【課題】使用時の紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトの生じることがなく、長波紫外線吸収能に優れ、かつこの吸収能を長期間維持して耐光性に優れる紫外線吸収剤組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物と特定の構造を有する化合物の少なくとも１種とを含むことを特徴とする紫外線吸収剤組成物。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線吸収剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から紫外線吸収剤を種々の樹脂などと共用して紫外線吸収性を付与することが行われている。紫外線吸収剤として無機系紫外線吸収剤と有機系紫外線吸収剤を用いる場合がある。無機系紫外線吸収剤（例えば、特許文献１〜３等を参照）では、耐候性や耐熱性などの耐久性に優れている反面、吸収波長が化合物のバンドギャップによって決定されるため選択の自由度が少なく、４００ｎｍ付近の長波紫外線（ＵＶ−Ａ）領域まで吸収できるものはなく、長波紫外線を吸収するものは可視域まで吸収を有するため着色を伴ってしまう。
これに対して、有機紫外線吸収剤は、吸収剤の構造設計の自由度が高いために、吸収剤の構造を工夫することによって様々な吸収波長のものを得ることができる。
【０００３】
これまでにも様々な有機系紫外線吸収剤を用いた系が検討されており、特許文献４にはトリアジン系の紫外線吸収剤が開示されている。特許文献５には特定の位置にアルコキシ基及びヒドロキシ基を有するトリスアリール−ｓ−トリアジンが記載されている。
また、特許文献６〜１０には紫外線吸収剤と酸化防止剤とを含有する組成物、及び２種の紫外線吸収剤を含有する組成物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−３３９０３３号公報
【特許文献２】特開平５−３４５６３９号公報
【特許文献３】特開平６−５６４６６号公報
【特許文献４】特表２００２−５２４４５２号公報
【特許文献５】特許第３９６５６３１号公報
【特許文献６】特表２００６−５０１３３９号公報
【特許文献７】特表２００９−５２５３７０号公報
【特許文献８】特表２００８−１１５２８１号公報
【特許文献９】特開２００７−７０５７８号公報
【特許文献１０】特表２００４−５３２３０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、極大吸収波長（λｍａｘ）が長波紫外線領域にあるものは耐光性が悪く、紫外線遮蔽効果が時間とともに減少していってしまう。
更に近年開発の進む太陽電池等に適用される材料は、屋外で長時間太陽光の下に曝すことが必要であり、長期経時での紫外線の暴露により、その性能が劣化することは避けられなかった。このため、ＵＶ−Ａ領域まで遮蔽効果を示し、かつこれまで以上の耐光性に優れた紫外線吸収剤として使用し得る化合物が求められている。
本発明の目的は、上記の問題点を解決するものであり、使用時の紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じにくく、長波紫外線吸収能に優れ、かつ吸収能を長期間維持することができ、耐光性に優れる紫外線吸収剤組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、後述する一般式（１）で表される紫外線吸収剤が、長波紫外線吸収能に優れ、しかも該紫外線吸収剤を樹脂等に混ぜて組成物として用いた場合には該紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じにくくいことを見出した。本発明者らは、更に優れた耐光性を得るために紫外線吸収剤について更に詳細に検討を重ねた結果、一般式（１）で表される紫外線吸収剤単独で用いた場合よりも一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される特定の化合物と組み合わせて用いることによって、その性能が更に長期にわたって持続し得ることを見出した。一般式（１）で表される紫外線吸収剤は、他の添加剤の添加によりブリードアウトなどにより性能の低下が懸念されるものであり、他の添加剤との併用は望ましいとは考えられなかった。また、この特定の化合物との併用に関しても、ブリードアウトなどにより性能の低下が懸念されることから、特に好適であることは当業者が容易に想起するものでない。
本発明は、このような知見に基づきなされるに至ったものである。
【０００７】
前記課題は、以下の手段によって解決された。
【０００８】
［１］
下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物のうち少なくとも１種とを含む紫外線吸収剤組成物。
【０００９】
【化１】

【００１０】
［Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ及びＲ^１ｅは、互いに独立して、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］
【００１１】
【化２】

【００１２】
〔一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ₉₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は−Ｓｉ(Ｒ₉₇)(Ｒ₉₈)(Ｒ₉₉)を表す。ここで、Ｒ₉₇、Ｒ₉₈、及びＲ₉₉は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、又はアリールオキシ基を表す。Ｘ₉₁は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ(−Ｒ₁₀₀)−を表す。ここで、Ｒ₁₀₀はＲ₉₁と同義である。Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、及びＲ₉₆は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ₉₁とＲ₉₂、Ｒ₁₀₀とＲ₉₆、Ｒ₉₁とＲ₁₀₀は互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。更に、Ｒ₉₂とＲ₉₃、Ｒ₉₃とＲ₉₄が互いに結合して、５〜７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、及びＲ₁₀₀のすべてが水素原子であることはなく、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、及びＲ₁₀₀を含め、（ＴＳ−Ｉ）の総炭素数は９以上である。
一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃、及びＲ₁₀₄は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアルケニル基を表し、Ｒ₁₀₁とＲ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は結合し、５〜７員環を形成してもよい。Ｘ₁₀₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル若しくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、又はオキシラジカル基を表す。Ｘ₁₀₂は５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ₁₀₅及びＲ₁₀₆は各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、又は芳香族スルホニル基を表し、Ｒ₁₀₇は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、又はヒドロキシ基を表し、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₆、Ｒ₁₀₆とＲ₁₀₇、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₇は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよいが、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ₁₀₅及びＲ₁₀₆の両方が水素原子であることはなく、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₆の総炭素数は７以上である。
一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ₁₁₁及びＲ₁₁₂は各々独立に脂肪族基を表し、該脂肪族基は更に置換基を有してもよい。Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよい。ｎは０、１、又は２を表す。但し、Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂の総炭素数は１０以上である。
一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ₁₂₁及びＲ₁₂₂は各々独立に脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ₁₂₃は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₂、Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₃は互いに結合し、５〜８員環を形成してもよい。但し、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃の総炭素数は１０以上である。］
［２］
前記一般式（１）における１価の置換基が、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基であり、置換基を有する場合の置換基がハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、チオシアネート基、又はアルキルスルホニル基である、上記［１］に記載の紫外線吸収剤組成物。
［３］
前記一般式（１）におけるＲ^１ｃが、ハメット則のσｐ値が正である置換基である、上記［１］又は［２］に記載の紫外線吸収剤組成物。
［４］
前記一般式（１）におけるＲ^１a、Ｒ^１ｃ及びＲ^１eが水素原子を表し、Ｒ^１ｂ及びＲ^１ｄが互いに独立して水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、Ｒ^１ｂ及びＲ^１ｄのうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基である、上記［１］又は［２］に記載の紫外線吸収剤組成物。
［５］
前記ハメット則のσｐ値が、０．１〜１．２の範囲である、上記［１］〜［４］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［６］
前記ハメット則のσｐ値が正である置換基が、ＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基及びＳＯ_３Ｍ［Ｒ^ｒ及びＲ^ｓは各々独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｍは水素原子又はアルカリ金属を表す。］より選択される基である、上記［１］〜［５］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［７］
前記ハメット則のσｐ値が正である置換基がＣＯＯＲ^ｒ［Ｒ^ｒは、水素原子又は１価の置換基を表す。］である、上記［１］〜［４］、又は［６］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［８］
前記一般式（１）におけるＲ^１ｃがシアノ基である、上記［１］〜［３］、［５］〜［７］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［９］
前記一般式（１）におけるＲ^１ｈ又はＲ^１ｎが水素原子である、上記［１］〜［８］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［１０］
前記一般式（１）におけるＲ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐが水素原子である、上記［１］〜［９］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［１１］
一般式（１）で表される化合物のｐＫａが−５．０〜−７．０の範囲である、上記［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［１２］
一般式（１）で表される化合物の含有量が、紫外線吸収剤組成物の全質量に対して、０質量％より大きく３０質量％以下である、上記［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［１３］
一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物の総含有量が、紫外線吸収剤組成物の全質量に対して、０質量％より大きく３０質量％以下である、上記［１］〜［１２］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
［１４］
上記［１］〜［１３］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物と、樹脂とを含有する樹脂組成物。
［１５］
上記［１］〜［１３］のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物と、バインダー成分とを含有する塗料。
［１６］
上記［１５］に記載の塗料を硬化してなる膜。
［１７］
基材上に、上記［１５］に記載の塗料を硬化してなる膜を有する、紫外線吸収部材。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、使用時の紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じにくく、長波紫外線吸収能に優れ、かつ吸収能を長期間維持することができ、耐光性に優れる紫外線吸収剤組成物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の紫外線吸収剤組成物は、下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物のうち少なくとも１種とを含む。
【００１５】
【化３】

【００１６】
［Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ及びＲ^１ｅは、互いに独立して、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］
【００１７】
【化４】

【００１８】
〔一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ₉₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は−Ｓｉ(Ｒ₉₇)(Ｒ₉₈)(Ｒ₉₉)を表す。ここで、Ｒ₉₇、Ｒ₉₈、及びＲ₉₉は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、又はアリールオキシ基を表す。Ｘ₉₁は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ(−Ｒ₁₀₀)−を表す。ここで、Ｒ₁₀₀はＲ₉₁と同義である。Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、及びＲ₉₆は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ₉₁とＲ₉₂、Ｒ₁₀₀とＲ₉₆、Ｒ₉₁とＲ₁₀₀は互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。更に、Ｒ₉₂とＲ₉₃、Ｒ₉₃とＲ₉₄が互いに結合して、５〜７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、及びＲ₁₀₀のすべてが水素原子であることはなく、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、及びＲ₁₀₀を含め、（ＴＳ−Ｉ）の総炭素数は９以上である。
一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃、及びＲ₁₀₄は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアルケニル基を表し、Ｒ₁₀₁とＲ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は結合し、５〜７員環を形成してもよい。Ｘ₁₀₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル若しくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、又はオキシラジカル基を表す。Ｘ₁₀₂は５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ₁₀₅及びＲ₁₀₆は各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、又は芳香族スルホニル基を表し、Ｒ₁₀₇は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、又はヒドロキシ基を表し、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₆、Ｒ₁₀₆とＲ₁₀₇、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₇は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよいが、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ₁₀₅及びＲ₁₀₆の両方が水素原子であることはなく、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₆の総炭素数は７以上である。
一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ₁₁₁及びＲ₁₁₂は各々独立に脂肪族基を表し、該脂肪族基は更に置換基を有してもよい。Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよい。ｎは０、１、又は２を表す。但し、Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂の総炭素数は１０以上である。
一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ₁₂₁及びＲ₁₂₂は各々独立に脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ₁₂₃は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₂、Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₃は互いに結合し、５〜８員環を形成してもよい。但し、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃の総炭素数は１０以上である。］
【００１９】
以下、本発明について詳細に説明する。
まず、本明細書において脂肪族基は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基及び置換アラルキル基を意味する。アルキル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜２０であることが好ましく、１〜１８であることが更に好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アルケニル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルケニル基の炭素原子数は２〜２０であることが好ましく、２〜１８であることが更に好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分は、上記アルケニル基と同様である。アルキニル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は２〜２０であることが好ましく、２〜１８であることが更に好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、上記アルキニル基と同様である。アラルキル基及び置換アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基及び置換アラルキル基のアリール部分は下記アリール基と同様である。
【００２０】
置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基［直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、
【００２１】
アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
【００２２】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換若しくは無置換の、芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５若しくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
【００２３】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、
【００２４】
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、
【００２５】
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、
【００２６】
スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、
【００２７】
アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
【００２８】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００２９】
置換アラルキル基のアリール部分の置換基の例は、下記置換アリール基の置換基の例と同様である。
【００３０】
本明細書において芳香族基は、アリール基及び置換アリール基を意味する。またこれらの芳香族基は脂肪族環、他の芳香族環又は複素環が縮合していてもよい。芳香族基の炭素原子数は６〜４０が好ましく、６〜３０が更に好ましく、６〜２０が更に好ましい。またその中でもアリール基としてはフェニル又はナフチルであることが好ましく、フェニルが特に好ましい。
【００３１】
置換アリール基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。置換アリール基の置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様である。
【００３２】
本明細書において、複素環基は５員又は６員の飽和又は不飽和複素環を含むことが好ましい。複素環に脂肪族環、芳香族環又は他の複素環が縮合していてもよい。複素環のヘテロ原子の例にはＢ，Ｎ，Ｏ，Ｓ，Ｓｅ及びＴｅが含まれる。ヘテロ原子としてはＮ，Ｏ及びＳが好ましい。複素環は炭素原子が遊離の原子価（一価）を有する（複素環基は炭素原子において結合する）ことが好ましい。好ましい複素環基の炭素原子数は１〜４０であり、より好ましくは１〜３０であり、更に好ましくは１〜２０である。飽和複素環の例には、ピロリジン環、モルホリン環、２−ボラ−１，３−ジオキソラン環及び１，３−チアゾリジン環が含まれる。不飽和複素環の例には、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾセレナゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びキノリン環が含まれる。複素環基は置換基を有していても良い。置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様である。
【００３３】
本発明において規定される極大吸収波長及び半値幅は、当業者が容易に測定することができる。測定方法に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座７分光ＩＩ」（丸善，１９９２年）１８０〜１８６ページなどに記載されている。具体的には、適当な溶媒に試料を溶解し、石英製又はガラス製のセルを用いて、試料用と対照用の２つのセルを使用して分光光度計によって測定される。用いる溶媒は、試料の溶解性と合わせて、測定波長領域に吸収を持たないこと、溶質分子との相互作用が小さいこと、揮発性があまり著しくないこと等が要求される。上記条件を満たす溶媒であれば、任意のものを選択する。
【００３４】
分光吸収極大波長を確認するための溶液は、前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤を有機或いは無機の溶媒又は水を単独或いはそれらの混合物を用いて溶解したものである。
有機溶媒としては、例えばアミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、ｎ−デカン）、ハロゲン系溶媒（例えばテトラクロロエタン，クロロベンゼン、クロロナフタレン）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、シクロヘキサノール、フェノール）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ−ピコリン、２，６−ルチジン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル）、カルボン酸系溶媒（例えば酢酸、プロピオン酸）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）、スルホン酸系溶媒（例えばメタンスルホン酸）、アミン系溶媒（例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン）等を用いることができる。
無機溶媒としては、例えば硫酸、リン酸等を用いることができる。
【００３５】
前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の溶解性の点から、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、又はニトリル系溶媒が好ましい。
【００３６】
測定のための前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の濃度は、分光吸収の極大波長が確認できる濃度であれば特に制限されず、好ましくは１×１０^−７〜１×１０^１３ｍｏｌ／Ｌの範囲である。
測定のための温度は特に制限されず、好ましくは０℃〜８０℃である。
分光吸収測定装置としては、特に制限されず、通常の分光吸収測定装置（例えば、Ｕ−４１００スペクトロフォトメーター、商品名、日立ハイテクノロジーズ(株)製）を用いることができる。
【００３７】
本発明の紫外線吸収剤組成物は、前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種と、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種とを含む。前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物は、種々の樹脂などと併用することで樹脂の分解を防止する光安定剤として機能することができる。このような化合物を前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤と共に含有する本発明の紫外線吸収剤組成物においては、組成物自体の光安定性を向上させるだけでなく、前記紫外線吸収剤も安定化し、前記紫外線吸収剤が有する長波紫外線吸収能を更に長期間に亘って維持することができる。
【００３８】
＜一般式（１）で表される化合物＞
【００３９】
【化５】

