液晶電気光学装置の製造方法及び製造装置
【課題】 スペーサを帯電させた状態でスペーサを液晶基板上に散布する方法において、散布ノズルの影響や基板上の導体の影響を低減して、スペーサの均一な分布を実現できる新規の散布方法を提供する。
【解決手段】 基板ホルダ１は、導電体からなる基体２と、この基体２に嵌合された絶縁体からなる絶縁板３とから構成される。基体２は、平面矩形状に形成され、周縁部に形成された縁枠部２ａと、中心部に形成された平面円形の凸部２ｂと、縁枠部２ａと凸部２ｂとの間に形成された凹部２ｃとを備える。一方、絶縁板３は、基体２の凹部２ｃに嵌合している。基板ホルダ１の表面上に液晶基板を、基板端が基板ホルダ１の縁枠部２ａ上に配置されるようにして載置して、この状態において帯電したスペーサが散布される。
【解決手段】 基板ホルダ１は、導電体からなる基体２と、この基体２に嵌合された絶縁体からなる絶縁板３とから構成される。基体２は、平面矩形状に形成され、周縁部に形成された縁枠部２ａと、中心部に形成された平面円形の凸部２ｂと、縁枠部２ａと凸部２ｂとの間に形成された凹部２ｃとを備える。一方、絶縁板３は、基体２の凹部２ｃに嵌合している。基板ホルダ１の表面上に液晶基板を、基板端が基板ホルダ１の縁枠部２ａ上に配置されるようにして載置して、この状態において帯電したスペーサが散布される。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶電気光学装置の製造方法及び製造装置に係り、特に、液晶パネルの基板上に液晶層の層厚を維持するためのスペーサを散布する工程に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置、液晶プロジェクター、液晶を用いたブラインド等の各種の液晶電気光学装置を製造する際には、液晶層の層厚を均一に保持するためのスペーサを散布する工程が必要となる。このスペーサは、所定の粒径（例えば５〜１０μｍ）を備えたガラス製、プラスチック製等の粒子であり、液晶パネルを構成する基板間に分散配置されて、液晶層の層厚をその粒径と同一に保持するものである。 スペーサを液晶パネルの基板間に分散配置するには、液晶基板の一方の内面上にスペーサを散布して分散させ、この状態で、他方の液晶基板をシール材等を介して接合するものである。従来から行われているスペーサの散布方法には、ドライ式散布法とウエット式散布法とがあり、ドライ式散布法としては、多数のスペーサをエアーにより散布するドライエアー散布方式と、多数のスペーサに強制的に電荷を付与し、この電荷による静電力によりスペーサを相互に分散させて散布する静電散布方式とがある。
【０００３】上述の各種散布方法のうち、静電散布方式はスペーサが静電気により相互に反発して自ずから分散するため、現時点においては、基板上に均一にスペーサを分布させる点で最も優れていると考えられている。この静電散布方式においては、図７に示すように密閉された散布室１０の上部にノズル１１を設け、ノズル１１の先端部１１ａに例えば−１００Ｖ程度の高電圧を印加してコロナ放電を発生させ、その中にスペーサ１２を通過させて電荷を付与する。このスペーサ１２は、散布室１０の下部に配置された導電体から成る基板ホルダ１３の上に載置された液晶基板１４上に散布される。基板ホルダ１３は接地されており、スペーサ１２の電荷により帯電した液晶基板１４から電荷を逃がすようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述の各種散布方法においては、スペーサを散布するノズルに対する相対位置が異なることから、基板の全面に亘ってスペーサを完全に平均的に分布させることができず、スペーサの分布密度は、例えば基板中心部で高く、周囲部で低い等のように偏ってしまうという問題点がある。
【０００５】この問題点はスペーサを均一に分布させる点で優れた上述の静電散布方式においても同様であり、スペーサの帯電量が大きすぎると、静電気のバランスが崩れて逆にスペーサの分布密度が基板中心部で低く、周囲部で高いというように、やはり偏った分布を生ずるという問題点がある。また、この方法ではスペーサが帯電しているため、基板上に画素電極や配線等の導体が存在するとこれらの導体によって影響を受けるので、導体の存在によってスペーサの分散配置の均一性が妨げられるという問題点もある。
【０００６】そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、スペーサを帯電させた状態でスペーサを液晶基板上に散布する方法において、散布ノズルの影響や基板上の導体の影響を低減して、スペーサの均一な分布を実現できる新規の散布方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するために本発明が講じた手段は、液晶電気光学装置の液晶パネル内に収容され液晶層の層厚を維持するためのスペーサを、帯電させた状態で液晶パネルを構成する基板の表面上に散布する工程に際して、前記基板の裏面側から前記スペーサの分散状態の均一性を向上させるための電界分布を付与して前記スペーサを散布するものである。
