発光装置、表示装置および電子機器
【課題】陰極と陽極の間に複数の発光する機能を有する層を備えた発光素子において、これら複数の発光する機能を有する層のうち、所望の層を選択的もしくは支配的に発光させることができる発光装置、表示装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】発光装置１は、発光素子１Ｒが、陽極３Ｒと、陰極１２と、陽極３Ｒと陰極１２との間に設けられた赤色発光層５Ｒと、陽極３Ｒと赤色発光層５Ｒとの間に設けられた青色発光層５Ｂと、赤色発光層５Ｒと青色発光層５Ｂとの間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成されたキャリア調整層９とを備え、発光素子１Ｂが、陽極３Ｂと、陰極１２と、陽極３Ｂと陰極１２との間に設けられた青色発光層５Ｂと、青色発光層５Ｂと陽極３Ｂとの間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成されたキャリア調整層９とを備える。
【解決手段】発光装置１は、発光素子１Ｒが、陽極３Ｒと、陰極１２と、陽極３Ｒと陰極１２との間に設けられた赤色発光層５Ｒと、陽極３Ｒと赤色発光層５Ｒとの間に設けられた青色発光層５Ｂと、赤色発光層５Ｒと青色発光層５Ｂとの間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成されたキャリア調整層９とを備え、発光素子１Ｂが、陽極３Ｂと、陰極１２と、陽極３Ｂと陰極１２との間に設けられた青色発光層５Ｂと、青色発光層５Ｂと陽極３Ｂとの間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成されたキャリア調整層９とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置、表示装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（いわゆる有機ＥＬ素子）の製造において、各色に発光する有機ＥＬ素子が備える赤色発光層と緑色発光層とを塗布法で形成し、青色発光層を真空蒸着法（蒸着法）で形成した表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
これは、インクジェット法のような塗布法を用いて作製された有機ＥＬ素子は、赤色および緑色に発光する有機ＥＬ素子では、実用レベルの発光寿命（輝度寿命）や発光効率（電流効率または外部量子効率）を有するものの、青色に発光する有機ＥＬ素子では、実用レベルの発光寿命や発光効率に達しないことが多く、また、真空蒸着法を用いて作製された青色に発光する有機ＥＬ素子は、塗布法を用いて作製されたものと比較して、その発光寿命が数倍以上長く、実用レベルに達していることが多い点に着目した技術である。つまり、インクジェット法のような液相プロセスを用いて作製されたある発光色の有機ＥＬ素子が、実用レベルの発光寿命や発光効率に達しない場合でも、真空蒸着法のような気相プロセスを用いて作製された同様の発光色の有機ＥＬ素子は、実用レベルの発光寿命や発光効率を有する場合がある。
【０００３】
このような表示装置において、赤色有機ＥＬ素子（赤色画素）および緑色有機ＥＬ素子（緑色画素）は、それぞれ、これらが有する赤色発光層および緑色発光層上に、真空蒸着法を用いて青色発光層が形成された構成、すなわち、赤色発光層および緑色発光層を含む全面に、真空蒸着法により青色発光層が形成された構成となっている。そのため、かかる構成の表示装置の製造方法は、高精細マスクを用いて、青色有機ＥＬ素子（青色画素）のみに選択的に青色発光層を蒸着（成膜）する必要がないことから、大型パネルを備える表示装置の製造に最適である。
【０００４】
しかしながら、この場合、赤色有機ＥＬ素子および緑色有機ＥＬ素子において、青色発光層は、それぞれ、赤色発光層および緑色発光層上に接触して設けられているため、青色発光層から、赤色発光層および緑色発光層へ、電子が十分注入されない場合が多い。
そのため、赤色有機ＥＬ素子（赤色画素）および緑色有機ＥＬ素子（緑色画素）において、意図しない青色発光層が発光することにより、それぞれ、赤色および緑色としての色純度が低くなってしまうことがあった。
すなわち、陰極と陽極の間に複数の発光する機能を有する層（発光層）を備えた発光素子において、前記発光する機能を有する層のうち、所望の層を選択的または支配的に発光させることができないという課題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−７３５３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、陰極と陽極の間に複数の発光する機能を有する層を備えた発光素子において、これら複数の発光する機能を有する層のうち、所望の層を選択的または支配的に発光させることができる発光装置、表示装置および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の発光装置は、互いに異なる色の光を出射する第１の発光素子および第２の発光素子を有する発光装置であって、
前記第１の発光素子は、
第１の陽極と、
第１の陰極と、
前記第１の陽極と前記第１の陰極との間に設けられ、第１の色に発光する機能を有する第１の発光層と、
前記第１の陽極と前記第１の発光層との間に設けられ、前記第１の色とは異なる第２の色に発光する機能を有する非発光層と、
前記第１の発光層と前記非発光層との間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第１のキャリア調整層とを備え、
前記第２の発光素子は、
第２の陽極と、
第２の陰極と、
前記第２の陽極と前記第２の陰極との間に設けられ、前記第２の色に発光する機能を有する第２の発光層と、
前記第２の発光層と前記第２の陽極との間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第２のキャリア調整層とを備えることを特徴とする。
【０００８】
このように構成された発光装置によれば、第１の発光素子において、第１のキャリア調整層が正孔ブロック材料を含んでいるため、第１のキャリア調整層が第１の発光層に正孔を留めることができる。そのため、第１の発光素子において、非発光層の発光を防止または抑制しつつ、第１の発光層を選択的または支配的に発光させることができる。
また、第２の発光素子において、第２のキャリア調整層が正孔輸送材料を含んでいるため、第２のキャリア調整層が正孔を第２の発光層へ輸送することができる。そのため、第２の発光素子において、第２の発光層を効率的に発光させることができる。
【０００９】
特に、非発光層および第２の発光層を同一材料で構成するとともに、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を同一材料で構成することができる。そのため、非発光層および第２の発光層を同一の気相プロセスにより一括形成するとともに、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を発光素子毎に塗り分けずに同一の気相プロセスにより一括形成することができる。その結果、第１の発光素子および第２の発光素子の特性を優れたものとするとともに、発光装置の大型化を容易なものとすることができる。
【００１０】
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層は、前記正孔ブロック材料を含んで構成された第１の正孔ブロック層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記正孔ブロック材料を含んで構成された第２の正孔ブロック層を有することが好ましい。
これにより、第１の発光素子において、第１の正孔ブロック層が第１の発光層に正孔を効果的に留めることができる。また、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を同一の層構成で構成することができ、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を発光素子毎に塗り分けずに同一の気相プロセスにより一括形成することができる。
【００１１】
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層は、前記第１の正孔ブロック層と前記非発光層との間に設けられ、前記正孔輸送材料を含んで構成された第１の正孔輸送層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記第２の正孔ブロック層と前記第２の発光層との間に設けられ、前記正孔輸送材料を含んで構成された第２の正孔輸送層を有することが好ましい。
これにより、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を同一の層構成としつつ、第２の発光素子において、第２の発光層への正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００１２】
本発明の発光装置では、前記第１の正孔ブロック層および前記第２の正孔ブロック層は、それぞれ、前記正孔ブロック材料および前記正孔輸送材料を含む混合材料で構成されていることが好ましい。
これにより、第１の発光素子において、第１の正孔ブロック層が第１の発光層に正孔を効果的に留めることができる。また、第２の発光素子において、第２の発光層への正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００１３】
本発明の発光装置では、前記第２の発光素子は、
前記第２のキャリア調整層と前記第２の陽極との間に設けられた正孔注入層を備えることが好ましい。
これにより、第２の発光素子において、第２の発光層への正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００１４】
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層は、前記第１の正孔ブロック層と前記第１の発光層との間に設けられた第１の電子注入層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記第２の正孔ブロック層と前記正孔注入層との間に設けられた第２の電子注入層を有することが好ましい。
これにより、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を同一の層構成としつつ、第１の発光素子において、第１の発光層への電子の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００１５】
本発明の発光装置では、前記正孔ブロック材料は、前記第１の発光層の構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深いＨＯＭＯ準位を有することが好ましい。
これにより、キャリア調整層は、第１の発光素子において、正孔ブロック性を発揮することができる。
本発明の発光装置では、前記正孔ブロック材料は、前記第１の発光層の構成材料のバンドギャップよりも広いバンドギャップを有することが好ましい。
これにより、正孔ブロック材料のＨＯＭＯ準位を第１の発光層の構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深くすることができる。
【００１６】
本発明の発光装置では、前記第１の色は、赤色または緑色であり、前記第２の色は、青色であることが好ましい。
これにより、非発光層および第２の発光層を青色の発光材料で同一の気相プロセスにより一括形成することができる。また、気相プロセスにより第２の発光層を形成することにより、第２の発光層の特性を高めることができる。そのため、一般に青色の発光材料は赤色および緑色の発光材料よりも特性が劣るが、第２の発光素子の特性を実用レベルとすることができる。また、一般に赤色および緑色の発光材料は青色の発光材料よりも特性が優れるため、第１の発光層を赤色または緑色の発光材料で液相プロセスにより形成しても、第１の発光層の特性を実用レベルとすることができる。
【００１７】
本発明の発光装置では、前記非発光層は、前記第２の発光層と一体的に設けられていることが好ましい。
これにより、非発光層および第２の発光層を同一の気相プロセスにより一括形成することができる。
本発明の発光装置では、前記第１の発光層は、液相プロセスにより形成されたものであり、前記非発光層および前記第２の発光層は、気相プロセスにより一括形成されたものであることが好ましい。
これにより、第１の発光層および第２の発光層の特性をそれぞれ実用レベルとすることができる。
【００１８】
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層は、前記第２のキャリア調整層と一体的に設けられていることが好ましい。
これにより、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を気相プロセスにより一括形成することができる。
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層および前記第２のキャリア調整層は、気相プロセスにより一括形成されたものであることが好ましい。
これにより、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層の特性をそれぞれ優れたものとすることができる。
本発明の表示装置は、本発明の発光装置を備えることを特徴とする。
これにより、優れた信頼性を有する表示装置を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の発光装置を備えることを特徴とする。
これにより、優れた信頼性を有する電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る発光装置の概略構成を示す模式的断面図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る発光装置の概略構成を示す模式的断面図である。
【図３】本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の実施形態を示す縦断面図である。
【図４】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
【図６】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の発光装置、表示装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態について説明する。
＜第１実施形態＞
まず、本発明の第１実施形態を説明する。
（発光装置）
図１は、本発明の第１実施形態に係る発光装置の概略構成を示す模式的断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図１中の上側を「上」、下側を「下」として説明を行う。
【００２１】
図１に示す発光装置１は、基板２と、この基板２上に設けられた複数の発光素子（エレクトロルミネッセンス素子）１Ｒ、１Ｇ、１Ｂとを備える。
この発光装置１において、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂは、互いに異なる色の光を出射するものである。
より具体的には、この発光装置１において、発光素子１Ｒ（第１の発光素子）は、陽極３Ｒ（第１の陽極）と正孔注入層４Ｒと赤色発光層５Ｒ（第１の発光層）と第１電子注入層６Ｒ（第１の電子注入層）と正孔ブロック層７Ｒ（第１の正孔ブロック層）と正孔輸送層８Ｒ（第１の正孔輸送層）と青色発光層５ＢＲ（非発光層）と電子輸送層１０Ｒと第２電子注入層１１Ｒと陰極１２Ｒ（第１の陰極）とがこの順に積層されてなる。
【００２２】
また、発光素子１Ｇ（第１の発光素子）は、陽極３Ｇ（第１の陽極）と正孔注入層４Ｇと緑色発光層５Ｇ（第１の発光層）と第１電子注入層６Ｇ（第１の電子注入層）と正孔ブロック層７Ｇ（第１の正孔ブロック層）と正孔輸送層８Ｇ（第１の正孔輸送層）と青色発光層５ＢＧ（非発光層）と電子輸送層１０Ｇと第２電子注入層１１Ｇと陰極１２Ｇ（第１の陰極）とがこの順に積層されてなる。
また、発光素子１Ｂ（第２の発光素子）は、陽極３Ｂ（第２の陽極）と正孔注入層４Ｂと第１電子注入層６Ｂ（第２の電子注入層）と正孔ブロック層７Ｂ（第２の正孔ブロック層）と正孔輸送層８Ｂ（第２の正孔輸送層）と青色発光層５ＢＢ（第２の発光層）と電子輸送層１０Ｂと第２電子注入層１１Ｂと陰極１２Ｂとがこの順に積層されてなる。
【００２３】
ここで、第１電子注入層６Ｒ、６Ｇ、６Ｂは、一体的に設けられ、第１電子注入層６を構成している。また、正孔ブロック層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂは、一体的に設けられ、正孔ブロック層７を構成している。また、正孔輸送層８Ｒ、８Ｇ、８Ｂは、一体的に設けられ、正孔輸送層８を構成している。また、青色発光層５ＢＲ、５ＢＧ、５ＢＢは、一体的に設けられ、青色発光層５Ｂを構成している。また、電子輸送層１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂは、一体的に設けられ、電子輸送層１０を構成している。また、第２電子注入層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂは、一体的に設けられ、第２電子注入層１１を構成している。また、陰極１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂは、一体的に設けられ、陰極１２を構成している。
すなわち、第１電子注入層６、正孔ブロック層７、正孔輸送層８、青色発光層５Ｂ、電子輸送層１０、第２電子注入層１１および陰極１２は、それぞれ、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂに共通して用いられている。
【００２４】
これに対し、陽極３Ｒ、正孔注入層４Ｒおよび赤色発光層５Ｒは、それぞれ発光素子１Ｒに個別に用いられ、陽極３Ｇ、正孔注入層４Ｇおよび緑色発光層５Ｇは、それぞれ発光素子１Ｇに個別に用いられ、また、陽極３Ｂおよび正孔注入層４Ｂは、それぞれ発光素子１Ｂに個別に用いられている。
また、第１電子注入層６、正孔ブロック層７および正孔輸送層８からなる積層体は、キャリアの流れを調整するキャリア調整層９を構成する。なお、発光素子１Ｒにおいて、第１電子注入層６Ｒ、正孔ブロック層７Ｒおよび正孔輸送層８Ｒからなる積層体は、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第１のキャリア調整層を構成する。また、発光素子１Ｇにおいて、第１電子注入層６Ｇ、正孔ブロック層７Ｇおよび正孔輸送層８Ｇからなる積層体は、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第１のキャリア調整層を構成する。また、発光素子１Ｂにおいて、第１電子注入層６Ｂ、正孔ブロック層７Ｂおよび正孔輸送層８Ｂからなる積層体は、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第２のキャリア調整層を構成する。
【００２５】
このような発光装置１にあっては、陽極３Ｒと陰極１２との間に駆動電圧が印加されることにより、赤色発光層５Ｒに対し、陰極１２側から電子が供給（注入）されるとともに、陽極３Ｒ側から正孔が供給（注入）される。そして、赤色発光層５Ｒでは、正孔と電子とが再結合し、この再結合によりエキシトン（励起子）が生成し、エキシトンが基底状態に戻る際にエネルギーを光（蛍光やりん光）として放出する。その際、後に詳述するように、キャリア調整層９の作用により、発光素子１Ｒでは、青色発光層５Ｂにおける正孔と電子との再結合が抑制または防止される。そのため、発光素子１Ｒは、赤色に発光する。
同様に、陽極３Ｇと陰極１２との間に駆動電圧が印加されることにより、緑色発光層５Ｇでは、正孔と電子とが再結合し、発光素子１Ｇは、緑色に発光する。
【００２６】
また、陽極３Ｂと陰極１２との間に駆動電圧が印加されることにより、青色発光層５Ｂでは、正孔と電子とが再結合し、発光素子１Ｂは、青色に発光する。その際、後に詳述するように、キャリア調整層９の作用により、発光素子１Ｂでは、青色発光層５Ｂにおける正孔と電子との再結合を好適に行うことができる。
本実施形態では、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂは、それぞれ、基板２側から光を取り出す構成（ボトムエミッション型）である。なお、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂは、それぞれ、基板２と反対側から光を取り出す構成（トップエミッション型）であってもよい。
【００２７】
以下、発光装置１を構成する各部を順次説明する。
［基板２］
基板２は、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂをそれぞれ支持するものである。本実施形態の発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂは、それぞれ、前述したようにボトムエミッション型であるため、基板２は、実質的に透明（無色透明、着色透明または半透明）とされている。
【００２８】
