磁気記録媒体、その製造方法、インプリント用スタンパ、及びその原盤
【課題】 インプリント法を用いて製造したディスクリートトラックを有する磁気記録媒体の歩留まり及び品質の管理を改善する。
【解決手段】 磁気記録層が、溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズ等の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されている。
【解決手段】 磁気記録層が、溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズ等の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスクリートトラックを有する磁気記録媒体、このような磁気記録媒体を形成するためのインプリント用スタンパ及びこれを形成するための原盤、及びこれらを用いた磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録媒体のさらなる高密度化に対応するために、隣接する記録トラックを溝または非磁性材料からなるガードバンドで分離し、隣接トラック間の磁気的干渉を低減するようにしたディスクリートトラック媒体が注目を集めている。
【０００３】
このようなディスクリートトラック媒体を製造する際には、スタンパを用いてインプリント法により磁気記録層のパターンを形成することが出来る。
【０００４】
このスタンパは、磁気記録層のパターンに対応したパターンを例えば電子線描画して得られたレジスト原盤を用いて容易に複製することができる。これにより、磁気記録媒体を低コストで大量に生産できる。
【０００５】
しかしながら、このように原盤及びスタンパを用いる技術では、製造された磁気記録媒体に、万一、欠陥が見つかった場合、原因となった原盤及びスタンパを追跡する必要性が生じる。このためには、各磁気記録媒体に、例えば製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズ等の管理情報を記録しておくことが望まれていた。
【０００６】
磁気記録媒体に管理情報を記録する方法として、磁気転写マスター担体から管理情報を磁気的に転写する方法があり、この方法では、磁気転写マスター担体の一部に凹凸パターンが設けられ、この凹凸パターンに応じた情報を磁気記録媒体に磁気的に転写記録していた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２３０７５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、インプリント法を用いて製造したディスクリートトラックを有する磁気記録媒体に、欠陥が生じた際の原因の追跡に好適な管理情報を、低コストで容易に記録し、歩留まり及び品質の管理を改善することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の垂直磁気記録媒体は、非磁性基板、及び該非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、
該磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、
前記記録トラックパターン及び前記管理情報パターンは、
前記磁気記録層表面と、該磁気記録層表面上に設けられた、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストとをエッチングに供することにより形成され、
該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストは、
電子ビーム描画により原盤に形成された該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを、インプリント用スタンパに転写して、該記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンを形成した後、
該スタンパに設けられたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成し、更にエッチングするとこによりスタンパに該管理情報パターンを形成させた後、該磁気記録媒体上に設けられたレジストに該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写するか、あるいは該磁気記録媒体上に設けられ、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンが転写されたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成することにより得られ、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の垂直磁気記録媒体の製造方法の１つは、少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパを用いて、磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターンを形成した後、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成し、該レジストと共に磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
【００１１】
あるいは、本発明の垂直磁気記録媒体の製造方法の他の１つは、少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパ上にレジストを形成し、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとは逆の凹凸パターンをレーザー描画及びエッチングにより形成し、得られたスタンパを用いて、該磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写し、該レジストと共に該磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明を用いると、スタンパを用いてインプリント法により磁気記録層のパターンを形成して得られた磁気記録媒体に、万一、欠陥が見つかった場合に、磁気記録媒体に設けられた管理情報を読み取ることにより、原因となった原盤及びスタンパを、容易に追跡することができる。本発明によれば、磁気記録媒体のみならず、原盤、及びスタンパの管理を行うことにより、歩留まり及び品質の管理が大幅に改善される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の磁気記録媒体を適用し得る磁気記録再生装置の一例を表す図である。
【図２】本発明に係る磁気記録媒体の一例を説明するための図である。
【図３】本発明に使用される磁性層パターンの一例を説明するための図である。
【図４】図３の断面構造を説明するための図である。
【図５】本発明の原盤の製造工程の一例を説明するための図である。
【図６】本発明のインプリント用スタンパの製造工程の一例を説明するための図である。
【図７】本発明のインプリント用スタンパを複製する工程を表す図である。
【図８】本発明の磁気記録媒体の製造工程の一例を説明するための図である。
【図９】本発明に係るインプリント用スタンパの他の一例を説明するための図である。
【図１０】本発明の磁気記録媒体の他の一例の製造工程を表す図である。
【図１１】本発明の磁気記録媒体に設けられる磁性層パターンの他の一例を表す図である。
【図１２】本発明の磁気記録媒体に設けられる磁性層パターンのさらに他の一例を表す図である。
【図１３】DC消磁された管理情報部を有する磁性層パターンの一例を表す図である。
【図１４】AC消磁を施した管理情報部を有する磁性層パターンの一例を表す図である。
【図１５】DC消磁された管理情報部を有する磁性層パターンの他の一例を表す図である。
【図１６】AC消磁を施した管理情報部を有する磁性層パターンの他の一例を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板、及び非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、この磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターン及び管理情報パターンを有する。
【００１５】
記録トラックパターン及び管理情報パターンは、非磁性基板上に磁性層により形成される。
【００１６】
また、ここで、本発明に使用される管理情報パターンは、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズから選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表したものをいう。この管理情報パターンは互いに分離された複数の磁性層により構成され得る。
【００１７】
本発明によれば、製造された磁気記録媒体に、万一、欠陥が見つかった場合に、磁気記録層に設けられた管理情報パターンを読み取ることにより、原因となった原盤及びスタンパを、容易に追跡することができる。
【００１８】
本発明に用いられる管理情報は、二値化されているので、通常の読み取りヘッドを使用して容易に読み取ることができる。
【００１９】
管理情報パターンは、好ましくは再生可能領域に設けられる。これにより、磁気記録再生装置内の再生ヘッドを使用して容易に読みとりが可能となる。
【００２０】
また、本発明に使用される管理情報パターンとして、ＡＣ消磁されたパターンを使用することが可能である。ＡＣ消磁されたパターンを使用することにより、権限を持つ者だけが管理情報を読み取るように設定できるので、秘密保持が可能となる。
【００２１】
本発明の磁気記録媒体は、好ましくは、スタンパを用いてインプリント法により、その磁気記録層を形成することができる。この方法では、磁気記録層をパターニングするための部材例えばレジストに、スタンパを押圧するだけで、複雑な工程、装置を使用することなく、その凹凸形状を物理的に容易に転写することができる。
【００２２】
本発明の磁気記録媒体においては、管理情報パターンは、記録トラックパターンの形成と同じ工程で、あるいは別な工程で形成することが可能である。管理情報パターンが製造される磁気記録媒体毎に異なる場合には、少なくとも記録トラックパターンをスタンパを用いてインプリント法により形成し、管理情報パターンを他の方法で形成することができる。一方、管理情報パターンが製造される磁気記録媒体に共通の情報であるとき、記録トラックパターンと管理情報パターンの両方を、スタンパを用いてインプリント法により形成することにより、他の工程でさらにパターンを形成するよりも、パターンの形成工程の数を低減でき、低コストである。
【００２３】
本発明のインプリント用スタンパは、上記磁気記録媒体の磁気記録層を、パターンの形成工程の数をできるだけ低減して形成するために好適に使用されるスタンパであって、溝によって分離された記録トラックパターンと管理情報パターンの表面の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンを有する。
【００２４】
本発明のインプリント用スタンパを用いると、記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンと共に、管理情報パターンとは逆の凹凸パターンが予め形成されているので、記録トラックパターンの形成と同じ工程で管理情報パターンを形成することができる。
【００２５】
また、本発明のインプリント用スタンパにおいては、管理情報パターンと逆の凹凸パターンは、記録トラックパターンと逆の凹凸パターンの形成とは別に形成することも可能であるが、このようなパターンの形成工程は少ないことが望ましい。
【００２６】
本発明の原盤は、上記インプリント用スタンパを、パターンの形成工程の数をできるだけ低減して形成するために好適に使用される原盤であって、磁気記録層の管理情報パターンと同様の凹凸パターン及び記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを有する。
【００２７】
本発明の原盤には、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンと共に管理情報パターンと同様の凹凸パターンが予め設けられているので、本発明の原盤を用いると、記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンの形成と同じ工程で、上記インプリント用スタンパに管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成することができる。
【００２８】
以下、図面を参照し、本発明を具体的に説明する。
【００２９】
図１に本発明の磁気記録媒体を適用し得る磁気記録再生装置の一例を表す図を示す。
【００３０】