【０００８】この方法によれば、基板の裏面側から所定の電界分布を付与することにより、基板の表面上にも所定の電界分布が形成されるため、帯電したスペーサはその電界分布によって静電力を受け、その分散状態が影響を受ける。したがって、付与する電界分布を適宜に設定することにより、基板上のスペーサの分散状態の均一性を向上させることができる。
【０００９】ここで、前記基板の裏面に、前記電界分布を実現する所定の表面パターンに形成され電位の付与された導電体を配置することが好ましい。この方法によれば、基板の裏面側に付与したい電界分布に応じた表面パターンに形成され電位の付与された導電体を配置することにより、簡単に上記電界分布を実現することができる。
【００１０】この場合にはさらに、前記表面パターンを、前記基板上に形成された表示エリア毎に周期的に形成することが望ましい。この方法によれば、基板上に形成された複数の表示エリアが存在する場合には、表示エリア毎に形成された電極や配線構造等に対応して表面パターンを形成することにより、表示エリアに影響されたスペーサの分散状態をも均一にすることができる。
【００１１】また、前記表面パターンを、前記基板上に形成された導電体パターンに対応して形成することが望ましい。この方法によれば、基板上に形成された電極、配線等の導電体パターンに対応して形成することにより、基板上に存在する導電体によるスペーサの分散状態の影響を低減することができ、スペーサの分散状態の均一性を向上させることができる。
【００１２】また、製造装置として、液晶電気光学装置の液晶パネル内に収容され液晶層の層厚を維持するためのスペーサを、帯電させた状態で液晶パネルを構成する基板の表面上に散布する装置において、前記基板の裏面側に前記スペーサを均一に分散させるための電界分布を付与する電界分布形成部材を配置するものである。
【００１３】ここで、前記電界分布形成部材を、前記基板の裏面に対向する所定の表面パターンに形成された導電体とし、該導電体に所定電位を付与することが好ましい。また、前記表面パターンの非形成領域に絶縁体を埋設することが望ましい。この装置によれば、絶縁体を埋設することにより、表面パターンの形成領域と非形成領域との電界分布の差を充分に形成することができ、スペーサに対する静電力を高めることができる。
【００１４】この場合には、特に、前記絶縁体の表面を前記表面パターンの表面よりも突出させないことが望ましい。この装置によれば、電界分布形成部材の導電体からなる表面パターンに対して確実に基板の裏面側を接触させることができるので、静電力を高めることができるとともに、基板の帯電量を確実に低減することができる。
【００１５】さらに、前記電界分布形成部材を、基台の表面上に前記基板の裏面に対向する所定の平面パターンで選択形成した導電層とし、該導電層に所定電位を付与することが好ましい。この場合には、電界分布形成部材を所定の平面パターンに選択形成した導電層とすることにより、電界分布形成部材を容易に形成することができるとともに、微細な平面パターンについても、フォトリソグラフィ法や遮蔽マスク等を用いることにより容易に形成できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して、本発明に係る液晶電気光学装置の製造方法及び製造装置の実施形態について説明する。
【００１７】（第１の実施形態）図１及び図２は本発明の第１の実施形態に係る基板ホルダ１の構造を示すものである。この実施形態においては、上述の図７に示すものと同様の散布室１０及びノズル１１が設けられ、上述と同様の方法或いはその他の方法により帯電させたスペーサ１２が散布されるようになっている。
【００１８】基板ホルダ１は、導電体からなる基体２と、この基体２に嵌合された絶縁体からなる絶縁板３とから構成されている。基体２は、平面矩形状に形成され、周縁部に形成された縁枠部２ａと、中心部に形成された平面円形の凸部２ｂと、縁枠部２ａと凸部２ｂとの間に形成された凹部２ｃとを備えている。一方、絶縁板３は基体２の凹部２ｃに嵌合している。ここで、図２に示すように、凹部２ｃに嵌合された絶縁板３の表面３ａは、上記縁枠部２ａ及び凸部２ｂの表面よりも僅かに低く位置している。
【００１９】このように形成された基板ホルダ１の表面上に液晶基板１４を、基板端１４ａが基板ホルダ１の縁枠部２ａ上に配置されるようにして載置して、この状態において、上述の通りの帯電したスペーサが散布される。なお、スペーサの散布時には、基板ホルダ１の基体２は接地されている。これは、帯電したスペーサが散布されることによって帯電した液晶基板１４から電荷を逃がし、静電気による表示不良やアクティブ素子の破壊を防止するためである。ここで、基体２は接地されている必要はなく、スペーサにより帯電した液晶基板１４から余分な電荷を吸収できる一定若しくは不定の電位が付与されていればよい。
【００２０】この実施形態によれば、予め電荷の付与されたスペーサが液晶基板１４上に散布されると、液晶基板１４の裏面側に存在する導電体からなる凸部２ｂと絶縁体からなる絶縁板３とによって、所定の電界分布が形成され、この電界分布によってスペーサは液晶基板１４の周囲方向に静電力を受ける。したがって、通常の基板ホルダを用いると液晶基板１４の中心部に偏ってスペーサが配置される状況では、その偏りを基板ホルダ１による静電力によって緩和することができる。
