発光装置およびその製造方法
【課題】ノズル開口からの液状組成物の吐出量がばらついた場合でも、画素間および画素内での有機機能層の厚さばらつきを抑えることのできる発光装置、および発光装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子１１０を備えた複数の画素１１５が、対応する色（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）毎に直線的に基板上に形成された発光装置において、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域１１６ａに沿って連続して延びた第１の隔壁１０５ａが形成され、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域１１６ｂには、画素間を部分的に仕切る第２の隔壁１０５ｂが形成されている。有機エレクトロルミネッセンス素子１１０の有機機能層を形成する際には、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂにより形成された凹部１５０内に液状組成物を充填し、固化させる。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子１１０を備えた複数の画素１１５が、対応する色（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）毎に直線的に基板上に形成された発光装置において、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域１１６ａに沿って連続して延びた第１の隔壁１０５ａが形成され、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域１１６ｂには、画素間を部分的に仕切る第２の隔壁１０５ｂが形成されている。有機エレクトロルミネッセンス素子１１０の有機機能層を形成する際には、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂにより形成された凹部１５０内に液状組成物を充填し、固化させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子を備えた発光装置、およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス装置は、第１電極層、有機機能層および第２電極層がこの順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた画素が基板上にマトリクス状に形成されている。このような有機エレクトロルミネッセンス素子を製造するにあたって、有機機能層を形成する方法としては、高分子材料からなる有機機能材料を溶媒（分散媒を含む）に溶解あるいは分散した液状組成物を液滴吐出ヘッドのノズル開口から基板上にドット状に吐出して液状膜を配置した後、液状膜から溶媒を乾燥させることにより基板上に有機機能材料を定着させる方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような方法で発光装置を製造するにあたって、従来は、画素駆動用の薄膜トランジスタや第１電極層としての画素電極（陽極層）を形成した後、隣接する画素間の境界領域に沿って隔壁を形成し、この隔壁により完全に囲まれた凹部内に液状組成物を吐出していく。ここで、画素電極に親液性を付与する一方、隔壁に撥水性を付与しておくことにより、液状組成物が凹部内からはみ出すことを防止している。
【特許文献１】特開２０００−３２３２７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、隔壁により完全に囲まれた凹部内に液状組成物を充填する方法では、液滴吐出ヘッドのノズル開口からの液滴の吐出量がばらついた場合には、そのばらつき量がそのまま、画素間および画素内での有機機能層の厚さばらつきになってしまい、画素間での輝度ばらつきが発生するという問題点がある。
【０００５】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、ノズル開口からの液状組成物の吐出量がばらついた場合でも、画素間および画素内での有機機能層の厚さばらつきを抑えることのできる発光装置、および発光装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明では、第１電極層、有機機能層および第２電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置において、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域には、当該第１の境界領域に沿って連続して延びた第１の隔壁が形成され、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域には、当該画素間を部分的に仕切る第２の隔壁が形成され、前記有機機能層は、前記第１の隔壁および前記第２の隔壁により形成された凹部内に形成されているとともに、前記第２の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が前記第２の隔壁の非形成領域で繋がっていることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明では、第１電極層、有機機能層および第２電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置の製造方法において、前記第１電極層を形成した後、前記有機機能層を形成する前に、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域には、当該第１の境界領域に沿って連続して延びる第１の隔壁を形成するとともに、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域には、当該画素間を分的に仕切る第２の隔壁を形成する隔壁形成工程と、液滴吐出ヘッドのノズル開口から前記第１の隔壁および前記第２の隔壁により形成された凹部内に液状組成物を吐出した後、当該液状組成物を固化させて前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程とを有することを特徴とする。
【０００８】
本発明では、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域に形成された第２の隔壁は、画素間を部分的に仕切っているため、第２の境界領域を挟む画素間では、凹部内に充填された有機機能層形成用の液状組成物が第２の隔壁の非形成領域で繋がり、画素間でのレベリングが発生する。このため、第２の境界領域を挟む画素に充填された液状組成物の量に差があっても、画素間では有機機能層の膜厚ばらつきが発生しない。また、第２の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が繋がっているとしても、第２の隔壁の非形成領域で繋がっているだけであるため、対応する色が同一の画素間でのクロストークが問題とならない。
【０００９】
本発明に係る発光装置において、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とは、同一の材料からなることが好ましい。すなわち、本発明に係る発光装置の製造方法において、前記隔壁形成工程では、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とを同一の材料によって同時形成することが好ましい。
【００１０】
本発明に係る発光装置において、前記第２の隔壁はそれ自身が途切れ部分を備えている構成、あるいは前記第１の隔壁との間に所定の距離を隔てた位置に形成された構成を採用することができる。これらの構成のうち、後者の場合には、第２の隔壁の非形成領域が凹部の隅部分に位置することになるので、画素間での液状組成物のレベリングを凹部の隅部分を介して行うことができ、画素間および画素内での有機機能層の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。本発明において、第２の隔壁の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うという観点からすれば、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁との離間距離が１５μｍ以上であることが好ましい。
【００１１】
本発明に係る発光装置において、前記有機機能層は、少なくとも、正孔注入層と、該正孔注入層上に積層された発光層とを備えている構成を採用することができる。この場合、発光装置の製造方法において、前記有機機能層形成工程では、少なくとも、前記有機機能層に含まれる正孔注入層を形成する正孔注入層形成工程と、前記有機機能層に含まれる発光層を前記正孔注入層上に積層する発光層形成工程とを行い、前記発光層形成工程では、前記正孔注入層に対して非溶解性の溶媒（正孔注入層に対する溶解性の低い溶媒も含む）に発光層形成材料を配合した液状組成物を用いることが好ましい。このように構成すると、正孔注入層を形成した後、発光層を形成する際、発光層を形成するための液状組成物の溶媒で正孔注入層が劣化することを防止できる。但し、この場合には、正孔注入層は、発光層を形成するための液状組成物に対する親液性が低いので、液状組成物の下地への濡れ性が悪いが、その場合でも、本発明では、第２の境界領域では、第２の隔壁の非形成領域によって画素間での液状組成物のレベリングを行い、かつ、第２の隔壁の非形成領域あるいはその近傍への液状組成物の吐出により画素内での液状組成物のレベリングを行うため、発光層の膜厚ばらつきを防止することができる。
【００１２】
本発明に係る発光装置の製造方法おいて、前記第１の隔壁および前記第２の隔壁の表面は、前記液状組成物に対する撥液性を備えていることが好ましい。このように構成すると、液状組成物が凹部の外側にはみ出ることを防止することができる。
【００１３】
この場合、前記液状組成物を吐出する際に、当該液状組成物の一部を前記第２の隔壁の端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、第２の隔壁の非形成領域近傍に液状組成物が吐出されるので、第２の隔壁の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うことができる。
【００１４】
本発明において、前記液状組成物を吐出する際に、当該液状組成物の一部を前記第１の隔壁の端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、凹部の隅部分に液状組成物を吐出できるので、画素内での有機機能層の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。
【００１５】
本発明において、前記液滴吐出ヘッドのノズル形成面では、前記ノズル開口が複数、整列してノズル列を構成している場合、前記有機機能層形成工程では、対向する色が同一の画素の配列方向、あるいは当該配列方向に対して斜め方向に前記ノズル列を向けた状態で前記液滴吐出ヘッドを前記基板に対して前記配列方向と直交する方向に相対移動させることが好ましい。
【００１６】
本発明に係る発光装置は、携帯電話機、テレビ、車載パネル、パーソナルコンピュータやＰＤＡなどの電子機器においてフルカラー表示装置として用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能とするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。また、薄膜トランジシスタや配線など、本発明と直接、関係しない構成要素については、その形成位置をずらすことにより、その構成を図面上で認識しやすくしてある。
【００１８】
（発光装置の全体構成）
図１は、本発明が適用される発光装置の電気的構成を示すブロック図である。なお、図１において各画素が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）のいずれの色に対応するかは、（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）を付すことにより表わしてある。
【００１９】
図１に示す発光装置１００は、駆動電流が流れることによって発光する有機エレクトロルミネッセンス素子を薄膜トランジスタで駆動制御する装置であり、このタイプの発光装置１００では、有機エレクトロルミネッセンス素子が自己発光するため、バックライトを必要とせず、また、視野角依存性が少ないなどの利点がある。
【００２０】
本形態の発光装置１００では、複数の走査線１６３と、この走査線１６３の延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線１６４と、これらのデータ線１６４に並列する複数の共通給電線１６５と、データ線１６４と走査線１６３との交差点に対応する画素１１５とが構成され、画素１１５は、画像表示領域にマトリクス状に配置されている。データ線１６４に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１５１が構成されている。走査線１６３に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査線駆動回路１５４が構成されている。また、複数の画素１１５の各々には、走査線１６３を介して走査信号がゲート電極に供給される画素スイッチング用の薄膜トランジスタ１０６と、この薄膜トランジスタ１０６を介してデータ線１６４から供給される画像信号を保持する保持容量１３３と、この保持容量１３３によって保持された画像信号がゲート電極に供給される電流制御用の薄膜トランジスタ１０７と、薄膜トランジスタ１０７を介して共通給電線１６５に電気的に接続したときに共通給電線１６５から駆動電流が流れ込む有機エレクトロルミネッセンス素子１１０とが構成されている。
