溶剤ガス処理装置およびその運転方法
【課題】常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法を提供する。
【解決手段】被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体２００と、溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置１００と、を備え、被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室３０１内に供給し、区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給する。
【解決手段】被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体２００と、溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置１００と、を備え、被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室３０１内に供給し、区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、揮発性有機化合物（ＶＯＣ：Ｖｏｌａｔｉｌｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）等の揮発性化合物を含む排気ガス（被処理気体）を浄化処理する溶剤ガス処理装置およびその運転方法並びに溶剤ガス処理装置の処理能力の評価に用いる溶剤ガス発生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、生活環境に近接した中小規模事業場や畜産業からの悪臭苦情が増加し、また、苦情の原因となる悪臭の発生源が多様化する傾向がある。中でも、印刷・塗装工場等から排出されるガスに含まれる揮発性有機化合物（溶剤ガス）は悪臭をもたらすだけでなく、浮遊粒子状物質（ＳＰＭ）や光化学オキシダント等の原因物質でもある。このため、個々の事業所におけるＶＯＣ排出削減に向けた対策が求められている。また、平成１８年に大気汚染防止法が改正され、大規模施設等における揮発性有機化合物の排出基準値等が設定された。
【０００３】
悪臭の脱臭方法として、可燃性を呈する炭化水素などの一般的に揮発性有機化合物と称されるガスを浄化処理する方法は、分解方式（燃焼、触媒分解など）、除去・分離方式（吸着、冷却凝縮などで、回収方式も含む）、生物脱臭方式に大別される。
【０００４】
前記浄化処理方法、その装置においては、従来から一般的に処理装置の入り口側における発生源からの被処理ガス（被処理気体）中の揮発性有機化合物成分および処理装置の出口側における処理ガス中の揮発性有機化合物成分の濃度を濃度計測器で計測し、浄化処理能力の把握および装置の全体的な制御等をおこなっていた。
【０００５】
前記した処理装置の代表的な例として、下記のものがある。揮発性有機化合物の除去状態を正確に把握するため、排ガス中に含まれる揮発性化合物を除去するとともに再生可能な排ガス処理部の処理機能を監視する排ガス処理監視装置であって、前記排ガス（被処理気体）の流路に沿って前記排ガス処理部に流入する前記揮発性化合物の流入濃度と前記排ガス処理部から排出される前記揮発性化合物の排出濃度とを検出する濃度検出手段と、前記流入濃度及び前記排出濃度に基づいて、前記排ガス処理部の使用時の処理機能の低下状態又は再生時の処理機能の回復状態を検知する状態検知手段とを備えた排ガス処理監視装置、排ガス処理装置としたものである（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−３０２３４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記した特許文献１に記載されたものは、揮発性有機化合物成分を含む浄化処理すべき排ガス（被処理気体）の一部および浄化処理後の処理気体を分岐、切換えて、各々の気体の揮発性有機化合物成分の濃度をガスセンサにより計測するものである。
【０００８】
この場合においては、塗装工場や印刷工場、化学工場等の揮発性有機化合物成分含有ガスの発生源から排出される浄化処理すべき排ガス（被処理気体）中の揮発性有機化合物成分の濃度が極めて不安定なものであり、ごく短時間にＶＯＣ成分の濃度が常に変動して一定にならず、さらに様々な揮発性有機化合物成分が混入する恐れがある。
【０００９】
また、揮発性有機化合物成分含有ガスの発生源が停止状態で、揮発性有機化合物成分含有ガスの発生が無いときには、処理装置の処理能力の評価ができない。
【００１０】
このため、短時間に揮発性有機化合物成分の濃度の変動（バラツキ）により常に正確で安定した溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができない。また、被処理気体の量または被処理気体中の揮発性有機化合物成分の濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができない。
【００１１】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の溶剤ガス処理装置は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の溶剤ガス処理装置の運転方法は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置本体に供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法によれば、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
第１の発明は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給することを特徴とする溶剤ガス処理装置としたものである。
【００１６】
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動（バラツキ）が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。さらに、溶剤ガス処理装置本体の希釈溶剤ガスの吸引の停止を含む変動による溶剤ガス発生装置への影響（例えば希釈溶剤ガス量の減少による溶剤ガスの高濃度化等）を防止して、安全性を維持することができる。
【００１７】
第２の発明は、第１の発明において、溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを吐出させた区画室内の圧力を陽圧に維持することを特徴とする溶剤ガス処理装置としたものである。
【００１８】
これによって、溶剤ガス発生装置から区画室内に吐出させた希釈溶剤ガスは、大気開放した部分から区画室の外に流れ、区画室内は常に希釈溶剤ガスで満たされた状態となる。したがって、溶剤ガス処理装置本体に溶剤ガス濃度の安定した希釈溶剤ガスを吸引して供給することができる。
【００１９】
第３の発明は、第１または第２の発明において、溶剤ガスを含まない校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能としたことを特徴とする請求項１に記載の溶剤ガス処理装置。
【００２０】
これによって、溶剤ガス濃度計の計測精度の向上を図ることができる。また、溶剤ガス処理装置本体内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。
【００２１】
第４の発明は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置本体に供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法としたものである。
【００２２】
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動（バラツキ）が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【００２３】
第５の発明は、第４の発明において、溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能とするとともに、校正用気体を溶剤ガス処理装置本体へ供給した後、溶剤ガス発生装置から溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体部の処理能力の評価運転を行うことを特徴とする請求項４に記載の溶剤ガス処理装置の運転方法としたものである。
【００２４】
これによって、溶剤ガス発生装置から供給した溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体部での処理能力の評価運転をより精度良く行うことができる。
