磁気記録媒体ならびにその製造方法
【目的】 磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツクの中心線上に適正に導くことができる、信頼性の高い磁気記録媒体を提供するにある。
【構成】 磁性層の所定位置にリフアレンス部１１が設けられ、リフアレンス部１１から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に磁気ヘツドトラツキング用光学凹部２３とデータトラツク１４とが交互に多数形成され、前記リフアレンス部１１は、それの中心線１６上の任意の点１７を中心にして点対称に一対のリフアレンス凹部領域１８Ａ，１８Ｂ（凹部２０）が設けられ、リフアレンス凹部領域１８Ａ，１８Ｂの隣に凹部のない平面部１９Ａ，１９Ｂが形成され、その平面部１９Ａ，１９Ｂが磁気ヘツドなどによつて一様に同極に磁化されていることを特徴とする。
【構成】 磁性層の所定位置にリフアレンス部１１が設けられ、リフアレンス部１１から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に磁気ヘツドトラツキング用光学凹部２３とデータトラツク１４とが交互に多数形成され、前記リフアレンス部１１は、それの中心線１６上の任意の点１７を中心にして点対称に一対のリフアレンス凹部領域１８Ａ，１８Ｂ（凹部２０）が設けられ、リフアレンス凹部領域１８Ａ，１８Ｂの隣に凹部のない平面部１９Ａ，１９Ｂが形成され、その平面部１９Ａ，１９Ｂが磁気ヘツドなどによつて一様に同極に磁化されていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばフレキシブル磁気デイスクなどの磁気記録媒体に係り、特に光学的にトラツキングができる磁気記録媒体ならびにその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フレキシブル磁気デイスクにおいて、それのドーナツ状記録帯域の最内周にリフアレンストラツクを形成し、そのリフアレンストラツクから半径方向外側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラツクと同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部をリング状に多数形成し、各リング状磁気ヘツドトラツキング用光学凹部の間をデータトラツクとしたものが知られている（例えば特公平２−３１３８７号公報参照）。
【０００３】この磁気デイスクの前記リフアレンストラツクには、所定の信号が予め記録されている。そしてこの磁気デイスクに所望の情報を記録したり、記録した情報を再生するときには、まず記録帯域の最内周にあるリフアレンストラツクの信号を磁気ヘツドで読み取つて、磁気デイスク上における磁気ヘツドの基準位置を求める。そして磁気ヘツドを所定のピツチ径方向外側に移送し、今度は発光素子と受光素子とを対にした光学的手段により前記磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を走査してデータトラツクのトラツキングサーボを行いながら、情報の記録あるいは再生を行うシステムになつている。
【０００４】図１６ならびに図１７は、従来のリフアレンストラツクの一部拡大平面図ならびに一部拡大断面図である。リフアレンストラツク１００は図１６に示すように磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びており、リフアレンストラツク１００の中心線１０１上の任意の点１０２を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部１０３Ａと１０３Ｂが一対に形成され、このリフアレンス凹部１０３Ａの隣（リフアレンス凹部１０３Ｂの前方）ならびにリフアレンス凹部１０３Ｂの隣（リフアレンス凹部１０３Ａの後方）には凹部のない平面部１０４Ａと１０４Ｂとがある。これら一組のリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂ、平面部１０４Ａ、１０４Ｂが、磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて間欠的に多数形成されることにより、リフアレンストラツク１００を構成している。
【０００５】前記リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは、図１７に示すように磁性層１０５の表面を金型でプレスして圧縮することにより形成される。
【０００６】リフアレンストラツク１００の全域にわたつて所定の高周波の信号が記録されるが、前記リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは凹んでいるため信号が記録されず、平面部１０４Ａ、１０４Ｂに信号が記録されるようになつている。そしてこのリフアレンストラツク１００の上を磁気ヘツドで走査することによつて得られる信号波形に基づいて、現在の磁気ヘツド位置にフイードバツクをかけリフアレンストラツク１００の中心線１０１上に導くことができる。
【０００７】このようにして磁気ヘツドを磁気デイスク上の基準位置に置いたのち、その基準位置から所定の距離だけ磁気ヘツドを径方向外側、すなわちデータトラツク上に移送するようになつている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来のリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは図１６に示すように、その全長にわたつて連続して凹んでおり、比較的大きな面積を有する凹部となつている。一方、磁性層１０５は磁性粉の他にバインダー、研磨剤、フイラー、潤滑剤などを含有しており、ある程度の弾力性を有している。
【０００９】そのためリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂを金型でプレスして形成したとき、図１７に一点鎖線で示すようにスプリングバツクによりリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの中央部１０６が膨らんだ形になり、完全な凹部とならないことが多い。このような傾向は、リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの磁気ヘツド走行方向Ｘの長さが長くなればなるほど顕著に現れる。
【００１０】そのため、リフアレンストラツク１００に高周波信号を記録するとき、リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの中央部１０６にも信号が記録されてしまい、したがつて磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツク１００の中心線上に適正に導くことが出来ず、信頼性に問題がある。
【００１１】本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツクの中心線上に適正に導くことができる、信頼性の高い磁気記録媒体ならびにその製造方法を提供するにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成され、その平面部が一様に同極に磁化されていることを特徴とするものである。なお、前記リフアレンス凹部領域は中心線上の任意の点を中心にして完全な点対称であつてもよいが、前記リフアレンス部は通常、円弧状に形成されるので完全な点対称から僅かにずれた配置となるので、本発明ではこれらを総称して点対称状と総称している。
