滅菌装置を有するクライオスタット
【課題】稼動中であっても内部の完全な滅菌の実行が可能なクライオスタット。
【解決手段】ナイフホルダを有するミクロトームを収容するためのチャンバと、該チャンバを閉鎖する蓋部材と、制御回路に配された滅菌装置とを含んで構成されたクライオスタットが提供される。このクライオスタットにおいて、前記滅菌装置はＵＶ光源を有し、該ＵＶ光源はＵＶ−Ｃ光源として構成されかつ前記チャンバの内部に配設される。
【解決手段】ナイフホルダを有するミクロトームを収容するためのチャンバと、該チャンバを閉鎖する蓋部材と、制御回路に配された滅菌装置とを含んで構成されたクライオスタットが提供される。このクライオスタットにおいて、前記滅菌装置はＵＶ光源を有し、該ＵＶ光源はＵＶ−Ｃ光源として構成されかつ前記チャンバの内部に配設される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クライオスタットに関し、とりわけナイフホルダを有するミクロトームを収容するためのチャンバと、該チャンバを閉鎖する蓋部材と、制御回路に配された滅菌装置とを含んで構成されたクライオスタットに関する。
【背景技術】
【０００２】
クライオスタット・ミクロトームは、切断されるべき対象物を予め設定可能な所定の温度に冷却することができるように設計されている。この温度は、通常、−１０℃〜−５０℃である。温度の恒常性を保証するために、ミクロトームは大掛かりに構成されたカプセル室に配設される。このカプセル室の内部には、ミクロトームを収容するための特殊鋼製容器が含まれる。クライオスタットは、更に、閉鎖可能な透視ディスクないし蓋を有するが、利用者は、この閉鎖可能な透視ディスクないし蓋を介して特殊鋼製容器ないし内部空間にアクセスする。
【０００３】
ミクロトームの作動中、切断屑も必然的に生じるが、この切断屑は時々クライオスタットから取り除かなければならない。この生成する切断屑は生物学的又は化学的に不利に作用することもあり得るので、クライオスタットの清掃の際にはハウジング内部の滅菌も実行される。
【特許文献１】ＤＥ ８８ １４ ２８４Ｕ１
【特許文献２】ＤＥ １０３ ２４ ６４６Ａ１
【特許文献３】ＤＥ １０３ ５２ ５７５Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような清掃ないし滅菌の際には、クライオスタットは除霜（霜取り）が行われ、清掃流体及び／又は滅菌流体は噴霧装置によってクライオスタットの内部空間に撒布される。この手作業による方法は、確実であることは確かだが、いうまでもなく著しく時間がかかる。
【０００５】
滅菌剤で充填された切断屑受槽を有するクライオスタットについて記載した文献は存在する（上掲特許文献１参照）。しかしながら、この切断屑受槽はクライオスタット内部の小さい領域にわたってしか延在していないため、清掃及び／又は滅菌を完全に実行することは不可能である。
【０００６】
本出願（日本国出願）の基礎をなす（第１国）出願（ドイツ国出願）の出願時には未公表の文献（上掲特許文献２参照）には、クライオスタットのための自動滅菌システムが記載されている。このクライオスタットには、ポンプと結合した複数の噴霧ノズルであって、当該ノズルを介して清掃ないし洗浄流体がクライオスタットの内部においてプログラム制御されて撒布されるようにされたノズルが配設されている。
【０００７】
この種の自動清掃ないし滅菌の場合もクライオスタット内の温度は上昇する。このため、クライオスタットは、相当長い時間の間、次の試料の処理に使用することができない。作動温度までの迅速な冷却従って使用可能（準備）状態の早急な確立を保証するには、冷却装置のエネルギ消費量を大きくする必要が生じることもある。
【０００８】
本出願（日本国出願）の基礎をなす（第１国）出願（ドイツ国出願）の出願時には未公表の文献（上掲特許文献３参照）には、内部チャンバを有するクライオスタットについて記載されている。このクライオスタットでは、内部チャンバは可溶性銀イオンを含むコーティングを有するか又は内部チャンバは可溶性銀イオンがドープされた材料から製造される。この内部チャンバの表面の抗菌作用は、流入する室空気の凝縮（液化）に依存する。最良の抗菌作用は、この場合も、クライオスタットが霜取りされかつクライオスタットが最早作動可能（準備）状態にない場合に達成される。