基板２の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料や、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
このような基板２の平均厚さは、特に限定されないが、０．１〜３０ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜１０ｍｍ程度であるのがより好ましい。
【００２９】
なお、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂがそれぞれトップエミッション型である場合、基板２には、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。
不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料で構成された基板、ステンレス鋼のような金属基板の表面に酸化膜（絶縁膜）を形成したもの、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。
【００３０】
［陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ］
陽極３Ｒは、正孔注入層４Ｒに正孔を注入する電極である。同様に、陽極３Ｇは、正孔注入層４Ｇに正孔を注入する電極である。また、陽極３Ｂは、正孔注入層４Ｂに正孔を注入する電極である。
この陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料が好適に用いられる。
【００３１】
陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの構成材料としては、それぞれ、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、フッ素添加ＳｎＯ２、Ｓｂ添加ＳｎＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯ等の金属酸化物、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの構成材料は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００３２】
また、本実施形態の発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂはそれぞれ前述したようにボトムエミッション型であるため、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂはそれぞれ実質的に透明（無色透明、着色透明または半透明）とされている。なお、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂがそれぞれトップエミッション型である場合には、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、それぞれ不透明であってもよい。
このような陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの平均厚さは、それぞれ、特に限定されないが、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの平均厚さは、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００３３】
［正孔注入層４Ｒ、４Ｇ］
正孔注入層４Ｒは、陽極３Ｒからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。同様に、正孔注入層４Ｇは、陽極３Ｇからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。
また、この正孔注入層４Ｒは、後述する赤色発光層５Ｒに接する。同様に、正孔注入層４Ｇは、後述する緑色発光層５Ｇに接する。
【００３４】
この正孔注入層４Ｒ、４Ｇの構成材料（正孔注入材料）としては、それぞれ、特に限定されないが、正孔注入層４Ｒ、４Ｇを液相プロセスを用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。
このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）のようなポリチオフォン系正孔注入材料や、ポリアニリン−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＡＮＩ／ＰＳＳ）のようなポリアニリン系正孔注入材料や、下記一般式（１）で表わされるオリゴアニリン誘導体と、下記一般式（４）で表わされる電子受容性ドーパントとで塩を形成してなるオリゴアニリン系正孔注入材料が挙げられる。
【００３５】
【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して未置換もしくは置換の一価炭化水素基またはオルガノオキシ基を示し、ＡおよびＢは、それぞれ独立して下記一般式（２）または下記一般式（３）で表される二価の基であり、Ｒ４〜Ｒ１１、はそれぞれ独立して水素原子、水酸基、未置換もしくは置換の一価炭化水素基またはオルガノオキシ基、アシル基、またはスルホン酸基であり、ｍおよびｎは、それぞれ独立して１以上の正数で、ｍ＋ｎ≦２０を満足する。］
【００３６】
【化２】
【００３７】
【化３】
［式中、Ｄは、ベンゼン環、ナフタレン環、アトラセン環、フェナントレン環または複素環を表し、Ｒ１２、Ｒ１３は、それぞれ独立してカルボキシル基またはヒドロキシル基を表す。］
【００３８】
なお、正孔注入層４Ｒ、４Ｇの構成材料は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
このような正孔注入層４Ｒ、４Ｇの平均厚さは、それぞれ、特に限定されないが、５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００３９】
なお、正孔注入層４Ｒ、４Ｇの平均厚さは、互いに同じであっても異なっていてもよい。
また、この正孔注入層４Ｒ、４Ｇは、それぞれ、発光素子１Ｒ、１Ｇの構成、例えば、陽極３Ｒ、３Ｇ、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ等の構成材料や厚さ等によっては省略することもできる。
【００４０】
また、この正孔注入層４Ｒに代えて、あるいは、正孔注入層４Ｒと後述する赤色発光層５Ｒとの間に、正孔輸送層を設けてもよい。同様に、正孔注入層４Ｇに代えて、あるいは、正孔注入層４Ｇと後述する緑色発光層５Ｇとの間に、正孔輸送層を設けてもよい。この正孔輸送層の構成材料としては、特に限定されないが、この正孔注入層を液相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、下記一般式（５）で表わされるトリフェニルアミン系ポリマー等のアミン系化合物が好適に用いられる。
【００４１】
【化４】
【００４２】
この正孔輸送層の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００４３】
［正孔注入層４Ｂ］
正孔注入層４Ｂは、陽極３Ｂからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。また、この正孔注入層４Ｂは、後述する第１電子注入層６に接する。
この正孔注入層４Ｂは、発光素子１Ｂのキャリア調整層９と陽極３Ｂとの間に設けられている。これにより、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂへの正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００４４】
この正孔注入層４Ｂの構成材料（正孔注入材料）としては、特に限定されないが、正孔注入層４Ｂを液相プロセスを用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。
このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、前述した正孔注入層４Ｒの構成材料（正孔注入材料）として挙げたものと同様のものを用いることができる。
【００４５】
なお、正孔注入層４Ｂの構成材料は、前述した正孔注入層４Ｒ、４Ｇの構成材料と同じであっても異なっていてもよい。
また、正孔注入層４Ｂの平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、正孔注入層４Ｂの平均厚さは、前述した正孔注入層４Ｒ、４Ｇの平均厚さと同じであっても異なっていてもよい。
【００４６】
［赤色発光層５Ｒ］
赤色発光層５Ｒは、赤色（第１の色）に発光する機能を有する。
赤色発光層５Ｒは、赤色に発光する赤色発光材料を含んで構成される。また、この赤色発光層５Ｒは、前述した正孔注入層４Ｒ上に設けられている。
このような赤色発光層５Ｒの構成材料（赤色発光材料）は、特に限定されないが、赤色発光層５Ｒを液相プロセスを用いて形成し得るように、溶液化または分散液化できることが望ましい。そこで、赤色発光層５Ｒの構成材料としては、溶媒に溶解または分散媒に分散することができる高分子赤色発光材料および低分子赤色発光材料が好適に用いられ、例えば、下記一般式（６）および下記一般式（７）で表わされる高分子赤色発光材料が挙げられる。
【００４７】
【化５】
【００４８】
このような赤色発光材料は、液相プロセスを用いて赤色発光層５Ｒを形成しても、発光素子１Ｒの発光寿命特性を実用レベルとすることができる。
このような赤色発光層５Ｒの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００４９】
［緑色発光層５Ｇ］
緑色発光層５Ｇは、緑色（第１の色）に発光する機能を有する。
緑色発光層５Ｇは、緑色に発光する緑色発光材料を含んで構成される。また、この緑色発光層５Ｇは、前述した正孔注入層４Ｇ上に設けられている。
このような緑色発光層５Ｇの構成材料は、特に限定されないが、緑色発光層５Ｇを液相プロセスを用いて形成し得るように、溶液化または分散液化できることが望ましい。そこで、緑色発光層５Ｇの構成材料としては、溶媒に溶解または分散媒に分散することができる高分子緑色発光材料および低分子緑色発光材料が好適に用いられ、例えば、下記一般式（１９）および下記一般式（２０）で表わされる高分子緑色発光材料が挙げられる。
【００５０】
【化６】
【００５１】
このような緑色発光材料は、液相プロセスを用いて緑色発光層５Ｇを形成しても、発光素子１Ｇの発光寿命特性を実用レベルとすることができる。
このような緑色発光層５Ｇの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００５２】
［第１電子注入層６］
第１電子注入層６は、キャリア調整層９の一部を構成する層である。また、発光素子１Ｒでは、第１電子注入層６が赤色発光層５Ｒに接する。また、発光素子１Ｇでは、第１電子注入層６が緑色発光層５Ｇに接する。また、発光素子１Ｂでは、第１電子注入層６が正孔注入層４Ｂに接する。
【００５３】
この第１電子注入層６は、正孔ブロック層７と赤色発光層５Ｒとの間、正孔ブロック層７と緑色発光層５Ｇとの間、および、正孔ブロック層７と正孔注入層４Ｂとの間に設けられている。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂのキャリア調整層９を同一の層構成としつつ、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇへの電子の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００５４】
この第１電子注入層６の構成材料としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、アルカリ金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、アルカリ土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、希土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、金属錯体等のような電子注入材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５５】
このような電子注入材料を主材料として第１電子注入層６を構成することにより、発光素子１Ｒにおいて、キャリア調整層９を介した青色発光層５Ｂから赤色発光層５Ｒへの電子の注入効率を向上させることができる。また、発光素子１Ｇにおいて、キャリア調整層９を介した青色発光層５Ｂから緑色発光層５Ｇへの電子の注入効率を向上させることができる。
【００５６】
アルカリ金属としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓが挙げられる。また、アルカリ土類金属としては、例えば、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが挙げられる。さらに、希土類金属としては、例えば、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｂ、Ｅｕが挙げられる。
アルカリ金属塩としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ２ＣＯ３、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ２ＣＯ３、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ２ＣＯ３、ＣｓＣｌが挙げられる。また、アルカリ土類金属塩としては、例えば、ＣａＦ２、ＣａＣＯ３、ＳｒＦ２、ＳｒＣＯ３、ＢａＦ２、ＢａＣＯ３が挙げられる。さらに、希土類金属塩としては、例えば、ＳｍＦ３、ＥｒＦ３が挙げられる。
【００５７】
金属錯体としては、例えば、８−キノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）やトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）等の８−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体が挙げられる。
また、第１電子注入層６の形成プロセスは、真空蒸着法（蒸着法）やスパッタ法のような気相プロセスを用いても良いし、インクジェット法やスリットコート法のような液相プロセスを用いても良い。
【００５８】
さらに、第１電子注入層６は、２種以上の電子注入層が積層される形で形成されていても良い。これによって、キャリア調整層９の発光素子１Ｒ、１Ｇにおけるキャリア注入動作が的確に行われる。
第１電子注入層６の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。第１電子注入層６の平均厚さをかかる範囲内に設定することにより、キャリア調整層９の発光素子１Ｒにおけるキャリア注入動作が的確に行われる。
【００５９】
［正孔ブロック層７］
正孔ブロック層７は、正孔をブロックする機能を有する。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇに正孔を留めて、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇを選択的または支配的に発光させることができる。
このような正孔ブロック層７は、正孔ブロック材料を含んで構成されている。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、正孔ブロック層７が赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇに正孔を効果的に留めることができる。また、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂのキャリア調整層９を同一の層構成で構成することができ、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂ毎に塗り分けずにキャリア調整層９を同一の気相プロセスにより一括形成することができる。
【００６０】
正孔ブロック層７に含まれる正孔ブロック材料は、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇの構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深いＨＯＭＯ準位を有する。これにより、キャリア調整層９は、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、正孔ブロック性を発揮することができる。
また、かかる正孔ブロック材料は、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇの構成材料のバンドギャップよりも広いバンドギャップを有するのが好ましい。これにより、正孔ブロック材料のＨＯＭＯ準位を赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇの構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深くすることができる。
【００６１】
このような正孔ブロック層７の構成材料（正孔ブロック材料）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（２１）で表わされるビス（２メチル−８−キノリノレイト）−４−（フェニルフェノレイト）アルミニウム（ＢＡｌｑ３）等のアルミニウム錯体、下記式（２２）で表わされる２，９−ジメチ−４，７−ジフェニル−１．１０−フェナントロリン（ＢＣＰ）等のフェナントロリン誘導体、下記式（２３）で表わされる３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−ターシャリーブチルフェニル−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）等のトリアゾール誘導体等を用いることができる。
【００６２】
【化７】
【００６３】
また、正孔ブロック層７の構成材料は、正孔輸送性を有するのが好ましい。これにより、発光素子１Ｂにおいて、正孔ブロック層７を介して青色発光層５Ｂに正孔を輸送することができる。その結果、発光素子１Ｂを青色発光させることができる。
また、正孔ブロック層７には、前述した正孔ブロック材料の他、正孔輸送性に優れた材料が含まれていてもよい。すなわち、正孔ブロック層７は、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含む混合材料で構成されていてもよい。この場合、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、正孔ブロック層７が赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇに正孔を効果的に留めることができる。また、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層への正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。かかる混合材料に用いる正孔輸送材料としては、後述する正孔輸送層８の構成材料（正孔輸送材料）と同様の材料を用いることができる。このような正孔輸送材料を含む正孔ブロック層７は、正孔輸送性を有するものとなる。
【００６４】
このような正孔ブロック層７の平均厚さは、特に限定されないが、０．１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であるのが好ましく、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であるのがより好ましい。このような範囲内に正孔ブロック層７の平均厚さを設定することにより、発光素子１Ｒ、１Ｇにおける正孔ブロック性と、発光素子１Ｂにおける正孔輸送性とをバランスよく設定することができる。
【００６５】
［正孔輸送層８］
正孔輸送層８は、キャリア調整層９を構成する層の一つであり、青色発光層５Ｂに接する層である。
この正孔輸送層は、正孔ブロック層７と青色発光層５Ｂとの間に設けられ、正孔輸送材料を含んで構成されている。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂのキャリア調整層９を同一の層構成としつつ、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂへの正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００６６】
また、この正孔輸送層８は、発光素子１Ｂにおいて、正孔輸送性を有する。このような正孔輸送層８は、発光素子１Ｂにおいて、電子ブロック性を有する。そのため、発光素子１Ｂでは、青色発光層５Ｂからの電子をブロックさせて、青色発光層５Ｂに電子を留めることができる。その結果、発光素子１Ｂでは、青色発光層５Ｂを効率よく発光させることができる。
【００６７】
