説明

結晶粒解析装置、結晶粒解析方法、及びコンピュータプログラム

【課題】 介在物を介して結晶粒が時間の経過と共にどのように変化するのかを、従来よりも容易に且つ正確に解析できるようにする。
【解決手段】 、粒界点の位置を変化させた結果、ラインpがインヒビターkを追い越してしまっているか否かを判定し、追い越してしまっている場合には、インヒビターkの中心位置bkに固定点ikを発生させ、これに伴い、インヒビターkを追い越したラインpの両端点(粒界点)を通るラインの変更処理を行う。したがって、インヒビターk付近における結晶粒A(粒界u)の挙動を可及的に忠実にシミュレーションすることができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、結晶粒解析装置、結晶粒解析方法、及びコンピュータプログラムに関し、特に、結晶粒の状態を解析するために用いて好適なものである。
【背景技術】
【0002】
従来から、金属材料の結晶粒の状態をコンピュータで解析することが行われている。
特許文献1には、圧延された薄板鋼板を焼鈍して一次再結晶化し、一次再結晶化した薄板鋼板を仕上げ焼鈍して、二次再結晶化した薄板鋼板を得るための技術が開示されている。かかる技術では、一次再結晶化した結晶粒の粒径の分布を統計的に求める。そして、その一次再結晶化した結晶粒の粒径の分布を用いて、一次再結晶化した個々の結晶粒の粒界エネルギーの積分値(積分粒界エネルギー)を求め、求めた結果を用いて一次再結晶化した結晶粒の最適な分布を推定する。そして、特許文献1では、このようにして推定した分布となるように、一次再結晶化した結晶粒を得るようにすれば、適正に二次再結晶化した薄板鋼板が得られることになるとしている。
【0003】
また、特許文献2には、均熱工程におけるAlスラブ、あるいは焼鈍工程におけるAl板材の各工程における初期結晶粒径、保持温度、保持時間と、試験片から得られた種々の係数を所定の計算式に代入して、結晶が成長した後の粒径を算出することが開示されている。
【0004】
さらに、特許文献3には、鋼片のサイズ、成分情報及び圧延条件に基づいて圧延後のオーステナイト粒径及び平均転位密度を算出し、算出した結果と冷却条件とに基づいて、変態組織の構成各相の分率、平均生成温度及び結晶粒径を算出し、さらにその後の熱処理条件に基づいて最終組織を構成する各相の分率、粒径、炭化物・析出物サイズを算出することが開示されている。
【0005】
【特許文献1】特開平6−158165号公報
【特許文献2】特開2002−224721号公報
【特許文献3】特開平5−87800号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
ところで、一次再結晶化した結晶粒は、二次再結晶化される際に種々の挙動をとりながら成長する。
しかしながら、特許文献1に記載の技術では、一次再結晶化した結晶粒について着目し、一次再結晶化した結晶粒が、二次再結晶化されるまでの挙動について考慮していない。したがって、結晶粒が時間の経過と共にどのように変化していくのかについての正確な知見を得ることが困難であった。また、前述した従来の技術では、一次再結晶化した結晶粒の粒径の分布を統計的に求めるので、事前の製造・試験等に基づいた多くのデータが必要であった。したがって、結晶粒の状態を簡便に解析することが困難であるという問題点があった。
【0007】
また、特許文献2に記載の技術では、結晶粒径の計算モデルが開示されているだけである。したがって、具体的にどのような形状となって結晶粒が時間の経過と共に変化するのかを解析することが困難であるという問題点があった。
また、特許文献3に記載の技術では、具体的にどのようなモデルを用いて、結晶粒成長の計算を行うのかが示されていないという問題点があった。
【0008】
さらに、結晶粒の解析対象である金属材料として、例えば、電磁鋼板の金属材料では、二次再結晶化後の結晶粒の粒径を巨大化させる必要があり、これを実現するために、結晶粒間にインヒビターを介在物として介在させる手法が用いられている。
【0009】
この場合、インヒビターが結晶粒間に介在している間は結晶粒の成長が抑制された状態で進行するので、この介在物を考慮して計算を実行することが必要である。この点、従来の技術では、このような介在物を考慮しておらず、介在物を介して結晶粒がどのように成長するのかを計算することが困難であるという問題点があった。
【0010】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、介在物を介して結晶粒が時間の経過と共にどのように変化するのかを、従来よりも容易に且つ正確に解析できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明の結晶粒解析装置は、金属材料における結晶及び当該金属材料に含まれる介在物の画像信号を取得する画像信号取得手段と、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の両端点に対応し、且つ当該結晶粒を含む3つの結晶粒と接する三重点と、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の中間点に対応し、且つ当該結晶粒を含む2つの結晶粒と接する二重点とが、前記画像信号に基づいて指定されると、その指定された三重点及び二重点の粒界点を設定する粒界点設定手段と、前記粒界点設定手段により設定された粒界点であって、同一の粒界上で互いに隣接する2つの粒界点を両端点とするラインを設定するライン設定手段と、前記画像信号に基づいて前記介在物が指定されると、その指定された介在物を設定する介在物設定手段と、前記ライン設定手段により設定されたラインが前記介在物内を通る場合に、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第1のライン変更処理手段と、前記第1のライン変更手段により変更処理が行われていないラインの移動前後における位置に基づいて、当該ラインが、前記介在物設定手段により設定された介在物を通り過ぎたか否かを判定する判定手段と、前記判定手段により、前記ラインが、前記介在物設定手段により設定された介在物を通り過ぎたと判定されると、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第2のライン変更手段と、前記固定点が属する粒界における第1の粒界エネルギーと、当該固定点を固定位置から解放し、前記介在物内を除く領域の位置であって粒界エネルギーが最小となる平衡位置に移動させた際の粒界における第2の粒界エネルギーとを算出する粒界エネルギー算出手段と、前記第2の粒界エネルギーが前記第1の粒界エネルギー未満である場合に、前記固定点を解除する処理を行う固定点処理手段とを有することを特徴とする。
【0012】
本発明の結晶粒解析方法は、金属材料における結晶及び当該金属材料に含まれる介在物の画像信号を取得する画像信号取得ステップと、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の両端点に対応し、且つ当該結晶粒を含む3つの結晶粒と接する三重点と、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の中間点に対応し、且つ当該結晶粒を含む2つの結晶粒と接する二重点とが、前記画像信号に基づいて指定されると、その指定された三重点及び二重点の粒界点を設定する粒界点設定ステップと、前記粒界点設定ステップにより設定された粒界点であって、同一の粒界上で互いに隣接する2つの粒界点を両端点とするラインを設定するライン設定ステップと、前記画像信号に基づいて前記介在物が指定されると、その指定された介在物を設定する介在物設定ステップと、前記ライン設定ステップにより設定されたラインが前記介在物内を通る場合に、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第1のライン変更処理ステップと、前記第1のライン変更ステップにより変更処理が行われていないラインの移動前後における位置に基づいて、当該ラインが、前記介在物設定ステップにより設定された介在物を通り過ぎたか否かを判定する判定ステップと、前記判定ステップにより、前記ラインが、前記介在物設定ステップにより設定された介在物を通り過ぎたと判定されると、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第2のライン変更ステップと、前記固定点が属する粒界における第1の粒界エネルギーと、当該固定点を固定位置から解放し、前記介在物内を除く領域の位置であって粒界エネルギーが最小となる平衡位置に移動させた際の粒界における第2の粒界エネルギーとを算出する粒界エネルギー算出ステップと、前記第2の粒界エネルギーが前記第1の粒界エネルギー未満である場合に、前記固定点を解除する処理を行う固定点処理ステップとを有することを特徴とする。
【0013】
本発明のコンピュータプログラムは、金属材料における結晶及び当該金属材料に含まれる介在物の画像信号を取得する画像信号取得ステップと、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の両端点に対応し、且つ当該結晶粒を含む3つの結晶粒と接する三重点と、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の中間点に対応し、且つ当該結晶粒を含む2つの結晶粒と接する二重点とが、前記画像信号に基づいて指定されると、その指定された三重点及び二重点の粒界点を設定する粒界点設定ステップと、前記粒界点設定ステップにより設定された粒界点であって、同一の粒界上で互いに隣接する2つの粒界点を両端点とするラインを設定するライン設定ステップと、前記画像信号に基づいて前記介在物が指定されると、その指定された介在物を設定する介在物設定ステップと、前記ライン設定ステップにより設定されたラインが前記介在物内を通る場合に、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第1のライン変更処理ステップと、前記第1のライン変更ステップにより変更処理が行われていないラインの移動前後における位置に基づいて、当該ラインが、前記介在物設定ステップにより設定された介在物を通り過ぎたか否かを判定する判定ステップと、前記判定ステップにより、前記ラインが、前記介在物設定ステップにより設定された介在物を通り過ぎたと判定されると、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第2のライン変更ステップと、前記固定点が属する粒界における第1の粒界エネルギーと、当該固定点を固定位置から解放し、前記介在物内を除く領域の位置であって粒界エネルギーが最小となる平衡位置に移動させた際の粒界における第2の粒界エネルギーとを算出する粒界エネルギー算出ステップと、前記第2の粒界エネルギーが前記第1の粒界エネルギー未満である場合に、前記固定点を解除する処理を行う固定点処理ステップとをコンピュータに実行させることを特徴とする。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、介在物を介して結晶粒が時間の経過と共にどのように変化するのかを、従来よりも容易に且つ正確に解析することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0015】
以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態について説明する。尚、以下に示す本発明の実施形態においては、結晶粒の解析対象である金属材料として、介在物であるインヒビターを用いて製造される電磁鋼板を適用した場合を例に挙げて説明を行う。
図1は、結晶粒解析装置で行われる解析方法の一例を概念的に示す図である。尚、図1では、説明の都合上、電磁鋼板を構成する多数の結晶粒のうち、1つの結晶粒Aのみを示しているが、実際には、多数の結晶粒により電磁鋼板が形成されるということは言うまでもない。
【0016】
本実施形態の結晶粒解析装置では、図1に示すようにして、結晶粒をモデル化するようにしている。
まず、図1(a)に示すように、結晶粒Aの3つの粒界ua〜ucの両端点に対応する位置に三重点ia、ie、ifを設定し、粒界ua〜ucの中間点に対応する位置に二重点ib〜id、ig〜iiの各粒界点を設定する。ここで、三重点ia、ie、ifとは、3つの直線が交わる点(すなわち、3つの結晶粒と接する点)をいい、二重点ib〜id、ig〜iiとは、2つの直線が交わる点(2つの結晶粒と接する点)をいう。そして、同一の粒界ua〜uc上で互いに隣接する点(粒界点)iを互いに結ぶ直線(ライン)を設定する。
以上のように、本実施形態では、粒界ua〜ucの両端の位置だけでなく、粒界ua〜ucの途中の形状も出来るだけ忠実に表すことができるように、二重点ib〜id、ig〜iiを設定するようにしている。
【0017】
以上のようにしてモデル化された結晶の各点(二重点及び三重点)ia〜iiの夫々について、解析時間tで生じる駆動力Fi(t)[N]を算出する。そして、算出した駆動力Fi(t)に基づいて、Δt[sec]が経過した後(解析時間t+Δt)における各点(二重点及び三重点)ia〜iiの位置を算出する。そうすると、図1(a)に示す各点(二重点及び三重点)ia〜iiの位置は、例えば、図1(b)に示す位置に移動する。
【0018】
本実施形態の結晶粒解析装置では、以上のように、結晶粒Aに含まれる粒界ua〜ucの両端点に対応する三重点ia、ie、ifと、粒界ua〜ucの中間点に対応する二重点ib〜id、ig〜iiとの夫々に生じる駆動力Fi(t)を算出して、三重点ia、ie、ifと、二重点ib〜id、ig〜iiとが移動する様子を解析する。これにより、例えば、図1(a)に示す結晶粒Aaが、図1(b)に示す結晶粒Abのように、時間の経過と共に変化する様子を、大きな計算負荷をかけることなく出来るだけ正確に解析することができる。尚、インヒビター(介在物)を介した結晶粒の挙動については、図7〜図11を用いた説明の際に詳述する。
【0019】
以下に、結晶粒解析装置の構成について詳細に説明する。
図2は、本実施形態の結晶粒解析装置の機能構成の一例を示すブロック図である。尚、結晶粒解析装置100のハードウェアは、パーソナルコンピュータ等、CPU、ROM、RAM、ハードディスク、画像入出力ボード、各種インターフェース、及びインターフェースコントローラ等を備えた情報処理装置を用いて実現することができる。そして、特に断りのない限り、図2に示す各ブロックは、CPUが、ROMやハードディスクに記憶されている制御プログラムを、RAMを用いて実行することにより実現される。そして、図2に示す各ブロック間で、信号のやり取りを行うことにより、以下の処理が実現される。
【0020】
図2において、結晶画像取得部101は、例えば、EBSP(Electron Back Scattering Pattern)法で得られた「『電磁鋼板の結晶粒A』及び『電磁鋼板の結晶粒A間に存在するインヒビター』の画像信号と、その画像信号に含まれる各結晶粒Aの方位ξを示す信号」等を取得して、ハードディスク等に記憶するためのものである。尚、以下の説明では、電磁鋼板の結晶粒A及び電磁鋼板の結晶粒A間に存在するインヒビターの画像を、必要に応じて、結晶粒画像と称する。尚、結晶画像取得部101は、EBSP法による結晶分析を行う分析装置から、前述した信号を直接取得するようにしてもよいし、DVDやCD−ROM等のリムーバル記憶媒体から、前述した信号を間接的に取得してもよい。
【0021】
結晶画像表示部102は、例えば、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、結晶画像取得部101により取得された結晶粒画像信号に基づく結晶粒画像を、表示装置200に表示させる。尚、表示装置200は、LCD(Liquid Crystal Display)等のコンピュータディスプレイを備えている。また、操作装置300は、キーボードやマウス等のユーザインターフェースを備えている。
【0022】
点設定部103は、結晶画像表示部102により表示された結晶粒Aの画像に対して、ユーザが操作装置300を用いて指定した点(二重点及び三重点)iを取得し、取得した点(二重点及び三重点)iの数と、その点iの初期位置ri(0)を示すベクトルとを、RAM又はハードディスクに設定(記憶)する。尚、本実施形態では、ユーザは、点(二重点及び三重点)iの数と初期位置を、任意に指定することができるものとする。
【0023】
また、点設定部103は、計算対象の点(二重点又は三重点)iにおけるΔt[sec]後の位置ri(t+Δt)を示すベクトルが、後述するようにして位置計算部116により計算されると、その点iの位置ri(t+Δt)を示すベクトルを、RAM又はハードディスクに設定(記憶)する。また、点設定部103は、後述のライン変更処理部119、第1の固定点処理部125、及び第2の固定点処理部120からの入力に基づいて、現在設定している点iの設定を変更し、これをRAM又はハードディスクに設定(記憶)する。
【0024】
ライン設定部104は、点設定部103で設定された点(二重点及び三重点)iのうち、同一の粒界u上で互いに隣接する2つの点iにより特定されるラインpに関する情報を、RAM又はハードディスクに設定(記憶)する。このように、ラインpは、同一の粒界u上で互いに隣接する2つの点iを両端点とする直線である。また、ライン設定部104は、後述するライン変更処理部119、第1の固定点処理部125、及び第2の固定点処理部120からの入力に基づいて、ラインpを変更する処理も行う。
【0025】
粒界設定部105は、ライン設定部104により設定されたラインpのうち、点設定部103により設定された三重点iを両端として互いに接続されたラインpにより特定される粒界uに関する情報を、RAM又はハードディスクに設定する。
【0026】
図3は、結晶画像表示部102により表示される結晶粒画像と(図3(a))、点設定部103により設定される点(二重点及び三重点)iと(図3(b))、ライン設定部104、粒界設定部105により設定されるラインp、粒界u(図3(c))の一例を示す図である。尚、説明の都合上、図3(b)、(c)では、図3(a)に示す結晶粒画像31に含まれる多数の結晶粒Aのうち、破線で囲まれた結晶粒A1に対して設定された点i、ラインp、粒界uのみを示している。また、図3(a)に示す結晶粒画像31には、一例として、結晶粒A1の周辺にのみ、介在物であるインヒビター(k1〜k4)を示しているが、当該インヒビターは、実際には結晶粒画像31に点在しているものである。
【0027】
図3(a)に示すようにして結晶粒画像31が表示されると、ユーザは、マウス等の操作装置300を用いて、粒界uの両端点に対応する位置を三重点iとして指定すると共に、粒界uの中間点の位置を二重点iとして指定する。そうすると、図3(b)に示すように、例えば、結晶粒A1に対して、二重点i2〜i4、i6〜i10、i12〜i15、i17、i18と、三重点i1、i5、i11、i16との各粒界点が設定される。