【００２１】
（画素構成）
図２は、本発明を適用した発光装置の画素複数個分の平面図である。図３（Ａ）、（Ｂ）は各々、本発明を適用した発光装置の１画素分の平面図および断面図である。図４は、本発明を適用した発光装置の各色に対応する３つの画素（１ドット分）の断面図である。
【００２２】
図１および図２に示すように、本形態の発光装置１００は、カラー表示装置であるため、各画素１１５は各々、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に対応し、本形態では、複数の画素１１５が、対応する色（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）毎に直線的に配列されたストライプ配列が採用されている。
【００２３】
図２、図３（Ａ）、（Ｂ）および図４に示すように、本形態の発光装置１００を構成するにあたって、より具体的には、素子基板を構成するガラス基板などからなる基板１２０（発光装置用基板）上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜（図示せず）が形成され、この下地保護膜上に、薄膜トランジスタ１０７などを構成するためのポリシリコン膜からなる半導体膜１０９ａが島状に形成されている。半導体膜１０９ａには不純物の導入によってソース・ドレイン領域１０９ｂ、１０９ｃが形成され、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域１０９ｄとなっている。下地保護膜および半導体膜１０９ａの上層側にはゲート絶縁膜１２１が形成され、ゲート絶縁膜１２１上にはアルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、タングステン（Ｗ）などからなる走査線１６３およびゲート電極１４３が形成されている。走査線１６３、ゲート電極１４３およびゲート絶縁膜１２１の上層側には、第１層間絶縁膜１２２と第２層間絶縁膜１２３とがこの順に積層されている。ここで、第１層間絶縁膜１２２および第２層間絶縁膜１２３は、シリコン酸化物（ＳｉＯ2）、チタン酸化物（ＴｉＯ2）などの無機絶縁膜から構成されている。
【００２４】
第１層間絶縁膜１２２の上層には、第１層間絶縁膜１２２およびゲート絶縁膜１２１のコンタクトホールを介してソース・ドレイン領域１０９ｂ、１０９ｃにそれぞれ接続するソース・ドレイン電極１２６および共通給電線１６５が形成されている。また、第１層間絶縁膜１２２の上層にはデータ線１６４も形成されている。
【００２５】
第２層間絶縁膜１２３上には、ＩＴＯ（酸化インジウム−スズ／Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）層からなる光透過性の画素電極１１１が形成され、この画素電極１１１は、第２層間絶縁膜１２３のコンタクトホールを介してソース・ドレイン電極１２６に電気的に接続している。従って、画素電極１１１は、薄膜トランジスタ１０７を介して共通給電線１６５に電気的に接続したとき、共通給電線１６５から駆動電流が流れ込む。
【００２６】
各画素１１５には、陽極層（第１電極層）としての画素電極１１１と、有機機能層１１３と、陰極層（第２電極層）としての対向電極１１２がこの順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子１１０が形成されている。有機機能層１１３は、画素電極１１１上に積層された正孔注入層１１３ａと、この正孔注入層１１３ａの上層側に形成された発光層１１３ｂとを備えている。発光層１１３ｂは、正孔注入層１１３ａの側から注入される正孔と、対向電極１１２の側から注入される電子とが結合して発光する領域としての機能を担っており、各画素１１５が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のいずれの色に対応するかは、発光層１１３ｂを構成する有機材料の種類によって規定されている。発光層１１３ｂの膜厚は、例えば約８０〜１５０ｎｍである。本形態では、正孔注入層１１３ａが、正孔を発光層１１３ｂに輸送する正孔輸送層としての機能も担っており、正孔注入層１１３ａの膜厚は、例えば約１０〜１００ｎｍである。
【００２７】
なお、各画素１１５は赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に対応しているが、各色の画素１１５において、有機エレクトロルミネッセンス素子１１０を構成する発光層１１３ｂの組成のみが相違し、その他の構成は共通である。
【００２８】
本形態の発光装置１００は、基板側に向けて表示光を出射するボトムエミッション型であり、対向電極１１２は、薄いカルシウム層やアルミニウム膜などといった光反射性の導電膜により構成されている。なお、発光装置１００が、基板とは反対側に向けて表示光を出射するトップエミッション型である場合、対向電極１１２は、例えば、薄いカルシウム層と、ＩＴＯ層などからなる光透過性陰極層とから構成され、画素電極１１１の下層側には、画素電極１１１の略全体と重なるようにアルミニウム膜などからなる光反射層が形成される。なお、基板１２０の素子形成面側には、水や酸素の侵入を防ぐことによって、陰極層あるいは機能層の酸化を防止する封止樹脂（図示せず）が形成され、さらに封止基板（図示せず）が貼られることがある。
【００２９】
（隔壁の構成）
本形態では、隣接する画素１１５の境界領域には、画素電極１１１の周縁部を取り囲むように、感光性樹脂からなる隔壁（図２、図３（Ａ）で右上がりの斜線で示す領域）が形成されており、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域１１６ａには、第１の境界領域１１６ａに沿って延びた第１の隔壁１０５ａが形成され、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域１１６ｂには、第２の境界領域１１６ｂに沿って延びた第２の隔壁１０５ｂが形成されている。
【００３０】
第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂは、いずれも同一材料により形成され、本形態では、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂは感光性のアクリル樹脂から形成されている。
【００３１】
ここで、第１の隔壁１０５ａは、第１の境界領域１１６ａに沿って連続的に延びている。これに対して、第２の隔壁１０５ｂは、両端部が第１の隔壁１０５ａとの間に隙間１０５ｃ（第２の隔壁１０５ｂの非形成領域）を介するように形成され、第２の隔壁１０５ｂを挟む画素１１５の間を部分的に仕切っている。本形態において、隙間１０５ｃの寸法Ｌｂ（第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの離間距離）は、１５μｍ以上に設定されている。
【００３２】
このように構成した第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂは、有機機能層１１３（正孔注入層１１３ａおよび発光層１１３ｂ）を形成するのにインクジェット法（液体吐出法）を用いるとき、塗布される液状組成物の塗布領域を規定するものであり、有機機能層１１３は、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂにより形成された凹部１５０内に形成されている。
【００３３】
但し、本形態では、第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの間には隙間１０５ｃがあるため、第２の隔壁１０５ｂを挟む画素１１５に形成された有機機能層１１３同士が隙間１０５ｃで繋がっている。
【００３４】
また、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂはいずれも表面に、有機機能層１１３を形成する際に用いる液状組成物に対する撥液性が付与されており、液状組成物の表面張力によって、有機機能層１１３を凹部１５０から外側にはみ出すことを防止し、かつ、有機機能層１１３の膜厚ばらつきを防止している。なお、インクジェット式の液滴吐出装置としては、後述するように、圧電振動子の体積変化により液状組成物を吐出させるピエゾジェットの液滴吐出装置や、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた液滴吐出装置などが採用される。ここで、液状組成物は、水性であると油性であるとを問わない。また、液状組成物については、流動性を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。また、液体材料に含まれる固体物質は融点以上に加熱されて溶解されたものでも、溶媒中に微粒子として分散させたものでもよく、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料を添加したものであってもよい。
【００３５】
（発光装置１００の動作）
このように構成した発光装置１００において、走査線１６３が駆動されて薄膜トランジスタ１０６がオン状態になると、そのときの信号線１６４の電位が保持容量１３３に保持され、この保持容量１３３の状態に応じて薄膜トランジスタ１０７の導通状態が制御される。また、薄膜トランジスタ１０７がオン状態になったとき、薄膜トランジスタ１０７を介して共通給電線１６５から画素電極１１１に電流が流れ、有機エレクトロルミネッセンス素子１１０では、有機機能層１１３を通じて対向電極１１２に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて発光層１１３ｂが発光する。その結果、ボトムエミッション型の場合、発光層１１３ｂから画素電極１１１および基板１２０に向けて出射された光は、画素電極１１１および基板１２０を透過して出射される一方、対向電極１１２に向かう光は、対向電極１１２で反射した後、画素電極１１１および基板１２０を透過して出射される。これに対して、トップエミッション型の場合、対向電極１１２を透過して、観測者側に出射される一方、発光層１１３ｂから基板１２０に向けて出射された光は、画素電極１１１の下層に形成された光反射層によって反射され、対向電極１１２を透過して観測者側に出射される。
【００３６】
（液滴吐出ヘッドの構成）
図５（Ａ）〜（Ｄ）はそれぞれ、本形態の発光装置１００を製造する際に使用する液滴吐出ヘッドのノズル形成面の説明図、液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、液滴吐出ヘッドに用いた圧力発生素子の説明図、および別の圧力発生素子の説明図である。
【００３７】
図５（Ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド２２は、そのノズル形成面２７１に、複数のノズル開口２７を列状に並べることによって形成されたノズル列２８を備えている。ノズル開口２７の数は、例えば１８０個であり、ノズル開口２７の穴径は例えば２８μｍであり、ノズル開口２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍである。なお、液滴吐出ヘッド２２の基板に対する主走査方向Ｘおよびそれに直交する副走査方向Ｙは図示の通りである。すなわち、液滴吐出ヘッド２２は、そのノズル列２８が主走査方向Ｘと交差する方向（副走査方向Ｙ）へ延びるように位置設定され、この主走査方向Ｘへ平行移動する間に、液状組成物を複数のノズル開口２７から選択的に吐出することにより、基板内の所定位置に液滴を着弾させる。また、液滴吐出ヘッド２２は副走査方向Ｙへ所定距離だけ平行移動することにより、液滴吐出ヘッド２２による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。
【００３８】
図５（Ｂ）、（Ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッド２２は、例えば、ステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動板３１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材３２とを有している。ノズルプレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２によって複数の圧力発生室３３と、液溜り３４とが形成されている。複数の圧力発生室３３と液溜り３４とは通路３８を介して互いに連通している。振動板３１の適所には液状組成物供給穴３６が形成され、この液状組成物供給穴３６に液状組成物供給装置３７が接続される。この液状組成物供給装置３７は、吐出されることとなる液状組成物Ｍを液状組成物供給穴３６へ供給する。供給された液状組成物Ｍは、液溜り３４に充満し、さらに通路３８を通って圧力発生室３３に充満する。
【００３９】
ノズルプレート２９には、圧力発生室３３から液状組成物Ｍをジェット状（液滴Ｍ０）に吐出するためのノズル開口２７が設けられており、そのノズル開口２７が開口しているノズル形成面２７１は平坦面とされている。振動板３１の圧力発生室３３を形成する面の裏面には、この圧力発生室３３に対応させて圧電振動子３９（圧力発生素子）が取り付けられている。この圧電振動子３９は、例えば、圧電素子４１ならびにこれを挟持する一対の電極４２ａおよび４２ｂを備えている。圧電素子４１は電極４２ａ、４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより圧力発生室３３の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当する液状組成物Ｍが液溜り３４から通路３８を通って圧力発生室３３へ流入する。
【００４０】
次に、圧電素子４１への通電を解除すると、この圧電素子４１と振動板３１とは共に元の形状へ戻る。これにより、圧力発生室３３も元の容積に戻るため、圧力発生室３３の内部にある液状組成物Ｍの圧力が上昇し、ノズル開口２７から基板１２０へ向けて液状組成物Ｍが液滴Ｍ０となって噴出する。
