６】
図６は、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部を左側から見た縦断面拡大側面図（図３のVI-VI断面拡大図）であり、前記液吐出管１２６は、低位搬送機構３５の搬送面よりも高い位置で浸漬槽５内に開口しており、該液吐出管１２６から前述のように浸漬槽５内にめっき液を吐出する。低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５は、縦長の軸受け部材１２８の下端部に支持されており、該軸受け部材１２８は、浸漬槽５の側壁１０７に形成された上下方向に長い長孔１３０に上方から差し込まれている。
【００３７】
図７は前記軸受け部材１２８の斜視図であり、軸受け部材１２８の前後面及び下端面には、浸漬槽５の側壁１０７の長孔１３０に嵌合するための溝１３１が形成されており、また、下端部には搬送ローラ１０５の回転軸１０５ａを支持するための軸受孔１３２が形成されている。
【００３８】
図２は、図１のII-II断面拡大図であり、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部の端壁５ａには、ワークＷが水平載置姿勢で通過可能なワークで入口１３３が形成されている。
【００３９】
（移載機構の構成）
図３は図１のIII-III断面拡大図であり、この図３において、無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部に配置されているローラ式の移載機構７２は、ワークＷを上面に載置して搬送する複数の水平な搬送ローラ１４０と、該搬送ローラ１４０を支持するフレーム１４２と、該フレーム１４２を昇降自在に支持する左右一対のシリンダ１４３、１４４と、前記搬送ローラ１４０を駆動するために各搬送ローラ１４０の回転軸１４０ａに固着されたギヤ１４５等からなるギヤ列と、変速モータ１４６により構成されている。前記フレーム１４２の右端部は、装置本体１０１の右側壁に形成された貫通孔１４８を通って装置本体１０１外部に突出し、装置本体１０１の右側壁に固定された右側シリンダ１４４に支持され、フレーム１４２の左端部は、装置本体１０１内の前記隔壁１１０に形成された貫通孔１４９を通り、装置本体１０１の左側壁と隔壁１１０との空間部内に突出し、隔壁１１０に固定された左側シリンダ１４３に支持されている。前記ギヤ１４５のギヤ列は、浸漬槽５の左側の側壁１０７と隔壁１１０との間の空間部に配置されており、該空間部の下側には、前記外槽１０２の底壁部分よりも下方に突出する第２液受け部１５１が形成されている。該第２液受け部１５１の底壁には、フィルター１５２を介して液排出ポンプ１５３が接続されており、該液排出ポンプ１５３は前記予備槽１２４に液を排出するようになっている。前記各ギヤ１４５は、図８及び図１３に示すように、それぞれ中間ギヤ１５５を介して噛み合うことにおり、同一方向に回転するように構成されており、ギヤ１４５と中間ギヤ１５５とのギヤ列は、オーバーフローした処理液が外槽１０２の開口部から飛び散るのを防止する液飛散防止壁としての役目も果たしている。
【００４０】
図６において、移載機構７２が配置されている浸漬槽５の側壁１０７にも、上下方向に長い長孔１６０が前後方向に所定間隔を置いて複数形成されており、各長孔１６０内に、移載機構７２の各搬送ローラ１４０の回転軸１４０ａが上下方向移動可能に挿通されている。また、装置本体１０１の後端部には、フリーローラ１６１が回転自在に支持されている。
【００４１】
図１６は、上昇時の移載機構７２を示す側面図であり、上昇時の移載機構７２の前方位置には、移載機構７２の搬送ローラ１４０上を前方に搬送されるワークＷが所定の前進位置で停止させられるストッパー１６２が配設されている。
【００４２】
図８は図１の無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後端入口部に配置された移載機構７２の平面図（図６の平面図）であり、フレーム１４２は左右に長い矩形状に形成されると共に、下側に前後方向に延びる左右一対にローラ支持片１６５が固着され、該ローラ支持片１６５に前記搬送ローラ１４０の回転軸１４０ａの左右端部が回転自在に支持されている。各搬送ローラ１４０の材質は、ポリプロピレン、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）又はＰＰＳ（ポリフェニレンスルフィド）等の樹脂であり、また、ギヤ１４５、１５５の材質も同じである。フレーム１４２の材質は、ポリプロピレンもしくはＰＥＥＫ、ＰＰＳ等の樹脂又はステンレス鋼等の耐腐食性の金属である。
【００４３】
図１１は、移載機構７２のフレーム１４２と左右のシリンダ１４３（１４４）との連結構造を示す側面略図であり、フレーム１４２の左右端部の下面には前後一対の支持ブラケット１６８が形成されており、該支持ブラケット１６８間には、前後方向に延びる支持バー１６９が架設され、該支持バー１６９に、前記シリンダ１４３（１４４）のロッド部に連結された二股状の連結部材１７０の前後端部が枢着連結されている。
【００４４】
図１２は図１１のXII矢視図、図１３は図１２の左側のシリンダ１４３の連結部材１７０の拡大図、図１４は図１２の右側のシリンダ１４４の連結部材１７０の拡大図である。図１３において、左側のシリンダ１４３の連結部材１７０の上端枢着部は、支持バー１６９に対応する円形の嵌合１７０ａ孔が形成されているが、図１４に示すように、右側のシリンダ１４４の連結部材１７０の上端枢着部には、左右方向に長い長孔１７０ｂが形成され、該長孔１７０ｂに支持バー１６９が左右方向相対移動可能に嵌合している。このように右側のシリンダ１４４の連結部材１７０を、長孔１７０ｂにより支持バー１６９に嵌合している理由は、後述するように、移載機構７２の昇降時に、搬送ローラ１４０を左右に傾斜させた状態で昇降させるためである。