【0028】
そして、これら二重点及び三重点i1〜i18に基づいて、図3(c)に示すように、ラインp1〜p18と、粒界u1〜u4とが設定される。ここで、例えば、ラインp1は、三重点i1と二重点i2とにより特定される。また、粒界u1は、三重点i1、i5を両端として相互に接続されるラインp1〜p4により特定される。尚、図3(c)に示すように、粒界u1は、結晶粒A1、A2の粒界であり、粒界u2は、結晶粒A1、A5の粒界であり、粒界u3は、結晶粒A1、A4の粒界であり、粒界u4は、結晶粒A1、A3の粒界である。
【0029】
解析温度設定部106は、解析対象の電磁鋼板(結晶粒A)の解析温度θ(t)[℃]を、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて取得して、RAM又はハードディスクに設定(記憶)する。尚、解析温度設定部106が取得する解析温度θ(t)は、時間に依らない一定値であっても、時間に依存する値であっても(解析温度θ(t)が時間の経過と共に変化するようにしても)よい。
【0030】
方位設定部107は、結晶画像取得部101により取得された「結晶粒画像31に含まれる各結晶粒Aの方位ξを示す信号」に基づいて、結晶粒画像31に含まれる全ての結晶粒Aの方位ξを、RAM又はハードディスクに設定(記憶)する。
【0031】
粒界エネルギー(γ)記憶部108は、粒界エネルギー記憶手段の一例であり、例えば、単位長さ当たりの粒界エネルギーγ[J/m]と、粒界uを介して互いに隣接する2つの結晶粒Aの方位ξの差分Δξの絶対値と、解析温度θ(t)との関係を示すグラフ、数値列、式、又はそれらの組み合わせを記憶する。尚、以下の説明では、これらグラフ、数値列、式、又はそれらの組み合わせをグラフ等と称する。
【0032】
例えば、図3(c)に示した粒界u1における「単位長さ当たりの粒界エネルギーγ」は、結晶粒A1の方位ξ1と結晶粒A2の方位ξ2との差分Δξの絶対値と、解析温度設定部106により設定された解析温度θ(t)とに対応した「単位長さ当たりの粒界エネルギーγ」を、粒界エネルギー(γ)記憶部108に記憶されたグラフ等から読み出すことにより得られる。また、粒界エネルギー(γ)記憶部108は、例えば、RAM又はハードディスクを用いて構成される。
【0033】
粒界エネルギー(γ)設定部109は、方位設定部107により設定された結晶粒Aの方位ξと、解析温度設定部106により取得された解析温度θ(t)とに基づいて、粒界設定部105により設定された全ての粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγを、前述したようにして粒界エネルギー(γ)記憶部108に記憶されたグラフ等から読み出す。そして、粒界エネルギー(γ)設定部109は、読み出した単位長さ当たりの粒界エネルギーγを、RAM又はハードディスクに設定(記憶)する。
【0034】
易動度記憶部110は、易動度Mi[cm2/(V・sec)]と、粒界uを介して互
いに隣接する2つの結晶粒Aの方位ξの差分Δξの絶対値と、解析温度θ(t)との関係を示すグラフ、数値列、式、又はそれらの組み合わせを記憶する。尚、以下の説明では、これらグラフ、数値列、式、又はそれらの組み合わせをグラフ等と称する。
例えば、図3(c)に示した粒界u1における易動度Miは、結晶粒A1の方位ξ1と結晶粒A2の方位ξ2との差分Δξの絶対値と、解析温度設定部106により取得された解析温度θ(t)とに対応した易動度Miを、易動度記憶部110に記憶されたグラフ等から読み出すことにより得られる。尚、易動度記憶部110は、例えば、RAM又はハードディスクを用いて構成される。
【0035】
易動度設定部111は、方位設定部107により設定された結晶粒Aの方位ξと、解析温度設定部106により取得された解析温度θ(t)とに基づいて、粒界設定部105により設定された全ての粒界uの易動度Miを、前述したようにして易動度記憶部110に記憶されたグラフ等から読み出す。そして、易動度設定部111は、読み出した易動度Miを、RAM又はハードディスクに設定(記憶)する。
【0036】
解析時間設定部112は、例えば、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、解析完了時間T[sec]を取得して、RAM又はハードディスクに設定(記憶)する。そして、解析時間設定部112は、解析完了時間Tが経過するまで、解析時間tを監視する。
【0037】
解析点判別部113は、点設定部103により設定された全ての点(二重点及び三重点、並びに固定点)iを、計算対象の点として、重複することなく順番に指定する。そして、解析点判別部113は、指定した点iが、固定点であるか否かを判別し、固定点でない場合には、更に、二重点であるのか、それとも三重点であるのかを判別する。
【0038】
二重点用駆動力計算部114は、解析点判別部113により、計算対象の点iが二重点であると判別された場合に、その二重点に生じる駆動力Fi(t)を計算する。
図4は、二重点に生じる駆動力Fi(t)の計算方法の一例を説明する図である。図4では、二重点iに生じる駆動力Fi(t)を計算する場合を例に挙げて説明する。
【0039】
図4において、二重点iと、その二重点に隣接する2つの点i−1、i+1とにより定まる円弧41の曲率半径をRi(t)[m]とする。また、二重点iが属する粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγの大きさ(絶対値)をγiとする。そうすると、二重点iに生じる駆動力Fi(t)の大きさは、以下の(1)式で表される。また、二重点iに生じる駆動力Fi(t)の方向は、二重点iから曲率中心Oに向かう方向である。
【0040】
【数1】

【0041】
この(1)式は、以下のようにして導出される。
まず、二重点iが属する粒界uの粒界ベクトルγiの大きさ(絶対値)と同じ大きさを有し、且つ、二重点iから点i−1、i+1に向かう方向を有する2つのベクトルfi1、fi2のベクトル和が、二重点iに生じる駆動力Frであると仮定する(図4を参照)。そうすると、二重点iに生じる駆動力Frの大きさは、以下の(2)式で表される。
【0042】
【数2】

【0043】
ここで、lは、二重点iから点i−1(又は点i+1)までの直線42、43の長さ[m]である。また、αは、二重点i及び曲率中心Oを結ぶ直線と、点i−1(又は点i+1)及び曲率中心Oを結ぶ直線とのなす角度[°]である。
二重点iに生じる駆動力を(2)式のようにして定義してもよいが、このようにして定義してしまうと、二重点iに生じる駆動力が、二重点iから点i−1(又は点i+1)までの直線42、43の長さlに依存してしまう。すなわち、二重点iに生じる駆動力が、1つの粒界uに対して設定された二重点iの数に依存してしまう。例えば、図4(c)に示すように、粒界u1に対して3つの二重点i2〜i4が設定された場合と、粒界u1に対して5つの二重点が設定された場合とで、二重点iに生じる駆動力が異なってしまう。
【0044】
そこで、二重点iに生じる駆動力が、二重点iから点i−1(又は点i+1)までの直線42、43の長さlに依存しないように、(2)式の右辺を、その長さlで割った値を、二重点iに生じる駆動力Fi(t)の大きさとして定義した((1)式を参照)。
【0045】
以上のようにして(1)式を用いて、二重点iに生じる駆動力Fi(t)を求めるために、二重点用駆動力計算部114は、計算対象の二重点i、及びその二重点iに隣接する2つの点i−1、i+1の情報を、点設定部103から読み出す。次に、二重点用駆動力計算部114は、二重点iと、その二重点iに隣接する2つの点i−1、i+1とにより定まる円弧41の曲率中心O及び曲率半径Ri(t)を計算する。また、二重点用駆動力計算部114は、計算対象の二重点iに属する粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγiを、粒界エネルギー設定部109から取得する。
【0046】
そして、二重点用駆動力計算部114は、曲率半径Ri(t)と、単位長さ当たりの粒界エネルギーγiとを(1)式に代入して、二重点iに生じる駆動力Fi(t)の大きさを計算する。また、二重点用駆動力計算部114は、計算対象の二重点iから曲率中心Oに向かう方向を計算し、二重点iに生じる駆動力Fi(t)の方向を決定する。
【0047】
図2の説明に戻り、三重点用駆動力計算部115は、解析点判別部113により、計算対象の点iが三重点であると判別された場合に、その三重点に生じる駆動力Fi(t)を計算する。
図5は、三重点に生じる駆動力Fi(t)の計算方法の一例を説明する図である。尚、図5では、三重点iに生じる駆動力Fi(t)を計算する場合を例に挙げて説明する。また、図5では、三重点iに隣接する3つの点を夫々「1」、「2」、「3」で表記している。
【0048】
まず、三重点用駆動力計算部115は、計算対象の三重点iと、その三重点iに隣接する3つの点1、2、3の情報を、点設定部103から読み出す。そして、三重点用駆動力計算部115は、計算対象の三重点iから、点1、2、3に向かう方向を有する単位ベクトルを計算する。また、三重点用駆動力計算部115は、点1、2、3が属する粒界uにおける単位長さ当たりの粒界エネルギーγi1、γi2、γi3の大きさ(絶対値)を、粒界エネルギー(γ)設定部109から取得する。
【0049】
そして、三重点用駆動力計算部115は、単位長さ当たりの粒界エネルギーγi1、γi2、γi3の大きさ(絶対値)と、計算対象の三重点iから点1、2、3に向かう方向を有する単位ベクトル(dij(t)/|dij(t)|)とを、以下の(3)式に代入して、計算対象の三重点iに生じる駆動力Fi(t)を計算する。
【0050】
【数3】

【0051】
尚、(3)式において、jは、計算対象の三重点iに隣接する3つの点を識別するための変数である。
このように、本実施形態では、点1、2、3が属する粒界uにおける単位長さ当たりの粒界エネルギーγi1、γi2、γi3の大きさ(絶対値)と同じ大きさを有し、且つ、計算対象の三重点iから、その三重点iに隣接する点に向かう方向を有する3つのベクトルDi1(t)、Di2(t)、Di3(t)のベクトル和が、三重点iに生じる駆動力Fi(t)として計算される。
【0052】
図2の説明に戻り、位置計算部116は、二重点iと三重点iの時間の経過に伴う位置の変化を計算する。まず、二重点iの時間の経過に伴う位置の変化を計算する方法の一例を説明する。
【0053】
位置計算部116は、二重点用駆動力計算部114により計算された駆動力Fi(t)を示すベクトル(計算対象の二重点iに生じる駆動力Fi(t)を示すベクトル)を取得する。また、位置計算部116は、計算対象の二重点iが属する粒界uの易動度Miを、易動度設定部111から取得する。そして、位置計算部116は、計算対象の二重点iが属する粒界uの易動度Miと、計算対象の二重点iの駆動力Fi(t)を示すベクトルとを、以下の(4)式に代入して、計算対象の二重点iの速度vi(t)を示すベクトルを計算する。
【0054】
【数4】

【0055】
その後、位置計算部116は、点設定部103に設定されている「計算対象の二重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトル」を取得する。そして、位置計算部116は、計算対象の二重点iの速度vi(t)を示すベクトルと、計算対象の二重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルと、時間Δtとを、以下の(5)式に代入して、現在の解析時間tからΔt[sec]が経過したときに、計算対象の二重点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルを計算する。本実施形態では、このようにして、計算対象の二重点iの時間の経過に伴う位置の変化が計算される。尚、時間Δtは、点iの位置を計算するタイミング(間隔)を規定するものであり、解析対象となる電磁鋼板の種類や、解析条件、解析精度等に応じて予め定められている。
【0056】
【数5】

【0057】
そして、位置計算部116は、計算対象の二重点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルを、点設定部103に出力する。このようにすることによって、前述したように、計算対象の二重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルが、点設定部103で設定される。
【0058】
次に、三重点iの時間の経過に伴う位置の変化を計算する方法の一例を説明する。
位置計算部116は、位置計算部116は、計算対象の三重点iが属する3つの粒界uの易動度Mi1〜Mi3を、易動度設定部111から取得する。
【0059】
そして、位置計算部116は、計算対象の三重点iが属する3つの粒界uの易動度Mi1〜Mi3を用いて、計算対象の三重点iの易動度Miを計算する。具体的に、位置計算部116は、計算対象の三重点iから点1、2、3に向かう方向を有する単位ベクトル(dij(t)/|dij(t)|)と、計算対象の三重点iが属する3つの粒界uの易動度Mi1〜Mi3とを、以下の(6)式に代入して、計算対象の三重点iの易動度Miを計算する。
【0060】
【数6】

【0061】
尚、(6)式において、jは、計算対象の三重点iに隣接する3つの点を識別するための変数である。
また、位置計算部116は、三重点用駆動力計算部115により計算された駆動力Fi(t)を示すベクトル(計算対象の三重点iに生じる駆動力Fi(t)を示すベクトル)を取得する。そして、位置計算部116は、計算対象の三重点iが属する粒界uの易動度Miと、計算対象の三重点iの駆動力Fi(t)を示すベクトルとを、前述した(4)式に代入して、計算対象の三重点iの速度vi(t)を示すベクトルを計算する。
【0062】
その後、位置計算部116は、点設定部103に設定されている「計算対象の三重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトル」を取得する。そして、位置計算部116は、計算対象の三重点iの速度vi(t)を示すベクトルと、計算対象の三重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルと、時間Δtとを、前述した(5)式に代入して、現在の解析時間tからΔt[sec]が経過したときに、計算対象の三重点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルを計算する。本実施形態では、このようにして、計算対象の三重点iの時間の経過に伴う位置の変化が計算される。尚、前述したように、時間Δtは、点iの位置を計算するタイミング(間隔)を規定するものであり、解析対象となる電磁鋼板の種類や、解析条件、解析精度等に応じて予め定められている。
【0063】
そして、位置計算部116は、計算対象の三重点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルを、点設定部103に出力する。このようにすることによって、前述したように、計算対象の三重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルが、点設定部103で設定される。
【0064】
解析時間設定部112は、位置計算部116において、解析完了時間Tが経過したとき、又は解析完了時間Tが経過した後の位置ri(t+Δt)が、位置計算部116に計算されたか否かを判定することによって、解析完了時間Tまで解析が終了したか否かを判定する。
【0065】
解析画像表示部117は、解析時間設定部112により、解析完了時間Tまで解析が終了したと判定されると、位置計算部116により計算された「点iの位置ri(t+Δt)のベクトル」に基づいて、解析時間tが0(ゼロ)からT[sec]までの間に、結晶粒Aの状態がどのように推移するのかを示す画像を、表示装置200に表示させる。
【0066】
インヒビター設定部118は、結晶画像表示部102により表示された結晶粒画像31に対して、ユーザが操作装置300を用いて介在物であるインヒビターk(k1〜k4)を指定すると、結晶画像取得部101で取得された結晶粒画像信号に基づいて、指定されたインヒビターkの領域を検出する。そして、インヒビター設定部118は、検出したインヒビターkの領域を円で近似して、インヒビターkの中心位置bkを示す座標情報と、その半径rに係る情報を計算して、RAM又はハードディスクに設定する。
【0067】
図6は、インヒビターの設定方法の一例を説明する図である。
図6において、破線部は、検出されたインヒビターkの領域を示している。この場合、インヒビター設定部118は、破線で示した検出領域を、図6に示すように円で近似して、インヒビターkの中心位置bkを示す座標に関する情報と、その半径rに関する情報を計算する。ここで、インヒビター設定部118により設定されるインヒビターkは、粒界点と異なり、時間の経過に伴う位置の変化をしないものである。
【0068】
ライン変更処理部119は、ライン設定部104で設定されている各ラインpについて、インヒビター設定部118で設定されたインヒビターk内を通るか否かを判定し、ラインpがインヒビターk内を通る場合に、ラインpを変更する処理を行う。
【0069】
図7は、ライン変更処理部119によるライン変更処理の一例を説明する図である。
図7(1a)〜(6a)は、ライン変更処理部119による処理前のラインpの一例が示されている。また、図7(1a)〜(6a)に示す各ラインpに対する第1の処理例を図7(1b)〜(6b)に示し、第2の処理例を図7(1c)〜(6c)に示している。
【0070】
具体的に、ライン変更処理部119は、図7(1a)に示すように、ラインpがインヒビターk内を通る場合であって、ラインpの端点(粒界点)がインヒビターk内にない場合には、図7(1b)又は図7(1c)に示すように、ラインp上の任意の位置に二重点inを発生させ、ラインpを2つのラインに分割する。そして、ライン変更処理部119は、発生させた二重点inをインヒビターkの中心位置bkに移動させ、これを固定点ikとする処理を行う。この場合の固定点ikは、ラインpの端点とラインを構成する固定二重点となる。この場合、図7(1b)又は図7(1c)に示すように、固定点ikが新たに発生すると共に、ラインpが、固定点ikを端点とする2つのラインp'1及びp'2に分割される。
【0071】
また、ライン変更処理部119は、ラインpがインヒビターk内を通る場合であって、ラインpの一方の端点(粒界点)がインヒビターk内にある場合(図7(2a)〜(4a)に示す場合)には、インヒビターk内にある端点をインヒビターkの中心位置bkに移動させ、これを固定点ik(図7(2b)〜(4b)又は図7(2c)〜(4c)に示す固定点ik)とする処理を行う。この場合、ラインpが固定点ikを一方の端点とするラインに変更される。
