説明

温度調節流路付きスライド構造

【課題】ペルチェ素子よる吸熱・発熱効果よりも大幅に温度の昇降時間を短縮、すなわちPCR反応の1サイクル数分単位から数秒単位まで短縮することができる温度調節流路付きスライド構造を提供すること。同時に反応部のDNAや細胞の1分子観察技術を可能とする。
【解決手段】スライド1は、シリコン板2の裏面に液体の温度調節流路8となる溝を形成し、シリコン板2に溝を閉塞するシート状ガラス3を固定して温度調節流路8を形成している。スライド1には、DNA、細胞などを収容する反応チャンバー5と温度調節流路8に連通する供給口10と排水口11とを形成している。供給口10は、温度調整用の流体供給手段へ接続し、供給口10から排水口11に向かって流体を流し、反応部7の温度調整を瞬時できるようにした。シート状ガラス3は、厚さが0.17mmであり、反応部7液浸対物レンズで観察することができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、核酸の配列解析や細胞の長時間観察に使用することができる温度調整流路付きスライド構造に関する。
【背景技術】
【0002】
遺伝子を解析するのに、PCR法(ポリメラーゼ連鎖反応、polymerase chain reaction)がある。その原理は、2本鎖であるDNAが水溶液中で高温になると、水素結合が破壊されて変性が生じ、二重らせんが2本の一本鎖に分離する。このようにして1本鎖のDNAとなった溶液を冷却していくと、相補的なDNAが互いに結合し再び2本鎖となる(アニーリング)。
PCR法では、増幅対象のDNA、ポリメラーゼ及びプライマーと呼ばれるオリゴヌクレオチドを予め混合し、変性・アニーリングを行う。この状態でDNAポリメラーゼが働くと、プライマーが結合した部分を起点として1本鎖部分と相補的なDNAが合成される。このように、PCR法は、温度の上下を繰り返すだけでDNA合成を繰り返し、DNAを増幅する技術である。
【0003】
下記の特許文献1に開示された全自動遺伝子解析システムにはPCR反応部を備え、このPCR反応部には、PCR反応液と鋳型となる核酸とを含有する混合液を貯溜するPCRプレートが利用されている。一般的にペルチェ素子によってPCRプレートの反応部の温度を昇降させている。
【特許文献1】特開2005−204592号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
このように従来では、PCR反応部において、反応部の温度調節をするためにペルチェ素子が使用されている。上述したようにPCR反応では、温度を昇降させてDNAの2本鎖の分離、結合を繰り返しているので、その温度の昇降速度を迅速にすればDNAの増幅速度を速くすることができる。
通常では、ペルチェ素子では、温度を60℃から95℃に温度を切り換えるには、PCR反応の1サイクルにおいて数分の時間を要し、昇降時間の短縮化が望まれている。
一方、細胞のタイムラプス撮影では、最適温度の環境下のもとで長時間観察することから、チャンバーの温度を恒温化し、その状態で細胞を観察できる環境が望まれている。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ペルチェ素子よりも大幅に温度の昇降時間を短縮、すなわちPCR反応の1サイクル数分から数秒まで短縮することができる温度調節流路付きスライド構造、若しくは一定温度を維持することができる温度調節流路付きスライド構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の温度調節流路付きスライド構造は、上記目的を達成するために、板材に液体の流路となる溝を形成し、前記板材に前記溝を閉塞するシート状ガラスを固定して前記流路を形成したスライド本体を設け、該スライド本体には、試料を収容するチャンバーと前記流路に連通する供給口と排水口とを形成し、これらの供給口と排水口との間にて、前記チャンバーに臨むようにして前記流路を配設し、前記供給口は、温度調整用の流体供給手段へ接続し、前記供給口から排水口に向かって流体を流すようにした。