この磁気記録再生装置は、筐体７０の内部に、ディスク状の磁気記録媒体７１と、磁気ヘッドを含むヘッドスライダ７６と、ヘッドスライダ７６を支持するヘッドサスペンションアッセンブリ（サスペンション７５とアクチュエータアーム７４）と、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７と、回路基板とを備える。
【００３１】
磁気記録媒体７１はスピンドルモータ７２に取り付けられて回転され、垂直磁気記録方式により各種のディジタルデータが記録される。ヘッドスライダ７６に組み込まれている磁気ヘッドはいわゆる複合型ヘッドであり、単磁極構造のライトヘッドと、シールド型ＭＲ再生素子（ＧＭＲ膜、ＴＭＲ膜など）を用いたリードヘッドとを含む。アクチュエータアーム７４の一端にサスペンション７５が保持され、サスペンション７５によってヘッドスライダ７６を磁気記録媒体７１の記録面に対向するように支持する。アクチュエータアーム７４はピボット７３に取り付けられる。アクチュエータアーム７４の他端にはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７が設けられている。ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７によってヘッドサスペンションアッセンブリを駆動して、磁気ヘッドを磁気記録媒体７１の任意の半径位置に位置決めする。回路基板はヘッドＩＣを備え、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）の駆動信号、および磁気ヘッドによる読み書きを制御するための制御信号などを生成する。
【００３２】
図２に、本発明に係る磁気記録媒体の一例を説明するための図を示す。
【００３３】
磁気記録媒体７１はいわゆるディスクリートトラック媒体であり、基板上に形成された磁気記録層が所定のパターンを有する磁性層を含み、磁性層の面内において、記録トラックをなす磁性層のパターンを含むデータ領域６１、アドレスビットとして利用される磁性層パターンを含みトラック長さ方向に沿ってデータ領域の間に形成されたサーボ領域６２、及び例えばこの記録トラック内周側に設けられた管理情報領域６３を含む。これらの磁性層パターンは溝によって分離されている。
【００３４】
また、基板と磁気記録層の間には、必要に応じて、下地層を設けることができる。
【００３５】
磁気記録層としては、垂直磁気記録層を好ましく用いることができる。
【００３６】
図３は、本発明に使用される磁性層パターンの一例を説明するための図、及び図４はその断面構造を説明するための図を示す。
【００３７】
図３に示すように、円周方向に沿ってサーボ領域２０とデータ領域３０とが交互に形成されている。サーボ領域２０は、それぞれ磁性層のパターンで形成された、プリアンブル部２１、アドレス部２２、位置決めバースト部２３などの領域を含む。なお、これらの領域に加えてギャップ部を含んでいてもよいし、各領域の順序や配置が異なっていてもよい。データ領域３０には、磁性層のパターンからなる記録トラック３１と、溝または非磁性層からなるガードバンド３２とが、半径方向に沿って交互に形成され、さらに、例えば比較的内周側の記録トラック３１間に管理情報部３３が形成されている。なお、便宜上、図３に示すようなミクロな範囲では、半径方向と円周方向とは概ね直交しているように図示しているが、磁気ディスク全体で見ればサーボ領域がヘッドスライダのアクチュエータアームの軌跡に対応して、図２に示すサーボ領域６２のように弧の形状をなし得る。また、半径位置に応じて、磁性層のパターンが異なっていてもよい。
【００３８】
図５ないし図８に、本発明の磁気記録媒体の製造工程の一例を説明するための図を示す。
【００３９】
まず、図５（Ａ）〜図５（Ｃ）を用いて、本発明の原盤の一例を形成する方法を説明する。
【００４０】
図５（Ａ）に示すように、例えば８インチ径のＳｉウエハー１を用意し、その表面を例えばヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）で処理し得る。一方、例えば日本ゼオン社製のレジストＺＥＰ−５２０をアニソールで２倍に希釈し、０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、レジスト溶液が得られる。Ｓｉウエハー１上にレジスト溶液をスピンコートした後、例えば２００℃で３分間プリベークして、例えば厚さ約０．１μｍのレジスト２を形成することができる。
【００４１】
図５（Ｂ）に示すように、ＺｒＯ／Ｗ熱電界放射型の電子銃エミッターを有する電子ビーム描画装置を用い、例えば加速電圧５０ｋＶの条件で、Ｓｉウエハー１上のレジスト２に所望のパターンを直接描画することができる。描画時にはサーボパターン、バーストパターン、アドレスパターン、トラックパターン、及び管理情報パターンを形成するための信号と、描画装置のステージ駆動系へ送る信号と、電子ビームの偏向制御信号とを同期させて発生する信号源を用いることができる。描画中は例えば線速度７００ｍｍ／ｓのＣＬＶ（Constant Linear Velocity）でステージを回転させるとともに、半径方向にもステージを移動させることができる。また、１回転毎に電子ビームに偏向をかけて、同心円をなすトラック領域を描画することができる。磁気信号パターンは半径４ｍｍから１０．３ｍｍの範囲に露光し、その内外にアライメントマークおよび認識用のマーク及び文字パターンを露光することができる。露光後、Ｓｉウエハー基板を、スピンコーターで５００ｒｐｍで回転させながら、現像剤例えばＺＥＤ−Ｎ５０（日本ゼオン社製）に例えば９０秒間浸漬してレジスト２を現像し、その後、有機溶媒例えばＺＭＤ−Ｂ（日本ゼオン社製）に例えば９０秒間浸漬してリンスを行い、続いて、エアーブローにより乾燥させることにより、図５（Ｃ）に示すような凹凸パターンを有するレジスト原盤５が得られる。この凹凸パターンは、形成すべき磁気記録媒体の磁性層パターンと同様の凹凸パターンを有する。
【００４２】
次に、図６（Ａ）〜図６（Ｃ）を用いて、本発明のインプリント用スタンパの一例を形成する方法を説明する。
【００４３】
図６（Ａ）に示すように、レジスト原盤５上にスパッタリングによって例えばＮｉからなる導電膜６を形成することができる。具体的には、ターゲットに純ニッケルを使用し、８×１０-3Ｐａまで真空引きした後、アルゴンガスを導入して圧力を１Ｐａに調整したチャンバー内で４００ＷのＤＣパワーを印加して４０秒間スパッタリングを行い、厚さ約３０ｎｍの導電膜６を成膜することができる。
【００４４】
図６（Ｂ）に示すように、導電膜６をつけたレジスト原盤５を、例えばスルファミン酸ニッケルメッキ液（昭和化学（株）製、ＮＳ−１６０）に浸漬し、例えば７５分間Ｎｉ電鋳して、厚さ約３００μｍの電鋳膜７を形成することができる。電鋳浴条件の一例は、次の通りである。
【００４５】
スルファミン酸ニッケル：６００ｇ／Ｌ
ホウ酸：４０ｇ／Ｌ
界面活性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）：０．１５ｇ／Ｌ
液の温度：５５℃
ｐＨ：４．０
電流密度：２０Ａ／ｄｍ2。
【００４６】
図６（Ｃ）に示すように、レジスト原盤５から、電鋳膜７および導電膜６をレジスト残渣がついた状態で剥離することができる。例えば酸素プラズマアッシングによりレジスト残渣を除去することができる。具体的には、例えば酸素ガスを１００ｍｌ／ｍｉｎで導入して圧力を４Ｐａに調整したチャンバー内で１００Ｗのパワーを印加して２０分間プラズマアッシングを行なうことができる。このようにして、レジスト原盤５の凹凸パターンを反転した凹凸パターンを有し、導電膜６および電鋳膜７を含むファザースタンパが得られる。その後、ファザースタンパの不要部を金属刃で打ち抜くことによりインプリント用スタンパ８が得られる。このスタンパ８は、例えば上記図３及び図４に示すパターンとその凹凸形状が反転したパターンを有する。
【００４７】
こうして得られたファザースタンパ自体をインプリントスタンパとして使用する事は当然可能であるが、このファザースタンパに以下のようにして電鋳処理を繰り返し、スタンパを大量複製することができる。
【００４８】
図７（Ａ）ないし図７（Ｇ）に、上記ファザースタンパを用いて、インプリント用スタンパを複製する工程を表す図を示す。
【００４９】
まず、図７（Ａ）に示すようなファザースタンパ４１を用意する。
【００５０】
ファザースタンパ４１の凹凸状のパターン表面に、図７（Ｂ）に示すように、例えば２００Ｗのパワーを３分間印加すること以外は上記図６（Ｃ）に示すレジスト残渣を除去する工程と同様にして酸素プラズマアッシング法によるパッシベーションで酸化膜４２を形成することができる。なお、酸素プラズマアッシング法によるパッシベーションの代わりにウエット処理で行なう陽極酸化法を代用することができる。
【００５１】
この後、図７（Ｃ）に示すように、図６（Ｂ）に示す電鋳膜の形成工程と同様にして、同様の電鋳浴条件で、酸化膜４２を介してファザースタンパ４１の上にニッケル電鋳膜４３を形成することができる。電鋳膜の厚さはファザースタンパ同様３００μｍでも良いが、ファザースタンパと区別するために１００μｍ程度厚く或いは薄くすることができる。
【００５２】
この後、図７（Ｄ）に示すように、ファザースタンパ４１から電鋳膜４３を剥離してファザースタンパの反転型であるマザースタンパを得ることができる。
【００５３】
ファザースタンパからマザースタンパを得る工程を繰り返す事により、例えば１０枚以上の同じ形状のマザースタンパを得ることができる。
【００５４】
この後、ファザースタンパ４１からマザースタンパ４３を得る手順と同様にして、図７（Ｅ）に示すように、マザースタンパ４３表面に酸化膜４４をパッシベーションし、さらに、図７（Ｆ）に示すように、電鋳膜４４を形成して剥離することにより、図７（Ｇ）に示すように、ファザースタンパ４１と凹凸のパターン形状が同じサンスタンパ４５を得ることができる。上記１０枚以上の同じ形状のマザースタンパを用いてサンスタンパを例えば１００枚以上作成することができる。このようにして、１枚の原盤から多数のスタンパを複製し、磁気記録媒体を大量生産することができる。レジスト原盤のパターンを描画する際には多大な時間を必要とする場合があるため、スタンパを大量に複製することにより、歩留まりよく磁気記録媒体を製造することができる。
【００５５】
図８（Ａ）〜図８（Ｆ）に、上記インプリント用スタンパを用いて、本発明の磁気記録媒体の一例を製造する工程を表す図を示す。
【００５６】
図８（Ａ）に示すように、スタンパ８を例えばアセトンを用いて１５分間、超音波洗浄する。インプリント時の離型性を高めるために、スタンパ８に次のような処理を施すことができる。例えばフルオロアルキルシラン ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＭｅ）3（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製、ＴＳＬ８２３３）をエタノールで５％に希釈した溶液を調製し得る。得られた溶液にスタンパ８を３０分間浸し、ブロアーで溶液をとばした後に、１２０℃で１時間アニールすることができる。
【００５７】
一方、例えば０．８５インチ径のドーナツ型ガラスからなるディスク基板１１上にスパッタリングにより磁気記録層１２を形成することができる。この磁気記録層１２上にレジスト１５（ローム・アンド・ハース製、Ｓ１８０１）を回転数４０００ｒｐｍでスピンコートすることができる。
【００５８】
図８（Ｂ）に示すように、スタンパ８をディスク基板１１表面のレジスト１５に押し付け、例えば１８００ｂａｒで１分間プレスすることによって、レジスト１５にスタンパ８のパターンを転写することができる。パターンが転写されたレジスト１５を５分間ＵＶ照射した後、１６０℃で３０分間ベークすることができる。このようなインプリントによる凹凸形成プロセスでは、パターン凹部の底にレジスト残渣が残り得る。
【００５９】
図８（Ｃ）に示すように、例えば酸素ガスを用いたＲＩＥにより、パターン凹部の底にあるレジスト残渣を除去することができる。図８（Ｄ）に示すように、レジスト１５のパターンをマスクとして、例えばＡｒイオンミリングにより磁気記録層１２をエッチングする。図８（Ｅ）に示すように、酸素ＲＩＥによりレジスト１５のパターンを剥離することができる。
【００６０】
その後、エッチングされた磁気記録層１２を含む基板表面全体にカーボン保護層１３を成膜することができる。その後、作製した磁気ディスクに図示しない潤滑剤を塗布することにより、図８（Ｆ）に示すような磁気記録媒体を得ることができる。ここで、図８（Ａ）で示したスタンパ８の凹部が図８（Ｆ）に示された媒体では凸部の磁性部に対応している。
【００６１】
また、磁気記録層の凹部は、必要に応じて、非磁性層を用いて平坦化することができる。
【００６２】
上記図６（Ａ）〜図６（Ｃ）に示すインプリント用スタンパの一例の形成方法では、磁気記録媒体の磁性層のパターンと同様の凹凸パターンが形成された原盤を使用した例を示したが、本発明のプリント用スタンパは、原盤に管理情報パターンに相当するパターンが形成されていなくても、別の工程を用いて形成することができる。
【００６３】
図９（Ａ）ないし図９（Ｅ）に、本発明に係るインプリント用スタンパの他の一例を説明するための図を示す。