【００４０】
［Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ及びＲ^１ｅは、互いに独立して、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］
【００４１】
Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅは、互いに独立して、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。
Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅが表す置換基のうち１〜３個がハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが好ましく、１〜２個がハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましい。
【００４２】
前記一般式（１）における１価の置換基（以下置換基Ａともいう）としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、置換又は無置換のアルキルカルボニル基（例えばアセチル）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、置換スルホアミノ基）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、イミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えばメトキシ）、置換又は無置換のアリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換又は無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、チオシアネート基、置換又は無置換のアルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、炭素数６〜２０のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）などを挙げることができる。
これらが置換基を有する場合の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、チオシアネート基、又はアルキルスルホニル基を挙げることができる。
また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。その際、置換基の例としては、上述の１価の置換基Ａを挙げることができる。
また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
【００４３】
置換基同士で結合して形成される環としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピリダジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、フラン環、チオフェン環、セレノフェン環、シロール環、ゲルモール環、ホスホール環等が挙げられる。
【００４４】
前記一般式（１）における１価の置換基としては、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基が好ましく、ＯＲ^ｕ（Ｒ^ｕは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、アルキル基、アミド基がより好ましく、ＯＲ^ｕ、アルキル基が更に好ましい。
Ｒ^ｕは、水素原子又は１価の置換基を表し、１価の置換基としては前記置換基Ａを挙げることができる。中でも炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基を表すことが好ましい。炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基が更に好ましく、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシル、ｔ−ヘキシルを挙げることができ、メチル又はエチルが好ましく、メチルが特に好ましい。
【００４５】
前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基のσ_ｐ値は、好ましくは０．１〜１．２の範囲である。ハメット則のσｐ値が正である置換基として、例えばＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基及びＳＯ_３Ｍを好適に挙げることができ、なかでもＣＯＯＲ^ｒが好ましい。なお、Ｒ^ｒ、Ｒ^ｓは、水素原子又は１価の置換基を表し、Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す。
【００４６】
前記一般式（１）において、Ｒ^１ｈ又はＲ^１ｎが、水素原子であることが好ましく、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐが、水素原子であることがより好ましい。また、ｐＫａは、−５．０〜−７．０の範囲であることが好ましい。
以下に、本発明の好ましい態様について、更に説明する。
【００４７】
本発明における好ましい第一の態様として、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｅのうち少なくとも１つが、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す態様を挙げることができる。
Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましい。
Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正である置換基であり、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅは水素原子を表すことが更に好ましい。
Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正である置換基を表す場合、電子求引性基によりＬＵＭＯが安定化されるため、励起寿命が短くなり、耐光性が向上するため好ましい。これにより一般式（１）で表される化合物は、特に耐光性に優れ、該化合物を含む塗料用組成物は耐光性向上に優れたものとなる効果を有する。
また、好ましい第ニの態様として、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｃ及びＲ^１ｅが、水素原子を表し、Ｒ^１ｂ及びＲ^１ｄが、互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基である態様を挙げることができる。
これにより、一般式（１）で表される化合物は、特に溶剤溶解性が優れ、該化合物を含む塗料用組成物を適用した塗膜からの析出防止に優れたものとする効果を有する。
溶剤溶解性とは、酢酸エチル、メチルエチルケトン、トルエンなどの有機溶剤への溶解性を意味し、塗料用組成物を適用した塗膜からの析出防止の点で、使用する溶剤に対し、１０質量％以上溶解することが好ましく、３０質量％以上溶解することがより好ましい。
【００４８】
＜好ましい第一の態様＞
第一の態様においては、前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、好ましくは、σ_ｐ値が０．１〜１．２の電子求引性基である。σ_ｐ値が０．１以上の電子求引性基の具体例としては、ＣＯＯＲ^ｒ（Ｒ^ｒは、水素原子又は１価の置換基を表し、水素原子、アルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基であり、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましい。）、ＣＯＮＲ^ｓ_２（Ｒ^ｓは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ_３Ｍ（Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す。）、アシル基、ホルミル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ホスホリル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、カルボキシ基（又はその塩）、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基（例えばトリフルオロメチル基）、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、アシルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σ_ｐ値が０．２以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アゾ基、セレノシアネート基などが挙げられる。ハメットのσｐ値については、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．；Ｌｅｏ，Ａ．；Ｔａｆｔ，Ｒ．Ｗ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９１，９１，１６５−１９５に詳しく記載されている。
【００４９】
前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、より好ましくは、ＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ_３Ｍである［Ｒ^ｒ、Ｒ^ｓは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す］。この中でもＣＯＯＲ^ｒ又はシアノ基がより好ましく、ＣＯＯＲ^ｒ、であることが更に好ましい。優れた耐光性と溶解性を有するためである。
【００５０】
Ｒ^ｒ、Ｒ^ｓとしては水素原子又は１価の置換基を表し、１価の置換基としては前記置換基Ａを挙げることができる。中でも炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基が好ましく、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましい。炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、ｉ−オクチル基を挙げることができ、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００５１】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ^１ｃがＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ_３Ｍのいずれかであることが好ましく、ＣＯＯＲ^ｒ又はシアノ基よりが好ましく、シアノ基が更に好ましい。
【００５２】
また、本発明において、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐが１価の置換基を表す場合は、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ及びＲ^１ｊのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^１ｈが前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが更に好ましい。Ｒ^１ｃ及びＲ^１ｈが前記ハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基を表すことが特に好ましい。優れた耐光性を有するためである。
本発明において、Ｒ^１ｈ又はＲ^１ｎがそれぞれ独立に水素原子、ＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ_３Ｍのいずれかであることが好ましく、Ｒ^１ｈ又はＲ^１ｎが水素原子であることがより好ましく、Ｒ^１ｈ及びＲ^１ｎが水素原子であることが更に好ましく、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐが水素原子を表すことが特に好ましい。優れた耐光性を示すためである。
【００５３】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基であって、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐは水素原子を表すことが好ましく、Ｒ^１ｃがＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ_３Ｍのいずれかであって、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐは水素原子であることがより好ましい。優れた耐光性を示すためである。
【００５４】
好ましい第一の様態において、前記一般式（１）で表される化合物は下記一般式（１）−１で表される化合物であることが好ましい。
【００５５】
【化６】

【００５６】
前記一般式（１）−１において、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｃ、及びＲ^１ｅは、互いに独立して、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表すが、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｃ、及びＲ^１ｅのうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。
【００５７】
前記一般式（１）−１で表される化合物は、下記一般式（１）−２で表される化合物であることが、より優れた耐光性を示すため、より好ましい。下記一般式（１）−２において、Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。
【００５８】
【化７】

【００５９】
前記一般式（１）−２において、Ｒ^１ｃがハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。
【００６０】
前記一般式（１）−２で表される化合物は、溶解性を向上させることができ、高度な溶解性と耐光性を両立できるため、下記一般式（１）−３で表される化合物であることが更に好ましい。
【００６１】
【化８】

【００６２】
前記一般式（１）−３において、Ｒ^ｒは水素原子又は１価の置換基を表す。
【００６３】
前記一般式（１）−３において、Ｒ^ｒは表す１価の置換基としては前記置換基Ａを挙げることができる。中でも炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基が好ましく、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましい。炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、ｉ−オクチル基を挙げることができ、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。分子量を小さくすることができるため、紫外線吸収剤として使用した場合により少量で紫外線吸収効果を発揮できるためである。
【００６４】
前記一般式（１）で表される化合物はｐＫａが−５．０〜−７．０の範囲であることが好ましい。更に−５．２〜−６．５の範囲であることがより好ましく、−５．４〜−６．０の範囲であることが特に好ましい。
【００６５】
＜好ましい第二の態様＞
好ましい第二の態様として、Ｒ^１a、Ｒ^１ｃ及びＲ^１eが、水素原子を表し、Ｒ^１ｂ及びＲ^１ｄが、互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基である態様を挙げることができる。
Ｒ^１a、Ｒ^１ｃ及びＲ^１eが、水素原子を表し、Ｒ^１ｂ及びＲ^１ｄが、互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基である第ニの態様においては、前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、より好ましくは、ＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はＳＯ_３Ｍである［Ｒ^ｒ、Ｒ^ｓは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す］。Ｒ^ｒ、Ｒ^ｓの１価の置換基としては、前述のように前記置換基Ａを挙げることができる。
前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、より好ましくは、ＣＯＯＲ^ｒ又はシアノ基であり、ＣＯＯＲ^ｒであることが更に好ましい。ハメット則のσｐ値が正である置換基がシアノ基である場合、優れた耐光性を示すためである。また、ハメット則のσｐ値が正である置換基がＣＯＯＲ^ｒである場合、優れた溶解性を示すためである。
Ｒ^ｒは水素原子又はアルキル基を表すことが好ましく、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましく、炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基が更に好ましい。
【００６６】
Ｒ^ｒは、溶媒に対する溶解性の観点からは、炭素数５〜１５の分岐鎖アルキル基がより好ましい。
分岐鎖アルキル基は２級炭素原子又は３級炭素原子を有し、２級炭素原子又は３級炭素原子を１〜５個含むことが好ましく、１〜３個含むことが好ましく、１又は２個含むことが好ましく、２級炭素原子及び３級炭素原子を１又は２個含むことがより好ましい。また、不斉炭素を１〜３個含むことが好ましい。
Ｒ^ｒは、溶媒に対する溶解性の観点からは、２級炭素原子及び３級炭素原子を１又は２個含み、不斉炭素を１又は２個含む炭素数５〜１５の分岐鎖アルキル基であることが特に好ましい。
これは、化合物構造の対称性がくずれ、溶解性が向上するためである。
【００６７】
一方、紫外線吸収能の観点からは、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましい。
炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、ｉ−オクチル基を挙げることができ、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００６８】
また、本発明において、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐが１価の置換基を表す場合は、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ及びＲ^１ｊのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^１ｈが前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが更に好ましい。Ｒ^１ｂ又はＲ^１ｄ、及びＲ^１ｈが前記ハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基を表すことが特に好ましい。優れた耐光性を有するためである。
本発明において、Ｒ^１ｈ又はＲ^１ｎがそれぞれ独立に水素原子、ＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ_３Ｍのいずれかであることが好ましく、Ｒ^１ｈ又はＲ^１ｎが水素原子であることがより好ましく、Ｒ^１ｈ及びＲ^１ｎが水素原子であることが更に好ましく、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐが水素原子を表すことが特に好ましい。優れた耐光性を示すためである。
【００６９】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ^１ｂ又はＲ^１ｄ、がハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基であって、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐは水素原子を表すことが好ましく、Ｒ^１ｂ又はＲ^１ｄ、がＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ_３Ｍのいずれかであって、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐは水素原子であることがより好ましい。優れた耐光性を示すためである。
【００７０】
好ましい第二の様態において前記一般式（１）で表される化合物は好ましくは下記一般式（１）−４で表される。
【００７１】
【化９】

【００７２】
前記一般式（１）−４において、Ｒ^１ｂ及びＲ^１ｄは互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基である。
【００７３】
好ましい第二の様態において、前記一般式（１）で表される化合物は好ましくは下記一般式（１）−５で表される。
【００７４】
【化１０】

【００７５】
前記一般式（１）−５において、Ｒ^ｒは水素原子又は１価の置換基を表す。
【００７６】
前記一般式（１）−５において、Ｒ^ｒは、溶媒に対する溶解性の観点から、炭素数５〜１５の分岐鎖アルキル基であることが好ましく、該分岐鎖アルキル基は２級炭素原子又は３級炭素原子を有することが好ましく、２級炭素原子又は３級炭素原子を１〜５個含むことがより好ましく、１〜３個含むことが更に好ましく、１又は２個含むことが特に好ましく、２級炭素原子及び３級炭素原子をそれぞれ１又は２個含むことが最も好ましい。また、不斉炭素を１〜３個含むことが好ましい。Ｒ^ｒは、溶媒に対する溶解性の観点からは、２級炭素原子及び３級炭素原子を１又は２個含み、不斉炭素を１又は２個含む炭素数５〜１５の分岐鎖アルキル基であることが特に好ましい。その理由としては、化合物構造の対称性がくずれ、溶解性が向上するためである。
【００７７】
前記一般式（１）で表される化合物はｐＫａが−５．０〜−７．０の範囲であることが好ましい。更に−５．２〜−６．５の範囲であることがより好ましく、−５．４〜−６．０の範囲であることが特に好ましい。
【００７８】
前記一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。
なお、下記の具体例中Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、^ｔＢｕはｔ−ブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表し、−Ｃ_６Ｈ_１３はｎ−ヘキシルを表す。
【００７９】
【化１１】