【００４１】
なお、図５（Ｄ）に示すように、圧電振動子３９としては、縦振動モードの圧電素子を用いてもよい。この縦振動モードの圧電振動子３９では、伸長方向に平行に圧電材料と導電材料を交互に積層して構成されており、その先端は振動板３１に固定され、他端は基台２０に固定されている。このような圧電振動子３９では、充電状態では導電層の積層方向と直角な方向に収縮し、また充電状態が解かれると、導電層と直角な方向に伸長する。
【００４２】
いずれの圧電振動子３９を用いた場合も、電極間に印加される駆動信号によって変形し、圧力発生室３３を膨張、収縮させる。なお、ノズル開口２７の周辺部には、液滴Ｍ０の飛行曲がりやノズル開口２７の穴詰まりなどを防止するために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥液状組成物層４３が設けられる。
【００４３】
（発光装置の製造方法）
図６〜図８は、本形態の発光装置１００を製造する方法を示す工程断面図である。図９、図１０および図１１は各々、本形態の発光装置１００の製造工程において、画素電極までを形成した状態を示す平面図、隔壁を形成した状態を示す平面図、および有機機能層を形成する方法を示す平面図である。
【００４４】
本形態の発光装置１００を製造するには、まず、図６（Ａ）に示すように、基板１２０（発光装置用基板）を用意する。ここで、発光装置１００がボトムエミッション型である場合、基板１２０としてはガラスや石英、樹脂などの透明ないし半透明なものが用いられるが、特にガラスが好適に用いられる。また、基板１２０に色フィルター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を配置して、発光色を制御するようにしてもよい。これに対して、発光装置１００がトップエミッション型である場合、基板１２０は不透明であってもよく、その場合、アルミナなどのセラミックス、ステンレスなどの金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。
【００４５】
次に、基板１２０に対して、必要に応じてＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約２００〜５００ｎｍのシリコン酸化膜からなる下地保護膜（図示せず）を形成する。次に、基板１２０の温度を約３５０℃に設定して、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により厚さ約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコン膜からなる半導体膜１０９を形成する。次に、半導体膜１０９に対してレーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を行い、半導体膜１０９をポリシリコン膜に結晶化する。レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は、例えば２００ｍＪ／ｃｍ2とする。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
【００４６】
次に、図６（Ｂ）に示すように、半導体膜（ポリシリコン膜）１０９をパターニングして島状の半導体膜１０９ａとし、その表面に対して、ＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約６０〜１５０ｎｍのシリコン酸化膜または窒化膜からなるゲート絶縁膜１２１を形成する。なお、半導体膜１０９ａは、図３に示す薄膜トランジスタ１０７のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においては薄膜トランジスタ１０６のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となる半導体膜も形成されている。すなわち、発光装置１００では、二種類のトランジスタ１０６、１０７が同一の層間、あるいは異なる層間に形成されるが、概ね同一の手順で形成されるため、以下の説明では、薄膜トランジスタ１０７についてのみ説明し、薄膜トランジスタ１０６についてはその説明を省略する。
【００４７】
次に、図６（Ｃ）に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜からなる導電膜をスパッタ法により形成した後、これをパターニングし、ゲート電極１４３などを形成する。次に、この状態でリンなどの不純物を打ち込み、半導体膜１０９ａに、ゲート電極１４３に対して自己整合的にソース・ドレイン領域１０９ｂ、１０９ｃを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域１０９ｄとなる。
【００４８】
次に、図６（Ｄ）に示すように、第１層間絶縁膜１２２を形成した後、コンタクトホールを形成し、これらのコンタクトホールを介してソース・ドレイン領域１０９ｂ、１０９ｃに電気的に接続するソース・ドレイン電極１２６および共通給電線１６５を形成する。その際、データ線１６４なども形成する。
【００４９】
次に、図６（Ｅ）に示すように、各配線の上面を覆うように、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2などの無機絶縁膜からなる第２層間絶縁膜１２３を形成した後、第２層間絶縁膜１２３に対してソース・ドレイン電極１２６に対応する位置にコンタクトホールを形成する。
【００５０】
次に、画素電極形成工程において、第２層間絶縁膜１２３の上層にＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜をパターニングして、図９に示すように、データ線１６４、走査線１６３および共通給電線１６５に囲まれた所定位置に画素電極１１１を形成する。
【００５１】
次に、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行い、画素電極１１１、および第２層間絶縁膜１２３のうち、画素電極１１１から露出している部分に親液性を付与する。
【００５２】
次に、図６（Ｆ）に示す隔壁形成工程において、図２、図３および図４を参照して説明した有機機能層１１３の形成場所を囲むように、感光性のアクリル樹脂により、高さが例えば１〜２μｍの隔壁を形成する。具体的には、図１０に示すように、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域１１６ａには、第１の境界領域１１６ａに沿って延びた第１の隔壁１０５ａを形成し、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域１１６ｂには、第２の境界領域１１６ｂに沿って延びた第２の隔壁１０５ｂを形成する。その際、第１の隔壁１０５ａについては、第１の境界領域１１６ａに沿って連続的に延びるように形成する。これに対して、第２の隔壁１０５ｂについては、両端部が第１の隔壁１０５ａとの間に隙間１０５ｃ（第２の隔壁１０５ｂの非形成領域）を介するように形成し、第２の隔壁１０５ｂによって、第２の隔壁１０５ｂを挟む画素１１５の間を部分的に仕切る。その際、隙間１０５ｃの寸法Ｌｂ（第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの離間距離）は、１５μｍ以上に設定する。その結果、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂで区画された領域は凹部１５０となる。なお、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂについては、アクリル樹脂の他、ポリイミド樹脂などの絶縁性有機材料で形成してもよく、ポリシラザンなどの絶縁性無機材料で形成してもよい。
【００５３】
次に、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂの表面に対して撥液化処理を行い、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂの表面に対して、有機機能層１１３を形成するための液状組成物に対する撥液性を付与する。このような撥液性を付与するためには、例えば、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂの表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物としては、例えばＣＦ4、ＳＦ5、ＣＨＦ3などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理などが挙げられる。
【００５４】
次に、有機機能層形成工程を行う。それには、まず、正孔注入層形成工程において、図７（Ａ）に示す吐出工程では、基板１２０の上面を上に向けた状態で、図５を参照して説明した液滴吐出ヘッド２２から正孔注入層形成液（液状組成物）の液滴Ｍａを、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂで囲まれた凹部１５０内に吐出する。その際、図５および図１１に示すように、対向する色が同一の画素１１５の配列方向にノズル列２８を向けた状態で、液滴吐出ヘッド２２を基板１２０に対して、対向する色が同一の画素１１５の配列方向と直交する方向（主走査方向Ｘ）に相対移動させる。また、図１１に示すように、正孔注入層形成液の液滴Ｍａの一部を第２の隔壁１０５ｂの端部と重なる位置に吐出する。ここで、第２の隔壁１０５ｂ上に吐出された正孔注入層形成液は、第２の隔壁１０５ｂに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部１５０内に充填される。
【００５５】
その結果、凹部１５０内に吐出された正孔注入層形成液は、凹部１５０内で広がり、画素内でのレベリングが発生する。また、同一の色に対応する画素１１５の第２の境界領域１１６ｂでは、第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの間に隙間１０５ｃがあるので、第２の境界領域１１６ｂを挟んで隣り合う画素１１５の間では、隙間１０５ｃを介して正孔注入層形成液のレベリングが起こる。
【００５６】
従って、図７（Ｂ）に示すように、凹部１５０内には膜厚が一定の液状膜Ｆａが配置される。なお、正孔注入層形成液としては、例えば、ポリオレフィン誘導体である３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（導電性高分子材料）と、ポリスチレンスルホン酸（ドーパント）とを溶媒に分散させた溶液を用いる。このような正孔注入層形成液としては、溶媒として水単独を用い、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸を水に分散させたものを用いる。但し、正孔注入層形成液の液滴Ｍａをノズル開口から安定した状態に吐出するために、正孔注入層形成液の粘度などを調整する必要がある場合には、ポリスチレンスルホン酸および３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させる溶媒として、水に有機溶剤を配合した混合溶媒を用い、有機溶剤により正孔注入層形成液の性質を最適化する。このような混合溶媒に使用可能な有機溶剤としては、アルコール類、エーテル類、グリコールモノエーテル類、ラクトン類、オキサゾリジノン類、カーボネート類、ニトリル類、アミド類、スルホン類などが挙げられる。
【００５７】
次に、本形態では、液状膜Ｆａに対する乾燥工程において、大気圧以下、例えば１０-4〜１０-6パスカル（Ｐａ）程度の減圧雰囲気中で減圧乾燥を行い、液状膜Ｆａから正孔注入層形成材料中の溶媒を蒸発させる。その結果、図７（Ｃ）に示すように、画素電極１１１上に、正孔注入層１１３ａが約１０〜１００ｎｍの膜厚で形成される。なお、この乾燥工程では、４０〜２００℃程度で加熱して正孔輸送層形成液中の溶媒を蒸発させてもよい。
【００５８】
次に、発光層形成工程では、まず、図８（Ａ）に示す吐出工程において、基板１２０の上面を上に向けた状態で、図５を参照して説明した液滴吐出ヘッド２２から発光層形成液（液状組成物）の液滴Ｍｂを、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂで囲まれた凹部１５０内に吐出する。その際、図５および図１１に示すように、対向する色が同一の画素１１５の配列方向にノズル列２８を向けた状態で、液滴吐出ヘッド２２を基板１２０に対して、対向する色が同一の画素１１５の配列方向と直交する方向（主走査方向Ｘ）に相対移動させる。また、図１１に示すように、発光層形成液の液滴Ｍｂの一部を第２の隔壁１０５ｂの端部と重なる位置に吐出する。ここで、第２の隔壁１０５ｂ上に吐出された発光層形成液は、第２の隔壁１０５ｂに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部１５０内に充填される。
【００５９】
その結果、凹部１５０内に吐出された発光層形成液は、凹部１５０内で広がり、画素内でのレベリングが発生する。また、同一の色に対応する画素１１５の第２の境界領域１１６ｂでは、第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの間に隙間１０５ｃがあるので、第２の境界領域１１６ｂを挟んで隣り合う画素１１５の間では、隙間１０５ｃを介して発光層形成液のレベリングが起こる。
【００６０】
従って、図８（Ｂ）に示すように、凹部１５０内には膜厚が一定の液状膜Ｆｂが配置される。なお、発光材料としては、例えば分子量が１０００以上の高分子材料が用いられる。具体的には、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンなどをドープしたものが用いられる。このような高分子材料としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、例えば特開平１１−４０３５８号公報に示される有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物、すなわち共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも１種の蛍光色素とを含んでなる有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物も、発光層形成材料として使用可能である。
