硬化性組成物、硬化膜及び積層体
【課題】硬化性に優れ、帯電防止性、ハードコート性、透明性、耐光性、高屈折率性にすぐれた硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物と、テトラカルボン酸無水物化合物（Ａ）中の酸無水物基と、酸無水物基に反応しうる１個の官能基を有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、カルボキシル基に反応しうる官能基を有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる硬化性分散剤を含有する硬化性組成物、該組成物を硬化してなる硬化膜およびその積層体。
【解決手段】平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物と、テトラカルボン酸無水物化合物（Ａ）中の酸無水物基と、酸無水物基に反応しうる１個の官能基を有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、カルボキシル基に反応しうる官能基を有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる硬化性分散剤を含有する硬化性組成物、該組成物を硬化してなる硬化膜およびその積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート性を持った硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報通信機器の性能確保と安全対策の面から、機器の表面に、光硬化性組成物を用いて、耐擦傷性、密着性、高屈折率性などを有するハードコート性塗膜や、帯電防止性塗膜を形成することが行われている。
【０００３】
近年、情報通信機器の発達と汎用化には目覚しいものがあり、ハードコート性塗膜、帯電防止性塗膜等の更なる性能向上及び生産性の向上が求められており、光硬化性材料を用いた様々な提案がされている。
【０００４】
例えば、以下のような技術提案を挙げることができる（特許文献１〜３参照）。特許文献１では、酸化スズなどの導電性粉末と複数のモノマー成分とを有機溶剤中、ボールミルなどを用いて混合し、導電性塗料を作成する方法が開示されている。特許文献２では、アンチモンドープ酸化スズと紫外線硬化性のあるシランカップリング剤とを有機溶剤中、ボールミルを用いて混合し、導電性塗料用の分散体を作成する方法が開示されている。さらに特許文献３では、導電性酸化物微粉末を易分散性低沸点溶剤と難分散性高沸点溶剤の混合溶剤中に分散し、導電性塗料を作成する方法が開示されている。
【０００５】
しかし、上記方法により、高屈折率性、ハードコート性、帯電防止性、耐光性などにおいて良好な物性を併せ持つ硬化性組成物を作成することが可能となっても、有機溶剤など疎水性の高い媒体に対して、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物を安定に、一次粒子レベルで分散および安定化させることはできないため、塗膜の透明性や光硬化性塗料の経時安定性等の観点で問題を生じやすい。
【特許文献１】特開平０４−１７２６３４号公報
【特許文献２】特開平０６−２６４００９号公報
【特許文献３】特開２００１−１３１４８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明は、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物を含有しながら、高屈折率性、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性の全てにおいて優れた物性を併せ持つ塗膜を形成可能な、経時安定性のある硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が３，０００〜２０，０００である硬化性分散剤と、
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物と、を含む硬化性組成物に関する。
【０００８】
一般式（１）
【０００９】
【化２】
（ここで、Ｒ1は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
また、本発明は、酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）が、酸無水物基に反応しうる１個の官能基と３個以上の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ１）であることを特徴とする上記硬化性組成物に関する。
【００１０】
また、本発明は、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）が、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｃ１）であることを特徴とする上記硬化性組成物に関する。
【００１１】
また、本発明は、金属酸化物が、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする上記硬化性組成物に関する。
【００１２】
また、本発明は、さらに、溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して１０〜１００重量％の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする上記硬化性組成物に関する。
【００１３】
また、本発明は、上記硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜に関する。
【００１４】
また、本発明は、上記硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法に関する。
【００１５】
また、本発明は、上記製造方法で製造されてなる積層体に関する。
【００１６】
また、本発明は、上記積層体が反射防止膜に関する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の硬化性組成物は、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物を含有しながら、高屈折率性、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び塗工性の全てにおいて優れた物性を併せ持つ塗膜を形成することが可能であり、特にプラスチック光学部品、光ディスク、反射防止膜、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック積層体等のハードコート剤に好適である。さらには屈折率が高く、屈折率が同程度の基材に塗布した場合、反射干渉縞が生じず、光学用途に好適に用いられる。また、金属酸化物組成物を含んだ硬化物の屈折率を高く制御可能であることから、光半導体素子封止材としても好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
まず、本発明の硬化性組成物について説明する。
【００１９】
この硬化性組成物は、少なくとも平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物と、
下記一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が３，０００〜２０，０００である硬化性分散剤を含有するものであり、二種類以上の金属酸化物と二種類以上の硬化性分散剤をそれぞれ含んでも良い。
【００２０】
一般式（１）
【００２１】
【化３】
（ここで、Ｒ1は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
金属酸化物は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物である。金属酸化物の平均一次粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）などを用いて、粒子自身を直接観察することによって測定できる。
【００２２】
平均一次粒子径が５ｎｍ未満の金属酸化物の場合、微粒子同士の凝集力が非常に大きいことから、透明性の高い一次粒子レベルの分散をさせることが非常に困難である。一方、平均一次粒子径が１００ｎｍを超える金属酸化物の場合、一次粒子レベルで分散させることは容易になるが、粒子径が大きいことから可視光などの光に対して散乱が生じ易く、硬化膜の透明性を悪化させる問題が生じる。
【００２３】
金属酸化物としては、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものが好ましい。特に、アンチモン、インジウム、スズおよび亜鉛のいずれか一種の元素を含有するものは、導電性も良好であることから、より好ましい。
【００２４】
具体的には、五酸化アンチモン、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化スズ、ＡＴＯ被覆酸化チタン、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００２５】
金属酸化物の市販品としては、
日産化学工業（株）製：サンエポックＥＦＲ−６Ｎ、サンエポックＥＦＲ−６ＮＰ（五酸化アンチモン）、
石原産業（株）製：ＳＮ−１００Ｐ（ＡＴＯ）、ＦＳ−１０Ｐ（ＡＴＯ）、ＳＮ−１０２Ｐ（ＡＴＯ）、ＦＳ−１２Ｐ（ＡＴＯ）、ＥＴ−３００Ｗ（ＡＴＯ被覆酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ａ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｂ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｃ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｄ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｓ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｎ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５１（Ａ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５１（Ｃ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−１（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−２（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−３（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−４（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｖ−３（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｖ−４（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−１（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−２（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−３（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−１１（鉄含有酸化チタン）、ＳＴ−０１（酸化チタン）、ＳＴ−２１（酸化チタン）、ＳＴ−３０Ｌ（酸化チタン）、ＳＴ−３１（酸化チタン）、
三菱マテリアル（株）製：Ｔ−１（ＩＴＯ）、Ｓ−１２００（酸化スズ）、Ｔ-１（ＡＴＯ）、ＥＰ ＳＰ-２（ＰＴＯ）、
三井金属工業（株）製：パストラン（ＩＴＯ、ＡＴＯ）、
シーアイ化成（株）製：ナノテックＩＴＯ、ナノテックＳｎＯ2、ナノテックＴｉＯ2、ナノテックＳｉＯ2、ナノテックＡｌ2Ｏ3、ナノテックＺｎＯ、
触媒化成工業（株）製：ＴＬ−２０（ＡＴＯ）、ＴＬ−３０（ＡＴＯ）、ＴＬ−３０Ｓ（ＰＴＯ）、ＴＬ−１２０（ＩＴＯ）、ＴＬ−１３０（ＩＴＯ）、
ハクスイテック（株）製：ＰａｚｅｔＣＫ（アルミニウムドープ酸化亜鉛）、ＰａｚｅｔＧＫ（ガリウムドープ酸化亜鉛）、
堺化学工業（株）製：ＮＡＮＯＦＩＮＥ２５Ａ（酸化亜鉛）、ＮＡＮＯＦＩＮＥ５０Ａ（酸化亜鉛）、ＳＣ−１８（アルミニウムドープ酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−２５（酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−２５ＬＰ（酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−５０（酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−５０ＬＰ（酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−７５（酸化亜鉛）、ＳＴＲ−６０Ｃ（酸化チタン）、ＳＴＲ−６０Ｃ-ＬＰ（酸化チタン）、ＳＴＲ−１００Ｃ（酸化チタン）、
住友大阪セメント（株）製：ＯＺＣ−３ＹＣ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−３ＹＤ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−３ＹＦＡ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−８ＹＣ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−０Ｓ１００（酸化ジルコニウム）、
日本電工（株）製：ＰＣＳ（酸化ジルコニウム）、Ｔ−０１（酸化ジルコニウム）、ＰＣＳ−６０（酸化ジルコニウム）、
テイカ（株）製：ＭＴ−１００Ｔ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＴＶ（酸化チタン）、ＭＴ−１００Ｚ（酸化チタン）、ＭＴ−１００Ｆ（酸化チタン）、ＭＴ−１００Ｓ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＡＱ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＨＤ（酸化チタン）、ＭＴ−１５０Ｗ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｈ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＨＤ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｂ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＭＴ−６００Ｂ（酸化チタン）、ＭＴ−７００ＨＤ（酸化チタン）、ＳＭＴ−１００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＳＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化チタン）、
日本アエロジル（株）製：Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ Ｏｘｉｄｅ Ｃ（酸化アルミニウム）、ＡＥＲＯＳＩＬ５０（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ９０Ｇ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ１３０（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ２００（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ２００ＣＦ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ２００ＦＡ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ３００（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ３００ＣＦ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ３８０（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７４（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７６（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ２０２（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ８０５（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ８１２（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ８１２Ｓ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＭＯＸ５０（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＴＴ６００（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＭＯＸ８０（酸化ケイ素/酸化アルミニウム）、ＡＥＲＯＳＩＬＭＯＸ１７０（酸化ケイ素/酸化アルミニウム）、ＡＥＲＯＳＩＬＣＯＸ８４（酸化ケイ素/酸化アルミニウム）、
等が挙げられる。
【００２６】
本発明で用いられる硬化性分散剤は、金属酸化物の溶剤中での分散安定性付与、硬化膜中での硬化性分散剤である有機成分との相溶性向上、硬化膜のハードコート性向上のために用いられる。
＜＜硬化性分散剤＞＞
硬化性分散剤について以下に説明する。
【００２７】
硬化性分散剤は、一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が３，０００〜２０，０００の（メタ）アクリレート化合物である。
＜一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）＞
一般式（１）
【００２８】
【化４】
（ここで、Ｒ1は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
化合物（Ａ）は、脂肪族テトラカルボン酸二無水物もしくは芳香族テトラカルボン酸二無水物である。
【００２９】
Ｒ1が４価の脂肪族基である脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、炭素鎖数４〜１０のアルキル骨格である４価の脂肪族基の骨格の酸二無水物が挙げられ、具体的にはブタン骨格、シクロブタン骨格、ヘキサン骨格、シクロヘキサン骨格、デカリン骨格などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００３０】
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００３１】
さらに、Ｒ1の４価の芳香族基である芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、具体的にはフェニル骨格、ベンゾフェノン骨格、ビフェニル骨格、フェニルエーテル骨格、ジフェニルスルホン骨格、ジフェニルスルフィド骨格、ペリレン骨格、フルオレン骨格、テトラヒドロナフタレン骨格及びナフタレン骨格などの骨格の酸二無水物である芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００３２】
芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニル骨格を有するビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン骨格を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物等、フルオレン骨格を有する９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、あるいは、９，９−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］フルオレン二無水物、テトロヒドロナフタレン骨格を有するテトラヒドロナフタレンカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート等が挙げられる。市販品としては新日本理化株式会社製「リカシッドＴＭＴＡ−Ｃ」、「リカシッドＭＴＡ−１０」、「リカシッドＭＴＡ−１５」、「リカシッドＴＭＥＧシリーズ」、「リカシッドＴＤＡ」、「リカシッドＤＳＤＡ」、などが挙げられる。
【００３３】
これら芳香族テトラカルボン酸二無水物のうち、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物は、ビフェニル骨格を有するものであり、本発明の硬化性分散剤中にビフェニル骨格を効率よく導入でき、さらに硬化膜のハードコート性と金属酸化物の良好な分散性を併せ持つことができるため、特に好ましい。
＜酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）＞
酸無水物基に反応しうる官能基としては、水酸基、エポキシ基、アミノ基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、水酸基が特に好ましい。
【００３４】
不飽和二重結合を有する化合物としては、アクリレート、メタクリレートがある。
【００３５】
そのような水酸基含有硬化性分散剤の例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、および２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ジヒドロキシアクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３６】
硬度を上げる用途の場合は、酸無水物基に反応しうる１つの官能基と３つ以上の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ１）として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が好ましい。
【００３７】
具体的な市販品としては、ビスコート＃３００（大阪有機化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬株式会社製）、ＰＥＴＩＡ（ダイセルＵＣＢ製）、アロニックスＭ３０５（東亞合成株式会社製）、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ（新中村化学株式会社製）、ライトアクリレートＰＥ−３Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＳＲ−４４４（サートマー株式会社製）、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）、アロニックスＭ４０２（東亞合成株式会社製）等が挙げられる。特に、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートを主成分とするＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬株式会社製）は、金属酸化物の分散性が良好であることからより好ましい。
＜酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）＞