【００１３】上記目的を達成するために、さらに本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成された磁気記録媒体の製造方法において、前記リフアレンス凹部領域の凹部を例えばプレスなどによつて形成したのち、そのリフアレンス部を例えば磁気ヘツドあるいは永久磁石などによつて、前記磁性層に使用している磁性粉の保磁力以上の直流磁界で磁化したことを特徴とするものである。
【００１４】
【作用】本発明は前述のように、直流磁界で平面部を一様に同極に磁化することにより、平面部の端縁、すなわち平面部の凹部と隣接するエツジの部分に相当する所で出力波形に急激な変化が現れる。リフアレンス部の凹部をプレスなどで形成して凹部の底面にスプリングバツクによる湾曲状の突出部分が形成され、その突出部分が前記直流磁界によつて磁化されても、湾曲突出部からの出力波形よりも前記平面部の端縁部分の急激な出力波形の変化の方がはるかに大である。そのためリフアレンス部の平面部（凹部）を明確に検出することができ、その結果、磁気ヘツドの中心がリフアレンストラツクの中心線上に適正に導かれ、磁気記録媒体の信頼性を向上することができる。
【００１５】
【実施例】次に本発明の実施例を図とともに説明する。図１は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図３は磁気デイスクの平面図である。
【００１６】図１に示すように磁気デイスクカートリツジは、カートリツジケース１と、その中に回転自在に収納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツジケース１にスライド可能に取り付けられたシヤツタ３と、カートリツジケース１の内面に溶着されたクリーニングシート（図示せず）とから主に構成されている。
【００１７】前記カートリツジケース１は、上ケース１ａと下ケース１ｂとから構成され、これらは例えばＡＢＳ樹脂などの硬質合成樹脂から射出成形されている。下ケース１ｂの略中央部には回転駆動軸挿入用の開口４が形成され、その近くに長方形のヘツド挿入口５が形成されている。図示していないが、上ケース１ａにも同様にヘツド挿入口５が形成されている。上ケース１ａと下ケース１ｂの前面付近には、前記シヤツタ３のスライド範囲を規制するために少し低くなつた凹部６が形成され、この凹部６の中間位置に前記ヘツド挿入口５が開口している。
【００１８】前記磁気デイスク２は図３に示すように、ドーナツ状のフレキシブルな磁気シート７と、その磁気シート７の中央孔に挿入されて接着された金属製あるいは合成樹脂製のセンタハブ８とから構成されている。
【００１９】前記磁気シート７は、ベースフイルム９と、そのベースフイルム９の両面に塗着、形成された磁性層１０ａ、１０ｂとから構成されている。前記ベースフイルム９は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）あるいはポリイミドなどの合成樹脂フイルムから構成されている。
【００２０】前記磁性層１０ａ、１０ｂは、強磁性粉、バインダ、研磨粉ならびに潤滑剤などの混合物から構成されている。
【００２１】前記強磁性粉としては、例えばα−Ｆｅ、バリウムフエライト、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉなどが使用される。
【００２２】前記バインダとしては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネート化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。
【００２３】前記研磨粉としては、例えば酸化アルミニウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用いられる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約０．１〜２５重量％が適当である。
【００２４】前記潤滑剤としては、例えばステアリン酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸エステル、流動パラフイン、スクアラン、フツ素樹脂、フツ素オイルなどが使用可能である。この潤滑剤の添加率は、磁性粉に対して約０．１〜２５重量％が適当である。
【００２５】磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通りである。
磁性塗料組成例 １α−Ｆｅ １００重量部（Ｈｃ：１６５００〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：１３５〔ｅｍｕ／ｇ〕， 平均長軸径：０．２５〔μｍ〕，平均軸比：８）
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １４．１重量部ウレタン樹脂 ８．５重量部三官能性イソシアネート化合物 ５．６重量部酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） ２０重量部カーボンブラツク ２重量部オレイン酸オレイル ７重量部シクロヘキサノン １５０重量部トルエン １５０重量部
【００２６】
磁性塗料組成例 ２バリウムフエライト １００重量部（Ｈｃ：５３０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：５７〔ｅｍｕ／ｇ〕， 平均粒径：０．０４〔μｍ〕）
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １１．０重量部ウレタン樹脂 ６．６重量部三官能性イソシアネート化合物 ４．４重量部酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） １５重量部カーボンブラツク ２重量部オレイン酸オレイル ７重量部シクロヘキサノン １５０重量部トルエン １５０重量部
【００２７】前述の磁性塗料組成例１または磁性塗料組成例２の組成物をボールミル中でよく混合分散して磁性塗料を調整し、これを６２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のベースフイルムの両面に、乾燥厚みが０．７μｍとなるように塗布し、乾燥したのち、カレンダ処理を施して磁性層１０ａ、１０ｂをそれぞれ形成する。
【００２８】このようにして構成された磁気デイスク２の磁性層１０ａの表面に、図３に示すようにリフアレンストラツク１１と、多数の磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２が形成される。これらリフアレンストラツク１１ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２は、磁気デイスク２の回転中心１３を中心にして同心円状に設けられている。１つの磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２と隣の磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２との間に、所望の情報が記録できるデータトラツク１４が形成される。
【００２９】図３に示すように磁気デイスク２上に設けられる記録帯域１５の最内周部に前記リフアレンストラツク１１が形成され、それより径方向外側、すなわち磁気ヘツドの走行方向と直交する方向外側に磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２とデータトラツク１４が交互に多数形成される。
