説明

組成比測定方法

【課題】3元系の酸化物の組成比を容易に測定することができる方法を提供する。
【解決手段】第1元素および第2元素の双方または何れか一方と酸素元素とからなる2元系または3元系の酸化物であって各々の組成比が既知であり互いに異なる複数の標準試料それぞれに対してEPMA測定を行って特性X線スペクトルを求め、これら複数の標準試料それぞれの特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置に基づいて、このピーク位置と組成比との間の関係式を作成する。この関係式を用いることで、第1元素,第2元素および酸素元素からなる3元系の酸化物である対象物の特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置から、該対象物の組成比を求める。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、EPMAによる組成比測定方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
EPMA(Electron Probe Micro Analyzer)は、加速した電子線を対象物に照射した際に該対象物で発生する特性X線のスペクトルを取得し、その特性X線スペクトルを解析することで、対象物を構成する元素を分析することができる。また、EPMAは、微小径に集束した電子線を対象物に照射することができるので、元素分析の位置分解能が高く、元素濃度分布を求めることができる。
【0003】
非特許文献1には、様々な2元系の酸化物についてEPMA測定を行って得られた特性X線スペクトルが示されている。また、この非特許文献1には、2元系の酸化物の種類によって(すなわち、酸素元素と結合している相手の元素の種類によって)特性X線スペクトルの形状が異なることが示されている。
【0004】
非特許文献1には、3元系の酸化物についてのEPMA測定結果は示されていない。EPMAにより3元系の酸化物の元素分析を行う場合、酸素元素と結合している2種の元素の種類の同定は可能ではあるが、これらの2種の元素の比率の解析は困難である。
【0005】
EPMAにより3元系の酸化物の組成比を測定する方法として以下のような検量線法が考えられる。様々な組成比を有する多数の標準試料を作製し、これら多数の標準試料それぞれについてEPMA測定および化学分析を行って、EPMA測定で得られた特性X線強度と化学分析で得られた組成比との間の関係を表す検量線を作成する。化学分析は、対象物全体の平均的な組成情報しか得ることができないが、正確に元素を定量することができるので、この定量値を真値とすることができる。そして、対象物についてEPMA測定を行って得られた特性X線強度と上記の検量線とに基づいて、その対象物の組成比を得ることができる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】David W. Fisher, "Effect ofChemical Combination on the X-Ray Emission Spectra of Oxygen and Fluorine,"The Journal of Chemical Physics, Vol.42, No.11, pp.3814-3821 (1965)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
ところで、上記のようなEPMA測定で得られる特性X線強度と化学分析で得られる組成比との間の関係を表す検量線は、EPMA装置毎に必要であり、また、EPMA測定条件毎に必要である。したがって、上記のような検量線の作成には膨大な手間を要する。
【0008】
また、EPMA測定で得られる特性X線強度と化学分析で得られる組成比との間の関係は線形性を有していない。なぜなら、対象物に含まれる或る元素で発生した特性X線は、その対象物の内部から外部へ出て来るまでに周囲の同種の元素により吸収されて、対象物の外部にて測定される強度が小さくなるからである。このような線形性を有しない検量線を正確に作成するには、より多数の標準試料についてEPMA測定および化学分析を行う必要があり、この点でも膨大な手間を要することになる。
【0009】
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、3元系の酸化物の組成比を容易に測定することができる方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明の組成比測定方法は、第1元素,第2元素および酸素元素からなる3元系の酸化物である対象物の組成比を測定する方法であって、(1) 第1元素および第2元素の双方または何れか一方と酸素元素とからなる2元系または3元系の酸化物であって各々の組成比が既知であり互いに異なる複数の標準試料それぞれに対してEPMA測定を行って特性X線スペクトルを求める標準試料測定ステップと、(2)複数の標準試料それぞれの特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置に基づいて、特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置と組成比との間の関係式を作成する関係式作成ステップと、(3)対象物に対してEPMA測定を行って特性X線スペクトルを求める対象物測定ステップと、(4) 対象物の特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置と関係式とに基づいて、対象物の組成比を求める組成比算出ステップと、を備えることを特徴とする。