【０００９】
それゆえ、本発明の課題は、クライオスタット内部における清掃及び／又は滅菌過程を改善し、作動中であっても完全な滅菌の実行を可能にすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために、本発明の一視点により、ナイフホルダを有するミクロトームを収容するためのチャンバと、該チャンバを閉鎖する蓋部材と、制御回路に配された滅菌装置とを含んで構成されたクライオスタットが提供される。このクライオスタットにおいて、前記滅菌装置はＵＶ光源を有し、該ＵＶ光源はＵＶ−Ｃ光源として構成されかつ前記チャンバの内部に配設されることを特徴とする（形態１・基本構成）。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の独立請求項１により、上記課題に対応する効果が達成される。即ち、稼動中であってもクライオスタット内部の完全な滅菌の実行することが可能となる。
更に、各従属請求項により、それぞれ付加的な効果が達成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を、上記基本構成を形態１として示すが、形態２以下は従属請求項の対象でもある。
（形態１） 上掲。
（形態２） 上記形態１のクライオスタットにおいて、前記ＵＶ−Ｃ光源は、（前記チャンバ内に収容された場合に）ミクロトームのナイフホルダ（が位置すべき位置）の直上に配置されること、及び該ＵＶ−Ｃ光源によって放射される波長はλ＝２５４ｎｍであることが好ましい。
（形態３） 上記形態１のクライオスタットにおいて、前記閉鎖可能な蓋部材には安全スイッチが配され、前記制御回路は前記ＵＶ−Ｃ光源及び前記安全スイッチと電気的に結合され、前記ＵＶ−Ｃ光源は前記安全スイッチが反応ないし応答（Ansprechen）したとき前記制御回路を介して不活性化されることが好ましい。
（形態４） 上記形態１のクライオスタットにおいて、前記制御回路は自動的時間制御器（タイマ）を有することが好ましい。
（形態５） 上記形態１のクライオスタットにおいて、前記チャンバ又はその（１又は２以上の）部分は、二酸化チタン・ナノパーティクルが包埋されているか（eingebettet）及び／又は銀イオン・ナノパーティクルを含むコーティングを有する（二酸化チタン・ナノパーティクル、又は二酸化チタン・ナノパーティクル及び銀イオン・ナノパーティクルを含有する）ことが好ましい。
【００１３】
本発明の特徴の１つは、滅菌を行うために、クライオスタットにＵＶ光源を配したことである。このＵＶ光源は、任意の時点において、オン・オフすることができる。その際、クライオスタットは、除霜（霜取り）する必要はない。ＵＶ光線によって、短時間で真菌類、酵母、細菌等に対するクライオスタットの完全な滅菌を実行することが保証される。
【００１４】
本発明の一実施形態では、ＵＶ光源はＵＶ−Ｃ光源として構成され、付加的にクライオスタットの内部に配設される。ＵＶ−Ｃ光源を使用することにより、クライオスタットの迅速（凡そ３０秒）かつ確実な滅菌が達成される。その際、光源は、クライオスタットの内部に配されるか組み込まれると有利である。ＵＶ−Ｃ光源は、（クライオスタット内にミクロトームが配設されたとした場合に、ミクロトームの）切断ナイフないし試料ホルダ（が位置すべき位置）の直上（直ぐ上方）に配置されると有利であることが明らかとなっている。というのは、そのような領域は、最も汚染された材料が生成するからである。
【００１５】
本発明の一実施形態において、とりわけ効果的なＵＶ−Ｃ光源は、λ＝２５４ｎｍの波長の光を放射する。この光線はＸ線（の領域）に近接するため、この光源の作動に際しては、種々の安全性の側面が顧慮される必要がある。クライオスタットの内部に光源を一体的に組み込みかつクライオスタットの閉鎖可能な蓋部材に安全スイッチを設けることにより、蓋部材が閉じている場合にのみ光源が作動可能であること及び蓋部材が開かれたときには直ちに制御回路を介して光源がオフされることが保証される。
