説明

絶縁ワニス

【課題】保管時や使用時に顔料を初めとする無機充填剤が沈降しにくく、貯蔵安定性、作業性に優れると共に、含浸むらや色むらの発生が抑制され、信頼性に優れる電気・電子部品を得ることのできる絶縁ワニスを提供すること。
【解決手段】(A)不飽和ポリエステル樹脂、(B)直鎖アルコール、(C)顔料、(D)シリカ粉、および(E)アルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分として含有する絶縁ワニス。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、不飽和ポリエステル樹脂を主成分とする絶縁ワニスに係り、特に自動車、車両、または産業用機器等の電気機器等における電気・電子部品の電気絶縁用途に好適に用いられる有色の絶縁ワニスに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、電気・電子部品、例えばトランス、ステータ等におけるコイルの絶縁を目的として絶縁ワニスが用いられている。このような絶縁ワニスとしては、電気絶縁性、耐候性、信頼性、耐食性、耐水性等に優れることから、ポリエステル系、エポキシ系、ポリアミドイミド系等の熱硬化性樹脂を主体とする絶縁ワニスが用いられている。また、このような絶縁ワニスに対して、さらに信頼性や遮蔽性を向上させるために、顔料を初めとする無機充填剤を含有させたものも用いられるようになっている。
【0003】
しかしながら、顔料等の無機充填剤を含有させた場合、樹脂成分に比べて無機充填剤の比重が大きいために、保管時や使用時に無機充填剤が沈降しやすく、コイルに含浸させた場合に含浸むらが発生しやすく、また塗膜に色むら等が発生しやすくなっている。
【0004】
このような顔料等の無機充填剤の沈降による含浸むらや色むらを抑制する方法として、例えば樹脂成分に無機充填剤を短時間で分散させることができると共に、この分散させた無機充填剤を長時間に渡って沈降させることなく安定して分散させることのできる分散剤を用いる方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。また、例えば微細なシリカを必須成分として含有させると共に、比較的少量の水分を必須成分として含有させることで、顔料等の無機充填剤の分散安定性を向上させる方法が知られている(例えば、特許文献2参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2000−262833号公報
【特許文献2】特開2006−291126号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、微細なシリカを含有させた場合、絶縁ワニスの粘度が高くなり、コイルへの含浸性が低下すると共に、ボイド等が発生するおそれがある。また、絶縁ワニスに水分を含有させた場合、絶縁ワニスの硬化が不十分となり、コイルの耐熱性や信頼性が低下するおそれがある。さらに、従来の絶縁ワニスについては、仮に無機充填剤の沈降を抑制することができたとしても、比較的短時間に絶縁ワニスの粘度が変化し、貯蔵安定性に優れないものとなるおそれがある。
【0007】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、保管時や使用時における顔料等の無機充填剤の沈降や粘度変化が抑制され、貯蔵安定性、作業性に優れると共に、含浸むらや色むらの発生が抑制され、信頼性に優れる電気・電子部品を得ることのできる絶縁ワニスを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特にアルキルナフタレンスルホン酸塩と直鎖アルコールとを併用することで、保管時や使用時における顔料等の無機充填剤の沈降や粘度変化が抑制され、貯蔵安定性、作業性に優れると共に、含浸むらや色むらの発生が抑制され、信頼性に優れる電気・電子部品を得ることのできる絶縁ワニスを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。
【0009】
すなわち、本発明の絶縁ワニスは、(A)不飽和ポリエステル樹脂、(B)直鎖アルコール、(C)顔料、(D)シリカ粉、および(E)アルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分として含有することを特徴とする。
【0010】
前記(B)直鎖アルコールは、低級の直鎖アルコールであることが好ましく、前記絶縁ワニス全体中、0.1質量%以上10質量%以下含有されていることが好ましい。前記(C)顔料は、酸化鉄および黒色酸化チタンからなることが好ましく、前記黒色酸化チタンは、前記(C)顔料の合計量中、10質量%以上60質量%以下含有されていることが好ましい。