【００６１】
このような発光材料を溶解あるいは分散する有機溶媒としては、非極性溶媒が好適とされ、特に発光層１１３ｂが正孔注入層１１３ａの上に形成されることから、この正孔注入層１１３ａに対して不溶なものが用いられることが好ましい。具体的には、キシレン、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼンなどが好適に用いられる。なお、発光層形成液の吐出による発光層１１３ｂの形成は、赤色の発色光を発光する発光層１１３ｂ（Ｒ）の形成材料、緑色の発色光を発光する発光層１１３ｂ（Ｇ）の形成材料、青色の発色光を発光する発光層１１３（Ｒ）の形成材料を、それぞれ対応する画素１１５に吐出し塗布することによって行う。
【００６２】
次に、液状膜Ｆｂに対する乾燥工程では、大気圧以下、例えば１０-4〜１０-6パスカル（Ｐａ）程度の減圧雰囲気中で減圧乾燥を行い、液状膜Ｆｂから発光層形成材料中の溶媒を蒸発させる。その結果、図８（Ｃ）に示すように、正孔注入層１１３ａ上に固形の発光層１１３ｂが形成される。これにより、正孔注入層１１３ａおよび発光層１１３ｂからなる有機機能層１１３が形成される。なお、乾燥工程では、４０〜２００℃程度で加熱して発光層形成液中の溶媒を蒸発させてもよい。
【００６３】
次に、図３および図４に示すように、基板１２０の表面全体に、あるいはストライプ状に、ＬｉＦ／Ａｌ（ＬｉＦとＡｌとの積層膜）やＭｇＡｇ、あるいはＬｉＦ／Ｃａ／Ａｌ（ＬｉＦとＣａとＡｌとの積層膜）を蒸着法などによって成膜し、対向電極１１２を形成する。その後、封止を行った後、さらに配線などの各種要素を形成することにより、有機エレクトロルミネッセンス素子１１０を各画素１１５に備えた発光装置１００を製造することができる。
【００６４】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域１１６ｂに形成された第２の隔壁１０５ｂは、画素間を部分的に仕切っているため、第２の境界領域１１６ｂを挟む画素間では、凹部１５０内に充填された有機機能層形成用の液状組成物（正孔注入層形成液および発光層形成液）が第２の隔壁１０５ｂの非形成領域（隙間１０５ｃ）で繋がり、画素間でのレベリングが発生する。このため、第２の境界領域１１６ｂを挟む画素１１５に充填された液状組成物の量に差があっても、画素間では有機機能層の膜厚ばらつきが発生しない。また、隣接する画素１１５に形成された有機機能層１１３同士が第２の境界領域１１６ｂで繋がっているとしても、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域（隙間１０５ｃ）で繋がっているだけであるため、対応する色が同一の画素間でのクロストークが問題とならない。
【００６５】
また、本形態では、第２の隔壁１０５ｂの両端部と第１の隔壁１０５ａとの間に隙間１０５ｃがあって、この隙間１０５ｃにより第２の隔壁１０５ｂの非形成領域が構成されている。このため、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域は、凹部１５０の隅部分に位置することになるので、画素間での液状組成物のレベリングを凹部１５０の隅部分を介して行うことができ、画素間および画素内での有機機能層１１３の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。
【００６６】
さらに、本形態では、図１１を参照して説明したように、液状組成物（正孔注入層形成液および発光層形成液）を吐出する際に、液状組成物の一部を第２の隔壁１０５ｂの端部と重なる位置に吐出する。このため、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域近傍に液状組成物が吐出される。従って、第２の隔壁１０５の非形成領域を介しての画素間での液状組成物の繋がりを確実に発生させることができるので、第２の隔壁１０５の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うことができる。
【００６７】
特に本形態において、発光層形成工程では、正孔注入層１１３ａに対して非溶解性の溶媒（正孔注入層に対する溶解性の低い溶媒も含む）に発光層形成材料を配合した発光層形成液を用いたため、発光層１１３ｂを形成する際の正孔注入層１１３ａの劣化を防止することができる一方、正孔注入層１１３ａは、発光層形成液に対する親液性が低く、発光層形成液の下地への濡れ性が悪い。それでも、本形態では、第２の境界領域１１６ｂでは、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域によって画素間での液状組成物のレベリングを行い、かつ、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域を介しての発光層形成液のレベリングを行うため、発光層１１３ｂの膜厚ばらつきを防止することができる。
【００６８】
［その他の実施の形態］
上記形態では、液状組成物（正孔注入層形成液および発光層形成液）を第１の隔壁１０５ａで挟まれた領域の略中央に吐出したが、図１２に示すように、液状組成物の一部を第１の隔壁１０５ａの端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、第１の隔壁１０５ａ上に吐出された液状組成物は、第１の隔壁１０５ａに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部１５０内に充填される。その結果、凹部１５０の隅部分にも液状組成物が行き渡るので、画素内での有機機能層１１３（正孔注入層１１３ａおよび発光層１１３ｂ）の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。この場合も、図１２に示すように、液状組成物の一部を第２の隔壁１０５ｂの端部と重なる位置に吐出することが好ましい。
【００６９】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などは一例に過ぎず、適宜変更が可能である。例えば、上記形態では、正孔注入層１１３ａとして、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを用いたが、その他のポリアルキルチオフェン誘導体や、ポリピロール誘導体を用いてもよい。また、正孔注入層１１３ａとしては、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサンなどを高分子前駆体として形成した層を用いた場合に本発明を適用してもよい。
【００７０】
なお、上記形態では、対応する色が相違する画素間で異なる組成の発光層１１３ｂを形成する構成であったが、いずれの画素に対しても、白色光を出射する発光層１１３ｂを形成し、この白色光にカラーフィルタによって着色し、カラー表示を行う発光装置に本発明を適用してもよい。また、いずれの画素に対しても、同一の色光を出射する発光層１１３ｂを形成し、この光を光を通して各色の光を出射することにより、カラー表示を行う発光装置に本発明を適用してもよい。これらいずれの場合でも、対応する色が同一の画素間で液状組成物のレベリングを行えば、液状組成物の膜厚ばらつきを防止できるとともに、対応する色が同一の画素間で液状組成物が部分的に繋がっているのであれば、クロストークによる画像品質の低下を防止することができる。
【００７１】
［電子機器への適用］
本発明に係る発光装置１００は、携帯電話機、テレビ、車載パネル、パーソナルコンピュータやＰＤＡなどの電子機器においてフルカラー表示装置や、各種光源として用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明が適用される発光装置の電気的構成を示すブロック図である。発光装置のブロック図である。
【図２】本発明を適用した発光装置の画素複数個分の平面図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）は各々、本発明を適用した発光装置の１画素分の平面図および断面図である。
【図４】本発明を適用した発光装置の各色に対応する３つの画素（１ドット分）の断面図である。
【図５】（Ａ）〜（Ｄ）は、図１に示す液滴吐出装置に用いた液滴吐出ヘッドのノズル形成面の説明図、液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、液滴吐出ヘッドに用いた圧力発生素子の説明図、および別の圧力発生素子の説明図である。
【図６】本発明を適用して発光装置の薄膜トランジスタなどを形成する方法を示す工程断面図である。
【図７】本発明を適用して発光装置の正孔注入層を形成する方法を示す工程断面図である。
【図８】本発明を適用して発光装置の発光層を形成する方法を示す工程断面図である。
【図９】本発明に係る発光装置の製造工程において、画素電極までを形成した状態を示す平面図である。
【図１０】本発明に係る発光装置の製造工程において、隔壁を形成した状態を示す平面図である。
【図１１】本発明に係る発光装置の製造工程において、有機機能層を形成する方法を示す平面図である。
【図１２】本発明に係る発光装置の製造工程において、有機機能層を形成する別の方法を示す平面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１０・・液滴吐出装置、１２・・基板（発光装置用基板）、２２・・液滴吐出ヘッド、２７・・ノズル開口、２８・・ノズル列、１００・・発光装置（発光装置）、１０５ａ・・第１の隔壁、１０５ｂ・・第２の隔壁、１１０・・有機エレクトロルミネッセンス素子、１１１・・画素電極（第１電極層）、１１２・・対向電極（第２電極層）、１１３・・有機機能層、１１３ａ・・正孔注入層、１１３ｂ・・発光層、１１５・・画素、１１６ａ・・第１の境界領域、１１６ｂ・・第２の境界領域、１２０・・基板、Ｆａ、Ｆｂ・・液状膜、Ｍ・・液状組成物、Ｍ０、Ｍａ、Ｍｂ・・液滴
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子を備えた発光装置、およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス装置は、第１電極層、有機機能層および第２電極層がこの順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた画素が基板上にマトリクス状に形成されている。このような有機エレクトロルミネッセンス素子を製造するにあたって、有機機能層を形成する方法としては、高分子材料からなる有機機能材料を溶媒（分散媒を含む）に溶解あるいは分散した液状組成物を液滴吐出ヘッドのノズル開口から基板上にドット状に吐出して液状膜を配置した後、液状膜から溶媒を乾燥させることにより基板上に有機機能材料を定着させる方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このような方法で発光装置を製造するにあたって、従来は、画素駆動用の薄膜トランジスタや第１電極層としての画素電極（陽極層）を形成した後、隣接する画素間の境界領域に沿って隔壁を形成し、この隔壁により完全に囲まれた凹部内に液状組成物を吐出していく。ここで、画素電極に親液性を付与する一方、隔壁に撥水性を付与しておくことにより、液状組成物が凹部内からはみ出すことを防止している。
【特許文献１】特開２０００−３２３２７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、隔壁により完全に囲まれた凹部内に液状組成物を充填する方法では、液滴吐出ヘッドのノズル開口からの液滴の吐出量がばらついた場合には、そのばらつき量がそのまま、画素間および画素内での有機機能層の厚さばらつきになってしまい、画素間での輝度ばらつきが発生するという問題点がある。
【０００５】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、ノズル開口からの液状組成物の吐出量がばらついた場合でも、画素間および画素内での有機機能層の厚さばらつきを抑えることのできる発光装置、および発光装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明では、第１電極層、有機機能層および第２電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置において、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域には、当該第１の境界領域に沿って連続して延びた第１の隔壁が形成され、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域には、当該画素間を部分的に仕切る第２の隔壁が形成され、前記有機機能層は、前記第１の隔壁および前記第２の隔壁により形成された凹部内に形成されているとともに、前記第２の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が前記第２の隔壁の非形成領域で繋がっていることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明では、第１電極層、有機機能層および第２電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置の製造方法において、前記第１電極層を形成した後、前記有機機能層を形成する前に、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域には、当該第１の境界領域に沿って連続して延びる第１の隔壁を形成するとともに、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域には、当該画素間を分的に仕切る第２の隔壁を形成する隔壁形成工程と、液滴吐出ヘッドのノズル開口から前記第１の隔壁および前記第２の隔壁により形成された凹部内に液状組成物を吐出した後、当該液状組成物を固化させて前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程とを有することを特徴とする。
