磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法
【課題】記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制すること。
【解決手段】データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している。
【解決手段】データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法に関し、特に、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｃ Ｄｒｉｖｅ）等の磁気記録装置の大容量化に伴い、磁気記録装置に用いられる磁気記憶媒体の高記録密度化が要求されている。そのため、記録密度化を向上させる磁気記憶媒体として、パターンドメディア（ビットパターンドメディア、ＢＰＭ（Ｂｉｔ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｅｄｉａ）とも言う）と呼ばれる磁気記憶媒体が広く検討されている。
【０００３】
パターンドメディアとは、データを記録する微小な磁性粒子からなる磁性ドットが、所定の規則で配列されており、磁性ドット１つにつき１ビットを記録することができる高記録密度媒体である。パターンドメディアには、複数の磁性ドットを配置することが可能であり、多くの磁性ドットを配置するほど、記録密度を向上することが可能となる。
【０００４】
この種のパターンドメディアとして、特許文献１には、磁性ドットを千鳥状に交互配列した磁性ドット列を、データを記録する各記録トラック内に有し、１つの記録トラック内に含まれる多数の磁性ドットに対し、同時に記録又は再生を行うようにしたものが開示されている。
【０００５】
ただし、かかるパターンドメディアでは、高記録密度化のために磁性ドットを多く配置するほど、磁性ドット間の距離が短くなり、隣接する記録トラック内に含まれる磁性ドット間の距離が短くなる。このため、磁気ヘッドによって記録トラックにライト処理を行う際に、ライト処理の対象となる記録トラック（対象トラック）に隣接する他の記録トラック（隣接トラック）内の磁性ドットの磁化が、誤って反転してしまう問題がある。
【０００６】
そこで、かかる問題を解消するため、上述した特許文献１に記載のパターンドメディアでは、対象トラックと、隣接トラックとの間に、磁性ドットの存在しないスペースを設けている。磁性ドットの存在しないスペースは、隣接トラックに対する磁界の漏れを抑制する。このため、隣接トラック内における磁性ドットの磁化反転を抑制することが可能となる。
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−３０５２８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記した従来の技術では、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができるものの、磁性ドットの存在しないスペースを設けたため、このスペースの分だけ、記録密度、特に、記録トラック幅方向の記録密度ＴＰＩ（ｔｒａｃｋ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）が減少するという問題があった。
【０００９】
開示の技術は、上述した従来技術による問題点を解消するためになされたものであり、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本願の開示する磁気記憶媒体は、データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、前記裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置している。
【００１１】
この態様によれば、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる。
【００１２】
なお、本願の開示する磁気記憶媒体の構成要素、表現または構成要素の任意の組合せを、方法、装置、システム、コンピュータプログラム、記録媒体、データ構造などに適用したものも上述した課題を解決するために有効である。
【発明の効果】
【００１３】
本願の開示する磁気記憶媒体の一つの態様によれば、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に添付図面を参照して、本願の開示する磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【実施例】
【００１５】
まず、本実施例に係る磁気記録装置の構成について説明する。図１は、本実施例に係る磁気記録装置１の構成を示す外観図である。図１に示すように、磁気記録装置１は、磁気ディスク２と、磁気ヘッド３と、スライダ４と、サスペンションアーム５と、ロータリアクチュエータ６とを有する。
【００１６】
磁気ディスク２は、各種の磁気情報を高記録密度に記録する磁気記憶媒体であり、図示しないスピンドルモータにより回転駆動される。
【００１７】
磁気ヘッド３は、スライダ４に搭載されており、磁気ディスク２に対してデータのリード処理及びライト処理を行う。また、磁気ヘッド３は、磁気ディスク２の回転によって生じる揚力によって、磁気ディスク２の表面からわずかに浮いた状態を維持しつつ、リード処理及びライト処理を行う。なお、サスペンションアーム５は、スライダ４を支持し、ロータリアクチュエータ６は、サスペンションアーム５を磁気ディスク２の半径方向に回動する。
【００１８】
かかる構成により、磁気記録装置１は、磁気ディスク２のトラック幅方向に磁気ヘッド３をシーク移動し、リード処理及びライト処理を行う対象の記録トラックを変更する。
【００１９】
次に、本実施例に係る磁気記録装置１の有する磁気ディスク２の構成について説明する。なお、以下では、磁気ディスク２が、磁性粒子からなる磁性ドットが所定の規則で配列され、磁性ドット１つにつき１ビットを記録することで高密度記録が可能なパターンドメディアである例を示すが、磁気ディスク２は、連続膜媒体等の他の磁気記憶媒体として構成されてもよい。
【００２０】
図２及び図３は、本実施例に係る磁気記録装置１の有する磁気ディスク２の構成について説明するための図である。図２は、磁気ディスク２の斜視断面図であり、図３は、磁気ディスク２の平面図である。図２及び図３に示すように、磁気ディスク２は、基板１０上に、裏打層１２と、中間層１４と、磁気記録層１６とを、順次形成した磁気記憶媒体である。
【００２１】
基板１０は、外観視で略円盤状の部材であり、例えば、ガラス及びアルミニウム合金等の非磁性材料により形成されている。基板１０としては、表面の平坦性が高く、機械的強度の高いものが望ましい。
【００２２】
裏打層１２は、基板１０上に積層されており、磁気記録層１６の下方に配設されている。裏打層１２としては、例えば、ＣＯＺｒＮｂ等の軟磁性材料が用いられる。この裏打層１２は、磁気ヘッド３（図１参照）から発する磁束を、磁気記録層１６を介して磁気ヘッド３に還流させる磁気経路を形成する。この裏打層１２の具体的な構成については、後に詳細に説明する。
【００２３】
中間層１４は、裏打層１２上に積層されており、この中間層１４上に形成される磁気記録層１６の結晶配向性や結晶粒径等を制御する制御層である。中間層１４としては、例えば、Ｔａ等が用いられる。
【００２４】
磁気記録層１６は、中間層１４上に形成されており、例えば、ＣｏＰｄ合金等の磁性材料により形成されている。磁気記録層１６は、データを記録する複数の記録トラック１７を備えている。また、磁気記録層１６は、磁性粒子よりなる磁性ドット１８を所定の規則で交互配列した磁性ドット列を、各記録トラック１７内に有している。本実施例の磁気記録層１６では、磁性ドット１８は、千鳥状に交互配列されており、２列１トラックとして同時記録される。このように、本実施例では、磁気記録層１６の記録トラック１７内に、磁性ドット１８を千鳥状に交互配列することにより、磁性ドット１８をより多く配置することができるため、磁気ディスク２の記録密度を向上させることができる。
【００２５】
次に、裏打層１２の具体的な構成について説明する。図２及び図３に示すように、裏打層１２は、凸部２０と凹部２２とよりなる凹凸パターン２４を有している。凹凸パターン２４の凸部２０は、軟磁性体で形成されており、磁束を吸収する機能を有する。また、凹凸パターン２４の凹部２２には、磁束を遮断する機能を有する非磁性体２２ａが充填されている。
【００２６】
そして、特に、本実施例では、裏打層１２は、磁気記録層１６における各記録トラック１７の下方に、凹凸パターン２４の凸部２０を配置していると共に、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に、凹凸パターン２４の凹部２２を配置している。
【００２７】
かかる構成により、ライト処理を行う磁気ヘッド３（図１参照）からの磁束は、凹凸パターン２４の凸部２０による磁束の吸収機能によって、当該凸部２０へ集中する。上述したように、凹凸パターン２４の凸部２０は、磁気記録層１６における各記録トラック１７の下方に配置されている。一方、凹凸パターン２４の凹部２２は、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に配置されている。凹部２２内に充填された非磁性体２２ａは、ライト処理の対象となる記録トラック１７に隣接する他の記録トラック１７へ向かう磁束を遮断する。
【００２８】
したがって、磁気ヘッド３から発する磁束は、磁気ヘッド３によるライト処理の対象となる記録トラック１７を通って、この記録トラック１７の下方の凸部２０へ吸収される。その結果、ライト処理の対象となる記録トラック１７に印加される磁界が増大すると共に、ライト処理の対象となる記録トラック１７に隣接する他の記録トラック１７への漏れ磁界が抑制される。これにより、隣接トラック内の磁性ドット１８の磁化反転を抑制することができる。
【００２９】
すなわち、本実施例に係る磁気ディスク２では、パターンドメディアの磁気記録層１６が、磁性ドット１８を千鳥状に交互配列した磁性ドット列を、各記録トラック１７内に有していることにより、記録密度を向上することができる。同時に、本実施例では、裏打層１２が、各記録トラック１７の下方に、凹凸パターン２４の凸部２０を配置している共に、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に、凹凸パターン２４の凹部２２を配置していることにより、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる。
【００３０】