【0072】
また、ライン変更処理部119は、ラインpがインヒビターk内を通る場合であって、ラインpの両方の端点(粒界点)がインヒビターk内にある場合(図7(5a)及び(6a)に示す場合)には、インヒビターk内にあるラインpを消滅させる処理を行う(図7(5b)及び(6b)、又は、図7(5c)及び(6c))。さらに、ライン変更処理部119は、インヒビターk内にある2つの点をインヒビターkの中心位置bkに位置する1つの固定点ik(図7(5b)及び図7(6b)、又は、図7(5c)及び(6c)に示す固定点ik)とし、ラインpの各端点とラインを構成していたそれぞれの端点と固定点ikとを端点とするラインを構築する処理を行う。
【0073】
すなわち、ライン変更処理部119は、ライン設定部104により設定されたラインpがインヒビターk内を通る場合に、当該インヒビターk内に中心位置bkを固定位置とする固定点ikを発生させ、当該固定点ikを端点とするラインの変更処理を行う。
【0074】
そして、ライン変更処理部119は、点設定部103及びライン設定部104に対して、点の変更(消滅、発生を含む)、ラインの変更(消滅、発生を含む)に伴う各種の再設定処理を行わせる。
【0075】
以上のように本実施形態では、粒界点の位置を変化させた結果、各ラインpがインヒビターk内を通ると判定した場合には、インヒビターk内に固定点ikを発生させる処理を行う。ところが、インヒビターkの大きさが小さかったり、粒界点の位置を計算する際の時間ステップΔtが大きかったり、ラインp(粒界)がインヒビターkに近い位置にあったりすること等により、粒界点の位置を変化させた結果、インヒビターkを追い越してしまう(通り過ぎてしまう)場合がある。このような場合、インヒビターkに捕らえられるとすべき粒界がインヒビターkに捕らえられないことになり、粒界Aの挙動を適切に解析できなくなる虞がある。そこで、本実施形態では、追い越し判定部124は、このようなラインpの追い越しを判定するようにしている。
【0076】
図8は、ラインpがインヒビターkを追い越したか(通り過ぎたか)否かを判定する方法の一例を説明する図である。
図8(a)に示すように、位置計算部116による計算の結果、粒界点i81、i82を両端点とするラインp81(移動前のラインp81)が、粒界点i83、i84を両端点とするラインp82(移動後のラインp82)に変化したとする。
そうすると、図8(b)に示すように、追い越し判定部124は、移動後のラインp82の一方の粒界点i83と、移動前のラインp81の両端点である粒界点i81、i82とを頂点とする三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがあるか否かを判定する。
【0077】
具体的に本実施形態では、まず、追い越し判定部124は、大きさが、粒界点i83、i81の最短距離であり、方向が、粒界点i83から粒界点i81に向かう方向であるベクトルAaと、大きさが、粒界点i83、i82の最短距離であり、方向が、粒界点i83から粒界点i82に向かう方向であるベクトルAbとを求める。
そして、追い越し判定部124は、大きさが、粒界点i83とインヒビターkの中心位置bkとの最短距離であり、方向が、粒界点i83からインヒビターkの中心位置bkに向かう方向であるベクトルAを、以下の(7)式のようにベクトルAa、Abを使って表す。
【0078】
【数7】

【0079】
追い越し判定部124は、(7)式の係数ρ、σが以下の(8)式〜(10)式の全てを満たすか否かを判定する。
ρ≧0 ・・・(8)
σ≧0 ・・・(9)
0≦ρ+σ≦1 ・・・(10)
この判定の結果、(7)式の係数ρ、σが(8)式〜(10)式の全てを満たす場合、追い越し判定部124は、三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがあると判定する。このように三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがある場合には、計算対象のラインpは、インヒビターkを追い越したことになる。
【0080】
一方、(7)式の係数ρ、σが(8)式〜(10)式の全てを満たさない場合、追い越し判定部124は、三角形80aの中(三角形80aの境界を含む)に、インヒビターkの中心位置bkがないと判定する。図8(b)に示す例では、三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがないと判定されることになる。このように、三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがない場合には、図8(c)に示すように、追い越し判定部124は、移動前後における4つの粒界点i81〜i84を頂点とする四角形から、三角形80aを除くことにより得られる三角形80b(移動後のラインp82の両端点である粒界点i83、i84と、移動前のラインp81の一方の粒界点i82とを頂点とする三角形80b)の中に、インヒビターkの中心位置bkがあるか否かを判定する。
【0081】
具体的に本実施形態では、まず、追い越し判定部124は、大きさが、粒界点i83、i84の最短距離であり、方向が、粒界点i83から粒界点i84に向かう方向であるベクトルAcを求める。
そして、追い越し判定部124は、大きさが、粒界点i83とインヒビターkの中心位置bkとの最短距離であり、方向が、粒界点i83からインヒビターkの中心位置bkに向かう方向であるベクトルAを、以下の(11)式のようにベクトルAb、Acを使って表す。
【0082】
【数8】

【0083】
追い越し判定部124は、(11)式の係数λ、ωが以下の(12)式〜(14)式の全てを満たすか否かを判定する。
λ≧0 ・・・(12)
ω≧0 ・・・(13)
0≦λ+ω≦1 ・・・(14)
この判定の結果、(11)式の係数λ、ωが(12)式〜(14)式の全てを満たす場合、追い越し判定部124は、三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがあると判定する。このように三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがある場合、計算対象のラインpは、インヒビターkを追い越したことになる。図8(b)に示す例では、三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがあると判定されることになる。
【0084】
一方、(11)式の係数λ、ωが(12)式〜(14)式の全てを満たさない場合、追い越し判定部124は、三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがないと判定する。このように三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがない場合には、移動前後における4つの粒界点i81〜i84を頂点とする四角形の中にインヒビターkの中心位置bkがないことになり、計算対象のラインpは、インヒビターkを追い越していないことになる。
【0085】
図2の説明に戻り、第1の固定点処理部125は、追い越し判定部124により、ラインpが、インヒビターkを追い越したと判定されると(三角形80a、80bの何れかの中に、インヒビターkの中心位置bkがあると判定されると)、インヒビターkの中心位置bkに固定点ikを発生させ、これに伴い、インヒビターkを追い越したラインpの両端点に対応する粒界点を通るラインの変更処理を行う。以下に、このような第1の固定点処理部125が行う処理の具体例を説明する。
【0086】
図9は、ラインpがインヒビターkを追い越した場合の処理の一例を説明する図である。
図9(a)に示すように、第1の固定点処理部125は、インヒビターkを追い越したラインp82(図8を参照)上の任意の位置に二重点i85を発生させ、ラインp82を2つのラインに分割する。そして、図9(b)に示すように、第1の固定点処理部125は、発生させた二重点i85をインヒビターkの中心位置bkに移動させ、これを固定点ikとする処理を行う。この場合の固定点ikは、ラインp82の端点である粒界点i83、i84とラインp83、p84を構成する固定二重点となる。この場合、図9(b)に示すように、固定点ikが新たに発生すると共に、ラインp82が、固定点ikを端点とする2つのラインp83及びp84に分割される。
【0087】
後述するように、本実施形態では、以上のようにして設定された固定点ikが、ある条件を満たすと、当該固定点ikを通常の点(移動可能な点)にして、当該固定点ikを解放する。
そこで、有効範囲設定部122は、固定点ikを解放させるか否かを決定する際に考慮する粒界uの範囲に関する情報を、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて取得し、RAM又はハードディスクに設定する。ここでは、この粒界uの範囲に関する情報を、操作装置300の操作に基づいて取得しているが、結晶粒解析装置100に有効範囲記憶部を設けて、そこから、予め記憶された「粒界uの範囲に関する情報」を読み出すようにしてもよい。尚、以下の説明では、この範囲を、必要に応じて有効範囲と称する。
本実施形態では、インヒビターkの中心位置bkを中心とする円を有効範囲として設定するものとする。よって、粒界エネルギー(E)算出部121は、有効範囲の半径に関する情報を有効範囲設定部122から取得する。この有効範囲は、実験的に求めることができるものである。具体的に説明すると、固定点ikと、当該固定点ikと隣接する点iとを結ぶ2つの直線のなす角度のうち、最も鋭角な角度(例えば図10、図12の角度2β)が、何度であるときに、固定点ikが適切に解放されるのかを実験的に求めておき、その求めた角度に基づいて、固定点ikが適切に解放される有効範囲を決定するようにすることができる。ただし、固定点ikを含み、且つインヒビターkよりも広い領域であって、粒界エネルギーを算出する対象を画定する領域であれば、どのように有効範囲を決定してもよい。
【0088】
また、本実施形態では、有効範囲設定部122で設定された有効範囲内にある粒界uにおいて固定点ikが解放されるとき(直前又は直後を含む)に生じる粒界エネルギーの増大分が、ある乗り越え可能な所定のエネルギーよりも小さくなった場合(固定点ikが解放されるとき(直前又は直後を含む)の粒界エネルギーと、固定点ikが固定されているときの粒界エネルギーとの差が、ある所定のエネルギーよりも小さくなった場合)に、固定点ikを解放するようにしている。
そこで、障壁エネルギー設定部123は、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、この所定のエネルギーに関する情報(エネルギーの値)を取得し、RAM又はハードディスクに設定する。ここでは、この所定のエネルギーに関する情報(エネルギーの値)を、操作装置300の操作に基づいて取得しているが、結晶粒解析装置100に障壁エネルギー記憶部を設けて、そこから、予め記憶された"所定のエネルギーに関する情報(エネルギーの値)"を読み出すようにしてもよい。尚、以下の説明では、この所定のエネルギーを障壁エネルギーと称する。
【0089】
粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点ikの座標情報、当該固定点ikを端点とするラインpの他方の各端点の位置を示す情報、当該固定点ikを中心位置bkとするインヒビターkに関する情報を取得する。また、粒界エネルギー(E)算出部121は、粒界エネルギー(γ)設定部109から固定点ikが属する粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγを取得する。更に、粒界エネルギー(E)算出部121は、有効範囲に関する情報を取得する。
【0090】
粒界エネルギー(E)算出部121は、これらの取得した情報に基づいて、固定点ikがインヒビターkに拘束されて固定されているときの、固定点ikが属する粒界uの粒界エネルギーEiを計算(算出)する。
本実施形態では、粒界エネルギー(E)算出部121は、有効範囲内において、固定点ikが属する粒界uの粒界エネルギーEiを算出する。また、本実施形態では、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点ikを中心位置bkとするインヒビターk内(インヒビターkの表面(境界)は含まない)には、粒界uは存在しないものとして粒界エネルギーEiの計算(算出)を行う。
【0091】
ここで、具体的に、図10及び図11を用いて、固定点ikが、二重点(固定二重点)である場合と三重点(固定三重点)である場合の粒界エネルギーEiの算出方法について、以下に説明する。
図10は、固定点ikが固定二重点である場合の粒界エネルギーの算出方法の一例を説明する図である。図11は、固定点ikが固定三重点である場合の粒界エネルギーの算出方法の一例を説明する図である。
【0092】
まず、固定点ikが二重点である場合、図10(a)に示すように、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点ikと当該固定点ikに隣接する点ir、itとを最短距離で結ぶラインpa、pbの点ir、it方向の延長線と、有効範囲801との交点802、803を求める。ここで、インヒビターk内には、粒界uは存在しない。このため、粒界エネルギー(E)算出部121は、粒界エネルギーEiの算出の際に用いられる有効長さL1、L2として、固定点ikと交点802、803との間の長さKから、インヒビターkの半径rの長さを差し引いた長さを求める。
【0093】
また、固定点ikは二重点であるため、2つの有効長さL1、L2(=K−r)の部分は、同一の粒界uに属していると見なすことができる。よって、例えば、図10に示した、固定点ikが二重点である場合の粒界エネルギーEiは、以下の(15)式により算出される。
Ei=(ラインpa、pbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ)
×(L1+L2) ・・・(15)
このように本実施形態では、固定点ikが属する粒界の仮想的な仮想ラインであって、固定点ikを端点の1つとする仮想ライン(点ikと、点802、803とを最短距離で結ぶ仮想ライン)の長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEiが算出されることになる。
【0094】
一方、図11(a)に示すように、固定点ikが三重点である場合は、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点ikを端点とする各ラインpa、pb、pcのうち、平衡位置wを挟む位置にあるラインpa、pbの延長線(平衡位置が存在する領域を画定する2つの仮想ライン)と、有効範囲801との交点802、803を求める。ここで、平衡位置wとは、固定点ikが固定位置(インヒビターkの中心位置bk)から解放されて、インヒビターk内を除く領域の位置であって、粒界エネルギーEが最小となる位置をいう。
また、インヒビターk内には、粒界uは存在しない。このため、粒界エネルギー(E)算出部121は、粒界エネルギーEiの算出の際に用いられる有効長さとして、固定点ikと交点802、803との間の長さKから、インヒビターkの半径rの長さを差し引いた長さL1、L2を求める。
【0095】
また、固定点ikが三重点であるため、2つの有効長さL1、L2(=K−r)の部分は、夫々、異なる粒界uに属していると見なすことができる。よって、例えば、図11に示した固定点ikが三重点である場合の粒界エネルギーEiは、以下の(16)式により算出される。
Ei=(ラインpaを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ1)×L1
+(ラインpbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ2)×L2
・・・(16)
このように本実施形態では、固定点ikが属する粒界の仮想的な仮想ラインであって、固定点ikを端点の1つとする仮想ライン(点ikと、点802、803とを最短距離で結ぶ仮想ライン)の長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEiが算出されることになる。
【0096】
更に、粒界エネルギー(E)算出部121は、平衡位置wにあるときの、解放された固定点ikが属する粒界の粒界エネルギーEi'を計算(算出)する。
本実施形態では、粒界エネルギー(E)算出部121は、有効範囲801内において、固定点ikが属する粒界uの粒界エネルギーEi'を算出する。また、本実施形態では、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点iを中心位置bkとするインヒビターk内(インヒビターkの表面(境界)は含まない)には、粒界uは存在しないものとし、また、その他のインヒビターkは存在しないものとして粒界エネルギーEi'を算出する。
【0097】
ここで、具体的に、図10及び図11を用いて、固定点iが、二重点(固定二重点)である場合と三重点(固定三重点)である場合の粒界エネルギーEi'の算出方法について、以下に説明する。
【0098】
まず、固定点ikが二重点である場合、粒界エネルギー(E)算出部121は、前述したようにして、点802、803と、有効長さL1、L2とを求める。ここで、固定点ikが二重点である場合には、ラインpaを含む有効長さL1の部分と、ラインpbを含む有効長さL2の部分とは、同一の粒界uに属していると見なすことができる。このため、平衡位置wは、点802と点803とを最短距離で結んだライン(仮想ライン)805上の任意の位置となる。ここで、ライン(仮想ライン)805の長さをQ0とする。また、ライン805における粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγは、ラインpa、pbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγと見なすことができる。
【0099】
よって、例えば、図10に示した、平衡位置wにあるときの粒界エネルギーEi'は、以下の(17)式により算出される。
Ei'=(ラインpa、pbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ)
×(Lw1+Lw2)
=(ラインpa、pbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ)
×Q0 ・・・(17)
このように本実施形態では、固定点ikが属する粒界の仮想的な仮想ラインであって、平衡位置wを通る仮想ライン(点802、803を最短距離で結ぶ仮想ライン)の長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEi'が算出されることになる。