【００２５】
以下、本発明の一実施の形態の溶剤ガス処理装置を図１〜図６を参照しながら説明する。図１は、本発明一実施の形態の溶剤ガス処理装置の基本構成図、図２は、溶剤ガス発生装置の溶剤液供給部および気化混合部の基本構成図、図３は、気化混合部のノズル孔閉塞時の構成図、図４（ａ）、（ｂ）は、溶剤ガス発生装置からの溶剤ガスの供給例を示すグラフ、図５は、本発明の他実施例の溶剤ガス処理装置の基本構成図、図６は、本発明の他実施例の溶剤ガス処理装置の基本構成図である。
【００２６】
先ず本発明の一実施の形態の溶剤ガス処理装置の基本的な構成を説明する。溶剤ガス発生装置１００は、主に溶剤液供給部１０１、気化混合部１２０から構成されている。溶剤液供給部１０１は、異なる溶剤液を貯留するタンク１０２、タンク１０３、タンク１０４と、複数の溶剤液を所定の割合で混合して貯留するタンク１０５を備えている。溶剤液としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の揮発性有機化合物が挙げられる。なお、揮発性有機化合物としてこれに限定するものではない。
【００２７】
また、各々のタンク１０２、１０３、１０４、１０５に各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９を接続してある。さらに、各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９には、各々流量計１１０、１１１、１１２、１１３および、開閉弁１１４、１１５、１１６、１１７を配置している。
【００２８】
各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９の他端は、ポンプ（溶剤液供給手段）１１８に接続してある。ポンプ１１８の吐出側には、吐出管１１９が接続され、この吐出管１１９は気化混合部１２０の気化管１２１に接続されている。また、ポンプ１１８の溶剤液の供給量は、溶剤液供給量制御手段１１８ａによりポンプ１１８を制御して調節可能な構成としている。
【００２９】
気化手段である気化混合部１２０は、一方端を開放した気化管１２１、気化管１２１の外周面には電気ヒータ１２２（加熱手段）を装着している。気化管１２１の温度は、気化管１２１の温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段１２２ａにより調節されるようになっている。
【００３０】
気化管１２１の気化通路１２３には、吐出管１１９から流入した溶剤液の均一な流れおよび、浸透性を良好にするため気化促進体１２４を充填している。この気化促進体１２４は、例えば細線からなる金属繊維材で構成している。
【００３１】
気化管１２１の下部には、溶剤液の廃液管１２５を接続し、ここに開閉弁１２６を設けている。
【００３２】
気化管１２１の気化通路１２３と直交する方向に導出管１２７が固定され、導出管１２７の内部は気化通路１２３と導通している。また、気化管１２１には、ノズル孔１２９を形成したノズル体１２８が固定されている。
【００３３】
導出管１２７のノズル体１２８と対向する側には、電磁ソレノイド１３０（駆動手段）を設け、この電磁ソレノイド１３０によって、軸長方向にニードル１３１が移動するように構成されている。ニードル１３１の電磁ソレノイド１３０と対向する側には、テーパ部１３２、ノズル孔１２９に挿入可能な直径とした先端部１３３が形成されている。
【００３４】
また、ノズル体１２８側には、送風筒１３４を設け、ノズル体１２８を囲むように複数の小孔１３５ａを形成した整流板１３５が位置している。送風筒１３４には、ブロアＡ１３６（希釈気体供給手段）の吐出側を接続し、さらに吐出筒１３７を接続してこの吐出筒１３７と開閉弁１３９、溶剤ガス濃度計１４１を配置した希釈溶剤ガス供給ライン１３８を接続している。
【００３５】
さらに、ブロアＡ１３６による空気（希釈気体）の供給量は、ブロアＡ１３６に有するモータの回転数を制御する希釈気体供給量制御手段１３６ａにより調節するように構成している。また、吐出筒１３７の部分に電気ヒータ１４０（加熱手段）を設け、希釈溶剤ガスの温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段１４０ａにより吐出筒１３７内を通過する溶剤ガスと空気が混合した希釈溶剤ガスの温度を調節するようになっている。なお、電気ヒータ１４０を設けたが、希釈溶剤ガスを加熱および冷却する手段を設けてもよい。この場合には希釈溶剤ガスの温度をより幅広く調節することができ、溶剤ガス処理装置本体２００での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
【００３６】
溶剤ガス処理装置本体２００は、本発明において、その溶剤ガス処理方式を限定するものではないが、例として図５および図６に代表的な装置を示す。図６に示す基本構成は、触媒酸化式の溶剤ガス処理装置本体２００であって、ハニカム形状の触媒体２０５、触媒体２０５に近接配置し、これを加熱する電気ヒータ２０６（加熱手段）を備えたものである。この方式では、酸化触媒を用いてより低温で溶剤ガスを分解処理することができる。
【００３７】
また、図５に示す基本構成は、燃焼蓄熱式の溶剤ガス処理装置本体であって、バーナ２５１、バーナ２５１の燃焼により蓄熱するハニカム形状の蓄熱材２５２ａ、２５２ｂ、流路切替部２５３、接続部材２５４ａ、２５４ｂを備えたものである。この方式は、バーナ２５１の燃焼熱、高温の蓄熱材２５２ａ、２５２ｂにより、溶剤ガスを分解処理することができる。
【００３８】
前記希釈溶剤ガス供給ライン１３８の先端は、大気開放部３００を構成する区画室３０１の区画室内部３０１ａに開口しており、溶剤ガス発生装置１００からの希釈溶剤ガスを前記区画室内部３０１ａに吐出させて供給する。
【００３９】
また、区画室３０１には開口３０２を有しており、これによって、区画室内部３０１ａは大気開放状態となっている。したがって溶剤ガス発生装置１００から希釈溶剤ガスを大気開放状態で吐出させているものである。
【００４０】
溶剤ガス処理装置本体２００と区画室３０１の開口３０２部分は、供給ライン４００によって連通し、供給ライン４００の区画室３０１側は、開口３０２を通って区画室内部３０１ａに開口している。
【００４１】
供給ライン４００には、開閉弁４０１、ブロアＢ４０２（吸引手段）、流量計２０１および溶剤ガス濃度計２０２が設けられている。また、ブロアＢ４０２はモータの回転数を制御する吸引量制御手段４０２ａを有している。
【００４２】
また、ブロアＢ４０２と開閉弁４０１の間に位置した供給ライン４００に、開閉弁５０１を設けた被処理気体供給ライン５００が接続されている。
【００４３】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００の出口側には、溶剤ガス濃度計２０３が設けられている。
【００４４】
次に、前記した溶剤ガス処理装置および溶剤ガス発生装置の基本的な運転動作について説明する。先ず、溶剤ガスを含まない所定量の校正気体を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する動作を説明する。この動作時においては、溶剤ガス処理装置本体２００、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２を運転状態とし、開閉弁１３９、５０１を閉、開閉弁４０１を開、気化混合部１２０の運転を停止状態として、ブロアＢ４０２を運転して溶剤ガスを含まない所定量の校正気体（空気）を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する。
【００４５】
校正気体は、区画室３０１の区画室内部３０１ａから溶剤ガスを含まない所定量の校正気体（空気）をブロアＢ４０２によって供給ライン４００に吸引し、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２を通って溶剤ガス処理装置本体２００に入り、出口側の溶剤ガス濃度計２０３を通って排出される。
【００４６】
この校正気体の供給によって、溶剤ガス濃度計２０２、２０３の零点の校正を行うもので、計測精度の向上を図ることができる。また溶剤ガス処理装置本体２００内に滞留する校正気体の供給前における残留溶剤ガスを一旦追い出し出口側の溶剤ガス濃度計２０３の零点の校正をより確実に行うことがでるものである。また、溶剤ガス処理装置本体２００内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置１００からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。
【００４７】
溶剤ガスを含まない校正気体を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する動作を所定時間行い、ブロアＢ４０２の運転停止、開閉弁４０１を閉として校正ステップを終了する。
