現像装置における基板搬送方法及び基板搬送装置
【課題】水置換が完了する間に進行する過剰な現像を抑制し、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、パターン品質が損なわれない、現像装置における基板搬送方法、基板搬送装置を提供する。
【解決手段】現像槽から水洗槽へは、その初期には現像液２０を基板の先端部の現像液量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部での現像液量を少なくＤ２、末期には先端部での現像液量を少なくＤ２保って行い、水置換は現像液量の少ない先端部から開始する。水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その初期には水を先端部で水量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部で少なくＤ２、末期には先端部での水量を少なくＤ２保って行い、エアナイフでの水の排除は水量の少ない基板の先端部から開始する。
【解決手段】現像槽から水洗槽へは、その初期には現像液２０を基板の先端部の現像液量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部での現像液量を少なくＤ２、末期には先端部での現像液量を少なくＤ２保って行い、水置換は現像液量の少ない先端部から開始する。水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その初期には水を先端部で水量を多くＤ１、中期には先端部及び末端部で少なくＤ２、末期には先端部での水量を少なくＤ２保って行い、エアナイフでの水の排除は水量の少ない基板の先端部から開始する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板のウエット処理に関するものであり、特に、現像液から水への水置換が完了するまでの間に進行する過剰な現像を抑制し、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制する、現像装置における基板搬送方法及び基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像においては、現像槽での現像が終了した後に、基板上の現像液を水に置換している。この現像液から水への水置換が完了するまでの間は、現像が進行しているので、その間の現像は過剰なものとなる。
また、基板上の液、例えば、水洗水などをエアナイフによって排除し乾燥する際には、例えば、基板のサイズが大きくなると排除する水量が多くなり、十分に排除しきれず基板上に水の残跡が生じる。すなわち、過剰な現像や、水の残跡によって形成されたパターン品質は損なわれたものとなる。
【特許文献１】特開平７−３５４７８号公報
【特許文献２】特開２００１−２２７８６８号公報
【特許文献３】実開平６−５９７９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、現像液から水への水置換が完了するまでの間に進行する過剰な現像を抑制し、また、基板上の排除する水洗水の水量が多くなっても、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送方法を提供することを課題とする。
また、上記過剰な現像を抑制し、残跡の発生を抑制することのできる、現像装置における基板搬送装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明における第一の発明は、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送方法において、
１）前記現像槽から水洗槽への基板搬送は、その搬送初期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を多く、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を少なくした状態に保ち、
２）その搬送中期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく、基板の進行方向の中央部での基板上の現像液量を多くした状態に保ち、
３）その搬送末期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を多くした状態に保って行い、
水洗槽での水置換は、現像液量の少ない基板の進行方向の先端部から開始することを特徴とする現像装置における基板搬送方法である。
【０００５】
また、本発明は、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送装置において、
１）前記基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、基板を水平に搬送する基板のパスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、
２）前記現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期に、基板の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数の転動体の高さを、昇降機構によって基板のパスラインの高さより低いものとし、
３）前記現像槽から水洗槽への基板搬送は、ａ）その搬送初期には、基板の進行方向の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｂ）その搬送中期には、基板の進行方向の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｃ）その搬送末期には、基板の進行方向の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うことを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【０００６】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体の位置が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【０００７】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、その転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【０００８】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に、その転動体の数を増加させるように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【０００９】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、
１）前記転動体の回転数を回転検出器によって検出し、
２）前記基板の先端及び末端を基板検知センサーによって検出し、
３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算し、
４）該演算した基板の位置と大きさより、前記転動体の高さを制御することを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１０】
本発明における第二の発明は、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送方法において、
１）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その搬送初期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を多く、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を少なくした状態に保ち、
２）その搬送中期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の水量を少なく、基板の進行方向の中央部での基板上の水量を多くした状態に保ち、３）その搬送末期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を少なく、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を多くした状態に保って行い、
エアナイフでの水の排除は、水量の少ない基板の進行方向の先端部から開始することを特徴とする現像装置における基板搬送方法である。
【００１１】
また、本発明は、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送装置において、
１）前記基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、基板を水平に搬送する基板のパスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、
２）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送の搬送初期に、基板の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数の転動体の高さを、昇降機構によって基板のパスラインの高さより低いものとし、
３）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、ａ）その搬送初期には、基板の進行方向の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｂ）その搬送中期には、基板の進行方向の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｃ）その搬送末期には、基板の進行方向の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うことを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１２】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体の位置が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１３】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、その転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１４】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に、その転動体の数を増加させるように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１５】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、
