真空成膜装置
【課題】大型の基板に蒸着を行うための防着板の取付け／取外しが容易で、メンテナンス作業の向上が可能となる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられて蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた基板の蒸着表面に沿って、蒸着源を移動させる手段と、マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置において、真空チャンバ内において、蒸着源から供給されてマスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面に、薄膜状の防着膜１００を着脱可能に取り付けるための手段を備える。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられて蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた基板の蒸着表面に沿って、蒸着源を移動させる手段と、マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置において、真空チャンバ内において、蒸着源から供給されてマスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面に、薄膜状の防着膜１００を着脱可能に取り付けるための手段を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、有機ＥＬデバイスや液晶ディスプレイ等の表示装置用の大型の基板に有機ＥＬ材料を蒸着するための真空成膜装置に関し、特に、当該材料のチャンバ内壁への蒸着を防止する構造を備えた真空成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬデバイスを製造する有力な方法として真空蒸着法が広く採用されている。この真空蒸着法では、所謂、蒸着チャンバ内において、抵抗加熱や誘導加熱などの方法を用い、蒸着源から蒸着材料の蒸発速度を一定に保つように制御しながら、蒸着材料を加熱し物理蒸着(ＰＶＣ)を行なうことが一般的である。
【０００３】
なお、上述した蒸着装置により成膜を行う場合、特に、有機ＥＬデバイス等の大型基板の広い表面上で均一に成膜するためには、基板であるワークよりも広範囲に蒸着物を飛ばす必要があるが、その場合、当該蒸着物は、基板表面だけではなく、装置の機構部やチャンバ内壁へも付着してしまう。そのため、従来においては、蒸着物のチャンバ内壁への付着を防止するための、所謂、防着板と呼ばれる部材を取り外し可能に設置することが行われていた。
【０００４】
例えば、以下の特許文献１によれば、プロダクトチャンバー部の内部にプラネタティ（ドーム状のウェハ取り付け装置）を有するＥＢアルミ蒸着装置において、当該プラネタティを取り囲むように覆うブラインド防着板を、円柱状に配置し、更には、その上部に防着天板を配置することにより、プロダクトチャンバー部内に飛散したアルミニウムに起因するメンテナンス時間を短縮するものが、既に、開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３-６４４７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、近年においては、表示装置の大型化と共に、そのワークである基板の大きさも大型化しており、これに伴って、その製造装置である成膜装置も大型化している。一方、上述した防着板は、所定の作業時間の経過に伴って行われるメンテナンス時において交換される必要があり、そのため、特に、近年の大型化した成膜装置においても、その取り付けや取り外しが容易であること、即ち、そのメンテナンス性能の向上が求められていた。
【０００７】
なお、上記特許文献１に記載のブラインド方式の防着板は、プラネタティを取り囲んで円柱状に配置され、下方のソースチャンバー部からその上部に配置されたプロダクトチャンバー部内に飛散するアルミニウム粒子を、プラネタティに取り付けたウェハ表面に蒸着させ、プロダクトチャンバー部の床面には蒸着されないようにするものである。
【０００８】
一方、本発明が関わる成膜装置、特に、有機ＥＬの表示装置用の大型基板に有機ＥＬ材料を蒸着するための成膜装置では、当該基板を直立させた状態で蒸着源を上下方向に移動することによって必要な有機ＥＬ材料を蒸着することが行われている。そのため、上述した特許文献１記載のブラインド方式の防着板を採用することは困難であった。
【０００９】
本発明は、上述した従来技術における問題点に鑑みて達成されたものであり、その目的は、大型の基板に蒸着を行うための成膜装置であって、取り付けや取り外しが容易であることによりメンテナンスの作業性向上が可能となる防着板により、蒸着材料のチャンバ内壁への蒸着を防止する真空成膜装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明によれば、まず、真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、前記真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、前記位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた前記基板の蒸着表面に沿って、前記蒸着源を移動させる手段と、前記マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置であって、前記真空チャンバ内において、前記蒸着源から供給されて前記マスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面の一部分に、薄膜状の防着膜を着脱可能に取り付けるための手段を備えた真空成膜装置が提供される。
【００１１】
また、本発明では、前記に記載した真空成膜装置において、前記真空チャンバ内における壁面の一部分は、前記マスクと前記蒸着源との間に配置された前記ベースプレートの、前記蒸着源側に面した表面部分であることが好ましく、更には、前記薄膜状の防着膜の取り付け手段は、前記薄膜状の防着膜を、複数回の使用が可能な長さで、ロール状に巻いて格納しており、各回の使用の際には、所定の長さで引き出して、前記蒸着材料が付着する前記真空チャンバ内における壁面の一部分に取り付けられることが好ましい。そして、前記薄膜状の防着膜の取り付け手段は、更に、遠隔からの操作により、ロール状に巻いて格納された前記薄膜状の防着膜を取り出すための手段を備えていることが好ましく、又は、前記薄膜状の防着膜は、各回の使用で必要な長さで分離可能にされて、ロール状に巻いて格納されていることが好ましい。
【００１２】