酸無水物基に反応しうる官能基としては、水酸基、エポキシ基、アミノ基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、水酸基が特に好ましい。
【００３８】
水酸基を２つ以上有する化合物（Ｃ）の例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，９−ノナンジオール、水素添加ビスフェノールＡ、１，４−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂肪族ジオール類；
ヒドロキノン、１,３−ジヒドロキシベンゼン、１，２−ジヒドロキシベンゼン、ビスフェノール、ビスフェノキシエタノールフルオレン、ビスフェノールフルオレン、ビスクレゾールフルオレンなどの芳香族ジオール類；
Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）アニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）メチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）シクロヘキシルアミンなどの３級アミノ基含有ジオール化合物；
その他、硫黄原子含有ジオール、臭素原子含有ジオール等が挙げられる。
【００３９】
さらに、ポリマータイプのポリマーポリオールも本発明の化合物（Ｃ）として使用することができる。例えば、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイドのブロック共重合体又はランダム共重合体、ポリテトラメチレングリコール、テトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとのブロック共重合体又はランダム共重合体等のポリエーテルポリオール類；
多価アルコール又はポリエーテルポリオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、イソフタル酸等の多塩基酸との縮合物であるポリエステルポリオール類；
グリコールまたはビスフェノールと炭酸エステルとの反応、あるいは、グリコールまたはビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンを作用させる反応などで得られるポリカーボネートポリオール類；
カプロラクトン変性ポリテトラメチレンポリオール等のカプロラクトン変性ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、水添ポリブタジエンポリオール等のポリブタジエン系ポリオール、シリコーン系ポリオール等のポリオールが挙げられる。
【００４０】
また、分子中に２個の水酸基と１個以上のカルボキシル基を有する化合物を、化合物（Ｃ）として使用することができる。例えば、ジメチロールブタン酸、ジメチロールプロピオン酸、およびこれらの誘導体（カプロラクトン付加物、エチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物など）、３−ヒドロキシサリチル酸、４−ヒドロキシサリチル酸、５−ヒドロキシサリチル酸、２−カルボキシ−１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。
【００４１】
また、分子中に３個以上の水酸基を有する化合物（Ｃ）としては多価アルコールが挙げられ、例えば、トリメチロールエタン、ポリトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ポリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、アラビトール、キシリトール、ガラクチトール、グリセリン等が挙げられる。
【００４２】
本発明における硬化性組成物の光硬化性および硬化膜のハードコート性を向上させるために、化合物（Ｃ）が、酸無水物基に反応しうる２つ以上の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｃ１）であることが特に好ましい。化合物（Ｃ１）としては、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ、ＥＣＨ変性プロピレングリコールジアクリレート、ＥＣＨ変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ＥＯ変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ＥＣＨ変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物、ビスフェノールＡジエポキシアクリル酸付加物、ＰＯ変性ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジアクリレート等が挙げられる。
【００４３】
具体的な市販品としては、ナガセケムテックス（株）製：デナコールアクリレートＤＡ−２１２、デナコールアクリレートＤＡ−２５０、デナコールアクリレートＤＡ−７２２、デナコールアクリレートＤＡ−７２１、デナコールアクリレートＤＡ−９１１、デナコールアクリレートＤＡ−９２０、デナコールアクリレートＤＡ−９３１、デナコールアクリレートＤＡ−９１１Ｍ、日本化薬（株）製：ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１６７、ＭＡＸ−２１０４、サンノプコ（株）製：ＲＣＣ１３−３６１、大阪有機（株）製：Ｖ♯５４０、共栄社化学（株）製：エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル２００ＰＡ、エポキシエステル３０００Ａ、エポキシエステル３００２Ａ、エポキシエステル３０００Ｍ等が挙げられる。特に、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬを主成分とするデナコールアクリレートＤＡ−９１１Ｍ（ナガセケムテックス株式会社製）は、金属酸化物の分散性が良好であると同時に硬化膜のハードコート性が高いことからより好ましい。
【００４４】
その他、化合物（Ｃ）としては、多官能アミン化合物、多官能エポキシ化合物等を使用することができる。多官能アミン化合物としては、１分子中に２個以上の１級又は２級のアミノ基を有する化合物であれば特に制限はないが、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、トリアミノプロパン、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、トリレンジアミン、ヒドラジン、ピペラジン等の脂肪族ポリアミン、イソホロンジアミン、ジシクロヘキシルメタン−４，４'−ジアミン等の脂環式ポリアミン、及びフェニレンジアミン、キシリレンジアミン等の芳香族ポリアミンが挙げられる。
【００４５】
多官能エポキシ化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビフェノール・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、グリセリン・エピクロルヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、エチレングリコール・エピクロルヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトルイジン等が挙げられる。
【００４６】
本発明において、これらの化合物（Ｃ）は、一種のみを単独で用いても良いし、複数を併用しても良い。
＜カルボキシル基を有する化合物（Ｄ）＞
カルボキシル基を有する化合物（Ｄ）は、一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）、酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、及び酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）を反応させて得られるものである。
【００４７】
その３成分のモル比は、特に制限されないが、好ましくは化合物（Ａ）／化合物（Ｂ）／化合物（Ｃ）＝１／０．０１〜１．９９／０．０１〜１．９９、より好ましくは１／０．１〜１．５／０．１〜１．５である。化合物（Ｂ）および／または化合物（Ｃ）の比率が１．９９を超える場合、化合物（Ａ）に対して大過剰になるため、未反応の化合物（Ｂ）および／または化合物（Ｃ）が大量に残存することになり、金属酸化物の分散性や、塗膜のハードコート性を低下させることがある。
【００４８】
前記モル比は、金属酸化物の分散性に影響を及ぼす要因の一つである硬化性分散剤の分子量に大きく関与するものであり、前記モル比の中の化合物（Ｂ）の比率が小さく、逆に化合物（Ｃ）の比率が大きくなるほど、分子量は高分子量化する傾向にある。硬化性分散剤の重量平均分子量としては、３０００〜２０,０００が好ましく、より好ましくは４０００〜１０,０００である。分子量が３０００未満では、金属酸化物の分散性および／またはコート剤の経時安定性を低下させることがあり、分子量が２０,０００を超える場合は、系の粘度が非常に高くなり金属酸化物の分散性を低下させることがある。
【００４９】
一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）および／または化合物（Ｃ）である水酸基含有硬化性分散剤との反応は、一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）の有する２つのカルボン酸無水物基と、水酸基含有硬化性分散剤がそれぞれ有する水酸基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と水酸基含有硬化性分散剤とを、シクロヘキサノンのような有機溶媒中、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンのような触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で反応させることができる。この場合、反応系に、メトキノン（methoquinone）のような重合禁止剤を添加することができる。
＜カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）＞
カルボキシル基に反応しうる官能基としては、エポキシ基、オキサゾリン基、またはアミノ基、またはカルボジイミド基、またはイソシアネート基、またはイソチオシアネート基が挙げられる。さらに、化合物（Ｅ）としては、カルボキシル基との反応性の点でエポキシ基が特に有用である。
【００５０】
不飽和二重結合を有する化合物としては、アクリレート、メタクリレートがある。
【００５１】
エポキシ基含有硬化性分散剤（Ｅ）の例としては、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートのようなエポキシ基含有（メタ）アクリレート、が挙げられる。
【００５２】
カルボキシル基を有する化合物（Ｄ）とエポキシ基含有硬化性分散剤（Ｅ）との反応は、化合物（Ｄ）の有するカルボキシル基とエポキシ基含有硬化性分散剤（Ｅ）の有するエポキシ基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、この反応は、ジメチルベンジルアミン等のようなアミン触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で行なうことができる。
【００５３】
これらの反応は、無溶媒で行なってもよく、あるいは反応に対して不活性溶媒中で行なってもよい。かかる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は２種類以上を併用しても差し支えない。
【００５４】
硬化性組成物における金属酸化物の添加量は、特に制限されないが、金属酸化物及び硬化性分散剤の固形分合計量１００重量部中、好ましくは１〜８０重量部、より好ましくは１０〜７０重量部である。金属酸化物の添加量が１重量部未満では、金属酸化物由来の帯電防止性が劣る場合があり、８０重量部を超えると有機成分量が少ないことにより成膜性が劣る場合がある。
【００５５】
硬化性組成物は、前記硬化性分散剤と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物とを混合することにより製造することができる。
【００５６】
本発明の硬化性組成物は、金属酸化物粉末と硬化性分散剤を単に混合して調製しても、十分に目的とする効果が得られる。ただし、ニーダー、ロール、アトライター、スーパーミル、乾式粉砕処理機などにより機械的に混合するか、金属酸化物粉末と有機溶剤などによるサスペンジョン系に、硬化性分散剤を含む溶液を添加し、金属酸化物表面に硬化性分散剤を沈着させるなどの緊密な混合系で行なえば、さらに良好な結果を得ることができる。
【００５７】
有機溶剤などの非水系ビヒクル中への金属酸化物、硬化性分散剤の分散または溶解、及びこれらの混合などには、ペイントコンディショナー（レッドデビル社製）、ボールミル、サンドミル（シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等）、アトライター、パールミル（アイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー（エム・テクニック社製「クレアミックス」等）、湿式ジェットミル（ジーナス社製「ジーナスＰＹ」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」）、微小ビーズミル（寿工業（株）製「スーパーアペックミル」、「ウルトラアペックミル」）等の分散機が使用できる。分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ、スチレンビーズ等を用いることが好ましい。分散に関しては、２種類以上の分散機、または大きさの異なる２種類以上のメディアをそれぞれ用い、段階的に使用しても差し支えない。
【００５８】
本発明の硬化性組成物は、少なくとも金属酸化物、硬化性分散剤を含有するものであり、さらに溶剤や様々な添加剤を、本発明の目的や効果を損なわない範囲において含むことができる。具体的には、溶剤、光重合開始剤、硬化性分散剤、重合禁止剤、光増感剤、レべリング剤、界面活性剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、導電性ポリマー、導電性界面活性剤、無機充填剤、顔料、染料などが挙げられる。
【００５９】
金属酸化物および硬化性分散剤以外の成分を含む硬化性組成物の製造方法としては、特に制限されないが、いくつかの方法が挙げられる。具体的には、初めに金属酸化物及び硬化性分散剤を有機溶剤中で混合分散し、安定な金属酸化物分散体を得た後、他の様々な添加剤を添加及び調整し製造する方法；初めから、金属酸化物、硬化性分散剤、有機溶剤及びその他の添加剤の全てが混合された状態で、分散し製造する方法；などが挙げられる。
【００６０】
溶剤を添加する場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理を行なうことが好ましい。また、溶剤の添加量としては、特に制限されないが、全組成物１００重量部中、好ましくは１〜９５重量部、より好ましくは６０〜８０重量部である。溶剤の添加量が１重量部未満では、硬化性組成物の粘度が高くなり塗工性に問題が生じる場合があり、９５重量部を超えると揮発させる溶剤量が非常に多くなるため作業環境に問題が生じる場合がある。
【００６１】
溶剤としては、特に制限されるものでなく、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。具体的には例えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、アセチルアセトン、トルエン、キシレン、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、ブチルアセテート、イソアミルアセテート、アジピン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、テトラヒドロフラン、メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００６２】
なかでも、水酸基含有溶剤は、親水性の高い粒子表面物性を持つ金属酸化物に対して濡れ性が良いことから、溶剤組成中に含有されることで、金属酸化物の分散性及びその塗料（硬化性組成物）の経時安定性の向上において非常に効果的であり、かつ塗工工程のレベリング性も向上することから好ましい。全溶剤組成中の水酸基含有溶剤含有量は、１０〜１００重量％であることが好ましい。具体体には、水酸基含有溶剤としては、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。特に、３−メトキシ−１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテルは、金属酸化物の分散性と分散安定性がより良好となることから好ましい。
【００６３】
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物などが使用できる。
【００６４】
具体的には、モノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、４−メチル−ベンゾフェノン、２,４,６−トリメチルベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル−エタノン、３,３´−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１，３−アクリロイル−１，３，３´−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１,３−アクリロイル−１,４,７,１０，１３−ペンタオキソトリデシル）ベンゾフェノン、３，３´,４，４´−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシエチル）メタアンモニウムシュウ酸塩、２−／４−イソ−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ヒドロキ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈチオキサントン−２−イロキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト（１，２−ｄ）チアゾリン等が挙げられる。
【００６５】
ジカルボニル化合物としては、１，２，２−トリメチル−ビシクロ［２.１.１］ヘプタン−２，３−ジオン、ベンザイル、２−エチルアントラキノン、９，１０−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、４−フェニルベンザイル等が挙げられる。
【００６６】
アセトフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−ジ-２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−スチリルプロパン−１−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，２−ジエトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノ−プロパノニル）−９−ブチルカルバゾール等が挙げられる。
【００６７】
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイゾブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
【００６８】
アシルホスフィンオキシド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ｎ−プロピルフェニル−ジ（２，６−ジクロロベンゾイル）ホスフィンオキシド等が挙げられる。
【００６９】
アミノカルボニル化合物としては、メチル−４−（ジメトキシアミノ）ベンゾエート、エチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、イソアミル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、４，４´−ビス−４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４´−ビス−４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２，５´−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン等が挙げられる。
【００７０】
光重合開始剤の市販品としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア１８４、６５１、５００、９０７、１２７、３６９、７８４、２９５９、ＢＡＳＦ社製ルシリンＴＰＯ、日本シイベルヘグナー（株）製エサキュアワン等があげられる。
【００７１】
光重合開始剤は、上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があれば、どのようなものでも構わない。これらの光重合開始剤は、一種類で用いられるほか、二種類以上を混合して用いてもよい。
【００７２】
光重合開始剤の使用量に関しては、特に制限はされないが、光硬化性化合物の全量１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲内で使用することが好ましい。
【００７３】
増感剤として、公知の有機アミン等を加えることもできる。
【００７４】
さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかに、カチオン重合用の開始剤を併用することもできる。
【００７５】
硬化性組成物は、上記硬化性分散剤の他に、その他のバインダー樹脂や、光硬化性化合物を含んでいてもよい。
【００７６】
バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、一種類で用いても、二種類以上を混合して用いてもよい。バイダー樹脂は、硬化性組成物の固形分（溶剤以外の成分。以下、同じ。）の全量を基準（１００重量部）として、２０重量部以下の範囲内で使用することが好ましい。
【００７７】
光硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物等の重合性不飽和二重結合基を有する化合物を用いることができる。これらの重合性不飽和二重結合基を有する化合物は、さらに水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基等の官能基を有していてもよい。硬化性分散剤以外の光硬化性化合物は、硬化性組成物の固形分の全量を基準（１００重量部）として、５０重量部未満の範囲内、特に５〜４０重量部の範囲内で使用することが好ましい。
【００７８】
（メタ）アクリル系化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート、カルボキシル基と重合性不飽和二重結合とを有する化合物、水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物等がある。また、単官能、多官能の化合物を適宜使用することができる。光硬化性、塗膜のハードコート性の点からは、多官能のものが好ましい。
【００７９】
単官能の（メタ）アクリル系化合物として具体的には、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２２のアルキレン（メタ）アクリレートが挙げられる。極性の調整を目的とする場合には、炭素数２〜１０、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキル基を有するアルキル基含有（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。また、レべリング性の調節等を目的とする場合には、炭素数６以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