上記温度調節流路付きスライド構造は、前記シート状ガラスの厚さが0.2mm以下とすることができる。
上記温度調節流路付きスライド構造は、前記板材をシリコン板とすることができる。
上記温度調節流路付きスライド構造は、前記板材が、前記板材の表面側から裏面側へ向かって貫通し、前記チャンバーを構成する貫通孔を形成するとともに、該板材の裏面側に前記流路となる溝を形成し、該溝と前記貫通孔を前記シート状ガラスによって閉塞し、前記流路と前記チャンバーとを形成することができる。
上記温度調節流路付きスライド構造は、前記板材の裏面と前記ガラス板とを陽極接合によって接合することができる。
上記温度調節流路付きスライド構造は、前記チャンバーに試料及び/又は反応液を供給する流路を、前記スライド本体に形成することができる。
【発明の効果】
【0006】
本発明の温度調節流路付きスライド構造は、板材に液体の流路となる溝を形成し、前記板材に前記溝を閉塞するシート状ガラスを固定して前記流路を形成したスライド本体を設け、該スライド本体には、試料を収容するチャンバーと前記流路に連通する供給口と排水口とを形成し、これらの供給口と排水口との間にて、前記チャンバーに臨むようにして前記流路を配設し、前記供給口は、温度調整用の流体供給手段へ接続し、前記供給口から排水口に向かって流体を流すようにしたので、温度調整用の流体によってチャンバーの温度を迅速に昇降若しくは、一定の恒温状態にすることができる。ペルチェ素子などのヒーター機構の必要が無いため、上下に試料の観察エリアを確保できる。
上記温度調節流路付きスライド構造は、前記シート状ガラスの厚さが0.2mm以下であるので、液浸対物レンズによる試料の観察をすることができる。また、ガラスの板厚が薄いため、細胞内の構造等が明瞭に観察することができる。
上記温度調節流路付きスライド構造の前記板材がシリコン板であるので、シリコンは熱伝導率が160W/m・Kと優れているため、供給された温度調整用の液体の温度を、チャンバー内に、瞬時に温度を伝えることが可能となる。
上記温度調節流路付きスライド構造は前記板材が、前記板材の表面側から裏面側へ向かって貫通し、前記チャンバーを構成する貫通孔を形成するとともに、該板材の裏面側に前記流路となる溝を形成し、該溝と前記貫通孔を前記シート状ガラスによって閉塞し、前記流路と前記チャンバーとを形成するようにしたので、板材とシート状ガラスの2層構造によって、スライド本体を形成することができる。
上記温度調節流路付きスライド構造は、前記板材と前記シート状ガラスとを陽極接合によって接合したので、接着剤を使用しないため、細胞に悪影響を与えないで観察が可能となる。
上記温度調節流路付きスライド構造は、前記チャンバーに試料及び/又は反応液を供給する流路を、前記スライド本体に形成するようにしたので、スライド本体によって、試料の連続反応が可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
次に、本発明の第1の実施形態による温度調節流路付きスライド構造について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明に係わるスライドを示し、図1のAはその平面図、図1のBはそれを一側面(長辺)方向から見た断面図、図1のCは他側面(短辺)方向から見た断面図である。なお、スライド1の厚さは、本実施形態では、0.77mmと極めて薄いため、図1のB及びCにおけるスライド1の厚さ(高さ)は、実物よりも大幅に厚くしている。なお、スライド1の実寸法については、スライド1の形状を理解しやすくするため、後述する。
【0008】
平面視が長方形のスライド1は、上層側にフィルム状のシリコン板2を配設し、下層側にフィルム状のシート状ガラス3を配設した2層構造である。スライド1の中央部には反応チャンバー5が設けられ、反応チャンバー5の底部には、シリコン板2によって形成される台座6とこの台座6よりも一段低い位置にあり、底部にシート状ガラス3が位置する反応部7が設けられている。反応チャンバー5は、本実施形態では、台座6よりも上の部分は水平方向断面が円形であり、台座6よりも下の部分が略楕円若しくは略菱形形状である。