【００３０】前記リフアレンストラツク１１は図４に示すように、磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びており、リフアレンストラツク１１の中心線１６上の任意の点１７を中心として点対称状に長方形のリフアレンス凹部領域１８Ａとリフアレンス凹部領域１８Ｂが一対になつて形成されている。このリフアレンス凹部領域１８Ａの隣（リフアレンス凹部領域１８Ｂの前方）ならびにリフアレンス凹部領域１８Ｂの隣（リフアレンス凹部領域１８Ａの後方）には凹部のない平面部１９Ａと平面部１９Ｂとがある。これら一組のリフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂ、平面部１９Ａ、１９Ｂが、磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて間欠的または連続的に多数形成されることにより、リフアレンストラツク１１を構成している。
【００３１】図４に示すようにリフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂには、磁気ヘツド走行方向Ｘと直交する方向に延びた小凹部２０と凹んでいない小フラツト部２１とが交互に多数形成されている。同図において３８は、リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂ、平面部１９Ａ、１９Ｂの前方に設けられたリフアレンス信号検知用のスタート信号を出力するためのスタート信号凹部である。
【００３２】図５（ａ）は、前記小凹部２０ならびに小フラツト部２１の拡大断面図である。また図５（ｂ）は、前記リフアレンス凹部領域１８Ａ（１８Ｂ）の直流消去後の一部の再生出力波形を示す図である。この図に示すように小フラツト部２１の小凹部２０と隣接するエツジ部において極端な波形変化が認められる。
【００３３】図４においてＩの位置、ＩＩの位置ならびにＩＩＩの位置で、リフアレンス凹部領域１８Ａの縦幅Ｌ２より僅かに短いトラツク長を有する磁気ヘツドを矢印方向に走査させたときの再生出力波形を、リフアレンストラツク１１を併記して図６に示す。なお、この図の出力波形は微分波形を積分化したエンベロープ波形である。
【００３４】同図の（Ｉ）は図４においてＩの位置で平面部１９Ｂからリフアレンス凹部領域１８Ａにかけて磁気ヘツドで走査させたときの出力波形で、断続波形が現れたとき、磁気ヘツドが平面部１９Ｂとリフアレンス凹部領域１８Ａの境界を通過したことを示している。
【００３５】また同図の（ＩＩ）は図４においてＩＩの位置、すなわちリフアレンストラツク１１の中心線１６上を走査させたときの出力波形で、波形の形状が連続した歯形の形状である。
【００３６】さらに同図の（ＩＩＩ）は図４においてＩＩＩの位置でリフアレンス凹部領域１８から平面部１９にかけて磁気ヘツドを走査させたときの出力波形で、断続波形が消えたとき、磁気ヘツドがリフアレンス凹部領域１８Ｂと平面部１９Ａの境界を通過したことを示している。
【００３７】このようにリフアレンストラツク１１上での磁気ヘツドの位置が変わると得られる波形の形状が全く異なり、同図の（ＩＩ）のような出力波形が得られるように磁気ヘツドの位置を調整することにより、磁気ヘツド（磁気ギヤツプ）の中心位置をリフアレンストラツク１１の中心線１６上に導くことができる。
【００３８】この実施例において前記リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂの磁気ヘツド走行方向の長さＬ１は２．４ｍｍ、幅方向の長さＬ２は１８μｍ、小凹部２０の磁気ヘツド走行方向の長さＬ３は５μｍ、小フラツト部２１の磁気ヘツド走行方向の長さＬ４は５μｍ（ともに図４参照）、凹部２０の深さＬ５〔図５（ａ）参照〕は０．３〜０．４μｍである。なおこれら各部の長さならびに深さは、磁性層１０の組成、物性ならびに厚さなどによつて適宜設定される。
【００３９】リフアレンストラツク１１の全域（リフアレンス凹部領域１８Ａと平面部Ａの合計幅）にわたつて、磁気ヘツドにより直流消去がなされる。前述の磁性塗料組成例２で示したように磁性材料としてバリウムフエライトを使用すると、それの保磁力（Ｈｃ）は５３０〔Ｏｅ〕であるから、本実施例では１０００〔Ｏｅ〕から３０００〔Ｏｅ〕の直流磁界によつてリフアレンスラツク１１の全域を消去した。この消去により、前記平面部１９Ａ、１９Ｂが一様に同極に磁化される。なお、本発明で使用される直流磁界は、磁性層の保磁力（Ｈｃ）の２倍以上、好ましくは４〜１０倍以上の磁力を印加すればよい。
【００４０】前記磁気ヘツド３０ａは図７に示すように、例えばＭｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅ合金、Ｎｉ−Ｚｎフエライトあるいはアモルフアス合金などの磁性材料からなる磁気コア３３と、その磁気コア３３を保持する例えばチタン酸バリウムなどの非磁性材料からなるスライダ３４とから構成されている。このスライダ３４の磁気デイスク２と対向する下面には空気抜き用の溝３５が形成され、その溝３５のほぼ中央部には開口部が設けられている。
【００４１】磁気ヘツド３０ａによつてリフアレンストラツク１１の全域を直流消去したのち、磁気ヘツドで再生したときの出力波形を前述のように図５（ｂ）に示す。この図に示すように、小フラツト部２１の端縁、すなわち小フラツト部２１の小凹部２０と隣接するエツジ付近において出力波形に急激な変化が認められ、小凹部２０の検出が確実である。
【００４２】このように磁気ヘツドの中心位置をリフアレンストラツク１１の中心線１６上、すなわち基準位置に合わせると同時に、磁気ヘツドに固定されている発光素子３１と受光素子群３２とからなる光デイテクタ３６で磁気デイスク２上に形成されている磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２間の光デイテクタ３６の位置を検出する。そしてこのトラツク１２に対する光デイテクタ３６の位置的なずれ量を演算し、そのずれ量に基づいて磁気ヘツドのトラツキングサーボを行う。
【００４３】すなわち、磁気ヘツドキヤリツジを移送するモータ（図示せず）を回転して、磁気ヘツド（磁気ギヤツプ）の中心位置を第１データトラツクの中心線２４近くまで移動させる。そして磁気ヘツドのトラツキングサーボは、前記磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２を利用して行われる。
【００４４】この磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２にも、図８に示すようにトラツキング用凹部２３が、磁気ヘツド走行方向Ｘに沿つて間欠的にまたは連続的に形成されている。この実施例の場合、磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２（トラツキング用凹部２３）の幅Ｌ６は５μｍ、データトラツク１４の幅Ｌ７は１５μｍである。
【００４５】次にトラツキングサーボについて図９ないし図１２を用いて説明する。前記磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２の各トラツキング用凹部２３は、図９に示すように同時にプレス加工によつて形成される。同図に示すようにセンタハブ８を取り付けた磁気デイスク２が、基台２５にセツトされる。この基台２５にはセンタハブ８の中央孔２６（図３参照）に挿入されるセンターピン２７が突設されており、センタハブ８の中央孔２６にこのセンターピン２７を通して磁気デイスク２を基台２５上に載置することにより、基台２５上で磁気デイスク２が位置決めされる。