【００８０】
アルキレングリコール系（メタ）アクリレートとしては、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート等の、末端に水酸基を有しポリオキシアルキレン鎖を有するモノ（メタ）アクリレート；メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の、末端にアルコキシ基を有しポリオキシアルキレン鎖を有するモノ（メタ）アクリレート；フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレンエチレングリコール（メタ）アクリレート等の、末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００８１】
カルボキシル基及び重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等が挙げられる。
【００８２】
水酸基含有（メタ）アクリル系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシビニルベンゼン、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８３】
窒素含有（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミド等のモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミンド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミド等のジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物；及び、対イオンとしてＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ３-（Ｑ：炭素数１〜１２のアルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の４級アンモニウム塩等がある。
【００８４】
その他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類を挙げることができる。
【００８５】
さらに、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー；ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体；グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレート等のグリシジル基含有アクリレートが挙げられる。
【００８６】
脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、クロトン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリン酸ビニル、クロル酢酸ビニル、オレイン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
【００８７】
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
【００８８】
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
【００８９】
ビニル化合物としては、アリル酢酸、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロロスチレン等が挙げられる。
【００９０】
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。
【００９１】
これらは、一種類で用いてもよいし、二種類以上を混合して用いてもよい。
【００９２】
上記硬化性分散剤以外の光硬化性化合物としては、塗膜強度、耐擦傷性の観点より、少なくとも３つの官能基を有するポリウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリエポキシポリ（メタ）アクリレート等のポリ（メタ）アクリレート類、分子内に３個以上のアクリロイル基を有する多官能のアクリレート類を好適に使用することができる。
【００９３】
ポリエポキシポリ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を（メタ）アクリル酸でエステル化して、官能基を（メタ）アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物等がある。
【００９４】
ポリウレタンポリ（メタ）アクリレートは、例えば、ジイソシアネートと水酸基を有する（メタ）アクリレート類とを反応させて得られるもの、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得られるものがある。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることもできる。
【００９５】
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
【００９６】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００９７】
水酸基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート，２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９８】
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
【００９９】
光硬化性化合物の市販品としては、以下のものが例示できる。
【０１００】
東亜合成（株）製：アロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４０２、アロニックスＭ−４０８、アロニックスＭ−４５０、アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８０３０、アロニックスＭ−８０６０、
大阪有機化学工業（株）製：ビスコート♯４００、
化薬サートマー（株）製：ＳＲ−２９５、
ダイセルＵＣＢ（株）製：ＤＰＨＡ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ １２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ５１２９、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ ６６０２、
新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ、ＮＫオリゴＥＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＭＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３１０、ＮＫオリゴＥＡ−６３２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３４０、ＮＫオリゴＭＡ−６、ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−６ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−３２４Ａ、
ＢＡＳＦ社製：ＬａｒｏｍｅｒＥＡ８１、
サンノプコ（株）製：フォトマー３０１６、
荒川化学工業（株）製：ビームセット３７１、ビームセット５７５、ビームセット５７７、ビームセット７００、ビームセット７１０；
根上工業（株）製：アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０１Ｔ、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＨＤＰ−３、アートレジン Ｈ６１、
日本合成化学工業（株）製：紫光ＵＶ−７６００Ｂ、紫光ＵＶ−７６１０Ｂ、紫光ＵＶ−７６２０ＥＡ、紫光ＵＶ−７６３０Ｂ、紫光ＵＶ−１４００Ｂ、紫光ＵＶ−１７００Ｂ、紫光ＵＶ−６３００Ｂ、
共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＰＥ−４Ａ、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、
日本化薬（株）製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ２Ｃ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０。
【０１０１】
次に、本発明の硬化膜とその積層体に関して説明する。
【０１０２】
本発明の硬化膜は、本発明の硬化性組成物を硬化してなる膜である。その製造方法は、たとえば、硬化性組成物を任意の基材に塗布すること、および活性エネルギー線を照射して、基材上の硬化性組成物を硬化させること、を含む。
【０１０３】
より具体的には、この硬化性組成物を任意の基材上に、乾燥後の膜厚が好ましくは０．１〜３０μｍ、より好ましくは０．１〜２０μｍになるように塗工後、硬化処理することにより形成することができる。
【０１０４】
形成時において、硬化膜は、基材に直接塗工されてもよいし、硬化膜と基材との間に１層以上の下層が存在してもよい。
【０１０５】
この基材としては、金属、セラミックス、ガラス、プラスチック、木材、スレート等が挙げられ、特に制限されるものではない。具体的なプラスチックの種類としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。また基材の形状としてはフィルムシート、板状パネル、レンズ形状、ディスク形状、ファイバー状の物が挙げられるが、特に制限されるものではない。
【０１０６】
塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロットまたはワイヤーバーなどを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロットまたはスピンなどの各種コーティング方法を用いることができる。
【０１０７】
硬化処理は、公知の技術を用いて、例えば、紫外線、電子線、波長４００〜５００ｎｍの可視光線等の活性エネルギー線を照射することにより行なうことができる。紫外線および波長４００〜５００ｎｍの可視光線の線源（光源）には、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放射銃等を使用することができる。
【０１０８】
照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であることが好ましく、さらには工程上管理しやすい点から、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であることが好ましい。
【０１０９】
これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱処理を併用することができる。
【０１１０】
硬化膜は、基材に硬化性組成物を塗工し、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なって形成しても良いし、塗工し硬化処理を行なったあとに自然または強制乾燥させても良いが、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。
【０１１１】
特に、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。
【０１１２】
硬化処理のタイミングは、塗工と同時でもよいし、塗工後でもよい。
【０１１３】
得られる硬化膜は、ハードコート性、透明性、耐光性、高屈折率性、帯電防止性に優れるため、光学材料として好適に利用することが出来る。したがって、本発明の硬化膜は、積層体として、陰極線管、フラットディスプレイパネル（液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ等）等の各種表示装置の前面板あるいはこれらの入力装置としても利用できる。
【０１１４】
その他、この硬化膜は、光学用レンズ、メガネ用レンズ、光記録ディスク（コンパクトディスク、ＤＶＤディスク、ブルーレイディスク等）、ライトケース等に広く利用できる。
【０１１５】
硬化膜の表面抵抗値は、１×１０12Ω／□以下であることが好ましい。
【０１１６】
硬化膜の厚みは、０．１〜３０μｍであることが好ましい。
【０１１７】
さらに、硬化膜の屈折率は、１．４〜１．８の範囲であることが好ましい。
【０１１８】
本発明の積層体は、本発明の硬化膜と基材とを含むものである。基材としては、上記例示のものを任意に使用することができ、特に、プラスチック基材であることが好ましい。基材の形状は、フィルム形状、レンズ形状、またはディスク形状であることが好ましい。
【０１１９】
この積層体は、これらに加え、屈折率の異なる膜、粘着層または情報記録層などを１層以上含むことが好ましい。
【０１２０】
屈折率の異なる膜（Ｍ）、粘着層（Ｍ）または情報記録層（Ｍ）を含む積層体は、たとえば、下記（Ｉ）〜（ＩＸ）などの層構成にすることができる。
【０１２１】
（Ｉ） 基材／（Ｍ）／硬化膜
（ＩＩ） 基材／硬化膜／（Ｍ）
（ＩＩＩ） 基材／（Ｍ）／硬化膜／（Ｍ）
（ＩＶ） （Ｍ）／基材／硬化膜
（Ｖ） （Ｍ）／基材／（Ｍ）／硬化膜
（ＶＩ） （Ｍ）／基材／硬化膜／（Ｍ）
（ＶＩＩ） （Ｍ）／基材／（Ｍ）／硬化膜／（Ｍ）
（ＶＩＩＩ） （Ｍ）／硬化膜／基材／硬化膜
（ＩＸ） 硬化膜／（Ｍ）／基材／硬化膜
屈折率の異なる膜または情報記録層は、本発明の硬化物が有する機能以外の機能を持つものである。その形成方法は特に限定されず、公知の方法で形成される。例えば蒸着、スパッタなどのドライコーティング法、ロット、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット、スピン等のウェットコーティング方法を用いることができる。用いる材料も限定は無く、必要に応じて、情報記録機能、防眩機能、ニュートンリング防止機能、粘着機能、特定波長の遮断、密着向上、色調補正などの機能の１種類以上を積層体に付与することができる任意の材料を用いることができる。
【０１２２】
情報記録層としては、レーザー光などにより何らかの化学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録するものであればよく、材料は特に限定されない。例えば有機系の材料としては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、アントラキノン系、キサンテン系、トリフェニルメタン系金属錯体化合物が挙げられ、上記の染料を１種又は２種以上の組合せで用いることができる。無機系の記録層としては、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｔ等の金属、半金属を１種又は２種以上の組合せで用いることができる。情報記録層は積層体などでも良く、光化学変化の態様は相変化、バブル、穴あけタイプのいずれでも良い。さらにＦｅ、Ｔｂ、Ｃｏを主体とした光磁気記録層であっても良いし、スピロピラン、フルキド系のフォトクロミック材料であっても良い。
【０１２３】
高屈折率の硬化膜は、反射防止の観点から、表層に低屈折率の被覆硬化膜を設け、反射防止機能を付与した積層体として利用することも好ましい。すなわち、フィルム等の基材上に硬化膜を形成し、さらに好ましくは被覆硬化膜を形成して得られる積層体を、反射防止膜として用いることが好ましい。
【０１２４】
反射干渉縞が問題となる積層体においては、本発明の硬化性組成物中の金属酸化物の配合量を調整し、その硬化膜と基材との屈折率の差が、または、硬化膜と基材との間に任意の層が存在する場合は硬化膜と硬化膜の接する下層との屈折率の差が、±０．０２以内となるようにすることが好ましい。
【０１２５】
本発明の硬化性組成物は、金属酸化物の種類や添加量を制御することにより、高屈折率の硬化物を製造することが可能である。そのため、光半導体素子の光取り出し効率を向上させるために、樹脂層の屈折率を光半導体素子側から最外層に向けて順次小さくすることが要求される光半導体素子封止材として、好ましく利用できる。
【０１２６】
光半導体素子としては、窒化ガリウム（ＧａＮ：屈折率２．５）、ガリウムリン（ＧａＰ：屈折率２．９）、ガリウム砒素（ＧａＡｓ：屈折率３．５）等が挙げられ、非常に屈折率が高い素材である。そのため、光半導体素子封止材となる硬化物の屈折率は、光取り出し効率を高める観点から、１．５以上であることが好ましく、より好ましくは１．５〜２．１、さらに好ましくは１．７〜２．１である。
【０１２７】
硬化物の最適な屈折率を達成する方法としては、使用する金属酸化物として酸化チタン（屈折率２．５〜２．７）、酸化ジルコニウム（屈折率２．４）、酸化亜鉛（屈折率１．９５）などが好ましく、分散剤にも高屈折率性が要求されることから、芳香族骨格を持った硬化性分散剤が好ましい。
【実施例】
【０１２８】
以下に、製造例、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明するが、以下の製造例、実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。製造例、実施例中、部および％は、重量部および重量％をそれぞれ表す。また、重量平均分子量はＧＰＣにより測定された標準ポリスチレン換算分子量を表す。
（製造例１）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）４３．１７部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）８０．５２部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）３２．６７部、シクロヘキサノン１５６．３６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７８部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）４１．６９部、シクロヘキサノン３９．５８部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．２５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）２，２００、重量平均分子量（ＭＷ）８，４００であった。
（製造例２）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）６５．２８部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）５２．９８部、シクロヘキサノン１５３．２６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７７部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３３．８０部、シクロヘキサノン３１．７３部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．２３部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（２）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，３８０、重量平均分子量（ＭＷ）５，３６０であった。
（製造例３）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）４０．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）２２．２７部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）８１．３３部、シクロヘキサノン１４３．６０部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７２部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３８．６３部、シクロヘキサノン３６．６９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．１５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（３）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，５２０、重量平均分子量（ＭＷ）５，６８０であった。
（製造例４）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）５２．２０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）５４．５５部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）３９．５１部、シクロヘキサノン１４６．２６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７３部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．４１部、シクロヘキサノン４８．４３部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．１７部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（４）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，９８０、重量平均分子量（ＭＷ）７，８４０であった。
（製造例５）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）３５．００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３６．５８部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）５２．９８部、シクロヘキサノン１２４．５５部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．６２部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３３．８０部、シクロヘキサノン３２．１２部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．００部を加え、８５℃で６時間撹拌し、
室温まで冷却して、硬化性分散剤（５）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，２８０、重量平均分子量（ＭＷ）４，３８０であった。
（製造例６）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）３５．００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３６．５８部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）５２．９８部、シクロヘキサノン１２４．５５部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．６２部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３３．８０部、シクロヘキサノン３２．１２部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．００部を加え、８５℃で６時間撹拌し、
