着色偽造防止構造体および着色偽造防止媒体
【課題】意匠性および／またはセキュリティ性の優れる偽造防止構造体を提供する。
【解決手段】少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、前記レリーフ形成層の片側は可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有するレリーフ構造を有し、前記第１反射層、機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面で設けられ、前記第２反射層はレリーフ構造の凹凸の一部分を覆う任意の領域に設けられ、前記保護層は前記第２反射層の領域のみを覆うように設けられ、かつ前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体。
【解決手段】少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、前記レリーフ形成層の片側は可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有するレリーフ構造を有し、前記第１反射層、機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面で設けられ、前記第２反射層はレリーフ構造の凹凸の一部分を覆う任意の領域に設けられ、前記保護層は前記第２反射層の領域のみを覆うように設けられ、かつ前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造防止および変造防止効果の高い偽造防止構造体および着色偽造防止媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
偽造防止構造体は、有価証券やブランド品、証明書、個人認証媒体等の偽造を防止するために使用され、真性品であることを証明する機能を有する。
【０００３】
近年では、特殊な光学効果を一瞥にて判別可能であることから、回折格子、ホログラム等の光学素子を利用した偽造防止構造体が様々な物品に対して使用されている。光学素子の多くは、回折格子、ホログラムおよびレンズアレイ等の微細構造を含んでいる。これら微細構造は、解析することが困難である。また、微細構造を含む光学素子は電子線描画装置等を用いて製造されるため、優れた偽造防止効果を発揮できる。
【０００４】
しかしながら、銀色の金属光沢を有するホログラムは、パッケージ用途や遊戯用途として市場に出回り、セキュリティ性が低くなりつつある。この状況に対応するため、例えば特許文献１は更に偽造防止効果の高いホログラムとして部分的に反射層を有するホログラムが提案されている。微細パターンの反射層を有するホログラムは偽造が困難とされている。
【０００５】
他方では、銀色以外の鮮やかな色調の金属光沢を有するホログラムの提案もなされている。例えば、特許文献１は所望の色調が得られ、意匠性および／またはセキュリティ性の優れたホログラム構造が提案されている。この方法を用いることで多少の色調を付与することが可能である。しかしながら、高輝度インキ層の反射率はアルミニウム蒸着膜の反射率より低く散乱傾向がある。このため、着色された金属光沢、例えば金や銅のような鮮やかな色調の金属光沢が得られないという欠点がある。
【０００６】
また、特許文献1の方法ではホログラムに対して部分的に着色された反射層を設けることが困難である。これは、着色層をパターン印刷した後に、高輝度インキを着色層に対して高い位置精度で同一パターンの反射層を重ね刷りすることが困難であることに起因する。
【０００７】
また、色鮮やかな反射層として金や銅を真空蒸着法やスパッタ法で形成し、エッチングによりパターニングする方法が考えられる。しかしながら、エッチングにより微細パターンを有する貴金属反射層を設けることは高価で生産性が低い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８-１６２２６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の課題は、意匠性および／またはセキュリティ性の優れる偽造防止構造体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１側面によると、少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、
前記レリーフ形成層の片側は可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有するレリーフ構造を有し、
前記第１反射層、機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面に設けられ、
前記第２反射層はレリーフ構造の凹凸の一部分を覆う任意の領域に設けられ、
前記保護層は前記第２反射層の領域のみを覆うように設けられ、かつ
前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１１】
本発明の第２側面によると、少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、
前記レリーフ形成層の片側は、可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有する、第１レリーフおよび第２レリーフを持つレリーフ構造を有し、
前記第１レリーフ表面は前記第２レリーフ表面と比較して凹凸表面積が小さく、
前記第１反射層および前記機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面に設けられ、
前記第２反射層および保護層は前記第１レリーフの前記機能性薄膜層表面のみを覆うように設けられ、
前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１２】
本発明の第３側面によると、前記第１または第２の側面において、前記第１反射層は、タンタル酸化物、ニオブ酸化物、チタン酸化物、酸化インジウム錫、ジルコニウム酸化物、セリウム酸化物およびハフニウム酸化物の群から選ばれる少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項１または２記載の偽造防止構造体が提供される。
【００１３】
本発明の第４側面によると、前記第１ないし第３の側面のいずれか１つにおいて、前記第１反射層は高屈折微粒子からなる高輝度透明反射塗料により形成されることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１４】
本発明の第５側面によると、前記第１ないし第４の側面のいずれか１つにおいて、前記レリーフ構造は回折構造、ホログラム、集光レンズアレイ、拡散レンズアレイおよび散乱構造の少なくとも1つを少なくとも部分的に同一平面で有することを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１５】
本発明の第６側面によると、前記第１ないし第５の側面のいずれか１つにおいて、少なくとも支持基材に積層された偽造防止構造体であって、前記支持基材上にレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層、保護層および接着層をこの順序で積層したステッカー構成であることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１６】
本発明の第７側面によると、前記第１ないし第５の側面いずれか１つにおいて、少なくとも支持基材を有し、前記支持基材上にレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層、保護層および接着層をこの順序で積層し、かつこの積層物が前記基材に対して剥離可能な転写箔構成であることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１７】
なお、前記第７、第８の側面において、必要に応じて支持基材とレリーフ形成層の間に剥離保護層を設けてもよい。剥離保護層は、支持基材から円滑かつ安定に剥がすための層であり、支持基材に対して離型性が良好な材料を選択すればよい。
【００１８】
本発明の第８側面によると、前記第１ないし第７の側面のいずれか１つの偽造防止構造体を貼付した偽造防止媒体が提供される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、意匠性および／またはセキュリティ性の優れる偽造防止構造体を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】第１実施形態に係る偽造防止構造体を示す断面図である。
【図２】第１実施形態に係る偽造防止構造体の製造工程を示す断面図である。
【図３】第１実施形態に係る偽造防止構造体の別の態ようを示す断面図である。
【図４】第１実施形態に係る偽造防止構造体の別の態ようを示す断面図である。
【図５】第２実施形態に係る偽造防止構造体を示す断面図である。
【図６】第２実施形態に係る偽造防止構造体の製造時の一工程を示す断面図である。
【図７】比較例１の偽造防止構造体の製造時の一工程を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態に係る偽造防止構造体を図面を参照して詳細に説明する。図１は、第１実施形態に係る偽造防止構造体における断面図である。
【００２２】
偽造防止構造体１は、レリーフ形成層２、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５および保護層６をこの順序で積層されている。レリーフ形成層２の片側は、微細凹凸パターンを持つレリーフ構造７を有する。レリーフ構造７は、可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有する。第１反射層３、機能性薄膜層４はレリーフ構造７の凹凸に沿って全面で設けられている。第２反射層５はレリーフ構造７の任意の領域（第１領域）８においてレリーフ構造７の凹凸の一部分を覆って設けられている。保護層６は、第２反射層５のみを覆うように設けられている。
【００２３】
第１領域８は、レリーフ形成層２の凹凸表面に第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５および保護層６がこの順序で積層された領域で、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５からなる３つの層で可視光の少なくとも一部領域を干渉させる、着色反射層が得られる。３つの層は、観察角度によって色調が変化する反射層を得ることも可能で、色鮮やかな反射層を有するレリーフ構造を設計することが可能である。
【００２４】
着色された反射層は、第１領域８部分にのみ存在し、パターン化された第２反射層５のみが着色される。第１領域８において、パターン化された第２反射層５そのものが着色される。その結果、第２反射層５そのものが着色パターンであるため、着色インキをパターン化して印刷し、この着色パターンに合致するように反射層を形成する従来方法のような着色パターンと反射層の間での位置ずれを回避できる。
【００２５】
第２領域９は、第２反射層５および保護層６が存在せず、第１反射層３および機能性薄膜層４からなる領域である。このため、第２領域９においても、レリーフ構造による無彩色の光学効果を得ることが可能である。
【００２６】
なお、３層干渉膜の典型的な理論については特開２０１０−１７５８１２号公報に記載されている。この特許公報は、３層以上の多層干渉膜について記載されている。これに対し、第１実施形態に係る偽造防止構造体では３層干渉膜に限定する。すなわち、反射層の総数を増加させる程、干渉色の反射を増大できる長所がある。しかしながら、この場合には第１領域だけではなく、最上層の反射層が存在しない第２領域も少なくとも２層の反射層が存在するため干渉により着色する問題がある。つまり、５層以上の多層膜では最上層の高屈折反射層が有る部分（第１領域）と無い部分（第２領域）とで、類似の干渉色が生じる。このため、５層以上の多層膜を第１実施形態に係る偽造防止構造体に適用すると、第１領域８と第２領域９が類似の色調傾向となる。
【００２７】
第１実施形態に係る偽造防止構造体は、３層干渉膜に限定することによって第２反射層５が有る部分（第１領域８）では干渉による着色がなされ、第２反射層５が無い部分（第２領域９）で干渉がなく無彩色になり、第１領域８と第２領域９の間で十分な色調差を発現できる。
【００２８】
したがって、第１実施形態に係る偽造防止構造体１は第１領域８における着色反射レリーフ構造と、第２領域９における無彩色反射レリーフによる精密で複雑化した光学効果が得られるために、高い偽造防止効果を発現できる。
【００２９】
次に、第１実施形態に係る偽造防止構造体の製造方法を図２の（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。
【００３０】
１）第１工程
図２の（ａ）に示すように支持基材１１上の全面にレリーフ形成層２を形成する。レリーフ形成層２は、支持基材１１上にコーティング、例えばウェットコーティングすることにより形成できる。また、レリーフ形成層は支持基材自体でもよい。
【００３１】
