研磨装置、並びに磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法
【課題】被研磨体を安定的に研磨できる、研磨装置を提供すること。
【解決手段】吊り機構８０と、吊り機構８０に吊るされた上定盤４０と、上定盤４０に対向する下定盤３０と、上定盤４０及び吊り機構８０を軸継ぎ手５５を介して昇降させるピストンロッド５４及びシリンダ５２を有する昇降機構５０とを備え、上定盤４０と下定盤３０との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置であって、ピストンロッド５４に連動するフランジ部１２０と、吊り機構８０とフランジ部１２０との間に介在する制振機構１００とを備えることを特徴とする、研磨装置。
【解決手段】吊り機構８０と、吊り機構８０に吊るされた上定盤４０と、上定盤４０に対向する下定盤３０と、上定盤４０及び吊り機構８０を軸継ぎ手５５を介して昇降させるピストンロッド５４及びシリンダ５２を有する昇降機構５０とを備え、上定盤４０と下定盤３０との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置であって、ピストンロッド５４に連動するフランジ部１２０と、吊り機構８０とフランジ部１２０との間に介在する制振機構１００とを備えることを特徴とする、研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、上定盤と下定盤との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置に関する。また、研磨装置を用いる工程を有する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリンダにより昇降自在の定盤吊りに吊るされた上定盤と、上定盤に対向する下定盤とを備え、キャリヤに保持された被研磨体を上定盤と下定盤によって研磨加工する平面研磨装置が知られている（例えば、特許文献１を参照）。この平面研磨装置では、研磨加工中の上定盤の振動を吸収するため、上定盤が防振装置を介して定盤吊りに吊るされている。
【０００３】
一方、上定盤に取り付けられた上定盤昇降具がユニバーサルジョイントを介して空圧シリンダのピストンロッドに接続された平面研磨装置が知られている（例えば、特許文献２を参照）。このユニバーサルジョイントは、上定盤を下定盤に対して平行にするためのものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２６２５１４号公報
【特許文献２】特開２００２−３５５７５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、図１Ａに示されるように、シリンダ１５２のロッド１５４の軸線が鉛直方向に一致するようにシリンダ１５２を位置決めしても、軸継ぎ手１５５の構造上の問題（例えば、軸継ぎ手１５５内部の球面滑り軸受の偏磨耗や遊びなど）のため、実際には、上定盤１４０が下定盤１３０に対して平行にならない場合がある。
【０００６】
この場合、例えば図１Ｂに示されるように、上定盤１４０と下定盤１３０との平行度及び上定盤１４０と下定盤１３０との同芯度を所望の値に調整すると、ロッド１５４とシリンダ１５２の軸線が鉛直方向に対して傾くという問題があった。
【０００７】
図１Ｂに示されるようにロッド１５４とシリンダ１５２の軸線が鉛直方向に対して傾いた状態で被研磨体を研磨加工すると、研磨加工中の上定盤１４０と下定盤１３０の振動が図１Ａの場合に比べて大きくなるため、被研磨体を安定的に研磨することが容易ではなかった。
【０００８】
そこで、本発明は、被研磨体を安定的に研磨できる、研磨装置の提供を目的とする。また、本発明は、該研磨装置を用いる工程を有する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明に係る研磨装置は、
吊り機構と、
前記吊り機構に吊るされた上定盤と、
前記上定盤に対向する下定盤と、
前記上定盤及び前記吊り機構を軸継ぎ手を介して昇降させるロッドを有する昇降機構とを備え、
前記上定盤と前記下定盤との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置であって、
前記ロッドに連動するフランジ部と、
前記吊り機構と前記フランジ部との間に介在する制振機構とを備えることを特徴とするものである。
【００１０】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
前記ガラス基板の洗浄工程と
を備える磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記主平面研磨工程は、本発明に係る研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨することを特徴とするものである。
【００１１】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、
本発明に係る研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
前記主平面研磨工程後に、前記ガラス基板上に薄膜を形成する成膜工程とを備えることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、被研磨体を安定的に研磨できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】シリンダ１５２を鉛直に取り付けたときに、上定盤１４０が傾いた状態を示した図である。
【図１Ｂ】上定盤１４０を下定盤１３０に対して平行に調整した時に、シリンダ１５２が傾いてしまった状態を示した図である。
【図２】本発明の一実施形態である両面研磨装置１１の模式的な縦断面図である。
【図３Ａ】上定盤４０を上昇させた状態を模式的に示す縦断面図である。
【図３Ｂ】上定盤４０を降下させた状態を模式的に示す縦断面図である。
【図４】フランジ部１２０及び制振機構１００の具体例を示した斜視図である。
【図５Ａ】制振機構１００の具体例であるサスペンション１００Ａの正面図である。
【図５Ｂ】サスペンション１００Ａの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は以下に記載される実施形態に限られない。
【００１５】
図２は、本発明の一実施形態である両面研磨装置１１の模式的な縦断面図である。両面研磨装置１１は、上定盤４０と下定盤３０との間に配置された複数の板状の被研磨体の上面及び下面を同時に研磨する。板状の被研磨体の具体例として、ガラス基板が挙げられる。両面研磨装置１１は、吊り機構８０と、上定盤４０と、下定盤３０と、昇降機構５０とを備える。
【００１６】
