磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置
【課題】磁気記録媒体の表面に存在する異物を効率的に除去することができ、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体を歩留まり良く製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体、並びにこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープ２を用いて磁気記録媒体の表面を洗浄する表面処理工程が備えられた製造方法であり、前記表面処理工程は、ワイプテープ２を、少なくとも導電性材料を含有するパッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄する方法である。
【解決手段】ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープ２を用いて磁気記録媒体の表面を洗浄する表面処理工程が備えられた製造方法であり、前記表面処理工程は、ワイプテープ２を、少なくとも導電性材料を含有するパッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄する方法である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体、並びにこの磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年各種情報機器の進展にともない、磁気記録媒体の記憶容量は増大の一途をたどっている。特にコンピュータの記録再生装置として中心的な役割をはたしているハードディスク（ＨＤ）は、年々記録容量、記録密度ともに増加しているが、更に高密度記録を行なうための開発が必要とされている。例えば、ノート型パソコンやパームトップコンピュータ等の携帯機器の開発により、より小型で衝撃に強く、また、高密度での記録が可能な磁気記録媒体が望まれている。さらに、近年では、カーナビゲーションシステムや携帯用音楽再生装置においても、超小型の磁気記録媒体が採用されたものが主流となっている。
【０００３】
従来、このような磁気記録媒体用の基板としては、表面にＮｉＰメッキ処理をしたアルミニウム合金や、より高い耐衝撃性、剛性・硬度、化学的耐久性といったシビアな要求に対応できるガラス基板が採用されている。ガラス基板は、磁気記録面を高密度化するにあたって重要となる、磁気記録面上でのヘッドの低浮上に好適な平坦度が容易に得られるという利点がある。
【０００４】
ハードディスクに代表される磁気記録媒体用のガラス基板は、所望の寸法に成形した後、基板本体の表面を粗研磨するラッピング工程、内外周端面を研削して面取りするチャンファ加工工程、表面を仕上げ研磨するポリッシング工程を経て得られる。
そして、このようなガラス基板の本体表面をテクスチャー加工によって適度に粗面化された状態とし、この表面に下地層を形成した後、磁性層、保護層、潤滑層を順次成膜し、更に、ガラス基板上に成膜された膜表面の突起等を除去するテープバニッシュ処理を施すことにより、磁気記録媒体が得られる。このようなテープバニッシュ処理は、例えば、アルミナ塗料を塗布したラッピングテープ等を用いて行なわれ、このラッピングテープをゴム製のコンタクトロールによって媒体表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する工程である。このような処理を行うことにより、媒体表面の異常突起等が除去されるので、磁気記録媒体が用いられるハードディスク装置等において、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
【０００５】
また、磁気記録媒体表面を研磨する方法としては、表面に非導電性材料からなる多数の研磨毛が設けられたテープを用い、磁気記録媒体表面を機械的に研磨処理する方法が提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００６】
しかしながら、上述のような各方法で磁気記録媒体の表面を研磨加工する場合、成膜プロセスの過程で生じたパーティクル等の異物が媒体表面に付着した状態で処理すると、パーティクル等の異物がテープに付着し、これが磁気記録媒体との間に噛み込まれることがある。この場合、噛み込まれた異物によって媒体表面が傷付けられてしまい、製造工程における歩留まりが低下するという問題がある。また、このような表面が傷付いた磁気記録媒体を用いてハードディスク等の磁気記録再生装置を構成した場合には、読取記録時のエラー等、重大な動作不良を起こす虞がある。
【０００７】
上述のような研磨処理の際、テープと磁気記録媒体表面の間にパーティクル等の異物が噛み込まれるのを防止するため、テープバニッシュ処理等を行う前に、例えば、樹脂製のワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄することにより、パーティクル等の異物を予め除去する方法がある。
しかしながら、このような方法で洗浄処理を行なった場合、磁気記録媒体とワイプテープとの摩擦によって双方に静電気が発生し、磁気記録媒体表面に残留したパーティクル等の異物が静電気によってワイプテープに付着するとともに、媒体表面にも異物がそのまま付着、残留した状態となることがある。このような場合には、その後のテープバニッシュ工程等において磁気記録媒体とテープとの間に異物が噛み込まれ、上述と同様に媒体表面が傷付けられてしまうという問題がある。
【０００８】
上述のような、磁気記録媒体に発生する静電気の問題を解決するため、ロールスクラブ処理による磁気記録媒体のクリーニングを行なう際に、除電ローラを磁気記録媒体のディスク周縁に接触させて除電を行う方法が提案されている（例えば、特許文献２）。
しかしながら、媒体周縁に除電ローラを接触させる特許文献２に記載の方法では、磁気記録媒体全体から静電気の除電を行なうことができず、残留した静電気によって磁気記録媒体に異物が付着してしまうという問題があった。
【特許文献１】特開平１１−２７７３３９号公報
【特許文献２】特開平１１−２３２６４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、磁気記録媒体の表面に存在する異物を効率的に除去することができ、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体を歩留まり良く製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体、並びにこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は、磁気記録媒体の製造方法において、表面処理工程で用いるワイプテープを導電性のパッドで押圧することで磁気記録媒体表面に接触させ、この接触部分でワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら磁気記録媒体の表面を洗浄することにより、ワイプテープや媒体表面にパーティクル等の異物が付着、残存することを効果的に防止できることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は以下に関する。
【００１１】
［１］ ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理工程が備えられた磁気記録媒体の製造方法であって、前記表面処理工程は、前記ワイプテープを、少なくとも導電性のパッドで押圧することによって磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
［２］ 前記表面処理工程が、前記成膜工程の後に備えられていることを特徴とする［１］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［３］ 前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ工程が備えられていることを特徴とする［２］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［４］ 前記ワイプテープが織布であることを特徴とする［１］〜［３］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
［５］ 前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布であることを特徴とする［４］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１２】
［６］ ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次成膜する成膜手段が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理手段が備えられた磁気記録媒体の製造装置であって、前記表面処理手段は、少なくとも導電性材料を含有するパッドが備えられており、前記ワイプテープを前記パッドで押圧して磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄するものであることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
［７］ 前記表面処理手段が、前記成膜手段において少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とが順次成膜された磁気記録媒体の表面を洗浄するものであることを特徴とする［６］に記載の磁気記録媒体の製造装置。
［８］ 前記表面処理手段で洗浄された磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ手段が備えられていることを特徴とする［７］又は［８］に記載の磁気記録媒体の製造装置。
［９］ 前記ワイプテープが織布からなることを特徴とする［６］〜［８］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１０］ 前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布からなることを特徴とする［９］に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【００１３】
［１１］ 上記［１］〜［５］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法、又は、上記［６］〜［１０］に記載の磁気記録媒体の製造装置によって製造される磁気記録媒体。
［１２］ 上記［１１］に記載の磁気記録媒体と、この磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせてなる磁気記録再生装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の磁気記録媒体の製造方法及び製造装置によれば、表面処理工程で用いるワイプテープを導電性のパッドで押圧することで磁気記録媒体表面に接触させ、この接触部分でワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら磁気記録媒体の表面を洗浄することにより、ワイプテープや媒体表面にパーティクル等の異物が付着、残存することを効果的に防止できる。このような表面処理工程において効果的に洗浄された磁気記録媒体を、テープバニッシュ工程において研磨処理することにより、磁気記録媒体表面とテープとの間に異物が噛み込まれることが無いので、磁気記録媒体表面が傷付くことが無い。
