【課題】熱的・電気的・機械的特性が良好なポリイミド膜を形成できるとともに、１回のジェッティングで比較的厚い膜厚を有するポリイミド膜を形成できる熱硬化性インクジェット用インクを提供する。
【解決手段】フタル酸無水物のような炭素数２〜１０の二価の有機基の酸無水物基を持つ化合物とピロメリット酸二無水物のような炭素数４〜４０或いは６〜６０のそれぞれ四か或いは六価の有機基にに２つ以上酸無水物を持つ化合物にトリメトキシシランを反応させた水素またはトリメチルシリル基を有する酸無水物誘導体（Ａ）とカルボキシル基を有していても良い炭素数１〜１００のジアミン（Ｂ）を含むインキであり（Ａ）の酸無水物誘導基のモル数をα、（Ｂ）のアミンのモル数をβとしたとき０．７５<α/β<１．３３を満たす、熱硬化性インクジェット用インク。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は熱硬化性インクジェット用インクおよびその用途に関し、例えば、電子部品製作において絶縁膜を形成するためのインク、前記インクの塗布方法、前記インクを用いて形成されるポリイミド膜およびその製造方法、ならびに前記ポリイミド膜を有するフィルム基板等、前記フィルム基板等を有する電子部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリイミドは、耐熱性および電気絶縁性に優れるため、電子通信分野で広く用いられている材料である。ポリイミドを所望のパターン膜として使用する場合、従来はエッチングや感光性ポリイミドを用いてパターンを形成することが一般的であった。しかしながら、パターンの形成にはフォトレジスト、現像液、エッチング液、剥離液などの多種大量の薬液を必要とし、また、煩雑な工程を必要とした。そこで近年、インクジェットにより所望のポリイミドのパターン膜を形成する方法が検討されている。
【０００３】
インクジェット用インクは各種提案されているが、インクジェット用インクとして吐出・印刷するためには、通常、インクの粘度、溶媒の種類・沸点などの様々なパラメータが最適化される。
【０００４】
ポリイミド系のインクジェット用インクは、ポリアミド酸が比較的高分子であるため、インクジェット用インクとして最適な粘度のインクを調製するためには、溶媒の割合を増やしてインク中のポリアミド酸の含有量を少なくする必要がある。しかしながら、これによって、１回のインクジェッティングで得られる塗膜の膜厚が小さくなってしまうという問題がある。
【０００５】
上記問題に対して、例えば、ポリアミド酸の重量平均分子量を１０，０００〜５０，０００に制御することによりインクの低粘度化を図り、ポリアミド酸の含有量を大きくすることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、ポリマー濃度は１５〜２０質量％程度と依然として小さい。
【０００６】
一方、ポリイミド前駆体溶液の低粘度化および高濃度化の提案がなされている（例えば、特許文献２〜３参照）。しかしながら、これらの文献ではインクジェット印刷については検討されていない。
【０００７】
また、熱架橋剤に関しては、熱架橋剤と前記熱架橋剤に対して反応可能な基を有する重量平均分子量３００〜９，０００のポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールとを含有するインクジェット用熱硬化性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献４参照）。しかしながら、前記組成物は熱架橋剤を必須とするため、保存安定性や熱硬化時の残存未反応物などが問題となる。
【０００８】
その他、ポリマーの重量平均分子量が制御されたインクジェット用組成物に関しても、各種提案されている（例えば、特許文献５〜７参照）。しかしながら、何れの文献で使用されているポリマーも、重量平均分子量が非常に幅広い範囲で規定されており、溶解性に問題のある可溶性ポリイミドなどであった。
【０００９】
一方、末端に熱硬化可能な官能基を有するイミド化合物が開示されているが（例えば、特許文献８参照）、これについても、インクジェット用インクとしての使用が想定されておらず、インクジェット用インクとして必要な粘度や溶媒の最適化については何ら検討されていない。
【００１０】
上記の諸問題を解決するために、ポリアミド酸の末端に分子架橋基を反応させ、分子量の制御を行い、低粘度・高濃度のインクジェット用インクが提案されているが（例えば特許文献９参照）、熱的・機械的特性が従来のポリイミドに比べ不充分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００５−１８７５９６号公報
【特許文献２】特開昭５９−１６４３２８号公報
【特許文献３】特開２０００−２６５０５８号公報
【特許文献４】特開２００７−３１４６４７号公報
【特許文献５】特開２０００−１０１２０６号公報
【特許文献６】特開２００７−２９７４８０号公報
【特許文献７】特開２００６−１２４６５０号公報
【特許文献８】特開昭６２−０２９５８４号公報
【特許文献９】特開２００９−０３５７００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の課題は、熱的・電気的・機械的特性が良好なポリイミド膜を形成できるとともに、１回のジェッティングで比較的厚い膜厚（例：１μｍ以上）を有するポリイミド膜を形成できる熱硬化性インクジェット用インクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者等は上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、下記構成の熱硬化性インクジェット用インクを用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
本発明は以下の構成を有する。
【００１５】
［１］ （Ａ）一般式（１）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」ともいう。）と、（Ｂ）一般式（２）で表される化合物（以下「化合物（Ｂ）」ともいう。）とを含むインクであり、前記インク中に含まれる、化合物（Ａ）の−ＣＯＯＲ²および−ＣＯＯＲ³の組の合計モル数をα、化合物（Ｂ）の−ＮＨ−Ｒ⁵の合計モル数をβとしたときに、αおよびβが式（Ｉ）：０．７５＜α／β＜１．３３を満たす、熱硬化性インクジェット用インク。
【化１】

［式（１）中、ｎは１以上の整数であり、ｎ＝１のとき、Ｒ¹は炭素数２〜１０の二価の有機基であり、ｎ＝２のとき、Ｒ¹は炭素数４〜４０の四価の有機基であり、ｎ＝３のとき、Ｒ¹は炭素数６〜６０の六価の有機基であり、ｎ≧４の整数のとき、Ｒ¹は炭素数２ｎ〜３０ｎの２×ｎ価の有機基であり、Ｒ²は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数６〜１２の芳香族基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ³は水素またはトリメチルシリルであり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。］
【化２】

［式（２）中、Ｒ⁴は一般式（３）または（４）で表される基であり、Ｒ⁵は水素または炭素数１〜１００の一価の脱離可能な有機基であり、Ｒ⁵’は−ＮＨ−Ｒ⁵または−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ⁶−ＣＯＯＨ（Ｒ⁶は炭素数２〜９８の二価の有機基である）で表される基である。］
【化３】

［式（３）および（４）中、Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、ｍは０〜１０００の整数である。］
［２］ （Ｂ’）一般式（５）〜（９）で表される化合物から選択される少なくとも１種をさらに含むインクである前記［１］項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【化４】

［式（５）中、複数あるＲ⁶はそれぞれ独立に炭素数２〜９８の二価の有機基であり、Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、ｎは０〜１０００の整数である。］
【化５】

［式（６）および（７）中、複数あるＲ⁶はそれぞれ独立に炭素数２〜９８の二価の有機基であり、Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、ｎは１〜１０００の整数であり、ｍは０〜１０００の整数である。］
【化６】

［式（８）および（９）中、Ｒ⁶は炭素数２〜９８の二価の有機基であり、Ｒ⁹は炭素数２〜１００の一価の有機基である。］
［３］ 前記式（１）中、ｎが２であり、Ｒ¹が炭素数４〜４０の四価の有機基であり、前記式（２）中、Ｒ⁵が水素である、前記［１］項または［２］項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
［４］ 前記式（１）中のＲ¹がテトラカルボン酸二無水物の残基であり、前記式（３）〜（４）中のＲ⁸がテトラカルボン酸二無水物の残基である、前記［３］項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
［５］ 溶媒（Ｃ）をさらに含む、前記［１］〜［４］の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
［６］ 溶媒（Ｃ）が、乳酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびγ―ブチロラクトンからなる群から選ばれる１種以上を含有する溶媒である、前記［５］項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
［７］ エポキシ樹脂をさらに含む、前記［１］〜［６］の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
［８］ エポキシ樹脂が、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタンおよび式（Ｄ１）〜（Ｄ５）で表される化合物からなる群から選ばれる１種以上の化合物である、前記［７］項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【化７】

［式（Ｄ４）および（Ｄ５）中、ｎは０〜２０の整数である。］
［９］ 界面活性剤を０．００００１質量％以上、１．０質量％以下の範囲でさらに含む、前記［１］〜［８］の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
［１０］ トリスアルケニル置換ナジイミド化合物およびテトラアルケニル置換ナジイミド化合物から選ばれる少なくとも１種のアルケニル置換ナジイミド化合物をさらに含む、前記［１］〜［９］の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
［１１］ 顔料をさらに含む、前記［１］〜［１０］の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
［１２］ 前記［１］〜［１１］の何れか一項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程を有する、インクの塗布方法。
［１３］ 基板を表面処理する工程、前記表面処理がなされた基板上に、前記［１］〜［１１］の何れか一項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程を有する、インクの塗布方法。
［１４］ 前記［１２］項または［１３］項に記載のインクの塗布方法を用いる、ポリイミド膜の製造方法。
［１５］ 前記［１４］項に記載の製造方法により形成されたポリイミド膜。
［１６］ 前記［１４］項に記載の製造方法により形成されたポリイミド膜を有する、フィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板。
［１７］ 前記［１６］項に記載のフィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板を有する電子部品。
【００１６】
以下、本明細書中の語句について説明する。
【００１７】
「一価の有機基」としては、例えば、炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいシリル、置換基を有していてもよいアルキルチオ（−ＳＹ¹；式中、Ｙ¹は置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ（−ＳＹ²；式中、Ｙ²は置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル（−ＳＯ₂Ｙ³；式中、Ｙ³は置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル（−ＳＯ₂Ｙ⁴；式中、Ｙ⁴は置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）が挙げられる。
【００１８】
炭化水素基は、飽和または不飽和の非環式であってもよいし、飽和または不飽和の環式であってもよい。炭化水素が非環式の場合には、直鎖状でもよいし、分岐鎖状でもよい。炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜２０のアルキル、炭素数２〜２０のアルケニル、炭素数２〜２０のアルキニル、炭素数４〜２０のアルキルジエニル、炭素数６〜１８のアリール、炭素数７〜２０のアルキルアリール、炭素数７〜２０のアリールアルキル、炭素数４〜２０のシクロアルキル、炭素数４〜２０のシクロアルケニルが挙げられる。
【００１９】
炭素数１〜２０のアルキルは、炭素数１〜１０のアルキルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキルであることがより好ましい。前記アルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニルが挙げられる。
【００２０】
炭素数２〜２０のアルケニルは、炭素数２〜１０のアルケニルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルケニルであることがより好ましい。前記アルケニルとしては、例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチルアリル、２−ブテニルが挙げられる。
【００２１】
炭素数２〜２０のアルキニルは、炭素数２〜１０のアルキニルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキニルであることがより好ましい。前記アルキニルとしては、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニルが挙げられる。
【００２２】
炭素数４〜２０のアルキルジエニルは、炭素数４〜１０のアルキルジエニルであることが好ましく、炭素数４〜６のアルキルジエニルであることがより好ましい。前記アルキルジエニルとしては、例えば、１，３−ブタジエニルが挙げられる。
【００２３】
炭素数６〜１８のアリールは、炭素数６〜１０のアリールであることが好ましい。前記アリールとしては、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリルが挙げられる。
【００２４】
炭素数７〜２０のアルキルアリールは、炭素数７〜１２のアルキルアリールであることが好ましい。前記アルキルアリールとしては、例えば、ｏ−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、２，３−キシリル、２，４−キシリル、２，５−キシリル、ｏ−クメニル、ｍ−クメニル、ｐ−クメニル、メシチルが挙げられる。
【００２５】
炭素数７〜２０のアリールアルキルは、炭素数７〜１２のアリールアルキルであることが好ましい。前記アリールアルキルとしては、例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、２，２−ジフェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチルが挙げられる。
【００２６】
炭素数４〜２０のシクロアルキルは、炭素数４〜１０のシクロアルキルであることが好ましい。前記シクロアルキルとしては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。
【００２７】
炭素数４〜２０のシクロアルケニルは、炭素数４〜１０のシクロアルケニルであることが好ましい。前記シクロアルケニルとしては、例えば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルが挙げられる。
【００２８】
炭素数１〜２０のアルコキシとしては、炭素数１〜１０のアルコキシであることが好ましく、炭素数２〜６のアルコキシであることがより好ましい。前記アルコキシとしては、例えば、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシが挙げられる。
【００２９】
炭素数６〜２０のアリールオキシは、炭素数６〜１０のアリールオキシであることが好ましい。前記アリールオキシとしては、例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシが挙げられる。
【００３０】
「アルキルチオ（−ＳＹ¹；式中、Ｙ¹は置換を有してもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）」および「アルキルスルホニル（−ＳＯ₂Ｙ³；式中、Ｙ³は置換を有してもよい炭素数１〜２０のアルキルを示す。）」において、Ｙ¹およびＹ³は、炭素数２〜１０のアルキルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキルであることがより好ましい。前記アルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニルが挙げられる。
【００３１】
「アリールチオ（−ＳＹ²；Ｙ²は置換を有してもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）」および「アリールスルホニル（−ＳＯ₂Ｙ⁴；式中、Ｙ⁴は置換を有してもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）」において、Ｙ²およびＹ⁴は、炭素数６〜１０のアリールであることが好ましい。前記アリールとしては、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリルが挙げられる。
【００３２】
「炭素数１〜２０の炭化水素基」、「炭素数１〜２０のアルコキシ」、「炭素数６〜２０のアリールオキシ」、「アミノ」、「シリル」、「アルキルチオ」、「アリールチオ」、「アルキルスルホニル」、「アリールスルホニル」には、置換基が導入されていてもよい。前記置換基としては、例えば、エステル、カルボキシル、アミド、アルキン、トリメチルシリル、アミノ、ホスホニル、チオ、カルボニル、ニトロ、スルホ、イミノ、ハロゲノ、アルコキシが挙げられる。この場合、置換基は、置換可能な位置に１個以上、置換可能な最大数まで導入されていてもよく、好ましくは１個〜４個導入されていてもよい。置換基数が２個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
「置換基を有してもよいアミノ」としては、例えば、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノが挙げられる。
【００３４】
「置換基を有していてもよいシリル」としては、例えば、ジメチルシリル、ジエチルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、メチルメトキシフェニルが挙げられる。
【００３５】
以上、一価の有機基の具体例を例示した。本明細書中、二価の有機基の具体例としては、上述の一価の有機基においてさらに価数を１つ増やした基が挙げられる。同様に、本明細書中、四価および六価の有機基の具体例としては、上述の一価の有機基においてさらに価数を３つおよび５つ増やした基が挙げられる。
【００３６】
本明細書中、「炭素数２〜１００の二価の有機基」または「炭素数２〜９８の二価の有機基」の炭素数は、２〜５０が好ましく、２〜４０がより好ましい。また、本明細書中、「炭素数２〜１００の四価の有機基」の炭素数は、２〜３０が好ましい。
【００３７】
架橋性を持つ有機基、すなわち架橋性基を有する有機基における架橋性基としては、例えば、アルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アルコキシシリル、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルケニレン、アクリル、メタクリルが挙げられる。
【００３８】
「ハロゲン」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【００３９】
以下の「発明を実施するための形態」の説明において、個別に有機基などの説明をしない限り、上述の有機基などの説明を援用する。
【発明の効果】
【００４０】
本発明によれば、熱的・電気的・機械的特性が良好なポリイミド膜を形成できるとともに、１回のジェッティングで比較的厚い膜厚（例；１μｍ以上）を有するポリイミド膜を形成できる熱硬化性インクジェット用インクを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、本発明の熱硬化性インクジェット用インク、インクの塗布方法、ポリイミド膜の製造方法、ポリイミド膜、フィルム基板、半導体ウェハおよび電子材料用基板、ならびに電子部品について、好適態様も含めて詳細に説明する。
【００４２】
１ 熱硬化性インクジェット用インク
本発明の熱硬化性インクジェット用インクは、（Ａ）一般式（１）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」ともいう。）と、（Ｂ）一般式（２）で表される化合物（以下「化合物（Ｂ）」ともいう。）とを含み、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の含有比率が特定範囲にあることを特徴とする。前記インクは、有色または無色の何れであっても構わない。
【００４３】
１．１ 化合物（Ａ）
化合物（Ａ）は、一般式（１）で表される化合物である。
【００４４】
【化８】