【００１６】
本発明の更なる一実施形態では、制御回路には自動時間制御器ないしタイマ（Zeitsteuerung）が備えられる。このため、予め設定可能な（任意の）時点における完全自動的滅菌（処理）を実行することができる。本発明では、クライオスタットは、滅菌過程の間、除霜（霜取り）する必要はないので、滅菌を任意の時点において中断し、（直ちに）凍結試料の切断を実行することができる。
【００１７】
本発明の一展開形態では、（クライオスタット）チャンバ又はクライオスタットチャンバの部分（複数）に、二酸化チタン・ナノパーティクルを含有するコーティングないし被膜が配される。この種のコーティングは、ＵＶ光による光触媒（作用）によって水（分子）を開裂してＯＨラジカルを生成し、かつ同時に空気中の酸素によって過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）を生成する性質を有する。この２つの物質は、クライオスタットの滅菌に役立つ。
【００１８】
本発明の更なる一実施形態では、コーティングは、付加的に、銀イオン・ナノパーティクルを含有する。このため、水との相互作用により、クライオスタットの滅菌に寄与する銀イオン（Ａｇ＋）の遊離が実現される。
【００１９】
以下に、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例は、発明の理解の容易化のためのものに過ぎず、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲において当業者により実施可能な付加・置換等の適用を排除することは意図しない。また、特許請求の範囲に付した図面参照符号も発明の理解の容易化のためのものに過ぎず、本発明を図示の態様に限定することは意図しない。なお、これらの点に関しては補正・訂正後においても同様である。
【実施例】
【００２０】
図１は、本発明のクライオスタットの一例の外観を示す。このクライオスタット１は、ハウジング１０と、ハウジング１０に配設されたチャンバ２とを含んで構成される。チャンバ２は、切断ナイフを有するミクロトーム（不図示）を収容する。チャンバ２の内部には、ＵＶ−Ｃ光源５が固定的に配設され、電気的伝送路８を介して制御回路４と結合される。ハウジング１０には、チャンバ２を閉鎖する蓋部材３が取り付けられる。ハウジング１０と蓋部材３との間には、伝送路９を介して制御回路４と電気的に結合される安全スイッチ６が設けられる。更に、蓋部材３には、電気的に作動するロック装置１２が配される。
【００２１】
図２は、その内部に配設されるＵＶ−Ｃ光源５と冷却装置１１とを有するチャンバ２を示す。チャンバ２は、その内側（の面）に、コーティング７を有する。コーティング７は、二酸化チタン・ナノパーティクルと、付加的に銀イオン・ナノパーティクルとを含有する。
【００２２】
チャンバ２の滅菌のために、ＵＶ−Ｃ光源５は、制御回路４に組み込まれたタイマ（タイムスイッチ）によって、手動的又は自動的に、始動され予め設定可能な時間の間作動される。滅菌の間、蓋部材３が閉鎖されていることが保証される必要がある。この（閉鎖）状態は、安全スイッチ６を介して確認される。付加的に、蓋部材３に、蓋部材３を電磁的にロックするロック装置１２を設けることも可能である。ロック装置１２は、制御回路４と電気的に結合される。
【００２３】
安全スイッチ６とロック装置１２とによって、ＵＶ−Ｃ光源５の作動は、蓋部材３が閉鎖されている場合にのみ可能とすることができる。
【００２４】
予め設定可能な時間の経過後又は手動による終了操作により、ＵＶ−Ｃ光源５をオフにし、ロック装置１２のロック作用を再び解除可能にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明のクライオスタットの一例。
【図２】本発明のクライオスタットのチャンバの一例。
【符号の説明】