従って、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置の実施形態について、図１〜６を適宜参照しながら説明する。
【００１６】
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、図２に示すようなガラス基板１１上に少なくとも下地層１２と磁性層１４と保護膜層１５とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、図１に示すようなワイプテープ２を用いて磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを洗浄する表面処理工程が備えられた方法であり、この表面処理工程は、ワイプテープ２を少なくとも導電性のパッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄する方法である。
また、本実施形態では、前記表面処理工程が前記成膜工程の後に備えられ、前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを研磨するテープバニッシュ工程が備えられた方法としている。
【００１７】
［磁気記録媒体］
以下に、本実施形態の製造方法及び製造方法によって得られる磁気記録媒体の一例について、主に図２の断面模式図を参照しながら説明する。
図２に示す本実施形態の磁気記録媒体１０は、非磁性のガラス基板１１上に、下地層１２、中間層１３、磁性層１４、保護膜層１５の各層が順次積層され、最上層に潤滑剤層１６が設けられて概略構成されている。
【００１８】
ガラス基板１１の材料としては、通常、磁気記録媒体の基板に用いられる非磁性のガラス材料を何ら制限無く用いることができ、例えば、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、非結晶ガラス類等が挙げられる。
また、本実施形態のガラス基板１１は、ガラス材料からなる基体と、この基体表面にＮｉＰ、ＮｉＰ合金、又は他の合金から選ばれる１種以上からなる膜を、メッキ、スパッタ法等の方法により蒸着させて形成した表面層とから構成されたものとしても良い。
また、ガラス基板１１には、大気圧近傍の圧力下で発生するプラズマによって活性化されたガス（処理ガス）を用いて前処理を施すことができる。
【００１９】
下地層１２の材料としては、Ｔｉ，Ｍｏ，Ａｌ，Ｔａ，Ｗ，Ｎｉ，Ｂ，Ｓｉ，Ｍｎ及びＶの群から選ばれる１種又は２種以上とＣｒとからなるＣｒ合金か、或いはＣｒを用いることができる。
また、下地層１２を多層構造の非磁性下地層とする場合には、非磁性下地層を構成する層の内、少なくとも１層を上記Ｃｒ合金又はＣｒで構成することができる。
また、前記非磁性下地層は、ＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、又はＣｒ合金（Ｔｉ，Ｍｏ，Ａｌ，Ｔａ，Ｗ，Ｎｉ，Ｂ，Ｓｉ及びＶの群から選ばれる１種もしくは２種以上とＣｒとからなる合金）で構成することもできる。
また、非磁性下地層を多層構造とする場合には、非磁性下地層を構成する各層の内、少なくとも１層をＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、又は上記Ｃｒ合金で構成することができる。
【００２０】
中間層１３の材料としては、Ｃｏ合金のエピタキシャル成長を助長する目的から、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であってｈｃｐ構造である非磁性材料を用いることが好ましい。例えば、Ｃｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｒｕ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｚｒ系合金から選ばれる何れか１種を含むものとすることが好ましい。
【００２１】
磁性層１４の材料としては、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であって、ｈｃｐ構造を有する材料を用いることが好ましい。例えば、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｃｕ系合金から選ばれる何れか１種を含むものとすることが好ましい。
なお、本実施形態の磁気記録媒体では、さらに、磁性層を２種以上の積層構造としたものとしてもよい。
【００２２】
保護膜層１５としては、プラズマＣＶＤ法によって形成されるＣＶＤカーボン、非晶質カーボン、含水素カーボン、含窒素カーボン、含フッ素カーボンなどのカーボン系材料、シリカ、ジルコニア等のセラミック系材料を適宜選択して用いることができる。なかでも、硬く緻密なＣＶＤカーボンが、耐久性の面のみならず、経済性、生産性等の面から好適に用いられる。保護膜層１５の膜厚は、薄すぎると耐久性が低下し、厚すぎると記録再生時の損失が大きくなるため、１０〜１５０Å（１〜１５ｎｍ）、好ましくは２０〜６０Å（２〜６ｎｍ）に設定することが好ましい。
【００２３】
最上層である潤滑剤層１６は、重合性不飽和基含有パーフロロポリエーテル化合物の重合物を含む材料からなる層である。重合性不飽和基含有パーフロロポリエーテル化合物としては、主鎖であるパーフロロポリエーテルの少なくとも一端に、重合性を有する不飽和結合を持つ有機基が結合されてなる化合物を挙げることができる。
【００２４】
なお、本発明に係る製造方法及び製造装置で製造する磁気記録媒体としては、面内磁気記録媒体、垂直磁気記録媒体を問わない。
また、磁気記録媒体の基板として用いられる非磁性材料としては、上述のガラス材料の他、例えば、Ａｌを主成分としたＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金や、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂材料等、非磁性材料であれば任意のものを用いることも可能である。
【００２５】
［磁気記録媒体の製造方法及び製造装置］
以下に、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法の一例について、図１（符号１の表面処理装置を参照）及び図３（符号７の成膜装置を参照）に示す例の製造装置を参照しながら説明する。
本実施形態の製造方法は、上述したように、図２に示すようなガラス基板１１上に少なくとも下地層１２と磁性層１４と保護膜層１５とを順次形成する成膜工程（図３の成膜装置５を参照）が備えられているとともに、図１（ａ）、（ｂ）に示すようなワイプテープ２を用いて磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを洗浄する表面処理工程が備えられた方法であり、この表面処理工程は、ワイプテープ２を、少なくとも導電性のパッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄する方法である。また、本実施形態では、前記表面処理工程が前記成膜工程の後に備えられ、前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを研磨するテープバニッシュ工程が備えられた方法としている。
【００２６】
（表面処理手段）
図１（ａ）、（ｂ）に例示する表面処理装置（表面処理手段）１は、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを洗浄するものであり、この表面処理装置１には、ワイプテープ２と、少なくとも導電性材料を含有してなるパッド３とが備えられ、概略構成されている。
【００２７】
ワイプテープ２は、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触して摺動することによって該表面１０ａ、１０ｂを洗浄する非導電性のテープであり、図示例では、複数のガイド２１によって保持され、Ｒ方向に巻き送り可能に設けられている。ワイプテープ２は、図示略の回動手段によってＲ方向に巻き送りされることにより、洗浄に使用された部分が図示略の回収手段に巻き取られるとともに、未使用部分が磁気記録媒体１０と相対する位置に繰り出されるようになっている。
ワイプテープ２の材質としては、通常、磁気記録媒体表面の均一化や洗浄に用いられるものであれば特に制限されず、例えば、ＰＥＴ材料からなる織布等、適宜選択して用いることができる。
【００２８】
パッド３は、ワイプテープ２を押圧して磁気記録媒体１０に接触させる導電性パッドであり、図示例では、金属製のブロック４に取り付けられている。このブロック４は、表面処理装置１の待機時は、図１（ａ）に示すように、ワイプテープ２とパッド３が接触しない位置となるように配されているが、磁気記録媒体１０を洗浄する際は、図１（ｂ）に示すように、図示略の駆動手段によってＦ１、Ｆ２方向に向けて動作するように設けられている。そして、このようなブロック４の動作に伴い、パッド３がワイプテープ２を押圧するように構成されている。
【００２９】
本実施形態のパッド３は、例えば、導電性カーボン等の導電性材料を含有してなり、ワイプテープ２を、パッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに押し付けながら摺動させる際、磁気記録媒体１０及びワイプテープ２に発生する静電気がパッド３に導かれる。そして、パッド３に導かれた静電気は、導電ケーブル５、又は、ブロック４及び図示略の筐体を通じてアースラインに導かれるか、或いはパッド３から放電されることにより、効果的に除電できるようになっている。
パッド３の材質としては、上述のように導電性材料を含有し、導電特性を示すものであれば特に限定されないが、例えば、クロロプレン等に導電性カーボンを含有させたスポンジ材料等を用いることができる。
【００３０】
スピンドル６は、図示略のモータによって回転し、取付部７１に取り付けられた磁気記録媒体１０を回転させるものである。
【００３１】
本実施形態の表面処理装置１は、上記構成により、図１（ｂ）に示すように、ワイプテープ２をパッド３で押圧して磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、この接触部分でワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄することができる。
【００３２】
（磁気記録媒体の製造方法）
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、まず、上述したような非磁性材料からなるガラス基板１１の表面に、テクスチャー工程においてテクスチャー加工を施した後、クリーニング工程においてガラス基板１１を洗浄する。この際、例えば、テクスチャー工程の前に、ガラス基板１１に対して前記処理ガスを用いる前処理を施しても良い。また、クリーニング工程の前及び／又は後に、ガラス基板１１に対して前記処理ガスを用いる前処理を施しても良く、或いは、テクスチャー工程の前と、クリーニング工程の前及び／またはクリーニング工程の後との両方で、前記処理ガスを用いる前処理を施しても良い。