【００４８】
次に、前記校正ステップを終了した後の溶剤ガス発生装置１００の運転動作を説明する。
【００４９】
溶剤ガス発生装置１００の運転時には、この動作時においては、溶剤ガス処理装置本体２００、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２、ブロア４０２Ｂを運転状態とし、開閉弁１３９、４０１を開、開閉弁５０１を閉とする。先ず、図３に示すように電磁ソレノイド１３０を非通電状態とし、このとき電磁ソレノイド１３０に有するコイルバネ（図示なし）によってニードル１３１はノズル孔１２９側に押し付けられており、先端部１３３がノズル孔１２９内に挿入され、かつテーパ部１３２がノズル孔１２９に当たって前記ノズル孔１２９を閉塞させている。
【００５０】
この状態において、電気ヒータ（加熱手段）１２２に通電し、気化管１２１、気化促進体１２４を例えば１２０度Ｃ程度に予熱する。このとき導出管１２７、ノズル体１２８も気化管１２１からの伝導熱によってほぼ同温度レベルに予熱される。
【００５１】
前記した予熱動作の後、ブロア１３６Ａを駆動し、溶剤ガスを含まない大気中の空気を、送風筒１３４内に供給し、整流板１３５の複数の小孔１３５ａからノズル体１２８の近傍に噴出させる。
【００５２】
ブロアＡ１３６の駆動開始後、図２に示すように電磁ソレノイド１３０を通電状態とし、このとき電磁ソレノイド１３０に有するコイルバネ（図示なし）に抗してニードル１３１を電磁ソレノイド１３０側に吸引し、ノズル孔１２９から先端部１３３を抜くと同時にテーパ部１３２をノズル孔１２９から離し、これによってノズル孔１２９を開く。また開閉弁１３９を開とする。
【００５３】
次に、ポンプ１１８を駆動し、例えば開閉弁１１４を開、他の開閉弁１１５、１１６、１１７を閉として、タンク１０２内の溶剤液を、供給管１０６に吸入し、吐出管１１９を介して気化管１２１の気化通路１２３に所定圧力で供給する。この溶剤液は気化管１２１および気化促進体１２４に接触して瞬時に気化し、溶剤ガスとして導出管１２７内に入りノズル孔１２９より勢い良く噴出する。
【００５４】
ノズル孔１２９より噴出した溶剤ガスは、整流板１３５の複数の小孔１３５ａから噴出させた希釈気体である空気と均一に混合し、希釈溶剤ガスとなって吐出筒１３７、希釈溶剤ガス供給ライン１３８を介して区画室３０１の区画室内部３０１ａに吐出させる。
【００５５】
希釈溶剤ガスは、区画室３０１の区画室内部３０１ａからブロアＢ４０２によって供給ライン４００に吸引し、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２を通って溶剤ガス処理装置本体２００に入り、溶剤ガス処理装置本体２００に供給され浄化処理を行い、出口側の溶剤ガス濃度計２０３を通って排出される。
【００５６】
このとき、溶剤ガス処理装置本体２００の入口側において、流量計２０１による希釈溶剤ガスの流量、および溶剤ガス濃度計２０２よる希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００５７】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００で希釈溶剤ガス中の溶剤ガス成分が浄化処理され排出される。このとき溶剤ガス濃度計２０３による浄化空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００５８】
溶剤ガス発生装置１００から区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された希釈溶剤ガスの量、溶剤ガス濃度等の条件において、溶剤ガス濃度計２０３により計測した溶剤ガス濃度が所定値以下に浄化処理されていることの確認と、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な評価を行うものである。
【００５９】
前記溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な評価を行った後、ポンプ１１８の駆動を停止、電気ヒータ（加熱手段）１２２および電磁ソレノイド１３０を非通電とする。電磁ソレノイド１３０を非通電とすることによって、ニードル１３１はノズル孔１２９側に押し付けられ、先端部１３３がノズル孔１２９内に挿入され、かつテーパ部１３２がノズル孔１２９に当たって前記ノズル孔１２９を閉塞し、溶剤ガスの噴出を瞬時に停止させる。
【００６０】
前記した動作の後、ブロアＡ１３６を所定時間（例えば略３０秒）継続駆動し、大気中の空気を送風筒１３４内に供給し、希釈溶剤ガス供給ライン１３８に至る流路中を、溶剤ガスを含まない空気に置換する。この後、ブロアＡ１３６の駆動を停止し、開閉弁１３９を閉とする。
【００６１】
前記溶剤ガス発生装置１００からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室３０１の区画室内部３０１ａに供給し、前記区画室内部３０１ａに貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給する。
【００６２】
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動（バラツキ）が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【００６３】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００の希釈溶剤ガスの吸引の停止を含む変動による溶剤ガス発生装置１００への影響（例えば希釈溶剤ガス量の減少による溶剤ガスの高濃度化等）を防止して、安全性を維持することができる。
【００６４】
溶剤ガス発生装置１００から希釈溶剤ガスを吐出させた区画室３０１の区画室内部３０１ａの圧力を陽圧に維持するものである。
【００６５】
これによって、溶剤ガス発生装置１００から区画室内部３０１ａに吐出させた希釈溶剤ガスは、大気開放した部分（開口）から区画室の外に流れ、区画室内部３０１ａは常に希釈溶剤ガスで満たされた状態となる。したがって、溶剤ガス処理装置本体２００に溶剤ガス濃度の安定した希釈溶剤ガスを吸引して供給することができる。
【００６６】
次に、開閉弁４０１を閉、開閉弁５０１を開、ブロアＢ４０２を駆動し、溶剤ガスの発生源からの溶剤ガスを含む被処理空気（被処理気体）を、供給ライン４００を介して溶剤ガス処理装置本体２００に供給するように切替える。
【００６７】
これにより溶剤ガスを含む被処理空気の浄化処理を開始するものである。このとき、溶剤ガス処理装置本体２００の入口側において、流量計２０１による被処理空気の流量、および溶剤ガス濃度計２０２よる被処理空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００６８】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００で被処理空気中の溶剤ガス成分が浄化処理され排出される。このとき溶剤ガス濃度計２０３による浄化空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００６９】
溶剤ガスの発生源から溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された被処理空気の量、溶剤ガス濃度等の条件において、溶剤ガス濃度計２０３により計測した溶剤ガス濃度が所定値以下に浄化処理されていることの確認と、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な確認を行うものである。
【００７０】
溶剤ガス処理装置の全体的な制御は、操作部、報知部、制御装置（図示なし）によって校正用気体の供給運転、溶剤ガス発生装置１００の希釈溶剤ガスの供給運転、被処理気体の供給運転の切り替え制御、および溶剤ガス発生装置１００での溶剤液の選択、希釈溶剤ガス中の濃度等の設定、さらに、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力（浄化度等）のデータ処理と記憶、表示、音声等による報知を行うものである。
【００７１】
校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体のゼロ校正運転、溶剤ガス発生装置１００で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体２００の溶剤ガスの処理能力の評価運転は、溶剤ガス処理装置本体２００の運転開始時、運転停止時、メンテナンス時等、適宜行うことができる。
【００７２】
次に、溶剤ガス発生装置１００から溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された希釈溶剤ガスの量、溶剤ガス濃度等の条件の設定方法について説明する。
