説明

積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト及びこれを含んで製造された積層セラミック電子部品

【課題】本発明は、積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト及びこれを含んで製造された積層セラミック電子部品に関する。
【解決手段】本発明は、導電性金属粉末100重量部と、有機バインダー0.6から2.4重量部と、を含むことを特徴とする。本発明による積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペーストを用いると、積層セラミック電子部品の内部ストレスを減少させて積層セラミック電子部品においてクラックの発生を抑制することができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は導電性ペーストに関するもので、より具体的には、内部ストレスを減少させてクラックの発生を抑制することができる積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト及びこれを用いて製造された積層セラミック電子部品に関する。
【背景技術】
【0002】
最近、電子製品の小型化、高容量化及び多機能化の傾向に伴い、積層セラミック電子部品に対するニーズが増大している。
【0003】
特に、積層セラミックキャパシタの場合、誘電体層が内部電極に比べて非常に厚く形成されると、内部電極の連結性はクラックの発生に大きく影響しない。
【0004】
しかしながら、高容量積層セラミックキャパシタが開発され、薄層化が行われることにより、超高容量積層セラミックキャパシタは誘電体層が内部電極に比べて1〜2倍程度の厚さを有するようになった。
【0005】
セラミックグリーンシート上に内部電極を印刷して形成する場合、印刷されたペーストのレベリング差による電極膜の凹凸は、焼成後における電極連結性の低下を意味するが、レベリング性に優れているほど電極連結性(カバレッジ、coverage)が高く示される。
【0006】
しかしながら、内部電極膜が印刷されたシートを数百層重畳積層して焼成または実装する場合、熱衝撃によって内部ストレスが発生し、これによってクラックが発生する可能性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明の目的は、内部ストレスを減少させてクラックの発生を抑制することができる積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト及びこれを含む積層セラミック電子部品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の一実施形態である積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペーストは、導電性金属粉末100重量部と、有機バインダー0.6から2.4重量部と、を含むことができる。
【0009】
上記有機バインダーは、ポリビニルブチラールであることができる。
【0010】
上記ポリビニルブチラールの分散後の分子量は、170000以下であることができる。
【0011】
3.0重量部以下のセルロース系樹脂をさらに含むことができる。
【0012】
上記セルロース系樹脂は、エチルセルロースであることができる。
【0013】
上記導電性金属粉末は、銀、鉛、白金、ニッケル及び銅からなる群より選択された一つ以上であることができる。
【0014】
上記導電性金属粉末の粒子サイズは、50から400nmであることができる。
【0015】
本発明の他の実施形態である積層セラミック電子部品は、セラミック本体と、上記セラミック本体の内部に形成され、導電性金属粉末100重量部と有機バインダー0.6から2.4重量部とを含む内部電極用導電性ペーストを用いて製造された内部電極と、を含むことができる。
【0016】
上記有機バインダーは、ポリビニルブチラールであることができる。
【0017】
上記ポリビニルブチラールの分散後の分子量は、170000以下であることができる。
【0018】
上記内部電極用導電性ペーストは、3.0重量部以下のセルロース系樹脂をさらに含むことができる。
【0019】
上記セルロース系樹脂は、エチルセルロースであることができる。
【0020】
上記導電性金属粉末は、銀、鉛、白金、ニッケル及び銅からなる群より選択された一つ以上であることができる。
【0021】
上記導電性金属粉末の粒子サイズは、50から400nmであることができる。
【発明の効果】
【0022】
本発明による導電性ペーストを用いると、積層セラミック電子部品において内部ストレスを減少させてクラックの発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【図1】本発明の一実施形態による積層セラミックキャパシタを概略的に示す斜視図である。
【図2】図1のA−A’に沿って切断した断面図である。
【図3】(a)及び(b)は、図2のB部分の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【0024】
以下では、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明する。
【0025】
但し、本発明の実施形態は、他の多様な形態に変形されることができ、本発明の範囲が以下で説明する実施形態に限定されるものではない。
【0026】
また、本発明の実施形態は、当該技術分野における平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。