次いで、凹凸形状を有する金属または樹脂からなるレリーフ原版を用意し、この原版の凹凸形状をレリーフ形成層２の表面に形状転写して凹凸面を持つレリーフ構造７をレリーフ形成層２に形成する（同図２の（ａ）図示）。
【００３２】
形状転写の方法は、後述するプレス法、キャスティング法、フォトポリマー法等の公知の方法や、これらの方法を組み合わせたハイブリッド法であってもよい。
【００３３】
（第２工程）
図２の（ｂ）に示すようにレリーフ形成層２のレリーフ構造７表面に第１反射層３、機能性薄膜層４および第２反射層用薄膜層１２をこの順序で形成する。
【００３４】
第１反射層３、機能性薄膜層４は、公知のウェットコーティングまたはドライコーティングで形成できる。第２反射層用薄膜層１２はドライコーティングで形成することが好ましい。
【００３５】
（第３工程）
第２反射層用薄膜層１２上にエッチングマスクとして機能する保護膜６を形成する。つづいて、保護膜６をマスクとして第２反射層用薄膜層１２をエッチング処理剤で選択的にエッチング除去して第２反射層５を形成する。すなわち、保護膜６下の領域（第１領域８）に第２反射層用薄膜層１２を残して第２反射膜５とし、これ以外の領域（第２領域９）の第２反射層用薄膜層１２を除去する。ここで、エッチングによって第１反射層３を除去しないことが必要である。
【００３６】
具体的には、機能性薄膜層４上に第２反射層用薄膜層１２を全面に形成した後、第２反射層用薄膜層１２上に保護層６を公知のウェット印刷法によって形成する。その後、保護層６をエッチングマスクとして第２反射層用薄膜層１２を選択的にエッチング処理することによって、パターン化した第２反射層５を形成する。
【００３７】
以上の第１工程〜第３工程によって、第１実施形態に係る偽造防止構造体が製造されるが、これに限定されない。 次に、第１実施形態に係る偽造防止構造体を構成する各層の材質、必要な特性、および詳細な製造方法について更に詳しく説明する。
【００３８】
（支持基材）
前述した製造方法で用いる支持基材は、フィルム基材が好ましい。フィルム基材は、微細凹凸パターン（レリーフ構造）の成形時に加えられる熱、圧力、電磁波によって変形、変質の少ない材料を用いることが望ましい。フィルム基材は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン）などのプラスチックフィルムを用いることができる。必要によっては紙や合成紙、プラスチック複層紙や樹脂含浸紙等を支持基材として用いてもよい。
【００３９】
（レリーフ形成層）
レリーフ形成層は、その片面に微細凹凸パターンを持つレリーフ構造を連続的かつ大量に複製することが好ましい。代表的な手法としては、特許第４１９４０７３号公報に記載の「プレス法」、実用新案登録第２５２４０９２号公報に記載の「キャスティング法」、特許第４０８８８８４号公報に記載の「フォトポリマー法」等の形状転写が採用される。
【００４０】
中でも「フォトポリマー法」（２Ｐ法、感光性樹脂法）は、放射線硬化性樹脂をレリーフ型（微細凹凸パターンの復製用型）と平担な基材（プラスチックフィルム等）との間に流し込み放射線で硬化させた後、この硬化膜を基板ごと、複製用型から剥離する方法である。この方法によって高精細な微細凹凸パターンを持つレリーフ構造を得ることができる。このような方法によって得られたレリーフ構造は、熱可塑樹脂を使用する「プレス法」や「キャスト法」に比べて微細凹凸パターンの成形精度が高く、耐熱性や耐薬品性に優れる。
【００４１】
また、新しいレリーフ構造をもつレリーフ形成層の作製方法としては、常温で固体状または高粘度状の光硬化性樹脂を使用して成形する方法や、離型材料を添加する方法もある。
【００４２】
レリーフ形成層に使用される材料は、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂；反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂；メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂を単独もしくはこれらを複合したものを使用できる。微細凹凸パターンが形成可能な材料であれば、前記以外のものも使用できる。
【００４３】
前記フォトポリマー法に適用されるレリーフ形成層の材料は、例えばエチレン性不飽和結合またはエチレン性不飽和基をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を使用できる。モノマーは、例えば１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を使用できる。オリゴマーは、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。ポリマーは、例えばウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂を使用できる。
【００４４】
光カチオン重合を利用するレリーフ形成層の材料は、例えばエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、ビニルエーテル類を使用できる。前記電離放射線硬化性樹脂は、紫外線等の光によって硬化させる場合、光重合開始剤を添加することができる。樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、その併用型（ハイブリッド型）を選定することができる。
【００４５】
なお、エチレン性不飽和結合またはエチレン性不飽和基をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を混合して使用すること、これらに予め反応基を設け、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋材、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネート等で互いに架橋すること、これらに予め反応基を設け、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋材、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネート等で、その他の樹脂骨格と架橋すること、も可能である。このような方法によれば、エチレン性不飽和結合またはエチレン性不飽和基をもつポリマーの使用において、常温にて固形で存在し、タックが少ないために成形性が良好で原版汚れの少ないポリマーを得ることも可能である。
【００４６】
前記光ラジカル重合開始剤は、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、ミヒラーズケトン等を使用できる。
【００４７】
前記光カチオン重合可能な化合物を使用する場合の光カチオン重合開始剤は、例えば芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、混合配位子金属塩等を使用できる。光ラジカル重合と光カチオン重合を併用する、いわゆるハイブリッド型材料の場合、それぞれの重合開始剤を混合して使用できる。また、１種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等を使用できる。
【００４８】
放射線硬化樹脂と光重合開始剤を含む樹脂組成物において、光重合開始剤の配合割合は材料によって適宜選択すればよいが、一般に０．１〜１５質量％配合する。樹脂組成物は、さらに光重合開始剤と組み合わせて増感色素を併用してもよい。樹脂組成物は、必要に応じて染料、顔料、各種添加剤（重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物など）、架橋剤（例えば、エポキシ樹脂など）等を含んでもよい。また、成形性向上のために非反応性の樹脂（前述の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を含む）を添加してもよい。
【００４９】
前述した製造方法において、レリーフ形成層の材料は成型可能なある程度の流動性を有すること、および成型後の塗膜が所望する耐熱性や耐薬品性が得られること、を考慮して選択すればよい。
【００５０】
レリーフ形成層を形成する工程では、コーティング法を利用してよい。その場合には支持基材上にレリーフ形成層の材料をコーティングすればよい。特に、ウェットコーティングであれば低コストで形成できる。また、レリーフ形成層の形成において溶媒で希釈したものを塗布し、乾燥してその厚さを調整してもよい。
【００５１】
レリーフ形成層の厚さは、例えば０．１〜１０μｍの範囲にすることが好ましい。前述したレリーフ形成層の作製方法にもよるが、厚くし過ぎると、レリーフ構造の転写のための加工時の加圧による樹脂のはみ出し、シワの原因となる。他方、薄くし過ぎると、レリーフ構造の転写時における流動性が乏しくなって、十分な成型ができなくなるおそれがある。また、微細凹凸パターンの転写性はその形状によって変化するが、レリーフ形成層の厚さは所望する凹凸深さの１〜１０倍、より好ましくは３〜５倍であることが望ましい。
【００５２】
レリーフ形成層は、所望するレリーフ構造を有するレリーフ原版と接触させた後、必要であれば熱、圧力、電磁波を利用してレリーフ原版の形状をレリーフ形成層の片側に形状転写させる。なお、レリーフ形成層は片側のみならず両側、つまり表裏にレリーフ構造を形成してもよい。
【００５３】
使用するレリーフ原版の製作方法は、公知の方法を利用すればよく、ロール状の原版であれば連続成型が可能である。
【００５４】
（第１反射層）
第１反射層は、電磁波を反射させる機能を有する。支持基材および微細凹凸パターンを持つレリーフ構造を有するレリーフ形成層を透過した光を反射させる場合は、支持基材またはレリーフ形成層の屈折率よりも高い高屈折率材料を使用する。この場合、第１反射層とレリーフ形成層の屈折率の差は、０．２以上であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、レリーフ形成層と第１反射層との界面で屈折および反射が起こる。なお、レリーフ構造を覆う第１反射層は、その微細凹凸構造による光学効果を強調することも可能である。
【００５５】
第１反射層の材料は、例えばＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇなどの金属材料の単体、またはこれらの化合物等を使用することができる。
【００５６】
第１反射層は、透過率が４０％以下であることが好ましい。第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３層干渉膜による干渉色を生じさせることから、第１反射層は透明性を持ち、かつレリーフ形成層および機能性薄膜層に対して０.２以上の屈折率差を有し、両界面において反射を生じさせることが好ましい。
【００５７】
このような透明性を持つ第１反射層は、前述の金属材料の単体または化合物の薄膜から形成することによって実現可能である。
【００５８】
前記金属、化合物以外に透明性を持つ第１反射層として使用できる材料の例を以下に挙げる。カッコ内の数値は屈折率ｎを示す。セラミックスは、例えばＳｂ2Ｏ3（３．０）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（５．０）、ＷＯ3（５．０）、ＳｉＯ（５．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（５．０）、ＭｇＯ（１．０）、ＳｉＯ2（１．４５）、Ｓｉ2Ｏ2（１０）、ＭｇＦ2（４．０）、ＣｅＦ3（１．０）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１．０）、Ａｌ2Ｏ3（１．０）、ＧａＯ（２．０）等を使用できる。有機ポリマーは、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等を使用できる。
【００５９】
第１反射層は、前述した製造方法における第２反射層のパターン加工を施す際に使用するエッチング処理剤に対して耐性を必要とする。例えばエッチング処理剤に対して溶解、腐食、変質、剥離等により第２領域における第１反射層の反射率が変化せず、安定であることが必要であるため、前記材料の中から適宜選択すればよい。場合によっては複数の材料を使用してもよい。
【００６０】
なお、第２領域における第１反射層のエッチング処理剤に対する耐性は、第１反射層を覆うように配置された機能性薄膜層によって強化してよい。つまり、第１反射層がエッチング処理剤に対する耐性が低くても、機能性薄膜層との複層化により第１反射層をエッチング処理剤から保護することによって、第２領域における第１反射層の反射機能の低下を防止できる。
【００６１】
第１反射層は、前述した製造方法においてレリーフ形成層の微細凹凸面に均一な厚さで薄膜形成するために、ドライコーティング法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法を採用することが好ましい。
【００６２】
また、第１反射層は前記金属、セラミックス、または有機ポリマーの微細な粉末やゾルまたは金属ナノ粒子などを有機高分子樹脂に分散して得られる高輝性光反射インキ、有機ポリマーや有機ポリマーの微粒子を使用することもできる。この第１反射層は、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法など公知の印刷法により形成できる。このような印刷方により第１反射層を設ける場合には、乾燥後の膜厚が０．００１〜１０μｍ程度になるように調整すればよい。