【００６４】
図９（Ａ）に示すように、記録トラックパターンを反転した凹凸パターンを有するスタンパ本体５１を用意する。
【００６５】
次に、図９（Ｂ）に示すように、スタンパ本体５１上に、フォトレジストを塗布することができるフォトレジスト層５２を形成し得る。その後、レーザー描画を用いてフォトレジスト層５２に管理情報を書き込むことができる。
【００６６】
その後、現像処理を行うことにより、図９（Ｃ）に示すように、管理情報パターンの表面の凹凸パターンを反転した凹凸情報をレジスト層５２に形成し得る。
【００６７】
さらに、図９（Ｄ）に示すように、現像処理されたスタンパ本体をミリング処理に供することより、露光、現像処理された部分のスタンパ本体表面の凸部と、レジスト層５２の一部とをエッチングし得る。これにより、管理情報がスタンパの凹凸形状として転写される。
【００６８】
さらに、例えば酸素ＲＩＥによりレジスト層５２のパターンを剥離することができる。得られたスタンパには、図９（Ｅ）に示すように、記録トラック部５３と管理情報部５４が形成され得る。
【００６９】
また、上記図８（Ａ）〜図８（Ｆ）に示す磁気記録媒体の一例の製造方法では、磁気記録媒体の磁性層パターンの凹凸パターンを反転した凹凸パターンが形成されたスタンパを用いた例を示したが、本発明の磁気記録媒体は、スタンパに管理情報パターンに相当するパターンが形成されていなくても、管理情報パターンを別の工程を用いて形成することができる。
【００７０】
図１０（Ａ）ないし図１０（Ｄ）に、本発明の磁気記録媒体の他の一例の製造工程を表す図を示す。
【００７１】
まず、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）に示す工程と同様にして、基板８４上に設けられた磁気記録層８３表面に例えばノボラック系のフォトレジストを塗布し、得られたレジスト８２上にスタンパ８１をプレスすることにより、図１０（Ａ）に示すように、スタンパ８１の凹凸パターンをレジスト８２に転写することができる。
【００７２】
次に、スタンパのパターンが転写されたレジスト８２上に、レーザー描画を用いて管理情報を書き込むことができる。レーザ露光後現像することにより、図１０（Ｂ）に示すように、レジスト８２に凹凸状の管理情報パターンを形成することができる。
【００７３】
その後、図８（Ｃ）及び図８（Ｄ）に示す工程と同様にして、例えば酸素ガスを用いたＲＩＥによりレジスト８２の残渣を除去した後、例えばＡｒイオンミリングを行うことにより、図１０（Ｃ）に示すように、磁気記録層８３をエッチングすることができる。
【００７４】
さらに、必要に応じて凹部にＳＯＧ（スピン・オン・グラス）を塗布後、ガラス化させる等の方法を用いて、非磁性層８５を形成し、保護膜８６、及び図示しない潤滑層を形成して、図１０（Ｄ）に示すような磁気記録媒体が得られる。
【００７５】
このように、管理情報パターンを、原盤に形成することなく、記録トラックのためのパターンが転写されたスタンパあるいは磁気記録媒体に、フォトレジストとレーザー描画を用いて後から形成すると、レーザー描画幅は、通常約３００ｎｍ以下の記録トラック幅より広い為、最終的に磁気記録媒体に設けられる管理情報パターンは、記録トラックよりも幅が広くなるか、あるいは複数の記録トラックにまたがった構成となる。
【００７６】
本発明の磁気記録媒体に設けられる磁性層パターンの他の一例を図１１に示す。
【００７７】
この磁性層パターンは、データ領域８７と、データ領域８７の内周側に設けられた管理情報領域８８とを含み、さらに円周方向に沿ってデータ領域８７と交互に形成された図示しないサーボ領域を有する。この磁性パターンでは、管理情報パターン８９の幅が各記録トラック９０の幅よりも大きくなっている。
【００７８】
このようにトラック幅が広い場合、ヘッドの位置決めが容易になり、管理情報にアクセスしやすくなるという利点がある。 本発明の磁気記録媒体に設けられる磁性層パターンのさらに他の一例を図１２に示す。
【００７９】
この磁性層パターンは、データ領域５７と、データ領域５７の内周側に設けられた管理情報領域５８とを含み、さらに円周方向に沿ってデータ領域５７と交互に形成された図示しないサーボ領域を有する。この磁性パターンでは、管理情報パターン５６が複数の記録トラックパターン５５にまたがって形成されている。このような場合、１トラックの管理情報が、磁性体の欠陥などにより読取不可能になっていても、他のトラックの管理情報を読取可能になる為、エラーに強くなるという利点がある。
【００８０】
また、本発明の磁気記録媒体では、管理情報部をAC消磁して、一般ユーザからアクセスできないようにすることも可能である。
【００８１】
DC消磁された管理情報部を有する磁性層パターンの一例を図１３に示す。
【００８２】
図１３は、管理情報９８が1トラック分に記載されており、そこにアクセスするためのサーボ情報９７も一部図示してある。図１３の場合は、情報は非磁性体９２によって記録されている。９１は、磁性体である。図１３はDC消磁された状態である。すなわち、磁性体９１の部分は全て一方向を向いている。従って非磁性体９２の位置で磁束が変化し、ヘッドから磁気情報として読み取ることができる。
【００８３】
AC消磁を施した管理情報部を有する磁性層パターンの一例を図１４に示す。
【００８４】
図１４に示す状態は、図１３に示す状態に、記録した情報の最小ビット長以下のAC信号を書き込んだものである。９３は、書き込まれたAC信号による反転磁区である。こうすることで、再生ヘッドにはAC信号分と非磁性体部分との両方からの信号が再生されるために、情報をよみとることができない。それ以前に、サーボ信号が適切に読み取れないのでトラッキングすらできない。このように、管理情報が一般ユーザにとって不必要な情報である場合には、それを読めないようにすることができる。これを読みたい場合には、管理権限のある人たとえば製造元といったファームウェアにアクセスできる人が管理情報の部分をDC消磁すればよい。
【００８５】
なお、図１４では、便宜上、明確なAC状態が記録されているが、読めないようにすることが目的であるので、実際には図示するような明確なAC信号である必要はない。いわゆる迷路状磁区にすることができる。
【００８６】
図１５には、DC消磁された管理情報部を有する磁性層パターンの他の例を示す。図１５では、管理情報が磁性体部分によって記録されている以外は、図１３と同様である。９４，９５は、各々非磁性体及び磁性体を表す。
【００８７】
図１６に示す状態は、図１５に示す状態に、記録した情報の最小ビット長以下のAC信号を書き込んだものである。この状態は、磁性体部分がAC消磁されているために、そこから充分な磁束が出ることができない。あるいは、あるビットは磁束が出るが、あるビットは全く磁束がでない。したがって、上記と同様に、情報が読めないばかりか、トラッキングもできなくなるのである。なお、図１６ではAC消磁状態の磁区がほぼ整然と並んでいるが、これは一例であって、乱雑に形成することができる。
【００８８】
以下、本発明に実施形態に係る磁気記録媒体の各層に用いられる材料や、各層の積層構造について説明する。
【００８９】
＜基板＞
基板としては、たとえばガラス基板、Ａｌ系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、化合物半導体基板、Ｓｉ単結晶基板などを用いることができる。ガラス基板には、アモルファスガラスまたは結晶化ガラスを用いることができる。アモルファスガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどがある。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスなどがある。セラミック基板としては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの焼結体を繊維強化したものなどを用いることができる。化合物半導体基板としては、ＧａＡｓ，ＡｌＧａＡｓなどがある。Ｓｉ単結晶基板、いわゆるシリコンウエハーは表面に酸化膜を有していても構わない。
【００９０】
＜軟磁性下地層＞
垂直磁気記録媒体を作製する場合には、軟磁性下地層（ＳＵＬ）上に垂直磁気記録層を有するいわゆる垂直二層媒体とする。垂直二層媒体の軟磁性下地層は、記録磁極からの記録磁界を通過させ、記録磁極の近傍に配置されたリターンヨークへ記録磁界を還流させるために設けられている。すなわち、軟磁性下地層は記録ヘッドの機能の一部を担っており、記録層に急峻な垂直磁界を印加して、記録効率を向上させる役目を果たす。
【００９１】
軟磁性下地層には、Ｆｅ、ＮｉおよびＣｏのうち少なくとも１種を含む高透磁率材料が用いられる。このような材料として、ＦｅＣｏ系合金たとえばＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＶなど、ＦｅＮｉ系合金たとえばＦｅＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＮｉＣｒ、ＦｅＮｉＳｉなど、ＦｅＡｌ系およびＦｅＳｉ系合金たとえばＦｅＡｌ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌＳｉＣｒ、ＦｅＡｌＳｉＴｉＲｕ、ＦｅＡｌＯなど、ＦｅＴａ系合金たとえばＦｅＴａ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＴａＮなど、ＦｅＺｒ系合金たとえばＦｅＺｒＮなどが挙げられる。
【００９２】
軟磁性下地層に、Ｆｅを６０ａｔ％以上含有するＦｅＡｌＯ、ＦｅＭｇＯ、ＦｅＴａＮ、ＦｅＺｒＮなどの微結晶構造、または微細な結晶粒子がマトリクス中に分散されたグラニュラー構造を有する材料を用いることもできる。
【００９３】
軟磁性下地層の他の材料として、Ｃｏと、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、ＴｉおよびＹのうち少なくとも１種とを含有するＣｏ合金を用いることもできる。Ｃｏは、好ましくは８０ａｔ％以上含まれる。このようなＣｏ合金をスパッタリングにより成膜した場合にはアモルファス層が形成されやすい。アモルファス軟磁性材料は、結晶磁気異方性、結晶欠陥および粒界がないため、非常に優れた軟磁性を示す。また、アモルファス軟磁性材料を用いることにより、媒体の低ノイズ化を図ることができる。好適なアモルファス軟磁性材料としては、たとえばＣｏＺｒ、ＣｏＺｒＮｂ、及びＣｏＺｒＴａ系合金などを挙げることができる。
【００９４】
軟磁性下地層の下に、軟磁性下地層の結晶性の向上あるいは基板との密着性の向上のためにさらに下地層を設けてもよい。下地層材料としては、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｒ、Ｐｔ、もしくはこれらを含む合金、またはこれらの酸化物、窒化物を用いることができる。
【００９５】
軟磁性下地層と垂直磁気記録層との間に、非磁性体からなる中間層を設けてもよい。中間層の役割は、軟磁性下地層と記録層との交換結合相互作用を遮断すること、および記録層の結晶性を制御することである。中間層材料としては、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｗ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｓｉ、もしくはこれらを含む合金、またはこれらの酸化物、窒化物を用いることができる。
【００９６】
スパイクノイズ防止のために軟磁性下地層を複数の層に分け、厚さ０．５〜１．５ｎｍのＲｕを挟んで反強磁性結合させてもよい。また、軟磁性層と、ＣｏＣｒＰｔ、ＳｍＣｏ、ＦｅＰｔなどの面内異方性を持った硬磁性膜またはＩｒＭｎ、ＰｔＭｎなどの反強磁性体からなるピニング層とを交換結合させてもよい。この場合、交換結合力を制御するために、Ｒｕ層の上下に、磁性層たとえばＣｏ、または非磁性層たとえばＰｔを積層してもよい。
【００９７】
＜垂直磁気記録層＞
垂直磁気記録層には、たとえば、Ｃｏを主成分とし、少なくともＰｔを含み、必要に応じてＣｒを含み、さらに酸化物（たとえば酸化シリコン、酸化チタン）を含む材料が用いられる。垂直磁気記録層中では、磁性結晶粒子が柱状構造をなしていることが好ましい。このような構造を有する垂直磁気記録層では、磁性結晶粒子の配向性および結晶性が良好であり、結果として高密度記録に適した信号／ノイズ比（Ｓ／Ｎ比）を得ることができる。上記のような構造を得るためには、酸化物の量が重要になる。酸化物の含有量は、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒの総量に対して、３ｍｏｌ％以上１２ｍｏｌ％以下が好ましく、５ｍｏｌ％以上１０ｍｏｌ％以下がより好ましい。垂直磁気記録層中の酸化物の含有量が上記の範囲であれば、磁性粒子の周りに酸化物が析出し、磁性粒子を孤立化および微細化させることができる。酸化物の含有量が上記範囲を超える場合、酸化物が磁性粒子中に残留し、磁性粒子の配向性、結晶性を損ね、さらには磁性粒子の上下に酸化物が析出し、結果として磁性粒子が垂直磁気記録層を上下に貫いた柱状構造が形成されなくなる。一方、酸化物の含有量が上記範囲未満である場合、磁性粒子の孤立化および微細化が不十分となり、結果として記録再生時におけるノイズが増大し、高密度記録に適した信号／ノイズ比（Ｓ／Ｎ比）が得られなくなる。