【００２６】
１ クライオスタット
２ チャンバ
３ 蓋部材
４ 制御回路
５ ＵＶ−Ｃ光源
６ 安全スイッチ
７ コーティング
８ ４−５間の電気的伝送路
９ ４−６間の電気的伝送路
１０ ハウジング
１１ 冷却装置
１２ ロック装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クライオスタットに関し、とりわけナイフホルダを有するミクロトームを収容するためのチャンバと、該チャンバを閉鎖する蓋部材と、制御回路に配された滅菌装置とを含んで構成されたクライオスタットに関する。
【背景技術】
【０００２】
クライオスタット・ミクロトームは、切断されるべき対象物を予め設定可能な所定の温度に冷却することができるように設計されている。この温度は、通常、−１０℃〜−５０℃である。温度の恒常性を保証するために、ミクロトームは大掛かりに構成されたカプセル室に配設される。このカプセル室の内部には、ミクロトームを収容するための特殊鋼製容器が含まれる。クライオスタットは、更に、閉鎖可能な透視ディスクないし蓋を有するが、利用者は、この閉鎖可能な透視ディスクないし蓋を介して特殊鋼製容器ないし内部空間にアクセスする。
【０００３】
ミクロトームの作動中、切断屑も必然的に生じるが、この切断屑は時々クライオスタットから取り除かなければならない。この生成する切断屑は生物学的又は化学的に不利に作用することもあり得るので、クライオスタットの清掃の際にはハウジング内部の滅菌も実行される。
【特許文献１】ＤＥ ８８ １４ ２８４Ｕ１
【特許文献２】ＤＥ １０３ ２４ ６４６Ａ１
【特許文献３】ＤＥ １０３ ５２ ５７５Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような清掃ないし滅菌の際には、クライオスタットは除霜（霜取り）が行われ、清掃流体及び／又は滅菌流体は噴霧装置によってクライオスタットの内部空間に撒布される。この手作業による方法は、確実であることは確かだが、いうまでもなく著しく時間がかかる。
【０００５】
滅菌剤で充填された切断屑受槽を有するクライオスタットについて記載した文献は存在する（上掲特許文献１参照）。しかしながら、この切断屑受槽はクライオスタット内部の小さい領域にわたってしか延在していないため、清掃及び／又は滅菌を完全に実行することは不可能である。
【０００６】
本出願（日本国出願）の基礎をなす（第１国）出願（ドイツ国出願）の出願時には未公表の文献（上掲特許文献２参照）には、クライオスタットのための自動滅菌システムが記載されている。このクライオスタットには、ポンプと結合した複数の噴霧ノズルであって、当該ノズルを介して清掃ないし洗浄流体がクライオスタットの内部においてプログラム制御されて撒布されるようにされたノズルが配設されている。
【０００７】
この種の自動清掃ないし滅菌の場合もクライオスタット内の温度は上昇する。このため、クライオスタットは、相当長い時間の間、次の試料の処理に使用することができない。作動温度までの迅速な冷却従って使用可能（準備）状態の早急な確立を保証するには、冷却装置のエネルギ消費量を大きくする必要が生じることもある。
【０００８】
本出願（日本国出願）の基礎をなす（第１国）出願（ドイツ国出願）の出願時には未公表の文献（上掲特許文献３参照）には、内部チャンバを有するクライオスタットについて記載されている。このクライオスタットでは、内部チャンバは可溶性銀イオンを含むコーティングを有するか又は内部チャンバは可溶性銀イオンがドープされた材料から製造される。この内部チャンバの表面の抗菌作用は、流入する室空気の凝縮（液化）に依存する。最良の抗菌作用は、この場合も、クライオスタットが霜取りされかつクライオスタットが最早作動可能（準備）状態にない場合に達成される。
【０００９】