吊り機構８０は、複数の支柱８０ａと、インナープレート８０ｂと、アッパーホイール８０ｃとを備える。支柱８０ａは、両面研磨装置１１の上下方向に延在する支柱である。支柱８０ａは、吊り機構８０が上定盤４０を安定的に吊り下げできるように、上定盤４０の回転中心の周りに等間隔に複数（例えば、８本）設けられていると好ましい。インナープレート８０ｂは、各支柱８０ａの下端部に固定された円環状の取付部材である。アッパーホイール８０ｃは、各支柱８０ａの上端部に固定された円盤状の吊り板部材である。
【００１７】
上定盤４０は、吊り機構８０に固定されて吊るされている。上定盤４０の上面は、インナープレート８０ｂの下面に固定されている。また、上定盤４０の上面が、ダンパーを介して、インナープレート８０ｂの下面に固定されると、回転中の上定盤４０の振動を効果的に抑制できるため好ましい。上定盤４０の下面には、下定盤３０に配置された複数の板状被研磨体の上面を研磨する上側研磨パッドが取り付けられている。
【００１８】
下定盤３０は、上定盤４０の下方に上定盤４０に対向して配置されている。また、下定盤３０の上面は、水平面に対して平行になるように配置されている。下定盤３０の上面には、複数の板状被研磨体を保持するためのキャリヤと、複数の板状被研磨体の下面を研磨する下側研磨パッドとが取り付けられている。下定盤３０は、上定盤４０の回転線中心線と同じ回転中心線になるように、基台２０の上部に回転可能に支持されている。なお、下定盤３０は、基台２０の上部に回転不能に固定されて支持される定盤でもよい。
【００１９】
基台２０の内部には、上定盤４０等を回転させる複数の駆動モータを有する駆動部が配置されている。例えば、上定盤４０を吊り機構８０と共に回転させる駆動モータ、下定盤３０を回転させる駆動モータ、キャリヤの外周と噛み合う外歯を有するサンギアを回転させる駆動モータ、キャリヤの外周と噛み合う内歯を有するインターナルギアを回転させる駆動モータなどが挙げられる。この駆動部は、制御部９０からの制御信号に従って制御される。
【００２０】
両面研磨装置１１は、上定盤４０を回転させる駆動モータの駆動力を上定盤４０に伝える回転伝達機構６０を備える。回転伝達機構６０は、上定盤４０を回転させる駆動モータによって回転する駆動軸６１の上端に設けられた円筒状の結合部６２と、上定盤４０の中心孔を貫通する結合部６２の上側側面に形成されたキー溝（凹部）６２ａに嵌合可能なキー（爪）８１とを有する。上定盤４０の内周側に突出するキー８１は、支軸８２を揺動中心として、支軸８２によってインナープレート８０ｂに揺動可能に取り付けられている。
【００２１】
昇降機構５０は、上定盤４０及び吊り機構８０を軸継ぎ手５５を介して昇降させるピストンロッド５４と、ピストンロッド５４を支えるシリンダ５２とを備える。昇降機構５０は、ピストンロッド５４とシリンダ５２によって、キャリヤ交換時に上定盤４０を吊り機構８０と共に昇降させる。シリンダ５２は、ピストンロッド５４の軸線が鉛直方向に一致するように（言い換えれば、ピストンロッド５４の軸線が下定盤３０及び上定盤４０の回転中心線に一致するように）、基台２０の上方に起立する門型のフレーム７０の梁７２に固定されている。シリンダ５２は、例えば、梁７２の中央部にボルト等の固定部材５３で締結されている。また、シリンダ５２と梁７２との間にシムを挟んだ状態でシリンダ５２をボルト等の固定部材５３で梁７２に取り付けると、シリンダ５２の梁７２への取り付け具合の調整がしやすくなる。そのため、ピストンロッド５４の軸線を鉛直方向に一致させやすくなる。
【００２２】
軸継ぎ手５５は、昇降機構５０のピストンロッド５４と吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃとを接合する部材であり、ピストンロッド５４の下側先端部に連結される入力部５６と、アッパーホイール８０ｃの中心部に連結される出力部５７とを有する。入力部５６は、後述のフランジ部１２０の中央部に連結されてもよい。軸継ぎ手５５としては、自在軸継ぎ手（ユニバーサルジョイント）、流体軸継ぎ手、たわみ軸継ぎ手、固定軸継ぎ手を用いることができ、自在軸継ぎ手、たわみ軸継ぎ手を用いることがより好ましい。軸継ぎ手５５を用いることによって、上定盤４０と下定盤３０との平行度を高めることができる。
【００２３】
したがって、軸継ぎ手５５及び吊り機構８０を介してピストンロッド５４に接続された上定盤４０は、ピストンロッド５４の上方向または下方向のストローク移動に連動して上昇または降下する。
【００２４】
図３Ａは、上定盤４０を上昇させた状態を模式的に示す縦断面図である。上定盤４０は、キャリヤ交換時またはパッド交換時に、キー８１がキー溝６２ａから離れてから、昇降機構５０によって、下定盤３０の上方（Ｚａ方向）に上昇する。この上昇状態では、下定盤３０の上面に載置された研磨工程が終了した複数の被研磨体及びキャリヤ１６０を取り出して、次の研磨工程で使用するキャリヤ１６０及び未研磨の被研磨体を下定盤３０の上面に装着できる。
【００２５】
図３Ｂは、上定盤４０を降下させた状態を模式的に示す縦断面図である。シリンダ５２の下室に対する圧縮空気の供給圧力Ｐ１を低くすることによって（このとき、シリンダ５２の上室は大気開放、Ｐ２は大気圧）、ピストンロッド５４が上定盤４０の自重によりシリンダ５２の下方（Ｚｂ方向）に駆動されると、吊り機構８０と共に上定盤４０が降下する。上定盤４０が降下した状態において、上定盤４０の下面は、上定盤４０の自重により又は所定の圧力下で、下定盤３０に載置された複数の被研磨体の上面に接触する。キー８１とキー溝６２ａが嵌合した状態で、上定盤４０を回転させる駆動モータの駆動トルクが駆動軸６１を介して結合部６２に伝達されることにより、上定盤４０が結合部６２とともに回転する。
【００２６】
さらに、図２に示されるように、両面研磨装置１１は、フランジ部１２０と、制振機構１００とを備える。
【００２７】
フランジ部１２０は、ピストンロッド５４の軸線に対して直角な方向に突出するようにピストンロッド５４に取り付けられ、ピストンロッド５４のストローク移動に連動する部材である。フランジ部１２０は、ピストンロッド５４の下部に連結して固定される。フランジ部１２０は、軸継ぎ手５５の入力部５６がピストンロッド５４に連結される位置よりも上側で、ピストンロッド５４に連結されるとよい。
【００２８】
制振機構１００は、吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃとフランジ部１２０との間に介在するダンパーである。制振機構１００の上端部は、例えば、制振機構１００の下端部がアッパーホイール８０ｃの上面に接触してその上面をスライド移動できるように、フランジ部１２０に固定される。
【００２９】
制振機構１００は、例えば、後述のコイルスプリング１０４などの弾性体による押し付け機構を有する。押し付け機構は、吊り機構８０とフランジ部１２０の少なくとも一方の動きに連動するシャフト（例えば、後述のシャフト１１１）を有する。シャフトのストローク端で上定盤４０と下定盤３０が平行となるように、シャフトのストロークが事前に調整されている。
【００３０】
上定盤４０が傾いて上定盤４０と下定盤３０との平行度が悪化したとき、制振機構１００が傾いた上定盤４０をシャフトのストローク端まで押し返すため、上定盤４０と下定盤３０とが平行に矯正される。
【００３１】