【００４５】
式（１）中、ｎは１以上の整数である。
ｎ＝１のとき、Ｒ¹は炭素数２〜１０の二価の有機基である。
ｎ＝２のとき、Ｒ¹は炭素数４〜４０の四価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述するテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましい。
ｎ＝３のとき、Ｒ¹は炭素数６〜６０の六価の有機基である。
ｎ≧４の整数のとき、Ｒ¹は炭素数２ｎ〜３０ｎの２×ｎ価の有機基であり、好ましくは炭素数２ｎ〜１０ｎの２×ｎ価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述する酸無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体の残基であることが好ましい。
焼成によって形成されたポリイミドの耐熱性といった観点から、ｎは１または２が好ましく、２がより好ましい。
【００４６】
Ｒ²は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数６〜１２の芳香族基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ³は水素またはトリメチルシリルであり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。
【００４７】
アルキルとしては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ノニル、デカニルが挙げられる。アルキルの炭素数は、通常１〜１０、好ましくは１〜４である。
【００４８】
芳香族基としては、例えば、置換基を有してもよいフェニル、置換基を有してもよいナフチルが挙げられる。前記置換基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル、カルボキシル、ヒドロキシルが挙げられる。芳香族基の炭素数は、通常６〜１２、好ましくは６〜１０である。
【００４９】
化合物（Ａ）はポリアミド酸およびポリイミドに比べて溶媒（Ｃ）への溶解性が高く、本発明のインクにおいて化合物（Ａ）を高濃度化することができる。また、化合物（Ａ）を用いる場合、モノマー型のアミド酸のみを用いる場合に比べて、熱的・機械的性質が高いポリイミド膜が得られる。
【００５０】
化合物（Ａ）（但し、Ｒ³＝水素）は、例えば、酸無水物基を１つ以上有する化合物（ａ１）と、アルコール（ａ２）およびフェノール類（ａ３）から選択される少なくとも１種とを反応させることにより得ることができる。前記化合物（ａ１）の酸無水物基数は、化合物（Ａ）のｎの値に対応する。
【００５１】
化合物（Ａ）（但し、Ｒ³＝水素）の市販品としては、例えば、製品名ＳＭＡ１７３５２、ＳＭＡ２６２５（サートマー社製）が挙げられる。
【００５２】
化合物（ａ１）としては、例えば、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１１）、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１２）が挙げられる。前記化合物（ａ１１）および化合物（ａ１２）の具体例および好ましい例としては、本明細書の［発明を実施するための形態］欄で後述する酸無水物基を１つ有する化合物および酸無水物基を２つ以上有する化合物が挙げられる。
【００５３】
化合物（Ａ）（但し、Ｒ³＝トリメチルシリル）は、例えば、化合物（Ａ）（但し、Ｒ³＝水素）と、ヘキサメチレンジシラザンとを反応させることにより得ることができる。
【００５４】
アルコール（ａ２）は、Ｒ²−ＯＨ（Ｒ²は式（１）中のＲ²の炭素数１〜１０のアルキルと同義である）で表される。アルコール（ａ２）としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、２−ブタノール、２−メチル−２−プロパノール、ペンタノール、ヘプタノール、ノナノール、デカノールが挙げられる。これらの中でも、沸点が２００℃以下のアルコールである、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、２−ブタノール、２−メチル−２−プロパノール、ペンタノール、ヘプタノール、ノナノールが好ましい。
【００５５】
フェノール類（ａ３）は、Ｒ²−ＯＨ（Ｒ²は式（１）中のＲ²の炭素数６〜１２の芳香族基と同義である）で表される。フェノール類（ａ３）としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、サリチル酸、１−ナフトール、２−ナフトール、カテコールが挙げられる。これらの中でも、沸点が２００℃以下のフェノール類である、フェノール、ｏ−クレゾールが好ましい。
【００５６】
〈化合物（Ａ）の合成条件〉
化合物（Ａ）の合成は、例えば、酸無水物基を１つ以上有する化合物（ａ１）に対してモル比にして過剰量のアルコール（ａ２）および／または過剰量のフェノール類（ａ３）中で、当該混合液を攪拌あるいは還流させることで進めることができる。ここで、反応温度は通常０〜１００℃、好ましくは２０〜９０℃であり、反応時間は通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．２〜２０時間であり、より好ましくは０．５〜１５時間であり、反応圧力は例えば常圧下である。その後、過剰に加えたアルコール（ａ２）および／またはフェノール類（ａ３）を減圧除去して、化合物（Ａ）を得ることができる。
【００５７】
上記合成において、反応溶媒としては、アルコール（ａ２）および／またはフェノール類（ａ３）を用いることができ、必要に応じてその他の反応溶媒を用いてもよい。
【００５８】
その他の反応溶媒としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、ｎ−ヘキサン、テトラヒドロフラン、クロロホルム、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、アニソール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、１−ビニル−２−ピロリドン、１−ブチル−２−ピロリドン、１−エチル−２−ピロリドン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１−アセチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ−メチル−ε−カプロラクタム、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、γ−ブチロラクトンが挙げられる。
【００５９】
これらの中でも、アルコール（ａ２）、フェノール類（ａ３）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびジエチレングリコールジメチルエーテルから選択される少なくとも１種を用いると、反応後に当該反応溶媒をそのままインクジェット用溶媒として用いても、インクジェットヘッドへのダメージが少ないインクとすることができるので好ましい。
【００６０】
反応溶媒は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、必要に応じて、上記反応溶媒以外の他の溶媒を上記反応溶媒と混合して用いることもできる。
【００６１】
反応溶媒としてアルコール（ａ２）および／またはフェノール類（ａ３）を用いる場合、反応を効率よく進めるという観点から、酸無水物基を１つ以上有する化合物（ａ１）１００質量部に対して、当該反応溶媒は２００質量部以上用いることが好ましく、１０００質量部以上用いることが好ましい。当該反応溶媒の使用量の上限は特に制限されず、例えば酸無水物基を１つ以上有する化合物（ａ１）１００質量部に対して１００００質量部程度である。
【００６２】
反応原料の反応系への添加順序は特に限定されない。すなわち、化合物（ａ１）とアルコール（ａ２）および／またはフェノール類（ａ３）とを同時に混合する方法、前記成分を同時にその他の反応溶媒に添加する方法、アルコール（ａ２）および／またはフェノール類（ａ３）をその他の反応溶媒中に溶解させた後に化合物（ａ１）を添加する方法、化合物（ａ１）をその他の反応溶媒中に溶解させ、さらにアルコール（ａ２）および／またはフェノール類（ａ３）を添加する方法など、何れの方法も用いることができる。
【００６３】
〈化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の含有量〉
本発明の熱硬化性インクジェット用インク中に含まれる、化合物（Ａ）の−ＣＯＯＲ²および−ＣＯＯＲ³の組の合計モル数をα、化合物（Ｂ）の−ＮＨ−Ｒ⁵の合計モル数をβとする。本発明の熱硬化性インクジェット用インクにおいて、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）は以下の条件を満たすように含まれる。すなわちα／βは０．７５を超えて１．３３未満であり、好ましくは０．９以上１．１１以下である。ここで、化合物（Ａ）において、前記組の合計モル数は、−ＣＯＯＲ²および−ＣＯＯＲ³を１組とし、この１組を１つとして数える。また、化合物（Ｂ）において、合計モル数は、１分子中に−ＮＨ−Ｒ⁵を２つ有する場合、２つとして数える。
α／βが前記範囲にあると、焼成時の未反応の化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の量が少なく、焼成後の膜の特性が良好であるといった観点から好ましい。上記各基は、それらが反応してイミド基となり得る。
【００６４】
１．２ 化合物（Ｂ）
化合物（Ｂ）は、一般式（２）で表される化合物である。本発明では、化合物（Ｂ）と化合物（Ａ）との脱水反応により、強固なポリイミド膜が形成される。
【００６５】
【化９】

【００６６】
式（２）中、Ｒ⁴は一般式（３）または（４）で表される基であり、一般式（２）において、一般式（３）で表される基を用いる場合、アミド系溶媒だけでなく、インクジェットヘッドに対するダメージが少ないラクトン系、グリコール系の溶媒が使用できることから好ましい。Ｒ⁵’は−ＮＨ−Ｒ⁵または−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ⁶−ＣＯＯＨで表される基である。Ｒ⁵は水素または炭素数１〜１００の一価の脱離可能な有機基（以下「脱離基」ともいう。）であり、脱離基があると脱離のための反応が必要となるといった観点から、水素であることが好ましい。Ｒ⁶は炭素数２〜９８の二価の有機基であり、架橋性を持つ有機基であることが好ましい。
【００６７】
化合物（Ｂ）としては、Ｒ⁶が架橋基を持つ有機基である化合物を合計で、化合物（Ｂ’）全体に対して５０モル％以上用いることが好ましく、７５モル％以上用いることがより好ましい。
【００６８】
脱離基としては、例えば、ｔ−ブトキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基が挙げられる。脱離基は、化合物（Ｂ）の分子末端の保護基として働く。脱離基の炭素数は、好ましくは２〜５０、より好ましくは２〜１５である。
【００６９】
【化１０】

【００７０】
式（３）および（４）中、Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述するテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましく、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。ｍは０〜１０００の整数であり、好ましくは０〜８００の整数であり、より好ましくは０〜６５０の整数である。
【００７１】
化合物（Ｂ）は、Ｒ⁵が脱離基の場合、当該有機基が脱離し、化合物（Ｂ）は一級アミンとなり、化合物（Ａ）と脱水反応してポリアミド酸を形成し、したがって強固なポリイミド膜が得られる。
【００７２】
化合物（Ｂ）としては、例えば、ジアミン（ｂ１）、ジアミン（ｂ１）のアミノを脱離基で保護してなる化合物、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）との反応物（アミド酸）、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）との反応物（ポリアミド酸またはそのイミド化物）、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）と酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）との反応物（ポリアミド酸またはそのイミド化物）、前記反応物のアミノを脱離基で保護してなる化合物が挙げられる。
【００７３】
ジアミン（ｂ１）、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）および酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）の具体例および好ましい例としては、本明細書の［発明を実施するための形態］欄で後述するジアミンおよび酸無水物基を２つ以上有する化合物が挙げられる。
【００７４】
〈化合物（Ｂ）の重量平均分子量〉
化合物（Ｂ）のうちポリアミド酸およびそのイミド化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常９００〜７，５００、好ましくは９００〜３，５００、より好ましくは９００〜２，５００である。Ｍｗが前記下限値以上の化合物（Ｂ）は、加熱処理によってポリイミド膜を形成する工程において、蒸発することがなく、化学的・機械的に安定である。Ｍｗが前記上限値以下の化合物（Ｂ）は、溶媒（Ｃ）に対する溶解性が良好であり、インクを低粘度化することができるので、得られるポリイミド膜の膜厚を大きくすることが可能である。Ｍｗの測定条件は、実施例に記載のとおりである。
【００７５】
〈化合物（Ｂ）の合成条件〉
化合物（Ｂ）の合成条件の一例について説明する。化合物（Ｂ）は、例えば、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）とを反応させる方法で得ることができる。また、必要に応じて、酸無水物基を１つ以上有する化合物（ｂ３）を反応させてもよい。また、必要に応じて、分子末端のアミノを脱離基で保護してもよい。
【００７６】
反応温度は通常０〜１００℃、好ましくは４〜８０℃であり、反応時間は通常０．２〜２０時間、好ましくは０．５〜１０時間であり、反応圧力は例えば常圧下である。
【００７７】
化合物（Ｂ）のうちＲ⁴が一般式（４）で表される化合物は、例えば、化合物（Ｂ）のうちＲ⁴が一般式（３）で表される化合物をイミド化することにより得ることができる。
【００７８】
イミド化は、熱的方法あるいは脱水触媒および脱水剤を用いた化学的方法により、進めることができる。好ましくは、精製処理を行なわないでインクの成分として使用できる熱的方法によりイミド化を進めることである。さらに好ましくは、化合物（Ｂ）のうちＲ⁴が一般式（３）で表される化合物を反応溶媒中で合成した後、還流してイミド化することである。還流の条件は、使用する反応溶媒により異なるが、好ましくは１４０〜２３０℃で１．５〜１０時間である。還流温度が１４０℃以上であるとイミド化が充分に進み強固な膜を得ることができる。還流温度が２３０℃以下であると比較的沸点の高い溶媒を用いても還流可能である。
【００７９】
化合物（Ｂ）を合成する際に用いることのできるジアミン（ｂ１）、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）は、それぞれ１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００８０】
化合物（Ｂ）を合成する際に用いることのできる反応溶媒としては、例えば、化合物（Ａ）の合成に用いることのできる上述のその他の反応溶媒が挙げられ、好ましい反応溶媒も同様である。
【００８１】
反応溶媒は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、必要に応じて、上記反応溶媒以外の他の溶媒を上記反応溶媒と混合して用いることもできる。
【００８２】
反応を効率よく進めるという観点から、反応溶媒は、ジアミン（ｂ１）、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）および酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）などの反応原料の合計１００質量部に対して、１００質量部以上用いることが好ましく、５００質量部以上用いることが好ましい。反応溶媒の使用量の上限は特に制限されず、例えば反応原料の合計１００質量部に対して１０００質量部程度である。
【００８３】
反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。すなわち、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）とを同時に反応溶媒に添加する方法、ジアミン（ｂ１）を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）を添加する方法など、何れの方法も用いることができる。その他の反応原料の組合せの場合も前記方法に準じた方法を用いることができる。
【００８４】
また、化合物（Ａ）の存在下に、化合物（Ｂ）を合成してもよい。すなわち、ジアミン（ｂ１）と、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）と、化合物（Ａ）とを同時に反応溶媒に添加する方法、ジアミン（ｂ１）を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）と化合物（Ａ）とを添加する方法、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）とを予め反応させてポリアミド酸を合成した後に、化合物（Ａ）を添加する方法など、何れの方法も用いることができる。その他の反応原料の組合せの場合も前記方法に準じた方法を用いることができる。
【００８５】
〈化合物（Ｂ）の含有量〉
本発明の熱硬化性インクジェット用インクにおいて、化合物（Ｂ）の含有量（後述する化合物（Ｂ’）を用いる場合は化合物（Ｂ）と化合物（Ｂ’）との合計含有量）は、インク全質量に対して、１０〜６０質量％が好ましく、１４〜５５質量％がより好ましく、１８〜５０質量％がさらに好ましい。化合物（Ｂ）および必要に応じて使用される化合物（Ｂ’）の濃度が前記範囲にあると、１回のインクジェッティングで得られる塗膜の膜厚が最適となり、ジェッティング精度が高い点で好ましい。本発明のインクでは、インクジェット印刷に適した低粘度化と、化合物（Ｂ）および必要に応じて使用される化合物（Ｂ’）によるインクの高濃度化（固形分濃度２０質量％以上）との両立が可能である。
【００８６】
１．３ 化合物（Ｂ’）
本発明の熱硬化性インクジェット用インクは、上述の化合物（Ａ）および（Ｂ）のほか、一般式（５）〜（９）で表される化合物から選択される少なくとも１種（以下「化合物（Ｂ’）」ともいう。）をさらに含んでもよい。これらの中でも、一般式（５）で表される化合物は、アミド系溶媒だけでなく、インクジェットヘッドに対するダメージが少ないラクトン系、グリコール系の溶媒が使用できることから好ましい。
【００８７】
化合物（Ｂ’）を用いることにより、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ’）との脱水反応、Ｒ⁶が架橋基を持つ有機基である場合は化合物（Ｂ）と化合物（Ｂ’）との架橋反応、化合物（Ｂ’）同士の架橋反応により、強固なポリイミド膜が形成される。
【００８８】
【化１１】

【００８９】
式（５）中、複数あるＲ⁶はそれぞれ独立に炭素数２〜９８の二価の有機基であり、架橋性を持つ有機基であることが好ましい。Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述するテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましく、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。ｎは０〜１０００の整数であり、好ましくは１〜８００の整数であり、より好ましくは１〜６５０の整数である。
【００９０】
一般式（５）で表される化合物としては、例えば、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）との反応物（アミド酸、ｎ＝０）、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）と酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）との反応物（ポリアミド酸、ｎ≧１）が挙げられる。
【００９１】
【化１２】

【００９２】
式（６）および（７）中、複数あるＲ⁶はそれぞれ独立に炭素数２〜９８の二価の有機基であり、架橋性を持つ有機基であることが好ましい。Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、焼成によってポリイミドを形成するといった観点から、後述するテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましく、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。ｎは１〜１０００の整数であり、好ましくは１〜８００の整数であり、より好ましくは１〜６５０の整数である。ｍは０〜１０００の整数であり、好ましくは０〜８００の整数であり、より好ましくは０〜６５０の整数である。
【００９３】
一般式（６）で表される化合物としては、例えば、ジアミン（ｂ１）および酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）の反応物（ポリアミド酸）をイミド化して得られる化合物と、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）との反応物（アミド酸）が挙げられる。
【００９４】
一般式（７）で表される化合物としては、例えば、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）との反応物（アミド酸）をイミド化して得られる化合物（ｍ＝０）、ジアミン（ｂ１）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）と酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）との反応物（ポリアミド酸）をイミド化して得られる化合物（ｍ≧１）が挙げられる。前者としては、例えば、ビスアルケニル置換ナジイミド（ｍ＝０で化合物（ｂ３）がアルケニル置換ナジック酸無水物の場合）、ビスマレイミド（ｍ＝０で化合物（ｂ３）がマレイン酸無水物の場合）が挙げられる。アルケニル置換ナジイミドは溶媒（Ｃ）に対する溶解性が良好であるために、化合物（Ｂ’）として好ましい。
【００９５】
【化１３】