【００４６】この基台２５の上方には、それと平行にスタンパ２８が上下動可能に配置されている。そしてこのスタンパ２８は、センターピン２７によつて上下動がガイドされるようになつている。このスタンパ２８には、前記リフアレンス用凹部２０ならびにトラツキング用凹部２３を形成するための微細な突部２９が形成されている。
【００４７】図９の状態からスタンパ２８を下げて、磁気デイスク２の磁気シート７を基台２５とスタンパ２８との間において所定の圧力で挟持する。これによつてスタンパ２８に形成されている突部２９が磁性層１０の表面に食い込み、圧縮により断面形状が略台形のリフアレンス用凹部２０ならびにトラツキング用凹部２３が一度に形成される。
【００４８】図１０ないし図１２は、磁気デイスク２のトラツキングサーボを説明するための図である。これらの図に示すように磁気デイスク２は磁気ヘツド３０ａ、３０ｂの間で挟持され、その磁気ヘツド３０ａの方には、トラツキングサーボ用の光線を出力する例えばＬＥＤなどからなる発光素子３１と、磁性層１０ａからの反射光を受光する受光素子群３２とが一体に取り付けられている。
【００４９】図１０に示すように磁気ヘツド３０ａの発光素子３１ならびに受光素子群３２からなる光デテクタ３６が取り付けられている部分には、磁気デイスク２側に向けて開口部が形成されている（なお、この図において光デテクタ３６は便宜上、図６の光デテクタ３６よりも大きく描かれている）。
【００５０】受光素子群３２は図１１に示すように４つの受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄから構成されており、データトラツク１４ならびにトラツキング用凹部２３上で反射する光をこの受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄで受光して、各受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄの出力は図１２に示すようにサーボ信号演算部３３に入力される。そしてこのサーボ信号演算部３３で求められた位置修正信号がヘツド駆動制御部３４に入力され、それからの制御信号に基づいて磁気ヘツド３０のトラツキング制御が成される。
【００５１】図１３は、リフアレンストラツク１１の変形例を示す図である。この例の場合リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂには、従来と同様にそれの全領域にわたつて凹部２０ａがプレスによつて形成されている。この凹部２０ａの断面形状を図１４の（ａ）に示す。凹部２０ａがプレスによつて形成されるためスプリングバツクにより、同図に示すように凹部２０のほぼ中央には湾曲状に突出した突出部３７が形成される。
【００５２】その突出部３７が直流磁界によつて磁化されても、曲面がなだらかであるため出力波形の変化が緩やかであり、その湾曲突出部３７からの出力波形よりも平面部１９のエツジ部の急激な出力波形の変化の方がはるかに大で、明確に区別することができ、平面部１９（凹部２０ａ）を明確に検出することが可能である。
【００５３】図１５はリフアレンストラツク１１のさらに変形例を示す図で、この例の場合、小凹部２０ａと比較的小さい平面部１９とが磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて交互に多数形成されている。この図１５のように上側小凹部２０ａの下端と下側小凹部２０ａの上端とが隣接した形状に限らず、上側小凹部２０ａの下端と下側小凹部２０ａの上端とが所定の間隔で離間したものであつてもよい。
【００５４】前記実施例では記録帯域の最内周部にリフアレンストラツクを設けたが、記録帯域の最外周部にリフアレンストラツクを設けることもできる。
【００５５】前記実施例では凹部をプレスによつて圧縮形成したが、磁性層にレーザ光を照射させたり、あるいは打抜きによつて凹部を形成することもできる。
【００５６】また、前記実施例では磁気デイスクの場合について説明したが、本発明は例えば磁気カードなど他の形態の磁気記録媒体にも適用できる。
【００５７】
【発明の効果】本発明は前述のように、直流磁界で平面部を一様に同極に磁化することにより、平面部の端縁、すなわち平面部の凹部と隣接するエツジの部分に相当する所で出力波形に急激な変化が現れる。これを利用して磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツクの中心線上に適正に導くことができ、その結果、磁気記録媒体の信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を分解した斜視図である。
【図２】磁気シートの拡大断面図である。
【図３】磁気デイスクの平面図である。
【図４】リフアレンストラツクの一部拡大平面図である。
【図５】リフアレンストラツクの一部拡大断面図ならびに再生出力波形図である。
【図６】リフアレンストラツクの再生出力波形図である。
【図７】磁気ヘツドの底面図である。
【図８】リフアレンストラツクならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクを説明するための図である。
【図９】リフアレンストラツクならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクを形成する装置の断面図である。
【図１０】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明するための断面図である。
【図１１】受光素子の配置状態を示す説明図である。
【図１２】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明するためのブロツク図である。
【図１３】リフアレンストラツクの変形例を示す拡大平面図である。
【図１４】リフアレンストラツクの一部拡大断面図ならびに再生出力波形図である。
【図１５】リフアレンストラツクのさらに変形例を示す拡大平面図である。
【図１６】従来のリフアレンストラツクの一部拡大平面図である。
【図１７】従来のリフアレンストラツクの一部拡大断面図である。
【符号の説明】
２ 磁気デイスク
７ 磁気シート
９ ベースフイルム
１０ａ．１０ｂ 磁性層
１１ リフアレンストラツク
１２ 磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
１４ データトラツク
１５ 記録帯域
１６ 中心線
１７ 点
１８Ａ、１８Ｂ リフアレンス凹部領域
１９、１９Ａ、１９Ｂ 平面部
２０ 凹部
２０ａ 小凹部
２１ 小フラツト部
２３ トラツキング用凹部
Ｘ 磁気ヘツドの走行方向
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばフレキシブル磁気デイスクなどの磁気記録媒体に係り、特に光学的にトラツキングができる磁気記録媒体ならびにその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フレキシブル磁気デイスクにおいて、それのドーナツ状記録帯域の最内周にリフアレンストラツクを形成し、そのリフアレンストラツクから半径方向外側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラツクと同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部をリング状に多数形成し、各リング状磁気ヘツドトラツキング用光学凹部の間をデータトラツクとしたものが知られている（例えば特公平２−３１３８７号公報参照）。