【００２１】この場合、スペーサに付与された電荷量が大きく、通常の基板ホルダを用いると液晶基板１４の周囲部に偏ってスペーサが配置される状況では、上記実施形態とは逆に、基体２の中心部（図１の凸部２ｂの位置）に凹部を設け、この凹部に円板形の絶縁板を嵌合させることにより、帯電したスペーサが中心方向に静電力を受けるので、やはりスペーサの分布の均一性を高めることができる。
【００２２】なお、基体２にスペーサと同様のマイナスの電位を付与した場合には、スペーサは上述とは逆方向の静電力を受けることとなるので、状況と基板ホルダの構造との関係が上述の場合とは逆になる。ただし、この場合には、スペーサにより液晶基板１４が帯電しても、その帯電量を低減することはできない。
【００２３】（第２の実施形態）図３及び図４には、本発明に係る第２の実施形態を示す。この実施形態は、上記第１の実施形態と同様の散布室、ノズルを備え、基板ホルダ４のみが上記の基板ホルダ１と異なるものである。
【００２４】この基板ホルダ４は導電体からなり、上記基体２と同様の縁枠部４ａ、凸部４ｂ及び凹部４ｃを設け、絶縁体を凹部４ｃに埋設することなく、そのまま液晶基板１４を載置してスペーサの散布を行うものである。この実施形態においても、絶縁板がない代わりに凹部４ｃの空間を隔てることによって、液晶基板１４に与える同様の平面パターンを備えた電界分布を形成することができるから、程度の差こそあれ、ほぼ同様の効果を奏する。
【００２５】（第３の実施形態）図５には、本発明に係る第３の実施形態を示す。この実施形態は、上記第２の実施形態と同様の散布室、ノズルを備え、基板ホルダ５のみが上記の基板ホルダ４と異なるものである。
【００２６】この基板ホルダ５は、上記のものと同様に導電体からなり、縁枠部５ａを設けたものであるが、液晶基板１４に形成された表示領域Ｄ毎に対応した基板ホルダ５の領域内の、例えば中央部に凸部６ｂを設けて、各凸部５ｂの周囲に凹部５ｃを形成したものである。液晶電気光学装置の製造方法としては、スペーサを散布する液晶基板１４に複数の表示領域を予め設け、液晶基板１４と、もう一方の液晶基板とを接合させた後に複数の液晶セルに分割する場合があり、本実施形態はこのような場合に適応させたものである。
【００２７】このような場合には、液晶基板１４に複数設けられた表示領域Ｄにはそれぞれ複数の画素に応じた電極及び配線、さらに必要に応じてアクティブ素子が形成されるが、表示領域Ｄの間にはこれらが形成されない。したがって、液晶基板１４の全体の中心部と周縁部とのスペーサの散布状態のばらつきに加えて、各表示領域Ｄ内における中心部と周縁部とのスペーサの散布状態のばらつきも発生するため、本実施形態においては、このような液晶基板１４内の周期的な細部構造に起因するスペーサのばらつきをも低減しようとするものである。
【００２８】この場合、液晶基板１４の全体の中心部と周縁部とのスペーサの散布状態のばらつきをも同時に低減させるために、凸部５ｂの面積を液晶基板１４の中心部から周縁部に行くに従って増加若しくは低減させることも可能である。
【００２９】また、本実施形態においては、第１の実施形態と同様に、凹部５ｃに絶縁体を充填しても同様若しくはそれ以上の効果を奏することができる。
【００３０】（第４の実施形態）図６には、本発明に係る第４の実施形態を示す。この実施形態においては、上記各実施形態と同様の散布室、ノズルを設けているが、基板ホルダ６のみが異なるものである。
【００３１】この基板ホルダ６は、絶縁性基台７の表面上に金属膜等から成る導電性層８を所定のパターンにて形成して成るものである。絶縁性基台７の周縁部には、導電性層を枠状に形成して成る縁枠部８ａが形成され、これより内側の導電性層８のパターンは全て図示しない配線パターンによって縁枠部８ａに導電接続されている。縁枠部８ａは外部に設けられ、上述の各実施形態と同様の定電位に導電接続されている。
【００３２】導電性層８は上述の各実施形態における凸部と同様の作用を奏し、液晶基板１４の帯電は、特に周縁に設けられた縁枠部８ａとの接触によって除去される。導電性層８の形成パターンは、上記の各実施形態と同様の表面パターンになるように形成することもできる。
【００３３】ただし、この実施形態においては、導電性層８を蒸着、スパッタリング等の成膜技術や、フォトリソグラフィ法や遮蔽マスク等を使用するパターニング技術により、種々のパターンに容易に形成できるので、液晶基板１４の電極や配線、アクティブ素子等の導電体の形成パターンに応じて、最適の平面パターンにより形成することが好ましい。例えば、スペーサの分布は液晶基板１４の表面上にある上記導電体の形成パターンに強く影響されるので、この形成パターンの影響を低減するために、当該形成パターンのネガパターンを導電性層８のパターンとして採用することも可能である。
【００３４】なお、本実施形態においては、各導電性層８と上記定電位との導電接続を果たす配線を絶縁層に被覆された下層に形成することもでき、或いは、絶縁性基台７の全表面に形成された下層の導電層の上に絶縁層を形成し、必要な部分のみ絶縁層を開口して、その上に上記導電性層８を形成することにより、下層の導電層と導電性層８とを絶縁層の開口を通して導電接続して、下層の導電層を通じて定電位に接続する等の方法も採用することができる。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば以下の効果を奏する。
