積層グレージングおよびその封止と周辺にある補強手段
本発明は、間にアクティブシステム（３）が配置された２つの基層（Ｓ１、Ｓ２）を含む積層グレージングに関し、グレージングには、特に蒸気の状態の水に対して、ポリマー類（エチレンビニルアセテート、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリアミド）の中から選択された熱硬化性ポリマー系の少なくとも１つのシールを含む、上記アクティブシステム（３）を封止するための周辺にある第１の封止手段（１０）と、特に液体水に対する第２の封止手段（１１）とが設けられ、上記第２の封止手段（１１）が基層の間に第１の封止手段（１０）に対して周辺に配置されることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は積層グレージングに関し、さらに詳細には、有機、無機、または有機／無機混成タイプとすることのできる１つ以上の層および／または１つ以上の不連続要素によって与えられた機能を提供するものに関する。通常、積層グレージングは２つの硬質基層からなり、その間に熱可塑性ポリマーシートまたはそのようなシートの重ね合わせが配置される。本発明はまた、いくつかのポリマーシートと組み合わされたガラスタイプの単一硬質基層を用いる「非対称」積層グレージングと呼ばれるものを含み、その少なくとも１つは一般にポリウレタン系である。本発明はまた、一方面または両面のエラストマータイプポリマー接着剤に基づく少なくとも１つの層間シートを有する積層グレージングを含む（すなわち、従来の用語の意味における積層作業を必要しない。一般に、積層は熱可塑性層間シートを軟化させ接着性にするために圧力下の加熱を伴う）。
【背景技術】
【０００２】
上述の層または不連続要素は、上記基層とポリマー系可撓性シートまたは上記シートの１つの間に１つの硬質基層に面して（または単一の硬質基板体に面して）一般に配置される。また、それらはそれ自体硬質基層を伴う２つの可撓性または半可撓性基層の間に配置することができ、または２つの硬質基層の間に配置することができる。それらは以降、用語「アクティブシステム」と呼ぶ。グレージングはいくつかのアクティブシステムを組み込むことができる。
【０００３】
本発明に関係するアクティブシステムの第１のタイプは一般に電気化学システムであり、さらに詳細には、可変エネルギーおよび／または光学特性を有するグレージングタイプの電気的に制御可能なシステムである。また、それらは光電池およびエレクトロルミネセントシステムを含む。
【０００４】
これらのシステムは非常に多岐にわたる用途を有する。
【０００５】
光電池は太陽エネルギーを光エネルギーに変換する。
【０００６】
電気的に制御可能なシステムは、特に、必要に応じて暗化／視認性の程度、または熱／太陽放射濾過の程度が変更可能であるグレージングを得るために用いられる。これらは、例えば、米国特許第５２３９４０６号明細書および欧州特許第６１２８２号明細書に記載されたものなど、光の透過または吸収を調節することのできるビオロゲン系グレージングである。
【０００７】
エレクトロルミネセントシステムは、電気エネルギーを直接光に変換するもので、その例は仏国特許第２７７０２２２号明細書に記載されている。
【０００８】
また、これらはエレクトロクロミックグレージングであり、光および熱の透過を変調することができる。例えば、それらは欧州特許第２５３７１３号明細書および欧州特許第６７０３４６号明細書に記載され、電解質はポリマーまたはゲルの状態であり、他の層は無機タイプである。他のタイプは欧州特許第８６７７５２号明細書、欧州特許第８３１３６０号明細書、仏国特許第００／００６７５号明細書、仏国特許第９９／０１６５３号明細書に記載され、この場合の電解質は本質的に無機層の形であり、したがってシステムの層の全ては無機であり、このタイプのエレクトロクロミックシステムは通常、用語「オールソリッドステート」エレクトロクロミックシステムと呼ばれる。また、システム層の全てがポリマータイプであるエレクトロクロミックシステムがあり、「全ポリマー」エレクトロクロミックシステムと呼ばれる。
【０００９】
一般に、エレクトロクロミックシステムは電解質層で分離され側面を２つの導電性層に接する２つのエレクトロクロミック材料の層を含む。
【００１０】
また、「光バルブ」と呼ばれるシステムがある。これらはポリマー系フィルムであり、電場の作用の下で選択的な方向を取ることのできる微小液滴含有粒子が配置される。この実施例は国際公開第９３／０９４６０号パンフレットに記載される。
【００１１】
また、液晶システムがあり、動作モードは前のシステムと同様である。それらは２つの導電性層の間に配置されたポリマーフィルムを用い、液晶の液滴、特に正の誘電性異方性のネマチック液晶が上記フィルムに分散される。電圧がフィルムに印加されるとき、液晶は選択的な軸に沿って配向され、それによって視野を与える。電圧が印加されないときフィルムは散乱性になる。その実施例は欧州特許第２３８１６４号明細書、米国特許第４４３５０４７号明細書、米国特許第４８０６９２２号明細書、米国特許第４７３２４５６号明細書に記載される。また、国際公開第９２／１９６９５号パンフレットに記載されたものなどのコレステリック液晶ポリマーも挙げることができる。
【００１２】
本発明に関するアクティブシステムの第２のタイプは層または多層に関し、特性は熱または光の効果によるエネルギー供給をしないで変更される。サーモクロミック層、特に酸化バナジウム系のもの、サーモトロピック層またはフォトクロミック層を挙げることができる。本発明の文脈内および本文脈を通して、用語「層」はその最も広い意味に解釈すべきである。含むことのできる材料は、無機材料および有機材料の両方であり、特にポリマーフィルムまたはゲルフィルムの状態とすることのできるポリマーである。これはサーモトロピックゲルの場合であり、例えば、欧州特許第６３９４５０号明細書、米国特許第５６１５０４０号明細書、国際公開第９４／２０２９４号パンフレット、欧州特許第８７８２９６号明細書に記載される。
【００１３】
本発明に関するアクティブシステムの第３のタイプは、ジュール熱により加熱する加熱ワイヤまたは格子または加熱電導層の形の要素に関する（これらは熱可塑性シートの表面に埋め込まれたワイヤとすることができ、例えば、欧州特許第７８５７００号明細書、欧州特許第５５３０２５号明細書、欧州特許第５０６５２１号明細書、欧州特許第４９６６６９号明細書に記載される）。
【００１４】
本発明に関するアクティブシステムの第４のタイプは、太陽光制御または低放射率特性を有する層または多層に関し、特に誘電体層に散在された１つ以上の銀層系である。これらの多層は１つの硬質基層の上に堆積することができ、またはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）タイプの可撓性基層上に堆積することができ、これはＰＶＢ（ポリビニルブチラール）タイプの熱可塑性ポリマーの２つのシート間に配置されて２つのガラスタイプ硬質基層と組み立てられる。これらの実施例は欧州特許第６３８５２８号明細書、欧州特許第７１８２５０号明細書、欧州特許第７２４９５５号明細書、欧州特許第７５８５８３号明細書、欧州特許第８４７９６５号明細書に見られる。
【００１５】
これらのシステムのいくつかは外部電源に電気的に接続する手段を必要とし、いかなる回路短絡も避けるように設計しなければならない。これらの全てのシステムは、それらが大なり小なり共通に、機械的または化学的攻撃、水との接触、または外部との交換に敏感である。
【００１６】
これは、その適切な動作を維持するために、これらのアクティブシステムが通常少なくとも１つの保護キャリア基層に面して配置される理由である。通常、それらは例えば、ガラスまたは硬質または半硬質または可撓性ポリマーから作られた２つの保護基層間に、それに直接接触することによって、または１つ以上の熱可塑性タイプの組み立てポリマーシートを経由してのいずれかで配置される。通常、それらは上述の積層構造を有し、しばしば周辺にある封止手段が設けられ、目的はアクティブシステムをできる限り外側から隔離することである。
【００１７】
そのような封止手段は仏国特許第２８１５３７４号明細書に記載され、シールのシステムを開示する。このシールのシステムは、気体、液体、および塵挨から隔離し、機械的強度または取り付け枠との境界面（自動車グレージングの場合車体）をできる限り提供する目的でグレージングの周辺に加えられた多くの要素からなる。シールのシステムはしばしば全ての機能を同時に提供するようにいくつかの要素から作られる。この特許明細書に記載されるように、シールのシステムはブチルシールと呼ばれるポリイソブチレン系シール（気体障壁である）とポリスルフィドまたはポリウレタンシール（液体障壁である）を組み合わせる。
【００１８】
さらにこの仏国特許明細書において、ブチルシールは２つの基層の間に配置されるのが好ましいが、これは少なくとも２つの理由による。第１に、その非常に低いガラス転位温度Ｔｇは通常の動作温度で熱機械的特性が不十分であり、ブチルシールはそれが例えば破断によって劣化する危険性があるので、外部環境に直接接触してはならない。第２に、ブチルシール基層の各々の内部面に接触し、これはグレージングの周縁部全体にわたって気体障壁の連続性を保証する。
【００１９】
このシールシステムは従来の厚さ（数ｍｍ程度）の基層には効果があるが、薄い基層（１ｍｍ未満の厚さ）の場合には問題が生じる。
【００２０】
これは、そのような硬質基層／可撓性中間層／硬質基層の組み立て体が、積層作業（通常圧力下で行われ、熱の下で行われる）の間に機械的に過剰の応力を受けることがあるためである。アクティブシステムが存在する周辺溝のゾーン中の硬質基層の縁部は突出し、圧力の下、上記基層のより中心の部分に比べて曲がり易い。光学的歪効果が発生し、これらは反射および／または透過において視認できる。
【００２１】
ガラスタイプの硬質基層の場合、破壊の危険性がある。また、不完全な接着の危険性があり、周辺の気泡の存在によって示唆される。
【００２２】
さらに、薄い基層は積層後封入作業中に金型によって発生する圧縮力に十分耐える機械的特性をもたず、周辺で破壊する危険があり、したがって、アクティブシステムを組み込むデバイスは仕様から外れることになる。
【００２３】
仏国特許第２８１５３７４号明細書に示されたように、ブチルシール中に鋼球などの機械的補強手段を挿入すること、または周辺に金属枠を加えることが可能であるが、これらの要素の全ては積層ポリマーとは異なる熱機械的挙動を示し、したがって、光学的歪または破壊の危険性が増加する欠点がある。さらに、金属枠の場合、金属枠は基層上に積層されず、したがって、２つの基層の間の周辺部の接着はゼロである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２４】
したがって、本発明の目的は上述の積層グレージングのシールのシステム設計を改善することであり、特に、その化学的特性および／またはその機械的特性および／またはその工程および／またはアクティブシステムを保護する基層に対するその構造に関して改善することである。
【００２５】
一般に、シリコーンまたはポリスルフィドシールと組み合わせたブチルゴムシールが用いられる。
【００２６】
しかし、これらのシールは、少なくとも３つの必ずしも両立できるとは限らない必要条件をできる限り満たさなければならないので、いくつかの点で改善することが可能である。