【００６３】
（機能性薄膜層）
機能性薄膜層は、支持基材、微細凹凸パターンを持つレリーフ構造を有するレリーフ形成層および第１反射層を透過した光を透過させる機能を有する。また、第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３層干渉膜による干渉色を生じさせることから、機能性薄膜層は３層干渉膜の中間層である。一般的に３層干渉膜は、高屈折層、低屈折層、高屈折層の積層体で構成されるため、中間層の機能性薄膜は第１反射層、第２反射層の屈折率に比べて０.２以上低い屈折率であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、レリーフ形成層と第１反射層との界面で屈折および反射を起こさせることが可能になる。
【００６４】
なお、第２領域においては第１反射層、機能性薄膜層の２つの層の積層であるため、干渉色が得られない。
【００６５】
機能性薄膜層は、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層の３層干渉膜の中間層であるため、透明性の高い低屈折膜であることが好ましい。具体的には機能性薄膜層は第１反射層と同じかまたは低い屈折率を有し、両界面において反射を生じさせることが可能になる。
【００６６】
透明性を持つ機能性薄膜層として使用できる材料の例を以下に挙げる。カッコ内の数値は屈折率ｎを示す。セラミックスは、例えばＳｂ2Ｏ3（３．０）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（５．０）、ＷＯ3（５．０）、ＳｉＯ（５．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（５．０）、ＭｇＯ（１．０）、ＳｉＯ2（１．４５）、Ｓｉ2Ｏ2（１０）、ＭｇＦ2（４．０）、ＣｅＦ3（１．０）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１．０）、Ａｌ2Ｏ3（１．０）、ＧａＯ2（２．０）等を用いることができる。有機ポリマーは、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等を用いることができる。
【００６７】
機能性薄膜層は、３層干渉膜の中間層であり、干渉色をコントロールする光路差調整層の働きをするため、レリーフ形成層の微細凹凸面に沿って均一な厚さで薄膜形成することが好ましい。このため、機能性薄膜層の形成にあたっては気相法（ドライコーティング法）、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等を採用することが好ましい。
【００６８】
（第２反射層）
第２反射層はレリーフ構造に沿って設けられ、レリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層を透過した光を反射させる。第２反射層は機能性薄膜の屈折率よりも高屈折率を持つ材料が使用される。この場合、両層の屈折率の差は、０．２以上であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、機能性薄膜層と第２反射層との界面で屈折および反射を起こさせることが可能になる。
【００６９】
第２反射層の材料は、例えばＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇのような金属材料の単体、またはこれら金属の化合物を使用できる。
【００７０】
前記金属、化合物以外に透明性を持つ第２反射層として使用できる別の材料例を以下に挙げる。カッコ内の数値は屈折率ｎを示す。セラミックスは、例えばＳｂ2Ｏ3（３．０）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（５．０）、ＷＯ3（５．０）、ＳｉＯ（５．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（５．０）、ＭｇＯ（１．０）、ＳｉＯ2（１．４５）、Ｓｉ2Ｏ2（１０）、ＭｇＦ2（４．０）、ＣｅＦ3（１．０）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１．０）、Ａｌ2Ｏ3（１．０）、ＧａＯ（２．０）を使用することができる。有機ポリマーは、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）を使用することができる。
【００７１】
第２反射層は、前述した製造方法において例えばエッチング処理剤で溶解、腐食、又は変質により反射率または透明性を変化させることでパターン化することを考慮し、前記材料の中から適宜選択すればよい。場合によっては複数の材料を使用してもよい。なお、第２反射層をパターン化する際には第１反射層の反射効果を低下させない材料および工程を適宜選択することが好ましい。
【００７２】
第２反射層を溶解により反射率または透過率を変化させる方法は、前述した金属または金属酸化物からなる第２反射層をウェットエッチング処理する方法が採用できる。エッチングに使用する処理剤は、公知の酸やアルカリ、有機溶剤や酸化剤、還元剤などを使用することができる。第２反射層の材料によっては、ドライエッチング法を利用してもよい。このような第２反射層のパターン化工程においても、第２反射層のみがパターン化され、第１反射層には変化が無いことが好ましい。
【００７３】
第２反射層を変質により反射率または透過率を変化させる方法は、例えば銅から作られる第２反射層を酸化剤により酸化させて酸化第一銅に変化させる、アルミニウムから作られる第２反射層を酸化剤によって酸化させてベーマイトに変化させる、等の方法を採用できる。このような第２反射層のパターン化工程においても、第２反射層のみがパターン化され、第１反射層には変化が無いことが好ましい。
【００７４】
第２反射層の溶解特性や変質特性を変化させる方法以外にも、屈折率、反射率、透過率などの光学特性や、耐候性、層間密着性などの実用耐久性を変化させることも可能である。
【００７５】
第２反射層は、前述した製造方法においてレリーフ形成層の微細凹凸面に均一な厚さで薄膜形成するために、ドライコーティング法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法を採用することが好ましい。
【００７６】
（保護層）
保護層は、光透過性を有すると共に第２反射層をパターン形成する際のマスク層として機能する。
【００７７】
保護層に用いる材料は、第２反射層をエッチングする際のエッチング処理剤に対して耐性を持つ材料を使用すればよく、耐性が確保できるような膜厚で設ければよい。例えば、印刷のようなウェットコーティングで保護層を形成する場合には例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が使用できる。具体的には、アクリル樹脂やポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂を挙げることができる。また、滑剤、例えばポリエチレンパウダー、カルナバロウ等のワックスを添加してもよい。滑剤は、白濁しない程度の２０重量部までの量で添加することが可能である。このような樹脂は、溶媒で希釈することにより適切な粘度にしてウェットコーティングに適用される。他方、ドライコーティングで保護層を形成する場合には、例えばシリカ、アルミナのような透明な無機材料が用いられる。これら以外の保護層の材料は、感光性樹脂を使用できる。
【００７８】
図１に示す偽造防止構造体の保護層は、前記ウェットコーティングで形成することが好ましい。
【００７９】
保護層を用いた第２反射層のパターン形成法は、前述したように溶解、腐食もしくは変質により第２反射層の反射率または透明性を変化させることによってパターン形成する方法を採用できる。
【００８０】
典型的には、ウェットエッチングやドライエッチングが想定され、このような第２反射層のパターン形成方法では残存させる部分の第２反射層パターン部分に保護層を形成すればよい。
【００８１】
以上、第１実施形態に係る偽造防止構造体を構成する各層について詳細に説明したが、傷つき防止のために最表面に表面保護膜を設けること、光学特性を向上させるために最表面に反射膜を設けることも可能である。なお、表面保護膜または反射膜は公知のコーティング方法を使用することが可能である。
【００８２】
また、層間の密着を向上させるために、コロナ処理、フレーム処理、プラズマ処理、プライマー塗工を施すこと、光学特性を向上させるために最表層に反射防止処理を付与することが可能である。
【００８３】
さらに、意匠性を向上させるために、層を着色すること、反射層を多層構成にすることで、多層干渉膜としてもよい。
【００８４】
次に、第１実施形態に係る偽造防止構造体の別の態様を図３および図４を参照して説明する。なお、前述した図１と同様な部材は同符号を付して説明を省略する。
【００８５】
図３は、偽造防止ステッカーを示す断面図である。偽造防止ステッカー２１は、支持基材２２、レリーフ形成層２、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５、保護層６、接着層２３をこの順で積層した構造を有するである。
【００８６】
前記構造の偽造防止ステッカー２１は、レリーフ形成層２、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５、保護層６を別の基材（被転写体）に転写するときに使用され、接着層２３は別の基材に接着するために用いられる。転写後には支持基材２１を剥離することもできる。
【００８７】
このような偽造防止ステッカー２１の使用により偽造防止構造体が貼着された偽造防止媒体を得ることが可能になる。
【００８８】
図４は、偽造防止転写箔を示す断面図である。偽造防止転写箔３１は、剥離可能な支持基材３２、レリーフ形成層２、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５、保護層６、接着層３３をこの順で積層した構造を有する。
【００８９】
前記偽造防止転写箔３１は、熱ロール、熱板等の加熱媒体を支持基材３２に圧接し、転写温度に加熱して被転写体である別の基材に接着層を圧着させると共に支持基材３２とレリーフ形成層２の界面で支持基材３２を剥離する。
【００９０】
このような偽造防止転写箔３１の使用により被転写体に偽造防止構造体が貼着された偽造防止媒体を得ることが可能になる。
【００９１】
前述した図３、図４の偽造防止構造体において、必要に応じて支持基材とレリーフ形成層の間に剥離保護層を設けてもよい。剥離保護層は、支持基材から円滑かつ安定に剥がすための層である。このため、剥離保護層は支持基材に対して離型性が良好な材料から作られる。
【００９２】
なお、偽造防止ステッカーおよび偽造防止転写箔に用いられる支持基材は前述したようにフィルム基材が好ましい。フィルム基材は、微細凹凸パターン（レリーフ構造）の成形時に加えられる熱、圧力、電磁波によって変形、変質の少ない材料を用いることが望ましい。フィルム基材は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン）などのプラスチックフィルムを用いることができる。必要によっては紙や合成紙、プラスチック複層紙や樹脂含浸紙等を支持基材として用いてもよい。
【００９３】
（第２実施形態）
図５は、第２実施形態に係る偽造防止構造体を示す断面図である。
【００９４】
偽造防止構造体４１は、レリーフ形成層４２、第１反射層４３、機能性薄膜層４４、第２反射層４５、保護層４６をこの順で積層した構造を有する。レリーフ形成層４２の片側は可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有する、微細凹凸パターンを持つ第１レリーフ４７および第２レリーフ４８を持つレリーフ構造を有する。第１レリーフ４７表面は第２レリーフ４８表面と比較して凹凸表面積が小さくなっている。つまり、第１レリーフ４７は凹部、凸部がなだらかな形状を有し、凹凸の間隔は広くなっている。他方、第２レリーフ４８は第１レリーフ４７に比べて凹部、凸部が急峻な形状を有し、第１レリーフ４７に比べて凹凸の間隔が狭くなっている。
【００９５】
第１反射層４３および機能性薄膜層４４は、レリーフ構造（第１、第２のレリーフ４７，４８）の微細な凹凸面に沿って全面に設けられている。第２反射層４５および保護層４６は第１レリーフ４７の機能性薄膜層４４表面のみを覆うように設けられている。
【００９６】
すなわち、第１領域４９はレリーフ形成層４２の第１レリーフ４７の凹凸表面に第１反射層４３、機能性薄膜層４４、第２反射層４５および保護層４６がこの順序で積層された領域で、第１反射層４３、機能性薄膜層４４、第２反射層４５からなる３つの層で可視光の少なくとも一部領域を干渉させる、着色反射層が得られる。３つの層は、観察角度によって色調が変化する反射層を得ることも可能で、色鮮やかな反射層を有するレリーフ構造を設計することが可能である。
【００９７】
着色された反射層は、第１領域４９にのみ存在し、パターン化された第２反射層４５のみが着色される。第１領域４９において、パターン化された第２反射層４５そのものが着色される。その結果、第２反射層４５そのものが着色パターンであるため、着色インキをパターン化して印刷し、この着色パターンに合致するように反射層を形成する従来方法のような着色パターンと反射層の間での位置ずれを回避できる。