【００４５】
図１５は、移載機構７２の搬送ローラ一１４０の拡大図であり、左右端部につば部１４０ｂが形成され、ワークＷの左右方向に移動を規制している。
【００４６】
（作動）
図９の（ａ）〜（ｅ）は、移載動作の一例として、図１の無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の後後端入口部において、早送り中継槽１６の高位搬送機構５６から無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５内の低位搬送機構３５へ、移載機構７２によりワークを移載する場合の作動を段階的に示している。
【００４７】
（１）図９の（ａ）において、ワークＷは高位搬送機構５６の搬送面上に載置され、搬送ローラ１０５の回転により高速の搬送速度（１５０mm/sec)でもって前方（搬送Ｆ方向）に搬送されており、一方、浸漬槽５の後端部に配置された移載機構７２は、高位搬送機構５６と略同一高さの上昇位置まで上昇した状態で待機すると共に、前記高位搬送機構５６の搬送速度と同じ搬送速度（１５０mm/sec)で搬送ローラ１４０が駆動している。
【００４８】
（２）次の段階の図９の（ｂ）において、ワークＷは、高位搬送機構５６の搬送面上から、上下方向に変位することなく、略水平移動により移載機構７２の搬送面上に前記高速の搬送速度で移載される。この時、移載機構７２の搬送速度と高位搬送機構５６の搬送速度とが同一であるので、ワークＷは、いずれの搬送ローラ１０５、１４０とも擦れることなく、円滑に高位搬送機構５６から移載機構７２に移載される。ワークＷが移載機構７２上の所定位置まで前進すると、ワークＷはストッパー１６２により係止されると共に、移載機構７２の搬送ローラ１４０は回転を停止する。
【００４９】
（３）次の段階の図９の（ｃ）において、移載機構７２は、浸漬槽５内の低位搬送機構３５と略同一高さの下降位置まで下降し、今度は、低位搬送機構３５の搬送速度（１０mm/sec)と同じ搬送速度で搬送ローラ１４０が駆動し、低位搬送機構３５の搬送面上にワークＷを水平に送り出す。この時は、移載機構７２の搬送ローラ１４０の搬送速度は低位搬送機構３５の搬送速度と同一の速度（１０mm/sec)に切り換えられており、ワークＷは、搬送ローラ１０５、１４０と擦れることなく、円滑に移載機構７２の搬送面上から低位搬送機構３５の搬送面上に移載される。ワークＷが完全に低位搬送機構３５の搬送面上に移載された時点で、移載機構７２の搬送ローラ１４０は回転を停止する。
【００５０】
（４）次の段階の図９の（ｄ）において、ワークＷが完全に低位搬送機構３５に移載された後、移載機構７２の搬送ローラ１４０の回転は停止し、そして次の段階の図９の（ｅ）に示すように、移載機構７２は上昇位置まで上昇し、高位搬送機構５６と同一の搬送速度で移載機構７２の搬送ローラ１４０が駆動し、次のワークＷを受け取る。
【００５１】
移載機構７２の昇降動作並びに各搬送ローラ１４０、１０５の駆動及び停止の制御は、移載機構７２、高位搬送機構５６及び低位搬送機構３５に配置された各種センサー（図示せず）により、コントローラを介して行われる。
【００５２】
前記各種センサーとしては、たとえば、高位搬送機構５６の搬送面上にワークＷが供給されたことを検出するセンサーと、移載機構７２の搬送面上でワークＷが所定位置まで前進した状態（ストッパー１６２に当接した状態）を検出するセンサーと、移載機構７２が上昇位置まで上昇した状態（又はシリンダ１４３等が伸長した状態）を検出するセンサーと、移載機構７２が下降位置まで下降した状態（又はシリンダ１４３等が収縮した状態）を検出するセンサーと、移載機構７２からワークＷが完全に排出されたことを検出するセンサー等を備えることができる。
【００５３】
すなわち、早送り中継槽１６の高位搬送機構５６にワークＷの先端が載置されたことをセンサーにより検知すると、早送り中継槽１６の高位搬送機構５６の搬送ローラ１０５と、移載機構７２の搬送ローラ１４０とが、同一の搬送速度（１５０mm/sec)で駆動し、これにより高位搬送機構５６の搬送面上から移載機構７２の搬送面上に上記搬送速度でワークＷを移載する（図９の（ａ））。
【００５４】
次に、移載機構７２の搬送面上でワークＷが所定位置まで前進したことをセンサーにより検知すると、移載機構７２の搬送ローラ１４０が停止し、シリンダ１４３、１４４（図１０）が収縮して搬送ローラ１４０が下降位置まで下降する（図９の（ｂ）及び（ｃ））。
【００５５】
次に、シリンダ１４３、１４４が収縮して搬送ローラ１４０が下降位置まで下降したことをセンサーにより検知すると、移載機構７２の搬送ローラ１４０が、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５と同一の速度（１０mm/sec)で駆動し、ワークＷを低位搬送機構３５の搬送面上に移載する（図９の（ｃ）及び（ｄ））。
【００５６】
そして、移載機構７２のからワークＷが完全に搬出されたことをセンサーにより検知すると、移載機構７２の搬送ローラ１４０が停止し、搬送ローラ１４０を上昇位置まで上昇させるのである（図９の（ｄ）（ｅ））。
【００５７】
図１０の（ａ）（ｂ）（ｃ）は、移載機構７２の昇降時の動作を示した図であり、移載機構を下降させる場合には、左右のシリンダ１４３、１４４の収縮開始タイミング（上昇時には伸長開始タイミング）をずらすことにより、図１０の（ｂ）のように、たとえば搬送ローラ１４０を右下がり状に傾斜させ、それによりワークＷを傾斜させる。これにより、ワークＷが、めっき液内に浸漬する時に浮かび上がるのを防止することができる。