ところで、磁気ヘッド３が記録トラック１７へライト処理を行う際に、磁気ヘッド３が、ライト処理の対象となる記録トラック１７のセンタ位置からずれる、すなわち、オフトラックすることがある。磁気ヘッド３がオフトラックした場合には、磁気ヘッド３から磁気ディスク２に印加される磁界、すなわち、磁気ヘッド３からライト処理の対象となる記録トラック１７（以下、「対象トラック１７ａ」）、及びこれに隣接する他の記録トラック１７（以下、「隣接トラック１７ｂ」）に印加される磁界の分布が変化する。磁気ヘッド３から対象トラック１７ａ及び隣接トラック１７ｂに印加される磁界の変化は、対象トラック１７ａ及び隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８の磁化反転に影響を及ぼす。したがって、裏打層１２における凸部２０の幅は、磁気ヘッド３のオフトラック前後における磁界の変化を考慮して、決定されることが望ましい。以下、磁気ヘッド３のオフトラック前後における磁界の変化を考慮して、凸部２０の幅について検討する。
【００３１】
まず、磁気ヘッド３が対象トラック１７ａのセンタ位置にある場合、すなわち、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合に、磁気ヘッド３から磁気ディスク２に印加される磁界の分布について説明する。図４は、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合に、磁気ヘッド３から磁気ディスク２に印加される磁界の分布を説明するための図である。なお、対象トラック１７ａ及び隣接トラック１７ｂの幅は、ＴＰであるものとする。また、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８、又は、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８を磁化反転させるための磁界の閾値を、反転磁界Ｈｓｗと定義する。
【００３２】
図４に示すように、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界は、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界よりも大きい。また、対象トラック１７ａと隣接トラック１７ｂとの境界領域における磁界は、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界及び磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界よりも小さい。この磁界の分布は、磁気ヘッド３から発する磁束が、対象トラック１７ａの下方の凸部２０へ吸収される結果、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が増大すると共に、隣接トラック１７ｂへの漏れ磁界が抑制されていることを意味する。
【００３３】
ここで、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えるときに、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８は、磁化反転する。一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるときに、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８は、磁化反転しない。
【００３４】
したがって、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超え、かつ、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるように、決定されることが望ましい。
【００３５】
図５は、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合の、凸部２０の幅Ｗｓｕｌと、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界との関係を説明するための図である。図６は、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合の、凸部２０の幅Ｗｓｕｌと、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界との関係を説明するための図である。なお、図５及び図６の横軸は、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを示し、横軸がＴＰのときに、対象トラック１７ａの下方の凸部２０と、隣接トラック１７ｂの下方の凸部２０とが連続した状態となる。
【００３６】
図５に示すように、凸部２０の幅ＷｓｕｌをＴＰから減少させるに従って、対象トラック１７ａの下方の凸部２０における磁気ヘッド３からの磁束の吸収率が大きくなるため、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が増加する。一方、凸部２０の幅Ｗｓｕｌをさらに減少させると、対象トラック１７ａの下方の凸部２０における磁束が飽和するため、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少する。ここで、図４を用いて既に説明したように、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えるときに、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８は、磁化反転する。したがって、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えるときの凸部２０の幅Ｗｓｕｌの下限をα・ＴＰ（ただし、０＜α＜１）とすると、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、α・ＴＰよりも大きく設定されることが望ましい。
【００３７】
一方、図６に示すように、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界の分布は、図５における磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界の分布と同様の分布である。ここで、図４を用いて既に説明したように、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるときに、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８は、磁化反転しない。したがって、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるときの凸部２０の幅Ｗｓｕｌの上限をβ・ＴＰ（ただし０＜β＜１）とすると、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、β・ＴＰより小さく設定されることが望ましい。
【００３８】
続いて、磁気ヘッド３がオフトラックした場合に、磁気ヘッド３から磁気ディスク２に印加される磁界の分布の変化について説明する。図７は、磁気ヘッド３がオフトラックした場合における磁界の分布の変化について説明するための図である。なお、図７では、隣接トラック１７ｂに近づく向きに磁気ヘッド３がオフトラックした状態を示している。
【００３９】
図７に示すように、磁気ヘッド３がオフトラックすると、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少する一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が増加する。この磁界の分布の変化は、磁気ヘッド３から発する磁束が、対象トラック１７ａの下方の凸部２０に加えて、隣接トラック１７ｂの下方の凸部２０へ吸収される結果、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少すると共に、隣接トラック１７ｂへの漏れ磁界が増大していることを意味する。
【００４０】
ここで、磁気ヘッド３がオフトラックした場合、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えるときに、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８は、磁化反転する。一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるときに、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８は、磁化反転しない。上述したように、磁気ヘッド３がオフトラックすると、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少する一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が増加する。このため、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となる一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超える恐れがある。その結果、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８が磁化反転せず、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８が磁化反転する恐れがある。
【００４１】
したがって、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、磁気ヘッド３がオフトラックした場合であっても、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超え、かつ、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるように、決定されることが望ましい。
【００４２】
図８は、磁気ヘッド３がオフトラックした場合の、凸部２０の幅Ｗｓｕｌと、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界との関係を説明するための図である。図９は、磁気ヘッド３がオフトラックした場合の、凸部２０の幅Ｗｓｕｌと、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界との関係を説明するための図である。なお、図８及び図９の横軸は、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを示し、横軸がＴＰのときに、対象トラック１７ａの下方の凸部２０と、隣接トラック１７ｂの下方の凸部２０とが連続した状態となる。また、図８及び図９では、図５及び図６に示す磁界の分布を一点鎖線で示している。