スライド1の内部には、温度調節用の液体が流れる温度調節流路8が形成されている。温度調節流路8は、スライド1の長手(長辺)方向の一端側から他端側へ向けて反応チャンバー5を囲むように一対の通路8a,8bが形成され、スライド1の中央部では、通路8a,8bの各々が反応チャンバー5に近接するように形成されている。温度調節流路8は、シリコン板2の底面側に流路8a,8bの形状に対応する溝を形成し、シート状ガラス3をシリコン板2に重ね合わせて取付け、溝を閉塞することによって形成される。
【0009】
温度調節流路8の一端側、すなわちスライド1の一端側には、温度調節用の液体が供給される供給口10が形成され、温度調節流路8の他端側には、温度調節用の液体が排水される排水口11が形成されている。供給口10には、シリコン板2の上面から温度調節流路8まで垂下する流通孔8cが形成され、排水口11にはシリコン板2の上面から温度調節流路9まで垂下する流通孔8dが形成されている。なお、供給口10及び排水口11の入口形状は、スライド1の短辺側に長い丸長孔形状に形成されている。
温度調節流路8の高さは、シリコン板2の厚さの1/2以上となるように形成している。
スライド1の供給口10には、図示しない温度切換調節システムが備えられた温度調節流体の貯溜部と接続され、貯溜部から供給口10に温度調節流体が供給され、排水口11から排水される。
【0010】
温度調節流路8によって囲まれるシリコン板1の略菱形状の部分(以下中州部と呼ぶ)12には、スライド1の長辺間の中央部を直線状に通る反応液流路14が形成されている。反応液流路14は、反応室7を挟むようにして中州部12の一端側に反応液の供給口15を設け、他端側に排水口16を設けている。そして、反応液流路14は、一端側に供給口15から反応部7まで延びる通路14aを形成し、他端側に反応部7から排水口16まで延びる通路14bを形成している。
供給口15には、シリコン板2の上面から通路14aまで垂下する流通孔14cを形成し、排水口16にはシリコン板2の上面から通路14bまで垂下する流通孔14dを形成している。
反応液流路14は、シリコン板2の底面(裏面)側に流路14a,14bの形状に対応する溝を形成し、シート状ガラス3をシリコン板2に重ねて溝を閉塞することによって形成される。
【0011】
シリコン板2とシート状ガラス3との接合は、陽極接合によって行う。陽極接合とは可動イオンを含むガラスとシリコンや金属等を密着接合する加工方法であり、ガラスとシリコンを重ね合わせた重合体を加熱してガラス側を軟化させ、同時にシリコン側を陽極として両者の間に高電圧を付加することにより電気的二重層を発生させ、静電引力により基板を接合する方法である。
本実施形態におけるスライド1の実寸を説明すると、スライド1の長辺aは76mm、短辺bは45mmである。スライド1の厚さcは0.77mmであり、このうちシリコン板2の厚さdは0.6mmであり、シート状ガラス3の厚さeは0.17mmである。スライド1の長辺方向における中州部12の最大幅fは55.23mmであり、短辺方向における最大幅gは12mmである。温度調節流路8の通路8a,8bの幅hは4mmであり、高さiは0.4〜0.45mmである。反応チャンバー5の直径jは10.2mmである。
【0012】
このように、スライド1の反応チャンバー5を有する中州部12の部分が比較的大きな温度流通路8に囲まれている。そして、中州部12を形成するシリコン板2の厚さが薄く、さらにシリコンが熱伝導率に優れているので、中州部12及びこれに囲繞されている反応チャンバー5の温度調節を迅速にするように構成している。
したがって、上述したスライド1の実寸は、一例であって、反応チャンバー5を有する部分の温度変化を迅速にできる構造であればよい。
【0013】
次に、本第1の実施形態による温度調節付きスライド構造の作用・効果について説明する。
初めに、スライド1の反応チャンバー5内の反応部7に、供給口15及び反応液供給流路14を介して、反応部7に蛍光プローブやDNA連結酵素が供給される。一方、温度調節流路8では、4℃の冷水が、図示しない温度切換調節システムから供給口15に供給され、通路8a,8bを流れ、排水口11から排出される。したがって、反応部7の温度は4℃になる。これにより蛍光プローブの連結反応が起こる。