１）前記転動体の回転数を回転検出器によって検出し、
２）前記基板の先端及び末端を基板検知センサーによって検出し、
３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算し、
４）該演算した基板の位置と大きさより、前記転動体の高さを制御することを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明における第一の発明は、現像槽から水洗槽への基板搬送は、その搬送初期には、残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を多く保ち、その搬送中期には、残留した現像液を基板の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく保ち、その搬送末期には、残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく保って行い、水洗槽での水置換は、現像液量の少ない基板の進行方向の先端部から開始するので、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送方法において、現像液から水への水置換が完了するまでの間に進行する過剰な現像を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送方法となる。
【００１７】
また、本発明は、基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、パスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期に、基板の先端部に対応した位置にある転動体を除き、次の転動体と隣接する複数の転動体の高さをパス
ラインの高さより低いものとし、現像槽から水洗槽への基板搬送は、その搬送初期には、基板の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、その搬送中期には、基板の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、その搬送末期には、基板の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うので、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送装置において、基板上の排除する水洗水の水量が多くなっても、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送装置となる。
【００１８】
本発明における第二の発明は、水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その搬送初期には、残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を多く保ち、その搬送中期には、残留した水を基板の先端部及び末端部での基板上の水量を少なく保ち、その搬送末期には、残留した水を基板の先端部での基板上の水量を少なく保って行い、エアナイフでの水の排除は、水量の少ない基板の進行方向の先端部から開始するので、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送方法において、基板上の排除する水洗水の水量が多くなっても、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送方法となる。
【００１９】
また、本発明は、基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、パスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、水洗槽からエアナイフへの基板搬送の搬送初期に、基板の先端部に対応した位置にある転動体を除き、次の転動体と隣接する複数の転動体の高さをパスラインの高さより低いものとし、水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その搬送初期には、基板の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、その搬送中期には、基板の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、その搬送末期には、基板の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うので、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送装置において、基板上の排除する水洗水の水量が多くなっても、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図４は、本発明における第一の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の一例の概略を示す側面図である。この基板搬送装置は、図４中、左方の現像槽（図示せず）と右方の水洗槽（図示せず）との間に設けられている。この基板搬送装置は、転動体として、ローラ（Ｒ）を用いた例であり、所謂、ローラコンベアーと称される搬送装置である。
【００２１】
転動体（ローラ）（Ｒ）は、その長手方向を基板の搬送方向（Ｘ軸）と直角（Ｙ軸方向）にし、複数のローラ（第１ローラ（１）〜第１４ローラ（１４））が水平に、その間隔を同一にし近接させ、基板の搬送方向（Ｘ軸）に一列に揃えて並列されている。並列された複数のローラ（第１ローラ（１）〜第１４ローラ（１４））の上部は、基板（５０）を搬送するパスライン（Ｐ）であり、ローラ（Ｒ）は、その回転によって、白太矢印で示すように、基板（５０）を図３中、左方から右方へとローラ（Ｒ）上を搬送するようになっている。
【００２２】
転動体（ローラ）（Ｒ）の支持部（４０）は、ローラの上部の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低くする（Ｚ軸方向）ことが可能な昇降機構（４１）を有している。昇降機構（４１）は、複数のローラ（第１ローラ（１）〜第１４ローラ（１４））の各々を独立して昇降することができるようになっている。
この基板搬送装置が、その昇降機構（４１）を作動させない場合には、基板（５０）はパスライン（Ｐ）上を図４中、左方から右方へと水平に搬送される。
尚、符号（２０）は基板（５０）上に残留した現像液を表している。また、符号（Ｄ０）は基板（５０）上の現像液量を表している。
【００２３】
図１は、基板搬送装置の動作の形態１の概略を説明する側面図である。この形態１は、請求項２に係わる形態の一例である。
図１（ａ）は、現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期の段階を表したものである。また、図１（ｂ）は、基板搬送の搬送中期の段階を、図１（ｃ）は、搬送末期の段階を表したものである。
図１（ａ）に示すように、搬送初期に、基板（５０）の進行方向の先端部に対応した位置にある転動体を除き、次の転動体と隣接する複数のローラ（Ｒ）の上部の高さを、昇降機構（４１）によって基板のパスライン（Ｐ）よりも低いものとする。
【００２４】
図１（ａ）においては、第７ローラ（７）、第８ローラ（８）、第９ローラ（９）の３個のローラをパスライン（Ｐ）よりも低い（ΔＨ）ものとする。このように第７ローラ（７）〜第９ローラ（９）の３個のローラを設定することにより、基板搬送装置は、図１中、左方から搬送される基板（５０）を、図１（ａ）に示す搬送初期の段階では、基板の進行方向の先端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。
【００２５】
また、図１（ｂ）に示すように、搬送中期の段階では、基板の進行方向の中央部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。また、図１（ｃ）に示すように、搬送末期の段階では、基板の進行方向の末端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つことになる。
【００２６】
これにより、その搬送初期（図１（ａ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１、Ｄ１＞Ｄ０）、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２、Ｄ２＜Ｄ０）した状態に保ち、その搬送中期（図１（ｂ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の中央部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１）した状態に保ち、また、その搬送末期（図１（ｃ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１）した状態に保った基板搬送を行うことになる。
【００２７】
このように、現像槽と水洗槽との間にて、基板（５０）上の位置（先端部、中央部、末端部）での現像液量を変えることにより、現像液量の多い／少ないによる現像進行の度合いが、図３に示すように、水平にパスライン（Ｐ）上を搬送される場合と同様に、略平均化された状態を保持し、且つ、水洗槽での水置換は、現像液量の少ない基板の進行方向の先端部から開始するので、水置換の効率が向上する。つまり、従来における過剰な現像は抑制されたものとなる。
尚、図１（ｃ）中、符号（Ｓ）は、水洗槽において、水洗水が吐出する位置を表している。
【００２８】
また、表１は、上記形態１において、その上部の高さを低くするローラ番号を表したものであり、表１中、ステップ１は搬送初期、ステップ２は搬送中期、ステップ３は搬送末期に相当する。
【００２９】
【表１】
図２及び図３は、第一の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の動作の形態２の概略を説明する側面図である。この形態２は、請求項５に係わる形態の一例である。