それゆえ、本発明の課題は、クライオスタット内部における清掃及び／又は滅菌過程を改善し、作動中であっても完全な滅菌の実行を可能にすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために、本発明の一視点により、ナイフホルダを有するミクロトームを収容するためのチャンバと、該チャンバを閉鎖する蓋部材と、制御回路に配された滅菌装置とを含んで構成されたクライオスタットが提供される。このクライオスタットにおいて、前記滅菌装置はＵＶ光源を有し、該ＵＶ光源はＵＶ−Ｃ光源として構成されかつ前記チャンバの内部に配設されることを特徴とする（形態１・基本構成）。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の独立請求項１により、上記課題に対応する効果が達成される。即ち、稼動中であってもクライオスタット内部の完全な滅菌の実行することが可能となる。
更に、各従属請求項により、それぞれ付加的な効果が達成される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を、上記基本構成を形態１として示すが、形態２以下は従属請求項の対象でもある。
（形態１） 上掲。
（形態２） 上記形態１のクライオスタットにおいて、前記ＵＶ−Ｃ光源は、（前記チャンバ内に収容された場合に）ミクロトームのナイフホルダ（が位置すべき位置）の直上に配置されること、及び該ＵＶ−Ｃ光源によって放射される波長はλ＝２５４ｎｍであることが好ましい。
（形態３） 上記形態１のクライオスタットにおいて、前記閉鎖可能な蓋部材には安全スイッチが配され、前記制御回路は前記ＵＶ−Ｃ光源及び前記安全スイッチと電気的に結合され、前記ＵＶ−Ｃ光源は前記安全スイッチが反応ないし応答（Ansprechen）したとき前記制御回路を介して不活性化されることが好ましい。
（形態４） 上記形態１のクライオスタットにおいて、前記制御回路は自動的時間制御器（タイマ）を有することが好ましい。
（形態５） 上記形態１のクライオスタットにおいて、前記チャンバ又はその（１又は２以上の）部分は、二酸化チタン・ナノパーティクルが包埋されているか（eingebettet）及び／又は銀イオン・ナノパーティクルを含むコーティングを有する（二酸化チタン・ナノパーティクル、又は二酸化チタン・ナノパーティクル及び銀イオン・ナノパーティクルを含有する）ことが好ましい。
【００１３】
本発明の特徴の１つは、滅菌を行うために、クライオスタットにＵＶ光源を配したことである。このＵＶ光源は、任意の時点において、オン・オフすることができる。その際、クライオスタットは、除霜（霜取り）する必要はない。ＵＶ光線によって、短時間で真菌類、酵母、細菌等に対するクライオスタットの完全な滅菌を実行することが保証される。
【００１４】
本発明の一実施形態では、ＵＶ光源はＵＶ−Ｃ光源として構成され、付加的にクライオスタットの内部に配設される。ＵＶ−Ｃ光源を使用することにより、クライオスタットの迅速（凡そ３０秒）かつ確実な滅菌が達成される。その際、光源は、クライオスタットの内部に配されるか組み込まれると有利である。ＵＶ−Ｃ光源は、（クライオスタット内にミクロトームが配設されたとした場合に、ミクロトームの）切断ナイフないし試料ホルダ（が位置すべき位置）の直上（直ぐ上方）に配置されると有利であることが明らかとなっている。というのは、そのような領域は、最も汚染された材料が生成するからである。
【００１５】
本発明の一実施形態において、とりわけ効果的なＵＶ−Ｃ光源は、λ＝２５４ｎｍの波長の光を放射する。この光線はＸ線（の領域）に近接するため、この光源の作動に際しては、種々の安全性の側面が顧慮される必要がある。クライオスタットの内部に光源を一体的に組み込みかつクライオスタットの閉鎖可能な蓋部材に安全スイッチを設けることにより、蓋部材が閉じている場合にのみ光源が作動可能であること及び蓋部材が開かれたときには直ちに制御回路を介して光源がオフされることが保証される。
【００１６】
本発明の更なる一実施形態では、制御回路には自動時間制御器ないしタイマ（Zeitsteuerung）が備えられる。このため、予め設定可能な（任意の）時点における完全自動的滅菌（処理）を実行することができる。本発明では、クライオスタットは、滅菌過程の間、除霜（霜取り）する必要はないので、滅菌を任意の時点において中断し、（直ちに）凍結試料の切断を実行することができる。
