【課題】液滴中において生物学的サンプルおよび／または化学的サンプルを処理する装置および方法を提供する。
【解決手段】デバイス２０は、貯水器および固定部材７によって規定される処理区画を備えている。前記処理区画は、液滴と混和せず、かつ液滴の液体よりも低い表面エネルギーである媒体８を収容するようにさらに適応されている。貯水器は、外周壁２５および基盤６によって規定されている。固定部材７は、貯水器内に設けられており、少なくとも１つの予め規定されている固定区域２を含むようにパターン形成された表面を備えている。疎水性の媒体８中において、疎水性−疎水性の相互作用または親水性−親水性の相互作用を介して、親水性の区域２上に液滴を固定するほど、区域２の表面エネルギーは、残りの表面の表面エネルギーよりも高い。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性の液体を含んでいる液滴中においてサンプルを処理するためのデバイスであって、
上記デバイスは、外周壁と、固定部材を含んでなる基盤と、を備えており、
上記外周壁および上記基盤は、上記液滴と混和しないように疎水性の媒体を収容するように適応されている貯水器を規定しており、
上記固定部材は、疎水性の区域と複数の親水性の固定区域とを備えた表面を含んでなる、デバイス。
【請求項２】
前記疎水性の区域の表面エネルギーが、最大でも、前記疎水性の媒体の表面エネルギーと同じである、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記外周壁は、疎水性の内壁面を備える、請求項１または２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記貯水器の前記外周壁は、パーフルオロカーボンポリマー及びヒドロパーフルオロカーボンポリマーの１種又はそれ以上を含む、請求項１〜３の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項５】
前記固定部材が有する前記複数の親水性の固定区域は、前記疎水性の媒体中に浸漬されるように適応されている、請求項１〜４の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項６】
前記固定部材が有する前記疎水性の区域は、前記疎水性の媒体中に浸漬されるように適応されている、請求項１〜５の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項７】
前記疎水性の媒体を含んでいる、請求項１〜６の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項８】
前記疎水性の媒体は、液体のパーフルオロカーボンを含んでいる、請求項１〜７の何れか１項に記載のデバイス。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか１項に記載のデバイスを提供する工程と、
前記貯水器内に、前記疎水性の媒体を配置する工程と、
前記複数の親水性の固定区域の夫々の上に液滴を配置する工程と、を含む方法。
【請求項１０】
前記液滴を配置する工程の前に、前記疎水性の媒体を配置する工程を行う、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１〜８の何れか１項に記載のデバイスをリンスする方法であって、
上記デバイスは、前記複数の親水性の固定区域の夫々の上に液滴を保持しており、
上記デバイスを傾けて、前記疎水性の媒体を排出する工程と、
上記疎水性の媒体を排出する工程の後に、前記固定部材をリンス用溶液に暴露する工程と、
上記固定部材を上記リンス用溶液に暴露する工程の後に、上記リンス用溶液から上記固定部材を取り去る工程と、を含む方法。
【請求項１２】
前記リンス用溶液から前記固定部材を取り去る工程の後に、前記疎水性の媒体を加える工程を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記疎水性の媒体を加える工程の後に、前記複数の親水性の固定区域の上に前記親水性の液体を加える工程を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記疎水性の媒体を排出する工程の後に、前記固定部材上に上記疎水性の媒体の層が残留している、請求項１１〜１３の何れか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記リンス用溶液が前記疎水性の媒体とは混和せず、前記液滴とは混和する、請求項１１〜１４の何れか１項に記載の方法。
【請求項１６】
請求項１〜８の何れか１項に記載のデバイスをリンスする装置であって、
上記デバイスを受容するように適用された貯水器ホルダーと、
請求項１１〜１５の何れか１項に記載の方法を開始するように構成されたコントローラと、を含む装置。
【請求項１７】
前記貯水器ホルダーは、前記デバイスを回転させるように構成されている、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記貯水器ホルダーは、前記デバイスを傾けるための軸を有するモーターを備えている、請求項１６または１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記デバイスを攪拌するように構成された攪拌デバイスをさらに備える、請求項１６〜１８の何れか１項に記載の装置。
【請求項２０】
請求項１〜８の何れか１項に記載のデバイスをリンスする方法であって、
請求項１６〜１９の何れか１項に記載の装置が備える前記貯水器ホルダー内に上記デバイスを配置する工程と、
上記装置を起動して上記デバイスのリンスを行う工程と、を含む方法。

【図１Ａ】

【図１Ｂ】

【図１Ｃ】

【図２】

【図３】

【図４Ａ】

【図４Ｂ】

【図４Ｃ】

【図４Ｄ】

【図４Ｅ】

【図４Ｆ】

【図４Ｇ】

【図４Ｈ】

【図４Ｉ】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１Ａ】

【図１１Ｂ】

【図１２】

【図１３Ａ】

【図１３Ｂ】

【図１３Ｃ】

【図１４Ａ】

【図１４Ｂ】

【図１５】

【図１６Ａ】

【図１６Ｂ】

【図１６Ｃ】

【図１７】

【図１８Ａ】

【図１８Ｂ】

【図１９Ａ】

【図１９Ｂ】

【図２０】

【図２１】

【図２２】

【図２３】

【図２４】

【図２５Ａ】

【図２５Ｂ】

【図２５Ｃ】

【図２６Ａ】

【図２６Ｂ】

【図２７】

【図２８Ａ】

【図２８Ｂ】

【図２９Ａ】

【図２９Ｂ】

【図２９Ｃ】

【図３０】

【図３１Ａ】

【図３１Ｂ】

【図３１Ｃ】

【図３２Ａ】

【図３２Ｂ】

【図３２Ｃ】

【公開番号】特開２０１３−１５５３２（Ｐ２０１３−１５５３２Ａ）
【公開日】平成２５年１月２４日（２０１３．１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−１９６３１８（Ｐ２０１２−１９６３１８）
【出願日】平成２４年９月６日（２０１２．９．６）
【分割の表示】特願２００９−５３８３７３（Ｐ２００９−５３８３７３）の分割
【原出願日】平成１９年１１月１４日（２００７．１１．１４）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＴＥＦＬＯＮ
【出願人】（５０３２３１８８２）エージェンシー　フォー　サイエンス，テクノロジー　アンド　リサーチ (179)
【Ｆターム（参考）】