【００３３】
なお、ガラス基板１１にテクスチャー加工を施すことは必須ではないが、テクスチャー加工を施すことにより、磁性層１４に磁気異方性が備えられ、磁気ヘッドと磁気記録媒体との吸着を防止でき、磁気異方性が良好となる点で好ましい。
テクスチャー加工の方法としては、特に限定されず、例えば、ガラス基板１１の表面に、固定砥粒及び／又は遊離砥粒を用いた機械的加工を施すことにより、円周方向にテクスチャーを施す方法とすることができる。この場合、ガラス基板１１の表面にテクスチャー用研磨テープを押し付けて接触させ、ガラス基板１１とテープとの間に研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給しながらガラス基板１１を回転させるとともに、テープを移送することで処理することが可能である。
【００３４】
ガラス基板１を洗浄するクリーニング工程は、主として、アルカリ洗剤又は中性洗剤の浸漬、スクラブ洗浄、純水による振り切り乾燥又はＩＰＡベーパー乾燥からなる構成とすることができる。アルカリ洗剤又は中性洗剤の浸漬とスクラブ洗浄の順番は、どちらが先であっても構わないが、ガラス基板１１の濡れ性を向上させるためには、アルカリ洗剤又は中性洗剤の浸漬を先とすることが好ましい。但し、ガラス基板１１に対して前記前処理を行うことで濡れ性が向上するので、必ずしもこの順番としなくても良い。
【００３５】
また、クリーニング工程前に、ガラス基板１１に対して前記処理ガスを用いた前処理を施すことにより、濡れ性が向上するので、アルカリ洗剤又は中性洗剤は不要か或いは濃度を大幅に低減してピットの発生を抑制することができ、ピットに起因するエラーを防止できる。
また、スクラブ洗浄は、カップブラシまたはロールブラシを用いて行なうことが好ましい。
クリーニング工程後、前記処理ガスを用いてガラス基板１１を前処理することにより、有機物残渣が分解されＨ２Ｏ，ＣＯ２となって気化蒸発するので、有機物残渣の除去効果を向上することができ、有機物残渣に起因するエラーが防止できるので、ヘッドの浮上特性を向上させることが可能となる。
【００３６】
前記前処理に用いられる装置としては、大気圧近傍付近の圧力下で安定にプラズマを発生することができるプラズマ発生ユニットを用いることができる。例えば、常圧プラズマ表面改質ユニット（積水化学製）や大気圧プラズマクリーニングヘッド（松下電工製）などを用いることができる。なお、上述の大気圧近傍付近の圧力下とは、１．３×１０４〜１３×１０４Ｐａの圧力を指し、特に、大気圧付近の９．９×１０４〜１０．３×１０４Ｐａで使用することが、圧力調整が容易であり、装置構成が簡便になるので好ましい。
【００３７】
次いで、上述のような処理が施されたガラス基板１１上に、成膜工程において、下地層１２、中間層１３、磁性層１４、保護膜層１５の各層を順次形成する。
磁気記録媒体の各層を形成する成膜方法は任意であるが、下地層１２、中間層１３、磁性層１４の各層の成膜方法としては、例えば直流（マグネトロン）スパッタリング法、高周波（マグネトロン）スパッタリング法、ＥＣＲスパッタリング法、真空蒸着法等の物理的蒸着法が挙げられ、保護膜層１５の成膜には、例えばプラズマＣＶＤ法、イオンビーム法、スパッタ法等が挙げられる。
【００３８】
本実施形態の製造方法では、上記下地層１２、中間層１３、磁性層１４の各層の成膜工程で使用する成膜装置（成膜手段）として、例えば、図３に示すような、チャンバ７０内に、起立した状態のガラス基板１１を収容自在に構成し、ガラス基板１１の両面側にターゲット材７２ａ、７２ｂを配し、これらターゲット材７２ａ、７２ｂの反基板側にマグネット板７１ａ、７１ｂをそれぞれ平行に配置し、ターゲット材７２ａ、７２ｂに高周波電圧を印加できるように高周波電源７３が接続自在とされた構成のスパッタ法を用いた成膜装置７を用いることができる。
また、図３に示す成膜装置７の構成では、ガラス基板１１に対して高周波電圧のバイアスを印加するためのバイアス電源７４が接続されており、ターゲット材７２ａ、７２ｂに対しては、高周波電圧に加えて直流電圧を印加できるように構成されているが、このバイアス電源７４は略しても良い。
そして、成膜装置７のチャンバ７０には、スパッタリングガス７８を導入するためのバルブ付き導入管７５が接続され、更に、チャンバ７０の内部を真空ポンプに接続するためのバルブ付き排気管７６が接続され、チャンバ７０の内部を減圧可能に構成されている。
図示例の成膜装置７では、チャンバ７０の内部を規定の圧力に減圧するとともに、スパッタリングガス７８をバルブ付き導入管７５から導入してターゲット材７２ａ、７２ｂの周囲にプラズマを発生させ、チャンバ５０の内部に収容したガラス基板１１表面に、スパッタリング法により薄膜を形成し、上記下地層１２、中間層１３、磁性層１４の各層を成膜する。
そして、磁性層１４の上に、例えば、プラズマＣＶＤ法を用いて保護膜層１５を成膜する。
【００３９】
上述の保護膜層１５の上には、潤滑剤層１６を形成することが好ましい。
潤滑剤層１６に用いる潤滑剤としては、上述したような材質のものが挙げられ、上記材料を用いて、通常１〜４ｎｍの厚さで潤滑剤層１６を形成する。潤滑剤層１６の形成方法としては、例えば、ディッピング法、スピンコート法等、従来公知の方法を採用することができる。
【００４０】
そして、本実施形態の製造方法では、表面処理工程において、上記成膜工程でガラス基板１１上に各層が成膜された磁気記録媒体１０の表面を、上述したような表面処理装置１を用いて洗浄する。
本実施形態の表面処理工程では、まず、図１（ａ）に示すように、スピンドル６の取付部６１に磁気記録媒体１０を取り付ける。
次いで、図１（ｂ）に示すように、ワイプテープ２を、図示略の駆動手段で駆動されるパッド３で押圧することにより、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させる。
次いで、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂとワイプテープ２とが接触した状態で、スピンドル６を図示略のモータで回転させることにより、スピンドル６に取り付けられた磁気記録媒体１０が回転する（図５を参照）。このように、磁気記録媒体１０が回転することにより、表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２が摺動し、潤滑剤層１６が均一化されるとともに、表面１０ａ、１０ｂに付着したパーティクル等の異物がワイプテープ２によって拭き取られるようにして除去される。
【００４１】
ここで、磁気記録媒体１０及びワイプテープ２が、上述のような摺動動作に伴って静電気を帯電した場合であっても、本実施形態のパッド３は導電性を有しているので、上述したように、磁気記録媒体１０並びにワイプテープ２に帯電する静電気はパッド３に導かれる。このような、パッド３に導かれた静電気は、導電ケーブル５、又は、ブロック４及び図示略の筐体を通じてアースラインに導かれるか、或いはパッド３から放電される。
このように、本実施形態の表面処理工程は、磁気記録媒体１０及びワイプパッド２を除電しながら洗浄を行う方法なので、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに、静電気によって異物が付着したまま残留することが無く、ワイプテープ２によって確実に異物が除去される。
また、本実施形態では、導電性のパッド３をワイプテープ２に押し当てることにより、この部分を磁気記録媒体１０に接触させて洗浄するとともに、この接触部分で除電処理を行う方法としている。このように、磁気記録媒体１０の洗浄と除電とを、ワイプテープ２の磁気記録媒体１０への接触部分（パッド３による押圧部分）で同時に行なうことにより、この部分の静電気をより効果的に除電できるので、表面１０ａ、１０ｂに異物が残留することなく効率的に洗浄することが可能となる。
【００４２】
次いで、テープバニッシュ工程において、上述の表面処理工程において表面が洗浄された磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを研磨処理する。このようなテープバニッシュ工程としては、例えば、アルミナ塗料を塗布したラッピングテープをゴム製のコンタクトロールによって磁気記録媒体１０の表面に押し当てることによって研磨処理を行う方法等、従来公知の方法及び装置を用いることができる。そして、このようなテープバニッシュ処理を施すことによって膜表面の異常突起等が除去された磁気記録媒体を最終検査工程（テスター）にて処理を行い、本発明に係る磁気記録媒体が得られる。
【００４３】
本実施形態では、上述のように、表面処理工程において磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂから確実に異物等を除去した後、テープバニッシュ工程を行なっている。これにより、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに異物が残留していない状態でテープバニッシュ処理を行うことができるので、磁気記録媒体１０とラッピングテープとの間に異物等が噛み込まれるのを防止することができる。従って、テープバニッシュ工程において磁気記録媒体表面が傷付くことが無い。
また、本発明では、上述の表面処理工程がテープバニッシュ工程の後にも備えられた方法としても良い。この場合には、テープバニッシュ工程で発生して磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに付着したダストを除去することが可能となる。
【００４４】
以上説明したように、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び製造装置によれば、表面処理装置１で用いるワイプテープ２を、導電性材料を含有するパッド３で押圧することで磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを洗浄することにより、ワイプテープ２や媒体表面にパーティクル等の異物が付着、残存することを効果的に防止できる。このような表面処理装置１において効果的に洗浄された磁気記録媒体１０を、テープバニッシュ工程において研磨処理することにより、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂとラッピングテープとの間に異物が噛み込まれることが無いので、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂが傷付くことが無い。従って、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体１０を提供することができる。
【００４５】
［磁気記録再生装置］
図６は、上記本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置によって得られる磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の一例を示すものである。