【００５８】
なお、図１の無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の前端出口部において、前側の早送り水洗槽２１の高位搬送機構５７にワークＷを移載する際の作動も、前述の後端入口部の作動と順序が逆になるだけで、基本的には後端入口部における作動と同様である。
【００５９】
また、図１の他の浸漬槽４、６、７の各前端出口部及び後端入口部におけるワークＷの移載作動も、前記無電解Ｃｕめっき用浸漬槽５の場合と同様である。
【００６０】
（実施の形態の効果）
（１）図９の（ａ）〜（ｅ）で説明したように、水平姿勢で送られて来るワークＷを、反転させたり、上下から挟持したりすることなく、一方の搬送機構５６から他方の搬送機構３５に略水平移動により、速やかに、かつ円滑に移載するので、基板表面に非接触が要求される回路基板等のワークにも簡単に対応でき、しかも、浸漬槽自体をコンパクトに維持することができる。特に、めっき槽に適用する場合には、めっきむらの発生を防止できる。
【００６１】
（２）図９の（ａ）〜（ｅ）で説明したように、高位搬送機構５６と移載機構７２との間でワークを移載する時には、移載機構７２の搬送速度を高位搬送機構５６の搬送速度に合わせ、低位搬送機構３５と移載機構７２の間でワークＷを移載する時には、移載機構７２の搬送速度を低位搬送機構３５の搬送速度に合わせているので、ワークを、速やかに、かつ、搬送面上で変形したり、擦れたりすることなく、移載することができる。
【００６２】
（３）図１０の（ａ）（ｂ）（ｃ）で説明したように、移載機構７２を下降させる場合（又は上昇させる場合）には、左右のシリンダ１４３、１４４の収縮開始タイミング（上昇時には伸長開始タイミング）をずらすことにより、図１０の（ｂ）のように、搬送ローラ１４０を左右に傾斜させ、それによりワークＷを傾斜させるようにしていることにより、次のような利点が有る。
【００６３】
すなわち、下降時には、めっき液にワークＷが浸かる時に、ワークＷが浮き上がるのを防止し、それによりワークの姿勢が崩れるのを防止でき、一方、上昇時には、ワークＷの表面のめっき液を流し落とすことができる。
【００６４】
（４）移載機構７２の搬送ローラ１４０による搬送速度を変更可能とすることにより、速度変換手段としての機能を持たせているので、浸漬槽５の搬送方向長さをコンパクトにしつつ、所定処理時間を保てるように、浸漬槽５内の搬送速度を遅くすることができる。このように、浸漬槽５内での搬送速度を遅くすることにより、移載機構７２の作動サイクル（ワーク受け入れ→上昇→ワーク排出→下降、又は、ワーク受け入れ→下降→ワーク排出→上昇）が長くなり、次のワークＷが来るまでの時間を移載機構７２で調節することで、様々な搬送速度に対応可能としているのである。
【００６５】
［第２の実施の形態］
図１７〜図２０は本発明の第２の実施の形態であり、図１７は移載機構７２の平面図、図１８は移載機構７２の側面図、図１９は図１８のXIX矢視図、図２０は移載機構７２の昇降動作を示す側面図である。図１７において、移載機構７２の搬送ローラ１４０は、フリーローラとして構成されており、図２０に示すように、移載機構７２の下降時に、移送機構７２の搬送ローラ１４０が、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５間を下方に通過し、所定量ｈ１だけ下方位置で停止するように構成されている。なお、第２の実施の形態において、第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【００６６】
図２０において、移載機構７２が下降した時には、前述のように、移載機構７２の各搬送ローラ１４０は、浸漬槽５内の低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５間を下方に通過し、それにより移載機構７２上のワークＷが自動的に低位搬送機構２５の搬送面上に移載される。このように移載された後、図２０の実線の状態から、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５の駆動により、ワークＷは前方に搬送される。
【００６７】
一方、仮想線で示すように、移載機構７２の上昇時には、後方の高位搬送機構５６の駆動のみにより、高位搬送機構５６から移載機構７２の搬送面上にワークＷが移載される。
【００６８】
該実施の形態によると、移載機構７２の搬送ローラ１４０を駆動するための変速モータは不要となり、部品コストを低減できる。
【００６９】
ただし、この実施の形態は、浸漬槽５等の後端入口部に配置される移載機構のみに適用可能であり、前端出口部に配置される移載機構には適用できない。
【００７０】
［第３の実施の形態］
図２１及び図２２は本発明の第３の実施の形態であり、図２１は移載機構７２の平面図、図２２は図２１のXXII-XXII断面図を示しており、移載機構７２の搬送ローラ２００として、縦向きの回転軸２００ａを有すると共に、外周に断面Ｖ形溝２００ｂを有するローラを用いている。各搬送ローラ２００は、左右方向に所定間隔をおいて２列に対向配置されており、水平姿勢のワークＷの左右端部を、搬送ローラ２００のＶ形溝２００ｂで保持し、搬送ローラ２００の回転により搬送するように構成されている
【００７１】
各搬送ローラ２００の回転軸２００ａの上端には、それぞれギヤ２０１が設けられ、各ギヤ２０１は中間伝達ギヤ２０２を介して互いに噛み合うことにより、同一方向に回転するようになっており、変速モータ２０３に連動連結している。
【００７２】
該実施の形態によると、回路基板等の板状ワークＷの表面両面共に、非接触状態で移載することができる。