次に、反応部7に制限酵素が供給される。温度調節流路8では、37℃の温水が、図示しない温度切換調節システムから供給口15に供給され、反応部の温度が37℃になる、これによりパリンドロームの配列を認識して特定の位置で切断が起こる。この反応の繰り返しにより、迅速に塩基配列の決定が行われる。
【0014】
シリコンは、上述したように、熱伝導に優れており、熱伝導率が160W/m・Kである。
本実施形態では、4℃から37℃に温度を上昇させる時間を、2秒以内に設定し、37℃から4℃に温度を下降させる時間を2秒以内に設定すれば、反応1サイクルを30秒に設定できる。従来のペルチェ素子では、温度変化に数分間を要しており、大幅な時間短縮を図ることができる。牽いては、個人のゲノム解析(塩基配列30億個)の時間の短縮に大きく貢献することができる。
【0015】
このスライド1を用いる温度領域について説明すると、スライド1は、シリコン板2とシート状ガラス3とから形成されているので、異種の2部材の熱膨張率差による損傷が懸念される。
しかしながら、室温時での結晶シリコンの熱膨張係数(CTE)は、3.3ppm/Kであり、ガラスの熱膨張係数は3.5ppm/Kとほぼ両者が同一であるので問題はなく、実用面において、冷却域では液体窒素環境である−196℃に耐え、加温域では400℃にまで耐えうる。
【0016】
従来では、ペルチェ素子型温調器が反応チャンバーを直接温度調節していたため、温調器自体が、観察の障害になっていた。
これに対し、本実施形態のスライド1は、上方が開放されているため、上方からの反応部7の観察が可能であり、これに加えて底板をシート状ガラス3としたことによって、スライド1の底部から、顕微鏡による反応部7の観察が可能になり、液浸(油浸・水浸)レンズの使用ができるようになった。さらに、シート状ガラス3の厚さは0.15〜0.17mmであるので、対物レンズの63〜100倍の高倍率観察が可能になった。したがって、観察物を高解像度で鮮明に観察できる。なお、63〜100倍の液浸レンズによる対物レンズを使用できるシート状ガラス3の厚さは、0.2mm以下である。
【0017】
スライド1にシリコン板2を使用することによるさらなる効果は、シリコンが光を遮断することである。このように、反応部7の周囲は光を遮断するシリコン板2であるので、顕微鏡観察時に鮮明な像を観察できる。また、シリコン板2及びシート状ガラス3を用いることで、耐薬品性に優れている。
【0018】
次に、本発明の第2の実施形態による温度調節流路付きスライド構造について、図3を参照にして説明する。
図3は、本発明に係わるスライド21を示し、図3のAはその平面図、図3のBはそれを一側面方向(長辺方向)から見た断面図である。
図3のAに示すように、平面視が長方形のスライド21は、3層構造であり、上層側にガラス板22を配設し、中間層にシート状ガラス23を配設し、下層側にシリコン板24を配設している。スライド21のほぼ中央部には、ガラス板22を貫通して形成されたチャンバー25が設けられ、チャンバー25の底面は、シート状ガラス23によって形成されている。チャンバー25の形状は、平面視が四角形状であり、上周縁部からチャンバー25の内方側下向きの傾斜面を有している。
スライド21の内部には、温度調節用の液体が流れる温度調節流路27が形成されている。温度調節流路27は、スライド21の長手(長辺)方向の一端側から他端側へ向けて形成され、中央部ではチャンバー25の下を通る。温度調節流路27は、上面がシート状ガラス23で形成され、側面及び底面がシリコン板24で形成されている。温度調節流路27は、シリコン板24の上面側に温度調節流路27の形状に対応する溝を形成し、シート状ガラス23をシリコン板24に重ね合わせて溝を閉塞することによって形成される。
【0019】