【００７３】
先ず、複数の溶剤液を選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体２００へ供給方法を説明する。前記したように基本的動作の説明においては、開閉弁１１４を開、他の開閉弁１１５、１１６、１１７を閉として、タンク１０２内の溶剤液を、ポンプ１１８により供給管１０６に吸入し、吐出管１１９を介して気化管１２１の気化通路１２３に所定圧力で供給し、タンク１０２内の溶剤液の溶剤ガスを発生させたが、さらに、タンク１０２、１０３、１０４に各々対応した開閉弁１１４、１１５、１１６のいずれかを開とし、他を閉とすることによって、開としたタンク内の溶剤液をいずれか一つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを、区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００７４】
また、タンク１０２、１０３、１０４に各々対応した開閉弁１１４、１１５、１１６のいずれか二つを開とし、他を閉とすることによって、開とした二つのタンク内の溶剤液をいずれか二つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。さらに、同様の手段により、溶剤液をいずれか三つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを、区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００７５】
さらに、開閉弁１１４、１１５、１１６を、閉を含む流量調節弁とすることで、複数の溶剤液の混合割合を任意に選択して気化させ、任意の混合割合の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを、区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００７６】
また、複数の溶剤液を予め任意に所定の割合で混合して貯留するタンク１０５を備えているが、この混合した溶剤液を選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを、区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００７７】
また、気化させた溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量および／またはポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。
【００７８】
ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量を一定とした場合は、ポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。また、ポンプ１１８による溶剤液の供給量を一定とした場合は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量の調節によって設定することがでる。さらに、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量およびポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。このように希釈溶剤ガスの量、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に変化させることができるものである。
【００７９】
希釈溶剤ガスの量、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量、ポンプ１１８による溶剤液の供給量を変化させる速度を制御することで、任意に設定することができる。さらに、気化させる溶剤液の選択は、開閉弁１１４、１１５、１１６、１１７の開閉制御によってほぼ瞬時に切り替えることができる。
【００８０】
図４に示す（ａ）は、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を無段階に増加または減少方向に変化させて、また、（ｂ）は希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を段階的に変化させて、溶剤ガス処理装置本体２００へ供給する例を示す。
【００８１】
また、溶剤ガスと空気を混合した希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を爆発限界の下限値以下となるように溶剤液の気化手段への供給量または希釈気体の供給量を制御するものである。
【００８２】
さらに、溶剤ガス濃度計２０２が溶剤ガスの爆発限界の下限値以上の濃度を検出したときは、溶剤ガスの爆発限界の下限値以下に溶剤液の気化手段への供給量を減少させるか、または溶剤液の気化手段への供給を停止するようにしてもよい。この場合には安全性をより向上させることができる。
【００８３】
また、希釈気体供給量の検出手段（図示なし）を備え、前記希釈気体供給量検出手段が所定値以下の希釈気体の供給量を検出したときは、溶剤液の気化手段への供給を停止させるようにしてもよい。この場合にはブロアＡ１３６の停止時等置ける安全性をより向上させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
各種溶剤ガスの浄化処理を必要とする広範囲の装置の用途にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明一実施例の溶剤ガス処理装置の基本構成図
【図２】溶剤ガス発生装置の溶剤液供給部および気化混合部の基本構成図
【図３】気化混合部のノズル孔閉塞時の構成図
【図４】（ａ）、（ｂ）溶剤ガス発生装置からの溶剤ガス供給例を示すグラフ
【図５】溶剤ガス処理装置本体の例を示す基本構成図
【図６】溶剤ガス処理装置本体の他の例を基本構成図
【符号の説明】
【００８６】
１００ 溶剤ガス発生装置
１０１ 溶剤液供給部
１０２ タンク
１０３ タンク
１０４ タンク
１０５ タンク
１０６ 供給管
１０７ 供給管
１０８ 供給管
１０９ 供給管
１１０ 流量計
１１１ 流量計
１１２ 流量計
１１３ 流量計
１１４ 開閉弁
１１５ 開閉弁
１１６ 開閉弁
１１７ 開閉弁
１１８ ポンプ（溶剤液供給手段）
１１８ａ 溶剤液供給量制御手段
１１９ 吐出管
１２０ 気化混合部（気化手段）
１２１ 気化管（気化手段）
１２２ 電気ヒータ（加熱手段）
１２２ａ 温度調節手段
１２３ 気化通路
１２４ 気化促進体
１２５ 廃液管
１２６ 開閉弁
１２７ 導出管
１２８ ノズル体
１２９ ノズル孔
１３０ 電磁ソレノイド（駆動手段）
１３１ ニードル
１３２ テーパ部
１３３ 先端部
１３４ 送風筒
１３５ 整流板
１３５ａ 小孔
１３６ ブロアＡ（希釈気体供給手段）
１３６ａ 希釈気体供給量制御手段
１３７ 吐出筒
１３８ 希釈溶剤ガス供給ライン
１３９ 開閉弁
１４０ 電気ヒータ（加熱手段）
１４０ａ 温度調節手段
１４１ 溶剤ガス濃度計
２００ 溶剤ガス処理装置本体
２０１ 流量計
２０２ 溶剤ガス濃度計
２０３ 溶剤ガス濃度計
２０４ 触媒酸化式溶剤ガス処理装置本体
２０５ 触媒体
２０６ 電気ヒータ（加熱手段）
２５０ 燃焼蓄熱式溶剤ガス処理装置本体
２５１ バーナ
２５２ａ 蓄熱材
２５２ｂ 蓄熱材
２５３ 流路切替部
２５４ａ 接続部材
２５４ｂ 接続部材
３００ 大気開放部
３０１ 区画室
３０１ａ 区画室内部
３０２ 開口
４００ 供給ライン
４０１ 開閉弁
４０２ ブロアＢ（吸引手段）
４０２ａ 吸引量制御手段
５００ 被処理気体供給ライン
５０１ 開閉弁
【技術分野】
【０００１】
本発明は、揮発性有機化合物（ＶＯＣ：Ｖｏｌａｔｉｌｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）等の揮発性化合物を含む排気ガス（被処理気体）を浄化処理する溶剤ガス処理装置およびその運転方法並びに溶剤ガス処理装置の処理能力の評価に用いる溶剤ガス発生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、生活環境に近接した中小規模事業場や畜産業からの悪臭苦情が増加し、また、苦情の原因となる悪臭の発生源が多様化する傾向がある。中でも、印刷・塗装工場等から排出されるガスに含まれる揮発性有機化合物（溶剤ガス）は悪臭をもたらすだけでなく、浮遊粒子状物質（ＳＰＭ）や光化学オキシダント等の原因物質でもある。このため、個々の事業所におけるＶＯＣ排出削減に向けた対策が求められている。また、平成１８年に大気汚染防止法が改正され、大規模施設等における揮発性有機化合物の排出基準値等が設定された。