そして、本発明では、更に、前記に記載した真空成膜装置は、有機ＥＬデバイスの基板に蒸着材料を蒸着するための真空成膜装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
以上に述べた本発明によれば、大型の基板に蒸着を行うための成膜装置であって、取り付けや取り外しが容易であることによりメンテナンスの作業性の向上が可能となる防着板により、蒸着材料のチャンバ内壁への蒸着を防止することが可能な真空成膜装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一の実施の形態になる成膜装置を利用した有機ＥＬデバイス製造装置の全体構成を示す上面図である。
【図２】上記有機ＥＬデバイス製造装置の成膜装置である処理チャンバを、隣接する搬送チャンバと共に、その内部構成の一例を示す透視斜視図である。
【図３】上記有機ＥＬデバイス製造装置の成膜装置である処理チャンバの内部詳細構造を示す側面断面図である。
【図４】成膜装置において、内部の清掃のためのメンテナンスを行う際に真空蒸着チャンバから現れるベースプレートと、本発明の特徴である防着膜を示す斜視図である。
【図５】上記ベースプレートの一部に取り付けられる上記防着膜の内部詳細構造を示すための、一部透視図を含む斜視図である。
【図６】上記防着膜をベースプレートの一部への取り付けるための構造の一例を示す断面を含む一部拡大斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施の形態になる成膜装置、特に、有機ＥＬデバイス用の大型の基板に有機ＥＬ材料を蒸着するための成膜装置について、添付の図を参照しながら詳細に説明する。
【００１６】
まず、添付の図１は、本発明の一実施の形態になる成膜装置をその一部に利用した有機ＥＬデバイス製造装置の一例を示しており、図において、当該有機ＥＬデバイス製造装置１は、概略、処理対象（ワーク）である基板６を搬入するロードクラスタ３、基板６をそれぞれ処理する４つのクラスタ(Ａ〜Ｄ)と、隣接するクラスタの間、又は、クラスタＡとロードクラスタ３の間、更には、次工程（例えば、封止工程）との間の設置された、合計、５つの受渡室４とから構成されている。
【００１７】
ロードクラスタ３は、前後に真空を維持するためにゲート弁１０を有するロードロック室３１と、当該ロードロック室３１から基板６を受け取り、これを旋回して受渡室４ａに基板６を搬入する搬送ロボット５Ｒからなる。また、各ロードロック室３１及び各受渡室４は、その前後にゲート弁１０を有し、当該ゲート弁１０の開閉を制御することにより、内部の真空を維持しながら、ロードクラスタ３又は次のクラスタ等に対して、上記基板６を受け渡しする。
【００１８】
各クラスタ（Ａ〜Ｄ）は、一台の搬送ロボット５を有する搬送チャンバ２と、搬送ロボット５から基板を受け取って所定の処理を行う（図面上で上下に配置されている）２つの処理チャンバ１(添え字ａ〜ｄはクラスタを示し、添え字ｕ、ｄは上側下側を示す)を有する。また、搬送チャンバ２と処理チャンバ１の間には、ゲート弁１０が設けられている。
【００１９】
次に、添付の図２は、上述した有機ＥＬデバイス製造装置の一部、特に、搬送チャンバ２と共に、その内部に有機ＥＬ材料を蒸着するための成膜装置を備えた処理（成膜）チャンバ１の構成を示す。なお、ここでは、処理チャンバの構成として、真空中で発光材料を蒸着して基板６上にＥＬ層を形成するための真空蒸着チャンバ１ｂｕが示されている。
【００２０】
真空蒸着チャンバ１ｂｕは、図にも示すように、大別して、発光材料を蒸発させ基板６に蒸着させる蒸着部７と、基板６の必要な部分に蒸着させるアライメント部８と、搬送チャンバ２内の搬送ロボット５との間で基板６の受け渡たしを行い、蒸着部７へ基板６を移動させる処理受渡部９によって構成されている。ここでは、蒸着部７、アライメント部８及び処理受渡部９の概略構成を説明する。
【００２１】
アライメント部８と処理受渡部９は、それぞれ、右側Ｒラインと左側Lラインの２系統が設けられる。処理受渡部９は、搬送ロボット５の櫛歯状ハンド５２と干渉することなく基板６を受渡し可能であり、かつ、基板６を固定する手段を有する基板チャック９１と、前記基板チャック９１を旋回させて基板６を直立させアライメント部８に移動するハンド旋回駆動手段９２を有する。なお、基板６を固定する手段としては、真空中であることを考慮して、例えば、電磁吸着やクリップ等が用いられる。
【００２２】
また、アライメント部８は、マスク８１ｍとフレーム８１ｆとからなるシャドウマスク８１と、ここでは図示しない基板上のアライメントマークによって基板６とシャドウマスク８１とを位置合せするためのアライメント駆動部８３とを有する。
【００２３】
蒸着部７は、蒸着源７１と、当該蒸着源を上下方向に移動させるための蒸着源駆動手段（図示せず）を有する。なお、この蒸着源７１には、内部に蒸着材料である発光材料が充填され、そして、当該蒸着材料を加熱制御することにより、蒸発した有機ＥＬ材料が安定した蒸発速度で得られる。
【００２４】
続いて、添付の図３には、上述した真空蒸着チャンバ１ｂｕのうち、特に、そのＲラインを構成するチャンバ部分の詳細な構成が示されている。
【００２５】
まず、基板６はゲート弁１０を介して処理受渡部９に水平に搬入される。処理受渡部９では水平に搬送されてきた基板６を直立させる。この直立を実行するため、チャンバ内第１ベースプレート８８上にはハンド旋回駆動手段９２の回転アーム９２ａを設け、その先端に直立ベース９５を取り付ける。この直立ベース９５には基板チャック９１が取り付けられている。なお、この例では、直立ベース９５には、気密容器９７に収納されたアライメントカメラ８６も取り付けられている。
【００２６】
アーム９２ａの回転は、紙面上手前に設けた回転アクチュエータ（図示せず）により行なう。具体的には、このアクチュエータの動力を軸９２ｃに伝達させる。なお、図中の参照符号９２ｂは軸受である。
【００２７】
続いて、基板６を直立させた後、アライメントカメラ８６によりマスク８１及び基板６に設けられたアライメントマーク（図示せず）を撮像し、アライメント機構８によりマスク８１を動かし、その後、アライメントが完了した後に、複数のノズルを直線状に配列した蒸着源７１（リニアソース）を揺動させて基板６上に蒸着を施す。
【００２８】
アライメント機構８のアライメント駆動部８３は、真空チャンバ１ｂｕの外周上部に設けられている。アライメント駆動部８３は紙面奥行き（Ｙ）方向と上下（Ｚ）方向の２自由度を有する。具体的には、紙面奥行き（Ｙ）方向はアライメントベース８３ｂから吊り下げたアクチュエータ８３ｙにより、上下（Ｚ）方向はＺ軸アクチュエータ８３ｚにより、ロッド８３ｒを、それぞれ、駆動することにより行う。アライメント機構８は、回転対偶である支持機構８９ｓでマスク８１を支持し、チャンバ内の第２ベースプレート８７に設けられたリニアガイド８９ｇと共に、マスクホルダ８９ｈをスムーズに回転摺動させるものである。紙面奥側には、更にもう１セットのアライメント機構８が設けられており、これにより、マスクホルダ８９ｈのＹ方向及びＺ方向の移動、及び、紙面に垂直な面における回転を制御してアライメントを行なう。