【００３６】請求項１又は請求項５によれば、基板の裏面側から所定の電界分布を付与することにより、基板の表面上にも所定の電界分布が形成されるため、帯電したスペーサはその電界分布によって静電力を受け、その分散状態が影響を受ける。したがって、付与する電界分布を適宜に設定することにより、基板上のスペーサの分散状態の均一性を向上させることができる。
【００３７】請求項２又は請求項６によれば、基板の裏面側に付与したい電界分布に応じた表面パターンに形成され電位の付与された導電体を配置することにより、簡単に上記電界分布を実現することができる。
【００３８】請求項３によれば、基板上に形成された複数の表示エリアが存在する場合には、表示エリア毎に形成された電極や配線構造等に対応して表面パターンを形成することにより、表示エリアに影響されたスペーサの分散状態をも均一にすることができる。
【００３９】請求項４によれば、基板上に形成された電極、配線等の導電体パターンに対応して形成することにより、基板上に存在する導電体によるスペーサの分散状態の影響を低減することができ、スペーサの分散状態の均一性を向上させることができる。
【００４０】請求項７によれば、絶縁体を埋設することにより、表面パターンの形成領域と非形成領域との電界分布の差を充分に形成することができ、スペーサに対する静電力を高めることができる。
【００４１】請求項８によれば、電界分布形成部材の導電体からなる表面パターンに対して確実に基板の裏面側を接触させることができるので、静電力を高めることができるとともに、基板の帯電量を確実に低減することができる。
【００４２】請求項９によれば、電界分布形成部材を所定の平面パターンに選択形成した導電層とすることにより、電界分布形成部材を容易に形成することができるとともに、微細な平面パターンについても、フォトリソグラフィ法や遮蔽マスク等を用いることにより容易に形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１の実施形態における基板ホルダの構造を示す斜視図である。
【図２】第１の実施形態における基板ホルダの構造を液晶基板とともに示す縦断面図である。
【図３】本発明に係る第２の実施形態における基板ホルダの構造を示す斜視図である。
【図４】第２の実施形態における基板ホルダの構造を液晶基板とともに示す縦断面図である。
【図５】本発明に係る第３の実施形態における基板ホルダの構造を液晶基板とともに示す縦断面図である。
【図６】本発明に係る第４の実施形態における基板ホルダの構造を液晶基板とともに示す縦断面図である。
【図７】液晶基板上にスペーサを散布する状態を示す説明図である。
【符号の説明】
１，４，５，６ 基板ホルダ
２ 基体
３ 絶縁板
７ 絶縁性基台
８ 導電性層
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶電気光学装置の製造方法及び製造装置に係り、特に、液晶パネルの基板上に液晶層の層厚を維持するためのスペーサを散布する工程に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置、液晶プロジェクター、液晶を用いたブラインド等の各種の液晶電気光学装置を製造する際には、液晶層の層厚を均一に保持するためのスペーサを散布する工程が必要となる。このスペーサは、所定の粒径（例えば５〜１０μｍ）を備えたガラス製、プラスチック製等の粒子であり、液晶パネルを構成する基板間に分散配置されて、液晶層の層厚をその粒径と同一に保持するものである。 スペーサを液晶パネルの基板間に分散配置するには、液晶基板の一方の内面上にスペーサを散布して分散させ、この状態で、他方の液晶基板をシール材等を介して接合するものである。従来から行われているスペーサの散布方法には、ドライ式散布法とウエット式散布法とがあり、ドライ式散布法としては、多数のスペーサをエアーにより散布するドライエアー散布方式と、多数のスペーサに強制的に電荷を付与し、この電荷による静電力によりスペーサを相互に分散させて散布する静電散布方式とがある。
【０００３】上述の各種散布方法のうち、静電散布方式はスペーサが静電気により相互に反発して自ずから分散するため、現時点においては、基板上に均一にスペーサを分布させる点で最も優れていると考えられている。この静電散布方式においては、図７に示すように密閉された散布室１０の上部にノズル１１を設け、ノズル１１の先端部１１ａに例えば−１００Ｖ程度の高電圧を印加してコロナ放電を発生させ、その中にスペーサ１２を通過させて電荷を付与する。このスペーサ１２は、散布室１０の下部に配置された導電体から成る基板ホルダ１３の上に載置された液晶基板１４上に散布される。基板ホルダ１３は接地されており、スペーサ１２の電荷により帯電した液晶基板１４から電荷を逃がすようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述の各種散布方法においては、スペーサを散布するノズルに対する相対位置が異なることから、基板の全面に亘ってスペーサを完全に平均的に分布させることができず、スペーサの分布密度は、例えば基板中心部で高く、周囲部で低い等のように偏ってしまうという問題点がある。