【0011】
前記(D)シリカ粉は、体積平均粒径が0.02μm以上30μm以下であることが好ましい。また、前記(E)アルキルナフタレンスルホン酸塩は、ジノニルナフタレンジスルホン酸ナトリウム塩であることが好ましい。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、特にアルキルナフタレンスルホン酸塩と直鎖アルコールとを併用することで、保管時や使用時における顔料等の無機充填剤の沈降や粘度変化が抑制され、貯蔵安定性、作業性に優れると共に、含浸むらや色むらの発生が抑制され、信頼性に優れる電気・電子部品を得ることのできる絶縁ワニスを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
本発明の絶縁ワニスは、(A)不飽和ポリエステル樹脂、(B)直鎖アルコール、(C)顔料、(D)シリカ粉、および(E)アルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分として含有することを特徴とする。
【0014】
(A)成分の不飽和ポリエステル樹脂は、少なくとも不飽和二塩基酸を含む酸成分と、1以上の水酸基を有するアルコール成分とを反応させて得られるものである。
【0015】
不飽和ポリエステル樹脂の製造に用いられる酸成分としては、例えばアジピン酸等の脂肪族飽和二塩基酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の脂肪族不飽和二塩基酸またはこれらの無水物、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族二塩基酸またはこれらの無水物、テトラヒドロフタル酸や同無水物の脂環式不飽和二塩基酸、ヘキサヒドロフタル酸や同無水物の脂環式飽和二塩基酸が挙げられる。これらの酸成分については、不飽和二塩基酸を必須成分とし、必要に応じて他の酸成分を併用することが好ましく、例えば脂肪族不飽和二塩基酸や芳香族二塩基酸を主成分とし、必要に応じて脂肪族飽和二塩基酸や脂環式二塩基酸を併用することが好ましい。
【0016】
また、酸成分としては、上記した二塩基酸に加えて一塩基酸を用いることもできる。一塩基酸としては、例えば大豆油脂肪酸、亜麻仁油脂肪酸、ヤシ油脂肪酸、トール油脂肪酸、米ぬか脂肪酸等が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。
【0017】
また、1以上の水酸基を有するアルコール成分としては、例えばプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,6−シクロヘキサンジメタノール、グリセリンモノアリルエーテル、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル、ペンタエリスリトールジアリルエーテル等の二価アルコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリス−2−ヒドロキシエチルイソシアヌレート等の三価以上のアルコールが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。
【0018】
不飽和ポリエステル樹脂は、公知の製造方法を適用して製造することができる。例えば上記したような少なくとも不飽和二塩基酸を含む酸成分と、1以上の水酸基を有するアルコール成分とを縮合反応させ、両成分が反応するときに生じる縮合水を系外に除きながら反応を進めることで製造することができる。この際、酸成分とアルコール成分とは、酸成分のカルボキシル基とアルコール成分の水酸基とのモル比(COOH基/OH基)が約1/1となるようにして反応させることが好ましい。
【0019】
縮合水の系外への除去は、好ましくは不活性気体を通じることによる自然留出または減圧留出により行われる。縮合水の留出を促進するため、トルエン、キシレン等の溶剤を共沸成分として系中に添加することもできる。反応の進行は、一般に反応により生成する留出分量の測定、末端の官能基の定量、反応系の粘度の測定等により知ることができる。
【0020】
合成反応を行うための反応温度は150〜200℃とすることが好ましい。このことから、反応装置として、ガラス、ステンレス製等のものが選ばれ、攪拌装置、水とアルコール成分の共沸によるアルコール成分の留出を防ぐための分留装置、反応系の温度を高める加熱装置、この加熱装置の温度制御装置等を備える反応装置を用いることが好ましい。また、縮合反応を行うための反応装置内圧力は常圧でも全く問題なく反応を進めることができるが、好ましくは加圧し、アルコール成分の沸点を上げることで、反応を効果的に促進することができる。