【００２７】
見てきたように、それらはアクティブシステムを外側から隔離しなければならず、したがって、特にその蒸気の状態および／または液体の状態の水または他の溶媒に対して、できる限り効率的に障壁として働かなければならない。しかし、これまで用いられたシール、特に仏国特許第２８１５３７４号明細書に記載されたもの、特にブチルゴム系は、これに関して完全に満足できるものではなく、それらは蒸気の状態の水に対して全体的に満足できる障壁を構成するが、液体の状態では満足できない。
【００２８】
それらの工程は、それらがデバイスの縁部に配置される方法を含み、工業的見地から必ずしも最も簡単とはいえない。
【００２９】
最終的に、それらの機械的特性は必要とされるものよりも実質的に劣ることがある。
【００３０】
また、米国特許第６００１４８７号明細書から、２つの基層を含みその間にアクティブシステムが配置される積層されたグレージングが知られ、上記グレージングにはポリイソブチレン系シールを含む周辺にある封止手段が設けられる。
【００３１】
さらに詳細には、アクティブシステムが２つの薄い基層（各基層の厚さは実質的に３ｍｍに近く、またははるかに薄い（０．４ｍｍ〜１．８ｍｍ、好ましくは０．７ｍｍ））の間に挟まれるとき、液体水の封止障壁を提供し一般に封入技術によって用いられる周辺にある封止手段はグレージングを損傷する危険性がある。これは、薄い基層が成形によって発生した圧縮力に耐える十分な機械的特性を有せず、周辺部の破壊の危険性があり、したがって、アクティブシステムを組み込むデバイスは仕様から外れたものになるからである。
【００３２】
さらに、薄い積層基層は周辺にあるシールを接合するための接触面積が非常に小さくなる。これは、押出しおよび／または封入技術によって加えられた周辺にあるシールの最適接合がガラスシートの厚さによって決定されるからである。したがって、薄い基層ではガラスシートの縁部が実質的に線状に減少し、これはシールの最適接合を可能にするには明らかに厚さが薄すぎる。
【００３３】
したがって、本発明の目的は、上述の積層グレージングの上記シールの設計を改善することであり、特に、その化学的特性および／またはその機械的特性および／またはその工程および／またはアクティブシステムを保護する基層に対するその構造に関して改善することである。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
本発明の第１の主題は、さまざまな構造が上で説明された積層グレージングであり、上記グレージングは上述の中でも上記グレージングの２つの薄い基層の間に配置された「アクティブシステム」を含む。本発明は、特に蒸気の状態の水に対して、次のポリマー群（エチレン／ビニルアセテート、ポリイソブチレン（ブチルゴム）、およびポリアミド）の少なくとも１つから選択される１つ以上のホットメルトポリマーに基づく少なくとも１つのシールを含む上述のアクティブシステムを封止するための周辺にある第１の封止手段と、特に液体水に対して封止する第２の封止手段とを備えるグレージングを提供することからなり、この第２の封止手段は基層の間に第１の封止手段に対して周辺に配置される。
【００３５】
シールと封止すべき材料との間の境界面に拡散路が形成されるのを防止し、シールの剥離を避けるために、本質的に不浸透性なだけではなく、それが接触する材料に非常に良好に接着するポリマーを選択することは重要である。また、そのような接合剤を使用する替わりに、またはそれに加えて、特にポリイソブチレンの場合、ホットメルトポリマー中に存在する分子量の分布を変化させることができる。いくつかの分子量を混合することによって、良好な温度クリープ抵抗性を得ること（高分子量に関して）、および封止すべき材料への良好な接着と良好な「粘着性」（低分子量の場合）を得ることが可能である。
【００３６】
全般的に、本発明の意味において、第１の封止手段はホットメルトである。それは室温で軟化点を有し、およびこの温度での粘度によって、柔らかい外観を有し、したがって、それは工業的に許容可能な温度で取り付け／形成するために液化することが可能である。
【００３７】
また、それらは１９０℃で０．１〜２０Ｐａ．ｓ、特に０．８〜８Ｐａ．ｓの粘度を有する。
【００３８】
最終的に、それらはＡＳＴＭ Ｅ ９６６３ Ｔ 規格による蒸気の状態の水への浸透性が５または４または３ｇ／ｍ２／２４ｈを超えず、特に１ｇ／ｍ２／２４ｈを超えず、これは水に対して特に不浸透性であることを意味する。
【００３９】
上述のシールのホットメルトポリマーはマスチックに置き換えることができ、これは熱いときはホットメルトポリマーのように挙動するが、固体相から液体相への転移はホットメルトとは異なり可逆的ではない（マスチックは熱硬化性であるので）。また、それらが取り付けられた後にのみ架橋するものから選択されるならば、それらを液相でグレージングに取り付けることのできる利点がこのマスチック類の場合に存在する。
【００４０】
最も特に好ましくは、ポリウレタン系マスチックであり、その水蒸気透過性は４ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であり、２ｇ／ｍ２／２４ｈに近い。所望の基準（特に５ｇ／ｍ２／２４ｈ以下の水蒸気透過性）を満足するＰＵ系マスチックは、Ｔｒｅｍｃｏから参照番号ＩＳ４４２（透過性５ｇ／ｍ２／２４ｈ）で、およびＬｅ Ｊｏｉｎｔ Ｆｒａｎｃａｉｓから参照番号ＰＵ３１８９／２（透過性４ｇ／ｍ２／２４ｈ）で販売されているマスチックである。これらの特定のマスチックの利点は、それらが良好な水蒸気不透過性と液体水不透過性の両方を提供することであるが、液体水の障壁として働くことを意図した第２のシールでホットメルト系シールを「ライナー」することが好ましい。ポリスルフィドまたはシリコーン系マスチックも用いることができる。
【００４１】
本発明による第１の封止手段に用いられるポリマーの化学的性質に関して結論付ければ、これらのホットメルトポリマーは非常に異なる用途、特に靴産業および段ボール箱産業に用いられていることが知られており、本発明に関連する他の全ての技術分野において、それらが特に有利であることを実証するものである。
【００４２】
また、本発明の他の面は、シール、特に、しかし排他的ではなく、薄いガラスシートに基づく積層グレージング用の上述のホットメルトシールの機械的強度を向上させる可能性に関する。また、本発明の主題は、周辺にある第１の封止手段、特に蒸気の状態の水に対する封止を設けた同じタイプの基層であり、これは、少なくとも１つのポリマー系シールを含み、機械的補強手段および／またはその間にアクティブシステムが配置される２つの基層と液体の状態の水に対する封止との間に空間を設定する手段の両方を提供する第２の封止手段と組み合わされる。
【００４３】
これは、いくつかの場合にシールが大きな機械的強度を有する必要があるためである。これは、デバイスが、薄いと言われる（０．４ｍｍ〜１．８ｍｍの厚さ）２つの硬質または半硬質基層を含み、その間にアクティブシステムおよび１つ以上の組み立てポリマーシートが配置される積層グレージングの形であるとき特に真実である。この場合、１つの適切な構造は組み立てポリマーシート（およびアクティブシステム自体も）が２つの基層よりも小さな寸法を有することを保証することである。したがって、グレージングの周辺に溝が形成され、その溝の中に１つ以上の第２の封止手段を収容することができる。しかし、この構造のおかげで、機械的補強特性および水障壁特性を有する周辺にある第２のシールを同時に使用するので、ホットメルトシール（これは機械的強度を提供しない）を用いることが可能である。
【００４４】
これらの状況下で、１つ以上の周辺にあるシールを用いることによって、２つの薄い基層の間にその周辺で適切な空間を維持することが可能であり、それらが少なくとも組み立て作業中に溝の「重要な」周辺ゾーンに曲がる傾向を防止する。
【００４５】
封止および補強／設定の第２の手段の一実施形態において、これは特に低融点の熱可塑性とされた積層中間層タイプの枠の形とすることができる。枠の断面は正方形、矩形等とすることができる。この枠は１部品の枠とすることができ、または取り付け中にいくつかの部品から端部と端部を配置して作ることができる。この周辺にある第２の封止手段は、例えば、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン／ビニルアセテート ＥＶＡ、または硫黄系ポリマー系のもの、アクリル酸ポリエチレンまたはＥＰＤＭ系のものから作られた熱可塑性ポリマーシールのタイプに定めることができ、これはブチル系の第１の封止手段のように押出し成型し、またはある種のポリウレタンから作ることができる。このシールは、グレージングを積層するために用いられる熱可塑性層間シートの性質と同じ化学的性質または類似の化学的性質を有するのが有利である。
【００４６】
したがって、標準的な二重グレージング単位の板ガラス間の空間を維持するために用いられる枠／スペーサーの構造に近づけることが可能である。
【００４７】
したがって、層間シートはその中にシールを収容するための周辺溝を形成するように、２つの板ガラスから後退して切断され、溝には上述のように１つまたは両方のシールを確実に設けることが可能である。次いで、溝の「充填」は層間シートと同じ起源の熱可塑性ポリマーのストリップで完成される。これらのストリップは液体不浸透性の役割を正しく遂行し、これは中間層を作るのに用いられたので、既に入手可能な材料から作られる。これは、熱可塑性シートを補完シールとして働かせるように熱可塑性シートを「流用する」簡単で効率的な解決策である。この熱可塑性シールはグレージング全体に連続していることが好ましいが、不連続とすることもできる。したがって、それはその前面に配置された他のシールを周辺溝の中に「捕える」。
【００４８】
この場合、デバイスの第１のおよび第２の封止手段は並列のシールを含むのが好ましい。例えば、異なる化学的手法を有する２つのタイプのシールを共射出／共押出しすることができる。また、２つの予備押出しまたは予備成形または予備切断されたビーズを並べて置くことも可能である。全てのシールを上述の周辺溝に収容して配置することができる。したがって、これはその封止機能が基層と面一であってそこから突出しないデバイスを与え、この配置は、基層を車両、航空機（客室グレージングとして用いられる）または建物、またはディスプレイに取り付けるとき、魅力的であり実用的である。
【００４９】
一般に、これらの封止／機械的補強手段は他の基層との組み立ての前にデバイスの基層の１つに配置される（上述したビーズの場合）。
【００５０】
また、その化学的性質が液体水および水蒸気の両方に対して不浸透性を満足するならば、設けられた単一シールを用いることが可能である。
【００５１】
有利には、本発明の文脈において用いられる封止／補強手段は、アクティブシステムの導電性層に接触しないように配置される。
【００５２】
本発明を、図１、図２、および図３を用いて以下の非限定的な実施例でより詳細に説明する。これらの図は、本発明に従って封止された積層エレクトロクロミックグレージングを非常に概略的に示す。実施例は全て「オールソリッドステート」エレクトロクロミックグレージングに関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５３】