【0100】
尚、図10に示す例では該当しないが、ライン805がインヒビターk内を通る場合には、ライン805の長さ(Q0)から、ライン805のインヒビターk内を通る部分の長さを差し引いた長さに対して、単位長さ当たりの粒界エネルギーγを乗算することになる。
【0101】
一方、図11に示すように、固定点ikが三重点である場合、粒界エネルギー(E)算出部121は、前述したようにして、点802、803を求め、有効長さL1、L2を求める。ここで、固定点ikが三重点である場合には、ラインpaを含む有効長さL1の部分と、ラインpbを含む有効長さL2の部分とは、夫々、異なる粒界uに属していると見なすことができる。ここでは、一例として、平衡位置wが、図11に示す位置である場合について説明を行う。
【0102】
この場合、粒界エネルギー(E)算出部121は、点802と平衡位置wとを最短距離で結ぶライン(仮想ライン)901と、点803と平衡位置wとを最短距離で結ぶライン(仮想ライン)902と、固定点ikと平衡位置wとを最短距離で結ぶライン(仮想ライン)903とを形成する。この際、粒界エネルギーEi'の算出に用いられる有効長さは、ライン901の長さB1、ライン902の長さB2、及び、ライン903の長さからインヒビターkの半径rを差し引いた長さB3となる。
【0103】
そして、ライン901における粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγは、ラインpaを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ1と見なすことができる。また、ライン902における粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγは、ラインpbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ2と見なすことができる。また、ライン903のインヒビターk内を除く部分における粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγは、ラインpc(固定点ikと点ivとを最短距離で結ぶライン)を含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ3と見なすことができる。
【0104】
よって、例えば、図11に示した固定点ikが三重点である場合の粒界エネルギーEi'は、以下の(18)式により算出される。
Ei'=(ラインpaを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ)×B1
+(ラインpbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ)×B2
+(ラインpcを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ)×B3
・・・(18)
このように本実施形態では、固定点ikが属する粒界の仮想的な仮想ラインであって、平衡位置wを通る仮想ライン(仮想ライン901〜903)の長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEi'が算出されることになる。
【0105】
更に、本実施形態では、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点iが解放されるとき(直前又は直後を含む)の、その解放される固定点ikが属する粒界uの粒界エネルギーEi''を計算(算出)する。
本実施形態では、有効範囲内において、固定点ikが属する粒界uの粒界エネルギーEi''を算出する。また、本実施形態では、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点iを中心位置bkとするインヒビターk内(インヒビターkの表面(境界)は含まない)には、粒界uは存在しないものとし、また、その他のインヒビターkは存在しないものとして粒界エネルギーEi''を算出する。
【0106】
ここで、具体的に、図10及び図11を用いて、固定点iが、二重点(固定二重点)である場合と三重点(固定三重点)である場合の粒界エネルギーEi''の算出方法について、以下に説明する。
【0107】
まず、固定点ikが二重点である場合、粒界エネルギー(E)算出部121は、前述したようにして、点802、803と、有効長さL1、L2とを求める。
次に、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点ikと点802、803とを最短距離で結んだ2つのライン(仮想ライン)のなす角を二等分する線とインヒビターkとの交点804を求める。本実施形態では、固定点ikは、この点804に解放されるものとする。そして、粒界エネルギー(E)算出部121は、点804と、点802、803とを最短距離で結んだライン(仮想ライン)の長さM1、M2を求める。更に、粒界エネルギー(E)算出部121は、点802、803を最短距離で結んだライン(仮想ライン)の長さQ0を求める。
ここで、固定点ikは二重点であるため、2つの有効長さL1、L2(=K−r)の部分は、同一の粒界uに属していると見なすことができる。よって、例えば、図10に示した、固定点ikが解放されるときの(点804における)粒界エネルギーEi''は、以下の(19)式により算出される。
Ei''=(ラインpa、pbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ)
×(M1+M2) ・・・(19)
このように本実施形態では、固定点ikが属する粒界の仮想的な仮想ラインであって、点804を端点の1つとする仮想的なライン(点804と、点802、803とを最短距離で結ぶ仮想ライン)の長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEi''が算出されることになる。
【0108】
一方、図11に示すように、固定点ikが三重点である場合、粒界エネルギー(E)算出部121は、前述したようにして、点802、803を求め、有効長さL1、L2を求める。更に、粒界エネルギー(E)算出部121は、前述したようにして、交点804を求める。そして、粒界エネルギー(E)算出部121は、点804と、点802、803とを最短距離で結んだライン(仮想ライン)の長さM1、M2を求める。
【0109】
ここで、固定点ikが三重点である場合には、ラインpaを含む有効長さL1の部分と、ラインpbを含む有効長さL2の部分とは、夫々、異なる粒界uに属していると見なすことができる。よって、例えば、図11に示した、固定点ikが解放されるときの、当該固定点iが属する粒界uの有効範囲801内における粒界エネルギーEi''は、以下の(20)式により算出される。
Ei''=(ラインpaを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ1)×M1
+(ラインpbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ2)×M2
・・・(20)
尚、図11(a)では、固定点ikと点802、803とを最短距離で結んだ2つのライン(仮想ライン)のなす角を二等分する線上の点に平衡位置wがある場合を例に挙げて示しているが、平衡位置wは、固定点ikと点802、803とを最短距離で結んだ2つのラインのなす角を二等分する線上の位置に限定されるものではない。
このように本実施形態では、固定点ikが属する粒界の仮想的な仮想ラインであって、点804を端点の1つとする仮想的なライン(点804と、点802、803とを最短距離で結ぶ仮想ライン)の長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEi''が算出されることになる。
【0110】
図2の説明に戻り、第2の固定点処理部120は、粒界エネルギー(E)算出部121された粒界エネルギーEiと、粒界エネルギーEi'とを比較し、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEi未満であるか否かを判定する。すなわち、第2の固定点処理部120は、以下の(21)式を満足するか否かを判定する。
Ei'<Ei ・・・(21)
この判定の結果、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEi未満(Ei'<Ei)でない場合には、固定点ikを解放しない。
【0111】
一方、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEi未満である場合、第2の固定点処理部120は、粒界エネルギー(E)算出部121で算出された粒界エネルギーEi''から、粒界エネルギーEiを減算した値が、障壁エネルギー設定部123から読み出した障壁エネルギーE0未満であるか否かを判定する。すなわち、第2の固定点処理部120は、以下の(22)式を満足するか否かを判定する。
Ei''−Ei<E0 ・・・(22)
この判定の結果、粒界エネルギーEi''から、粒界エネルギーEiを減算した値が、障壁エネルギーE0未満でない場合には、固定点ikを解放しない。一方、粒界エネルギーEi''から、粒界エネルギーEiを減算した値が、障壁エネルギーE0未満である場合には、固定点ikを解除する(解放する)処理を行う。
【0112】
具体的に、図10(b)に示すように、本実施形態では、固定点ikが二重点である場合、第2の固定点処理部120は、固定点ikを、点804の位置に移動させ、固定を解除して、通常の点ikとする処理を行う。すなわち、第2の固定点処理部120は、固定点ikの代わりに、固定点ikと点802、803とを最短距離で結んだ2つのライン(仮想ライン)のなす角を二等分する線とインヒビターkとの交点804に、通常の点ikを生成する。
【0113】
また、図11(b)に示すように、本実施形態では、固定点ikが三重点である場合、第2の固定点処理部120は、固定点ikを、点804の位置に移動させ、固定を解除して、通常の点ikとする処理に加えて、次の処理を行う。すなわち、第2の固定点処理部120は、当該通常の点ik及び点ivと結ばれる固定二重点ixを、インヒビターkの中心位置bkに生成する。ここで、図11(b)に示すように、点ivは、固定点ikに隣接していた点ir、it、ivのうち、通常の点ikと結ばれない点である。
【0114】
尚、固定点ikの移動後の点の位置は、点804の位置に限定されるわけではなく、例えば、粒界エネルギーEi''が最小となる点の位置に移動させる形態であっても適用できる。この場合の粒界エネルギーEi''の算出方法は、固定点ikが二重点である場合には前述した(19)式により算出され、また、固定点ikが三重点である場合には前述した(20)式により算出される。
また、(22)式の代わりに、例えば、粒界エネルギーEiから粒界エネルギーEi''からを減算した値の絶対値が、障壁エネルギーE0未満であるか否かを判定するようにしてもよい。
【0115】
このように本実施形態では、(21)式と(22)式の両方を満足することが、固定点ikの解放条件となる。ここで、図12及び図13を参照しながら、固定点ikが解放されるときの状態を説明する。
図12は、固定点ikが二重点である場合の、有効範囲801内における仮想ラインの長さ(K(=2K)、L(=L1+L2)、M(=M1+M2)、Q(=Q0))と、有効範囲上の点802、803の位置との関係の一例を示す図である。図13は、固定点ikが三重点である場合の、有効範囲801内における仮想ラインの長さ(K(=2K)、L(=L1+L2)、M(=M1+M2)、B(=B1+B2+B3))と、有効範囲上の点802、803の位置との関係の一例を示す図である。
【0116】
ここで、図12、図13では、有効範囲上の点802、803の位置を、図10(a)及び図11(a)における角度βで表している。また、図12、図13では、有効長さの2倍(L=L1+L2)を10とし、インヒビターkの直径(=2r)を2としている。
【0117】
本実施形態では、まず、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEi未満であり、固定点ikが平衡位置wにあるときの、当該固定点ikが属する粒界の粒界エネルギーEi'が、固定点ikが固定されているときの、当該固定点ikが属する粒界の粒界エネルギーEiよりも低いことを第1の解放条件とする。このような解放条件を満たさない場合に、固定点ikが解放されることは物理的にあり得ないからである。
図12に示す例では、長さQのグラフと長さLのグラフとが交わったか否かが第1の解放条件となる。一方、図13に示す例では、長さBのグラフと長さLのグラフとが交わったことが第1の解放条件となる。
【0118】
更に、固定点ikが解放されるときに一時的に大きくなる、当該固定点ikが属する粒界uの粒界エネルギーが、所定の障壁エネルギーE0よりも小さくなることを第2の解放条件とする。この解放条件を満たさないと、固定点ikが平衡状態(平衡位置w)に遷移する際に乗り越えなければならない障壁エネルギーE0を乗り越えることができないからである。
図12に示す例では、長さMのグラフと長さLのグラフとの値の差が、障壁エネルギーE0を単位エネルギー当たりの粒界エネルギーγで割った値よりも小さくなることが第2の解放条件となる。一方、図13に示す例でも、長さMのグラフと長さLのグラフとの値の差が、障壁エネルギーE0を単位エネルギー当たりの粒界エネルギーγで割った値よりも小さくなることが第2の解放条件となる。
以上のように第2の解放条件を導入することにより、固定点ikが属する粒界uの、単位長さ当たりの粒界エネルギーγを考慮して、固定点ikを解放することができるようになる。
【0119】
図14は、固定点ikが属する粒界uの最小長さと、ピン止め時間との関係の一例を示す図である。尚、図14は、固定点ikが二重点であり、有効長さL1、L2が3である場合を例に挙げて示している。また、固定点ikが属する粒界uの最小長さとは、固定点ikが属する粒界uにおける二重点間、又は二重点及び三重点間の長さの最小値を表す。また、ピン止め時間とは、固定点ikが生成されてから解放されるまでの時間をいう。
図14において、グラフ1201は、有効範囲801を設定せずに、点802、804の情報の代わりに、固定点ikに隣接する点ir、itの情報を用いて前述した計算を行って、固定点ikを解放させるか否かを判定した場合のグラフである。一方、グラフ1202は、前述したように、有効範囲801を設定し、点802、804の情報を用いて計算を行って、固定点ikを解放させるか否かを判定した場合のグラフである。
【0120】
図14から明らかなように、有効範囲801を設定すると、粒界uに対して設定する二重点の数にほとんど依存せずに、ピン止め時間を略一定にすることができる。したがって、有効範囲801を設定することにより、二重点を設定することにより生成されるラインpの長さの影響を可及的に受けずに、固定点ikを解放させることができる。
【0121】
図2の説明に戻り、第2の固定点処理部120は、点設定部103に対して、固定点iの変更に伴う再設定を行わせる。
【0122】
次に、図15−1〜図15−4のフローチャートを参照しながら、結晶粒解析装置100が行う処理動作の一例を説明する。尚、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、CPUが、ROMやハードディスクから制御プログラムを読み出して実行を開始することにより、図15−1に示すフローチャートの処理が開始される。
【0123】
まず、図15−1のステップS1において、結晶画像取得部101は、電磁鋼板の結晶粒A及び電磁鋼板の結晶粒A間に存在するインヒビターの画像信号(結晶粒画像信号)と、その画像信号に含まれる各結晶粒Aの方位ξを示す信号とが入力されるまで待機する。結晶粒画像信号と、その画像信号に含まれる各結晶粒Aの方位ξを示す信号とが入力されると、ステップS2に進む。
このように本実施形態では、例えば、ステップS1の処理を行うことにより、画像信号取得手段の一例が実現される。
【0124】
ステップS2に進むと、結晶画像表示部102は、ステップS1で取得された結晶粒画像信号に基づく結晶粒画像31を、表示装置200に表示させる。このとき、結晶画像表示部102は、解析対象の電磁鋼板(結晶粒A)の解析温度θ(t)と、解析完了時間Tとの入力をユーザに促すための画像も表示装置200に表示させる。そして、ここでは、解析温度θ(t)と、解析完了時間Tとが順次入力された後に、結晶粒画像31を参照しながらユーザが点(二重点又は三重点)iを指定できるようにする場合を例に挙げて説明する。
【0125】
次に、ステップS3において、解析温度設定部106は、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、解析対象の電磁鋼板(結晶粒A)の解析温度θ(t)が入力されるまで待機する。そして、解析対象の電磁鋼板(結晶粒A)の解析温度θ(t)が入力されると、ステップS4に進む。
【0126】
ステップS4に進むと、解析温度設定部106は、入力された解析対象の電磁鋼板(結晶粒A)の解析温度θ(t)を、RAM又はハードディスクに設定する。尚、図15−1〜図15−4のフローチャートでは、解析対象の電磁鋼板(結晶粒A)の解析温度θ(t)が、一定値である場合を例に挙げて説明する。
【0127】
次に、ステップS5において、解析時間設定部112は、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、解析完了時間Tが入力されるまで待機する。そして、解析完了時間Tが入力されると、ステップS6に進む。
【0128】
ステップS6に進むと、解析時間設定部112は、入力された解析完了時間Tを、RAM又はハードディスクに設定する。
【0129】
次に、ステップS7において、点設定部103は、結晶画像表示部102により表示された結晶粒画像31に対して、点(二重点又は三重点)iが指定されるまで待機する。点(二重点又は三重点)iが指定されると、ステップS8に進む。
【0130】
ステップS8に進むと、点設定部103は、ステップS7で指定されたと判定した点iの位置ri(t)を示すベクトルを計算して、RAM又はハードディスクに設定する。
【0131】
次に、ステップS9において、点設定部103は、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、点(二重点又は三重点)iを指定する作業の終了指示がなされたか否かを判定する。この判定の結果、点iを指定する作業の終了指示がなされていない場合には、ステップS7に戻り、既に指定された点(二重点又は三重点)iと別の点(二重点又は三重点)iが指定されるまで待機する。
【0132】