【００８０】
【化１２】

【００８１】
【化１３】

【００８２】
【化１４】

【００８３】
【化１５】

【００８４】
【化１６】

【００８５】
【化１７】

【００８６】
【化１８】

【００８７】
【化１９】

【００８８】
【化２０】

【００８９】
前記一般式（１）で表される化合物は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明の化合物に含まれる。
【００９０】
前記一般式（１）で表される化合物は、同位元素（例えば、^２Ｈ、^３Ｈ、^１３Ｃ、^１５Ｎ、^１７Ｏ、^１８Ｏなど）を含有していてもよい。
【００９１】
前記一般式（１）で表される化合物は、任意の方法で合成することができる。
例えば、公知の特許文献や非特許文献、例えば、特開平７−１８８１９０号公報、特開平１１−３１５０７２、特開２００１−２２０３８５号公報、「染料と薬品」第４０巻１２号（１９９５）の３２５〜３３９ページなどを参考にして合成できる。具体的には、例示化合物（１６）はサリチルアミドと３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル クロリドと２−ヒドロキシベンズアミジン塩酸塩とを反応させることにより合成できる。また、サリチルアミドとサリチル酸と３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアミジン塩酸塩とを反応させることによっても合成できる。
【００９２】
本発明における前記化合物は、有機材料を光・酸素又は熱による損傷に対して安定化させるのに特に適している。中でも前記一般式（１）で表される化合物は、光安定剤、とりわけ紫外線吸収剤として好適に用いることができる。
【００９３】
前記一般式（１）で表される化合物は特定の位置にハメット則のσｐ値が正である置換基を有するため、電子求引性基によりＬＵＭＯが安定化されるため、励起寿命が短くなり、優れた耐光性を有するという特徴を有する。紫外線吸収剤として用いた際にも、既知のトリアジン系化合物を用いた場合は、長時間使用した場合は分解して黄変するなど悪影響を及ぼす。
それに対して、前記一般式（１）で表される化合物は優れた耐光性を有するため長時間使用した場合でも分解せず黄変することがないという効果が得られる。
【００９４】
前記一般式（１）で表される化合物の極大吸収波長は、特に限定されないが、好ましくは２５０〜４００ｎｍであり、より好ましくは２８０〜３８０ｎｍである。半値幅は好ましくは２０〜１００ｎｍであり、より好ましくは４０〜８０ｎｍである。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、着色を抑制するために可視域に吸収がないことが好ましい。
【００９５】
＜一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物＞
次に、本発明に用いられる一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物について説明する。
【００９６】
一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）における基が脂肪族部位を含む場合には、その脂肪族部位は直鎖、分岐鎖又は環状で飽和であっても不飽和であってもよく、例えばアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニルを表し、これらは無置換であっても置換基を有していてもよい。また、アリール部位を含む場合には、そのアリール部位は、単環であっても縮合環であってもよく、無置換であっても置換基を有していてもよい。また、複素環部位を含む場合には、その複素環部位は環内にヘテロ原子（例えば、窒素原子、イオウ原子、酸素原子）を持つものであり、飽和環であっても、不飽和環であってもよく、単環であっても縮合環であってもよく、無置換であっても置換基を有していてもよく、環状のヘテロ原子で結合しても、炭素原子で結合してもよい。
【００９７】
前記置換基とは、置換可能な基であればよく、例えば脂肪族基、アリール基、複素環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、複素環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、複素環スルホンアミド基、脂肪族アミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、複素環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、アリールスルフィニル基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、脂肪族オキシアミノ基、アリールオキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ホスフィニル基、ホスホリル基等を挙げることができる。
【００９８】
［一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物］
【００９９】
【化２１】

【０１００】
〔一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ₉₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は−Ｓｉ(Ｒ₉₇)(Ｒ₉₈)(Ｒ₉₉)を表す。ここで、Ｒ₉₇、Ｒ₉₈、及びＲ₉₉は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、又はアリールオキシ基を表す。Ｘ₉₁は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ(−Ｒ₁₀₀)−を表す。ここで、Ｒ₁₀₀はＲ₉₁と同義である。Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、及びＲ₉₆は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ₉₁とＲ₉₂、Ｒ₁₀₀とＲ₉₆、Ｒ₉₁とＲ₁₀₀は互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。更に、Ｒ₉₂とＲ₉₃、Ｒ₉₃とＲ₉₄が互いに結合して、５〜７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、及びＲ₁₀₀のすべてが水素原子であることはなく、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、及びＲ₁₀₀の総炭素数は９以上である。］
【０１０１】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）について更に詳細に述べる。
Ｒ₉₁は水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基等の環状アルキル基を含む、例えば、メチル基、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ドデシル基、メトキシエトキシ基、ベンジル基）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む、例えば、アリル基）、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基）ヘテロ環基（例えば２−テトラヒドフリル基、ピラニル基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）、アルキル若しくはアルケニルオキシカルボニル基（例えばメキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニル基）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基）、ホスフィノトリル基（例えばジメトキシホスフィノ基、ジフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（例えばジエチルホスフィニル基、ジフェニルホスフィニル基）、又は−Ｓｉ(Ｒ₉₇)(Ｒ₉₈)(Ｒ₉₉)を表す。ここで、Ｒ₉₇、Ｒ₉₈、Ｒ₉₉は同一でも異なってもよく、それぞれアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基）、アルケニル基（例えばアリル基）、アリール基（例えばフェニル基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、ブトキシ基）、アルケニルオキシ基（例えばアリルオキシ基）、又はアリールオキシ基（例えばフェノキシ基）を表す。
Ｒ₉₁は水素原子、アルキル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、又は−Ｓｉ(Ｒ₉₇)(Ｒ₉₈)(Ｒ₉₉)であることが好ましい。Ｒ₉₁が水素原子でない場合はＲ₉₁の炭素数は１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１０が更に好ましい。Ｒ₉₇、Ｒ₉₈、Ｒ₉₉はアルキル基であることが好ましい。より優れた耐光性を得ることが出来ることから、Ｒ₉₁は水素原子であることが最も好ましい。
【０１０２】
Ｘ₉₁は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ(−Ｒ₁₀₀)−を表す。ここで、Ｒ₁₀₀はＲ₉₁と同義であり、好ましい範囲も同様である。より優れた耐光性を得ることが出来ることから、Ｘ₉₁は−Ｏ−であることが最も好ましい。
【０１０３】
Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、及びＲ₉₆は各々同一でも異なってもよく、それぞれ、水素原子又は置換基を表し、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む。）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【０１０４】
その中でも好ましい置換基としてはアルキル基（例えばメチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ヘキシル基、ベンジル基）、アルケニル基（アリール基）、アリール基（例えばフェニル基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）、アルキル若しくはアルケニルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、ｐ−ヒドロキシベンゼンスルホニル基）又は−Ｘ₉₁−Ｒ₉₁である。
【０１０５】
Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、及びＲ₉₆は好ましくは水素原子、又はアルキル基である。Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、及びＲ₉₆が水素原子でない場合は、これらの炭素数は１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１０が更に好ましい。
【０１０６】
Ｒ₉₁とＲ₉₂、Ｒ₁₀₀とＲ₉₆、Ｒ₉₁とＲ₁₀₀は互いに結合して５〜７員環（例えばクロマン環、モルホリン環）を形成していてもよい。更に、Ｒ₉₂とＲ₉₃、Ｒ₉₃とＲ₉₄が互いに結合して、５〜７員環（例えばクロマン環、インダン環）又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、Ｒ₁₀₀のすべてが水素原子であることはなく、総炭素数は９以上であり、好ましくは総炭素数１６以上である。
【０１０７】
本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物は、特公昭６３−５０６９１号公報の一般式（Ｉ）、特公平２−３７５７５号公報の一般式（ＩＩＩａ）（ＩＩＩｂ）（ＩＩＩｃ）、同２−５０４５７号公報の一般式、同５−６７２２０号公報の一般式、同５−７０８０９の一般式（ＩＸ）、同６−１９５３４号公報の一般式、特開昭６２−２２７８８９号公報の一般式（Ｉ）、同６２−２４４０４６号公報の一般式（Ｉ）（ＩＩ）、特開平２−６６５４１号公報の一般式（Ｉ）（ＩＩ）、同２−１３９５４４号公報の一般式（ＩＩ）（ＩＩＩ）、同２−１９４０６２号公報の一般式（Ｉ）、同２−２１２８３６号公報の一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、同３−２００７５８号公報の一般式（ＩＩＩ）、同３−４８８４５号公報の一般式（ＩＩ）（ＩＩＩ）、同３−２６６８３６号公報の一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、同３−９６９４４０号公報の一般式（Ｉ）、同４−３３０４４０号公報の一般式（Ｉ）、同５−２９７５４１号公報の一般式（Ｉ）、同６−１３０６０２号公報の一般式、国際公開ＷＯ９１／１１７４９号パンフレットの一般式（１）、（２）、（３）、独国特許出願公開第４００８７８５Ａ１号明細書の一般式（Ｉ）、米国特許第４９３１３８２号明細書の一般式（ＩＩ）、欧州特許第２０３７４６Ｂ１号明細書の一般式（ａ）、欧州特許第２６４７３０Ｂ１号明細書の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
【０１０８】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）は、下記一般式（ＴＳ−ＩＡ）〜（ＴＳ−ＩＨ）で表されることがより優れた耐光性を得ることが出来ることから好ましく、これらのなかでも、樹脂に添加して使用した場合に、樹脂中での拡散性があることから紫外線吸収剤及び樹脂に対してより効果を及ぼしやすいため、一般式（ＴＳ−ＩＥ）又は（ＴＳ−ＩＧ）が特に好ましく、一般式（ＴＳ−ＩＧ）で表されることがより好ましい。
【０１０９】
【化２２】

【０１１０】
前記一般式（ＴＳ−ＩＡ）〜（ＴＳ−ＩＨ）において、Ｒ₉₁〜Ｒ₉₇は一般式（ＴＳ−Ｉ）で定義したものと同じであり、好ましい範囲も同様である。Ｒ_a1〜Ｒ_a6は各々独立に水素原子又は脂肪族基を表し、Ｘ₉₂及びＸ₉₃は各々独立に２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、アルキレン基、オキシ基、スルホニル基を表す。式中、同一分子中の同記号は同じであっても異なっていてもよい。
【０１１１】
【化２３】

【０１１２】
【化２４】

【０１１３】
【化２５】

【０１１４】
【化２６】

【０１１５】
【化２７】

【０１１６】
【化２８】

【０１１７】
【化２９】

【０１１８】
【化３０】

【０１１９】
【化３１】

【０１２０】
［一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物］
【０１２１】
【化３２】

【０１２２】
〔一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃、及びＲ₁₀₄は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアルケニル基を表し、Ｒ₁₀₁とＲ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は結合し、５〜７員環を形成してもよい。Ｘ₁₀₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル若しくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、又はオキシラジカル基を表す。Ｘ₁₀₂は５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。］
【０１２３】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄は各々独立に、水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）を表し、Ｒ₁₀₁とＲ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は結合し、５〜７員環を形成してもよい。
Ｘ₁₀₁は水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキル若しくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキル若しくはアルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル若しくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基又はオキシラジカル基を表す。
Ｘ₁₀₂は５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
【０１２４】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）を更に詳細に述べる。
式中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄は、水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基）、アルケニル基（例えばアリル基）であるが、好ましくはアルキル基である。
Ｘ₁₀₁は、水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基）、アルケニル基（例えば、アリル基）、アルキルオキシ基（例えばメトキシ基、オクチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、アルケニルオキシ基（例えばアリルオキシ基）、アルキルオキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、アルケニルオキシカルボニル基(例えば、アリルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基、ｐ−クロロフェノキシカルボニル基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、メタクリロイル基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基）、アルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、オクチルオキシカルボニルオキシ基）、アルケニルオキシカルボニルオキシ基（例えば、アリルオキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アルケニルスルホニル基（例えば、アリルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基）、アルキルスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル基、オクタンスルフィニル基）、アルケニルスルフィニル基（例えば、アリルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（例えばベンゼンスルフィニル基、ｐ−トルエンスルフィニル基）、スルファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基）、カルバモイル基（例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基）、ヒドロキシ基又はオキシラジカル基を表す。
Ｘ₁₀₂は５〜７員環（例えばピペリジン環、ピペラジン環）を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
【０１２５】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）においては、更に好ましくは、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄、Ｒ₁₀₅、Ｒ₁₀₆が共に炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｘ₁₀₁がオキシラジカル、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数２〜１４のアシル基、又は炭素数６〜２０のアリール基であり、Ｘ₁₀₂がシクロヘキサン環を形成するものである。
【０１２６】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）は下記一般式（ＴＳ−ＩＩａ）又は一般式（ＴＳ−ＩＩｂ）で表されることが好ましく、一般式（ＴＳ−ＩＩａ）で表されることがより好ましい。
【０１２７】
【化３３】

【０１２８】
一般式（ＴＳ−ＩＩａ）及び一般式（ＴＳ−ＩＩｂ）中、Ｘ₁₀₁は前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）におけるＸ₁₀₁と同義である。Ｒ₂₀₀は１価の置換基を表す。Ｌ₁₀₁はｋ価の連結基を表し、ｋは２〜４の整数を表す。
【０１２９】
Ｘ₁₀₁は前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）におけるＸ₁₀₁と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｒ₂₀₀は１価の置換基を表し、該１価の置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む。）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、オキシラジカルが例として挙げられる。
Ｒ₂₀₀は好ましくはヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、オキシラジカルであり、ヒドロキシル基がより好ましい。
【０１３０】
ｋは２〜４の整数を表し、２であることが好ましい。
Ｌ₁₀₁はｋ価の連結基を表し、２価の連結基を表すことが好ましい。
Ｌ₁₀₁は−ＯＣ（＝Ｏ）−（ＣＨ₂）_ｐ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−を表すことが好ましい。ｐは１〜２０の整数を表し、好ましくは１〜１０の整数である。
【０１３１】
一般式（ＴＳ−ＩＩｂ）は下記一般式（ＴＳ−ＩＩｂ−２）で表されることが更に好ましい。
【０１３２】
【化３４】

【０１３３】
一般式（ＴＳ−ＩＩｂ−２）において、Ｘ_１０１は前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）におけるＸ_１０１と同義であり、ｎは１〜２０の整数を表す。
【０１３４】
一般式（ＴＳ−ＩＩｂ−２）において、Ｘ_１０１の好ましい範囲は、前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）におけるＸ_１０１の好ましい範囲と同様である。ｎは、樹脂に添加して使用した場合に、樹脂中での拡散性を向上させ、紫外線吸収剤及び樹脂に対してより効果を及ぼしやすく、かつ耐ブリードアウト性が向上するため、好ましくは１〜１０の整数であり、より好ましくは１〜８の整数である。
【０１３５】
本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物は、特公平２−３２２９８号公報の一般式（Ｉ）、同３−３９２９６号公報の一般式（Ｉ）、同３−４０３７３号公報の一般式、特開平２−４９７６２号公報の一般式（Ｉ）、同２−２０８６５３号公報の一般式（ＩＩ）、同２−２１７８４５号公報の一般式（ＩＩＩ）、米国特許第４９０６５５５号明細書の一般式（Ｂ）、欧州特許出願公開第３０９４００Ａ２号明細書の一般式、同第３０９４０１Ａ１号明細書の一般式、同第３０９４０２Ａ１号明細書の一般式等で表される化合物を包含する。
【０１３６】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。ｎは構造単位の繰り返し数を表す。
【０１３７】
【化３５】

【０１３８】
【化３６】

【０１３９】
【化３７】

【０１４０】
【化３８】

【０１４１】
【化３９】

【０１４２】
【化４０】

【０１４３】
［一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）で表される化合物］
【０１４４】
【化４１】