また、正孔輸送層８は、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、第１電子注入層６の構成材料（電子輸送材料）が拡散されることにより、前述した電子ブロック性が抑制または消失され、電子輸送性を発揮する。そのため、発光素子１Ｒ、１Ｇでは、青色発光層５Ｂからの電子をブロックせずに正孔輸送層８を通過させ、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇへ電子を効率的に注入させることができる。その結果、発光素子１Ｒ、１Ｇでは、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇを効率よく発光させることができる。
【００６８】
この正孔輸送層８の構成材料（正孔輸送材料）としては、特に限定されないが、正孔輸送層８を真空蒸着法のような気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、下記式（８）で表わされるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、下記式（９）で表わされるビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）等のベンジジン誘導体等のアミン系化合物が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６９】
【化８】
【００７０】
中でも、正孔輸送層８の構成材料としては、前述したように正孔輸送層８が発光素子１Ｂにおいて電子ブロック性を好適に発揮させることができるという観点から、アミン系化合物を用いるのが好ましい。
このような正孔輸送層８の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。正孔輸送層８の平均厚さをかかる範囲内に設定することにより、前述したような正孔輸送層８の発光素子１Ｂにおける電子ブロック性と発光素子１Ｒ、１Ｇにおける電子輸送性とのバランスを優れたものとすることができる。
【００７１】
［青色発光層５Ｂ］
青色発光層５Ｂは、青色（第１の色とは異なる第２の色）に発光する機能を有する。
青色発光層５Ｂは、青色に発光する青色発光材料を含んで構成されている。
この青色発光層５Ｂの構成材料としては、特に限定されないが、青色発光層５Ｂを気相プロセスを用いて形成し得るものが好適に用いられ、例えば、下記式（１０）で表わされるスチリル誘導体の青色発光材料が挙げられる。
【００７２】
【化９】
【００７３】
また、その他に青色発光層５Ｂの構成材料としては、青色発光材料をゲスト材料としてホスト材料にドープしたものが用いられる。ホスト材料は、正孔と電子とを再結合させて励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを青色発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させる機能を有する。このホスト材料の機能により、ゲスト材料である青色発光材料が効率よく励起され、発光する。
【００７４】
ここで、ホスト材料としては、例えば、下記式（１１）、下記式（１２）および下記式（１３）で表わされるアントラセン誘導体が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、ゲスト材料としての青色発光材料としては、例えば、下記式（１４）、下記式（１５）および下記式（１６）で表わされるスチリル誘導体が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。
【００７５】
【化１０】
【００７６】
このような青色発光材料は、気相プロセスを用いて青色発光層５Ｂを形成することにより、発光素子１Ｂの発光寿命特性を実用レベルとすることができる。
さらに、このようなゲスト材料およびホスト材料を用いる場合、青色発光層５Ｂ中におけるゲスト材料の含有量（ドープ量）は、ホスト材料に対して重量比で０．１％以上２０％以下程度であるのが好ましく、０．５％以上１０％以下程度であるのがより好ましい。ゲスト材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。
このような青色発光層５Ｂの平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００７７】
［電子輸送層１０］
電子輸送層１０は、陰極１２から第２電子注入層１１を介して電子輸送層１０に注入された電子を青色発光層５Ｂに輸送する機能を有するものである。また、電子輸送層１０は、青色発光層５Ｂから電子輸送層１０へ通過しようとする正孔をブロックする機能を有する場合もある。
【００７８】
電子輸送層１０の構成材料（電子輸送材料）としては、特に限定されないが、電子輸送層１０を気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）や８−キノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）等の８−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４−ビフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ｔＢｕ−ＰＢＤ）、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）のようなオキサジアゾール誘導体、３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）のようなトリアゾール誘導体、下記式（１７）で表わされる化合物のようなシロール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、下記式（１８）で表わされる化合物のような含窒素複素環誘導体等が好適に用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７９】
【化１１】
【００８０】
電子輸送層１０の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これにより、第２電子注入層１１から注入された電子を好適に青色発光層５Ｂに輸送することができる。
なお、この電子輸送層１０は、発光装置１構成する各層の構成によっては、省略することもできる。
【００８１】
［第２電子注入層１１］
第２電子注入層１１は、陰極１２から電子輸送層１０への電子の注入効率を向上させる機能を有するものである。
この第２電子注入層１１の構成材料（電子注入材料）としては、特に限定されないが、例えば、前述の第１電子注入層６の構成材料として挙げたものと同様のものを用いることができる。
【００８２】
なお、第２電子注入層１１および第１電子注入層６の構成材料（電子注入材料）は、それぞれ、これらを挾持する２つの層の構成材料の組み合わせに応じて、最適な注入効率が得られるものが選択されるため、第２電子注入層１１の構成材料と第１電子注入層６の構成材料とは、同一であっても異なっていてもよい。
第２電子注入層１１の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、この第２電子注入層１１は、電子輸送層１０と陰極１２の構成材料の種類およびその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。
【００８３】
［陰極１２］
陰極１２は、第２電子注入層１１を介して電子輸送層１０に電子を注入する電極である。
この陰極１２の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。陰極１２の構成材料のとしては、後述する、陰極１２の形成工程において、気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれらを含む合金等が用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。
【００８４】
特に、本実施形態では前述したように発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂがボトムエミッション型であるため、陰極１２には光透過性が求められず、陰極１２の構成材料のとしては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄ等の金属または合金が好ましく用いられる。かかる金属または合金を陰極１２の構成材料として用いることにより、陰極１２の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
このような陰極１２の平均厚さは、特に限定されないが、５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００８５】
なお、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂがトップエミッション型である場合、陰極１２の構成材料としては、ＭｇＡｇ、ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇ等の金属または合金を用いるのが好ましい。かかる金属または合金を陰極１２の構成材料として用いることにより、陰極１２の光透過性を維持しつつ、陰極１２の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
【００８６】
かかる場合、陰極１２の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
以上説明したように構成された発光装置１によれば、発光素子１Ｒにおいて、キャリア調整層９が正孔ブロック材料を含んでいるため、キャリア調整層９が赤色発光層５Ｒに正孔を留めることができる。そのため、発光素子１Ｒにおいて、青色発光層５Ｂ（より具体的には、非発光層である青色発光層５ＢＲ）の発光を防止または抑制しつつ、赤色発光層５Ｒを選択的または支配的に発光させることができる。
【００８７】
同様に、発光素子１Ｇにおいて、キャリア調整層９が正孔ブロック材料を含んでいるため、キャリア調整層９が緑色発光層５Ｇに正孔を留めることができる。そのため、発光素子１Ｇにおいて、青色発光層５Ｂ（より具体的には、非発光層である青色発光層５ＢＧ）の発光を防止または抑制しつつ、緑色発光層５Ｇを選択的または支配的に発光させることができる。
【００８８】
また、発光素子１Ｂにおいて、キャリア調整層９が正孔輸送材料を含んでいるため、キャリア調整層９が正孔を青色発光層５Ｂ（より具体的には青色発光層５ＢＢ）へ輸送することができる。そのため、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂを効率的に発光させることができる。
特に、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂ毎の塗り分けをせずに、青色発光層５Ｂおよびキャリア調整層９をそれぞれ気相プロセスにより形成することができるので、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの特性を優れたものとするとともに、発光装置１の大型化を容易なものとすることができる。
【００８９】
また、発光素子１Ｒ、１Ｇの非発光層である青色発光層５Ｂと発光素子１Ｂの青色発光層５Ｂは、一体的に設けられているので、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの青色発光層５Ｂを同一の気相プロセスにより一括形成することができる。また、気相プロセスにより青色発光層５Ｂを形成することにより、青色発光層５Ｂの特性を高めることができる。そのため、一般に青色の発光材料は赤色および緑色の発光材料よりも特性が劣るが、発光素子１Ｂの特性を実用レベルとすることができる。また、一般に赤色および緑色の発光材料は青色の発光材料よりも特性が優れるため、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇをそれぞれ液相プロセスにより形成しても、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇの特性を実用レベルとすることができる。
また、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂのキャリア調整層９は一体的に設けられているので、キャリア調整層９を気相プロセスにより一括形成することができる。これにより、キャリア調整層９の特性を優れたものとすることができる。
【００９０】
（発光装置１の製造方法）
以上説明したように構成された発光装置１は、例えば、次のようにして製造することができる。
［１］まず、基板２を用意し、基板２上に、陽極（個別電極）３Ｒ、３Ｇ、３Ｂを形成する。
【００９１】
この陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、例えば、基板２上に、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの構成材料を主材料として構成される薄膜を蒸着等を用いて形成した後、その薄膜をエッチング等を用いてパターニングすることにより得ることができる。
また、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの形成後、必要に応じて、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの上面には、酸素プラズマ処理を施すようにしてもよい。これにより、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの上面を親液性を付与すること、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの上面に付着する有機物を除去（洗浄）すること、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの上面付近の仕事関数を調整すること等を行うことができる。
【００９２】
ここで、酸素プラズマ処理の条件としては、例えば、プラズマパワー１００〜８００Ｗ程度、酸素ガス流量５０〜１００ｍＬ／ｍｉｎ程度、被処理部材（陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ）の搬送速度０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃ程度、基板２の温度７０〜９０℃程度とするのが好ましい。
また、この酸素プラズマ処理の前に、各陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂを区画するように、隔壁（バンク）を形成することができる。
【００９３】
この隔壁は、各陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂが露出するようにフォトリソグラフィー法等を用いてパターニングすること等により形成することができる。
ここで、隔壁の構成材料は、耐熱性、撥液性、インク溶剤耐性、基板２等との密着性等を考慮して選択される。具体的には、隔壁の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂のような有機材料や、ＳｉＯ２のような無機材料が挙げられる。
【００９４】
このような隔壁を形成した場合、酸素プラズマ処理により、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの表面と隔壁の表面（壁面を含む）が活性化され親液化する。その後、ＣＦ４等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理するのが好ましい。これにより、有機材料である感光性樹脂からなる隔壁の表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液化される。これによって、隔壁の隔壁としての機能がより効果的に発揮される。
【００９５】
［２］次に、陽極３Ｒ上に正孔注入層４Ｒ、陽極３Ｇ上に正孔注入層４Ｇ、陽極３Ｂ上に正孔注入層４Ｂを形成する。
この正孔注入層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂは、例えば、正孔注入材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔注入層形成用材料を、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ上に供給した後、乾燥（脱溶媒または脱分散媒）すること（すなわち液相プロセス）によって形成することができる。
【００９６】
この正孔注入層形成用材料の供給方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることもできる。かかる塗布法を用いることにより、正孔注入層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを比較的容易に形成することができる。
また、正孔注入層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、各種無機溶媒や、各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
なお、乾燥は、例えば、大気圧または減圧雰囲気中での放置、加熱処理、不活性ガスの吹付け等により行うことができる。
【００９７】
［３］次に、正孔注入層４Ｒ上に赤色発光層５Ｒ、正孔注入層４Ｇ上に緑色発光層５Ｇを形成する。
この赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇは、正孔注入層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂと同様、液相プロセスによって形成することができる。
［４］次に、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇおよび正孔注入層４Ｂに重なるように、第１電子注入層６を形成する。
この第１電子注入層６の形成方法としては、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の気相プロセスや、インクジェット法、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法等の液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇおよび正孔注入層４Ｂと第１電子注入層６との間での層溶解を防止しつつ、第１電子注入層６を確実に形成することができる。
【００９８】
［５］次に、第１電子注入層６上に、正孔ブロック層７を形成する。
この正孔ブロック層７の形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、第１電子注入層６との間での層溶解を防止しつつ、正孔ブロック層７を確実に形成することができる。
【００９９】
［６］次に、正孔ブロック層７上に、気相プロセスまたは液相プロセスを用いて、正孔輸送層８を形成する。
［７］次に、正孔輸送層８上に、青色発光層５Ｂを形成する。
この青色発光層５Ｂの形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、正孔輸送層８との間での層溶解を防止しつつ、青色発光層５Ｂを確実に形成することができる。
【０１００】
［８］次に、青色発光層５Ｂ上に、電子輸送層１０を形成する。
この電子輸送層１０の形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、青色発光層５Ｂとの間での層溶解を防止しつつ、電子輸送層１０を確実に形成することができる。
【０１０１】
［９］次に、電子輸送層１０上に、第２電子注入層１１を形成する。
この第２電子注入層１１の形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、電子輸送層１０との間での層溶解を防止しつつ、第２電子注入層１１を確実に形成することができる。
【０１０２】
［１０］次に、第２電子注入層１１上に、陰極１２を形成する。
この陰極１２の形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、第２電子注入層１１との間での層溶解を防止しつつ、陰極１２を確実に形成することができる。
以上のようにして、発光装置１が得られる。なお、陰極１２の形成後、必要に応じて、エポキシ樹脂のような封止樹脂、封止基板等を用いて封止処理を行ってもよい。
【０１０３】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
図２は、本発明の第２実施形態に係る発光装置の概略構成を示す模式的断面図である。
以下、第２実施形態の発光装置について、前述した実施形態の発光装置との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
【０１０４】
第２実施形態の発光装置１Ａは、正孔ブロック層と青色発光層との間の正孔輸送層を省略した以外は、第１実施形態の発光装置１とほぼ同様である。なお、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
図２に示す発光装置１Ａは、基板２と、この基板２上に設けられた複数の発光素子（エレクトロルミネッセンス素子）１ＡＲ、１ＡＧ、１ＡＢとを備える。
【０１０５】