この磁気記録再生装置８０は、上記製造方法及び製造装置により得られる磁気記録媒体１０と、磁気記録媒体１０を回転駆動させる媒体駆動部８１と、磁気記録媒体１０に情報を記録再生する磁気ヘッド８２と、ヘッド駆動部８３と、記録再生信号処理系８４とを備えている。記録再生信号処理系８４は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド８２に送出し、また、磁気ヘッド８２からの再生信号を処理してデータを出力することができるようになっている。
本発明に係る磁気記録再生装置は、上記製造方法及び製造装置によって得られる磁気記録媒体を用いているので、記録再生特性に優れた磁気記録再生装置が得られる。
【実施例】
【００４６】
以下に、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を実証するための実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。
【００４７】
［実施例１］
洗浄済みのガラス基板１１（ＨＯＹＡ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０１０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板１１上に８９Ｃｏ−４Ｚｒ−７Ｎｂ（Ｃｏ含有率８９ａｔ％、Ｚｒ含有率４ａｔ％、Ｎｂ含有率７ａｔ％）のターゲットを用いて１００℃以下の基板温度で厚さ１００ｎｍの下地層１２をスパッタリングにより成膜した。
次いで、ガラス基板１１を２００℃に加熱して、上記下地層１２上に、６５Ｃｏ−３０Ｃｒ−５Ｂターゲットを用いて厚さ５ｎｍの中間層１３を形成し、６１Ｃｏ−２０Ｃｒ−１７Ｐｔ−２Ｂターゲットを用いて厚さ２５ｎｍの磁性層１４を形成した。なお、上記スパッタリング工程においては、成膜用のプロセスガスとしてアルゴンを用い、圧力０．５Ｐａにて成膜した。
次いで、プラズマＣＶＤ法により、厚さ５ｎｍの保護膜層１５を形成した。
次いで、ディッピング法により、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤層１６を形成し、ガラス基板上に各層が成膜された磁気記録媒体を得た。
【００４８】
そして、上記方法によって得られた磁気記録媒体を、図１に示すような表面処理装置１を用い、磁気記録媒体の表面を洗浄した。この際、ワイプテープ２を導電性のパッド３で押圧した状態で磁気記録媒体を回転させ、磁気記録媒体並びにワイプテープ２を除電しながら媒体表面を洗浄した。このような表面処理装置１によって洗浄した後の磁気記録媒体の表面を、光学式表面検査機（ＨＤＩ社製：ＳＲＡ−ＦＡ）によって確認したところ、パーティクル等の異物が残留していないことが確認された。
【００４９】
そして、上記方法によって表面から異物が除去された磁気記録媒体にテープバニッシュ処理を施し、媒体表面を研磨して本発明に係る磁気記録媒体を得た。
そして、得られた磁気記録媒体を、テスター（試験装置）にかけ、媒体表面を確認したところ、表面に傷等が生じていないことが確認できた。これにより、実施例１では、上述のテープバニッシュ処理において磁気記録媒体とテープとの間に異物が噛み込まれておらず、上記表面処理装置１によって磁気記録媒体表面の異物が確実に除去されていることが明らかとなった。
【００５０】
［実施例２］
本例では、図１に示すような表面処理装置１において、導電性材料が含有されたパッドを用いてワイプテープを押圧し、磁気記録媒体に接触させた場合の除電効果を実証するため、実際に磁気記録媒体を回転させてワイプテープ２に摺動させた際の静電気の電圧を測定した。この際、ワイプテープとして、カネボウ製「ＥＷ−ＮＣ−０１１ スーパークリーン（ナイロン＋ポリエステル）」を使用し、また、パッドとして、ＹＡＣ社製クロロプレンスポンジ（導電性カーボン含有）を用いた。
なお、測定位置は、磁気記録媒体表面、及び、ワイプテープ２において図４に示すａ〜ｄの各位置とし、静電気チェッカーとして、ＴＲｅｋ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ社製「ＭＯＤＥＬ ５２０（ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ ｖｏｌｔｍｅｔｅｒ）」を用いた。
また、測定回数については、各々の箇所において３回とし、その平均値を求めた。
実施例２における測定結果を下記表１に示す。
【００５１】
【表１】
【００５２】
［比較例１］
本例では、図１に示すような表面処理装置１を用い、パッドとしてＹＡＣ社製クロロプレンスポンジ（絶縁性）を用いた点を除き、実施例２と同様にして静電気を測定し、従来の表面処理方法による試験を行った。
比較例２における測定結果を下記表２に示す。
【００５３】
【表２】
【００５４】
［実施例２及び比較例１の評価結果］
表１に示すように、導電性のパッドを用いて表面処理装置を構成して試験を行なった実施例２では、ワイプテープ２をパッド３が押圧する箇所である「ｂ」の位置の静電気電圧が−３Ｖと非常に小さくなっている。また、磁気記録媒体表面の静電気電圧も１Ｖと非常に小さな数値となっている。
これに対し、絶縁性のパッドを用いて表面処理装置を構成して試験を行った比較例１では、ワイプテープ２をパッド３が押圧する箇所である「ｂ」の位置の静電気電圧が−３９Ｖ、「ａ」の位置の電圧が−１２３Ｖと、実施例２に比べて非常に大きな値となった。また、磁気記録媒体表面の静電気電圧は２Ｖであり、これも、実施例２に比べて大きな値となった。
【００５５】
また、実施例２においては、磁気記録媒体１０の洗浄時に該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂと接触しない「ａ」、「ｃ」、「ｄ」の各位置での静電気電圧が、それぞれ−６５Ｖ、−１１１Ｖ、−１４４Ｖとなっている。これに対し、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに対してワイプテープ２が接触する「ｂ」の位置における静電気電圧は、上述のように−３Ｖと非常に小さな数値となっている。
この結果より、導電性のパッド３を用いてワイプテープ２を押圧し、この位置（図５の符号ｂ参照）で磁気記録媒体１０を摺動して洗浄する、本発明に係る製造方法では、より高い除電効果が得られ、磁気記録媒体表面に付着した異物を効果的に除去することができることが明らかである。
【００５６】
以上の結果により、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置が、優れた除電特性と洗浄効果を有しており、また、この製造方法及び製造装置によって得られる磁気記録媒体が、エラーが少なく優れた記録再生特性を備えていることが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置の一例を模式的に説明する図であり、表面処理装置（表面処理手段）において、（ａ）が待機状態、（ｂ）がワイプテープをパッドで押圧して磁気記録媒体に接触させた状態を示す概略図である。
【図２】本発明に係る磁気記録媒体の一例を模式的に説明する図であり、ガラス基板上に成膜される各層構造を示す概略図である。
【図３】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置の一例を模式的に説明する図であり、スパッタ法を用いた成膜装置（成膜手段）を示す概略図である。
【図４】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置の一例を模式的に説明する図であり、静電気の電圧を測定する際の測定箇所を示す概略図である。
【図５】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置の一例を模式的に説明する図であり、図１に示す表面処理装置（表面処理手段）の側面を示す概略図である。
【図６】本発明に係る磁気記録再生装置の一例を模式的に説明する図である。
【符号の説明】
【００５８】
１…表面処理装置（表面処理手段）、２…ワイプテープ、３…パッド、４…ブロック、５…導電ケーブル、６…スピンドル、７…成膜装置（成膜手段）、１０…磁気記録媒体、１０ａ、１０ｂ…表面、１１…ガラス基板、１２…下地層、１３…中間層、１４…磁性層、１５…保護膜層、１６…潤滑剤層、８０…磁気記録再生装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体、並びにこの磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年各種情報機器の進展にともない、磁気記録媒体の記憶容量は増大の一途をたどっている。特にコンピュータの記録再生装置として中心的な役割をはたしているハードディスク（ＨＤ）は、年々記録容量、記録密度ともに増加しているが、更に高密度記録を行なうための開発が必要とされている。例えば、ノート型パソコンやパームトップコンピュータ等の携帯機器の開発により、より小型で衝撃に強く、また、高密度での記録が可能な磁気記録媒体が望まれている。さらに、近年では、カーナビゲーションシステムや携帯用音楽再生装置においても、超小型の磁気記録媒体が採用されたものが主流となっている。
【０００３】
従来、このような磁気記録媒体用の基板としては、表面にＮｉＰメッキ処理をしたアルミニウム合金や、より高い耐衝撃性、剛性・硬度、化学的耐久性といったシビアな要求に対応できるガラス基板が採用されている。ガラス基板は、磁気記録面を高密度化するにあたって重要となる、磁気記録面上でのヘッドの低浮上に好適な平坦度が容易に得られるという利点がある。
【０００４】
ハードディスクに代表される磁気記録媒体用のガラス基板は、所望の寸法に成形した後、基板本体の表面を粗研磨するラッピング工程、内外周端面を研削して面取りするチャンファ加工工程、表面を仕上げ研磨するポリッシング工程を経て得られる。
そして、このようなガラス基板の本体表面をテクスチャー加工によって適度に粗面化された状態とし、この表面に下地層を形成した後、磁性層、保護層、潤滑層を順次成膜し、更に、ガラス基板上に成膜された膜表面の突起等を除去するテープバニッシュ処理を施すことにより、磁気記録媒体が得られる。このようなテープバニッシュ処理は、例えば、アルミナ塗料を塗布したラッピングテープ等を用いて行なわれ、このラッピングテープをゴム製のコンタクトロールによって媒体表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する工程である。このような処理を行うことにより、媒体表面の異常突起等が除去されるので、磁気記録媒体が用いられるハードディスク装置等において、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
【０００５】
また、磁気記録媒体表面を研磨する方法としては、表面に非導電性材料からなる多数の研磨毛が設けられたテープを用い、磁気記録媒体表面を機械的に研磨処理する方法が提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００６】
しかしながら、上述のような各方法で磁気記録媒体の表面を研磨加工する場合、成膜プロセスの過程で生じたパーティクル等の異物が媒体表面に付着した状態で処理すると、パーティクル等の異物がテープに付着し、これが磁気記録媒体との間に噛み込まれることがある。この場合、噛み込まれた異物によって媒体表面が傷付けられてしまい、製造工程における歩留まりが低下するという問題がある。また、このような表面が傷付いた磁気記録媒体を用いてハードディスク等の磁気記録再生装置を構成した場合には、読取記録時のエラー等、重大な動作不良を起こす虞がある。