【0021】
(B)成分の直鎖アルコールは、(E)成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩の添加に伴う絶縁ワニスの貯蔵安定性の低下を抑制するために加えられるものであって、(E)成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩と併用することで、絶縁ワニスにおける(C)成分の顔料等の沈降を抑制しつつ、貯蔵安定性にも優れるものとすることができる。
【0022】
この直鎖アルコールとしては、低級の直鎖アルコールが好ましく、例えばメタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール等の炭素数1以上6以下の直鎖アルコールが好適に用いられる。この中でも、絶縁ワニスの貯蔵安定性を効果的に向上させる観点から、特に極性の強い直鎖アルコールであるメタノールが好適に用いられる。
【0023】
直鎖アルコールの含有量は、絶縁ワニス全体中、0.1質量%以上10質量%以下とすることが好ましい。絶縁ワニス全体における直鎖アルコールの含有量が0.1質量%未満であると、絶縁ワニスの貯蔵安定性を十分に向上させることができないおそれがあり、10質量%もあれば絶縁ワニスの貯蔵安定性を十分に向上させることができ、これを超えるとかえって絶縁ワニスを含浸させてコイルを作製したときに、ボイドとして残りやすくなる。
【0024】
(C)成分の顔料は、遮蔽性等の観点から加えられるものであり、例えば白色顔料(二酸化チタン、アルミナ、クレー、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム)、黒色顔料(酸化亜鉛、酸化クロム、黒色酸化チタン)、赤色顔料(酸化鉄、カドニウムレッド)、青色顔料(コバルトブルー、群青)、黄色顔料(カドニウムイエロー、硫化亜鉛)等が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。
【0025】
これらの中でも遮蔽性等の観点から、酸化鉄および酸化チタンの中から選ばれる少なくとも一方を用いることが好ましく、特に酸化鉄および酸化チタンの両方を用いることが好ましい。また、酸化チタンとしては、特に黒色酸化チタンを用いることが好ましい。このような酸化鉄、酸化チタンとしては市販されているものを好適に用いることができ、例えば黒色酸化チタン(赤穂化成社製、ティラックD TM−F)、酸化チタン/酸化鉄混合物(チタン工業社製、ETB−300)、酸化鉄(ランクロス社製、バイフェロックス130M)等を好適に使用することができる。
【0026】
酸化鉄および酸化チタンの両方を含有させる場合、遮蔽性の他、絶縁ワニスの粘度を適切なものとし、また貯蔵安定性を良好なものとする観点等から、酸化鉄および酸化チタン(特に黒色酸化チタン)の合計量中、酸化チタンの含有量を10質量%以上60質量%以下とすることが好ましい。酸化チタンの含有量が上記範囲外の場合、範囲内のものと比較して、遮蔽性が低下し、また絶縁ワニスの貯蔵安定性や粘度が低下するおそれがある。
【0027】
顔料は、体積平均粒径が0.1μm以上50μm以下であることが好ましく、0.5μm以上30μm以下であることが好ましい。顔料の体積平均粒径が0.1μm未満の場合、絶縁ワニスの粘度が高くなり、コイルへの含浸性が十分でなくなるおそれがあり、50μmを超える場合、絶縁ワニス中での分散安定性が十分でなくなるおそれがある。なお、顔料の体積平均粒径は、例えばSKレーザー粒度分布測定機(セイシン企業社製)を用いて測定されるものであり、具体的には分散媒(イオン交換水)100gに顔料を50〜100mg加え、超音波を60秒間照射して顔料を分散させた後、SKレーザー粒度分布測定機を用いて測定する。
【0028】
また顔料の含有量は、必ずしも限定されるものではないものの、例えば絶縁ワニス全体中、0.1質量%以上20質量%以下が好ましく、1質量%以上10質量%以下がより好ましい。絶縁ワニス全体における顔料の含有量が0.1質量%未満の場合、遮蔽性等が十分でなくなるおそれがあり、また20質量%程度もあれば遮蔽性等を十分なものとすることができ、これを超えるとかえって絶縁ワニスの粘度が高くなりすぎ、コイルへの含浸性等が低下するおそれがある。
【0029】
(D)成分のシリカ粉としては、例えば合成シリカ(湿式法沈殿シリカ、ゲル状シリカ、コロイダルシリカ、および超微粒子状無水シリカ等)、天然シリカ(結晶シリカ、粉砕溶融シリカ、および球状溶融シリカ等)が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができるが、硬化物の強度、製品価格等の観点から、結晶シリカが好適に用いられる。