【０００８】
本発明では、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域に形成された第２の隔壁は、画素間を部分的に仕切っているため、第２の境界領域を挟む画素間では、凹部内に充填された有機機能層形成用の液状組成物が第２の隔壁の非形成領域で繋がり、画素間でのレベリングが発生する。このため、第２の境界領域を挟む画素に充填された液状組成物の量に差があっても、画素間では有機機能層の膜厚ばらつきが発生しない。また、第２の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が繋がっているとしても、第２の隔壁の非形成領域で繋がっているだけであるため、対応する色が同一の画素間でのクロストークが問題とならない。
【０００９】
本発明に係る発光装置において、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とは、同一の材料からなることが好ましい。すなわち、本発明に係る発光装置の製造方法において、前記隔壁形成工程では、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とを同一の材料によって同時形成することが好ましい。
【００１０】
本発明に係る発光装置において、前記第２の隔壁はそれ自身が途切れ部分を備えている構成、あるいは前記第１の隔壁との間に所定の距離を隔てた位置に形成された構成を採用することができる。これらの構成のうち、後者の場合には、第２の隔壁の非形成領域が凹部の隅部分に位置することになるので、画素間での液状組成物のレベリングを凹部の隅部分を介して行うことができ、画素間および画素内での有機機能層の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。本発明において、第２の隔壁の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うという観点からすれば、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁との離間距離が１５μｍ以上であることが好ましい。
【００１１】
本発明に係る発光装置において、前記有機機能層は、少なくとも、正孔注入層と、該正孔注入層上に積層された発光層とを備えている構成を採用することができる。この場合、発光装置の製造方法において、前記有機機能層形成工程では、少なくとも、前記有機機能層に含まれる正孔注入層を形成する正孔注入層形成工程と、前記有機機能層に含まれる発光層を前記正孔注入層上に積層する発光層形成工程とを行い、前記発光層形成工程では、前記正孔注入層に対して非溶解性の溶媒（正孔注入層に対する溶解性の低い溶媒も含む）に発光層形成材料を配合した液状組成物を用いることが好ましい。このように構成すると、正孔注入層を形成した後、発光層を形成する際、発光層を形成するための液状組成物の溶媒で正孔注入層が劣化することを防止できる。但し、この場合には、正孔注入層は、発光層を形成するための液状組成物に対する親液性が低いので、液状組成物の下地への濡れ性が悪いが、その場合でも、本発明では、第２の境界領域では、第２の隔壁の非形成領域によって画素間での液状組成物のレベリングを行い、かつ、第２の隔壁の非形成領域あるいはその近傍への液状組成物の吐出により画素内での液状組成物のレベリングを行うため、発光層の膜厚ばらつきを防止することができる。
【００１２】
本発明に係る発光装置の製造方法おいて、前記第１の隔壁および前記第２の隔壁の表面は、前記液状組成物に対する撥液性を備えていることが好ましい。このように構成すると、液状組成物が凹部の外側にはみ出ることを防止することができる。
【００１３】
この場合、前記液状組成物を吐出する際に、当該液状組成物の一部を前記第２の隔壁の端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、第２の隔壁の非形成領域近傍に液状組成物が吐出されるので、第２の隔壁の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うことができる。
【００１４】
本発明において、前記液状組成物を吐出する際に、当該液状組成物の一部を前記第１の隔壁の端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、凹部の隅部分に液状組成物を吐出できるので、画素内での有機機能層の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。
【００１５】
本発明において、前記液滴吐出ヘッドのノズル形成面では、前記ノズル開口が複数、整列してノズル列を構成している場合、前記有機機能層形成工程では、対向する色が同一の画素の配列方向、あるいは当該配列方向に対して斜め方向に前記ノズル列を向けた状態で前記液滴吐出ヘッドを前記基板に対して前記配列方向と直交する方向に相対移動させることが好ましい。
【００１６】
本発明に係る発光装置は、携帯電話機、テレビ、車載パネル、パーソナルコンピュータやＰＤＡなどの電子機器においてフルカラー表示装置として用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能とするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。また、薄膜トランジシスタや配線など、本発明と直接、関係しない構成要素については、その形成位置をずらすことにより、その構成を図面上で認識しやすくしてある。
【００１８】
（発光装置の全体構成）
図１は、本発明が適用される発光装置の電気的構成を示すブロック図である。なお、図１において各画素が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）のいずれの色に対応するかは、（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）を付すことにより表わしてある。
【００１９】
図１に示す発光装置１００は、駆動電流が流れることによって発光する有機エレクトロルミネッセンス素子を薄膜トランジスタで駆動制御する装置であり、このタイプの発光装置１００では、有機エレクトロルミネッセンス素子が自己発光するため、バックライトを必要とせず、また、視野角依存性が少ないなどの利点がある。
【００２０】
本形態の発光装置１００では、複数の走査線１６３と、この走査線１６３の延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線１６４と、これらのデータ線１６４に並列する複数の共通給電線１６５と、データ線１６４と走査線１６３との交差点に対応する画素１１５とが構成され、画素１１５は、画像表示領域にマトリクス状に配置されている。データ線１６４に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１５１が構成されている。走査線１６３に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査線駆動回路１５４が構成されている。また、複数の画素１１５の各々には、走査線１６３を介して走査信号がゲート電極に供給される画素スイッチング用の薄膜トランジスタ１０６と、この薄膜トランジスタ１０６を介してデータ線１６４から供給される画像信号を保持する保持容量１３３と、この保持容量１３３によって保持された画像信号がゲート電極に供給される電流制御用の薄膜トランジスタ１０７と、薄膜トランジスタ１０７を介して共通給電線１６５に電気的に接続したときに共通給電線１６５から駆動電流が流れ込む有機エレクトロルミネッセンス素子１１０とが構成されている。
【００２１】
（画素構成）
図２は、本発明を適用した発光装置の画素複数個分の平面図である。図３（Ａ）、（Ｂ）は各々、本発明を適用した発光装置の１画素分の平面図および断面図である。図４は、本発明を適用した発光装置の各色に対応する３つの画素（１ドット分）の断面図である。
【００２２】
図１および図２に示すように、本形態の発光装置１００は、カラー表示装置であるため、各画素１１５は各々、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に対応し、本形態では、複数の画素１１５が、対応する色（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）毎に直線的に配列されたストライプ配列が採用されている。
【００２３】
図２、図３（Ａ）、（Ｂ）および図４に示すように、本形態の発光装置１００を構成するにあたって、より具体的には、素子基板を構成するガラス基板などからなる基板１２０（発光装置用基板）上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜（図示せず）が形成され、この下地保護膜上に、薄膜トランジスタ１０７などを構成するためのポリシリコン膜からなる半導体膜１０９ａが島状に形成されている。半導体膜１０９ａには不純物の導入によってソース・ドレイン領域１０９ｂ、１０９ｃが形成され、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域１０９ｄとなっている。下地保護膜および半導体膜１０９ａの上層側にはゲート絶縁膜１２１が形成され、ゲート絶縁膜１２１上にはアルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、タングステン（Ｗ）などからなる走査線１６３およびゲート電極１４３が形成されている。走査線１６３、ゲート電極１４３およびゲート絶縁膜１２１の上層側には、第１層間絶縁膜１２２と第２層間絶縁膜１２３とがこの順に積層されている。ここで、第１層間絶縁膜１２２および第２層間絶縁膜１２３は、シリコン酸化物（ＳｉＯ2）、チタン酸化物（ＴｉＯ2）などの無機絶縁膜から構成されている。
【００２４】
第１層間絶縁膜１２２の上層には、第１層間絶縁膜１２２およびゲート絶縁膜１２１のコンタクトホールを介してソース・ドレイン領域１０９ｂ、１０９ｃにそれぞれ接続するソース・ドレイン電極１２６および共通給電線１６５が形成されている。また、第１層間絶縁膜１２２の上層にはデータ線１６４も形成されている。
【００２５】
第２層間絶縁膜１２３上には、ＩＴＯ（酸化インジウム−スズ／Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）層からなる光透過性の画素電極１１１が形成され、この画素電極１１１は、第２層間絶縁膜１２３のコンタクトホールを介してソース・ドレイン電極１２６に電気的に接続している。従って、画素電極１１１は、薄膜トランジスタ１０７を介して共通給電線１６５に電気的に接続したとき、共通給電線１６５から駆動電流が流れ込む。
【００２６】
各画素１１５には、陽極層（第１電極層）としての画素電極１１１と、有機機能層１１３と、陰極層（第２電極層）としての対向電極１１２がこの順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子１１０が形成されている。有機機能層１１３は、画素電極１１１上に積層された正孔注入層１１３ａと、この正孔注入層１１３ａの上層側に形成された発光層１１３ｂとを備えている。発光層１１３ｂは、正孔注入層１１３ａの側から注入される正孔と、対向電極１１２の側から注入される電子とが結合して発光する領域としての機能を担っており、各画素１１５が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のいずれの色に対応するかは、発光層１１３ｂを構成する有機材料の種類によって規定されている。発光層１１３ｂの膜厚は、例えば約８０〜１５０ｎｍである。本形態では、正孔注入層１１３ａが、正孔を発光層１１３ｂに輸送する正孔輸送層としての機能も担っており、正孔注入層１１３ａの膜厚は、例えば約１０〜１００ｎｍである。
【００２７】
なお、各画素１１５は赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に対応しているが、各色の画素１１５において、有機エレクトロルミネッセンス素子１１０を構成する発光層１１３ｂの組成のみが相違し、その他の構成は共通である。
【００２８】
本形態の発光装置１００は、基板側に向けて表示光を出射するボトムエミッション型であり、対向電極１１２は、薄いカルシウム層やアルミニウム膜などといった光反射性の導電膜により構成されている。なお、発光装置１００が、基板とは反対側に向けて表示光を出射するトップエミッション型である場合、対向電極１１２は、例えば、薄いカルシウム層と、ＩＴＯ層などからなる光透過性陰極層とから構成され、画素電極１１１の下層側には、画素電極１１１の略全体と重なるようにアルミニウム膜などからなる光反射層が形成される。なお、基板１２０の素子形成面側には、水や酸素の侵入を防ぐことによって、陰極層あるいは機能層の酸化を防止する封止樹脂（図示せず）が形成され、さらに封止基板（図示せず）が貼られることがある。
【００２９】
（隔壁の構成）
本形態では、隣接する画素１１５の境界領域には、画素電極１１１の周縁部を取り囲むように、感光性樹脂からなる隔壁（図２、図３（Ａ）で右上がりの斜線で示す領域）が形成されており、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域１１６ａには、第１の境界領域１１６ａに沿って延びた第１の隔壁１０５ａが形成され、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域１１６ｂには、第２の境界領域１１６ｂに沿って延びた第２の隔壁１０５ｂが形成されている。