【００２９】
次に、上記真空チャンバ１ｂｕの奥側に、即ち、上記チャンバ内の第１ベースプレート８８及び第２ベースプレート８７の奥側に設けられた、基板に蒸着を施すための蒸着源駆動装置７０について、詳細に説明する。この蒸着源駆動装置７０は蒸着源７１を紙面上下方向に移動させる上下駆動機構７２と、紙面奥行き方向に移動させる左右駆動機構７４からなる。
【００３０】
上下駆動機構７２は、チャンバ内第３ベースプレート７９上に設置されている。また、真空装置では、駆動源のモータ７２ｍを、その冷却の都合を理由として、真空チャンバ１ｂｕの外周の上部に設置される。当該モータからの動力を真空チャンバ１ｂｕ内に伝達するために、磁性流体シール７２ｓを介してボール螺子７２ｂを回転させ、もって、ナット７８を移動させる。そして、蒸着源台７１ｄの摺動子７２ｐが上下レール７６上を摺動し、これに伴い、蒸着源台の蒸着源７１が上下に移動される。なお、ナット７８は、蒸着源７１を載置する蒸着源台７１ｄの中央部から突き出た連結棒７８ｒの先端に設けられている。基板６の蒸着時においては、蒸着源７１はマスク開口領域８１ａの範囲を上下している。磁性流体シール７２ｓが真空チャンバ壁１ｈの変形で傾く場合、モータ７２ｍと磁性流体シール７２ｓの間、及び、磁性流体シール７２ｓとボール螺子７２ｎの間に、軸間の変位や角度誤差を吸収するカップリング７２ｃを設けることで、スムーズな動力の伝達が可能になる。
【００３１】
次に、左右駆動手段７４について説明する。左右駆動手段７４は、左右駆動ベース７４ｋや上下レール７６等を一体にして、左右レール７５上を左右（この図では図面奥行き方向）に移動させ、蒸着源７１をＲライン、Ｌラインに亘って移動させる。左右駆動手段７４は、基本的には、上下駆動手段７２と同様な機構を有しており、左右レール７５やボール螺子７４ｂは、下壁１ｈ上に設けられた複数のチャンバ内ベース７４ｄ上において、Ｒライン、Ｌラインに亘って設置されている。また、真空装置では駆動源のモータ（図示せず）は、上下駆動手段７２と同様に、冷却の都合から真空チャンバ１ｂｕの外部（紙面手前側、図示せず）に設置する。このモータ動力を真空チャンバ１ｂｕ内に伝達するのに、上下駆動手段７２と同様に、磁性流体シールや軸間の変位や角度誤差を吸収するカップリングを介してボール螺子７４ｂを回転させる。ボール螺子７４ｂを回転により、左右駆動ベース７４ｋに固定されたナット７４ｎが移動し、これに伴い、左右駆動ベース７４ｋに固定された摺動子７４ｓが左右レール７５上を移動する。
【００３２】
左右への移動時、即ち、ＲラインとＬライン間の移動時において、上下駆動機構７２の構成から解かるように、上下駆動機構７２は移動しないし、ボール螺子７２ｂも移動しない。即ち、上下駆動手段７２は、Ｒライン及びＬラインにそれぞれ独立して設けられている。従って、両ラインの上下駆動機構７２のボール螺子７２ｂと蒸着源台７１ｄの中央部から突き出た連結棒７８ｒの先端に設けたナット７８が係合しかつ離脱する係合離脱機構が必要である。
【００３３】
また、図３に引き出し線で示した一部拡大部図Ａは、係合離脱機構を有するナット７８の一実施例を示した図である。ナット７８は左右に突出た半円形部７８Ｒ、７８Ｌを有している。その半円形部には上下駆動機構７２のボール螺子７２ｂと係合する螺子が切られている。そこで、左右駆動機構７４によりナット７８がＲラインに来ると、半円形部７８ＲがＲラインの上下駆動機構のボール螺子７２ｂと係合し、また、Ｌラインに来ると、半円形部７８ＬがＬラインの上下駆動機構のボール螺子７２ｂと係合する。これらの結果、上下駆動機構７２、特に、モータ７２ｍを移動させることなく、簡単な機構でＲ、Ｌラインで基板の全面に蒸着することができる。
【００３４】
なお、上述した真空蒸着チャンバ１ｂｕは、そのメンテナンス時には、上記図３における一点鎖線Ｂ−Ｂで示す面において左右に分離可能になっている。なお、近年における大型表示装置で使用される、例えば、有機ＥＬデバイス等のための大型基板に有機ＥＬ材料を蒸着するための装置では、当該基板の大型化に伴い、真空蒸着チャンバ内に配置される蒸着装置も大型化している。
【００３５】
ここで、添付の図４は、内部の清掃のためのメンテナンスを行う際に、上記の一点鎖線Ｂ−Ｂ面で左右に分離した真空蒸着チャンバ１ｂｕを、上述した蒸着源駆動装置７０が設けられた側（上記図３の右側）から見た場合の様子を示している。その際、真空蒸着チャンバ１ｂｕの分離面には、図にも示すように、上述したチャンバ内の第１ベースプレート８８と第２ベースプレート８７とが現れる。
【００３６】
なお、蒸着作業時においては、上記真空蒸着チャンバ１ｂｕの内部では、蒸着源７１で蒸発した有機ＥＬ材料が、当該図示の面に向かって供給されることにより、基板上に有機ＥＬ材料が蒸着される。その際、蒸発した有機ＥＬ材料は、マスクを介して、基板の表面だけではなく、その周囲にも飛散してしまい、装置の機構部やチャンバの内壁へも付着してしまうが、特に、上述したチャンバ内の第１ベースプレート８８と第２ベースプレート８７の表面、即ち、その略中央の開口部（当該開口部には、上記のマスクが取り付けられた基板の表面が露出される）の周囲の壁面に、多くが付着することとなる。
【００３７】
本発明では、上述したように、蒸発した有機ＥＬ材料が付着する壁面に、防着膜１００を設けると共に、当該防着膜１００を、メンテナンス時において容易に交換可能な構造とするものである。なお、その際、特に、上述した基板の大型化に伴う蒸着装置の大型化によれば、その略中央に開口部（基板表面の露出部）有する壁面を形成する上記第１ベースプレート８８と第２ベースプレート８７の合計した高さは、その基礎部分から測定して、例えば、人間の平均的な身長を越えて、例えば、３ｍを越えて、場合によっては５ｍにも達し、危険な高所作業が必要となる場合がある。そのため、防着膜１００を交換する作業は、特にその上部においては、作業者の安全等を考慮した場合には、危険で難しい作業となっている。そこで、簡単で安全な作業によって交換可能な、即ち、メンテナンスの作業性を向上することの可能な防着膜１００が求められていた。
【００３８】
そこで、本発明では、当該防着膜１００を、ロールシート状として装置内の壁面に取り付け、これを、適宜、引き延ばして、必要な壁面に取り付けることを可能とするものである。なお、このロールシート状の部材としては、例えば、金属の薄膜や樹脂の薄膜を採用することが出来る。
【００３９】
添付の図５には、上述した防着膜１００のより詳細な例が示されている。なお、図５（Ａ）は、上記図４において、特に、上部の壁面を形成する第２ベースプレート８７の表面に引き延ばして取り付けられる防着膜１００を示している。図からも明らかなように、薄膜状の防着膜１００が芯材１０１の上に巻かれており、そして、当該芯材１０１は、長尺の箱状のケース１０２の内部において、水平方向に、回転可能に収納されている。なお、このケース１０２の一部（本例では、ケースの下面の第２ベースプレート８７との接合面の近傍）に形成されたスリット部１０３が形成されており、当該スリット部１０３を介して内部の薄膜状の防着膜１００をケース１０２の外部に取り出すことが出来る。