【０００７】
上述のような研磨処理の際、テープと磁気記録媒体表面の間にパーティクル等の異物が噛み込まれるのを防止するため、テープバニッシュ処理等を行う前に、例えば、樹脂製のワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄することにより、パーティクル等の異物を予め除去する方法がある。
しかしながら、このような方法で洗浄処理を行なった場合、磁気記録媒体とワイプテープとの摩擦によって双方に静電気が発生し、磁気記録媒体表面に残留したパーティクル等の異物が静電気によってワイプテープに付着するとともに、媒体表面にも異物がそのまま付着、残留した状態となることがある。このような場合には、その後のテープバニッシュ工程等において磁気記録媒体とテープとの間に異物が噛み込まれ、上述と同様に媒体表面が傷付けられてしまうという問題がある。
【０００８】
上述のような、磁気記録媒体に発生する静電気の問題を解決するため、ロールスクラブ処理による磁気記録媒体のクリーニングを行なう際に、除電ローラを磁気記録媒体のディスク周縁に接触させて除電を行う方法が提案されている（例えば、特許文献２）。
しかしながら、媒体周縁に除電ローラを接触させる特許文献２に記載の方法では、磁気記録媒体全体から静電気の除電を行なうことができず、残留した静電気によって磁気記録媒体に異物が付着してしまうという問題があった。
【特許文献１】特開平１１−２７７３３９号公報
【特許文献２】特開平１１−２３２６４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、磁気記録媒体の表面に存在する異物を効率的に除去することができ、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体を歩留まり良く製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体、並びにこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は、磁気記録媒体の製造方法において、表面処理工程で用いるワイプテープを導電性のパッドで押圧することで磁気記録媒体表面に接触させ、この接触部分でワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら磁気記録媒体の表面を洗浄することにより、ワイプテープや媒体表面にパーティクル等の異物が付着、残存することを効果的に防止できることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は以下に関する。
【００１１】
［１］ ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理工程が備えられた磁気記録媒体の製造方法であって、前記表面処理工程は、前記ワイプテープを、少なくとも導電性のパッドで押圧することによって磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
［２］ 前記表面処理工程が、前記成膜工程の後に備えられていることを特徴とする［１］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［３］ 前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ工程が備えられていることを特徴とする［２］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［４］ 前記ワイプテープが織布であることを特徴とする［１］〜［３］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
［５］ 前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布であることを特徴とする［４］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１２】
［６］ ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次成膜する成膜手段が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理手段が備えられた磁気記録媒体の製造装置であって、前記表面処理手段は、少なくとも導電性材料を含有するパッドが備えられており、前記ワイプテープを前記パッドで押圧して磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄するものであることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
［７］ 前記表面処理手段が、前記成膜手段において少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とが順次成膜された磁気記録媒体の表面を洗浄するものであることを特徴とする［６］に記載の磁気記録媒体の製造装置。
［８］ 前記表面処理手段で洗浄された磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ手段が備えられていることを特徴とする［７］又は［８］に記載の磁気記録媒体の製造装置。
［９］ 前記ワイプテープが織布からなることを特徴とする［６］〜［８］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造装置。
［１０］ 前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布からなることを特徴とする［９］に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【００１３】
［１１］ 上記［１］〜［５］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法、又は、上記［６］〜［１０］に記載の磁気記録媒体の製造装置によって製造される磁気記録媒体。
［１２］ 上記［１１］に記載の磁気記録媒体と、この磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせてなる磁気記録再生装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の磁気記録媒体の製造方法及び製造装置によれば、表面処理工程で用いるワイプテープを導電性のパッドで押圧することで磁気記録媒体表面に接触させ、この接触部分でワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら磁気記録媒体の表面を洗浄することにより、ワイプテープや媒体表面にパーティクル等の異物が付着、残存することを効果的に防止できる。このような表面処理工程において効果的に洗浄された磁気記録媒体を、テープバニッシュ工程において研磨処理することにより、磁気記録媒体表面とテープとの間に異物が噛み込まれることが無いので、磁気記録媒体表面が傷付くことが無い。
従って、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置、磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置の実施形態について、図１〜６を適宜参照しながら説明する。
【００１６】
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、図２に示すようなガラス基板１１上に少なくとも下地層１２と磁性層１４と保護膜層１５とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、図１に示すようなワイプテープ２を用いて磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを洗浄する表面処理工程が備えられた方法であり、この表面処理工程は、ワイプテープ２を少なくとも導電性のパッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄する方法である。
また、本実施形態では、前記表面処理工程が前記成膜工程の後に備えられ、前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを研磨するテープバニッシュ工程が備えられた方法としている。
【００１７】
［磁気記録媒体］
以下に、本実施形態の製造方法及び製造方法によって得られる磁気記録媒体の一例について、主に図２の断面模式図を参照しながら説明する。
図２に示す本実施形態の磁気記録媒体１０は、非磁性のガラス基板１１上に、下地層１２、中間層１３、磁性層１４、保護膜層１５の各層が順次積層され、最上層に潤滑剤層１６が設けられて概略構成されている。
【００１８】
ガラス基板１１の材料としては、通常、磁気記録媒体の基板に用いられる非磁性のガラス材料を何ら制限無く用いることができ、例えば、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、非結晶ガラス類等が挙げられる。
また、本実施形態のガラス基板１１は、ガラス材料からなる基体と、この基体表面にＮｉＰ、ＮｉＰ合金、又は他の合金から選ばれる１種以上からなる膜を、メッキ、スパッタ法等の方法により蒸着させて形成した表面層とから構成されたものとしても良い。
また、ガラス基板１１には、大気圧近傍の圧力下で発生するプラズマによって活性化されたガス（処理ガス）を用いて前処理を施すことができる。
【００１９】
下地層１２の材料としては、Ｔｉ，Ｍｏ，Ａｌ，Ｔａ，Ｗ，Ｎｉ，Ｂ，Ｓｉ，Ｍｎ及びＶの群から選ばれる１種又は２種以上とＣｒとからなるＣｒ合金か、或いはＣｒを用いることができる。
また、下地層１２を多層構造の非磁性下地層とする場合には、非磁性下地層を構成する層の内、少なくとも１層を上記Ｃｒ合金又はＣｒで構成することができる。
また、前記非磁性下地層は、ＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、又はＣｒ合金（Ｔｉ，Ｍｏ，Ａｌ，Ｔａ，Ｗ，Ｎｉ，Ｂ，Ｓｉ及びＶの群から選ばれる１種もしくは２種以上とＣｒとからなる合金）で構成することもできる。
また、非磁性下地層を多層構造とする場合には、非磁性下地層を構成する各層の内、少なくとも１層をＮｉＡｌ系合金、ＲｕＡｌ系合金、又は上記Ｃｒ合金で構成することができる。
【００２０】
中間層１３の材料としては、Ｃｏ合金のエピタキシャル成長を助長する目的から、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であってｈｃｐ構造である非磁性材料を用いることが好ましい。例えば、Ｃｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｒｕ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｚｒ系合金から選ばれる何れか１種を含むものとすることが好ましい。
【００２１】
磁性層１４の材料としては、Ｃｏを主原料としたＣｏ合金であって、ｈｃｐ構造を有する材料を用いることが好ましい。例えば、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ−Ｃｕ系合金から選ばれる何れか１種を含むものとすることが好ましい。