【００３０】
第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂは、いずれも同一材料により形成され、本形態では、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂは感光性のアクリル樹脂から形成されている。
【００３１】
ここで、第１の隔壁１０５ａは、第１の境界領域１１６ａに沿って連続的に延びている。これに対して、第２の隔壁１０５ｂは、両端部が第１の隔壁１０５ａとの間に隙間１０５ｃ（第２の隔壁１０５ｂの非形成領域）を介するように形成され、第２の隔壁１０５ｂを挟む画素１１５の間を部分的に仕切っている。本形態において、隙間１０５ｃの寸法Ｌｂ（第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの離間距離）は、１５μｍ以上に設定されている。
【００３２】
このように構成した第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂは、有機機能層１１３（正孔注入層１１３ａおよび発光層１１３ｂ）を形成するのにインクジェット法（液体吐出法）を用いるとき、塗布される液状組成物の塗布領域を規定するものであり、有機機能層１１３は、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂにより形成された凹部１５０内に形成されている。
【００３３】
但し、本形態では、第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの間には隙間１０５ｃがあるため、第２の隔壁１０５ｂを挟む画素１１５に形成された有機機能層１１３同士が隙間１０５ｃで繋がっている。
【００３４】
また、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂはいずれも表面に、有機機能層１１３を形成する際に用いる液状組成物に対する撥液性が付与されており、液状組成物の表面張力によって、有機機能層１１３を凹部１５０から外側にはみ出すことを防止し、かつ、有機機能層１１３の膜厚ばらつきを防止している。なお、インクジェット式の液滴吐出装置としては、後述するように、圧電振動子の体積変化により液状組成物を吐出させるピエゾジェットの液滴吐出装置や、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた液滴吐出装置などが採用される。ここで、液状組成物は、水性であると油性であるとを問わない。また、液状組成物については、流動性を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。また、液体材料に含まれる固体物質は融点以上に加熱されて溶解されたものでも、溶媒中に微粒子として分散させたものでもよく、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料を添加したものであってもよい。
【００３５】
（発光装置１００の動作）
このように構成した発光装置１００において、走査線１６３が駆動されて薄膜トランジスタ１０６がオン状態になると、そのときの信号線１６４の電位が保持容量１３３に保持され、この保持容量１３３の状態に応じて薄膜トランジスタ１０７の導通状態が制御される。また、薄膜トランジスタ１０７がオン状態になったとき、薄膜トランジスタ１０７を介して共通給電線１６５から画素電極１１１に電流が流れ、有機エレクトロルミネッセンス素子１１０では、有機機能層１１３を通じて対向電極１１２に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて発光層１１３ｂが発光する。その結果、ボトムエミッション型の場合、発光層１１３ｂから画素電極１１１および基板１２０に向けて出射された光は、画素電極１１１および基板１２０を透過して出射される一方、対向電極１１２に向かう光は、対向電極１１２で反射した後、画素電極１１１および基板１２０を透過して出射される。これに対して、トップエミッション型の場合、対向電極１１２を透過して、観測者側に出射される一方、発光層１１３ｂから基板１２０に向けて出射された光は、画素電極１１１の下層に形成された光反射層によって反射され、対向電極１１２を透過して観測者側に出射される。
【００３６】
（液滴吐出ヘッドの構成）
図５（Ａ）〜（Ｄ）はそれぞれ、本形態の発光装置１００を製造する際に使用する液滴吐出ヘッドのノズル形成面の説明図、液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、液滴吐出ヘッドに用いた圧力発生素子の説明図、および別の圧力発生素子の説明図である。
【００３７】
図５（Ａ）に示すように、液滴吐出ヘッド２２は、そのノズル形成面２７１に、複数のノズル開口２７を列状に並べることによって形成されたノズル列２８を備えている。ノズル開口２７の数は、例えば１８０個であり、ノズル開口２７の穴径は例えば２８μｍであり、ノズル開口２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍである。なお、液滴吐出ヘッド２２の基板に対する主走査方向Ｘおよびそれに直交する副走査方向Ｙは図示の通りである。すなわち、液滴吐出ヘッド２２は、そのノズル列２８が主走査方向Ｘと交差する方向（副走査方向Ｙ）へ延びるように位置設定され、この主走査方向Ｘへ平行移動する間に、液状組成物を複数のノズル開口２７から選択的に吐出することにより、基板内の所定位置に液滴を着弾させる。また、液滴吐出ヘッド２２は副走査方向Ｙへ所定距離だけ平行移動することにより、液滴吐出ヘッド２２による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。
【００３８】
図５（Ｂ）、（Ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッド２２は、例えば、ステンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動板３１と、それらを互いに接合する複数の仕切部材３２とを有している。ノズルプレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２によって複数の圧力発生室３３と、液溜り３４とが形成されている。複数の圧力発生室３３と液溜り３４とは通路３８を介して互いに連通している。振動板３１の適所には液状組成物供給穴３６が形成され、この液状組成物供給穴３６に液状組成物供給装置３７が接続される。この液状組成物供給装置３７は、吐出されることとなる液状組成物Ｍを液状組成物供給穴３６へ供給する。供給された液状組成物Ｍは、液溜り３４に充満し、さらに通路３８を通って圧力発生室３３に充満する。
【００３９】
ノズルプレート２９には、圧力発生室３３から液状組成物Ｍをジェット状（液滴Ｍ０）に吐出するためのノズル開口２７が設けられており、そのノズル開口２７が開口しているノズル形成面２７１は平坦面とされている。振動板３１の圧力発生室３３を形成する面の裏面には、この圧力発生室３３に対応させて圧電振動子３９（圧力発生素子）が取り付けられている。この圧電振動子３９は、例えば、圧電素子４１ならびにこれを挟持する一対の電極４２ａおよび４２ｂを備えている。圧電素子４１は電極４２ａ、４２ｂへの通電によって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより圧力発生室３３の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当する液状組成物Ｍが液溜り３４から通路３８を通って圧力発生室３３へ流入する。
【００４０】
次に、圧電素子４１への通電を解除すると、この圧電素子４１と振動板３１とは共に元の形状へ戻る。これにより、圧力発生室３３も元の容積に戻るため、圧力発生室３３の内部にある液状組成物Ｍの圧力が上昇し、ノズル開口２７から基板１２０へ向けて液状組成物Ｍが液滴Ｍ０となって噴出する。
【００４１】
なお、図５（Ｄ）に示すように、圧電振動子３９としては、縦振動モードの圧電素子を用いてもよい。この縦振動モードの圧電振動子３９では、伸長方向に平行に圧電材料と導電材料を交互に積層して構成されており、その先端は振動板３１に固定され、他端は基台２０に固定されている。このような圧電振動子３９では、充電状態では導電層の積層方向と直角な方向に収縮し、また充電状態が解かれると、導電層と直角な方向に伸長する。
【００４２】
いずれの圧電振動子３９を用いた場合も、電極間に印加される駆動信号によって変形し、圧力発生室３３を膨張、収縮させる。なお、ノズル開口２７の周辺部には、液滴Ｍ０の飛行曲がりやノズル開口２７の穴詰まりなどを防止するために、例えばＮｉ−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥液状組成物層４３が設けられる。
【００４３】
（発光装置の製造方法）
図６〜図８は、本形態の発光装置１００を製造する方法を示す工程断面図である。図９、図１０および図１１は各々、本形態の発光装置１００の製造工程において、画素電極までを形成した状態を示す平面図、隔壁を形成した状態を示す平面図、および有機機能層を形成する方法を示す平面図である。
【００４４】
本形態の発光装置１００を製造するには、まず、図６（Ａ）に示すように、基板１２０（発光装置用基板）を用意する。ここで、発光装置１００がボトムエミッション型である場合、基板１２０としてはガラスや石英、樹脂などの透明ないし半透明なものが用いられるが、特にガラスが好適に用いられる。また、基板１２０に色フィルター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を配置して、発光色を制御するようにしてもよい。これに対して、発光装置１００がトップエミッション型である場合、基板１２０は不透明であってもよく、その場合、アルミナなどのセラミックス、ステンレスなどの金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。
【００４５】
次に、基板１２０に対して、必要に応じてＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約２００〜５００ｎｍのシリコン酸化膜からなる下地保護膜（図示せず）を形成する。次に、基板１２０の温度を約３５０℃に設定して、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により厚さ約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコン膜からなる半導体膜１０９を形成する。次に、半導体膜１０９に対してレーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を行い、半導体膜１０９をポリシリコン膜に結晶化する。レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は、例えば２００ｍＪ／ｃｍ2とする。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
【００４６】
次に、図６（Ｂ）に示すように、半導体膜（ポリシリコン膜）１０９をパターニングして島状の半導体膜１０９ａとし、その表面に対して、ＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約６０〜１５０ｎｍのシリコン酸化膜または窒化膜からなるゲート絶縁膜１２１を形成する。なお、半導体膜１０９ａは、図３に示す薄膜トランジスタ１０７のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においては薄膜トランジスタ１０６のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となる半導体膜も形成されている。すなわち、発光装置１００では、二種類のトランジスタ１０６、１０７が同一の層間、あるいは異なる層間に形成されるが、概ね同一の手順で形成されるため、以下の説明では、薄膜トランジスタ１０７についてのみ説明し、薄膜トランジスタ１０６についてはその説明を省略する。
【００４７】
次に、図６（Ｃ）に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜からなる導電膜をスパッタ法により形成した後、これをパターニングし、ゲート電極１４３などを形成する。次に、この状態でリンなどの不純物を打ち込み、半導体膜１０９ａに、ゲート電極１４３に対して自己整合的にソース・ドレイン領域１０９ｂ、１０９ｃを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域１０９ｄとなる。
【００４８】
次に、図６（Ｄ）に示すように、第１層間絶縁膜１２２を形成した後、コンタクトホールを形成し、これらのコンタクトホールを介してソース・ドレイン領域１０９ｂ、１０９ｃに電気的に接続するソース・ドレイン電極１２６および共通給電線１６５を形成する。その際、データ線１６４なども形成する。
【００４９】
次に、図６（Ｅ）に示すように、各配線の上面を覆うように、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2などの無機絶縁膜からなる第２層間絶縁膜１２３を形成した後、第２層間絶縁膜１２３に対してソース・ドレイン電極１２６に対応する位置にコンタクトホールを形成する。
【００５０】
次に、画素電極形成工程において、第２層間絶縁膜１２３の上層にＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜をパターニングして、図９に示すように、データ線１６４、走査線１６３および共通給電線１６５に囲まれた所定位置に画素電極１１１を形成する。
【００５１】
次に、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行い、画素電極１１１、および第２層間絶縁膜１２３のうち、画素電極１１１から露出している部分に親液性を付与する。