【００９８】
第２領域５０は、レリーフ形成層４２の第２レリーフ４８の微細な凹凸表面に第１反射層４３および機能性薄膜層４４のみを積層し、第２反射層４５および保護層４６が存在しない領域である。このため、第２領域５０においても、レリーフ構造による無彩色の光学効果を得ることが可能である。
【００９９】
また、第１領域４９と第２領域５０はレリーフ構造が異なる（第１領域４９：第１レリーフ４７、第２領域５０：第２レリーフ４８、凹凸表面積：第１レリーフ４７表面＜第２レリーフ４８表面）ために、異なる光学効果を得ることが可能である。例えば両構造が回折格子のレリーフで、凹凸表面積が異なるため、異なるカラーチェンジ効果の領域となる。
【０１００】
さらに、偽造防止構造体４１は第１領域４９と第２領域５０の境界が異なるレリーフ構造の境界であることから、第２反射層４５のパターンと着色されたパターンと第１領域４９のレリーフ構造のパターン（第１レリーフ４７）との間に位置ずれがない。
【０１０１】
したがって、第２実施形態に係る偽造防止構造体４１は第１領域４９における着色反射レリーフ構造と、第２領域５０における無彩色反射レリーフ、または第１、第２の領域４９，５０間の異なるカラーチェンジ効果によって、一層精密で複雑な光学効果が得られるため、さらに高い偽造防止効果を発現できる。
【０１０２】
次に、第２実施形態に係る偽造防止構造体の製造方法を説明する。
【０１０３】
１）第１工程
支持基材上の全面にレリーフ形成層を形成する。レリーフ形成層は、支持基材上にコーティング、例えばウェットコーティングすることにより形成できる。また、レリーフ形成層は支持基材自体でもよい。
【０１０４】
次いで、凹凸形状を有する金属または樹脂からなるレリーフ原版を用意し、この原版の凹凸形状をレリーフ形成層の表面に形状転写して凹凸を持つ第１レリーフおよび第２レリーフを持つレリーフ構造をレリーフ形成層に形成する。ここで、第１レリーフ表面は第２レリーフ表面と比較して凹凸表面積が小さくなっている。つまり、第１レリーフはその凹凸の間隔が第２レリーフの凹凸の間隔より広くなっている。
【０１０５】
形状転写の方法は、前記第１実施形態で説明したプレス法、キャスティング法、フォトポリマー法等の公知の方法や、これらの方法を組み合わせたハイブリッド法であってもよい。
【０１０６】
（第２工程）
レリーフ形成層のレリーフ構造表面に第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層用薄膜層をこの順序で形成する。
【０１０７】
第１反射層、機能性薄膜層は、公知のウェットコーティングまたはドライコーティングで形成できる。第２反射層用薄膜層はドライコーティングで形成することが好ましい。
【０１０８】
（第３工程）
第２反射層用薄膜層上にエッチングマスクとして機能する保護膜を形成する。つづいて、保護膜をマスクとして第２反射層用薄膜層をエッチング処理剤で選択的にエッチング除去して第２反射層を形成する。すなわち、保護膜下の領域（第１領域４９）に第２反射層用薄膜層を残して第２反射膜を形成し、これ以外の領域（第２領域５０）の第２反射層用薄膜層を除去する。ここで、エッチングによって第１反射層を除去しないことが必要である。
【０１０９】
以上の第１工程〜第３工程によって、第２実施形態に係る偽造防止構造体が製造されるが、これに限定されない。 前記保護膜および第２反射膜のパターン化は、次のような別の方法によっても形成することが可能である。これを図６を参照して説明する。機能性薄膜層４４上に第２反射層用薄膜層５１を真空蒸着法やスパッタ法などの気相法によって全面に形成した後、保護膜４６を真空蒸着法やスパッタ法などの気相法によって全面に形成する。このとき、図６に示すようにレリーフ形成層４２のレリーフ構造は第１レリーフ４７およびこのレリーフ４７より凹凸の間隔が狭い第２レリーフ４８を有するため、第２反射層用薄膜層５１および保護層４６は第１レリーフ４７が位置する第１領域４９において十分な厚さで形成され、他方第２レリーフ４８が位置する第２領域５０において凹凸形状の凸部先端のみに薄く形成される。このため、その後の全面エッチング処理を施すと、第２領域５０の凹凸形状の凸部先端のみに薄く形成された保護層４６および第２反射層用薄膜層５１が優先的にエッチング除去され、第１領域４９のみに第２反射層用薄膜層５１（第２反射層４５として機能する）および保護層４６が残存してパターン形成される。
【０１１０】
前記保護層４６の材料はシリカ、アルミナのような透明無機材料を用いる。
【０１１１】
このような方法によると、予め設定した第１、第２のレリーフ４７，４８の形状に従って、第１レリーフ（第１領域）に第２反射層４５（および保護層４６）をセルファラインで形成できるため、第１領域にのみ着色を施すことが可能で、かつ第１領域と第２領域の異なるレリーフの光学効果を得ることが可能である。
【０１１２】
なお、第２実施形態に係る偽造防止構造体を構成する各層の材質、必要な特性は第１実施形態で説明したのと同様である。
【０１１３】
また、第２実施形態に係る偽造防止構造体は前述した図３（偽造防止ステッカー）および図４（偽造防止転写箔）のような別の態様であってもよい。このような偽造防止ステッカーおよび偽造防止転写箔の使用により偽造防止構造体が貼着された偽造防止媒体を得ることが可能になる。
【０１１４】
以下、本発明の実施例を説明する
（実施例１）
実施例１は、図３の構成を代表例として説明する。厚さ２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる支持体１１に下記組成物からなるインキを乾燥後の膜厚が２μｍとなるように塗布、乾燥してレリーフ形成層２を形成した。つづいて、レリーフ形成層２表面にロールエンボス法により回折格子のレリーフパターンを形成した。レリーフ形成層２に酸化チタン（ＴｉＯ2）を真空蒸着してレリーフパターンに沿う５０ｎｍの膜厚の第１反射層３を形成し、さらに第１反射層３上にシリカ（ＳｉＯ2）を真空蒸着して１３０ｎｍの膜厚の機能性薄膜層４を形成した。ひきつづき、機能性薄膜層４上にアルミニウムを真空蒸着して５０ｎｍの膜厚のアルミニウム層を形成した。次いで、アルミニウム層上に下記組成物からなるインキをグラビア印刷法にて印刷し、星型パターンの保護層６を形成した。保護層６の厚さは乾燥膜厚で1μｍとした。その後、保護層６をエッチングマスクとしてアルカリエッチング処理を施して露出したアルミニウム層部分をエッチングして星型パターンの第２反射層５を形成した。その後、保護層６を含む機能性薄膜層４上に下記組成物からなるインキをグラビア印刷法で印刷し、乾燥して膜厚３μｍの接着層２３を形成し、偽造防止ステッカー２１を得た。
【０１１５】
「レリーフ形成層インキ組成物」
アクリル樹脂 ２０．０重量部
メチルエチルケトン ５０．０重量部
酢酸エチル ３０．０重量部
「保護層インキ組成物」
ポリアミド樹脂 ２０．０重量部
エタノール ５０．０重量部
トルエン ３０．０重量部
「接着層インキ組成物」
アクリル粘着剤 ５０重量部
シリカ １０重量部
メチルエチルケトン ４０重量部
（比較例１）
図７の（ａ）に示すように支持基材１０１上に下記組成物からなるインキをグラビア印刷法にて印刷し星型パターンの着色層１０２を形成した。つづいて、着色層１０２を含む基材１０１上に実施例１と同様な方法によりレリーフ形成層１０３を形成し、レリーフ形成層１０３の片面に微細な凹凸を持つレリーフ構造１０４を形成した。ひきつづき、レリーフ形成層１０３にアルミニウムを真空蒸着して５０ｎｍの膜厚のアルミニウム層（図示せず）を形成した。次いで、アルミニウム層上に実施例１と同様な保護層インキ組成物をグラビア印刷法にて印刷し、星型パターンの保護層１０５を形成した。保護層１０５の厚さは乾燥膜厚で1μｍとした。次いで、保護層１０５をエッチングマスクとしてアルカリエッチング処理を施して露出したアルミニウム層部分をエッチングして反射層１０６を形成した（図７の（ｂ）図示）。その後、図示しないが実施例１と同様に保護層を含むレリーフ形成層の凹凸面に実施例１と同様な接着層インキ組成物をグラビア印刷法で印刷し、乾燥して膜厚３μｍの接着層を形成し、偽造防止ステッカーを得た。
【０１１６】
なお、星型パターンの着色層と星型パターンの保護層は、グラビア印刷機の追い刷り（重ね見当印刷）により見当を極力合わせた。
【０１１７】
「パターン着色層インキ組成物」
ウレタン印刷インキ／黄色 ５０．０重量部
メチルエチルケトン ２５．０重量部
酢酸エチル ２５．０重量部
得られた実施例１および比較例１の偽造防止ステッカーについて偽造防止性の評価を行った。
【０１１８】
［偽造防止性の評価］
マイクロスコープによる拡大写真を撮影した後、写真画像解析ソフトによって星型パターンの「着色反射層面積」と「反射層面積（実施例１は第２反射層面積、比較例１は反射層面積）」との面積比率（着色反射層面積ｍｍ2／反射層面積ｍｍ2（実施例１は第２反射層面積、比較例１は反射層面積））を評価した。また、マイクロスコープによる拡大写真を撮影した後に、写真画像解析を行い、「着色反射層面積」と「第２反射層面積」との位置ズレ幅（ｍｍ）を測定した。
【０１１９】
面積比率（ｍｍｍ2／ｍｍｍ2）、位置ズレ幅（ｍｍ）は、それぞれ２０箇所を測定し、平均値と最大値を求めた。
【０１２０】
その結果を下記表１に示す。
【表１】
【０１２１】
前記表１から明らかなように実施例１の偽造防止構造体は、面積比率１．００、位置ズレが０．００ｍｍ（測定限界以下の０．０１ｍｍ未満）で良好であるのに対し、比較例１の偽造防止構造体は面積比率１．０２、最大で１．００ｍｍの位置ズレが生じる。
【０１２２】
また、比較例１の偽造防止構造体の目視観察においても、反射層に対する着色層のズレが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１２３】
本発明によれば、意匠性が高く、セキュリティ性が高い偽造防止構造体に関し、所望の色調の反射層を任意のパターンで設けることが可能であり、意匠性及び／又はセキュリティ性の優れる偽造防止構造体を提供することが可能であることから、有価証券やブランド品、証明書、個人認証媒体等に利用することが可能である。
【符号の説明】
【０１２４】
１，４１…偽造防止構造体，２，４２…レリーフ形成層，３，４３…第１反射層，４，４４…機能性薄膜層，５，４５…第２反射層，６，４６…保護層，８，４９…第１領域，９，５０…第２領域，４７…第１レリーフ、４８…第２レリーフ、１１，２２，３２…支持基材。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造防止および変造防止効果の高い偽造防止構造体および着色偽造防止媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
偽造防止構造体は、有価証券やブランド品、証明書、個人認証媒体等の偽造を防止するために使用され、真性品であることを証明する機能を有する。
【０００３】
近年では、特殊な光学効果を一瞥にて判別可能であることから、回折格子、ホログラム等の光学素子を利用した偽造防止構造体が様々な物品に対して使用されている。光学素子の多くは、回折格子、ホログラムおよびレンズアレイ等の微細構造を含んでいる。これら微細構造は、解析することが困難である。また、微細構造を含む光学素子は電子線描画装置等を用いて製造されるため、優れた偽造防止効果を発揮できる。
【０００４】
しかしながら、銀色の金属光沢を有するホログラムは、パッケージ用途や遊戯用途として市場に出回り、セキュリティ性が低くなりつつある。この状況に対応するため、例えば特許文献１は更に偽造防止効果の高いホログラムとして部分的に反射層を有するホログラムが提案されている。微細パターンの反射層を有するホログラムは偽造が困難とされている。
【０００５】
他方では、銀色以外の鮮やかな色調の金属光沢を有するホログラムの提案もなされている。例えば、特許文献１は所望の色調が得られ、意匠性および／またはセキュリティ性の優れたホログラム構造が提案されている。この方法を用いることで多少の色調を付与することが可能である。しかしながら、高輝度インキ層の反射率はアルミニウム蒸着膜の反射率より低く散乱傾向がある。このため、着色された金属光沢、例えば金や銅のような鮮やかな色調の金属光沢が得られないという欠点がある。
【０００６】
また、特許文献1の方法ではホログラムに対して部分的に着色された反射層を設けることが困難である。これは、着色層をパターン印刷した後に、高輝度インキを着色層に対して高い位置精度で同一パターンの反射層を重ね刷りすることが困難であることに起因する。
【０００７】
また、色鮮やかな反射層として金や銅を真空蒸着法やスパッタ法で形成し、エッチングによりパターニングする方法が考えられる。しかしながら、エッチングにより微細パターンを有する貴金属反射層を設けることは高価で生産性が低い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８-１６２２６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の課題は、意匠性および／またはセキュリティ性の優れる偽造防止構造体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１側面によると、少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、