図２（ａ）は、現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期１の段階を表したものである。また、図２（ｂ）は、基板搬送の搬送初期２の段階を表したものである。また、図３（ａ）は、基板搬送の搬送中期の段階を、図３（ｂ）は、搬送末期の段階を表したものである。図２及び図３においては、基板（５０）の進行方向の大きさが、第１ローラ（１）〜第９ローラ（９）間の長さに相当する基板を例示してある。
【００３０】
図２（ａ）に示すように、搬送初期１に、基板（５０）の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数のローラ（Ｒ）の上部の高さを、昇降機構（４１）によって基板のパスライン（Ｐ）よりも低いものとする。
図２（ａ）においては、第７ローラ（７）、第８ローラ（８）、第９ローラ（９）の３個のローラをパスライン（Ｐ）よりも低い（ΔＨ）ものとする。
このように、上部の高さがパスライン（Ｐ）よりも低い３個のローラ（第７ローラ（７）〜第９ローラ（９））を集合体（６０）として設定することにより、基板搬送装置は、図２中、左方から搬送される基板（５０）を、図２（ａ）に示す搬送初期１の段階では、基板の進行方向の先端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。
【００３１】
また、図２（ｂ）に示すように、搬送初期２の段階では、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板（５０）の進行方向の逆方向に、集合体（６０）がパスライン（Ｐ）よりも高さの低いローラの数を増加させるように、昇降機構（４１）によって第６ローラ（６）の高さを低い（ΔＨ）ものとする。
これにより、集合体（６０）は第６ローラ（６）〜第９ローラ（９）で構成されたものとなり、図２中、左方から搬送される基板（５０）は、図２（ｂ）に示す搬送初期２の段階では、第６ローラ（６）〜第９ローラ（９）間上の基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保たれる。
【００３２】
また、図３（ａ）に示すように、搬送中期の段階では、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板（５０）の進行方向の逆方向に、集合体（６０）がパスライン（Ｐ）よりも高さの低いローラの数を増加させるように、昇降機構（４１）によって第５ローラ（５）の高さを低い（ΔＨ）ものとする。
これにより、集合体（６０）は第５ローラ（５）〜第９ローラ（９）で構成されたものとなり、図３中、左方から搬送される基板（５０）は、図３（ａ）に示す搬送中期の段階では、第５ローラ（５）〜第９ローラ（９）間、すなわち、基板の進行方向の中央部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保たれる。
【００３３】
また、図３（ｂ）に示すように、搬送末期の段階では、第４ローラ（４）の高さを低い（ΔＨ）ものとする。これにより、集合体（６０）は第４ローラ（４）〜第９ローラ（９）で構成されたものとなり、図３中、左方から搬送される基板（５０）は、図３（ｂ）に示す搬送末期の段階では、第４ローラ（４）〜第９ローラ（９）間、すなわち、基板の進行方向の中央部〜末端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保たれることになる。
【００３４】
従って、その搬送初期１、２（図２（ａ）、（ｂ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部〜中央部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１、Ｄ１＞Ｄ０）、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２、Ｄ２＜Ｄ０）した状態に保ち、また、その搬送中期（図３（ａ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の中央部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１）した状態に保ち、
また、その搬送末期（図３（ｂ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の中央部〜末端部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１）した状態に保った基板搬送を行うことになる。
【００３５】
このように、パスラインより低いローラ数を基板（５０）上の先端部から末端部方向へ増やすことにより、基板（５０）上の先端部から末端部方向へ現像液の流れができるので、基板（５０）上の先端部からの現像液の除去の効率が上がる。
尚、図３（ｂ）中、符号（Ｓ）は、水洗槽において、水洗水が吐出する位置を表している。
【００３６】
また、表２は、上記形態２において、その上部の高さを低くするローラ番号を表したものであり、表２中、ステップ１は搬送初期１、ステップ２は搬送初期２、ステップ３は搬送中期、ステップ４は搬送末期に相当する。
【００３７】
【表２】
また、第一の発明の請求項３に係わる発明は、基板（５０）のパスライン（Ｐ）の高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体（６０）の位置が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構（４１）を作動させることを特徴としており、基板搬送装置の動作の形態３である。表３は、このような形態３の一例におけるステップを表したものである。
【００３８】
【表３】
この動作の形態３においては、基板（５０）上の現像液を、パスラインより低いローラに集め、水洗水の吐出する位置から離れるように移動させて排除し、水洗の効果を上げる。
【００３９】
また、第一の発明の請求項４に係わる発明は、基板（５０）のパスライン（Ｐ）の高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体（６０）が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、高さの低い転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構（４１）を作動させることを特徴としており、基板搬送装置の動作の形態４である。表４は、このような形態４の一例におけるステップを表したものである。
【００４０】
【表４】
この動作の形態４においては、基板（５０）上の現像液を、パスラインより低いローラに集め、さらに水洗水の流れ込み分のパスラインより低いローラ数を増加しながら、水洗水の吐出する位置から離れるように移動させて排除し、水洗の効果を上げる。
【００４１】
図５は、第一の発明の請求項６に係わる発明における、搬送装置制御装置（８０）の一例の概略を示す説明図である。図５に示すように、搬送装置制御装置（８０）は、１）転動体（ローラ）（Ｒ）の回転数を回転検出器（７１）によって検出（７３）し、基板速度を演算（７４）し、２）基板（５０）の先端及び末端を基板検知センサー（７２）によって検出（７５）し、３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算（７６）し、４）該演算した基板の位置と大きさより、転動体（ローラ）（Ｒ）の高さを制御（７７）する。尚、図４中、符号（７０）は、情報伝達路を表している。
【００４２】
このような搬送装置制御装置（８０）を備えることによって、上述した、表１〜表４に示すような基板搬送装置の動作の種々な形態を任意に容易に設定することができるものとなる。
【００４３】
上述のように、本発明における第一の発明によれば、現像液から水への水置換が完了するまでの間に進行する過剰な現像が抑制されるので、形成されたパターン品質の損なわれることが低減される。
【００４４】
図４は、本発明における第一の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の一例の概略を示す側面図であるが、同時に、本発明における第二の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の一例の概略を示す側面図である。第二の発明においては、基板搬送装置は、図４中、左方の水洗槽（図示せず）と右方のエアナイフ（図示せず）との間に設けられている。
【００４５】
また、図１は、第一の発明における、動作の形態１の側面図であるが、同時に、第二の発明における基板搬送装置の動作の形態１の概略を説明する側面図である。この形態１は、請求項８に係わる形態の一例である。
図１（ａ）は、水洗槽からエアナイフへの基板搬送の搬送初期の段階を表したものである。また、図１（ｂ）は、基板搬送の搬送中期の段階を、図１（ｃ）は、搬送末期の段階を表したものである。
図１（ａ）に示すように、搬送初期に、基板（５０）の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数のローラ（Ｒ）の上部の高さを、昇降機構（４１）によって基板のパスライン（Ｐ）よりも低い（ΔＨ）ものとする。
【００４６】
図１（ａ）においては、第７ローラ（７）、第８ローラ（８）、第９ローラ（９）の３個のローラをパスライン（Ｐ）よりも低い（ΔＨ）ものとする。このように第７ローラ（７）〜第９ローラ（９）の３個のローラを設定することにより、基板搬送装置は、図１中、左方から搬送される基板（５０）を、図１（ａ）に示す搬送初期の段階では、基板の進行方向の先端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。
【００４７】
また、図１（ｂ）に示すように、搬送中期の段階では、基板の進行方向の中央部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。また、図１（ｃ）に示すように、搬送末期の段階では、基板の進行方向の末端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つことになる。
【００４８】
これにより、その搬送初期（図１（ａ））には、基板（５０）上に残留した水（３０）を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を多く（Ｄ１、Ｄ１＞Ｄ０）、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を少なく（Ｄ２、Ｄ２＜Ｄ０）した状態に保ち、その搬送中期（図１（ｂ））には、基板（５０）上に残留した水（３０）を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の水量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の中央部での基板上の水量を多く（Ｄ１）した状態に保ち、また、その搬送末期（図１（ｃ））には、基板（５０）上に残留した水（３０）を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を多く（Ｄ１）した状態に保った基板搬送を行うことになる。