【０００３】この磁気デイスクの前記リフアレンストラツクには、所定の信号が予め記録されている。そしてこの磁気デイスクに所望の情報を記録したり、記録した情報を再生するときには、まず記録帯域の最内周にあるリフアレンストラツクの信号を磁気ヘツドで読み取つて、磁気デイスク上における磁気ヘツドの基準位置を求める。そして磁気ヘツドを所定のピツチ径方向外側に移送し、今度は発光素子と受光素子とを対にした光学的手段により前記磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を走査してデータトラツクのトラツキングサーボを行いながら、情報の記録あるいは再生を行うシステムになつている。
【０００４】図１６ならびに図１７は、従来のリフアレンストラツクの一部拡大平面図ならびに一部拡大断面図である。リフアレンストラツク１００は図１６に示すように磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びており、リフアレンストラツク１００の中心線１０１上の任意の点１０２を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部１０３Ａと１０３Ｂが一対に形成され、このリフアレンス凹部１０３Ａの隣（リフアレンス凹部１０３Ｂの前方）ならびにリフアレンス凹部１０３Ｂの隣（リフアレンス凹部１０３Ａの後方）には凹部のない平面部１０４Ａと１０４Ｂとがある。これら一組のリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂ、平面部１０４Ａ、１０４Ｂが、磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて間欠的に多数形成されることにより、リフアレンストラツク１００を構成している。
【０００５】前記リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは、図１７に示すように磁性層１０５の表面を金型でプレスして圧縮することにより形成される。
【０００６】リフアレンストラツク１００の全域にわたつて所定の高周波の信号が記録されるが、前記リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは凹んでいるため信号が記録されず、平面部１０４Ａ、１０４Ｂに信号が記録されるようになつている。そしてこのリフアレンストラツク１００の上を磁気ヘツドで走査することによつて得られる信号波形に基づいて、現在の磁気ヘツド位置にフイードバツクをかけリフアレンストラツク１００の中心線１０１上に導くことができる。
【０００７】このようにして磁気ヘツドを磁気デイスク上の基準位置に置いたのち、その基準位置から所定の距離だけ磁気ヘツドを径方向外側、すなわちデータトラツク上に移送するようになつている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来のリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂは図１６に示すように、その全長にわたつて連続して凹んでおり、比較的大きな面積を有する凹部となつている。一方、磁性層１０５は磁性粉の他にバインダー、研磨剤、フイラー、潤滑剤などを含有しており、ある程度の弾力性を有している。
【０００９】そのためリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂを金型でプレスして形成したとき、図１７に一点鎖線で示すようにスプリングバツクによりリフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの中央部１０６が膨らんだ形になり、完全な凹部とならないことが多い。このような傾向は、リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの磁気ヘツド走行方向Ｘの長さが長くなればなるほど顕著に現れる。
【００１０】そのため、リフアレンストラツク１００に高周波信号を記録するとき、リフアレンス凹部１０３Ａ、１０３Ｂの中央部１０６にも信号が記録されてしまい、したがつて磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツク１００の中心線上に適正に導くことが出来ず、信頼性に問題がある。
【００１１】本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツクの中心線上に適正に導くことができる、信頼性の高い磁気記録媒体ならびにその製造方法を提供するにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成され、その平面部が一様に同極に磁化されていることを特徴とするものである。なお、前記リフアレンス凹部領域は中心線上の任意の点を中心にして完全な点対称であつてもよいが、前記リフアレンス部は通常、円弧状に形成されるので完全な点対称から僅かにずれた配置となるので、本発明ではこれらを総称して点対称状と総称している。
【００１３】上記目的を達成するために、さらに本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成された磁気記録媒体の製造方法において、前記リフアレンス凹部領域の凹部を例えばプレスなどによつて形成したのち、そのリフアレンス部を例えば磁気ヘツドあるいは永久磁石などによつて、前記磁性層に使用している磁性粉の保磁力以上の直流磁界で磁化したことを特徴とするものである。
【００１４】
【作用】本発明は前述のように、直流磁界で平面部を一様に同極に磁化することにより、平面部の端縁、すなわち平面部の凹部と隣接するエツジの部分に相当する所で出力波形に急激な変化が現れる。リフアレンス部の凹部をプレスなどで形成して凹部の底面にスプリングバツクによる湾曲状の突出部分が形成され、その突出部分が前記直流磁界によつて磁化されても、湾曲突出部からの出力波形よりも前記平面部の端縁部分の急激な出力波形の変化の方がはるかに大である。そのためリフアレンス部の平面部（凹部）を明確に検出することができ、その結果、磁気ヘツドの中心がリフアレンストラツクの中心線上に適正に導かれ、磁気記録媒体の信頼性を向上することができる。
【００１５】
【実施例】次に本発明の実施例を図とともに説明する。図１は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図３は磁気デイスクの平面図である。
【００１６】図１に示すように磁気デイスクカートリツジは、カートリツジケース１と、その中に回転自在に収納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツジケース１にスライド可能に取り付けられたシヤツタ３と、カートリツジケース１の内面に溶着されたクリーニングシート（図示せず）とから主に構成されている。
【００１７】前記カートリツジケース１は、上ケース１ａと下ケース１ｂとから構成され、これらは例えばＡＢＳ樹脂などの硬質合成樹脂から射出成形されている。下ケース１ｂの略中央部には回転駆動軸挿入用の開口４が形成され、その近くに長方形のヘツド挿入口５が形成されている。図示していないが、上ケース１ａにも同様にヘツド挿入口５が形成されている。上ケース１ａと下ケース１ｂの前面付近には、前記シヤツタ３のスライド範囲を規制するために少し低くなつた凹部６が形成され、この凹部６の中間位置に前記ヘツド挿入口５が開口している。
【００１８】前記磁気デイスク２は図３に示すように、ドーナツ状のフレキシブルな磁気シート７と、その磁気シート７の中央孔に挿入されて接着された金属製あるいは合成樹脂製のセンタハブ８とから構成されている。