【０１４５】
〔一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ₁₀₅及びＲ₁₀₆は各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、又は芳香族スルホニル基を表し、Ｒ₁₀₇は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、又はヒドロキシ基を表し、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₆、Ｒ₁₀₆とＲ₁₀₇、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₇は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよいが、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ₁₀₅及びＲ₁₀₆の両方が水素原子であることはなく、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₆の総炭素数は７以上である。］
【０１４６】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ₁₀₅、Ｒ₁₀₆は水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基を表し、Ｒ₁₀₇は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、ヒドロキシ基を表し、可能な場合にはＲ₁₀₅とＲ₁₀₆、Ｒ₁₀₆とＲ₁₀₇、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₇は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよいが、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ₁₀₅、Ｒ₁₀₆の両方が水素原子であることはなく、総炭素数は７以上である。
【０１４７】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）を更に詳細に述べる。
式中、Ｒ₁₀₅、Ｒ₁₀₆は水素原子、脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、オクチル基、メトキシエトキシ基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、メタクリロイル基）、脂肪族オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、芳香族オキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）、脂肪族スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、芳香族スルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基）を表し、Ｒ₁₀₇は脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、オクチル基、メトキシエトキシ基）、脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基）、脂肪族チオ基（例えばメチルチオ基、オクチルチオ基）、芳香族チオ基（例えばフェニルチオ基、ｐ−メトキシフェニルチオ基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、ピバロイルオキシ基）、脂肪族オキシカルボニルオキシ基（例えばメトキシカルボニルオキシ基、オクチルオキシカルボニルオキシ基）、芳香族オキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基）、置換アミノ基（置換基としては置換可能ならばよく、例えば脂肪族基、芳香族基、アシル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基等の置換したアミノ基）、複素環基（例えばピペリジン環、チオモルホリン環）、ヒドロキシ基を表し、可能な場合にはＲ₁₀₅とＲ₁₀₆、Ｒ₁₀₆とＲ₁₀₇、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₇は互いに結合し、５〜７員環（例えばピペリジン環、ピラゾリジン環）を形成してもよい。但し、Ｒ₁₀₅、Ｒ₁₀₆の両方が水素原子であることはなく、総炭素数は７以上である。
【０１４８】
本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）で表される化合物は、特公平６−９７３３２号公報の一般式（Ｉ）、特公平６−９７３３４号公報の一般式（Ｉ）、特開平２−１４８０３７号公報の一般式（Ｉ）、同２−１５０８４１号公報の一般式（Ｉ）、同２−１８１１４５号公報の一般式（Ｉ）、同３−２６６８３６号公報の一般式（Ｉ）、同４−３５０８５４号公報の一般式（ＩＶ）、同５−６１１６６号公報の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）で表される化合物としては、下記一般式（ＴＳ−ＩＩＩＡ）〜（ＴＳ−ＩＩＩＤ）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
【０１４９】
【化４２】

【０１５０】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩＡ）〜（ＴＳ−ＩＩＩＤ）において、Ｒ₁₀₅〜Ｒ₁₀₆は前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）で定義したものと同じであり、好ましい範囲も同様である。Ｒ_b1〜Ｒ_b3はＲ₁₀₅と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ_b4、Ｒ_b5、Ｒ_b6は脂肪族基を表す。Ｘ₁₀₃は５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
【０１５１】
前記一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５２】
【化４３】

【０１５３】
【化４４】

【０１５４】
［一般式（ＴＳ−ＩＶ）で表される化合物］
【０１５５】
【化４５】

【０１５６】
〔一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ₁₁₁及びＲ₁₁₂は各々独立に脂肪族基を表し、該脂肪族基は更に置換基を有してもよい。Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよい。ｎは０、１、又は２を表す。但し、Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂の総炭素数は１０以上である。］
【０１５７】
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ₁₁₁、Ｒ₁₁₂は脂肪族基を表し、該脂肪族基は更に置換基を有してもよい。該置換基としては、アルケニル基、アシル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基などが挙げられる。また、これらの置換基は更に別の置換基により置換されていてもよく、該別の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む。）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
Ｒ₁₁₁、Ｒ₁₁₂の具体例としては、例えば、メチル基、メトキシカルボニルエチル基、ドデシルオキシカルボニルエチル基などが挙げられる。
Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂は互いに結合し、５〜７員環（例えばテトラヒドロチオフェン環、チオモルホリン環）を形成してもよい。
ｎは０又は２を表すことが好ましく、０を表すことがより好ましい。
本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）で表される化合物は、特公平２−４４０５２号の一般式（Ｉ）、特開平３−４８２４２号公報の一般式（Ｔ）、同３−２６６８３６号公報の一般式（Ａ）、同５−３２３５４５号公報の一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、同６−１４８８３７号公報の一般式（Ｉ）、米国特許第４９３３２７１号明細書の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
【０１５８】
前記一般式（ＴＳ−ＩＶ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５９】
【化４６】

【０１６０】
［一般式（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物］
【０１６１】
【化４７】

【０１６２】
〔一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ₁₂₁及びＲ₁₂₂は各々独立に脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ₁₂₃は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₂、Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₃は互いに結合し、５〜８員環を形成してもよい。但し、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃の総炭素数は１０以上である。］
【０１６３】
前記一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂は脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、ｔ−オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ基）を表し、Ｒ₁₂₃は脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ−オクチル基）、芳香族基（例えばフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基）、脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、ｔ−オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基）を表す。ｍは０又は１を表し、０を表すことが好ましい。Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₂、Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₃は互いに結合し、５〜８員環を形成してもよい。但し、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃の総炭素数は１０以上である。
本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物は、特開平３−２５４３７号公報の一般式（Ｉ）、同３−１４２４４４号公報の一般式（Ｉ）、米国特許第４７４９６４５号明細書の一般式、同第４９８０２７５号明細書の一般式等で表される化合物を包含する。
【０１６４】
前記一般式（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６５】
【化４８】

【０１６６】
【化４９】

【０１６７】
前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物として好ましくは、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）、（ＴＳ−ＩＩ）又は（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物であり、より好ましくは前記一般式（ＴＳ−Ｉ）又は（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物である。
一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物と一般式（１）で表される化合物の組み合わせが特に好ましい理由は、（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物のＸ_９１と一般式（１）で表される化合物の２つのフェノール性水酸基が効果的な水素結合性のネットワークをつくることで近づきやすくなり、より高い効果が得られるためである。特に好ましくは、一般式（ＴＳ−ＩＥ）及び一般式（ＴＳ−ＩＧ）である。これらの化合物は、一般式（１）で表される化合物の２つのフェノール性水酸基とのネットワーク形成能が高く、より、効果を及ぼしやすいためである。更に、一般式（１）で表される化合物として、一般式（１）−３又は一般式（１）−５で表される化合物とを組み合わせることがより好ましい。理由は、−ＣＯＯＲ^ｒ基の適度な疎水性により、一般式（ＴＳ−ＩＥ）及び一般式（ＴＳ−ＩＧ）がより近づきやすくなっているためである。
一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物と一般式（１）で表される化合物の組み合わせが特に好ましい理由は、一般式（１）で表される化合物の２つのフェノール性水酸基が一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物の窒素原子と水素結合性のネットワークをつくり、一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物の材料の表面からの揮散を防止し、より長時間効果を持続させることが出来るためである。
特に好ましくは前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物である。特に前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物としては、（ＴＳ−ＩＩｂ−２）で表される化合物であることが好ましい。一般式（ＴＳ−ＩＩｂ−２）で表される化合物は、ラジカルトラップ能にすぐれる反面、表面からの揮散が著しいことが問題となっていたが、一般式（１）で表される化合物との組み合わせでは、表面からの揮散が防止されるため高い効果がより持続するため好ましい。更に、一般式（１）で表される化合物として、一般式（１）−３又は一般式（１）−５で表される化合物とを組み合わせることがより好ましい。理由は、−ＣＯＯＲ^ｒ基の適度な疎水性により、一般式（ＴＳ−ＩＩｂ−２）で表される化合物がより近づきやすくなり，ネットワークの効果が強くなることでより揮散を防止できるためである。
【０１６８】
本発明の紫外線吸収剤組成物は、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物を二種以上含んでもよい。前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物が二種以上含まれる場合、同一の群から二種以上併用しても良いし（例えば、前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物を二種類使用する場合）、複数の群に亘って二種以上併用しても良い（例えば、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）で表される化合物と前記一般式（ＴＳ−ＩＩ）で表される化合物をそれぞれ一種類ずつ使用する場合）。好ましくは、複数の群に亘って二種以上併用する場合である。
【０１６９】
＜その他の紫外線吸収剤＞
本発明の紫外線吸収剤組成物は、異なる構造を有する二種類以上の前記一般式（１）で表される化合物を併用してもよいし、前記一般式（１）で表される化合物とそれ以外の構造を有する一種類以上の紫外線吸収剤（紫外線安定剤）を併用してもよい。二種類（好ましくは三種類）の紫外線吸収剤を併用すると、広い波長領域の紫外線を吸収することができる。また、二種類以上の紫外線吸収剤を併用すると、紫外線吸収剤の分散状態が安定化するという作用もある。前記一般式（１）以外の構造を有する紫外線吸収剤として任意のものを使用できる。例えば、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）第２章、東レリサーチセンター調査研究部門編集「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）2.3.1、などに記載されている紫外線吸収剤が挙げられる。例えば、紫外線吸収剤の構造として知られているトリアジン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、メロシアニン系、シアニン系、ジベンゾイルメタン系、桂皮酸系、アクリレート系、安息香酸エステル系シュウ酸ジアミド系などの化合物が挙げられる。例えば、ファインケミカル、２００４年５月号、２８〜３８ページ、東レリサーチセンター調査研究部門発行「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）９６〜１４０ページ、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）５４〜６４ページなどに記載されている。
一般式（１）以外の構造を有する紫外線吸収剤として好ましくは、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸系、アクリレート系、トリアジン系の化合物である。より好ましくはベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系の化合物である。特に好ましくはベンゾトリアゾール系、トリアジン系の化合物である。
【０１７０】
前記ベンゾトリアゾール系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍで、下記一般式（IIａ）、（IIｂ）又は（IIｃ）のいずれかで表される化合物が好ましい。
【０１７１】
【化５０】

【０１７２】
［前記一般式（IIａ）中、
Ｒ_１は、水素原子、１〜２４個の炭素原子を有するアルキル、アルキル部分に１〜４個の炭素原子を有するフェニルアルキル、５〜８個の炭素原子を有するシクロアルキル、又は下記一般式：
【０１７３】
【化５１】

【０１７４】
（式中、Ｒ_４及びＲ_５は、互いに独立して１〜５個の炭素原子を有するアルキルを表す。Ｒ_４は、Ｃ_ｎＨ_{２ｎ＋１−ｍ}基と一緒になって、５〜１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基を形成してもよい。ｍは１又は２を表す。ｎは２〜２０の整数を表す。Ｍは、−ＣＯＯＲ_６（ここで、Ｒ_６は、水素原子、１〜１２個の炭素原子を有するアルキル、アルキル部分及びアルコキシ部分に１〜２０個の炭素原子を有するアルコキシアルキル、又はアルキル部分に１〜４個の炭素原子を有するフェニルアルキルである。）を表す。）で表される基であり、
【０１７５】
Ｒ_２は、水素原子、ハロゲン原子、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、及びアルキル部分に１〜４個の炭素原子を有するフェニルアルキルであり、
Ｒ_３は、水素原子、塩素原子、１〜４個の炭素原子を有するアルキル若しくはアルコキシ、又は−ＣＯＯＲ_６（ここで、Ｒ_６は先に規定される通りである。）である。
但し、Ｒ_１及びＲ_２のうちの少なくとも１つは、水素原子以外である。］
【０１７６】
［前記一般式（IIｂ）中、
Ｔは、水素原子又は１〜６個の炭素原子を有するアルキルであり、
Ｔ_１は、水素原子、塩素原子、又は１〜４個の炭素原子を有するアルキル若しくはアルコキシであり、
ｎは１又は２であり、
ｎが１のときＴ_２は、塩素原子、−ＯＴ_３、又は式：
【０１７７】
【化５２】

【０１７８】
であり、
また、ｎが２のときＴ_２は、式：
【０１７９】
【化５３】

【０１８０】
、又は−Ｏ−Ｔ_９−Ｏ−の基である。（ここで、Ｔ_３は、水素原子、１〜１８個の炭素原子を有しそして非置換であるか、又は１〜３個のヒドロキシル基によって若しくは−ＯＣＯＴ_６によって置換されるアルキル、３〜１８個の炭素原子を有し、−Ｏ−又は−ＮＴ_６−によって連続的炭素−炭素結合が１回又は数回中断され、そして非置換であるか、又はヒドロキシル若しくは−ＯＣＯＴ_６によって置換されるアルキル、５〜１２個の炭素原子を有しそして非置換であるか、又はヒドロキシル及び／又は１〜４個の炭素原子を有するアルキルによって置換されるシクロアルキル、２〜１８個の炭素原子を有しそして非置換であるか、又はヒドロキシルによって置換されるアルケニル、アルキル部分に１〜４個の炭素原子を有するフェニルアルキル、又は、−ＣＨ_２ＣＨ(ＯＨ)−Ｔ_７若しくは
【０１８１】
【化５４】