このようなフランジ部１２０及び制振機構１００を設けることによって、上定盤４０及び吊り機構８０の下定盤３０に対する傾きが無くなるように矯正できるので、上定盤４０と下定盤３０との平行度を良くすることができ、軸継ぎ手５５の構造上の問題（例えば、軸継ぎ手５５内部の球面滑り軸受の偏磨耗や遊びなど）により生じる、ピストンロッド５４とシリンダ５２の軸線が鉛直方向に対して傾くといった問題が発生しない。上定盤４０と下定盤３０との平行度を良くしつつ、ピストンロッド５４の軸線が鉛直方向に一致するようにシリンダ５２を位置決めできるため、研磨加工中の上定盤４０及び下定盤３０の振動を確実に抑えることができる。したがって、板状被研磨体を安定的に研磨できるため、板状被研磨体の研磨加工後の品質が向上する。例えば板状被研磨体がガラス基板であれば、同一バッチ内の板厚のばらつきを小さくしたり、主平面の表面うねりＷａとそのばらつきを小さくしたりすることができる。
【００３２】
さらに、上定盤４０と下定盤３０との平行度及び制振効果を向上させるため、吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃの上面とフランジ部１２０の下面との間のギャップを広げる方向の突っ張り力を制振機構１００によって予め付与した状態で、制振機構１００がアッパーホイール８０ｃとフランジ部１２０との間に介在していると好適である。
【００３３】
図４は、フランジ部１２０及び制振機構１００の具体例を示した斜視図である。フランジ部１２０は、アッパープレート１２１と、アーム１０７とを有している。制振機構１００は、アーム１０７を介して、アッパープレート１２１と吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃとの間に介在する。
【００３４】
アッパープレート１２１は、ピストンロッド５４の下部が連結される開口部を中心部に有する円形の板材である。アッパープレート１２１がピストンロッド５４に連動して上下動するように、ピストンロッド５４の下部がアッパープレート１２１の中心部にボルトによって締結される。アーム１０７は、アッパープレート１２１に制振機構１００を取り付けるための部材である。アーム１０７は、スラリーの供給管を取り付けるためのスラリーアームと共用化してもよい。アーム１０７によってアッパープレート１２１に固定される制振機構１００の個数は複数であることが、上定盤４０と下定盤３０との平行度及び制振効果の向上の点で好ましく、少なくとも３個以上あることが好ましい。図４は、アーム１０７及び制振機構１００がそれぞれ６個ある場合を示している。アーム１０７及び制振機構１００は、アッパープレート１２１の円周方向に等間隔に配置されている。
【００３５】
図５Ａは、制振機構１００の具体例であるサスペンション１００Ａの正面図である。図５Ｂは、サスペンション１００Ａの側面図である。アーム１０７は、サスペンション１００Ａの部品として構成されている。
【００３６】
サスペンション１００Ａは、吊り機構８０とフランジ部１２０とを弾性的に接続するための弾性体として、コイルスプリング１０４を有している。また、サスペンション１００Ａは、吊り機構８０とフランジ部１２０の少なくとも一方の動きに連動するシャフト１１１と、シャフト１１１を支持する直動軸受１２５とを有する。直動軸受１２５によって、上定盤４０及び吊り機構８０の振動に伴って生ずるシャフト１１１の上下動を滑らかにできる。直動軸受１２５の具体例として、スプライン軸受（特には、ボールスプライン軸受）、リニアベアリング（リニアモーション）などが挙げられる。直動軸受１２５は、ナット１０６，スタッド１０８，シムリング１０９及びナット１１０によって、アーム１０７に固定される。コイルスプリング１０４の上端は、アーム１０７及び直動軸受１２５と連動する上側支持部１０５に当接し、コイルスプリング１０４の下端は、吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃの上面との接触部位に連結する下側支持部１０３に当接する。
【００３７】
また、制振機構１００は、吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃの上面との接触部位として、ローラー１０１と、キャスター本体部１０２とを有する。ローラー１０１は、キャスター本体部１０２に取り付けられた車軸１１２を回転軸とする回転体である。このような回転体がアッパーホイール８０ｃの上面を転がることで、制振機構１００の下端部がアッパーホイール８０ｃの上面に接触していても、吊り機構８０が上定盤４０と共に滑らかに回転できる。その結果、上定盤４０と下定盤３０との平行度及び制振効果を高めることができる。また、キャスター本体部１０２はアッパーホイール８０ｃの上面に対して平行な面内を３６０°回転可能なため、吊り機構８０が上定盤４０と共に更に滑らかに回転できる。その結果、上定盤４０と下定盤３０との平行度及び制振効果を更に高めることができる。
【００３８】
また、アッパーホイール８０ｃの上面との接触部位に設けられる回転体は、ローラー１０１のようなタイヤ形状に限らず、球体でもよい。また、このような回転体の材質は、アッパーホイール８０ｃとの接触によって屑の発生を抑えるため、金属よりもゴム等の樹脂であることが好ましい。
〔磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法について〕
一般に、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスク（磁気記録媒体の一例）の製造工程は、以下の工程を含む。
（工程１）フロート法、フュージョン法、プレス成形法、ダウンドロー法またはリドロー法で成形されたガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する。
（工程２）ガラス基板の側面部と面取り部を端面研磨する。
（工程３）研磨装置を用い、ガラス基板の主平面に研磨用液を供給しながらガラス基板の上下主平面を同時に研磨する。研磨工程は、１次研磨のみでもよく、１次研磨と２次研磨を行ってもよく、２次研磨の後に３次研磨を行ってもよい。
（工程４）ガラス基板を精密洗浄して乾燥し、磁気記録媒体用ガラス基板を得る。
（工程５）磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成し、磁気ディスクを製造する。
【００３９】
上記磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程において、（工程２）端面研磨工程の前後のうち少なくとも一方で主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）を実施してもよく、各工程間にガラス基板の洗浄（工程間洗浄）やガラス基板表面のエッチング（工程間エッチング）を実施してもよい。なお、主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）は広義の主平面の研磨である。
【００４０】