【００７３】
［第４の実施の形態］
図２６〜図２８は本発明の第４の実施の形態であり、液噴流式の移載機構７２を備えており、図２６は移載機構７２の縦断面図、図２７は移載機構７２の平面図、図２８は図２６のXXVIII-XXVIII断面図であり、第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【００７４】
図２６において、移載機構７２として、低位搬送機構３５の後端部（搬送始端部）に、前後方向（搬送方向）に間隔をおいて複数の上向きノズル２０５を配置し、これらノズル２０５は、液管２０６を介して液圧ポンプ２０７に接続すると共に、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５間に位置し、搬送ローラ１０５間から上向きに液噴流を噴出するように構成されている。ポンプ２０７は吐出液圧が制御可能となっており、吸込口は、図示しないが液タンク又は浸漬槽５内に接続している。
【００７５】
図２７及び図２８において、各ノズル２０５は、低位搬送機構３５の搬送ローラ１０５の略全幅に亘るように左右方向（搬送幅方向）に細長く形成されると共に、噴口２０５ａも低位搬送機構３５の略全幅に亘るようにスリット状に形成されており、これにより、低位搬送機構３５の左右幅の略全幅に亘る範囲で液噴流を噴出することができるようになっている。
【００７６】
（作動）
（１）図２６において、高位搬送機構５６上を板状のワークＷが前方に搬送され、高位搬送機構５６の前端部又はその近傍位置まで至ると、液圧ポンプ２０７を駆動することにより、各ノズル２０５の上端噴口２０５ａから上向きに液噴流を噴出させる。
【００７７】
（２）ワークＷが高位搬送機構５６の前端部からさらに前方に搬送されて、浸漬槽５の後端部の上方位置まで至ると、ノズル２０５からの液噴流により、ワークＷは、高位搬送機構５６の搬送面と略同一高さに支持される。
【００７８】
（３）次にポンプ２０７の吐出圧制御により、ノズル２０５からの液噴流を停止し、あるいは噴流圧を低下させ、それにより、ワークＷを自重により下降させ、浸漬槽５内に浸漬させると共に、常時定速で駆動している低位搬送機構３５上に載せる。
【００７９】
（４）その後、ワークＷは、低位搬送機構３５によって、浸漬槽３５を搬送される。
【００８０】
このように、上向きの液噴流でワークＷを支持し、噴流圧を制御することにより、高位搬送機構５６から低位搬送機構３５へ移載するようにしていると、移載機構７２の配置スペースがコンパクトになり、また、液噴流でワークＷを支持するために、移載中にワークＷの表面を傷付けるおそれもない。
【００８１】
［第５の実施の形態］
図２９〜図３１は本発明の第５の実施の形態であり、複数の移載用搬送ローラ対２１１を立設してなる移載機構７２を備えており、図２９は移載機構７２の縦断面図、図３０は図２９のXXX-XXX断面拡大図、図３１は移載用搬送ローラ対の支持箇所の変位を示す概念図（図２９のXXX-XXX断面拡大相当図）であり、第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【００８２】
図２９において、浸漬槽５の後端部には、高位搬送機構５６と低位搬送機構３５との間に、移載機構７２として、前後方向に略等間隔をおいて複数の移載用搬送ローラ対２１１、２１２、２１３、２１４が配置されている。
【００８３】
図３０において、各移載用搬送ローラ対２１１、２１２、２１３、２１４は、それぞれ左右方向に所定間隔をおいて配置された１対の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ、２１２ａ、２１２ｂ、２１３ａ、２１３ｂ、２１４ａ、２１４ｂから構成されている。各移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ、…２１４ａ、２１４ｂは、装置本体１０１の側壁に架設されたフレーム２１５と浸漬槽５の底壁とにより回転可能に支持されており、表面に弾性圧縮可能なゴム層を有すると共に、上端部にそれぞれ駆動モータ２２０が連結され、各駆動モータ２２０により、それぞれ矢印Ｙａ、Ｙｂ方向に回転するようになっている。
【００８４】
図３１において、最後端に配置された移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂは略鉛直姿勢となっており、左右方向の間隔Ｌ１は、たとえばワークＷの左右幅と略同じか、あるいは弱冠狭くなっており、表面のゴム層により、ワークＷの左右両側端を挟持できるようになっている。したがって、高位搬送機構５６から搬送されて来たワークＷは、まず、最後端の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂにより、高位搬送機構５６の搬送面と略同じ高さＨ１のワーク挟持点Ｐ１で、両側端が挟持される。
【００８５】
前記最後端の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ以外の移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂ、２１３ａ、２１３ｂ、２１４ａ、２１４ｂは、前方に行くに従い、鉛直に対する上開きの角度θ2、θ3、θ4が順次大きくなるように、外向きに倒れるように傾斜している。したがって、各移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂ、２１３ａ、２１３ｂ、２１４ａ、２１４ｂによるワーク挟持点（間隔Ｌ１に対応する点）Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４は、低位搬送機構３５側（前側）に行くに従い順次下方に変位し（Ｈ１→Ｈ２→Ｈ３→Ｈ４）、最も低位搬送機構３５側（前端側）の移載用搬送ローラ２１４a、２１４ｂのワーク挟持点Ｐ４は、低位搬送機構３５の搬送面に対して、弱冠高い位置となっている。