なお、本実施形態の磁気記録媒体では、さらに、磁性層を２種以上の積層構造としたものとしてもよい。
【００２２】
保護膜層１５としては、プラズマＣＶＤ法によって形成されるＣＶＤカーボン、非晶質カーボン、含水素カーボン、含窒素カーボン、含フッ素カーボンなどのカーボン系材料、シリカ、ジルコニア等のセラミック系材料を適宜選択して用いることができる。なかでも、硬く緻密なＣＶＤカーボンが、耐久性の面のみならず、経済性、生産性等の面から好適に用いられる。保護膜層１５の膜厚は、薄すぎると耐久性が低下し、厚すぎると記録再生時の損失が大きくなるため、１０〜１５０Å（１〜１５ｎｍ）、好ましくは２０〜６０Å（２〜６ｎｍ）に設定することが好ましい。
【００２３】
最上層である潤滑剤層１６は、重合性不飽和基含有パーフロロポリエーテル化合物の重合物を含む材料からなる層である。重合性不飽和基含有パーフロロポリエーテル化合物としては、主鎖であるパーフロロポリエーテルの少なくとも一端に、重合性を有する不飽和結合を持つ有機基が結合されてなる化合物を挙げることができる。
【００２４】
なお、本発明に係る製造方法及び製造装置で製造する磁気記録媒体としては、面内磁気記録媒体、垂直磁気記録媒体を問わない。
また、磁気記録媒体の基板として用いられる非磁性材料としては、上述のガラス材料の他、例えば、Ａｌを主成分としたＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金や、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂材料等、非磁性材料であれば任意のものを用いることも可能である。
【００２５】
［磁気記録媒体の製造方法及び製造装置］
以下に、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法の一例について、図１（符号１の表面処理装置を参照）及び図３（符号７の成膜装置を参照）に示す例の製造装置を参照しながら説明する。
本実施形態の製造方法は、上述したように、図２に示すようなガラス基板１１上に少なくとも下地層１２と磁性層１４と保護膜層１５とを順次形成する成膜工程（図３の成膜装置５を参照）が備えられているとともに、図１（ａ）、（ｂ）に示すようなワイプテープ２を用いて磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを洗浄する表面処理工程が備えられた方法であり、この表面処理工程は、ワイプテープ２を、少なくとも導電性のパッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄する方法である。また、本実施形態では、前記表面処理工程が前記成膜工程の後に備えられ、前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを研磨するテープバニッシュ工程が備えられた方法としている。
【００２６】
（表面処理手段）
図１（ａ）、（ｂ）に例示する表面処理装置（表面処理手段）１は、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを洗浄するものであり、この表面処理装置１には、ワイプテープ２と、少なくとも導電性材料を含有してなるパッド３とが備えられ、概略構成されている。
【００２７】
ワイプテープ２は、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触して摺動することによって該表面１０ａ、１０ｂを洗浄する非導電性のテープであり、図示例では、複数のガイド２１によって保持され、Ｒ方向に巻き送り可能に設けられている。ワイプテープ２は、図示略の回動手段によってＲ方向に巻き送りされることにより、洗浄に使用された部分が図示略の回収手段に巻き取られるとともに、未使用部分が磁気記録媒体１０と相対する位置に繰り出されるようになっている。
ワイプテープ２の材質としては、通常、磁気記録媒体表面の均一化や洗浄に用いられるものであれば特に制限されず、例えば、ＰＥＴ材料からなる織布等、適宜選択して用いることができる。
【００２８】
パッド３は、ワイプテープ２を押圧して磁気記録媒体１０に接触させる導電性パッドであり、図示例では、金属製のブロック４に取り付けられている。このブロック４は、表面処理装置１の待機時は、図１（ａ）に示すように、ワイプテープ２とパッド３が接触しない位置となるように配されているが、磁気記録媒体１０を洗浄する際は、図１（ｂ）に示すように、図示略の駆動手段によってＦ１、Ｆ２方向に向けて動作するように設けられている。そして、このようなブロック４の動作に伴い、パッド３がワイプテープ２を押圧するように構成されている。
【００２９】
本実施形態のパッド３は、例えば、導電性カーボン等の導電性材料を含有してなり、ワイプテープ２を、パッド３で押圧することによって磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに押し付けながら摺動させる際、磁気記録媒体１０及びワイプテープ２に発生する静電気がパッド３に導かれる。そして、パッド３に導かれた静電気は、導電ケーブル５、又は、ブロック４及び図示略の筐体を通じてアースラインに導かれるか、或いはパッド３から放電されることにより、効果的に除電できるようになっている。
パッド３の材質としては、上述のように導電性材料を含有し、導電特性を示すものであれば特に限定されないが、例えば、クロロプレン等に導電性カーボンを含有させたスポンジ材料等を用いることができる。
【００３０】
スピンドル６は、図示略のモータによって回転し、取付部７１に取り付けられた磁気記録媒体１０を回転させるものである。
【００３１】
本実施形態の表面処理装置１は、上記構成により、図１（ｂ）に示すように、ワイプテープ２をパッド３で押圧して磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、この接触部分でワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら、該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２に摺動させて洗浄することができる。
【００３２】
（磁気記録媒体の製造方法）
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、まず、上述したような非磁性材料からなるガラス基板１１の表面に、テクスチャー工程においてテクスチャー加工を施した後、クリーニング工程においてガラス基板１１を洗浄する。この際、例えば、テクスチャー工程の前に、ガラス基板１１に対して前記処理ガスを用いる前処理を施しても良い。また、クリーニング工程の前及び／又は後に、ガラス基板１１に対して前記処理ガスを用いる前処理を施しても良く、或いは、テクスチャー工程の前と、クリーニング工程の前及び／またはクリーニング工程の後との両方で、前記処理ガスを用いる前処理を施しても良い。
【００３３】
なお、ガラス基板１１にテクスチャー加工を施すことは必須ではないが、テクスチャー加工を施すことにより、磁性層１４に磁気異方性が備えられ、磁気ヘッドと磁気記録媒体との吸着を防止でき、磁気異方性が良好となる点で好ましい。
テクスチャー加工の方法としては、特に限定されず、例えば、ガラス基板１１の表面に、固定砥粒及び／又は遊離砥粒を用いた機械的加工を施すことにより、円周方向にテクスチャーを施す方法とすることができる。この場合、ガラス基板１１の表面にテクスチャー用研磨テープを押し付けて接触させ、ガラス基板１１とテープとの間に研磨砥粒を含む研磨スラリーを供給しながらガラス基板１１を回転させるとともに、テープを移送することで処理することが可能である。
【００３４】
ガラス基板１を洗浄するクリーニング工程は、主として、アルカリ洗剤又は中性洗剤の浸漬、スクラブ洗浄、純水による振り切り乾燥又はＩＰＡベーパー乾燥からなる構成とすることができる。アルカリ洗剤又は中性洗剤の浸漬とスクラブ洗浄の順番は、どちらが先であっても構わないが、ガラス基板１１の濡れ性を向上させるためには、アルカリ洗剤又は中性洗剤の浸漬を先とすることが好ましい。但し、ガラス基板１１に対して前記前処理を行うことで濡れ性が向上するので、必ずしもこの順番としなくても良い。
【００３５】
また、クリーニング工程前に、ガラス基板１１に対して前記処理ガスを用いた前処理を施すことにより、濡れ性が向上するので、アルカリ洗剤又は中性洗剤は不要か或いは濃度を大幅に低減してピットの発生を抑制することができ、ピットに起因するエラーを防止できる。
また、スクラブ洗浄は、カップブラシまたはロールブラシを用いて行なうことが好ましい。
クリーニング工程後、前記処理ガスを用いてガラス基板１１を前処理することにより、有機物残渣が分解されＨ２Ｏ，ＣＯ２となって気化蒸発するので、有機物残渣の除去効果を向上することができ、有機物残渣に起因するエラーが防止できるので、ヘッドの浮上特性を向上させることが可能となる。
【００３６】
前記前処理に用いられる装置としては、大気圧近傍付近の圧力下で安定にプラズマを発生することができるプラズマ発生ユニットを用いることができる。例えば、常圧プラズマ表面改質ユニット（積水化学製）や大気圧プラズマクリーニングヘッド（松下電工製）などを用いることができる。なお、上述の大気圧近傍付近の圧力下とは、１．３×１０４〜１３×１０４Ｐａの圧力を指し、特に、大気圧付近の９．９×１０４〜１０．３×１０４Ｐａで使用することが、圧力調整が容易であり、装置構成が簡便になるので好ましい。
【００３７】
次いで、上述のような処理が施されたガラス基板１１上に、成膜工程において、下地層１２、中間層１３、磁性層１４、保護膜層１５の各層を順次形成する。
磁気記録媒体の各層を形成する成膜方法は任意であるが、下地層１２、中間層１３、磁性層１４の各層の成膜方法としては、例えば直流（マグネトロン）スパッタリング法、高周波（マグネトロン）スパッタリング法、ＥＣＲスパッタリング法、真空蒸着法等の物理的蒸着法が挙げられ、保護膜層１５の成膜には、例えばプラズマＣＶＤ法、イオンビーム法、スパッタ法等が挙げられる。
【００３８】
本実施形態の製造方法では、上記下地層１２、中間層１３、磁性層１４の各層の成膜工程で使用する成膜装置（成膜手段）として、例えば、図３に示すような、チャンバ７０内に、起立した状態のガラス基板１１を収容自在に構成し、ガラス基板１１の両面側にターゲット材７２ａ、７２ｂを配し、これらターゲット材７２ａ、７２ｂの反基板側にマグネット板７１ａ、７１ｂをそれぞれ平行に配置し、ターゲット材７２ａ、７２ｂに高周波電圧を印加できるように高周波電源７３が接続自在とされた構成のスパッタ法を用いた成膜装置７を用いることができる。
また、図３に示す成膜装置７の構成では、ガラス基板１１に対して高周波電圧のバイアスを印加するためのバイアス電源７４が接続されており、ターゲット材７２ａ、７２ｂに対しては、高周波電圧に加えて直流電圧を印加できるように構成されているが、このバイアス電源７４は略しても良い。
そして、成膜装置７のチャンバ７０には、スパッタリングガス７８を導入するためのバルブ付き導入管７５が接続され、更に、チャンバ７０の内部を真空ポンプに接続するためのバルブ付き排気管７６が接続され、チャンバ７０の内部を減圧可能に構成されている。