【0030】
シリカ粉は、体積平均粒径が0.02μm以上30μm以下であることが好ましく、0.1μm以上15μm以下であることがより好ましい。シリカ粉の体積平均粒径が0.02μm未満の場合、絶縁ワニスの粘度が高くなり、コイルへの含浸性が十分でなくなるおそれがあり、30μmを超える場合、絶縁ワニス中での分散安定性が十分でなくなるおそれがある。
【0031】
なお、シリカ粉の体積平均粒径についても、例えばSKレーザー粒度分布測定機(セイシン企業社製)を用いて測定することができ、具体的には分散媒(イオン交換水)100gにシリカ粉を50〜100mg加え、超音波を60秒間照射してシリカ粉を分散させた後、SKレーザー粒度分布測定機を用いて測定する。
【0032】
シリカ粉の含有量は、必ずしも限定されるものではないものの、例えば絶縁ワニス全体中、1質量%以上50質量%以下が好ましく、5質量%以上20質量%以下が好ましい。シリカ粉の含有量が5質量%未満の場合、(C)成分の顔料等の分散安定性を向上させてその沈降を抑制する効果が少なく、また50質量%程度もあれば(C)成分の顔料等の分散安定性を向上させてその沈降を抑制するには十分であり、これを超えるとかえって絶縁ワニスの粘度が高くなりすぎ、コイルへの含浸性等が低下するおそれがある。
【0033】
(E)成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩は、分散剤あるいは沈降防止剤として含有されるものであり、(C)成分の顔料等を絶縁ワニス中に適切に分散させると共に、その沈降を抑制するために含有されている。このアルキルナフタレンスルホン酸塩は、(C)成分の顔料等に+(正)の電化を与えることによって、絶縁ワニス中における沈降を抑制することができる。
【0034】
アルキルナフタレンスルホン酸塩としては、具体的には炭素数が12〜16のアルキル基を1〜2個有し、またスルホン酸基を1〜3個有するアルキルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、カルシウム塩、カリウム塩が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができるが、これらの中でもナトリウム塩が好適に用いられ、特にジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩が好適に用いられる。
【0035】
このようなものとしては、市販されているものを用いることができ、例えば直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のカルシウム塩としてNACORR1352(KING社製)が挙げられ、また直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩としてNACORR155(KING社製)が挙げられ、上記したようにこれらの中でも直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩であるNACORR155(KING社製)が好適に用いられる。
【0036】
アルキルナフタレンスルホン酸塩の含有量は、例えば絶縁ワニス全体中、0.05質量%以上10質量%以下が好ましく、0.5質量%以上5質量%以下がより好ましい。絶縁ワニス全体におけるアルキルナフタレンスルホン酸塩の含有量が0.05質量%未満の場合、絶縁ワニス中における(C)成分の顔料等の沈降を十分に抑制することができないおそれがあり、10質量%もあれば絶縁ワニス中における(C)成分の顔料等の沈降を十分に抑制でき、これを超えると絶縁ワニスの貯蔵安定性の低下が著しくなり、上記したように(B)成分の直鎖アルコールを併用したとしても十分な貯蔵安定性を得ることができないおそれがあるために好ましくない。
【0037】
本発明の絶縁ワニスは、上記した(A)成分の不飽和ポリエステル樹脂、(B)成分の直鎖アルコール、(C)成分の顔料、(D)成分のシリカ粉、および(E)成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分とするが、これらの成分に加えて、必要に応じて、かつ本発明の目的に反しない限度において、その他の成分、例えば反応性モノマー、硬化剤、硬化促進剤、重合禁止剤、レベリング剤、着色剤等を含有することが好ましい。
【0038】