室温まで冷却して、硬化性分散剤（６）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，３５０、重量平均分子量（ＭＷ）５，３１０であった。
（製造例７）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）３９．３４部、シクロヘキサノン１７１．２８部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．８６部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．８８部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．３７部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（７）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）２，０００、重量平均分子量（ＭＷ）８，０５０であった。
（製造例８）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）７８．６７部、シクロヘキサノン２１０．６１部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）１．０５部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．３５部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．６８部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（８）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，２５０、重量平均分子量（ＭＷ）４，９８０であった。
（製造例９）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）４０．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）３３．０７部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）１２０．７８部、シクロヘキサノン１９３．８５部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．９７部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５７．３６部、シクロヘキサノン５４．７４部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．５５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（９）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，４００、重量平均分子量（ＭＷ）５，４６０であった。
（製造例１０）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３８．４３部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）５９．６４部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）４３．１９部、シクロヘキサノン１４１．２６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７１部を加え、８５℃で６時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５５．１１部、シクロヘキサノン５３．２０部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．１３部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１０）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，７８０、重量平均分子量（ＭＷ）７，４４０であった。
（製造例１１）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）５４．３１部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）７８．６７部、シクロヘキサノン１６７．９９部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．８４部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．９２部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．３４部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１１）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，０９０、重量平均分子量（ＭＷ）４，２８０であった。
（製造例１２）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３０．００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１３．９０部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）９０．５８部、シクロヘキサノン１３４．４８部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．６７部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）４７．３２部、シクロヘキサノン４５．５１部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．０８部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１２）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，１９０、重量平均分子量（ＭＷ）４，４５０であった。
（製造例１３）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ＥＣＨ変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１６７）４４．３２部、シクロヘキサノン１７６．２６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．８８部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．８１部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．４１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１３）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）２，１００、重量平均分子量（ＭＷ）８，１００であった。
（製造例１４）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物（共栄社化学株式会社製：エポキシエステル３０００Ａ）５７．３５部、シクロヘキサノン１８９．２９部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．９５部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．６３部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．５１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１４）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，９００、重量平均分子量（ＭＷ）８，２００であった。
（製造例１５）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物（共栄社化学株式会社製：エポキシエステル３０００Ｍ）６０．６７部、シクロヘキサノン１９２．６１部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．９６部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．５９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．５４部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１５）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）２，０５０、重量平均分子量（ＭＷ）８，０６０であった。
（製造例１６）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、Ｎｅｏｐｅｎｔｙｌ Ｇｌｙｃｏｌ Ｄｉｇｌｙｃｉｄｙｌ Ｅｔｈｅｒ（ナガセケムテックス株式会社製：デナコールＥＸ−２１１）２５．６０部、シクロヘキサノン１５７．５４部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７９部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４８．０６部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．２６部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１６）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，９４０、重量平均分子量（ＭＷ）７，８６０であった。
（製造例１７）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）１４４．６９部、１，６−ヘキサンジオール（和光純薬株式会社製）１０．４４部、シクロヘキサノン１９０．１２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．９５部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．６２部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．５２部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１７）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，５００、重量平均分子量（ＭＷ）５，８００であった。
（製造例１８）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃３００）２５０．０部、ヒドロキノン０．１６部、シクロヘキサノン１４１．２部を仕込み、８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン３３．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１８）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分７０％、数平均分子量（ＭＮ）８７０、重量平均分子量（ＭＷ）２，８３０であった。
（製造例１９）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）４６３．２部、ヒドロキノン０．２８部、シクロヘキサノン５６３．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）２．８２部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）１４３．４部、シクロヘキサノン１４６．５部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン４．５３部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却し、硬化性分散剤（１９）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）９２０、重量平均分子量（ＭＷ）２，２００であった。
（金属酸化物分散ペーストの作成：実施例１〜１７、比較例１及び２）
上記製造例により作成した各硬化性分散剤を用い、表１に示す配合により金属酸化物分散を行ない、金属酸化物分散ペーストを作成した。分散方法は、仮分散（ジルコニアビーズ（１．２５ｍｍ）をメディアとして用い、ペイントシェイカーで１時間分散）と、本分散（ジルコニアビーズ（０．１ｍｍ）をメディアとして用い、寿工業（株）製分散機ＵＡＭ−０１５で分散）の２段階で行なった。
【０１２９】
【表１】
表１において、
Ｓｂ2Ｏ5：日産化学工業（株）製「サンエポックＥＦＲ−６Ｎ」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＡＴＯ：石原産業（株）製「ＳＮ−１００Ｐ」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＩＴＯ：シーアイ化成（株）製「ナノテックＩＴＯ」（平均一次粒子径：３０ｎｍ）
ＰＴＯ：三菱マテリアル（株）製「ＥＰ ＳＰ−２」（平均一次粒子径：１５ｎｍ）
ＺｒＯ2：日本電工（株）製「ＰＣＳ−６０」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＴｉＯ2：石原産業（株）製「ＴＴＯ−５１（Ａ）」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＺｎＯ：堺化学工業（株）製「ＦＩＮＥＸ−５０」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＳｉＯ2：日本アエロジル（株）製「ＡＥＲＯＳＩＬ５０」（平均一次粒子径：５０ｎｍ）
Ａｌ2Ｏ5：日本アエロジル（株）製「Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ Ｏｘｉｄｅ Ｃ」（平均一次粒子径：１３ｎｍ）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
メトブタ：３−メトキシ−１−ブタノール
（塗料化及び硬化膜評価：実施例１〜１７、比較例１及び２）
上記で調整した金属酸化物分散ペーストを用いて、表２に示す組成の硬化性組成物を調整した。得られた硬化性組成物を、１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製「コスモシャインＡ−４１００」）に、バーコーターで、乾燥後の膜厚が５μｍになるように塗工した後、高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、帯電防止用ハードコート層（硬化膜）を形成した。得られた帯電防止用ハードコート層について、下記の方法で表面抵抗、耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性（ヘイズ）および耐光性を評価した。その結果を表２に示す。
【０１３０】
【表２】
表２において、
光硬化性化合物（１）：日本合成化学（株）製「紫光ＵＶ−１７００Ｂ」
光硬化性化合物（２）：日本化薬（株）製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」
光重合開始剤：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」
溶剤：ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）
＊１：金属酸化物ペーストが分散不良だったので未測定
（反射防止膜（積層体）の作製及び評価：実施例１４〜１９）
（低屈折率塗液の作製）
１,２,９,１０−テトラアクリロイルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン５０重量部、シリカゾル３０％分散液（日産化学工業（株）製ＭＥＫ-ＳＴ）１２０重量部、２’、２’―ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸（２−ヒドロキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１―ノナデカフルオロウンデシル１０重量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ）５重量部を混合し、低屈折率塗液を調整した。
【０１３１】
実施例７の金属酸化物分散ペーストを用い、表３に示す配合による組成の各硬化性組成物を調整した。この硬化性組成物を、１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルム（易接着処理層の屈折率＝１．６０）の易接着処理面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚で６μｍとなるよう塗布した。得られた塗布層を、１００℃１分で乾燥したのち、高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。得られた硬化膜上にさらに、上記低屈折塗料液をスピンコーターにて、乾燥膜厚でλ/４を示す光の波長が５５０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整して塗布した。得られた塗布層を、１００℃１分で乾燥したのち、高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、積層体を得た。
【０１３２】
得られた積層体について、下記の方法で硬化膜の屈折率を測定するとともに、硬化膜の耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性（ヘイズ）、屈折率、反射干渉縞を評価した。さらに、硬化性組成物の経時安定性に関して、４０℃、２週間後の粘度変化を評価した。その結果を表３に示す。
【０１３３】
【表３】
表３において
光硬化性化合物（１）：日本合成化学（株）製「紫光ＵＶ−１７００Ｂ」
光重合開始剤：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」
基材：１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製「コスモシャインＡ−４１００」、易接着処理面（屈折率１．６０）に塗工）
溶剤：ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）
（評価方法）
（１）表面抵抗
硬化膜の表面抵抗（Ω／□）を、以下の基準に従って評価した。
【０１３４】
表面抵抗が１×１０12以下の場合：Ａ
表面抵抗が１×１０12より高く１×１０14以下の場合：Ｂ
表面抵抗が１×１０14を超える場合：Ｄ
測定不能（導電性なし）の場合：−
（２）耐擦傷性
塗工物を学振試験機にセットし、スチールウールのＮｏ.００００を用いて、荷重２５０ｇで１０回学振させた。取り出した塗工物について、キズのつき具合を以下の５段階の目視評価に従って判断した。数値が大きいほど、硬化膜の耐擦傷性が良好であることを示す。
【０１３５】
５：キズが全くない
４：僅かにキズが付いている
３：キズは付いているが、基材は見えていない
２：キズが付き、一部硬化膜が剥がれている
１：硬化膜が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態
（３）鉛筆硬度
ＪＩＳ−Ｋ５６００に準拠し、鉛筆硬度試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ Ｔｅｓｔｅｒ ＨＥＩＤＯＮ−１４）を用い、鉛筆の芯の硬さを種々変えて、荷重５００ｇにて５回試験をした。５回中、１回も傷がつかない、もしくは１回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その硬化膜の鉛筆硬度とした。実用的な要求物性を考慮して、硬化膜の鉛筆硬度が、
２Ｈ以上：Ａ
Ｈ：Ｂ
Ｈより低い：Ｄ
と判定した。
（４）透明性(Ｈａｚｅ値)
得られた塗工物における濁度（Ｈａｚｅ値）を、Ｈａｚｅメーターを用いて測定した。
（５）耐光性
光連続照射時の経時での黄変は、用途展開上、非常に好ましくない。そこで、光連続照射時の黄変性を確認した。
【０１３６】
まず、耐光性試験機（光源：キセノンランプ、照度：１００Ｗ／ｃｍ2、ブラックパネル温度：６０℃、６０％ＲＨ）にて塗工物を２４時間暴露した。その後、白色紙上に塗工物を置き、測色機（ミノルタＣＲ−３００）を用いて着色を測定した。測色値はＬ*ａ*ｂ*にて表示し、硬化膜の黄変性の目安をｂ*値にて判断した。ｂ*値の値が小さいほど、黄変の程度が小さく、耐光性が良好であることを表す。実用的な要求物性を考慮して、硬化膜のｂ*値が、
３．５未満のもの：Ａ
３．５以上のもの：Ｄ
と判定した。
（６）屈折率
得られた硬化膜の屈折率を、株式会社アタゴ製アッベ屈折率計を用いて測定した。
（７）反射干渉縞
得られた硬化膜の反射干渉縞を、以下の基準に従い目視にて評価した。
【０１３７】
Ａ：反射干渉縞が観察できない
Ｄ：反射干渉縞が観察できる
（８）経時安定性
得られた硬化性組成物を褐色瓶に詰め、遮光状態で４０℃、２週間放置し、その粘度変化を以下の基準に従い評価した。
【０１３８】
Ａ：粘度増加率１０％未満
Ｄ：粘度増加率１０％以上
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート性を持った硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報通信機器の性能確保と安全対策の面から、機器の表面に、光硬化性組成物を用いて、耐擦傷性、密着性、高屈折率性などを有するハードコート性塗膜や、帯電防止性塗膜を形成することが行われている。
【０００３】
近年、情報通信機器の発達と汎用化には目覚しいものがあり、ハードコート性塗膜、帯電防止性塗膜等の更なる性能向上及び生産性の向上が求められており、光硬化性材料を用いた様々な提案がされている。
【０００４】
例えば、以下のような技術提案を挙げることができる（特許文献１〜３参照）。特許文献１では、酸化スズなどの導電性粉末と複数のモノマー成分とを有機溶剤中、ボールミルなどを用いて混合し、導電性塗料を作成する方法が開示されている。特許文献２では、アンチモンドープ酸化スズと紫外線硬化性のあるシランカップリング剤とを有機溶剤中、ボールミルを用いて混合し、導電性塗料用の分散体を作成する方法が開示されている。さらに特許文献３では、導電性酸化物微粉末を易分散性低沸点溶剤と難分散性高沸点溶剤の混合溶剤中に分散し、導電性塗料を作成する方法が開示されている。
【０００５】
しかし、上記方法により、高屈折率性、ハードコート性、帯電防止性、耐光性などにおいて良好な物性を併せ持つ硬化性組成物を作成することが可能となっても、有機溶剤など疎水性の高い媒体に対して、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物を安定に、一次粒子レベルで分散および安定化させることはできないため、塗膜の透明性や光硬化性塗料の経時安定性等の観点で問題を生じやすい。
【特許文献１】特開平０４−１７２６３４号公報
【特許文献２】特開平０６−２６４００９号公報
【特許文献３】特開２００１−１３１４８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明は、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物を含有しながら、高屈折率性、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性の全てにおいて優れた物性を併せ持つ塗膜を形成可能な、経時安定性のある硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が３，０００〜２０，０００である硬化性分散剤と、