【００１７】
本発明の一展開形態では、（クライオスタット）チャンバ又はクライオスタットチャンバの部分（複数）に、二酸化チタン・ナノパーティクルを含有するコーティングないし被膜が配される。この種のコーティングは、ＵＶ光による光触媒（作用）によって水（分子）を開裂してＯＨラジカルを生成し、かつ同時に空気中の酸素によって過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）を生成する性質を有する。この２つの物質は、クライオスタットの滅菌に役立つ。
【００１８】
本発明の更なる一実施形態では、コーティングは、付加的に、銀イオン・ナノパーティクルを含有する。このため、水との相互作用により、クライオスタットの滅菌に寄与する銀イオン（Ａｇ＋）の遊離が実現される。
【００１９】
以下に、本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例は、発明の理解の容易化のためのものに過ぎず、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲において当業者により実施可能な付加・置換等の適用を排除することは意図しない。また、特許請求の範囲に付した図面参照符号も発明の理解の容易化のためのものに過ぎず、本発明を図示の態様に限定することは意図しない。なお、これらの点に関しては補正・訂正後においても同様である。
【実施例】
【００２０】
図１は、本発明のクライオスタットの一例の外観を示す。このクライオスタット１は、ハウジング１０と、ハウジング１０に配設されたチャンバ２とを含んで構成される。チャンバ２は、切断ナイフを有するミクロトーム（不図示）を収容する。チャンバ２の内部には、ＵＶ−Ｃ光源５が固定的に配設され、電気的伝送路８を介して制御回路４と結合される。ハウジング１０には、チャンバ２を閉鎖する蓋部材３が取り付けられる。ハウジング１０と蓋部材３との間には、伝送路９を介して制御回路４と電気的に結合される安全スイッチ６が設けられる。更に、蓋部材３には、電気的に作動するロック装置１２が配される。
【００２１】
図２は、その内部に配設されるＵＶ−Ｃ光源５と冷却装置１１とを有するチャンバ２を示す。チャンバ２は、その内側（の面）に、コーティング７を有する。コーティング７は、二酸化チタン・ナノパーティクルと、付加的に銀イオン・ナノパーティクルとを含有する。
【００２２】
チャンバ２の滅菌のために、ＵＶ−Ｃ光源５は、制御回路４に組み込まれたタイマ（タイムスイッチ）によって、手動的又は自動的に、始動され予め設定可能な時間の間作動される。滅菌の間、蓋部材３が閉鎖されていることが保証される必要がある。この（閉鎖）状態は、安全スイッチ６を介して確認される。付加的に、蓋部材３に、蓋部材３を電磁的にロックするロック装置１２を設けることも可能である。ロック装置１２は、制御回路４と電気的に結合される。
【００２３】
安全スイッチ６とロック装置１２とによって、ＵＶ−Ｃ光源５の作動は、蓋部材３が閉鎖されている場合にのみ可能とすることができる。
【００２４】
予め設定可能な時間の経過後又は手動による終了操作により、ＵＶ−Ｃ光源５をオフにし、ロック装置１２のロック作用を再び解除可能にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明のクライオスタットの一例。
【図２】本発明のクライオスタットのチャンバの一例。
【符号の説明】
【００２６】
１ クライオスタット
２ チャンバ
３ 蓋部材
４ 制御回路
５ ＵＶ−Ｃ光源
６ 安全スイッチ
７ コーティング
８ ４−５間の電気的伝送路
９ ４−６間の電気的伝送路
１０ ハウジング
１１ 冷却装置
１２ ロック装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナイフホルダを有するミクロトームを収容するためのチャンバと、該チャンバを閉鎖する蓋部材と、制御回路に配された滅菌装置とを含んで構成されたクライオスタットにおいて、