【００９８】
垂直磁気記録層のＰｔの含有量は、１０ａｔ％以上２５ａｔ％以下であることが好ましい。Ｐｔ含有量が上記範囲であると、垂直磁気記録層に必要な一軸磁気異方性定数Ｋｕが得られ、さらに磁性粒子の結晶性、配向性が良好になり、結果として高密度記録に適した熱揺らぎ特性、記録再生特性が得られる。Ｐｔ含有量が上記範囲を超えた場合、磁性粒子中にｆｃｃ構造の層が形成され、結晶性、配向性が損なわれるおそれがある。一方、Ｐｔ含有量が上記範囲未満である場合、高密度記録に適したＫｕしたがって熱揺らぎ特性が得られなくなる。
【００９９】
垂直磁気記録層のＣｒの含有量は、０ａｔ％以上１６ａｔ％以下が好ましく、１０ａｔ％以上１４ａｔ％以下がより好ましい。Ｃｒ含有量が上記範囲であると、磁性粒子の一軸磁気異方性定数Ｋｕを下げることなく高い磁化を維持でき、結果として高密度記録に適した記録再生特性と十分な熱揺らぎ特性が得られる。Ｃｒ含有量が上記範囲を超えた場合、磁性粒子のＫｕが小さくなるため熱揺らぎ特性が悪化し、かつ磁性粒子の結晶性、配向性が悪化し、結果として記録再生特性が悪くなる。
【０１００】
垂直磁気記録層は、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒ、酸化物に加えて、Ｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅから選ばれる１種類以上の添加元素を含んでいてもよい。これらの添加元素を含むことにより、磁性粒子の微細化を促進するか、または結晶性や配向性を向上させることができ、より高密度記録に適した記録再生特性、熱揺らぎ特性を得ることができる。これらの添加元素の合計含有量は、８ａｔ％以下であることが好ましい。８ａｔ％を超えた場合、磁性粒子中にｈｃｐ相以外の相が形成されるため、磁性粒子の結晶性、配向性が乱れ、結果として高密度記録に適した記録再生特性、熱揺らぎ特性が得られなくなる。
【０１０１】
垂直磁気記録層の他の材料としては、ＣｏＰｔ系合金、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＰｔＣｒ系合金、ＣｏＰｔＯ、ＣｏＰｔＣｒＯ、ＣｏＰｔＳｉ、ＣｏＰｔＣｒＳｉが挙げられる。垂直磁気記録層に、Ｐｔ、Ｐｄ、ＲｈおよびＲｕからなる群より選択される少なくとも一種を主成分とする合金と、Ｃｏとの多層膜を用いることもできる。また、これらの多層膜の各層に、Ｃｒ、ＢまたはＯを添加した、ＣｏＣｒ／ＰｔＣｒ、ＣｏＢ／ＰｄＢ、ＣｏＯ／ＲｈＯなどの多層膜を用いることもできる。
【０１０２】
垂直磁気記録層の厚さは、５〜６０ｎｍが好ましく、１０〜４０ｎｍがより好ましい。この範囲の厚さを有する垂直磁気記録層は高記録密度に適している。垂直磁気記録層の厚さが５ｎｍ未満であると、再生出力が低過ぎてノイズ成分の方が高くなる傾向がある。一方、垂直磁気記録層の厚さが４０ｎｍを超えると、再生出力が高過ぎて波形を歪ませる傾向がある。垂直磁気記録層の保磁力は、２３７０００Ａ／ｍ（３０００Ｏｅ）以上であることが好ましい。保磁力が２３７０００Ａ／ｍ（３０００Ｏｅ）未満であると、熱揺らぎ耐性が劣る傾向がある。垂直磁気記録層の垂直角型比は、０．８以上であることが好ましい。垂直角型比が０．８未満であると、熱揺らぎ耐性に劣る傾向がある。
【０１０３】
＜保護層＞
保護層は、垂直磁気記録層の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐ作用を有する。保護層の材料としては、たとえばＣ、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2を含む材料が挙げられる。保護層の厚さは、１〜１０ｎｍとすることが好ましい。保護層の厚さを上記の範囲にすると、ヘッドと媒体の距離を小さくできるので、高密度記録に好適である。
【０１０４】
＜潤滑層＞
潤滑剤としては、たとえばパーフルオロポリエーテル、フッ化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いることができる。
【０１０５】
本発明の原盤によれば、その製造時に、管理情報パターンに相応する原盤のパターンを、記録トラックパターンに相応する原盤のパターンと同じ工程で形成できるので、さらなる工程の追加をしなくても良く、低コストである。
【０１０６】
本発明のインプリント用スタンパによれば、その製造時に、管理情報パターンに相応するスタンパの凹凸パターンを、記録トラックパターンに相当するスタンパの凹凸パターンと同じ工程で形成できるので、さらなる工程の追加をしなくても良く、低コストである。
【０１０７】
さらに、本発明の磁気記録媒体によれば、その磁気記録層の製造時に、スタンパを用いてインプリント法により物理的転写を行う際に、少なくとも管理情報パターン相当するスタンパの凹凸パターンと、記録トラックパターンの両方に相当するスタンパの凹凸パターンとを、１つのスタンパで同時に転写できるので、さらなる工程の追加をしなくても良く、低コストである。
【０１０８】
［付記１．］
非磁性基板、及び該非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、
該磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【０１０９】
［付記２．］
前記管理情報パターンは、ＡＣ消磁されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【０１１０】
［付記３．］
前記管理情報パターンは、再生可能領域に設けられることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【０１１１】
［付記４．］
前記記録トラックパターン及び前記管理情報パターンは、
前記磁気記録層表面と、該磁気記録層表面上に設けられた、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストとをエッチングに供することにより形成され、
該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストは、
電子ビーム描画により原盤に形成された該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを、インプリント用スタンパに転写して、該記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンを形成した後、
該スタンパに設けられたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成し、更にエッチングするとこによりスタンパに該管理情報パターンを形成させた後、該磁気記録媒体上に設けられたレジストに該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写するか、あるいは該磁気記録媒体上に設けられ、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンが転写されたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成することにより得られることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【０１１２】
［付記５．］
少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパを用いて、磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターンを形成した後、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成し、該レジストと共に磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【０１１３】
［付記６．］
少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパ上にレジストを形成し、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとは逆の凹凸パターンをレーザー描画及びエッチングにより形成し、得られたスタンパを用いて、該磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写し、該レジストと共に該磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【０１１４】
［付記７．］
前記管理情報パターンは、ＡＣ消磁されていることを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【０１１５】
［付記８．］
前記管理情報パターンは、再生可能領域に設けられることを特徴とする請求項５ないし７のいずれか１項に記載の方法。
【符号の説明】
【０１１６】
５…レジスト原盤、８…インプリント用スタンパ、１１…ディスク基板、１２…磁気記録層、１５…レジスト、２０，６２…サーボ領域、２１…プリアンブル部、２２…アドレス部、２３，３３…位置決めバースト部、３０，６１…データ領域、３１…記録トラック、３２…ガードバンド、４１…ファザースタンパ、５２…フォトレジスト層、４３…マザースタンパ、４５…サンスタンパ、５３，５７…記録トラック部、５４，５８…管理情報部、７０…筐体、７１…磁気記録媒体、７６…ヘッドスライダ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスクリートトラックを有する磁気記録媒体、このような磁気記録媒体を形成するためのインプリント用スタンパ及びこれを形成するための原盤、及びこれらを用いた磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録媒体のさらなる高密度化に対応するために、隣接する記録トラックを溝または非磁性材料からなるガードバンドで分離し、隣接トラック間の磁気的干渉を低減するようにしたディスクリートトラック媒体が注目を集めている。
【０００３】
このようなディスクリートトラック媒体を製造する際には、スタンパを用いてインプリント法により磁気記録層のパターンを形成することが出来る。
【０００４】
このスタンパは、磁気記録層のパターンに対応したパターンを例えば電子線描画して得られたレジスト原盤を用いて容易に複製することができる。これにより、磁気記録媒体を低コストで大量に生産できる。
【０００５】
しかしながら、このように原盤及びスタンパを用いる技術では、製造された磁気記録媒体に、万一、欠陥が見つかった場合、原因となった原盤及びスタンパを追跡する必要性が生じる。このためには、各磁気記録媒体に、例えば製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズ等の管理情報を記録しておくことが望まれていた。
【０００６】
磁気記録媒体に管理情報を記録する方法として、磁気転写マスター担体から管理情報を磁気的に転写する方法があり、この方法では、磁気転写マスター担体の一部に凹凸パターンが設けられ、この凹凸パターンに応じた情報を磁気記録媒体に磁気的に転写記録していた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２３０７５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、インプリント法を用いて製造したディスクリートトラックを有する磁気記録媒体に、欠陥が生じた際の原因の追跡に好適な管理情報を、低コストで容易に記録し、歩留まり及び品質の管理を改善することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の垂直磁気記録媒体は、非磁性基板、及び該非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、
該磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、
前記記録トラックパターン及び前記管理情報パターンは、
前記磁気記録層表面と、該磁気記録層表面上に設けられた、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストとをエッチングに供することにより形成され、
該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストは、
電子ビーム描画により原盤に形成された該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを、インプリント用スタンパに転写して、該記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンを形成した後、