【0011】
本発明の組成比測定方法は、関係式作成ステップおよび組成比算出ステップそれぞれにおいて、ピーク位置が異なる2以上のローレンツィアン形状の足し合わせにより特性X線スペクトルの形状が表されるとして各ローレンツィアン形状を求め、その求めたローレンツィアン形状に基づいて、特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置を求めるのが好適である。
【0012】
本発明の組成比測定方法では、第1元素がSi元素であってもよいし、第2元素がGe元素であってもよい。また、第1元素または第2元素として、Si,Geの他、Cu,Ca,Ni,Co,Zr,B,V,Zn,Sn,Hf,Th,Mn,Cr,Mg,Al,Ti,Mo,Ta,Nb,Fe,Cd,Pb等、多種の元素が可能である。
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、3元系の酸化物の組成比を容易に測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】本実施形態の組成比測定方法のフローチャートである。
【図2】サンプル1について、EPMA測定を行って得られた実測の特性X線スペクトル、準ニュートン法により収束させた後のピーク1〜4それぞれのローレンツィアン形状、および、これらピーク1〜4それぞれのローレンツィアン形状を足し合わせたもの、を示す図である。
【図3】サンプル1〜6それぞれについてEPMA測定を行って得られた実測の特性X線スペクトルを示す図である。
【図4】サンプル1〜6それぞれの特性X線スペクトルについて求めたピーク1の位置EとGe濃度との関係を示すグラフである。
【図5】サンプル1〜6それぞれの特性X線スペクトルについて求めたピーク1の位置EとGe濃度との関係を示すグラフである。
【図6】3元系の酸化物Si1−XGeのエネルギー準位を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【0016】
図1は、本実施形態の組成比測定方法のフローチャートである。本実施形態の組成比測定方法は、第1元素,第2元素および酸素元素からなる3元系の酸化物である対象物の組成比を測定する方法であって、標準試料測定ステップS1,関係式作成ステップS2,対象物測定ステップS3および組成比算出ステップS4を備える。
【0017】
標準試料測定ステップS1では、第1元素および第2元素の双方または何れか一方と酸素元素とからなる2元系または3元系の酸化物であるN個の標準試料が用意され、これらN個の標準試料それぞれに対してEPMA測定が行われて特性X線スペクトルS(E)〜S(E)が求められる。これらN個の標準試料それぞれの組成比は、既知であって、互いに異なる。特性X線スペクトルS(E)は、N個の標準試料のうち第nの標準試料のものである。ここで、Nは2以上の整数であり、nは1以上N以下の整数であり、EはX線エネルギー値を示す変数である。
【0018】
関係式作成ステップS2では、各標準試料の特性X線スペクトルS(E)におけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置Eが求められ、これらピーク位置E〜Eに基づいて、特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置と組成比との間の関係式が作成される。この関係式は、第1元素および第2元素の双方または何れか一方と酸素元素とからなる2元系または3元系の酸化物について、その特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置Eから組成比Xを求めるためのものである。
【0019】
対象物測定ステップS3では、対象物に対してEPMA測定が行われて、この対象物の特性X線スペクトルS(E)が求められる。そして、組成比算出ステップS4では、特性X線スペクトルS(E)におけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置Eが求められ、このピーク位置Eと上記関係式とに基づいて対象物の組成比が求められる。標準試料測定ステップS1および対象物測定ステップS3では、共通の装置により同一の測定条件でEPMA測定が行われるのが好ましい。
【0020】
なお、特性X線スペクトルS(E)〜S(E)それぞれの形状からはエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置を明確に把握することができない場合がある。そのような場合には、そのピーク位置を以下のようにして求めればよい。すなわち、各々のピーク位置が互いに異なる2以上のローレンツィアン形状の足し合わせにより特性X線スペクトルの形状が表されるとして、最小二乗法または準ニュートン法によるフィッティング処理により各ローレンツィアン形状(ピーク位置,ピーク強度および半値幅)を求める。そして、その求めたローレンツィアン形状に基づいて、特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置を求めることができる。また、フィッティング処理の前に、酸素元素のKα線ピークが基準値となるように各特性X線スペクトルを規格化してもよい。