【００８６】
（作動）
（１）図３１において、移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ、…２１４ａ、２１４ｂは、矢印Ｙａ、Ｙｂ方向に常時回転しており、高位搬送機構５６によって前方に搬送されてくる板状のワークＷは、まず最後端の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂにより、高さＨ１において挟持点Ｐ１により挟持され、さらに前方に搬送される。
【００８７】
（２）最後端の移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂから前方の次位の移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂに至までの間、板状ワークＷは自重により前端部が下降し、次位の移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂの挟持点Ｐ２により、高さＨ２で挟持される。
【００８８】
（３）上記同様に、移載用搬送ローラ２１２ａ、２１２ｂから次の移載用搬送ローラ２１３ａ、２１３ｂへ、続いて最前端の移載用搬送ローラ２１４ａ、２１４ｂへと、挟持高さをＨ２→Ｈ３→Ｈ４へと順次下降させながら受け渡され、その間にめっき液中に浸漬されてゆく。
【００８９】
（４）そして、最前端の移載用搬送ローラ２１４ａ、２１４ｂから低位搬送機構３５へと受け渡され、定速で搬送される。
【００９０】
該実施の形態によると、移載用搬送ローラ２１１ａ、２１１ｂ等は、昇降等により移動しないので、移載機構７２の配置スペースがコンパクトになる。また、ワークＷの表裏面を支持しないので、ワークＷの表裏面を傷付けるおそれもない。
【００９１】
［第６の実施の形態］
図３２〜図３４は本発明の第６の実施の形態であり、高さの異なる複数の移載面２２３、２２４を階段状に配置してなる移載機構７２を備えており、図３２は移載機構７２の縦断面図、図３３は移載用搬送ローラの駆動機構を示す縦断面図、図３４は平面図であり、第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【００９２】
図３２において、移載機構７２は、多数の移載用搬送ローラ２２０、２２１により構成されると共に、後半部（高位搬送機構５６側の部分）の第１の移載面２２３と、第１の移載面２２３よりも低く配置された前半部（低位搬送機構３５側の部分）の第２の移載面２２４とを、階段状に備えている。
【００９３】
図３４において、第１の移載面２２３の後半部に配置された複数の移載用搬送ローラ２２０は、複数の短いローラ部分に分割されており、前後に隣り合う移載用搬送ローラ２２０の各ローラ部分は千鳥状に配列され、しかも、前後方向にオーバーラップするように配列されている。一方、第１の移載面２２３の前半部に配置された複数の移載用搬送ローラ２２１は、左右方向の略幅に亘る長い構造となっており、しかも、前後に一定のすき間を置いて配置されている。
【００９４】
第２の移載面２２４も、第１の移載面２２３と同様な構造となっており、後半部の分割式の移載用搬送ローラ２２０と、前半部の細長い移載用搬送ローラ２２１とから構成されている。
【００９５】
第１の移載面２２３の前半部の移載用搬送ローラ２２１の軸端部には、いずれにも伝動ギヤ２２５が固着され、後半部の移載用搬送ローラ２２０の軸端部には、一つ置きに伝動ギヤ２２５が固着されている。
【００９６】
図３３において、第１の記載面２２３の各伝動ギヤ２２５は、それぞれウォーム２２６を介して共通の第１の駆動軸２３０に連動連結されており、該第１の駆動軸２３０は、前後一対の軸受２３５、２３６により支持されている。
【００９７】
また、第２移載面２２４についても第１の移載面２２３と同様に、図３４のように、前半部の移載用搬送ローラ２２１の軸端部には伝動ギヤ２２５が固着され、後半部の分割式の移載用搬送ローラ２２０の軸端部には、一つ置きに伝動ギヤ２２５が固着され、各伝動ギヤ２２５は、図３３に示すように、それぞれウォーム２２６を介して共通の第２の駆動軸２３１に連動連結されており、第２の駆動軸２３１は、前後一対の軸受２３、２３７により支持されている。
している。
【００９８】
前記第１の駆動軸２３０と第２の駆動軸２３１は、チェーン伝動機構２３２を介して連動連結し、第２の駆動軸２３１の前端部は、チェーン伝動機構２３３を介して低位搬送機構３５の駆動軸２３８に連動連結している。すなわち、移載機構７２の各移載用搬送ローラ２２０、２２１は、低位搬送機構３５と共に駆動されるようになっている。
【００９９】
また、移載機構７２と高位搬送機構５６との間には、高位搬送機構５６の搬送面と略同一高さの搬送面を有するフリーローラ２０８が配置されている。
【０１００】
（作動）
図３２において、高位搬送機構５６上を前方に搬送されてくる板状のワークＷは、フリーローラ２０８を介して、まず、移載機構７２の第１の移載面２２３に受け渡され、次に下位の第２の移載面２２４に受け渡され、該第２の移載面２２４から低位搬送機構３５に受け渡され、定速で搬送される。
【０１０１】
図３２において、高位搬送機構５６から第１の移載面２２３への受け渡し時、第１の移載面２２３の後半部は、図３４のように、前後方向にローラ同士がオーバーラップするように各移載用搬送ローラ２２０が配置されているので、ワークＷを確実に第１の移載面２２３上で受け取ることができ、移載用搬送ローラ２２０間にワークＷが挟まるようなことはない。第１の移載面２２３から第２の移載面２２４への移載時も同様である。