【0027】
従って、図面上における要素の形状及びサイズなどは、より明確な説明のために誇張されることがあり、図面上に同じ符号で示される要素は同一要素である。
【0028】
本発明の一実施形態である積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペーストは、導電性金属粉末100重量部と、有機バインダー0.6から2.4重量部と、を含むことができる。
【0029】
導電性金属粉末は、銀、鉛、白金、ニッケル及び銅からなる群より選択された一つ以上であることができ、導電性金属粉末の粒子サイズは、50から400nmであることができる。
【0030】
導電性金属は、電気伝導性に優れるものであれば、特に制限されない。例えば、銀、鉛、白金、ニッケル、銅などを用いることができ、また、これら2種以上を混合して用いることもできる。
【0031】
粒子サイズが50nm未満の場合は、焼結過程において収縮を制御することが困難である可能性があり、400nm超過の場合は、内部電極を薄膜の形状に形成することが困難であるおそれがある。
【0032】
有機バインダーは、導電性金属粒子と導電性金属粒子とを結合させる媒介体であることができる。有機バインダーによって導電性金属粒子が結合しているため、導電性ペーストは粘性を有することができる。
【0033】
有機バインダーは、導電性金属粒子と導電性金属粒子とを結合させることができる高分子物質であれば、いかなるものを用いてもよく、これに制限されるものではないが、ポリビニルブチラールであることができる。
【0034】
ポリビニルブチラール(polyvynil butyral)は、鎖と架橋からなる構造で、分散ストレスによる変形で鎖が切れる特性を有することから、弾性を回復することが困難であるために平坦な印刷面を確保しにくいが、接着力が強いという長所がある。
【0035】
ポリビニルブチラールが0.6重量部未満の場合は、導電性ペーストが印刷形成された内部電極のレベリング及び焼成された内部電極の電極連結性(カバレッジ、coverage)に優れるが、このとき、焼成または実装過程における熱衝撃で内部ストレスによるクラックが発生する可能性がある。
【0036】
ポリビニルブチラールが2.4重量部超過の場合は、電極連結性(カバレッジ)が過度に減少して容量など電気的特性が低下するおそれがある。
【0037】
ポリビニルブチラールが0.6から2.4重量部の場合は、ペーストの分散性を低下させることなく、積層セラミックキャパシタの電気的特性、耐電圧特性を具現することができ、クラックの発生を防止することができる。
【0038】
導電性金属粉末100重量部とポリビニルブチラール0.6から2.4重量部とを添加したペーストを用いて印刷された内部電極は、局部的にレベリング特性が低下する。
【0039】
局部的なレベリング特性の低下により、焼成後、電極連結性に偏差が発生し、このような偏差によって内部ストレスは緩和する。
【0040】
これにより、焼成または実装過程において誘発される熱衝撃によってクラックが発生することを抑制することができる。
【0041】
上記ポリビニルブチラールの分散後の分子量は、170000以下であることができる。
【0042】
ポリビニルブチラールの分散後の分子量が170000超過の場合は、印刷性及び電気的特性が低下する可能性がある。
【0043】
ポリビニルブチラールの分散後の分子量が170000超過の場合は、ポリビニルブチラールの固有特性である強い接着力がそのまま維持され続けているためであると類推できる。
【0044】
ポリビニルブチラールの分散後の分子量が170000以下の場合は、ポリビニルブチラールの分子がさらに多く切れるようになる。これは、ポリビニルブチラールの固有特性である強い接着力が多少緩和する点に起因すると類推できる。
【0045】
導電性ペーストの特性に影響を及ぼすものは、分散前のポリビニルブチラールの分子量ではなく、分散後のポリビニルブチラールの分子量である。
【0046】
分散過程は、3ロール、ボールミリング法を用いて行われることができる。ボールミリング過程において投入されるボールのサイズや個数、時間などの因子によってボールミリング後のポリビニルブチラールの分子量を制御することができる。ボールミリング時間が長いほど、ポリビニルブチラールの分散後の分子量は減少する可能性がある。
【0047】
上記積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペーストにセルロース系樹脂を添加することができる。
【0048】
セルロース系樹脂に導電性金属粉末が分散されて存在することができる。
【0049】
セルロース系樹脂は、ペースト分散工程においてペーストの流動性及び相安定性を与える分散補助剤の役割を行う。
【0050】
また、積層セラミックキャパシタを製造するため、ペーストをセラミックグリーンシートに印刷する工程ではセルロース系樹脂の粘弾性挙動によってペースト印刷面を平坦にする役割を行う。
【0051】
また、ペーストが印刷された複数のグリーンシートを積層する積層工程においては、誘電体層と内部電極層との間の接着力を与える接着剤の役割を行う。
【0052】
上記セルロース系樹脂としては、これに制限されるものではないが、エチルセルロースであることができる。
【0053】
エチルセルロース(Ethyl Cellulose)は、椅子型構造を有する樹脂で、分散ストレスによる変形が発生したとき、弾性によって速く回復するという特性を有する。従って、ペーストを印刷して薄膜を形成するとき、印刷面が平坦に形成されることができる。即ち、レベリング特性に優れることができる。
【0054】