この発光装置１Ａにおいて、発光素子１ＡＲは、陽極３Ｒと正孔注入層４Ｒと赤色発光層５Ｒと第１電子注入層６と正孔ブロック層７と青色発光層５Ｂと電子輸送層１０と第２電子注入層１１と陰極１２とがこの順に積層されてなる。
また、発光素子１ＡＧは、陽極３Ｇと正孔注入層４Ｇと緑色発光層５Ｇと第１電子注入層６と正孔ブロック層７と青色発光層５Ｂと電子輸送層１０と第２電子注入層１１と陰極１２とがこの順に積層されてなる。
【０１０６】
また、発光素子１ＡＢは、陽極３Ｂと正孔注入層４Ｂと第１電子注入層６と正孔ブロック層７と青色発光層５Ｂと電子輸送層１０と第２電子注入層１１と陰極１２とがこの順に積層されてなる。
ここで、第１電子注入層６および正孔ブロック層７からなる積層体は、キャリアの流れを調整するキャリア調整層９Ａを構成する。
このキャリア調整層９Ａの第１電子注入層６は、前述した第１実施形態のキャリア調整層９の第１電子注入層６と同様に構成することができる。
【０１０７】
また、キャリア調整層９Ａの正孔ブロック層７は、前述した第１実施形態のキャリア調整層９の正孔ブロック層７と同様に構成することができるが、特に、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含む混合材料で構成されているのが好ましい。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、正孔ブロック層７が赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇに正孔を効果的に留めることができる。また、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂへの正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【０１０８】
キャリア調整層９Ａの正孔ブロック層７を構成する混合材料に含まれる正孔ブロック材料としては、前述した第１実施形態のキャリア調整層９の正孔ブロック層７に含まれる正孔ブロック材料と同様、例えば、前記式（２１）で表わされるビス（２メチル−８−キノリノレイト）−４−（フェニルフェノレイト）アルミニウム（ＢＡｌｑ３）等のアルミニウム錯体、前記式（２２）で表わされる２，９−ジメチ−４，７−ジフェニル−１．１０−フェナントロリン（ＢＣＰ）等のフェナントロリン誘導体、前記式（２３）で表わされる３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−ターシャリーブチルフェニル−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）等のトリアゾール誘導体等を用いることができる。
【０１０９】
また、キャリア調整層９Ａの正孔ブロック層７を構成する混合材料に含まれる正孔輸送材料としては、例えば、前記式（８）で表わされるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、下記式（９）で表わされるビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）等のベンジジン誘導体等のアミン系化合物等が挙げられる。
このような混合材料で構成された正孔ブロック層７は、例えば、正孔ブロック材料と正孔輸送材料を真空蒸着法を用いて共蒸着することにより形成することができる。
また、正孔ブロック層７中における正孔ブロック材料に対する正孔輸送材料の混合比は、重量比で０．１％以上５０％以下程度であるのが好ましい。
【０１１０】
以上説明したような第２実施形態の発光装置１Ａによっても、発光素子１ＡＢの青色発光層５Ｂを好適に発光させつつ、発光素子１ＡＲにおいて、所望の層、赤色発光層５Ｒを選択的または支配的に発光させることができる。同様に、発光素子１ＡＢの青色発光層５Ｂを好適に発光させつつ、発光素子１ＡＧにおいて、緑色発光層５Ｇを選択的または支配的に発光させることができる。
以上説明したような発光装置１、１Ａは、ディスプレイ装置（表示装置）に組み込むことができる。
【０１１１】
（表示装置）
次に、本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の一例について説明する。なお、以下、前述した発光装置１を組み込んだ表示装置の一例を説明するが、発光装置１と同様の構成については、その説明を省略する。
図３は、本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の実施形態を示す縦断面図である。
【０１１２】
図３に示すディスプレイ装置１００は、基板２１と、サブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂに対応して設けられた複数の発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂおよび複数の駆動用トランジスタ２４とを有している。
なお、本実施形態において、ディスプレイ装置１００は、各発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂからの光Ｒ、Ｇ、Ｂを基板２１側から透過させるボトムエミッション構造のディスプレイパネルである。
【０１１３】
基板２１上には、複数の駆動用トランジスタ２４が設けられ、これらの駆動用トランジスタ２４を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層２２が形成されている。
各駆動用トランジスタ２４は、シリコン等の半導体材料からなる半導体層２４１と、半導体層２４１上に形成されたゲート絶縁層２４２と、ゲート絶縁層２４２上に形成されたゲート電極２４３と、ソース電極２４４と、ドレイン電極２４５とを有している。
【０１１４】
また、平坦化層２２上には、各駆動用トランジスタ２４に対応して、発光素子（有機ＥＬ素子）１Ｒ、１Ｇ、１Ｂが設けられている。
かかる構成の発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの隣接するもの同士の間には、隔壁３１が設けられている。
本実施形態では、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂにおいて、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、正孔注入層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇが隔壁３１で区画されることにより個別に設けられている。
【０１１５】
ここで、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、それぞれ、画素電極（個別電極）を構成し、陰極１２は、共通電極を構成する。そして、各発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの各陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、各駆動用トランジスタ２４のドレイン電極２４５に導電部（配線）２７により電気的に接続されている。
さらに、これらの発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂ上には、本実施形態では、これらを覆うように、エポキシ樹脂で構成されたエポキシ層３５が形成されている。
【０１１６】
そして、エポキシ層３５上に、これを覆うように封止基板２０が設けられている。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの気密性が確保され、酸素や水分の浸入を防止できることから、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの信頼性の向上を図ることができる。
以上説明したようなディスプレイ装置１００は、各発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂを組み合わせて発光させることでフルカラー表示も可能となる。
【０１１７】
このようなディスプレイ装置１００によれば、前述したような発光装置１を備えるので、優れた信頼性を有する。
このようなディスプレイ装置１００（本発明の表示装置）は、各種の電子機器に組み込むことができる。このような電子機器は、前述したような発光装置１を備えるので、優れた信頼性を有する。
【０１１８】
図４は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備える表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００において、表示ユニット１１０６が備える表示部が前述のディスプレイ装置１００で構成されている。
【０１１９】
図５は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、表示部を備えている。
携帯電話機１２００において、この表示部が前述のディスプレイ装置１００で構成されている。
【０１２０】
図６は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【０１２１】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ１３００において、この表示部が前述のディスプレイ装置１００で構成されている。
【０１２２】
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【０１２３】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【０１２４】
なお、本発明の電子機器は、図４のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図５の携帯電話機、図６のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。
【０１２５】
以上、本発明の発光装置、表示装置および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
例えば、前述した実施形態では、発光装置が赤色発光層、緑色発光層および青色発光層を備える場合を例に説明したが、発光層の発光色は、これに限定されず、例えば、黄色等の他の色であってもよい。
【実施例】
【０１２６】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．発光装置の製造
（実施例）
＜１＞ まず、平均厚さ１．０ｍｍの透明なガラス基板を用意した。次に、この基板上に、スパッタ法により、平均厚さ５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した後、このＩＴＯ膜をフォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることで、Ｒ画素、Ｇ画素およびＢ画素に対応する３つの陽極（個別電極）を形成した。
【０１２７】
＜２＞ 次に、各陽極を露出させるとともに陽極同士の間を隔てるように、アクリル樹脂で構成された隔壁（バンク）を形成した。
そして、Ｏ２ガスを処理ガスとして用いたプラズマ処理により、各陽極の表面と隔壁の表面（壁面を含む）を親液化（親水化）した。続いて、ＣＦ４ガスを処理ガスとして用いたプラズマ処理により、アクリル系樹脂からなる隔壁の表面のみにＣＦ４ガスを反応させて、隔壁の表面を撥液化（撥水化）した。
【０１２８】
＜３＞ 次に、各陽極上に、インクジェット法により、１．０ｗｔ％ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を塗布し、その塗布された分散液を乾燥、焼成することにより、平均厚さ５０ｎｍの正孔注入層を形成した。
＜４＞ 次に、Ｒ画素に対応する正孔注入層上に、インクジェット法により、前記式（６）で表わされる化合物（高分子量材料）の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。また、Ｇ画素に対応する正孔注入層上に、インクジェット法により、前記式（１９）で表わされる化合物（高分子量材料）の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。そして、その塗布された各溶液を乾燥、焼成することにより、平均厚さ６０ｎｍの発光層（赤色発光層および緑色発光層）を形成した。
【０１２９】
＜５＞ 次に、赤色発光層上、緑色発光層上およびＢ画素に対応する正孔注入層上に、真空蒸着法により、Ｃｓ２ＣＯ３を蒸着源として真空蒸着法により成膜し、平均厚さ０．５ｎｍの第１電子注入層を形成した。
＜６＞ 次に、第１電子注入層上に、前記式（２１）で表わされるビス（２メチル−８−キノリノレイト）−４−（フェニルフェノレイト）アルミニウム（ＢＡｌｑ３）を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ１０ｎｍの正孔ブロック層を形成した。
【０１３０】
＜７＞ 次に、正孔ブロック層上に、真空蒸着法により、α−ＮＰＤを成膜し、平均厚さ１０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
＜８＞ 次に、正孔輸送層上に、真空蒸着法を用いて共蒸着により以下に示す混合材料で構成される平均厚さ２０ｎｍの青色発光層を形成した。
ここで、青色発光層の構成材料（混合材料）としては、ホスト材料として上記式（９）で表わされる化合物を用い、ゲスト材料として上記式（１１）で表わされる化合物を用いた。また、青色発光層中のゲスト材料（ドーパント）の含有量（ドープ濃度）は、ホスト材料に対して重量比で５．０％とした。
【０１３１】
＜９＞ 次に、青色発光層上に、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ２０ｎｍの電子輸送層を形成した。
＜１０＞ 次に、電子輸送層上に、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ１．０ｎｍの電子注入層を形成した。
＜１１＞ 次に、電子注入層上に、Ａｌを真空蒸着法により成膜した。これにより、Ａｌで構成される平均厚さ２００ｎｍの陰極を形成した。
【０１３２】
＜１２＞ 次に、形成した各層を覆うように、ガラス製の保護カバー（封止部材）を被せ、エポキシ樹脂により固定、封止した。
以上の工程により、図１に示すような層構成を有するボトムエミッション構造の発光装置を製造した。
（比較例）
第１電子注入層および正孔ブロック層の形成を省略した以外は、前述した実施例と同様にして、発光装置を製造した。
【０１３３】
２．評価
実施例および比較例の発光装置の発光素子について、それぞれ、輝度が１０ｃｄ／ｍ２となるように発光素子に定電流を流し、このときに発光色を目視にて観察した。
その結果を表１に示す。
【０１３４】
【表１】
【０１３５】
表１から明らかなように、実施例の発光装置では、各画素の発光素子が所望の色に発光していた。すなわち、Ｒ画素に対応する発光素子が赤色に発光し、Ｇ画素に対応する発光素子が緑色に発光し、Ｂ画素に対応する発光素子が青色に発光していた。これは、Ｒ画素およびＧ画素の発光素子において、正孔ブロック層の正孔ブロック機能により正孔がブロックされ、赤色発光層や緑色発光層を通過して青色発光層に到達することなく、正孔が赤色発光層や緑色発光層に留まり、一方、Ｂ画素の発光素子において、正孔ブロック層の正孔ブロック機能が緩和されるとともに、正孔ブロック層の正孔輸送性が好適に発現され、青色発光層に正孔が到達したためと考えられる。
これに対し、比較例の発光装置では、いずれの画素の発光素子においても青色に発光しており、Ｒ画素およびＧ画素の発光素子において所望の発光色を得ることができなかった。これは、Ｒ画素およびＧ画素の発光素子において、赤色発光層や緑色発光層を通過した正孔が青色発光層に到達し、青色発光層が発光したためであると考えられる。
【符号の説明】
【０１３６】
１‥‥発光装置 １Ａ‥‥発光装置 １ＡＲ‥‥発光素子 １ＡＧ‥‥発光素子 １ＡＢ‥‥発光素子 １Ｒ‥‥発光素子 １Ｇ‥‥発光素子 １Ｂ‥‥発光素子 ２‥‥基板 ３Ｒ‥‥陽極 ３Ｇ‥‥陽極 ３Ｂ‥‥陽極 ４Ｒ‥‥正孔注入層 ４Ｇ‥‥正孔注入層 ４Ｂ‥‥正孔注入層 ５Ｒ‥‥赤色発光層 ５Ｇ‥‥緑色発光層 ５Ｂ、５ＢＲ、５ＢＧ、５ＢＢ‥‥青色発光層 ６、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ‥‥第１電子注入層 ７、７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ‥‥正孔ブロック層 ８、８Ｒ、８Ｇ、８Ｂ‥‥正孔輸送層 ９‥‥キャリア調整層 ９Ａ‥‥キャリア調整層 １０、１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂ‥‥電子輸送層 １１、１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ‥‥第２電子注入層 １２、１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂ‥‥陰極 ２０‥‥封止基板 ２１‥‥基板 ２２‥‥平坦化層 ２４‥‥駆動用トランジスタ ３１‥‥隔壁 ３５‥‥エポキシ層 １００‥‥ディスプレイ装置 １００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ‥‥サブ画素 ２４１‥‥半導体層 ２４２‥‥ゲート絶縁層 ２４３‥‥ゲート電極 ２４４‥‥ソース電極 ２４５‥‥ドレイン電極 １１００‥‥パーソナルコンピュータ １１０２‥‥キーボード １１０４‥‥本体部 １１０６‥‥表示ユニット １２００‥‥携帯電話機 １２０２‥‥操作ボタン １２０４‥‥受話口 １２０６‥‥送話口 １３００‥‥ディジタルスチルカメラ １３０２‥‥ケース １３０４‥‥受光ユニット １３０６‥‥シャッタボタン １３０８‥‥回路基板 １３１２‥‥ビデオ信号出力端子 １３１４‥‥入出力端子 １４３０‥‥テレビモニタ １４４０‥‥パーソナルコンピュータ Ｒ、Ｇ、Ｂ‥‥光
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置、表示装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（いわゆる有機ＥＬ素子）の製造において、各色に発光する有機ＥＬ素子が備える赤色発光層と緑色発光層とを塗布法で形成し、青色発光層を真空蒸着法（蒸着法）で形成した表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
これは、インクジェット法のような塗布法を用いて作製された有機ＥＬ素子は、赤色および緑色に発光する有機ＥＬ素子では、実用レベルの発光寿命（輝度寿命）や発光効率（電流効率または外部量子効率）を有するものの、青色に発光する有機ＥＬ素子では、実用レベルの発光寿命や発光効率に達しないことが多く、また、真空蒸着法を用いて作製された青色に発光する有機ＥＬ素子は、塗布法を用いて作製されたものと比較して、その発光寿命が数倍以上長く、実用レベルに達していることが多い点に着目した技術である。つまり、インクジェット法のような液相プロセスを用いて作製されたある発光色の有機ＥＬ素子が、実用レベルの発光寿命や発光効率に達しない場合でも、真空蒸着法のような気相プロセスを用いて作製された同様の発光色の有機ＥＬ素子は、実用レベルの発光寿命や発光効率を有する場合がある。
【０００３】
このような表示装置において、赤色有機ＥＬ素子（赤色画素）および緑色有機ＥＬ素子（緑色画素）は、それぞれ、これらが有する赤色発光層および緑色発光層上に、真空蒸着法を用いて青色発光層が形成された構成、すなわち、赤色発光層および緑色発光層を含む全面に、真空蒸着法により青色発光層が形成された構成となっている。そのため、かかる構成の表示装置の製造方法は、高精細マスクを用いて、青色有機ＥＬ素子（青色画素）のみに選択的に青色発光層を蒸着（成膜）する必要がないことから、大型パネルを備える表示装置の製造に最適である。
【０００４】
しかしながら、この場合、赤色有機ＥＬ素子および緑色有機ＥＬ素子において、青色発光層は、それぞれ、赤色発光層および緑色発光層上に接触して設けられているため、青色発光層から、赤色発光層および緑色発光層へ、電子が十分注入されない場合が多い。
そのため、赤色有機ＥＬ素子（赤色画素）および緑色有機ＥＬ素子（緑色画素）において、意図しない青色発光層が発光することにより、それぞれ、赤色および緑色としての色純度が低くなってしまうことがあった。
すなわち、陰極と陽極の間に複数の発光する機能を有する層（発光層）を備えた発光素子において、前記発光する機能を有する層のうち、所望の層を選択的または支配的に発光させることができないという課題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−７３５３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、陰極と陽極の間に複数の発光する機能を有する層を備えた発光素子において、これら複数の発光する機能を有する層のうち、所望の層を選択的または支配的に発光させることができる発光装置、表示装置および電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の発光装置は、互いに異なる色の光を出射する第１の発光素子および第２の発光素子を有する発光装置であって、
前記第１の発光素子は、
第１の陽極と、
第１の陰極と、
前記第１の陽極と前記第１の陰極との間に設けられ、第１の色に発光する機能を有する第１の発光層と、
