研磨用捨てめっき層を有する軟磁性ベース膜を有するガラス基板及びそれを用いた垂直磁気記録型ハードディスク
【課題】 垂直磁気記録型ハードディスクドライブ作製におけるガラス基板上に成膜された軟磁性層を研磨する工程に於いて、ガラス基板上に良好に平滑化された軟磁性膜を安価に提供すること。
【解決手段】 ガラス基板上に無電解めっき法により成膜された軟磁性ベース膜を有し、更にその上に研磨用捨てめっきを施し、その捨てめっき層とともに軟磁性めっき層を研磨して平滑化する工程を経由した軟磁性ベース膜を有するガラス基板、及びそれを用いたハードディスク。
【解決手段】 ガラス基板上に無電解めっき法により成膜された軟磁性ベース膜を有し、更にその上に研磨用捨てめっきを施し、その捨てめっき層とともに軟磁性めっき層を研磨して平滑化する工程を経由した軟磁性ベース膜を有するガラス基板、及びそれを用いたハードディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は垂直磁気記録型の固定磁気ディスク装置（ＨＤＤ）における軟磁性膜の平滑化に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータ等による電子情報を記録する外部記録装置としては、ＨＤＤが最も多く用いられている。この外部記録装置の記憶容量を増大させることは、扱う電子情報が増大化している近年においては最も重要な課題となっている。記憶容量を増大化させるためには、磁気ディスクの面記録密度を高めることが要求されるが、面記録密度を高めるとそれに伴い１ビットあたりの磁性体の体積は小さくなってしまう。磁性体の体積が小さくなると当然磁力が弱くなる。従って、再生信号が弱くなりノイズが大きくなるため、データの読み取りが困難となってしまう。
【０００３】
この課題を解決する一つのアプローチとして、磁気ヘッドの浮上高を低くすることが挙げられる。しかし、磁気ヘッドの浮上高をより低くすることにより弱い磁力でも正確な読み取りが可能となるが、磁気ディスクと磁気ヘッドとが接触する可能性が高くなってしまう。磁気ディスクは高速回転をしているため、磁気ヘッドと接触すると摩擦により磁性体がダメージを受けてしまう。従って磁気ディスク表面の平滑化は、重要な課題である（特許文献１）。
【０００４】
また、磁性層への磁気情報の書き込みは、従来は記録媒体の移動方向に磁性体の磁化を行なう長手磁気記録方式が利用されていたが、この方法では隣り合うビットの磁性体が反発するように磁化されるため、互いに磁力を弱め合い不安定となっていた。このため、磁気ディスクの移動方向に対し垂直に磁性体の磁化を行なう垂直磁気記録方式が注目されている。
【０００５】
この垂直磁気記録方式では、磁性層の膜厚を確保することにより磁性体の保磁力を高めることができるが、磁気ヘッドからの磁気情報をより大きな保磁力を持つ磁性層への書き込みを可能とするため、基板と磁性層との間に面内方向に磁化しやすい軟磁性層を設けることが提案されている（特許文献２、特許文献３、非特許文献１）。この軟磁性層は垂直記録を行なう磁性層の１０倍以上の膜厚を有しており、無電解ＣｏＮｉＦｅめっき膜が注目されている。
【０００６】
近年の垂直磁気記録方式による磁気ディスクは、ガラス基板上に軟磁性層、中間層（軟磁性層の特性によっては省略される）、磁性層、保護膜層、潤滑膜と順次積層されており、上記磁気ディスク表面の平滑化の課題は、軟磁性層を研磨することにより解決が図られている。この研磨工程では生産効率を上げるため、複数枚が同時に処理されている。このため同時に処理する基板の全てを研磨するためには、どうしても削りしろ（マージン）が必要となり、また、研磨精度にも限界があるため（±０．２μｍ以上）深めに研磨することが要求されている。従って、基板上に高価な軟磁性層を過剰に成膜し、これを充分量研磨することはコスト高の要因となっている。また、平滑なガラスに表面処理を何も施さずにめっきをするのは非常に困難（特許文献４、特許文献５）で、めっきができても実用上の密着強度を有する膜厚には限界があるため、軟磁性層の平滑化を良好かつ安価に行なうことは困難となっている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−１５４３２３号広報
【特許文献２】特開２００２−２７０４２６号公報
【特許文献３】特開２００３−２８８７１３号公報