図示例の成膜装置７では、チャンバ７０の内部を規定の圧力に減圧するとともに、スパッタリングガス７８をバルブ付き導入管７５から導入してターゲット材７２ａ、７２ｂの周囲にプラズマを発生させ、チャンバ５０の内部に収容したガラス基板１１表面に、スパッタリング法により薄膜を形成し、上記下地層１２、中間層１３、磁性層１４の各層を成膜する。
そして、磁性層１４の上に、例えば、プラズマＣＶＤ法を用いて保護膜層１５を成膜する。
【００３９】
上述の保護膜層１５の上には、潤滑剤層１６を形成することが好ましい。
潤滑剤層１６に用いる潤滑剤としては、上述したような材質のものが挙げられ、上記材料を用いて、通常１〜４ｎｍの厚さで潤滑剤層１６を形成する。潤滑剤層１６の形成方法としては、例えば、ディッピング法、スピンコート法等、従来公知の方法を採用することができる。
【００４０】
そして、本実施形態の製造方法では、表面処理工程において、上記成膜工程でガラス基板１１上に各層が成膜された磁気記録媒体１０の表面を、上述したような表面処理装置１を用いて洗浄する。
本実施形態の表面処理工程では、まず、図１（ａ）に示すように、スピンドル６の取付部６１に磁気記録媒体１０を取り付ける。
次いで、図１（ｂ）に示すように、ワイプテープ２を、図示略の駆動手段で駆動されるパッド３で押圧することにより、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させる。
次いで、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂとワイプテープ２とが接触した状態で、スピンドル６を図示略のモータで回転させることにより、スピンドル６に取り付けられた磁気記録媒体１０が回転する（図５を参照）。このように、磁気記録媒体１０が回転することにより、表面１０ａ、１０ｂをワイプテープ２が摺動し、潤滑剤層１６が均一化されるとともに、表面１０ａ、１０ｂに付着したパーティクル等の異物がワイプテープ２によって拭き取られるようにして除去される。
【００４１】
ここで、磁気記録媒体１０及びワイプテープ２が、上述のような摺動動作に伴って静電気を帯電した場合であっても、本実施形態のパッド３は導電性を有しているので、上述したように、磁気記録媒体１０並びにワイプテープ２に帯電する静電気はパッド３に導かれる。このような、パッド３に導かれた静電気は、導電ケーブル５、又は、ブロック４及び図示略の筐体を通じてアースラインに導かれるか、或いはパッド３から放電される。
このように、本実施形態の表面処理工程は、磁気記録媒体１０及びワイプパッド２を除電しながら洗浄を行う方法なので、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに、静電気によって異物が付着したまま残留することが無く、ワイプテープ２によって確実に異物が除去される。
また、本実施形態では、導電性のパッド３をワイプテープ２に押し当てることにより、この部分を磁気記録媒体１０に接触させて洗浄するとともに、この接触部分で除電処理を行う方法としている。このように、磁気記録媒体１０の洗浄と除電とを、ワイプテープ２の磁気記録媒体１０への接触部分（パッド３による押圧部分）で同時に行なうことにより、この部分の静電気をより効果的に除電できるので、表面１０ａ、１０ｂに異物が残留することなく効率的に洗浄することが可能となる。
【００４２】
次いで、テープバニッシュ工程において、上述の表面処理工程において表面が洗浄された磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを研磨処理する。このようなテープバニッシュ工程としては、例えば、アルミナ塗料を塗布したラッピングテープをゴム製のコンタクトロールによって磁気記録媒体１０の表面に押し当てることによって研磨処理を行う方法等、従来公知の方法及び装置を用いることができる。そして、このようなテープバニッシュ処理を施すことによって膜表面の異常突起等が除去された磁気記録媒体を最終検査工程（テスター）にて処理を行い、本発明に係る磁気記録媒体が得られる。
【００４３】
本実施形態では、上述のように、表面処理工程において磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂから確実に異物等を除去した後、テープバニッシュ工程を行なっている。これにより、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに異物が残留していない状態でテープバニッシュ処理を行うことができるので、磁気記録媒体１０とラッピングテープとの間に異物等が噛み込まれるのを防止することができる。従って、テープバニッシュ工程において磁気記録媒体表面が傷付くことが無い。
また、本発明では、上述の表面処理工程がテープバニッシュ工程の後にも備えられた方法としても良い。この場合には、テープバニッシュ工程で発生して磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに付着したダストを除去することが可能となる。
【００４４】
以上説明したように、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法及び製造装置によれば、表面処理装置１で用いるワイプテープ２を、導電性材料を含有するパッド３で押圧することで磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに接触させ、ワイプテープ２及び磁気記録媒体１０を除電しながら磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂを洗浄することにより、ワイプテープ２や媒体表面にパーティクル等の異物が付着、残存することを効果的に防止できる。このような表面処理装置１において効果的に洗浄された磁気記録媒体１０を、テープバニッシュ工程において研磨処理することにより、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂとラッピングテープとの間に異物が噛み込まれることが無いので、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂが傷付くことが無い。従って、エラーが少なく記録再生特性に優れた磁気記録媒体１０を提供することができる。
【００４５】
［磁気記録再生装置］
図６は、上記本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置によって得られる磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の一例を示すものである。
この磁気記録再生装置８０は、上記製造方法及び製造装置により得られる磁気記録媒体１０と、磁気記録媒体１０を回転駆動させる媒体駆動部８１と、磁気記録媒体１０に情報を記録再生する磁気ヘッド８２と、ヘッド駆動部８３と、記録再生信号処理系８４とを備えている。記録再生信号処理系８４は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド８２に送出し、また、磁気ヘッド８２からの再生信号を処理してデータを出力することができるようになっている。
本発明に係る磁気記録再生装置は、上記製造方法及び製造装置によって得られる磁気記録媒体を用いているので、記録再生特性に優れた磁気記録再生装置が得られる。
【実施例】
【００４６】
以下に、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を実証するための実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。
【００４７】
［実施例１］
洗浄済みのガラス基板１１（ＨＯＹＡ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０１０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板１１上に８９Ｃｏ−４Ｚｒ−７Ｎｂ（Ｃｏ含有率８９ａｔ％、Ｚｒ含有率４ａｔ％、Ｎｂ含有率７ａｔ％）のターゲットを用いて１００℃以下の基板温度で厚さ１００ｎｍの下地層１２をスパッタリングにより成膜した。
次いで、ガラス基板１１を２００℃に加熱して、上記下地層１２上に、６５Ｃｏ−３０Ｃｒ−５Ｂターゲットを用いて厚さ５ｎｍの中間層１３を形成し、６１Ｃｏ−２０Ｃｒ−１７Ｐｔ−２Ｂターゲットを用いて厚さ２５ｎｍの磁性層１４を形成した。なお、上記スパッタリング工程においては、成膜用のプロセスガスとしてアルゴンを用い、圧力０．５Ｐａにて成膜した。
次いで、プラズマＣＶＤ法により、厚さ５ｎｍの保護膜層１５を形成した。
次いで、ディッピング法により、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤層１６を形成し、ガラス基板上に各層が成膜された磁気記録媒体を得た。
【００４８】
そして、上記方法によって得られた磁気記録媒体を、図１に示すような表面処理装置１を用い、磁気記録媒体の表面を洗浄した。この際、ワイプテープ２を導電性のパッド３で押圧した状態で磁気記録媒体を回転させ、磁気記録媒体並びにワイプテープ２を除電しながら媒体表面を洗浄した。このような表面処理装置１によって洗浄した後の磁気記録媒体の表面を、光学式表面検査機（ＨＤＩ社製：ＳＲＡ−ＦＡ）によって確認したところ、パーティクル等の異物が残留していないことが確認された。
【００４９】
そして、上記方法によって表面から異物が除去された磁気記録媒体にテープバニッシュ処理を施し、媒体表面を研磨して本発明に係る磁気記録媒体を得た。
そして、得られた磁気記録媒体を、テスター（試験装置）にかけ、媒体表面を確認したところ、表面に傷等が生じていないことが確認できた。これにより、実施例１では、上述のテープバニッシュ処理において磁気記録媒体とテープとの間に異物が噛み込まれておらず、上記表面処理装置１によって磁気記録媒体表面の異物が確実に除去されていることが明らかとなった。
【００５０】
［実施例２］
本例では、図１に示すような表面処理装置１において、導電性材料が含有されたパッドを用いてワイプテープを押圧し、磁気記録媒体に接触させた場合の除電効果を実証するため、実際に磁気記録媒体を回転させてワイプテープ２に摺動させた際の静電気の電圧を測定した。この際、ワイプテープとして、カネボウ製「ＥＷ−ＮＣ−０１１ スーパークリーン（ナイロン＋ポリエステル）」を使用し、また、パッドとして、ＹＡＣ社製クロロプレンスポンジ（導電性カーボン含有）を用いた。
なお、測定位置は、磁気記録媒体表面、及び、ワイプテープ２において図４に示すａ〜ｄの各位置とし、静電気チェッカーとして、ＴＲｅｋ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ社製「ＭＯＤＥＬ ５２０（ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ ｖｏｌｔｍｅｔｅｒ）」を用いた。
また、測定回数については、各々の箇所において３回とし、その平均値を求めた。
実施例２における測定結果を下記表１に示す。
【００５１】
【表１】
【００５２】
［比較例１］
本例では、図１に示すような表面処理装置１を用い、パッドとしてＹＡＣ社製クロロプレンスポンジ（絶縁性）を用いた点を除き、実施例２と同様にして静電気を測定し、従来の表面処理方法による試験を行った。
比較例２における測定結果を下記表２に示す。
【００５３】
【表２】