【0021】
以下では、第1元素がSi元素であって、第2元素がGe元素であるとして、より具体的な例について説明する。この場合、対象物および標準試料それぞれは、一般式Si1−XGeで表される。ただし、0≦X≦1である。
【0022】
標準試料測定ステップS1では、Ge組成比Xが既知であって互いに異なるN個の標準試料それぞれに対してEPMA測定が行われて特性X線スペクトルS(E)〜S(E)が求められる。関係式作成ステップS2では、特性X線スペクトルS(E)〜S(E)におけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置E〜Eに基づいて、特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置EとGe組成比Xとの間の関係式が作成される。この関係式はGe組成比Xの一次関数または二次関数で表される。
【0023】
対象物測定ステップS3では、対象物Si1−XGeに対してEPMA測定が行われて、対象物Si1−XGeの特性X線スペクトルS(E)が求められる。そして、組成比算出ステップS4では、この対象物Si1−XGeの特性X線スペクトルS(E)におけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置Eと上記関係式とに基づいて、対象物Si1−XGeのGe組成比Xが求められる。
【0024】
次に、本実施形態の組成比測定方法の実施例について説明する。ここでは、6個のサンプルを用意した。そのうち5個のサンプル1〜5それぞれは、コア領域にGeがドープされたSiOガラスの光ファイバ母材であった。5個のサンプル1〜5それぞれについてICPにより質量分析したところ、サンプル1のGe濃度は0.01%未満であり、サンプル2のGe濃度は3.9%であり、サンプル3のGe濃度は10.6%であり、サンプル4のGe濃度は14.9%であり、また、サンプル5のGe濃度は19.5%であった。
【0025】
ICPはサンプル全体の平均的な組成情報しか得ることができない。これに対してEPMAは局所的な元素分析をすることができる。そこで、サンプル1〜5それぞれの断面において中心位置を通過するラインに沿ってEPMA測定を行って、そのライン上の分布情報を得て、これに基づいてサンプル1〜5それぞれの断面の中心におけるGe組成比を推定した。その結果、サンプル1のGe濃度は0.01%未満であり、サンプル2のGe濃度は5.0%であり、サンプル3のGe濃度は12.0%であり、サンプル4のGe濃度は24.3%であり、サンプル5のGe濃度は28.8%であった。なお、サンプル1は、Si元素および酸素元素からなる2元系の酸化物と見做し得る。
【0026】
サンプル6として、Aldrich社製のGeO(X≧99.9999%)を用いた。なお、サンプル6は、Ge元素および酸素元素からなる2元系の酸化物と見做し得る。
【0027】
サンプル1〜5については、鏡面研磨を行って、その研磨面に対してEPMA測定を行った。サンプル6については、G2エポキシに樹脂埋めし、クロスセクション・ポリッシャにより断面加工した。
【0028】
EPMA測定装置として日本電子(株)製JXA-8530Fを使用して、サンプル1〜6それぞれに対してEPMA測定を行った。EPMA測定条件としては、加速電圧は8kVであり、照射電流量は200nAであり、電子ビーム形状は円であり、電子ビーム径は20μmmであり、エネルギー範囲は520〜537eVであり、サンプリングタイムは1sであり、積算回数は1回であり、X線分光結晶はTAPであり、PHA条件はベース0.4Vであり、ウィンドウは3.4Vであった。このような条件でEPMA測定を行って、サンプル1〜6それぞれの特性X線スペクトルを得た。
【0029】
サンプル1〜6それぞれの特性X線スペクトルを以下のようにして解析した。先ず、酸素元素のKα線ピークが基準値となるように各特性X線スペクトルを規格化した。その後、サンプル1〜6それぞれの特性X線スペクトルの形状を4個のローレンツィアン形状の足し合わせにより表すことができるとして、準ニュートン法によるフィッティング処理により各ローレンツィアン形状(ピーク位置,ピーク強度および半値幅)を求めた。4個のローレンツィアン形状は、519〜522eVにピーク1を有するもの、524〜525eVにピーク2を有するもの、526eV付近にピーク3を有するもの、および、532eV付近にピーク4を有するものであった。
【0030】
図2は、サンプル1について、EPMA測定を行って得られた実測の特性X線スペクトル、準ニュートン法により収束させた後のピーク1〜4それぞれのローレンツィアン形状、および、これらピーク1〜4それぞれのローレンツィアン形状を足し合わせたもの、を示す図である。同図に示されるように、EPMA測定を行って得られた実測の特性X線スペクトルは、準ニュートン法により収束させた後のピーク1〜4それぞれのローレンツィアン形状を足し合わせたものと、よく一致している。したがって、このピーク1のピーク位置を明確に把握することができる。
【0031】
図3は、サンプル1〜6それぞれについてEPMA測定を行って得られた実測の特性X線スペクトルを示す図である。同図から判るように、ピーク2のピーク位置が一定であるのに対して、ピーク1のピーク位置はGe濃度により異なっている。すなわち、Ge濃度が大きいほど、ピーク1のピーク位置は高エネルギー側にシフトしている。