反応性モノマーとしては、不飽和基を1分子中に1個以上有するモノマーであれば特に制限されるものではなく、例えばスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、芳香族系アクリルモノマー、アルキル(メタ)アクリレート誘導体、およびポリアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート誘導体等が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。反応性モノマーの含有量は、例えば(A)成分の不飽和ポリエステル樹脂100質量部に対して、10質量部以上200質量部以下とすることが好ましい。
【0039】
硬化剤としては、有機過酸化物、例えばハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、アシルパーオキサイド、およびクメンパーオキサイド、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキサン等のパーオキシケタール、t−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル等、さらにはいわゆる常温硬化型の有機過酸化物、例えばメチルエチルケトンパーオキサイド等が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。硬化剤の含有量は、例えば(A)成分の不飽和ポリエステル樹脂および反応性モノマーの合計量100質量部に対して、10質量部以下とすることが好ましい。
【0040】
硬化促進剤としては、金属石鹸、例えばナフテン酸コバルト、オクチル酸コバルト、ナフテン酸銅、オクチル酸銅、ナフテン酸マンガン、オクチル酸マンガン等のナフテン酸またはオクチル酸等の金属塩が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。硬化促進剤の含有量は、例えば(A)成分の不飽和ポリエステル樹脂および反応性モノマーの合計量100質量部に対して、10質量部以下とすることが好ましい。
【0041】
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、メトキノン、p−t−ブチルカテコール、ピロガロール等のキノン類が挙げられ、これらは単独または2種以上混合して用いることができる。重合禁止剤の含有量は、絶縁ワニスの貯蔵安定性、硬化温度、硬化時間により適宜決定することができるが、例えば絶縁ワニス全体中、0.001質量%以上0.1質量%以下が好ましい。
【0042】
本発明の絶縁ワニスは、その成分が異なる以外は公知の絶縁ワニスと同様の製造方法によって製造することができ、例えば必須成分である(A)成分の不飽和ポリエステル樹脂、(B)成分の直鎖アルコール、(C)成分の顔料、(D)成分のシリカ粉、および(E)成分のアルキルナフタレンスルホン酸塩に加えて、必要に応じて加えられる他の成分を配合した後、均一になるまで十分に撹拌混合することにより製造することができる。
【0043】
このような本発明の絶縁ワニスは、自動車、車両、または産業用機器等の電気機器等における電気・電子部品、例えばトランス、ステータ等におけるコイルの絶縁に好適に用いることができる。本発明の絶縁ワニスを用いたコイルの製造は、従来の絶縁ワニスと同様に浸漬含浸、滴下含浸等により行うことができ、例えば未含浸のコイルに対して浸漬含浸あるいは滴下含浸により本発明の絶縁ワニスを含浸させた後、100〜200℃の温度で1〜3時間の加熱処理を行うことにより該絶縁ワニスを硬化させることにより行うことができる。
【0044】
本発明の絶縁ワニスは、保管時や使用時における顔料等の沈降や粘度変化が抑制されるために貯蔵安定性、作業性に優れ、また含浸むらや色むらの発生も抑制されるために、コイル部品を初めとする電気・電子部品の製造に用いることで、信頼性に優れる電気・電子部品を効率的に製造することができる。
【実施例】
【0045】
(実施例1)
フラスコ中にテトラヒドロフタル酸(丸善石油化学化学社製)12g、イソフタル酸(エイ ジェイ インターナショナルケミカル)26g、無水マレイン酸(三井化学社製)17g、プロピレングリコール(旭電化工業社製)44g、亜麻仁油脂肪酸(日本油脂社製)5g、トリス−2−ヒドロキシエチルイソシアヌレート(日産化学工業社製)15g、ハイドロキノン(精工化学社製)0.01gを加え、180〜220℃で反応させ、酸価10mgKOH/gの不飽和ポリエステル樹脂を製造した。
【0046】