【０００５】この問題点はスペーサを均一に分布させる点で優れた上述の静電散布方式においても同様であり、スペーサの帯電量が大きすぎると、静電気のバランスが崩れて逆にスペーサの分布密度が基板中心部で低く、周囲部で高いというように、やはり偏った分布を生ずるという問題点がある。また、この方法ではスペーサが帯電しているため、基板上に画素電極や配線等の導体が存在するとこれらの導体によって影響を受けるので、導体の存在によってスペーサの分散配置の均一性が妨げられるという問題点もある。
【０００６】そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、スペーサを帯電させた状態でスペーサを液晶基板上に散布する方法において、散布ノズルの影響や基板上の導体の影響を低減して、スペーサの均一な分布を実現できる新規の散布方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するために本発明が講じた手段は、液晶電気光学装置の液晶パネル内に収容され液晶層の層厚を維持するためのスペーサを、帯電させた状態で液晶パネルを構成する基板の表面上に散布する工程に際して、前記基板の裏面側から前記スペーサの分散状態の均一性を向上させるための電界分布を付与して前記スペーサを散布するものである。
【０００８】この方法によれば、基板の裏面側から所定の電界分布を付与することにより、基板の表面上にも所定の電界分布が形成されるため、帯電したスペーサはその電界分布によって静電力を受け、その分散状態が影響を受ける。したがって、付与する電界分布を適宜に設定することにより、基板上のスペーサの分散状態の均一性を向上させることができる。
【０００９】ここで、前記基板の裏面に、前記電界分布を実現する所定の表面パターンに形成され電位の付与された導電体を配置することが好ましい。この方法によれば、基板の裏面側に付与したい電界分布に応じた表面パターンに形成され電位の付与された導電体を配置することにより、簡単に上記電界分布を実現することができる。
【００１０】この場合にはさらに、前記表面パターンを、前記基板上に形成された表示エリア毎に周期的に形成することが望ましい。この方法によれば、基板上に形成された複数の表示エリアが存在する場合には、表示エリア毎に形成された電極や配線構造等に対応して表面パターンを形成することにより、表示エリアに影響されたスペーサの分散状態をも均一にすることができる。
【００１１】また、前記表面パターンを、前記基板上に形成された導電体パターンに対応して形成することが望ましい。この方法によれば、基板上に形成された電極、配線等の導電体パターンに対応して形成することにより、基板上に存在する導電体によるスペーサの分散状態の影響を低減することができ、スペーサの分散状態の均一性を向上させることができる。
【００１２】また、製造装置として、液晶電気光学装置の液晶パネル内に収容され液晶層の層厚を維持するためのスペーサを、帯電させた状態で液晶パネルを構成する基板の表面上に散布する装置において、前記基板の裏面側に前記スペーサを均一に分散させるための電界分布を付与する電界分布形成部材を配置するものである。
【００１３】ここで、前記電界分布形成部材を、前記基板の裏面に対向する所定の表面パターンに形成された導電体とし、該導電体に所定電位を付与することが好ましい。また、前記表面パターンの非形成領域に絶縁体を埋設することが望ましい。この装置によれば、絶縁体を埋設することにより、表面パターンの形成領域と非形成領域との電界分布の差を充分に形成することができ、スペーサに対する静電力を高めることができる。
【００１４】この場合には、特に、前記絶縁体の表面を前記表面パターンの表面よりも突出させないことが望ましい。この装置によれば、電界分布形成部材の導電体からなる表面パターンに対して確実に基板の裏面側を接触させることができるので、静電力を高めることができるとともに、基板の帯電量を確実に低減することができる。
【００１５】さらに、前記電界分布形成部材を、基台の表面上に前記基板の裏面に対向する所定の平面パターンで選択形成した導電層とし、該導電層に所定電位を付与することが好ましい。この場合には、電界分布形成部材を所定の平面パターンに選択形成した導電層とすることにより、電界分布形成部材を容易に形成することができるとともに、微細な平面パターンについても、フォトリソグラフィ法や遮蔽マスク等を用いることにより容易に形成できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して、本発明に係る液晶電気光学装置の製造方法及び製造装置の実施形態について説明する。
【００１７】（第１の実施形態）図１及び図２は本発明の第１の実施形態に係る基板ホルダ１の構造を示すものである。この実施形態においては、上述の図７に示すものと同様の散布室１０及びノズル１１が設けられ、上述と同様の方法或いはその他の方法により帯電させたスペーサ１２が散布されるようになっている。