【００１９】前記磁気シート７は、ベースフイルム９と、そのベースフイルム９の両面に塗着、形成された磁性層１０ａ、１０ｂとから構成されている。前記ベースフイルム９は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）あるいはポリイミドなどの合成樹脂フイルムから構成されている。
【００２０】前記磁性層１０ａ、１０ｂは、強磁性粉、バインダ、研磨粉ならびに潤滑剤などの混合物から構成されている。
【００２１】前記強磁性粉としては、例えばα−Ｆｅ、バリウムフエライト、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉなどが使用される。
【００２２】前記バインダとしては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネート化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。
【００２３】前記研磨粉としては、例えば酸化アルミニウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用いられる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約０．１〜２５重量％が適当である。
【００２４】前記潤滑剤としては、例えばステアリン酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸エステル、流動パラフイン、スクアラン、フツ素樹脂、フツ素オイルなどが使用可能である。この潤滑剤の添加率は、磁性粉に対して約０．１〜２５重量％が適当である。
【００２５】磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通りである。
磁性塗料組成例 １α−Ｆｅ １００重量部（Ｈｃ：１６５００〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：１３５〔ｅｍｕ／ｇ〕， 平均長軸径：０．２５〔μｍ〕，平均軸比：８）
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １４．１重量部ウレタン樹脂 ８．５重量部三官能性イソシアネート化合物 ５．６重量部酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） ２０重量部カーボンブラツク ２重量部オレイン酸オレイル ７重量部シクロヘキサノン １５０重量部トルエン １５０重量部
【００２６】
磁性塗料組成例 ２バリウムフエライト １００重量部（Ｈｃ：５３０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：５７〔ｅｍｕ／ｇ〕， 平均粒径：０．０４〔μｍ〕）
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １１．０重量部ウレタン樹脂 ６．６重量部三官能性イソシアネート化合物 ４．４重量部酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕） １５重量部カーボンブラツク ２重量部オレイン酸オレイル ７重量部シクロヘキサノン １５０重量部トルエン １５０重量部
【００２７】前述の磁性塗料組成例１または磁性塗料組成例２の組成物をボールミル中でよく混合分散して磁性塗料を調整し、これを６２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のベースフイルムの両面に、乾燥厚みが０．７μｍとなるように塗布し、乾燥したのち、カレンダ処理を施して磁性層１０ａ、１０ｂをそれぞれ形成する。
【００２８】このようにして構成された磁気デイスク２の磁性層１０ａの表面に、図３に示すようにリフアレンストラツク１１と、多数の磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２が形成される。これらリフアレンストラツク１１ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２は、磁気デイスク２の回転中心１３を中心にして同心円状に設けられている。１つの磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２と隣の磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２との間に、所望の情報が記録できるデータトラツク１４が形成される。
【００２９】図３に示すように磁気デイスク２上に設けられる記録帯域１５の最内周部に前記リフアレンストラツク１１が形成され、それより径方向外側、すなわち磁気ヘツドの走行方向と直交する方向外側に磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２とデータトラツク１４が交互に多数形成される。
【００３０】前記リフアレンストラツク１１は図４に示すように、磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びており、リフアレンストラツク１１の中心線１６上の任意の点１７を中心として点対称状に長方形のリフアレンス凹部領域１８Ａとリフアレンス凹部領域１８Ｂが一対になつて形成されている。このリフアレンス凹部領域１８Ａの隣（リフアレンス凹部領域１８Ｂの前方）ならびにリフアレンス凹部領域１８Ｂの隣（リフアレンス凹部領域１８Ａの後方）には凹部のない平面部１９Ａと平面部１９Ｂとがある。これら一組のリフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂ、平面部１９Ａ、１９Ｂが、磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて間欠的または連続的に多数形成されることにより、リフアレンストラツク１１を構成している。
【００３１】図４に示すようにリフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂには、磁気ヘツド走行方向Ｘと直交する方向に延びた小凹部２０と凹んでいない小フラツト部２１とが交互に多数形成されている。同図において３８は、リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂ、平面部１９Ａ、１９Ｂの前方に設けられたリフアレンス信号検知用のスタート信号を出力するためのスタート信号凹部である。
【００３２】図５（ａ）は、前記小凹部２０ならびに小フラツト部２１の拡大断面図である。また図５（ｂ）は、前記リフアレンス凹部領域１８Ａ（１８Ｂ）の直流消去後の一部の再生出力波形を示す図である。この図に示すように小フラツト部２１の小凹部２０と隣接するエツジ部において極端な波形変化が認められる。
【００３３】図４においてＩの位置、ＩＩの位置ならびにＩＩＩの位置で、リフアレンス凹部領域１８Ａの縦幅Ｌ２より僅かに短いトラツク長を有する磁気ヘツドを矢印方向に走査させたときの再生出力波形を、リフアレンストラツク１１を併記して図６に示す。なお、この図の出力波形は微分波形を積分化したエンベロープ波形である。
【００３４】同図の（Ｉ）は図４においてＩの位置で平面部１９Ｂからリフアレンス凹部領域１８Ａにかけて磁気ヘツドで走査させたときの出力波形で、断続波形が現れたとき、磁気ヘツドが平面部１９Ｂとリフアレンス凹部領域１８Ａの境界を通過したことを示している。
【００３５】また同図の（ＩＩ）は図４においてＩＩの位置、すなわちリフアレンストラツク１１の中心線１６上を走査させたときの出力波形で、波形の形状が連続した歯形の形状である。