添付の図面には、図の理解をより容易にするために、いくつかの要素を実際よりも大きいまたは小さい尺度で示すことができる。
【００５４】
図１および図２に示される実施例はエレクトロクロミックグレージング１に関する。それは、乗客コンパートメントの内側から外側へ順々に、２つの薄い板ガラスＳ１、Ｓ２を含み、これらは透明（しかしそれらは着色することもできる）なソーダライムシリカ板ガラスであり、例えば、それぞれ０．４ｍｍおよび１．８ｍｍの厚さである。
【００５５】
板ガラスＳ１およびＳ２は１５０ｍｍ×１５０ｍｍの同じサイズである。
【００５６】
板ガラスＳ１は、エレクトロクロミックタイプ薄膜多層３を挟むポリウレタン（ＰＵ）から作られた厚さ０．８ｍｍの熱可塑性シートｆ１によって（エチレン／ビニルアセテート（ＥＶＡ）またはポリビニルブチラール（ＰＶＢ）のシートで置き換えることができる）板ガラスＳ２に積層される。
【００５７】
エレクトロクロミック薄膜多層は「オールソリッドステート」タイプとすることができ、例えば、電流コレクター２および４とも呼ばれる２つの導電性材料の間に配置されたアクティブ多層３を含む。コレクター２は面２に接触することが意図される。
【００５８】
コレクター２と４およびアクティブ多層３は実質的に同じ寸法と形状、または実質的に異なる寸法と形状とすることができ、したがってコレクター２と４の経路は構造に応じて適合されることを理解されたい。さらに、基層の寸法は、特にＳ１の寸法は、２、４、および３の寸法よりも実質的に大きくすることができる。
【００５９】
コレクター２と４は金属タイプ、またはＩｎ２Ｏ３：Ｓｎ（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２：ＦまたはＺｎＯ：Ａｌから作られたＴＣＯ（透明導電性酸化物）タイプ、またはＴＣＯ／金属／ＴＣＯの多層タイプ（これらのＴＣＯは上述のものから選択することが可能である）であり、金属は特に銀、金、白金、銅から選択される。また、それはＮｉＣｒ／金属／ＮｉＣｒの多層タイプとすることができ、金属はやはり特に銀、金、白金、銅から選択される。
【００６０】
構造に応じて、それらは省略することができ、この場合電流リード線はアクティブ多層３に直接接触する。
【００６１】
グレージング１は電流リード線８、９を組み込み、アクティブシステムを電気供給によって制御することを可能にする。これらの電流リード線は加熱グレージング用に用いられるもの（すなわち、シム、ワイヤ等）のタイプである。
【００６２】
コレクター２の１つの好ましい実施形態は、面２（面の番号付けの体系は、容器の内部に向かって、１：Ｓ１の外側面、２：Ｓ１の内部面、３：Ｓ２の内部面、４：Ｓ２の外側面であることが再確認される）の上に、４００ｎｍのＳｎＯ２：Ｆの第２の層を被覆した５０ｎｍのＳｉＯＣの第１の層を堆積することからなる（両方の層は切断前にフロートガラス上にＣＶＤによって順々に堆積されることが好ましい）。
【００６３】
コレクター２の第２の実施形態は、約１００〜６００ｎｍのＩＴＯの第２の層を被覆した、ドーピングしてもよい、またはドーピングしなくてもよい（特にアルミニウムまたはホウ素でドーピングした）２０ｎｍのＳｉＯ２系の第１の層からなる２層を面２の上に堆積することからなる（両方の層は、酸素の存在下で、場合によって加熱して実施されるマグネトロン反応性スパッタリングによって順々に真空蒸着されることが好ましい）。
【００６４】
コレクター２の他の実施形態は、面２の上に、ＩＴＯからなる約１００〜６００ｎｍの単層（層は酸素の存在下で、場合によって加熱して実施されるマグネトロン反応性スパッタリングによって順々に真空蒸着されることが好ましい）を堆積することからなる。
【００６５】
コレクター４は、また、マグネトロン反応性スパッタリングによって堆積された１００〜５００ｎｍのＩＴＯ層である。
【００６６】
アクティブ多層３は第１の実施形態に従って以下のように作られる：
ニッケル酸化物から作られた１００〜３００ｎｍのアノード性エレクトロクロミック材料の層（この層は他の金属と合金化してもよい、またはしなくてもよい）、
１００ｎｍの水和タンタル酸化物または水和シリカ酸化物または水和ジルコニウム酸化物、またはこれらの酸化物の混合物の層、
２００〜５００ｎｍ、好ましくは３００〜４００ｎｍ、特に約３７０ｎｍのタングステン酸化物系のカソード性エレクトロクロミック材料の層。
【００６７】
アクティブ多層３は第２の実施形態に従って以下のように作られる：
ニッケル酸化物から作られた１００〜３００ｎｍのアノード性エレクトロクロミック材料の層（この層は他の金属と合金化してもよい、またはしなくてもよい）、
１００ｎｍの水和タングステン酸化物の層、
１００ｎｍの水和タンタル酸化物または水和シリカ酸化物または水和ジルコニウム酸化物、またはこれらの酸化物の混合物の層、
２００〜５００ｎｍ、好ましくは３００〜４００ｎｍ、特に約３７０ｎｍの水和タングステン酸化物系のカソード性エレクトロクロミック材料の層。
【００６８】
アクティブ多層３は第３の実施形態に従って以下のように作られる：
イリジウム酸化物から作られた７０〜１００ｎｍのアノード性エレクトロクロミック材料の層（この層は他の金属と合金化してもよい、またはしなくてもよい）、
１００ｎｍの水和タングステン酸化物層、
１００ｎｍの水和タンタル酸化物または水和シリカ酸化物または水和ジルコニウム酸化物、またはこれらの酸化物の混合物の層、
２００〜５００ｎｍ、好ましくは３００〜４００ｎｍ、特に約３７０ｎｍの水和タングステン酸化物系のカソード性エレクトロクロミック材料の層。
【００６９】
アクティブ多層３は、仏国特許出願第２７８１０８４号明細書に記載されるように、周辺の電気的漏洩を制限する目的で、機械的手段またはレーザー放射、場合によってパルスレーザー放射を用いてエッチングによって、その周辺全体または一部に溝の切り込みを入れることができる。
【００７０】
他の実施形態において、「オールソリッドステート」アクティブ多層３は他の種類のポリマータイプエレクトロクロミック材料に置き換えることができる。
【００７１】
したがって、例えば、１０〜１００００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）から作られた（変形としてこのポリマーの誘導体の１つとすることができる）アクティブ層とも呼ばれるエレクトロクロミック材料の層から形成される第１の部分は、その電流コレクターでコーティングされた基層上に、知られている液体堆積技術（スプレイコーティング、浸漬コーティング、スピンコーティング、または鋳造）によって、または電気的堆積によって堆積することができ、この電流コレクターは、場合によってワイヤ等を設けて、導電体を形成する上部導電性層または下部導電性層（アノードまたはカソード）とすることが可能である。このアクティブ層を構成するポリマーが何であれ、ポリマーは特にＵＶに対して安定であり、リチウムイオン（Ｌｉ＋）または替わりにＨ＋イオンの挿入／射出によって動作する。
【００７２】
電解質として働く、厚さ５０ｎｍ〜２０００μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜１０００μｍの厚さを有する層から形成された第２の部分は、第１の部分と第１の部分上の第３の部分等の間に知られている液体堆積技術（スプレイコーティング、浸漬コーティング、スピンコーティング、または鋳造）によって、または射出によって堆積される。
【００７３】
この第２の部分は、ポリオキシアルキレン、特にポリオキシエチレン系である。それは無機タイプ電解質、例えば、水和タンタル酸化物、ジルコニウム酸化物、またはシリコン酸化物系の層と組み合わせることができる。
【００７４】
この第２の電解質部分は、それ自体ガラスまたは類似の基層によって支持されたエレクトロクロミック材料のアクティブ層上に堆積され、次いで、第３の部分でコーティングされる。その構成は第１の部分と同様であり、すなわちこの第３の部分は電流コレクター（導電性ワイヤ、または導電性ワイヤ＋導電性層、または導電性層だけ）でコーティングされた基層から作られ、この電流コレクター自体はアクティブ層で被覆される。
【００７５】
この実施例はプロトン移動によって作動するグレージングに相当する。それは０．８ｍｍのソーダライムシリカガラスから作られた第１のガラス基層Ｓ１からなり、続いて：
３００ｎｍの導電性の第１のＳｎＯ２：Ｆ層、
１８５ｎｍの水和ニッケル酸化物ＮｉＯｘＨｙ（５５ｎｍの水和イリジウム酸化物の層で置き換えることができる）から作られたエレクトロクロミック材料のアノード性の第１の層、
７０ｎｍの水和タンタル酸化物の第１の層、１００μｍのＰＯＥ／Ｈ３ＰＯ４ポリオキシエチレン／リン酸固溶体または替わりにＰＥＩ／Ｈ３ＰＯ４ポリエチレンイミン／リン酸固溶体の第２の層から作られた電解質、これに組み合わせて、
１００ｎｍの水和タンタル酸化物または水和シリカ酸化物または水和ジルコニウム酸化物またはこれらの酸化物の混合物の層、
３５０ｎｍのタングステン酸化物系のカソード性エレクトロクロミック材料の第２の層、
３００ｎｍの第２のＳｎＯ２：Ｆ層、続いて第１のガラス基層と同じ第２のガラス基層。
【００７６】
したがって、この実施例において、通常このタイプのグレージングに用いられるポリマー系の２層電解質が存在し、これはポリマーを経由するプロトン移動を損なうことなく十分導電性であり、アノード性エレクトロクロミック材料から作られた対電極が、その本質的な酸性のためそれに対して有害であるポリマーと直接接触することを保護する水和タンタル酸化物の層で「ライナーされる」。
【００７７】
水和Ｔａ２Ｏ５層の替わりに水和Ｓｂ２Ｏ５またはＴａＷＯｘタイプの層を用いることができる。
【００７８】
また、２つの水和酸化物層を備える３層電解質を提供することも可能であり、その１つがポリマー層の両側にあるか、または２つの層がアノード性エレクトロクロミック材料の層に面する側で互いに重なり合う。
【００７９】
アクティブシステムのタイプが何であれ、図２および図３に示したグレージングは面２と３に接触する周辺にある第１のシールを組み込み、この第１のシール１０は外部の化学的攻撃に対する障壁および水蒸気障壁を提供する。
【００８０】
この第１のシールのための手法の実施例は以下の通りである：
５〜４０％のビニルアセテートおよび４０〜９５％のエチレンを含むエチレン／ビニルアセテート系（これは特にＮａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈから「Ｉｎｓｔａｎｔ Ｐａｋ２３００」の名称で販売されているＥＶＡ、またはＴＲＬから「Ｔｈｅｒｍｅｌｔ ２１４７／２１５７」の名称で販売されているＥＶＡ）、この系には、以下の添加剤の少なくとも１つを含むことが可能である：
粘着性増強樹脂、
架橋剤、
充填剤。
【００８１】
このタイプの手法は、水蒸気に対して顕著に不浸透性でありガラスへの接着性の高い第１のシール１０を与え、それを非常に効率的にする。
【００８２】
あるいは、ＥＶＡ系シールの替わりに、ポリアミド系またはポリイソブチレンまたはブチルゴム系シールを用いることが可能である。
【００８３】
上述の実施例において、シールはホットメルトシールである。それは室温で柔らかく、または溶融することができ、次いで圧力下で既に組み立てられたグレージングの周辺溝へ注入することができる。シールはまた、板ガラスＳ２と組み立てる前に、板ガラスＳ１の周辺に取り付けることができ、積層作業は圧力と、場合によっては熱の効果の下で所望の断面を設定する。