【００４０】
また、この芯材１０１の一方の端部には、例えば、傘歯車１０４が取り付けられている。そして、当該傘歯車１０４には、更に、垂直方向に伸びたロッド部１０５の上端部に取り付けられた他の傘歯車１０６が互いに噛合した状態で取り付けられ、かつ、その他端には、所謂、ハンドル１０７が設けられている。かかる構造によれば、有機ＥＬ材料が付着する壁面の高い位置に取り付けられた場合にも、図に矢印で示すように、作業員がハンドル１０７によりロッド部１０５を回転することにより、薄膜状の防着膜１００が巻き付けられた芯材１０１を回転させ、もって、箱状のケース１０２の一部に設けたスリット部１０３を介して、ケース内のロール状にして格納した薄膜状の防着膜１００を取り出し（図中の白抜き矢印を参照）、第２ベースプレート８７の表面、更には、下方の第１ベースプレート８８にまで引き延ばして、その表面に取り付けられることが出来る。
【００４１】
一方、図５（Ｂ）には、上記図４において、壁面の下部を形成する第１ベースプレート８８の表面に引き延ばして取り付けられる防着膜１００を示しており、ここでも上記と同様に、薄膜状の防着膜１００が芯材１０１の上に巻かれており、そして、この芯材１０１は、長尺の箱状のケース１０２’の内部において、水平方向に、回転可能に収納されている。但し、当該ケース１０２’は、上記図５（Ａ）に示したものとは異なり、有機ＥＬ材料が付着する壁面の低い位置に取り付けられることから、上述した一対の傘歯車、ロッド部、ハンドル等を含む機構を設けることなく、スリット部１０３を介して内部の薄膜状の防着膜１００をケースから上方に取り出して（図中の白抜き矢印を参照）、下方に配置された第１ベースプレート８８の表面上で引き延ばして取り付けられることが出来る。
【００４２】
即ち、上述したロールシート状の防着膜１００によれば、先ず、予め、芯材１０１の上に、例えば、数回に亘って使用出来る程度の長さを持つ薄膜状の防着膜１００をロール状に巻いてケース１０２及び１０２’内に格納して、当該ケース１０２及び１０２’を、真空蒸着チャンバ１ｂｕ内部の機構部やチャンバの内壁に加え、上記の図４にも示したように、チャンバ内の第１ベースプレート８８の上端部と、第２ベースプレート８７の下端部に取り付ける。その後、壁面上部に取り付けたケース１０２に格納された防着膜１００については、上述したハンドル等により下方に引き出し（上記図５（Ａ）を参照）、ベースプレートの表面上に引き延ばして固定する。他方、壁面下部に取り付けたケース１０２’に格納された防着膜１００については、直接、ケース１０２’から引き出し（上記図５（Ｂ）を参照）、ベースプレートの表面上に引き延ばして固定する。なお、その際、防着膜１００の先端部等を、例えば、クリップ機構や、磁石のプレート等を利用して壁面上に固定してもよく、又は、添付の図６（Ａ）及び（Ｂ）にも示すように、予め、第２ベースプレート８７の下側面や第１ベースプレート８８の上側面にスリット８７１、８８１を形成しておき、図にも示すように、引き延ばした防着膜１００の先端を当該スリット８７１、８８１内に挿入して固定する等々、様々の固定手段を利用することが可能であろう。
【００４３】
続いて、その後の真空蒸着装置の所定期間の運転により、その内部の清掃が必要となり、所謂、メンテナンスを行う際には、上記図３における一点鎖線Ｂ−Ｂで示す面において真空蒸着チャンバ１ｂｕを左右に分離し、ロール状に巻いて格納されている薄膜状の防着膜１００を、上記と同様にして、ハンドル等により、又は、直接、ケース１０２及び１０２’から取り出して壁面上に固定すると共に、その表面上に有機ＥＬ材料が付着した使用済みの部分については、壁面から引き剥がして破棄する。なお、その際、薄膜状の防着膜１００には、１回分の使用長さ毎に、予め、例えば、ミシン目等を形成しておくことによれば、当該ミシン目を境にして、使用済み部分と新しい部分とが容易に分離することが出来て便利であり、作業性の向上にも大きく貢献することが可能となろう。
【符号の説明】
【００４４】
１ｂｕ…真空蒸着チャンバ、６…基板、７…蒸着部、８…アライメント部、８１ｍ…マスク、９…処理受渡部、８７…第２ベースプレート、８８…第１ベースプレート、１００…防着膜、１０１…芯材、１０２、１０２’…ケース、１０３…スリット部、１０４，１０６…傘歯車、１０７…ハンドル
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、有機ＥＬデバイスや液晶ディスプレイ等の表示装置用の大型の基板に有機ＥＬ材料を蒸着するための真空成膜装置に関し、特に、当該材料のチャンバ内壁への蒸着を防止する構造を備えた真空成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬデバイスを製造する有力な方法として真空蒸着法が広く採用されている。この真空蒸着法では、所謂、蒸着チャンバ内において、抵抗加熱や誘導加熱などの方法を用い、蒸着源から蒸着材料の蒸発速度を一定に保つように制御しながら、蒸着材料を加熱し物理蒸着(ＰＶＣ)を行なうことが一般的である。
【０００３】
なお、上述した蒸着装置により成膜を行う場合、特に、有機ＥＬデバイス等の大型基板の広い表面上で均一に成膜するためには、基板であるワークよりも広範囲に蒸着物を飛ばす必要があるが、その場合、当該蒸着物は、基板表面だけではなく、装置の機構部やチャンバ内壁へも付着してしまう。そのため、従来においては、蒸着物のチャンバ内壁への付着を防止するための、所謂、防着板と呼ばれる部材を取り外し可能に設置することが行われていた。
【０００４】
例えば、以下の特許文献１によれば、プロダクトチャンバー部の内部にプラネタティ（ドーム状のウェハ取り付け装置）を有するＥＢアルミ蒸着装置において、当該プラネタティを取り囲むように覆うブラインド防着板を、円柱状に配置し、更には、その上部に防着天板を配置することにより、プロダクトチャンバー部内に飛散したアルミニウムに起因するメンテナンス時間を短縮するものが、既に、開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３-６４４７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、近年においては、表示装置の大型化と共に、そのワークである基板の大きさも大型化しており、これに伴って、その製造装置である成膜装置も大型化している。一方、上述した防着板は、所定の作業時間の経過に伴って行われるメンテナンス時において交換される必要があり、そのため、特に、近年の大型化した成膜装置においても、その取り付けや取り外しが容易であること、即ち、そのメンテナンス性能の向上が求められていた。
【０００７】