一方、ステップS9の判定の結果、点iを指定する作業の終了指示がなされた場合には、ステップS10に進む。ステップS10に進むと、点設定部103は、ステップS7で指定されたと判定した点(二重点又は三重点)iの数(すなわち、ステップS7の処理を行った回数)NIを計算して、RAM又はハードディスクに設定する。
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS7〜S10の処理を行うことにより、粒界点設定手段の一例が実現される。
【0133】
次に、図15−2のステップS11において、インヒビター設定部118は、結晶画像表示部102により表示された結晶粒画像31に対して、インヒビターkが指定されるまで待機する。インヒビターkが指定されると、ステップS12に進む。
【0134】
ステップS12に進むと、インヒビター設定部118は、ステップS1で取得された結晶粒画像信号に基づいて、ステップS11で指定されたと判定したインヒビターkの領域を検出し、この検出領域を円で近似して、インヒビターkの中心位置bkを示す座標情報と、その半径rに関する情報を計算して、RAM又はハードディスクに設定する。
【0135】
次に、ステップS13において、インヒビター設定部118は、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、インヒビターkを指定する作業の終了指示がなされたか否かを判定する。この判定の結果、インヒビターkを指定する作業の終了指示がなされていない場合には、ステップS11に戻り、既に指定されたインヒビターkと異なる別のインヒビターkが指定されるまで待機する。
【0136】
一方、ステップS13の判定の結果、インヒビターkを指定する作業の終了指示がなされた場合には、ステップS14に進む。ステップS14に進むと、インヒビター設定部118は、ステップS11で指定されたと判定したインヒビターkの数(すなわち、ステップS11の処理を行った回数)NKを計算して、RAM又はハードディスクに設定する。
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS11〜S14の処理を行うことにより、介在物設定手段の一例が実現される。
【0137】
次に、ステップS15において、有効範囲設定部122は、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、有効範囲801に関する情報(本実施形態では、有効範囲801の半径に関する情報)が入力されるまで待機する。そして、有効範囲801に関する情報が入力されると、ステップS16に進む。
【0138】
ステップS16に進むと、有効範囲設定部122は、有効範囲801に関する情報を、RAM又はハードディスクに設定する。
次に、ステップS17において、障壁エネルギー設定部123は、ユーザによる操作装置300の操作に基づいて、障壁エネルギーE0に関する情報(本実施形態では、障壁エネルギーE0の値)が入力されるまで待機する。そして、障壁エネルギーE0に関する情報が入力されると、ステップS18に進む。
ステップS18に進むと、障壁エネルギー設定部123は、障壁エネルギーE0に関する情報を、RAM又はハードディスクに設定する。
【0139】
次に、ステップS19において、ライン設定部104は、ステップS8で設定された点(二重点又は三重点)iのうち、同一の粒界u上で互いに隣接する2つの点iにより特定されるラインp及びその数NPを、RAM又はハードディスクに設定する。尚、このステップS15におけるラインpの設定に際しては、インヒビターkの存在を考慮せずに行われる。具体的に、ライン設定部104は、ラインpを、そのラインpを特定する2つの点iにより定義する。例えば、図3(c)に示したラインp1は、以下の(23)式のように定義される。
p1={i1,i2} ・・・(23)
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS19の処理を行うことにより、ライン設定手段の一例が実現される。
【0140】
次に、ステップS20において、粒界設定部105は、ステップS19で設定されたラインpのうち、ステップS8により設定された三重点iを両端として互いに接続されたラインpにより特定される粒界uを、RAM又はハードディスクに設定する。具体的に、粒界設定部105は、粒界uを、その粒界uを特定する複数のラインpにより定義する。例えば、図3(c)に示した粒界u1は、以下の(24)式のように定義される。
u1={p1,p2,p3,p4} ・・・(24)
【0141】
次に、ステップS21において、方位設定部107は、ステップS1で入力されたと判定された「結晶粒画像31に含まれる各結晶粒Aの方位ξを示す信号」に基づいて、結晶粒画像31に含まれる全ての結晶粒Aの方位ξを、RAM又はハードディスクに設定する。
このように本実施形態では、例えば、ステップS21の処理を行うことにより、方位取得手段の一例が実現される。
【0142】
次に、ステップS22において、粒界エネルギー(γ)設定部109は、ステップS21で設定された結晶粒Aの方位ξと、ステップS4で設定された解析温度θ(t)とに基づいて、粒界エネルギー(γ)記憶部108に記憶されたグラフ等から、ステップS20で設定された全ての粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγを読み出す。そして、粒界エネルギー(γ)設定部109は、読み出した単位長さ当たりの粒界エネルギーγを、RAM又はハードディスクに設定する。
このように本実施形態では、例えば、ステップS22の処理を行うことにより、粒界エネルギー設定手段の一例が実現される。
【0143】
次に、ステップS23において、易動度設定部111は、ステップS21で設定された結晶粒Aの方位ξと、ステップS4で設定された解析温度θ(t)とに基づいて、易動度記憶部110に記憶されたグラフ等から、ステップS20で設定された全ての粒界uの易動度Miを読み出す。そして、易動度設定部111は、読み出した易動度Miを、RAM又はハードディスクに設定する。
【0144】
次に、図15−3のステップS24において、解析時間設定部112は、解析時間tを0(ゼロ)に設定する。
【0145】
解析時間設定部112で解析時間tが0に設定されると、ステップS25に進む。ステップS25に進むと、ライン変更処理部119は、処理対象のラインを示す変数pを1に設定する。この際、ライン変更処理部119は、ステップS19で設定したラインpに関する情報を、ライン設定部104から取得する。
【0146】
次に、ステップS26において、ライン変更処理部119は、増減する点の数を示すΔNIを0(ゼロ)に設定すると共に、増減するラインの数を示すΔNPを0(ゼロ)に設定する。
【0147】
次に、ステップS27において、ライン変更処理部119は、処理対象のインヒビターを示す変数kを1に設定する。この際、ライン変更処理部119は、ステップS12で設定されたインヒビターkに関する情報(インヒビターkの中心位置bkを示す座標情報及びその半径rに係る情報)を、インヒビター設定部118から取得する。
【0148】
ここで、以下の説明においては、必要に応じて、図7に示した図も参照しながら説明を行う。
ステップS28において、ライン変更処理部119は、ステップS25で取得したラインpに関する情報及びステップS27で取得したインヒビターkに関する情報に基づいて、ラインpがインヒビターk内を通るか否かを判定する。この際、インヒビターkの表面(境界)は、インヒビターk内でないと判定される。この判定の結果、ラインpがインヒビターk内でない場合(図7(1a)〜(6a)に該当しない場合)には、後述するステップS65に進む。
【0149】
一方、ステップS28の判定の結果、ラインpがインヒビターk内を通る場合には、ステップS29に進む。ステップS29に進むと、ライン変更処理部119は、ラインpの端点がインヒビターk内にあるか否かを判定する。
【0150】
ステップS29の判定の結果、ラインpの端点がインヒビターk内にない場合(図7(1a)に示す場合)には、ステップS30に進む。ステップS30に進むと、ライン変更処理部119は、ラインp上の任意の位置に二重点(図7(1b)又は図7(1c)に示す二重点in)を発生させる。これにより、ラインpは、2つのラインに分割されることになる。
【0151】
次に、ステップS31において、ライン変更処理部119は、ステップS30でラインp上に発生させた二重点(図7(1b)又は図7(1c)に示す二重点in)をインヒビターkの中心位置bkに移動させ、これを固定点ik(図7(1b)又は図7(1c)に示す固定点ik)とする。この場合の固定点ikは、ラインpの端点とラインを構成する固定二重点となる。これにより、固定点ikが新たに発生し、点の数が1つ増えることになる。また、ラインpが2つのライン(図7(1b)又は図7(1c)にそれぞれ示すラインp'1、p'2)に分割されるため、ラインの数も1つ増えることになる。また、この場合、ライン変更処理部119は、新たに発生させた固定点ikに関する情報(例えば、当該点が固定点であることを示す情報やその座標情報)、及び、新たに設定したラインに関する情報(例えば、ラインpの各端点と当該固定点ikとの間にラインが設定されたことを示す情報)を、RAM又はハードディスクに記憶する。
【0152】
次に、ステップS32において、ライン変更処理部119は、ステップS30及びS31の処理で点の数及びラインの数がそれぞれ1つ増えたため、現在設定されている、増減する点の数を示すΔNIに1を加算して、当該ΔNIを変更すると共に、現在設定されている、増減するラインの数を示すΔNPに1を加算して、当該ΔNPを変更する。
【0153】
一方、ステップS29の判定の結果、ラインpの端点がインヒビターk内にある場合(図7(2a)〜(6a)に示す場合)には、ステップS33に進む。ステップS33に進むと、ライン変更処理部119は、ラインpの両端点がインヒビターk内にあるか否かを判定する。
【0154】
ステップS33の判定の結果、ラインpの両端点がインヒビターk内にない場合、すなわち、ラインpの端点の一方のみがインヒビターk内にある場合(図7(2a)〜(4a)に示す場合)には、ステップS34に進む。ステップS34に進むと、ライン変更処理部119は、インヒビターk内にある端点をインヒビターkの中心位置bkに移動させ、これを固定点ik(図7(2b)〜(4b)又は図7(2c)〜(4c)に示す固定点ik)とする。尚、図7(3a)に示す場合には、インヒビターk内にある端点がインヒビターkの中心位置bkにあるため、当該移動の処理は行われない。この場合には、点の数及びラインの数の増減が生じないため、増減する点の数を示すΔNI及び増減するラインの数を示すΔNPの変更は行われない。また、この場合、ライン変更処理部119は、インヒビターk内にある端点を固定点ikに変更したことを示す情報を、RAM又はハードディスクに記憶する。
【0155】
一方、ステップS33の判定の結果、ラインpの両端点がインヒビターk内にある場合(図7(5a)及び(6a)に示す場合)には、ステップS35に進む。ステップS35に進むと、ライン変更処理部119は、インヒビターk内にあるラインpを消滅させる(図7(5b)及び(6b)、又は、図9(5c)及び(6c))。これにより、ラインの数は1つ減ることになる。
【0156】
次に、ステップS36において、ライン変更処理部119は、インヒビターk内にある2つの点をインヒビターkの中心位置bkに移動させ(本例では、第1の処理例となる)、これを1つの固定点ik(図7(5b)及び図7(6b)に示す固定点ik)とする。尚、図7(6a)に示す場合には、インヒビターk内にある一方の端点がインヒビターkの中心位置bkにあるため、当該一方の端点については移動の処理は行われない。このステップS36の処理により、点の数は1つ減ることになる。また、この場合、ライン変更処理部119は、ラインpにおける2つの端点を1つの固定点ikに変更したことを示す情報、及び、当該ラインpを消滅させたことを示す情報を、RAM又はハードディスクに記憶する。
【0157】
次に、ステップS37において、ライン変更処理部119は、ステップS35及びS36の処理で点の数及びラインの数がそれぞれ1つ減ったため、現在設定されている、増減する点の数を示すΔNIに1を減算して、当該ΔNIを変更すると共に、現在設定されている、増減するラインの数を示すΔNPに1を減算して、当該ΔNPを変更する。
【0158】
ステップS32、ステップS34、ステップS37、或いは後述するステップS66の処理が終了すると、ステップS38に進む。ステップS38に進むと、ライン変更処理部119は、処理対象のインヒビターを示す変数kがステップS14で設定された数NKより小さいか否かを判定する。この判定の結果、処理対象のインヒビターを示す変数kがステップS14で設定された数NKより小さい場合には、ステップS14で設定された全てのインヒビターkについて処理していないと判定し、ステップS39に進む。
【0159】
ステップS39に進むと、ライン変更処理部119は、処理対象のインヒビターを示す変数kに1を加算して、処理対象のインヒビターkを変更する。この際、ライン変更処理部119は、ステップS39で設定したインヒビターkに関する情報(インヒビターkの中心位置bkを示す座標情報及びその半径rに関する情報)を、インヒビター設定部118から取得する。そして、変更したインヒビターkに対して、ステップS28以降の処理を再度行う。
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS24〜S39の処理を行うことにより、第1のライン変更処理手段の一例が実現される。
【0160】
一方、ステップS38の判定の結果、処理対象のインヒビターを示す変数kがステップS14で設定された数NK以上である場合には、ステップS14で設定された全てのインヒビターkについて処理したと判定し、ステップS40に進む。
【0161】
ステップS40に進むと、ライン変更処理部119は、処理対象のラインを示す変数pがステップS19で設定された数NPより小さいか否かを判定する。この判定の結果、処理対象のラインを示す変数pがステップS19で設定された数NPより小さい場合には、ステップS15で設定された全てのラインpについて処理していないと判定し、ステップS41に進む。
【0162】
ステップS41に進むと、ライン変更処理部119は、処理対象のラインを示す変数pに1を加算して、処理対象のラインpを変更する。この際、ライン変更処理部119は、当該ステップS37で設定したラインpに関する情報を、ライン設定部104から取得する。そして、変更したラインpに対して、ステップS27以降の処理を再度行う。
【0163】
一方、ステップS40の判定の結果、処理対象のラインを示す変数pがステップS19で設定された数NP以上である場合には、ステップS19で設定された全てのラインpについて処理したと判定し、ステップS42に進む。
【0164】
ステップS42に進むと、ライン変更処理部119は、点設定部103に対して、現在設定している増減する点の数を示すΔNIの情報を出力し、現在設定されている点の数NIに、出力した増減する点の数を示すΔNIを加算させ、点の数NIの再設定を行わせる。また、ライン変更処理部119は、ライン設定部104に対して、現在設定している増減するラインの数を示すΔNPの情報を出力し、ステップS19で設定したラインの数NPに、出力した増減するラインの数を示すΔNPを加算させ、ラインの数NPの再設定を行わせる。
【0165】
次に、ステップS43において、ライン変更処理部119は、点設定部103及びライン設定部104に対して、点の変更(消滅、発生を含む)、ラインの変更(消滅、発生を含む)に伴う各種の再設定処理を行わせる。
【0166】
具体的に、ライン変更処理部119は、点設定部103に対して、ステップS25〜ステップS42の処理で生じた点の変更(消滅、発生を含む)に関する情報を出力し、ステップS8における点iの再設定を行わせる。この際、点設定部103は、発生した固定点ikに関しては、その点の位置を示す座標情報を当該点が固定点であることを示す情報と共に、RAM又はハードディスクに設定する。
【0167】
また、ライン変更処理部119は、ライン設定部104に対して、ステップS25〜ステップS42の処理で生じたラインの変更(消滅、発生を含む)に関する情報を出力し、ステップS19におけるラインpの再設定を行わせる。この際、ライン変更処理部119は、ライン設定部104に対して、点設定部103で再設定した点iに基づいて、ラインの再設定を行わせるようにしてもよい。
【0168】
更に、粒界設定部105では、点設定部103における点iの再設定及びライン設定部104におけるラインpの再設定を契機として、ステップS20における粒界uの再設定が行われる。更に、粒界エネルギー(γ)設定部109では、粒界設定部105における粒界uの再設定を契機として、ステップS22における単位長さ当たりの粒界エネルギーγの再設定が行われる。更に、易動度設定部111では、粒界設定部105における粒界uの再設定を契機として、ステップS23における易動度Miの再設定が行われる。
【0169】
次に、図15−4のステップS44において、解析点判別部113は、計算対象の点を示す変数iを1に設定する。これにより計算対象の点iが設定される。
次に、ステップS45において、解析点判別部113は、計算対象の点iが、固定点(ik)か否かを判定する。この判定の結果、計算対象の点iが、固定点(ik)でない場合には、ステップS46に進む。
【0170】
次に、ステップS46において、解析点判別部113は、計算対象の点iが、二重点か否かを判定する。この判定の結果、計算対象の点iが、二重点である場合には、ステップS47に進む。
【0171】
ステップS47に進むと、二重点用駆動力計算部114及び位置計算部116による二重点用駆動力・位置算出処理が行われる。ここで、このステップS47の詳細な処理動作について、図16を用いて説明する。
【0172】
図15−4のステップS47では、まず、図16のステップS431において、二重点用駆動力計算部114は、計算対象の二重点i、及びその二重点に隣接する2つの点i−1、i+1の情報を、点設定部103から読み出す。そして、二重点用駆動力計算部114は、二重点iと、その二重点iに隣接する2つの点i−1、i+1とにより定まる円弧41の曲率中心O及び曲率半径Ri(t)を計算する。
【0173】
次に、ステップS432において、二重点用駆動力計算部114は、計算対象の二重点iが属する粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγiを、粒界エネルギー(γ)設定部109から読み出す。
【0174】
次に、ステップS433において、二重点用駆動力計算部114は、ステップS431で計算した曲率半径Ri(t)と、ステップS432で読み出した単位長さ当たりの粒界エネルギーγiとを(1)式に代入して、二重点iに生じる駆動力Fi(t)の大きさを計算する。
【0175】