前記第１の陽極と前記第１の発光層との間に設けられ、前記第１の色とは異なる第２の色に発光する機能を有する非発光層と、
前記第１の発光層と前記非発光層との間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第１のキャリア調整層とを備え、
前記第２の発光素子は、
第２の陽極と、
第２の陰極と、
前記第２の陽極と前記第２の陰極との間に設けられ、前記第２の色に発光する機能を有する第２の発光層と、
前記第２の発光層と前記第２の陽極との間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第２のキャリア調整層とを備えることを特徴とする。
【０００８】
このように構成された発光装置によれば、第１の発光素子において、第１のキャリア調整層が正孔ブロック材料を含んでいるため、第１のキャリア調整層が第１の発光層に正孔を留めることができる。そのため、第１の発光素子において、非発光層の発光を防止または抑制しつつ、第１の発光層を選択的または支配的に発光させることができる。
また、第２の発光素子において、第２のキャリア調整層が正孔輸送材料を含んでいるため、第２のキャリア調整層が正孔を第２の発光層へ輸送することができる。そのため、第２の発光素子において、第２の発光層を効率的に発光させることができる。
【０００９】
特に、非発光層および第２の発光層を同一材料で構成するとともに、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を同一材料で構成することができる。そのため、非発光層および第２の発光層を同一の気相プロセスにより一括形成するとともに、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を発光素子毎に塗り分けずに同一の気相プロセスにより一括形成することができる。その結果、第１の発光素子および第２の発光素子の特性を優れたものとするとともに、発光装置の大型化を容易なものとすることができる。
【００１０】
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層は、前記正孔ブロック材料を含んで構成された第１の正孔ブロック層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記正孔ブロック材料を含んで構成された第２の正孔ブロック層を有することが好ましい。
これにより、第１の発光素子において、第１の正孔ブロック層が第１の発光層に正孔を効果的に留めることができる。また、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を同一の層構成で構成することができ、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を発光素子毎に塗り分けずに同一の気相プロセスにより一括形成することができる。
【００１１】
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層は、前記第１の正孔ブロック層と前記非発光層との間に設けられ、前記正孔輸送材料を含んで構成された第１の正孔輸送層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記第２の正孔ブロック層と前記第２の発光層との間に設けられ、前記正孔輸送材料を含んで構成された第２の正孔輸送層を有することが好ましい。
これにより、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を同一の層構成としつつ、第２の発光素子において、第２の発光層への正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００１２】
本発明の発光装置では、前記第１の正孔ブロック層および前記第２の正孔ブロック層は、それぞれ、前記正孔ブロック材料および前記正孔輸送材料を含む混合材料で構成されていることが好ましい。
これにより、第１の発光素子において、第１の正孔ブロック層が第１の発光層に正孔を効果的に留めることができる。また、第２の発光素子において、第２の発光層への正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００１３】
本発明の発光装置では、前記第２の発光素子は、
前記第２のキャリア調整層と前記第２の陽極との間に設けられた正孔注入層を備えることが好ましい。
これにより、第２の発光素子において、第２の発光層への正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００１４】
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層は、前記第１の正孔ブロック層と前記第１の発光層との間に設けられた第１の電子注入層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記第２の正孔ブロック層と前記正孔注入層との間に設けられた第２の電子注入層を有することが好ましい。
これにより、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を同一の層構成としつつ、第１の発光素子において、第１の発光層への電子の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００１５】
本発明の発光装置では、前記正孔ブロック材料は、前記第１の発光層の構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深いＨＯＭＯ準位を有することが好ましい。
これにより、キャリア調整層は、第１の発光素子において、正孔ブロック性を発揮することができる。
本発明の発光装置では、前記正孔ブロック材料は、前記第１の発光層の構成材料のバンドギャップよりも広いバンドギャップを有することが好ましい。
これにより、正孔ブロック材料のＨＯＭＯ準位を第１の発光層の構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深くすることができる。
【００１６】
本発明の発光装置では、前記第１の色は、赤色または緑色であり、前記第２の色は、青色であることが好ましい。
これにより、非発光層および第２の発光層を青色の発光材料で同一の気相プロセスにより一括形成することができる。また、気相プロセスにより第２の発光層を形成することにより、第２の発光層の特性を高めることができる。そのため、一般に青色の発光材料は赤色および緑色の発光材料よりも特性が劣るが、第２の発光素子の特性を実用レベルとすることができる。また、一般に赤色および緑色の発光材料は青色の発光材料よりも特性が優れるため、第１の発光層を赤色または緑色の発光材料で液相プロセスにより形成しても、第１の発光層の特性を実用レベルとすることができる。
【００１７】
本発明の発光装置では、前記非発光層は、前記第２の発光層と一体的に設けられていることが好ましい。
これにより、非発光層および第２の発光層を同一の気相プロセスにより一括形成することができる。
本発明の発光装置では、前記第１の発光層は、液相プロセスにより形成されたものであり、前記非発光層および前記第２の発光層は、気相プロセスにより一括形成されたものであることが好ましい。
これにより、第１の発光層および第２の発光層の特性をそれぞれ実用レベルとすることができる。
【００１８】
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層は、前記第２のキャリア調整層と一体的に設けられていることが好ましい。
これにより、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層を気相プロセスにより一括形成することができる。
本発明の発光装置では、前記第１のキャリア調整層および前記第２のキャリア調整層は、気相プロセスにより一括形成されたものであることが好ましい。
これにより、第１のキャリア調整層および第２のキャリア調整層の特性をそれぞれ優れたものとすることができる。
本発明の表示装置は、本発明の発光装置を備えることを特徴とする。
これにより、優れた信頼性を有する表示装置を提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の発光装置を備えることを特徴とする。
これにより、優れた信頼性を有する電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る発光装置の概略構成を示す模式的断面図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る発光装置の概略構成を示す模式的断面図である。
【図３】本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の実施形態を示す縦断面図である。
【図４】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
【図６】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の発光装置、表示装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態について説明する。
＜第１実施形態＞
まず、本発明の第１実施形態を説明する。
（発光装置）
図１は、本発明の第１実施形態に係る発光装置の概略構成を示す模式的断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図１中の上側を「上」、下側を「下」として説明を行う。
【００２１】
図１に示す発光装置１は、基板２と、この基板２上に設けられた複数の発光素子（エレクトロルミネッセンス素子）１Ｒ、１Ｇ、１Ｂとを備える。
この発光装置１において、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂは、互いに異なる色の光を出射するものである。
より具体的には、この発光装置１において、発光素子１Ｒ（第１の発光素子）は、陽極３Ｒ（第１の陽極）と正孔注入層４Ｒと赤色発光層５Ｒ（第１の発光層）と第１電子注入層６Ｒ（第１の電子注入層）と正孔ブロック層７Ｒ（第１の正孔ブロック層）と正孔輸送層８Ｒ（第１の正孔輸送層）と青色発光層５ＢＲ（非発光層）と電子輸送層１０Ｒと第２電子注入層１１Ｒと陰極１２Ｒ（第１の陰極）とがこの順に積層されてなる。
【００２２】
また、発光素子１Ｇ（第１の発光素子）は、陽極３Ｇ（第１の陽極）と正孔注入層４Ｇと緑色発光層５Ｇ（第１の発光層）と第１電子注入層６Ｇ（第１の電子注入層）と正孔ブロック層７Ｇ（第１の正孔ブロック層）と正孔輸送層８Ｇ（第１の正孔輸送層）と青色発光層５ＢＧ（非発光層）と電子輸送層１０Ｇと第２電子注入層１１Ｇと陰極１２Ｇ（第１の陰極）とがこの順に積層されてなる。
また、発光素子１Ｂ（第２の発光素子）は、陽極３Ｂ（第２の陽極）と正孔注入層４Ｂと第１電子注入層６Ｂ（第２の電子注入層）と正孔ブロック層７Ｂ（第２の正孔ブロック層）と正孔輸送層８Ｂ（第２の正孔輸送層）と青色発光層５ＢＢ（第２の発光層）と電子輸送層１０Ｂと第２電子注入層１１Ｂと陰極１２Ｂとがこの順に積層されてなる。
【００２３】
ここで、第１電子注入層６Ｒ、６Ｇ、６Ｂは、一体的に設けられ、第１電子注入層６を構成している。また、正孔ブロック層７Ｒ、７Ｇ、７Ｂは、一体的に設けられ、正孔ブロック層７を構成している。また、正孔輸送層８Ｒ、８Ｇ、８Ｂは、一体的に設けられ、正孔輸送層８を構成している。また、青色発光層５ＢＲ、５ＢＧ、５ＢＢは、一体的に設けられ、青色発光層５Ｂを構成している。また、電子輸送層１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂは、一体的に設けられ、電子輸送層１０を構成している。また、第２電子注入層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂは、一体的に設けられ、第２電子注入層１１を構成している。また、陰極１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂは、一体的に設けられ、陰極１２を構成している。
すなわち、第１電子注入層６、正孔ブロック層７、正孔輸送層８、青色発光層５Ｂ、電子輸送層１０、第２電子注入層１１および陰極１２は、それぞれ、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂに共通して用いられている。
【００２４】
これに対し、陽極３Ｒ、正孔注入層４Ｒおよび赤色発光層５Ｒは、それぞれ発光素子１Ｒに個別に用いられ、陽極３Ｇ、正孔注入層４Ｇおよび緑色発光層５Ｇは、それぞれ発光素子１Ｇに個別に用いられ、また、陽極３Ｂおよび正孔注入層４Ｂは、それぞれ発光素子１Ｂに個別に用いられている。
また、第１電子注入層６、正孔ブロック層７および正孔輸送層８からなる積層体は、キャリアの流れを調整するキャリア調整層９を構成する。なお、発光素子１Ｒにおいて、第１電子注入層６Ｒ、正孔ブロック層７Ｒおよび正孔輸送層８Ｒからなる積層体は、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第１のキャリア調整層を構成する。また、発光素子１Ｇにおいて、第１電子注入層６Ｇ、正孔ブロック層７Ｇおよび正孔輸送層８Ｇからなる積層体は、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第１のキャリア調整層を構成する。また、発光素子１Ｂにおいて、第１電子注入層６Ｂ、正孔ブロック層７Ｂおよび正孔輸送層８Ｂからなる積層体は、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第２のキャリア調整層を構成する。
【００２５】
このような発光装置１にあっては、陽極３Ｒと陰極１２との間に駆動電圧が印加されることにより、赤色発光層５Ｒに対し、陰極１２側から電子が供給（注入）されるとともに、陽極３Ｒ側から正孔が供給（注入）される。そして、赤色発光層５Ｒでは、正孔と電子とが再結合し、この再結合によりエキシトン（励起子）が生成し、エキシトンが基底状態に戻る際にエネルギーを光（蛍光やりん光）として放出する。その際、後に詳述するように、キャリア調整層９の作用により、発光素子１Ｒでは、青色発光層５Ｂにおける正孔と電子との再結合が抑制または防止される。そのため、発光素子１Ｒは、赤色に発光する。
同様に、陽極３Ｇと陰極１２との間に駆動電圧が印加されることにより、緑色発光層５Ｇでは、正孔と電子とが再結合し、発光素子１Ｇは、緑色に発光する。
【００２６】
また、陽極３Ｂと陰極１２との間に駆動電圧が印加されることにより、青色発光層５Ｂでは、正孔と電子とが再結合し、発光素子１Ｂは、青色に発光する。その際、後に詳述するように、キャリア調整層９の作用により、発光素子１Ｂでは、青色発光層５Ｂにおける正孔と電子との再結合を好適に行うことができる。
本実施形態では、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂは、それぞれ、基板２側から光を取り出す構成（ボトムエミッション型）である。なお、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂは、それぞれ、基板２と反対側から光を取り出す構成（トップエミッション型）であってもよい。
【００２７】
以下、発光装置１を構成する各部を順次説明する。
［基板２］
基板２は、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂをそれぞれ支持するものである。本実施形態の発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂは、それぞれ、前述したようにボトムエミッション型であるため、基板２は、実質的に透明（無色透明、着色透明または半透明）とされている。
【００２８】
基板２の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料や、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
このような基板２の平均厚さは、特に限定されないが、０．１〜３０ｍｍ程度であるのが好ましく、０．１〜１０ｍｍ程度であるのがより好ましい。
【００２９】
なお、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂがそれぞれトップエミッション型である場合、基板２には、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。
不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料で構成された基板、ステンレス鋼のような金属基板の表面に酸化膜（絶縁膜）を形成したもの、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。
【００３０】
［陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ］
陽極３Ｒは、正孔注入層４Ｒに正孔を注入する電極である。同様に、陽極３Ｇは、正孔注入層４Ｇに正孔を注入する電極である。また、陽極３Ｂは、正孔注入層４Ｂに正孔を注入する電極である。
この陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料が好適に用いられる。
【００３１】
陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの構成材料としては、それぞれ、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、フッ素添加ＳｎＯ２、Ｓｂ添加ＳｎＯ２、ＺｎＯ、Ａｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯ等の金属酸化物、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの構成材料は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００３２】
また、本実施形態の発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂはそれぞれ前述したようにボトムエミッション型であるため、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂはそれぞれ実質的に透明（無色透明、着色透明または半透明）とされている。なお、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂがそれぞれトップエミッション型である場合には、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、それぞれ不透明であってもよい。
このような陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの平均厚さは、それぞれ、特に限定されないが、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの平均厚さは、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００３３】
［正孔注入層４Ｒ、４Ｇ］
正孔注入層４Ｒは、陽極３Ｒからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。同様に、正孔注入層４Ｇは、陽極３Ｇからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。
また、この正孔注入層４Ｒは、後述する赤色発光層５Ｒに接する。同様に、正孔注入層４Ｇは、後述する緑色発光層５Ｇに接する。
【００３４】
この正孔注入層４Ｒ、４Ｇの構成材料（正孔注入材料）としては、それぞれ、特に限定されないが、正孔注入層４Ｒ、４Ｇを液相プロセスを用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。
このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）のようなポリチオフォン系正孔注入材料や、ポリアニリン−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＡＮＩ／ＰＳＳ）のようなポリアニリン系正孔注入材料や、下記一般式（１）で表わされるオリゴアニリン誘導体と、下記一般式（４）で表わされる電子受容性ドーパントとで塩を形成してなるオリゴアニリン系正孔注入材料が挙げられる。
【００３５】
【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して未置換もしくは置換の一価炭化水素基またはオルガノオキシ基を示し、ＡおよびＢは、それぞれ独立して下記一般式（２）または下記一般式（３）で表される二価の基であり、Ｒ４〜Ｒ１１、はそれぞれ独立して水素原子、水酸基、未置換もしくは置換の一価炭化水素基またはオルガノオキシ基、アシル基、またはスルホン酸基であり、ｍおよびｎは、それぞれ独立して１以上の正数で、ｍ＋ｎ≦２０を満足する。］
【００３６】
【化２】
【００３７】
【化３】
［式中、Ｄは、ベンゼン環、ナフタレン環、アトラセン環、フェナントレン環または複素環を表し、Ｒ１２、Ｒ１３は、それぞれ独立してカルボキシル基またはヒドロキシル基を表す。］