【００４９】
このように、水洗槽とエアナイフとの間にて、基板（５０）上の位置（先端部、中央部、末端部）での水量を変えることにより、水量は、図４に示すように、水平にパスライン（Ｐ）上を搬送される場合と同様に、略平均化された状態を保持し、且つ、エアナイフでの水の排除は、水量の少ない基板の進行方向の先端部から開始するので、水を排除する効率が向上する。つまり、従来における水の残跡の発生は抑制されたものとなる。
尚、図１（ｃ）中、符号（Ｅ）は、エアナイフにおいて、エアが吐出する位置を表している。
【００５０】
また、表１は、第一の発明における形態１での高さを低くするローラ番号を表したものであるが、同時に、第二の発明における上記形態１において、その上部の高さを低くするローラ番号を表したものであり、表１中、ステップ１は搬送初期、ステップ２は搬送中期、ステップ３は搬送末期に相当する。
【００５１】
上述のように、本発明における第二の発明の技法は、第一の発明の技法と同一であり、第一の発明における現像槽、水洗槽、現像液を、各々水洗槽、エアナイフ、水に置き換えるものであるので、以降の説明は省略する。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】（ａ）〜（ｃ）は、基板搬送装置の動作の形態１の概略を説明する側面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、基板搬送装置の動作の形態２の概略を説明する側面図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、基板搬送装置の動作の形態２の概略を説明する側面図である。
【図４】本発明における第一の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の一例の概略を示す側面図である。
【図５】搬送装置制御装置の一例の概略を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５３】
１〜１４・・・第１ローラ〜第１４ローラ
２０・・・基板上に残留した現像液
３０・・・基板上に残留した水
４０・・・転動体（ローラ）の支持部
４１・・・昇降機構
５０・・・ガラス基板
６０・・・上部の高さがパスラインよりも低いローラの集合体
７０・・・情報伝達路
７１・・・回転検出器
７２・・・基板検知センサー
８０・・・搬送装置制御装置
Ｅ・・・エアが吐出する位置
Ｐ・・・パスライン
Ｒ・・・転動体（ローラ）
Ｓ・・・水洗水が吐出する位置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板のウエット処理に関するものであり、特に、現像液から水への水置換が完了するまでの間に進行する過剰な現像を抑制し、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制する、現像装置における基板搬送方法及び基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像においては、現像槽での現像が終了した後に、基板上の現像液を水に置換している。この現像液から水への水置換が完了するまでの間は、現像が進行しているので、その間の現像は過剰なものとなる。
また、基板上の液、例えば、水洗水などをエアナイフによって排除し乾燥する際には、例えば、基板のサイズが大きくなると排除する水量が多くなり、十分に排除しきれず基板上に水の残跡が生じる。すなわち、過剰な現像や、水の残跡によって形成されたパターン品質は損なわれたものとなる。
【特許文献１】特開平７−３５４７８号公報
【特許文献２】特開２００１−２２７８６８号公報
【特許文献３】実開平６−５９７９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、現像液から水への水置換が完了するまでの間に進行する過剰な現像を抑制し、また、基板上の排除する水洗水の水量が多くなっても、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送方法を提供することを課題とする。
また、上記過剰な現像を抑制し、残跡の発生を抑制することのできる、現像装置における基板搬送装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明における第一の発明は、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送方法において、
１）前記現像槽から水洗槽への基板搬送は、その搬送初期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を多く、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を少なくした状態に保ち、
２）その搬送中期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく、基板の進行方向の中央部での基板上の現像液量を多くした状態に保ち、
３）その搬送末期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を多くした状態に保って行い、
水洗槽での水置換は、現像液量の少ない基板の進行方向の先端部から開始することを特徴とする現像装置における基板搬送方法である。
【０００５】
また、本発明は、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送装置において、
１）前記基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、基板を水平に搬送する基板のパスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、
２）前記現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期に、基板の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数の転動体の高さを、昇降機構によって基板のパスラインの高さより低いものとし、
３）前記現像槽から水洗槽への基板搬送は、ａ）その搬送初期には、基板の進行方向の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｂ）その搬送中期には、基板の進行方向の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｃ）その搬送末期には、基板の進行方向の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うことを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【０００６】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体の位置が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【０００７】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、その転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【０００８】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に、その転動体の数を増加させるように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【０００９】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、
１）前記転動体の回転数を回転検出器によって検出し、
２）前記基板の先端及び末端を基板検知センサーによって検出し、
３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算し、
４）該演算した基板の位置と大きさより、前記転動体の高さを制御することを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１０】
本発明における第二の発明は、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送方法において、
１）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その搬送初期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を多く、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を少なくした状態に保ち、
２）その搬送中期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の水量を少なく、基板の進行方向の中央部での基板上の水量を多くした状態に保ち、３）その搬送末期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を少なく、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を多くした状態に保って行い、
エアナイフでの水の排除は、水量の少ない基板の進行方向の先端部から開始することを特徴とする現像装置における基板搬送方法である。
【００１１】
また、本発明は、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送装置において、
１）前記基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、基板を水平に搬送する基板のパスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、
２）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送の搬送初期に、基板の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数の転動体の高さを、昇降機構によって基板のパスラインの高さより低いものとし、