【００４３】
図８に示すように、磁気ヘッド３がオフトラックすることにより、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少する。このため、凸部２０の幅Ｗｓｕｌの下限α・ＴＰにおける磁界も減少し、反転磁界Ｈｓｗ未満となる。ここで、図７を用いて既に説明したように、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となると、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８は、磁化反転しない。したがって、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界を、反転磁界Ｈｓｗを超えるまで増加させるために、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを増加させるべき量をγ１・ＴＰ（ただし、γ１＜０．５）とすると、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、（α＋γ１）・ＴＰよりも大きく設定されることが望ましい。
【００４４】
一方、図９に示すように、磁気ヘッド３がオフトラックすることにより、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が増加する。このため、凸部２０の幅Ｗｓｕｌの上限β・ＴＰにおける磁界も増加し、反転磁界Ｈｓｗを超える。ここで、図７を用いて既に説明したように、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えると、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８は、磁化反転する。したがって、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界を、反転磁界Ｈｓｗ未満となるまで減少させるために、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを減少させるべき量をγ２・ＴＰ（ただし、γ２＜０．５）とすると、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、（β−γ２）・ＴＰよりも小さく設定されることが望ましい。
【００４５】
以上述べたように、磁気ヘッド３のオフトラック前後における磁界の変化を考慮した結果、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、
（α＋γ１）・ＴＰ＜Ｗｓｕｌ＜（β―γ２）・ＴＰ
ただし、０＜α＜１、０＜β＜１、γ１≦０．５、γ２≦０．５
を満たすことが望ましい。
【００４６】
例えば、ＴＰ＝３０ｎｍ、α＝０．２５、β＝０．７５、γ１＝γ２＝０．５である場合、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、１３．５ｎｍ＜Ｗｓｕｌ＜１６．５ｎｍを満たすように決定される。
【００４７】
このように、本実施例に係る磁気ディスク２では、磁気ヘッド３のオフトラック前後における磁界の変化を考慮して、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを決定するため、従来技術のように、対象トラックと隣接トラックとの間に、磁性ドットの存在しないスペース等を設ける必要がない。このため、磁性ドットを多く配置したパターンドメディアにおいて、従来技術と比較して記録密度を一層向上させることができ、しかも、万一、磁気ヘッドがオフトラックした場合であっても、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる。
【００４８】
次に、本実施例に係る磁気ディスク２の製造方法について説明する。図１０−１〜図１０−５は、本実施例に係る磁気ディスク２の製造方法について説明するための図である。本実施例に係る磁気ディスク２の製造工程は、裏打層形成工程と、中間層形成工程と、磁気記録層形成工程とを含む。
【００４９】
まず、図１０−１〜図１０−３に示すように、裏打層形成工程を実行する。具体的には、図１０−１に示すように、非磁性材料により形成された基板１０を用意し、この基板１０上に、ＣＯＺｒＮｂ等の軟磁性材料からなる軟磁性膜１２ａを形成する。なお、軟磁性膜１２ａは、スパッタ法等を実行することにより形成される。
【００５０】
次いで、図１０−２に示すように、軟磁性膜１２ａの基板１０と反対側の面に、凸部２０と凹部２２とよりなる凹凸パターン２４を形成する。このとき、後に形成される磁気記録層１６における各記録トラック１７の下方に凹凸パターン２４の凸部２０が配置されると共に、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に凹凸パターン２４の凹部２２が配置されるように、凹凸パターン２４を形成する。なお、凹凸パターン２４の形成は、電子ビームリソグラフィやインプリント法の実行により所定のレジストパターンを軟磁性膜１２ａ上に形成し、このレジストパターンに沿って軟磁性膜１２ａをエッチングすることにより行う。
【００５１】
次いで、図１０−３に示すように、凹凸パターン２４の凹部２２に非磁性体２２ａを充填し、基板１０上に裏打層１２を形成する。このとき、ＣＭＰ（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）等の手法により、凹凸パターン２４の凸部２０及び非磁性体２２ａの上面を平坦化しておく。
【００５２】
次いで、図１０−４に示すように、中間層形成工程を実行する。すなわち、裏打層１２上に、Ｔａ等からなる中間層１４を形成する。
【００５３】
次いで、図１０−５に示すように、記録層形成工程を実行する。すなわち、複数の記録トラック１７を備えた磁気記録層１６を、中間層１４上に形成する。磁気記録層１６は、磁性ドット１８を千鳥状に配列した磁性ドット列を、各記録トラック１７内に有するように、形成される。なお、磁性ドット１８の形成方法は、特に限定されず、ナノインプリント法や自己組織化による手法等の公知の方法を採用することができる。
【００５４】
上記した工程を実行することで、裏打層１２が、凸部２０と凹部２２とよりなる凹凸パターン２４を有し、各記録トラック１７の下方に、凹凸パターン２４の凸部２０を配置していると共に、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に、凹凸パターン２４の凹部２２を配置している磁気ディスク２を製造することができる。
【００５５】
以上説明してきたように、本実施例に係る磁気記憶媒体では、裏打層が、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している。このため、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる。
【００５６】
さて、これまで本発明の実施例について説明したが、本発明は上述した実施例以外にも、上記特許請求の範囲に記載した技術的思想の範囲内において種々の異なる実施例にて実施されてもよいものである。
【００５７】
例えば、本実施例では、磁気ディスク２が、磁性粒子からなる磁性ドット１８が所定の規則で配列され、磁性ドット１つにつき１ビットを記録することで高密度記録が可能なパターンドメディアである例を示したが、これに限らず、磁気ディスク２は、連続膜媒体などの他の磁気記憶媒体として構成されてもよい。なお、かかる構成であっても、裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、磁気記録層における各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している構成とする。
【００５８】
また、本実施例では、磁気記録層１６は、磁性ドット１８を千鳥状に交互配列した磁性ドット列を、各記録トラック１７内に有することとし、２列１トラックとして同時記録することとしたが、これに限らず、記録トラック内に含まれる磁性ドットの配列を適宜変更し、１列１トラックや３列以上１トラックとして同時記録する構成としてもよい。なお、かかる構成であっても、裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、磁気記録層における各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している構成とする。
【００５９】
以上の実施例を含む実施形態に関し、さらに以下の付記を開示する。
【００６０】
（付記１）データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、
前記裏打層は、
凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置していることを特徴とする磁気記憶媒体。
【００６１】
（付記２）前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを所定の規則で配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする付記１に記載の磁気記憶媒体。
【００６２】
（付記３）前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを千鳥状に配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする付記１又は２に記載の磁気記憶媒体。
【００６３】
（付記４）前記裏打層は、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填していることを特徴とする付記１〜３のいずれか１つに記載の磁気記憶媒体。
【００６４】
（付記５）各前記記録トラックの幅をＴＰとし、
前記記録トラックのうち、磁気ヘッドによるライト処理の対象となる記録トラックである対象トラック内の磁性ドット、又は、当該対象トラックに隣接する記録トラックである隣接トラック内の磁性ドットを磁化反転させるための磁界の閾値をＨｓｗとし、
前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗを超えるときの前記凸部の幅の下限をα・ＴＰとし、