また、上記の工程５（すなわち、成膜工程）は、磁気記録媒体用ガラス基板の表面に、磁性層を形成する工程だけでなく、下地層、中間層、保護層及び潤滑膜などの他の薄膜を形成する工程を含むものでもよい。下地層は、例えば、磁気ヘッドからの記録磁界を環流させる役割を果たす軟磁性材料からなる。中間層は、例えば、軟磁性下地層と垂直記録用磁性層との間に形成される非磁性中間層である。この非磁性中間層は、例えば、垂直記録用磁性層のエピタキシャル成長を容易にする機能、及び軟磁性下地層や垂直記録用磁性層との磁気交換結合を断つ機能を有する。保護層は、例えば、腐食や損傷を防ぐため、磁性層の上に形成される。潤滑膜は、例えば、磁気ヘッドと記録媒体との摩擦を低減するため、保護膜の表面に形成される。
【００４１】
さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程（例えば、化学強化工程）を研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。
【００４２】
本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス（例えば、化学強化ガラス）でもよい。また、本発明において、ガラス素基板は、フロート法で造られたものでもよく、フュージョン法で造られたものでもよく、プレス成形法で造られたものでもよく、ダウンドロー法で造られたものでもよく、リドロー法で造られたものでも良い。
【００４３】
本発明は、例えば、両面研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する工程に関し、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨に係るものである。本発明は、ガラス基板の主平面を研磨する工程で適用でき、主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）、１次研磨、２次研磨、３次研磨などの研磨工程に適用できる。
【００４４】
また、本発明が適用できるガラス基板としては、磁気記録媒体用、フォトマスク用、液晶や有機ＥＬ等のディスプレイ用、光ピックアップ素子や光学フィルタ等の光学部品用などのガラス基板が具体的なものとして挙げられる。
【００４５】
研磨加工の安定化の効果を確認するため、本発明の実施例の両面研磨装置１１と従来の両面研磨装置（フランジ部１２０及び制振機構１００が無いタイプ）とについて、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面の表面うねりＷａを比較した。表面うねりＷａは、光干渉型表面形状測定器（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ社製 製品名：Ｏｐｔｉ−ＦＬＡＴＩＩ）を用いて測定した。表面うねりＷａの測定領域は、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍの磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域を含むように、円盤中心部から１０ｍｍ〜３２．５ｍｍに設定した。本発明の実施例の両面研磨装置１１では、軸継ぎ手５５として、自在軸継ぎ手（ユニバーサルジョイント）を用いた。
【００４６】
本発明の実施例の両面研磨装置１１を用いて磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を研磨した結果、表面うねりＷａが改善され、磁気記録媒体用ガラス基板の不良品発生率を従来の半分に低減でき、制振機構１００を備えた研磨装置は研磨加工を安定化する効果が高いことを確認できた。
【００４７】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形、改良及び置換を加えることができる。
【００４８】
例えば、吊り機構とフランジ部との間に介在する制振機構として、サスペンション１００Ａを例示したが、制振機能を有すれば、圧力シリンダやアクチュエータなどの他の制振機構でもよい。また、吊り機構とフランジ部とを弾性的に接続するための弾性体として、コイルスプリングを例示したが、ストローク調整機構付きのエア、油圧シリンダ、板ばね、ゴムなどの他の弾性体でもよい。
【００４９】
また、上述の実施形態は両面研磨装置であるが、本発明は、片面研磨装置にも適用できる。
【符号の説明】
【００５０】
１１ 両面研磨装置
２０ 基台
３０ 下定盤
４０ 上定盤
５０ 昇降機構
５２ シリンダ
５３ 固定部材
５４ ピストンロッド
５５ 軸継ぎ手
５６ 入力部
５７ 出力部
６０ 回転伝達機構
６１ 駆動軸
６２ 結合部
６２ａ キー溝
７０ フレーム
７２ 梁
８０ 吊り機構
８０ａ 支柱
８０ｂ インナープレート
８０ｃ アッパーホイール
８１ キー
８２ 支軸
９０ 制御部
１００ 制振機構
１００Ａ サスペンション
１０１ ローラー
１０２ キャスター本体部
１０３ 下側支持部
１０４ コイルスプリング
１０５ 上側支持部
１０６ ナット
１０７ アーム
１０８ スタッド
１０９ シムリング
１１０ ナット
１１１ シャフト
１１２ 車軸
１２０ フランジ部
１２１ アッパープレート
１２２ アーム
１２５ 直動軸受
１３０ 下定盤
１４０ 上定盤
１５２ シリンダ
１５４ ロッド
１５５ 軸継ぎ手
１６０ キャリヤ
１８０ 上定盤昇降具
【技術分野】
【０００１】
本発明は、上定盤と下定盤との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置に関する。また、研磨装置を用いる工程を有する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリンダにより昇降自在の定盤吊りに吊るされた上定盤と、上定盤に対向する下定盤とを備え、キャリヤに保持された被研磨体を上定盤と下定盤によって研磨加工する平面研磨装置が知られている（例えば、特許文献１を参照）。この平面研磨装置では、研磨加工中の上定盤の振動を吸収するため、上定盤が防振装置を介して定盤吊りに吊るされている。
【０００３】
一方、上定盤に取り付けられた上定盤昇降具がユニバーサルジョイントを介して空圧シリンダのピストンロッドに接続された平面研磨装置が知られている（例えば、特許文献２を参照）。このユニバーサルジョイントは、上定盤を下定盤に対して平行にするためのものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２６２５１４号公報
【特許文献２】特開２００２−３５５７５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、図１Ａに示されるように、シリンダ１５２のロッド１５４の軸線が鉛直方向に一致するようにシリンダ１５２を位置決めしても、軸継ぎ手１５５の構造上の問題（例えば、軸継ぎ手１５５内部の球面滑り軸受の偏磨耗や遊びなど）のため、実際には、上定盤１４０が下定盤１３０に対して平行にならない場合がある。