該スタンパに設けられたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成し、更にエッチングするとこによりスタンパに該管理情報パターンを形成させた後、該磁気記録媒体上に設けられたレジストに該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写するか、あるいは該磁気記録媒体上に設けられ、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンが転写されたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成することにより得られ、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の垂直磁気記録媒体の製造方法の１つは、少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパを用いて、磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターンを形成した後、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成し、該レジストと共に磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
【００１１】
あるいは、本発明の垂直磁気記録媒体の製造方法の他の１つは、少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパ上にレジストを形成し、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとは逆の凹凸パターンをレーザー描画及びエッチングにより形成し、得られたスタンパを用いて、該磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写し、該レジストと共に該磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明を用いると、スタンパを用いてインプリント法により磁気記録層のパターンを形成して得られた磁気記録媒体に、万一、欠陥が見つかった場合に、磁気記録媒体に設けられた管理情報を読み取ることにより、原因となった原盤及びスタンパを、容易に追跡することができる。本発明によれば、磁気記録媒体のみならず、原盤、及びスタンパの管理を行うことにより、歩留まり及び品質の管理が大幅に改善される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の磁気記録媒体を適用し得る磁気記録再生装置の一例を表す図である。
【図２】本発明に係る磁気記録媒体の一例を説明するための図である。
【図３】本発明に使用される磁性層パターンの一例を説明するための図である。
【図４】図３の断面構造を説明するための図である。
【図５】本発明の原盤の製造工程の一例を説明するための図である。
【図６】本発明のインプリント用スタンパの製造工程の一例を説明するための図である。
【図７】本発明のインプリント用スタンパを複製する工程を表す図である。
【図８】本発明の磁気記録媒体の製造工程の一例を説明するための図である。
【図９】本発明に係るインプリント用スタンパの他の一例を説明するための図である。
【図１０】本発明の磁気記録媒体の他の一例の製造工程を表す図である。
【図１１】本発明の磁気記録媒体に設けられる磁性層パターンの他の一例を表す図である。
【図１２】本発明の磁気記録媒体に設けられる磁性層パターンのさらに他の一例を表す図である。
【図１３】DC消磁された管理情報部を有する磁性層パターンの一例を表す図である。
【図１４】AC消磁を施した管理情報部を有する磁性層パターンの一例を表す図である。
【図１５】DC消磁された管理情報部を有する磁性層パターンの他の一例を表す図である。
【図１６】AC消磁を施した管理情報部を有する磁性層パターンの他の一例を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板、及び非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、この磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターン及び管理情報パターンを有する。
【００１５】
記録トラックパターン及び管理情報パターンは、非磁性基板上に磁性層により形成される。
【００１６】
また、ここで、本発明に使用される管理情報パターンは、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズから選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表したものをいう。この管理情報パターンは互いに分離された複数の磁性層により構成され得る。
【００１７】
本発明によれば、製造された磁気記録媒体に、万一、欠陥が見つかった場合に、磁気記録層に設けられた管理情報パターンを読み取ることにより、原因となった原盤及びスタンパを、容易に追跡することができる。
【００１８】
本発明に用いられる管理情報は、二値化されているので、通常の読み取りヘッドを使用して容易に読み取ることができる。
【００１９】
管理情報パターンは、好ましくは再生可能領域に設けられる。これにより、磁気記録再生装置内の再生ヘッドを使用して容易に読みとりが可能となる。
【００２０】
また、本発明に使用される管理情報パターンとして、ＡＣ消磁されたパターンを使用することが可能である。ＡＣ消磁されたパターンを使用することにより、権限を持つ者だけが管理情報を読み取るように設定できるので、秘密保持が可能となる。
【００２１】
本発明の磁気記録媒体は、好ましくは、スタンパを用いてインプリント法により、その磁気記録層を形成することができる。この方法では、磁気記録層をパターニングするための部材例えばレジストに、スタンパを押圧するだけで、複雑な工程、装置を使用することなく、その凹凸形状を物理的に容易に転写することができる。
【００２２】
本発明の磁気記録媒体においては、管理情報パターンは、記録トラックパターンの形成と同じ工程で、あるいは別な工程で形成することが可能である。管理情報パターンが製造される磁気記録媒体毎に異なる場合には、少なくとも記録トラックパターンをスタンパを用いてインプリント法により形成し、管理情報パターンを他の方法で形成することができる。一方、管理情報パターンが製造される磁気記録媒体に共通の情報であるとき、記録トラックパターンと管理情報パターンの両方を、スタンパを用いてインプリント法により形成することにより、他の工程でさらにパターンを形成するよりも、パターンの形成工程の数を低減でき、低コストである。
【００２３】
本発明のインプリント用スタンパは、上記磁気記録媒体の磁気記録層を、パターンの形成工程の数をできるだけ低減して形成するために好適に使用されるスタンパであって、溝によって分離された記録トラックパターンと管理情報パターンの表面の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンを有する。
【００２４】
本発明のインプリント用スタンパを用いると、記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンと共に、管理情報パターンとは逆の凹凸パターンが予め形成されているので、記録トラックパターンの形成と同じ工程で管理情報パターンを形成することができる。
【００２５】
また、本発明のインプリント用スタンパにおいては、管理情報パターンと逆の凹凸パターンは、記録トラックパターンと逆の凹凸パターンの形成とは別に形成することも可能であるが、このようなパターンの形成工程は少ないことが望ましい。
【００２６】
本発明の原盤は、上記インプリント用スタンパを、パターンの形成工程の数をできるだけ低減して形成するために好適に使用される原盤であって、磁気記録層の管理情報パターンと同様の凹凸パターン及び記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを有する。
【００２７】
本発明の原盤には、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンと共に管理情報パターンと同様の凹凸パターンが予め設けられているので、本発明の原盤を用いると、記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンの形成と同じ工程で、上記インプリント用スタンパに管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成することができる。
【００２８】
以下、図面を参照し、本発明を具体的に説明する。
【００２９】
図１に本発明の磁気記録媒体を適用し得る磁気記録再生装置の一例を表す図を示す。
【００３０】
この磁気記録再生装置は、筐体７０の内部に、ディスク状の磁気記録媒体７１と、磁気ヘッドを含むヘッドスライダ７６と、ヘッドスライダ７６を支持するヘッドサスペンションアッセンブリ（サスペンション７５とアクチュエータアーム７４）と、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７と、回路基板とを備える。
【００３１】
磁気記録媒体７１はスピンドルモータ７２に取り付けられて回転され、垂直磁気記録方式により各種のディジタルデータが記録される。ヘッドスライダ７６に組み込まれている磁気ヘッドはいわゆる複合型ヘッドであり、単磁極構造のライトヘッドと、シールド型ＭＲ再生素子（ＧＭＲ膜、ＴＭＲ膜など）を用いたリードヘッドとを含む。アクチュエータアーム７４の一端にサスペンション７５が保持され、サスペンション７５によってヘッドスライダ７６を磁気記録媒体７１の記録面に対向するように支持する。アクチュエータアーム７４はピボット７３に取り付けられる。アクチュエータアーム７４の他端にはボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７が設けられている。ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）７７によってヘッドサスペンションアッセンブリを駆動して、磁気ヘッドを磁気記録媒体７１の任意の半径位置に位置決めする。回路基板はヘッドＩＣを備え、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）の駆動信号、および磁気ヘッドによる読み書きを制御するための制御信号などを生成する。
【００３２】
図２に、本発明に係る磁気記録媒体の一例を説明するための図を示す。
【００３３】
磁気記録媒体７１はいわゆるディスクリートトラック媒体であり、基板上に形成された磁気記録層が所定のパターンを有する磁性層を含み、磁性層の面内において、記録トラックをなす磁性層のパターンを含むデータ領域６１、アドレスビットとして利用される磁性層パターンを含みトラック長さ方向に沿ってデータ領域の間に形成されたサーボ領域６２、及び例えばこの記録トラック内周側に設けられた管理情報領域６３を含む。これらの磁性層パターンは溝によって分離されている。
【００３４】
また、基板と磁気記録層の間には、必要に応じて、下地層を設けることができる。
【００３５】
磁気記録層としては、垂直磁気記録層を好ましく用いることができる。
【００３６】
図３は、本発明に使用される磁性層パターンの一例を説明するための図、及び図４はその断面構造を説明するための図を示す。
【００３７】
図３に示すように、円周方向に沿ってサーボ領域２０とデータ領域３０とが交互に形成されている。サーボ領域２０は、それぞれ磁性層のパターンで形成された、プリアンブル部２１、アドレス部２２、位置決めバースト部２３などの領域を含む。なお、これらの領域に加えてギャップ部を含んでいてもよいし、各領域の順序や配置が異なっていてもよい。データ領域３０には、磁性層のパターンからなる記録トラック３１と、溝または非磁性層からなるガードバンド３２とが、半径方向に沿って交互に形成され、さらに、例えば比較的内周側の記録トラック３１間に管理情報部３３が形成されている。なお、便宜上、図３に示すようなミクロな範囲では、半径方向と円周方向とは概ね直交しているように図示しているが、磁気ディスク全体で見ればサーボ領域がヘッドスライダのアクチュエータアームの軌跡に対応して、図２に示すサーボ領域６２のように弧の形状をなし得る。また、半径位置に応じて、磁性層のパターンが異なっていてもよい。
【００３８】
図５ないし図８に、本発明の磁気記録媒体の製造工程の一例を説明するための図を示す。
【００３９】
まず、図５（Ａ）〜図５（Ｃ）を用いて、本発明の原盤の一例を形成する方法を説明する。
【００４０】
図５（Ａ）に示すように、例えば８インチ径のＳｉウエハー１を用意し、その表面を例えばヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）で処理し得る。一方、例えば日本ゼオン社製のレジストＺＥＰ−５２０をアニソールで２倍に希釈し、０．２μｍのメンブランフィルタでろ過し、レジスト溶液が得られる。Ｓｉウエハー１上にレジスト溶液をスピンコートした後、例えば２００℃で３分間プリベークして、例えば厚さ約０．１μｍのレジスト２を形成することができる。