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物と、を含む硬化性組成物に関する。
【０００８】
一般式（１）
【０００９】
【化２】
（ここで、Ｒ1は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
また、本発明は、酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）が、酸無水物基に反応しうる１個の官能基と３個以上の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ１）であることを特徴とする上記硬化性組成物に関する。
【００１０】
また、本発明は、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）が、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｃ１）であることを特徴とする上記硬化性組成物に関する。
【００１１】
また、本発明は、金属酸化物が、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする上記硬化性組成物に関する。
【００１２】
また、本発明は、さらに、溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して１０〜１００重量％の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする上記硬化性組成物に関する。
【００１３】
また、本発明は、上記硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜に関する。
【００１４】
また、本発明は、上記硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法に関する。
【００１５】
また、本発明は、上記製造方法で製造されてなる積層体に関する。
【００１６】
また、本発明は、上記積層体が反射防止膜に関する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の硬化性組成物は、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物を含有しながら、高屈折率性、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び塗工性の全てにおいて優れた物性を併せ持つ塗膜を形成することが可能であり、特にプラスチック光学部品、光ディスク、反射防止膜、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック積層体等のハードコート剤に好適である。さらには屈折率が高く、屈折率が同程度の基材に塗布した場合、反射干渉縞が生じず、光学用途に好適に用いられる。また、金属酸化物組成物を含んだ硬化物の屈折率を高く制御可能であることから、光半導体素子封止材としても好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
まず、本発明の硬化性組成物について説明する。
【００１９】
この硬化性組成物は、少なくとも平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物と、
下記一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が３，０００〜２０，０００である硬化性分散剤を含有するものであり、二種類以上の金属酸化物と二種類以上の硬化性分散剤をそれぞれ含んでも良い。
【００２０】
一般式（１）
【００２１】
【化３】
（ここで、Ｒ1は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
金属酸化物は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物である。金属酸化物の平均一次粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）などを用いて、粒子自身を直接観察することによって測定できる。
【００２２】
平均一次粒子径が５ｎｍ未満の金属酸化物の場合、微粒子同士の凝集力が非常に大きいことから、透明性の高い一次粒子レベルの分散をさせることが非常に困難である。一方、平均一次粒子径が１００ｎｍを超える金属酸化物の場合、一次粒子レベルで分散させることは容易になるが、粒子径が大きいことから可視光などの光に対して散乱が生じ易く、硬化膜の透明性を悪化させる問題が生じる。
【００２３】
金属酸化物としては、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものが好ましい。特に、アンチモン、インジウム、スズおよび亜鉛のいずれか一種の元素を含有するものは、導電性も良好であることから、より好ましい。
【００２４】
具体的には、五酸化アンチモン、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化スズ、ＡＴＯ被覆酸化チタン、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００２５】
金属酸化物の市販品としては、
日産化学工業（株）製：サンエポックＥＦＲ−６Ｎ、サンエポックＥＦＲ−６ＮＰ（五酸化アンチモン）、
石原産業（株）製：ＳＮ−１００Ｐ（ＡＴＯ）、ＦＳ−１０Ｐ（ＡＴＯ）、ＳＮ−１０２Ｐ（ＡＴＯ）、ＦＳ−１２Ｐ（ＡＴＯ）、ＥＴ−３００Ｗ（ＡＴＯ被覆酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ａ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｂ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｃ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｄ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｓ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｎ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５１（Ａ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５１（Ｃ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−１（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−２（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−３（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−４（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｖ−３（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｖ−４（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−１（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−２（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−３（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−１１（鉄含有酸化チタン）、ＳＴ−０１（酸化チタン）、ＳＴ−２１（酸化チタン）、ＳＴ−３０Ｌ（酸化チタン）、ＳＴ−３１（酸化チタン）、
三菱マテリアル（株）製：Ｔ−１（ＩＴＯ）、Ｓ−１２００（酸化スズ）、Ｔ-１（ＡＴＯ）、ＥＰ ＳＰ-２（ＰＴＯ）、
三井金属工業（株）製：パストラン（ＩＴＯ、ＡＴＯ）、
シーアイ化成（株）製：ナノテックＩＴＯ、ナノテックＳｎＯ2、ナノテックＴｉＯ2、ナノテックＳｉＯ2、ナノテックＡｌ2Ｏ3、ナノテックＺｎＯ、
触媒化成工業（株）製：ＴＬ−２０（ＡＴＯ）、ＴＬ−３０（ＡＴＯ）、ＴＬ−３０Ｓ（ＰＴＯ）、ＴＬ−１２０（ＩＴＯ）、ＴＬ−１３０（ＩＴＯ）、
ハクスイテック（株）製：ＰａｚｅｔＣＫ（アルミニウムドープ酸化亜鉛）、ＰａｚｅｔＧＫ（ガリウムドープ酸化亜鉛）、
堺化学工業（株）製：ＮＡＮＯＦＩＮＥ２５Ａ（酸化亜鉛）、ＮＡＮＯＦＩＮＥ５０Ａ（酸化亜鉛）、ＳＣ−１８（アルミニウムドープ酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−２５（酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−２５ＬＰ（酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−５０（酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−５０ＬＰ（酸化亜鉛）、ＦＩＮＥＸ−７５（酸化亜鉛）、ＳＴＲ−６０Ｃ（酸化チタン）、ＳＴＲ−６０Ｃ-ＬＰ（酸化チタン）、ＳＴＲ−１００Ｃ（酸化チタン）、
住友大阪セメント（株）製：ＯＺＣ−３ＹＣ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−３ＹＤ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−３ＹＦＡ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−８ＹＣ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−０Ｓ１００（酸化ジルコニウム）、
日本電工（株）製：ＰＣＳ（酸化ジルコニウム）、Ｔ−０１（酸化ジルコニウム）、ＰＣＳ−６０（酸化ジルコニウム）、
テイカ（株）製：ＭＴ−１００Ｔ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＴＶ（酸化チタン）、ＭＴ−１００Ｚ（酸化チタン）、ＭＴ−１００Ｆ（酸化チタン）、ＭＴ−１００Ｓ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＡＱ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＨＤ（酸化チタン）、ＭＴ−１５０Ｗ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｈ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＨＤ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｂ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＭＴ−６００Ｂ（酸化チタン）、ＭＴ−７００ＨＤ（酸化チタン）、ＳＭＴ−１００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＳＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化チタン）、
日本アエロジル（株）製：Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ Ｏｘｉｄｅ Ｃ（酸化アルミニウム）、ＡＥＲＯＳＩＬ５０（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ９０Ｇ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ１３０（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ２００（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ２００ＣＦ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ２００ＦＡ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ３００（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ３００ＣＦ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬ３８０（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７４（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７６（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ２０２（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ８０５（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ８１２（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＲ８１２Ｓ（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＭＯＸ５０（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＴＴ６００（酸化ケイ素）、ＡＥＲＯＳＩＬＭＯＸ８０（酸化ケイ素/酸化アルミニウム）、ＡＥＲＯＳＩＬＭＯＸ１７０（酸化ケイ素/酸化アルミニウム）、ＡＥＲＯＳＩＬＣＯＸ８４（酸化ケイ素/酸化アルミニウム）、
等が挙げられる。
【００２６】
本発明で用いられる硬化性分散剤は、金属酸化物の溶剤中での分散安定性付与、硬化膜中での硬化性分散剤である有機成分との相溶性向上、硬化膜のハードコート性向上のために用いられる。
＜＜硬化性分散剤＞＞
硬化性分散剤について以下に説明する。
【００２７】
硬化性分散剤は、一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が３，０００〜２０，０００の（メタ）アクリレート化合物である。
＜一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）＞
一般式（１）
【００２８】
【化４】
（ここで、Ｒ1は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
化合物（Ａ）は、脂肪族テトラカルボン酸二無水物もしくは芳香族テトラカルボン酸二無水物である。
【００２９】
Ｒ1が４価の脂肪族基である脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、炭素鎖数４〜１０のアルキル骨格である４価の脂肪族基の骨格の酸二無水物が挙げられ、具体的にはブタン骨格、シクロブタン骨格、ヘキサン骨格、シクロヘキサン骨格、デカリン骨格などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００３０】
脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００３１】
さらに、Ｒ1の４価の芳香族基である芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、具体的にはフェニル骨格、ベンゾフェノン骨格、ビフェニル骨格、フェニルエーテル骨格、ジフェニルスルホン骨格、ジフェニルスルフィド骨格、ペリレン骨格、フルオレン骨格、テトラヒドロナフタレン骨格及びナフタレン骨格などの骨格の酸二無水物である芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００３２】
芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニル骨格を有するビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン骨格を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物等、フルオレン骨格を有する９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、あるいは、９，９−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］フルオレン二無水物、テトロヒドロナフタレン骨格を有するテトラヒドロナフタレンカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート等が挙げられる。市販品としては新日本理化株式会社製「リカシッドＴＭＴＡ−Ｃ」、「リカシッドＭＴＡ−１０」、「リカシッドＭＴＡ−１５」、「リカシッドＴＭＥＧシリーズ」、「リカシッドＴＤＡ」、「リカシッドＤＳＤＡ」、などが挙げられる。
【００３３】
これら芳香族テトラカルボン酸二無水物のうち、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物は、ビフェニル骨格を有するものであり、本発明の硬化性分散剤中にビフェニル骨格を効率よく導入でき、さらに硬化膜のハードコート性と金属酸化物の良好な分散性を併せ持つことができるため、特に好ましい。
＜酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）＞
酸無水物基に反応しうる官能基としては、水酸基、エポキシ基、アミノ基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、水酸基が特に好ましい。
【００３４】
不飽和二重結合を有する化合物としては、アクリレート、メタクリレートがある。
【００３５】
そのような水酸基含有硬化性分散剤の例としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、および２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ジヒドロキシアクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３６】
硬度を上げる用途の場合は、酸無水物基に反応しうる１つの官能基と３つ以上の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ１）として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が好ましい。
【００３７】
具体的な市販品としては、ビスコート＃３００（大阪有機化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬株式会社製）、ＰＥＴＩＡ（ダイセルＵＣＢ製）、アロニックスＭ３０５（東亞合成株式会社製）、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ（新中村化学株式会社製）、ライトアクリレートＰＥ−３Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＳＲ−４４４（サートマー株式会社製）、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）、アロニックスＭ４０２（東亞合成株式会社製）等が挙げられる。特に、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートを主成分とするＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬株式会社製）は、金属酸化物の分散性が良好であることからより好ましい。
＜酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）＞
酸無水物基に反応しうる官能基としては、水酸基、エポキシ基、アミノ基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、水酸基が特に好ましい。
【００３８】
水酸基を２つ以上有する化合物（Ｃ）の例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，９−ノナンジオール、水素添加ビスフェノールＡ、１，４−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂肪族ジオール類；
ヒドロキノン、１,３−ジヒドロキシベンゼン、１，２−ジヒドロキシベンゼン、ビスフェノール、ビスフェノキシエタノールフルオレン、ビスフェノールフルオレン、ビスクレゾールフルオレンなどの芳香族ジオール類；
Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）アニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）メチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）シクロヘキシルアミンなどの３級アミノ基含有ジオール化合物；
その他、硫黄原子含有ジオール、臭素原子含有ジオール等が挙げられる。
【００３９】
さらに、ポリマータイプのポリマーポリオールも本発明の化合物（Ｃ）として使用することができる。例えば、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイドのブロック共重合体又はランダム共重合体、ポリテトラメチレングリコール、テトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとのブロック共重合体又はランダム共重合体等のポリエーテルポリオール類；
多価アルコール又はポリエーテルポリオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、イソフタル酸等の多塩基酸との縮合物であるポリエステルポリオール類；
グリコールまたはビスフェノールと炭酸エステルとの反応、あるいは、グリコールまたはビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンを作用させる反応などで得られるポリカーボネートポリオール類；
カプロラクトン変性ポリテトラメチレンポリオール等のカプロラクトン変性ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、水添ポリブタジエンポリオール等のポリブタジエン系ポリオール、シリコーン系ポリオール等のポリオールが挙げられる。
【００４０】
また、分子中に２個の水酸基と１個以上のカルボキシル基を有する化合物を、化合物（Ｃ）として使用することができる。例えば、ジメチロールブタン酸、ジメチロールプロピオン酸、およびこれらの誘導体（カプロラクトン付加物、エチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物など）、３−ヒドロキシサリチル酸、４−ヒドロキシサリチル酸、５−ヒドロキシサリチル酸、２−カルボキシ−１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。
【００４１】
また、分子中に３個以上の水酸基を有する化合物（Ｃ）としては多価アルコールが挙げられ、例えば、トリメチロールエタン、ポリトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ポリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、アラビトール、キシリトール、ガラクチトール、グリセリン等が挙げられる。