【特許文献４】特開２０００−１６３７４３号公報
【特許文献５】特開２０００−９６２５２号公報
【非特許文献１】Ｓ．Ｉｗａｓａｋｉ， Ｙ．Ｎａｋａｍｕｒａ ａｎｄ Ｋ．Ｏｕｃｈｉ：ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇｎ．ＭＡＧ−１５（１９７９）１４５６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、垂直磁気記録型ＨＤＤ作製における軟磁性層の研磨工程に於いて、コストを抑え、かつ良好に平滑化された軟磁性層を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明者等が鋭意検討を重ねた結果、ガラス基板上に無電解めっき法により成膜された軟磁性層の上に、更に研磨用捨てめっきを施すことが有効であることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、
（１） ガラス基板上に無電解めっき法により成膜された軟磁性ベース膜を有し更にその上に研磨用捨てめっきを施し、その捨てめっき層とともに軟磁性めっき層を研磨して平滑化する工程を経由した軟磁性ベース膜を有するガラス基板、
【００１０】
（２） 上記捨てめっき層がニッケル系めっきであることを特徴とする上記（１）に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板、
【００１１】
（３） 上記（１）又は（２）に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板を用いたハードディスク、
【００１２】
（４） ガラス基板上に無電解めっき法により軟磁性ベース膜を成膜する工程、その上に研磨用捨てめっきを成膜する工程、その捨てめっき層とともに軟磁性ベース膜を研磨して軟磁性ベース膜を平滑化する工程からなる軟磁性ベース膜を有するガラス基板の製法、
【００１３】
（５） 上記捨てめっき層がニッケル系めっきであることを特徴とする（４）に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板の製法、
【００１４】
（６） 上記（４）又は（５）に記載する工程に加えて更に所定の層を形成する工程を経るハードディスクの製法、
よりなる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、ガラス基板上に無電解めっき法で成膜された軟磁性層を安価でかつ良好に平滑化することができる。更にこの軟磁性層を垂直磁気記録型ＨＤＤに用いることにより、今日要求されている記憶容量が大きく、小型化したＨＤＤを安価に作製することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
近年の垂直磁気記録型ＨＤＤは通常、ガラス基板上に軟磁性層、中間層（軟磁性層の特性によっては省略される）、磁性層、保護膜層、潤滑層を順次積層することによって作製され、ガラス基板上に過剰に成膜された軟磁性層を研磨することにより磁気ディスクの表面の平滑化が図られている。
本発明においては、ガラス基板上に軟磁性層を形成し、更にその上に研磨用捨てめっきを施した後、この研磨用捨てめっきごと研磨を行ない、軟磁性層を平滑化することを特徴とする。これにより、研磨精度の限界により多く研磨しなければならない範囲は研磨用捨てめっき層を削ることとなるので、従来のようにガラス基板上に高価な軟磁性層を過剰に成膜する必要がなくなる。このため、生産コストの削減が可能となる。また、複数枚を同時に研磨する際には並べた基板のうち一番高さの低い基板の軟磁性層が研磨されるまで削ることになるが、本発明においては多めに研磨する部分の大部分は研磨用捨てめっき層となるので、効果的である。
【００１７】
軟磁性ベース膜は一般的にＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｐｔ等を２種類以上組み合わせたものにより作製されている。これらの存在比率を変化させたり、添加剤を加えたりすることにより、磁性をコントロールすることが可能である。例えば、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉ、ＮｉＦｅ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＮｉＦｅ等があるが、無電解ＣｏＮｉＦｅめっきが好ましく用いられる。