【００５２】
次に、図６（Ｆ）に示す隔壁形成工程において、図２、図３および図４を参照して説明した有機機能層１１３の形成場所を囲むように、感光性のアクリル樹脂により、高さが例えば１〜２μｍの隔壁を形成する。具体的には、図１０に示すように、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域１１６ａには、第１の境界領域１１６ａに沿って延びた第１の隔壁１０５ａを形成し、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域１１６ｂには、第２の境界領域１１６ｂに沿って延びた第２の隔壁１０５ｂを形成する。その際、第１の隔壁１０５ａについては、第１の境界領域１１６ａに沿って連続的に延びるように形成する。これに対して、第２の隔壁１０５ｂについては、両端部が第１の隔壁１０５ａとの間に隙間１０５ｃ（第２の隔壁１０５ｂの非形成領域）を介するように形成し、第２の隔壁１０５ｂによって、第２の隔壁１０５ｂを挟む画素１１５の間を部分的に仕切る。その際、隙間１０５ｃの寸法Ｌｂ（第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの離間距離）は、１５μｍ以上に設定する。その結果、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂで区画された領域は凹部１５０となる。なお、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂについては、アクリル樹脂の他、ポリイミド樹脂などの絶縁性有機材料で形成してもよく、ポリシラザンなどの絶縁性無機材料で形成してもよい。
【００５３】
次に、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂの表面に対して撥液化処理を行い、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂの表面に対して、有機機能層１１３を形成するための液状組成物に対する撥液性を付与する。このような撥液性を付与するためには、例えば、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂの表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物としては、例えばＣＦ4、ＳＦ5、ＣＨＦ3などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理などが挙げられる。
【００５４】
次に、有機機能層形成工程を行う。それには、まず、正孔注入層形成工程において、図７（Ａ）に示す吐出工程では、基板１２０の上面を上に向けた状態で、図５を参照して説明した液滴吐出ヘッド２２から正孔注入層形成液（液状組成物）の液滴Ｍａを、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂで囲まれた凹部１５０内に吐出する。その際、図５および図１１に示すように、対向する色が同一の画素１１５の配列方向にノズル列２８を向けた状態で、液滴吐出ヘッド２２を基板１２０に対して、対向する色が同一の画素１１５の配列方向と直交する方向（主走査方向Ｘ）に相対移動させる。また、図１１に示すように、正孔注入層形成液の液滴Ｍａの一部を第２の隔壁１０５ｂの端部と重なる位置に吐出する。ここで、第２の隔壁１０５ｂ上に吐出された正孔注入層形成液は、第２の隔壁１０５ｂに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部１５０内に充填される。
【００５５】
その結果、凹部１５０内に吐出された正孔注入層形成液は、凹部１５０内で広がり、画素内でのレベリングが発生する。また、同一の色に対応する画素１１５の第２の境界領域１１６ｂでは、第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの間に隙間１０５ｃがあるので、第２の境界領域１１６ｂを挟んで隣り合う画素１１５の間では、隙間１０５ｃを介して正孔注入層形成液のレベリングが起こる。
【００５６】
従って、図７（Ｂ）に示すように、凹部１５０内には膜厚が一定の液状膜Ｆａが配置される。なお、正孔注入層形成液としては、例えば、ポリオレフィン誘導体である３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（導電性高分子材料）と、ポリスチレンスルホン酸（ドーパント）とを溶媒に分散させた溶液を用いる。このような正孔注入層形成液としては、溶媒として水単独を用い、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸を水に分散させたものを用いる。但し、正孔注入層形成液の液滴Ｍａをノズル開口から安定した状態に吐出するために、正孔注入層形成液の粘度などを調整する必要がある場合には、ポリスチレンスルホン酸および３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させる溶媒として、水に有機溶剤を配合した混合溶媒を用い、有機溶剤により正孔注入層形成液の性質を最適化する。このような混合溶媒に使用可能な有機溶剤としては、アルコール類、エーテル類、グリコールモノエーテル類、ラクトン類、オキサゾリジノン類、カーボネート類、ニトリル類、アミド類、スルホン類などが挙げられる。
【００５７】
次に、本形態では、液状膜Ｆａに対する乾燥工程において、大気圧以下、例えば１０-4〜１０-6パスカル（Ｐａ）程度の減圧雰囲気中で減圧乾燥を行い、液状膜Ｆａから正孔注入層形成材料中の溶媒を蒸発させる。その結果、図７（Ｃ）に示すように、画素電極１１１上に、正孔注入層１１３ａが約１０〜１００ｎｍの膜厚で形成される。なお、この乾燥工程では、４０〜２００℃程度で加熱して正孔輸送層形成液中の溶媒を蒸発させてもよい。
【００５８】
次に、発光層形成工程では、まず、図８（Ａ）に示す吐出工程において、基板１２０の上面を上に向けた状態で、図５を参照して説明した液滴吐出ヘッド２２から発光層形成液（液状組成物）の液滴Ｍｂを、第１の隔壁１０５ａおよび第２の隔壁１０５ｂで囲まれた凹部１５０内に吐出する。その際、図５および図１１に示すように、対向する色が同一の画素１１５の配列方向にノズル列２８を向けた状態で、液滴吐出ヘッド２２を基板１２０に対して、対向する色が同一の画素１１５の配列方向と直交する方向（主走査方向Ｘ）に相対移動させる。また、図１１に示すように、発光層形成液の液滴Ｍｂの一部を第２の隔壁１０５ｂの端部と重なる位置に吐出する。ここで、第２の隔壁１０５ｂ上に吐出された発光層形成液は、第２の隔壁１０５ｂに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部１５０内に充填される。
【００５９】
その結果、凹部１５０内に吐出された発光層形成液は、凹部１５０内で広がり、画素内でのレベリングが発生する。また、同一の色に対応する画素１１５の第２の境界領域１１６ｂでは、第１の隔壁１０５ａと第２の隔壁１０５ｂとの間に隙間１０５ｃがあるので、第２の境界領域１１６ｂを挟んで隣り合う画素１１５の間では、隙間１０５ｃを介して発光層形成液のレベリングが起こる。
【００６０】
従って、図８（Ｂ）に示すように、凹部１５０内には膜厚が一定の液状膜Ｆｂが配置される。なお、発光材料としては、例えば分子量が１０００以上の高分子材料が用いられる。具体的には、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンなどをドープしたものが用いられる。このような高分子材料としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、例えば特開平１１−４０３５８号公報に示される有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物、すなわち共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも１種の蛍光色素とを含んでなる有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物も、発光層形成材料として使用可能である。
【００６１】
このような発光材料を溶解あるいは分散する有機溶媒としては、非極性溶媒が好適とされ、特に発光層１１３ｂが正孔注入層１１３ａの上に形成されることから、この正孔注入層１１３ａに対して不溶なものが用いられることが好ましい。具体的には、キシレン、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼンなどが好適に用いられる。なお、発光層形成液の吐出による発光層１１３ｂの形成は、赤色の発色光を発光する発光層１１３ｂ（Ｒ）の形成材料、緑色の発色光を発光する発光層１１３ｂ（Ｇ）の形成材料、青色の発色光を発光する発光層１１３（Ｒ）の形成材料を、それぞれ対応する画素１１５に吐出し塗布することによって行う。
【００６２】
次に、液状膜Ｆｂに対する乾燥工程では、大気圧以下、例えば１０-4〜１０-6パスカル（Ｐａ）程度の減圧雰囲気中で減圧乾燥を行い、液状膜Ｆｂから発光層形成材料中の溶媒を蒸発させる。その結果、図８（Ｃ）に示すように、正孔注入層１１３ａ上に固形の発光層１１３ｂが形成される。これにより、正孔注入層１１３ａおよび発光層１１３ｂからなる有機機能層１１３が形成される。なお、乾燥工程では、４０〜２００℃程度で加熱して発光層形成液中の溶媒を蒸発させてもよい。
【００６３】
次に、図３および図４に示すように、基板１２０の表面全体に、あるいはストライプ状に、ＬｉＦ／Ａｌ（ＬｉＦとＡｌとの積層膜）やＭｇＡｇ、あるいはＬｉＦ／Ｃａ／Ａｌ（ＬｉＦとＣａとＡｌとの積層膜）を蒸着法などによって成膜し、対向電極１１２を形成する。その後、封止を行った後、さらに配線などの各種要素を形成することにより、有機エレクトロルミネッセンス素子１１０を各画素１１５に備えた発光装置１００を製造することができる。
【００６４】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域１１６ｂに形成された第２の隔壁１０５ｂは、画素間を部分的に仕切っているため、第２の境界領域１１６ｂを挟む画素間では、凹部１５０内に充填された有機機能層形成用の液状組成物（正孔注入層形成液および発光層形成液）が第２の隔壁１０５ｂの非形成領域（隙間１０５ｃ）で繋がり、画素間でのレベリングが発生する。このため、第２の境界領域１１６ｂを挟む画素１１５に充填された液状組成物の量に差があっても、画素間では有機機能層の膜厚ばらつきが発生しない。また、隣接する画素１１５に形成された有機機能層１１３同士が第２の境界領域１１６ｂで繋がっているとしても、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域（隙間１０５ｃ）で繋がっているだけであるため、対応する色が同一の画素間でのクロストークが問題とならない。
【００６５】
また、本形態では、第２の隔壁１０５ｂの両端部と第１の隔壁１０５ａとの間に隙間１０５ｃがあって、この隙間１０５ｃにより第２の隔壁１０５ｂの非形成領域が構成されている。このため、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域は、凹部１５０の隅部分に位置することになるので、画素間での液状組成物のレベリングを凹部１５０の隅部分を介して行うことができ、画素間および画素内での有機機能層１１３の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。
【００６６】
さらに、本形態では、図１１を参照して説明したように、液状組成物（正孔注入層形成液および発光層形成液）を吐出する際に、液状組成物の一部を第２の隔壁１０５ｂの端部と重なる位置に吐出する。このため、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域近傍に液状組成物が吐出される。従って、第２の隔壁１０５の非形成領域を介しての画素間での液状組成物の繋がりを確実に発生させることができるので、第２の隔壁１０５の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うことができる。
【００６７】
特に本形態において、発光層形成工程では、正孔注入層１１３ａに対して非溶解性の溶媒（正孔注入層に対する溶解性の低い溶媒も含む）に発光層形成材料を配合した発光層形成液を用いたため、発光層１１３ｂを形成する際の正孔注入層１１３ａの劣化を防止することができる一方、正孔注入層１１３ａは、発光層形成液に対する親液性が低く、発光層形成液の下地への濡れ性が悪い。それでも、本形態では、第２の境界領域１１６ｂでは、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域によって画素間での液状組成物のレベリングを行い、かつ、第２の隔壁１０５ｂの非形成領域を介しての発光層形成液のレベリングを行うため、発光層１１３ｂの膜厚ばらつきを防止することができる。
【００６８】
［その他の実施の形態］
上記形態では、液状組成物（正孔注入層形成液および発光層形成液）を第１の隔壁１０５ａで挟まれた領域の略中央に吐出したが、図１２に示すように、液状組成物の一部を第１の隔壁１０５ａの端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、第１の隔壁１０５ａ上に吐出された液状組成物は、第１の隔壁１０５ａに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部１５０内に充填される。その結果、凹部１５０の隅部分にも液状組成物が行き渡るので、画素内での有機機能層１１３（正孔注入層１１３ａおよび発光層１１３ｂ）の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。この場合も、図１２に示すように、液状組成物の一部を第２の隔壁１０５ｂの端部と重なる位置に吐出することが好ましい。