【０１８２】
であり、
Ｔ_４及びＴ_５は、互いに独立して、水素原子、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、３〜１８個の炭素原子を有しそして−Ｏ−又は−ＮＴ_６−によって連続的炭素−炭素結合が１回又は数回中断されるアルキル、５〜１２個の炭素原子を有するシクロアルキル、フェニル、１〜４個の炭素原子を有するアルキルによって置換されるフェニル、３〜８個の炭素原子を有するアルケニル、アルキル部分に１〜４個の炭素原子を有するフェニルアルキル、又は２〜４個の炭素原子を有するヒドロキシアルキルであり、
【０１８３】
Ｔ_６は、水素原子、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、５〜１２個の炭素原子を有するシクロアルキル、３〜８個の炭素原子を有するアルケニル、フェニル、１〜４個の炭素原子を有するアルキルによって置換されるフェニル、アルキル部分に１〜４個の炭素原子を有するフェニルアルキルであり、
【０１８４】
Ｔ_７は、水素原子、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、非置換であるか、又はヒドロキシルによって置換されるフェニル、アルキル部分に１〜４個の炭素原子を有するフェニルアルキル、又は−ＣＨ_２ＯＴ_８であり、
Ｔ_８は、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、３〜８個の炭素原子を有するアルケニル、５〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル、フェニル、１〜４個の炭素原子を有するアルキルによって置換されるフェニル、又は、アルキル部分に１〜４個の炭素原子を有するフェニルアルキルであり、
【０１８５】
Ｔ_９は、２〜８個の炭素原子を有するアルキレン、４〜８個の炭素原子を有するアルケニレン、４個の炭素原子を有するアルキニレン、シクロヘキシレン、２〜８個の炭素原子を有しそして−Ｏ−によって連続的炭素−炭素結合が１回又は数回中断されるアルキレン、又は−ＣＨ_２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ_２Ｏ−Ｔ_１１−ＯＣＨ_２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ_２−、若しくは−ＣＨ_２−Ｃ(ＣＨ_２ＯＨ)_２−ＣＨ_２−であり、
【０１８６】
Ｔ_１０は、２〜２０個の炭素原子を有しそして−Ｏ−によって連続的炭素−炭素結合が１回若しくは数回中断されることができるアルキレン、又はシクロヘキシレンであり、
【０１８７】
Ｔ_１１は、２〜８個の炭素原子を有するアルキレン、２〜１８個の炭素原子を有しそして−Ｏ−によって連続的炭素−炭素結合が１回若しくは数回中断されるアルキレン、１，３−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキシレン、１，３−フェニレン、若しくは１，４−フェニレンであり、又は、Ｔ_１０、及びＴ_６は、２個の窒素原子と一緒になって、ピペラジン環になる。）］
【０１８８】
［前記一般式（IIｃ）中、Ｒ’_２は、Ｃ_１〜Ｃ_１２アルキルであり、そしてｋは１〜４の数である。］
【０１８９】
前記一般式（IIａ）〜（IIｃ）のいずれかで表される化合物の代表例としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ドデシル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）−５’−メチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
【０１９０】
【化５５】

【０１９１】
（式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
【０１９２】
前記トリアジン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍで、下記一般式（III）で表される化合物が好ましい。
【０１９３】
【化５６】