【００４２】
本発明における硬化性組成物の光硬化性および硬化膜のハードコート性を向上させるために、化合物（Ｃ）が、酸無水物基に反応しうる２つ以上の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｃ１）であることが特に好ましい。化合物（Ｃ１）としては、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ、ＥＣＨ変性プロピレングリコールジアクリレート、ＥＣＨ変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ＥＯ変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ＥＣＨ変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物、ビスフェノールＡジエポキシアクリル酸付加物、ＰＯ変性ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジアクリレート等が挙げられる。
【００４３】
具体的な市販品としては、ナガセケムテックス（株）製：デナコールアクリレートＤＡ−２１２、デナコールアクリレートＤＡ−２５０、デナコールアクリレートＤＡ−７２２、デナコールアクリレートＤＡ−７２１、デナコールアクリレートＤＡ−９１１、デナコールアクリレートＤＡ−９２０、デナコールアクリレートＤＡ−９３１、デナコールアクリレートＤＡ−９１１Ｍ、日本化薬（株）製：ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１６７、ＭＡＸ−２１０４、サンノプコ（株）製：ＲＣＣ１３−３６１、大阪有機（株）製：Ｖ♯５４０、共栄社化学（株）製：エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル２００ＰＡ、エポキシエステル３０００Ａ、エポキシエステル３００２Ａ、エポキシエステル３０００Ｍ等が挙げられる。特に、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬを主成分とするデナコールアクリレートＤＡ−９１１Ｍ（ナガセケムテックス株式会社製）は、金属酸化物の分散性が良好であると同時に硬化膜のハードコート性が高いことからより好ましい。
【００４４】
その他、化合物（Ｃ）としては、多官能アミン化合物、多官能エポキシ化合物等を使用することができる。多官能アミン化合物としては、１分子中に２個以上の１級又は２級のアミノ基を有する化合物であれば特に制限はないが、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、トリアミノプロパン、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、トリレンジアミン、ヒドラジン、ピペラジン等の脂肪族ポリアミン、イソホロンジアミン、ジシクロヘキシルメタン−４，４'−ジアミン等の脂環式ポリアミン、及びフェニレンジアミン、キシリレンジアミン等の芳香族ポリアミンが挙げられる。
【００４５】
多官能エポキシ化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビフェノール・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、グリセリン・エピクロルヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、エチレングリコール・エピクロルヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトルイジン等が挙げられる。
【００４６】
本発明において、これらの化合物（Ｃ）は、一種のみを単独で用いても良いし、複数を併用しても良い。
＜カルボキシル基を有する化合物（Ｄ）＞
カルボキシル基を有する化合物（Ｄ）は、一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）、酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、及び酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）を反応させて得られるものである。
【００４７】
その３成分のモル比は、特に制限されないが、好ましくは化合物（Ａ）／化合物（Ｂ）／化合物（Ｃ）＝１／０．０１〜１．９９／０．０１〜１．９９、より好ましくは１／０．１〜１．５／０．１〜１．５である。化合物（Ｂ）および／または化合物（Ｃ）の比率が１．９９を超える場合、化合物（Ａ）に対して大過剰になるため、未反応の化合物（Ｂ）および／または化合物（Ｃ）が大量に残存することになり、金属酸化物の分散性や、塗膜のハードコート性を低下させることがある。
【００４８】
前記モル比は、金属酸化物の分散性に影響を及ぼす要因の一つである硬化性分散剤の分子量に大きく関与するものであり、前記モル比の中の化合物（Ｂ）の比率が小さく、逆に化合物（Ｃ）の比率が大きくなるほど、分子量は高分子量化する傾向にある。硬化性分散剤の重量平均分子量としては、３０００〜２０,０００が好ましく、より好ましくは４０００〜１０,０００である。分子量が３０００未満では、金属酸化物の分散性および／またはコート剤の経時安定性を低下させることがあり、分子量が２０,０００を超える場合は、系の粘度が非常に高くなり金属酸化物の分散性を低下させることがある。
【００４９】
一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）および／または化合物（Ｃ）である水酸基含有硬化性分散剤との反応は、一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）の有する２つのカルボン酸無水物基と、水酸基含有硬化性分散剤がそれぞれ有する水酸基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と水酸基含有硬化性分散剤とを、シクロヘキサノンのような有機溶媒中、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンのような触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で反応させることができる。この場合、反応系に、メトキノン（methoquinone）のような重合禁止剤を添加することができる。
＜カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）＞
カルボキシル基に反応しうる官能基としては、エポキシ基、オキサゾリン基、またはアミノ基、またはカルボジイミド基、またはイソシアネート基、またはイソチオシアネート基が挙げられる。さらに、化合物（Ｅ）としては、カルボキシル基との反応性の点でエポキシ基が特に有用である。
【００５０】
不飽和二重結合を有する化合物としては、アクリレート、メタクリレートがある。
【００５１】
エポキシ基含有硬化性分散剤（Ｅ）の例としては、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートのようなエポキシ基含有（メタ）アクリレート、が挙げられる。
【００５２】
カルボキシル基を有する化合物（Ｄ）とエポキシ基含有硬化性分散剤（Ｅ）との反応は、化合物（Ｄ）の有するカルボキシル基とエポキシ基含有硬化性分散剤（Ｅ）の有するエポキシ基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、この反応は、ジメチルベンジルアミン等のようなアミン触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で行なうことができる。
【００５３】
これらの反応は、無溶媒で行なってもよく、あるいは反応に対して不活性溶媒中で行なってもよい。かかる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は２種類以上を併用しても差し支えない。
【００５４】
硬化性組成物における金属酸化物の添加量は、特に制限されないが、金属酸化物及び硬化性分散剤の固形分合計量１００重量部中、好ましくは１〜８０重量部、より好ましくは１０〜７０重量部である。金属酸化物の添加量が１重量部未満では、金属酸化物由来の帯電防止性が劣る場合があり、８０重量部を超えると有機成分量が少ないことにより成膜性が劣る場合がある。
【００５５】
硬化性組成物は、前記硬化性分散剤と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物とを混合することにより製造することができる。
【００５６】
本発明の硬化性組成物は、金属酸化物粉末と硬化性分散剤を単に混合して調製しても、十分に目的とする効果が得られる。ただし、ニーダー、ロール、アトライター、スーパーミル、乾式粉砕処理機などにより機械的に混合するか、金属酸化物粉末と有機溶剤などによるサスペンジョン系に、硬化性分散剤を含む溶液を添加し、金属酸化物表面に硬化性分散剤を沈着させるなどの緊密な混合系で行なえば、さらに良好な結果を得ることができる。
【００５７】
有機溶剤などの非水系ビヒクル中への金属酸化物、硬化性分散剤の分散または溶解、及びこれらの混合などには、ペイントコンディショナー（レッドデビル社製）、ボールミル、サンドミル（シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等）、アトライター、パールミル（アイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー（エム・テクニック社製「クレアミックス」等）、湿式ジェットミル（ジーナス社製「ジーナスＰＹ」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」）、微小ビーズミル（寿工業（株）製「スーパーアペックミル」、「ウルトラアペックミル」）等の分散機が使用できる。分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ、スチレンビーズ等を用いることが好ましい。分散に関しては、２種類以上の分散機、または大きさの異なる２種類以上のメディアをそれぞれ用い、段階的に使用しても差し支えない。
【００５８】
本発明の硬化性組成物は、少なくとも金属酸化物、硬化性分散剤を含有するものであり、さらに溶剤や様々な添加剤を、本発明の目的や効果を損なわない範囲において含むことができる。具体的には、溶剤、光重合開始剤、硬化性分散剤、重合禁止剤、光増感剤、レべリング剤、界面活性剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、導電性ポリマー、導電性界面活性剤、無機充填剤、顔料、染料などが挙げられる。
【００５９】
金属酸化物および硬化性分散剤以外の成分を含む硬化性組成物の製造方法としては、特に制限されないが、いくつかの方法が挙げられる。具体的には、初めに金属酸化物及び硬化性分散剤を有機溶剤中で混合分散し、安定な金属酸化物分散体を得た後、他の様々な添加剤を添加及び調整し製造する方法；初めから、金属酸化物、硬化性分散剤、有機溶剤及びその他の添加剤の全てが混合された状態で、分散し製造する方法；などが挙げられる。
【００６０】
溶剤を添加する場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理を行なうことが好ましい。また、溶剤の添加量としては、特に制限されないが、全組成物１００重量部中、好ましくは１〜９５重量部、より好ましくは６０〜８０重量部である。溶剤の添加量が１重量部未満では、硬化性組成物の粘度が高くなり塗工性に問題が生じる場合があり、９５重量部を超えると揮発させる溶剤量が非常に多くなるため作業環境に問題が生じる場合がある。
【００６１】
溶剤としては、特に制限されるものでなく、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。具体的には例えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、アセチルアセトン、トルエン、キシレン、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、ブチルアセテート、イソアミルアセテート、アジピン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、テトラヒドロフラン、メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００６２】
なかでも、水酸基含有溶剤は、親水性の高い粒子表面物性を持つ金属酸化物に対して濡れ性が良いことから、溶剤組成中に含有されることで、金属酸化物の分散性及びその塗料（硬化性組成物）の経時安定性の向上において非常に効果的であり、かつ塗工工程のレベリング性も向上することから好ましい。全溶剤組成中の水酸基含有溶剤含有量は、１０〜１００重量％であることが好ましい。具体体には、水酸基含有溶剤としては、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。特に、３−メトキシ−１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテルは、金属酸化物の分散性と分散安定性がより良好となることから好ましい。
【００６３】
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物などが使用できる。
【００６４】
具体的には、モノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、４−メチル−ベンゾフェノン、２,４,６−トリメチルベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル−エタノン、３,３´−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１，３−アクリロイル−１，３，３´−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１,３−アクリロイル−１,４,７,１０，１３−ペンタオキソトリデシル）ベンゾフェノン、３，３´,４，４´−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシエチル）メタアンモニウムシュウ酸塩、２−／４−イソ−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ヒドロキ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈチオキサントン−２−イロキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト（１，２−ｄ）チアゾリン等が挙げられる。
【００６５】
ジカルボニル化合物としては、１，２，２−トリメチル−ビシクロ［２.１.１］ヘプタン−２，３−ジオン、ベンザイル、２−エチルアントラキノン、９，１０−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、４−フェニルベンザイル等が挙げられる。
【００６６】
アセトフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−ジ-２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−スチリルプロパン−１−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，２−ジエトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノ−プロパノニル）−９−ブチルカルバゾール等が挙げられる。
【００６７】
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイゾブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
【００６８】
アシルホスフィンオキシド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ｎ−プロピルフェニル−ジ（２，６−ジクロロベンゾイル）ホスフィンオキシド等が挙げられる。
【００６９】
アミノカルボニル化合物としては、メチル−４−（ジメトキシアミノ）ベンゾエート、エチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、イソアミル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、４，４´−ビス−４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４´−ビス−４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２，５´−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン等が挙げられる。
【００７０】
光重合開始剤の市販品としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア１８４、６５１、５００、９０７、１２７、３６９、７８４、２９５９、ＢＡＳＦ社製ルシリンＴＰＯ、日本シイベルヘグナー（株）製エサキュアワン等があげられる。
【００７１】
光重合開始剤は、上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があれば、どのようなものでも構わない。これらの光重合開始剤は、一種類で用いられるほか、二種類以上を混合して用いてもよい。
【００７２】
光重合開始剤の使用量に関しては、特に制限はされないが、光硬化性化合物の全量１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲内で使用することが好ましい。
【００７３】
増感剤として、公知の有機アミン等を加えることもできる。
【００７４】
さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかに、カチオン重合用の開始剤を併用することもできる。
【００７５】
硬化性組成物は、上記硬化性分散剤の他に、その他のバインダー樹脂や、光硬化性化合物を含んでいてもよい。
【００７６】
バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、一種類で用いても、二種類以上を混合して用いてもよい。バイダー樹脂は、硬化性組成物の固形分（溶剤以外の成分。以下、同じ。）の全量を基準（１００重量部）として、２０重量部以下の範囲内で使用することが好ましい。
【００７７】
光硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物等の重合性不飽和二重結合基を有する化合物を用いることができる。これらの重合性不飽和二重結合基を有する化合物は、さらに水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基等の官能基を有していてもよい。硬化性分散剤以外の光硬化性化合物は、硬化性組成物の固形分の全量を基準（１００重量部）として、５０重量部未満の範囲内、特に５〜４０重量部の範囲内で使用することが好ましい。
【００７８】
（メタ）アクリル系化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート、カルボキシル基と重合性不飽和二重結合とを有する化合物、水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物等がある。また、単官能、多官能の化合物を適宜使用することができる。光硬化性、塗膜のハードコート性の点からは、多官能のものが好ましい。
【００７９】
単官能の（メタ）アクリル系化合物として具体的には、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２２のアルキレン（メタ）アクリレートが挙げられる。極性の調整を目的とする場合には、炭素数２〜１０、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキル基を有するアルキル基含有（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。また、レべリング性の調節等を目的とする場合には、炭素数６以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
【００８０】
アルキレングリコール系（メタ）アクリレートとしては、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート等の、末端に水酸基を有しポリオキシアルキレン鎖を有するモノ（メタ）アクリレート；メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の、末端にアルコキシ基を有しポリオキシアルキレン鎖を有するモノ（メタ）アクリレート；フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレンエチレングリコール（メタ）アクリレート等の、末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００８１】
カルボキシル基及び重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等が挙げられる。
【００８２】
水酸基含有（メタ）アクリル系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシビニルベンゼン、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００８３】
窒素含有（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミド等のモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミンド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミド等のジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物；及び、対イオンとしてＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ３-（Ｑ：炭素数１〜１２のアルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の４級アンモニウム塩等がある。
【００８４】
その他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類を挙げることができる。
【００８５】
さらに、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー；ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体；グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレート等のグリシジル基含有アクリレートが挙げられる。
【００８６】
脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、クロトン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリン酸ビニル、クロル酢酸ビニル、オレイン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
【００８７】
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
【００８８】
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
【００８９】
ビニル化合物としては、アリル酢酸、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロロスチレン等が挙げられる。