【００４１】
図５（Ｂ）に示すように、ＺｒＯ／Ｗ熱電界放射型の電子銃エミッターを有する電子ビーム描画装置を用い、例えば加速電圧５０ｋＶの条件で、Ｓｉウエハー１上のレジスト２に所望のパターンを直接描画することができる。描画時にはサーボパターン、バーストパターン、アドレスパターン、トラックパターン、及び管理情報パターンを形成するための信号と、描画装置のステージ駆動系へ送る信号と、電子ビームの偏向制御信号とを同期させて発生する信号源を用いることができる。描画中は例えば線速度７００ｍｍ／ｓのＣＬＶ（Constant Linear Velocity）でステージを回転させるとともに、半径方向にもステージを移動させることができる。また、１回転毎に電子ビームに偏向をかけて、同心円をなすトラック領域を描画することができる。磁気信号パターンは半径４ｍｍから１０．３ｍｍの範囲に露光し、その内外にアライメントマークおよび認識用のマーク及び文字パターンを露光することができる。露光後、Ｓｉウエハー基板を、スピンコーターで５００ｒｐｍで回転させながら、現像剤例えばＺＥＤ−Ｎ５０（日本ゼオン社製）に例えば９０秒間浸漬してレジスト２を現像し、その後、有機溶媒例えばＺＭＤ−Ｂ（日本ゼオン社製）に例えば９０秒間浸漬してリンスを行い、続いて、エアーブローにより乾燥させることにより、図５（Ｃ）に示すような凹凸パターンを有するレジスト原盤５が得られる。この凹凸パターンは、形成すべき磁気記録媒体の磁性層パターンと同様の凹凸パターンを有する。
【００４２】
次に、図６（Ａ）〜図６（Ｃ）を用いて、本発明のインプリント用スタンパの一例を形成する方法を説明する。
【００４３】
図６（Ａ）に示すように、レジスト原盤５上にスパッタリングによって例えばＮｉからなる導電膜６を形成することができる。具体的には、ターゲットに純ニッケルを使用し、８×１０-3Ｐａまで真空引きした後、アルゴンガスを導入して圧力を１Ｐａに調整したチャンバー内で４００ＷのＤＣパワーを印加して４０秒間スパッタリングを行い、厚さ約３０ｎｍの導電膜６を成膜することができる。
【００４４】
図６（Ｂ）に示すように、導電膜６をつけたレジスト原盤５を、例えばスルファミン酸ニッケルメッキ液（昭和化学（株）製、ＮＳ−１６０）に浸漬し、例えば７５分間Ｎｉ電鋳して、厚さ約３００μｍの電鋳膜７を形成することができる。電鋳浴条件の一例は、次の通りである。
【００４５】
スルファミン酸ニッケル：６００ｇ／Ｌ
ホウ酸：４０ｇ／Ｌ
界面活性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）：０．１５ｇ／Ｌ
液の温度：５５℃
ｐＨ：４．０
電流密度：２０Ａ／ｄｍ2。
【００４６】
図６（Ｃ）に示すように、レジスト原盤５から、電鋳膜７および導電膜６をレジスト残渣がついた状態で剥離することができる。例えば酸素プラズマアッシングによりレジスト残渣を除去することができる。具体的には、例えば酸素ガスを１００ｍｌ／ｍｉｎで導入して圧力を４Ｐａに調整したチャンバー内で１００Ｗのパワーを印加して２０分間プラズマアッシングを行なうことができる。このようにして、レジスト原盤５の凹凸パターンを反転した凹凸パターンを有し、導電膜６および電鋳膜７を含むファザースタンパが得られる。その後、ファザースタンパの不要部を金属刃で打ち抜くことによりインプリント用スタンパ８が得られる。このスタンパ８は、例えば上記図３及び図４に示すパターンとその凹凸形状が反転したパターンを有する。
【００４７】
こうして得られたファザースタンパ自体をインプリントスタンパとして使用する事は当然可能であるが、このファザースタンパに以下のようにして電鋳処理を繰り返し、スタンパを大量複製することができる。
【００４８】
図７（Ａ）ないし図７（Ｇ）に、上記ファザースタンパを用いて、インプリント用スタンパを複製する工程を表す図を示す。
【００４９】
まず、図７（Ａ）に示すようなファザースタンパ４１を用意する。
【００５０】
ファザースタンパ４１の凹凸状のパターン表面に、図７（Ｂ）に示すように、例えば２００Ｗのパワーを３分間印加すること以外は上記図６（Ｃ）に示すレジスト残渣を除去する工程と同様にして酸素プラズマアッシング法によるパッシベーションで酸化膜４２を形成することができる。なお、酸素プラズマアッシング法によるパッシベーションの代わりにウエット処理で行なう陽極酸化法を代用することができる。
【００５１】
この後、図７（Ｃ）に示すように、図６（Ｂ）に示す電鋳膜の形成工程と同様にして、同様の電鋳浴条件で、酸化膜４２を介してファザースタンパ４１の上にニッケル電鋳膜４３を形成することができる。電鋳膜の厚さはファザースタンパ同様３００μｍでも良いが、ファザースタンパと区別するために１００μｍ程度厚く或いは薄くすることができる。
【００５２】
この後、図７（Ｄ）に示すように、ファザースタンパ４１から電鋳膜４３を剥離してファザースタンパの反転型であるマザースタンパを得ることができる。
【００５３】
ファザースタンパからマザースタンパを得る工程を繰り返す事により、例えば１０枚以上の同じ形状のマザースタンパを得ることができる。
【００５４】
この後、ファザースタンパ４１からマザースタンパ４３を得る手順と同様にして、図７（Ｅ）に示すように、マザースタンパ４３表面に酸化膜４４をパッシベーションし、さらに、図７（Ｆ）に示すように、電鋳膜４４を形成して剥離することにより、図７（Ｇ）に示すように、ファザースタンパ４１と凹凸のパターン形状が同じサンスタンパ４５を得ることができる。上記１０枚以上の同じ形状のマザースタンパを用いてサンスタンパを例えば１００枚以上作成することができる。このようにして、１枚の原盤から多数のスタンパを複製し、磁気記録媒体を大量生産することができる。レジスト原盤のパターンを描画する際には多大な時間を必要とする場合があるため、スタンパを大量に複製することにより、歩留まりよく磁気記録媒体を製造することができる。
【００５５】
図８（Ａ）〜図８（Ｆ）に、上記インプリント用スタンパを用いて、本発明の磁気記録媒体の一例を製造する工程を表す図を示す。
【００５６】
図８（Ａ）に示すように、スタンパ８を例えばアセトンを用いて１５分間、超音波洗浄する。インプリント時の離型性を高めるために、スタンパ８に次のような処理を施すことができる。例えばフルオロアルキルシラン ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＭｅ）3（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製、ＴＳＬ８２３３）をエタノールで５％に希釈した溶液を調製し得る。得られた溶液にスタンパ８を３０分間浸し、ブロアーで溶液をとばした後に、１２０℃で１時間アニールすることができる。
【００５７】
一方、例えば０．８５インチ径のドーナツ型ガラスからなるディスク基板１１上にスパッタリングにより磁気記録層１２を形成することができる。この磁気記録層１２上にレジスト１５（ローム・アンド・ハース製、Ｓ１８０１）を回転数４０００ｒｐｍでスピンコートすることができる。
【００５８】
図８（Ｂ）に示すように、スタンパ８をディスク基板１１表面のレジスト１５に押し付け、例えば１８００ｂａｒで１分間プレスすることによって、レジスト１５にスタンパ８のパターンを転写することができる。パターンが転写されたレジスト１５を５分間ＵＶ照射した後、１６０℃で３０分間ベークすることができる。このようなインプリントによる凹凸形成プロセスでは、パターン凹部の底にレジスト残渣が残り得る。
【００５９】
図８（Ｃ）に示すように、例えば酸素ガスを用いたＲＩＥにより、パターン凹部の底にあるレジスト残渣を除去することができる。図８（Ｄ）に示すように、レジスト１５のパターンをマスクとして、例えばＡｒイオンミリングにより磁気記録層１２をエッチングする。図８（Ｅ）に示すように、酸素ＲＩＥによりレジスト１５のパターンを剥離することができる。
【００６０】
その後、エッチングされた磁気記録層１２を含む基板表面全体にカーボン保護層１３を成膜することができる。その後、作製した磁気ディスクに図示しない潤滑剤を塗布することにより、図８（Ｆ）に示すような磁気記録媒体を得ることができる。ここで、図８（Ａ）で示したスタンパ８の凹部が図８（Ｆ）に示された媒体では凸部の磁性部に対応している。
【００６１】
また、磁気記録層の凹部は、必要に応じて、非磁性層を用いて平坦化することができる。
【００６２】
上記図６（Ａ）〜図６（Ｃ）に示すインプリント用スタンパの一例の形成方法では、磁気記録媒体の磁性層のパターンと同様の凹凸パターンが形成された原盤を使用した例を示したが、本発明のプリント用スタンパは、原盤に管理情報パターンに相当するパターンが形成されていなくても、別の工程を用いて形成することができる。
【００６３】
図９（Ａ）ないし図９（Ｅ）に、本発明に係るインプリント用スタンパの他の一例を説明するための図を示す。
【００６４】
図９（Ａ）に示すように、記録トラックパターンを反転した凹凸パターンを有するスタンパ本体５１を用意する。
【００６５】
次に、図９（Ｂ）に示すように、スタンパ本体５１上に、フォトレジストを塗布することができるフォトレジスト層５２を形成し得る。その後、レーザー描画を用いてフォトレジスト層５２に管理情報を書き込むことができる。
【００６６】
その後、現像処理を行うことにより、図９（Ｃ）に示すように、管理情報パターンの表面の凹凸パターンを反転した凹凸情報をレジスト層５２に形成し得る。
【００６７】
さらに、図９（Ｄ）に示すように、現像処理されたスタンパ本体をミリング処理に供することより、露光、現像処理された部分のスタンパ本体表面の凸部と、レジスト層５２の一部とをエッチングし得る。これにより、管理情報がスタンパの凹凸形状として転写される。
【００６８】
さらに、例えば酸素ＲＩＥによりレジスト層５２のパターンを剥離することができる。得られたスタンパには、図９（Ｅ）に示すように、記録トラック部５３と管理情報部５４が形成され得る。
【００６９】
また、上記図８（Ａ）〜図８（Ｆ）に示す磁気記録媒体の一例の製造方法では、磁気記録媒体の磁性層パターンの凹凸パターンを反転した凹凸パターンが形成されたスタンパを用いた例を示したが、本発明の磁気記録媒体は、スタンパに管理情報パターンに相当するパターンが形成されていなくても、管理情報パターンを別の工程を用いて形成することができる。
【００７０】
図１０（Ａ）ないし図１０（Ｄ）に、本発明の磁気記録媒体の他の一例の製造工程を表す図を示す。
【００７１】
まず、図８（Ａ）及び図８（Ｂ）に示す工程と同様にして、基板８４上に設けられた磁気記録層８３表面に例えばノボラック系のフォトレジストを塗布し、得られたレジスト８２上にスタンパ８１をプレスすることにより、図１０（Ａ）に示すように、スタンパ８１の凹凸パターンをレジスト８２に転写することができる。
【００７２】
次に、スタンパのパターンが転写されたレジスト８２上に、レーザー描画を用いて管理情報を書き込むことができる。レーザ露光後現像することにより、図１０（Ｂ）に示すように、レジスト８２に凹凸状の管理情報パターンを形成することができる。
【００７３】
その後、図８（Ｃ）及び図８（Ｄ）に示す工程と同様にして、例えば酸素ガスを用いたＲＩＥによりレジスト８２の残渣を除去した後、例えばＡｒイオンミリングを行うことにより、図１０（Ｃ）に示すように、磁気記録層８３をエッチングすることができる。
【００７４】
さらに、必要に応じて凹部にＳＯＧ（スピン・オン・グラス）を塗布後、ガラス化させる等の方法を用いて、非磁性層８５を形成し、保護膜８６、及び図示しない潤滑層を形成して、図１０（Ｄ）に示すような磁気記録媒体が得られる。
【００７５】
このように、管理情報パターンを、原盤に形成することなく、記録トラックのためのパターンが転写されたスタンパあるいは磁気記録媒体に、フォトレジストとレーザー描画を用いて後から形成すると、レーザー描画幅は、通常約３００ｎｍ以下の記録トラック幅より広い為、最終的に磁気記録媒体に設けられる管理情報パターンは、記録トラックよりも幅が広くなるか、あるいは複数の記録トラックにまたがった構成となる。
【００７６】
本発明の磁気記録媒体に設けられる磁性層パターンの他の一例を図１１に示す。
【００７７】
この磁性層パターンは、データ領域８７と、データ領域８７の内周側に設けられた管理情報領域８８とを含み、さらに円周方向に沿ってデータ領域８７と交互に形成された図示しないサーボ領域を有する。この磁性パターンでは、管理情報パターン８９の幅が各記録トラック９０の幅よりも大きくなっている。
【００７８】
このようにトラック幅が広い場合、ヘッドの位置決めが容易になり、管理情報にアクセスしやすくなるという利点がある。 本発明の磁気記録媒体に設けられる磁性層パターンのさらに他の一例を図１２に示す。
【００７９】
この磁性層パターンは、データ領域５７と、データ領域５７の内周側に設けられた管理情報領域５８とを含み、さらに円周方向に沿ってデータ領域５７と交互に形成された図示しないサーボ領域を有する。この磁性パターンでは、管理情報パターン５６が複数の記録トラックパターン５５にまたがって形成されている。このような場合、１トラックの管理情報が、磁性体の欠陥などにより読取不可能になっていても、他のトラックの管理情報を読取可能になる為、エラーに強くなるという利点がある。