なお、上記特許文献１に記載のブラインド方式の防着板は、プラネタティを取り囲んで円柱状に配置され、下方のソースチャンバー部からその上部に配置されたプロダクトチャンバー部内に飛散するアルミニウム粒子を、プラネタティに取り付けたウェハ表面に蒸着させ、プロダクトチャンバー部の床面には蒸着されないようにするものである。
【０００８】
一方、本発明が関わる成膜装置、特に、有機ＥＬの表示装置用の大型基板に有機ＥＬ材料を蒸着するための成膜装置では、当該基板を直立させた状態で蒸着源を上下方向に移動することによって必要な有機ＥＬ材料を蒸着することが行われている。そのため、上述した特許文献１記載のブラインド方式の防着板を採用することは困難であった。
【０００９】
本発明は、上述した従来技術における問題点に鑑みて達成されたものであり、その目的は、大型の基板に蒸着を行うための成膜装置であって、取り付けや取り外しが容易であることによりメンテナンスの作業性向上が可能となる防着板により、蒸着材料のチャンバ内壁への蒸着を防止する真空成膜装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明によれば、まず、真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、前記真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、前記位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた前記基板の蒸着表面に沿って、前記蒸着源を移動させる手段と、前記マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置であって、前記真空チャンバ内において、前記蒸着源から供給されて前記マスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面の一部分に、薄膜状の防着膜を着脱可能に取り付けるための手段を備えた真空成膜装置が提供される。
【００１１】
また、本発明では、前記に記載した真空成膜装置において、前記真空チャンバ内における壁面の一部分は、前記マスクと前記蒸着源との間に配置された前記ベースプレートの、前記蒸着源側に面した表面部分であることが好ましく、更には、前記薄膜状の防着膜の取り付け手段は、前記薄膜状の防着膜を、複数回の使用が可能な長さで、ロール状に巻いて格納しており、各回の使用の際には、所定の長さで引き出して、前記蒸着材料が付着する前記真空チャンバ内における壁面の一部分に取り付けられることが好ましい。そして、前記薄膜状の防着膜の取り付け手段は、更に、遠隔からの操作により、ロール状に巻いて格納された前記薄膜状の防着膜を取り出すための手段を備えていることが好ましく、又は、前記薄膜状の防着膜は、各回の使用で必要な長さで分離可能にされて、ロール状に巻いて格納されていることが好ましい。
【００１２】
そして、本発明では、更に、前記に記載した真空成膜装置は、有機ＥＬデバイスの基板に蒸着材料を蒸着するための真空成膜装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
以上に述べた本発明によれば、大型の基板に蒸着を行うための成膜装置であって、取り付けや取り外しが容易であることによりメンテナンスの作業性の向上が可能となる防着板により、蒸着材料のチャンバ内壁への蒸着を防止することが可能な真空成膜装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一の実施の形態になる成膜装置を利用した有機ＥＬデバイス製造装置の全体構成を示す上面図である。
【図２】上記有機ＥＬデバイス製造装置の成膜装置である処理チャンバを、隣接する搬送チャンバと共に、その内部構成の一例を示す透視斜視図である。
【図３】上記有機ＥＬデバイス製造装置の成膜装置である処理チャンバの内部詳細構造を示す側面断面図である。
【図４】成膜装置において、内部の清掃のためのメンテナンスを行う際に真空蒸着チャンバから現れるベースプレートと、本発明の特徴である防着膜を示す斜視図である。
【図５】上記ベースプレートの一部に取り付けられる上記防着膜の内部詳細構造を示すための、一部透視図を含む斜視図である。
【図６】上記防着膜をベースプレートの一部への取り付けるための構造の一例を示す断面を含む一部拡大斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施の形態になる成膜装置、特に、有機ＥＬデバイス用の大型の基板に有機ＥＬ材料を蒸着するための成膜装置について、添付の図を参照しながら詳細に説明する。
【００１６】
まず、添付の図１は、本発明の一実施の形態になる成膜装置をその一部に利用した有機ＥＬデバイス製造装置の一例を示しており、図において、当該有機ＥＬデバイス製造装置１は、概略、処理対象（ワーク）である基板６を搬入するロードクラスタ３、基板６をそれぞれ処理する４つのクラスタ(Ａ〜Ｄ)と、隣接するクラスタの間、又は、クラスタＡとロードクラスタ３の間、更には、次工程（例えば、封止工程）との間の設置された、合計、５つの受渡室４とから構成されている。
【００１７】
ロードクラスタ３は、前後に真空を維持するためにゲート弁１０を有するロードロック室３１と、当該ロードロック室３１から基板６を受け取り、これを旋回して受渡室４ａに基板６を搬入する搬送ロボット５Ｒからなる。また、各ロードロック室３１及び各受渡室４は、その前後にゲート弁１０を有し、当該ゲート弁１０の開閉を制御することにより、内部の真空を維持しながら、ロードクラスタ３又は次のクラスタ等に対して、上記基板６を受け渡しする。
【００１８】
各クラスタ（Ａ〜Ｄ）は、一台の搬送ロボット５を有する搬送チャンバ２と、搬送ロボット５から基板を受け取って所定の処理を行う（図面上で上下に配置されている）２つの処理チャンバ１(添え字ａ〜ｄはクラスタを示し、添え字ｕ、ｄは上側下側を示す)を有する。また、搬送チャンバ２と処理チャンバ１の間には、ゲート弁１０が設けられている。
【００１９】
次に、添付の図２は、上述した有機ＥＬデバイス製造装置の一部、特に、搬送チャンバ２と共に、その内部に有機ＥＬ材料を蒸着するための成膜装置を備えた処理（成膜）チャンバ１の構成を示す。なお、ここでは、処理チャンバの構成として、真空中で発光材料を蒸着して基板６上にＥＬ層を形成するための真空蒸着チャンバ１ｂｕが示されている。
【００２０】
真空蒸着チャンバ１ｂｕは、図にも示すように、大別して、発光材料を蒸発させ基板６に蒸着させる蒸着部７と、基板６の必要な部分に蒸着させるアライメント部８と、搬送チャンバ２内の搬送ロボット５との間で基板６の受け渡たしを行い、蒸着部７へ基板６を移動させる処理受渡部９によって構成されている。ここでは、蒸着部７、アライメント部８及び処理受渡部９の概略構成を説明する。
【００２１】