【０１９４】
［前記一般式（III）中、
ｕは１又は２であり、そしてｒは１〜３の整数であり、
置換基Ｙ_１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル、フェニル若しくはハロゲン、ハロゲノメチル、１〜１２個の炭素原子を有するアルキル、１〜１８個の炭素原子を有するアルコキシ、−ＣＯＯ−（Ｃ_１〜Ｃ_１８アルキル）によって置換される１〜１８個の炭素原子を有するアルコキシである。
【０１９５】
ｕが１のときＹ_２は、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、非置換であるか、又はヒドロキシル、ハロゲン、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル若しくはアルコキシによって置換されるフェニル；
１〜１２個の炭素原子を有しそして−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＹ_８、−ＣＯＮＨ_２、−ＣＯＮＨＹ_９、−ＣＯＮＹ_９Ｙ_１０、−ＮＨ_２、−ＮＨＹ_９、−ＮＹ_９Ｙ_１０、−ＮＨＣＯＹ_１１、シアノ基、及び／又は−ＯＣＯＹ_１１によって置換されるアルキル；
４〜２０個の炭素原子を有し、１個以上の酸素原子によって連続的炭素−炭素結合が中断されそして非置換であるか、又はヒドロキシル若しくは１〜１２個の炭素原子を有するアルコキシによって置換されるアルキル、３〜６個の炭素原子を有するアルケニル、グリシジル、非置換であるか、又はヒドロキシル、１〜４個の炭素原子を有するアルキル及び／又は−ＯＣＯＹ_１１によって置換されるシクロヘキシル、アルキル部分に１〜５個の炭素原子を有しそして非置換であるか、又はヒドロキシル、塩素及び／又はメチルによって置換されるフェニルアルキル、−ＣＯＹ_１２若しくは−ＳＯ_２Ｙ_１３である。
【０１９６】
また、ｕが２のときＹ_２は、２〜１６個の炭素原子を有するアルキレン、４〜１２個の炭素原子を有するアルケニレン、キシリレン、３〜２０個の炭素原子を有し、１個以上の−Ｏ−原子によって連続的炭素−炭素結合が中断され、及び／又はヒドロキシルによって置換されるアルキレン、−ＣＨ_２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ_２−Ｏ−Ｙ_１５−ＯＣＨ_２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ_２、−ＣＯ−Ｙ_１６−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ_１７−ＮＨ−ＣＯ−、又は−(ＣＨ_２)_ｍ−ＣＯ_２−Ｙ_１８−ＯＣＯ−(ＣＨ_２)_ｍである。
【０１９７】
（ここで、
ｍは、１、２又は３であり、
Ｙ_８は、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、３〜１８個の炭素原子を有するアルケニル、３〜２０個の炭素原子を有し、１個以上の酸素若しくは硫黄原子又は−ＮＴ_６−によって連続的炭素−炭素結合が中断され、及び／又はヒドロキシルによって置換されるアルキル、１〜４個の炭素原子を有しそして−Ｐ(Ｏ)(ＯＹ_１４)_２、−ＮＹ_９Ｙ_１０、若しくは−ＯＣＯＹ_１１及び／又はヒドロキシルによって置換されるアルキル、３〜１８個の炭素原子を有するアルケニル、グリシジル、又はアルキル部分に１〜５個の炭素原子を有するフェニルアルキルであり、
Ｙ_９及びＹ_１０は、互いに独立して、１〜１２個の炭素原子を有するアルキル、３〜１２個の炭素原子を有するアルコキシアルキル、４〜１６個の炭素原子を有するジアルキルアミノアルキル、若しくは５〜１２個の炭素原子を有するシクロヘキシルであり、又は、Ｙ_９及びＹ_１０は、一緒になって３〜９個の炭素原子を有するアルキレン、オキサアルキレン又はアザアルキレンであってもよく、
Ｙ_１１は、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、２〜１８個の炭素原子を有するアルケニル、又はフェニルであり、
Ｙ_１２は、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、２〜１８個の炭素原子を有するアルケニル、フェニル、１〜１２個の炭素原子を有するアルコキシ、フェノキシ、１〜１２個の炭素原子を有するアルキルアミノ、又はフェニルアミノであり、
Ｙ_１３は、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、フェニル、又はアルキル基に１〜８個の炭素原子を有するアルキルフェニルであり、
Ｙ_１４は、１〜１２個の炭素原子を有するアルキル、又はフェニルであり、
Ｙ_１５は、２〜１０個の炭素原子を有するアルキレン、フェニレン、又は−フェニレン−Ｍ−フェニレン−（ここで、Ｍは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＣＨ_２−又は−Ｃ(ＣＨ_３)_２−である。）であり、
Ｙ_１６は、２〜１０個の炭素原子を有するアルキレン、オキサアルキレン又はチアアルキレン、フェニレン、又は２〜６個の炭素原子を有するアルケニレンであり、
Ｙ_１７は、２〜１０個の炭素原子を有するアルキレン、フェニレン、又はアルキル部分に１〜１１個の炭素原子を有するアルキルフェニレンであり、そして
Ｙ_１８は、２〜１０個の炭素原子を有するアルキレン、又は４〜２０個の炭素原子を有しそして酸素によって連続的炭素−炭素結合が１回若しくは数回中断されるアルキレンである。）］
【０１９８】
前記一般式（III）で表される化合物の代表例としては、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ）フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン等を挙げることができる。
【０１９９】
前記ベンゾフェノン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としては２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−デシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ジエチルアミノ−２’−ヘキシルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタン等を挙げることができる。
【０２００】
前記サリチル酸系化合物としては、その有効吸収波長が約２９０〜３３０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としてはフェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフェニルサリシレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシサリシレート、ヘキサデシル ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシサリシレートなどを挙げることができる。
【０２０１】
前記アクリレート系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３５０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としては２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、イソオクチル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、ヘキサデシル ２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリレート、メチル ２−シアノ−３−メチル−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート、ブチル ２−シアノ−３−メチル−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート、メチル ２−カルボメトキシ−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリル酸塩、１，３−ビス（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）−２，２−ビス（（（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）メチル）プロパン、Ｎ−（２−カルボメトキシ−２−シアノビニル）−２−メチルインドリン等を挙げることができる。
【０２０２】
前記シュウ酸ジアミド系化合物としては、その有効吸収波長が約２５０〜３５０ｎｍであるものが好ましく、その代表例としては４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド等を挙げることができる。
【０２０３】
本発明の紫外線吸収剤組成物において、用いられる前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤と前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物との混合質量比率は、混合比率は、特に限定はされないが、耐光性とブリードアウト抑制効果のバランスの観点から、好ましくは１：０．０５〜１：５、更に好ましくは１：０．５〜１：２、より好ましくは１：１である。
【０２０４】
本発明の紫外線吸収剤組成物において、一般式（１）で表される紫外線吸収剤は、所望の性能を付与するために必要な任意の量を含有させることができる。一般式（１）で表される紫外線吸収剤の含有量としては紫外線吸収剤組成物中０質量％より大きく３０質量％以下であることが好ましく、０質量％より大きく１０質量％以下であることがより好ましく、０．０５質量％以上５％質量以下であることが更に好ましい。含有量が上記の範囲であれば十分な紫外線遮蔽効果が得られ、ブリードアウトを抑制することができるため好ましい。
また、前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物の総含有量は、紫外線吸収剤組成物全体に対して、好ましくは０質量％より大きく３０質量％以下であり、より好ましくは０質量％以上１０質量％以下であり、特に好ましくは０．０５質量％以上５質量％以下である。含有量が上記の範囲であれば耐候性向上とブリードアウト抑制が両立できるため好ましい。
【０２０５】
本発明に用いられる前記一般式（１）で表される化合物及び前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物は、それぞれ単独で存在していてもよいが、あらかじめあるいは組成物中で結合を形成することで、互いに連結していてもよい。また、それぞれ重合性基を結合させることでモノマーとし、これを重合させることで前記一般式（１）で表される化合物と前記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物とを構造単位として含む共重合体となってもよく、また別のモノマーを併用して共重合体となってもよい。好ましくは、それぞれ単量体として組成物になっていたものが、所望の時に重合を行って共重合体を形成する場合である。
【０２０６】
本発明の紫外線吸収剤組成物は、いずれの形態のものであってもよい。例えば、液体分散物、溶液、高分子材料などが挙げられる。また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、前記一般式（１）で表される化合物及び前記（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物の他に、目的に応じてその他の成分として適宜任意の化合物を含有することができる。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、樹脂とともに使用されることが好ましい。すなわち本発明の樹脂組成物は、前記紫外線吸収剤組成物と樹脂とを含有する。なお、本明細書では、本発明の樹脂組成物を「紫外線吸収剤組成物」と呼ぶ場合がある。
【０２０７】
本発明の紫外線吸収剤組成物は、分散媒体に分散された分散物の状態が好適である。以下、本発明の紫外線吸収剤分散物について説明する。
本発明の紫外線吸収剤組成物を分散する媒体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
【０２０８】
本発明に用いられる分散媒体の有機溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテルなどのエーテル系、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、メチルエチルケトンなどのケトン系、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのアミン系、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸系、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系、テトラヒドロフラン、ピリジンなどのヘテロ環系、などが挙げられる。これらを任意の割合で組み合わせて使用することもできる。
【０２０９】
本発明に用いられる分散媒体の樹脂としては、従来公知の各種成形体、シート、フィルム等の製造に従来から使用されている熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン−アクリロニトリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、エチレン−ビニルアルコール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）、液晶ポリエステル樹脂（ＬＣＰ）、ポリアセタール樹脂（ＰＯＭ）、ポリアミド樹脂（ＰＡ）、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂及びポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられ、これらは一種又は二種以上のポリマーブレンドあるいはポリマーアロイとして使用される。また、これらの樹脂は、ナチュラル樹脂にガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤等を含有させた熱可塑性成形材料としても使用される。また、必要に応じて従来使用されている樹脂用の添加剤、例えば、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系ワックス、エチレンビスアマイド系ワックス、金属石鹸等を単独であるいは組み合わせて使用することもできる。
【０２１０】
熱可塑性樹脂とともに用いる場合、紫外線吸収剤は、熱可塑性樹脂の重合過程で添加してもよく、重合後に添加しても良い。重合後の熱可塑性樹脂に溶融状態で添加する場合、紫外線吸収剤は単体で添加してもよく、また溶媒等に分散した状態で添加しても良い。この際使用する溶媒は混練する樹脂を劣化させず、紫外線吸収剤を分散させるものであればよい。
【０２１１】
こうした溶融混合は、一軸あるいは二軸押し出し機などの溶融混合設備を使用して、重合体の溶融温度以上の温度で、紫外線吸収剤を添加することにより可能である。分散液を使用した場合は分散液を加圧下で添加した後、有機溶媒を除去することにより、実行可能である。
【０２１２】
紫外線吸収剤は製膜時に熱可塑性樹脂の溶融状態に添加し混練してもよい。この方法は、熱履歴を少なくすることで熱可塑性樹脂の劣化を抑えることができるため好ましい方法である。
【０２１３】
溶融重合可能な熱可塑性樹脂、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートといった熱可塑性ポリエステルの場合には、紫外線吸収剤の分散液を重合前、若しくは重合中に添加しても良い。紫外線吸収剤は単体で添加してもよくまたあらかじめ溶媒で分散した状態で添加してもよい。この場合の溶媒は重合体の原料であるものが好ましい。重合反応は通常の重合体の重合条件に準じて実施すればよい。
【０２１４】
上記の方法で得られた０．５〜５０質量％の比較的高い濃度で紫外線吸収剤を含有する熱可塑性樹脂をマスターバッチとして、更に紫外線吸収剤未添加の熱可塑性樹脂に混練させることでも、目的とする紫外線吸収剤含有ポリマーを得ることができる。
【０２１５】
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、これらはナチュラル樹脂のほかガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤を含有させた熱硬化性成形材料としても使用することができる。
【０２１６】
本発明の紫外線吸収剤組成物である分散物には、分散剤、泡防止剤、保存剤、凍結防止剤、界面活性剤などを合わせて用いることもできる。その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。
【０２１７】
本発明の紫外線吸収剤組成物である分散物を得るための装置として、大きな剪断力を有する高速撹拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機などを使用できる。具体的には、コロイドミル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置などがある。本発明で使用するのに好ましい高速撹拌型分散機は、ディゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケデイーミル、ジェットアジターなど、分散作用する要部が液中で高速回転（５００〜１５，０００ｒｐｍ。好ましくは２，０００〜４，０００ｒｐｍ）するタイプの分散機である。本発明で使用する高速撹拌型分散機は、ディゾルバーないしは高速インペラー分散機とも呼ばれ、特開昭５５−１２９１３６号公報にも記載されているように、高速で回転する軸に鋸歯状のプレートを交互に上下方向に折り曲げたインペラーを着装して成るものも好ましい一例である。
【０２１８】
疎水性化合物を含む乳化分散物を調製する際には、種々のプロセスに従うことができる。例えば、疎水性化合物を有機溶媒に溶解するときは、高沸点有機物質、水非混和性低沸点有機溶媒又は水混和性有機溶媒の中から任意に選択された一種、又は二種以上の任意の複数成分混和物に溶解し、次いで界面活性化合物の存在化で、水中あるいは親水性コロイド水溶液中に分散せしめる。疎水性化合物を含む水不溶性相と水性相との混合方法としては、撹拌下に水性相中に水不溶性相を加えるいわゆる順混合法でも、その逆の逆混合法でもよい。
【０２１９】
本発明の紫外線吸収剤組成物である分散物中における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは紫外線吸収剤分散物の全量に対して０．００１〜５０質量％であり、より好ましくは０．０１〜２０質量％である。更に好ましくは０．０５〜１５質量％である。
【０２２０】
また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、液体状の媒体に溶解された溶液の状態が好適である。以下、本発明の紫外線吸収剤組成物の溶液について説明する。
本発明の紫外線吸収剤組成物を溶解する液体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液の例としては、上述の分散媒体として記載したものが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
【０２２１】
本発明の紫外線吸収剤組成物の溶液は、その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。本発明の紫外線吸収剤組成物以外は必ずしも溶解していなくてもよい。
【０２２２】
本発明の紫外線吸収剤組成物の溶液における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは溶液の全量に対して０．００１〜３０質量％であり、より好ましくは０．０１〜２０質量％である。更に好ましくは０．０５〜１５質量％である。あらかじめ高濃度で溶液を作製しておき、所望の時に希釈して使用することもできる。希釈溶媒としては上述の溶媒から任意に選択できる。
【０２２３】
本発明の紫外線吸収剤組成物を用いた高分子材料の調製には、高分子組成物が用いられる。ここで用いられる高分子組成物は、後述する高分子物質に本発明の紫外線吸収剤組成物を添加してなる。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、様々な方法で高分子物質に含有させることができる。本発明の紫外線吸収剤組成物が高分子物質との相溶性を有する場合は、本発明の紫外線吸収剤組成物を高分子物質に直接添加することができる。高分子物質との相溶性を有する補助溶媒に、本発明の紫外線吸収剤組成物を溶解し、その溶液を高分子物質に添加してもよい。本発明の紫外線吸収剤組成物を高沸点有機溶媒やポリマー中に分散し、その分散物を高分子物質に添加してもよい。
【０２２４】
高沸点有機溶媒の沸点は、１８０℃以上であることが好ましく、２００℃以上であることが更に好ましい。高沸点有機溶媒の融点は、１５０℃以下であることが好ましく、１００℃以下であることが更に好ましい。高沸点有機溶媒の例には、リン酸エステル、ホスホン酸エステル、安息香酸エステル、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、炭酸エステル、アミド、エーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコール及びパラフィンが含まれる。リン酸エステル、ホスホン酸エステル、フタル酸エステル、安息香酸エステル及び脂肪酸エステルが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤組成物の添加方法については、特開昭５８−２０９７３５号、同６３−２６４７４８号、特開平４−１９１８５１号、同８−２７２０５８号の各公報及び英国特許第２０１６０１７Ａ号明細書を参考にできる。
【０２２５】
本発明の紫外線吸収剤組成物を用いた高分子材料における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは高分子材料中、０．００１〜２０質量％であり、より好ましくは０．０１〜１５質量％である。
【０２２６】
また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、高分子材料に好ましく用いられる。以下、本発明の樹脂組成物（紫外線吸収剤組成物）に使用される高分子材料について説明する。
本発明においては、本発明の紫外線吸収剤組成物のみで実用的には十分な紫外線遮蔽効果が得られるものの、更に厳密を要求する場合には隠蔽力の強い白色顔料、例えば酸化チタンなどを併用してもよい。また、外観、色調が問題となる時、あるいは好みによって微量（０．０５質量％以下）の着色剤を併用することができる。また、透明あるいは白色であることが重要である用途に対しては蛍光増白剤を併用してもよい。蛍光増白剤としては市販のものや特開２００２−５３８２４号公報記載の一般式［１］や具体的化合物例１〜３５などが挙げられる。
【０２２７】
前記高分子組成物に用いられる高分子物質について説明する。高分子物質としては、天然又は合成ポリマー若しくはコポリマーである。例えば以下のものが挙げられる。＜１＞ モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【０２２８】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：ａ）ラジカル重合（通常は高圧下において及び高められた温度において）。ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一つ又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用されることができる。該活性化剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は、通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【０２２９】
＜２＞ 前記＜１＞項で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【０２３０】
＜３＞ モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びそれの低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、ＣＯＣ(Cyclo-Olefin Copolymer)のようなエチレン／ノルボルネン）、１−オレフィンが現場で生成されるエチレン／１−オレフィンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）、並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【０２３１】
＜４＞ 水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びポリアルキレン及びデンプンの混合物。
前記＜１＞ないし＜４＞項のホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
【０２３２】
＜５＞ ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。＜６＞ スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、とりわけｐ−ビニルトルエン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、及びビニルアントラセンの全ての異性体、及びそれらの混合物を含む芳香族ビニルモノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
【０２３３】
＜６ａ＞ エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はそのアクリル誘導体及び混合物から選択される上述された芳香族ビニルモノマー及びコモノマーを含むコポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（共重合体）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
【０２３４】
＜６ｂ＞ 前記＜６＞項で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、とりわけアタクチックポリスチレンを水素化することにより調製され、しばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及されるポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）を含む。
＜６ｃ＞ 前記＜６ａ＞項で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
【０２３５】
＜７＞ スチレン又はα−メチルスチレンのような芳香族ビニルモノマーのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの前記＜６＞項に列挙されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＳＡＮ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
【０２３６】
＜８＞ ポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化又はスルホ塩素化ポリエチレン、エチレン及び塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデン、並びに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコポリマー、のようなハロゲン含有ポリマー。
【０２３７】
＜９＞ α，β−不飽和酸及びから誘導されたポリマー、及びポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなその誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃改善されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
【０２３８】
＜１０＞ 前記＜９＞項で言及されたモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【０２３９】
＜１１＞ 不飽和アルコール及びアミンから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体又はアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに前記＜１＞項で言及されたオレフィンとそれらのコポリマー。
【０２４０】
＜１２＞ ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリシジルエーテルとそれらのコポリマーのような環式エーテルのホモポリマー及びコポリマー。
【０２４１】
＜１３＞ ポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレンのようなポリアセタール；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はＭＢＳで変性されたポリアセタール。
＜１４＞ ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
＜１５＞ 一方はヒドロキシル基末端を有するポリエーテル、ポリエステル及びポリブタジエンと、他方は脂肪族又は芳香族のポリイソシアナートから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
【０２４２】
＜１６＞ ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【０２４３】
＜１７＞ ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
【０２４４】
＜１８＞ ジカルボン酸とジオールから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。米国特許第５，８０７，９３２号明細書（２欄、５３行）で定義されたようなポリエステル及びポリエステルコポリマーは、参照としてここに組込まれる。
【０２４５】
＜１９＞ ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
＜２０＞ ポリケトン。
＜２１＞ ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
＜２２＞ 一成分としてのアルデヒドと他成分としてのフェノール、尿素及びメラミンとから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
＜２３＞ 乾性及び非乾性アルキド樹脂。
【０２４６】
＜２４＞ 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のそのハロゲン含有変性体。＜２５＞ 置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
＜２６＞ メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂を用いて架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【０２４７】
＜２７＞ 脂肪族、脂環式、複素環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、促進剤を用いて又は用いずに、無水物又はアミンのような慣例の硬化剤で架橋されている、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＦのグリシジルエーテル生成物。
＜２８＞ 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性されたそれらの同族列の誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート、又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；並びにロジン及びそれらの誘導体。
【０２４８】
＜２９＞ 上述のポリマーの配合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【０２４９】
＜３０＞ 純粋なモノマー状化合物又は前記化合物の混合物である天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又はトリメリテート）をベースとする油、脂肪及びワックス、及び更に何れかの質量比の合成エステルと鉱油との混合物、代表的には繊維紡糸組成物として使用される混合物、並びに前記材料の水性エマルジョン。
【０２５０】
＜３１＞ 天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
＜３２＞ ポリシロキサン類、例えば、アメリカ合衆国特許第４２５９４６７号明細書に記載された軟質、親水性のポリシロキサン、及び、例えば、アメリカ合衆国特許第４３５５１４７号明細書に記載された硬質ポリオルガノシロキサン。
【０２５１】
＜３３＞ 不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂と又は不飽和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン。前記不飽和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ペンダント不飽和基を持つビニル若しくはアクリルコポリマー、及びアクリル化されたメラミンを包含する。前記ポリケチミンは、酸触媒の存在下で、ポリアミンとケトンから製造される。
＜３４＞ エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマー及び多不飽和脂肪族オリゴマーを含む輻射線硬化性組成物。
＜３５＞ ＬＳＥ−４１０３［商品名、モンサント（Ｍｏｎｓａｎｔｏ）社製］のようなエポキシ官能性の共エーテル化された高固形分メラミン樹脂により架橋された光安定化エポキシ樹脂のようなエポキシメラミン樹脂。
【０２５２】
本発明の紫外線吸収剤組成物に用いられる高分子物質は、合成ポリマーである場合が好ましく、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリエステル、ポリカーボネート、セルロースエステルがより好ましい。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン）、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、トリアセチルセルロースが特に好ましい。
本発明の紫外線吸収剤組成物に用いられる高分子物質は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
【０２５３】
本発明の紫外線吸収剤組成物が使用される高分子材料は、上記の高分子物質及び紫外線吸収剤組成物に加えて、必要に応じて酸化防止剤、光安定剤、加工安定剤、老化防止剤、相溶化剤等の任意の添加剤を適宜含有してもよい。
【０２５４】
本発明の紫外線吸収剤組成物が使用される高分子材料は前記高分子物質を用いてなる。当該高分子材料は、前記高分子物質のみから形成されたものでもよく、また、前記高分子物質を任意の溶媒に溶解して形成されたものでもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物が使用される高分子材料は、合成樹脂が使用される全ての用途に使用可能であるが、特に日光又は紫外線を含む光に晒される可能性のある用途に特に好適に使用できる。具体例としては、例えばガラス代替品とその表面コーティング材、住居、施設、輸送機器等の窓ガラス、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング材、住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料、蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材、精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品等の容器又は包装材、農工業用シート又はフィルム材、印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤、日焼け止めクリーム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品、スポーツウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具、光学フィルタ、プリズム、鏡、写真材料等の光学用品、テープ、インク等の文房具、標示板、標示器等とその表面コーティング材等を挙げることができる。
【０２５５】
当該高分子材料の形状としては、平膜状、粉状、球状粒子、破砕粒子、塊状連続体、繊維状、管状、中空糸状、粒状、板状、多孔質状などのいずれの形状であってもよい。シート状である場合は、基材シートと、該基材シートの少なくとも片面に表面層を有する多層シートであることも好ましい。
【０２５６】
当該高分子材料は、本発明の紫外線吸収剤組成物を含有しているため、優れた耐光性（紫外光堅牢性）を有しており、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じることがない。また、当該高分子材料は、優れた長波紫外線吸収能を有するので、紫外線吸収フィルタや容器として用いることができ、紫外線に弱い化合物などを保護することもできる。例えば、前記高分子物質を押出成形又は射出成形などの任意の方法により成形することで、当該高分子材料からなる成形品（例えば容器や多層シートなど）を得ることができる。また、別途作製した成形品に前記高分子物質の溶液を塗布・乾燥することで、当該高分子材料からなる紫外線吸収膜がコーティングされた成形品を得ることもできる。
【０２５７】
積層構造を有する成形品、例えば多層シートは押出成形法（共押出）により製造できる。押出機の種類にも特に限定はなく、単軸押出機、二軸押出機など従来公知の押出機はいずれも使用可能である。具体的には、基材シート、表面層、あるいはその他の層を構成する成形材料を、各押出機に備えられたホッパーから押出機内（加熱シリンダー）に供給し、これを加熱混練しながら軟化させ、各層を構成する成形材料を一つの共通ダイに送り込み、当該ダイから押し出されたフィルム状の成形品を、冷却しつつ引き取り装置に巻き取り、所定の形状に切断することで、基材シート上に表面層を有する成形品（多層シート）が得られる。多層シート、例えば共押出によって製造される多層シートはそのいずれかの層に紫外線吸収剤を含有させることにより耐光性を向上できることが知られている。例えば特開２０１１−８８８８４号公報に記載されている下記一般式（Ｂ）の化合物を含有させることで耐光性を向上させることができ、下記式（Ｂ−１）の化合物がより好ましく用いられ、本発明の紫外線吸収剤組成物も好ましく用いられる。
【０２５８】
【化５７】