【０００６】
この場合、例えば図１Ｂに示されるように、上定盤１４０と下定盤１３０との平行度及び上定盤１４０と下定盤１３０との同芯度を所望の値に調整すると、ロッド１５４とシリンダ１５２の軸線が鉛直方向に対して傾くという問題があった。
【０００７】
図１Ｂに示されるようにロッド１５４とシリンダ１５２の軸線が鉛直方向に対して傾いた状態で被研磨体を研磨加工すると、研磨加工中の上定盤１４０と下定盤１３０の振動が図１Ａの場合に比べて大きくなるため、被研磨体を安定的に研磨することが容易ではなかった。
【０００８】
そこで、本発明は、被研磨体を安定的に研磨できる、研磨装置の提供を目的とする。また、本発明は、該研磨装置を用いる工程を有する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明に係る研磨装置は、
吊り機構と、
前記吊り機構に吊るされた上定盤と、
前記上定盤に対向する下定盤と、
前記上定盤及び前記吊り機構を軸継ぎ手を介して昇降させるロッドを有する昇降機構とを備え、
前記上定盤と前記下定盤との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置であって、
前記ロッドに連動するフランジ部と、
前記吊り機構と前記フランジ部との間に介在する制振機構とを備えることを特徴とするものである。
【００１０】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
前記ガラス基板の洗浄工程と
を備える磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記主平面研磨工程は、本発明に係る研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨することを特徴とするものである。
【００１１】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、
本発明に係る研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
前記主平面研磨工程後に、前記ガラス基板上に薄膜を形成する成膜工程とを備えることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、被研磨体を安定的に研磨できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】シリンダ１５２を鉛直に取り付けたときに、上定盤１４０が傾いた状態を示した図である。
【図１Ｂ】上定盤１４０を下定盤１３０に対して平行に調整した時に、シリンダ１５２が傾いてしまった状態を示した図である。
【図２】本発明の一実施形態である両面研磨装置１１の模式的な縦断面図である。
【図３Ａ】上定盤４０を上昇させた状態を模式的に示す縦断面図である。
【図３Ｂ】上定盤４０を降下させた状態を模式的に示す縦断面図である。
【図４】フランジ部１２０及び制振機構１００の具体例を示した斜視図である。
【図５Ａ】制振機構１００の具体例であるサスペンション１００Ａの正面図である。
【図５Ｂ】サスペンション１００Ａの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は以下に記載される実施形態に限られない。
【００１５】
図２は、本発明の一実施形態である両面研磨装置１１の模式的な縦断面図である。両面研磨装置１１は、上定盤４０と下定盤３０との間に配置された複数の板状の被研磨体の上面及び下面を同時に研磨する。板状の被研磨体の具体例として、ガラス基板が挙げられる。両面研磨装置１１は、吊り機構８０と、上定盤４０と、下定盤３０と、昇降機構５０とを備える。
【００１６】
吊り機構８０は、複数の支柱８０ａと、インナープレート８０ｂと、アッパーホイール８０ｃとを備える。支柱８０ａは、両面研磨装置１１の上下方向に延在する支柱である。支柱８０ａは、吊り機構８０が上定盤４０を安定的に吊り下げできるように、上定盤４０の回転中心の周りに等間隔に複数（例えば、８本）設けられていると好ましい。インナープレート８０ｂは、各支柱８０ａの下端部に固定された円環状の取付部材である。アッパーホイール８０ｃは、各支柱８０ａの上端部に固定された円盤状の吊り板部材である。
【００１７】
上定盤４０は、吊り機構８０に固定されて吊るされている。上定盤４０の上面は、インナープレート８０ｂの下面に固定されている。また、上定盤４０の上面が、ダンパーを介して、インナープレート８０ｂの下面に固定されると、回転中の上定盤４０の振動を効果的に抑制できるため好ましい。上定盤４０の下面には、下定盤３０に配置された複数の板状被研磨体の上面を研磨する上側研磨パッドが取り付けられている。
【００１８】
下定盤３０は、上定盤４０の下方に上定盤４０に対向して配置されている。また、下定盤３０の上面は、水平面に対して平行になるように配置されている。下定盤３０の上面には、複数の板状被研磨体を保持するためのキャリヤと、複数の板状被研磨体の下面を研磨する下側研磨パッドとが取り付けられている。下定盤３０は、上定盤４０の回転線中心線と同じ回転中心線になるように、基台２０の上部に回転可能に支持されている。なお、下定盤３０は、基台２０の上部に回転不能に固定されて支持される定盤でもよい。
【００１９】
基台２０の内部には、上定盤４０等を回転させる複数の駆動モータを有する駆動部が配置されている。例えば、上定盤４０を吊り機構８０と共に回転させる駆動モータ、下定盤３０を回転させる駆動モータ、キャリヤの外周と噛み合う外歯を有するサンギアを回転させる駆動モータ、キャリヤの外周と噛み合う内歯を有するインターナルギアを回転させる駆動モータなどが挙げられる。この駆動部は、制御部９０からの制御信号に従って制御される。
【００２０】
両面研磨装置１１は、上定盤４０を回転させる駆動モータの駆動力を上定盤４０に伝える回転伝達機構６０を備える。回転伝達機構６０は、上定盤４０を回転させる駆動モータによって回転する駆動軸６１の上端に設けられた円筒状の結合部６２と、上定盤４０の中心孔を貫通する結合部６２の上側側面に形成されたキー溝（凹部）６２ａに嵌合可能なキー（爪）８１とを有する。上定盤４０の内周側に突出するキー８１は、支軸８２を揺動中心として、支軸８２によってインナープレート８０ｂに揺動可能に取り付けられている。
【００２１】
昇降機構５０は、上定盤４０及び吊り機構８０を軸継ぎ手５５を介して昇降させるピストンロッド５４と、ピストンロッド５４を支えるシリンダ５２とを備える。昇降機構５０は、ピストンロッド５４とシリンダ５２によって、キャリヤ交換時に上定盤４０を吊り機構８０と共に昇降させる。シリンダ５２は、ピストンロッド５４の軸線が鉛直方向に一致するように（言い換えれば、ピストンロッド５４の軸線が下定盤３０及び上定盤４０の回転中心線に一致するように）、基台２０の上方に起立する門型のフレーム７０の梁７２に固定されている。シリンダ５２は、例えば、梁７２の中央部にボルト等の固定部材５３で締結されている。また、シリンダ５２と梁７２との間にシムを挟んだ状態でシリンダ５２をボルト等の固定部材５３で梁７２に取り付けると、シリンダ５２の梁７２への取り付け具合の調整がしやすくなる。そのため、ピストンロッド５４の軸線を鉛直方向に一致させやすくなる。