【００９０】
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。
【００９１】
これらは、一種類で用いてもよいし、二種類以上を混合して用いてもよい。
【００９２】
上記硬化性分散剤以外の光硬化性化合物としては、塗膜強度、耐擦傷性の観点より、少なくとも３つの官能基を有するポリウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリエポキシポリ（メタ）アクリレート等のポリ（メタ）アクリレート類、分子内に３個以上のアクリロイル基を有する多官能のアクリレート類を好適に使用することができる。
【００９３】
ポリエポキシポリ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を（メタ）アクリル酸でエステル化して、官能基を（メタ）アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物等がある。
【００９４】
ポリウレタンポリ（メタ）アクリレートは、例えば、ジイソシアネートと水酸基を有する（メタ）アクリレート類とを反応させて得られるもの、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得られるものがある。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることもできる。
【００９５】
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
【００９６】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００９７】
水酸基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート，２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９８】
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
【００９９】
光硬化性化合物の市販品としては、以下のものが例示できる。
【０１００】
東亜合成（株）製：アロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４０２、アロニックスＭ−４０８、アロニックスＭ−４５０、アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８０３０、アロニックスＭ−８０６０、
大阪有機化学工業（株）製：ビスコート♯４００、
化薬サートマー（株）製：ＳＲ−２９５、
ダイセルＵＣＢ（株）製：ＤＰＨＡ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ １２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ５１２９、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ ６６０２、
新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ、ＮＫオリゴＥＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＭＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３１０、ＮＫオリゴＥＡ−６３２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３４０、ＮＫオリゴＭＡ−６、ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−６ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−３２４Ａ、
ＢＡＳＦ社製：ＬａｒｏｍｅｒＥＡ８１、
サンノプコ（株）製：フォトマー３０１６、
荒川化学工業（株）製：ビームセット３７１、ビームセット５７５、ビームセット５７７、ビームセット７００、ビームセット７１０；
根上工業（株）製：アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０１Ｔ、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＨＤＰ−３、アートレジン Ｈ６１、
日本合成化学工業（株）製：紫光ＵＶ−７６００Ｂ、紫光ＵＶ−７６１０Ｂ、紫光ＵＶ−７６２０ＥＡ、紫光ＵＶ−７６３０Ｂ、紫光ＵＶ−１４００Ｂ、紫光ＵＶ−１７００Ｂ、紫光ＵＶ−６３００Ｂ、
共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＰＥ−４Ａ、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、
日本化薬（株）製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ２Ｃ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０。
【０１０１】
次に、本発明の硬化膜とその積層体に関して説明する。
【０１０２】
本発明の硬化膜は、本発明の硬化性組成物を硬化してなる膜である。その製造方法は、たとえば、硬化性組成物を任意の基材に塗布すること、および活性エネルギー線を照射して、基材上の硬化性組成物を硬化させること、を含む。
【０１０３】
より具体的には、この硬化性組成物を任意の基材上に、乾燥後の膜厚が好ましくは０．１〜３０μｍ、より好ましくは０．１〜２０μｍになるように塗工後、硬化処理することにより形成することができる。
【０１０４】
形成時において、硬化膜は、基材に直接塗工されてもよいし、硬化膜と基材との間に１層以上の下層が存在してもよい。
【０１０５】
この基材としては、金属、セラミックス、ガラス、プラスチック、木材、スレート等が挙げられ、特に制限されるものではない。具体的なプラスチックの種類としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。また基材の形状としてはフィルムシート、板状パネル、レンズ形状、ディスク形状、ファイバー状の物が挙げられるが、特に制限されるものではない。
【０１０６】
塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロットまたはワイヤーバーなどを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロットまたはスピンなどの各種コーティング方法を用いることができる。
【０１０７】
硬化処理は、公知の技術を用いて、例えば、紫外線、電子線、波長４００〜５００ｎｍの可視光線等の活性エネルギー線を照射することにより行なうことができる。紫外線および波長４００〜５００ｎｍの可視光線の線源（光源）には、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放射銃等を使用することができる。
【０１０８】
照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であることが好ましく、さらには工程上管理しやすい点から、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であることが好ましい。
【０１０９】
これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱処理を併用することができる。
【０１１０】
硬化膜は、基材に硬化性組成物を塗工し、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なって形成しても良いし、塗工し硬化処理を行なったあとに自然または強制乾燥させても良いが、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。
【０１１１】
特に、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。
【０１１２】
硬化処理のタイミングは、塗工と同時でもよいし、塗工後でもよい。
【０１１３】
得られる硬化膜は、ハードコート性、透明性、耐光性、高屈折率性、帯電防止性に優れるため、光学材料として好適に利用することが出来る。したがって、本発明の硬化膜は、積層体として、陰極線管、フラットディスプレイパネル（液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ等）等の各種表示装置の前面板あるいはこれらの入力装置としても利用できる。
【０１１４】
その他、この硬化膜は、光学用レンズ、メガネ用レンズ、光記録ディスク（コンパクトディスク、ＤＶＤディスク、ブルーレイディスク等）、ライトケース等に広く利用できる。
【０１１５】
硬化膜の表面抵抗値は、１×１０12Ω／□以下であることが好ましい。
【０１１６】
硬化膜の厚みは、０．１〜３０μｍであることが好ましい。
【０１１７】
さらに、硬化膜の屈折率は、１．４〜１．８の範囲であることが好ましい。
【０１１８】
本発明の積層体は、本発明の硬化膜と基材とを含むものである。基材としては、上記例示のものを任意に使用することができ、特に、プラスチック基材であることが好ましい。基材の形状は、フィルム形状、レンズ形状、またはディスク形状であることが好ましい。
【０１１９】
この積層体は、これらに加え、屈折率の異なる膜、粘着層または情報記録層などを１層以上含むことが好ましい。
【０１２０】
屈折率の異なる膜（Ｍ）、粘着層（Ｍ）または情報記録層（Ｍ）を含む積層体は、たとえば、下記（Ｉ）〜（ＩＸ）などの層構成にすることができる。
【０１２１】
（Ｉ） 基材／（Ｍ）／硬化膜
（ＩＩ） 基材／硬化膜／（Ｍ）
（ＩＩＩ） 基材／（Ｍ）／硬化膜／（Ｍ）
（ＩＶ） （Ｍ）／基材／硬化膜
（Ｖ） （Ｍ）／基材／（Ｍ）／硬化膜
（ＶＩ） （Ｍ）／基材／硬化膜／（Ｍ）
（ＶＩＩ） （Ｍ）／基材／（Ｍ）／硬化膜／（Ｍ）
（ＶＩＩＩ） （Ｍ）／硬化膜／基材／硬化膜
（ＩＸ） 硬化膜／（Ｍ）／基材／硬化膜
屈折率の異なる膜または情報記録層は、本発明の硬化物が有する機能以外の機能を持つものである。その形成方法は特に限定されず、公知の方法で形成される。例えば蒸着、スパッタなどのドライコーティング法、ロット、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット、スピン等のウェットコーティング方法を用いることができる。用いる材料も限定は無く、必要に応じて、情報記録機能、防眩機能、ニュートンリング防止機能、粘着機能、特定波長の遮断、密着向上、色調補正などの機能の１種類以上を積層体に付与することができる任意の材料を用いることができる。
【０１２２】
情報記録層としては、レーザー光などにより何らかの化学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録するものであればよく、材料は特に限定されない。例えば有機系の材料としては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、アントラキノン系、キサンテン系、トリフェニルメタン系金属錯体化合物が挙げられ、上記の染料を１種又は２種以上の組合せで用いることができる。無機系の記録層としては、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｔ等の金属、半金属を１種又は２種以上の組合せで用いることができる。情報記録層は積層体などでも良く、光化学変化の態様は相変化、バブル、穴あけタイプのいずれでも良い。さらにＦｅ、Ｔｂ、Ｃｏを主体とした光磁気記録層であっても良いし、スピロピラン、フルキド系のフォトクロミック材料であっても良い。
【０１２３】
高屈折率の硬化膜は、反射防止の観点から、表層に低屈折率の被覆硬化膜を設け、反射防止機能を付与した積層体として利用することも好ましい。すなわち、フィルム等の基材上に硬化膜を形成し、さらに好ましくは被覆硬化膜を形成して得られる積層体を、反射防止膜として用いることが好ましい。
【０１２４】
反射干渉縞が問題となる積層体においては、本発明の硬化性組成物中の金属酸化物の配合量を調整し、その硬化膜と基材との屈折率の差が、または、硬化膜と基材との間に任意の層が存在する場合は硬化膜と硬化膜の接する下層との屈折率の差が、±０．０２以内となるようにすることが好ましい。
【０１２５】
本発明の硬化性組成物は、金属酸化物の種類や添加量を制御することにより、高屈折率の硬化物を製造することが可能である。そのため、光半導体素子の光取り出し効率を向上させるために、樹脂層の屈折率を光半導体素子側から最外層に向けて順次小さくすることが要求される光半導体素子封止材として、好ましく利用できる。
【０１２６】
光半導体素子としては、窒化ガリウム（ＧａＮ：屈折率２．５）、ガリウムリン（ＧａＰ：屈折率２．９）、ガリウム砒素（ＧａＡｓ：屈折率３．５）等が挙げられ、非常に屈折率が高い素材である。そのため、光半導体素子封止材となる硬化物の屈折率は、光取り出し効率を高める観点から、１．５以上であることが好ましく、より好ましくは１．５〜２．１、さらに好ましくは１．７〜２．１である。
【０１２７】
硬化物の最適な屈折率を達成する方法としては、使用する金属酸化物として酸化チタン（屈折率２．５〜２．７）、酸化ジルコニウム（屈折率２．４）、酸化亜鉛（屈折率１．９５）などが好ましく、分散剤にも高屈折率性が要求されることから、芳香族骨格を持った硬化性分散剤が好ましい。
【実施例】
【０１２８】
以下に、製造例、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明するが、以下の製造例、実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。製造例、実施例中、部および％は、重量部および重量％をそれぞれ表す。また、重量平均分子量はＧＰＣにより測定された標準ポリスチレン換算分子量を表す。
（製造例１）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）４３．１７部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）８０．５２部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）３２．６７部、シクロヘキサノン１５６．３６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７８部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）４１．６９部、シクロヘキサノン３９．５８部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．２５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）２，２００、重量平均分子量（ＭＷ）８，４００であった。
（製造例２）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）６５．２８部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）５２．９８部、シクロヘキサノン１５３．２６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７７部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３３．８０部、シクロヘキサノン３１．７３部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．２３部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（２）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，３８０、重量平均分子量（ＭＷ）５，３６０であった。
（製造例３）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）４０．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）２２．２７部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）８１．３３部、シクロヘキサノン１４３．６０部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７２部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３８．６３部、シクロヘキサノン３６．６９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．１５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（３）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，５２０、重量平均分子量（ＭＷ）５，６８０であった。
（製造例４）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）５２．２０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）５４．５５部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）３９．５１部、シクロヘキサノン１４６．２６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７３部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．４１部、シクロヘキサノン４８．４３部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．１７部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（４）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，９８０、重量平均分子量（ＭＷ）７，８４０であった。
（製造例５）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）３５．００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３６．５８部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）５２．９８部、シクロヘキサノン１２４．５５部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．６２部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３３．８０部、シクロヘキサノン３２．１２部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．００部を加え、８５℃で６時間撹拌し、
室温まで冷却して、硬化性分散剤（５）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，２８０、重量平均分子量（ＭＷ）４，３８０であった。
（製造例６）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）３５．００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３６．５８部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）５２．９８部、シクロヘキサノン１２４．５５部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．６２部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）３３．８０部、シクロヘキサノン３２．１２部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．００部を加え、８５℃で６時間撹拌し、
室温まで冷却して、硬化性分散剤（６）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，３５０、重量平均分子量（ＭＷ）５，３１０であった。
（製造例７）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）３９．３４部、シクロヘキサノン１７１．２８部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．８６部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．８８部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．３７部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（７）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）２，０００、重量平均分子量（ＭＷ）８，０５０であった。
（製造例８）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）７８．６７部、シクロヘキサノン２１０．６１部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）１．０５部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．３５部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．６８部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（８）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，２５０、重量平均分子量（ＭＷ）４，９８０であった。
（製造例９）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）４０．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）３３．０７部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）１２０．７８部、シクロヘキサノン１９３．８５部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．９７部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５７．３６部、シクロヘキサノン５４．７４部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．５５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（９）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，４００、重量平均分子量（ＭＷ）５，４６０であった。
（製造例１０）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３８．４３部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）５９．６４部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）４３．１９部、シクロヘキサノン１４１．２６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７１部を加え、８５℃で６時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５５．１１部、シクロヘキサノン５３．２０部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．１３部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１０）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，７８０、重量平均分子量（ＭＷ）７，４４０であった。