【０２５９】
上記一般式（Ｂ）において、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ、Ｒ^１ｅは、互いに独立して、水素原子、又はＯＨを除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^１ｆ、Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊは、互いに独立して、水素原子又はＯＨを除く１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ、Ｒ^１ｐは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
【０２６０】
本発明の紫外線吸収剤組成物が使用される高分子材料を紫外線吸収フィルタや紫外線吸収膜として用いる場合、高分子物質は透明であることが好ましい。透明高分子材料の例としては、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリメチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド及びポリオキシエチレンなどが挙げられる。好ましくはセルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル樹脂である。これらの樹脂は加工方法に応じて変性された樹脂であることも好ましく、例えば共押出により多層シートを得る場合であれば、シリコーン変性されたポリカーボネートが好ましく用いられる。本発明の高分子材料は透明支持体として用いることもでき、透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることが更に好ましい。
【０２６１】
本発明の紫外線吸収剤組成物は、任意のバインダー成分と組み合わせて塗料とすることができる。バインダー成分として好ましくは、塩化ゴム樹脂系、フェノール樹脂系、アルキド樹脂系、アミノアルキド樹脂系、尿素樹脂系、ビニル樹脂系、アクリル樹脂系、ポリエステル樹脂系、エポキシ樹脂系、ポリウレタン樹脂系、シリコーン樹脂系、ケイ素樹脂系、フッ素樹脂系、シラザン樹脂系、メラミン樹脂系などの樹脂であることが好ましく、アクリルシリコーン樹脂系、アクリルウレタン樹脂系などの複合樹脂であることも好ましい。
【０２６２】
本発明の紫外線吸収剤組成物を用いた塗料は、用途に応じて、鉄鋼、非鉄金属、軽金属、木、ガラス、コンクリート、樹脂、ゴム、皮革、紙、皮膚などの任意の基材に塗設し、被膜を形成し、所望の部材とすることができる。好ましい基材の例としては、木、ガラス、樹脂、ゴム、紙を挙げることができ、樹脂又はゴムがより好ましい。
【０２６３】
基材として用いる樹脂としては、いかなる樹脂を用いてもよいが、好ましくは、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（好ましくはポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂）などを挙げることができ、シリコーン変性ポリカーボネート樹脂のような変性樹脂や、エチレン−酢酸ビニル共重合体のような共重合体や、ポリマーアロイなどであることも好ましい。
【０２６４】
本発明の紫外線吸収剤組成物を用いた塗料における紫外線吸収剤組成物の含有量（質量％）は好ましくは０．０１質量％〜２０質量％であり、より好ましくは０．０１質量％〜１０質量％であり、更に好ましくは０．０５質量％〜１０質量％であり、特に好ましくは０．０５質量％〜５質量％である。
本発明の紫外線吸収剤組成物を用いた塗料を塗設することによって形成される被膜における紫外線吸収剤組成物の含有量は含有量（質量％）は好ましくは０．０１質量％〜２０質量％であり、より好ましくは０．０５質量％〜２０質量％であり、更に好ましくは０．０５質量％〜１５質量％であり、最も好ましくは、０．１〜１５質量％である。
【０２６５】
被膜は、用途に応じて、任意の厚みで塗設することができるが、最終的な被膜の厚みとして、好ましくは０．１〜１００００μｍ、より好ましくは０．１〜２０００μｍであり、更に好ましくは１〜１０００μｍ、さらに好ましくは５〜１０００μｍであり、さらに好ましくは５〜２００μｍである。これら塗料を塗布する方法は任意であるが、スプレー法、ディッピング法、ローラーコート法、フローコーター法、流し塗り法、電着コート法、粉末流動塗装法、はけによる塗布、ブレードによる塗布などがある。
塗布後の乾燥は、塗料成分によって異なるが、自然乾燥、加熱乾燥（概ね室温〜１２０℃で１０〜９０分程度）を行うことができる。
なお、バインダー成分が、熱硬化型である場合は、加熱（一般的には１００℃以上１０分）することにより、紫外線や電子線硬化などの光硬化型である場合は、所望の光や電子線を照射することで、塗膜を硬化させる。
【０２６６】
本発明の塗料用組成物による被膜は、どのような形態で塗設されてもよく、いわゆる下塗り、中塗りなどとして被膜を形成してもよい。好ましくは上塗り塗装として被塗装体を紫外線の悪影響から守るために塗設される。
【０２６７】
本発明の紫外線吸収剤組成物を用いた塗料の形態としては、粉体塗料、水溶性塗料、エマルジョン塗料、非水ディスパージョン塗料、ゾル系塗料、多液系塗料、調合ペイントなどが挙げられる。
【０２６８】
本発明の紫外線吸収剤組成物を用いた塗料は、塗料に一般的に使用されている任意の添加剤を含有してもよく、添加剤としては、例えば、顔料、硬化剤、希釈剤、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などのレベリング剤、シリコーン系、アクリル系等のはじき防止剤、皮はり防止剤、揺変剤、消泡剤、色分かれ防止剤、平滑剤、湿潤剤、分散剤、増粘剤、沈降防止剤、重合防止剤、構造粘性付与剤、静電塗装性改良剤、タレ防止剤、硬化促進剤、酸化防止剤、光安定剤、防汚剤、難燃剤、塗布助剤などを挙げることができる。
【０２６９】
本発明は、紫外線吸収剤組成物を含有する塗料を硬化してなる膜にも関する。また、本発明は、基材上に、紫外線吸収剤組成物を含有する塗料を硬化してなる膜を有する、紫外線吸収部材にも関する。
【実施例】
【０２７０】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２７１】
本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されない。
合成例１（例示化合物（１）の調製）
サリチルアミド１６０．０ｇにアセトニトリル６００ｍＬとＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン（１，８−ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ−７−ｅｎｅ））３５６．２ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３１．７ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１８００ｍＬと３５％塩酸１７０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ａを３４３．０ｇ得た（収率９８％）。
【０２７２】
【化５８】

【０２７３】
合成中間体Ａ２００．０ｇにアセトニトリル１２００ｍＬと硫酸９８．１ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン６００ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｂを１８２．３ｇ得た（収率９７％）。
【０２７４】
【化５９】

【０２７５】
【化６０】

【０２７６】
（Ｘ−２の合成）
３つ口フラスコに、アセトキシム３９．５ｇ（１．１モル当量）、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）６００ｍＬ、カリウム−ｔ−ブトキシド６０．６ｇ（１．１モル当量）を入れて室温で３０分攪拌した。その後、内温を０℃とし、そこへ化合物（Ｘ−１）６０ｇ（１．０モル当量）をゆっくり滴下した。滴下後、内温を２５℃まで昇温し、その温度で１時間攪拌した。
反応混合物を塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルで抽出・分液操作を行い、得られた有機相に飽和食塩水を加えて洗浄し分液した。こうして得られた有機相を、ロータリーエバポレータで濃縮して得られた残留物を化合物（Ｘ−２）の粗生成物として得た。
【０２７７】
（Ｘ−３の合成）
３つ口フラスコに、上記で得られた化合物（Ｘ−２）の粗生成物を全量を入れ、エタノール７００ｍＬと１Ｍの塩酸水５００ｍＬを加えて、反応混合物を内温８０℃まで昇温しその温度で３時間攪拌した。
反応混合物を内温２５℃まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルで抽出・分液操作を行い、得られた有機相に飽和食塩水を加えて洗浄し分液した。こうして得られた有機相を、ロータリーエバポレータで濃縮して得られた残留物を化合物（Ｘ−３）の粗生成物として得た。
【０２７８】
（Ｘ−４の合成）
３つ口フラスコに、フラスコ内を窒素ガスで満たした後に１０％Ｐｄ−Ｃ（和光純薬工業社製）を６．５ｇ添加し、エタノールを２，０００ｍＬ、上記で得られた化合物（Ｘ−３）の粗成生物を全量加えて加熱・還流した。そこへギ酸５５ｍＬ（３モル当量）をゆっくり滴下し、この温度で５時間攪拌した。その後反応混合物を内温２５℃まで冷却し、セライトろ過を行い炉別した母液に１，５−ナフタレンジスルホン酸を１０５ｇ加えて、内温を７０℃まで昇温し、３０分攪拌した。その後、徐々に室温まで冷却して結晶を濾別し化合物（Ｘ−４）を１００ｇ得た。収率は化合物（Ｘ−１）を出発物質として７２％であった。得られた結晶は、淡茶色であった。^１Ｈ ＮＭＲ（重ＤＭＳＯ）：δ６．９５−６．９８（１Ｈ）、δ７．０２−７．０４（１Ｈ）、δ７．４０−７．５１（３Ｈ）、δ７．９０−７．９５（１Ｈ）、δ８．７５（１Ｈ）、δ８．８５−８．８８（２Ｈ）、δ９．０３（２Ｈ）、δ１０．８９（１Ｈ）
【０２７９】
化合物（Ｘ−４）５．５ｇにメタノール５０ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．８ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｂ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（１）を６．８ｇ得た（収率９５％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４００（Ｍ＋）^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ７．０４−７．１２（４Ｈ），δ７．５３−７．５７（２Ｈ），δ８．２４−８．２７（２Ｈ），δ８．５１−８．５３（４Ｈ），δ１２．９１（２Ｈ） λｍａｘ＝３５３ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
【０２８０】
合成例２（例示化合物（ｍ−２）の調製）
サリチル酸３００ｇをトルエン６００ｍＬに懸濁させ、塩化チオニル２５８ｇとＤＭＦ７ｍＬを加え、５０℃で２時間攪拌した（溶液Ａ）。サリチルアミド２９９．０ｇにアセトニトリル９００ｍＬとＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン（１，８−ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ−７−ｅｎｅ））６６０ｇを添加し溶解させた溶液に、調製した溶液Ａを５℃条件下で滴下し、その後、室温下で２４時間攪拌した。この反応液に３５％塩酸３００ｍＬを添加し、室温で２時間攪拌した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｃを５０４ｇ得た（収率９０％）。
【０２８１】
【化６１】

【０２８２】
合成中間体Ｃ１４０ｇにトルエン１４００ｍＬとｐ−トルエンスルホン酸一水和物１０．５ｇを添加し、１５０℃で６時間攪拌した。６０℃まで冷却後、この反応液にトリエチルアミン１４ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｄを１２２ｇ得た（収率９４％）。
【０２８３】
【化６２】

【０２８４】
イソフタロニトリル４０１ｇにメタノール８０００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３０９ｇを加え、室温で３時間攪拌した。この反応液に塩化アンモニウム４２８ｇを加え、室温で２４時間攪拌した。この反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、得られた固体をメタノールと酢酸エチルで洗浄して、水で再結晶することにより合成中間体Ｅを３１０ｇ得た（収率５５％）。
【０２８５】
【化６３】

【０２８６】
合成中間体Ｅ４２ｇにメタノール１０００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液４４ｇを加えた。この懸濁液に室温下で合成中間体Ｄを５０ｇ添加し、室温で２時間、６０℃で２時間攪拌した。この反応液に３５％塩酸２ｍＬを加え、得られた固体をメタノールと水で洗浄することにより例示化合物（ｍ−２）を７４ｇ得た（収率９６％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ３６７（Ｍ＋）^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ７．０７−７．１４（４Ｈ），δ７．５６−７．６０（２Ｈ），δ７．７５−７．７９（１Ｈ），δ７．９６−７．９８（１Ｈ），δ８．５１−８．５３（２Ｈ），δ８．６７−８．６９（１Ｈ），δ８．８０（１Ｈ），δ１２．７６（１Ｈ）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
【０２８７】
合成例３（例示化合物（ｍ−１）の調製）
例示化合物（ｍ−２）１００ｇにメタノール１０００ｍＬを加え、６０℃で塩化水素ガスを２４時間バブリングしながら攪拌した。室温まで冷却後、得られた固体をメタノールと水で洗浄することにより例示化合物（ｍ−１）を９９ｇ得た（収率９１％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４００（Ｍ＋）^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ４．０３（３Ｈ），δ７．０５−７．１３（４Ｈ），δ７．５３−７．５８（２Ｈ），δ７．６９−７．７３（１Ｈ），δ８．３４−８．３６（１Ｈ），δ８．５４−８．５６（２Ｈ），δ８．６２−８．６４（１Ｈ），δ９．１２（１Ｈ），δ１２．９３（１Ｈ）λｍａｘ＝３５３ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
【０２８８】
合成例４（例示化合物（ｍ−２０）の調製）
例示化合物（ｍ−２）２５ｇに２−エチルヘキサノール２００ｇと硫酸１３ｇを添加し、還流条件下で１６時間攪拌した。室温まで冷却後、得られた固体をメタノールと水で洗浄して例示化合物（ｍ−２０）を３１ｇ得た（収率９２％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４９８（Ｍ＋）^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ０．９０−０．９４（３Ｈ），δ１．００−１．０４（３Ｈ），δ１．３８−１．６３（８Ｈ），δ１．７７−１．８３（１Ｈ），δ４．３０−４．３９（２Ｈ），δ７．０４−７．１２（４Ｈ），δ７．５３−７．５５（２Ｈ），δ７．５７−７．５８（１Ｈ），δ７．７１−７．７３（１Ｈ），δ８．３４−８．３６（２Ｈ），δ８．５４−８．６５（１Ｈ），δ９．１６（１Ｈ），δ１２．９４（２Ｈ）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
【０２８９】
合成例５（例示化合物（ｍ−２１）の調製）
例示化合物（ｍ−２）２５ｇに３,５,５−トリメチル−1−ヘキサノール２００ｇと硫酸１３ｇを添加し、還流条件下で１６時間攪拌した。室温まで冷却後、得られた固体をメタノールと水で洗浄して例示化合物（ｍ−２１）を３２ｇ得た（収率９１％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ５１２（Ｍ＋）^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８−０．９３（９Ｈ），δ１．０７−１．０８（３Ｈ），δ１．１４−１．９２（１Ｈ），δ１．３２−１．３７（１Ｈ），δ１．６７−１．８８（３Ｈ），δ４．４０−４．４５（２Ｈ），δ６．９９−７．０６（４Ｈ），δ７．４８−７．５３（２Ｈ），δ７．６４−７．６８（１Ｈ），δ８．２９−８．３２（１Ｈ），δ８．４６−８．５７（３Ｈ），δ９．０８（１Ｈ），δ１２．８６（２Ｈ）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
【０２９０】
合成例６（例示化合物（２１）の調製）
例示化合物（１）１０ｇに２−エチルヘキサノール３１．６ｇ、ＮａＯＭｅ０．１３ｇとキシレン１００ｍＬを添加し、減圧下９０℃で６時間攪拌した。この反応液に水と酢酸エチルを添加して攪拌し、分液した有機相を濃縮した。得られた残渣をヘキサン／イソプロピルアルコール（体積比で１：１０）で晶析することで例示化合物（２１）を１１．７ｇ得た（収率９５％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４９８（Ｍ＋）
【０２９１】
合成例７（例示化合物（２４）の調製）
例示化合物（１）１０ｇにファインオキソコール１８０Ｎ（日産化学化学工業製）９．８ｇ、ＮａＯＭｅ０．１３ｇとキシレン１００ｍＬを添加し、減圧下９０℃で６時間攪拌した。この反応液に水と酢酸エチルを添加して攪拌し、分液した有機相を濃縮した。得られた残渣をヘキサン／イソプロピルアルコール（体積比で１：１０）で晶析することで例示化合物（２４）を１４．５ｇ得た（収率９２％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ６３８（Ｍ＋）^１Ｈ
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ０．７５−１．９０（３５Ｈ），δ４．３０−４．３２（２Ｈ），δ７．０５−７．１２（４Ｈ），δ７．５２−７．５８（２Ｈ），δ８．２５−８．２７（２Ｈ），δ８．５３−８．５６（４Ｈ），δ１２．９２（２Ｈ）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）
【０２９２】
＜ｐＫａの測定法＞
例示化合物（１）を吸光度が１となるようにアセトニトリルに溶解させ、この溶液に７０％過塩素酸（酢酸溶媒）を滴下し、ｐＨを変化させていった。その際の溶液吸収スペクトルを測定し、λｍａｘにおける吸光度から各ｐＨにおけるトリアジンフリー体とプロトン付加体の比率を計算した。その値が等しくなる点よりｐＫａの値を求めた。ここで、トリアジンフリー体とは、例示化合物（１）そのものを表し、プロトン付加体とは、例示化合物（１）のトリアジン環の窒素原子にプロトンが付加したものを表す。同様にして例示化合物（２）、（３）、（２１）、（２４）、（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）、（ｍ−２１）、（ｍ−２５）及び（ｍ−２０）についてｐＫａの値を求めた。吸収スペクトルは、島津製作所製分光光度計ＵＶ−３６００（商品名）を用いて測定した。ｐＨは、東亜電波工業製ｐＨメーター計ＨＭ６０Ｇ（商品名）を用いて測定した。なお、吸光度はそれぞれの化合物の極大吸収波長で測定した値である。結果を表１に示す。
【０２９３】
【表１】