【００５４】
［実施例２及び比較例１の評価結果］
表１に示すように、導電性のパッドを用いて表面処理装置を構成して試験を行なった実施例２では、ワイプテープ２をパッド３が押圧する箇所である「ｂ」の位置の静電気電圧が−３Ｖと非常に小さくなっている。また、磁気記録媒体表面の静電気電圧も１Ｖと非常に小さな数値となっている。
これに対し、絶縁性のパッドを用いて表面処理装置を構成して試験を行った比較例１では、ワイプテープ２をパッド３が押圧する箇所である「ｂ」の位置の静電気電圧が−３９Ｖ、「ａ」の位置の電圧が−１２３Ｖと、実施例２に比べて非常に大きな値となった。また、磁気記録媒体表面の静電気電圧は２Ｖであり、これも、実施例２に比べて大きな値となった。
【００５５】
また、実施例２においては、磁気記録媒体１０の洗浄時に該磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂと接触しない「ａ」、「ｃ」、「ｄ」の各位置での静電気電圧が、それぞれ−６５Ｖ、−１１１Ｖ、−１４４Ｖとなっている。これに対し、磁気記録媒体１０の表面１０ａ、１０ｂに対してワイプテープ２が接触する「ｂ」の位置における静電気電圧は、上述のように−３Ｖと非常に小さな数値となっている。
この結果より、導電性のパッド３を用いてワイプテープ２を押圧し、この位置（図５の符号ｂ参照）で磁気記録媒体１０を摺動して洗浄する、本発明に係る製造方法では、より高い除電効果が得られ、磁気記録媒体表面に付着した異物を効果的に除去することができることが明らかである。
【００５６】
以上の結果により、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置が、優れた除電特性と洗浄効果を有しており、また、この製造方法及び製造装置によって得られる磁気記録媒体が、エラーが少なく優れた記録再生特性を備えていることが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置の一例を模式的に説明する図であり、表面処理装置（表面処理手段）において、（ａ）が待機状態、（ｂ）がワイプテープをパッドで押圧して磁気記録媒体に接触させた状態を示す概略図である。
【図２】本発明に係る磁気記録媒体の一例を模式的に説明する図であり、ガラス基板上に成膜される各層構造を示す概略図である。
【図３】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置の一例を模式的に説明する図であり、スパッタ法を用いた成膜装置（成膜手段）を示す概略図である。
【図４】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置の一例を模式的に説明する図であり、静電気の電圧を測定する際の測定箇所を示す概略図である。
【図５】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び製造装置の一例を模式的に説明する図であり、図１に示す表面処理装置（表面処理手段）の側面を示す概略図である。
【図６】本発明に係る磁気記録再生装置の一例を模式的に説明する図である。
【符号の説明】
【００５８】
１…表面処理装置（表面処理手段）、２…ワイプテープ、３…パッド、４…ブロック、５…導電ケーブル、６…スピンドル、７…成膜装置（成膜手段）、１０…磁気記録媒体、１０ａ、１０ｂ…表面、１１…ガラス基板、１２…下地層、１３…中間層、１４…磁性層、１５…保護膜層、１６…潤滑剤層、８０…磁気記録再生装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理工程が備えられた磁気記録媒体の製造方法であって、
前記表面処理工程は、前記ワイプテープを、少なくとも導電性のパッドで押圧することによって磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記表面処理工程が、前記成膜工程の後に備えられていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ工程が備えられていることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記ワイプテープが織布であることを特徴とする請求項１〜３の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布であることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次成膜する成膜手段が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理手段が備えられた磁気記録媒体の製造装置であって、
前記表面処理手段は、少なくとも導電性のパッドが備えられており、前記ワイプテープを前記パッドで押圧して磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄するものであることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
【請求項７】
前記表面処理手段が、前記成膜手段において少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とが順次成膜された磁気記録媒体の表面を洗浄するものであることを特徴とする請求項６に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項８】
前記表面処理手段で洗浄された磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ手段が備えられていることを特徴とする請求項６又は７に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項９】
前記ワイプテープが織布からなることを特徴とする請求項６〜８の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布からなることを特徴とする請求項９に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１１】
請求項１〜５の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法、又は、請求項６〜１０に記載の磁気記録媒体の製造装置によって製造される磁気記録媒体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の磁気記録媒体と、この磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせてなる磁気記録再生装置。
【請求項１】
ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次形成する成膜工程が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理工程が備えられた磁気記録媒体の製造方法であって、
前記表面処理工程は、前記ワイプテープを、少なくとも導電性のパッドで押圧することによって磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記表面処理工程が、前記成膜工程の後に備えられていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記表面処理工程の後に、磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ工程が備えられていることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記ワイプテープが織布であることを特徴とする請求項１〜３の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布であることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
ガラス基板上に少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とを順次成膜する成膜手段が備えられているとともに、ワイプテープを用いて磁気記録媒体表面を洗浄する表面処理手段が備えられた磁気記録媒体の製造装置であって、
前記表面処理手段は、少なくとも導電性のパッドが備えられており、前記ワイプテープを前記パッドで押圧して磁気記録媒体表面に接触させ、前記ワイプテープ及び磁気記録媒体を除電しながら、該磁気記録媒体の表面を前記ワイプテープに摺動させて洗浄するものであることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
【請求項７】
前記表面処理手段が、前記成膜手段において少なくとも下地層と磁性層と保護膜層とが順次成膜された磁気記録媒体の表面を洗浄するものであることを特徴とする請求項６に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項８】
前記表面処理手段で洗浄された磁気記録媒体の表面を研磨するテープバニッシュ手段が備えられていることを特徴とする請求項６又は７に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項９】
前記ワイプテープが織布からなることを特徴とする請求項６〜８の何れか1項に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
前記ワイプテープが、ナイロン−ポリエステル系樹脂の織布からなることを特徴とする請求項９に記載の磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１１】
請求項１〜５の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法、又は、請求項６〜１０に記載の磁気記録媒体の製造装置によって製造される磁気記録媒体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の磁気記録媒体と、この磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対運動させる手段と、前記磁気ヘッドへの信号入力と磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせてなる磁気記録再生装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００８−１３５０９１（Ｐ２００８−１３５０９１Ａ）
【公開日】平成２０年６月１２日（２００８．６．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３１８８２４（Ｐ２００６−３１８８２４）
【出願日】平成１８年１１月２７日（２００６．１１．２７）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年６月１２日（２００８．６．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１１月２７日（２００６．１１．２７）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]