【０００３】
悪臭の脱臭方法として、可燃性を呈する炭化水素などの一般的に揮発性有機化合物と称されるガスを浄化処理する方法は、分解方式（燃焼、触媒分解など）、除去・分離方式（吸着、冷却凝縮などで、回収方式も含む）、生物脱臭方式に大別される。
【０００４】
前記浄化処理方法、その装置においては、従来から一般的に処理装置の入り口側における発生源からの被処理ガス（被処理気体）中の揮発性有機化合物成分および処理装置の出口側における処理ガス中の揮発性有機化合物成分の濃度を濃度計測器で計測し、浄化処理能力の把握および装置の全体的な制御等をおこなっていた。
【０００５】
前記した処理装置の代表的な例として、下記のものがある。揮発性有機化合物の除去状態を正確に把握するため、排ガス中に含まれる揮発性化合物を除去するとともに再生可能な排ガス処理部の処理機能を監視する排ガス処理監視装置であって、前記排ガス（被処理気体）の流路に沿って前記排ガス処理部に流入する前記揮発性化合物の流入濃度と前記排ガス処理部から排出される前記揮発性化合物の排出濃度とを検出する濃度検出手段と、前記流入濃度及び前記排出濃度に基づいて、前記排ガス処理部の使用時の処理機能の低下状態又は再生時の処理機能の回復状態を検知する状態検知手段とを備えた排ガス処理監視装置、排ガス処理装置としたものである（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−３０２３４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記した特許文献１に記載されたものは、揮発性有機化合物成分を含む浄化処理すべき排ガス（被処理気体）の一部および浄化処理後の処理気体を分岐、切換えて、各々の気体の揮発性有機化合物成分の濃度をガスセンサにより計測するものである。
【０００８】
この場合においては、塗装工場や印刷工場、化学工場等の揮発性有機化合物成分含有ガスの発生源から排出される浄化処理すべき排ガス（被処理気体）中の揮発性有機化合物成分の濃度が極めて不安定なものであり、ごく短時間にＶＯＣ成分の濃度が常に変動して一定にならず、さらに様々な揮発性有機化合物成分が混入する恐れがある。
【０００９】
また、揮発性有機化合物成分含有ガスの発生源が停止状態で、揮発性有機化合物成分含有ガスの発生が無いときには、処理装置の処理能力の評価ができない。
【００１０】
このため、短時間に揮発性有機化合物成分の濃度の変動（バラツキ）により常に正確で安定した溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができない。また、被処理気体の量または被処理気体中の揮発性有機化合物成分の濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができない。
【００１１】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の溶剤ガス処理装置は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の溶剤ガス処理装置の運転方法は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置本体に供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法によれば、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
第１の発明は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給することを特徴とする溶剤ガス処理装置としたものである。
【００１６】
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動（バラツキ）が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。さらに、溶剤ガス処理装置本体の希釈溶剤ガスの吸引の停止を含む変動による溶剤ガス発生装置への影響（例えば希釈溶剤ガス量の減少による溶剤ガスの高濃度化等）を防止して、安全性を維持することができる。
【００１７】
第２の発明は、第１の発明において、溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを吐出させた区画室内の圧力を陽圧に維持することを特徴とする溶剤ガス処理装置としたものである。
【００１８】
これによって、溶剤ガス発生装置から区画室内に吐出させた希釈溶剤ガスは、大気開放した部分から区画室の外に流れ、区画室内は常に希釈溶剤ガスで満たされた状態となる。したがって、溶剤ガス処理装置本体に溶剤ガス濃度の安定した希釈溶剤ガスを吸引して供給することができる。
【００１９】
第３の発明は、第１または第２の発明において、溶剤ガスを含まない校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能としたことを特徴とする請求項１に記載の溶剤ガス処理装置。
【００２０】
これによって、溶剤ガス濃度計の計測精度の向上を図ることができる。また、溶剤ガス処理装置本体内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。
【００２１】
第４の発明は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置本体に供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法としたものである。
【００２２】
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動（バラツキ）が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【００２３】
第５の発明は、第４の発明において、溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能とするとともに、校正用気体を溶剤ガス処理装置本体へ供給した後、溶剤ガス発生装置から溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体部の処理能力の評価運転を行うことを特徴とする請求項４に記載の溶剤ガス処理装置の運転方法としたものである。
【００２４】
これによって、溶剤ガス発生装置から供給した溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体部での処理能力の評価運転をより精度良く行うことができる。
【００２５】
以下、本発明の一実施の形態の溶剤ガス処理装置を図１〜図６を参照しながら説明する。図１は、本発明一実施の形態の溶剤ガス処理装置の基本構成図、図２は、溶剤ガス発生装置の溶剤液供給部および気化混合部の基本構成図、図３は、気化混合部のノズル孔閉塞時の構成図、図４（ａ）、（ｂ）は、溶剤ガス発生装置からの溶剤ガスの供給例を示すグラフ、図５は、本発明の他実施例の溶剤ガス処理装置の基本構成図、図６は、本発明の他実施例の溶剤ガス処理装置の基本構成図である。
【００２６】
先ず本発明の一実施の形態の溶剤ガス処理装置の基本的な構成を説明する。溶剤ガス発生装置１００は、主に溶剤液供給部１０１、気化混合部１２０から構成されている。溶剤液供給部１０１は、異なる溶剤液を貯留するタンク１０２、タンク１０３、タンク１０４と、複数の溶剤液を所定の割合で混合して貯留するタンク１０５を備えている。溶剤液としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の揮発性有機化合物が挙げられる。なお、揮発性有機化合物としてこれに限定するものではない。
【００２７】
また、各々のタンク１０２、１０３、１０４、１０５に各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９を接続してある。さらに、各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９には、各々流量計１１０、１１１、１１２、１１３および、開閉弁１１４、１１５、１１６、１１７を配置している。
【００２８】
各々の供給管１０６、１０７、１０８、１０９の他端は、ポンプ（溶剤液供給手段）１１８に接続してある。ポンプ１１８の吐出側には、吐出管１１９が接続され、この吐出管１１９は気化混合部１２０の気化管１２１に接続されている。また、ポンプ１１８の溶剤液の供給量は、溶剤液供給量制御手段１１８ａによりポンプ１１８を制御して調節可能な構成としている。
【００２９】
気化手段である気化混合部１２０は、一方端を開放した気化管１２１、気化管１２１の外周面には電気ヒータ１２２（加熱手段）を装着している。気化管１２１の温度は、気化管１２１の温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段１２２ａにより調節されるようになっている。