【００１８】基板ホルダ１は、導電体からなる基体２と、この基体２に嵌合された絶縁体からなる絶縁板３とから構成されている。基体２は、平面矩形状に形成され、周縁部に形成された縁枠部２ａと、中心部に形成された平面円形の凸部２ｂと、縁枠部２ａと凸部２ｂとの間に形成された凹部２ｃとを備えている。一方、絶縁板３は基体２の凹部２ｃに嵌合している。ここで、図２に示すように、凹部２ｃに嵌合された絶縁板３の表面３ａは、上記縁枠部２ａ及び凸部２ｂの表面よりも僅かに低く位置している。
【００１９】このように形成された基板ホルダ１の表面上に液晶基板１４を、基板端１４ａが基板ホルダ１の縁枠部２ａ上に配置されるようにして載置して、この状態において、上述の通りの帯電したスペーサが散布される。なお、スペーサの散布時には、基板ホルダ１の基体２は接地されている。これは、帯電したスペーサが散布されることによって帯電した液晶基板１４から電荷を逃がし、静電気による表示不良やアクティブ素子の破壊を防止するためである。ここで、基体２は接地されている必要はなく、スペーサにより帯電した液晶基板１４から余分な電荷を吸収できる一定若しくは不定の電位が付与されていればよい。
【００２０】この実施形態によれば、予め電荷の付与されたスペーサが液晶基板１４上に散布されると、液晶基板１４の裏面側に存在する導電体からなる凸部２ｂと絶縁体からなる絶縁板３とによって、所定の電界分布が形成され、この電界分布によってスペーサは液晶基板１４の周囲方向に静電力を受ける。したがって、通常の基板ホルダを用いると液晶基板１４の中心部に偏ってスペーサが配置される状況では、その偏りを基板ホルダ１による静電力によって緩和することができる。
【００２１】この場合、スペーサに付与された電荷量が大きく、通常の基板ホルダを用いると液晶基板１４の周囲部に偏ってスペーサが配置される状況では、上記実施形態とは逆に、基体２の中心部（図１の凸部２ｂの位置）に凹部を設け、この凹部に円板形の絶縁板を嵌合させることにより、帯電したスペーサが中心方向に静電力を受けるので、やはりスペーサの分布の均一性を高めることができる。
【００２２】なお、基体２にスペーサと同様のマイナスの電位を付与した場合には、スペーサは上述とは逆方向の静電力を受けることとなるので、状況と基板ホルダの構造との関係が上述の場合とは逆になる。ただし、この場合には、スペーサにより液晶基板１４が帯電しても、その帯電量を低減することはできない。
【００２３】（第２の実施形態）図３及び図４には、本発明に係る第２の実施形態を示す。この実施形態は、上記第１の実施形態と同様の散布室、ノズルを備え、基板ホルダ４のみが上記の基板ホルダ１と異なるものである。
【００２４】この基板ホルダ４は導電体からなり、上記基体２と同様の縁枠部４ａ、凸部４ｂ及び凹部４ｃを設け、絶縁体を凹部４ｃに埋設することなく、そのまま液晶基板１４を載置してスペーサの散布を行うものである。この実施形態においても、絶縁板がない代わりに凹部４ｃの空間を隔てることによって、液晶基板１４に与える同様の平面パターンを備えた電界分布を形成することができるから、程度の差こそあれ、ほぼ同様の効果を奏する。
【００２５】（第３の実施形態）図５には、本発明に係る第３の実施形態を示す。この実施形態は、上記第２の実施形態と同様の散布室、ノズルを備え、基板ホルダ５のみが上記の基板ホルダ４と異なるものである。
【００２６】この基板ホルダ５は、上記のものと同様に導電体からなり、縁枠部５ａを設けたものであるが、液晶基板１４に形成された表示領域Ｄ毎に対応した基板ホルダ５の領域内の、例えば中央部に凸部６ｂを設けて、各凸部５ｂの周囲に凹部５ｃを形成したものである。液晶電気光学装置の製造方法としては、スペーサを散布する液晶基板１４に複数の表示領域を予め設け、液晶基板１４と、もう一方の液晶基板とを接合させた後に複数の液晶セルに分割する場合があり、本実施形態はこのような場合に適応させたものである。
【００２７】このような場合には、液晶基板１４に複数設けられた表示領域Ｄにはそれぞれ複数の画素に応じた電極及び配線、さらに必要に応じてアクティブ素子が形成されるが、表示領域Ｄの間にはこれらが形成されない。したがって、液晶基板１４の全体の中心部と周縁部とのスペーサの散布状態のばらつきに加えて、各表示領域Ｄ内における中心部と周縁部とのスペーサの散布状態のばらつきも発生するため、本実施形態においては、このような液晶基板１４内の周期的な細部構造に起因するスペーサのばらつきをも低減しようとするものである。
【００２８】この場合、液晶基板１４の全体の中心部と周縁部とのスペーサの散布状態のばらつきをも同時に低減させるために、凸部５ｂの面積を液晶基板１４の中心部から周縁部に行くに従って増加若しくは低減させることも可能である。
【００２９】また、本実施形態においては、第１の実施形態と同様に、凹部５ｃに絶縁体を充填しても同様若しくはそれ以上の効果を奏することができる。
【００３０】（第４の実施形態）図６には、本発明に係る第４の実施形態を示す。この実施形態においては、上記各実施形態と同様の散布室、ノズルを設けているが、基板ホルダ６のみが異なるものである。
【００３１】この基板ホルダ６は、絶縁性基台７の表面上に金属膜等から成る導電性層８を所定のパターンにて形成して成るものである。絶縁性基台７の周縁部には、導電性層を枠状に形成して成る縁枠部８ａが形成され、これより内側の導電性層８のパターンは全て図示しない配線パターンによって縁枠部８ａに導電接続されている。縁枠部８ａは外部に設けられ、上述の各実施形態と同様の定電位に導電接続されている。