前記レリーフ形成層の片側は可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有するレリーフ構造を有し、
前記第１反射層、機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面に設けられ、
前記第２反射層はレリーフ構造の凹凸の一部分を覆う任意の領域に設けられ、
前記保護層は前記第２反射層の領域のみを覆うように設けられ、かつ
前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１１】
本発明の第２側面によると、少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、
前記レリーフ形成層の片側は、可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有する、第１レリーフおよび第２レリーフを持つレリーフ構造を有し、
前記第１レリーフ表面は前記第２レリーフ表面と比較して凹凸表面積が小さく、
前記第１反射層および前記機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面に設けられ、
前記第２反射層および保護層は前記第１レリーフの前記機能性薄膜層表面のみを覆うように設けられ、
前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１２】
本発明の第３側面によると、前記第１または第２の側面において、前記第１反射層は、タンタル酸化物、ニオブ酸化物、チタン酸化物、酸化インジウム錫、ジルコニウム酸化物、セリウム酸化物およびハフニウム酸化物の群から選ばれる少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項１または２記載の偽造防止構造体が提供される。
【００１３】
本発明の第４側面によると、前記第１ないし第３の側面のいずれか１つにおいて、前記第１反射層は高屈折微粒子からなる高輝度透明反射塗料により形成されることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１４】
本発明の第５側面によると、前記第１ないし第４の側面のいずれか１つにおいて、前記レリーフ構造は回折構造、ホログラム、集光レンズアレイ、拡散レンズアレイおよび散乱構造の少なくとも1つを少なくとも部分的に同一平面で有することを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１５】
本発明の第６側面によると、前記第１ないし第５の側面のいずれか１つにおいて、少なくとも支持基材に積層された偽造防止構造体であって、前記支持基材上にレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層、保護層および接着層をこの順序で積層したステッカー構成であることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１６】
本発明の第７側面によると、前記第１ないし第５の側面いずれか１つにおいて、少なくとも支持基材を有し、前記支持基材上にレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層、保護層および接着層をこの順序で積層し、かつこの積層物が前記基材に対して剥離可能な転写箔構成であることを特徴とする偽造防止構造体が提供される。
【００１７】
なお、前記第７、第８の側面において、必要に応じて支持基材とレリーフ形成層の間に剥離保護層を設けてもよい。剥離保護層は、支持基材から円滑かつ安定に剥がすための層であり、支持基材に対して離型性が良好な材料を選択すればよい。
【００１８】
本発明の第８側面によると、前記第１ないし第７の側面のいずれか１つの偽造防止構造体を貼付した偽造防止媒体が提供される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、意匠性および／またはセキュリティ性の優れる偽造防止構造体を提供することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】第１実施形態に係る偽造防止構造体を示す断面図である。
【図２】第１実施形態に係る偽造防止構造体の製造工程を示す断面図である。
【図３】第１実施形態に係る偽造防止構造体の別の態ようを示す断面図である。
【図４】第１実施形態に係る偽造防止構造体の別の態ようを示す断面図である。
【図５】第２実施形態に係る偽造防止構造体を示す断面図である。
【図６】第２実施形態に係る偽造防止構造体の製造時の一工程を示す断面図である。
【図７】比較例１の偽造防止構造体の製造時の一工程を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態に係る偽造防止構造体を図面を参照して詳細に説明する。図１は、第１実施形態に係る偽造防止構造体における断面図である。
【００２２】
偽造防止構造体１は、レリーフ形成層２、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５および保護層６をこの順序で積層されている。レリーフ形成層２の片側は、微細凹凸パターンを持つレリーフ構造７を有する。レリーフ構造７は、可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有する。第１反射層３、機能性薄膜層４はレリーフ構造７の凹凸に沿って全面で設けられている。第２反射層５はレリーフ構造７の任意の領域（第１領域）８においてレリーフ構造７の凹凸の一部分を覆って設けられている。保護層６は、第２反射層５のみを覆うように設けられている。
【００２３】
第１領域８は、レリーフ形成層２の凹凸表面に第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５および保護層６がこの順序で積層された領域で、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５からなる３つの層で可視光の少なくとも一部領域を干渉させる、着色反射層が得られる。３つの層は、観察角度によって色調が変化する反射層を得ることも可能で、色鮮やかな反射層を有するレリーフ構造を設計することが可能である。
【００２４】
着色された反射層は、第１領域８部分にのみ存在し、パターン化された第２反射層５のみが着色される。第１領域８において、パターン化された第２反射層５そのものが着色される。その結果、第２反射層５そのものが着色パターンであるため、着色インキをパターン化して印刷し、この着色パターンに合致するように反射層を形成する従来方法のような着色パターンと反射層の間での位置ずれを回避できる。
【００２５】
第２領域９は、第２反射層５および保護層６が存在せず、第１反射層３および機能性薄膜層４からなる領域である。このため、第２領域９においても、レリーフ構造による無彩色の光学効果を得ることが可能である。
【００２６】
なお、３層干渉膜の典型的な理論については特開２０１０−１７５８１２号公報に記載されている。この特許公報は、３層以上の多層干渉膜について記載されている。これに対し、第１実施形態に係る偽造防止構造体では３層干渉膜に限定する。すなわち、反射層の総数を増加させる程、干渉色の反射を増大できる長所がある。しかしながら、この場合には第１領域だけではなく、最上層の反射層が存在しない第２領域も少なくとも２層の反射層が存在するため干渉により着色する問題がある。つまり、５層以上の多層膜では最上層の高屈折反射層が有る部分（第１領域）と無い部分（第２領域）とで、類似の干渉色が生じる。このため、５層以上の多層膜を第１実施形態に係る偽造防止構造体に適用すると、第１領域８と第２領域９が類似の色調傾向となる。
【００２７】
第１実施形態に係る偽造防止構造体は、３層干渉膜に限定することによって第２反射層５が有る部分（第１領域８）では干渉による着色がなされ、第２反射層５が無い部分（第２領域９）で干渉がなく無彩色になり、第１領域８と第２領域９の間で十分な色調差を発現できる。
【００２８】
したがって、第１実施形態に係る偽造防止構造体１は第１領域８における着色反射レリーフ構造と、第２領域９における無彩色反射レリーフによる精密で複雑化した光学効果が得られるために、高い偽造防止効果を発現できる。
【００２９】
次に、第１実施形態に係る偽造防止構造体の製造方法を図２の（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。
【００３０】
１）第１工程
図２の（ａ）に示すように支持基材１１上の全面にレリーフ形成層２を形成する。レリーフ形成層２は、支持基材１１上にコーティング、例えばウェットコーティングすることにより形成できる。また、レリーフ形成層は支持基材自体でもよい。
【００３１】
次いで、凹凸形状を有する金属または樹脂からなるレリーフ原版を用意し、この原版の凹凸形状をレリーフ形成層２の表面に形状転写して凹凸面を持つレリーフ構造７をレリーフ形成層２に形成する（同図２の（ａ）図示）。
【００３２】
形状転写の方法は、後述するプレス法、キャスティング法、フォトポリマー法等の公知の方法や、これらの方法を組み合わせたハイブリッド法であってもよい。
【００３３】
（第２工程）
図２の（ｂ）に示すようにレリーフ形成層２のレリーフ構造７表面に第１反射層３、機能性薄膜層４および第２反射層用薄膜層１２をこの順序で形成する。
【００３４】
第１反射層３、機能性薄膜層４は、公知のウェットコーティングまたはドライコーティングで形成できる。第２反射層用薄膜層１２はドライコーティングで形成することが好ましい。
【００３５】
（第３工程）
第２反射層用薄膜層１２上にエッチングマスクとして機能する保護膜６を形成する。つづいて、保護膜６をマスクとして第２反射層用薄膜層１２をエッチング処理剤で選択的にエッチング除去して第２反射層５を形成する。すなわち、保護膜６下の領域（第１領域８）に第２反射層用薄膜層１２を残して第２反射膜５とし、これ以外の領域（第２領域９）の第２反射層用薄膜層１２を除去する。ここで、エッチングによって第１反射層３を除去しないことが必要である。
【００３６】
具体的には、機能性薄膜層４上に第２反射層用薄膜層１２を全面に形成した後、第２反射層用薄膜層１２上に保護層６を公知のウェット印刷法によって形成する。その後、保護層６をエッチングマスクとして第２反射層用薄膜層１２を選択的にエッチング処理することによって、パターン化した第２反射層５を形成する。
【００３７】
以上の第１工程〜第３工程によって、第１実施形態に係る偽造防止構造体が製造されるが、これに限定されない。 次に、第１実施形態に係る偽造防止構造体を構成する各層の材質、必要な特性、および詳細な製造方法について更に詳しく説明する。
【００３８】
（支持基材）
前述した製造方法で用いる支持基材は、フィルム基材が好ましい。フィルム基材は、微細凹凸パターン（レリーフ構造）の成形時に加えられる熱、圧力、電磁波によって変形、変質の少ない材料を用いることが望ましい。フィルム基材は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン）などのプラスチックフィルムを用いることができる。必要によっては紙や合成紙、プラスチック複層紙や樹脂含浸紙等を支持基材として用いてもよい。
【００３９】
（レリーフ形成層）
レリーフ形成層は、その片面に微細凹凸パターンを持つレリーフ構造を連続的かつ大量に複製することが好ましい。代表的な手法としては、特許第４１９４０７３号公報に記載の「プレス法」、実用新案登録第２５２４０９２号公報に記載の「キャスティング法」、特許第４０８８８８４号公報に記載の「フォトポリマー法」等の形状転写が採用される。
【００４０】
中でも「フォトポリマー法」（２Ｐ法、感光性樹脂法）は、放射線硬化性樹脂をレリーフ型（微細凹凸パターンの復製用型）と平担な基材（プラスチックフィルム等）との間に流し込み放射線で硬化させた後、この硬化膜を基板ごと、複製用型から剥離する方法である。この方法によって高精細な微細凹凸パターンを持つレリーフ構造を得ることができる。このような方法によって得られたレリーフ構造は、熱可塑樹脂を使用する「プレス法」や「キャスト法」に比べて微細凹凸パターンの成形精度が高く、耐熱性や耐薬品性に優れる。
【００４１】
また、新しいレリーフ構造をもつレリーフ形成層の作製方法としては、常温で固体状または高粘度状の光硬化性樹脂を使用して成形する方法や、離型材料を添加する方法もある。
【００４２】
レリーフ形成層に使用される材料は、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂；反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂；メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂を単独もしくはこれらを複合したものを使用できる。微細凹凸パターンが形成可能な材料であれば、前記以外のものも使用できる。
【００４３】
前記フォトポリマー法に適用されるレリーフ形成層の材料は、例えばエチレン性不飽和結合またはエチレン性不飽和基をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を使用できる。モノマーは、例えば１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を使用できる。オリゴマーは、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。ポリマーは、例えばウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂を使用できる。