アライメント部８と処理受渡部９は、それぞれ、右側Ｒラインと左側Lラインの２系統が設けられる。処理受渡部９は、搬送ロボット５の櫛歯状ハンド５２と干渉することなく基板６を受渡し可能であり、かつ、基板６を固定する手段を有する基板チャック９１と、前記基板チャック９１を旋回させて基板６を直立させアライメント部８に移動するハンド旋回駆動手段９２を有する。なお、基板６を固定する手段としては、真空中であることを考慮して、例えば、電磁吸着やクリップ等が用いられる。
【００２２】
また、アライメント部８は、マスク８１ｍとフレーム８１ｆとからなるシャドウマスク８１と、ここでは図示しない基板上のアライメントマークによって基板６とシャドウマスク８１とを位置合せするためのアライメント駆動部８３とを有する。
【００２３】
蒸着部７は、蒸着源７１と、当該蒸着源を上下方向に移動させるための蒸着源駆動手段（図示せず）を有する。なお、この蒸着源７１には、内部に蒸着材料である発光材料が充填され、そして、当該蒸着材料を加熱制御することにより、蒸発した有機ＥＬ材料が安定した蒸発速度で得られる。
【００２４】
続いて、添付の図３には、上述した真空蒸着チャンバ１ｂｕのうち、特に、そのＲラインを構成するチャンバ部分の詳細な構成が示されている。
【００２５】
まず、基板６はゲート弁１０を介して処理受渡部９に水平に搬入される。処理受渡部９では水平に搬送されてきた基板６を直立させる。この直立を実行するため、チャンバ内第１ベースプレート８８上にはハンド旋回駆動手段９２の回転アーム９２ａを設け、その先端に直立ベース９５を取り付ける。この直立ベース９５には基板チャック９１が取り付けられている。なお、この例では、直立ベース９５には、気密容器９７に収納されたアライメントカメラ８６も取り付けられている。
【００２６】
アーム９２ａの回転は、紙面上手前に設けた回転アクチュエータ（図示せず）により行なう。具体的には、このアクチュエータの動力を軸９２ｃに伝達させる。なお、図中の参照符号９２ｂは軸受である。
【００２７】
続いて、基板６を直立させた後、アライメントカメラ８６によりマスク８１及び基板６に設けられたアライメントマーク（図示せず）を撮像し、アライメント機構８によりマスク８１を動かし、その後、アライメントが完了した後に、複数のノズルを直線状に配列した蒸着源７１（リニアソース）を揺動させて基板６上に蒸着を施す。
【００２８】
アライメント機構８のアライメント駆動部８３は、真空チャンバ１ｂｕの外周上部に設けられている。アライメント駆動部８３は紙面奥行き（Ｙ）方向と上下（Ｚ）方向の２自由度を有する。具体的には、紙面奥行き（Ｙ）方向はアライメントベース８３ｂから吊り下げたアクチュエータ８３ｙにより、上下（Ｚ）方向はＺ軸アクチュエータ８３ｚにより、ロッド８３ｒを、それぞれ、駆動することにより行う。アライメント機構８は、回転対偶である支持機構８９ｓでマスク８１を支持し、チャンバ内の第２ベースプレート８７に設けられたリニアガイド８９ｇと共に、マスクホルダ８９ｈをスムーズに回転摺動させるものである。紙面奥側には、更にもう１セットのアライメント機構８が設けられており、これにより、マスクホルダ８９ｈのＹ方向及びＺ方向の移動、及び、紙面に垂直な面における回転を制御してアライメントを行なう。
【００２９】
次に、上記真空チャンバ１ｂｕの奥側に、即ち、上記チャンバ内の第１ベースプレート８８及び第２ベースプレート８７の奥側に設けられた、基板に蒸着を施すための蒸着源駆動装置７０について、詳細に説明する。この蒸着源駆動装置７０は蒸着源７１を紙面上下方向に移動させる上下駆動機構７２と、紙面奥行き方向に移動させる左右駆動機構７４からなる。
【００３０】
上下駆動機構７２は、チャンバ内第３ベースプレート７９上に設置されている。また、真空装置では、駆動源のモータ７２ｍを、その冷却の都合を理由として、真空チャンバ１ｂｕの外周の上部に設置される。当該モータからの動力を真空チャンバ１ｂｕ内に伝達するために、磁性流体シール７２ｓを介してボール螺子７２ｂを回転させ、もって、ナット７８を移動させる。そして、蒸着源台７１ｄの摺動子７２ｐが上下レール７６上を摺動し、これに伴い、蒸着源台の蒸着源７１が上下に移動される。なお、ナット７８は、蒸着源７１を載置する蒸着源台７１ｄの中央部から突き出た連結棒７８ｒの先端に設けられている。基板６の蒸着時においては、蒸着源７１はマスク開口領域８１ａの範囲を上下している。磁性流体シール７２ｓが真空チャンバ壁１ｈの変形で傾く場合、モータ７２ｍと磁性流体シール７２ｓの間、及び、磁性流体シール７２ｓとボール螺子７２ｎの間に、軸間の変位や角度誤差を吸収するカップリング７２ｃを設けることで、スムーズな動力の伝達が可能になる。
【００３１】
次に、左右駆動手段７４について説明する。左右駆動手段７４は、左右駆動ベース７４ｋや上下レール７６等を一体にして、左右レール７５上を左右（この図では図面奥行き方向）に移動させ、蒸着源７１をＲライン、Ｌラインに亘って移動させる。左右駆動手段７４は、基本的には、上下駆動手段７２と同様な機構を有しており、左右レール７５やボール螺子７４ｂは、下壁１ｈ上に設けられた複数のチャンバ内ベース７４ｄ上において、Ｒライン、Ｌラインに亘って設置されている。また、真空装置では駆動源のモータ（図示せず）は、上下駆動手段７２と同様に、冷却の都合から真空チャンバ１ｂｕの外部（紙面手前側、図示せず）に設置する。このモータ動力を真空チャンバ１ｂｕ内に伝達するのに、上下駆動手段７２と同様に、磁性流体シールや軸間の変位や角度誤差を吸収するカップリングを介してボール螺子７４ｂを回転させる。ボール螺子７４ｂを回転により、左右駆動ベース７４ｋに固定されたナット７４ｎが移動し、これに伴い、左右駆動ベース７４ｋに固定された摺動子７４ｓが左右レール７５上を移動する。
【００３２】
左右への移動時、即ち、ＲラインとＬライン間の移動時において、上下駆動機構７２の構成から解かるように、上下駆動機構７２は移動しないし、ボール螺子７２ｂも移動しない。即ち、上下駆動手段７２は、Ｒライン及びＬラインにそれぞれ独立して設けられている。従って、両ラインの上下駆動機構７２のボール螺子７２ｂと蒸着源台７１ｄの中央部から突き出た連結棒７８ｒの先端に設けたナット７８が係合しかつ離脱する係合離脱機構が必要である。
【００３３】
また、図３に引き出し線で示した一部拡大部図Ａは、係合離脱機構を有するナット７８の一実施例を示した図である。ナット７８は左右に突出た半円形部７８Ｒ、７８Ｌを有している。その半円形部には上下駆動機構７２のボール螺子７２ｂと係合する螺子が切られている。そこで、左右駆動機構７４によりナット７８がＲラインに来ると、半円形部７８ＲがＲラインの上下駆動機構のボール螺子７２ｂと係合し、また、Ｌラインに来ると、半円形部７８ＬがＬラインの上下駆動機構のボール螺子７２ｂと係合する。これらの結果、上下駆動機構７２、特に、モータ７２ｍを移動させることなく、簡単な機構でＲ、Ｌラインで基板の全面に蒸着することができる。
【００３４】