【００８４】
周辺にある第２のシール１１はＳ１の面２およびＳ２の面３に接触し、第１のシール１０の周辺に配置される。それは液体水の封止障壁および周辺溝を機械的に補強する手段を提供し、薄い基層が積層中または後続の取り扱い作業中に破壊するのを防止する。
【００８５】
この第２のシール１１は第１のシール１０の周りに巻かれて、液体水を封止する。それは、
ポリウレタン（ＰＵ）または任意の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）ポリマーの押出し成型によって、
ＰＵの反応性射出成形（ＲＩＭ）によって、
ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）／ＴＰＥ混合物の熱可塑性射出成形によって、
エチレンプロピレンジエンモノマー（ＥＰＤＭ）ターポリマーの射出成形および硬化によって、
積層中間層に用いられるものと類似の熱可塑性プラスチックから作られた枠または枠の一部の配設によって配設することができる。
【００８６】
また、第２のシールは、ＰＵ、ＥＶＡ、ＰＶＢ、またはアクリル酸ポリエチレン、例えば、熱可塑性層間シートと同じ種類のストリップとすることができる。
【００８７】
第２のシールは、グレージングの組み立ての前または後に、第１のシールと同時に、または第１のシールの後に配置することができる。それは、２つの板ガラスの縁部を覆って「突出する」ことができ、または２つのシールが互いに最終の積層グレージングと面一であるように、グレージングの周辺溝中の第１のシールに接合することができる。
【００８８】
したがって、本発明はシールを機械的に補強するための新規な化学的なシールの手法および新規な手段を提供した。これらの封止手段および機械的補強手段は、それが、水（液体／または蒸気）または酸素などの気体、一般にあらゆる雰囲気への暴露に敏感な２つの基層間の層／要素を保護することが必要とされるときはいつでも効果的である。
【００８９】
また、本発明は製造工程を簡略化することが可能であり、シールは積層作業中に配置され、それはもはや積層後に封入作業を行う必要がない。
【００９０】
無論、熱可塑性中間層が両面接着ポリマーフィルムで置き換えられたグレージング用の反射中に作動するアクティブシステム（例えば、リアミラータイプのエレクトロクロミックミラー）を有するグレージングにそれらを用いることも可能である。
【００９１】
また、それらは非ガラス基層にも適合する。また、それらは周辺にあるシールであるが積層板グレージングの形ではないものを必要とする（二重グレージング、硬質基層を備えないシステム等）アクティブシステムに適用することもできる。
【００９２】
したがって、それらはアクティブ多層がグレージングの総面積の小さな部分だけを占拠するグレージング（例えば、太陽遮蔽帯等）、またはさらに一般に、アクティブシステム、特にエレクロトクロミックシステムがグレージング全体内で唯一の付属品である任意のタイプのグレージングに適用することもできる。この場合ＰＵおよび周辺にあるその第１の封止手段はアクティブシステムで覆われたゾーンだけに必要であり、特にＥＶＡまたはＰＶＢ系の第２の封止／補強手段は従来のゾーンにとって十分である。
【００９３】
さらに本発明の他の好ましい実施形態によれば、上述の積層グレージングは車両機器パネル前部のファサードとして用いることができる。車両機器の前に配置され、アクティブシステムが着色されるとき、それは機器パネルを覆い隠し、従って、機器パネルには現れない情報またはさまざまなダイアル（回転計数器、速度表示器、温度表示器、ディスプレイスクリーン、時計等）を遮蔽する。アクティブシステムのこの着色された状態は、計器盤全体に特に魅力的な表情を与える（一般に、この状態は車両が停止している位置を設定する）。
【００９４】
対照的に、アクティブシステムの無色状態において、機器パネル前部のファサードとして配置された積層グレージングは機器パネルから来る情報の運転者の視認性を妨げず、その機能は影響を受けない。本発明は、一般に着色ガラスから作られたファサードからなる従来技術の解決策よりも、着色ファサードであるにもかかわらずこの情報システムが見えることを保証するものであり、機器パネル情報システムの寸法を超える過大寸法の必要がない特別の利点を有し、そのような過大寸法は過剰量の電力消費と過剰な加熱を招くディスプレイデバイスをもたらすことを特記することができる。
【００９５】
また、やはり機器パネルのスクリーンの前部のファサードとして配置された本発明による積層グレージングは、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）スクリーンとして用いることが可能である。
【００９６】
このスクリーンに投影された情報が正しく見えることを保証するために、積層グレージングはそれに重なり合う第３の後部ガラスと組み合わされる。このスクリーンに投影され表示された虚像が、ガラス（異なる面）の固有の反射特性によるさまざまな反射、および像の面に対する使用者の相対位置によって歪むのを防止するため、後部ガラスは楔状ＰＶＢシートを挿入することによって本発明による積層グレージングと重ね合わされる。
【００９７】
ヘッドアップスクリーンの動作は以下の通りである。
【００９８】
アクティブシステムの着色状態において、投影された像はスクリーンによって反射され、光学的に歪むことなく運転者によって見えるようになる。
【００９９】
アクティブシステムの無色状態において、投影された（または投影されない）像は、機器パネルの前面ファサードに配置されたスクリーンによって反射されず、指示器、計数器等からの機器パネル上の通常の情報は正常に現れる。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明に従って封止された積層エレクトロクロミックグレージングの概略図を示す。
【図２】本発明に従って封止された積層エレクトロクロミックグレージングの概略図を示す。
【図３】本発明に従って封止された積層エレクトロクロミックグレージングの概略図を示す。
【技術分野】
【０００１】
本発明は積層グレージングに関し、さらに詳細には、有機、無機、または有機／無機混成タイプとすることのできる１つ以上の層および／または１つ以上の不連続要素によって与えられた機能を提供するものに関する。通常、積層グレージングは２つの硬質基層からなり、その間に熱可塑性ポリマーシートまたはそのようなシートの重ね合わせが配置される。本発明はまた、いくつかのポリマーシートと組み合わされたガラスタイプの単一硬質基層を用いる「非対称」積層グレージングと呼ばれるものを含み、その少なくとも１つは一般にポリウレタン系である。本発明はまた、一方面または両面のエラストマータイプポリマー接着剤に基づく少なくとも１つの層間シートを有する積層グレージングを含む（すなわち、従来の用語の意味における積層作業を必要しない。一般に、積層は熱可塑性層間シートを軟化させ接着性にするために圧力下の加熱を伴う）。
【背景技術】
【０００２】
上述の層または不連続要素は、上記基層とポリマー系可撓性シートまたは上記シートの１つの間に１つの硬質基層に面して（または単一の硬質基板体に面して）一般に配置される。また、それらはそれ自体硬質基層を伴う２つの可撓性または半可撓性基層の間に配置することができ、または２つの硬質基層の間に配置することができる。それらは以降、用語「アクティブシステム」と呼ぶ。グレージングはいくつかのアクティブシステムを組み込むことができる。
【０００３】
本発明に関係するアクティブシステムの第１のタイプは一般に電気化学システムであり、さらに詳細には、可変エネルギーおよび／または光学特性を有するグレージングタイプの電気的に制御可能なシステムである。また、それらは光電池およびエレクトロルミネセントシステムを含む。
【０００４】
これらのシステムは非常に多岐にわたる用途を有する。
【０００５】
光電池は太陽エネルギーを光エネルギーに変換する。
【０００６】
電気的に制御可能なシステムは、特に、必要に応じて暗化／視認性の程度、または熱／太陽放射濾過の程度が変更可能であるグレージングを得るために用いられる。これらは、例えば、米国特許第５２３９４０６号明細書および欧州特許第６１２８２号明細書に記載されたものなど、光の透過または吸収を調節することのできるビオロゲン系グレージングである。
【０００７】
エレクトロルミネセントシステムは、電気エネルギーを直接光に変換するもので、その例は仏国特許第２７７０２２２号明細書に記載されている。
【０００８】
また、これらはエレクトロクロミックグレージングであり、光および熱の透過を変調することができる。例えば、それらは欧州特許第２５３７１３号明細書および欧州特許第６７０３４６号明細書に記載され、電解質はポリマーまたはゲルの状態であり、他の層は無機タイプである。他のタイプは欧州特許第８６７７５２号明細書、欧州特許第８３１３６０号明細書、仏国特許第００／００６７５号明細書、仏国特許第９９／０１６５３号明細書に記載され、この場合の電解質は本質的に無機層の形であり、したがってシステムの層の全ては無機であり、このタイプのエレクトロクロミックシステムは通常、用語「オールソリッドステート」エレクトロクロミックシステムと呼ばれる。また、システム層の全てがポリマータイプであるエレクトロクロミックシステムがあり、「全ポリマー」エレクトロクロミックシステムと呼ばれる。
【０００９】
一般に、エレクトロクロミックシステムは電解質層で分離され側面を２つの導電性層に接する２つのエレクトロクロミック材料の層を含む。
【００１０】
また、「光バルブ」と呼ばれるシステムがある。これらはポリマー系フィルムであり、電場の作用の下で選択的な方向を取ることのできる微小液滴含有粒子が配置される。この実施例は国際公開第９３／０９４６０号パンフレットに記載される。
【００１１】
また、液晶システムがあり、動作モードは前のシステムと同様である。それらは２つの導電性層の間に配置されたポリマーフィルムを用い、液晶の液滴、特に正の誘電性異方性のネマチック液晶が上記フィルムに分散される。電圧がフィルムに印加されるとき、液晶は選択的な軸に沿って配向され、それによって視野を与える。電圧が印加されないときフィルムは散乱性になる。その実施例は欧州特許第２３８１６４号明細書、米国特許第４４３５０４７号明細書、米国特許第４８０６９２２号明細書、米国特許第４７３２４５６号明細書に記載される。また、国際公開第９２／１９６９５号パンフレットに記載されたものなどのコレステリック液晶ポリマーも挙げることができる。
【００１２】
本発明に関するアクティブシステムの第２のタイプは層または多層に関し、特性は熱または光の効果によるエネルギー供給をしないで変更される。サーモクロミック層、特に酸化バナジウム系のもの、サーモトロピック層またはフォトクロミック層を挙げることができる。本発明の文脈内および本文脈を通して、用語「層」はその最も広い意味に解釈すべきである。含むことのできる材料は、無機材料および有機材料の両方であり、特にポリマーフィルムまたはゲルフィルムの状態とすることのできるポリマーである。これはサーモトロピックゲルの場合であり、例えば、欧州特許第６３９４５０号明細書、米国特許第５６１５０４０号明細書、国際公開第９４／２０２９４号パンフレット、欧州特許第８７８２９６号明細書に記載される。
【００１３】