３）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、ａ）その搬送初期には、基板の進行方向の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｂ）その搬送中期には、基板の進行方向の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｃ）その搬送末期には、基板の進行方向の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うことを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１２】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体の位置が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１３】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、その転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１４】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に、その転動体の数を増加させるように当該昇降機構を作動させることを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【００１５】
また、本発明は、上記発明による現像装置における基板搬送装置において、
１）前記転動体の回転数を回転検出器によって検出し、
２）前記基板の先端及び末端を基板検知センサーによって検出し、
３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算し、
４）該演算した基板の位置と大きさより、前記転動体の高さを制御することを特徴とする現像装置における基板搬送装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明における第一の発明は、現像槽から水洗槽への基板搬送は、その搬送初期には、残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を多く保ち、その搬送中期には、残留した現像液を基板の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく保ち、その搬送末期には、残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく保って行い、水洗槽での水置換は、現像液量の少ない基板の進行方向の先端部から開始するので、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送方法において、現像液から水への水置換が完了するまでの間に進行する過剰な現像を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送方法となる。
【００１７】
また、本発明は、基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、パスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期に、基板の先端部に対応した位置にある転動体を除き、次の転動体と隣接する複数の転動体の高さをパス
ラインの高さより低いものとし、現像槽から水洗槽への基板搬送は、その搬送初期には、基板の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、その搬送中期には、基板の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、その搬送末期には、基板の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うので、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送装置において、基板上の排除する水洗水の水量が多くなっても、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送装置となる。
【００１８】
本発明における第二の発明は、水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その搬送初期には、残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を多く保ち、その搬送中期には、残留した水を基板の先端部及び末端部での基板上の水量を少なく保ち、その搬送末期には、残留した水を基板の先端部での基板上の水量を少なく保って行い、エアナイフでの水の排除は、水量の少ない基板の進行方向の先端部から開始するので、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送方法において、基板上の排除する水洗水の水量が多くなっても、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送方法となる。
【００１９】
また、本発明は、基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、パスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、水洗槽からエアナイフへの基板搬送の搬送初期に、基板の先端部に対応した位置にある転動体を除き、次の転動体と隣接する複数の転動体の高さをパスラインの高さより低いものとし、水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その搬送初期には、基板の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、その搬送中期には、基板の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、その搬送末期には、基板の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うので、基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送装置において、基板上の排除する水洗水の水量が多くなっても、エアナイフによる水の残跡の発生を抑制し、形成されたパターン品質が損なわれることのない、現像装置における基板搬送装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図４は、本発明における第一の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の一例の概略を示す側面図である。この基板搬送装置は、図４中、左方の現像槽（図示せず）と右方の水洗槽（図示せず）との間に設けられている。この基板搬送装置は、転動体として、ローラ（Ｒ）を用いた例であり、所謂、ローラコンベアーと称される搬送装置である。
【００２１】
転動体（ローラ）（Ｒ）は、その長手方向を基板の搬送方向（Ｘ軸）と直角（Ｙ軸方向）にし、複数のローラ（第１ローラ（１）〜第１４ローラ（１４））が水平に、その間隔を同一にし近接させ、基板の搬送方向（Ｘ軸）に一列に揃えて並列されている。並列された複数のローラ（第１ローラ（１）〜第１４ローラ（１４））の上部は、基板（５０）を搬送するパスライン（Ｐ）であり、ローラ（Ｒ）は、その回転によって、白太矢印で示すように、基板（５０）を図３中、左方から右方へとローラ（Ｒ）上を搬送するようになっている。
【００２２】
転動体（ローラ）（Ｒ）の支持部（４０）は、ローラの上部の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低くする（Ｚ軸方向）ことが可能な昇降機構（４１）を有している。昇降機構（４１）は、複数のローラ（第１ローラ（１）〜第１４ローラ（１４））の各々を独立して昇降することができるようになっている。
この基板搬送装置が、その昇降機構（４１）を作動させない場合には、基板（５０）はパスライン（Ｐ）上を図４中、左方から右方へと水平に搬送される。
尚、符号（２０）は基板（５０）上に残留した現像液を表している。また、符号（Ｄ０）は基板（５０）上の現像液量を表している。
【００２３】
図１は、基板搬送装置の動作の形態１の概略を説明する側面図である。この形態１は、請求項２に係わる形態の一例である。
図１（ａ）は、現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期の段階を表したものである。また、図１（ｂ）は、基板搬送の搬送中期の段階を、図１（ｃ）は、搬送末期の段階を表したものである。
図１（ａ）に示すように、搬送初期に、基板（５０）の進行方向の先端部に対応した位置にある転動体を除き、次の転動体と隣接する複数のローラ（Ｒ）の上部の高さを、昇降機構（４１）によって基板のパスライン（Ｐ）よりも低いものとする。
【００２４】
図１（ａ）においては、第７ローラ（７）、第８ローラ（８）、第９ローラ（９）の３個のローラをパスライン（Ｐ）よりも低い（ΔＨ）ものとする。このように第７ローラ（７）〜第９ローラ（９）の３個のローラを設定することにより、基板搬送装置は、図１中、左方から搬送される基板（５０）を、図１（ａ）に示す搬送初期の段階では、基板の進行方向の先端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。
【００２５】
また、図１（ｂ）に示すように、搬送中期の段階では、基板の進行方向の中央部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。また、図１（ｃ）に示すように、搬送末期の段階では、基板の進行方向の末端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つことになる。
【００２６】
これにより、その搬送初期（図１（ａ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１、Ｄ１＞Ｄ０）、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２、Ｄ２＜Ｄ０）した状態に保ち、その搬送中期（図１（ｂ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の中央部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１）した状態に保ち、また、その搬送末期（図１（ｃ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１）した状態に保った基板搬送を行うことになる。