本発明における軟磁性層はガラス基板上に通常、０．１μｍ〜５．０μｍの厚さで成膜される。より好ましくは０．３μｍ〜２．０μｍであり、最も好ましくは０．３μｍ〜０．５μｍである。尚、平滑なガラス基板上に直接めっきを施すことは非常に困難であるため、一般的にはガラス基板表面にエッチング等による処理が施される。この表面処理は例えば、クロム酸系処理、フッ酸系処理等により行なわれる。
【００１８】
本発明に用いられる研磨用捨てめっきは例えば、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ等が使用可能である。好ましくは無電解Ｎｉ系めっきが用いられるが、これは軟磁性層上でのめっき密着性が良いこと、膜質が均一であること、平滑性が高いこと、軟磁性層の合金の硬度に近いことによる。
本発明による研磨用捨てめっき層は軟磁性層の上に通常、０．１μｍ〜１．０μｍの厚さで成膜される。より好ましくは０．２μｍ〜１．０μｍであり、最も好ましくは０．２μｍ〜０．５μｍである。
【００１９】
中間層は通常、Ｃｏ合金、Ｒｕ又はＲｕ合金等がスパッタリング又はＣＶＤにより５ｎｍ以下で設けられるが、軟磁性層の特性により省略が可能である。磁性層は通常、Ｃｏ合金等がスパッタリング又はＣＶＤにより約２０ｎｍの厚さで設けられる。保護膜層は通常、カーボンがスパッタリングまたはＣＶＤにより５ｎｍ以下で設けられる。潤滑膜は通常、フッ素系のものが５ｎｍ以下で塗布される。
【実施例】
【００２０】
以下、本発明を実施例に基づき説明するが、これらは本発明を限定するものではない。
［実施例１］
ハードディスクドライブ用のガラス基板を５％フッ酸液に浸漬して表面処理を施した後、無電解ＣｏＮｉＦｅめっきを０．７μｍ成膜した。その後その上に無電解Ｎｉめっきを０．３μｍ成膜する。その後０．６±０．２μｍ研磨して、０．４±０．２μｍの非常に平滑なＣｏＮｉＦｅめっき膜を得た。これは垂直磁気記録用の軟磁性層として非常に良いものであった。
【００２１】
［比較例１］
５％フッ酸液に浸漬する事により表面処理が施されたガラス基板に無電解ＣｏＮｉＦｅめっきを０．８μｍ成膜した。その後、０．５±０．２μｍ研磨して、平滑なＣｏＮｉＦｅめっき膜０．４±０．２μｍを得た。これは垂直磁気記録用の軟磁性層として非常に良いものであるが、ＣｏＮｉＦｅめっき層を研磨することになり、必要以上に膜厚を付けることになり、コスト的に不利であった。
［比較例２］
５％フッ酸液に浸漬する事により表面処理が施されたガラス基板へ無電解ＣｏＮｉＦｅめっきを０．７μｍ成膜した。その後、０．５±０．２μｍ研磨して、平滑なＣｏＮｉＦｅめっき膜０．２±０．２μｍを得ようとしたが、部分的にＣｏＮｉＦｅめっき膜が無くなってしまった。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
本発明により、ガラス基板上に研磨により平滑化された軟磁性膜を安価に設けることができる。また、これらを垂直磁気記録型ＨＤＤに利用することにより、記憶容量が大きく、小型化されたＨＤＤを安価に提供することが可能となる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は垂直磁気記録型の固定磁気ディスク装置（ＨＤＤ）における軟磁性膜の平滑化に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータ等による電子情報を記録する外部記録装置としては、ＨＤＤが最も多く用いられている。この外部記録装置の記憶容量を増大させることは、扱う電子情報が増大化している近年においては最も重要な課題となっている。記憶容量を増大化させるためには、磁気ディスクの面記録密度を高めることが要求されるが、面記録密度を高めるとそれに伴い１ビットあたりの磁性体の体積は小さくなってしまう。磁性体の体積が小さくなると当然磁力が弱くなる。従って、再生信号が弱くなりノイズが大きくなるため、データの読み取りが困難となってしまう。
【０００３】
この課題を解決する一つのアプローチとして、磁気ヘッドの浮上高を低くすることが挙げられる。しかし、磁気ヘッドの浮上高をより低くすることにより弱い磁力でも正確な読み取りが可能となるが、磁気ディスクと磁気ヘッドとが接触する可能性が高くなってしまう。磁気ディスクは高速回転をしているため、磁気ヘッドと接触すると摩擦により磁性体がダメージを受けてしまう。従って磁気ディスク表面の平滑化は、重要な課題である（特許文献１）。