本発明に関するアクティブシステムの第３のタイプは、ジュール熱により加熱する加熱ワイヤまたは格子または加熱電導層の形の要素に関する（これらは熱可塑性シートの表面に埋め込まれたワイヤとすることができ、例えば、欧州特許第７８５７００号明細書、欧州特許第５５３０２５号明細書、欧州特許第５０６５２１号明細書、欧州特許第４９６６６９号明細書に記載される）。
【００１４】
本発明に関するアクティブシステムの第４のタイプは、太陽光制御または低放射率特性を有する層または多層に関し、特に誘電体層に散在された１つ以上の銀層系である。これらの多層は１つの硬質基層の上に堆積することができ、またはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）タイプの可撓性基層上に堆積することができ、これはＰＶＢ（ポリビニルブチラール）タイプの熱可塑性ポリマーの２つのシート間に配置されて２つのガラスタイプ硬質基層と組み立てられる。これらの実施例は欧州特許第６３８５２８号明細書、欧州特許第７１８２５０号明細書、欧州特許第７２４９５５号明細書、欧州特許第７５８５８３号明細書、欧州特許第８４７９６５号明細書に見られる。
【００１５】
これらのシステムのいくつかは外部電源に電気的に接続する手段を必要とし、いかなる回路短絡も避けるように設計しなければならない。これらの全てのシステムは、それらが大なり小なり共通に、機械的または化学的攻撃、水との接触、または外部との交換に敏感である。
【００１６】
これは、その適切な動作を維持するために、これらのアクティブシステムが通常少なくとも１つの保護キャリア基層に面して配置される理由である。通常、それらは例えば、ガラスまたは硬質または半硬質または可撓性ポリマーから作られた２つの保護基層間に、それに直接接触することによって、または１つ以上の熱可塑性タイプの組み立てポリマーシートを経由してのいずれかで配置される。通常、それらは上述の積層構造を有し、しばしば周辺にある封止手段が設けられ、目的はアクティブシステムをできる限り外側から隔離することである。
【００１７】
そのような封止手段は仏国特許第２８１５３７４号明細書に記載され、シールのシステムを開示する。このシールのシステムは、気体、液体、および塵挨から隔離し、機械的強度または取り付け枠との境界面（自動車グレージングの場合車体）をできる限り提供する目的でグレージングの周辺に加えられた多くの要素からなる。シールのシステムはしばしば全ての機能を同時に提供するようにいくつかの要素から作られる。この特許明細書に記載されるように、シールのシステムはブチルシールと呼ばれるポリイソブチレン系シール（気体障壁である）とポリスルフィドまたはポリウレタンシール（液体障壁である）を組み合わせる。
【００１８】
さらにこの仏国特許明細書において、ブチルシールは２つの基層の間に配置されるのが好ましいが、これは少なくとも２つの理由による。第１に、その非常に低いガラス転位温度Ｔｇは通常の動作温度で熱機械的特性が不十分であり、ブチルシールはそれが例えば破断によって劣化する危険性があるので、外部環境に直接接触してはならない。第２に、ブチルシール基層の各々の内部面に接触し、これはグレージングの周縁部全体にわたって気体障壁の連続性を保証する。
【００１９】
このシールシステムは従来の厚さ（数ｍｍ程度）の基層には効果があるが、薄い基層（１ｍｍ未満の厚さ）の場合には問題が生じる。
【００２０】
これは、そのような硬質基層／可撓性中間層／硬質基層の組み立て体が、積層作業（通常圧力下で行われ、熱の下で行われる）の間に機械的に過剰の応力を受けることがあるためである。アクティブシステムが存在する周辺溝のゾーン中の硬質基層の縁部は突出し、圧力の下、上記基層のより中心の部分に比べて曲がり易い。光学的歪効果が発生し、これらは反射および／または透過において視認できる。
【００２１】
ガラスタイプの硬質基層の場合、破壊の危険性がある。また、不完全な接着の危険性があり、周辺の気泡の存在によって示唆される。
【００２２】
さらに、薄い基層は積層後封入作業中に金型によって発生する圧縮力に十分耐える機械的特性をもたず、周辺で破壊する危険があり、したがって、アクティブシステムを組み込むデバイスは仕様から外れることになる。
【００２３】
仏国特許第２８１５３７４号明細書に示されたように、ブチルシール中に鋼球などの機械的補強手段を挿入すること、または周辺に金属枠を加えることが可能であるが、これらの要素の全ては積層ポリマーとは異なる熱機械的挙動を示し、したがって、光学的歪または破壊の危険性が増加する欠点がある。さらに、金属枠の場合、金属枠は基層上に積層されず、したがって、２つの基層の間の周辺部の接着はゼロである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２４】
したがって、本発明の目的は上述の積層グレージングのシールのシステム設計を改善することであり、特に、その化学的特性および／またはその機械的特性および／またはその工程および／またはアクティブシステムを保護する基層に対するその構造に関して改善することである。
【００２５】
一般に、シリコーンまたはポリスルフィドシールと組み合わせたブチルゴムシールが用いられる。
【００２６】
しかし、これらのシールは、少なくとも３つの必ずしも両立できるとは限らない必要条件をできる限り満たさなければならないので、いくつかの点で改善することが可能である。
【００２７】
見てきたように、それらはアクティブシステムを外側から隔離しなければならず、したがって、特にその蒸気の状態および／または液体の状態の水または他の溶媒に対して、できる限り効率的に障壁として働かなければならない。しかし、これまで用いられたシール、特に仏国特許第２８１５３７４号明細書に記載されたもの、特にブチルゴム系は、これに関して完全に満足できるものではなく、それらは蒸気の状態の水に対して全体的に満足できる障壁を構成するが、液体の状態では満足できない。
【００２８】
それらの工程は、それらがデバイスの縁部に配置される方法を含み、工業的見地から必ずしも最も簡単とはいえない。
【００２９】
最終的に、それらの機械的特性は必要とされるものよりも実質的に劣ることがある。
【００３０】
また、米国特許第６００１４８７号明細書から、２つの基層を含みその間にアクティブシステムが配置される積層されたグレージングが知られ、上記グレージングにはポリイソブチレン系シールを含む周辺にある封止手段が設けられる。
【００３１】
さらに詳細には、アクティブシステムが２つの薄い基層（各基層の厚さは実質的に３ｍｍに近く、またははるかに薄い（０．４ｍｍ〜１．８ｍｍ、好ましくは０．７ｍｍ））の間に挟まれるとき、液体水の封止障壁を提供し一般に封入技術によって用いられる周辺にある封止手段はグレージングを損傷する危険性がある。これは、薄い基層が成形によって発生した圧縮力に耐える十分な機械的特性を有せず、周辺部の破壊の危険性があり、したがって、アクティブシステムを組み込むデバイスは仕様から外れたものになるからである。
【００３２】
さらに、薄い積層基層は周辺にあるシールを接合するための接触面積が非常に小さくなる。これは、押出しおよび／または封入技術によって加えられた周辺にあるシールの最適接合がガラスシートの厚さによって決定されるからである。したがって、薄い基層ではガラスシートの縁部が実質的に線状に減少し、これはシールの最適接合を可能にするには明らかに厚さが薄すぎる。
【００３３】
したがって、本発明の目的は、上述の積層グレージングの上記シールの設計を改善することであり、特に、その化学的特性および／またはその機械的特性および／またはその工程および／またはアクティブシステムを保護する基層に対するその構造に関して改善することである。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
本発明の第１の主題は、さまざまな構造が上で説明された積層グレージングであり、上記グレージングは上述の中でも上記グレージングの２つの薄い基層の間に配置された「アクティブシステム」を含む。本発明は、特に蒸気の状態の水に対して、次のポリマー群（エチレン／ビニルアセテート、ポリイソブチレン（ブチルゴム）、およびポリアミド）の少なくとも１つから選択される１つ以上のホットメルトポリマーに基づく少なくとも１つのシールを含む上述のアクティブシステムを封止するための周辺にある第１の封止手段と、特に液体水に対して封止する第２の封止手段とを備えるグレージングを提供することからなり、この第２の封止手段は基層の間に第１の封止手段に対して周辺に配置される。
【００３５】
シールと封止すべき材料との間の境界面に拡散路が形成されるのを防止し、シールの剥離を避けるために、本質的に不浸透性なだけではなく、それが接触する材料に非常に良好に接着するポリマーを選択することは重要である。また、そのような接合剤を使用する替わりに、またはそれに加えて、特にポリイソブチレンの場合、ホットメルトポリマー中に存在する分子量の分布を変化させることができる。いくつかの分子量を混合することによって、良好な温度クリープ抵抗性を得ること（高分子量に関して）、および封止すべき材料への良好な接着と良好な「粘着性」（低分子量の場合）を得ることが可能である。
【００３６】
全般的に、本発明の意味において、第１の封止手段はホットメルトである。それは室温で軟化点を有し、およびこの温度での粘度によって、柔らかい外観を有し、したがって、それは工業的に許容可能な温度で取り付け／形成するために液化することが可能である。
【００３７】
また、それらは１９０℃で０．１〜２０Ｐａ．ｓ、特に０．８〜８Ｐａ．ｓの粘度を有する。
【００３８】
最終的に、それらはＡＳＴＭ Ｅ ９６６３ Ｔ 規格による蒸気の状態の水への浸透性が５または４または３ｇ／ｍ２／２４ｈを超えず、特に１ｇ／ｍ２／２４ｈを超えず、これは水に対して特に不浸透性であることを意味する。
【００３９】
上述のシールのホットメルトポリマーはマスチックに置き換えることができ、これは熱いときはホットメルトポリマーのように挙動するが、固体相から液体相への転移はホットメルトとは異なり可逆的ではない（マスチックは熱硬化性であるので）。また、それらが取り付けられた後にのみ架橋するものから選択されるならば、それらを液相でグレージングに取り付けることのできる利点がこのマスチック類の場合に存在する。
【００４０】
最も特に好ましくは、ポリウレタン系マスチックであり、その水蒸気透過性は４ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であり、２ｇ／ｍ２／２４ｈに近い。所望の基準（特に５ｇ／ｍ２／２４ｈ以下の水蒸気透過性）を満足するＰＵ系マスチックは、Ｔｒｅｍｃｏから参照番号ＩＳ４４２（透過性５ｇ／ｍ２／２４ｈ）で、およびＬｅ Ｊｏｉｎｔ Ｆｒａｎｃａｉｓから参照番号ＰＵ３１８９／２（透過性４ｇ／ｍ２／２４ｈ）で販売されているマスチックである。これらの特定のマスチックの利点は、それらが良好な水蒸気不透過性と液体水不透過性の両方を提供することであるが、液体水の障壁として働くことを意図した第２のシールでホットメルト系シールを「ライナー」することが好ましい。ポリスルフィドまたはシリコーン系マスチックも用いることができる。
【００４１】
本発明による第１の封止手段に用いられるポリマーの化学的性質に関して結論付ければ、これらのホットメルトポリマーは非常に異なる用途、特に靴産業および段ボール箱産業に用いられていることが知られており、本発明に関連する他の全ての技術分野において、それらが特に有利であることを実証するものである。