【００３６】さらに同図の（ＩＩＩ）は図４においてＩＩＩの位置でリフアレンス凹部領域１８から平面部１９にかけて磁気ヘツドを走査させたときの出力波形で、断続波形が消えたとき、磁気ヘツドがリフアレンス凹部領域１８Ｂと平面部１９Ａの境界を通過したことを示している。
【００３７】このようにリフアレンストラツク１１上での磁気ヘツドの位置が変わると得られる波形の形状が全く異なり、同図の（ＩＩ）のような出力波形が得られるように磁気ヘツドの位置を調整することにより、磁気ヘツド（磁気ギヤツプ）の中心位置をリフアレンストラツク１１の中心線１６上に導くことができる。
【００３８】この実施例において前記リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂの磁気ヘツド走行方向の長さＬ１は２．４ｍｍ、幅方向の長さＬ２は１８μｍ、小凹部２０の磁気ヘツド走行方向の長さＬ３は５μｍ、小フラツト部２１の磁気ヘツド走行方向の長さＬ４は５μｍ（ともに図４参照）、凹部２０の深さＬ５〔図５（ａ）参照〕は０．３〜０．４μｍである。なおこれら各部の長さならびに深さは、磁性層１０の組成、物性ならびに厚さなどによつて適宜設定される。
【００３９】リフアレンストラツク１１の全域（リフアレンス凹部領域１８Ａと平面部Ａの合計幅）にわたつて、磁気ヘツドにより直流消去がなされる。前述の磁性塗料組成例２で示したように磁性材料としてバリウムフエライトを使用すると、それの保磁力（Ｈｃ）は５３０〔Ｏｅ〕であるから、本実施例では１０００〔Ｏｅ〕から３０００〔Ｏｅ〕の直流磁界によつてリフアレンスラツク１１の全域を消去した。この消去により、前記平面部１９Ａ、１９Ｂが一様に同極に磁化される。なお、本発明で使用される直流磁界は、磁性層の保磁力（Ｈｃ）の２倍以上、好ましくは４〜１０倍以上の磁力を印加すればよい。
【００４０】前記磁気ヘツド３０ａは図７に示すように、例えばＭｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅ合金、Ｎｉ−Ｚｎフエライトあるいはアモルフアス合金などの磁性材料からなる磁気コア３３と、その磁気コア３３を保持する例えばチタン酸バリウムなどの非磁性材料からなるスライダ３４とから構成されている。このスライダ３４の磁気デイスク２と対向する下面には空気抜き用の溝３５が形成され、その溝３５のほぼ中央部には開口部が設けられている。
【００４１】磁気ヘツド３０ａによつてリフアレンストラツク１１の全域を直流消去したのち、磁気ヘツドで再生したときの出力波形を前述のように図５（ｂ）に示す。この図に示すように、小フラツト部２１の端縁、すなわち小フラツト部２１の小凹部２０と隣接するエツジ付近において出力波形に急激な変化が認められ、小凹部２０の検出が確実である。
【００４２】このように磁気ヘツドの中心位置をリフアレンストラツク１１の中心線１６上、すなわち基準位置に合わせると同時に、磁気ヘツドに固定されている発光素子３１と受光素子群３２とからなる光デイテクタ３６で磁気デイスク２上に形成されている磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２間の光デイテクタ３６の位置を検出する。そしてこのトラツク１２に対する光デイテクタ３６の位置的なずれ量を演算し、そのずれ量に基づいて磁気ヘツドのトラツキングサーボを行う。
【００４３】すなわち、磁気ヘツドキヤリツジを移送するモータ（図示せず）を回転して、磁気ヘツド（磁気ギヤツプ）の中心位置を第１データトラツクの中心線２４近くまで移動させる。そして磁気ヘツドのトラツキングサーボは、前記磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２を利用して行われる。
【００４４】この磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２にも、図８に示すようにトラツキング用凹部２３が、磁気ヘツド走行方向Ｘに沿つて間欠的にまたは連続的に形成されている。この実施例の場合、磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２（トラツキング用凹部２３）の幅Ｌ６は５μｍ、データトラツク１４の幅Ｌ７は１５μｍである。
【００４５】次にトラツキングサーボについて図９ないし図１２を用いて説明する。前記磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２の各トラツキング用凹部２３は、図９に示すように同時にプレス加工によつて形成される。同図に示すようにセンタハブ８を取り付けた磁気デイスク２が、基台２５にセツトされる。この基台２５にはセンタハブ８の中央孔２６（図３参照）に挿入されるセンターピン２７が突設されており、センタハブ８の中央孔２６にこのセンターピン２７を通して磁気デイスク２を基台２５上に載置することにより、基台２５上で磁気デイスク２が位置決めされる。
【００４６】この基台２５の上方には、それと平行にスタンパ２８が上下動可能に配置されている。そしてこのスタンパ２８は、センターピン２７によつて上下動がガイドされるようになつている。このスタンパ２８には、前記リフアレンス用凹部２０ならびにトラツキング用凹部２３を形成するための微細な突部２９が形成されている。
【００４７】図９の状態からスタンパ２８を下げて、磁気デイスク２の磁気シート７を基台２５とスタンパ２８との間において所定の圧力で挟持する。これによつてスタンパ２８に形成されている突部２９が磁性層１０の表面に食い込み、圧縮により断面形状が略台形のリフアレンス用凹部２０ならびにトラツキング用凹部２３が一度に形成される。
【００４８】図１０ないし図１２は、磁気デイスク２のトラツキングサーボを説明するための図である。これらの図に示すように磁気デイスク２は磁気ヘツド３０ａ、３０ｂの間で挟持され、その磁気ヘツド３０ａの方には、トラツキングサーボ用の光線を出力する例えばＬＥＤなどからなる発光素子３１と、磁性層１０ａからの反射光を受光する受光素子群３２とが一体に取り付けられている。
【００４９】図１０に示すように磁気ヘツド３０ａの発光素子３１ならびに受光素子群３２からなる光デテクタ３６が取り付けられている部分には、磁気デイスク２側に向けて開口部が形成されている（なお、この図において光デテクタ３６は便宜上、図６の光デテクタ３６よりも大きく描かれている）。
【００５０】受光素子群３２は図１１に示すように４つの受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄから構成されており、データトラツク１４ならびにトラツキング用凹部２３上で反射する光をこの受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄで受光して、各受光素子３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄの出力は図１２に示すようにサーボ信号演算部３３に入力される。そしてこのサーボ信号演算部３３で求められた位置修正信号がヘツド駆動制御部３４に入力され、それからの制御信号に基づいて磁気ヘツド３０のトラツキング制御が成される。
【００５１】図１３は、リフアレンストラツク１１の変形例を示す図である。この例の場合リフアレンス凹部領域１８Ａ、１８Ｂには、従来と同様にそれの全領域にわたつて凹部２０ａがプレスによつて形成されている。この凹部２０ａの断面形状を図１４の（ａ）に示す。凹部２０ａがプレスによつて形成されるためスプリングバツクにより、同図に示すように凹部２０のほぼ中央には湾曲状に突出した突出部３７が形成される。