【００９６】
式（８）および（９）中、Ｒ⁶は炭素数２〜９８の二価の有機基であり、Ｒ⁹は炭素数２〜１００の一価の有機基である。Ｒ⁶およびＲ⁹はそれそれ独立に架橋性を持つ有機基であることが好ましい。
【００９７】
一般式（８）で表される化合物としては、例えば、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）とモノアミン（ｂ４）との反応物（アミド酸）が挙げられる。一般式（９）で表される化合物としては、例えば、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）とモノアミン（ｂ４）との反応物（アミド酸）をイミド化して得られる化合物が挙げられる。後者としては、例えば、モノアルケニル置換ナジイミド（化合物（ｂ３）がアルケニル置換ナジック酸無水物の場合）、モノマレイミド（化合物（ｂ３）がマレイン酸無水物の場合）が挙げられる。アルケニル置換ナジイミドは溶媒（Ｃ）に対する溶解性が良好であるために、化合物（Ｂ’）として好ましい。
【００９８】
化合物（Ｂ’）としては、Ｒ⁶および／またはＲ⁹が架橋基を持つ有機基である化合物を合計で、化合物（Ｂ’）全体に対して５０モル％以上用いることが好ましく、７５モル％以上用いることがより好ましい。
【００９９】
ジアミン（ｂ１）、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）およびモノアミン（ｂ４）の具体例および好ましい例としては、本明細書の［発明を実施するための形態］欄で後述するジアミン、酸無水物基を２つ以上有する化合物、酸無水物基を１つ有する化合物およびモノアミンが挙げられる。
【０１００】
モノアルケニル置換ナジイミドおよびビスアルケニル置換ナジイミドの具体例および好ましい例としては、本明細書の［発明を実施するための形態］欄で後述する化合物が挙げられる。
【０１０１】
〈化合物（Ｂ’）の重量平均分子量〉
化合物（Ｂ’）のうちポリアミド酸およびそのイミド化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常９００〜７，５００、好ましくは９００〜３，５００、より好ましくは９００〜２，５００である。Ｍｗが前記下限値以上の化合物（Ｂ’）は、加熱処理によってポリイミド膜を形成する工程において、蒸発することがなく、化学的・機械的に安定である。Ｍｗが前記上限値以下の化合物（Ｂ’）は、溶媒（Ｃ）に対する溶解性が良好であり、インクを低粘度化することができるので、得られるポリイミド膜の膜厚を大きくすることが可能である。Ｍｗの測定条件は、実施例に記載のとおりである。
【０１０２】
〈化合物（Ｂ’）の合成条件〉
化合物（Ｂ’）を合成する際の反応条件（反応温度、イミド化の方法）などは、化合物（Ｂ）を合成する際の反応条件と同様にして行うことができる。
【０１０３】
化合物（Ｂ’）を合成する際に用いることのできるジアミン（ｂ１）、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）、モノアミン（ｂ４）は、それぞれ１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１０４】
化合物（Ｂ’）を合成する際に用いることのできる反応溶媒としては、例えば、化合物（Ａ）の合成に用いることのできる上述のその他の反応溶媒が挙げられ、好ましい反応溶媒も同様である。
【０１０５】
反応溶媒は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、必要に応じて、上記反応溶媒以外の他の溶媒を上記反応溶媒と混合して用いることもできる。
【０１０６】
反応を効率よく進めるという観点から、反応溶媒は、ジアミン（ｂ１）、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ２）、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ３）、モノアミン（ｂ４）などの反応原料の合計１００質量部に対して、１００質量部以上用いることが好ましく、５００質量部以上用いることが好ましい。反応溶媒の使用量の上限は特に制限されず、例えば反応原料の合計１００質量部に対して１０００質量部程度である。
【０１０７】
〈化合物（Ｂ’）の含有量〉
本発明の熱硬化性インクジェット用インクにおいて、化合物（Ｂ’）の含有量は前述した化合物（Ｂ）と合わせて、インク全質量に対して、１０〜６０質量％が好ましく、１４〜５５質量％がより好ましく、１８〜５０質量％がさらに好ましい。化合物（Ｂ’）の濃度が前記範囲にあると、１回のインクジェッティングで得られる塗膜の膜厚が最適となり、ジェッティング精度が高い点で好ましい。本発明のインクでは、インクジェット印刷に適した低粘度化とインクの高濃度化（固形分濃度２０質量％以上）との両立が可能である。
【０１０８】
１．４ 溶媒（Ｃ）
本発明のインクジェット用インクは、例えば、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）を溶媒（Ｃ）に溶解して得ることができる。したがって、溶媒（Ｃ）は、前記成分（Ａ）および（Ｂ）を溶解することができる溶媒であれば特に制限されない。また、単独では前記成分（Ａ）および（Ｂ）を溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合することによって前記成分（Ａ）および（Ｂ）を溶解することができる混合溶媒となるのであれば、当該溶媒も溶媒（Ｃ）として用いることが可能である。
【０１０９】
溶媒（Ｃ）の沸点は１００〜３００℃であることが好ましく、１５０〜２５０℃であることがより好ましい。沸点が低過ぎると、プリンターヘッドノズル近傍のインク中の溶媒が蒸発してしまう。そのためインクの粘度が変わり吐出できなくなる、あるいはインクの成分が固化・析出してしまうことがある。沸点が高過ぎると、印刷後のインクの乾燥が遅すぎて、印刷パターンが悪化することがある。
【０１１０】
溶媒（Ｃ）としては、例えば、乳酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、γ−ブチロラクトン、アニソール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、１−メチル−２−ピロリドン、１−エチル−２−ピロリドン、１−ブチル−２−ピロリドン、１−ビニル−２−ピロリドン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、１−アセチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチル−ε−カプロラクタム、カルバミド酸エステルが挙げられる。
【０１１１】
これらの溶媒の中でも、例えばインクジェットヘッドの耐久性向上の観点から、乳酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびγ―ブチロラクトンから選択される少なくとも１種が好ましい。
【０１１２】
なお、以上例示した溶媒の中で、インクジェットヘッドの耐久性低下やジェッティングの精度低下が問題となる場合、アミド系溶媒の使用を低減することが好ましい。このような場合、アミド系溶媒の含有量は、溶媒（Ｃ）全量に対して０〜３０質量％とすることが好ましく、０〜２０質量％とすることがより好ましい。
【０１１３】
上記アミド系溶媒としては、例えば、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、１−メチル−２−ピロリドン、１−エチル−２−ピロリドン、１−ブチル−２−ピロリドン、１−ビニル−２−ピロリドン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、１−アセチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルカプロラクタム、カルバミド酸エステルが挙げられる。
【０１１４】
溶媒（Ｃ）は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
溶媒（Ｃ）は、インクジェット用インク中の固形分濃度が２０〜８０質量％となる範囲で用いられることが好ましく、より好ましくは２０〜５０質量％、特に好ましくは２５〜３０質量％である。
【０１１５】
１．５ 添加剤
本発明のインクジェット用インクは、目的とする特性によっては添加剤を含んでもよい。添加剤としては、例えば、エポキシ樹脂、アルケニル置換ナジイミドのうち化合物（Ｂ’）に含まれないトリスおよびテトラアルケニル置換ナジイミド、アクリル樹脂、重合性モノマー、界面活性剤、化合物（Ｂ）および（Ｂ’）以外のポリアミド酸やポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、顔料、帯電防止剤、カップリング剤、硬化剤（例：エポキシ硬化剤、アルケニル置換ナジイミドの硬化剤）、染料、ｐＨ調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマーが挙げられる。
【０１１６】
１．５．１ エポキシ樹脂
本発明では、オキシラン環またはオキセタン環を１つ以上有する化合物をエポキシ樹脂という。本発明において、エポキシ樹脂としては、オキシラン環を２つ以上有する化合物が好ましく用いられる。
【０１１７】
エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、ビキシレノール型、ビフェノール型、グリシジルエステル型のエポキシ樹脂；脂環式または複素環式のエポキシ樹脂；アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂；ジシクロペンタジエン型またはナフタレン型の構造を有するエポキシ樹脂；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、式（Ｄ１）〜（Ｄ５）で表される化合物、オキシラン環を有するモノマーの重合体、オキシラン環を有するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。
【０１１８】
【化１４】

【０１１９】
式（Ｄ４）および（Ｄ５）中、ｎは０〜２０の整数である。
【０１２０】
オキシラン環を有するモノマーとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１２１】
オキシラン環を有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドが挙げられる。
【０１２２】
オキシラン環を有するモノマーの重合体、およびオキシラン環を有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ｎ−ブチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、スチレン−グリシジルメタクリレート共重合体が挙げられる。インクジェット用インクがこれらのエポキシ樹脂を含有すると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性が良好となるため好ましい。
【０１２３】
エポキシ樹脂としては、各種の市販品を用いることができる。
エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、
ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学社製）、エポキシ樹脂８２８、同８３４、同１００１、同１００４、同１０１０（商品名；三菱化学社製）、エピクロン８４０、同８５０、同１０５０、同２０５５（商品名；ＤＩＣ社製）、エポトートＹＤ−０１１、同ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（商品名；東都化成社製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同６６１、同６６４（商品名；ダウケミカル社製）、アラルダイト６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（商品名；ＢＡＳＦ社製）、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１１５、同ＥＬＡ−１２８（商品名；住友化学社製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１、同６６４（商品名；旭化成社製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
【０１２４】
エポキシ樹脂１５２、同１５４（商品名；三菱化学社製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３８（商品名；ダウケミカル社製）、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０、同Ｎ−８６５（商品名；ＤＩＣ社製）、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−７０４（商品名；東都化成社製）、アラルダイトＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、同ＥＣＮ１２９９（商品名；ＢＡＳＦ社製）、ＸＰＹ３０７、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（商品名；日本化薬社製）、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳＣＮ−２２０（商品名；住友化学社製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣＮ−２３５、同ＥＣＮ−２９９（商品名；ＡＤＥＫＡ社製）等のノボラック型エポキシ樹脂；
【０１２５】
エピクロン８３０（商品名；ＤＩＣ社製）、エポキシ樹脂８０７（商品名；三菱化学社製）、エポトートＹＤＦ−１７０（商品名；東都化成社製）、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、アラルダイトＸＰＹ３０６（商品名；ＢＡＳＦ社製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；エポトートＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７、同ＳＴ−３０００（商品名；東都化成社製）等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
【０１２６】
セロキサイド２０２１（商品名；ダイセル化学工業社製）、アラルダイトＣＹ１７５、同ＣＹ１７９、同ＣＹ１８４（商品名；ＢＡＳＦ社製）等の脂環式エポキシ樹脂；ＹＬ−９３３（商品名；三菱化学社製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（商品名；ダウケミカル社製）等のトリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂；ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（商品名；三菱化学社製）等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物；
【０１２７】
ＥＢＰＳ−２００（商品名；日本化薬社製）、ＥＰＸ−３０（商品名；ＡＤＥＫＡ社製）、ＥＸＡ−１５１４（商品名；ＤＩＣ社製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂；１５７Ｓ（商品名；三菱化学社製）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂；ＹＬ−９３１（商品名；三菱化学社製）、アラルダイト１６３（商品名；ＢＡＳＦ社製）等のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂；
【０１２８】
ＡＤＡＭＡＮＴＡＴＥ−Ｘ−Ｅ−２０１、ＡＤＡＭＡＮＴＡＴＥ−Ｘ−Ｅ−２０２、ＡＤＡＭＡＮＴＡＴＥ−Ｘ−Ｅ−２０３、ＡＤＡＭＡＮＴＡＴＥ−Ｘ−Ｅ−２０４（商品名；出光興産社製）等のアダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂；
【０１２９】
アラルダイトＰＴ８１０（商品名；ＢＡＳＦ社製）、ＴＥＰＩＣ（商品名；日産化学工業社製）等の複素環式エポキシ樹脂；ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０、ＥＸＡ−４７００（商品名；ＤＩＣ社製）等のナフタレン含有エポキシ樹脂；ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ、ＨＰ−７２００ＨＨ（商品名；ＤＩＣ社製）等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂が挙げられる。
【０１３０】
これらのエポキシ樹脂の中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、テトラフェノールエタン型エポキシ樹脂、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリシジル−４，４'−ジアミノジフェニルメタンおよび式（Ｄ１）〜（Ｄ５）で表されるエポキシ樹脂が好ましく；
【０１３１】
Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリシジル−４，４'−ジアミノジフェニルメタンおよび式（Ｄ１）〜（Ｄ５）で表されるエポキシ樹脂が、耐薬品性に優れた硬化膜が得られる点で特に好ましい。
【０１３２】
エポキシ樹脂は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１３３】
エポキシ樹脂を用いる場合、エポキシ樹脂の含有量は、インクジェット用インク全質量に対して０．０１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％がさらに好ましい。エポキシ樹脂の含有量が前記範囲にあると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【０１３４】
１．５．２ 化合物（Ｂ’）以外のアルケニル置換ナジイミド
化合物（Ｂ’）以外のアルケニル置換ナジイミドは、分子内に少なくとも３つのアルケニル置換ナジイミド構造を有する化合物であり、例えば一般式（Ｆ−１）で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物が挙げられる。
【０１３５】
【化１５】

【０１３６】
式（Ｆ−１）中、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルであり、ｌは３または４の整数である。
【０１３７】
式（Ｆ−１）においてｌ＝３のとき、Ｒ¹²は一般式（Ｆ−２）または（Ｆ−３）で表される基である。
【０１３８】
【化１６】

【０１３９】
式（Ｆ−２）中、Ｒは水素、フッ素、塩素、−ＯＨ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＦ₂Ｈ、−ＣＦ₃、−ＣＦ₂Ｈ、−ＣＦＨ₂、−ＯＣＦ₂ＣＦ₂Ｈ、−ＯＣＦ₂ＣＦＨＣＦ₃または炭素数１〜１０のアルキルである。式（Ｆ−２）および式（Ｆ−３）中、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵はそれぞれ独立に単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレンまたは炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。
【０１４０】
式（Ｆ−１）においてｌ＝３のとき、Ｒ¹²は一般式（Ｆ−２−１）、式（Ｆ−３−１）または式（Ｆ−３−２）で表される基であることが好ましい。
【０１４１】
【化１７】

【０１４２】
式（Ｆ−２−１）中、Ｒは水素、−ＯＨまたは炭素数１〜１０のアルキルである。式（Ｆ−３−２）中、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵はそれぞれ独立に１，２−エチレンまたは１，４−ブチレンである。
【０１４３】
式（Ｆ−１）においてｌ＝４のとき、Ｒ¹²は一般式（Ｆ−４）で表される基である。
【０１４４】
【化１８】

【０１４５】
式（Ｆ−４）中、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸およびＲ¹⁹はそれぞれ独立に単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレンまたは炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。
【０１４６】
式（Ｆ−１）においてｌ＝４のとき、Ｒ¹²は一般式（Ｆ−４−１）で表される基であることが好ましい。
【０１４７】
【化１９】

【０１４８】
式（Ｆ−１）中、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであることが好ましい。Ｒ¹²は、ｌ＝３の場合、式（Ｆ−２−１）で表される基（但し、Ｒは水素または−ＯＨである）、式（Ｆ−３−１）で表される基、式（Ｆ−３−２）で表される基（但し、Ｒ¹³〜Ｒ¹⁵は１，２−エチレンである）であることが好ましく；ｌ＝４の場合、式（Ｆ−４−１）で表される基であることが好ましい。本発明のインクは、これらのアルケニル置換ナジイミドの少なくとも２種を含有していてもよい。
【０１４９】
〈トリスおよびテトラアルケニル置換ナジイミドの合成〉
アルケニル置換ナジイミドは、例えば、トリアミンまたはテトラアミンと一般式（Ｆ−１’）で表されるアルケニル置換ナジック酸無水物とを反応させてなるアルケニル置換ナジイミド化合物である。
【０１５０】
【化２０】