【０００４】
また、磁性層への磁気情報の書き込みは、従来は記録媒体の移動方向に磁性体の磁化を行なう長手磁気記録方式が利用されていたが、この方法では隣り合うビットの磁性体が反発するように磁化されるため、互いに磁力を弱め合い不安定となっていた。このため、磁気ディスクの移動方向に対し垂直に磁性体の磁化を行なう垂直磁気記録方式が注目されている。
【０００５】
この垂直磁気記録方式では、磁性層の膜厚を確保することにより磁性体の保磁力を高めることができるが、磁気ヘッドからの磁気情報をより大きな保磁力を持つ磁性層への書き込みを可能とするため、基板と磁性層との間に面内方向に磁化しやすい軟磁性層を設けることが提案されている（特許文献２、特許文献３、非特許文献１）。この軟磁性層は垂直記録を行なう磁性層の１０倍以上の膜厚を有しており、無電解ＣｏＮｉＦｅめっき膜が注目されている。
【０００６】
近年の垂直磁気記録方式による磁気ディスクは、ガラス基板上に軟磁性層、中間層（軟磁性層の特性によっては省略される）、磁性層、保護膜層、潤滑膜と順次積層されており、上記磁気ディスク表面の平滑化の課題は、軟磁性層を研磨することにより解決が図られている。この研磨工程では生産効率を上げるため、複数枚が同時に処理されている。このため同時に処理する基板の全てを研磨するためには、どうしても削りしろ（マージン）が必要となり、また、研磨精度にも限界があるため（±０．２μｍ以上）深めに研磨することが要求されている。従って、基板上に高価な軟磁性層を過剰に成膜し、これを充分量研磨することはコスト高の要因となっている。また、平滑なガラスに表面処理を何も施さずにめっきをするのは非常に困難（特許文献４、特許文献５）で、めっきができても実用上の密着強度を有する膜厚には限界があるため、軟磁性層の平滑化を良好かつ安価に行なうことは困難となっている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−１５４３２３号広報
【特許文献２】特開２００２−２７０４２６号公報
【特許文献３】特開２００３−２８８７１３号公報
【特許文献４】特開２０００−１６３７４３号公報
【特許文献５】特開２０００−９６２５２号公報
【非特許文献１】Ｓ．Ｉｗａｓａｋｉ， Ｙ．Ｎａｋａｍｕｒａ ａｎｄ Ｋ．Ｏｕｃｈｉ：ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇｎ．ＭＡＧ−１５（１９７９）１４５６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、垂直磁気記録型ＨＤＤ作製における軟磁性層の研磨工程に於いて、コストを抑え、かつ良好に平滑化された軟磁性層を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明者等が鋭意検討を重ねた結果、ガラス基板上に無電解めっき法により成膜された軟磁性層の上に、更に研磨用捨てめっきを施すことが有効であることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、
（１） ガラス基板上に無電解めっき法により成膜された軟磁性ベース膜を有し更にその上に研磨用捨てめっきを施し、その捨てめっき層とともに軟磁性めっき層を研磨して平滑化する工程を経由した軟磁性ベース膜を有するガラス基板、
【００１０】
（２） 上記捨てめっき層がニッケル系めっきであることを特徴とする上記（１）に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板、
【００１１】
（３） 上記（１）又は（２）に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板を用いたハードディスク、
【００１２】
（４） ガラス基板上に無電解めっき法により軟磁性ベース膜を成膜する工程、その上に研磨用捨てめっきを成膜する工程、その捨てめっき層とともに軟磁性ベース膜を研磨して軟磁性ベース膜を平滑化する工程からなる軟磁性ベース膜を有するガラス基板の製法、
【００１３】