【００２７】
このように、現像槽と水洗槽との間にて、基板（５０）上の位置（先端部、中央部、末端部）での現像液量を変えることにより、現像液量の多い／少ないによる現像進行の度合いが、図３に示すように、水平にパスライン（Ｐ）上を搬送される場合と同様に、略平均化された状態を保持し、且つ、水洗槽での水置換は、現像液量の少ない基板の進行方向の先端部から開始するので、水置換の効率が向上する。つまり、従来における過剰な現像は抑制されたものとなる。
尚、図１（ｃ）中、符号（Ｓ）は、水洗槽において、水洗水が吐出する位置を表している。
【００２８】
また、表１は、上記形態１において、その上部の高さを低くするローラ番号を表したものであり、表１中、ステップ１は搬送初期、ステップ２は搬送中期、ステップ３は搬送末期に相当する。
【００２９】
【表１】
図２及び図３は、第一の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の動作の形態２の概略を説明する側面図である。この形態２は、請求項５に係わる形態の一例である。
図２（ａ）は、現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期１の段階を表したものである。また、図２（ｂ）は、基板搬送の搬送初期２の段階を表したものである。また、図３（ａ）は、基板搬送の搬送中期の段階を、図３（ｂ）は、搬送末期の段階を表したものである。図２及び図３においては、基板（５０）の進行方向の大きさが、第１ローラ（１）〜第９ローラ（９）間の長さに相当する基板を例示してある。
【００３０】
図２（ａ）に示すように、搬送初期１に、基板（５０）の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数のローラ（Ｒ）の上部の高さを、昇降機構（４１）によって基板のパスライン（Ｐ）よりも低いものとする。
図２（ａ）においては、第７ローラ（７）、第８ローラ（８）、第９ローラ（９）の３個のローラをパスライン（Ｐ）よりも低い（ΔＨ）ものとする。
このように、上部の高さがパスライン（Ｐ）よりも低い３個のローラ（第７ローラ（７）〜第９ローラ（９））を集合体（６０）として設定することにより、基板搬送装置は、図２中、左方から搬送される基板（５０）を、図２（ａ）に示す搬送初期１の段階では、基板の進行方向の先端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。
【００３１】
また、図２（ｂ）に示すように、搬送初期２の段階では、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板（５０）の進行方向の逆方向に、集合体（６０）がパスライン（Ｐ）よりも高さの低いローラの数を増加させるように、昇降機構（４１）によって第６ローラ（６）の高さを低い（ΔＨ）ものとする。
これにより、集合体（６０）は第６ローラ（６）〜第９ローラ（９）で構成されたものとなり、図２中、左方から搬送される基板（５０）は、図２（ｂ）に示す搬送初期２の段階では、第６ローラ（６）〜第９ローラ（９）間上の基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保たれる。
【００３２】
また、図３（ａ）に示すように、搬送中期の段階では、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板（５０）の進行方向の逆方向に、集合体（６０）がパスライン（Ｐ）よりも高さの低いローラの数を増加させるように、昇降機構（４１）によって第５ローラ（５）の高さを低い（ΔＨ）ものとする。
これにより、集合体（６０）は第５ローラ（５）〜第９ローラ（９）で構成されたものとなり、図３中、左方から搬送される基板（５０）は、図３（ａ）に示す搬送中期の段階では、第５ローラ（５）〜第９ローラ（９）間、すなわち、基板の進行方向の中央部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保たれる。
【００３３】
また、図３（ｂ）に示すように、搬送末期の段階では、第４ローラ（４）の高さを低い（ΔＨ）ものとする。これにより、集合体（６０）は第４ローラ（４）〜第９ローラ（９）で構成されたものとなり、図３中、左方から搬送される基板（５０）は、図３（ｂ）に示す搬送末期の段階では、第４ローラ（４）〜第９ローラ（９）間、すなわち、基板の進行方向の中央部〜末端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保たれることになる。
【００３４】
従って、その搬送初期１、２（図２（ａ）、（ｂ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部〜中央部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１、Ｄ１＞Ｄ０）、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２、Ｄ２＜Ｄ０）した状態に保ち、また、その搬送中期（図３（ａ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の中央部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１）した状態に保ち、
また、その搬送末期（図３（ｂ））には、基板（５０）上に残留した現像液（２０）を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の中央部〜末端部での基板上の現像液量を多く（Ｄ１）した状態に保った基板搬送を行うことになる。
【００３５】
このように、パスラインより低いローラ数を基板（５０）上の先端部から末端部方向へ増やすことにより、基板（５０）上の先端部から末端部方向へ現像液の流れができるので、基板（５０）上の先端部からの現像液の除去の効率が上がる。
尚、図３（ｂ）中、符号（Ｓ）は、水洗槽において、水洗水が吐出する位置を表している。
【００３６】
また、表２は、上記形態２において、その上部の高さを低くするローラ番号を表したものであり、表２中、ステップ１は搬送初期１、ステップ２は搬送初期２、ステップ３は搬送中期、ステップ４は搬送末期に相当する。
【００３７】
【表２】
また、第一の発明の請求項３に係わる発明は、基板（５０）のパスライン（Ｐ）の高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体（６０）の位置が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構（４１）を作動させることを特徴としており、基板搬送装置の動作の形態３である。表３は、このような形態３の一例におけるステップを表したものである。
【００３８】
【表３】
この動作の形態３においては、基板（５０）上の現像液を、パスラインより低いローラに集め、水洗水の吐出する位置から離れるように移動させて排除し、水洗の効果を上げる。
【００３９】
また、第一の発明の請求項４に係わる発明は、基板（５０）のパスライン（Ｐ）の高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体（６０）が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、高さの低い転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構（４１）を作動させることを特徴としており、基板搬送装置の動作の形態４である。表４は、このような形態４の一例におけるステップを表したものである。
【００４０】
【表４】
この動作の形態４においては、基板（５０）上の現像液を、パスラインより低いローラに集め、さらに水洗水の流れ込み分のパスラインより低いローラ数を増加しながら、水洗水の吐出する位置から離れるように移動させて排除し、水洗の効果を上げる。
【００４１】
図５は、第一の発明の請求項６に係わる発明における、搬送装置制御装置（８０）の一例の概略を示す説明図である。図５に示すように、搬送装置制御装置（８０）は、１）転動体（ローラ）（Ｒ）の回転数を回転検出器（７１）によって検出（７３）し、基板速度を演算（７４）し、２）基板（５０）の先端及び末端を基板検知センサー（７２）によって検出（７５）し、３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算（７６）し、４）該演算した基板の位置と大きさより、転動体（ローラ）（Ｒ）の高さを制御（７７）する。尚、図４中、符号（７０）は、情報伝達路を表している。
【００４２】
このような搬送装置制御装置（８０）を備えることによって、上述した、表１〜表４に示すような基板搬送装置の動作の種々な形態を任意に容易に設定することができるものとなる。
【００４３】
上述のように、本発明における第一の発明によれば、現像液から水への水置換が完了するまでの間に進行する過剰な現像が抑制されるので、形成されたパターン品質の損なわれることが低減される。
【００４４】
図４は、本発明における第一の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の一例の概略を示す側面図であるが、同時に、本発明における第二の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の一例の概略を示す側面図である。第二の発明においては、基板搬送装置は、図４中、左方の水洗槽（図示せず）と右方のエアナイフ（図示せず）との間に設けられている。
【００４５】
また、図１は、第一の発明における、動作の形態１の側面図であるが、同時に、第二の発明における基板搬送装置の動作の形態１の概略を説明する側面図である。この形態１は、請求項８に係わる形態の一例である。
図１（ａ）は、水洗槽からエアナイフへの基板搬送の搬送初期の段階を表したものである。また、図１（ｂ）は、基板搬送の搬送中期の段階を、図１（ｃ）は、搬送末期の段階を表したものである。
図１（ａ）に示すように、搬送初期に、基板（５０）の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数のローラ（Ｒ）の上部の高さを、昇降機構（４１）によって基板のパスライン（Ｐ）よりも低い（ΔＨ）ものとする。
【００４６】
図１（ａ）においては、第７ローラ（７）、第８ローラ（８）、第９ローラ（９）の３個のローラをパスライン（Ｐ）よりも低い（ΔＨ）ものとする。このように第７ローラ（７）〜第９ローラ（９）の３個のローラを設定することにより、基板搬送装置は、図１中、左方から搬送される基板（５０）を、図１（ａ）に示す搬送初期の段階では、基板の進行方向の先端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。