【００４４】
光カチオン重合を利用するレリーフ形成層の材料は、例えばエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、ビニルエーテル類を使用できる。前記電離放射線硬化性樹脂は、紫外線等の光によって硬化させる場合、光重合開始剤を添加することができる。樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、その併用型（ハイブリッド型）を選定することができる。
【００４５】
なお、エチレン性不飽和結合またはエチレン性不飽和基をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を混合して使用すること、これらに予め反応基を設け、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋材、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネート等で互いに架橋すること、これらに予め反応基を設け、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋材、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネート等で、その他の樹脂骨格と架橋すること、も可能である。このような方法によれば、エチレン性不飽和結合またはエチレン性不飽和基をもつポリマーの使用において、常温にて固形で存在し、タックが少ないために成形性が良好で原版汚れの少ないポリマーを得ることも可能である。
【００４６】
前記光ラジカル重合開始剤は、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、ミヒラーズケトン等を使用できる。
【００４７】
前記光カチオン重合可能な化合物を使用する場合の光カチオン重合開始剤は、例えば芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、混合配位子金属塩等を使用できる。光ラジカル重合と光カチオン重合を併用する、いわゆるハイブリッド型材料の場合、それぞれの重合開始剤を混合して使用できる。また、１種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等を使用できる。
【００４８】
放射線硬化樹脂と光重合開始剤を含む樹脂組成物において、光重合開始剤の配合割合は材料によって適宜選択すればよいが、一般に０．１〜１５質量％配合する。樹脂組成物は、さらに光重合開始剤と組み合わせて増感色素を併用してもよい。樹脂組成物は、必要に応じて染料、顔料、各種添加剤（重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物など）、架橋剤（例えば、エポキシ樹脂など）等を含んでもよい。また、成形性向上のために非反応性の樹脂（前述の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を含む）を添加してもよい。
【００４９】
前述した製造方法において、レリーフ形成層の材料は成型可能なある程度の流動性を有すること、および成型後の塗膜が所望する耐熱性や耐薬品性が得られること、を考慮して選択すればよい。
【００５０】
レリーフ形成層を形成する工程では、コーティング法を利用してよい。その場合には支持基材上にレリーフ形成層の材料をコーティングすればよい。特に、ウェットコーティングであれば低コストで形成できる。また、レリーフ形成層の形成において溶媒で希釈したものを塗布し、乾燥してその厚さを調整してもよい。
【００５１】
レリーフ形成層の厚さは、例えば０．１〜１０μｍの範囲にすることが好ましい。前述したレリーフ形成層の作製方法にもよるが、厚くし過ぎると、レリーフ構造の転写のための加工時の加圧による樹脂のはみ出し、シワの原因となる。他方、薄くし過ぎると、レリーフ構造の転写時における流動性が乏しくなって、十分な成型ができなくなるおそれがある。また、微細凹凸パターンの転写性はその形状によって変化するが、レリーフ形成層の厚さは所望する凹凸深さの１〜１０倍、より好ましくは３〜５倍であることが望ましい。
【００５２】
レリーフ形成層は、所望するレリーフ構造を有するレリーフ原版と接触させた後、必要であれば熱、圧力、電磁波を利用してレリーフ原版の形状をレリーフ形成層の片側に形状転写させる。なお、レリーフ形成層は片側のみならず両側、つまり表裏にレリーフ構造を形成してもよい。
【００５３】
使用するレリーフ原版の製作方法は、公知の方法を利用すればよく、ロール状の原版であれば連続成型が可能である。
【００５４】
（第１反射層）
第１反射層は、電磁波を反射させる機能を有する。支持基材および微細凹凸パターンを持つレリーフ構造を有するレリーフ形成層を透過した光を反射させる場合は、支持基材またはレリーフ形成層の屈折率よりも高い高屈折率材料を使用する。この場合、第１反射層とレリーフ形成層の屈折率の差は、０．２以上であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、レリーフ形成層と第１反射層との界面で屈折および反射が起こる。なお、レリーフ構造を覆う第１反射層は、その微細凹凸構造による光学効果を強調することも可能である。
【００５５】
第１反射層の材料は、例えばＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇなどの金属材料の単体、またはこれらの化合物等を使用することができる。
【００５６】
第１反射層は、透過率が４０％以下であることが好ましい。第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３層干渉膜による干渉色を生じさせることから、第１反射層は透明性を持ち、かつレリーフ形成層および機能性薄膜層に対して０.２以上の屈折率差を有し、両界面において反射を生じさせることが好ましい。
【００５７】
このような透明性を持つ第１反射層は、前述の金属材料の単体または化合物の薄膜から形成することによって実現可能である。
【００５８】
前記金属、化合物以外に透明性を持つ第１反射層として使用できる材料の例を以下に挙げる。カッコ内の数値は屈折率ｎを示す。セラミックスは、例えばＳｂ2Ｏ3（３．０）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（５．０）、ＷＯ3（５．０）、ＳｉＯ（５．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（５．０）、ＭｇＯ（１．０）、ＳｉＯ2（１．４５）、Ｓｉ2Ｏ2（１０）、ＭｇＦ2（４．０）、ＣｅＦ3（１．０）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１．０）、Ａｌ2Ｏ3（１．０）、ＧａＯ（２．０）等を使用できる。有機ポリマーは、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等を使用できる。
【００５９】
第１反射層は、前述した製造方法における第２反射層のパターン加工を施す際に使用するエッチング処理剤に対して耐性を必要とする。例えばエッチング処理剤に対して溶解、腐食、変質、剥離等により第２領域における第１反射層の反射率が変化せず、安定であることが必要であるため、前記材料の中から適宜選択すればよい。場合によっては複数の材料を使用してもよい。
【００６０】
なお、第２領域における第１反射層のエッチング処理剤に対する耐性は、第１反射層を覆うように配置された機能性薄膜層によって強化してよい。つまり、第１反射層がエッチング処理剤に対する耐性が低くても、機能性薄膜層との複層化により第１反射層をエッチング処理剤から保護することによって、第２領域における第１反射層の反射機能の低下を防止できる。
【００６１】
第１反射層は、前述した製造方法においてレリーフ形成層の微細凹凸面に均一な厚さで薄膜形成するために、ドライコーティング法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法を採用することが好ましい。
【００６２】
また、第１反射層は前記金属、セラミックス、または有機ポリマーの微細な粉末やゾルまたは金属ナノ粒子などを有機高分子樹脂に分散して得られる高輝性光反射インキ、有機ポリマーや有機ポリマーの微粒子を使用することもできる。この第１反射層は、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法など公知の印刷法により形成できる。このような印刷方により第１反射層を設ける場合には、乾燥後の膜厚が０．００１〜１０μｍ程度になるように調整すればよい。
【００６３】
（機能性薄膜層）
機能性薄膜層は、支持基材、微細凹凸パターンを持つレリーフ構造を有するレリーフ形成層および第１反射層を透過した光を透過させる機能を有する。また、第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３層干渉膜による干渉色を生じさせることから、機能性薄膜層は３層干渉膜の中間層である。一般的に３層干渉膜は、高屈折層、低屈折層、高屈折層の積層体で構成されるため、中間層の機能性薄膜は第１反射層、第２反射層の屈折率に比べて０.２以上低い屈折率であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、レリーフ形成層と第１反射層との界面で屈折および反射を起こさせることが可能になる。
【００６４】
なお、第２領域においては第１反射層、機能性薄膜層の２つの層の積層であるため、干渉色が得られない。
【００６５】
機能性薄膜層は、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層の３層干渉膜の中間層であるため、透明性の高い低屈折膜であることが好ましい。具体的には機能性薄膜層は第１反射層と同じかまたは低い屈折率を有し、両界面において反射を生じさせることが可能になる。
【００６６】
透明性を持つ機能性薄膜層として使用できる材料の例を以下に挙げる。カッコ内の数値は屈折率ｎを示す。セラミックスは、例えばＳｂ2Ｏ3（３．０）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（５．０）、ＷＯ3（５．０）、ＳｉＯ（５．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（５．０）、ＭｇＯ（１．０）、ＳｉＯ2（１．４５）、Ｓｉ2Ｏ2（１０）、ＭｇＦ2（４．０）、ＣｅＦ3（１．０）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１．０）、Ａｌ2Ｏ3（１．０）、ＧａＯ2（２．０）等を用いることができる。有機ポリマーは、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等を用いることができる。
【００６７】
機能性薄膜層は、３層干渉膜の中間層であり、干渉色をコントロールする光路差調整層の働きをするため、レリーフ形成層の微細凹凸面に沿って均一な厚さで薄膜形成することが好ましい。このため、機能性薄膜層の形成にあたっては気相法（ドライコーティング法）、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等を採用することが好ましい。
【００６８】
（第２反射層）
第２反射層はレリーフ構造に沿って設けられ、レリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層を透過した光を反射させる。第２反射層は機能性薄膜の屈折率よりも高屈折率を持つ材料が使用される。この場合、両層の屈折率の差は、０．２以上であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、機能性薄膜層と第２反射層との界面で屈折および反射を起こさせることが可能になる。
【００６９】
第２反射層の材料は、例えばＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇのような金属材料の単体、またはこれら金属の化合物を使用できる。
【００７０】
前記金属、化合物以外に透明性を持つ第２反射層として使用できる別の材料例を以下に挙げる。カッコ内の数値は屈折率ｎを示す。セラミックスは、例えばＳｂ2Ｏ3（３．０）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（５．０）、ＷＯ3（５．０）、ＳｉＯ（５．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（５．０）、ＭｇＯ（１．０）、ＳｉＯ2（１．４５）、Ｓｉ2Ｏ2（１０）、ＭｇＦ2（４．０）、ＣｅＦ3（１．０）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１．０）、Ａｌ2Ｏ3（１．０）、ＧａＯ（２．０）を使用することができる。有機ポリマーは、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）を使用することができる。