（５） 上記捨てめっき層がニッケル系めっきであることを特徴とする（４）に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板の製法、
【００１４】
（６） 上記（４）又は（５）に記載する工程に加えて更に所定の層を形成する工程を経るハードディスクの製法、
よりなる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、ガラス基板上に無電解めっき法で成膜された軟磁性層を安価でかつ良好に平滑化することができる。更にこの軟磁性層を垂直磁気記録型ＨＤＤに用いることにより、今日要求されている記憶容量が大きく、小型化したＨＤＤを安価に作製することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
近年の垂直磁気記録型ＨＤＤは通常、ガラス基板上に軟磁性層、中間層（軟磁性層の特性によっては省略される）、磁性層、保護膜層、潤滑層を順次積層することによって作製され、ガラス基板上に過剰に成膜された軟磁性層を研磨することにより磁気ディスクの表面の平滑化が図られている。
本発明においては、ガラス基板上に軟磁性層を形成し、更にその上に研磨用捨てめっきを施した後、この研磨用捨てめっきごと研磨を行ない、軟磁性層を平滑化することを特徴とする。これにより、研磨精度の限界により多く研磨しなければならない範囲は研磨用捨てめっき層を削ることとなるので、従来のようにガラス基板上に高価な軟磁性層を過剰に成膜する必要がなくなる。このため、生産コストの削減が可能となる。また、複数枚を同時に研磨する際には並べた基板のうち一番高さの低い基板の軟磁性層が研磨されるまで削ることになるが、本発明においては多めに研磨する部分の大部分は研磨用捨てめっき層となるので、効果的である。
【００１７】
軟磁性ベース膜は一般的にＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｐｔ等を２種類以上組み合わせたものにより作製されている。これらの存在比率を変化させたり、添加剤を加えたりすることにより、磁性をコントロールすることが可能である。例えば、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉ、ＮｉＦｅ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＮｉＦｅ等があるが、無電解ＣｏＮｉＦｅめっきが好ましく用いられる。
本発明における軟磁性層はガラス基板上に通常、０．１μｍ〜５．０μｍの厚さで成膜される。より好ましくは０．３μｍ〜２．０μｍであり、最も好ましくは０．３μｍ〜０．５μｍである。尚、平滑なガラス基板上に直接めっきを施すことは非常に困難であるため、一般的にはガラス基板表面にエッチング等による処理が施される。この表面処理は例えば、クロム酸系処理、フッ酸系処理等により行なわれる。
【００１８】
本発明に用いられる研磨用捨てめっきは例えば、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ等が使用可能である。好ましくは無電解Ｎｉ系めっきが用いられるが、これは軟磁性層上でのめっき密着性が良いこと、膜質が均一であること、平滑性が高いこと、軟磁性層の合金の硬度に近いことによる。
本発明による研磨用捨てめっき層は軟磁性層の上に通常、０．１μｍ〜１．０μｍの厚さで成膜される。より好ましくは０．２μｍ〜１．０μｍであり、最も好ましくは０．２μｍ〜０．５μｍである。
【００１９】
中間層は通常、Ｃｏ合金、Ｒｕ又はＲｕ合金等がスパッタリング又はＣＶＤにより５ｎｍ以下で設けられるが、軟磁性層の特性により省略が可能である。磁性層は通常、Ｃｏ合金等がスパッタリング又はＣＶＤにより約２０ｎｍの厚さで設けられる。保護膜層は通常、カーボンがスパッタリングまたはＣＶＤにより５ｎｍ以下で設けられる。潤滑膜は通常、フッ素系のものが５ｎｍ以下で塗布される。
【実施例】
【００２０】
以下、本発明を実施例に基づき説明するが、これらは本発明を限定するものではない。
［実施例１］
ハードディスクドライブ用のガラス基板を５％フッ酸液に浸漬して表面処理を施した後、無電解ＣｏＮｉＦｅめっきを０．７μｍ成膜した。その後その上に無電解Ｎｉめっきを０．３μｍ成膜する。その後０．６±０．２μｍ研磨して、０．４±０．２μｍの非常に平滑なＣｏＮｉＦｅめっき膜を得た。これは垂直磁気記録用の軟磁性層として非常に良いものであった。