【００４２】
また、本発明の他の面は、シール、特に、しかし排他的ではなく、薄いガラスシートに基づく積層グレージング用の上述のホットメルトシールの機械的強度を向上させる可能性に関する。また、本発明の主題は、周辺にある第１の封止手段、特に蒸気の状態の水に対する封止を設けた同じタイプの基層であり、これは、少なくとも１つのポリマー系シールを含み、機械的補強手段および／またはその間にアクティブシステムが配置される２つの基層と液体の状態の水に対する封止との間に空間を設定する手段の両方を提供する第２の封止手段と組み合わされる。
【００４３】
これは、いくつかの場合にシールが大きな機械的強度を有する必要があるためである。これは、デバイスが、薄いと言われる（０．４ｍｍ〜１．８ｍｍの厚さ）２つの硬質または半硬質基層を含み、その間にアクティブシステムおよび１つ以上の組み立てポリマーシートが配置される積層グレージングの形であるとき特に真実である。この場合、１つの適切な構造は組み立てポリマーシート（およびアクティブシステム自体も）が２つの基層よりも小さな寸法を有することを保証することである。したがって、グレージングの周辺に溝が形成され、その溝の中に１つ以上の第２の封止手段を収容することができる。しかし、この構造のおかげで、機械的補強特性および水障壁特性を有する周辺にある第２のシールを同時に使用するので、ホットメルトシール（これは機械的強度を提供しない）を用いることが可能である。
【００４４】
これらの状況下で、１つ以上の周辺にあるシールを用いることによって、２つの薄い基層の間にその周辺で適切な空間を維持することが可能であり、それらが少なくとも組み立て作業中に溝の「重要な」周辺ゾーンに曲がる傾向を防止する。
【００４５】
封止および補強／設定の第２の手段の一実施形態において、これは特に低融点の熱可塑性とされた積層中間層タイプの枠の形とすることができる。枠の断面は正方形、矩形等とすることができる。この枠は１部品の枠とすることができ、または取り付け中にいくつかの部品から端部と端部を配置して作ることができる。この周辺にある第２の封止手段は、例えば、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン／ビニルアセテート ＥＶＡ、または硫黄系ポリマー系のもの、アクリル酸ポリエチレンまたはＥＰＤＭ系のものから作られた熱可塑性ポリマーシールのタイプに定めることができ、これはブチル系の第１の封止手段のように押出し成型し、またはある種のポリウレタンから作ることができる。このシールは、グレージングを積層するために用いられる熱可塑性層間シートの性質と同じ化学的性質または類似の化学的性質を有するのが有利である。
【００４６】
したがって、標準的な二重グレージング単位の板ガラス間の空間を維持するために用いられる枠／スペーサーの構造に近づけることが可能である。
【００４７】
したがって、層間シートはその中にシールを収容するための周辺溝を形成するように、２つの板ガラスから後退して切断され、溝には上述のように１つまたは両方のシールを確実に設けることが可能である。次いで、溝の「充填」は層間シートと同じ起源の熱可塑性ポリマーのストリップで完成される。これらのストリップは液体不浸透性の役割を正しく遂行し、これは中間層を作るのに用いられたので、既に入手可能な材料から作られる。これは、熱可塑性シートを補完シールとして働かせるように熱可塑性シートを「流用する」簡単で効率的な解決策である。この熱可塑性シールはグレージング全体に連続していることが好ましいが、不連続とすることもできる。したがって、それはその前面に配置された他のシールを周辺溝の中に「捕える」。
【００４８】
この場合、デバイスの第１のおよび第２の封止手段は並列のシールを含むのが好ましい。例えば、異なる化学的手法を有する２つのタイプのシールを共射出／共押出しすることができる。また、２つの予備押出しまたは予備成形または予備切断されたビーズを並べて置くことも可能である。全てのシールを上述の周辺溝に収容して配置することができる。したがって、これはその封止機能が基層と面一であってそこから突出しないデバイスを与え、この配置は、基層を車両、航空機（客室グレージングとして用いられる）または建物、またはディスプレイに取り付けるとき、魅力的であり実用的である。
【００４９】
一般に、これらの封止／機械的補強手段は他の基層との組み立ての前にデバイスの基層の１つに配置される（上述したビーズの場合）。
【００５０】
また、その化学的性質が液体水および水蒸気の両方に対して不浸透性を満足するならば、設けられた単一シールを用いることが可能である。
【００５１】
有利には、本発明の文脈において用いられる封止／補強手段は、アクティブシステムの導電性層に接触しないように配置される。
【００５２】
本発明を、図１、図２、および図３を用いて以下の非限定的な実施例でより詳細に説明する。これらの図は、本発明に従って封止された積層エレクトロクロミックグレージングを非常に概略的に示す。実施例は全て「オールソリッドステート」エレクトロクロミックグレージングに関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５３】
添付の図面には、図の理解をより容易にするために、いくつかの要素を実際よりも大きいまたは小さい尺度で示すことができる。
【００５４】
図１および図２に示される実施例はエレクトロクロミックグレージング１に関する。それは、乗客コンパートメントの内側から外側へ順々に、２つの薄い板ガラスＳ１、Ｓ２を含み、これらは透明（しかしそれらは着色することもできる）なソーダライムシリカ板ガラスであり、例えば、それぞれ０．４ｍｍおよび１．８ｍｍの厚さである。
【００５５】
板ガラスＳ１およびＳ２は１５０ｍｍ×１５０ｍｍの同じサイズである。
【００５６】
板ガラスＳ１は、エレクトロクロミックタイプ薄膜多層３を挟むポリウレタン（ＰＵ）から作られた厚さ０．８ｍｍの熱可塑性シートｆ１によって（エチレン／ビニルアセテート（ＥＶＡ）またはポリビニルブチラール（ＰＶＢ）のシートで置き換えることができる）板ガラスＳ２に積層される。
【００５７】
エレクトロクロミック薄膜多層は「オールソリッドステート」タイプとすることができ、例えば、電流コレクター２および４とも呼ばれる２つの導電性材料の間に配置されたアクティブ多層３を含む。コレクター２は面２に接触することが意図される。
【００５８】
コレクター２と４およびアクティブ多層３は実質的に同じ寸法と形状、または実質的に異なる寸法と形状とすることができ、したがってコレクター２と４の経路は構造に応じて適合されることを理解されたい。さらに、基層の寸法は、特にＳ１の寸法は、２、４、および３の寸法よりも実質的に大きくすることができる。
【００５９】
コレクター２と４は金属タイプ、またはＩｎ２Ｏ３：Ｓｎ（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２：ＦまたはＺｎＯ：Ａｌから作られたＴＣＯ（透明導電性酸化物）タイプ、またはＴＣＯ／金属／ＴＣＯの多層タイプ（これらのＴＣＯは上述のものから選択することが可能である）であり、金属は特に銀、金、白金、銅から選択される。また、それはＮｉＣｒ／金属／ＮｉＣｒの多層タイプとすることができ、金属はやはり特に銀、金、白金、銅から選択される。
【００６０】
構造に応じて、それらは省略することができ、この場合電流リード線はアクティブ多層３に直接接触する。
【００６１】
グレージング１は電流リード線８、９を組み込み、アクティブシステムを電気供給によって制御することを可能にする。これらの電流リード線は加熱グレージング用に用いられるもの（すなわち、シム、ワイヤ等）のタイプである。
【００６２】
コレクター２の１つの好ましい実施形態は、面２（面の番号付けの体系は、容器の内部に向かって、１：Ｓ１の外側面、２：Ｓ１の内部面、３：Ｓ２の内部面、４：Ｓ２の外側面であることが再確認される）の上に、４００ｎｍのＳｎＯ２：Ｆの第２の層を被覆した５０ｎｍのＳｉＯＣの第１の層を堆積することからなる（両方の層は切断前にフロートガラス上にＣＶＤによって順々に堆積されることが好ましい）。
【００６３】
コレクター２の第２の実施形態は、約１００〜６００ｎｍのＩＴＯの第２の層を被覆した、ドーピングしてもよい、またはドーピングしなくてもよい（特にアルミニウムまたはホウ素でドーピングした）２０ｎｍのＳｉＯ２系の第１の層からなる２層を面２の上に堆積することからなる（両方の層は、酸素の存在下で、場合によって加熱して実施されるマグネトロン反応性スパッタリングによって順々に真空蒸着されることが好ましい）。
【００６４】
コレクター２の他の実施形態は、面２の上に、ＩＴＯからなる約１００〜６００ｎｍの単層（層は酸素の存在下で、場合によって加熱して実施されるマグネトロン反応性スパッタリングによって順々に真空蒸着されることが好ましい）を堆積することからなる。
【００６５】
コレクター４は、また、マグネトロン反応性スパッタリングによって堆積された１００〜５００ｎｍのＩＴＯ層である。
【００６６】
アクティブ多層３は第１の実施形態に従って以下のように作られる：
ニッケル酸化物から作られた１００〜３００ｎｍのアノード性エレクトロクロミック材料の層（この層は他の金属と合金化してもよい、またはしなくてもよい）、
１００ｎｍの水和タンタル酸化物または水和シリカ酸化物または水和ジルコニウム酸化物、またはこれらの酸化物の混合物の層、
２００〜５００ｎｍ、好ましくは３００〜４００ｎｍ、特に約３７０ｎｍのタングステン酸化物系のカソード性エレクトロクロミック材料の層。
【００６７】
アクティブ多層３は第２の実施形態に従って以下のように作られる：
ニッケル酸化物から作られた１００〜３００ｎｍのアノード性エレクトロクロミック材料の層（この層は他の金属と合金化してもよい、またはしなくてもよい）、
１００ｎｍの水和タングステン酸化物の層、
１００ｎｍの水和タンタル酸化物または水和シリカ酸化物または水和ジルコニウム酸化物、またはこれらの酸化物の混合物の層、
２００〜５００ｎｍ、好ましくは３００〜４００ｎｍ、特に約３７０ｎｍの水和タングステン酸化物系のカソード性エレクトロクロミック材料の層。
【００６８】
アクティブ多層３は第３の実施形態に従って以下のように作られる：
イリジウム酸化物から作られた７０〜１００ｎｍのアノード性エレクトロクロミック材料の層（この層は他の金属と合金化してもよい、またはしなくてもよい）、
１００ｎｍの水和タングステン酸化物層、
１００ｎｍの水和タンタル酸化物または水和シリカ酸化物または水和ジルコニウム酸化物、またはこれらの酸化物の混合物の層、
２００〜５００ｎｍ、好ましくは３００〜４００ｎｍ、特に約３７０ｎｍの水和タングステン酸化物系のカソード性エレクトロクロミック材料の層。
【００６９】
アクティブ多層３は、仏国特許出願第２７８１０８４号明細書に記載されるように、周辺の電気的漏洩を制限する目的で、機械的手段またはレーザー放射、場合によってパルスレーザー放射を用いてエッチングによって、その周辺全体または一部に溝の切り込みを入れることができる。
【００７０】
他の実施形態において、「オールソリッドステート」アクティブ多層３は他の種類のポリマータイプエレクトロクロミック材料に置き換えることができる。
【００７１】