【００２２】
軸継ぎ手５５は、昇降機構５０のピストンロッド５４と吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃとを接合する部材であり、ピストンロッド５４の下側先端部に連結される入力部５６と、アッパーホイール８０ｃの中心部に連結される出力部５７とを有する。入力部５６は、後述のフランジ部１２０の中央部に連結されてもよい。軸継ぎ手５５としては、自在軸継ぎ手（ユニバーサルジョイント）、流体軸継ぎ手、たわみ軸継ぎ手、固定軸継ぎ手を用いることができ、自在軸継ぎ手、たわみ軸継ぎ手を用いることがより好ましい。軸継ぎ手５５を用いることによって、上定盤４０と下定盤３０との平行度を高めることができる。
【００２３】
したがって、軸継ぎ手５５及び吊り機構８０を介してピストンロッド５４に接続された上定盤４０は、ピストンロッド５４の上方向または下方向のストローク移動に連動して上昇または降下する。
【００２４】
図３Ａは、上定盤４０を上昇させた状態を模式的に示す縦断面図である。上定盤４０は、キャリヤ交換時またはパッド交換時に、キー８１がキー溝６２ａから離れてから、昇降機構５０によって、下定盤３０の上方（Ｚａ方向）に上昇する。この上昇状態では、下定盤３０の上面に載置された研磨工程が終了した複数の被研磨体及びキャリヤ１６０を取り出して、次の研磨工程で使用するキャリヤ１６０及び未研磨の被研磨体を下定盤３０の上面に装着できる。
【００２５】
図３Ｂは、上定盤４０を降下させた状態を模式的に示す縦断面図である。シリンダ５２の下室に対する圧縮空気の供給圧力Ｐ１を低くすることによって（このとき、シリンダ５２の上室は大気開放、Ｐ２は大気圧）、ピストンロッド５４が上定盤４０の自重によりシリンダ５２の下方（Ｚｂ方向）に駆動されると、吊り機構８０と共に上定盤４０が降下する。上定盤４０が降下した状態において、上定盤４０の下面は、上定盤４０の自重により又は所定の圧力下で、下定盤３０に載置された複数の被研磨体の上面に接触する。キー８１とキー溝６２ａが嵌合した状態で、上定盤４０を回転させる駆動モータの駆動トルクが駆動軸６１を介して結合部６２に伝達されることにより、上定盤４０が結合部６２とともに回転する。
【００２６】
さらに、図２に示されるように、両面研磨装置１１は、フランジ部１２０と、制振機構１００とを備える。
【００２７】
フランジ部１２０は、ピストンロッド５４の軸線に対して直角な方向に突出するようにピストンロッド５４に取り付けられ、ピストンロッド５４のストローク移動に連動する部材である。フランジ部１２０は、ピストンロッド５４の下部に連結して固定される。フランジ部１２０は、軸継ぎ手５５の入力部５６がピストンロッド５４に連結される位置よりも上側で、ピストンロッド５４に連結されるとよい。
【００２８】
制振機構１００は、吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃとフランジ部１２０との間に介在するダンパーである。制振機構１００の上端部は、例えば、制振機構１００の下端部がアッパーホイール８０ｃの上面に接触してその上面をスライド移動できるように、フランジ部１２０に固定される。
【００２９】
制振機構１００は、例えば、後述のコイルスプリング１０４などの弾性体による押し付け機構を有する。押し付け機構は、吊り機構８０とフランジ部１２０の少なくとも一方の動きに連動するシャフト（例えば、後述のシャフト１１１）を有する。シャフトのストローク端で上定盤４０と下定盤３０が平行となるように、シャフトのストロークが事前に調整されている。
【００３０】
上定盤４０が傾いて上定盤４０と下定盤３０との平行度が悪化したとき、制振機構１００が傾いた上定盤４０をシャフトのストローク端まで押し返すため、上定盤４０と下定盤３０とが平行に矯正される。
【００３１】
このようなフランジ部１２０及び制振機構１００を設けることによって、上定盤４０及び吊り機構８０の下定盤３０に対する傾きが無くなるように矯正できるので、上定盤４０と下定盤３０との平行度を良くすることができ、軸継ぎ手５５の構造上の問題（例えば、軸継ぎ手５５内部の球面滑り軸受の偏磨耗や遊びなど）により生じる、ピストンロッド５４とシリンダ５２の軸線が鉛直方向に対して傾くといった問題が発生しない。上定盤４０と下定盤３０との平行度を良くしつつ、ピストンロッド５４の軸線が鉛直方向に一致するようにシリンダ５２を位置決めできるため、研磨加工中の上定盤４０及び下定盤３０の振動を確実に抑えることができる。したがって、板状被研磨体を安定的に研磨できるため、板状被研磨体の研磨加工後の品質が向上する。例えば板状被研磨体がガラス基板であれば、同一バッチ内の板厚のばらつきを小さくしたり、主平面の表面うねりＷａとそのばらつきを小さくしたりすることができる。
【００３２】
さらに、上定盤４０と下定盤３０との平行度及び制振効果を向上させるため、吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃの上面とフランジ部１２０の下面との間のギャップを広げる方向の突っ張り力を制振機構１００によって予め付与した状態で、制振機構１００がアッパーホイール８０ｃとフランジ部１２０との間に介在していると好適である。
【００３３】
図４は、フランジ部１２０及び制振機構１００の具体例を示した斜視図である。フランジ部１２０は、アッパープレート１２１と、アーム１０７とを有している。制振機構１００は、アーム１０７を介して、アッパープレート１２１と吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃとの間に介在する。
【００３４】
アッパープレート１２１は、ピストンロッド５４の下部が連結される開口部を中心部に有する円形の板材である。アッパープレート１２１がピストンロッド５４に連動して上下動するように、ピストンロッド５４の下部がアッパープレート１２１の中心部にボルトによって締結される。アーム１０７は、アッパープレート１２１に制振機構１００を取り付けるための部材である。アーム１０７は、スラリーの供給管を取り付けるためのスラリーアームと共用化してもよい。アーム１０７によってアッパープレート１２１に固定される制振機構１００の個数は複数であることが、上定盤４０と下定盤３０との平行度及び制振効果の向上の点で好ましく、少なくとも３個以上あることが好ましい。図４は、アーム１０７及び制振機構１００がそれぞれ６個ある場合を示している。アーム１０７及び制振機構１００は、アッパープレート１２１の円周方向に等間隔に配置されている。
【００３５】
図５Ａは、制振機構１００の具体例であるサスペンション１００Ａの正面図である。図５Ｂは、サスペンション１００Ａの側面図である。アーム１０７は、サスペンション１００Ａの部品として構成されている。
【００３６】