前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗ未満となるときの前記凸部の幅の上限をβ・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗを超えるまで増加させるために、前記凸部の幅を増加させるべき量をγ１・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗ未満となるまで減少させるために、前記凸部の幅を減少させるべき量をγ２・ＴＰとすると、
前記凸部の幅Ｗｓｕｌは、
（α＋γ１）・ＴＰ＜Ｗｓｕｌ＜（β−γ２）・ＴＰ
ただし、０＜α＜１、０＜β＜１、γ１≦０．５、γ２≦０．５
を満たすことを特徴とする付記１〜４のいずれか１つに記載の磁気記憶媒体。
【００６５】
（付記６）データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体と、
前記磁気記憶媒体に対してデータのリード処理及びライト処理を行う磁気ヘッドとを備え、
前記磁気記憶媒体の有する裏打層は、
凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置していることを特徴とする磁気記録装置。
【００６６】
（付記７）前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを所定の規則で配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする付記６に記載の磁気記録装置。
【００６７】
（付記８）前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを千鳥状に配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする付記６又は７に記載の磁気記録装置。
【００６８】
（付記９）前記裏打層は、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填していることを特徴とする付記６〜８のいずれか１つに記載の磁気記録装置。
【００６９】
（付記１０）各前記記録トラックの幅をＴＰとし、
前記記録トラックのうち、前記磁気ヘッドによるライト処理の対象となる記録トラックである対象トラック内の磁性ドット、又は、当該対象トラックに隣接する記録トラックである隣接トラック内の磁性ドットを磁化反転させるための磁界の閾値をＨｓｗとし、
前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗを超えるときの前記凸部の幅の下限をα・ＴＰとし、
前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗ未満となるときの前記凸部の幅の上限をβ・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗを超えるまで増加させるために、前記凸部の幅を増加させるべき量をγ１・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗ未満となるまで減少させるために、前記凸部の幅を減少させるべき量をγ２・ＴＰとすると、
前記凸部の幅Ｗｓｕｌは、
（α＋γ１）・ＴＰ・＜Ｗｓｕｌ＜（β−γ２）・ＴＰ
ただし、０＜α＜１、０＜β＜１、γ１≦０．５、γ２≦０．５
を満たすことを特徴とする付記６〜９のいずれか１つに記載の磁気記録装置。
【００７０】
（付記１１）基板上に、裏打層を形成する裏打層形成工程と、
前記裏打層上に、中間層を形成する中間層形成工程と、
データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層を、前記中間層上に形成する磁気記録層形成工程とを含む磁気記憶媒体の製造方法であって、
前記裏打層形成工程は、
前記基板上に、軟磁性膜を形成する軟磁性膜形成工程と、
前記軟磁性膜の前記基板と反対側の面に、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを、各前記記録トラックの下方に前記凹凸パターンの凸部が配置されると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に前記凹凸パターンの凹部が配置されるように、形成する凹凸パターン形成工程と、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填する非磁性体充填工程と
を含むことを特徴とする磁気記憶媒体の製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本実施例に係る磁気記録装置の構成を示す外観図である。
【図２】本実施例に係る磁気記録装置の有する磁気ディスクの構成について説明するための図である。
【図３】本実施例に係る磁気記録装置の有する磁気ディスクの構成について説明するための図である。
【図４】磁気ヘッドがオフトラックしていない場合に、磁気ヘッドから磁気ディスクに印加される磁界の分布を説明するための図である。
【図５】磁気ヘッドがオフトラックしていない場合の、凸部の幅と、磁気ヘッドから対象トラックに印加される磁界との関係を説明するための図である。
【図６】磁気ヘッドがオフトラックしていない場合の、凸部の幅と、磁気ヘッドから隣接トラックに印加される磁界との関係を説明するための図である。
【図７】磁気ヘッドがオフトラックした場合における磁界の分布の変化について説明するための図である。
【図８】磁気ヘッドがオフトラックした場合の、凸部の幅と、磁気ヘッドから対象トラックに印加される磁界との関係を説明するための図である。
【図９】磁気ヘッドがオフトラックした場合の、凸部の幅と、磁気ヘッドから隣接トラックに印加される磁界との関係を説明するための図である。
【図１０−１】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【図１０−２】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【図１０−３】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【図１０−４】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【図１０−５】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【符号の説明】
【００７２】
１ 磁気記録装置
２ 磁気ディスク（磁気記憶媒体）
３ 磁気ヘッド
１０ 基板
１２ 裏打層
１２ａ 軟磁性膜
１４ 中間層
１６ 磁気記録層
１７ 記録トラック
１７ａ 対象トラック
１７ｂ 隣接トラック
１８ 磁性ドット
２０ 凸部
２２ 凹部
２２ａ 非磁性体
２４ 凹凸パターン
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法に関し、特に、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｃ Ｄｒｉｖｅ）等の磁気記録装置の大容量化に伴い、磁気記録装置に用いられる磁気記憶媒体の高記録密度化が要求されている。そのため、記録密度化を向上させる磁気記憶媒体として、パターンドメディア（ビットパターンドメディア、ＢＰＭ（Ｂｉｔ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｍｅｄｉａ）とも言う）と呼ばれる磁気記憶媒体が広く検討されている。
【０００３】
パターンドメディアとは、データを記録する微小な磁性粒子からなる磁性ドットが、所定の規則で配列されており、磁性ドット１つにつき１ビットを記録することができる高記録密度媒体である。パターンドメディアには、複数の磁性ドットを配置することが可能であり、多くの磁性ドットを配置するほど、記録密度を向上することが可能となる。
【０００４】
この種のパターンドメディアとして、特許文献１には、磁性ドットを千鳥状に交互配列した磁性ドット列を、データを記録する各記録トラック内に有し、１つの記録トラック内に含まれる多数の磁性ドットに対し、同時に記録又は再生を行うようにしたものが開示されている。
【０００５】
ただし、かかるパターンドメディアでは、高記録密度化のために磁性ドットを多く配置するほど、磁性ドット間の距離が短くなり、隣接する記録トラック内に含まれる磁性ドット間の距離が短くなる。このため、磁気ヘッドによって記録トラックにライト処理を行う際に、ライト処理の対象となる記録トラック（対象トラック）に隣接する他の記録トラック（隣接トラック）内の磁性ドットの磁化が、誤って反転してしまう問題がある。
【０００６】
そこで、かかる問題を解消するため、上述した特許文献１に記載のパターンドメディアでは、対象トラックと、隣接トラックとの間に、磁性ドットの存在しないスペースを設けている。磁性ドットの存在しないスペースは、隣接トラックに対する磁界の漏れを抑制する。このため、隣接トラック内における磁性ドットの磁化反転を抑制することが可能となる。
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−３０５２８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記した従来の技術では、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができるものの、磁性ドットの存在しないスペースを設けたため、このスペースの分だけ、記録密度、特に、記録トラック幅方向の記録密度ＴＰＩ（ｔｒａｃｋ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）が減少するという問題があった。
【０００９】
開示の技術は、上述した従来技術による問題点を解消するためになされたものであり、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本願の開示する磁気記憶媒体は、データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、前記裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置している。
【００１１】
この態様によれば、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる。
【００１２】
なお、本願の開示する磁気記憶媒体の構成要素、表現または構成要素の任意の組合せを、方法、装置、システム、コンピュータプログラム、記録媒体、データ構造などに適用したものも上述した課題を解決するために有効である。
【発明の効果】
【００１３】
本願の開示する磁気記憶媒体の一つの態様によれば、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に添付図面を参照して、本願の開示する磁気記憶媒体、磁気記録装置及び磁気記憶媒体の製造方法の好適な実施の形態を詳細に説明する。