【００７１】
第２反射層は、前述した製造方法において例えばエッチング処理剤で溶解、腐食、又は変質により反射率または透明性を変化させることでパターン化することを考慮し、前記材料の中から適宜選択すればよい。場合によっては複数の材料を使用してもよい。なお、第２反射層をパターン化する際には第１反射層の反射効果を低下させない材料および工程を適宜選択することが好ましい。
【００７２】
第２反射層を溶解により反射率または透過率を変化させる方法は、前述した金属または金属酸化物からなる第２反射層をウェットエッチング処理する方法が採用できる。エッチングに使用する処理剤は、公知の酸やアルカリ、有機溶剤や酸化剤、還元剤などを使用することができる。第２反射層の材料によっては、ドライエッチング法を利用してもよい。このような第２反射層のパターン化工程においても、第２反射層のみがパターン化され、第１反射層には変化が無いことが好ましい。
【００７３】
第２反射層を変質により反射率または透過率を変化させる方法は、例えば銅から作られる第２反射層を酸化剤により酸化させて酸化第一銅に変化させる、アルミニウムから作られる第２反射層を酸化剤によって酸化させてベーマイトに変化させる、等の方法を採用できる。このような第２反射層のパターン化工程においても、第２反射層のみがパターン化され、第１反射層には変化が無いことが好ましい。
【００７４】
第２反射層の溶解特性や変質特性を変化させる方法以外にも、屈折率、反射率、透過率などの光学特性や、耐候性、層間密着性などの実用耐久性を変化させることも可能である。
【００７５】
第２反射層は、前述した製造方法においてレリーフ形成層の微細凹凸面に均一な厚さで薄膜形成するために、ドライコーティング法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法を採用することが好ましい。
【００７６】
（保護層）
保護層は、光透過性を有すると共に第２反射層をパターン形成する際のマスク層として機能する。
【００７７】
保護層に用いる材料は、第２反射層をエッチングする際のエッチング処理剤に対して耐性を持つ材料を使用すればよく、耐性が確保できるような膜厚で設ければよい。例えば、印刷のようなウェットコーティングで保護層を形成する場合には例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が使用できる。具体的には、アクリル樹脂やポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂を挙げることができる。また、滑剤、例えばポリエチレンパウダー、カルナバロウ等のワックスを添加してもよい。滑剤は、白濁しない程度の２０重量部までの量で添加することが可能である。このような樹脂は、溶媒で希釈することにより適切な粘度にしてウェットコーティングに適用される。他方、ドライコーティングで保護層を形成する場合には、例えばシリカ、アルミナのような透明な無機材料が用いられる。これら以外の保護層の材料は、感光性樹脂を使用できる。
【００７８】
図１に示す偽造防止構造体の保護層は、前記ウェットコーティングで形成することが好ましい。
【００７９】
保護層を用いた第２反射層のパターン形成法は、前述したように溶解、腐食もしくは変質により第２反射層の反射率または透明性を変化させることによってパターン形成する方法を採用できる。
【００８０】
典型的には、ウェットエッチングやドライエッチングが想定され、このような第２反射層のパターン形成方法では残存させる部分の第２反射層パターン部分に保護層を形成すればよい。
【００８１】
以上、第１実施形態に係る偽造防止構造体を構成する各層について詳細に説明したが、傷つき防止のために最表面に表面保護膜を設けること、光学特性を向上させるために最表面に反射膜を設けることも可能である。なお、表面保護膜または反射膜は公知のコーティング方法を使用することが可能である。
【００８２】
また、層間の密着を向上させるために、コロナ処理、フレーム処理、プラズマ処理、プライマー塗工を施すこと、光学特性を向上させるために最表層に反射防止処理を付与することが可能である。
【００８３】
さらに、意匠性を向上させるために、層を着色すること、反射層を多層構成にすることで、多層干渉膜としてもよい。
【００８４】
次に、第１実施形態に係る偽造防止構造体の別の態様を図３および図４を参照して説明する。なお、前述した図１と同様な部材は同符号を付して説明を省略する。
【００８５】
図３は、偽造防止ステッカーを示す断面図である。偽造防止ステッカー２１は、支持基材２２、レリーフ形成層２、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５、保護層６、接着層２３をこの順で積層した構造を有するである。
【００８６】
前記構造の偽造防止ステッカー２１は、レリーフ形成層２、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５、保護層６を別の基材（被転写体）に転写するときに使用され、接着層２３は別の基材に接着するために用いられる。転写後には支持基材２１を剥離することもできる。
【００８７】
このような偽造防止ステッカー２１の使用により偽造防止構造体が貼着された偽造防止媒体を得ることが可能になる。
【００８８】
図４は、偽造防止転写箔を示す断面図である。偽造防止転写箔３１は、剥離可能な支持基材３２、レリーフ形成層２、第１反射層３、機能性薄膜層４、第２反射層５、保護層６、接着層３３をこの順で積層した構造を有する。
【００８９】
前記偽造防止転写箔３１は、熱ロール、熱板等の加熱媒体を支持基材３２に圧接し、転写温度に加熱して被転写体である別の基材に接着層を圧着させると共に支持基材３２とレリーフ形成層２の界面で支持基材３２を剥離する。
【００９０】
このような偽造防止転写箔３１の使用により被転写体に偽造防止構造体が貼着された偽造防止媒体を得ることが可能になる。
【００９１】
前述した図３、図４の偽造防止構造体において、必要に応じて支持基材とレリーフ形成層の間に剥離保護層を設けてもよい。剥離保護層は、支持基材から円滑かつ安定に剥がすための層である。このため、剥離保護層は支持基材に対して離型性が良好な材料から作られる。
【００９２】
なお、偽造防止ステッカーおよび偽造防止転写箔に用いられる支持基材は前述したようにフィルム基材が好ましい。フィルム基材は、微細凹凸パターン（レリーフ構造）の成形時に加えられる熱、圧力、電磁波によって変形、変質の少ない材料を用いることが望ましい。フィルム基材は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン）などのプラスチックフィルムを用いることができる。必要によっては紙や合成紙、プラスチック複層紙や樹脂含浸紙等を支持基材として用いてもよい。
【００９３】
（第２実施形態）
図５は、第２実施形態に係る偽造防止構造体を示す断面図である。
【００９４】
偽造防止構造体４１は、レリーフ形成層４２、第１反射層４３、機能性薄膜層４４、第２反射層４５、保護層４６をこの順で積層した構造を有する。レリーフ形成層４２の片側は可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有する、微細凹凸パターンを持つ第１レリーフ４７および第２レリーフ４８を持つレリーフ構造を有する。第１レリーフ４７表面は第２レリーフ４８表面と比較して凹凸表面積が小さくなっている。つまり、第１レリーフ４７は凹部、凸部がなだらかな形状を有し、凹凸の間隔は広くなっている。他方、第２レリーフ４８は第１レリーフ４７に比べて凹部、凸部が急峻な形状を有し、第１レリーフ４７に比べて凹凸の間隔が狭くなっている。
【００９５】
第１反射層４３および機能性薄膜層４４は、レリーフ構造（第１、第２のレリーフ４７，４８）の微細な凹凸面に沿って全面に設けられている。第２反射層４５および保護層４６は第１レリーフ４７の機能性薄膜層４４表面のみを覆うように設けられている。
【００９６】
すなわち、第１領域４９はレリーフ形成層４２の第１レリーフ４７の凹凸表面に第１反射層４３、機能性薄膜層４４、第２反射層４５および保護層４６がこの順序で積層された領域で、第１反射層４３、機能性薄膜層４４、第２反射層４５からなる３つの層で可視光の少なくとも一部領域を干渉させる、着色反射層が得られる。３つの層は、観察角度によって色調が変化する反射層を得ることも可能で、色鮮やかな反射層を有するレリーフ構造を設計することが可能である。
【００９７】
着色された反射層は、第１領域４９にのみ存在し、パターン化された第２反射層４５のみが着色される。第１領域４９において、パターン化された第２反射層４５そのものが着色される。その結果、第２反射層４５そのものが着色パターンであるため、着色インキをパターン化して印刷し、この着色パターンに合致するように反射層を形成する従来方法のような着色パターンと反射層の間での位置ずれを回避できる。
【００９８】
第２領域５０は、レリーフ形成層４２の第２レリーフ４８の微細な凹凸表面に第１反射層４３および機能性薄膜層４４のみを積層し、第２反射層４５および保護層４６が存在しない領域である。このため、第２領域５０においても、レリーフ構造による無彩色の光学効果を得ることが可能である。
【００９９】
また、第１領域４９と第２領域５０はレリーフ構造が異なる（第１領域４９：第１レリーフ４７、第２領域５０：第２レリーフ４８、凹凸表面積：第１レリーフ４７表面＜第２レリーフ４８表面）ために、異なる光学効果を得ることが可能である。例えば両構造が回折格子のレリーフで、凹凸表面積が異なるため、異なるカラーチェンジ効果の領域となる。
【０１００】
さらに、偽造防止構造体４１は第１領域４９と第２領域５０の境界が異なるレリーフ構造の境界であることから、第２反射層４５のパターンと着色されたパターンと第１領域４９のレリーフ構造のパターン（第１レリーフ４７）との間に位置ずれがない。
【０１０１】
したがって、第２実施形態に係る偽造防止構造体４１は第１領域４９における着色反射レリーフ構造と、第２領域５０における無彩色反射レリーフ、または第１、第２の領域４９，５０間の異なるカラーチェンジ効果によって、一層精密で複雑な光学効果が得られるため、さらに高い偽造防止効果を発現できる。
【０１０２】
次に、第２実施形態に係る偽造防止構造体の製造方法を説明する。
【０１０３】
１）第１工程
支持基材上の全面にレリーフ形成層を形成する。レリーフ形成層は、支持基材上にコーティング、例えばウェットコーティングすることにより形成できる。また、レリーフ形成層は支持基材自体でもよい。
【０１０４】
次いで、凹凸形状を有する金属または樹脂からなるレリーフ原版を用意し、この原版の凹凸形状をレリーフ形成層の表面に形状転写して凹凸を持つ第１レリーフおよび第２レリーフを持つレリーフ構造をレリーフ形成層に形成する。ここで、第１レリーフ表面は第２レリーフ表面と比較して凹凸表面積が小さくなっている。つまり、第１レリーフはその凹凸の間隔が第２レリーフの凹凸の間隔より広くなっている。
【０１０５】
形状転写の方法は、前記第１実施形態で説明したプレス法、キャスティング法、フォトポリマー法等の公知の方法や、これらの方法を組み合わせたハイブリッド法であってもよい。
【０１０６】
（第２工程）
レリーフ形成層のレリーフ構造表面に第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層用薄膜層をこの順序で形成する。
【０１０７】
第１反射層、機能性薄膜層は、公知のウェットコーティングまたはドライコーティングで形成できる。第２反射層用薄膜層はドライコーティングで形成することが好ましい。
【０１０８】
（第３工程）
第２反射層用薄膜層上にエッチングマスクとして機能する保護膜を形成する。つづいて、保護膜をマスクとして第２反射層用薄膜層をエッチング処理剤で選択的にエッチング除去して第２反射層を形成する。すなわち、保護膜下の領域（第１領域４９）に第２反射層用薄膜層を残して第２反射膜を形成し、これ以外の領域（第２領域５０）の第２反射層用薄膜層を除去する。ここで、エッチングによって第１反射層を除去しないことが必要である。
【０１０９】
以上の第１工程〜第３工程によって、第２実施形態に係る偽造防止構造体が製造されるが、これに限定されない。 前記保護膜および第２反射膜のパターン化は、次のような別の方法によっても形成することが可能である。これを図６を参照して説明する。機能性薄膜層４４上に第２反射層用薄膜層５１を真空蒸着法やスパッタ法などの気相法によって全面に形成した後、保護膜４６を真空蒸着法やスパッタ法などの気相法によって全面に形成する。このとき、図６に示すようにレリーフ形成層４２のレリーフ構造は第１レリーフ４７およびこのレリーフ４７より凹凸の間隔が狭い第２レリーフ４８を有するため、第２反射層用薄膜層５１および保護層４６は第１レリーフ４７が位置する第１領域４９において十分な厚さで形成され、他方第２レリーフ４８が位置する第２領域５０において凹凸形状の凸部先端のみに薄く形成される。このため、その後の全面エッチング処理を施すと、第２領域５０の凹凸形状の凸部先端のみに薄く形成された保護層４６および第２反射層用薄膜層５１が優先的にエッチング除去され、第１領域４９のみに第２反射層用薄膜層５１（第２反射層４５として機能する）および保護層４６が残存してパターン形成される。
【０１１０】
前記保護層４６の材料はシリカ、アルミナのような透明無機材料を用いる。