そして、この不飽和ポリエステル樹脂にスチレン(東ソー社製)60gを加え、硬化性樹脂を製造した。さらに、この硬化性樹脂に、結晶シリカ(龍森社製、クリスタライト5X、体積平均粒径1μm)20g、顔料として酸化チタン/酸化鉄混合物(チタン工業社製、ETB−300、酸化チタンの含有量10質量%)5g、沈降防止剤として直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩(KING社製、NACORR155)2g、直鎖アルコールとしてメタノール(日本アルコール販売社製)1gを加え、均一になるまで攪拌混合し、不飽和ポリエステル樹脂組成物である絶縁ワニスを得た。
【0047】
(実施例2)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、直鎖アルコールとしてメタノールの代わりにノルマルプロピルアルコール(日本アルコール販売社製)を用いて絶縁ワニスを製造した。
【0048】
(実施例3)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、顔料として酸化チタン/酸化鉄混合物の代わりに酸化鉄(ランクロス社製、バイフェロックス130M)を用いて絶縁ワニスを製造した。
【0049】
(実施例4)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、顔料として酸化チタン/酸化鉄混合物の代わりに黒色酸化チタン(赤穂化成社製、ティラックD TM−F)を用いて絶縁ワニスを製造した。
【0050】
(実施例5)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、沈降防止剤として直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩の代わりに直鎖型ジノニルナフタレンジスルホン酸のカルシウム塩(KING社製、NACORR1352)を用いて絶縁ワニスを製造した。
【0051】
(実施例6)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、結晶シリカとして体積平均粒径が1μmのものの代わりに3μmのもの(龍森社製、クリスタライトVX−SR)を用いて絶縁ワニスを製造した。
【0052】
(比較例1)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩を含有させずに絶縁ワニスを製造した。
【0053】
(比較例2)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、直鎖アルコールとしてのメタノールを含有させずに絶縁ワニスを製造した。
【0054】
(比較例3)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、直鎖アルコールとしてのメタノールの代わりに非直鎖アルコールであるイソプロパノール(日本アルコール販売)を用いて絶縁ワニスを製造した。
【0055】
(比較例4)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、顔料として酸化チタン/酸化鉄混合物の代わりに酸化鉄(ランクロス社製、バイフェロックス130M)を用い、また沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩および直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【0056】
(比較例5)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、顔料として酸化チタン/酸化鉄混合物の代わりに黒色酸化チタン(赤穂化成社製、ティラックD TM−F)を用い、また沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩および直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【0057】
(比較例6)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、顔料として表面処理されていない酸化チタン/酸化鉄混合物をそのまま用いる代わりに同様の酸化チタン/酸化鉄混合物を表面処理剤としてのγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー社製、A−187)により表面処理したものを用い、また沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩および直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【0058】