【００３０】
気化管１２１の気化通路１２３には、吐出管１１９から流入した溶剤液の均一な流れおよび、浸透性を良好にするため気化促進体１２４を充填している。この気化促進体１２４は、例えば細線からなる金属繊維材で構成している。
【００３１】
気化管１２１の下部には、溶剤液の廃液管１２５を接続し、ここに開閉弁１２６を設けている。
【００３２】
気化管１２１の気化通路１２３と直交する方向に導出管１２７が固定され、導出管１２７の内部は気化通路１２３と導通している。また、気化管１２１には、ノズル孔１２９を形成したノズル体１２８が固定されている。
【００３３】
導出管１２７のノズル体１２８と対向する側には、電磁ソレノイド１３０（駆動手段）を設け、この電磁ソレノイド１３０によって、軸長方向にニードル１３１が移動するように構成されている。ニードル１３１の電磁ソレノイド１３０と対向する側には、テーパ部１３２、ノズル孔１２９に挿入可能な直径とした先端部１３３が形成されている。
【００３４】
また、ノズル体１２８側には、送風筒１３４を設け、ノズル体１２８を囲むように複数の小孔１３５ａを形成した整流板１３５が位置している。送風筒１３４には、ブロアＡ１３６（希釈気体供給手段）の吐出側を接続し、さらに吐出筒１３７を接続してこの吐出筒１３７と開閉弁１３９、溶剤ガス濃度計１４１を配置した希釈溶剤ガス供給ライン１３８を接続している。
【００３５】
さらに、ブロアＡ１３６による空気（希釈気体）の供給量は、ブロアＡ１３６に有するモータの回転数を制御する希釈気体供給量制御手段１３６ａにより調節するように構成している。また、吐出筒１３７の部分に電気ヒータ１４０（加熱手段）を設け、希釈溶剤ガスの温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段１４０ａにより吐出筒１３７内を通過する溶剤ガスと空気が混合した希釈溶剤ガスの温度を調節するようになっている。なお、電気ヒータ１４０を設けたが、希釈溶剤ガスを加熱および冷却する手段を設けてもよい。この場合には希釈溶剤ガスの温度をより幅広く調節することができ、溶剤ガス処理装置本体２００での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
【００３６】
溶剤ガス処理装置本体２００は、本発明において、その溶剤ガス処理方式を限定するものではないが、例として図５および図６に代表的な装置を示す。図６に示す基本構成は、触媒酸化式の溶剤ガス処理装置本体２００であって、ハニカム形状の触媒体２０５、触媒体２０５に近接配置し、これを加熱する電気ヒータ２０６（加熱手段）を備えたものである。この方式では、酸化触媒を用いてより低温で溶剤ガスを分解処理することができる。
【００３７】
また、図５に示す基本構成は、燃焼蓄熱式の溶剤ガス処理装置本体であって、バーナ２５１、バーナ２５１の燃焼により蓄熱するハニカム形状の蓄熱材２５２ａ、２５２ｂ、流路切替部２５３、接続部材２５４ａ、２５４ｂを備えたものである。この方式は、バーナ２５１の燃焼熱、高温の蓄熱材２５２ａ、２５２ｂにより、溶剤ガスを分解処理することができる。
【００３８】
前記希釈溶剤ガス供給ライン１３８の先端は、大気開放部３００を構成する区画室３０１の区画室内部３０１ａに開口しており、溶剤ガス発生装置１００からの希釈溶剤ガスを前記区画室内部３０１ａに吐出させて供給する。
【００３９】
また、区画室３０１には開口３０２を有しており、これによって、区画室内部３０１ａは大気開放状態となっている。したがって溶剤ガス発生装置１００から希釈溶剤ガスを大気開放状態で吐出させているものである。
【００４０】
溶剤ガス処理装置本体２００と区画室３０１の開口３０２部分は、供給ライン４００によって連通し、供給ライン４００の区画室３０１側は、開口３０２を通って区画室内部３０１ａに開口している。
【００４１】
供給ライン４００には、開閉弁４０１、ブロアＢ４０２（吸引手段）、流量計２０１および溶剤ガス濃度計２０２が設けられている。また、ブロアＢ４０２はモータの回転数を制御する吸引量制御手段４０２ａを有している。
【００４２】
また、ブロアＢ４０２と開閉弁４０１の間に位置した供給ライン４００に、開閉弁５０１を設けた被処理気体供給ライン５００が接続されている。
【００４３】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００の出口側には、溶剤ガス濃度計２０３が設けられている。
【００４４】
次に、前記した溶剤ガス処理装置および溶剤ガス発生装置の基本的な運転動作について説明する。先ず、溶剤ガスを含まない所定量の校正気体を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する動作を説明する。この動作時においては、溶剤ガス処理装置本体２００、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２を運転状態とし、開閉弁１３９、５０１を閉、開閉弁４０１を開、気化混合部１２０の運転を停止状態として、ブロアＢ４０２を運転して溶剤ガスを含まない所定量の校正気体（空気）を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する。
【００４５】
校正気体は、区画室３０１の区画室内部３０１ａから溶剤ガスを含まない所定量の校正気体（空気）をブロアＢ４０２によって供給ライン４００に吸引し、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２を通って溶剤ガス処理装置本体２００に入り、出口側の溶剤ガス濃度計２０３を通って排出される。
【００４６】
この校正気体の供給によって、溶剤ガス濃度計２０２、２０３の零点の校正を行うもので、計測精度の向上を図ることができる。また溶剤ガス処理装置本体２００内に滞留する校正気体の供給前における残留溶剤ガスを一旦追い出し出口側の溶剤ガス濃度計２０３の零点の校正をより確実に行うことがでるものである。また、溶剤ガス処理装置本体２００内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置１００からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。
【００４７】
溶剤ガスを含まない校正気体を溶剤ガス処理装置本体２００に供給する動作を所定時間行い、ブロアＢ４０２の運転停止、開閉弁４０１を閉として校正ステップを終了する。
【００４８】
次に、前記校正ステップを終了した後の溶剤ガス発生装置１００の運転動作を説明する。
【００４９】
溶剤ガス発生装置１００の運転時には、この動作時においては、溶剤ガス処理装置本体２００、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２、ブロア４０２Ｂを運転状態とし、開閉弁１３９、４０１を開、開閉弁５０１を閉とする。先ず、図３に示すように電磁ソレノイド１３０を非通電状態とし、このとき電磁ソレノイド１３０に有するコイルバネ（図示なし）によってニードル１３１はノズル孔１２９側に押し付けられており、先端部１３３がノズル孔１２９内に挿入され、かつテーパ部１３２がノズル孔１２９に当たって前記ノズル孔１２９を閉塞させている。
【００５０】
この状態において、電気ヒータ（加熱手段）１２２に通電し、気化管１２１、気化促進体１２４を例えば１２０度Ｃ程度に予熱する。このとき導出管１２７、ノズル体１２８も気化管１２１からの伝導熱によってほぼ同温度レベルに予熱される。
【００５１】
前記した予熱動作の後、ブロア１３６Ａを駆動し、溶剤ガスを含まない大気中の空気を、送風筒１３４内に供給し、整流板１３５の複数の小孔１３５ａからノズル体１２８の近傍に噴出させる。
【００５２】
ブロアＡ１３６の駆動開始後、図２に示すように電磁ソレノイド１３０を通電状態とし、このとき電磁ソレノイド１３０に有するコイルバネ（図示なし）に抗してニードル１３１を電磁ソレノイド１３０側に吸引し、ノズル孔１２９から先端部１３３を抜くと同時にテーパ部１３２をノズル孔１２９から離し、これによってノズル孔１２９を開く。また開閉弁１３９を開とする。
【００５３】
次に、ポンプ１１８を駆動し、例えば開閉弁１１４を開、他の開閉弁１１５、１１６、１１７を閉として、タンク１０２内の溶剤液を、供給管１０６に吸入し、吐出管１１９を介して気化管１２１の気化通路１２３に所定圧力で供給する。この溶剤液は気化管１２１および気化促進体１２４に接触して瞬時に気化し、溶剤ガスとして導出管１２７内に入りノズル孔１２９より勢い良く噴出する。
【００５４】
ノズル孔１２９より噴出した溶剤ガスは、整流板１３５の複数の小孔１３５ａから噴出させた希釈気体である空気と均一に混合し、希釈溶剤ガスとなって吐出筒１３７、希釈溶剤ガス供給ライン１３８を介して区画室３０１の区画室内部３０１ａに吐出させる。