【実施例】
【００１５】
まず、本実施例に係る磁気記録装置の構成について説明する。図１は、本実施例に係る磁気記録装置１の構成を示す外観図である。図１に示すように、磁気記録装置１は、磁気ディスク２と、磁気ヘッド３と、スライダ４と、サスペンションアーム５と、ロータリアクチュエータ６とを有する。
【００１６】
磁気ディスク２は、各種の磁気情報を高記録密度に記録する磁気記憶媒体であり、図示しないスピンドルモータにより回転駆動される。
【００１７】
磁気ヘッド３は、スライダ４に搭載されており、磁気ディスク２に対してデータのリード処理及びライト処理を行う。また、磁気ヘッド３は、磁気ディスク２の回転によって生じる揚力によって、磁気ディスク２の表面からわずかに浮いた状態を維持しつつ、リード処理及びライト処理を行う。なお、サスペンションアーム５は、スライダ４を支持し、ロータリアクチュエータ６は、サスペンションアーム５を磁気ディスク２の半径方向に回動する。
【００１８】
かかる構成により、磁気記録装置１は、磁気ディスク２のトラック幅方向に磁気ヘッド３をシーク移動し、リード処理及びライト処理を行う対象の記録トラックを変更する。
【００１９】
次に、本実施例に係る磁気記録装置１の有する磁気ディスク２の構成について説明する。なお、以下では、磁気ディスク２が、磁性粒子からなる磁性ドットが所定の規則で配列され、磁性ドット１つにつき１ビットを記録することで高密度記録が可能なパターンドメディアである例を示すが、磁気ディスク２は、連続膜媒体等の他の磁気記憶媒体として構成されてもよい。
【００２０】
図２及び図３は、本実施例に係る磁気記録装置１の有する磁気ディスク２の構成について説明するための図である。図２は、磁気ディスク２の斜視断面図であり、図３は、磁気ディスク２の平面図である。図２及び図３に示すように、磁気ディスク２は、基板１０上に、裏打層１２と、中間層１４と、磁気記録層１６とを、順次形成した磁気記憶媒体である。
【００２１】
基板１０は、外観視で略円盤状の部材であり、例えば、ガラス及びアルミニウム合金等の非磁性材料により形成されている。基板１０としては、表面の平坦性が高く、機械的強度の高いものが望ましい。
【００２２】
裏打層１２は、基板１０上に積層されており、磁気記録層１６の下方に配設されている。裏打層１２としては、例えば、ＣＯＺｒＮｂ等の軟磁性材料が用いられる。この裏打層１２は、磁気ヘッド３（図１参照）から発する磁束を、磁気記録層１６を介して磁気ヘッド３に還流させる磁気経路を形成する。この裏打層１２の具体的な構成については、後に詳細に説明する。
【００２３】
中間層１４は、裏打層１２上に積層されており、この中間層１４上に形成される磁気記録層１６の結晶配向性や結晶粒径等を制御する制御層である。中間層１４としては、例えば、Ｔａ等が用いられる。
【００２４】
磁気記録層１６は、中間層１４上に形成されており、例えば、ＣｏＰｄ合金等の磁性材料により形成されている。磁気記録層１６は、データを記録する複数の記録トラック１７を備えている。また、磁気記録層１６は、磁性粒子よりなる磁性ドット１８を所定の規則で交互配列した磁性ドット列を、各記録トラック１７内に有している。本実施例の磁気記録層１６では、磁性ドット１８は、千鳥状に交互配列されており、２列１トラックとして同時記録される。このように、本実施例では、磁気記録層１６の記録トラック１７内に、磁性ドット１８を千鳥状に交互配列することにより、磁性ドット１８をより多く配置することができるため、磁気ディスク２の記録密度を向上させることができる。
【００２５】
次に、裏打層１２の具体的な構成について説明する。図２及び図３に示すように、裏打層１２は、凸部２０と凹部２２とよりなる凹凸パターン２４を有している。凹凸パターン２４の凸部２０は、軟磁性体で形成されており、磁束を吸収する機能を有する。また、凹凸パターン２４の凹部２２には、磁束を遮断する機能を有する非磁性体２２ａが充填されている。
【００２６】
そして、特に、本実施例では、裏打層１２は、磁気記録層１６における各記録トラック１７の下方に、凹凸パターン２４の凸部２０を配置していると共に、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に、凹凸パターン２４の凹部２２を配置している。
【００２７】
かかる構成により、ライト処理を行う磁気ヘッド３（図１参照）からの磁束は、凹凸パターン２４の凸部２０による磁束の吸収機能によって、当該凸部２０へ集中する。上述したように、凹凸パターン２４の凸部２０は、磁気記録層１６における各記録トラック１７の下方に配置されている。一方、凹凸パターン２４の凹部２２は、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に配置されている。凹部２２内に充填された非磁性体２２ａは、ライト処理の対象となる記録トラック１７に隣接する他の記録トラック１７へ向かう磁束を遮断する。
【００２８】
したがって、磁気ヘッド３から発する磁束は、磁気ヘッド３によるライト処理の対象となる記録トラック１７を通って、この記録トラック１７の下方の凸部２０へ吸収される。その結果、ライト処理の対象となる記録トラック１７に印加される磁界が増大すると共に、ライト処理の対象となる記録トラック１７に隣接する他の記録トラック１７への漏れ磁界が抑制される。これにより、隣接トラック内の磁性ドット１８の磁化反転を抑制することができる。
【００２９】
すなわち、本実施例に係る磁気ディスク２では、パターンドメディアの磁気記録層１６が、磁性ドット１８を千鳥状に交互配列した磁性ドット列を、各記録トラック１７内に有していることにより、記録密度を向上することができる。同時に、本実施例では、裏打層１２が、各記録トラック１７の下方に、凹凸パターン２４の凸部２０を配置している共に、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に、凹凸パターン２４の凹部２２を配置していることにより、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる。
【００３０】
ところで、磁気ヘッド３が記録トラック１７へライト処理を行う際に、磁気ヘッド３が、ライト処理の対象となる記録トラック１７のセンタ位置からずれる、すなわち、オフトラックすることがある。磁気ヘッド３がオフトラックした場合には、磁気ヘッド３から磁気ディスク２に印加される磁界、すなわち、磁気ヘッド３からライト処理の対象となる記録トラック１７（以下、「対象トラック１７ａ」）、及びこれに隣接する他の記録トラック１７（以下、「隣接トラック１７ｂ」）に印加される磁界の分布が変化する。磁気ヘッド３から対象トラック１７ａ及び隣接トラック１７ｂに印加される磁界の変化は、対象トラック１７ａ及び隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８の磁化反転に影響を及ぼす。したがって、裏打層１２における凸部２０の幅は、磁気ヘッド３のオフトラック前後における磁界の変化を考慮して、決定されることが望ましい。以下、磁気ヘッド３のオフトラック前後における磁界の変化を考慮して、凸部２０の幅について検討する。
【００３１】
まず、磁気ヘッド３が対象トラック１７ａのセンタ位置にある場合、すなわち、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合に、磁気ヘッド３から磁気ディスク２に印加される磁界の分布について説明する。図４は、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合に、磁気ヘッド３から磁気ディスク２に印加される磁界の分布を説明するための図である。なお、対象トラック１７ａ及び隣接トラック１７ｂの幅は、ＴＰであるものとする。また、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８、又は、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８を磁化反転させるための磁界の閾値を、反転磁界Ｈｓｗと定義する。
【００３２】
図４に示すように、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界は、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界よりも大きい。また、対象トラック１７ａと隣接トラック１７ｂとの境界領域における磁界は、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界及び磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界よりも小さい。この磁界の分布は、磁気ヘッド３から発する磁束が、対象トラック１７ａの下方の凸部２０へ吸収される結果、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が増大すると共に、隣接トラック１７ｂへの漏れ磁界が抑制されていることを意味する。
【００３３】
ここで、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えるときに、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８は、磁化反転する。一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるときに、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８は、磁化反転しない。
【００３４】
したがって、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超え、かつ、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるように、決定されることが望ましい。
【００３５】
図５は、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合の、凸部２０の幅Ｗｓｕｌと、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界との関係を説明するための図である。図６は、磁気ヘッド３がオフトラックしていない場合の、凸部２０の幅Ｗｓｕｌと、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界との関係を説明するための図である。なお、図５及び図６の横軸は、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを示し、横軸がＴＰのときに、対象トラック１７ａの下方の凸部２０と、隣接トラック１７ｂの下方の凸部２０とが連続した状態となる。
【００３６】