(比較例7)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩の代わりに有機系沈降防止剤(伊藤製油社製、D−10A)を用い、また直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【0059】
(比較例8)
実施例1の絶縁ワニスの製造において、沈降防止剤としてのジノニルナフタレンジスルホン酸のナトリウム塩の代わりにエアロジル(日本アエロジル社製)を用い、また直鎖アルコールとしてのメタノールを用いずに絶縁ワニスを製造した。
【0060】
なお、実施例1〜6、比較例1〜8の絶縁ワニスの組成を表1にまとめて示す。なお、表1中の組成を表す数値は質量部を単位として示した。
【0061】
次に、製造した実施例、比較例の絶縁ワニスおよびその硬化物について以下の評価を行った。結果を表1に示す。
【0062】
(沈降性)
500ml缶に実施例および比較例の絶縁ワニス400gを入れて60℃で静置し、缶底に堆積物が生じるまでの日数を目視により観察した。
(粘度)
実施例および比較例の絶縁ワニスについてB型粘度計を使用して25℃での粘度を測定した。
(貯蔵安定性)
実施例および比較例の絶縁ワニスを60℃で静置し、粘度が初期値の90%になるまでの日数を測定した。
【0063】
(熱伝導率)
実施例および比較例の絶縁ワニスを注形板に注いで硬化させた厚さ1mmの硬化物について、レーザーフラッシュ法により熱伝導率を測定した。
(曲げ強度)
上記熱伝導率の測定に用いたものと同様のサンプルについて、JIS C 2105に準拠して測定を行った。
(外観)
上記熱伝導率の測定に用いたものと同様のサンプルについて、目視により外観の色を観察した。
【0064】
(含浸性)
ステータコアにボビンを介して絶縁被覆を有するステータ巻線を巻線加工し、ステータ巻線付きのステータコアを製造した。なお、絶縁被覆を有するステータ巻線は、直径が0.8mmのものを用い、ステータコアのスロット内の占積率が70%となるように調整した。なお、ステータ巻線付きのステータコアの重さは20kgであった。
【0065】
このステータ巻線付きのステータコアに実施例および比較例の絶縁ワニスを含浸、硬化させた後、コアを切断して含浸性を評価した。結果は、95%以上含浸されているものを「○」、90%以上95%未満含浸されているものを「△」、90%未満含浸されているものを「×」でそれぞれ示した。
【0066】
【表1】

【0067】
表1から明らかなように、アルキルナフタレンスルホン酸塩および直鎖アルコールの双方を含有する実施例の絶縁ワニスについては、沈降が有効に抑制されると共に、粘度変化が少なく貯蔵安定性に優れており、また含浸性や硬化物としたときの特性についても良好であることが認められた。
【0068】
また、アルキルナフタレンスルホン酸塩および直鎖アルコールの双方または一方を含有しない比較例の絶縁ワニスについては全体的に沈降しやすく、特にアルキルナフタレンスルホン酸塩のみを含有し、直鎖アルコールを含有しない絶縁ワニスについては極端に貯蔵安定性が低下することが認められる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
(A)不飽和ポリエステル樹脂、(B)直鎖アルコール、(C)顔料、(D)シリカ粉、および(E)アルキルナフタレンスルホン酸塩を必須成分として含有することを特徴とする絶縁ワニス。
【請求項2】
請求項1の絶縁ワニスにおいて、
前記(B)直鎖アルコールは、低級の直鎖アルコールであり、前記絶縁ワニス全体中、0.1質量%以上10質量%以下含有されていることを特徴とする絶縁ワニス。
【請求項3】
請求項1または2記載の絶縁ワニスにおいて、
前記(C)顔料は、酸化鉄および黒色酸化チタンからなり、前記黒色酸化チタンは、前記(C)顔料の合計量中、10質量%以上60質量%以下含有されていることを特徴とする絶縁ワニス。
【請求項4】
請求項1ないし3のいずれか1項記載の絶縁ワニスにおいて、
前記(D)シリカ粉は、体積平均粒径が0.02μm以上30μm以下であることを特徴とする絶縁ワニス。
【請求項5】
請求項1ないし4のいずれか1項記載の絶縁ワニスであって、
前記(E)アルキルナフタレンスルホン酸塩は、ジノニルナフタレンジスルホン酸ナトリウム塩であることを特徴とする絶縁ワニス。

【公開番号】特開2010−229355(P2010−229355A)
【公開日】平成22年10月14日(2010.10.14)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−80361(P2009−80361)
【出願日】平成21年3月27日(2009.3.27)
【出願人】(390022415)京セラケミカル株式会社 (424)
【Fターム(参考)】