【００５５】
希釈溶剤ガスは、区画室３０１の区画室内部３０１ａからブロアＢ４０２によって供給ライン４００に吸引し、流量計２０１、溶剤ガス濃度計２０２を通って溶剤ガス処理装置本体２００に入り、溶剤ガス処理装置本体２００に供給され浄化処理を行い、出口側の溶剤ガス濃度計２０３を通って排出される。
【００５６】
このとき、溶剤ガス処理装置本体２００の入口側において、流量計２０１による希釈溶剤ガスの流量、および溶剤ガス濃度計２０２よる希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００５７】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００で希釈溶剤ガス中の溶剤ガス成分が浄化処理され排出される。このとき溶剤ガス濃度計２０３による浄化空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００５８】
溶剤ガス発生装置１００から区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された希釈溶剤ガスの量、溶剤ガス濃度等の条件において、溶剤ガス濃度計２０３により計測した溶剤ガス濃度が所定値以下に浄化処理されていることの確認と、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な評価を行うものである。
【００５９】
前記溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な評価を行った後、ポンプ１１８の駆動を停止、電気ヒータ（加熱手段）１２２および電磁ソレノイド１３０を非通電とする。電磁ソレノイド１３０を非通電とすることによって、ニードル１３１はノズル孔１２９側に押し付けられ、先端部１３３がノズル孔１２９内に挿入され、かつテーパ部１３２がノズル孔１２９に当たって前記ノズル孔１２９を閉塞し、溶剤ガスの噴出を瞬時に停止させる。
【００６０】
前記した動作の後、ブロアＡ１３６を所定時間（例えば略３０秒）継続駆動し、大気中の空気を送風筒１３４内に供給し、希釈溶剤ガス供給ライン１３８に至る流路中を、溶剤ガスを含まない空気に置換する。この後、ブロアＡ１３６の駆動を停止し、開閉弁１３９を閉とする。
【００６１】
前記溶剤ガス発生装置１００からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室３０１の区画室内部３０１ａに供給し、前記区画室内部３０１ａに貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給する。
【００６２】
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動（バラツキ）が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。
【００６３】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００の希釈溶剤ガスの吸引の停止を含む変動による溶剤ガス発生装置１００への影響（例えば希釈溶剤ガス量の減少による溶剤ガスの高濃度化等）を防止して、安全性を維持することができる。
【００６４】
溶剤ガス発生装置１００から希釈溶剤ガスを吐出させた区画室３０１の区画室内部３０１ａの圧力を陽圧に維持するものである。
【００６５】
これによって、溶剤ガス発生装置１００から区画室内部３０１ａに吐出させた希釈溶剤ガスは、大気開放した部分（開口）から区画室の外に流れ、区画室内部３０１ａは常に希釈溶剤ガスで満たされた状態となる。したがって、溶剤ガス処理装置本体２００に溶剤ガス濃度の安定した希釈溶剤ガスを吸引して供給することができる。
【００６６】
次に、開閉弁４０１を閉、開閉弁５０１を開、ブロアＢ４０２を駆動し、溶剤ガスの発生源からの溶剤ガスを含む被処理空気（被処理気体）を、供給ライン４００を介して溶剤ガス処理装置本体２００に供給するように切替える。
【００６７】
これにより溶剤ガスを含む被処理空気の浄化処理を開始するものである。このとき、溶剤ガス処理装置本体２００の入口側において、流量計２０１による被処理空気の流量、および溶剤ガス濃度計２０２よる被処理空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００６８】
さらに、溶剤ガス処理装置本体２００で被処理空気中の溶剤ガス成分が浄化処理され排出される。このとき溶剤ガス濃度計２０３による浄化空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
【００６９】
溶剤ガスの発生源から溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された被処理空気の量、溶剤ガス濃度等の条件において、溶剤ガス濃度計２０３により計測した溶剤ガス濃度が所定値以下に浄化処理されていることの確認と、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力の基本的な確認を行うものである。
【００７０】
溶剤ガス処理装置の全体的な制御は、操作部、報知部、制御装置（図示なし）によって校正用気体の供給運転、溶剤ガス発生装置１００の希釈溶剤ガスの供給運転、被処理気体の供給運転の切り替え制御、および溶剤ガス発生装置１００での溶剤液の選択、希釈溶剤ガス中の濃度等の設定、さらに、溶剤ガス濃度計２０２と溶剤ガス濃度計２０３の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体２００の処理能力（浄化度等）のデータ処理と記憶、表示、音声等による報知を行うものである。
【００７１】
校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体のゼロ校正運転、溶剤ガス発生装置１００で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体２００の溶剤ガスの処理能力の評価運転は、溶剤ガス処理装置本体２００の運転開始時、運転停止時、メンテナンス時等、適宜行うことができる。
【００７２】
次に、溶剤ガス発生装置１００から溶剤ガス処理装置本体２００へ供給された希釈溶剤ガスの量、溶剤ガス濃度等の条件の設定方法について説明する。
【００７３】
先ず、複数の溶剤液を選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体２００へ供給方法を説明する。前記したように基本的動作の説明においては、開閉弁１１４を開、他の開閉弁１１５、１１６、１１７を閉として、タンク１０２内の溶剤液を、ポンプ１１８により供給管１０６に吸入し、吐出管１１９を介して気化管１２１の気化通路１２３に所定圧力で供給し、タンク１０２内の溶剤液の溶剤ガスを発生させたが、さらに、タンク１０２、１０３、１０４に各々対応した開閉弁１１４、１１５、１１６のいずれかを開とし、他を閉とすることによって、開としたタンク内の溶剤液をいずれか一つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを、区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００７４】
また、タンク１０２、１０３、１０４に各々対応した開閉弁１１４、１１５、１１６のいずれか二つを開とし、他を閉とすることによって、開とした二つのタンク内の溶剤液をいずれか二つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。さらに、同様の手段により、溶剤液をいずれか三つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを、区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００７５】
さらに、開閉弁１１４、１１５、１１６を、閉を含む流量調節弁とすることで、複数の溶剤液の混合割合を任意に選択して気化させ、任意の混合割合の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを、区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００７６】
また、複数の溶剤液を予め任意に所定の割合で混合して貯留するタンク１０５を備えているが、この混合した溶剤液を選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを、区画室３０１の区画室内部３０１ａを介して溶剤ガス処理装置本体２００へ供給することができる。
【００７７】
また、気化させた溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量および／またはポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。