また、二重点用駆動力計算部114は、計算対象の二重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルを点設定部103から読み出す。そして、二重点用駆動力計算部114は、計算対象の二重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルと、ステップS431で計算した曲率中心Oとから、計算対象の二重点iから曲率中心Oに向かう方向を計算し、二重点iに生じる駆動力Fi(t)の方向を決定する。これにより、二重点iに生じる駆動力Fi(t)を示すベクトルが得られる。
【0176】
次に、ステップS434において、位置計算部116は、計算対象の二重点iが属する粒界uに対応する易動度Miを、易動度設定部111から読み出す。
【0177】
次に、ステップS435において、位置計算部116は、計算対象の二重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルを点設定部103から受け取る。
【0178】
次に、ステップS436において、位置計算部116は、まず、ステップS433で得られた「計算対象の二重点iに生じる駆動力Fi(t)を示すベクトル」と、ステップS434で得られた「計算対象の二重点iが属する粒界uの易動度Mi」とを、(4)式に代入して、計算対象の二重点iの速度vi(t)を示すベクトルを計算する。
【0179】
そして、位置計算部116は、計算対象の二重点iの速度vi(t)を示すベクトルと、計算対象の二重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルと、時間Δtとを、以下の(5)式に代入して、現在の解析時間tからΔt[sec]が経過したときに、計算対象の二重点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルを計算する。更に、位置計算部116は、計算対象の二重点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルの情報をRAM等に一時的に記憶すると共に、当該計算対象の二重点iが存在する位置ri(t−Δt)を示すベクトルの情報を削除する。
【0180】
以上のステップS431〜ステップS436までの処理を経ることにより、図15−4のステップS47に示す二重点用駆動力・位置算出処理が行われる。
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS431〜S433の処理を行うことにより、駆動力演算手段の一例が実現され、例えば、ステップS434〜S436の処理を行うことにより、位置演算手段の一例が実現される。
【0181】
図15−4の説明に戻り、ステップS46の判定の結果、計算対象の点iが、二重点でなく、三重点である場合には、ステップS48に進む。
【0182】
ステップS48に進むと、三重点用駆動力計算部115及び位置計算部116による三重点用駆動力・位置算出処理が行われる。ここで、このステップS48の詳細な処理動作について、図17を用いて説明する。
【0183】
図15−4のステップS48では、まず、図17のステップS441において、三重点用駆動力計算部115は、計算対象の三重点iが属する3つの粒界uにおける単位長さ当たりの粒界エネルギーγi1、γi2、γi3の大きさ(絶対値)を、粒界エネルギー(γ)設定部109から読み出す。さらに、三重点用駆動力計算部115は、計算対象の三重点iと、その三重点iに隣接する3つの点1、2、3の情報を、点設定部103から読み出す。そして、三重点用駆動力計算部115は、計算対象の三重点iから、点1、2、3に向かう方向を有する単位ベクトルを計算する。
【0184】
次に、ステップS442において、三重点用駆動力計算部115は、ステップS441で読み出した「単位長さ当たりの粒界エネルギーγi1、γi2、γi3の大きさ」と、ステップS441で計算した「計算対象の三重点iから、点1、2、3に向かう方向を有する単位ベクトル」とを(3)式に代入して、計算対象の三重点iに生じる駆動力Fi(t)を示すベクトルを計算する。
【0185】
次に、ステップS443において、位置計算部116は、計算対象の三重点iが属する3つの粒界uに対応する易動度Mi1〜Mi3を、易動度設定部111から読み出す。
【0186】
次に、ステップS444において、位置計算部116は、計算対象の三重点iが属する3つの粒界uの易動度Mi1〜Mi3と、計算対象の三重点iから点1、2、3に向かう方向を有する単位ベクトル(dij(t)/|dij(t)|)とを、(6)式に代入して、計算対象の三重点iの易動度Miを計算する。尚、計算対象の三重点iから点1、2、3に向かう方向を有する単位ベクトルは、ステップS441で計算されたものを使用することができる。
【0187】
次に、ステップS445において、位置計算部116は、計算対象の三重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルを点設定部103から受け取る。
【0188】
次に、ステップS446において、位置計算部116は、まず、ステップS442で得られた「計算対象の三重点iに生じる駆動力Fi(t)を示すベクトル」と、ステップS444で得られた「計算対象の三重点iの易動度Mi」とを、(4)式に代入して、計算対象の三重点iの速度vi(t)を示すベクトルを計算する。
【0189】
そして、位置計算部116は、計算対象の三重点iの速度vi(t)を示すベクトルと、計算対象の三重点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルと、時間Δtとを、(5)式に代入して、現在の解析時間tからΔt[sec]が経過したときに、計算対象の三重点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルを計算する。更に、位置計算部116は、計算対象の三重点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルの情報をRAM等に一時的に記憶すると共に、当該計算対象の三重点iが存在する位置ri(t−Δt)を示すベクトルの情報を削除する。
以上のステップS441〜ステップS446までの処理を経ることにより、図15−4のステップS48に示す三重点用駆動力・位置算出処理が行われる。
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS441、S442の処理を行うことにより、駆動力演算手段の一例が実現され、例えば、ステップS443〜S446の処理を行うことにより、位置演算手段の一例が実現される。
【0190】
図15−4の説明に戻り、ステップS45の判定の結果、計算対象の点iが、固定点(ik)である場合には、ステップS49に進む。
ステップS49に進むと、第2の固定点処理部120は、解析点判別部113で判定処理された固定点iの座標情報と、当該固定点iとラインpを構成する他方の各点の位置を示す情報とを、点設定部103から読み出す。そして、第2の固定点処理部120は、処理対象の固定点iを中心位置bkとするインヒビターkに関する情報(中心位置bkを示す座標情報及びその半径rに関する情報)を、インヒビター設定部118から読み出す。更に、第2の固定点処理部120は、有効範囲801に関する情報(有効範囲801の半径に関する情報)を、有効範囲設定部122から読み出す。
【0191】
次に、ステップS50において、粒界エネルギー(E)算出部121は、ステップS49で読み出された情報を取得すると共に、固定点iが属する粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγを粒界エネルギー(γ)設定部109から読み出す。そして、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点iが属する粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγと、有効長さL1、L2とを用いて、固定点iが中心位置bkに固定されているときの、当該固定点iが属する粒界uの有効範囲801内における粒界エネルギーEiを計算(算出)する。
ここで、固定点i(ik)が二重点である場合には、例えば、(15)式を用いて粒界エネルギーEiが算出される。一方、固定点i(ik)が三重点である場合には、例えば、(16)式を用いて粒界エネルギーEiが算出される。
このように本実施形態では、例えば、粒界エネルギーEiにより第1の粒界エネルギーが実現され、ステップS50の処理を行うことにより、粒界エネルギー算出手段の一例が実現される。
【0192】
次に、ステップS51において、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点iが固定位置(インヒビターkの中心位置bk)から解放されて、粒界エネルギーEが最小となる位置(平衡位置)にあるときの、当該解放された固定点iが属する粒界uの有効範囲801内における粒界エネルギーEi'を計算(算出)する。
ここで、固定点i(ik)が二重点である場合には、例えば、(17)式を用いて粒界エネルギーEi'が算出される。一方、固定点i(ik)が三重点である場合には、例えば、(18)式を用いて粒界エネルギーEi'が算出される。
このように本実施形態では、例えば、粒界エネルギーEi'により第2の粒界エネルギーが実現され、ステップS51の処理を行うことにより、粒界エネルギー算出手段の一例が実現される。
【0193】
次に、ステップS52において、第2の固定点処理部120は、ステップS50で算出された粒界エネルギーEiと、ステップS51で算出された粒界エネルギーEi'とを比較し、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEi未満(Ei'<Ei)であるか否かを判定する。この判定の結果、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEi未満でない場合には、後述するステップS59に進む。一方、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEi未満である場合には、ステップS53に進む。
【0194】
ステップS53に進むと、粒界エネルギー(E)算出部121は、固定点ikが解放されるときの、当該固定点iが属する粒界uの有効範囲801内における粒界エネルギーEi''を計算(算出)する。
ここで、固定点i(ik)が二重点である場合には、例えば、(19)式を用いて粒界エネルギーEi''が算出される。一方、固定点i(ik)が三重点である場合には、例えば、(20)式を用いて粒界エネルギーEi''が算出される。
このように本実施形態では、例えば、粒界エネルギーEi''により第3の粒界エネルギーが実現され、ステップS53の処理を行うことにより、粒界エネルギー算出手段の一例が実現される。
【0195】
次に、ステップS54において、第2の固定点処理部120は、障壁エネルギーE0に関する情報を、障壁エネルギー設定部123から読み出す。そして、第2の固定点処理部120は、粒界エネルギーEi''から、粒界エネルギーEiを減算した値が、障壁エネルギーE0未満であるか否かを判定する。この判定の結果、粒界エネルギーEiを減算した値が、障壁エネルギーE0未満でない場合には、後述するステップS59に進む。
一方、粒界エネルギーEiを減算した値が、障壁エネルギーE0未満である場合には、ステップS55に進む。
【0196】
ステップS55に進むと、第2の固定点処理部120は、ステップS45で判定した固定点i(ik)が二重点か否かを判定する。この判定の結果、固定点i(ik)が二重点である場合には、ステップS56に進む。ステップS56に進むと、第2の固定点処理部120は、固定点i(ik)を、インヒビターkの表面(境界)に移動させ、固定を解除して、点804の位置に通常の点i(ik)を生成する(図10(b)を参照)。そして、後述するステップS59に進む。
【0197】
一方、固定点i(ik)が二重点ではなく、三重点である場合には、ステップS57に進む。ステップS57に進むと、第2の固定点処理部120は、固定点i(ik)を、インヒビターkの表面(境界)に移動させ、固定を解除して、点804の位置に通常の点i(ik)を生成する。更に、第2の固定点処理部120は、固定点i(ik)に隣接していた点i(ir、it、iv)のうち、生成した通常の点i(ik)と結ばれない点i(iv)と、生成した通常の点i(ik)と結ばれる固定二重点i(ix)を、インヒビターkの中心位置bkに生成する(図11(b)を参照)。
次に、ステップS58において、ライン変更処理部119は、ステップS57の処理で点の数及びラインの数がそれぞれ1つ増えたため、現在設定されている、増減する点の数を示すΔNIに1を加算して、当該ΔNIを変更すると共に、現在設定されている、増減するラインの数を示すΔNPに1を加算して、当該ΔNPを変更する。そして、ステップS59に進む。
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS56、S57の処理を行うことにより、固定点処理手段の一例が実現される。
【0198】
以上のようにしてステップS59に進むと、解析点判別部113は、計算対象の点を示す変数iが点設定部103で現在設定されている点の数NIより小さいか否かを判定する。この判定の結果、計算対象の点を示す変数iが点設定部103で現在設定されている点の数NIより小さい場合には、点設定部103で現在設定されている全ての点iについて処理がされていないと判定し、ステップS60に進む。
ステップS60に進むと、解析点判別部113は、計算対象の点を示す変数iに1を加算して、計算対象の点iを変更する。そして、変更した点iに対して、ステップS45以降の処理を再度行う。
【0199】
一方、ステップS59において、計算対象の点を示す変数iが点設定部103で現在設定されている点の数NI以上であると判定された場合には、点設定部103で現在設定されている全ての点iについて処理がされたと判定し、ステップS61に進む。
ステップS61に進むと、第2の固定点処理部120は、点設定部103に対して、ステップS56、S57における点iの変更に伴う再設定を行わせる。また、これと同時に、位置計算部116は、点設定部103に対して、ステップS47又はステップS48で計算された点iが存在する位置ri(t+Δt)を示すベクトルを出力する。これにより、点iの現在の位置ri(t)を示すベクトルが、点設定部103に再設定される。
【0200】
そして、ライン設定部104では、点設定部103における点iの再設定を契機として、ラインpの再設定が行われる。更に、粒界設定部105では、点設定部103における点iの再設定及びライン設定部104におけるラインpの再設定を契機として、粒界uの再設定が行われる。更に、粒界設定部105における粒界uの再設定を契機として、粒界エネルギー(γ)設定部109及び易動度設定部111における再設定も行われる。
【0201】
次に、ステップS62において、解析時間設定部112は、解析時間tが、ステップS6で設定した解析完了時間Tよりも大きいか否かを判定する。すなわち、解析完了時間Tが経過したか否かを判定する。この判定の結果、解析時間tが、ステップS6で設定した解析完了時間Tより大きくない場合(解析完了時間Tが経過していない場合)には、ステップ63に進む。ステップS63に進むと、解析時間設定部112は、現在設定している解析時間tに時間Δtを加算して、解析時間tを更新する。その後、ステップS25に戻り、ステップS25以降の処理を再度行う。そして、ステップS62において、解析時間tが、ステップS6で設定した解析完了時間Tよりも大きい(解析完了時間Tが経過した場合)と判定されるまで、ステップS25以降の処理が繰り返し行われる。
【0202】
一方、ステップS62の判定の結果、解析時間tが、ステップS6で設定した解析完了時間Tよりも大きい場合(解析完了時間Tが経過した場合)には、ステップS64に進む。ステップS64に進むと、解析画像表示部117は、ステップS47又はステップS48で計算された「点iの位置ri(t+Δt)のベクトル」に基づいて、解析時間tが0(ゼロ)からT[sec]までの間に、結晶粒Aの状態がどのように推移するのかを示す画像を、表示装置200に表示させる。そして、図15−1〜図15−4の一連のフローチャートを終了する。
【0203】
尚、ステップS3で入力される解析温度θ(t)が時間に依存する場合、例えば、ステップS63の後に、ステップS63で設定された解析時間t+Δtにおける解析温度θ(t+Δt)を読み出し、その解析温度θ(t+Δt)における単位長さ当たりの粒界エネルギーγと易動度Miとを再設定してから、ステップS25以降の処理を行うようにすればよい。
【0204】
図15−3のステップS28において、ラインpがインヒビターk内でないと判定された場合には、ステップS65に進む。ステップS65に進むと、追い越し判定部124は、解析時間tが0(ゼロ)であるか否かを判定する。この判定の結果、解析時間tが0(ゼロ)である場合には、ラインpがインヒビターkを追い越していることはないので、ステップS66を省略して前述したステップS38に進み、ステップS14で設定された全てのインヒビターkについて処理しているか否かの判定を行う。
【0205】
一方、解析時間tが0(ゼロ)でない場合には、ステップS66に進む。ステップS66に進むと、追い越し判定部124は、計算対象のラインpが、計算対象のインヒビターkを追い越したか否かを判定する。ここで、このステップS66の詳細な処理動作について、図18及び図8を用いて説明する。
図15−3のステップS66では、まず、図18のステップS451において、追い越し判定部124は、(7)式に示したように、図8に示したベクトルAa、Ab(三角形80a(第1の三角形)により定まるベクトル)を使ってベクトルA(移動後のラインpの一方の端点である粒界点i83とインヒビターkの中心位置bkとにより定まるベクトル)を表す。
【0206】
次に、ステップS452において、追い越し判定部124は、(7)式の係数ρ、σが(8)式〜(10)式の全てを満たすか否かを判定することによって、三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがあるか否かを判定する。この判定の結果、(7)式の係数ρ、σが(8)式〜(10)式の全てを満たし、三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがある場合には、計算対象のラインpが、計算対象のインヒビターkを追い越したと判定し、図15−3のステップS67に進む。
一方、(7)式の係数ρ、σが以下の(8)式〜(10)式の全てを満たさず、三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがない場合には、ステップS453に進む。ステップS453に進むと、追い越し判定部124は、(11)式に示したように、図8に示したベクトルAb、Ac(三角形80b(第2の三角形)により定まるベクトル)を使ってベクトルAを表す。