【００４７】
また、図１（ｂ）に示すように、搬送中期の段階では、基板の進行方向の中央部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つ。また、図１（ｃ）に示すように、搬送末期の段階では、基板の進行方向の末端部での基板（５０）の高さをパスライン（Ｐ）の高さより低く（ΔＨ）保つことになる。
【００４８】
これにより、その搬送初期（図１（ａ））には、基板（５０）上に残留した水（３０）を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を多く（Ｄ１、Ｄ１＞Ｄ０）、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を少なく（Ｄ２、Ｄ２＜Ｄ０）した状態に保ち、その搬送中期（図１（ｂ））には、基板（５０）上に残留した水（３０）を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の水量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の中央部での基板上の水量を多く（Ｄ１）した状態に保ち、また、その搬送末期（図１（ｃ））には、基板（５０）上に残留した水（３０）を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を少なく（Ｄ２）、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を多く（Ｄ１）した状態に保った基板搬送を行うことになる。
【００４９】
このように、水洗槽とエアナイフとの間にて、基板（５０）上の位置（先端部、中央部、末端部）での水量を変えることにより、水量は、図４に示すように、水平にパスライン（Ｐ）上を搬送される場合と同様に、略平均化された状態を保持し、且つ、エアナイフでの水の排除は、水量の少ない基板の進行方向の先端部から開始するので、水を排除する効率が向上する。つまり、従来における水の残跡の発生は抑制されたものとなる。
尚、図１（ｃ）中、符号（Ｅ）は、エアナイフにおいて、エアが吐出する位置を表している。
【００５０】
また、表１は、第一の発明における形態１での高さを低くするローラ番号を表したものであるが、同時に、第二の発明における上記形態１において、その上部の高さを低くするローラ番号を表したものであり、表１中、ステップ１は搬送初期、ステップ２は搬送中期、ステップ３は搬送末期に相当する。
【００５１】
上述のように、本発明における第二の発明の技法は、第一の発明の技法と同一であり、第一の発明における現像槽、水洗槽、現像液を、各々水洗槽、エアナイフ、水に置き換えるものであるので、以降の説明は省略する。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】（ａ）〜（ｃ）は、基板搬送装置の動作の形態１の概略を説明する側面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、基板搬送装置の動作の形態２の概略を説明する側面図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、基板搬送装置の動作の形態２の概略を説明する側面図である。
【図４】本発明における第一の発明に係わる、現像装置における基板搬送装置の一例の概略を示す側面図である。
【図５】搬送装置制御装置の一例の概略を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５３】
１〜１４・・・第１ローラ〜第１４ローラ
２０・・・基板上に残留した現像液
３０・・・基板上に残留した水
４０・・・転動体（ローラ）の支持部
４１・・・昇降機構
５０・・・ガラス基板
６０・・・上部の高さがパスラインよりも低いローラの集合体
７０・・・情報伝達路
７１・・・回転検出器
７２・・・基板検知センサー
８０・・・搬送装置制御装置
Ｅ・・・エアが吐出する位置
Ｐ・・・パスライン
Ｒ・・・転動体（ローラ）
Ｓ・・・水洗水が吐出する位置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送方法において、
１）前記現像槽から水洗槽への基板搬送は、その搬送初期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を多く、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を少なくした状態に保ち、
２）その搬送中期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく、基板の進行方向の中央部での基板上の現像液量を多くした状態に保ち、
３）その搬送末期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を多くした状態に保って行い、
水洗槽での水置換は、現像液量の少ない基板の進行方向の先端部から開始することを特徴とする現像装置における基板搬送方法。
【請求項２】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送装置において、
１）前記基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、基板を水平に搬送する基板のパスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、
２）前記現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期に、基板の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数の転動体の高さを、昇降機構によって基板のパスラインの高さより低いものとし、
３）前記現像槽から水洗槽への基板搬送は、ａ）その搬送初期には、基板の進行方向の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｂ）その搬送中期には、基板の進行方向の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｃ）その搬送末期には、基板の進行方向の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うことを特徴とする現像装置における基板搬送装置。
【請求項３】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体の位置が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項２記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、高さの低い転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項２記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項５】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に、高さの低い転動体の数を増加させるように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項２記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項６】
１）前記転動体の回転数を回転検出器によって検出し、
２）前記基板の先端及び末端を基板検知センサーによって検出し、
３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算し、
４）該演算した基板の位置と大きさより、前記転動体の高さを制御することを特徴とする請求項２〜請求項５のいずれか１項に記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項７】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送方法において、
１）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その搬送初期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を多く、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を少なくした状態に保ち、
２）その搬送中期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の水量を少なく、基板の進行方向の中央部での基板上の水量を多くした状態に保ち、３）その搬送末期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を少なく、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を多くした状態に保って行い、
エアナイフでの水の排除は、水量の少ない基板の進行方向の先端部から開始することを特徴とする現像装置における基板搬送方法。
【請求項８】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送装置において、
１）前記基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、基板を水平に搬送する基板のパスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、
２）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送の搬送初期に、基板の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数の転動体の高さを、昇降機構によって基板のパスラインの高さより低いものとし、
３）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、ａ）その搬送初期には、基板の進行方向の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｂ）その搬送中期には、基板の進行方向の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｃ）その搬送末期には、基板の進行方向の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うことを特徴とする現像装置における基板搬送装置。