【０１５１】
式（Ｆ−１’）中のＲ¹⁰およびＲ¹¹はそれぞれ式（Ｆ−１）中のＲ¹⁰およびＲ¹¹と同義である。
【０１５２】
アルケニル置換ナジイミド化合物は、例えば以下のように合成することができる。
（１）ｌが３であるトリスアルケニル置換ナジイミド化合物の場合はトリアミン１．０モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物を３．０〜５．０モル混合し、ｌが４であるテトラキスアルケニル置換ナジイミド化合物の場合はテトラアミン１．０モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物を４．０〜６．０モル混合し、（２）続いて、常温で例えば任意の溶媒または２種以上を混合した溶媒に溶解させて溶液とし、０．５〜３０時間攪拌保持して反応させる。
【０１５３】
上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メチルナフタレン、テトラリン、クロロフォルム、トリクレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ヘキサメチレンエーテル、アニソール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシドが挙げられる。
【０１５４】
上記溶媒を２０〜８０℃で減圧乾燥除去して、アミド酸が得られる。前記アミド酸を上記溶媒中にて０．５〜３０時間、溶媒の沸点近傍でリフラックス、あるいは、化合物そのものを１６０〜２００℃で加熱して、脱水閉環させた後、溶媒を減圧乾燥させて目的の化合物を得ることができる。目的の化合物であることはＮＭＲ、ＩＲにより確認できる。
【０１５５】
〈トリスアルケニル置換ナジイミド〉
ｌが３であるトリスアルケニル置換ナジイミド化合物としては、例えば、トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）エチル｝アミン、トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝ヒドロキシメタンが挙げられる。
【０１５６】
〈テトラキスアルケニル置換ナジイミド〉
ｌが４であるテトラキスアルケニル置換ナジイミド化合物としては、例えば、テトラキス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタンが挙げられる。
【０１５７】
アルケニル置換ナジイミドは、嵩高い構造を有する低分子量のイミドモノマーであるため、ほとんどの有機溶媒に可溶であり、溶液状態で長期間保存しても結晶の析出やゲル化が起こらず安定して使用できる。また、アルケニル置換ナジイミドは、加熱により三次元架橋構造のポリイミドを形成する。前記ポリイミドは、良好な耐熱性、機械的特性、電気的特性、耐薬品性を示す。
【０１５８】
１．５．３ アクリル樹脂
アクリル樹脂は、アクリル基および／またはメタクリル基を有するモノマーの単独または共重合体であれば特に限定されない。アクリル樹脂としては、例えば、ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマー、ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマー、二官能（メタ）アクリレートまたは三官能以上の多官能（メタ）アクリレートの単独重合体、あるいはこれらのモノマーの共重合体が挙げられる。アクリル樹脂は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１５９】
ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、形成される膜を柔軟にできる点から、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましい。
【０１６０】
ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］が挙げられる。
【０１６１】
二官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−ビス（アクリロイルオキシ）デカン、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレートが挙げられる。
【０１６２】
三官能以上の多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、ウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１６３】
アクリル樹脂としては、その他のモノマーが共重合されていてもよく、例えば、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、ポリスチレンマクロモノマーが挙げられる。
【０１６４】
本発明の熱硬化性インクジェット用インク中のアクリル樹脂濃度は特に限定されないが、０．１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％がさらに好ましい。このような濃度範囲であると、本発明の熱硬化性インクジェット用インクから形成された硬化膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【０１６５】
１．５．４ 重合性モノマー
重合性モノマーとしては、例えば、ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマー、ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマー、二官能（メタ）アクリレート、三官能以上の多官能（メタ）アクリレート、その他のモノマーが挙げられ、その具体例は上述のアクリル樹脂の説明において記載したとおりである。
【０１６６】
重合性モノマーは、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１６７】
重合性モノマーを用いる場合、インクジェット用インク中の重合性モノマーの含有量は、インクジェット用インク全質量に対して０．１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％がさらに好ましい。重合性モノマーの含有量が前記範囲にあると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【０１６８】
１．５．５ 高分子化合物
本発明の熱硬化性インクジェット用インクは、柔軟性と耐熱性付与のため、化合物（Ｂ）および（Ｂ’）以外の、ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミドおよびポリエステルから選択される少なくとも１種の高分子化合物を含んでもよい。特に、重量平均分子量が１，０００〜１０，０００である高分子化合物が、溶媒（Ｃ）に対する溶解性が優れており、本発明の熱硬化性インクジェット用インクの含有成分として好ましい。溶媒（Ｃ）に対する溶解性の観点からは、高分子化合物の重量平均分子量は、より好ましくは１，０００〜７，５００であり、さらに好ましくは１，０００〜５，０００であり、特に好ましくは１，０００〜２，０００である。
【０１６９】
重量平均分子量が１，０００以上であると、加熱処理によって蒸発することがなく、化学的・機械的に安定である。また重量平均分子量が２，０００以下であると、高分子化合物の溶媒に対する溶解性が特に高いので、本発明の熱硬化性インクジェット用インク中の高分子化合物の濃度を高くすることができるため、インクを塗布して得られる塗膜の柔軟性と耐熱性を向上させることができる。
【０１７０】
高分子化合物の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定することができる。具体的には、高分子化合物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等で濃度が約１質量％になるように希釈し、東ソー株式会社製カラムＧ４０００ＨＸＬ、Ｇ３０００ＨＸＬ、Ｇ２５００ＨＸＬおよびＧ２０００ＨＸＬを用いて、ＴＨＦを展開剤としてゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。
【０１７１】
本発明の熱硬化性インクジェット用インク中の高分子化合物の濃度は、通常０〜２０質量％であり、好ましくは０〜１０質量％である。このような濃度範囲であると、絶縁膜として良好な特性が付与できることがあり好ましい。
【０１７２】
１．５．６ 界面活性剤
界面活性剤としては、インクの表面張力の調節、塗布性を向上できる点から、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤が挙げられるが、界面活性効果があり、インクの表面張力を低下させるものであれば、特に限定はない。
【０１７３】
アクリル系界面活性剤を含むインクを用いると、パターン性に優れる膜を得ることができる傾向がある。シリコーン系界面活性剤を含むインクを用いると、パターン性に優れる膜を得ることができる傾向がある。
【０１７４】
フッ素系界面活性剤としては、例えば、商品名「Ｒ−０８」、「Ｆ−４７２ＳＦ」、「Ｒ−３０」、「ＢＬ−２０」、「Ｒ−６１」、「Ｒ−９０」、「Ｆ−１１４」、「Ｆ−４１０」、「Ｆ−４９３」、「Ｆ−４９４」、「Ｆ−４４３」、「Ｆ−４４４」、「Ｆ−４４５」、「Ｆ−４４６」、「Ｆ−４７０」、「Ｆ−４７１」、「Ｆ−４７４」、「Ｆ−４７５」、「Ｆ−４７７」、「Ｆ−４７８」、「Ｆ−４７９」、「Ｆ−４８０ＳＦ」、「Ｆ−４８２」、「Ｆ−４８３」、「Ｆ−４８４」、「Ｆ−４８６」、「Ｆ−４８７」、「Ｆ−４８９」、「Ｆ−１７２０」、「Ｆ−１７８Ｋ」、「ＥＳＭ−１」、「ＭＣＦ−３５０ＳＦ」、「ＴＦ−２０６６」、「Ｆ−４７２ＳＦ」、「ＴＦ−１３６６」、「ＴＦ−１３６７」、「Ｆ−５５２」、「Ｆ−５５３」、「Ｆ−５５４」、「ＴＦ−１４２５」、「ＴＦ−１４３７」、「ＴＦ−１５０７」、「Ｆ−１５３５」（ＤＩＣ（株）製 メガファックシリーズ）；商品名「ＤＦＸ−１８」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２５１」、「ＦＴＸ−２０８Ｇ」、「ＦＴＸ−２１８Ｇ」、「ＦＴＸ−２４０Ｇ」、［ＦＴＸ−２１２Ｐ］、「ＦＴＸ−２２０Ｐ」、「ＦＴＸ−２２８Ｐ」、「ＦＴＸ−２１８ＧＬ」、「ＦＴＸ−２０６Ｄ」、「ＦＴＸ−２１８」、「ＦＴＸ−２２０Ｄ」、「ＦＴＸ−２３０Ｄ」、「ＦＴＸ−２４０Ｄ」、［ＦＴＸ−７５０ＬＬ］、「ＦＴＸ−７３０ＬＳ」、「ＦＴＸ−７３０ＬＭ」、「ＦＴＸ−７３０ＬＬ」、「ＦＴＸ−７１０ＬＬ」、「ＦＴＸ−７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ−７３０ＦＳ」、「ＦＴＸ−７３０ＦＭ」、「ＦＴＸ−７３０ＦＬ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「フタージェント７１０ＦＬ」、「フタージェント７３０ＦＭ」、「ＦＴＸ−２０９Ｆ」、「ＦＴＸ−２１３Ｆ」、「ＦＴＸ−２３３Ｆ」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」（（株）ネオス製 フタージェントシリーズ）が挙げられる。
【０１７５】
これらの中でも、商品名「Ｒ−０８」、「Ｆ−４７２ＳＦ」、「Ｒ−３０」、「Ｆ−４７７」、「Ｆ−４７９」、「ＴＦ−１３６６」、「ＴＦ−１３６７」、「ＴＦ−１４２５」（ＤＩＣ（株）製 メガファックシリーズ）；商品名「ＤＦＸ−１８」、「ＦＴＸ−２０８Ｇ」、「ＦＴＸ−２１８Ｇ」、「ＦＴＸ−２４０Ｇ」、［ＦＴＸ−２１２Ｐ］、「ＦＴＸ−２２０Ｐ」、「ＦＴＸ−２２８Ｐ」、「ＦＴＸ−２１８ＧＬ」「フタージェント７１０ＦＬ」、「フタージェント７３０ＦＭ」、「ＦＴＸ−２０９Ｆ」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」（（株）ネオス製 フタージェントシリーズ）が好ましい。
【０１７６】
アクリル系界面活性剤としては、例えば、商品名「Ｂｙｋ−３５４」、「ＢｙＫ−３５８」、「Ｂｙｋ−３６１Ｎ」（ビック・ケミー（株）製）が挙げられる。これらの中でも、商品名「Ｂｙｋ−３６１Ｎ」（ビック・ケミー（株）製）が好ましい。
【０１７７】
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、商品名「ＦＭ−３３０６」、「ＦＭ−３３１１」、「ＦＭ−３３２１」、「ＦＭ−３３２５」、「ＦＭ−４４１１」、「ＦＭ−４４２１」、「ＦＭ−４４２５」、「ＦＭ−７７１１」、「ＦＭ−７７２１」、「ＦＭ−７７２５」、「ＦＭ−０４１１」、「ＦＭ−０４２１」、「ＦＭ−０４２５」、「ＦＭ−ＤＡ１１」、「ＦＭ−ＤＡ２１」、「ＦＭ−ＤＡ２６」、「ＦＭ−０７１１」、「ＦＭ−０７２１」、「ＦＭ−０７２５」、「ＴＭ−０７０１」、「ＴＭ−０７０１Ｔ」（チッソ（株）製）；商品名「Ｂｙｋ−３００」、「Ｂｙｋ−３０６」、「Ｂｙｋ−３３５」、「Ｂｙｋ−３１０」、「Ｂｙｋ−３４１」、「Ｂｙｋ−３４４」、「Ｂｙｋ−３７０」（ビック・ケミー（株）製）が挙げられる。
【０１７８】
さらに、シリコーン系界面活性剤としては、例えば、「ＦＭ−３３０６」、「ＦＭ−３３１１」、「ＦＭ−３３２１」および「ＦＭ−３３２５」から選択される化合物と後述する酸無水物基を１つ有する化合物との反応性生物、「ＦＭ−３３０６」、「ＦＭ−３３１１」、「ＦＭ−３３２１」および「ＦＭ−３３２５」から選択される化合物と後述する酸無水物基を２つ以上有する化合物と後述するモノアミンとの反応性生物、「ＦＭ−３３０６」、「ＦＭ−３３１１」、「ＦＭ−３３２１」および「ＦＭ−３３２５」から選択される化合物と後述する酸無水物基を２つ以上有する化合物との反応性生物、後述するテトラカルボン酸二無水物の内、式（１−７６）で表される化合物と後述するモノアミンとの反応性生物、後述するテトラカルボン酸二無水物の内、式（１−７６）で表される化合物と後述するジアミンと後述するモノアミンとの反応性生物あるいは後述するテトラカルボン酸二無水物の内、式（１−７６）で表される化合物と後述するジアミンとの反応性生物であるアミック酸・イミドが挙げられる。
【０１７９】
これらの中でも、商品名「ＦＭ−３３０６」、「ＦＭ−３３１１」、「ＦＭ−３３２１」、「ＦＭ−３３２５」、「ＦＭ−４４１１」、「ＦＭ−７７１１」「ＦＭ−０４１１」、「ＦＭ−ＤＡ１１」、「ＦＭ−０７１１」（チッソ（株）製）、「ＦＭ−３３１１」と後述する酸無水物基を１つ有する化合物との反応性生物、あるいは「ＦＭ−３３１１」と後述する酸無水物基を２つ以上有する化合物と後述するモノアミンとの反応性生物であるアミック酸が好ましい。
【０１８０】
界面活性剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１８１】
界面活性剤を用いる場合、インクジェット用インク中の界面活性剤の含有量は、インクジェット用インク全質量に対して０．００００１質量％以上、１．０質量％以下が好ましく、０．００１質量％以上、１．０質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上、１．０質量％以下がさらに好ましい。界面活性剤の含有量の上限値は、臨界ミセル濃度未満であることが特に好ましい。
【０１８２】
「臨界ミセル濃度」とは、界面活性剤が、インク中でミセルを形成し始める濃度のことである。したがって、臨界ミセル濃度未満では界面活性剤はインク中でミセルを形成しきっておらず、臨界ミセル濃度を超えると界面活性剤はインク中でミセルを形成する。
【０１８３】
インク中の界面活性剤の含有濃度が臨界ミセル濃度に達すると、界面活性剤の含有濃度を増加させてインクの表面張力の低下がほとんど起こらなくなる。この現象を利用して、界面活性剤の含有濃度と表面張力との関係から臨界ミセル濃度を決定することができる。
【０１８４】
また、インク中の界面活性剤が臨界ミセル濃度未満であることの確認は、インク中にさらに同種の界面活性剤を添加することにより確認することができる。すなわち、インク中に同種の界面活性剤を添加することにより、添加前と比べて表面張力の低下が起これば、添加前のインク中の界面活性剤の含有濃度が臨界ミセル濃度未満であると判断することができる。
【０１８５】
臨界ミセル濃度は、上記のようにインクの表面張力を利用して測定する以外に、電気伝導法、粘度法、色素法、光散乱法などによって測定することができる。何れの方法を用いることもできるが、表面張力を利用する方法が最も一般的で簡便なため好ましい。
【０１８６】
また、インクにおけるミセル形成の有無は、上述したように、インクに、インクに含有される界面活性剤と同種の界面活性剤を添加して、界面活性剤の添加の前後の表面張力を測定することにより確認することができる。すわなち、同種の界面活性剤を添加して、インク中の界面活性剤の含有濃度を増加させた際に、インクの表面張力が低下した場合、同種の界面活性剤を添加する前のインクは、界面活性剤によるミセルを形成していないと判断できる。当該方法以外に、動的光散乱法、ゼータ電位測定法、小角中性子散乱法、広角Ｘ線散乱法、小角Ｘ線散乱法、透過型電子顕微鏡によってもインク中のミセル形成の有無を確認することができる。
【０１８７】
１．５．７ 顔料
顔料としては、有機顔料および無機顔料が挙げられ、カラーインクには高い色純度、耐薬品性、耐熱性が求められることから、色純度、耐薬品性、耐熱性に優れる有機顔料がより好ましい。
【０１８８】
有機顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７などのカラーインデックス番号が付けられている顔料、ｓｐｉｌｏｎ ｂｌｕｅ ＧＮＨが挙げられる。有機顔料は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１８９】
無機顔料としては、例えば、酸化チタン、チタンブラック、カーボンブラックなどが挙げられる。無機顔料は１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
顔料は、市販品を用いてもよい。
【０１９０】
顔料を用いる場合、インクジェット用インク中の顔料の含有量は、インクジェット用インク全質量に対して０．０１〜５質量％が好ましく、０．０５〜１質量％がさらに好ましい。
【０１９１】
１．５．８ 帯電防止剤
帯電防止剤は帯電を防止するために使用することができる。帯電防止剤としては、例えば、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物などの金属酸化物；四級アンモニウム塩が挙げられる。
【０１９２】
帯電防止剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１９３】
帯電防止剤は、例えば、帯電防止剤を除いたインクジェット用インク１００質量部に対して、０．０１〜１質量部の範囲で添加して用いることができる
【０１９４】
１．５．９ カップリング剤
カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤が挙げられる、
シランカップリング剤としては、例えば、トリアルコキシシラン化合物、ジアルコキシシラン化合物が挙げられる。好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。
【０１９５】
特に好ましいシランカップリング剤としては、例えば、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。
【０１９６】
カップリング剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１９７】
カップリング剤は、例えば、カップリング剤を除いたインクジェット用インク１００質量部に対して、０．０１〜３質量部の範囲で添加して用いることができる。
【０１９８】
１．５．１０ エポキシ硬化剤
エポキシ硬化剤としては、例えば、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾール及びその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物、エポキシ樹脂とアミンとを反応させて得られるアミンアダクトが挙げられる。さらに具体的には、ジシアンジアミドなどのジシアンジアミド類；アジピン酸ジヒドラジド、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントインなどの有機酸ジヒドラジド、２，４−ジアミノ−６−［２’−エチルイミダゾリル−（１’）］−エチルトリアジン、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾールなどのイミダゾール誘導体；無水フタル酸、無水トリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物などの酸無水物、トリメリット酸、ダイマー酸が挙げられる。これらの中でも、透明性が良好な無水トリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物が好ましい。
【０１９９】
エポキシ硬化剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０２００】
エポキシ硬化剤は、例えば、エポキシ硬化剤を除いたインクジェット用インク１００質量部に対して、０．２〜１０質量部の範囲で添加して用いることができる。
【０２０１】
１．５．１１ アルケニル置換ナジイミドの硬化剤
アルケニル置換ナジイミドの硬化剤として、例えば、アゾビス系の化合物、酸を発生する化合物が挙げられ、アゾビス系の化合物が好ましい。これらの硬化剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０２０２】
アゾビス系の化合物としては、例えば、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、α，α’−アゾビスイソブチロニトリルが挙げられる。これらの中でも、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）が好ましい。
【０２０３】
本発明のインクジェット用インク中に、アルケニル置換ナジイミドとともにアゾビス系の化合物が含有されると、塗膜乾燥時のタック性がなく、ハンドリング性に優れるため好ましい。
【０２０４】
１．５．１２ 染料
染料としては、有機染料および無機染料が挙げられ、カラーインクには高い色純度、耐薬品性、耐熱性が求められることから、色純度、耐薬品性、耐熱性が優れる有機染料がより好ましい。
【０２０５】
有機染料としては、例えば、ディスパースブラック９が挙げられる。有機顔料は１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０２０６】
無機染料としては、例えば、酸化チタン、チタンブラック、カーボンブラックなどが挙げられる。無機顔料は１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
染料は、市販品を用いてもよい。
【０２０７】
染料を用いる場合、インクジェット用インク中の顔料の含有量は、インクジェット用インク全質量に対して０．０１〜５質量％が好ましく、０．０５〜１質量％がさらに好ましい。
【０２０８】
１．６．インクジェット用インクの調製方法
本発明のインクジェット用インクは、化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）と、必要に応じて化合物（Ｂ’）、溶媒（Ｃ）、その他の添加剤などとを均一に混合することによって、調製することができる。
【０２０９】
また、本発明のインクジェット用インクは、化合物（Ａ）や化合物（Ｂ）の合成時に得られた反応溶液をそのまま、必要に応じて化合物（Ｂ’）、溶媒（Ｃ）、その他の添加剤などと均一に混合することによって、調製することもできる。
【０２１０】
本発明のインクジェット用インクでは、粘度・表面張力・溶媒の沸点などの様々なパラメータをインクジェット印刷用に最適化することができる。前記インクは、良好なインクジェット印刷性（例えば描画性、厚膜形成）を示し、保存安定性にも優れ、また、熱的・電気的・機械的特性が良好で各種基板に対する密着性にも優れたポリイミド膜を形成できる。
【０２１１】
１．７ インクジェット用インクの粘度
常温（２５℃）でジェッティングを行う場合は、本発明のインクジェット用インクの常温（２５℃）における粘度は、１〜５０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、より好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは８〜２０ｍＰａ・ｓである。吐出時の粘度が前記範囲にあると、インクジェット塗布方法によるジェッティング精度が向上する。粘度が前記上限値以下であると、インクジェット吐出不良が生じにくい。
【０２１２】
インクヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、本発明のインクジェット用インクの加熱温度（好ましくは３０〜１２０℃）における粘度は、１〜５０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、より好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは８〜２０ｍＰａ・ｓである。加熱温度における粘度が前記上限値以下であると、インクジェット吐出不良が生じにくい。
【０２１３】
１．８ インクジェット用インクの表面張力
本発明のインクジェット用インクの２５℃における表面張力は、通常２０〜４５ｍＮ／ｍ、好ましくは２５〜３５ｍＮ／ｍである。表面張力が前記範囲にあると、ジェッティングにより良好な液滴が形成でき、かつメニスカスを形成することができる。表面張力が低過ぎると、インクがプリンターヘッドのノズルから吐出された直後に広がってしまい、良好な液滴が形成できなくなることがある。反対に表面張力が高過ぎると、メニスカスを形成できなくなるため、吐出不能になることがある。
【０２１４】
２．インクの塗布方法、ポリイミド膜の製造方法
本発明のインクの塗布方法は、本発明のインクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程（塗膜形成工程）、および前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程（加熱工程）を有する。ここで、インクを基板に塗布する前に、基板を表面処理する工程（表面処理工程）を設け、前記表面処理がなされた基板上にインクを塗布して塗膜を形成することが好ましい。
【０２１５】
また、本発明のポリイミド膜の製造方法は、上記インクの塗布方法を用いる。
【０２１６】
２．１ 表面処理工程
必要に応じて、基板を表面処理する。表面処理には、例えば、シランカップリング剤処理、ＵＶオゾンアッシング処理、プラズマ処理、アルカリエッチング処理、酸エッチング処理、プライマー処理が用いられる。また、本発明で適用可能な基板は、後述する［フィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板］の欄で例示する。
【０２１７】
２．２ 塗膜形成工程
インクジェット塗布方法としては、インクの吐出方法により各種のタイプがある。吐出方法としては、例えば、圧電素子型、バブルジェット（登録商標）型、連続噴射型、静電誘導型が挙げられる。
【０２１８】
本発明のインクは、含有成分を適正に選択することにより、様々な方法で吐出が可能であり、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。
【０２１９】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行う際の好ましい吐出方法は、圧電素子型である。この圧電素子型のヘッドは、複数のノズルを有するノズル形成基板と、ノズルに対向して配置される圧電材料と導電材料からなる圧力発生素子と、この圧力発生素子の周囲を満たすインクとを備えた、オンデマンドインクジェット塗布ヘッドであり、印加電圧により圧力発生素子を変位させ、インクの小液滴をノズルから吐出させる。
【０２２０】
インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが別体となった構成に限らず、それらが分離不能に一体になった構成を用いてもよい。また、インク収容部は、塗布ヘッドに対して、分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０２２１】
また、塗布ヘッドに対して、好ましい負圧を作用させるための構成をインクタンクに設ける場合には、インクタンクのインク収納部に吸収体を配置した形態、あるいは可撓性のインク収容袋とこれに対しその内容積を拡張する方向の付勢力を作用させるバネ部とを有した形態などを採用することができる。塗布装置は、シリアル塗布方式を採るもののほか、塗布媒体の全幅に対応した範囲にわたって塗布素子を整列させてなるラインプリンタの形態をとるものであってもよい。
【０２２２】
インクジェット塗布方法によって、本発明のインクジェット用インクを基板上に塗布した後、ホットプレートまたはオーブンなどで乾燥（溶媒を除去）することにより、ポリアミド酸の塗膜を形成することができる。
【０２２３】
乾燥条件はインクの含有成分の種類および配合割合によって異なるが、通常７０〜１２０℃で、オーブンを用いた場合には５〜１５分間、ホットプレートを用いた場合には１〜５分間である。
【０２２４】
２．３ 加熱工程
加熱処理は例えばホットプレートまたはオーブンなどで行い、これにより、全面または所定のパターン状（例えばライン状）のポリイミド膜が形成される。また、ポリイミド膜の形成には、加熱処理に限定されず、ＵＶ処理、イオンビーム、電子線、ガンマ線、赤外線などの処理を用いてもよい。
【０２２５】
塗膜形成工程でポリアミド酸の塗膜を形成した後、ポリアミド酸をイミド化するために、通常１８０〜３５０℃、好ましくは１８０〜３００℃で加熱処理を行う。加熱時間は、例えば、オーブンを用いた場合には３０〜９０分間、ホットプレートを用いた場合には５〜９０分間である。以上のようにして、ポリイミド膜が形成される。
【０２２６】
ポリアミド酸の塗膜がパターン状に形成されている場合には、ポリイミド膜もパターン状に形成される。本明細書では、特に言及のない限り、ポリイミド膜はパターン状のポリイミド膜を含む。
【０２２７】
パターン状のポリイミド膜を製造する場合、本発明ではインクジェット印刷により必要な部分のみにインクを描画するため、材料使用量は圧倒的に少なく、また、フォトマスクを使用する必要もない。このため、本発明では、多品種大量生産が可能であり、また、製造に要する工程数が少ない。
【０２２８】
３ ポリイミド膜
本発明のポリイミド膜は、上述のポリイミド膜の製造方法により形成される。本発明のポリイミド膜は、熱的・電気的・機械的特性が良好であり、例えば耐熱性および電気絶縁性に優れた絶縁膜であり、各種基板に対する密着性にも優れ、電子部品の信頼性、歩留まりを向上させることができる。
【０２２９】
本発明のインクジェット用インクでは、上述のように固形分濃度を高く設定できる。このため、本発明では１回のインクジェッティングで厚みが通常１μｍ以上、好ましくは１〜５μｍの硬化膜を得ることができ、当該膜厚は従来のインクから得られる硬化膜の膜厚よりも大きい。例えば１０μｍ程度の厚い絶縁膜を形成する場合、本発明のインクを用いることにより、従来のインクよりも重ね塗りの回数を減らすことができ、絶縁膜の製造工程を短縮することができる。
【０２３０】
４ フィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板
本発明のフィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板は、上述のポリイミド膜を有する。フィルム基板についていえば、例えば、インクジェット塗布方法などにより予め配線が形成されたポリイミドフィルムなどのフィルム基板上に、本発明のインクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状（ライン状等）に塗布して、その後、当該フィルム基板を乾燥・加熱することによって、ポリイミド膜を有するフィルム基板が得られる。
【０２３１】
本発明で適用可能な基板としては、例えば、ＦＲ−１、ＦＲ−３、ＦＲ−４、ＣＥＭ−３、Ｅ６６８などの各種規格に適合する、ガラスエポキシ基板、ガラスコンポジット基板、紙フェノール基板、紙エポキシ基板、グリーンエポキシ基板、ＢＴレジン基板；銅、黄銅、リン青銅、ベリリウム銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、スズ、クロム、ステンレスなどの金属からなる基板（それらの金属の表面を有する基板であってもよい）；酸化アルミニウム（アルミナ）、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、ジルコニウムのケイ酸塩（ジルコン）、酸化マグネシウム（マグネシア）、チタン酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛（ＰＴ）、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛（ＰＬＺＴ）、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、硫化カドニウム、硫化モリブデン、酸化ベリリウム（ベリリア）、酸化ケイ素（シリカ）、炭化ケイ素（シリコンカーバイト）、窒化ケイ素（シリコンナイトライド）、窒化ホウ素（ボロンナイトライド）、酸化亜鉛、ムライト、フェライト、ステアタイト、ホルステライト、スピネル、スポジュメンなどのセラミックスからなる基板（それらのセラミックスの表面を有する基板であってもよい）；ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）樹脂、ＰＣＴ（ポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート）樹脂、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、テフロン（登録商標）、熱可塑性エラストマー、液晶ポリマーなどの樹脂からなる基板（それらの樹脂の表面を有する基板であってもよい）；シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素などの半導体基板；ガラス基板；酸化スズ、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＡＴＯ（酸化アンチモンスズ）などの電極材料が表面に形成された基板；αＧＥＬ（アルファゲル）、βＧＥＬ（ベータゲル）、θＧＥＬ（シータゲル）、γＧＥＬ（ガンマゲル）（以上、（株）タイカの登録商標）などのゲルシートが挙げられる。
【０２３２】
５ 電子部品
本発明の電子部品は、上述のフィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板を有する。フィルム基板を有する電子部品についていえば、例えば、インクジェット塗布方法などにより予め配線が形成されたポリイミドフィルムなどのフィルム基板上に、本発明のインクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状（ライン状等）に塗布して、その後、当該フィルム基板を乾燥・加熱することによって、絶縁性を有するポリイミド膜で被覆されたフレキシブルな電子部品が得られる。
【０２３３】
６ 化合物の例示および好ましい具体例
【０２３４】
６．１ 酸無水物基を１つ有する化合物
上述の化合物（Ａ）における化合物（ａ１１）、化合物（Ｂ），（Ｂ’）における化合物（ｂ３）に用いることのできる酸無水物基を１つ有する化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
【０２３５】
【化２１】