温度調節流路27の一端側、すなわちスライド21の一端側のガラス板22には、温度調節用の液体が供給される円形の供給口28が形成され、温度調節流路27の他端側には、温度調節用の液体が排水される排水口29が形成されている。供給口28は、スライド21の短辺側に沿って2個設けられ、温度調節用流路27は、スライド21の一端側で、矩形形状とせず、台形形状に形成され、供給口28から供給された温度調節用の流体が角部に滞留するのを防止している。
供給口28にはガラス板22の上面から温度調節流路8まで垂下する流通孔27aが形成されている。流通孔27aはガラス板22及びシート状ガラス23を貫通して形成されている。排水口29は、温度調節流路27の他端、すなわちスライド21の他端側側面がそのまま排水口29となっている。
温度調節流路27の高さは、シリコン板24の厚さの1/3の長さとなるように形成している。
【0020】
スライド21の供給口28には、図示しない温度切換調節システムが備えられた温度調節流体の貯溜部と接続され、貯溜部から供給口28に温度調節流体が供給され、排水口29から排水される。
スライド21のチャンバー25の下部に位置させて、シリコン板24には、熱電対取付孔30を形成している。
ガラス板22とシート状ガラス23との接合は、上述した陽極接合によって接合され、シート状ガラス23とシリコン板24との接合も陽極接合によって行う。
本実施形態におけるスライド21の実寸を説明すると、スライド21の長辺の長さa1は54mm、短辺の長さb1は25mmである。スライド1の厚さc1は5.7mm、このうちガラス板22の厚さd1は2.5mm、シート状ガラス3の厚さe1は0.2mm、シリコン板24の厚さf1は3mmである。温度調節流路27の長さg1は51mm、幅h1は18mm、高さi1は1mmである。チャンバー25の底面の大きさは、スライド21の長辺方向の長さj1が21mm、チャンバー25のスライド21の短辺方向の長さk1は17mm、供給口28の直径m1は1,5mm、熱電対取付孔30の直径n1は5mmである。
【0021】
次に、本第2の実施形態による温度調節付きスライド構造の作用・効果について説明する。
スライド21の温度調節流路27では温水が、図示しない温度切換調節システムから供給口28に供給され、温度調節流路27を流れ、排水口29から排出される。スライド21のチャンバー25の底面には、DNAプローブが固定されている。
本実施形態では、温度調節流路27の流域がチャンバー25の底部全体に亘っており、温度を昇降させる際に、さらなる時間の短縮が可能であり、温度昇降のロスタイムが無い効果がある。また、チャンバー25の下部に0.2mmの厚さの薄いシート状ガラス23及びシリコン材の薄壁を介して熱電対の取付孔30に熱電対(図示せず)を取付けているので、チャンバー25内部の反応温度を正確にモニターできる効果がある。
本実施形態では、チャンバー25を観察するときに、上方側からCCDカメラで観察する。ガラスとシリコンとの熱膨張率、耐熱効果、及び接着剤による悪影響や不要な化学反応が生じないことについては、上記第1の実施形態と同じである。
シリコンは、上述したように、熱伝導に優れており、熱伝導率が160W/m・Kである。また、温度調節流路8と反応部7との間の距離が短く、中州部12の体積が小さい割に温度調節流路8の体積が大きいため、反応部7は瞬時に95℃まで上昇する。すると2本鎖を維持していたDNAは、迅速に1本鎖に変性する。そして、温度を95℃から再び60℃とし1本鎖DNAを2本鎖DNAにさせてアニーリングを行い、変性、アニーリングを交互に繰り返す。
図2に示すように、本実施形態では、60℃から95℃に温度を上昇させて変性を起こさせるための時間を例えば1秒に設定し、95℃から60℃に温度を下降させてアニーリングを起こさせるまでの時間を3秒に設定することができ、この間の1サイクルは4秒である。従来では、ペルチェ素子によってこれに数分間を要しており、大幅な時間短縮を図ることができる。
【0022】
次に、本発明の第3の実施形態による温度調節付きスライド構造について説明する。
図3は、本発明に係わるスライド31を示し、図3のAはその平面図、図3のBはそれを一側面方向(長手方向)から見た断面図である。