【００８０】
また、本発明の磁気記録媒体では、管理情報部をAC消磁して、一般ユーザからアクセスできないようにすることも可能である。
【００８１】
DC消磁された管理情報部を有する磁性層パターンの一例を図１３に示す。
【００８２】
図１３は、管理情報９８が1トラック分に記載されており、そこにアクセスするためのサーボ情報９７も一部図示してある。図１３の場合は、情報は非磁性体９２によって記録されている。９１は、磁性体である。図１３はDC消磁された状態である。すなわち、磁性体９１の部分は全て一方向を向いている。従って非磁性体９２の位置で磁束が変化し、ヘッドから磁気情報として読み取ることができる。
【００８３】
AC消磁を施した管理情報部を有する磁性層パターンの一例を図１４に示す。
【００８４】
図１４に示す状態は、図１３に示す状態に、記録した情報の最小ビット長以下のAC信号を書き込んだものである。９３は、書き込まれたAC信号による反転磁区である。こうすることで、再生ヘッドにはAC信号分と非磁性体部分との両方からの信号が再生されるために、情報をよみとることができない。それ以前に、サーボ信号が適切に読み取れないのでトラッキングすらできない。このように、管理情報が一般ユーザにとって不必要な情報である場合には、それを読めないようにすることができる。これを読みたい場合には、管理権限のある人たとえば製造元といったファームウェアにアクセスできる人が管理情報の部分をDC消磁すればよい。
【００８５】
なお、図１４では、便宜上、明確なAC状態が記録されているが、読めないようにすることが目的であるので、実際には図示するような明確なAC信号である必要はない。いわゆる迷路状磁区にすることができる。
【００８６】
図１５には、DC消磁された管理情報部を有する磁性層パターンの他の例を示す。図１５では、管理情報が磁性体部分によって記録されている以外は、図１３と同様である。９４，９５は、各々非磁性体及び磁性体を表す。
【００８７】
図１６に示す状態は、図１５に示す状態に、記録した情報の最小ビット長以下のAC信号を書き込んだものである。この状態は、磁性体部分がAC消磁されているために、そこから充分な磁束が出ることができない。あるいは、あるビットは磁束が出るが、あるビットは全く磁束がでない。したがって、上記と同様に、情報が読めないばかりか、トラッキングもできなくなるのである。なお、図１６ではAC消磁状態の磁区がほぼ整然と並んでいるが、これは一例であって、乱雑に形成することができる。
【００８８】
以下、本発明に実施形態に係る磁気記録媒体の各層に用いられる材料や、各層の積層構造について説明する。
【００８９】
＜基板＞
基板としては、たとえばガラス基板、Ａｌ系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、化合物半導体基板、Ｓｉ単結晶基板などを用いることができる。ガラス基板には、アモルファスガラスまたは結晶化ガラスを用いることができる。アモルファスガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどがある。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスなどがある。セラミック基板としては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの焼結体を繊維強化したものなどを用いることができる。化合物半導体基板としては、ＧａＡｓ，ＡｌＧａＡｓなどがある。Ｓｉ単結晶基板、いわゆるシリコンウエハーは表面に酸化膜を有していても構わない。
【００９０】
＜軟磁性下地層＞
垂直磁気記録媒体を作製する場合には、軟磁性下地層（ＳＵＬ）上に垂直磁気記録層を有するいわゆる垂直二層媒体とする。垂直二層媒体の軟磁性下地層は、記録磁極からの記録磁界を通過させ、記録磁極の近傍に配置されたリターンヨークへ記録磁界を還流させるために設けられている。すなわち、軟磁性下地層は記録ヘッドの機能の一部を担っており、記録層に急峻な垂直磁界を印加して、記録効率を向上させる役目を果たす。
【００９１】
軟磁性下地層には、Ｆｅ、ＮｉおよびＣｏのうち少なくとも１種を含む高透磁率材料が用いられる。このような材料として、ＦｅＣｏ系合金たとえばＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＶなど、ＦｅＮｉ系合金たとえばＦｅＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＮｉＣｒ、ＦｅＮｉＳｉなど、ＦｅＡｌ系およびＦｅＳｉ系合金たとえばＦｅＡｌ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌＳｉＣｒ、ＦｅＡｌＳｉＴｉＲｕ、ＦｅＡｌＯなど、ＦｅＴａ系合金たとえばＦｅＴａ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＴａＮなど、ＦｅＺｒ系合金たとえばＦｅＺｒＮなどが挙げられる。
【００９２】
軟磁性下地層に、Ｆｅを６０ａｔ％以上含有するＦｅＡｌＯ、ＦｅＭｇＯ、ＦｅＴａＮ、ＦｅＺｒＮなどの微結晶構造、または微細な結晶粒子がマトリクス中に分散されたグラニュラー構造を有する材料を用いることもできる。
【００９３】
軟磁性下地層の他の材料として、Ｃｏと、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、ＴｉおよびＹのうち少なくとも１種とを含有するＣｏ合金を用いることもできる。Ｃｏは、好ましくは８０ａｔ％以上含まれる。このようなＣｏ合金をスパッタリングにより成膜した場合にはアモルファス層が形成されやすい。アモルファス軟磁性材料は、結晶磁気異方性、結晶欠陥および粒界がないため、非常に優れた軟磁性を示す。また、アモルファス軟磁性材料を用いることにより、媒体の低ノイズ化を図ることができる。好適なアモルファス軟磁性材料としては、たとえばＣｏＺｒ、ＣｏＺｒＮｂ、及びＣｏＺｒＴａ系合金などを挙げることができる。
【００９４】
軟磁性下地層の下に、軟磁性下地層の結晶性の向上あるいは基板との密着性の向上のためにさらに下地層を設けてもよい。下地層材料としては、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｒ、Ｐｔ、もしくはこれらを含む合金、またはこれらの酸化物、窒化物を用いることができる。
【００９５】
軟磁性下地層と垂直磁気記録層との間に、非磁性体からなる中間層を設けてもよい。中間層の役割は、軟磁性下地層と記録層との交換結合相互作用を遮断すること、および記録層の結晶性を制御することである。中間層材料としては、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｗ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｓｉ、もしくはこれらを含む合金、またはこれらの酸化物、窒化物を用いることができる。
【００９６】
スパイクノイズ防止のために軟磁性下地層を複数の層に分け、厚さ０．５〜１．５ｎｍのＲｕを挟んで反強磁性結合させてもよい。また、軟磁性層と、ＣｏＣｒＰｔ、ＳｍＣｏ、ＦｅＰｔなどの面内異方性を持った硬磁性膜またはＩｒＭｎ、ＰｔＭｎなどの反強磁性体からなるピニング層とを交換結合させてもよい。この場合、交換結合力を制御するために、Ｒｕ層の上下に、磁性層たとえばＣｏ、または非磁性層たとえばＰｔを積層してもよい。
【００９７】
＜垂直磁気記録層＞
垂直磁気記録層には、たとえば、Ｃｏを主成分とし、少なくともＰｔを含み、必要に応じてＣｒを含み、さらに酸化物（たとえば酸化シリコン、酸化チタン）を含む材料が用いられる。垂直磁気記録層中では、磁性結晶粒子が柱状構造をなしていることが好ましい。このような構造を有する垂直磁気記録層では、磁性結晶粒子の配向性および結晶性が良好であり、結果として高密度記録に適した信号／ノイズ比（Ｓ／Ｎ比）を得ることができる。上記のような構造を得るためには、酸化物の量が重要になる。酸化物の含有量は、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒの総量に対して、３ｍｏｌ％以上１２ｍｏｌ％以下が好ましく、５ｍｏｌ％以上１０ｍｏｌ％以下がより好ましい。垂直磁気記録層中の酸化物の含有量が上記の範囲であれば、磁性粒子の周りに酸化物が析出し、磁性粒子を孤立化および微細化させることができる。酸化物の含有量が上記範囲を超える場合、酸化物が磁性粒子中に残留し、磁性粒子の配向性、結晶性を損ね、さらには磁性粒子の上下に酸化物が析出し、結果として磁性粒子が垂直磁気記録層を上下に貫いた柱状構造が形成されなくなる。一方、酸化物の含有量が上記範囲未満である場合、磁性粒子の孤立化および微細化が不十分となり、結果として記録再生時におけるノイズが増大し、高密度記録に適した信号／ノイズ比（Ｓ／Ｎ比）が得られなくなる。
【００９８】
垂直磁気記録層のＰｔの含有量は、１０ａｔ％以上２５ａｔ％以下であることが好ましい。Ｐｔ含有量が上記範囲であると、垂直磁気記録層に必要な一軸磁気異方性定数Ｋｕが得られ、さらに磁性粒子の結晶性、配向性が良好になり、結果として高密度記録に適した熱揺らぎ特性、記録再生特性が得られる。Ｐｔ含有量が上記範囲を超えた場合、磁性粒子中にｆｃｃ構造の層が形成され、結晶性、配向性が損なわれるおそれがある。一方、Ｐｔ含有量が上記範囲未満である場合、高密度記録に適したＫｕしたがって熱揺らぎ特性が得られなくなる。
【００９９】
垂直磁気記録層のＣｒの含有量は、０ａｔ％以上１６ａｔ％以下が好ましく、１０ａｔ％以上１４ａｔ％以下がより好ましい。Ｃｒ含有量が上記範囲であると、磁性粒子の一軸磁気異方性定数Ｋｕを下げることなく高い磁化を維持でき、結果として高密度記録に適した記録再生特性と十分な熱揺らぎ特性が得られる。Ｃｒ含有量が上記範囲を超えた場合、磁性粒子のＫｕが小さくなるため熱揺らぎ特性が悪化し、かつ磁性粒子の結晶性、配向性が悪化し、結果として記録再生特性が悪くなる。
【０１００】
垂直磁気記録層は、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒ、酸化物に加えて、Ｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅから選ばれる１種類以上の添加元素を含んでいてもよい。これらの添加元素を含むことにより、磁性粒子の微細化を促進するか、または結晶性や配向性を向上させることができ、より高密度記録に適した記録再生特性、熱揺らぎ特性を得ることができる。これらの添加元素の合計含有量は、８ａｔ％以下であることが好ましい。８ａｔ％を超えた場合、磁性粒子中にｈｃｐ相以外の相が形成されるため、磁性粒子の結晶性、配向性が乱れ、結果として高密度記録に適した記録再生特性、熱揺らぎ特性が得られなくなる。
【０１０１】
垂直磁気記録層の他の材料としては、ＣｏＰｔ系合金、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＰｔＣｒ系合金、ＣｏＰｔＯ、ＣｏＰｔＣｒＯ、ＣｏＰｔＳｉ、ＣｏＰｔＣｒＳｉが挙げられる。垂直磁気記録層に、Ｐｔ、Ｐｄ、ＲｈおよびＲｕからなる群より選択される少なくとも一種を主成分とする合金と、Ｃｏとの多層膜を用いることもできる。また、これらの多層膜の各層に、Ｃｒ、ＢまたはＯを添加した、ＣｏＣｒ／ＰｔＣｒ、ＣｏＢ／ＰｄＢ、ＣｏＯ／ＲｈＯなどの多層膜を用いることもできる。
【０１０２】
垂直磁気記録層の厚さは、５〜６０ｎｍが好ましく、１０〜４０ｎｍがより好ましい。この範囲の厚さを有する垂直磁気記録層は高記録密度に適している。垂直磁気記録層の厚さが５ｎｍ未満であると、再生出力が低過ぎてノイズ成分の方が高くなる傾向がある。一方、垂直磁気記録層の厚さが４０ｎｍを超えると、再生出力が高過ぎて波形を歪ませる傾向がある。垂直磁気記録層の保磁力は、２３７０００Ａ／ｍ（３０００Ｏｅ）以上であることが好ましい。保磁力が２３７０００Ａ／ｍ（３０００Ｏｅ）未満であると、熱揺らぎ耐性が劣る傾向がある。垂直磁気記録層の垂直角型比は、０．８以上であることが好ましい。垂直角型比が０．８未満であると、熱揺らぎ耐性に劣る傾向がある。
【０１０３】
＜保護層＞
保護層は、垂直磁気記録層の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐ作用を有する。保護層の材料としては、たとえばＣ、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2を含む材料が挙げられる。保護層の厚さは、１〜１０ｎｍとすることが好ましい。保護層の厚さを上記の範囲にすると、ヘッドと媒体の距離を小さくできるので、高密度記録に好適である。
【０１０４】
＜潤滑層＞
潤滑剤としては、たとえばパーフルオロポリエーテル、フッ化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いることができる。
【０１０５】