図５に示すように、凸部２０の幅ＷｓｕｌをＴＰから減少させるに従って、対象トラック１７ａの下方の凸部２０における磁気ヘッド３からの磁束の吸収率が大きくなるため、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が増加する。一方、凸部２０の幅Ｗｓｕｌをさらに減少させると、対象トラック１７ａの下方の凸部２０における磁束が飽和するため、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少する。ここで、図４を用いて既に説明したように、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えるときに、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８は、磁化反転する。したがって、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えるときの凸部２０の幅Ｗｓｕｌの下限をα・ＴＰ（ただし、０＜α＜１）とすると、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、α・ＴＰよりも大きく設定されることが望ましい。
【００３７】
一方、図６に示すように、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界の分布は、図５における磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界の分布と同様の分布である。ここで、図４を用いて既に説明したように、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるときに、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８は、磁化反転しない。したがって、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるときの凸部２０の幅Ｗｓｕｌの上限をβ・ＴＰ（ただし０＜β＜１）とすると、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、β・ＴＰより小さく設定されることが望ましい。
【００３８】
続いて、磁気ヘッド３がオフトラックした場合に、磁気ヘッド３から磁気ディスク２に印加される磁界の分布の変化について説明する。図７は、磁気ヘッド３がオフトラックした場合における磁界の分布の変化について説明するための図である。なお、図７では、隣接トラック１７ｂに近づく向きに磁気ヘッド３がオフトラックした状態を示している。
【００３９】
図７に示すように、磁気ヘッド３がオフトラックすると、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少する一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が増加する。この磁界の分布の変化は、磁気ヘッド３から発する磁束が、対象トラック１７ａの下方の凸部２０に加えて、隣接トラック１７ｂの下方の凸部２０へ吸収される結果、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少すると共に、隣接トラック１７ｂへの漏れ磁界が増大していることを意味する。
【００４０】
ここで、磁気ヘッド３がオフトラックした場合、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えるときに、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８は、磁化反転する。一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるときに、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８は、磁化反転しない。上述したように、磁気ヘッド３がオフトラックすると、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少する一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が増加する。このため、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となる一方、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超える恐れがある。その結果、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８が磁化反転せず、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８が磁化反転する恐れがある。
【００４１】
したがって、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、磁気ヘッド３がオフトラックした場合であっても、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超え、かつ、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となるように、決定されることが望ましい。
【００４２】
図８は、磁気ヘッド３がオフトラックした場合の、凸部２０の幅Ｗｓｕｌと、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界との関係を説明するための図である。図９は、磁気ヘッド３がオフトラックした場合の、凸部２０の幅Ｗｓｕｌと、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界との関係を説明するための図である。なお、図８及び図９の横軸は、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを示し、横軸がＴＰのときに、対象トラック１７ａの下方の凸部２０と、隣接トラック１７ｂの下方の凸部２０とが連続した状態となる。また、図８及び図９では、図５及び図６に示す磁界の分布を一点鎖線で示している。
【００４３】
図８に示すように、磁気ヘッド３がオフトラックすることにより、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が減少する。このため、凸部２０の幅Ｗｓｕｌの下限α・ＴＰにおける磁界も減少し、反転磁界Ｈｓｗ未満となる。ここで、図７を用いて既に説明したように、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗ未満となると、対象トラック１７ａ内の磁性ドット１８は、磁化反転しない。したがって、磁気ヘッド３から対象トラック１７ａに印加される磁界を、反転磁界Ｈｓｗを超えるまで増加させるために、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを増加させるべき量をγ１・ＴＰ（ただし、γ１＜０．５）とすると、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、（α＋γ１）・ＴＰよりも大きく設定されることが望ましい。
【００４４】
一方、図９に示すように、磁気ヘッド３がオフトラックすることにより、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が増加する。このため、凸部２０の幅Ｗｓｕｌの上限β・ＴＰにおける磁界も増加し、反転磁界Ｈｓｗを超える。ここで、図７を用いて既に説明したように、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界が、反転磁界Ｈｓｗを超えると、隣接トラック１７ｂ内の磁性ドット１８は、磁化反転する。したがって、磁気ヘッド３から隣接トラック１７ｂに印加される磁界を、反転磁界Ｈｓｗ未満となるまで減少させるために、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを減少させるべき量をγ２・ＴＰ（ただし、γ２＜０．５）とすると、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、（β−γ２）・ＴＰよりも小さく設定されることが望ましい。
【００４５】
以上述べたように、磁気ヘッド３のオフトラック前後における磁界の変化を考慮した結果、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、
（α＋γ１）・ＴＰ＜Ｗｓｕｌ＜（β―γ２）・ＴＰ
ただし、０＜α＜１、０＜β＜１、γ１≦０．５、γ２≦０．５
を満たすことが望ましい。
【００４６】
例えば、ＴＰ＝３０ｎｍ、α＝０．２５、β＝０．７５、γ１＝γ２＝０．５である場合、凸部２０の幅Ｗｓｕｌは、１３．５ｎｍ＜Ｗｓｕｌ＜１６．５ｎｍを満たすように決定される。
【００４７】
このように、本実施例に係る磁気ディスク２では、磁気ヘッド３のオフトラック前後における磁界の変化を考慮して、凸部２０の幅Ｗｓｕｌを決定するため、従来技術のように、対象トラックと隣接トラックとの間に、磁性ドットの存在しないスペース等を設ける必要がない。このため、磁性ドットを多く配置したパターンドメディアにおいて、従来技術と比較して記録密度を一層向上させることができ、しかも、万一、磁気ヘッドがオフトラックした場合であっても、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる。
【００４８】
次に、本実施例に係る磁気ディスク２の製造方法について説明する。図１０−１〜図１０−５は、本実施例に係る磁気ディスク２の製造方法について説明するための図である。本実施例に係る磁気ディスク２の製造工程は、裏打層形成工程と、中間層形成工程と、磁気記録層形成工程とを含む。
【００４９】
まず、図１０−１〜図１０−３に示すように、裏打層形成工程を実行する。具体的には、図１０−１に示すように、非磁性材料により形成された基板１０を用意し、この基板１０上に、ＣＯＺｒＮｂ等の軟磁性材料からなる軟磁性膜１２ａを形成する。なお、軟磁性膜１２ａは、スパッタ法等を実行することにより形成される。
【００５０】
次いで、図１０−２に示すように、軟磁性膜１２ａの基板１０と反対側の面に、凸部２０と凹部２２とよりなる凹凸パターン２４を形成する。このとき、後に形成される磁気記録層１６における各記録トラック１７の下方に凹凸パターン２４の凸部２０が配置されると共に、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に凹凸パターン２４の凹部２２が配置されるように、凹凸パターン２４を形成する。なお、凹凸パターン２４の形成は、電子ビームリソグラフィやインプリント法の実行により所定のレジストパターンを軟磁性膜１２ａ上に形成し、このレジストパターンに沿って軟磁性膜１２ａをエッチングすることにより行う。