内部電極ペースト組成物の製造に用いられる印刷用樹脂であるエチルセルロースには、粘弾性特性によって平坦な印刷が可能であるという長所がある。
【0055】
これに対し、ポリビニルブチラールは、平坦な印刷面を確保することが困難であるが、代りに接着力が強いという長所がある。
【0056】
従って、エチルセルロースのみを用いると、平坦な印刷面を確保することは可能であるが、接着力が弱いという問題があり、ポリビニルブチラールのみを用いると、接着力は強いが、平坦な印刷面を確保することが困難であるという問題がある。
【0057】
エチルセルロース及びポリビニルブチラールは、構造的差異があるためによく混ざらない。
【0058】
印刷後、レベリング特性に優れるエチルセルロースにこれと相溶性のよくないポリビニルブチラールを添加することで、印刷された内部電極のレベリング性を局部的に低下させることができる。
【0059】
本発明の一実施形態である積層セラミック電子部品は、セラミック本体と、上記セラミック本体の内部に形成され、導電性金属粉末100重量部と有機バインダー0.6から2.4重量部とを含む内部電極用導電性ペーストを用いて製造された内部電極と、を含むことができる。
【0060】
積層セラミック電子部品は、セラミック層を積層して製造された電子部品を示し、電子製品の小型化、高容量化などの傾向に伴い、そのニーズが増大している。このような積層セラミック電子部品には、積層セラミックキャパシタ、チップインダクタ、チップビーズなどがある。本実施形態においては、積層セラミックキャパシタを例に挙げて説明するが、本発明がこれに限定されるものではない。
【0061】
図1は本発明の一実施形態による積層セラミックキャパシタを概略的に示す斜視図である。図2は図1のA−A’線に沿って切断した断面図である。図3は図2のB部分の拡大図である((a)は比較例、(b)は本発明の一実施形態)。
【0062】
図1から図2を参照すると、積層セラミックキャパシタは、セラミック本体10と、外部電極20、21と、内部電極30、31と、を含む。
【0063】
セラミック本体10は、誘電体シートを積層して形成されることができ、誘電体材料としては、これに制限されるものではないが、チタン酸バリウムを用いることができる。
【0064】
外部電極は、外部から印加される電圧を内部電極に伝達する役割を行い、導電性金属を主成分とし、ガラス成分などを含むことができる。また、これに制限されるものではないが、導電性金属は銅であることができる。
【0065】
内部電極30、31は、導電性金属粉末100重量部と、有機バインダー0.6から2.4重量部と、を含む内部電極用導電性ペーストを用いて製造されることができる。
【0066】
内部電極用導電性ペーストに関する事項は、前述した通りである。
【0067】
図3の(a)は、ポリビニルブチラールが0.6重量部未満の内部電極用導電性ペーストを用いて製造された積層セラミックキャパシタに対する図2のB部分の拡大図である。図3の(b)は本実施形態による図2のB部分の拡大図である。
【0068】
図3の(b)を参照すると、内部電極30、31の上部に凹んだ部分、即ち、局部的なレベリング低下部分50がある。図面上においては、内部電極30、31の上部のみに局部的なレベリング低下部分50を示しているが、内部電極30、31の下部にも形成されることができる。
【0069】
図3の(a)には局部的なレベリング低下部分が存在しない。
【0070】
局部的なレベリング低下部分50の存在により、誘電体層40と内部電極30、31との間の熱膨張差異によって発生する内部ストレスが緩和し、これにより、焼成または実装過程において誘発される熱衝撃によってクラックが発生する可能性を抑制することができる。
【実施例】
【0071】
チタン酸バリウム粉末を主材料とし、バインダー、溶剤などを混合して誘電体スラリーを製造し、これをドクターブレード法を通じてキャリアフィルム上に10μmの厚さを有する誘電体グリーンシートを製造した。
【0072】
100nmサイズのニッケルにポリビニルブチラールなどの樹脂を含量に応じて秤量して混合し、所望する水準のポリビニルブチラールの分子量を得ることができるように3ロールボールミルを行って導電性ペーストを製造した。
【0073】
上記誘電体グリーンシートに上記導電性ペーストをスクリーン印刷法を通じて1.0〜1.5μmの厚さで内部電極を形成した。
【0074】
上記内部電極が印刷された誘電体グリーンシートを積層、加圧、切断してチップを製造し、230℃で60時間脱バインダーを行い、その後、1200℃で内部電極が酸化しないようにNi/Ni0平衡酸素分圧より低い酸素10−11〜10−10分圧下の還元雰囲気において焼成した。
【0075】
表1に、ポリビニルブチラール(PVB、polyvinyl butyral)の含量及び分散後の分子量を変化させながら、上記方法によって製造された試料に対する印刷性、電気的特性、クラック発生の評価結果を示した。
【0076】
印刷性評価は、印刷された内部電極を光学顕微鏡で観察して滲みの有無、解像度及びレベリング特性を評価した。
【0077】
電気的特性は、設計値に対して100%の容量が具現されるか否かの有無、ショット発生の有無などを基準に評価した。
【0078】
【表1】

*:比較例
×:不良、○:良好、◎:非常に良好
【0079】
表1を参照すると、試料1、11及び16は、ポリビニルブチラールの含量がそれぞれ0.3、0.5及び0.2重量部と0.6重量部未満の場合で、印刷性及び電気的特性は良好であるが、クラックが発生した。
【0080】
ポリビニルブチラールの含量は、試料5が2.5重量部、試料10が2.7重量部、試料15が2.5重量部、試料18が3.0重量部であるが、ポリビニルブチラールの含量が全部2.4重量部を超過する場合に印刷性及び電気的特性が不良と示された。