【００６９】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などは一例に過ぎず、適宜変更が可能である。例えば、上記形態では、正孔注入層１１３ａとして、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを用いたが、その他のポリアルキルチオフェン誘導体や、ポリピロール誘導体を用いてもよい。また、正孔注入層１１３ａとしては、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサンなどを高分子前駆体として形成した層を用いた場合に本発明を適用してもよい。
【００７０】
なお、上記形態では、対応する色が相違する画素間で異なる組成の発光層１１３ｂを形成する構成であったが、いずれの画素に対しても、白色光を出射する発光層１１３ｂを形成し、この白色光にカラーフィルタによって着色し、カラー表示を行う発光装置に本発明を適用してもよい。また、いずれの画素に対しても、同一の色光を出射する発光層１１３ｂを形成し、この光を光を通して各色の光を出射することにより、カラー表示を行う発光装置に本発明を適用してもよい。これらいずれの場合でも、対応する色が同一の画素間で液状組成物のレベリングを行えば、液状組成物の膜厚ばらつきを防止できるとともに、対応する色が同一の画素間で液状組成物が部分的に繋がっているのであれば、クロストークによる画像品質の低下を防止することができる。
【００７１】
［電子機器への適用］
本発明に係る発光装置１００は、携帯電話機、テレビ、車載パネル、パーソナルコンピュータやＰＤＡなどの電子機器においてフルカラー表示装置や、各種光源として用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明が適用される発光装置の電気的構成を示すブロック図である。発光装置のブロック図である。
【図２】本発明を適用した発光装置の画素複数個分の平面図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）は各々、本発明を適用した発光装置の１画素分の平面図および断面図である。
【図４】本発明を適用した発光装置の各色に対応する３つの画素（１ドット分）の断面図である。
【図５】（Ａ）〜（Ｄ）は、図１に示す液滴吐出装置に用いた液滴吐出ヘッドのノズル形成面の説明図、液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、液滴吐出ヘッドに用いた圧力発生素子の説明図、および別の圧力発生素子の説明図である。
【図６】本発明を適用して発光装置の薄膜トランジスタなどを形成する方法を示す工程断面図である。
【図７】本発明を適用して発光装置の正孔注入層を形成する方法を示す工程断面図である。
【図８】本発明を適用して発光装置の発光層を形成する方法を示す工程断面図である。
【図９】本発明に係る発光装置の製造工程において、画素電極までを形成した状態を示す平面図である。
【図１０】本発明に係る発光装置の製造工程において、隔壁を形成した状態を示す平面図である。
【図１１】本発明に係る発光装置の製造工程において、有機機能層を形成する方法を示す平面図である。
【図１２】本発明に係る発光装置の製造工程において、有機機能層を形成する別の方法を示す平面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１０・・液滴吐出装置、１２・・基板（発光装置用基板）、２２・・液滴吐出ヘッド、２７・・ノズル開口、２８・・ノズル列、１００・・発光装置（発光装置）、１０５ａ・・第１の隔壁、１０５ｂ・・第２の隔壁、１１０・・有機エレクトロルミネッセンス素子、１１１・・画素電極（第１電極層）、１１２・・対向電極（第２電極層）、１１３・・有機機能層、１１３ａ・・正孔注入層、１１３ｂ・・発光層、１１５・・画素、１１６ａ・・第１の境界領域、１１６ｂ・・第２の境界領域、１２０・・基板、Ｆａ、Ｆｂ・・液状膜、Ｍ・・液状組成物、Ｍ０、Ｍａ、Ｍｂ・・液滴
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極層、有機機能層および第２電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置において、
対応する色が相違する画素間の第１の境界領域には、当該第１の境界領域に沿って連続して延びた第１の隔壁が形成され、
対応する色が同一の画素間の第２の境界領域には、当該画素間を部分的に仕切る第２の隔壁が形成され、
前記有機機能層は、前記第１の隔壁および前記第２の隔壁により形成された凹部内に形成されているとともに、前記第２の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が前記第２の隔壁の非形成領域で繋がっていることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とは、同一の材料からなることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記第２の隔壁は、前記第１の隔壁との間に所定の距離を隔てた位置に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記第１の隔壁と前記第２の隔壁との離間距離が１５μｍ以上であることを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記有機機能層は、正孔注入層と、該正孔注入層上に積層された発光層とを備えていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の発光装置。
【請求項６】
第１電極層、有機機能層および第２電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置の製造方法において、
前記第１電極層を形成した後、前記有機機能層を形成する前に、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域には、当該第１の境界領域に沿って連続して延びる第１の隔壁を形成するとともに、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域には、当該画素間を分的に仕切る第２の隔壁を形成する隔壁形成工程と、
液滴吐出ヘッドのノズル開口から前記第１の隔壁および前記第２の隔壁により形成された凹部内に液状組成物を吐出した後、当該液状組成物を固化させて前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程と
を有することを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記隔壁形成工程では、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とを同一の材料によって同時形成することを特徴とする請求項６に記載の発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記有機機能層形成工程では、少なくとも、前記有機機能層に含まれる正孔注入層を形成する正孔注入層形成工程と、前記有機機能層に含まれる発光層を前記正孔注入層上に積層する発光層形成工程とを行い、
前記発光層形成工程では、前記正孔注入層に対して非溶解性の溶媒に発光層形成材料を配合した液状組成物を用いることを特徴とする請求項６または７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１の隔壁および前記第２の隔壁の表面は、前記液状組成物に対する撥液性を備えていることを特徴とする請求項６乃至８の何れか一項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記液状組成物を吐出する際、当該液状組成物の一部を前記第２の隔壁の端部と重なる位置に吐出することを特徴とする請求項９に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１１】
前記液状組成物を吐出する際、当該液状組成物の一部を前記第１の隔壁の端部と重なる位置に吐出することを特徴とする請求項９または１０に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１２】
前記液滴吐出ヘッドのノズル形成面では、前記ノズル開口が複数、整列してノズル列を構成しており、
前記有機機能層形成工程では、対向する色が同一の画素の配列方向、あるいは当該配列方向に対して斜め方向に前記ノズル列を向けた状態で前記液滴吐出ヘッドを前記基板に対して前記配列方向と直交する方向に相対移動させることを特徴とする請求項６乃至１１の何れか一項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１】
第１電極層、有機機能層および第２電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置において、
対応する色が相違する画素間の第１の境界領域には、当該第１の境界領域に沿って連続して延びた第１の隔壁が形成され、
対応する色が同一の画素間の第２の境界領域には、当該画素間を部分的に仕切る第２の隔壁が形成され、
前記有機機能層は、前記第１の隔壁および前記第２の隔壁により形成された凹部内に形成されているとともに、前記第２の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が前記第２の隔壁の非形成領域で繋がっていることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とは、同一の材料からなることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記第２の隔壁は、前記第１の隔壁との間に所定の距離を隔てた位置に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記第１の隔壁と前記第２の隔壁との離間距離が１５μｍ以上であることを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記有機機能層は、正孔注入層と、該正孔注入層上に積層された発光層とを備えていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の発光装置。
【請求項６】
第１電極層、有機機能層および第２電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置の製造方法において、
前記第１電極層を形成した後、前記有機機能層を形成する前に、対応する色が相違する画素間の第１の境界領域には、当該第１の境界領域に沿って連続して延びる第１の隔壁を形成するとともに、対応する色が同一の画素間の第２の境界領域には、当該画素間を分的に仕切る第２の隔壁を形成する隔壁形成工程と、
液滴吐出ヘッドのノズル開口から前記第１の隔壁および前記第２の隔壁により形成された凹部内に液状組成物を吐出した後、当該液状組成物を固化させて前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程と
を有することを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記隔壁形成工程では、前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とを同一の材料によって同時形成することを特徴とする請求項６に記載の発光装置の製造方法。
【請求項８】
前記有機機能層形成工程では、少なくとも、前記有機機能層に含まれる正孔注入層を形成する正孔注入層形成工程と、前記有機機能層に含まれる発光層を前記正孔注入層上に積層する発光層形成工程とを行い、
前記発光層形成工程では、前記正孔注入層に対して非溶解性の溶媒に発光層形成材料を配合した液状組成物を用いることを特徴とする請求項６または７に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１の隔壁および前記第２の隔壁の表面は、前記液状組成物に対する撥液性を備えていることを特徴とする請求項６乃至８の何れか一項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記液状組成物を吐出する際、当該液状組成物の一部を前記第２の隔壁の端部と重なる位置に吐出することを特徴とする請求項９に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１１】
前記液状組成物を吐出する際、当該液状組成物の一部を前記第１の隔壁の端部と重なる位置に吐出することを特徴とする請求項９または１０に記載の発光装置の製造方法。
【請求項１２】
前記液滴吐出ヘッドのノズル形成面では、前記ノズル開口が複数、整列してノズル列を構成しており、
前記有機機能層形成工程では、対向する色が同一の画素の配列方向、あるいは当該配列方向に対して斜め方向に前記ノズル列を向けた状態で前記液滴吐出ヘッドを前記基板に対して前記配列方向と直交する方向に相対移動させることを特徴とする請求項６乃至１１の何れか一項に記載の発光装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００７−２２７１２７（Ｐ２００７−２２７１２７Ａ）
【公開日】平成１９年９月６日（２００７．９．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−４６４４６（Ｐ２００６−４６４４６）
【出願日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月６日（２００７．９．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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