【００３８】
なお、正孔注入層４Ｒ、４Ｇの構成材料は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
このような正孔注入層４Ｒ、４Ｇの平均厚さは、それぞれ、特に限定されないが、５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００３９】
なお、正孔注入層４Ｒ、４Ｇの平均厚さは、互いに同じであっても異なっていてもよい。
また、この正孔注入層４Ｒ、４Ｇは、それぞれ、発光素子１Ｒ、１Ｇの構成、例えば、陽極３Ｒ、３Ｇ、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇ等の構成材料や厚さ等によっては省略することもできる。
【００４０】
また、この正孔注入層４Ｒに代えて、あるいは、正孔注入層４Ｒと後述する赤色発光層５Ｒとの間に、正孔輸送層を設けてもよい。同様に、正孔注入層４Ｇに代えて、あるいは、正孔注入層４Ｇと後述する緑色発光層５Ｇとの間に、正孔輸送層を設けてもよい。この正孔輸送層の構成材料としては、特に限定されないが、この正孔注入層を液相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、下記一般式（５）で表わされるトリフェニルアミン系ポリマー等のアミン系化合物が好適に用いられる。
【００４１】
【化４】
【００４２】
この正孔輸送層の平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００４３】
［正孔注入層４Ｂ］
正孔注入層４Ｂは、陽極３Ｂからの正孔注入を容易にする機能を有するものである。また、この正孔注入層４Ｂは、後述する第１電子注入層６に接する。
この正孔注入層４Ｂは、発光素子１Ｂのキャリア調整層９と陽極３Ｂとの間に設けられている。これにより、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂへの正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００４４】
この正孔注入層４Ｂの構成材料（正孔注入材料）としては、特に限定されないが、正孔注入層４Ｂを液相プロセスを用いて形成し得るように、導電性高分子材料（または導電性オリゴマー材料）に電子受容性ドーパントを添加したイオン伝導性正孔注入材料が好適に用いられる。
このようなイオン伝導性正孔注入材料としては、前述した正孔注入層４Ｒの構成材料（正孔注入材料）として挙げたものと同様のものを用いることができる。
【００４５】
なお、正孔注入層４Ｂの構成材料は、前述した正孔注入層４Ｒ、４Ｇの構成材料と同じであっても異なっていてもよい。
また、正孔注入層４Ｂの平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、正孔注入層４Ｂの平均厚さは、前述した正孔注入層４Ｒ、４Ｇの平均厚さと同じであっても異なっていてもよい。
【００４６】
［赤色発光層５Ｒ］
赤色発光層５Ｒは、赤色（第１の色）に発光する機能を有する。
赤色発光層５Ｒは、赤色に発光する赤色発光材料を含んで構成される。また、この赤色発光層５Ｒは、前述した正孔注入層４Ｒ上に設けられている。
このような赤色発光層５Ｒの構成材料（赤色発光材料）は、特に限定されないが、赤色発光層５Ｒを液相プロセスを用いて形成し得るように、溶液化または分散液化できることが望ましい。そこで、赤色発光層５Ｒの構成材料としては、溶媒に溶解または分散媒に分散することができる高分子赤色発光材料および低分子赤色発光材料が好適に用いられ、例えば、下記一般式（６）および下記一般式（７）で表わされる高分子赤色発光材料が挙げられる。
【００４７】
【化５】
【００４８】
このような赤色発光材料は、液相プロセスを用いて赤色発光層５Ｒを形成しても、発光素子１Ｒの発光寿命特性を実用レベルとすることができる。
このような赤色発光層５Ｒの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００４９】
［緑色発光層５Ｇ］
緑色発光層５Ｇは、緑色（第１の色）に発光する機能を有する。
緑色発光層５Ｇは、緑色に発光する緑色発光材料を含んで構成される。また、この緑色発光層５Ｇは、前述した正孔注入層４Ｇ上に設けられている。
このような緑色発光層５Ｇの構成材料は、特に限定されないが、緑色発光層５Ｇを液相プロセスを用いて形成し得るように、溶液化または分散液化できることが望ましい。そこで、緑色発光層５Ｇの構成材料としては、溶媒に溶解または分散媒に分散することができる高分子緑色発光材料および低分子緑色発光材料が好適に用いられ、例えば、下記一般式（１９）および下記一般式（２０）で表わされる高分子緑色発光材料が挙げられる。
【００５０】
【化６】
【００５１】
このような緑色発光材料は、液相プロセスを用いて緑色発光層５Ｇを形成しても、発光素子１Ｇの発光寿命特性を実用レベルとすることができる。
このような緑色発光層５Ｇの平均厚さは、特に限定されないが、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００５２】
［第１電子注入層６］
第１電子注入層６は、キャリア調整層９の一部を構成する層である。また、発光素子１Ｒでは、第１電子注入層６が赤色発光層５Ｒに接する。また、発光素子１Ｇでは、第１電子注入層６が緑色発光層５Ｇに接する。また、発光素子１Ｂでは、第１電子注入層６が正孔注入層４Ｂに接する。
【００５３】
この第１電子注入層６は、正孔ブロック層７と赤色発光層５Ｒとの間、正孔ブロック層７と緑色発光層５Ｇとの間、および、正孔ブロック層７と正孔注入層４Ｂとの間に設けられている。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂのキャリア調整層９を同一の層構成としつつ、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇへの電子の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００５４】
この第１電子注入層６の構成材料としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、アルカリ金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、アルカリ土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、希土類金属塩（酸化物、フッ化物、塩化物等）、金属錯体等のような電子注入材料が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５５】
このような電子注入材料を主材料として第１電子注入層６を構成することにより、発光素子１Ｒにおいて、キャリア調整層９を介した青色発光層５Ｂから赤色発光層５Ｒへの電子の注入効率を向上させることができる。また、発光素子１Ｇにおいて、キャリア調整層９を介した青色発光層５Ｂから緑色発光層５Ｇへの電子の注入効率を向上させることができる。
【００５６】
アルカリ金属としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓが挙げられる。また、アルカリ土類金属としては、例えば、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａが挙げられる。さらに、希土類金属としては、例えば、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｂ、Ｅｕが挙げられる。
アルカリ金属塩としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ２ＣＯ３、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ２ＣＯ３、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ２ＣＯ３、ＣｓＣｌが挙げられる。また、アルカリ土類金属塩としては、例えば、ＣａＦ２、ＣａＣＯ３、ＳｒＦ２、ＳｒＣＯ３、ＢａＦ２、ＢａＣＯ３が挙げられる。さらに、希土類金属塩としては、例えば、ＳｍＦ３、ＥｒＦ３が挙げられる。
【００５７】
金属錯体としては、例えば、８−キノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）やトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）等の８−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体が挙げられる。
また、第１電子注入層６の形成プロセスは、真空蒸着法（蒸着法）やスパッタ法のような気相プロセスを用いても良いし、インクジェット法やスリットコート法のような液相プロセスを用いても良い。
【００５８】
さらに、第１電子注入層６は、２種以上の電子注入層が積層される形で形成されていても良い。これによって、キャリア調整層９の発光素子１Ｒ、１Ｇにおけるキャリア注入動作が的確に行われる。
第１電子注入層６の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。第１電子注入層６の平均厚さをかかる範囲内に設定することにより、キャリア調整層９の発光素子１Ｒにおけるキャリア注入動作が的確に行われる。
【００５９】
［正孔ブロック層７］
正孔ブロック層７は、正孔をブロックする機能を有する。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇに正孔を留めて、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇを選択的または支配的に発光させることができる。
このような正孔ブロック層７は、正孔ブロック材料を含んで構成されている。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、正孔ブロック層７が赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇに正孔を効果的に留めることができる。また、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂのキャリア調整層９を同一の層構成で構成することができ、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂ毎に塗り分けずにキャリア調整層９を同一の気相プロセスにより一括形成することができる。
【００６０】
正孔ブロック層７に含まれる正孔ブロック材料は、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇの構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深いＨＯＭＯ準位を有する。これにより、キャリア調整層９は、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、正孔ブロック性を発揮することができる。
また、かかる正孔ブロック材料は、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇの構成材料のバンドギャップよりも広いバンドギャップを有するのが好ましい。これにより、正孔ブロック材料のＨＯＭＯ準位を赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇの構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深くすることができる。
【００６１】
このような正孔ブロック層７の構成材料（正孔ブロック材料）としては、特に限定されないが、例えば、下記式（２１）で表わされるビス（２メチル−８−キノリノレイト）−４−（フェニルフェノレイト）アルミニウム（ＢＡｌｑ３）等のアルミニウム錯体、下記式（２２）で表わされる２，９−ジメチ−４，７−ジフェニル−１．１０−フェナントロリン（ＢＣＰ）等のフェナントロリン誘導体、下記式（２３）で表わされる３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−ターシャリーブチルフェニル−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）等のトリアゾール誘導体等を用いることができる。
【００６２】
【化７】
【００６３】
また、正孔ブロック層７の構成材料は、正孔輸送性を有するのが好ましい。これにより、発光素子１Ｂにおいて、正孔ブロック層７を介して青色発光層５Ｂに正孔を輸送することができる。その結果、発光素子１Ｂを青色発光させることができる。
また、正孔ブロック層７には、前述した正孔ブロック材料の他、正孔輸送性に優れた材料が含まれていてもよい。すなわち、正孔ブロック層７は、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含む混合材料で構成されていてもよい。この場合、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、正孔ブロック層７が赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇに正孔を効果的に留めることができる。また、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層への正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。かかる混合材料に用いる正孔輸送材料としては、後述する正孔輸送層８の構成材料（正孔輸送材料）と同様の材料を用いることができる。このような正孔輸送材料を含む正孔ブロック層７は、正孔輸送性を有するものとなる。
【００６４】
このような正孔ブロック層７の平均厚さは、特に限定されないが、０．１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であるのが好ましく、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であるのがより好ましい。このような範囲内に正孔ブロック層７の平均厚さを設定することにより、発光素子１Ｒ、１Ｇにおける正孔ブロック性と、発光素子１Ｂにおける正孔輸送性とをバランスよく設定することができる。
【００６５】
［正孔輸送層８］
正孔輸送層８は、キャリア調整層９を構成する層の一つであり、青色発光層５Ｂに接する層である。
この正孔輸送層は、正孔ブロック層７と青色発光層５Ｂとの間に設けられ、正孔輸送材料を含んで構成されている。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂのキャリア調整層９を同一の層構成としつつ、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂへの正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【００６６】
また、この正孔輸送層８は、発光素子１Ｂにおいて、正孔輸送性を有する。このような正孔輸送層８は、発光素子１Ｂにおいて、電子ブロック性を有する。そのため、発光素子１Ｂでは、青色発光層５Ｂからの電子をブロックさせて、青色発光層５Ｂに電子を留めることができる。その結果、発光素子１Ｂでは、青色発光層５Ｂを効率よく発光させることができる。
【００６７】
また、正孔輸送層８は、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、第１電子注入層６の構成材料（電子輸送材料）が拡散されることにより、前述した電子ブロック性が抑制または消失され、電子輸送性を発揮する。そのため、発光素子１Ｒ、１Ｇでは、青色発光層５Ｂからの電子をブロックせずに正孔輸送層８を通過させ、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇへ電子を効率的に注入させることができる。その結果、発光素子１Ｒ、１Ｇでは、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇを効率よく発光させることができる。
【００６８】
この正孔輸送層８の構成材料（正孔輸送材料）としては、特に限定されないが、正孔輸送層８を真空蒸着法のような気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、下記式（８）で表わされるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、下記式（９）で表わされるビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）等のベンジジン誘導体等のアミン系化合物が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６９】
【化８】
【００７０】
中でも、正孔輸送層８の構成材料としては、前述したように正孔輸送層８が発光素子１Ｂにおいて電子ブロック性を好適に発揮させることができるという観点から、アミン系化合物を用いるのが好ましい。
このような正孔輸送層８の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。正孔輸送層８の平均厚さをかかる範囲内に設定することにより、前述したような正孔輸送層８の発光素子１Ｂにおける電子ブロック性と発光素子１Ｒ、１Ｇにおける電子輸送性とのバランスを優れたものとすることができる。
【００７１】
［青色発光層５Ｂ］
青色発光層５Ｂは、青色（第１の色とは異なる第２の色）に発光する機能を有する。
青色発光層５Ｂは、青色に発光する青色発光材料を含んで構成されている。
この青色発光層５Ｂの構成材料としては、特に限定されないが、青色発光層５Ｂを気相プロセスを用いて形成し得るものが好適に用いられ、例えば、下記式（１０）で表わされるスチリル誘導体の青色発光材料が挙げられる。
【００７２】
【化９】
【００７３】
また、その他に青色発光層５Ｂの構成材料としては、青色発光材料をゲスト材料としてホスト材料にドープしたものが用いられる。ホスト材料は、正孔と電子とを再結合させて励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを青色発光材料に移動（フェルスター移動またはデクスター移動）させる機能を有する。このホスト材料の機能により、ゲスト材料である青色発光材料が効率よく励起され、発光する。
【００７４】
ここで、ホスト材料としては、例えば、下記式（１１）、下記式（１２）および下記式（１３）で表わされるアントラセン誘導体が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、ゲスト材料としての青色発光材料としては、例えば、下記式（１４）、下記式（１５）および下記式（１６）で表わされるスチリル誘導体が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることもできる。
【００７５】
【化１０】
【００７６】
このような青色発光材料は、気相プロセスを用いて青色発光層５Ｂを形成することにより、発光素子１Ｂの発光寿命特性を実用レベルとすることができる。
さらに、このようなゲスト材料およびホスト材料を用いる場合、青色発光層５Ｂ中におけるゲスト材料の含有量（ドープ量）は、ホスト材料に対して重量比で０．１％以上２０％以下程度であるのが好ましく、０．５％以上１０％以下程度であるのがより好ましい。ゲスト材料の含有量をこのような範囲内とすることで、発光効率を最適化することができる。
このような青色発光層５Ｂの平均厚さは、特に限定されないが、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００７７】
［電子輸送層１０］
電子輸送層１０は、陰極１２から第２電子注入層１１を介して電子輸送層１０に注入された電子を青色発光層５Ｂに輸送する機能を有するものである。また、電子輸送層１０は、青色発光層５Ｂから電子輸送層１０へ通過しようとする正孔をブロックする機能を有する場合もある。
【００７８】
電子輸送層１０の構成材料（電子輸送材料）としては、特に限定されないが、電子輸送層１０を気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）や８−キノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）等の８−キノリノールなしいその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（４−ビフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ｔＢｕ−ＰＢＤ）、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）のようなオキサジアゾール誘導体、３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）のようなトリアゾール誘導体、下記式（１７）で表わされる化合物のようなシロール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、下記式（１８）で表わされる化合物のような含窒素複素環誘導体等が好適に用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７９】