（製造例１１）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）５４．３１部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）７８．６７部、シクロヘキサノン１６７．９９部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．８４部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．９２部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．３４部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１１）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，０９０、重量平均分子量（ＭＷ）４，２８０であった。
（製造例１２）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３０．００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１３．９０部、ＥＰＯＸＹ ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＦＲＯＭ（ＰＯＬＹ）ＰＲＯＰＹＬＥＮＥ ＧＬＹＣＯＬ（ナガセケムテックス株式会社製：ＤＡ−９１１Ｍ）９０．５８部、シクロヘキサノン１３４．４８部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．６７部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）４７．３２部、シクロヘキサノン４５．５１部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．０８部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１２）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，１９０、重量平均分子量（ＭＷ）４，４５０であった。
（製造例１３）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ＥＣＨ変性１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１６７）４４．３２部、シクロヘキサノン１７６．２６部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．８８部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．８１部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．４１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１３）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）２，１００、重量平均分子量（ＭＷ）８，１００であった。
（製造例１４）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物（共栄社化学株式会社製：エポキシエステル３０００Ａ）５７．３５部、シクロヘキサノン１８９．２９部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．９５部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．６３部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．５１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１４）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，９００、重量平均分子量（ＭＷ）８，２００であった。
（製造例１５）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物（共栄社化学株式会社製：エポキシエステル３０００Ｍ）６０．６７部、シクロヘキサノン１９２．６１部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．９６部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．５９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．５４部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１５）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）２，０５０、重量平均分子量（ＭＷ）８，０６０であった。
（製造例１６）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）９６．９４部、Ｎｅｏｐｅｎｔｙｌ Ｇｌｙｃｏｌ Ｄｉｇｌｙｃｉｄｙｌ Ｅｔｈｅｒ（ナガセケムテックス株式会社製：デナコールＥＸ−２１１）２５．６０部、シクロヘキサノン１５７．５４部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．７９部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４８．０６部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．２６部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１６）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，９４０、重量平均分子量（ＭＷ）７，８６０であった。
（製造例１７）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）３５．００部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）１４４．６９部、１，６−ヘキサンジオール（和光純薬株式会社製）１０．４４部、シクロヘキサノン１９０．１２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）０．９５部を加え、８５℃で８時間撹拌しながら反応した。次に、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）５０．１９部、シクロヘキサノン４７．６２部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン１．５２部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１７）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，５００、重量平均分子量（ＭＷ）５，８００であった。
（製造例１８）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃３００）２５０．０部、ヒドロキノン０．１６部、シクロヘキサノン１４１．２部を仕込み、８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン３３．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、硬化性分散剤（１８）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分７０％、数平均分子量（ＭＮ）８７０、重量平均分子量（ＭＷ）２，８３０であった。
（製造例１９）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）４６３．２部、ヒドロキノン０．２８部、シクロヘキサノン５６３．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）２．８２部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）１４３．４部、シクロヘキサノン１４６．５部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン４．５３部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却し、硬化性分散剤（１９）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で固形分５０％、数平均分子量（ＭＮ）９２０、重量平均分子量（ＭＷ）２，２００であった。
（金属酸化物分散ペーストの作成：実施例１〜１７、比較例１及び２）
上記製造例により作成した各硬化性分散剤を用い、表１に示す配合により金属酸化物分散を行ない、金属酸化物分散ペーストを作成した。分散方法は、仮分散（ジルコニアビーズ（１．２５ｍｍ）をメディアとして用い、ペイントシェイカーで１時間分散）と、本分散（ジルコニアビーズ（０．１ｍｍ）をメディアとして用い、寿工業（株）製分散機ＵＡＭ−０１５で分散）の２段階で行なった。
【０１２９】
【表１】
表１において、
Ｓｂ2Ｏ5：日産化学工業（株）製「サンエポックＥＦＲ−６Ｎ」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＡＴＯ：石原産業（株）製「ＳＮ−１００Ｐ」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＩＴＯ：シーアイ化成（株）製「ナノテックＩＴＯ」（平均一次粒子径：３０ｎｍ）
ＰＴＯ：三菱マテリアル（株）製「ＥＰ ＳＰ−２」（平均一次粒子径：１５ｎｍ）
ＺｒＯ2：日本電工（株）製「ＰＣＳ−６０」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＴｉＯ2：石原産業（株）製「ＴＴＯ−５１（Ａ）」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＺｎＯ：堺化学工業（株）製「ＦＩＮＥＸ−５０」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＳｉＯ2：日本アエロジル（株）製「ＡＥＲＯＳＩＬ５０」（平均一次粒子径：５０ｎｍ）
Ａｌ2Ｏ5：日本アエロジル（株）製「Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ Ｏｘｉｄｅ Ｃ」（平均一次粒子径：１３ｎｍ）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
メトブタ：３−メトキシ−１−ブタノール
（塗料化及び硬化膜評価：実施例１〜１７、比較例１及び２）
上記で調整した金属酸化物分散ペーストを用いて、表２に示す組成の硬化性組成物を調整した。得られた硬化性組成物を、１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製「コスモシャインＡ−４１００」）に、バーコーターで、乾燥後の膜厚が５μｍになるように塗工した後、高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、帯電防止用ハードコート層（硬化膜）を形成した。得られた帯電防止用ハードコート層について、下記の方法で表面抵抗、耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性（ヘイズ）および耐光性を評価した。その結果を表２に示す。
【０１３０】
【表２】
表２において、
光硬化性化合物（１）：日本合成化学（株）製「紫光ＵＶ−１７００Ｂ」
光硬化性化合物（２）：日本化薬（株）製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」
光重合開始剤：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」
溶剤：ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）
＊１：金属酸化物ペーストが分散不良だったので未測定
（反射防止膜（積層体）の作製及び評価：実施例１４〜１９）
（低屈折率塗液の作製）
１,２,９,１０−テトラアクリロイルオキシ−４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン５０重量部、シリカゾル３０％分散液（日産化学工業（株）製ＭＥＫ-ＳＴ）１２０重量部、２’、２’―ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸（２−ヒドロキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１―ノナデカフルオロウンデシル１０重量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ）５重量部を混合し、低屈折率塗液を調整した。
【０１３１】
実施例７の金属酸化物分散ペーストを用い、表３に示す配合による組成の各硬化性組成物を調整した。この硬化性組成物を、１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルム（易接着処理層の屈折率＝１．６０）の易接着処理面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚で６μｍとなるよう塗布した。得られた塗布層を、１００℃１分で乾燥したのち、高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。得られた硬化膜上にさらに、上記低屈折塗料液をスピンコーターにて、乾燥膜厚でλ/４を示す光の波長が５５０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整して塗布した。得られた塗布層を、１００℃１分で乾燥したのち、高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、積層体を得た。
【０１３２】
得られた積層体について、下記の方法で硬化膜の屈折率を測定するとともに、硬化膜の耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性（ヘイズ）、屈折率、反射干渉縞を評価した。さらに、硬化性組成物の経時安定性に関して、４０℃、２週間後の粘度変化を評価した。その結果を表３に示す。
【０１３３】
【表３】
表３において
光硬化性化合物（１）：日本合成化学（株）製「紫光ＵＶ−１７００Ｂ」
光重合開始剤：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」
基材：１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製「コスモシャインＡ−４１００」、易接着処理面（屈折率１．６０）に塗工）
溶剤：ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）
（評価方法）
（１）表面抵抗
硬化膜の表面抵抗（Ω／□）を、以下の基準に従って評価した。
【０１３４】
表面抵抗が１×１０12以下の場合：Ａ
表面抵抗が１×１０12より高く１×１０14以下の場合：Ｂ
表面抵抗が１×１０14を超える場合：Ｄ
測定不能（導電性なし）の場合：−
（２）耐擦傷性
塗工物を学振試験機にセットし、スチールウールのＮｏ.００００を用いて、荷重２５０ｇで１０回学振させた。取り出した塗工物について、キズのつき具合を以下の５段階の目視評価に従って判断した。数値が大きいほど、硬化膜の耐擦傷性が良好であることを示す。
【０１３５】
５：キズが全くない
４：僅かにキズが付いている
３：キズは付いているが、基材は見えていない
２：キズが付き、一部硬化膜が剥がれている
１：硬化膜が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態
（３）鉛筆硬度
ＪＩＳ−Ｋ５６００に準拠し、鉛筆硬度試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ Ｔｅｓｔｅｒ ＨＥＩＤＯＮ−１４）を用い、鉛筆の芯の硬さを種々変えて、荷重５００ｇにて５回試験をした。５回中、１回も傷がつかない、もしくは１回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その硬化膜の鉛筆硬度とした。実用的な要求物性を考慮して、硬化膜の鉛筆硬度が、
２Ｈ以上：Ａ
Ｈ：Ｂ
Ｈより低い：Ｄ
と判定した。
（４）透明性(Ｈａｚｅ値)
得られた塗工物における濁度（Ｈａｚｅ値）を、Ｈａｚｅメーターを用いて測定した。
（５）耐光性
光連続照射時の経時での黄変は、用途展開上、非常に好ましくない。そこで、光連続照射時の黄変性を確認した。
【０１３６】
まず、耐光性試験機（光源：キセノンランプ、照度：１００Ｗ／ｃｍ2、ブラックパネル温度：６０℃、６０％ＲＨ）にて塗工物を２４時間暴露した。その後、白色紙上に塗工物を置き、測色機（ミノルタＣＲ−３００）を用いて着色を測定した。測色値はＬ*ａ*ｂ*にて表示し、硬化膜の黄変性の目安をｂ*値にて判断した。ｂ*値の値が小さいほど、黄変の程度が小さく、耐光性が良好であることを表す。実用的な要求物性を考慮して、硬化膜のｂ*値が、
３．５未満のもの：Ａ
３．５以上のもの：Ｄ
と判定した。
（６）屈折率
得られた硬化膜の屈折率を、株式会社アタゴ製アッベ屈折率計を用いて測定した。
（７）反射干渉縞
得られた硬化膜の反射干渉縞を、以下の基準に従い目視にて評価した。
【０１３７】
Ａ：反射干渉縞が観察できない
Ｄ：反射干渉縞が観察できる
（８）経時安定性
得られた硬化性組成物を褐色瓶に詰め、遮光状態で４０℃、２週間放置し、その粘度変化を以下の基準に従い評価した。
【０１３８】
Ａ：粘度増加率１０％未満
Ｄ：粘度増加率１０％以上
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が３，０００〜２０，０００である硬化性分散剤と、
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物と、を含む硬化性組成物。
一般式（１）
【化１】
（ここで、Ｒ1は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
【請求項２】
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）が、酸無水物基に反応しうる１つの官能基と３個以上の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ１）であることを特徴とする請求項１記載の硬化性組成物。
【請求項３】
酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）が、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｃ１）であることを特徴とする請求項１または２記載の硬化性組成物。
【請求項４】
金属酸化物が、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項５】
さらに、溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して１０〜１００重量％の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５いずれかに記載の硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜。
【請求項７】
請求項１〜６いずれかに記載の硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の製造方法で製造されてなる積層体。
【請求項９】
反射防止膜である請求項８記載の積層体。
【請求項１】
下記一般式（１）で表される酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、
カルボキシル基に反応しうる官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなる重量平均分子量が３，０００〜２０，０００である硬化性分散剤と、
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物と、を含む硬化性組成物。
一般式（１）
【化１】
（ここで、Ｒ1は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
【請求項２】
酸無水物基に反応しうる１個の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）が、酸無水物基に反応しうる１つの官能基と３個以上の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ１）であることを特徴とする請求項１記載の硬化性組成物。
【請求項３】
酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基を有する化合物（Ｃ）が、酸無水物基に反応しうる２個以上の官能基と不飽和二重結合とを有する化合物（Ｃ１）であることを特徴とする請求項１または２記載の硬化性組成物。
【請求項４】
金属酸化物が、チタニウム、亜鉛、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、スズ、珪素、及び、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項５】
さらに、溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して１０〜１００重量％の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の硬化性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５いずれかに記載の硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜。
【請求項７】
請求項１〜６いずれかに記載の硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の製造方法で製造されてなる積層体。
【請求項９】
反射防止膜である請求項８記載の積層体。
【公開番号】特開２００９−４０８４７（Ｐ２００９−４０８４７Ａ）
【公開日】平成２１年２月２６日（２００９．２．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２０６００６（Ｐ２００７−２０６００６）
【出願日】平成１９年８月８日（２００７．８．８）
【出願人】（０００２２２１１８）東洋インキ製造株式会社 (2,229)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年２月２６日（２００９．２．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年８月８日（２００７．８．８）
【出願人】（０００２２２１１８）東洋インキ製造株式会社 (2,229)
【Ｆターム（参考）】
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