【００３２】導電性層８は上述の各実施形態における凸部と同様の作用を奏し、液晶基板１４の帯電は、特に周縁に設けられた縁枠部８ａとの接触によって除去される。導電性層８の形成パターンは、上記の各実施形態と同様の表面パターンになるように形成することもできる。
【００３３】ただし、この実施形態においては、導電性層８を蒸着、スパッタリング等の成膜技術や、フォトリソグラフィ法や遮蔽マスク等を使用するパターニング技術により、種々のパターンに容易に形成できるので、液晶基板１４の電極や配線、アクティブ素子等の導電体の形成パターンに応じて、最適の平面パターンにより形成することが好ましい。例えば、スペーサの分布は液晶基板１４の表面上にある上記導電体の形成パターンに強く影響されるので、この形成パターンの影響を低減するために、当該形成パターンのネガパターンを導電性層８のパターンとして採用することも可能である。
【００３４】なお、本実施形態においては、各導電性層８と上記定電位との導電接続を果たす配線を絶縁層に被覆された下層に形成することもでき、或いは、絶縁性基台７の全表面に形成された下層の導電層の上に絶縁層を形成し、必要な部分のみ絶縁層を開口して、その上に上記導電性層８を形成することにより、下層の導電層と導電性層８とを絶縁層の開口を通して導電接続して、下層の導電層を通じて定電位に接続する等の方法も採用することができる。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば以下の効果を奏する。
【００３６】請求項１又は請求項５によれば、基板の裏面側から所定の電界分布を付与することにより、基板の表面上にも所定の電界分布が形成されるため、帯電したスペーサはその電界分布によって静電力を受け、その分散状態が影響を受ける。したがって、付与する電界分布を適宜に設定することにより、基板上のスペーサの分散状態の均一性を向上させることができる。
【００３７】請求項２又は請求項６によれば、基板の裏面側に付与したい電界分布に応じた表面パターンに形成され電位の付与された導電体を配置することにより、簡単に上記電界分布を実現することができる。
【００３８】請求項３によれば、基板上に形成された複数の表示エリアが存在する場合には、表示エリア毎に形成された電極や配線構造等に対応して表面パターンを形成することにより、表示エリアに影響されたスペーサの分散状態をも均一にすることができる。
【００３９】請求項４によれば、基板上に形成された電極、配線等の導電体パターンに対応して形成することにより、基板上に存在する導電体によるスペーサの分散状態の影響を低減することができ、スペーサの分散状態の均一性を向上させることができる。
【００４０】請求項７によれば、絶縁体を埋設することにより、表面パターンの形成領域と非形成領域との電界分布の差を充分に形成することができ、スペーサに対する静電力を高めることができる。
【００４１】請求項８によれば、電界分布形成部材の導電体からなる表面パターンに対して確実に基板の裏面側を接触させることができるので、静電力を高めることができるとともに、基板の帯電量を確実に低減することができる。
【００４２】請求項９によれば、電界分布形成部材を所定の平面パターンに選択形成した導電層とすることにより、電界分布形成部材を容易に形成することができるとともに、微細な平面パターンについても、フォトリソグラフィ法や遮蔽マスク等を用いることにより容易に形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１の実施形態における基板ホルダの構造を示す斜視図である。
【図２】第１の実施形態における基板ホルダの構造を液晶基板とともに示す縦断面図である。
【図３】本発明に係る第２の実施形態における基板ホルダの構造を示す斜視図である。
【図４】第２の実施形態における基板ホルダの構造を液晶基板とともに示す縦断面図である。
【図５】本発明に係る第３の実施形態における基板ホルダの構造を液晶基板とともに示す縦断面図である。
【図６】本発明に係る第４の実施形態における基板ホルダの構造を液晶基板とともに示す縦断面図である。
【図７】液晶基板上にスペーサを散布する状態を示す説明図である。
【符号の説明】
１，４，５，６ 基板ホルダ
２ 基体
３ 絶縁板
７ 絶縁性基台
８ 導電性層
【特許請求の範囲】
【請求項１】 液晶電気光学装置の液晶パネル内に収容され液晶層の層厚を維持するためのスペーサを、帯電させた状態で液晶パネルを構成する基板の表面上に散布する工程に際して、前記基板の裏面側から前記スペーサの分散状態の均一性を向上させるための電界分布を付与して前記スペーサを散布することを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
【請求項２】 請求項１において、前記基板の裏面に、前記電界分布を実現する所定の表面パターンに形成され電位の付与された導電体を配置することを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
【請求項３】 請求項２において、前記表面パターンを、前記基板上に形成された表示エリアに対応した領域毎に周期的に形成することを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