前記滅菌装置はＵＶ光源（５）を有し、該ＵＶ光源（５）はＵＶ−Ｃ光源（５）として構成されかつ前記チャンバ（２）の内部に配設されること
を特徴とするクライオスタット。
【請求項２】
前記ＵＶ−Ｃ光源（５）は、ミクロトームのナイフホルダの直上に配置されること、及び該ＵＶ−Ｃ光源（５）によって放射される波長はλ＝２５４ｎｍであること
を特徴とする請求項１に記載のクライオスタット。
【請求項３】
前記閉鎖可能な蓋部材（３）には安全スイッチ（６）が配され、
前記制御回路（４）は前記ＵＶ−Ｃ光源（５）及び前記安全スイッチ（６）と電気的に結合され、
前記ＵＶ−Ｃ光源（５）は前記安全スイッチ（６）が反応したとき前記制御回路（４）を介して不活性化されること
を特徴とする請求項１又は２に記載のクライオスタット。
【請求項４】
前記制御回路（４）は自動的時間制御器を有すること
を特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のクライオスタット。
【請求項５】
前記チャンバ又はその部分は、二酸化チタン・ナノパーティクルが包埋されているか及び／又は銀イオン・ナノパーティクルを含むコーティング（７）を有すること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のクライオスタット。
【請求項１】
ナイフホルダを有するミクロトームを収容するためのチャンバと、該チャンバを閉鎖する蓋部材と、制御回路に配された滅菌装置とを含んで構成されたクライオスタットにおいて、
前記滅菌装置はＵＶ光源（５）を有し、該ＵＶ光源（５）はＵＶ−Ｃ光源（５）として構成されかつ前記チャンバ（２）の内部に配設されること
を特徴とするクライオスタット。
【請求項２】
前記ＵＶ−Ｃ光源（５）は、ミクロトームのナイフホルダの直上に配置されること、及び該ＵＶ−Ｃ光源（５）によって放射される波長はλ＝２５４ｎｍであること
を特徴とする請求項１に記載のクライオスタット。
【請求項３】
前記閉鎖可能な蓋部材（３）には安全スイッチ（６）が配され、
前記制御回路（４）は前記ＵＶ−Ｃ光源（５）及び前記安全スイッチ（６）と電気的に結合され、
前記ＵＶ−Ｃ光源（５）は前記安全スイッチ（６）が反応したとき前記制御回路（４）を介して不活性化されること
を特徴とする請求項１又は２に記載のクライオスタット。
【請求項４】
前記制御回路（４）は自動的時間制御器を有すること
を特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のクライオスタット。
【請求項５】
前記チャンバ又はその部分は、二酸化チタン・ナノパーティクルが包埋されているか及び／又は銀イオン・ナノパーティクルを含むコーティング（７）を有すること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のクライオスタット。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００６−１４５５３９（Ｐ２００６−１４５５３９Ａ）
【公開日】平成１８年６月８日（２００６．６．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３３５６０２（Ｐ２００５−３３５６０２）
【出願日】平成１７年１１月２１日（２００５．１１．２１）
【出願人】（５００１１３６４８）ライカ ミクロズュステムス ヌスロッホ ゲーエムベーハー (45)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年６月８日（２００６．６．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１１月２１日（２００５．１１．２１）
【出願人】（５００１１３６４８）ライカ ミクロズュステムス ヌスロッホ ゲーエムベーハー (45)
【Ｆターム（参考）】
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