【０２９４】
［紫外線吸収剤組成物の耐光性評価］
例示化合物（２）（紫外線吸収剤）と例示化合物（ＴＩ−５３）とを質量比１：１で混合し、紫外線吸収剤組成物試料１０１を調製した。同様にして、下記表２及び表３に示す組み合わせで試料１０２〜１３１を調製した。
【０２９５】
比較例に用いる紫外線吸収剤として、下記Ａ１及びＡ２を用いた。
【０２９６】
【化６４】

【０２９７】
上記化合物は市販で入手可能なものであり、例Ａ１はＣｉｂａ社製 Ｔｉｎｕｖｉｎ１５７７ＦＦ、例Ａ２はＣＹＴＥＣ社製 ＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ-１１６４である。
得られた試料を、一般式（１）で表される化合物の濃度が６．２×１０^−５ｍｏｌ／Ｌとなる量で酢酸エチルに溶解し，酢酸エチル溶液を調製した。得られた酢酸エチル溶液に対して、メタルハライドランプ（約２９０ｎｍ以下カットフィルター存在下）（商品名：アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気製）で照度９０ｍＷ／ｃｍ^２、温度６３℃、湿度５０％の条件で光照射し、化合物の残存率が試験前の９０％になるまでの時間の相対値を求めた（比較例１を１００とした）。紫外線吸収剤の残存率は次式に従い計算した。
残存率（％）＝１００×（光照射後の吸光度）／（光照射前の吸光度）
なお、吸光度はそれぞれの化合物の波長３００ｎｍ以上における極大吸収波長で測定した値である。吸光度は、Ｕ−４１００スペクトロフォトメーター（商品名）（日立ハイテクノロジーズ（株）製）で測定した。結果を表２及び表３に示す。
【０２９８】
【表２】

【０２９９】
【表３】

【０３００】
［紫外線吸収剤組成物を含有する樹脂組成物の作製と耐光性評価］
塩化メチレンにポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂（商品名：ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−８０、三菱レイヨン社製）を２２質量％溶解し、バインダー溶液を調製した。次に、当該バインダー溶液に前述の紫外線吸収剤組成物試料１０１〜１１１、１１４、１１５、１２３〜１２７を下記表４に示す量（バインダー溶液の全質量に対する質量％）で添加し塗布液を調製した。ガラスを基材とし、その上に上記塗布液を２００μｍのブレードにより塗布し、１０分間１００℃で乾燥させ、膜厚５０μｍの被膜を形成して、フィルム試料２０１〜２１１、２１４、２１５、２２３〜２２７を作製した。これらのフィルム試料に対して、メタルハライドランプ（約２９０ｎｍ以下カットフィルター存在下）（商品名：アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気社製）で照度９０ｍＷ／ｃｍ^２、温度６３℃、湿度５０％の条件で光照射し、紫外線吸収剤の残存率が試験前の９０％になるまでの時間の相対値をそれぞれ比較した。残存率は次式に従い計算した。
残存率（％）＝１００×（照射後の吸光度）／（照射前の吸光度）
なお、吸光度はそれぞれの化合物の波長３００ｎｍ以上における極大吸収波長で測定した値である。吸光度は、Ｕ−４１００スペクトロフォトメーター（商品名）（日立ハイテクノロジーズ（株）製）で測定した。結果を表４に示す。
【０３０１】
【表４】

【０３０２】
［紫外線吸収剤組成物を含有する樹脂組成物からなる成形板の作製と耐光性評価］
ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂（商品名：ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−８０、三菱レイヨン社製）と紫外線吸収剤組成物試料を下記表５の添加量で混合し，ベント式押出機で２３０℃にて溶融混合し、常法によって成形用ペレットを作製した。このペレットを８０℃で３時間乾燥処理した後、射出成形機で厚さ１ｍｍの成形板を作製した。これらの成形板に対して、メタルハライドランプ（約２９０ｎｍ以下カットフィルター存在下）（商品名：アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気社製）で照度９０ｍＷ／ｃｍ^２、温度６３℃、湿度５０％の条件で光照射し、紫外線吸収剤の残存率が試験前の９０％になるまでの時間の相対値をそれぞれ比較した。残存率は次式に従い計算した。
残存率（％）＝１００×（照射後の吸光度）／（照射前の吸光度）
なお、吸光度はそれぞれの化合物の波長３００ｎｍ以上における極大吸収波長で測定した値である。吸光度は、Ｕ−４１００スペクトロフォトメーター（商品名）（日立ハイテクノロジーズ（株）製）で測定した。結果を下記表５に示す。
【０３０３】
【表５】

【０３０４】
成形板試料３２６は添加した試料の析出によってヘイズが生じたため，試験できなかった。
【０３０５】
［紫外線吸収剤組成物を塗布したＰＥＴフィルムの作製と耐光性評価］
塩化メチレンにポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂（商品名：ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−８０、三菱レイヨン社製）を２２質量％溶解し、バインダー溶液を調製した。次に、当該バインダー溶液に前述の紫外線吸収剤組成物試料１０１〜１１１、１１４、１１５、１２３、１２４、１２７、１２９、１３１を下記表６に記載の濃度（バインダー溶液に対する質量％）で添加し塗布液を調製した。厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを基材とし、その上に上記塗布液を２００μｍのブレードにより塗布し、１０分間１００℃で乾燥させ、膜厚２５μｍの被膜を形成して、フィルム試料４０１〜４２０を作製した。これらのフィルム試料に対して、メタルハライドランプ（約２９０ｎｍ以下カットフィルター存在下）（商品名：アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気社製）で照度９０ｍＷ／ｃｍ^２、温度６３℃、湿度５０％の条件で５００時間光照射し基材の黄変を目視で判断した。
黄変が著しい場合を×、弱い黄変が発生している場合を△、目視で黄変が判断できない場合を○と判断した。
結果を下記表６に示す。
【０３０６】
【表６】

【０３０７】
［紫外線吸収剤組成物を塗布したＰＥＮフィルムの作製と耐光性評価］
塩化メチレンにポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂（商品名：ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−８０、三菱レイヨン社製）を２２質量％溶解し、バインダー溶液を調製した。次に、当該バインダー溶液に前述の紫外線吸収剤組成物試料１０１〜１１１、１１４、１１５、１２３〜１２６、１２８、１３０、１３１を下記表７に記載の濃度（バインダー溶液に対する質量％）で添加し塗布液を調製した。厚さ６３μｍのポリエチレンナフタレート（帝人デュポンフィルム社製テオネックスＱタイプ）を基材とし、その上に上記塗布液を２００μｍのブレードにより塗布し、１０分間１００℃で乾燥させ、膜厚２５μｍの被膜を形成して、フィルム試料５０１〜５２０を作製した。これらのフィルム試料に対して、メタルハライドランプ（約２９０ｎｍ以下カットフィルター存在下）（商品名：アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気社製）で照度９０ｍＷ／ｃｍ^２、温度６３℃、湿度５０％の条件で５００時間光照射し基材の黄変を目視で判断した。
黄変が著しい場合を×、弱い黄変が発生している場合を△、目視で黄変が判断できない場合を○と判断した。
結果を下記表７に示す。
【０３０８】
【表７】

【０３０９】
（被膜への溶解性試験）
塩化メチレンにポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂（商品名：ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−８０、三菱レイヨン社製）を２２質量％溶解し、バインダー溶液を調製した。次に、当該バインダー溶液に下記表８に記載の紫外線吸収剤と化合物を表８に記載の質量比で含有する紫外線吸収剤組成物試料をバインダー溶液に対する質量％で、１．０質量％添加し、塗布液を調整した。ガラスを基材とし、その上に上記塗布液を２００μｍのブレードにより塗布し、１０分間１００℃で乾燥させ、膜厚２０μｍの被膜を形成した。得られた被膜を室温暗所で１２０時間静置したのち顕微鏡で紫外線吸収剤の結晶を観察した。
結晶が全く見られないものを◎、顕微鏡でのみ結晶が見られたものを○、目視で結晶が確認できたものを△とした。
【０３１０】
【表８】

【０３１１】
本発明の紫外線吸収剤組成物を使用した溶液、フィルム、成形板ともに、比較例に比して長期に耐光性に優れ、かつ被膜中への溶解性に優れることが確認できた。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物のうち少なくとも１種とを含む紫外線吸収剤組成物。
【化１】


［Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^１ｄ及びＲ^１ｅは、互いに独立して、水素原子又はヒドロキシ基を除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］
【化２】


〔一般式（ＴＳ−Ｉ）中、Ｒ₉₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は−Ｓｉ(Ｒ₉₇)(Ｒ₉₈)(Ｒ₉₉)を表す。ここで、Ｒ₉₇、Ｒ₉₈、及びＲ₉₉は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、又はアリールオキシ基を表す。Ｘ₉₁は−Ｏ−、−Ｓ−又は−Ｎ(−Ｒ₁₀₀)−を表す。ここで、Ｒ₁₀₀はＲ₉₁と同義である。Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、及びＲ₉₆は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｒ₉₁とＲ₉₂、Ｒ₁₀₀とＲ₉₆、Ｒ₉₁とＲ₁₀₀は互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。更に、Ｒ₉₂とＲ₉₃、Ｒ₉₃とＲ₉₄が互いに結合して、５〜７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、及びＲ₁₀₀のすべてが水素原子であることはなく、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂、Ｒ₉₃、Ｒ₉₄、Ｒ₉₅、Ｒ₉₆、及びＲ₁₀₀を含め、（ＴＳ−Ｉ）の総炭素数は９以上である。
一般式（ＴＳ−ＩＩ）中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃、及びＲ₁₀₄は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアルケニル基を表し、Ｒ₁₀₁とＲ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は結合し、５〜７員環を形成してもよい。Ｘ₁₀₁は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル若しくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、又はオキシラジカル基を表す。Ｘ₁₀₂は５〜７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
一般式（ＴＳ−ＩＩＩ）中、Ｒ₁₀₅及びＲ₁₀₆は各々独立に、水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、又は芳香族スルホニル基を表し、Ｒ₁₀₇は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、又はヒドロキシ基を表し、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₆、Ｒ₁₀₆とＲ₁₀₇、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₇は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよいが、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ₁₀₅及びＲ₁₀₆の両方が水素原子であることはなく、Ｒ₁₀₅とＲ₁₀₆の総炭素数は７以上である。
一般式（ＴＳ−ＩＶ）中、Ｒ₁₁₁及びＲ₁₁₂は各々独立に脂肪族基を表し、該脂肪族基は更に置換基を有してもよい。Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂は互いに結合し、５〜７員環を形成してもよい。ｎは０、１、又は２を表す。但し、Ｒ₁₁₁とＲ₁₁₂の総炭素数は１０以上である。
一般式（ＴＳ−Ｖ）中、Ｒ₁₂₁及びＲ₁₂₂は各々独立に脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、Ｒ₁₂₃は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、又は芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₂、Ｒ₁₂₁とＲ₁₂₃は互いに結合し、５〜８員環を形成してもよい。但し、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃の総炭素数は１０以上である。］
【請求項２】
前記一般式（１）における１価の置換基が、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基であり、置換基を有する場合の置換基がハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、チオシアネート基、又はアルキルスルホニル基である、請求項１に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項３】
前記一般式（１）におけるＲ^１ｃが、ハメット則のσｐ値が正である置換基である、請求項１又は２に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項４】
前記一般式（１）におけるＲ^１a、Ｒ^１ｃ及びＲ^１eが水素原子を表し、Ｒ^１ｂ及びＲ^１ｄが互いに独立して水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、Ｒ^１ｂ及びＲ^１ｄのうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基である、請求項１又は２に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項５】
前記ハメット則のσｐ値が、０．１〜１．２の範囲である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項６】
前記ハメット則のσｐ値が正である置換基が、ＣＯＯＲ^ｒ、ＣＯＮＲ^ｓ_２、シアノ基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、ニトロ基及びＳＯ_３Ｍ［Ｒ^ｒ及びＲ^ｓは各々独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｍは水素原子又はアルカリ金属を表す。］より選択される基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項７】
前記ハメット則のσｐ値が正である置換基がＣＯＯＲ^ｒ［Ｒ^ｒは、水素原子又は１価の置換基を表す。］である、請求項１〜４、又は６のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項８】
前記一般式（１）におけるＲ^１ｃがシアノ基である、請求項１〜３、５〜７のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項９】
前記一般式（１）におけるＲ^１ｈ又はＲ^１ｎが水素原子である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項１０】
前記一般式（１）におけるＲ^１ｇ、Ｒ^１ｈ、Ｒ^１ｉ、Ｒ^１ｊ、Ｒ^１ｋ、Ｒ^１ｍ、Ｒ^１ｎ及びＲ^１ｐが水素原子である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項１１】
一般式（１）で表される化合物のｐＫａが−５．０〜−７．０の範囲である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項１２】
一般式（１）で表される化合物の含有量が、紫外線吸収剤組成物の全質量に対して、０質量％より大きく３０質量％以下である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項１３】
一般式（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−Ｖ）のいずれかで表される化合物の総含有量が、紫外線吸収剤組成物の全質量に対して、０質量％より大きく３０質量％以下である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物と、樹脂とを含有する樹脂組成物。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物と、バインダー成分とを含有する塗料。
【請求項１６】
請求項１５に記載の塗料を硬化してなる膜。
【請求項１７】
基材上に、請求項１５に記載の塗料を硬化してなる膜を有する、紫外線吸収部材。

【公開番号】特開２０１２−１２６８８２（Ｐ２０１２−１２６８８２Ａ）
【公開日】平成２４年７月５日（２０１２．７．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１６４６８７（Ｐ２０１１−１６４６８７）
【出願日】平成２３年７月２７日（２０１１．７．２７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】