【００５１】
次いで、図１０−３に示すように、凹凸パターン２４の凹部２２に非磁性体２２ａを充填し、基板１０上に裏打層１２を形成する。このとき、ＣＭＰ（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）等の手法により、凹凸パターン２４の凸部２０及び非磁性体２２ａの上面を平坦化しておく。
【００５２】
次いで、図１０−４に示すように、中間層形成工程を実行する。すなわち、裏打層１２上に、Ｔａ等からなる中間層１４を形成する。
【００５３】
次いで、図１０−５に示すように、記録層形成工程を実行する。すなわち、複数の記録トラック１７を備えた磁気記録層１６を、中間層１４上に形成する。磁気記録層１６は、磁性ドット１８を千鳥状に配列した磁性ドット列を、各記録トラック１７内に有するように、形成される。なお、磁性ドット１８の形成方法は、特に限定されず、ナノインプリント法や自己組織化による手法等の公知の方法を採用することができる。
【００５４】
上記した工程を実行することで、裏打層１２が、凸部２０と凹部２２とよりなる凹凸パターン２４を有し、各記録トラック１７の下方に、凹凸パターン２４の凸部２０を配置していると共に、隣接する各記録トラック１７の境界領域の下方に、凹凸パターン２４の凹部２２を配置している磁気ディスク２を製造することができる。
【００５５】
以上説明してきたように、本実施例に係る磁気記憶媒体では、裏打層が、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している。このため、記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制することができる。
【００５６】
さて、これまで本発明の実施例について説明したが、本発明は上述した実施例以外にも、上記特許請求の範囲に記載した技術的思想の範囲内において種々の異なる実施例にて実施されてもよいものである。
【００５７】
例えば、本実施例では、磁気ディスク２が、磁性粒子からなる磁性ドット１８が所定の規則で配列され、磁性ドット１つにつき１ビットを記録することで高密度記録が可能なパターンドメディアである例を示したが、これに限らず、磁気ディスク２は、連続膜媒体などの他の磁気記憶媒体として構成されてもよい。なお、かかる構成であっても、裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、磁気記録層における各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している構成とする。
【００５８】
また、本実施例では、磁気記録層１６は、磁性ドット１８を千鳥状に交互配列した磁性ドット列を、各記録トラック１７内に有することとし、２列１トラックとして同時記録することとしたが、これに限らず、記録トラック内に含まれる磁性ドットの配列を適宜変更し、１列１トラックや３列以上１トラックとして同時記録する構成としてもよい。なお、かかる構成であっても、裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、磁気記録層における各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している構成とする。
【００５９】
以上の実施例を含む実施形態に関し、さらに以下の付記を開示する。
【００６０】
（付記１）データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、
前記裏打層は、
凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置していることを特徴とする磁気記憶媒体。
【００６１】
（付記２）前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを所定の規則で配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする付記１に記載の磁気記憶媒体。
【００６２】
（付記３）前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを千鳥状に配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする付記１又は２に記載の磁気記憶媒体。
【００６３】
（付記４）前記裏打層は、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填していることを特徴とする付記１〜３のいずれか１つに記載の磁気記憶媒体。
【００６４】
（付記５）各前記記録トラックの幅をＴＰとし、
前記記録トラックのうち、磁気ヘッドによるライト処理の対象となる記録トラックである対象トラック内の磁性ドット、又は、当該対象トラックに隣接する記録トラックである隣接トラック内の磁性ドットを磁化反転させるための磁界の閾値をＨｓｗとし、
前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗを超えるときの前記凸部の幅の下限をα・ＴＰとし、
前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗ未満となるときの前記凸部の幅の上限をβ・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗを超えるまで増加させるために、前記凸部の幅を増加させるべき量をγ１・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗ未満となるまで減少させるために、前記凸部の幅を減少させるべき量をγ２・ＴＰとすると、
前記凸部の幅Ｗｓｕｌは、
（α＋γ１）・ＴＰ＜Ｗｓｕｌ＜（β−γ２）・ＴＰ
ただし、０＜α＜１、０＜β＜１、γ１≦０．５、γ２≦０．５
を満たすことを特徴とする付記１〜４のいずれか１つに記載の磁気記憶媒体。
【００６５】
（付記６）データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体と、
前記磁気記憶媒体に対してデータのリード処理及びライト処理を行う磁気ヘッドとを備え、
前記磁気記憶媒体の有する裏打層は、
凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置していることを特徴とする磁気記録装置。
【００６６】
（付記７）前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを所定の規則で配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする付記６に記載の磁気記録装置。
【００６７】
（付記８）前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを千鳥状に配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする付記６又は７に記載の磁気記録装置。
【００６８】
（付記９）前記裏打層は、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填していることを特徴とする付記６〜８のいずれか１つに記載の磁気記録装置。
【００６９】
（付記１０）各前記記録トラックの幅をＴＰとし、
前記記録トラックのうち、前記磁気ヘッドによるライト処理の対象となる記録トラックである対象トラック内の磁性ドット、又は、当該対象トラックに隣接する記録トラックである隣接トラック内の磁性ドットを磁化反転させるための磁界の閾値をＨｓｗとし、
前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗを超えるときの前記凸部の幅の下限をα・ＴＰとし、
前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗ未満となるときの前記凸部の幅の上限をβ・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗを超えるまで増加させるために、前記凸部の幅を増加させるべき量をγ１・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗ未満となるまで減少させるために、前記凸部の幅を減少させるべき量をγ２・ＴＰとすると、
前記凸部の幅Ｗｓｕｌは、
（α＋γ１）・ＴＰ・＜Ｗｓｕｌ＜（β−γ２）・ＴＰ
ただし、０＜α＜１、０＜β＜１、γ１≦０．５、γ２≦０．５
を満たすことを特徴とする付記６〜９のいずれか１つに記載の磁気記録装置。
【００７０】
（付記１１）基板上に、裏打層を形成する裏打層形成工程と、
前記裏打層上に、中間層を形成する中間層形成工程と、
データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層を、前記中間層上に形成する磁気記録層形成工程とを含む磁気記憶媒体の製造方法であって、
前記裏打層形成工程は、
前記基板上に、軟磁性膜を形成する軟磁性膜形成工程と、
前記軟磁性膜の前記基板と反対側の面に、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを、各前記記録トラックの下方に前記凹凸パターンの凸部が配置されると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に前記凹凸パターンの凹部が配置されるように、形成する凹凸パターン形成工程と、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填する非磁性体充填工程と
を含むことを特徴とする磁気記憶媒体の製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本実施例に係る磁気記録装置の構成を示す外観図である。
【図２】本実施例に係る磁気記録装置の有する磁気ディスクの構成について説明するための図である。
【図３】本実施例に係る磁気記録装置の有する磁気ディスクの構成について説明するための図である。
【図４】磁気ヘッドがオフトラックしていない場合に、磁気ヘッドから磁気ディスクに印加される磁界の分布を説明するための図である。
【図５】磁気ヘッドがオフトラックしていない場合の、凸部の幅と、磁気ヘッドから対象トラックに印加される磁界との関係を説明するための図である。
【図６】磁気ヘッドがオフトラックしていない場合の、凸部の幅と、磁気ヘッドから隣接トラックに印加される磁界との関係を説明するための図である。