【0207】
次に、ステップS454において、追い越し判定部124は、(11)式の係数λ、ωが(12)式〜(14)式の全てを満たすか否かを判定することによって、三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがあるか否かを判定する。この判定の結果、(11)式の係数λ、ωが(12)式〜(14)式の全てを満たし、三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがある場合には、計算対象のラインpが、計算対象のインヒビターkを追い越したと判定し、図15−3のステップS67に進む。
一方、(11)式の係数λ、ωが(12)式〜(14)式の全てを満たさず、三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがない場合には、計算対象のラインpが、計算対象のインヒビターkを追い越していないと判定し、前述した図15−3のステップS38に進み、ステップS14で設定された全てのインヒビターkについて処理しているか否かの判定を行う。
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS66(図18のステップS451〜S454)の処理を行うことにより判定手段の一例が実現される。
【0208】
以上のようにして、計算対象のラインpが、計算対象のインヒビターkを追い越したと判定されると、図15−3のステップS67に進み、第1の固定点処理部125は、インヒビターkを追い越したと判定された、計算対象のラインp(図9(a)に示すラインp82)上の任意の位置に、二重点(図9(a)に示す二重点i85)を発生させる。これにより、ラインpは、2つのラインに分割されることになる。
【0209】
次に、ステップS68において、第1の固定点処理部125は、ステップS67でラインp上に発生させた二重点(図9(a)に示す二重点i85)をインヒビターkの中心位置bkに移動させ、これを固定点ik(図9(b)に示す固定点ik)とする。この場合の固定点ikは、ラインp(図9(a)に示すラインp82)の端点(図9(a)、図9(b)に示す粒界点i83、i84)とライン(図9(b)に示すラインp83、p84)を構成する固定二重点となる。これにより、固定点ikが新たに発生し、点の数が1つ増えることになる。また、ラインpが2つのライン(図9(b)に示すラインp83、p84)に分割されるため、ラインの数も1つ増えることになる。また、この場合、第1の固定点処理部125は、新たに発生させた固定点ikに関する情報(例えば、当該点が固定点であることを示す情報やその座標情報)、及び、新たに設定したラインに関する情報(例えば、ラインpの各端点と当該固定点ikとの間にラインが設定されたことを示す情報)を、RAM又はハードディスクに記憶する。
【0210】
次に、ステップS69において、第1の固定点処理部125は、ステップS67及びS68の処理で点の数及びラインの数がそれぞれ1つ増えたため、現在設定されている、増減する点の数を示すΔNIに1を加算して、当該ΔNIを変更すると共に、現在設定されている、増減するラインの数を示すΔNPに1を加算して、当該ΔNPを変更する。そして、前述したステップS38に進み、ステップS14で設定された全てのインヒビターkについて処理しているか否かの判定を行う。
以上のように本実施形態では、例えば、ステップS67、S68の処理を行うことにより第2のライン変更処理手段の一例が実現される。
【0211】
以上のように本実施形態では、同一の粒界上で互いに隣接する2つの粒界点を両端点とするラインpがインヒビターk内を通る場合に、当該インヒビターk内に固定点ikを発生させ、当該固定点ikを端点とするラインpの変更処理を行うようにしている(例えば、図9参照)。これにより、インヒビターkによって結晶粒Aの粒界移動が阻害(抑制)される状態をシミュレーションすることができる。
特に、本実施形態では、粒界点の位置を変化させた結果、ラインpがインヒビターkを追い越してしまっているか否かを判定し、追い越してしまっている場合には、インヒビターkの中心位置bkに固定点ikを発生させ、これに伴い、インヒビターkを追い越したラインpの両端点(粒界点)を通るラインの変更処理を行うようにした。したがって、インヒビターk付近における結晶粒A(粒界u)の挙動を可及的に忠実にシミュレーションすることができ、インヒビターを介して結晶粒Aが時間の経過と共にどのように変化するのかを正確に解析することができる。
【0212】
また、本実施形態では、固定点iが中心位置bkに固定されているときの、当該固定点iが属する粒界uの粒界エネルギーEiと、固定点iが固定位置(インヒビターkの中心位置bk)から解放されて平衡位置にあるときの、当該解放された固定点iが属する粒界uの粒界エネルギーEi'と、固定点ikが解放されるときの、当該固定点iが属する粒界uの粒界エネルギーEi''とを算出する。そして、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEiよりも小さく、且つ粒界エネルギーEi''と粒界エネルギーEiとの差が障壁エネルギーE0よりも小さい場合に、固定点iを解放するようにした。したがって、インヒビターによって結晶粒Aの粒界移動が抑制されていた状態から結晶粒Aの粒界移動が再開する状態への移行及び移行後の結晶粒Aの粒界移動の状態をシミュレーションすることができる。特に、単位長さ当たりの粒界エネルギーγの影響を含めて、固定点ikを解放させるか否かを判定することができる。
【0213】
以上のように、介在物の一例であるインヒビターkにより結晶粒Aの粒界移動が抑制される状態、及び、当該抑制されていた状態から結晶粒Aの粒界移動が再開する状態への移行及び移行後の結晶粒Aの粒界移動の状態をシミュレーションすることができるため、インヒビターを介して結晶粒Aが時間の経過と共にどのように変化するのかを、より一層容易に且つ正確に解析することができる。
【0214】
また、本実施形態では、これら粒界エネルギーEi、粒界エネルギーEi'、及び粒界エネルギーEi''を、夫々、有効範囲801内において算出するようにした。したがって、粒界uに対して設定される二重点の数(各ラインの長さ)に可及的に影響を受けずに、固定点ikを解放させることができる。
【0215】
[変形例1]
尚、本実施形態では、三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがない場合に、三角形80bの中に、インヒビターkの中心位置bkがあるか否かを判定するようにしたが、必ずしもこのようにする必要はない。例えば、三角形80bの中(三角形80bの境界を含む)に、インヒビターkの中心位置bkがない場合に、三角形80aの中に、インヒビターkの中心位置bkがあるか否かを判定するようにしてもよい。また、粒界点i83からインヒビターkの中心位置bkに向かう方向であるベクトルAを、(7)式、(11)式以外の方法で表記してもよい。この場合、(8)式〜(10)式、(12)式〜(14)式の判定条件を、表記した内容に応じて変更することになる。更に、例えば、4つの粒界点i81〜i84を頂点とする四角形が長方形又は正方形である場合には、当該四角形の中に、インヒビターkの中心位置bkがあるか否かを直接(一度に)判定してもよい。以上のように、例えば、移動前後のラインpの両端点である4つの粒界点i81〜i84を頂点とする四角形の中に、インヒビターkの中心位置bkがあるか否かを判定するようにしていれば、ラインpがインヒビターkを追い越したか否かを判定する方法は、前述したものに限定されるものではない。
【0216】
[変形例2]
また、本実施形態では、図10(a)、図11(a)に示したように、固定点ikと当該固定点ikに隣接する点ir、itとにより構成されるラインpa、pbの延長線と、有効範囲801との交点802、803を求めるようにした。しかしながら、固定点ikを含む粒界uに接する線と、有効範囲801との交点を求めるようにしていれば必ずしもこのようにする必要はない。例えば、図10(a)において、交点802(803)に相当する点については、点ir(it)と、当該点ir(it)に隣接する固定点ik及び点iq(iu)とを通る円弧の固定点ikを通る接線と、有効範囲801との交点を求めるようにしてもよい。
【0217】
[変形例3]
また、本実施形態では、固定点ikを端点とする各ラインpa、pb、pcのうち、平衡位置wを挟む位置にあるラインpa、pbの延長線と、有効範囲801との交点802、803を求めるようにした。しかしながら、必ずしも平衡位置wを求めた上で、交点802、803を求める必要はない。例えば、以下のようにして交点802、803を求めることができる。図11(a)を参照しながら、交点802、803を求める方法のその他の一例を説明する。
まず、粒界エネルギー(E)算出部121は、『固定点ikと、当該固定点ikに隣接する点ir、itとにより定まるラインpa、pbのなす角度』、『固定点ikと、当該固定点ikに隣接する点ir、ivとにより定まるラインpa、pcのなす角度』、及び『固定点ikと、当該固定点ikに隣接する点iv、itとにより定まるラインpc、pbのなす角度』のうち、最も鋭角である角度(ラインpa、pbのなす角度)を選択する。そして、粒界エネルギー(E)算出部121は、選択した角度を構成するラインpa、pbを、平衡位置wを挟む位置にあるラインとみなし、そのラインpa、pbの延長線と、有効範囲801との交点802、803を求める。
【0218】
[変形例4]
更に、必ずしも、固定点ikを含む粒界uに接する線と、有効範囲801との交点を求める必要もない。例えば、交点802、803の代わりに、例えば、有効範囲801とラインpとの交点(有効範囲801と実際に設定されているラインpとの交点)を求めるようにしてもよい。
【0219】
[変形例5]
<粒界エネルギーEiの算出>
また、(16)式に示したように、本実施形態では、固定点が固定三重点である場合の粒界エネルギーEiを求める際に、ラインpcを含む粒界を考慮しなかったが、以下のようにラインpcを含む粒界を考慮するようにして粒界エネルギーEiを求めてもよい。
図19は、固定点が固定三重点である場合の粒界エネルギーの算出方法の他の例を説明する図である。
粒界エネルギー(E)算出部121は、点802、803に加えて、点806を求める。点806は、固定点ikと当該固定点ikに隣接する点ivとを最短距離で結ぶラインpcの延長線と、有効範囲801との交点である。
ここで、インヒビターk内には、粒界uは存在しない。このため、粒界エネルギー(E)算出部121は、粒界エネルギーEiの算出の際に用いられる有効長さL3として、固定点ikと交点806との間の長さKから、インヒビターkの半径rの長さを差し引いた長さを求める。
【0220】
また、固定点ikが三重点であるため、3つの有効長さL1、L2、L3(=K−r)の部分は、夫々、異なる粒界uに属していると見なすことができる。よって、例えば、図11に示した固定点ikが三重点である場合の粒界エネルギーEiは、以下の(25)式により算出される。
Ei=(ラインpaを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ1)×L1
+(ラインpbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ2)×L2
+(ラインpcを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ3)×L3
・・・(25)
【0221】
<粒界エネルギーEi'の算出>
また、図11では、(18)式に示したように、本実施形態では、ライン903の長さからインヒビターkの半径rを差し引いた長さB3を用いて、固定点ikが三重点である場合の粒界エネルギーEi'を求めるようにしたが、以下のようにして固定点ikが三重点である場合の粒界エネルギーEi'を求めるようにしてもよい。
前述したように、図19において、粒界エネルギー(E)算出部121は、点802、803に加えて、点806を求める。そして、粒界エネルギー(E)算出部121は、点806と平衡位置wとを結ぶライン(仮想ライン)904を形成する。この際、粒界エネルギーEi'の算出に用いられる有効長さは、ライン904の長さB4から、ライン904のうちのインヒビターkの部分の長さB5を引いた長さB6となる。
そして、粒界エネルギー(E)算出部121は、前述した(18)式のB3の代わりに、B6を代入して、固定点ikが三重点である場合の粒界エネルギーEi'を算出する。
【0222】
<粒界エネルギーEi''の算出>
また、図11では、(20)式に示したように、本実施形態では、固定点が固定三重点である場合の粒界エネルギーEi''を求める際に、ラインpcを含む粒界を考慮しなかったが、以下のようにラインpcを含む粒界を考慮するようにして粒界エネルギーEiを求めてもよい。
前述したように、図19において、粒界エネルギー(E)算出部121は、点802、803に加えて、点806を求める。そして、粒界エネルギー(E)算出部121は、粒界エネルギーEi''の算出に用いられる有効長さとして、点804と、点806とを最短距離で結んだライン(仮想ライン)の長さM3から、そのラインのうちのインヒビターkの部分の長さM4を引いた長さM5を求める。
固定点ikが三重点である場合には、ラインpaを含む有効長さL1の部分と、ラインpbを含む有効長さL2の部分と、ラインpcを含む有効長さL3の部分とは、夫々、異なる粒界uに属していると見なすことができる。よって、例えば、図19に示した、固定点ikが解放されるときの、当該固定点iが属する粒界uの有効範囲801内における粒界エネルギーEi''は、以下の(26)式により算出される。
Ei''=(ラインpaを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ1)×M1
+(ラインpbを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ2)×M2
+(ラインpcを含む粒界uの単位長さ当たりの粒界エネルギーγ3)×M5
・・・(26)
【0223】
[変形例6]
また、本実施形態では、有効範囲801を円としたが、有効範囲801の形状は円に限定されるものではなくてもよい。更に、前述したように有効範囲801を設定すれば、粒界uに対して設定される二重点の数に可及的に影響を受けずに固定点ikを解放することができ好ましいが、必ずしも有効範囲801を設定する必要はない。このようにした場合、例えば、図10及び図11において、点802、803の情報の代わりに、固定点ikに隣接する点ir、itの情報を用いて、前述した処理を行うようにすることができる。
このようにした場合、図10及び図11に示す例では、固定点ikが属する粒界の仮想的な仮想ラインであって、点804を端点の1つとする仮想的なライン(点ir、itと点804とを最短距離で結ぶ仮想ライン)の長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEi''が算出されることになる。
【0224】
また、固定点ikが属する粒界のラインであって、固定点ikを端点の1つとするラインpa、pbの長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEiが算出されることになる。
更に、固定点ikが属する粒界の仮想的な仮想ラインであって、平衡位置wを通る仮想ライン(点ir、itを最短距離で結ぶ仮想ライン)の長さと、固定点ikが属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーとを用いて、粒界エネルギーEi'が算出されることになる。
【0225】
[変形例7]
また、本実施形態のように、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEiよりも小さく、且つ粒界エネルギーEi''と粒界エネルギーEiとの差が障壁エネルギーE0よりも小さい場合に、固定点iを解放すれば、単位長さ当たりの粒界エネルギーγの影響を含めて、固定点ikを解放させるか否かを判定することができ、好ましいが、必ずしも粒界エネルギーEi''を用いて固定点iを解放するか否かを判定する必要はない。このようにした場合には、粒界エネルギーEi'が粒界エネルギーEiよりも小さい場合に、固定点iを解放すると判定し、そうでない場合に固定点iを解放しないと判定するようにすればよい。
【0226】
[変形例8]
また、本実施形態では、ユーザが、結晶粒画像31を見ながら、操作装置300を使用して、点i及びインヒビターkを指定する場合を例に挙げて説明したが、必ずしもこのようにする必要はない。例えば、EBSP法で解析することにより得られた結晶粒画像信号に基づいて、結晶粒解析装置100(コンピュータ)が自動的に、点i及びインヒビターkを指定するようにしてもよい。
【0227】
[変形例9]
また、本実施形態では、インヒビター設定部118において、図6に示したように、検出したインヒビターkの領域を円で近似してインヒビターkを設定するようにしているが、検出したインヒビターkの領域の形状に応じて、近似する形状を変更するようにしてもよい。この際、例えば、インヒビターkを楕円に近似する場合には、楕円の中心位置(固定位置)を示す座標情報と、楕円の長軸の長さに係る情報と、楕円の短軸の長さに係る情報を計算して、当該インヒビターkをRAM又はハードディスクに設定する形態を採る。また、例えば、インヒビターkを多角形に近似する場合には、例えば固定位置として重心位置を示す座標情報と、当該多角形における各頂点を示す座標情報を計算して、当該インヒビターkをRAM又はハードディスクに設定する形態を採る。
【0228】
[変形例10]
また、本実施形態では、粒界設定部105により、粒界uを定義するようにしたが、点i、ラインp、及び結晶粒Aを用いれば、粒界uは自ずと定まるので、必ずしも粒界uを定義する必要はない。
[変形例11]
また、本実施形態では、粒界エネルギー(γ)設定部109、易動度設定部111は、粒界uを介して互いに隣接する2つの結晶粒Aの方位ξの差分Δξの絶対値に基づいて、単位長さ当たりの粒界エネルギーγ、易動度Miを設定するようにしたが、粒界uを介して互いに隣接する2つの結晶粒Aの方位ξの差分Δξそのものに基づいて、単位長さ当たりの粒界エネルギーγ、易動度Miを設定するようにしてもよい。
【0229】
[変形例12]
また、本実施形態では、(6)式を用いて、計算対象の三重点iにおける易動度Miを求めるようにしたが、計算対象の三重点iが属する3つの粒界uに対応する易動度Mi1〜Mi3を用いて、計算対象の三重点iの易動度Miを求めるようにしていれば、必ずしもこのようにする必要はない。例えば、以下の(27)式を用いて、計算対象の三重点iにおける易動度Miを求めるようにしてもよい。
【0230】
【数9】