したがって、例えば、１０〜１００００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）から作られた（変形としてこのポリマーの誘導体の１つとすることができる）アクティブ層とも呼ばれるエレクトロクロミック材料の層から形成される第１の部分は、その電流コレクターでコーティングされた基層上に、知られている液体堆積技術（スプレイコーティング、浸漬コーティング、スピンコーティング、または鋳造）によって、または電気的堆積によって堆積することができ、この電流コレクターは、場合によってワイヤ等を設けて、導電体を形成する上部導電性層または下部導電性層（アノードまたはカソード）とすることが可能である。このアクティブ層を構成するポリマーが何であれ、ポリマーは特にＵＶに対して安定であり、リチウムイオン（Ｌｉ＋）または替わりにＨ＋イオンの挿入／射出によって動作する。
【００７２】
電解質として働く、厚さ５０ｎｍ〜２０００μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜１０００μｍの厚さを有する層から形成された第２の部分は、第１の部分と第１の部分上の第３の部分等の間に知られている液体堆積技術（スプレイコーティング、浸漬コーティング、スピンコーティング、または鋳造）によって、または射出によって堆積される。
【００７３】
この第２の部分は、ポリオキシアルキレン、特にポリオキシエチレン系である。それは無機タイプ電解質、例えば、水和タンタル酸化物、ジルコニウム酸化物、またはシリコン酸化物系の層と組み合わせることができる。
【００７４】
この第２の電解質部分は、それ自体ガラスまたは類似の基層によって支持されたエレクトロクロミック材料のアクティブ層上に堆積され、次いで、第３の部分でコーティングされる。その構成は第１の部分と同様であり、すなわちこの第３の部分は電流コレクター（導電性ワイヤ、または導電性ワイヤ＋導電性層、または導電性層だけ）でコーティングされた基層から作られ、この電流コレクター自体はアクティブ層で被覆される。
【００７５】
この実施例はプロトン移動によって作動するグレージングに相当する。それは０．８ｍｍのソーダライムシリカガラスから作られた第１のガラス基層Ｓ１からなり、続いて：
３００ｎｍの導電性の第１のＳｎＯ２：Ｆ層、
１８５ｎｍの水和ニッケル酸化物ＮｉＯｘＨｙ（５５ｎｍの水和イリジウム酸化物の層で置き換えることができる）から作られたエレクトロクロミック材料のアノード性の第１の層、
７０ｎｍの水和タンタル酸化物の第１の層、１００μｍのＰＯＥ／Ｈ３ＰＯ４ポリオキシエチレン／リン酸固溶体または替わりにＰＥＩ／Ｈ３ＰＯ４ポリエチレンイミン／リン酸固溶体の第２の層から作られた電解質、これに組み合わせて、
１００ｎｍの水和タンタル酸化物または水和シリカ酸化物または水和ジルコニウム酸化物またはこれらの酸化物の混合物の層、
３５０ｎｍのタングステン酸化物系のカソード性エレクトロクロミック材料の第２の層、
３００ｎｍの第２のＳｎＯ２：Ｆ層、続いて第１のガラス基層と同じ第２のガラス基層。
【００７６】
したがって、この実施例において、通常このタイプのグレージングに用いられるポリマー系の２層電解質が存在し、これはポリマーを経由するプロトン移動を損なうことなく十分導電性であり、アノード性エレクトロクロミック材料から作られた対電極が、その本質的な酸性のためそれに対して有害であるポリマーと直接接触することを保護する水和タンタル酸化物の層で「ライナーされる」。
【００７７】
水和Ｔａ２Ｏ５層の替わりに水和Ｓｂ２Ｏ５またはＴａＷＯｘタイプの層を用いることができる。
【００７８】
また、２つの水和酸化物層を備える３層電解質を提供することも可能であり、その１つがポリマー層の両側にあるか、または２つの層がアノード性エレクトロクロミック材料の層に面する側で互いに重なり合う。
【００７９】
アクティブシステムのタイプが何であれ、図２および図３に示したグレージングは面２と３に接触する周辺にある第１のシールを組み込み、この第１のシール１０は外部の化学的攻撃に対する障壁および水蒸気障壁を提供する。
【００８０】
この第１のシールのための手法の実施例は以下の通りである：
５〜４０％のビニルアセテートおよび４０〜９５％のエチレンを含むエチレン／ビニルアセテート系（これは特にＮａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈから「Ｉｎｓｔａｎｔ Ｐａｋ２３００」の名称で販売されているＥＶＡ、またはＴＲＬから「Ｔｈｅｒｍｅｌｔ ２１４７／２１５７」の名称で販売されているＥＶＡ）、この系には、以下の添加剤の少なくとも１つを含むことが可能である：
粘着性増強樹脂、
架橋剤、
充填剤。
【００８１】
このタイプの手法は、水蒸気に対して顕著に不浸透性でありガラスへの接着性の高い第１のシール１０を与え、それを非常に効率的にする。
【００８２】
あるいは、ＥＶＡ系シールの替わりに、ポリアミド系またはポリイソブチレンまたはブチルゴム系シールを用いることが可能である。
【００８３】
上述の実施例において、シールはホットメルトシールである。それは室温で柔らかく、または溶融することができ、次いで圧力下で既に組み立てられたグレージングの周辺溝へ注入することができる。シールはまた、板ガラスＳ２と組み立てる前に、板ガラスＳ１の周辺に取り付けることができ、積層作業は圧力と、場合によっては熱の効果の下で所望の断面を設定する。
【００８４】
周辺にある第２のシール１１はＳ１の面２およびＳ２の面３に接触し、第１のシール１０の周辺に配置される。それは液体水の封止障壁および周辺溝を機械的に補強する手段を提供し、薄い基層が積層中または後続の取り扱い作業中に破壊するのを防止する。
【００８５】
この第２のシール１１は第１のシール１０の周りに巻かれて、液体水を封止する。それは、
ポリウレタン（ＰＵ）または任意の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）ポリマーの押出し成型によって、
ＰＵの反応性射出成形（ＲＩＭ）によって、
ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）／ＴＰＥ混合物の熱可塑性射出成形によって、
エチレンプロピレンジエンモノマー（ＥＰＤＭ）ターポリマーの射出成形および硬化によって、
積層中間層に用いられるものと類似の熱可塑性プラスチックから作られた枠または枠の一部の配設によって配設することができる。
【００８６】
また、第２のシールは、ＰＵ、ＥＶＡ、ＰＶＢ、またはアクリル酸ポリエチレン、例えば、熱可塑性層間シートと同じ種類のストリップとすることができる。
【００８７】
第２のシールは、グレージングの組み立ての前または後に、第１のシールと同時に、または第１のシールの後に配置することができる。それは、２つの板ガラスの縁部を覆って「突出する」ことができ、または２つのシールが互いに最終の積層グレージングと面一であるように、グレージングの周辺溝中の第１のシールに接合することができる。
【００８８】
したがって、本発明はシールを機械的に補強するための新規な化学的なシールの手法および新規な手段を提供した。これらの封止手段および機械的補強手段は、それが、水（液体／または蒸気）または酸素などの気体、一般にあらゆる雰囲気への暴露に敏感な２つの基層間の層／要素を保護することが必要とされるときはいつでも効果的である。
【００８９】
また、本発明は製造工程を簡略化することが可能であり、シールは積層作業中に配置され、それはもはや積層後に封入作業を行う必要がない。
【００９０】
無論、熱可塑性中間層が両面接着ポリマーフィルムで置き換えられたグレージング用の反射中に作動するアクティブシステム（例えば、リアミラータイプのエレクトロクロミックミラー）を有するグレージングにそれらを用いることも可能である。
【００９１】
また、それらは非ガラス基層にも適合する。また、それらは周辺にあるシールであるが積層板グレージングの形ではないものを必要とする（二重グレージング、硬質基層を備えないシステム等）アクティブシステムに適用することもできる。
【００９２】
したがって、それらはアクティブ多層がグレージングの総面積の小さな部分だけを占拠するグレージング（例えば、太陽遮蔽帯等）、またはさらに一般に、アクティブシステム、特にエレクロトクロミックシステムがグレージング全体内で唯一の付属品である任意のタイプのグレージングに適用することもできる。この場合ＰＵおよび周辺にあるその第１の封止手段はアクティブシステムで覆われたゾーンだけに必要であり、特にＥＶＡまたはＰＶＢ系の第２の封止／補強手段は従来のゾーンにとって十分である。
【００９３】
さらに本発明の他の好ましい実施形態によれば、上述の積層グレージングは車両機器パネル前部のファサードとして用いることができる。車両機器の前に配置され、アクティブシステムが着色されるとき、それは機器パネルを覆い隠し、従って、機器パネルには現れない情報またはさまざまなダイアル（回転計数器、速度表示器、温度表示器、ディスプレイスクリーン、時計等）を遮蔽する。アクティブシステムのこの着色された状態は、計器盤全体に特に魅力的な表情を与える（一般に、この状態は車両が停止している位置を設定する）。
【００９４】
対照的に、アクティブシステムの無色状態において、機器パネル前部のファサードとして配置された積層グレージングは機器パネルから来る情報の運転者の視認性を妨げず、その機能は影響を受けない。本発明は、一般に着色ガラスから作られたファサードからなる従来技術の解決策よりも、着色ファサードであるにもかかわらずこの情報システムが見えることを保証するものであり、機器パネル情報システムの寸法を超える過大寸法の必要がない特別の利点を有し、そのような過大寸法は過剰量の電力消費と過剰な加熱を招くディスプレイデバイスをもたらすことを特記することができる。
【００９５】
また、やはり機器パネルのスクリーンの前部のファサードとして配置された本発明による積層グレージングは、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）スクリーンとして用いることが可能である。
【００９６】
このスクリーンに投影された情報が正しく見えることを保証するために、積層グレージングはそれに重なり合う第３の後部ガラスと組み合わされる。このスクリーンに投影され表示された虚像が、ガラス（異なる面）の固有の反射特性によるさまざまな反射、および像の面に対する使用者の相対位置によって歪むのを防止するため、後部ガラスは楔状ＰＶＢシートを挿入することによって本発明による積層グレージングと重ね合わされる。
【００９７】
ヘッドアップスクリーンの動作は以下の通りである。
【００９８】
アクティブシステムの着色状態において、投影された像はスクリーンによって反射され、光学的に歪むことなく運転者によって見えるようになる。
【００９９】
アクティブシステムの無色状態において、投影された（または投影されない）像は、機器パネルの前面ファサードに配置されたスクリーンによって反射されず、指示器、計数器等からの機器パネル上の通常の情報は正常に現れる。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明に従って封止された積層エレクトロクロミックグレージングの概略図を示す。
【図２】本発明に従って封止された積層エレクトロクロミックグレージングの概略図を示す。