【請求項９】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体の位置が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項８記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項１０】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、高さの低い転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項８記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項１１】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に、高さの低い転動体の数を増加させるように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項８記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項１２】
１）前記転動体の回転数を回転検出器によって検出し、
２）前記基板の先端及び末端を基板検知センサーによって検出し、
３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算し、
４）該演算した基板の位置と大きさより、前記転動体の高さを制御することを特徴とする請求項８〜請求項１１のいずれか１項に記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項１】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送方法において、
１）前記現像槽から水洗槽への基板搬送は、その搬送初期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を多く、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を少なくした状態に保ち、
２）その搬送中期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の現像液量を少なく、基板の進行方向の中央部での基板上の現像液量を多くした状態に保ち、
３）その搬送末期には、基板上に残留した現像液を基板の進行方向の先端部での基板上の現像液量を少なく、基板の進行方向の末端部での基板上の現像液量を多くした状態に保って行い、
水洗槽での水置換は、現像液量の少ない基板の進行方向の先端部から開始することを特徴とする現像装置における基板搬送方法。
【請求項２】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の現像槽と水洗槽との間の基板搬送装置において、
１）前記基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、基板を水平に搬送する基板のパスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、
２）前記現像槽から水洗槽への基板搬送の搬送初期に、基板の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数の転動体の高さを、昇降機構によって基板のパスラインの高さより低いものとし、
３）前記現像槽から水洗槽への基板搬送は、ａ）その搬送初期には、基板の進行方向の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｂ）その搬送中期には、基板の進行方向の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｃ）その搬送末期には、基板の進行方向の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うことを特徴とする現像装置における基板搬送装置。
【請求項３】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体の位置が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項２記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、高さの低い転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項２記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項５】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、現像槽から水洗槽への基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に、高さの低い転動体の数を増加させるように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項２記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項６】
１）前記転動体の回転数を回転検出器によって検出し、
２）前記基板の先端及び末端を基板検知センサーによって検出し、
３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算し、
４）該演算した基板の位置と大きさより、前記転動体の高さを制御することを特徴とする請求項２〜請求項５のいずれか１項に記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項７】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送方法において、
１）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、その搬送初期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を多く、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を少なくした状態に保ち、
２）その搬送中期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部及び末端部での基板上の水量を少なく、基板の進行方向の中央部での基板上の水量を多くした状態に保ち、３）その搬送末期には、基板上に残留した水を基板の進行方向の先端部での基板上の水量を少なく、基板の進行方向の末端部での基板上の水量を多くした状態に保って行い、
エアナイフでの水の排除は、水量の少ない基板の進行方向の先端部から開始することを特徴とする現像装置における基板搬送方法。
【請求項８】
基板を枚葉で水平に搬送しながらウエット処理によってパターンを形成する際の水洗槽とエアナイフとの間の基板搬送装置において、
１）前記基板を支持し運ぶ転動体の支持部は、該転動体の高さを、基板を水平に搬送する基板のパスラインの高さより低くすることが可能な昇降機構を有し、
２）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送の搬送初期に、基板の進行方向の先端部に対応した位置にある隣接する複数の転動体の高さを、昇降機構によって基板のパスラインの高さより低いものとし、
３）前記水洗槽からエアナイフへの基板搬送は、ａ）その搬送初期には、基板の進行方向の先端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｂ）その搬送中期には、基板の進行方向の中央部での基板の高さをパスラインの高さより低く保ち、
ｃ）その搬送末期には、基板の進行方向の末端部での基板の高さをパスラインの高さより低く保って行うことを特徴とする現像装置における基板搬送装置。
【請求項９】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体の位置が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項８記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項１０】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、高さの低い転動体の数を増加させつつ、集合体の位置を基板の進行方向の逆方向に移動するように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項８記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項１１】
前記基板のパスラインの高さより、その高さを低いものとした隣接する複数の転動体の集合体が、水洗槽からエアナイフへの基板搬送に伴い、基板の進行方向の逆方向に、高さの低い転動体の数を増加させるように当該昇降機構を作動させることを特徴とする請求項８記載の現像装置における基板搬送装置。
【請求項１２】
１）前記転動体の回転数を回転検出器によって検出し、
２）前記基板の先端及び末端を基板検知センサーによって検出し、
３）上記１）、２）より基板の位置と大きさを演算し、
４）該演算した基板の位置と大きさより、前記転動体の高さを制御することを特徴とする請求項８〜請求項１１のいずれか１項に記載の現像装置における基板搬送装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００９−１４６９２７（Ｐ２００９−１４６９２７Ａ）
【公開日】平成２１年７月２日（２００９．７．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３１９４１６（Ｐ２００７−３１９４１６）
【出願日】平成１９年１２月１１日（２００７．１２．１１）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月２日（２００９．７．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月１１日（２００７．１２．１１）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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