【図７】磁気ヘッドがオフトラックした場合における磁界の分布の変化について説明するための図である。
【図８】磁気ヘッドがオフトラックした場合の、凸部の幅と、磁気ヘッドから対象トラックに印加される磁界との関係を説明するための図である。
【図９】磁気ヘッドがオフトラックした場合の、凸部の幅と、磁気ヘッドから隣接トラックに印加される磁界との関係を説明するための図である。
【図１０−１】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【図１０−２】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【図１０−３】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【図１０−４】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【図１０−５】本実施例に係る磁気ディスクの製造方法について説明するための図である。
【符号の説明】
【００７２】
１ 磁気記録装置
２ 磁気ディスク（磁気記憶媒体）
３ 磁気ヘッド
１０ 基板
１２ 裏打層
１２ａ 軟磁性膜
１４ 中間層
１６ 磁気記録層
１７ 記録トラック
１７ａ 対象トラック
１７ｂ 隣接トラック
１８ 磁性ドット
２０ 凸部
２２ 凹部
２２ａ 非磁性体
２４ 凹凸パターン
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、
前記裏打層は、
凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置していることを特徴とする磁気記憶媒体。
【請求項２】
前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを所定の規則で配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする請求項１に記載の磁気記憶媒体。
【請求項３】
前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを千鳥状に配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記憶媒体。
【請求項４】
前記裏打層は、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の磁気記憶媒体。
【請求項５】
各前記記録トラックの幅をＴＰとし、
前記記録トラックのうち、磁気ヘッドによるライト処理の対象となる記録トラックである対象トラック内の磁性ドット、又は、当該対象トラックに隣接する記録トラックである隣接トラック内の磁性ドットを磁化反転させるための磁界の閾値をＨｓｗとし、
前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗを超えるときの前記凸部の幅の下限をα・ＴＰとし、
前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗ未満となるときの前記凸部の幅の上限をβ・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗを超えるまで増加させるために、前記凸部の幅を増加させるべき量をγ１・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗ未満となるまで減少させるために、前記凸部の幅を減少させるべき量をγ２・ＴＰとすると、
前記凸部の幅Ｗｓｕｌは、
（α＋γ１）・ＴＰ＜Ｗｓｕｌ＜（β−γ２）・ＴＰ
ただし、０＜α＜１、０＜β＜１、γ１≦０．５、γ２≦０．５
を満たすことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の磁気記憶媒体。
【請求項６】
データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体と、
前記磁気記憶媒体に対してデータのリード処理及びライト処理を行う磁気ヘッドとを備え、
前記磁気記憶媒体の有する裏打層は、
凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置していることを特徴とする磁気記録装置。
【請求項７】
基板上に、裏打層を形成する裏打層形成工程と、
前記裏打層上に、中間層を形成する中間層形成工程と、
データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層を、前記中間層上に形成する磁気記録層形成工程とを含む磁気記憶媒体の製造方法であって、
前記裏打層形成工程は、
前記基板上に、軟磁性膜を形成する軟磁性膜形成工程と、
前記軟磁性膜の前記基板と反対側の面に、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを、各前記記録トラックの下方に前記凹凸パターンの凸部が配置されると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に前記凹凸パターンの凹部が配置されるように、形成する凹凸パターン形成工程と、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填する非磁性体充填工程と
を含むことを特徴とする磁気記憶媒体の製造方法。
【請求項１】
データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、
前記裏打層は、
凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置していることを特徴とする磁気記憶媒体。
【請求項２】
前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを所定の規則で配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする請求項１に記載の磁気記憶媒体。
【請求項３】
前記磁気記録層は、
磁性粒子からなる磁性ドットを千鳥状に配列した磁性ドット列を、各前記記録トラック内に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記憶媒体。
【請求項４】
前記裏打層は、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の磁気記憶媒体。
【請求項５】
各前記記録トラックの幅をＴＰとし、
前記記録トラックのうち、磁気ヘッドによるライト処理の対象となる記録トラックである対象トラック内の磁性ドット、又は、当該対象トラックに隣接する記録トラックである隣接トラック内の磁性ドットを磁化反転させるための磁界の閾値をＨｓｗとし、
前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗを超えるときの前記凸部の幅の下限をα・ＴＰとし、
前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界が、Ｈｓｗ未満となるときの前記凸部の幅の上限をβ・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記対象トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗを超えるまで増加させるために、前記凸部の幅を増加させるべき量をγ１・ＴＰとし、
前記隣接トラックに近づく向きに前記磁気ヘッドがオフトラックした場合に、前記磁気ヘッドから前記隣接トラックに印加される磁界を、Ｈｓｗ未満となるまで減少させるために、前記凸部の幅を減少させるべき量をγ２・ＴＰとすると、
前記凸部の幅Ｗｓｕｌは、
（α＋γ１）・ＴＰ＜Ｗｓｕｌ＜（β−γ２）・ＴＰ
ただし、０＜α＜１、０＜β＜１、γ１≦０．５、γ２≦０．５
を満たすことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の磁気記憶媒体。
【請求項６】
データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体と、
前記磁気記憶媒体に対してデータのリード処理及びライト処理を行う磁気ヘッドとを備え、
前記磁気記憶媒体の有する裏打層は、
凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各前記記録トラックの下方に、前記凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に、前記凹凸パターンの凹部を配置していることを特徴とする磁気記録装置。
【請求項７】
基板上に、裏打層を形成する裏打層形成工程と、
前記裏打層上に、中間層を形成する中間層形成工程と、
データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層を、前記中間層上に形成する磁気記録層形成工程とを含む磁気記憶媒体の製造方法であって、
前記裏打層形成工程は、
前記基板上に、軟磁性膜を形成する軟磁性膜形成工程と、
前記軟磁性膜の前記基板と反対側の面に、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを、各前記記録トラックの下方に前記凹凸パターンの凸部が配置されると共に、隣接する各前記記録トラックの境界領域の下方に前記凹凸パターンの凹部が配置されるように、形成する凹凸パターン形成工程と、
前記凹凸パターンの凹部に非磁性体を充填する非磁性体充填工程と
を含むことを特徴とする磁気記憶媒体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０−１】
【図１０−２】
【図１０−３】
【図１０−４】
【図１０−５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０−１】
【図１０−２】
【図１０−３】
【図１０−４】
【図１０−５】
【公開番号】特開２０１０−１２３１７０（Ｐ２０１０−１２３１７０Ａ）
【公開日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２９４４９１（Ｐ２００８−２９４４９１）
【出願日】平成２０年１１月１８日（２００８．１１．１８）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年６月３日（２０１０．６．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１１月１８日（２００８．１１．１８）
【出願人】（０００００５２２３）富士通株式会社 (25,993)
【Ｆターム（参考）】
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