【0231】
[変形例13]
また、本実施形態では、粒界uの再現性を高めるために二重点を設定するようにしたが、二重点を設定せずに、三重点のみを設定するようにしてもよい。このようにする場合、例えば、図15−4のステップS46、S47を省略する。そして、ステップS57、S58の代わりに、固定点iをインヒビターの表面に移動させ、通常の点iを生成するようにする。また、ステップS56の代わりに、固定点iを消滅させると共に、当該固定点iと当該固定点iに隣接する2つの点とを最短距離で結ぶ2つのラインを消滅させて当該固定点iが属する2つの粒界を消滅させた後、固定点iに隣接していた2つの点を結ぶ粒界(ライン)を発生させ、増減する点及びラインの数を示すΔNI及びΔNPを1減算する処理を行う。
【0232】
[変形例14]
また、本実施形態では、結晶粒解析装置が解析する材料の一例である金属材料として、電磁鋼板を例に挙げて説明したが、本発明に係る結晶粒解析装置が解析する材料は、このようなものに限定されず、インヒビター等の介在物を用いて製造されるものであれば、如何なるものでも適用可能である。尚、結晶粒解析装置が解析する金属材料が異なる場合には、粒界エネルギー(γ)記憶部108や易動度記憶部110に記憶されるグラフ等の内容等、結晶粒解析装置に入力されるデータが、材料に応じて異なることになる。
【0233】
以上説明した本発明の実施形態のうち、CPUが実行する部分は、コンピュータがプログラム(コンピュータプログラム)を実行することによって実現することができる。また、プログラムをコンピュータに供給するための手段、例えばかかるプログラムを記録したCD−ROM等のコンピュータ読み取り可能な記録媒体、又はかかるプログラムを伝送する伝送媒体も本発明の実施形態として適用することができる。また、上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体などのプログラムプロダクトも本発明の実施の形態として適用することができる。上記のプログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体、伝送媒体及びプログラムプロダクトは、本発明の範疇に含まれる。
また、前述した実施形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、またはその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【0234】
【図1】本発明の第1の実施形態を示し、結晶粒解析装置で行われる解析方法の一例を概念的に示す図である。
【図2】本発明の実施形態を示し、結晶粒解析装置の機能構成の一例を示すブロック図である。
【図3】本発明の実施形態を示し、結晶粒画像と、二重点及び三重点と、ライン及び粒界との一例を示す図である。
【図4】本発明の実施形態を示し、二重点に生じる駆動力の計算方法の一例を説明する図である。
【図5】本発明の実施形態を示し、三重点に生じる駆動力の計算方法の一例を説明する図である。
【図6】本発明の実施形態を示し、インヒビターの設定方法の一例を説明する図である。
【図7】本発明の実施形態を示し、ライン変更処理部によるライン変更処理の一例を説明する図である。
【図8】本発明の実施形態を示し、ラインがインヒビターを追い越したか否かを判定する方法の一例を説明する図である。
【図9】本発明の実施形態を示し、ラインpがインヒビターkを追い越した場合の処理方法の一例を説明する図である。
【図10】本発明の実施形態を示し、固定点が固定二重点である場合の粒界エネルギーの算出方法の一例を説明する図である。
【図11】本発明の実施形態を示し、固定点が固定三重点である場合の粒界エネルギーの算出方法の一例を説明する図である。
【図12】本発明の実施形態を示し、固定点が二重点である場合の、有効範囲内における仮想ラインの長さと、有効範囲上の点の位置との関係の一例を示す図である。
【図13】本発明の実施形態を示し、固定点が三重点である場合の、有効範囲内における仮想ラインの長さと、有効範囲上の点の位置との関係の一例を示す図である。
【図14】本発明の実施形態を示し、固定点が属する粒界の最小長さと、ピン止め時間との関係の一例を示す図である。
【図15−1】本発明の実施形態を示し、結晶粒解析装置が行う処理動作の一例を説明するフローチャートである。
【図15−2】本発明の実施形態を示し、図15−1に続くフローチャートである。
【図15−3】本発明の実施形態を示し、図15−2に続くフローチャートである。
【図15−4】本発明の実施形態を示し、図15−3に続くフローチャートである。
【図16】本発明の実施形態を示し、図15−4のステップS47の詳細な処理動作の一例を説明するフローチャートである。
【図17】本発明の実施形態を示し、図15−4のステップS48の詳細な処理動作の一例を説明するフローチャートである。
【図18】本発明の実施形態を示し、図15−3のステップS66の詳細な処理動作の一例を説明するフローチャートである。
【図19】本発明の実施形態を示し、固定点が固定三重点である場合の粒界エネルギーの算出方法の他の例を説明する図である。
【符号の説明】
【0235】
100 結晶粒解析装置
101 結晶画像取得部
102 結晶画像表示部
103 点設定部
104 ライン設定部
105 粒界設定部
106 解析温度設定部
107 方位設定部
108 粒界エネルギー(γ)記憶部
109 粒界エネルギー(γ)設定部
110 易動度記憶部
111 易動度設定部
112 解析時間設定部
113 解析点判別部
114 二重点用駆動力計算部
115 三重点用駆動力計算部
116 位置計算部
117 解析画像表示部
118 インヒビター設定部
119 ライン変更処理部
120 第2の固定点処理部
121 粒界エネルギー(E)算出部
122 有効範囲設定部
123 障壁エネルギー設定部
124 追い越し判定部
125 第1の固定点処理部
200 表示装置
300 操作装置

【特許請求の範囲】
【請求項1】
金属材料における結晶及び当該金属材料に含まれる介在物の画像信号を取得する画像信号取得手段と、
前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の両端点に対応し、且つ当該結晶粒を含む3つの結晶粒と接する三重点と、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の中間点に対応し、且つ当該結晶粒を含む2つの結晶粒と接する二重点とが、前記画像信号に基づいて指定されると、その指定された三重点及び二重点の粒界点を設定する粒界点設定手段と、
前記粒界点設定手段により設定された粒界点であって、同一の粒界上で互いに隣接する2つの粒界点を両端点とするラインを設定するライン設定手段と、
前記画像信号に基づいて前記介在物が指定されると、その指定された介在物を設定する介在物設定手段と、
前記ライン設定手段により設定されたラインが前記介在物内を通る場合に、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第1のライン変更処理手段と、
前記第1のライン変更手段により変更処理が行われていないラインの移動前後における位置に基づいて、当該ラインが、前記介在物設定手段により設定された介在物を通り過ぎたか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段により、前記ラインが、前記介在物設定手段により設定された介在物を通り過ぎたと判定されると、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第2のライン変更手段と、
前記固定点が属する粒界における第1の粒界エネルギーと、当該固定点を固定位置から解放し、前記介在物内を除く領域の位置であって粒界エネルギーが最小となる平衡位置に移動させた際の粒界における第2の粒界エネルギーとを算出する粒界エネルギー算出手段と、
前記第2の粒界エネルギーが前記第1の粒界エネルギー未満である場合に、前記固定点を解除する処理を行う固定点処理手段と
を有することを特徴とする結晶粒解析装置。
【請求項2】
前記判定手段は、前記移動前後におけるラインの両端点に対応する4つの粒界点のうち、3つの粒界点により定まる三角形の中に、前記介在物設定手段により設定された介在物の中心が存在する場合に、前記第1のライン変更手段により変更処理が行われていないラインが、前記介在物設定手段により設定された介在物を通り過ぎたと判定することを特徴とする請求項1に記載の結晶粒解析装置。
【請求項3】
前記判定手段は、前記移動前後におけるラインの両端点に対応する粒界点のうち、移動後のラインの一方の端点に対応する粒界点と、移動前のラインの両端点に対応する粒界点とにより定まる三角形の中に、前記介在物設定手段により設定された介在物の中心が存在する場合に、前記第1のライン変更手段により変更処理が行われていないラインが、前記介在物設定手段により設定された介在物を通り過ぎたと判定することを特徴とする請求項2に記載の結晶粒解析装置。
【請求項4】
前記判定手段は、前記三角形の中に、前記介在物設定手段により設定された介在物の中心が存在しない場合には、前記4つの粒界点により定まる四角形から前記三角形を除いて得られる三角形の中に、前記介在物設定手段により設定された介在物の中心が存在する場合に、前記第1のライン変更手段により変更処理が行われていないラインが、前記介在物設定手段により設定された介在物を通り過ぎたと判定することを特徴とする請求項2又は3に記載の結晶粒解析装置。
【請求項5】
前記判定手段は、前記三角形の何れの中にも、前記介在物設定手段により設定された介在物の中心が存在しない場合には、前記第1のライン変更手段により変更処理が行われていないラインが、前記介在物設定手段により設定された介在物を通り過ぎていないと判定することを特徴とする請求項4に記載の結晶粒解析装置。
【請求項6】
前記第2のライン変更手段は、前記介在物内に固定点を発生させ、移動後のラインを消滅させ、前記移動後のラインの両端点に対応する粒界点と前記発生させた固定点とを端点とするラインを発生させることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の結晶粒解析装置。
【請求項7】
前記粒界エネルギー算出手段は、前記固定点が前記介在物から解放される際の、当該解放される固定点が属する粒界における第3の粒界エネルギーを更に算出し、
前記固定点処理手段は、前記第2の粒界エネルギーが前記第1の粒界エネルギー未満であり、且つ前記第1の粒界エネルギーと前記第3の粒界エネルギーとの差が閾値未満である場合に、前記固定点を解放する処理を行うことを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の結晶粒解析装置。
【請求項8】
前記固定点処理手段は、当該固定点を端点とする各ラインで画定される領域のうち、前記平衡位置が存在するライン間の領域における前記介在物の境界であって、当該ライン間のなす角度を二等分する線分との交点の位置に、前記固定点を移動させて解放する処理を行うことを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の結晶粒解析装置。
【請求項9】
前記固定点処理手段は、前記三重点である固定点を解除する際、当該固定点を端点とする各ラインで画定される領域のうち、前記平衡位置が存在するライン間の領域における前記介在物の境界であって、当該ライン間のなす角度を二等分する線分との交点の位置に、前記固定点を移動させて解放すると共に、当該移動させた固定点と結ばれる二重点を前記介在物の中に生成する処理を行うことを特徴とする請求項8に記載の結晶粒解析装置。
【請求項10】
前記粒界点設定手段により設定された粒界点で発生する駆動力を、その粒界点が属する粒界における単位長さ当たりの粒界エネルギーを用いて演算する駆動力演算手段と、
前記駆動力演算手段により演算された駆動力を用いて、前記粒界点の時間の経過に伴う位置の変化を演算する位置演算手段とを更に有することを特徴とする請求項1〜9の何れか1項に記載の結晶粒解析装置。
【請求項11】
前記粒界を介して相互に隣接する2つの結晶粒の方位の差分と、単位長さ当たりの粒界エネルギーとの関係を記憶する粒界エネルギー記憶手段と、
前記画像信号に含まれる結晶粒の方位を取得する方位取得手段と、
前記方位取得手段により取得された結晶粒の方位であって、前記粒界を介して相互に隣接する2つの結晶粒の方位の差分に対応する単位長さあたりの粒界エネルギーを、前記粒界エネルギー記憶手段により記憶された関係から求めて設定する粒界エネルギー設定手段とを有することを特徴とする請求項1〜10の何れか1項に記載の結晶粒解析装置。
【請求項12】
前記介在物は、時間の経過に伴う位置の変化をしないものであって、インヒビターであることを特徴とする請求項1〜11の何れか1項に記載の結晶粒解析装置。
【請求項13】
金属材料における結晶及び当該金属材料に含まれる介在物の画像信号を取得する画像信号取得ステップと、
前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の両端点に対応し、且つ当該結晶粒を含む3つの結晶粒と接する三重点と、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の中間点に対応し、且つ当該結晶粒を含む2つの結晶粒と接する二重点とが、前記画像信号に基づいて指定されると、その指定された三重点及び二重点の粒界点を設定する粒界点設定ステップと、
前記粒界点設定ステップにより設定された粒界点であって、同一の粒界上で互いに隣接する2つの粒界点を両端点とするラインを設定するライン設定ステップと、
前記画像信号に基づいて前記介在物が指定されると、その指定された介在物を設定する介在物設定ステップと、
前記ライン設定ステップにより設定されたラインが前記介在物内を通る場合に、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第1のライン変更処理ステップと、
前記第1のライン変更ステップにより変更処理が行われていないラインの移動前後における位置に基づいて、当該ラインが、前記介在物設定ステップにより設定された介在物を通り過ぎたか否かを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにより、前記ラインが、前記介在物設定ステップにより設定された介在物を通り過ぎたと判定されると、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第2のライン変更ステップと、
前記固定点が属する粒界における第1の粒界エネルギーと、当該固定点を固定位置から解放し、前記介在物内を除く領域の位置であって粒界エネルギーが最小となる平衡位置に移動させた際の粒界における第2の粒界エネルギーとを算出する粒界エネルギー算出ステップと、
前記第2の粒界エネルギーが前記第1の粒界エネルギー未満である場合に、前記固定点を解除する処理を行う固定点処理ステップと
を有することを特徴とする結晶粒解析方法。
【請求項14】
金属材料における結晶及び当該金属材料に含まれる介在物の画像信号を取得する画像信号取得ステップと、
前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の両端点に対応し、且つ当該結晶粒を含む3つの結晶粒と接する三重点と、前記結晶に含まれる結晶粒の粒界の中間点に対応し、且つ当該結晶粒を含む2つの結晶粒と接する二重点とが、前記画像信号に基づいて指定されると、その指定された三重点及び二重点の粒界点を設定する粒界点設定ステップと、
前記粒界点設定ステップにより設定された粒界点であって、同一の粒界上で互いに隣接する2つの粒界点を両端点とするラインを設定するライン設定ステップと、
前記画像信号に基づいて前記介在物が指定されると、その指定された介在物を設定する介在物設定ステップと、
前記ライン設定ステップにより設定されたラインが前記介在物内を通る場合に、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第1のライン変更処理ステップと、
前記第1のライン変更ステップにより変更処理が行われていないラインの移動前後における位置に基づいて、当該ラインが、前記介在物設定ステップにより設定された介在物を通り過ぎたか否かを判定する判定ステップと、
前記判定ステップにより、前記ラインが、前記介在物設定ステップにより設定された介在物を通り過ぎたと判定されると、当該介在物内に固定点を発生させ、当該固定点を端点とするラインの変更処理を行う第2のライン変更ステップと、
前記固定点が属する粒界における第1の粒界エネルギーと、当該固定点を固定位置から解放し、前記介在物内を除く領域の位置であって粒界エネルギーが最小となる平衡位置に移動させた際の粒界における第2の粒界エネルギーとを算出する粒界エネルギー算出ステップと、
前記第2の粒界エネルギーが前記第1の粒界エネルギー未満である場合に、前記固定点を解除する処理を行う固定点処理ステップと
をコンピュータに実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【図13】
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【図14】
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【図15−1】
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【図15−2】
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【図15−3】
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【図15−4】
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【図16】
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【図17】
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【図18】
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【図19】
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【公開番号】特開2010−91536(P2010−91536A)
【公開日】平成22年4月22日(2010.4.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−264562(P2008−264562)
【出願日】平成20年10月10日(2008.10.10)
【出願人】(000006655)新日本製鐵株式会社 (6,474)
【Fターム(参考)】