【００２１】
［比較例１］
５％フッ酸液に浸漬する事により表面処理が施されたガラス基板に無電解ＣｏＮｉＦｅめっきを０．８μｍ成膜した。その後、０．５±０．２μｍ研磨して、平滑なＣｏＮｉＦｅめっき膜０．４±０．２μｍを得た。これは垂直磁気記録用の軟磁性層として非常に良いものであるが、ＣｏＮｉＦｅめっき層を研磨することになり、必要以上に膜厚を付けることになり、コスト的に不利であった。
［比較例２］
５％フッ酸液に浸漬する事により表面処理が施されたガラス基板へ無電解ＣｏＮｉＦｅめっきを０．７μｍ成膜した。その後、０．５±０．２μｍ研磨して、平滑なＣｏＮｉＦｅめっき膜０．２±０．２μｍを得ようとしたが、部分的にＣｏＮｉＦｅめっき膜が無くなってしまった。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
本発明により、ガラス基板上に研磨により平滑化された軟磁性膜を安価に設けることができる。また、これらを垂直磁気記録型ＨＤＤに利用することにより、記憶容量が大きく、小型化されたＨＤＤを安価に提供することが可能となる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に無電解めっき法により成膜された軟磁性ベース膜を有し更にその上に研磨用捨てめっきを施し、その捨てめっき層とともに軟磁性めっき層を研磨して平滑化する工程を経由した軟磁性ベース膜を有するガラス基板。
【請求項２】
上記捨てめっき層がニッケル系めっきであることを特徴とする請求項１に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板を用いたハードディスク。
【請求項４】
ガラス基板上に無電解めっき法により軟磁性ベース膜を成膜する工程、その上に研磨用捨てめっきを成膜する工程、その捨てめっき層とともに軟磁性ベース膜を研磨して軟磁性ベース膜を平滑化する工程からなる軟磁性ベース膜を有するガラス基板の製法。
【請求項５】
上記捨てめっき層がニッケル系めっきであることを特徴とする請求項４に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板の製法。
【請求項６】
請求項４又は５に記載する工程に加えて更に所定の層を形成する工程を経るハードディスクの製法。
【請求項１】
ガラス基板上に無電解めっき法により成膜された軟磁性ベース膜を有し更にその上に研磨用捨てめっきを施し、その捨てめっき層とともに軟磁性めっき層を研磨して平滑化する工程を経由した軟磁性ベース膜を有するガラス基板。
【請求項２】
上記捨てめっき層がニッケル系めっきであることを特徴とする請求項１に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板を用いたハードディスク。
【請求項４】
ガラス基板上に無電解めっき法により軟磁性ベース膜を成膜する工程、その上に研磨用捨てめっきを成膜する工程、その捨てめっき層とともに軟磁性ベース膜を研磨して軟磁性ベース膜を平滑化する工程からなる軟磁性ベース膜を有するガラス基板の製法。
【請求項５】
上記捨てめっき層がニッケル系めっきであることを特徴とする請求項４に記載の軟磁性ベース膜を有するガラス基板の製法。
【請求項６】
請求項４又は５に記載する工程に加えて更に所定の層を形成する工程を経るハードディスクの製法。
【公開番号】特開２００６−３３１５６３（Ｐ２００６−３３１５６３Ａ）
【公開日】平成１８年１２月７日（２００６．１２．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１５５１１５（Ｐ２００５−１５５１１５）
【出願日】平成１７年５月２７日（２００５．５．２７）
【出願人】（５９１００７８６０）日鉱金属株式会社 (545)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１２月７日（２００６．１２．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年５月２７日（２００５．５．２７）
【出願人】（５９１００７８６０）日鉱金属株式会社 (545)
【Ｆターム（参考）】
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