【００５２】その突出部３７が直流磁界によつて磁化されても、曲面がなだらかであるため出力波形の変化が緩やかであり、その湾曲突出部３７からの出力波形よりも平面部１９のエツジ部の急激な出力波形の変化の方がはるかに大で、明確に区別することができ、平面部１９（凹部２０ａ）を明確に検出することが可能である。
【００５３】図１５はリフアレンストラツク１１のさらに変形例を示す図で、この例の場合、小凹部２０ａと比較的小さい平面部１９とが磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて交互に多数形成されている。この図１５のように上側小凹部２０ａの下端と下側小凹部２０ａの上端とが隣接した形状に限らず、上側小凹部２０ａの下端と下側小凹部２０ａの上端とが所定の間隔で離間したものであつてもよい。
【００５４】前記実施例では記録帯域の最内周部にリフアレンストラツクを設けたが、記録帯域の最外周部にリフアレンストラツクを設けることもできる。
【００５５】前記実施例では凹部をプレスによつて圧縮形成したが、磁性層にレーザ光を照射させたり、あるいは打抜きによつて凹部を形成することもできる。
【００５６】また、前記実施例では磁気デイスクの場合について説明したが、本発明は例えば磁気カードなど他の形態の磁気記録媒体にも適用できる。
【００５７】
【発明の効果】本発明は前述のように、直流磁界で平面部を一様に同極に磁化することにより、平面部の端縁、すなわち平面部の凹部と隣接するエツジの部分に相当する所で出力波形に急激な変化が現れる。これを利用して磁気ヘツドの中心をリフアレンストラツクの中心線上に適正に導くことができ、その結果、磁気記録媒体の信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を分解した斜視図である。
【図２】磁気シートの拡大断面図である。
【図３】磁気デイスクの平面図である。
【図４】リフアレンストラツクの一部拡大平面図である。
【図５】リフアレンストラツクの一部拡大断面図ならびに再生出力波形図である。
【図６】リフアレンストラツクの再生出力波形図である。
【図７】磁気ヘツドの底面図である。
【図８】リフアレンストラツクならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクを説明するための図である。
【図９】リフアレンストラツクならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクを形成する装置の断面図である。
【図１０】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明するための断面図である。
【図１１】受光素子の配置状態を示す説明図である。
【図１２】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明するためのブロツク図である。
【図１３】リフアレンストラツクの変形例を示す拡大平面図である。
【図１４】リフアレンストラツクの一部拡大断面図ならびに再生出力波形図である。
【図１５】リフアレンストラツクのさらに変形例を示す拡大平面図である。
【図１６】従来のリフアレンストラツクの一部拡大平面図である。
【図１７】従来のリフアレンストラツクの一部拡大断面図である。
【符号の説明】
２ 磁気デイスク
７ 磁気シート
９ ベースフイルム
１０ａ．１０ｂ 磁性層
１１ リフアレンストラツク
１２ 磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
１４ データトラツク
１５ 記録帯域
１６ 中心線
１７ 点
１８Ａ、１８Ｂ リフアレンス凹部領域
１９、１９Ａ、１９Ｂ 平面部
２０ 凹部
２０ａ 小凹部
２１ 小フラツト部
２３ トラツキング用凹部
Ｘ 磁気ヘツドの走行方向
【特許請求の範囲】
【請求項１】 非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成され、その平面部が一様に同極に磁化されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】 非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成された磁気記録媒体の製造方法において、前記リフアレンス凹部領域の凹部を形成したのち、そのリフアレンス部を一様に直流磁界で磁化したことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】 請求項２記載において、前記リフアレンス部の平面部を磁気ヘツドによつて発生する直流磁界で磁化したことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１】 非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称状に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成され、その平面部が一様に同極に磁化されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】 非磁性体からなる基体と、その基体の上に形成された磁性層を有し、その磁性層の所定位置にリフアレンス部が設けられ、そのリフアレンス部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、その第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部から磁気ヘツド走行方向と直交する方向に所定間隔離れた位置に第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部が設けられ、前記第１の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部と第２の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部との間に、所望の信号を記録する第１のデータトラツクが形成され、前記リフアレンス部は、それの中心線上の任意の点を中心にして点対称に一対のリフアレンス凹部領域が設けられ、そのリフアレンス凹部領域の隣に凹部のない平面部が形成された磁気記録媒体の製造方法において、前記リフアレンス凹部領域の凹部を形成したのち、そのリフアレンス部を一様に直流磁界で磁化したことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】 請求項２記載において、前記リフアレンス部の平面部を磁気ヘツドによつて発生する直流磁界で磁化したことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図１５】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図１５】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開平５−３６０５５
【公開日】平成５年（１９９３）２月１２日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平３−２０８８１９
【出願日】平成３年（１９９１）７月２６日
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【公開日】平成５年（１９９３）２月１２日
【国際特許分類】
【出願日】平成３年（１９９１）７月２６日
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
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