【0081】
従って、ポリビニルブチラールの含量が0.6から2.4重量部の場合、印刷性、電気的特性及びクラック発生に関連して優れた効果を示すことが分かる。
【0082】
ポリビニルブチラールの分散後の分子量は、試料3が190000、試料15が180000、試料18が200000であるが、全部ポリビニルブチラールの分散後の分子量が170000を超過する場合に印刷性及び電気的特性が不良を示した。
【0083】
これにより、ポリビニルブチラールの分散後の分子量が170000以下の場合、印刷性及び電気的特性に関連して優れた効果を示すことが分かる。
【0084】
表2に、エチルセルロースをさらに添加する場合、エチルセルロースの含量によるクラックの発生有無を評価した結果を示した。平均粒子サイズが300nmのニッケル100重量部に対してポリビニルブタジエン及びエチルセルロースを添加して導電性ペーストを製造し、製造された導電性ペーストで内部電極を形成した積層セラミックキャパシタを製作した。これに対し、印刷性、電気的特性、クラックの発生有無に関して評価した結果を示した。
【0085】
【表2】

*:比較例
×:不良、○:良好
【0086】
表2を参照すると、エチルセルロースの含量が3.0の場合、クラックが発生しなかったが、エチルセルロースの含量が3.1の場合は、クラックが発生したことが分かる。
【0087】
本発明は、上述した実施形態及び添付の図面により限定されず、添付の請求の範囲により確定される。従って、請求の範囲に記載された本発明の技術的思想を外れない範囲内で当技術分野の通常の知識を有する者による多様な形態の置換、変更及び変形が可能であることは自明であり、これも本発明の範囲に属する。
【符号の説明】
【0088】
10 セラミック本体
20、21 外部電極
30、31 内部電極
40 誘電体層
50 局部的なレベリング低下部分

【特許請求の範囲】
【請求項1】
導電性金属粉末100重量部と、
有機バインダー0.6から2.4重量部と、
を含む、積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト。
【請求項2】
前記有機バインダーは、ポリビニルブチラールである、請求項1に記載の積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト。
【請求項3】
前記ポリビニルブチラールの分散後の分子量は、170000以下である、請求項2に記載の積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト。
【請求項4】
3.0重量部以下のセルロース系樹脂をさらに含む、請求項1に記載の積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト。
【請求項5】
前記セルロース系樹脂は、エチルセルロースである、請求項4に記載の積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト。
【請求項6】
前記導電性金属粉末は、銀、鉛、白金、ニッケル及び銅からなる群より選択された一つ以上である、請求項1に記載の積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト。
【請求項7】
前記導電性金属粉末の粒子サイズは、50から400nmである、請求項1に記載の積層セラミック電子部品の内部電極用導電性ペースト。
【請求項8】
セラミック本体と、
前記セラミック本体の内部に形成され、導電性金属粉末100重量部と有機バインダー0.6から2.4重量部とを含む内部電極用導電性ペーストを用いて製造された内部電極と、を含む、積層セラミック電子部品。
【請求項9】
前記有機バインダーは、ポリビニルブチラールである、請求項8に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項10】
前記ポリビニルブチラールの分散後の分子量は、170000以下である、請求項9に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項11】
前記内部電極用導電性ペーストは、3.0重量部以下のセルロース系樹脂をさらに含む、請求項8に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項12】
前記セルロース系樹脂は、エチルセルロースである、請求項11に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項13】
前記導電性金属粉末は、銀、鉛、白金、ニッケル及び銅からなる群より選択された一つ以上である、請求項8に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項14】
前記導電性金属粉末の粒子サイズは、50から400nmである、請求項8に記載の積層セラミック電子部品。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【公開番号】特開2013−16803(P2013−16803A)
【公開日】平成25年1月24日(2013.1.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2012−146684(P2012−146684)
【出願日】平成24年6月29日(2012.6.29)
【出願人】(594023722)サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. (1,585)
【Fターム(参考)】