【化１１】
【００８０】
電子輸送層１０の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これにより、第２電子注入層１１から注入された電子を好適に青色発光層５Ｂに輸送することができる。
なお、この電子輸送層１０は、発光装置１構成する各層の構成によっては、省略することもできる。
【００８１】
［第２電子注入層１１］
第２電子注入層１１は、陰極１２から電子輸送層１０への電子の注入効率を向上させる機能を有するものである。
この第２電子注入層１１の構成材料（電子注入材料）としては、特に限定されないが、例えば、前述の第１電子注入層６の構成材料として挙げたものと同様のものを用いることができる。
【００８２】
なお、第２電子注入層１１および第１電子注入層６の構成材料（電子注入材料）は、それぞれ、これらを挾持する２つの層の構成材料の組み合わせに応じて、最適な注入効率が得られるものが選択されるため、第２電子注入層１１の構成材料と第１電子注入層６の構成材料とは、同一であっても異なっていてもよい。
第２電子注入層１１の平均厚さは、特に限定されないが、０．０１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
なお、この第２電子注入層１１は、電子輸送層１０と陰極１２の構成材料の種類およびその膜厚等の組み合わせによっては省略することもできる。
【００８３】
［陰極１２］
陰極１２は、第２電子注入層１１を介して電子輸送層１０に電子を注入する電極である。
この陰極１２の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。陰極１２の構成材料のとしては、後述する、陰極１２の形成工程において、気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれらを含む合金等が用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体等）用いることができる。
【００８４】
特に、本実施形態では前述したように発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂがボトムエミッション型であるため、陰極１２には光透過性が求められず、陰極１２の構成材料のとしては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄ等の金属または合金が好ましく用いられる。かかる金属または合金を陰極１２の構成材料として用いることにより、陰極１２の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
このような陰極１２の平均厚さは、特に限定されないが、５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
【００８５】
なお、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂがトップエミッション型である場合、陰極１２の構成材料としては、ＭｇＡｇ、ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇ等の金属または合金を用いるのが好ましい。かかる金属または合金を陰極１２の構成材料として用いることにより、陰極１２の光透過性を維持しつつ、陰極１２の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
【００８６】
かかる場合、陰極１２の平均厚さは、特に限定されないが、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。
以上説明したように構成された発光装置１によれば、発光素子１Ｒにおいて、キャリア調整層９が正孔ブロック材料を含んでいるため、キャリア調整層９が赤色発光層５Ｒに正孔を留めることができる。そのため、発光素子１Ｒにおいて、青色発光層５Ｂ（より具体的には、非発光層である青色発光層５ＢＲ）の発光を防止または抑制しつつ、赤色発光層５Ｒを選択的または支配的に発光させることができる。
【００８７】
同様に、発光素子１Ｇにおいて、キャリア調整層９が正孔ブロック材料を含んでいるため、キャリア調整層９が緑色発光層５Ｇに正孔を留めることができる。そのため、発光素子１Ｇにおいて、青色発光層５Ｂ（より具体的には、非発光層である青色発光層５ＢＧ）の発光を防止または抑制しつつ、緑色発光層５Ｇを選択的または支配的に発光させることができる。
【００８８】
また、発光素子１Ｂにおいて、キャリア調整層９が正孔輸送材料を含んでいるため、キャリア調整層９が正孔を青色発光層５Ｂ（より具体的には青色発光層５ＢＢ）へ輸送することができる。そのため、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂを効率的に発光させることができる。
特に、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂ毎の塗り分けをせずに、青色発光層５Ｂおよびキャリア調整層９をそれぞれ気相プロセスにより形成することができるので、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの特性を優れたものとするとともに、発光装置１の大型化を容易なものとすることができる。
【００８９】
また、発光素子１Ｒ、１Ｇの非発光層である青色発光層５Ｂと発光素子１Ｂの青色発光層５Ｂは、一体的に設けられているので、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの青色発光層５Ｂを同一の気相プロセスにより一括形成することができる。また、気相プロセスにより青色発光層５Ｂを形成することにより、青色発光層５Ｂの特性を高めることができる。そのため、一般に青色の発光材料は赤色および緑色の発光材料よりも特性が劣るが、発光素子１Ｂの特性を実用レベルとすることができる。また、一般に赤色および緑色の発光材料は青色の発光材料よりも特性が優れるため、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇをそれぞれ液相プロセスにより形成しても、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇの特性を実用レベルとすることができる。
また、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂのキャリア調整層９は一体的に設けられているので、キャリア調整層９を気相プロセスにより一括形成することができる。これにより、キャリア調整層９の特性を優れたものとすることができる。
【００９０】
（発光装置１の製造方法）
以上説明したように構成された発光装置１は、例えば、次のようにして製造することができる。
［１］まず、基板２を用意し、基板２上に、陽極（個別電極）３Ｒ、３Ｇ、３Ｂを形成する。
【００９１】
この陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、例えば、基板２上に、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの構成材料を主材料として構成される薄膜を蒸着等を用いて形成した後、その薄膜をエッチング等を用いてパターニングすることにより得ることができる。
また、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの形成後、必要に応じて、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの上面には、酸素プラズマ処理を施すようにしてもよい。これにより、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの上面を親液性を付与すること、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの上面に付着する有機物を除去（洗浄）すること、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの上面付近の仕事関数を調整すること等を行うことができる。
【００９２】
ここで、酸素プラズマ処理の条件としては、例えば、プラズマパワー１００〜８００Ｗ程度、酸素ガス流量５０〜１００ｍＬ／ｍｉｎ程度、被処理部材（陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ）の搬送速度０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃ程度、基板２の温度７０〜９０℃程度とするのが好ましい。
また、この酸素プラズマ処理の前に、各陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂを区画するように、隔壁（バンク）を形成することができる。
【００９３】
この隔壁は、各陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂが露出するようにフォトリソグラフィー法等を用いてパターニングすること等により形成することができる。
ここで、隔壁の構成材料は、耐熱性、撥液性、インク溶剤耐性、基板２等との密着性等を考慮して選択される。具体的には、隔壁の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂のような有機材料や、ＳｉＯ２のような無機材料が挙げられる。
【００９４】
このような隔壁を形成した場合、酸素プラズマ処理により、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの表面と隔壁の表面（壁面を含む）が活性化され親液化する。その後、ＣＦ４等のフッ素系ガスを処理ガスとしてプラズマ処理するのが好ましい。これにより、有機材料である感光性樹脂からなる隔壁の表面のみにフッ素系ガスが反応して撥液化される。これによって、隔壁の隔壁としての機能がより効果的に発揮される。
【００９５】
［２］次に、陽極３Ｒ上に正孔注入層４Ｒ、陽極３Ｇ上に正孔注入層４Ｇ、陽極３Ｂ上に正孔注入層４Ｂを形成する。
この正孔注入層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂは、例えば、正孔注入材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔注入層形成用材料を、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ上に供給した後、乾燥（脱溶媒または脱分散媒）すること（すなわち液相プロセス）によって形成することができる。
【００９６】
この正孔注入層形成用材料の供給方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることもできる。かかる塗布法を用いることにより、正孔注入層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを比較的容易に形成することができる。
また、正孔注入層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、各種無機溶媒や、各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
なお、乾燥は、例えば、大気圧または減圧雰囲気中での放置、加熱処理、不活性ガスの吹付け等により行うことができる。
【００９７】
［３］次に、正孔注入層４Ｒ上に赤色発光層５Ｒ、正孔注入層４Ｇ上に緑色発光層５Ｇを形成する。
この赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇは、正孔注入層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂと同様、液相プロセスによって形成することができる。
［４］次に、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇおよび正孔注入層４Ｂに重なるように、第１電子注入層６を形成する。
この第１電子注入層６の形成方法としては、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の気相プロセスや、インクジェット法、スピンコート法（パイロゾル法）、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法等の液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、赤色発光層５Ｒ、緑色発光層５Ｇおよび正孔注入層４Ｂと第１電子注入層６との間での層溶解を防止しつつ、第１電子注入層６を確実に形成することができる。
【００９８】
［５］次に、第１電子注入層６上に、正孔ブロック層７を形成する。
この正孔ブロック層７の形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、第１電子注入層６との間での層溶解を防止しつつ、正孔ブロック層７を確実に形成することができる。
【００９９】
［６］次に、正孔ブロック層７上に、気相プロセスまたは液相プロセスを用いて、正孔輸送層８を形成する。
［７］次に、正孔輸送層８上に、青色発光層５Ｂを形成する。
この青色発光層５Ｂの形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、正孔輸送層８との間での層溶解を防止しつつ、青色発光層５Ｂを確実に形成することができる。
【０１００】
［８］次に、青色発光層５Ｂ上に、電子輸送層１０を形成する。
この電子輸送層１０の形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、青色発光層５Ｂとの間での層溶解を防止しつつ、電子輸送層１０を確実に形成することができる。
【０１０１】
［９］次に、電子輸送層１０上に、第２電子注入層１１を形成する。
この第２電子注入層１１の形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、電子輸送層１０との間での層溶解を防止しつつ、第２電子注入層１１を確実に形成することができる。
【０１０２】
［１０］次に、第２電子注入層１１上に、陰極１２を形成する。
この陰極１２の形成方法としては、第１電子注入層６の形成方法と同様、気相プロセスや液相プロセスを用いることができるが、中でも、気相プロセスを用いるのが好ましい。気相プロセスを用いることにより、第２電子注入層１１との間での層溶解を防止しつつ、陰極１２を確実に形成することができる。
以上のようにして、発光装置１が得られる。なお、陰極１２の形成後、必要に応じて、エポキシ樹脂のような封止樹脂、封止基板等を用いて封止処理を行ってもよい。
【０１０３】
＜第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
図２は、本発明の第２実施形態に係る発光装置の概略構成を示す模式的断面図である。
以下、第２実施形態の発光装置について、前述した実施形態の発光装置との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
【０１０４】
第２実施形態の発光装置１Ａは、正孔ブロック層と青色発光層との間の正孔輸送層を省略した以外は、第１実施形態の発光装置１とほぼ同様である。なお、前述した実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
図２に示す発光装置１Ａは、基板２と、この基板２上に設けられた複数の発光素子（エレクトロルミネッセンス素子）１ＡＲ、１ＡＧ、１ＡＢとを備える。
【０１０５】
この発光装置１Ａにおいて、発光素子１ＡＲは、陽極３Ｒと正孔注入層４Ｒと赤色発光層５Ｒと第１電子注入層６と正孔ブロック層７と青色発光層５Ｂと電子輸送層１０と第２電子注入層１１と陰極１２とがこの順に積層されてなる。
また、発光素子１ＡＧは、陽極３Ｇと正孔注入層４Ｇと緑色発光層５Ｇと第１電子注入層６と正孔ブロック層７と青色発光層５Ｂと電子輸送層１０と第２電子注入層１１と陰極１２とがこの順に積層されてなる。
【０１０６】
また、発光素子１ＡＢは、陽極３Ｂと正孔注入層４Ｂと第１電子注入層６と正孔ブロック層７と青色発光層５Ｂと電子輸送層１０と第２電子注入層１１と陰極１２とがこの順に積層されてなる。
ここで、第１電子注入層６および正孔ブロック層７からなる積層体は、キャリアの流れを調整するキャリア調整層９Ａを構成する。
このキャリア調整層９Ａの第１電子注入層６は、前述した第１実施形態のキャリア調整層９の第１電子注入層６と同様に構成することができる。
【０１０７】
また、キャリア調整層９Ａの正孔ブロック層７は、前述した第１実施形態のキャリア調整層９の正孔ブロック層７と同様に構成することができるが、特に、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含む混合材料で構成されているのが好ましい。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇにおいて、正孔ブロック層７が赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇに正孔を効果的に留めることができる。また、発光素子１Ｂにおいて、青色発光層５Ｂへの正孔の注入量を増加させ、発光効率を高めることができる。
【０１０８】
キャリア調整層９Ａの正孔ブロック層７を構成する混合材料に含まれる正孔ブロック材料としては、前述した第１実施形態のキャリア調整層９の正孔ブロック層７に含まれる正孔ブロック材料と同様、例えば、前記式（２１）で表わされるビス（２メチル−８−キノリノレイト）−４−（フェニルフェノレイト）アルミニウム（ＢＡｌｑ３）等のアルミニウム錯体、前記式（２２）で表わされる２，９−ジメチ−４，７−ジフェニル−１．１０−フェナントロリン（ＢＣＰ）等のフェナントロリン誘導体、前記式（２３）で表わされる３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−ターシャリーブチルフェニル−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）等のトリアゾール誘導体等を用いることができる。
【０１０９】
また、キャリア調整層９Ａの正孔ブロック層７を構成する混合材料に含まれる正孔輸送材料としては、例えば、前記式（８）で表わされるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、下記式（９）で表わされるビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）等のベンジジン誘導体等のアミン系化合物等が挙げられる。
このような混合材料で構成された正孔ブロック層７は、例えば、正孔ブロック材料と正孔輸送材料を真空蒸着法を用いて共蒸着することにより形成することができる。
また、正孔ブロック層７中における正孔ブロック材料に対する正孔輸送材料の混合比は、重量比で０．１％以上５０％以下程度であるのが好ましい。
【０１１０】
以上説明したような第２実施形態の発光装置１Ａによっても、発光素子１ＡＢの青色発光層５Ｂを好適に発光させつつ、発光素子１ＡＲにおいて、所望の層、赤色発光層５Ｒを選択的または支配的に発光させることができる。同様に、発光素子１ＡＢの青色発光層５Ｂを好適に発光させつつ、発光素子１ＡＧにおいて、緑色発光層５Ｇを選択的または支配的に発光させることができる。
以上説明したような発光装置１、１Ａは、ディスプレイ装置（表示装置）に組み込むことができる。
【０１１１】
（表示装置）
次に、本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の一例について説明する。なお、以下、前述した発光装置１を組み込んだ表示装置の一例を説明するが、発光装置１と同様の構成については、その説明を省略する。
図３は、本発明の表示装置を適用したディスプレイ装置の実施形態を示す縦断面図である。
【０１１２】
図３に示すディスプレイ装置１００は、基板２１と、サブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂに対応して設けられた複数の発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂおよび複数の駆動用トランジスタ２４とを有している。
なお、本実施形態において、ディスプレイ装置１００は、各発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂからの光Ｒ、Ｇ、Ｂを基板２１側から透過させるボトムエミッション構造のディスプレイパネルである。
【０１１３】
基板２１上には、複数の駆動用トランジスタ２４が設けられ、これらの駆動用トランジスタ２４を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層２２が形成されている。
各駆動用トランジスタ２４は、シリコン等の半導体材料からなる半導体層２４１と、半導体層２４１上に形成されたゲート絶縁層２４２と、ゲート絶縁層２４２上に形成されたゲート電極２４３と、ソース電極２４４と、ドレイン電極２４５とを有している。
【０１１４】
また、平坦化層２２上には、各駆動用トランジスタ２４に対応して、発光素子（有機ＥＬ素子）１Ｒ、１Ｇ、１Ｂが設けられている。