本発明の原盤によれば、その製造時に、管理情報パターンに相応する原盤のパターンを、記録トラックパターンに相応する原盤のパターンと同じ工程で形成できるので、さらなる工程の追加をしなくても良く、低コストである。
【０１０６】
本発明のインプリント用スタンパによれば、その製造時に、管理情報パターンに相応するスタンパの凹凸パターンを、記録トラックパターンに相当するスタンパの凹凸パターンと同じ工程で形成できるので、さらなる工程の追加をしなくても良く、低コストである。
【０１０７】
さらに、本発明の磁気記録媒体によれば、その磁気記録層の製造時に、スタンパを用いてインプリント法により物理的転写を行う際に、少なくとも管理情報パターン相当するスタンパの凹凸パターンと、記録トラックパターンの両方に相当するスタンパの凹凸パターンとを、１つのスタンパで同時に転写できるので、さらなる工程の追加をしなくても良く、低コストである。
【０１０８】
［付記１．］
非磁性基板、及び該非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、
該磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【０１０９】
［付記２．］
前記管理情報パターンは、ＡＣ消磁されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【０１１０】
［付記３．］
前記管理情報パターンは、再生可能領域に設けられることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【０１１１】
［付記４．］
前記記録トラックパターン及び前記管理情報パターンは、
前記磁気記録層表面と、該磁気記録層表面上に設けられた、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストとをエッチングに供することにより形成され、
該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストは、
電子ビーム描画により原盤に形成された該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを、インプリント用スタンパに転写して、該記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンを形成した後、
該スタンパに設けられたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成し、更にエッチングするとこによりスタンパに該管理情報パターンを形成させた後、該磁気記録媒体上に設けられたレジストに該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写するか、あるいは該磁気記録媒体上に設けられ、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンが転写されたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成することにより得られることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【０１１２】
［付記５．］
少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパを用いて、磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターンを形成した後、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成し、該レジストと共に磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【０１１３】
［付記６．］
少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパ上にレジストを形成し、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとは逆の凹凸パターンをレーザー描画及びエッチングにより形成し、得られたスタンパを用いて、該磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写し、該レジストと共に該磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【０１１４】
［付記７．］
前記管理情報パターンは、ＡＣ消磁されていることを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【０１１５】
［付記８．］
前記管理情報パターンは、再生可能領域に設けられることを特徴とする請求項５ないし７のいずれか１項に記載の方法。
【符号の説明】
【０１１６】
５…レジスト原盤、８…インプリント用スタンパ、１１…ディスク基板、１２…磁気記録層、１５…レジスト、２０，６２…サーボ領域、２１…プリアンブル部、２２…アドレス部、２３，３３…位置決めバースト部、３０，６１…データ領域、３１…記録トラック、３２…ガードバンド、４１…ファザースタンパ、５２…フォトレジスト層、４３…マザースタンパ、４５…サンスタンパ、５３，５７…記録トラック部、５４，５８…管理情報部、７０…筐体、７１…磁気記録媒体、７６…ヘッドスライダ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板、及び該非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、
該磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、
前記記録トラックパターン及び前記管理情報パターンは、
前記磁気記録層表面と、該磁気記録層表面上に設けられた、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストとをエッチングに供することにより形成され、
該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストは、
電子ビーム描画により原盤に形成された該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを、インプリント用スタンパに転写して、該記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンを形成した後、
該スタンパに設けられたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成し、更にエッチングするとこによりスタンパに該管理情報パターンを形成させた後、該磁気記録媒体上に設けられたレジストに該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写するか、あるいは該磁気記録媒体上に設けられ、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンが転写されたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成することにより得られ、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
前記管理情報パターンは、ＡＣ消磁されていることを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパを用いて、磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターンを形成した後、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成し、該レジストと共に磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパ上にレジストを形成し、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとは逆の凹凸パターンをレーザー描画及びエッチングにより形成し、得られたスタンパを用いて、該磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写し、該レジストと共に該磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記管理情報パターンは、ＡＣ消磁されていることを特徴とする請求項３または４に記載の方法。
【請求項１】
非磁性基板、及び該非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、
該磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、
前記記録トラックパターン及び前記管理情報パターンは、
前記磁気記録層表面と、該磁気記録層表面上に設けられた、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストとをエッチングに供することにより形成され、
該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストは、
電子ビーム描画により原盤に形成された該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを、インプリント用スタンパに転写して、該記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンを形成した後、
該スタンパに設けられたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成し、更にエッチングするとこによりスタンパに該管理情報パターンを形成させた後、該磁気記録媒体上に設けられたレジストに該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写するか、あるいは該磁気記録媒体上に設けられ、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンが転写されたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成することにより得られ、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
前記管理情報パターンは、ＡＣ消磁されていることを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパを用いて、磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターンを形成した後、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成し、該レジストと共に磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパ上にレジストを形成し、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも１種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとは逆の凹凸パターンをレーザー描画及びエッチングにより形成し、得られたスタンパを用いて、該磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写し、該レジストと共に該磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記管理情報パターンは、ＡＣ消磁されていることを特徴とする請求項３または４に記載の方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１１−１４１９４９（Ｐ２０１１−１４１９４９Ａ）
【公開日】平成２３年７月２１日（２０１１．７．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−９４３６３（Ｐ２０１１−９４３６３）
【出願日】平成２３年４月２０日（２０１１．４．２０）
【分割の表示】特願２００９−２１８１２６（Ｐ２００９−２１８１２６）の分割
【原出願日】平成１６年７月３０日（２００４．７．３０）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年７月２１日（２０１１．７．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月２０日（２０１１．４．２０）
【分割の表示】特願２００９−２１８１２６（Ｐ２００９−２１８１２６）の分割
【原出願日】平成１６年７月３０日（２００４．７．３０）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【Ｆターム（参考）】
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