【００７８】
ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量を一定とした場合は、ポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。また、ポンプ１１８による溶剤液の供給量を一定とした場合は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量の調節によって設定することがでる。さらに、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量およびポンプ１１８による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。このように希釈溶剤ガスの量、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に変化させることができるものである。
【００７９】
希釈溶剤ガスの量、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度は、ブロアＡ１３６による希釈気体の供給量、ポンプ１１８による溶剤液の供給量を変化させる速度を制御することで、任意に設定することができる。さらに、気化させる溶剤液の選択は、開閉弁１１４、１１５、１１６、１１７の開閉制御によってほぼ瞬時に切り替えることができる。
【００８０】
図４に示す（ａ）は、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を無段階に増加または減少方向に変化させて、また、（ｂ）は希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を段階的に変化させて、溶剤ガス処理装置本体２００へ供給する例を示す。
【００８１】
また、溶剤ガスと空気を混合した希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を爆発限界の下限値以下となるように溶剤液の気化手段への供給量または希釈気体の供給量を制御するものである。
【００８２】
さらに、溶剤ガス濃度計２０２が溶剤ガスの爆発限界の下限値以上の濃度を検出したときは、溶剤ガスの爆発限界の下限値以下に溶剤液の気化手段への供給量を減少させるか、または溶剤液の気化手段への供給を停止するようにしてもよい。この場合には安全性をより向上させることができる。
【００８３】
また、希釈気体供給量の検出手段（図示なし）を備え、前記希釈気体供給量検出手段が所定値以下の希釈気体の供給量を検出したときは、溶剤液の気化手段への供給を停止させるようにしてもよい。この場合にはブロアＡ１３６の停止時等置ける安全性をより向上させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
各種溶剤ガスの浄化処理を必要とする広範囲の装置の用途にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明一実施例の溶剤ガス処理装置の基本構成図
【図２】溶剤ガス発生装置の溶剤液供給部および気化混合部の基本構成図
【図３】気化混合部のノズル孔閉塞時の構成図
【図４】（ａ）、（ｂ）溶剤ガス発生装置からの溶剤ガス供給例を示すグラフ
【図５】溶剤ガス処理装置本体の例を示す基本構成図
【図６】溶剤ガス処理装置本体の他の例を基本構成図
【符号の説明】
【００８６】
１００ 溶剤ガス発生装置
１０１ 溶剤液供給部
１０２ タンク
１０３ タンク
１０４ タンク
１０５ タンク
１０６ 供給管
１０７ 供給管
１０８ 供給管
１０９ 供給管
１１０ 流量計
１１１ 流量計
１１２ 流量計
１１３ 流量計
１１４ 開閉弁
１１５ 開閉弁
１１６ 開閉弁
１１７ 開閉弁
１１８ ポンプ（溶剤液供給手段）
１１８ａ 溶剤液供給量制御手段
１１９ 吐出管
１２０ 気化混合部（気化手段）
１２１ 気化管（気化手段）
１２２ 電気ヒータ（加熱手段）
１２２ａ 温度調節手段
１２３ 気化通路
１２４ 気化促進体
１２５ 廃液管
１２６ 開閉弁
１２７ 導出管
１２８ ノズル体
１２９ ノズル孔
１３０ 電磁ソレノイド（駆動手段）
１３１ ニードル
１３２ テーパ部
１３３ 先端部
１３４ 送風筒
１３５ 整流板
１３５ａ 小孔
１３６ ブロアＡ（希釈気体供給手段）
１３６ａ 希釈気体供給量制御手段
１３７ 吐出筒
１３８ 希釈溶剤ガス供給ライン
１３９ 開閉弁
１４０ 電気ヒータ（加熱手段）
１４０ａ 温度調節手段
１４１ 溶剤ガス濃度計
２００ 溶剤ガス処理装置本体
２０１ 流量計
２０２ 溶剤ガス濃度計
２０３ 溶剤ガス濃度計
２０４ 触媒酸化式溶剤ガス処理装置本体
２０５ 触媒体
２０６ 電気ヒータ（加熱手段）
２５０ 燃焼蓄熱式溶剤ガス処理装置本体
２５１ バーナ
２５２ａ 蓄熱材
２５２ｂ 蓄熱材
２５３ 流路切替部
２５４ａ 接続部材
２５４ｂ 接続部材
３００ 大気開放部
３０１ 区画室
３０１ａ 区画室内部
３０２ 開口
４００ 供給ライン
４０１ 開閉弁
４０２ ブロアＢ（吸引手段）
４０２ａ 吸引量制御手段
５００ 被処理気体供給ライン
５０１ 開閉弁
【特許請求の範囲】
【請求項１】
揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給することを特徴とする溶剤ガス処理装置。
【請求項２】
溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを吐出させた区画室内の圧力を陽圧に維持することを特徴とする請求項１に記載の溶剤ガス処理装置。
【請求項３】
溶剤ガスを含まない校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能としたことを特徴とする請求項１または２に記載の溶剤ガス処理装置。
【請求項４】
揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置本体に供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法。
【請求項５】
溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能とするとともに、校正用気体を溶剤ガス処理装置本体へ供給した後、溶剤ガス発生装置から溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体部の処理能力の評価運転を行うことを特徴とする請求項４に記載の溶剤ガス処理装置の運転方法。
【請求項１】
揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給することを特徴とする溶剤ガス処理装置。
【請求項２】
溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを吐出させた区画室内の圧力を陽圧に維持することを特徴とする請求項１に記載の溶剤ガス処理装置。
【請求項３】
溶剤ガスを含まない校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能としたことを特徴とする請求項１または２に記載の溶剤ガス処理装置。
【請求項４】
揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置本体に供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法。
【請求項５】
溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能とするとともに、校正用気体を溶剤ガス処理装置本体へ供給した後、溶剤ガス発生装置から溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体部の処理能力の評価運転を行うことを特徴とする請求項４に記載の溶剤ガス処理装置の運転方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−２４７０２０（Ｐ２０１０−２４７０２０Ａ）
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−９６８６５（Ｐ２００９−９６８６５）
【出願日】平成２１年４月１３日（２００９．４．１３）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年４月１３日（２００９．４．１３）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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