なお、上述した真空蒸着チャンバ１ｂｕは、そのメンテナンス時には、上記図３における一点鎖線Ｂ−Ｂで示す面において左右に分離可能になっている。なお、近年における大型表示装置で使用される、例えば、有機ＥＬデバイス等のための大型基板に有機ＥＬ材料を蒸着するための装置では、当該基板の大型化に伴い、真空蒸着チャンバ内に配置される蒸着装置も大型化している。
【００３５】
ここで、添付の図４は、内部の清掃のためのメンテナンスを行う際に、上記の一点鎖線Ｂ−Ｂ面で左右に分離した真空蒸着チャンバ１ｂｕを、上述した蒸着源駆動装置７０が設けられた側（上記図３の右側）から見た場合の様子を示している。その際、真空蒸着チャンバ１ｂｕの分離面には、図にも示すように、上述したチャンバ内の第１ベースプレート８８と第２ベースプレート８７とが現れる。
【００３６】
なお、蒸着作業時においては、上記真空蒸着チャンバ１ｂｕの内部では、蒸着源７１で蒸発した有機ＥＬ材料が、当該図示の面に向かって供給されることにより、基板上に有機ＥＬ材料が蒸着される。その際、蒸発した有機ＥＬ材料は、マスクを介して、基板の表面だけではなく、その周囲にも飛散してしまい、装置の機構部やチャンバの内壁へも付着してしまうが、特に、上述したチャンバ内の第１ベースプレート８８と第２ベースプレート８７の表面、即ち、その略中央の開口部（当該開口部には、上記のマスクが取り付けられた基板の表面が露出される）の周囲の壁面に、多くが付着することとなる。
【００３７】
本発明では、上述したように、蒸発した有機ＥＬ材料が付着する壁面に、防着膜１００を設けると共に、当該防着膜１００を、メンテナンス時において容易に交換可能な構造とするものである。なお、その際、特に、上述した基板の大型化に伴う蒸着装置の大型化によれば、その略中央に開口部（基板表面の露出部）有する壁面を形成する上記第１ベースプレート８８と第２ベースプレート８７の合計した高さは、その基礎部分から測定して、例えば、人間の平均的な身長を越えて、例えば、３ｍを越えて、場合によっては５ｍにも達し、危険な高所作業が必要となる場合がある。そのため、防着膜１００を交換する作業は、特にその上部においては、作業者の安全等を考慮した場合には、危険で難しい作業となっている。そこで、簡単で安全な作業によって交換可能な、即ち、メンテナンスの作業性を向上することの可能な防着膜１００が求められていた。
【００３８】
そこで、本発明では、当該防着膜１００を、ロールシート状として装置内の壁面に取り付け、これを、適宜、引き延ばして、必要な壁面に取り付けることを可能とするものである。なお、このロールシート状の部材としては、例えば、金属の薄膜や樹脂の薄膜を採用することが出来る。
【００３９】
添付の図５には、上述した防着膜１００のより詳細な例が示されている。なお、図５（Ａ）は、上記図４において、特に、上部の壁面を形成する第２ベースプレート８７の表面に引き延ばして取り付けられる防着膜１００を示している。図からも明らかなように、薄膜状の防着膜１００が芯材１０１の上に巻かれており、そして、当該芯材１０１は、長尺の箱状のケース１０２の内部において、水平方向に、回転可能に収納されている。なお、このケース１０２の一部（本例では、ケースの下面の第２ベースプレート８７との接合面の近傍）に形成されたスリット部１０３が形成されており、当該スリット部１０３を介して内部の薄膜状の防着膜１００をケース１０２の外部に取り出すことが出来る。
【００４０】
また、この芯材１０１の一方の端部には、例えば、傘歯車１０４が取り付けられている。そして、当該傘歯車１０４には、更に、垂直方向に伸びたロッド部１０５の上端部に取り付けられた他の傘歯車１０６が互いに噛合した状態で取り付けられ、かつ、その他端には、所謂、ハンドル１０７が設けられている。かかる構造によれば、有機ＥＬ材料が付着する壁面の高い位置に取り付けられた場合にも、図に矢印で示すように、作業員がハンドル１０７によりロッド部１０５を回転することにより、薄膜状の防着膜１００が巻き付けられた芯材１０１を回転させ、もって、箱状のケース１０２の一部に設けたスリット部１０３を介して、ケース内のロール状にして格納した薄膜状の防着膜１００を取り出し（図中の白抜き矢印を参照）、第２ベースプレート８７の表面、更には、下方の第１ベースプレート８８にまで引き延ばして、その表面に取り付けられることが出来る。
【００４１】
一方、図５（Ｂ）には、上記図４において、壁面の下部を形成する第１ベースプレート８８の表面に引き延ばして取り付けられる防着膜１００を示しており、ここでも上記と同様に、薄膜状の防着膜１００が芯材１０１の上に巻かれており、そして、この芯材１０１は、長尺の箱状のケース１０２’の内部において、水平方向に、回転可能に収納されている。但し、当該ケース１０２’は、上記図５（Ａ）に示したものとは異なり、有機ＥＬ材料が付着する壁面の低い位置に取り付けられることから、上述した一対の傘歯車、ロッド部、ハンドル等を含む機構を設けることなく、スリット部１０３を介して内部の薄膜状の防着膜１００をケースから上方に取り出して（図中の白抜き矢印を参照）、下方に配置された第１ベースプレート８８の表面上で引き延ばして取り付けられることが出来る。
【００４２】
即ち、上述したロールシート状の防着膜１００によれば、先ず、予め、芯材１０１の上に、例えば、数回に亘って使用出来る程度の長さを持つ薄膜状の防着膜１００をロール状に巻いてケース１０２及び１０２’内に格納して、当該ケース１０２及び１０２’を、真空蒸着チャンバ１ｂｕ内部の機構部やチャンバの内壁に加え、上記の図４にも示したように、チャンバ内の第１ベースプレート８８の上端部と、第２ベースプレート８７の下端部に取り付ける。その後、壁面上部に取り付けたケース１０２に格納された防着膜１００については、上述したハンドル等により下方に引き出し（上記図５（Ａ）を参照）、ベースプレートの表面上に引き延ばして固定する。他方、壁面下部に取り付けたケース１０２’に格納された防着膜１００については、直接、ケース１０２’から引き出し（上記図５（Ｂ）を参照）、ベースプレートの表面上に引き延ばして固定する。なお、その際、防着膜１００の先端部等を、例えば、クリップ機構や、磁石のプレート等を利用して壁面上に固定してもよく、又は、添付の図６（Ａ）及び（Ｂ）にも示すように、予め、第２ベースプレート８７の下側面や第１ベースプレート８８の上側面にスリット８７１、８８１を形成しておき、図にも示すように、引き延ばした防着膜１００の先端を当該スリット８７１、８８１内に挿入して固定する等々、様々の固定手段を利用することが可能であろう。
【００４３】
続いて、その後の真空蒸着装置の所定期間の運転により、その内部の清掃が必要となり、所謂、メンテナンスを行う際には、上記図３における一点鎖線Ｂ−Ｂで示す面において真空蒸着チャンバ１ｂｕを左右に分離し、ロール状に巻いて格納されている薄膜状の防着膜１００を、上記と同様にして、ハンドル等により、又は、直接、ケース１０２及び１０２’から取り出して壁面上に固定すると共に、その表面上に有機ＥＬ材料が付着した使用済みの部分については、壁面から引き剥がして破棄する。なお、その際、薄膜状の防着膜１００には、１回分の使用長さ毎に、予め、例えば、ミシン目等を形成しておくことによれば、当該ミシン目を境にして、使用済み部分と新しい部分とが容易に分離することが出来て便利であり、作業性の向上にも大きく貢献することが可能となろう。