【０１１１】
このような方法によると、予め設定した第１、第２のレリーフ４７，４８の形状に従って、第１レリーフ（第１領域）に第２反射層４５（および保護層４６）をセルファラインで形成できるため、第１領域にのみ着色を施すことが可能で、かつ第１領域と第２領域の異なるレリーフの光学効果を得ることが可能である。
【０１１２】
なお、第２実施形態に係る偽造防止構造体を構成する各層の材質、必要な特性は第１実施形態で説明したのと同様である。
【０１１３】
また、第２実施形態に係る偽造防止構造体は前述した図３（偽造防止ステッカー）および図４（偽造防止転写箔）のような別の態様であってもよい。このような偽造防止ステッカーおよび偽造防止転写箔の使用により偽造防止構造体が貼着された偽造防止媒体を得ることが可能になる。
【０１１４】
以下、本発明の実施例を説明する
（実施例１）
実施例１は、図３の構成を代表例として説明する。厚さ２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる支持体１１に下記組成物からなるインキを乾燥後の膜厚が２μｍとなるように塗布、乾燥してレリーフ形成層２を形成した。つづいて、レリーフ形成層２表面にロールエンボス法により回折格子のレリーフパターンを形成した。レリーフ形成層２に酸化チタン（ＴｉＯ2）を真空蒸着してレリーフパターンに沿う５０ｎｍの膜厚の第１反射層３を形成し、さらに第１反射層３上にシリカ（ＳｉＯ2）を真空蒸着して１３０ｎｍの膜厚の機能性薄膜層４を形成した。ひきつづき、機能性薄膜層４上にアルミニウムを真空蒸着して５０ｎｍの膜厚のアルミニウム層を形成した。次いで、アルミニウム層上に下記組成物からなるインキをグラビア印刷法にて印刷し、星型パターンの保護層６を形成した。保護層６の厚さは乾燥膜厚で1μｍとした。その後、保護層６をエッチングマスクとしてアルカリエッチング処理を施して露出したアルミニウム層部分をエッチングして星型パターンの第２反射層５を形成した。その後、保護層６を含む機能性薄膜層４上に下記組成物からなるインキをグラビア印刷法で印刷し、乾燥して膜厚３μｍの接着層２３を形成し、偽造防止ステッカー２１を得た。
【０１１５】
「レリーフ形成層インキ組成物」
アクリル樹脂 ２０．０重量部
メチルエチルケトン ５０．０重量部
酢酸エチル ３０．０重量部
「保護層インキ組成物」
ポリアミド樹脂 ２０．０重量部
エタノール ５０．０重量部
トルエン ３０．０重量部
「接着層インキ組成物」
アクリル粘着剤 ５０重量部
シリカ １０重量部
メチルエチルケトン ４０重量部
（比較例１）
図７の（ａ）に示すように支持基材１０１上に下記組成物からなるインキをグラビア印刷法にて印刷し星型パターンの着色層１０２を形成した。つづいて、着色層１０２を含む基材１０１上に実施例１と同様な方法によりレリーフ形成層１０３を形成し、レリーフ形成層１０３の片面に微細な凹凸を持つレリーフ構造１０４を形成した。ひきつづき、レリーフ形成層１０３にアルミニウムを真空蒸着して５０ｎｍの膜厚のアルミニウム層（図示せず）を形成した。次いで、アルミニウム層上に実施例１と同様な保護層インキ組成物をグラビア印刷法にて印刷し、星型パターンの保護層１０５を形成した。保護層１０５の厚さは乾燥膜厚で1μｍとした。次いで、保護層１０５をエッチングマスクとしてアルカリエッチング処理を施して露出したアルミニウム層部分をエッチングして反射層１０６を形成した（図７の（ｂ）図示）。その後、図示しないが実施例１と同様に保護層を含むレリーフ形成層の凹凸面に実施例１と同様な接着層インキ組成物をグラビア印刷法で印刷し、乾燥して膜厚３μｍの接着層を形成し、偽造防止ステッカーを得た。
【０１１６】
なお、星型パターンの着色層と星型パターンの保護層は、グラビア印刷機の追い刷り（重ね見当印刷）により見当を極力合わせた。
【０１１７】
「パターン着色層インキ組成物」
ウレタン印刷インキ／黄色 ５０．０重量部
メチルエチルケトン ２５．０重量部
酢酸エチル ２５．０重量部
得られた実施例１および比較例１の偽造防止ステッカーについて偽造防止性の評価を行った。
【０１１８】
［偽造防止性の評価］
マイクロスコープによる拡大写真を撮影した後、写真画像解析ソフトによって星型パターンの「着色反射層面積」と「反射層面積（実施例１は第２反射層面積、比較例１は反射層面積）」との面積比率（着色反射層面積ｍｍ2／反射層面積ｍｍ2（実施例１は第２反射層面積、比較例１は反射層面積））を評価した。また、マイクロスコープによる拡大写真を撮影した後に、写真画像解析を行い、「着色反射層面積」と「第２反射層面積」との位置ズレ幅（ｍｍ）を測定した。
【０１１９】
面積比率（ｍｍｍ2／ｍｍｍ2）、位置ズレ幅（ｍｍ）は、それぞれ２０箇所を測定し、平均値と最大値を求めた。
【０１２０】
その結果を下記表１に示す。
【表１】
【０１２１】
前記表１から明らかなように実施例１の偽造防止構造体は、面積比率１．００、位置ズレが０．００ｍｍ（測定限界以下の０．０１ｍｍ未満）で良好であるのに対し、比較例１の偽造防止構造体は面積比率１．０２、最大で１．００ｍｍの位置ズレが生じる。
【０１２２】
また、比較例１の偽造防止構造体の目視観察においても、反射層に対する着色層のズレが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１２３】
本発明によれば、意匠性が高く、セキュリティ性が高い偽造防止構造体に関し、所望の色調の反射層を任意のパターンで設けることが可能であり、意匠性及び／又はセキュリティ性の優れる偽造防止構造体を提供することが可能であることから、有価証券やブランド品、証明書、個人認証媒体等に利用することが可能である。
【符号の説明】
【０１２４】
１，４１…偽造防止構造体，２，４２…レリーフ形成層，３，４３…第１反射層，４，４４…機能性薄膜層，５，４５…第２反射層，６，４６…保護層，８，４９…第１領域，９，５０…第２領域，４７…第１レリーフ、４８…第２レリーフ、１１，２２，３２…支持基材。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、
前記レリーフ形成層の片側は可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有するレリーフ構造を有し、
前記第１反射層、機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面で設けられ、
前記第２反射層はレリーフ構造の凹凸の一部分を覆う任意の領域に設けられ、
前記保護層は前記第２反射層の領域のみを覆うように設けられ、かつ
前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体。
【請求項２】
少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、
前記レリーフ形成層の片側は、可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有する、第１レリーフおよび第２レリーフを持つレリーフ構造を有し、
前記第１レリーフ表面は前記第２レリーフ表面と比較して凹凸表面積がより大きく、
前記第１反射層および前記機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面に設けられ、
前記第２反射層および保護層は前記第２レリーフの前記機能性薄膜層表面のみを覆うように設けられ、
前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体。
【請求項３】
前記第１反射層は、タンタル酸化物、ニオブ酸化物、チタン酸化物、酸化インジウム錫、ジルコニウム酸化物、セリウム酸化物およびハフニウム酸化物の群から選ばれる少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項１または２記載の偽造防止構造体。
【請求項４】
前記第１反射層は、高屈折微粒子からなる高輝度透明反射塗料により形成されることを特徴とする請求項1ないし３いずれか１項記載の偽造防止構造体。
【請求項５】
前記レリーフ構造は、回折構造、ホログラム、集光レンズアレイ、拡散レンズアレイおよび散乱構造の少なくとも1つを少なくとも部分的に同一平面で有することを特徴とする請求項1ないし４いずれか１項記載の偽造防止構造体。
【請求項６】
少なくとも支持基材に積層された偽造防止構造体であって、前記支持基材上にレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層、保護層および接着層をこの順序で積層したステッカー構成であることを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の偽造防止構造体。
【請求項７】
少なくとも支持基材を有し、前記支持基材上にレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層、保護層および接着層をこの順序で積層し、かつこの積層物が前記基材に対して剥離可能な転写箔構成であることを特徴とする請求項ないし５いずれか１項記載の偽造防止構造体。
【請求項８】
少なくとも請求項１ないし７のいずれか１項記載の偽造防止構造体を貼着した偽造防止媒体。
【請求項１】
少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、
前記レリーフ形成層の片側は可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有するレリーフ構造を有し、
前記第１反射層、機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面で設けられ、
前記第２反射層はレリーフ構造の凹凸の一部分を覆う任意の領域に設けられ、
前記保護層は前記第２反射層の領域のみを覆うように設けられ、かつ
前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体。
【請求項２】
少なくともレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層および保護層をこの順で積層した偽造防止構造体であって、
前記レリーフ形成層の片側は、可視光の少なくとも一部の波長領域を回折、散乱、吸収、偏光分離する効果を有する、第１レリーフおよび第２レリーフを持つレリーフ構造を有し、
前記第１レリーフ表面は前記第２レリーフ表面と比較して凹凸表面積がより大きく、
前記第１反射層および前記機能性薄膜層がレリーフ構造の凹凸に沿って全面に設けられ、
前記第２反射層および保護層は前記第２レリーフの前記機能性薄膜層表面のみを覆うように設けられ、
前記第１反射層、機能性薄膜層および第２反射層の３つの層が可視光の少なくとも一部領域を干渉させることを特徴とする偽造防止構造体。
【請求項３】
前記第１反射層は、タンタル酸化物、ニオブ酸化物、チタン酸化物、酸化インジウム錫、ジルコニウム酸化物、セリウム酸化物およびハフニウム酸化物の群から選ばれる少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項１または２記載の偽造防止構造体。
【請求項４】
前記第１反射層は、高屈折微粒子からなる高輝度透明反射塗料により形成されることを特徴とする請求項1ないし３いずれか１項記載の偽造防止構造体。
【請求項５】
前記レリーフ構造は、回折構造、ホログラム、集光レンズアレイ、拡散レンズアレイおよび散乱構造の少なくとも1つを少なくとも部分的に同一平面で有することを特徴とする請求項1ないし４いずれか１項記載の偽造防止構造体。
【請求項６】
少なくとも支持基材に積層された偽造防止構造体であって、前記支持基材上にレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層、保護層および接着層をこの順序で積層したステッカー構成であることを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の偽造防止構造体。
【請求項７】
少なくとも支持基材を有し、前記支持基材上にレリーフ形成層、第１反射層、機能性薄膜層、第２反射層、保護層および接着層をこの順序で積層し、かつこの積層物が前記基材に対して剥離可能な転写箔構成であることを特徴とする請求項ないし５いずれか１項記載の偽造防止構造体。
【請求項８】
少なくとも請求項１ないし７のいずれか１項記載の偽造防止構造体を貼着した偽造防止媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１２−２４７４８３（Ｐ２０１２−２４７４８３Ａ）
【公開日】平成２４年１２月１３日（２０１２．１２．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１１６８２７（Ｐ２０１１−１１６８２７）
【出願日】平成２３年５月２５日（２０１１．５．２５）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１２月１３日（２０１２．１２．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月２５日（２０１１．５．２５）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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