【図３】本発明に従って封止された積層エレクトロクロミックグレージングの概略図を示す。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間にアクティブシステム（３）が配置された２つの薄い基層（Ｓ１、Ｓ２）を含む積層されたグレージングであって、グレージングには、特に蒸気の状態の水に対して、以下のポリマー類、すなわち、エチレン／ビニルアセテート、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリアミドのうちの少なくとも１つから選択された１つ以上のホットメルトポリマー系の少なくとも１つのシールを含む、アクティブシステムを封止するための周辺にある第１の封止手段（１０）と、特に液体水に対する封止のための第２の封止手段（１１）とが設けられ、この第２の封止手段が基層（Ｓ１、Ｓ２）の間に第１の封止手段（１０）に対して周辺に配置され、この第２の封止手段（１１）が熱可塑性シートから製造された少なくとも１つの枠部分であることを特徴とする、グレージング。
【請求項２】
熱可塑性シートが、ＥＶＡ、ＰＵ、ＰＶＢ、アクリル酸ポリエチレン、または硫黄含有ポリマー、特に前記グレージングを積層するために用いられる層間ポリマーシートと同じ種類のポリマー系であることを特徴とする、請求項１に記載のグレージング。
【請求項３】
アクティブシステム（３）が、電気化学システム、特に、オールソリッドステートまたはポリマー性エレクトロクロミックシステム、光バルブシステム、液晶システム、ビオロゲン系システム、光電池システム、またはエレクトロルミネセントシステムなど、可変エネルギー／光学特性を有する電気的に制御可能なシステムであることを特徴とする、請求項１または２に記載のグレージング。
【請求項４】
アクティブシステム（３）が、サーモクロミック、サーモトロピック、フォトクロミック、太陽光制御または低透過性の層または多層であることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項５】
２つの硬質または半硬質基層（Ｓ１、Ｓ２）を備え、その間に少なくとも１つの熱可塑性ポリマー系の層間シート（ｆ１）によって電気的アクティブシステム（３）が取り付けられた積層グレージングの形であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項６】
層間シート（ｆ１）が、前記基層の間に周辺溝を形成するために２つの基層（Ｓ１、Ｓ２）よりも小さな寸法を有し、周辺にある第１の封止手段（１０）および第２の封止手段（１１）のシールが、少なくとも部分的に、好ましくは全体的に前記溝に収容されることを特徴とする、請求項５に記載のグレージング。
【請求項７】
周辺にある第１の封止手段（１０）のシールが、室温で軟化点を有することを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項８】
周辺にある第１の封止手段（１０）のシールが、１９０℃で０．１〜２０Ｐａ．ｓの粘度、特に０．８〜８Ｐａ．ｓの粘度を有することを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項９】
周辺にある第１の封止手段（１０）のシールが、蒸気の状態の水に対して、ＡＳＴＭ Ｅ ９６６３ Ｔ 規格に従って５または４または３ｇ／ｍ２／２４ｈを超えない透過性を有することを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１０】
周辺にある第１の封止手段（１０）のシールが、液相で押出しまたは射出によって配置されることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１１】
周辺にある第１のおよび第２の封止手段（１０、１１）が、並列に配置されたシールを含むことを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１２】
周辺にある封止手段（１０、１１）の全てのシールが、特に面一のシールを得るために、熱可塑性ポリマー系層間シートの収縮によって２つの基層（Ｓ１、Ｓ２）の間に存在する周辺溝に収容されることを特徴とする、請求項１から１１のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１３】
自動車、航空機、または建物用のグレージングを構成することを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１４】
車両機器パネルの前部に配置されたファサードを構成することを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１５】
ＨＵＤスクリーンとして用いられることを特徴とする、請求項１４に記載のグレージング。
【請求項１】
間にアクティブシステム（３）が配置された２つの薄い基層（Ｓ１、Ｓ２）を含む積層されたグレージングであって、グレージングには、特に蒸気の状態の水に対して、以下のポリマー類、すなわち、エチレン／ビニルアセテート、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリアミドのうちの少なくとも１つから選択された１つ以上のホットメルトポリマー系の少なくとも１つのシールを含む、アクティブシステムを封止するための周辺にある第１の封止手段（１０）と、特に液体水に対する封止のための第２の封止手段（１１）とが設けられ、この第２の封止手段が基層（Ｓ１、Ｓ２）の間に第１の封止手段（１０）に対して周辺に配置され、この第２の封止手段（１１）が熱可塑性シートから製造された少なくとも１つの枠部分であることを特徴とする、グレージング。
【請求項２】
熱可塑性シートが、ＥＶＡ、ＰＵ、ＰＶＢ、アクリル酸ポリエチレン、または硫黄含有ポリマー、特に前記グレージングを積層するために用いられる層間ポリマーシートと同じ種類のポリマー系であることを特徴とする、請求項１に記載のグレージング。
【請求項３】
アクティブシステム（３）が、電気化学システム、特に、オールソリッドステートまたはポリマー性エレクトロクロミックシステム、光バルブシステム、液晶システム、ビオロゲン系システム、光電池システム、またはエレクトロルミネセントシステムなど、可変エネルギー／光学特性を有する電気的に制御可能なシステムであることを特徴とする、請求項１または２に記載のグレージング。
【請求項４】
アクティブシステム（３）が、サーモクロミック、サーモトロピック、フォトクロミック、太陽光制御または低透過性の層または多層であることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項５】
２つの硬質または半硬質基層（Ｓ１、Ｓ２）を備え、その間に少なくとも１つの熱可塑性ポリマー系の層間シート（ｆ１）によって電気的アクティブシステム（３）が取り付けられた積層グレージングの形であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項６】
層間シート（ｆ１）が、前記基層の間に周辺溝を形成するために２つの基層（Ｓ１、Ｓ２）よりも小さな寸法を有し、周辺にある第１の封止手段（１０）および第２の封止手段（１１）のシールが、少なくとも部分的に、好ましくは全体的に前記溝に収容されることを特徴とする、請求項５に記載のグレージング。
【請求項７】
周辺にある第１の封止手段（１０）のシールが、室温で軟化点を有することを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項８】
周辺にある第１の封止手段（１０）のシールが、１９０℃で０．１〜２０Ｐａ．ｓの粘度、特に０．８〜８Ｐａ．ｓの粘度を有することを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項９】
周辺にある第１の封止手段（１０）のシールが、蒸気の状態の水に対して、ＡＳＴＭ Ｅ ９６６３ Ｔ 規格に従って５または４または３ｇ／ｍ２／２４ｈを超えない透過性を有することを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１０】
周辺にある第１の封止手段（１０）のシールが、液相で押出しまたは射出によって配置されることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１１】
周辺にある第１のおよび第２の封止手段（１０、１１）が、並列に配置されたシールを含むことを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１２】
周辺にある封止手段（１０、１１）の全てのシールが、特に面一のシールを得るために、熱可塑性ポリマー系層間シートの収縮によって２つの基層（Ｓ１、Ｓ２）の間に存在する周辺溝に収容されることを特徴とする、請求項１から１１のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１３】
自動車、航空機、または建物用のグレージングを構成することを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１４】
車両機器パネルの前部に配置されたファサードを構成することを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１５】
ＨＵＤスクリーンとして用いられることを特徴とする、請求項１４に記載のグレージング。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公表番号】特表２００９−５３３２４８（Ｐ２００９−５３３２４８Ａ）
【公表日】平成２１年９月１７日（２００９．９．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５０４７９１（Ｐ２００９−５０４７９１）
【出願日】平成１９年４月４日（２００７．４．４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００７／０５１０７３
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１１６１８４
【国際公開日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【出願人】（５００３７４１４６）サン−ゴバン グラス フランス (388)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年９月１７日（２００９．９．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年４月４日（２００７．４．４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００７／０５１０７３
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１１６１８４
【国際公開日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【出願人】（５００３７４１４６）サン−ゴバン グラス フランス (388)
【Ｆターム（参考）】
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