平面視が長方形のスライド31は、上層側にシリコン板32を配設し、下層側にシート状ガラス33を配設した2層構造である。スライド31の中央部には、一対のチャンバー34,35が設けられ、チャンバー34,35の底部には、シート状ガラス33で形成されている。チャンバー34,35は、本実施形態では、水平方向断面が略楕円若しくは略菱形形状である。
スライド31の内部には、温度調節用の液体が流れる温度調節流路36が形成されている。温度調節流路36は、スライド31の長手(長辺)方向の一端側から他端側へ向けて形成され、一対のチャンバー34,35の周囲では、これらのチャンバー34,35を備えた中州39,40を囲むように中央通路36a及び分岐通路36b,36cが形成され、通路36a,36bが一方の反応チャンバー34に近接し、通路36a,36cが他方の反応チャンバー35に近接するように形成されている。温度調節流路36は、シリコン板32の底面に温度調節流路36の形状に対応する溝を形成し、シート状ガラス33をシリコン板32に重ね合わせて取付け、溝を閉塞することによって形成される。
【0023】
温度調節流路36の一端側、すなわちスライド31の一端側には、温度調節用の液体が供給される供給口37が形成され、温度調節流路36の他端側には、温度調節用の液体が排水される排水口38が形成されている。供給口37には、シリコン板32の上面から温度調節流路36まで垂下する流通孔36dが形成され、排水口38にはシリコン板32の上面から温度調節流路36まで垂下する流通孔36eが形成されている。供給口37及び排水口38の形状は、丸孔形状に形成されている。
温度調節流路36の高さは、シリコン板32の厚さの4/5の長さで形成している。
スライド31の供給口37には、図示しない温度調節システムが備えられた温度調節流体の貯溜部と接続され、貯溜部から供給口37に温度調節流体が供給され、排水口38から排水される。
【0024】
シリコン板32とシート状シート状ガラス33との接合は、陽極接合によって行う。
本実施形態におけるスライド31の実寸を説明すると、スライド31の長辺の長さa2は76mm、短辺の長さb2は26mmである。スライド31の厚さc2は0.77mmであり、このうちシリコン板32の厚さd2は5mmであり、シート状ガラス33の厚さe2は0.15である。スライド31の長辺方向における中州部39,40の長さf2は11mmであり、短辺方向における中州部39,40の長さg2は7mmである。温度調節流路8の幅h2は3mmであり、中央通路及び分岐通路の幅も同様に3mmである。温度調節流路の高さi2は4mmである。長さj2は66mmである。反応チャンバー5の中心部の直径k2は4mmである。
【0025】
次に、本第3の実施形態による温度調節付きスライド構造の作用・効果について説明する。
スライド31の温度調節流路38では37℃に設定した温水が、図示しない温度調節システムから供給口37に供給され、温度調節流路27を流れ、排水口38から排出される。スライド31のチャンバー34,35には、細胞を注入している。
本実施形態では、温度調節流路27の流域が中州39,40を介してチャンバー34,35の周囲全体に亘っており、温度を安定して37℃に維持させることができる。37℃にチャンバー34,35を維持させることによって、細胞の連続形態観察が可能となる。
なお、上方からのチャンバー34,35の観察はもちろん、液浸レンズによって、下方から対物レンズによって細胞を観察することも可能である。
本実施形態では、チャンバー34,35を2個配設したが、シリコンが遮光性に優れていることから、観察時に隣接するチャンバー34,35の遮光が可能となるため、隣りのチャンバーの影響を受けることなく、非常にクリアな観察ができる。
【0026】
また、上述したように、スライド31が液体窒素保存にも耐えられるので、細胞を冷凍保存することが可能となり、冷凍保存した細胞等を利用することが可能になる。
本実施形態では、シリコン板32の厚さを5mmと厚くしてチャンバー34,35を深くし、比較的直径(中央の円形部分)を4mmと小さくすることによって、細胞等の乾燥を防ぐことができる。