【０２３６】
式中、Ｒ²⁰は、化合物（Ａ）における化合物（ａ１１）の場合は炭素数２〜１０の二価の有機基であり、化合物（Ｂ）および（Ｂ’）における化合物（ｂ３）の場合は炭素数２〜９８の二価の有機基である。Ｒ²⁰は架橋性を持つ有機基であることが好ましい。
【０２３７】
上記式で表される化合物としては、例えば、フタル酸無水物、３−メチルフタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、３−フルオロフタル酸無水物、４−フルオロフタル酸無水物、こはく酸無水物、グルタル酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物、ブチルこはく酸無水物、ｎ−オクチルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物などの架橋性有機基を有さない化合物；
４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、イタコン酸無水物、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、２−ブテン−１−イルこはく酸無水物、
５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、アリルナジック酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、アコニット酸無水物、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、トリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、式（α）で表される化合物、式（β）で表される化合物などの架橋性有機基を有する化合物；
が挙げられる。
【０２３８】
【化２２】

【０２３９】
式（α）で表される化合物は、例えば、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物とトリメトキシシランとを反応させて得ることができる。式（β）で表される化合物は、例えば、アリルナジック酸無水物とトリメトキシシランとを反応させて得ることができる。
【０２４０】
酸無水物基を１つ有する化合物の中でも、架橋性および得られる塗膜の耐久性が優れるという点から、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、アリルナジック酸無水物、４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、トリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドが好ましい。
【０２４１】
酸無水物基を１つ有する化合物は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０２４２】
６．２ 酸無水物基を２つ以上有する化合物
上述の化合物（Ａ）における化合物（ａ１２）、化合物（Ｂ），（Ｂ’）における化合物（ｂ２）に用いることのできる酸無水物基を２つ以上有する化合物としては、例えば、酸無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体、テトラカルボン酸二無水物が挙げられ、テトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【０２４３】
酸無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体としては、例えば、スチレン−無水マレイン酸共重合体、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸共重合体、オレフィン−無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体が挙げられる。製品としては、例えば、製品名ＳＭＡ１０００、ＳＭＡ２０００（サートマー社製）が挙げられる。
【０２４４】
テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
【０２４５】
【化２３】

式中、Ｒ²¹は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、但し、化合物（Ａ）における化合物（ａ１２）の場合は炭素数４〜４０の四価の有機基である。
【０２４６】
上記式で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４ージカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物、ｐ−フェニレンビス（トリメリット酸モノエステル酸無水物）、４，４’−［（イソプロピリデン）ビス（ｐ−フェニレンオキシ）］ジフタル酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物、３，３’，４，４’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、３，３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン琥珀酸二無水物および式１−１〜１−７７で表される化合物が挙げられる。
【０２４７】
【化２４】

【０２４８】
【化２５】

【０２４９】
【化２６】

【０２５０】
【化２７】

【０２５１】
【化２８】

【０２５２】
【化２９】

【０２５３】
【化３０】

【０２５４】
【化３１】

式（１−７７）中、Ｐｈはフェニル基を表す。
【０２５５】
テトラカルボン酸二無水物の中でも、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物および式１−５の化合物が、溶媒（Ｃ）への溶解性が高く、高濃度のインクを調整できるので好ましい。
【０２５６】
また、インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされる。このような場合には、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物が特に好ましい。
【０２５７】
酸無水物基を２つ以上有する化合物は、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０２５８】
６．３ モノアミン
上述の化合物（Ｂ’）におけるモノアミン（ｂ４）に用いることのできるモノアミンとしては、アミノ基を１つ有する化合物であり、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
【０２５９】
【化３２】