【請求項４】 請求項２において、前記表面パターンを、前記基板上に形成された導電体パターンに対応して形成することを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
【請求項５】 液晶電気光学装置の液晶パネル内に収容され液晶層の層厚を維持するためのスペーサを、帯電させた状態で液晶パネルを構成する基板の表面上に散布する装置において、前記基板の裏面側に前記スペーサを均一に分散させるための電界分布を付与する電界分布形成部材を配置したことを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項６】 請求項５において、前記電界分布形成部材を、前記基板の裏面に対向する所定の表面パターンに形成された導電体とし、該導電体に所定電位を付与することを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項７】 請求項６において、前記表面パターンの非形成領域に絶縁体を埋設したことを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項８】 請求項７において、前記絶縁体の表面を前記表面パターンの表面よりも突出させないことを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項９】 請求項５において、前記電界分布形成部材を、基台の表面上に前記基板の裏面に対向する所定の平面パターンで選択形成した導電層とし、該導電層に所定電位を付与することを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項１】 液晶電気光学装置の液晶パネル内に収容され液晶層の層厚を維持するためのスペーサを、帯電させた状態で液晶パネルを構成する基板の表面上に散布する工程に際して、前記基板の裏面側から前記スペーサの分散状態の均一性を向上させるための電界分布を付与して前記スペーサを散布することを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
【請求項２】 請求項１において、前記基板の裏面に、前記電界分布を実現する所定の表面パターンに形成され電位の付与された導電体を配置することを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
【請求項３】 請求項２において、前記表面パターンを、前記基板上に形成された表示エリアに対応した領域毎に周期的に形成することを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
【請求項４】 請求項２において、前記表面パターンを、前記基板上に形成された導電体パターンに対応して形成することを特徴とする液晶電気光学装置の製造方法。
【請求項５】 液晶電気光学装置の液晶パネル内に収容され液晶層の層厚を維持するためのスペーサを、帯電させた状態で液晶パネルを構成する基板の表面上に散布する装置において、前記基板の裏面側に前記スペーサを均一に分散させるための電界分布を付与する電界分布形成部材を配置したことを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項６】 請求項５において、前記電界分布形成部材を、前記基板の裏面に対向する所定の表面パターンに形成された導電体とし、該導電体に所定電位を付与することを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項７】 請求項６において、前記表面パターンの非形成領域に絶縁体を埋設したことを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項８】 請求項７において、前記絶縁体の表面を前記表面パターンの表面よりも突出させないことを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【請求項９】 請求項５において、前記電界分布形成部材を、基台の表面上に前記基板の裏面に対向する所定の平面パターンで選択形成した導電層とし、該導電層に所定電位を付与することを特徴とする液晶電気光学装置の製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開平９−１５２５８０
【公開日】平成９年（１９９７）６月１０日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平７−３１０３０５
【出願日】平成７年（１９９５）１１月２９日
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【公開日】平成９年（１９９７）６月１０日
【国際特許分類】
【出願日】平成７年（１９９５）１１月２９日
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
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