ガラスとシリコンとの熱膨張率、耐熱効果、及び接着剤による悪影響や不要な化学反応が生じないことについての効果は、上記第1の実施形態と同じである。
【0027】
以上、本発明を実施形態に基づいて添付図面を参照しながら詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく、更に他の変形あるいは変更が可能である。
例えば、上記各実施形態では、シリコンとシート状ガラスとによって、スライド1,21,31を形成したが、シリコンに代えて他の熱伝導率の良い材料を用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【0028】
【図1】本発明の第1の実施形態による温度調節流路付きスライド構造であり、Aはその平面図、BはAのX−X方向の断面図、CはAのY−Y方向の断面図である。
【図2】本発明の温度調節流路付きスライド構造を用いてチャンバーを温度調節した状態と、ペルチェ素子を用いてチャンバーを温度調節したときの時間と温度を示す線図である。
【図3】本発明の第2の実施形態による温度調節流路付きスライド構造(3層構造)であり、Aはその平面図、BはAのW−W方向の断面図である。
【図4】本発明の第3の実施形態による温度調節流路付きスライド構造であり、Aはその平面図、BはAのZ−Z方向の断面図である。
【符号の説明】
【0029】
1,21,31 スライド
2,24,32 シリコン板
3,23,33 シート状ガラス
5 反応チャンバー
7 反応部
8,27,36 温度調節流路
10,15,28,37 供給口
11,16,29,38 排水口
25,31 チャンバー

【特許請求の範囲】
【請求項1】
板材に液体の流路となる溝を形成し、前記板材に前記溝を閉塞するシート状ガラスを固定して前記流路を形成したスライド本体を設け、
該スライド本体には、試料を収容するチャンバーと前記流路に連通する供給口と排水口とを形成し、これらの供給口と排水口との間にて、前記チャンバーに臨むようにして前記流路を配設し、
前記供給口は、温度調整用の流体供給手段へ接続し、前記供給口から排水口に向かって流体を流すようにしたことを特徴とする温度調節流路付きスライド構造。
【請求項2】
前記シート状ガラスの厚さが0.2mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の温度調節流路付きスライド構造。
【請求項3】
前記板材がシリコン板であることを特徴とする請求項1又は2に記載の温度調節流路付きスライド構造。
【請求項4】
前記板材が、前記板材の表面側から裏面側へ向かって貫通し、前記チャンバーを構成する貫通孔を形成するとともに、該板材の裏面側に前記流路となる溝を形成し、
該溝と前記貫通孔を前記シート状ガラスによって閉塞し、前記流路と前記チャンバーとを形成するようにしたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の温度調節流路付きスライド構造。
【請求項5】
前記板材と前記シート状ガラスとを陽極接合によって接合したことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の温度調節流路付きスライド構造。
【請求項6】
前記チャンバーに試料及び/又は反応液を供給する流路を、前記スライド本体に形成するようにしたことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の温度調節流路付きスライド構造。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate


【公開番号】特開2010−81806(P2010−81806A)
【公開日】平成22年4月15日(2010.4.15)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−251118(P2008−251118)
【出願日】平成20年9月29日(2008.9.29)
【出願人】(000133788)株式会社テクニスコ (8)
【出願人】(503318666)日京テクノス株式会社 (19)
【Fターム(参考)】