式中、Ｒ²²は炭素数２〜１００の一価の有機基であり、架橋性を持つ有機基であることが好ましい。
上記式で表されるモノアミンとしては、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、２−アミノ安息香酸、３−アミノ安息香酸、４−アミノ安息香酸、２−フルフリルアミン、チラミン、２−（４−アミノフェニル）エチルアミン、ｔｒａｎｓ−４−アミノシクロヘキサノール、モノエタノールアミン、２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、５−アミノ−１−ペンタノール、ｎ−ブチルアミン、アニリン、３−エチニルアニリン、４−エチニルアニリン、ペンタフルオロアニリン、トリプトファン、リシン、メチオニン、フェニルアラニン、トレオニン、バリン、イソロイシン、ロイシン、ヒスチジン、アラニン、アルギニン、アスパラギン、セリン、アスパラギン酸、システイン、グルタミン、グルタミン酸、グリシン、プロリン、チロシン、１２−アミノラウリル酸、Ｏ―ホスホリルエタノールアミン、硫化水素２−アミノエチル、２−アミノエタンスルホン酸、４−アミノ桂皮酸、ディスパースブラック９が挙げられる。
【０２６０】
これらの中でも、得られるインクのインクジェット吐出性が向上する傾向があることから、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシランが好ましく、３−アミノプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。
【０２６１】
モノアミンは、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０２６２】
６．４ ジアミン
上述の化合物（Ｂ），（Ｂ’）におけるジアミン（ｂ１）に用いることのできるジアミンとしては、アミノ基を２つ有する化合物であり、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
【０２６３】
【化３３】

式中、Ｒ²³は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
【０２６４】
上記式で表されるジアミンとしては、例えば、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、ダイマージアミンおよび一般式（I）〜（VII）で表される化合物が挙げられる。
【０２６５】
【化３４】

【０２６６】
式（Ｉ）中、Ａ¹は、−（ＣＨ₂）_m−であり、ここでｍは２〜１２の整数である。
式（III）、（Ｖ）および（VII）中、Ａ²は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｃ（ＣＦ₃）₂−、−（ＣＨ₂）_n−、−Ｏ−（ＣＨ₂）_n−Ｏ−または−Ｓ−（ＣＨ₂）_n−Ｓ−であり、ここでｎは１〜６の整数である。
式（VI）および（VII）中、２つ存在するＡ³は、それぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｃ（ＣＦ₃）₂−または炭素数１〜３のアルキレンである。
【０２６７】
以上の式（Ｉ）〜（VII）において、シクロヘキサン環またはベンゼン環が有する少なくとも一つの水素原子は、−Ｆまたは−ＣＨ₃で置き換えられていてもよい。
式（Ｉ）で表される化合物としては、例えば、式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）で表される化合物が挙げられる。
【０２６８】
【化３５】

式（II）で表される化合物としては、例えば、式（II−１）〜（II−２）で表される化合物が挙げられる。
【０２６９】
【化３６】

式（III）で表される化合物としては、例えば、式（III−１）〜（III−３）で表される化合物が挙げられる。
【０２７０】
【化３７】

式（IV）で表される化合物としては、例えば、式（IV−１）〜（IV−５）で表される化合物が挙げられる。
【０２７１】
【化３８】

【０２７２】
式（Ｖ）で表される化合物としては、例えば、式（Ｖ−１）〜（Ｖ−３０）で表される化合物が挙げられる。
【０２７３】
【化３９】

【０２７４】
【化４０】

【０２７５】
式（VI）で表される化合物としては、例えば、式（VI−１）〜（VI−６）で表される化合物が挙げられる。
【０２７６】
【化４１】

【０２７７】
式（VII）で表される化合物としては、例えば、式（VII−１）〜（VII−１１）で表される化合物が挙げられる。
【０２７８】
【化４２】

【０２７９】
式（Ｉ）〜（VII）で表される化合物の上記具体例の中でも、好ましくは式（IV−１）〜（IV−５）、式（Ｖ−１）〜（Ｖ−１２）、式（Ｖ−２６）、式（Ｖ−２７）、式（VI−１）、式（VI−２）、式（VI−６）および式（VII−１）〜（VII−５）で表される化合物であり、より好ましくは式（Ｖ−１）〜（Ｖ−１２）で表される化合物である。
ジアミンの中でも、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタンが好ましい。
【０２８０】
ジアミンとしては、さらに一般式（VIII）で表される化合物が挙げられる。
【０２８１】
【化４３】

【０２８２】
式（VIII）中、Ａ⁴は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｎ＝Ｎ−または−（ＣＨ₂）_p−であり、ここで、ｐは１〜６の整数である。Ｒ²⁴は、ステロイド骨格を有する基、または、シクロヘキサン環およびベンゼン環とからなる群より選ばれる少なくとも１種の環構造を有する基である。なお、ベンゼン環に結合している２つのアミノ基の位置関係がパラ位のときは、Ｒ²⁴は炭素数１〜３０のアルキルであってもよく、前記位置関係がメタ位のときは、Ｒ²⁴は炭素数１〜１０のアルキル、または−Ｆ、−ＣＨ₃、−ＯＣＨ₃、−ＯＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＨＦ₂もしくは−ＯＣＦ₃で置き換えられていてもよいフェニルであってもよい。
【０２８３】
Ｒ²⁴における上記炭素数１〜３０のアルキルおよび炭素数１〜１０のアルキルは、直鎖状であっても分岐状であってもよい。これらのアルキルにおいては、任意の−ＣＨ₂−が−ＣＦ₂−、−ＣＨＦ−、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられていてもよく、任意の−ＣＨ₃が−ＣＨ₂Ｆ、−ＣＨＦ₂または−ＣＦ₃で置き換えられていてもよい。
【０２８４】
式（VIII）において、２つのアミノ基はフェニル環炭素に結合しているが、２つのアミノ基の結合位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。さらに２つのアミノ基はそれぞれ、「Ｒ²⁴−Ａ⁴−」のベンゼン環への結合位置を１位としたときに、３位および５位、または２位および５位に結合していることが好ましい。
【０２８５】
式（VIII）で表される化合物としては、例えば、式（VIII−１）〜（VIII−１１）で表される化合物が挙げられる。
【０２８６】
【化４４】

【０２８７】
【化４５】

【０２８８】
式（VIII−１）、（VIII−２）、（VIII−７）および（VIII−８）中、Ｒ²⁵は炭素数１〜３０の有機基であり、炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシであることが好ましく、炭素数５〜１２のアルキルまたは炭素数５〜１２のアルコキシであることがさらに好ましい。
【０２８９】
式（VIII−３）〜（VIII−６）および（VIII−９）〜（VIII−１１）中、Ｒ²⁶は炭素数１〜３０の有機基であり、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシであることが好ましく、炭素数３〜１０のアルキルまたは炭素数３〜１０のアルコキシであることがさらに好ましい。
【０２９０】
式（VIII）で表される化合物としては、さらに、例えば、式（VIII−１２）〜（VIII−１７）で表される化合物が挙げられる。
【０２９１】
【化４６】

【０２９２】
式（VIII−１２）〜（VIII−１５）中、Ｒ²⁷は炭素数１〜３０の有機基であり、炭素数４〜１６のアルキルであることが好ましく、炭素数６〜１６のアルキルであることがさらに好ましい。
【０２９３】
式（VIII−１６）および式（VIII−１７）中、Ｒ²⁸は炭素数１〜３０の有機基であり、炭素数６〜２０のアルキルであることが好ましく、炭素数８〜２０のアルキルであることがさらに好ましい。
【０２９４】
式（VIII）で表される化合物としては、さらに、例えば、式（VIII−１８）〜（VIII−３８）で表される化合物が挙げられる。
【０２９５】
【化４７】

【０２９６】
【化４８】

【０２９７】
【化４９】

【０２９８】
式（VIII−１８）、（VIII−１９）、（VIII−２２）、（VIII−２４）、（VIII−２５）、（VIII−２８）、（VIII−３０）、（VIII−３１）、（VIII−３６）および（VIII−３７）中、Ｒ²⁹は炭素数１〜３０の有機基であり、炭素数１〜１２のアルキルまたは炭素数１〜１２のアルコキシであることが好ましく、炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシであることがさらに好ましい。
【０２９９】
式（VIII−２０）、（VIII−２１）、（VIII−２３）、（VIII−２６）、（VIII−２７）、（VIII−２９）、（VIII−３２）〜（VIII−３５）および（VIII−３８）中、Ｒ³⁰は水素、−Ｆ、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のアルコキシ、−ＣＮ、−ＯＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＨＦ₂または−ＯＣＦ₃であり、炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシであることが好ましい。
【０３００】
式（VIII−３３）と（VIII−３４）中、Ａ⁵は炭素数１〜１２のアルキレンである。
式（VIII）で表される化合物としては、さらに、例えば、式（VIII−３９）〜（VIII−４９）で表される化合物が挙げられる。
【０３０１】
【化５０】

【０３０２】
【化５１】

【０３０３】
式（VIII）で表される化合物のうち、式（VIII−１）〜式（VIII−１１）で表される化合物が好ましく、式（VIII−２）、式（VIII−４）、式（VIII−５）および式（VIII−６）で表される化合物がさらに好ましい。
【０３０４】
本発明において、ジアミンとしては、さらに式（IX）〜（Ｘ）で表される化合物が挙げられる。
【０３０５】
【化５２】

【０３０６】
【化５３】

【０３０７】
式（IX）および（X）中、Ｒ³¹は水素または−ＣＨ₃であり、２つ存在するＲ³²はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜２０のアルキルまたは炭素数２〜２０アルケニルであり、２つ存在するＡ⁶はそれぞれ独立に単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＨ₂−である。
【０３０８】
式（Ｘ）中、Ｒ³³およびＲ³⁴はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜２０のアルキルまたはフェニルである。
【０３０９】
式（IX）中、ステロイド核のＢ環に結合した「ＮＨ₂−Ｐｈ−Ａ⁶−Ｏ−」（−Ｐｈ−は、フェニレンを示す）は、ステロイド核の６位の炭素に結合していることが好ましい。また、２つのアミノ基は、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ⁶のフェニル環への結合位置に対して、メタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
【０３１０】
式（Ｘ）中、２つの「ＮＨ₂−（Ｒ³⁴−）Ｐｈ−Ａ⁶−Ｏ−」（−Ｐｈ−は、フェニレンを示す）は、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、該フェニル環にステロイド核および「ＮＨ₂−（Ｒ³⁴−）Ｐｈ−Ａ⁶−Ｏ−」が結合していると考えた場合、ステロイド核と「ＮＨ₂−（Ｒ³⁴−）Ｐｈ−Ａ⁶−Ｏ−」との位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。また、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ⁶に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
【０３１１】
式（IX）で表される化合物としては、例えば、式（IX−１）〜（IX−４）で表される化合物が挙げられる。
【０３１２】
【化５４】

【０３１３】
式（Ｘ）で表される化合物としては、例えば、式（Ｘ−１）〜（Ｘ−８）で表される化合物が挙げられる。
【化５５】

【０３１４】
【化５６】

【０３１５】
ジアミンとしては、さらに一般式（XI）および（XII）で表される化合物が挙げられる。
【０３１６】
【化５７】

【０３１７】
式（XI）中、Ｒ³⁵は水素または炭素数１〜２０のアルキルであり、該アルキルにおいて、任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられていてもよく、２つ存在するＡ⁷はそれぞれ独立に−Ｏ−または炭素数１〜６のアルキレンであり、Ａ⁸は単結合または炭素数１〜３のアルキレンであり、環Ｔは１，４−フェニレンまたは１，４−シクロヘキシレンであり、ｈは０または１である。
【０３１８】
【化５８】

【０３１９】
式（XII）中、Ｒ³⁶は炭素数２〜３０のアルキルであり、これらの中でも炭素６〜２０のアルキルが好ましい。Ｒ³⁷は水素または炭素数１〜３０のアルキルであり、これらの中でも炭素１〜１０のアルキルが好ましい。２つ存在するＡ⁹はそれぞれ独立に−Ｏ−または炭素数１〜６のアルキレンである。
【０３２０】
式（XI）中、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ⁷に対してメタ位またはパラに結合していることが好ましい。また、式（XII）中、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ⁹に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
【０３２１】
式（XI）で表される化合物としては、例えば、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−メチルシクロヘキサンなどの、式（XI−１）〜（XI−９）で表される化合物が挙げられる。
【０３２２】
【化５９】

【０３２３】
式（XI−１）〜（XI−３）中、Ｒ³⁸は水素または炭素数１〜２０のアルキルである。
式（XI−４）〜（XI−９）中、Ｒ³⁹は水素または炭素数１〜２０のアルキルであり、水素または炭素数１〜１０のアルキルであることが好ましい。
【０３２４】
式（XII）で表される化合物としては、例えば、式（XII−１）〜（XII−３）で表される化合物が挙げられる。
【０３２５】
【化６０】

【０３２６】
式（XII−１）〜（XII−３）中、Ｒ⁴⁰は炭素数２〜３０のアルキルであり、これらの中でも炭素数６〜２０のアルキルが好ましく、Ｒ⁴¹は水素または炭素数１〜３０のアルキルであり、これらの中でも水素または炭素数１〜１０のアルキルが好ましい。
【０３２７】
さらに、ジアミンとして、ジエチレングリコールビス（３−アミノプロピル）エーテル、１，２−ビス（２−アミノエトキシ）エタン、１，４−ブタンジオールビス（３−アミノプロピル）エーテル、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２,４,８,１０−テトラオキサスピロ［５,５］ウンデカン、４,４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，６−ビス（４−（（４−アミノフェニル）メチル）フェニル）ヘキサン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、α，α’−ビス（４−アミノフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン、１,４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン，Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサンおよびネオペンチルグリコールビス（４−アミノフェニル）エーテルも挙げられる。
【０３２８】
上述のとおり、ジアミンとしては、例えば、上記式（Ｉ）〜（XII）で表される化合物を用いることができるが、これらの化合物以外の、アミノ基を２つ有する化合物も用いることができる。例えば、ナフタレン構造を有するナフタレン系ジアミン、フルオレン構造を有するフルオレン系ジアミン、シロキサン結合を有するシロキサン系ジアミン、トリアジン骨格を含むトリアジン系ジアミンなどを単独で、または他のアミノ基を２つ有する化合物として挙げた化合物と混合して用いることができる。
【０３２９】
シロキサン系ジアミンは特に限定されるものではないが、一般式（XIII）で表される化合物が、本発明において好ましく使用され得る。
【０３３０】
【化６１】

【０３３１】
式（XIII）中、Ｒ⁴²およびＲ⁴³はそれぞれ独立に炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ⁴⁴はメチレンまたは炭素数１〜１０のアルキルで置き換えられていてもよいフェニレンであり、２つのｘはそれぞれ独立に１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。複数存在するＲ⁴²、Ｒ⁴³およびＲ⁴⁴は、それぞれ互いに同じでも異なっていてもよい。
【０３３２】
ジアミンは、さらに式（XV−１）〜（XV−１６）で表される化合物が挙げられる。
【０３３３】
【化６２】

【０３３４】
【化６３】

【０３３５】
【化６４】

式（ＸＶ−１５）中、ｎは２〜１５の整数である。具体的な製品としてはイハラケミカル社製、エラストマー１０００Ｐ（ｎ（平均値）＝１３．６２）、エラストマー６５０Ｐ（ｎ（平均値）＝８．７６）、エラストマー２５０Ｐ（ｎ（平均値）＝３．２１）が挙げられる。式（ＸＶ−１６）中、ｎは２〜１５の整数、ｍは２〜１５の整数である。具体的な製品としてはイハラケミカル社製、ポレアＳＬ−１００Ａが挙げられる。
【０３３６】
本発明において、ジアミンとしては、さらに、下記式（４−２−１）〜（４−２−３）で表されるフルオレン系ジアミンが好ましく挙げられる。
【０３３７】
【化６５】

【０３３８】
本発明において、ジアミンとしては、さらに、下記式（４−３−１）、（４−３−２）、（４−３−３）および（４−３−４）で表されるトリアジン系ジアミンが好ましく挙げられる。
【０３３９】
【化６６】

【０３４０】
ジアミンとして、さらに式（11）〜（30）で表される化合物が挙げられる。式（11）〜（18）中、Ｒ⁴⁵およびＲ⁴⁶はそれぞれ独立に炭素数３〜２０のアルキルである。
【０３４１】
【化６７】

【０３４２】
ジアミンは、上記例示のジアミンに限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のジアミンを用いることができる。
【０３４３】
インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされる。そのような場合には、ジアミンとして、３，３'−ジアミノジフェニルスルホンおよび式（XIII）においてｙ＝１〜１５の整数である化合物を用いることが特に好ましい。
【０３４４】
ジアミンは、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０３４５】
６．５ モノまたはビスアルケニル置換ナジイミド
化合物（Ｂ’）におけるモノまたはビスアルケニル置換ナジイミドは、分子内に１つまたは２つのアルケニル置換ナジイミド構造を有する化合物であり、例えば一般式（Ｂ’−１）で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物が挙げられる。
【０３４６】
【化６８】