【0032】
図4および図5それぞれは、サンプル1〜6それぞれの特性X線スペクトルについて求めたピーク1の位置EとGe濃度との関係を示すグラフである。図4に示されるように、Ge濃度Xが小さい場合(30wt%以下の場合)、ピーク位置E(eV)はGe濃度X(wt%)に対して一次関数でよく表すことができる。この一次関数はE=0.0087X+520.9 なる式で表され、誤差は R=0.9831 である。一方、図5に示されるように、Ge濃度Xの全範囲において、ピーク位置E(eV)はGe濃度X(wt%)に対して二次関数でよく表すことができる。この二次関数は E=0.0002X2+0.0031X+520.92なる式で表され、誤差は R=0.9978 である。
【0033】
このように、第1元素および第2元素の双方または何れか一方と酸素元素とからなる2元系または3元系の酸化物の特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置は、該酸化物の組成比に対して一次関数または二次関数でよく表される。このことを利用して、本実施形態の組成比測定方法は、N個の標準試料それぞれの特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置E〜Eに基づいて、このピーク位置と組成比との間の関係式(一次関数式または二次関数式)を作成することができる。
【0034】
そして、本実施形態の組成比測定方法は、この関係式を用いることで、第1元素,第2元素および酸素元素からなる3元系の酸化物である対象物の特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置から、該対象物の組成比を求めることができる。エネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置と組成比との間の関係式が一次関数式で表される範囲であれば、N=2でよい。エネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置と組成比との間の関係式が二次関数式で表される範囲であれば、N=3でよい。したがって、本実施形態の組成比測定方法は、3元系の酸化物である対象物の組成比を容易に測定することができる。
【0035】
図6は、3元系の酸化物Si1−XGeのエネルギー準位を説明する図である。酸素のKα線は、2p準位から1s準位への遷移に因るものである。同図中には、ピーク1〜3それぞれに対応する遷移が示されている。Si元素の価電子は(3p)2(3p)2であり、Ge元素の価電子は(4s)2(4p)2である。Ge元素の価電子の方が準位が高いので、SiOにGeをドープしていくと、同図の5A1準位が高エネルギー側にシフトする。この効果が特性X線スペクトルにおけるピーク1のピークシフトとなって現れる。本実施形態は、このような現象を利用したものである。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1元素,第2元素および酸素元素からなる3元系の酸化物である対象物の組成比を測定する方法であって、
第1元素および第2元素の双方または何れか一方と酸素元素とからなる2元系または3元系の酸化物であって各々の組成比が既知であり互いに異なる複数の標準試料それぞれに対してEPMA測定を行って特性X線スペクトルを求める標準試料測定ステップと、
前記複数の標準試料それぞれの特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置に基づいて、特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置と組成比との間の関係式を作成する関係式作成ステップと、
前記対象物に対してEPMA測定を行って特性X線スペクトルを求める対象物測定ステップと、
前記対象物の特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置と前記関係式とに基づいて、前記対象物の組成比を求める組成比算出ステップと、
を備えることを特徴とする組成比測定方法。
【請求項2】
前記関係式作成ステップおよび前記組成比算出ステップそれぞれにおいて、ピーク位置が異なる2以上のローレンツィアン形状の足し合わせにより特性X線スペクトルの形状が表されるとして各ローレンツィアン形状を求め、その求めたローレンツィアン形状に基づいて、特性X線スペクトルにおけるエネルギー範囲519〜522eV内のピーク位置を求める、ことを特徴とする請求項1に記載の組成比測定方法。
【請求項3】
前記第1元素がSi元素であることを特徴とする請求項1に記載の組成比測定方法。
【請求項4】
前記第2元素がGe元素であることを特徴とする請求項3に記載の組成比測定方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2012−181091(P2012−181091A)
【公開日】平成24年9月20日(2012.9.20)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−43992(P2011−43992)
【出願日】平成23年3月1日(2011.3.1)
【出願人】(000002130)住友電気工業株式会社 (12,747)
【Fターム(参考)】