かかる構成の発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの隣接するもの同士の間には、隔壁３１が設けられている。
本実施形態では、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂにおいて、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ、正孔注入層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ、赤色発光層５Ｒおよび緑色発光層５Ｇが隔壁３１で区画されることにより個別に設けられている。
【０１１５】
ここで、陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、それぞれ、画素電極（個別電極）を構成し、陰極１２は、共通電極を構成する。そして、各発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの各陽極３Ｒ、３Ｇ、３Ｂは、各駆動用トランジスタ２４のドレイン電極２４５に導電部（配線）２７により電気的に接続されている。
さらに、これらの発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂ上には、本実施形態では、これらを覆うように、エポキシ樹脂で構成されたエポキシ層３５が形成されている。
【０１１６】
そして、エポキシ層３５上に、これを覆うように封止基板２０が設けられている。これにより、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの気密性が確保され、酸素や水分の浸入を防止できることから、発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂの信頼性の向上を図ることができる。
以上説明したようなディスプレイ装置１００は、各発光素子１Ｒ、１Ｇ、１Ｂを組み合わせて発光させることでフルカラー表示も可能となる。
【０１１７】
このようなディスプレイ装置１００によれば、前述したような発光装置１を備えるので、優れた信頼性を有する。
このようなディスプレイ装置１００（本発明の表示装置）は、各種の電子機器に組み込むことができる。このような電子機器は、前述したような発光装置１を備えるので、優れた信頼性を有する。
【０１１８】
図４は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部を備える表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００において、表示ユニット１１０６が備える表示部が前述のディスプレイ装置１００で構成されている。
【０１１９】
図５は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、表示部を備えている。
携帯電話機１２００において、この表示部が前述のディスプレイ装置１００で構成されている。
【０１２０】
図６は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【０１２１】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ１３００において、この表示部が前述のディスプレイ装置１００で構成されている。
【０１２２】
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【０１２３】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【０１２４】
なお、本発明の電子機器は、図４のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図５の携帯電話機、図６のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。
【０１２５】
以上、本発明の発光装置、表示装置および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
例えば、前述した実施形態では、発光装置が赤色発光層、緑色発光層および青色発光層を備える場合を例に説明したが、発光層の発光色は、これに限定されず、例えば、黄色等の他の色であってもよい。
【実施例】
【０１２６】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．発光装置の製造
（実施例）
＜１＞ まず、平均厚さ１．０ｍｍの透明なガラス基板を用意した。次に、この基板上に、スパッタ法により、平均厚さ５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した後、このＩＴＯ膜をフォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることで、Ｒ画素、Ｇ画素およびＢ画素に対応する３つの陽極（個別電極）を形成した。
【０１２７】
＜２＞ 次に、各陽極を露出させるとともに陽極同士の間を隔てるように、アクリル樹脂で構成された隔壁（バンク）を形成した。
そして、Ｏ２ガスを処理ガスとして用いたプラズマ処理により、各陽極の表面と隔壁の表面（壁面を含む）を親液化（親水化）した。続いて、ＣＦ４ガスを処理ガスとして用いたプラズマ処理により、アクリル系樹脂からなる隔壁の表面のみにＣＦ４ガスを反応させて、隔壁の表面を撥液化（撥水化）した。
【０１２８】
＜３＞ 次に、各陽極上に、インクジェット法により、１．０ｗｔ％ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ水分散液を塗布し、その塗布された分散液を乾燥、焼成することにより、平均厚さ５０ｎｍの正孔注入層を形成した。
＜４＞ 次に、Ｒ画素に対応する正孔注入層上に、インクジェット法により、前記式（６）で表わされる化合物（高分子量材料）の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。また、Ｇ画素に対応する正孔注入層上に、インクジェット法により、前記式（１９）で表わされる化合物（高分子量材料）の１．２ｗｔ％テトラメチルベンゼン溶液を塗布した。そして、その塗布された各溶液を乾燥、焼成することにより、平均厚さ６０ｎｍの発光層（赤色発光層および緑色発光層）を形成した。
【０１２９】
＜５＞ 次に、赤色発光層上、緑色発光層上およびＢ画素に対応する正孔注入層上に、真空蒸着法により、Ｃｓ２ＣＯ３を蒸着源として真空蒸着法により成膜し、平均厚さ０．５ｎｍの第１電子注入層を形成した。
＜６＞ 次に、第１電子注入層上に、前記式（２１）で表わされるビス（２メチル−８−キノリノレイト）−４−（フェニルフェノレイト）アルミニウム（ＢＡｌｑ３）を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ１０ｎｍの正孔ブロック層を形成した。
【０１３０】
＜７＞ 次に、正孔ブロック層上に、真空蒸着法により、α−ＮＰＤを成膜し、平均厚さ１０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
＜８＞ 次に、正孔輸送層上に、真空蒸着法を用いて共蒸着により以下に示す混合材料で構成される平均厚さ２０ｎｍの青色発光層を形成した。
ここで、青色発光層の構成材料（混合材料）としては、ホスト材料として上記式（９）で表わされる化合物を用い、ゲスト材料として上記式（１１）で表わされる化合物を用いた。また、青色発光層中のゲスト材料（ドーパント）の含有量（ドープ濃度）は、ホスト材料に対して重量比で５．０％とした。
【０１３１】
＜９＞ 次に、青色発光層上に、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ２０ｎｍの電子輸送層を形成した。
＜１０＞ 次に、電子輸送層上に、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ１．０ｎｍの電子注入層を形成した。
＜１１＞ 次に、電子注入層上に、Ａｌを真空蒸着法により成膜した。これにより、Ａｌで構成される平均厚さ２００ｎｍの陰極を形成した。
【０１３２】
＜１２＞ 次に、形成した各層を覆うように、ガラス製の保護カバー（封止部材）を被せ、エポキシ樹脂により固定、封止した。
以上の工程により、図１に示すような層構成を有するボトムエミッション構造の発光装置を製造した。
（比較例）
第１電子注入層および正孔ブロック層の形成を省略した以外は、前述した実施例と同様にして、発光装置を製造した。
【０１３３】
２．評価
実施例および比較例の発光装置の発光素子について、それぞれ、輝度が１０ｃｄ／ｍ２となるように発光素子に定電流を流し、このときに発光色を目視にて観察した。
その結果を表１に示す。
【０１３４】
【表１】
【０１３５】
表１から明らかなように、実施例の発光装置では、各画素の発光素子が所望の色に発光していた。すなわち、Ｒ画素に対応する発光素子が赤色に発光し、Ｇ画素に対応する発光素子が緑色に発光し、Ｂ画素に対応する発光素子が青色に発光していた。これは、Ｒ画素およびＧ画素の発光素子において、正孔ブロック層の正孔ブロック機能により正孔がブロックされ、赤色発光層や緑色発光層を通過して青色発光層に到達することなく、正孔が赤色発光層や緑色発光層に留まり、一方、Ｂ画素の発光素子において、正孔ブロック層の正孔ブロック機能が緩和されるとともに、正孔ブロック層の正孔輸送性が好適に発現され、青色発光層に正孔が到達したためと考えられる。
これに対し、比較例の発光装置では、いずれの画素の発光素子においても青色に発光しており、Ｒ画素およびＧ画素の発光素子において所望の発光色を得ることができなかった。これは、Ｒ画素およびＧ画素の発光素子において、赤色発光層や緑色発光層を通過した正孔が青色発光層に到達し、青色発光層が発光したためであると考えられる。
【符号の説明】
【０１３６】
１‥‥発光装置 １Ａ‥‥発光装置 １ＡＲ‥‥発光素子 １ＡＧ‥‥発光素子 １ＡＢ‥‥発光素子 １Ｒ‥‥発光素子 １Ｇ‥‥発光素子 １Ｂ‥‥発光素子 ２‥‥基板 ３Ｒ‥‥陽極 ３Ｇ‥‥陽極 ３Ｂ‥‥陽極 ４Ｒ‥‥正孔注入層 ４Ｇ‥‥正孔注入層 ４Ｂ‥‥正孔注入層 ５Ｒ‥‥赤色発光層 ５Ｇ‥‥緑色発光層 ５Ｂ、５ＢＲ、５ＢＧ、５ＢＢ‥‥青色発光層 ６、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ‥‥第１電子注入層 ７、７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ‥‥正孔ブロック層 ８、８Ｒ、８Ｇ、８Ｂ‥‥正孔輸送層 ９‥‥キャリア調整層 ９Ａ‥‥キャリア調整層 １０、１０Ｒ、１０Ｇ、１０Ｂ‥‥電子輸送層 １１、１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ‥‥第２電子注入層 １２、１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂ‥‥陰極 ２０‥‥封止基板 ２１‥‥基板 ２２‥‥平坦化層 ２４‥‥駆動用トランジスタ ３１‥‥隔壁 ３５‥‥エポキシ層 １００‥‥ディスプレイ装置 １００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ‥‥サブ画素 ２４１‥‥半導体層 ２４２‥‥ゲート絶縁層 ２４３‥‥ゲート電極 ２４４‥‥ソース電極 ２４５‥‥ドレイン電極 １１００‥‥パーソナルコンピュータ １１０２‥‥キーボード １１０４‥‥本体部 １１０６‥‥表示ユニット １２００‥‥携帯電話機 １２０２‥‥操作ボタン １２０４‥‥受話口 １２０６‥‥送話口 １３００‥‥ディジタルスチルカメラ １３０２‥‥ケース １３０４‥‥受光ユニット １３０６‥‥シャッタボタン １３０８‥‥回路基板 １３１２‥‥ビデオ信号出力端子 １３１４‥‥入出力端子 １４３０‥‥テレビモニタ １４４０‥‥パーソナルコンピュータ Ｒ、Ｇ、Ｂ‥‥光
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なる色の光を出射する第１の発光素子および第２の発光素子を有する発光装置であって、
前記第１の発光素子は、
第１の陽極と、
第１の陰極と、
前記第１の陽極と前記第１の陰極との間に設けられ、第１の色に発光する機能を有する第１の発光層と、
前記第１の陽極と前記第１の発光層との間に設けられ、前記第１の色とは異なる第２の色に発光する機能を有する非発光層と、
前記第１の発光層と前記非発光層との間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第１のキャリア調整層とを備え、
前記第２の発光素子は、
第２の陽極と、
第２の陰極と、
前記第２の陽極と前記第２の陰極との間に設けられ、前記第２の色に発光する機能を有する第２の発光層と、
前記第２の発光層と前記第２の陽極との間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第２のキャリア調整層とを備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記第１のキャリア調整層は、前記正孔ブロック材料を含んで構成された第１の正孔ブロック層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記正孔ブロック材料を含んで構成された第２の正孔ブロック層を有する請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記第１のキャリア調整層は、前記第１の正孔ブロック層と前記非発光層との間に設けられ、前記正孔輸送材料を含んで構成された第１の正孔輸送層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記第２の正孔ブロック層と前記第２の発光層との間に設けられ、前記正孔輸送材料を含んで構成された第２の正孔輸送層を有する請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記第１の正孔ブロック層および前記第２の正孔ブロック層は、それぞれ、前記正孔ブロック材料および前記正孔輸送材料を含む混合材料で構成されている請求項２または３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記第２の発光素子は、
前記第２のキャリア調整層と前記第２の陽極との間に設けられた正孔注入層を備える請求項２ないし４のいずれかに記載の発光装置。
【請求項６】
前記第１のキャリア調整層は、前記第１の正孔ブロック層と前記第１の発光層との間に設けられた第１の電子注入層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記第２の正孔ブロック層と前記正孔注入層との間に設けられた第２の電子注入層を有する請求項５に記載の発光装置。
【請求項７】
前記正孔ブロック材料は、前記第１の発光層の構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深いＨＯＭＯ準位を有する請求項１ないし６のいずれかに記載の発光装置。
【請求項８】
前記正孔ブロック材料は、前記第１の発光層の構成材料のバンドギャップよりも広いバンドギャップを有する請求項７に記載の発光装置。
【請求項９】
前記第１の色は、赤色または緑色であり、前記第２の色は、青色である請求項１ないし８のいずれかに記載の発光装置。
【請求項１０】
前記非発光層は、前記第２の発光層と一体的に設けられている請求項１ないし９のいずれかに記載の発光装置。
【請求項１１】
前記第１の発光層は、液相プロセスにより形成されたものであり、前記非発光層および前記第２の発光層は、気相プロセスにより一括形成されたものである請求項１０に記載の発光装置。
【請求項１２】
前記第１のキャリア調整層は、前記第２のキャリア調整層と一体的に設けられている請求項１ないし１１のいずれかに記載の発光装置。
【請求項１３】
前記第１のキャリア調整層および前記第２のキャリア調整層は、気相プロセスにより一括形成されたものである請求項１２に記載の発光装置。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれかに記載の発光装置を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項１ないし１３のいずれかに記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項１】
互いに異なる色の光を出射する第１の発光素子および第２の発光素子を有する発光装置であって、
前記第１の発光素子は、
第１の陽極と、
第１の陰極と、
前記第１の陽極と前記第１の陰極との間に設けられ、第１の色に発光する機能を有する第１の発光層と、
前記第１の陽極と前記第１の発光層との間に設けられ、前記第１の色とは異なる第２の色に発光する機能を有する非発光層と、
前記第１の発光層と前記非発光層との間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第１のキャリア調整層とを備え、
前記第２の発光素子は、
第２の陽極と、
第２の陰極と、
前記第２の陽極と前記第２の陰極との間に設けられ、前記第２の色に発光する機能を有する第２の発光層と、
前記第２の発光層と前記第２の陽極との間に設けられ、正孔ブロック材料および正孔輸送材料を含んで構成された第２のキャリア調整層とを備えることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記第１のキャリア調整層は、前記正孔ブロック材料を含んで構成された第１の正孔ブロック層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記正孔ブロック材料を含んで構成された第２の正孔ブロック層を有する請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記第１のキャリア調整層は、前記第１の正孔ブロック層と前記非発光層との間に設けられ、前記正孔輸送材料を含んで構成された第１の正孔輸送層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記第２の正孔ブロック層と前記第２の発光層との間に設けられ、前記正孔輸送材料を含んで構成された第２の正孔輸送層を有する請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記第１の正孔ブロック層および前記第２の正孔ブロック層は、それぞれ、前記正孔ブロック材料および前記正孔輸送材料を含む混合材料で構成されている請求項２または３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記第２の発光素子は、
前記第２のキャリア調整層と前記第２の陽極との間に設けられた正孔注入層を備える請求項２ないし４のいずれかに記載の発光装置。
【請求項６】
前記第１のキャリア調整層は、前記第１の正孔ブロック層と前記第１の発光層との間に設けられた第１の電子注入層を有し、
前記第２のキャリア調整層は、前記第２の正孔ブロック層と前記正孔注入層との間に設けられた第２の電子注入層を有する請求項５に記載の発光装置。
【請求項７】
前記正孔ブロック材料は、前記第１の発光層の構成材料のＨＯＭＯ準位よりも深いＨＯＭＯ準位を有する請求項１ないし６のいずれかに記載の発光装置。
【請求項８】
前記正孔ブロック材料は、前記第１の発光層の構成材料のバンドギャップよりも広いバンドギャップを有する請求項７に記載の発光装置。
【請求項９】
前記第１の色は、赤色または緑色であり、前記第２の色は、青色である請求項１ないし８のいずれかに記載の発光装置。
【請求項１０】
前記非発光層は、前記第２の発光層と一体的に設けられている請求項１ないし９のいずれかに記載の発光装置。
【請求項１１】
前記第１の発光層は、液相プロセスにより形成されたものであり、前記非発光層および前記第２の発光層は、気相プロセスにより一括形成されたものである請求項１０に記載の発光装置。
【請求項１２】
前記第１のキャリア調整層は、前記第２のキャリア調整層と一体的に設けられている請求項１ないし１１のいずれかに記載の発光装置。
【請求項１３】
前記第１のキャリア調整層および前記第２のキャリア調整層は、気相プロセスにより一括形成されたものである請求項１２に記載の発光装置。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれかに記載の発光装置を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項１ないし１３のいずれかに記載の発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１２−２３０８３３（Ｐ２０１２−２３０８３３Ａ）
【公開日】平成２４年１１月２２日（２０１２．１１．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−９８７０６（Ｐ２０１１−９８７０６）
【出願日】平成２３年４月２６日（２０１１．４．２６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月２２日（２０１２．１１．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月２６日（２０１１．４．２６）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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