【０１０２】
なお、図３２の実施の形態は、移載面を２段に構成しているが、３段以上の階段状に構成することも可能である。
【０１０３】
［第７の実施の形態］
図３５〜図４０は本発明の第７の実施の形態であり、上下に揺動可能な移載機構７２を備えており、図３５は移載機構７２の縦断面図、図３６は移載機構の駆動部を示す縦断面図、図３７は図３６のXXXVII-XXXVII断面図、図３８は平面図、図３９はローラ支持部分の拡大図、図４０は図３９のXXXX矢視図である。第１の実施の形態と同じ部品には、同じ符号を付している。
【０１０４】
図３５において、移載機構７２として、高位搬送機構５６と低位搬送機構３５との間に、前後方向に所定間隔置いて複数の移載用搬送ローラ２５０が配置されており、この移載機構２５０は、後端部を回動（揺動）支点として上下揺動することにより、前端部が昇降するようになっている。
【０１０５】
図３８において、各移載用搬送ローラ２５０は、左右一対のローラ支持板２５６により水平軸芯回り回転可能に支持されており、両支持板２５６は前後の補強板２７２により連結されている。各移載用搬送ローラ２５０の軸端部にはそれぞれ伝動ギヤ２５８が固着されており、各ギヤ２５８はアイドルギヤ２７０を介して相互に噛み合い、同時に回転するようになっている。
【０１０６】
図３７において、最後端部の移載用搬送ローラ２５０の軸端部には、チェーンスプロケット２５８が固着され、該チェーンスプロケット２５８は、チェーン２５９を介して上方の駆動モータ２５６のチェーンスプロケット２６０に連動連結している。
【０１０７】
装置本体１０１の側壁間にはフレーム２５２が架設され、該フレーム２５２には、下方に延びる一対の支持腕２５３が固着されると共に、移載機構揺動用のシリンダ２５４が設けられ、また、前記駆動モータ２５６が取り付けられている。前記シリンダ２５４から下方に延びる伸縮ロッド２５４ａの下端部には、下向きコの字状の連結アーム２５７が固着されており、該連結アーム２５７の左右両下端部には、下向きコの字形のブラケット２５５が固着され、該ブラケット２５５により、両ローラ支持板２５１の前端部を支持している。
【０１０８】
図３６において、ローラ支持板２５１の後端部は、前記支持腕２５３の下端部に水平なヒンジピン２７０を介して回動自在に支持されており、ローラ支持板２５１の前端部は、前述のように、連結アーム２５７の両ブラケット２５５により支持されており、伸縮ロッド２５４ａの伸縮により、移載機構７２を、後端のヒンジピン２７０回りに上下に揺動するようになっている。
【０１０９】
図３９において、前記ブラケット２５５には連結ピン２７４が固着されており、この連結ピン２７４は、ローラ支持板２５１に設けられた長孔２７３に係合している。
【０１１０】
図４０において、前記長孔２７３は前後方向に長く形成されており、これにより、ローラ支持板２５１の揺動時に、ブラケット２５５に対するローラ支持板２５１の前後方向の相対的な移動を可能としている。
【０１１１】
（作動）
（１）図３５において、移載機構７２は、高位搬送機構５６と略同じ高さで水平姿勢に維持されると共に、各移載用搬送ローラ２５０が高位搬送機構５６の搬送ローラと同じ搬送速度で回転しており、この状態で、高位搬送機構５６からの板状ワークＷを受け取る。
【０１１２】
（２）移載機構７２上にワークＷが載せられた時点で、移載機構７２の移載用搬送ローラ２５０の回転は停止し、続いて、図３６に仮想線で示すようにシリンダ２５４の伸縮ロッド２５４ａが伸長することにより、移載機構７２は後端ヒンジピン２７０回りに下方へ揺動し、前端部を下降させる。
【０１１３】
（３）図３６の仮想線で示す下降位置にて、シリンダ２５４の作動を停止し、次に、移載機構７２の移載用搬送ローラ２５０を、低位搬送機構３５の搬送速度と同じ速度で回転し、移載機構７２から低位搬送機構３５へワークＷを移載し、定速で浸漬槽５内を搬送する。
【０１１４】
該実施の形態によると、移載機構７２は、後端部を回動支点として上下に揺動するだけであるので、移載機構配置用のスペースを節約することができる。
【０１１５】
［その他の実施の形態］
（１）請求項１に記載した「略水平移動」とは、前記第１〜第２３実施の形態で示したような水平移動だけには限定されないことを意味しており、弱冠傾斜した移動も含むものである。また、図９に示す移載機構７２を、前下がりに傾斜した姿勢でワークＷを受け取るような構造とすることもできる。
【０１１６】
（２）請求項１に記載した「下降又は上昇」は鉛直方向の移動には限定されない。たとえば、図９に示す移載機構７２を、前後左右にスライドしながら昇降する構造とすることもできる。
【０１１７】
（３）請求項１並びに請求項４〜請求項７に記載した「高位搬送機構」は、前記各実施の形態のように一様な高さの搬送でなくともよく、たとえば図２３のように、高位搬送機構５６の途中にスロープ部５６ａを介在させることにより、搬送高さを変化させる構造とすることもできる。また、高位搬送機構は、必ずしも駆動機構を備えている必要はなく、たとえば、図２４のように、フリーローラ５６ｂのみで高位搬送機構を構成することも可能である。
【０１１８】
（４）前記第１、第２、第３、第５、第６及び第７の実施の形態において、移載機構はローラによりワークＷの受取り及び受渡しを行うように構成されているが、ローラを備えた移載機構には限定されない。たとえば、ローラのような回動可能な要素で構成する場合には、タイミングベルトとすることも可能である。回動しない要素による構成としては、たとえば図１８及び図１９のようにローラ支持片１６５によりローラを支持する代わりに、図２５のように、左右の一対のＬ字形吊持部材１６５ａにより、ワークＷの左右端部を下から抱えて保持する構造とすることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】本発明にかかる搬送装置を備えためっき装置の全体側面図である。