サスペンション１００Ａは、吊り機構８０とフランジ部１２０とを弾性的に接続するための弾性体として、コイルスプリング１０４を有している。また、サスペンション１００Ａは、吊り機構８０とフランジ部１２０の少なくとも一方の動きに連動するシャフト１１１と、シャフト１１１を支持する直動軸受１２５とを有する。直動軸受１２５によって、上定盤４０及び吊り機構８０の振動に伴って生ずるシャフト１１１の上下動を滑らかにできる。直動軸受１２５の具体例として、スプライン軸受（特には、ボールスプライン軸受）、リニアベアリング（リニアモーション）などが挙げられる。直動軸受１２５は、ナット１０６，スタッド１０８，シムリング１０９及びナット１１０によって、アーム１０７に固定される。コイルスプリング１０４の上端は、アーム１０７及び直動軸受１２５と連動する上側支持部１０５に当接し、コイルスプリング１０４の下端は、吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃの上面との接触部位に連結する下側支持部１０３に当接する。
【００３７】
また、制振機構１００は、吊り機構８０のアッパーホイール８０ｃの上面との接触部位として、ローラー１０１と、キャスター本体部１０２とを有する。ローラー１０１は、キャスター本体部１０２に取り付けられた車軸１１２を回転軸とする回転体である。このような回転体がアッパーホイール８０ｃの上面を転がることで、制振機構１００の下端部がアッパーホイール８０ｃの上面に接触していても、吊り機構８０が上定盤４０と共に滑らかに回転できる。その結果、上定盤４０と下定盤３０との平行度及び制振効果を高めることができる。また、キャスター本体部１０２はアッパーホイール８０ｃの上面に対して平行な面内を３６０°回転可能なため、吊り機構８０が上定盤４０と共に更に滑らかに回転できる。その結果、上定盤４０と下定盤３０との平行度及び制振効果を更に高めることができる。
【００３８】
また、アッパーホイール８０ｃの上面との接触部位に設けられる回転体は、ローラー１０１のようなタイヤ形状に限らず、球体でもよい。また、このような回転体の材質は、アッパーホイール８０ｃとの接触によって屑の発生を抑えるため、金属よりもゴム等の樹脂であることが好ましい。
〔磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法について〕
一般に、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスク（磁気記録媒体の一例）の製造工程は、以下の工程を含む。
（工程１）フロート法、フュージョン法、プレス成形法、ダウンドロー法またはリドロー法で成形されたガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する。
（工程２）ガラス基板の側面部と面取り部を端面研磨する。
（工程３）研磨装置を用い、ガラス基板の主平面に研磨用液を供給しながらガラス基板の上下主平面を同時に研磨する。研磨工程は、１次研磨のみでもよく、１次研磨と２次研磨を行ってもよく、２次研磨の後に３次研磨を行ってもよい。
（工程４）ガラス基板を精密洗浄して乾燥し、磁気記録媒体用ガラス基板を得る。
（工程５）磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成し、磁気ディスクを製造する。
【００３９】
上記磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程において、（工程２）端面研磨工程の前後のうち少なくとも一方で主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）を実施してもよく、各工程間にガラス基板の洗浄（工程間洗浄）やガラス基板表面のエッチング（工程間エッチング）を実施してもよい。なお、主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）は広義の主平面の研磨である。
【００４０】
また、上記の工程５（すなわち、成膜工程）は、磁気記録媒体用ガラス基板の表面に、磁性層を形成する工程だけでなく、下地層、中間層、保護層及び潤滑膜などの他の薄膜を形成する工程を含むものでもよい。下地層は、例えば、磁気ヘッドからの記録磁界を環流させる役割を果たす軟磁性材料からなる。中間層は、例えば、軟磁性下地層と垂直記録用磁性層との間に形成される非磁性中間層である。この非磁性中間層は、例えば、垂直記録用磁性層のエピタキシャル成長を容易にする機能、及び軟磁性下地層や垂直記録用磁性層との磁気交換結合を断つ機能を有する。保護層は、例えば、腐食や損傷を防ぐため、磁性層の上に形成される。潤滑膜は、例えば、磁気ヘッドと記録媒体との摩擦を低減するため、保護膜の表面に形成される。
【００４１】
さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程（例えば、化学強化工程）を研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。
【００４２】
本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス（例えば、化学強化ガラス）でもよい。また、本発明において、ガラス素基板は、フロート法で造られたものでもよく、フュージョン法で造られたものでもよく、プレス成形法で造られたものでもよく、ダウンドロー法で造られたものでもよく、リドロー法で造られたものでも良い。
【００４３】
本発明は、例えば、両面研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する工程に関し、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨に係るものである。本発明は、ガラス基板の主平面を研磨する工程で適用でき、主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）、１次研磨、２次研磨、３次研磨などの研磨工程に適用できる。
【００４４】
また、本発明が適用できるガラス基板としては、磁気記録媒体用、フォトマスク用、液晶や有機ＥＬ等のディスプレイ用、光ピックアップ素子や光学フィルタ等の光学部品用などのガラス基板が具体的なものとして挙げられる。
【００４５】
研磨加工の安定化の効果を確認するため、本発明の実施例の両面研磨装置１１と従来の両面研磨装置（フランジ部１２０及び制振機構１００が無いタイプ）とについて、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面の表面うねりＷａを比較した。表面うねりＷａは、光干渉型表面形状測定器（ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ社製 製品名：Ｏｐｔｉ−ＦＬＡＴＩＩ）を用いて測定した。表面うねりＷａの測定領域は、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍの磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域を含むように、円盤中心部から１０ｍｍ〜３２．５ｍｍに設定した。本発明の実施例の両面研磨装置１１では、軸継ぎ手５５として、自在軸継ぎ手（ユニバーサルジョイント）を用いた。