【０３４７】
式（Ｂ’−１）中、Ｒ⁴⁷およびＲ⁴⁸はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルであり、ｌは１または２である。
【０３４８】
式（Ｂ’−１）中、ｌ＝１のとき、Ｒ⁴⁹は水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のヒドロキシアルキル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリール、ベンジル、−｛（Ｃ_qＨ_2q）Ｏ_t（Ｃ_rＨ_2rＯ）_uＣ_sＨ_2sＸ｝（ｑ、ｒおよびｓはそれぞれ独立に２〜６の整数、ｔは０または１の整数、ｕは１〜３０の整数、Ｘは水素または水酸基である）で表されるポリオキシアルキレンアルキル、−（Ｒ⁵⁰）_a−Ｃ₆Ｈ₄−Ｒ⁵¹（ａは０または１の整数であり、Ｒ⁵⁰は炭素数１〜４のアルキレンであり、Ｒ⁵¹は水素または炭素数１〜４のアルキルである）で表される基、−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ−Ｃ₆Ｈ₅｛Ｔは−ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＯ−、−Ｓ−または−ＳＯ₂−である｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結した１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基である。
【０３４９】
式（Ｂ’−１）中、ｌ＝２のとき、Ｒ⁴⁹は炭素数２〜２０のアルキレン（アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい）、炭素数５〜８のシクロアルキレン、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ⁵⁰）_a−Ｃ₆Ｈ₄−Ｒ⁵²−（ａは０または１の整数であり、Ｒ⁵⁰およびＲ⁵²はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ−Ｃ₆Ｈ₄−、−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ−Ｃ₆Ｈ₄−もしくは−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ’−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ−Ｃ₆Ｈ₄−Ｔ’−Ｃ₆Ｈ₄−｛Ｔは単結合、炭素数１〜６のアルキレン、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｃ（ＣＦ₃）₂−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ₂−であり、Ｔ’は−ＣＨ₂−または−Ｏ−である｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基、式（Ｂ’−２）で表される基、または式（Ｂ’−３）で表される基である。
【０３５０】
【化６９】

【０３５１】
式（Ｂ’−２）中、複数あるｘはそれぞれ独立に１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。
【０３５２】
【化７０】

【０３５３】
式（Ｂ’−１）中、Ｒ⁴⁷およびＲ⁴⁸はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであることが好ましく、ｌ＝１の場合はＲ⁴⁹が炭素数１〜１２のアルキルまたは炭素数６〜１２のアリールであることが好ましく、ｌ＝２の場合はＲ⁴⁹が−（ＣＨ₂）_p−（ｐは６〜１２の整数である）で表される基、式（Ｂ’−４）で表される基、式（Ｂ’−５）で表される基、式（Ｂ’−６）で表される基、式（Ｂ’−２）で表される基（但し、ｘ＝３、ｙ＝１である）または式（Ｂ’−３）で表される基であることが好ましい。本発明のインクは、これらのアルケニル置換ナジイミドの少なくとも２種を含有していてもよい。
【化７１】

【０３５４】
アルケニル置換ナジイミドは、例えば、モノアミンまたはジアミンと一般式（Ｂ’−１’）で表されるアルケニル置換ナジック酸無水物とを反応させてなるアルケニル置換ナジイミド化合物である。
【０３５５】
【化７２】

【０３５６】
式（Ｂ’−１’）中のＲ⁴⁷およびＲ⁴⁸はそれぞれ式（Ｂ’−１）中のＲ⁴⁷およびＲ⁴⁸と同義である。
【０３５７】
〈モノアルケニル置換ナジイミド〉
ｌが１であるモノアルケニル置換ナジイミド化合物としては、例えば、
アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシ−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシ−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシ−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシ−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３５８】
また、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−シクロヘキシル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−シクロヘキシル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−シクロヘキシル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−フェニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３５９】
また、Ｎ−フェニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ベンジル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ベンジル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ベンジル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２’−ヒドロキシエチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２’−ヒドロキシエチル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２’−ヒドロキシエチル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３６０】
また、Ｎ−（２’，２’−ジメチル−３’−ヒドロキシプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２’，２’−ジメチル−３’−ヒドロキシプロピル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２’，３’−ジヒドロキシプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２’，３’−ジヒドロキシプロピル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３’−ヒドロキシ−１’−プロペニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４’−ヒドロキシ−シクロヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３６１】
また、Ｎ−（４’−ヒドロキシフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４’−ヒドロキシフェニル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４’−ヒドロキシフェニル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４’−ヒドロキシフェニル）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３’−ヒドロキシフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３’−ヒドロキシフェニル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシベンジル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−｛２’−（２’−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３６２】
また、Ｎ−｛２’−（２’−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−｛２’−（２’−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−｛２’−（２’−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２’−｛２’−（２”−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２’−｛２’−（２”−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２’−｛２’−（２”−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−｛４’−（４’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−｛４’−（４’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−｛４’−（４’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３６３】
モノアルケニル置換ナジイミドは、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０３６４】
好ましいモノアルケニル置換ナジイミドとしては、
Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド；
【０３６５】
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−シクロヘキシル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−シクロヘキシル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−シクロヘキシル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−フェニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド；
【０３６６】
Ｎ−フェニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ベンジル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ベンジル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ベンジル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド；
が挙げられる。
【０３６７】
さらに好ましいモノアルケニル置換ナジイミドとしては、Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド；
【０３６８】
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド；
が挙げられる。
【０３６９】
〈ビスアルケニル置換ナジイミド〉
ｌが２であるビスアルケニル置換ナジイミド化合物としては、例えば、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３７０】
また、１，２−ビス｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、１，２−ビス｛３’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、１，２−ビス｛３’−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、ビス〔２’−｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、ビス〔２’−｛３’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、１，４−ビス｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン、１，４−ビス｛３’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３７１】
また、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３７２】
また、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４’−｛４’−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３７３】
また、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３７４】
また、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、１，６−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−３−ヒドロキシ−ヘキサン、１，１２−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−３，６−ジヒドロキシ−ドデカン、１，３−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−５−ヒドロキシ−シクロヘキサン、１，５−ビス｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝−３−ヒドロキシ−ペンタン、１，４−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２−ヒドロキシ−ベンゼン、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３７５】
また、１，４−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２，５−ジヒドロキシ−ベンゼン、Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルメチルシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２，３−ジヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３７６】
また、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２’−ヒドロキシ−フェノキシ｝フェニル〕プロパン、ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２−ヒドロキシ−フェニル｝メタン、ビス｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−４−ヒドロキシ−フェニル｝エーテル、ビス｛３−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−５−ヒドロキシ−フェニル｝スルホン、１，１，１−トリ｛４'−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）｝フェノキシメチルプロパン、Ｎ，Ｎ'，Ｎ"−トリ（エチレンメタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）イソシアヌレート、およびこれらのオリゴマーが挙げられる。
【０３７７】
また、非対称なアルキレン・フェニレン基を有する下記化合物が挙げられる。
【化７３】

【０３７８】
ビスアルケニル置換ナジイミドは、１種のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０３７９】
好ましいビスアルケニル置換ナジイミドとしては、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）；
【０３８０】
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４’−｛４’−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン；
【０３８１】
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン；
【０３８２】
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン；
が挙げられる。
【０３８３】
さらに好ましいビスアルケニル置換ナジイミドとしては、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）；
【０３８４】
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）；
【０３８５】
２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４’−｛４’−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン；
【０３８６】
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン；
が挙げられる。
【実施例】
【０３８７】
以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例および比較例で用いる成分の名称を略号で示す。以下の記述にはこの略号を使用する。
【０３８８】
化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）または化合物（Ｂ’）等の原料
ＥｔＯＨ ：エタノール
ＯＤＰＡ ：３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
ＢＡＰＰ ：２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン
ＤＤＳ ：３，３−ジアミノジフェニルスルホン
４−ＥＰＡ：４−エチニルフタル酸無水物
ＭＡ ：マレイン酸無水物
ＣＡ ：シトラコン酸無水物
ＡＰＳＥ ：３−アミノプロピルトリエトキシシラン
ＳＭＡ１０００：下記式で表される化合物
【化７４】

ＦＭ３３１１：「ＦＭ−３３１１」（チッソ（株）製）
【０３８９】
化合物（Ａ）
ＥｔＯＤＰＡ：下記式で表される化合物
【０３９０】
【化７５】

【０３９１】
反応容器に、ＥｔＯＨ（１００．６３ｇ）およびＯＤＰＡ（１．０９ｇ）を添加して、４０℃のウォーターバスにて１２時間撹拌した。反応後の反応溶液を減圧濃縮して、ＥｔＯＤＰＡからなる固形物を得た。
【０３９２】
化合物（Ａ）
ＥｔＳＭＡ１０００：下記式で表される化合物
【０３９３】
【化７６】

【０３９４】
反応容器に、ＥｔＯＨ（１００．２１ｇ）およびＳＭＡ１０００（１．０１ｇ）を添加して、４０℃のウォーターバスにて７２時間撹拌した。反応後の反応溶液を減圧濃縮して、ＥｔＳＭＡ１０００からなる固形物を得た。
【０３９５】
溶媒（Ｃ）
ＥＤＭ：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
ＧＢＬ：γ−ブチロラクトン
【０３９６】
界面活性剤
ＦＭ３３１１／ＭＡ：ＦＭ−３３１１とＭＡとをモル比（ＦＭ−３３１１：ＭＡ）＝１：２にて固形分２０％重量部となるようにＥＤＭ中で反応させたアミック酸溶液
【０３９７】
重量平均分子量の測定方法
化合物（Ｂ）および（Ｂ’）のＭｗは、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定することができる。具体的には、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）で化合物（Ｂ）または化合物（Ｂ’）の固形分濃度が約１質量％になるように希釈し、ＧＰＣ装置として、日本分光（株）製、ＪＡＳＣＯ ＧＵＬＬＩＶＥＲ １５００（インテリジェント示差屈折率計 ＲＩ−１５３０）を用い、東ソー株（株）製カラムＧ４０００ＨＸＬ、Ｇ３０００ＨＸＬ、Ｇ２５００ＨＸＬおよびＧ２０００ＨＸＬの４本をこの順序で接続してなるものを用いて、測定条件は、カラム温度４０℃、流速１．０ｍｌ／ｍｉｎとする。以上の条件で、得られた希釈液を展開剤として用い、ＧＰＣ法により測定して、ポリスチレン換算することにより、Ｍｗを求めることができる。
【０３９８】
〔インクジェット用インクの調製〕
［実施例１］
反応容器に、ＢＡＰＰ（０．８０３０５ｇ、１．９６ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．３０３４５ｇ、０．９８ｍｍｏｌ）およびＥｔＯＤＰＡ（０．３９３５５ｇ、０．９８ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（１．７５ｇ）およびＧＢＬ（１．７５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。下記反応式（１）のようにＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（１）とした。インク（１）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は６２．０ｍＰａ・ｓであった。インク（１）の見かけの重量平均分子量は２，３８３であった。
【０３９９】
【化７７】

【０４００】
インク（１）３ｇにＥＤＭ（０．７５ｇ）、ＧＢＬ（０．７５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００６７５ｇ）を添加して、固形分濃度２０質量％のインクジェット用インク（１’）を得た。インク（１’）の粘度は１３．７ｍＰａ・ｓであった。
【０４０１】
［実施例２］
反応容器に、ＢＡＰＰ（４．７６５３ｇ、１１．６ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．９００３ｇ、２．９０ｍｍｏｌ）、ＥｔＯＤＰＡ（２．３３５３ｇ、５．８１ｍｍｏｌ）および４−ＥＰＡ（０．９９９１ｇ、５．８１ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（１０．５ｇ）およびＧＢＬ（１０．５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。下記反応式のようにＢＡＰＰ、ＯＤＰＡおよび４−ＥＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物と、化合物（Ｂ）および（Ｂ’）としてＢＡＰＰ、ＯＤＰＡおよび４−ＥＰＡの反応付加物と、ＢＡＰＰおよび４−ＥＰＡの反応付加物とを含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（２）とした。インク（２）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は３２．３ｍＰａ・ｓであった。インク（２）の見かけの重量平均分子量は１，３０７であった。
【０４０２】
【化７８】

【０４０３】
インク（２）３ｇにＥＤＭ（０．３ｇ）、ＧＢＬ（０．３ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００５４ｇ）を添加して、固形分濃度２５質量％のインクジェット用インク（２’）を得た。インク（２’）の粘度は１８．２ｍＰａ・ｓであった。
【０４０４】
［実施例３］
反応容器に、ＢＡＰＰ（１．３９０ｇ、３．３９ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．２６２６ｇ）、ＥｔＯＤＰＡ（０．６８１２ｇ、１．６９ｍｍｏｌ）およびＭＡ（０．１６６０ｇ、１．６９ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．７５ｇ）およびＧＢＬ（３．７５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。下記反応式のようにＢＡＰＰ、ＯＤＰＡおよびＭＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物と、化合物（Ｂ）および（Ｂ’）としてＢＡＰＰ、ＯＤＰＡおよびＭＡの反応付加物と、ＢＡＰＰおよびＭＡの反応付加物とを含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液にＦＭ３３１１／ＭＡ（０．０１５ｇ）を加えてインクジェット用インク（３）とした。インク（３）の固形分濃度は２５質量％であり、粘度は１２．２ｍＰａ・ｓであり、インク（３）の見かけの重量平均分子量は１，１８５であった。
【０４０５】
【化７９】

【０４０６】
［実施例４］
反応容器に、ＣＡ（８．０６９ｇ、７１．９９ｍｍｏｌ）およびＡＰＳＥ（１５．９３８ｇ、７１．９９ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（６．００１ｇ）を添加し、１８０℃で３時間還流した（下記反応式参照）。新たな反応容器に、反応後の反応溶液（３．７６６７ｇ）および実施例１で得られたインクジェット用インク（１）（１．９９８０ｇ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（１．４５５２ｇ）、界面活性剤としてＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００５２ｇ）を添加して、インクジェット用インク（４）を得た。インク（４）の固形分濃度は５０質量％であり、粘度は１３．８ｍＰａ・ｓであった。
【０４０７】
【化８０】