【符号の説明】
【００４４】
１ｂｕ…真空蒸着チャンバ、６…基板、７…蒸着部、８…アライメント部、８１ｍ…マスク、９…処理受渡部、８７…第２ベースプレート、８８…第１ベースプレート、１００…防着膜、１０１…芯材、１０２、１０２’…ケース、１０３…スリット部、１０４，１０６…傘歯車、１０７…ハンドル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に設けられ、蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、
前記真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、
前記位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた前記基板の蒸着表面に沿って、前記蒸着源を移動させる手段と、
前記マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置であって、
前記真空チャンバ内において、前記蒸着源から供給されて前記マスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面の一部分に、薄膜状の防着膜を着脱可能に取り付けるための手段を備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項２】
前記請求項１に記載した真空成膜装置において、前記真空チャンバ内における壁面の一部分は、前記マスクと前記蒸着源との間に配置された前記ベースプレートの、前記蒸着源側に面した表面部分であることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項３】
前記請求項２に記載した真空成膜装置において、前記薄膜状の防着膜の取り付け手段は、前記薄膜状の防着膜を、複数回の使用が可能な長さで、ロール状に巻いて格納しており、各回の使用の際には、所定の長さで引き出して、前記蒸着材料が付着する前記真空チャンバ内における壁面の一部分に取り付けられることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項４】
前記請求項３に記載した真空成膜装置において、前記薄膜状の防着膜の取り付け手段は、更に、遠隔からの操作により、ロール状に巻いて格納された前記薄膜状の防着膜を取り出すための手段を備えていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項５】
前記請求項３に記載した真空成膜装置において、前記薄膜状の防着膜は、各回の使用で必要な長さで分離可能にされて、ロール状に巻いて格納されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項６】
前記請求項１〜５の何れか１項に記載した真空成膜装置は、有機ＥＬデバイス又は液晶ディスプレイの基板に蒸着材料を蒸着するための真空成膜装置であることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１】
真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に設けられ、蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、
前記真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、
前記位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた前記基板の蒸着表面に沿って、前記蒸着源を移動させる手段と、
前記マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置であって、
前記真空チャンバ内において、前記蒸着源から供給されて前記マスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面の一部分に、薄膜状の防着膜を着脱可能に取り付けるための手段を備えたことを特徴とする真空成膜装置。
【請求項２】
前記請求項１に記載した真空成膜装置において、前記真空チャンバ内における壁面の一部分は、前記マスクと前記蒸着源との間に配置された前記ベースプレートの、前記蒸着源側に面した表面部分であることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項３】
前記請求項２に記載した真空成膜装置において、前記薄膜状の防着膜の取り付け手段は、前記薄膜状の防着膜を、複数回の使用が可能な長さで、ロール状に巻いて格納しており、各回の使用の際には、所定の長さで引き出して、前記蒸着材料が付着する前記真空チャンバ内における壁面の一部分に取り付けられることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項４】
前記請求項３に記載した真空成膜装置において、前記薄膜状の防着膜の取り付け手段は、更に、遠隔からの操作により、ロール状に巻いて格納された前記薄膜状の防着膜を取り出すための手段を備えていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項５】
前記請求項３に記載した真空成膜装置において、前記薄膜状の防着膜は、各回の使用で必要な長さで分離可能にされて、ロール状に巻いて格納されていることを特徴とする真空成膜装置。
【請求項６】
前記請求項１〜５の何れか１項に記載した真空成膜装置は、有機ＥＬデバイス又は液晶ディスプレイの基板に蒸着材料を蒸着するための真空成膜装置であることを特徴とする真空成膜装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１３−８７３５４（Ｐ２０１３−８７３５４Ａ）
【公開日】平成２５年５月１３日（２０１３．５．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２３１８２７（Ｐ２０１１−２３１８２７）
【出願日】平成２３年１０月２１日（２０１１．１０．２１）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月１３日（２０１３．５．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１０月２１日（２０１１．１０．２１）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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