【００４６】
本発明の実施例の両面研磨装置１１を用いて磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を研磨した結果、表面うねりＷａが改善され、磁気記録媒体用ガラス基板の不良品発生率を従来の半分に低減でき、制振機構１００を備えた研磨装置は研磨加工を安定化する効果が高いことを確認できた。
【００４７】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形、改良及び置換を加えることができる。
【００４８】
例えば、吊り機構とフランジ部との間に介在する制振機構として、サスペンション１００Ａを例示したが、制振機能を有すれば、圧力シリンダやアクチュエータなどの他の制振機構でもよい。また、吊り機構とフランジ部とを弾性的に接続するための弾性体として、コイルスプリングを例示したが、ストローク調整機構付きのエア、油圧シリンダ、板ばね、ゴムなどの他の弾性体でもよい。
【００４９】
また、上述の実施形態は両面研磨装置であるが、本発明は、片面研磨装置にも適用できる。
【符号の説明】
【００５０】
１１ 両面研磨装置
２０ 基台
３０ 下定盤
４０ 上定盤
５０ 昇降機構
５２ シリンダ
５３ 固定部材
５４ ピストンロッド
５５ 軸継ぎ手
５６ 入力部
５７ 出力部
６０ 回転伝達機構
６１ 駆動軸
６２ 結合部
６２ａ キー溝
７０ フレーム
７２ 梁
８０ 吊り機構
８０ａ 支柱
８０ｂ インナープレート
８０ｃ アッパーホイール
８１ キー
８２ 支軸
９０ 制御部
１００ 制振機構
１００Ａ サスペンション
１０１ ローラー
１０２ キャスター本体部
１０３ 下側支持部
１０４ コイルスプリング
１０５ 上側支持部
１０６ ナット
１０７ アーム
１０８ スタッド
１０９ シムリング
１１０ ナット
１１１ シャフト
１１２ 車軸
１２０ フランジ部
１２１ アッパープレート
１２２ アーム
１２５ 直動軸受
１３０ 下定盤
１４０ 上定盤
１５２ シリンダ
１５４ ロッド
１５５ 軸継ぎ手
１６０ キャリヤ
１８０ 上定盤昇降具
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吊り機構と、
前記吊り機構に吊るされた上定盤と、
前記上定盤に対向する下定盤と、
前記上定盤及び前記吊り機構を軸継ぎ手を介して昇降させるロッドを有する昇降機構とを備え、
前記上定盤と前記下定盤との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置であって、
前記ロッドに連動するフランジ部と、
前記吊り機構と前記フランジ部との間に介在する制振機構とを備えることを特徴とする、研磨装置。
【請求項２】
前記制振機構は、前記吊り機構と前記フランジ部とを弾性的に接続するための弾性体を備える、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
前記制振機構は、
前記吊り機構と前記フランジ部の少なくとも一方の動きに連動するシャフトと、
前記シャフトを支持する軸受とを備える、請求項２に記載の研磨装置。
【請求項４】
前記制振機構は、前記吊り機構との接触部位に回転体を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の研磨装置。
【請求項５】
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
前記ガラス基板の洗浄工程と
を備える磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記主平面研磨工程は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１から４のいずれか一項に記載の研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
前記主平面研磨工程後に、前記ガラス基板上に薄膜を形成する成膜工程とを備える、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１】
吊り機構と、
前記吊り機構に吊るされた上定盤と、
前記上定盤に対向する下定盤と、
前記上定盤及び前記吊り機構を軸継ぎ手を介して昇降させるロッドを有する昇降機構とを備え、
前記上定盤と前記下定盤との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置であって、
前記ロッドに連動するフランジ部と、
前記吊り機構と前記フランジ部との間に介在する制振機構とを備えることを特徴とする、研磨装置。
【請求項２】
前記制振機構は、前記吊り機構と前記フランジ部とを弾性的に接続するための弾性体を備える、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
前記制振機構は、
前記吊り機構と前記フランジ部の少なくとも一方の動きに連動するシャフトと、
前記シャフトを支持する軸受とを備える、請求項２に記載の研磨装置。
【請求項４】
前記制振機構は、前記吊り機構との接触部位に回転体を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の研磨装置。
【請求項５】
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
前記ガラス基板の洗浄工程と
を備える磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
前記主平面研磨工程は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１から４のいずれか一項に記載の研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
前記主平面研磨工程後に、前記ガラス基板上に薄膜を形成する成膜工程とを備える、磁気記録媒体の製造方法。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図１Ｂ】
【図２】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【公開番号】特開２０１３−５６４０５（Ｐ２０１３−５６４０５Ａ）
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９７３０９（Ｐ２０１１−１９７３０９）
【出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（０００００００４４）旭硝子株式会社 (2,665)
【Ｆターム（参考）】
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