【０４０８】
［実施例５］
反応容器に、ＢＡＰＰ（１．５４２４ｇ、３．７６ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．５８２８ｇ、１．８８ｍｍｏｌ）およびＥｔＳＭＡ１０００（０．８７４８ｇ、０．１６ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．５ｇ）およびＧＢＬ（３．５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。上記反応式（１）のようにＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＳＭＡ１０００を、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（５）とした。インク（５）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は１２０．０ｍＰａ・ｓであった。
【０４０９】
インク（５）３ｇにＥＤＭ（０．７５ｇ）、ＧＢＬ（０．７５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００６７５ｇ）を添加して、固形分濃度２０質量％のインクジェット用インク（５’）を得た。インク（５’）の粘度は１８．０ｍＰａ・ｓであった。
【０４１０】
［実施例６］
反応容器に、ＢＡＰＰ（１．６４９３ｇ、４. ０１８ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．６２３２ｇ、２．００８ｍｍｏｌ）およびＥｔＯＤＰＡ（０．７２７５ｇ、１．８０９ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．５ｇ）およびＧＢＬ（３．５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。上記反応式（１）のようにＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（６）とした。インク（６）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は６６．４ｍＰａ・ｓであった。インク（６）の見かけの重量平均分子量は２，１２０であった。
【０４１１】
インク（６）３ｇにＥＤＭ（０．７５ｇ）、ＧＢＬ（０．７５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００６７５ｇ）を添加して、固形分濃度２０質量％のインクジェット用インク（６’）を得た。インク（６’）の粘度は１６．５ｍＰａ・ｓであった。
【０４１２】
［実施例７］
反応容器に、ＢＡＰＰ（１．５６１０ｇ、３．８０３ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．５８９８ｇ、１. ９０１ｍｍｏｌ）およびＥｔＯＤＰＡ（０．８４９１ｇ、２．１１０ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．５ｇ）およびＧＢＬ（３．５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。上記反応式（１）のようにＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（７）とした。インク（７）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は５６．０ｍＰａ・ｓであった。インク（７）の見かけの重量平均分子量は２，０８３であった。
【０４１３】
インク（７）３ｇにＥＤＭ（０．７５ｇ）、ＧＢＬ（０．７５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００６７５ｇ）を添加して、固形分濃度２０質量％のインクジェット用インク（７’）を得た。インク（７’）の粘度は１２．４ｍＰａ・ｓであった。
【０４１４】
［比較例１］
反応容器に、ＯＤＰＡ（１．３６４４ｇ、４．４０ｍｍｏｌ）、ＤＤＳ（０．２５７６ｇ、１．０４ｍｍｏｌ）およびＡＰＳＥ（１．３７８０ｇ、６．２２ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．５ｇ）、ＧＢＬ（３．５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．０１５ｇ）を添加して、インクジェット用インク（Ｃ１）を得た。インク（Ｃ１）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は１３．０ｍＰａ・ｓであった。
【０４１５】
［比較例２］
反応容器に、ＯＤＰＡ（３．８７３８ｇ、１２．４９ｍｍｏｌ）、ＢＡＰＰ（５．１２６２ｇ、１２．４９ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（１０．５ｇ）およびＧＢＬ（１０．５ｇ）添加して、インクジェット用インク（Ｃ２）を得た。インク（Ｃ２）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は非常に高く、計測不能だった。
【０４１６】
［比較例３］
反応容器に、ＯＤＰＡ（１．５４９５ｇ、４．９９ｍｍｏｌ）、ＢＡＰＰ（２．０５０５ｇ、４．９９ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（１３．２ｇ）およびＧＢＬ（１３．２ｇ）添加して、インクジェット用インク（Ｃ３）を得た。インク（Ｃ３）の固形分濃度は１２質量％であり、粘度は３８５５ｍＰａ・ｓであった。
【０４１７】
［比較例４］
反応容器に、ＢＡＰＰ（１．７１８８ｇ、４．１８７ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．６４９４ｇ、２. ０９３ｍｍｏｌ）およびＥｔＯＤＰＡ（０．６３１７ｇ、１．５７０ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．５ｇ）およびＧＢＬ（３．５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。上記反応式（１）のようにＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（Ｃ４）とした。インク（Ｃ４）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は６７．５ｍＰａ・ｓであった。インク（Ｃ４）の見かけの重量平均分子量は２，２５６であった。
【０４１８】
インク（Ｃ４）３ｇにＥＤＭ（０．７５ｇ）、ＧＢＬ（０．７５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００６７５ｇ）を添加して、固形分濃度２０質量％のインクジェット用インク（Ｃ４’）を得た。インク（Ｃ４’）の粘度は１８．２ｍＰａ・ｓであった。
【０４１９】
［比較例５］
反応容器に、ＢＡＰＰ（１．４７８１ｇ、３．６０１ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．５５８５ｇ、１.８００ｍｍｏｌ）およびＥｔＯＤＰＡ（０．９６３４ｇ、２．３９４ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．５ｇ）およびＧＢＬ（３．５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。上記反応式（１）のようにＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（Ｃ５）とした。インク（Ｃ５）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は７８．０ｍＰａ・ｓであった。インク（Ｃ５）の見かけの重量平均分子量は２，０４８であった。
【０４２０】
インク（Ｃ５）３ｇにＥＤＭ（０．７５ｇ）、ＧＢＬ（０．７５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００６７５ｇ）を添加して、固形分濃度２０質量％のインクジェット用インク（Ｃ５’）を得た。インク（Ｃ５’）の粘度は２０．１ｍＰａ・ｓであった。
【０４２１】
［比較例６］
反応容器に、ＢＡＰＰ（１．８４８６ｇ、４．５０３ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．６９８５ｇ、２.２５２ｍｍｏｌ）およびＥｔＯＤＰＡ（０．４５３ｇ、１．１２６ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．５ｇ）およびＧＢＬ（３．５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。上記反応式（１）のようにＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（Ｃ６）とした。インク（Ｃ６）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は４９．８ｍＰａ・ｓであった。インク（Ｃ６）の見かけの重量平均分子量は２，３８９であった。
【０４２２】
インク（Ｃ６）３ｇにＥＤＭ（０．７５ｇ）、ＧＢＬ（０．７５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００６７５ｇ）を添加して、固形分濃度２０質量％のインクジェット用インク（Ｃ６’）を得た。インク（Ｃ６’）の粘度は１２．４ｍＰａ・ｓであった。
【０４２３】
［比較例７］
反応容器に、ＢＡＰＰ（１．２７２３ｇ、３．０９９ｍｍｏｌ）、ＯＤＰＡ（０．４８０７ｇ、１.５５０ｍｍｏｌ）およびＥｔＯＤＰＡ（１．２４７ｇ、３．０９９ｍｍｏｌ）を仕込み、溶媒としてＥＤＭ（３．５ｇ）およびＧＢＬ（３．５ｇ）を添加して、室温で２時間撹拌した。上記反応式（１）のようにＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応が進み、化合物（Ａ）としてＥｔＯＤＰＡを、化合物（Ｂ）としてＢＡＰＰおよびＯＤＰＡの反応付加物を含む反応溶液を得た。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（Ｃ７）とした。インク（Ｃ７）の固形分濃度は３０質量％であり、粘度は３７．２ｍＰａ・ｓであった。インク（Ｃ７）の見かけの重量平均分子量は２，１７３であった。
【０４２４】
インク（Ｃ７）３ｇにＥＤＭ（０．７５ｇ）、ＧＢＬ（０．７５ｇ）およびＦＭ３３１１／ＭＡ（０．００６７５ｇ）を添加して、固形分濃度２０質量％のインクジェット用インク（Ｃ７’）を得た。インク（Ｃ７’）の粘度は１１．０ｍＰａ・ｓであった。
【０４２５】
〔ポリイミド膜の形成〕
塗布装置として、インクジェット塗布装置ＤＭＰ−２８３１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製）を用いた。塗布条件を１ドット幅でドットピッチ２５μｍに設定し、インクジェットヘッドのヒーターを３０℃に、ピエゾ電圧を２０Ｖに、駆動周波数を５ｋＨｚに設定した。以上の条件で、実施例および比較例で得られたインクを用いて、１．５ｍｍ厚のガラス基板上に長さ５ｃｍのライン塗布を常温（２５℃）で行った。
【０４２６】
［実施例１〜３、５〜７］および［比較例１〜７］では、塗布後の基板を８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、３００℃のオーブンで６０分間加熱して、ライン状に形成された絶縁性のポリイミド膜を得た。［実施例４］では、塗布後の基板を８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して、ポリイミド膜を得た。
【０４２７】
得られたインクおよびポリイミド膜の特性は、以下のようにして評価した。なお、特記しない限り、実施例および比較例で得られたインクジェット用インクを以下では単に「インク」と記載する。
【０４２８】
例えば実施例１では、ポリイミド膜のライン幅は６０μｍであり、エッジの直線性はギザギザしておらず良好であり、ラインの膜厚は１．２μｍであった。実施例１の結果と併せて、その他の結果も表１および表２に示す。
【０４２９】
（ｉ）粘度
インクの粘度は、２５℃にて、Ｅ型粘度計（ＴＯＫＹＯ ＫＥＩＫＩ製 ＶＩＳＣＯＮＩＣ ＥＬＤ）を用いて測定した。
【０４３０】
（ii）重量平均分子量
インクの見かけの重量平均分子量は、以下のようにして測定した。ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）で固形分濃度が約１質量％になるようにインクを希釈した。ＧＰＣ装置として、日本分光（株）製、ＪＡＳＣＯ ＧＵＬＬＩＶＥＲ １５００（インテリジェント示差屈折率計 ＲＩ−１５３０）を用いた。カラムは、東ソー（株）製カラムＧ４０００ＨＸＬ、Ｇ３０００ＨＸＬ、Ｇ２５００ＨＸＬおよびＧ２０００ＨＸＬの４本をこの順序で接続してなるものを用いた。測定条件は、カラム温度４０℃、流速１．０ｍｌ／ｍｉｎであった。以上の条件で、得られた希釈液を展開剤として用い、ＧＰＣ法により測定して、ポリスチレン換算することにより、重量平均分子量を求めた。インクの見かけの重量平均分子量は、化合物（Ｂ）および（Ｂ’）の重量平均分子量の目安となる。
【０４３１】
（iii）ポリイミド膜のライン幅およびエッジの直線性
ポリイミド膜のライン幅およびエッジの直線性は、光学顕微鏡を用いて観察した。
【０４３２】
（iv）ポリイミド膜のラインの膜厚
ポリイミド膜の膜厚の測定には、触針式段差計ＸＰ−２００（Ａｍｂｉｏｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を使用した。３箇所の測定結果を平均して、ポリイミド膜のラインの膜厚とした。
【０４３３】
（ｖ）体積抵抗率、誘電率および耐電圧（電気的特性）
スピンコート法によりクロム基板上にインクを塗布して、８０℃で５分間乾燥させた。さらに基板をオーブンに入れて、［実施例１〜３、５〜７］および［比較例１〜７］では３００℃で３０分間、［実施例４］では１８０℃で６０分間加熱して、膜厚およそ２μｍのポリイミド膜を形成した。その後、ポリイミド膜上にアルミニウムを蒸着させ、電極を作成した。
誘電率は、プレシジョンＬＣＲメーター Ｅ４９８０Ａ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）を用いて測定した。体積抵抗率および耐電圧は、ディジタル超絶縁／微少電流計 ＤＳＭ−８１０４（日置電機（株）製）を用いて測定した。
【０４３４】
（vi）線膨張係数（熱的特性）
アプリケーターを用いてインクを基材（アルミホイル）上に塗布し、ホットプレートを用いて、８０℃で５分間乾燥させた。さらに基材をオーブンに入れて、［実施例１〜３、５〜７］および［比較例１〜７］では３００℃で３０分間、［実施例４］では１８０℃で６０分間加熱して、基材の片面にポリイミド膜を形成した。なお、得られたポリイミド膜が脆く、試験片を得られなかったものは測定不能とした。基材からポリイミド膜を剥離した後、熱・応力・歪測定装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、ＴＭＡ／ＳＳ６１００）を用いて熱線膨張係数を測定した。
測定条件を下記に示す。
試料長さ：１０ｍｍ
試料幅：３ｍｍ
昇温開始温度：３０℃
昇温終了温度：３００℃
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：空気中
線膨張係数の算出：５０〜１２５℃（ファーストスキャン）
【０４３５】
（vii）５％重量減温度（熱的特性）
５％重量減温度は、線膨張係数測定用の試料片および示差熱重量同時測定装置（セイコーインスツルメント社製、ＳＳＣ５２００）を用いて測定した。
【０４３６】
測定条件を下記に示す。
昇温開始温度：３０℃
昇温終了温度：５００℃
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：空気中
【０４３７】
（viii）ポリイミド膜の弾性率および破断強度（機械的特性）
試験に使用するポリイミド膜を、（vi）線膨張係数（熱的特性）と同様の方法で形成した。得られたポリイミド膜が脆く、試験片を得られなかった場合には測定不能とした。ポリイミド膜の弾性率および破断強度の測定には、静的材料試験機ＥＺＧｒａｐｈ（（株）島津製作所製）を使用した。３回の測定結果を平均して、ポリイミド膜の弾性率および破断強度とした。
【０４３８】
（ix）ポリイミド膜の１８０°ピール強度（機械的特性）
インクジェット装置を用いてアルミ基板上にインクを印刷し、８０℃で５分間乾燥させた。さらに基板をオーブンに入れて、［実施例１〜３、５〜７］および［比較例１〜７］では３００℃で３０分間、［実施例４］では１８０℃で６０分間加熱して、膜厚およそ２μｍのポリイミド膜を形成した。ピール強度の測定には、静的材料試験機ＥＺＧｒａｐｈ（（株）島津製作所製）を使用した。得られたポリイミド膜からアルミ基板をはがす際にかかった力を測定した。なお、得られたポリイミド膜が脆く、試験片を得られなかったものは測定不能とした。３回の測定結果を平均し、ピール強度を算出した。
以上の実施例および比較例の評価結果を表１および表２に記す。
【０４３９】
【表１】

【０４４０】
【表２】

【産業上の利用可能性】
【０４４１】
本発明のインクジェット用インクから得られたポリイミド膜の活用法として、例えば、フレキシブル配線基板用絶縁膜、半導体素子用絶縁膜、およびそれらを有する電子部品が挙げられる。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）一般式（１）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」ともいう。）と、
（Ｂ）一般式（２）で表される化合物（以下「化合物（Ｂ）」ともいう。）と
を含むインクであり、
前記インク中に含まれる、化合物（Ａ）の−ＣＯＯＲ²および−ＣＯＯＲ³の組の合計モル数をα、化合物（Ｂ）の−ＮＨ−Ｒ⁵の合計モル数をβとしたときに、αおよびβが式（Ｉ）：０．７５＜α／β＜１．３３を満たす、
熱硬化性インクジェット用インク。
【化１】

［式（１）中、ｎは１以上の整数であり、
ｎ＝１のとき、Ｒ¹は炭素数２〜１０の二価の有機基であり、
ｎ＝２のとき、Ｒ¹は炭素数４〜４０の四価の有機基であり、
ｎ＝３のとき、Ｒ¹は炭素数６〜６０の六価の有機基であり、
ｎ≧４の整数のとき、Ｒ¹は炭素数２ｎ〜３０ｎの２×ｎ価の有機基であり、
Ｒ²は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数６〜１２の芳香族基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ³は水素またはトリメチルシリルであり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよい。］
【化２】

［式（２）中、Ｒ⁴は一般式（３）または（４）で表される基であり、Ｒ⁵は水素または炭素数１〜１００の一価の脱離可能な有機基であり、Ｒ⁵’は−ＮＨ−Ｒ⁵または−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ⁶−ＣＯＯＨ（Ｒ⁶は炭素数２〜９８の二価の有機基である）で表される基である。］
【化３】

［式（３）および（４）中、Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、ｍは０〜１０００の整数である。］
【請求項２】
（Ｂ’）一般式（５）〜（９）で表される化合物から選択される少なくとも１種
をさらに含むインクである請求項１に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【化４】

［式（５）中、複数あるＲ⁶はそれぞれ独立に炭素数２〜９８の二価の有機基であり、Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、ｎは０〜１０００の整数である。］
【化５】

［式（６）および（７）中、複数あるＲ⁶はそれぞれ独立に炭素数２〜９８の二価の有機基であり、Ｒ⁷は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁸は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、複数存在する場合は同一でも異なっていてもよく、ｎは１〜１０００の整数であり、ｍは０〜１０００の整数である。］
【化６】

［式（８）および（９）中、Ｒ⁶は炭素数２〜９８の二価の有機基であり、Ｒ⁹は炭素数２〜１００の一価の有機基である。］
【請求項３】
前記式（１）中、ｎが２であり、Ｒ¹が炭素数４〜４０の四価の有機基であり、
前記式（２）中、Ｒ⁵が水素である、
請求項１または２に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【請求項４】
前記式（１）中のＲ¹がテトラカルボン酸二無水物の残基であり、
前記式（３）〜（４）中のＲ⁸がテトラカルボン酸二無水物の残基である、
請求項３に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【請求項５】
溶媒（Ｃ）をさらに含む、
請求項１〜４の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【請求項６】
溶媒（Ｃ）が、乳酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびγ―ブチロラクトンからなる群から選ばれる１種以上を含有する溶媒である、請求項５に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【請求項７】
エポキシ樹脂をさらに含む、
請求項１〜６の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【請求項８】
エポキシ樹脂が、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタンおよび式（Ｄ１）〜（Ｄ５）で表される化合物からなる群から選ばれる１種以上の化合物である、請求項７に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【化７】

［式（Ｄ４）および（Ｄ５）中、ｎは０〜２０の整数である。］
【請求項９】
界面活性剤を０．００００１質量％以上、１．０質量％以下の範囲でさらに含む、
請求項１〜８の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【請求項１０】
トリスアルケニル置換ナジイミド化合物およびテトラアルケニル置換ナジイミド化合物から選ばれる少なくとも１種のアルケニル置換ナジイミド化合物をさらに含む、
請求項１〜９の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【請求項１１】
顔料をさらに含む、
請求項１〜１０の何れか一項に記載の熱硬化性インクジェット用インク。
【請求項１２】
請求項１〜１１の何れか一項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および
前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程
を有する、インクの塗布方法。
【請求項１３】
基板を表面処理する工程、
前記表面処理がなされた基板上に、請求項１〜１１の何れか一項に記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および
前記塗膜を加熱処理してポリイミド膜を形成する工程
を有する、インクの塗布方法。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載のインクの塗布方法を用いる、ポリイミド膜の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の製造方法により形成されたポリイミド膜。
【請求項１６】
請求項１４に記載の製造方法により形成されたポリイミド膜を有する、フィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板。
【請求項１７】
請求項１６に記載のフィルム基板、半導体ウェハまたは電子材料用基板を有する電子部品。

【公開番号】特開２０１３−１４６９３（Ｐ２０１３−１４６９３Ａ）
【公開日】平成２５年１月２４日（２０１３．１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１４８４９２（Ｐ２０１１−１４８４９２）
【出願日】平成２３年７月４日（２０１１．７．４）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【Ｆターム（参考）】