【図２】図１のII-II断面拡大図である。
【図３】図１のIII-III断面拡大図である。
【図４】図１のIV-IV断面拡大図である。
【図５】図３のV-V断面拡大図である。
【図６】図３のVI-VI断面拡大図である。
【図７】図６の軸受部材の斜視図である。
【図８】図１の矢印VIII部分の移載機構の平面拡大図である。
【図９】図８の移載機構によるワーク移載作業を段階的に示す作業行程図である。
【図１０】図８の移載機構の昇降作動を示す正面略図である。
【図１１】図８の移載機構のフレーム及びシリンダ等の側面図である。
【図１２】図１１のXII矢視図である。
【図１３】図１２の左側のシリンダの連結部材の拡大図である。
【図１４】図１２の右側のシリンダの連結部材の拡大図である。
【図１５】移載機構の搬送ローラの正面図である。
【図１６】移載機構の駆動伝達部の側面図である。
【図１７】第２の実施の形態の移載機構を示す平面図である。
【図１８】図１７の移載機構の側面図である。
【図１９】図１８のXIX矢視図である。
【図２０】昇降作動を示す図１８と同じ移載機構の側面図である。
【図２１】第３の実施の形態の移載機構示す平面図である。
【図２２】図２１のXXII-XXII矢視図である。
【図２３】その他の実施の形態を示す側面図である。
【図２４】その他の実施の形態を示す側面図である。
【図２５】移載機構の変形例を示す正面図。
【図２６】第４の実施の形態の移載機構を示す縦断面図である。
【図２７】図２６の移載機構の平面図である。
【図２８】図２６のXXVIII-XXVIII断面図である。
【図２９】第５の実施の形態の移載機構を示す縦断面図である。
【図３０】図２９の移載機構のXXX-XXX断面図である。
【図３１】図２９の移載機構の移載用搬送ローラ対の支持箇所の変位を示す概念図である。
【図３２】第６の実施の形態の移載機構示す縦断面図である。
【図３３】図３２の移載用搬送ローラの駆動機構を示す縦断面図である。
【図３４】図３２の移載機構の平面図である。
【図３５】第７の実施の形態の移載機構示す縦断面図である。
【図３６】図３５の移載機構の駆動部を示す縦断面図である。
【図３７】図３６のXXXVII-XXXVII断面図である。
【図３８】図３５の移載機構の平面図である。
【図３９】図３５のローラ支持部分の拡大図である。
【図４０】図３９のXXXX矢視図である。
【図４１】従来例１の縦断側面図である。
【図４２】従来例２の縦断側面図である。
【符号の説明】
【０１２０】
４、５、６、７ 浸漬槽
３４、３５、３６、３７ 低位搬送機構
５１、５２、５３、…、６２、６３、６４ 高位搬送機構
７０、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７ 移載機構
１０５ 高位及び低位搬送機構の搬送ローラ
１４０ 移載機構の搬送ローラ
１４３、１４４ 移載機構昇降用のシリンダ
２００ 移載機構の搬送ローラ
２０５ ノズル
Ｗ ワーク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記低位搬送機構又は高位搬送機構の一方の搬送機構から、ワークを略水平移動により受け取り、下降又は上昇し、ワークを略水平移動により他方の搬送機構に移載する昇降自在な移載機構と、を備えたことを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項２】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、上向きの液噴流を噴流圧制御自在に発生させるノズルを備え、上向きの前記液噴流により高位搬送機構からのワークを受け取り、液噴流の噴流圧を低下させることによりワークを低位搬送機構に載せるように構成していることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項３】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、搬送幅方向に所定間隔をおいて配置された一対の移載用搬送ローラからなる移載用搬送ローラ対を、搬送方向に所定間隔をおいて複数対配置し、
前記複数の移載用搬送ローラ対のうち、最も高位搬送機構側の移載用搬送ローラ対の移載用搬送ローラは略鉛直姿勢に配置し、低位搬送機構側の移載用搬送ローラ対に行くに従い、移載用搬送ローラ間でなす上開きの角度が順次大きくなるように、各移載用搬送ローラを傾斜させていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項４】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、複数の移載用搬送ローラにより構成されると共に、高位搬送機構の搬送面と低位搬送機構の搬送面との間で、高さの異なる複数の移載面を有しており、
前記複数の移載面は、高位搬送機構側から低位搬送機構側に行くに従い、階段状に順次低位置になるように配置されていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項５】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、高位搬送機構側の端部を回動支点として回動することにより、低位搬送機構側の端部を昇降するようになっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記高位搬送機構の搬送速度が変更可能となっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項７】
請求項１、３、４、５及び６のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記移載機構の搬送速度が変更可能となっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項８】
請求項１、３、４、５及び６のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記低位搬送機構、高位搬送機構及び移載機構は、複数の搬送ローラからなると共に搬送面上にワークを載置して搬送するように構成されていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項１】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記低位搬送機構又は高位搬送機構の一方の搬送機構から、ワークを略水平移動により受け取り、下降又は上昇し、ワークを略水平移動により他方の搬送機構に移載する昇降自在な移載機構と、を備えたことを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項２】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、上向きの液噴流を噴流圧制御自在に発生させるノズルを備え、上向きの前記液噴流により高位搬送機構からのワークを受け取り、液噴流の噴流圧を低下させることによりワークを低位搬送機構に載せるように構成していることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項３】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、搬送幅方向に所定間隔をおいて配置された一対の移載用搬送ローラからなる移載用搬送ローラ対を、搬送方向に所定間隔をおいて複数対配置し、
前記複数の移載用搬送ローラ対のうち、最も高位搬送機構側の移載用搬送ローラ対の移載用搬送ローラは略鉛直姿勢に配置し、低位搬送機構側の移載用搬送ローラ対に行くに従い、移載用搬送ローラ間でなす上開きの角度が順次大きくなるように、各移載用搬送ローラを傾斜させていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項４】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、複数の移載用搬送ローラにより構成されると共に、高位搬送機構の搬送面と低位搬送機構の搬送面との間で、高さの異なる複数の移載面を有しており、
前記複数の移載面は、高位搬送機構側から低位搬送機構側に行くに従い、階段状に順次低位置になるように配置されていることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項５】
処理液を貯留してワークを浸漬処理する浸漬槽のワーク搬送装置において、
前記浸漬槽内に配置されると共に前記ワークを処理液内で搬送する低位搬送機構と、
前記浸漬槽の外側で前記低位搬送機構よりも高い位置に配置されると共に、前記浸漬槽の近傍位置又は浸漬槽の上方位置まで延び、ワークを搬送する高位搬送機構と、
前記高位搬送機構から前記低位搬送機構へワークを移載する移載機構と、を備え、
前記移載機構は、高位搬送機構側の端部を回動支点として回動することにより、低位搬送機構側の端部を昇降するようになっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記高位搬送機構の搬送速度が変更可能となっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項７】
請求項１、３、４、５及び６のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記移載機構の搬送速度が変更可能となっていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【請求項８】
請求項１、３、４、５及び６のいずれかに記載の浸漬槽のワーク搬送装置において、前記低位搬送機構、高位搬送機構及び移載機構は、複数の搬送ローラからなると共に搬送面上にワークを載置して搬送するように構成されていることを特徴とする浸漬槽のワーク搬送装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【公開番号】特開２００７−２３０７７１（Ｐ２００７−２３０７７１Ａ）
【公開日】平成１９年９月１３日（２００７．９．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−８５５０１（Ｐ２００６−８５５０１）
【出願日】平成１８年３月２７日（２００６．３．２７）
【出願人】（０００１８９３２７）上村工業株式会社 (101)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月１３日（２００７．９．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年３月２７日（２００６．３．２７）
【出願人】（０００１８９３２７）上村工業株式会社 (101)
【Ｆターム（参考）】
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