美容装置
【課題】放電極の経年劣化を抑制してイオン放出を長期に亘り良好に行うことができるイオン発生装置搭載の美容装置を提供する。
【解決手段】イオン生成部３３（イオン放電部６１）における針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切り部材としても機能する弾性装着部材６６にて仕切られる構造とした。
【解決手段】イオン生成部３３（イオン放電部６１）における針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切り部材としても機能する弾性装着部材６６にて仕切られる構造とした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イオン放出用の放電極への高電圧印加に基づいて放電を生じさせてイオンを発生させるイオン発生装置を備えた美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種のイオン発生装置は、例えば特許文献１や特許文献２にて示されているように、イオン放出用の針電極と、グランドに接続された対向電極とを有し、針電極へのマイナスの高電圧印加に基づいて両電極間にコロナ放電を生じさせ、該放電に基づいてマイナスイオンを発生させている。因みに、特許文献１はそのイオン発生装置を備えるヘアードライヤーが示され、特許文献２はそのイオン発生装置を備えるスチーム式美顔器が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１９１４２６号公報
【特許文献２】特開２００４−２４８９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１のヘアードライヤーにおいて、イオン放出用の針電極周りの空間とドライヤー本体内の空間とが仕切られておらず、また特許文献２のスチーム式美顔器においても、針電極周りの空間と美顔器本体内の空間とが仕切られていない。
【０００５】
そのため、これらドライヤー本体や美顔器本体では、温風の生成やスチームの生成のために加熱装置を内装していることから、本体内にシリコンが含有されている部材が使用されている場合、そのシリコン素材を使用した部材がその加熱を受けて本体内の空間に浮遊シリコンが生じ、この浮遊シリコンが針電極に付着するとコロナ放電の妨げとなりマイナスイオンの発生量を減少させてしまう。また、本体内部にシリコン素材が使用されていない場合においても、本体内部の熱が外部に逃げる際にその空気の流れによって本体内部に存在する埃が移動し、針電極に付着することによりコロナ放電の妨げとなりマイナスイオンの発生量を減少させてしまう。従って、イオン放出を長期に亘り良好に行うべく、このようなイオン放出用の針電極（放電極）の経年劣化の抑制が望まれている。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、放電極の経年劣化を抑制してイオン放出を長期に亘り良好に行うことができるイオン発生装置搭載の美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、高電圧印加に基づき放電極にて放電を生じさせイオンを発生させるイオン発生装置を備えた美容装置であって、前記イオン発生装置における前記放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切り部材にて仕切られてなることをその要旨とする。
【０００８】
この発明では、イオン発生装置における放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切り部材にて仕切られることから、美容装置本体内の加熱装置とシリコン素材を使用した部材とで生じる浮遊シリコンや埃等の異物がその本体側から放電極周りの空間に侵入することが防止され、経年劣化の進行を早める放電極への異物の付着が未然に防止される。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の美容装置において、前記仕切り部材は、前記放電極の先端よりも後方側に配置されていることをその要旨とする。
この発明では、仕切り部材は放電極の先端よりも後方側に配置されることから、イオンが放出される放電極の先端側の構造を簡素に構成でき、外部へのイオン放出を極力妨げない構成が可能となる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の美容装置において、前記仕切り部材は、他部材との当接部分が少なくとも弾性材料よりなることをその要旨とする。
この発明では、仕切り部材は他部材との当接部分が少なくとも弾性材料よりなるため、その弾性部分による密着にて両空間の密閉状態が高くなり、美容装置本体内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物の放電極側空間への侵入がより確実に防止される。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の美容装置において、前記仕切り部材は、１つの部品よりなり、全体が弾性材料にて構成されていることをその要旨とする。
この発明では、仕切り部材は１つの部品よりなるその全体が弾性材料にて構成されることから、仕切り部材を単一の材料にて容易に形成可能である。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の美容装置において、前記イオン発生装置は、前記放電極への電圧印加のためのリード線を備えるものであり、該リード線は、全体が弾性材料よりなる前記仕切り部材にて弾性保持されていることをその要旨とする。
【００１３】
この発明では、イオン発生装置のリード線は、全体が弾性材料よりなる仕切り部材にて弾性保持されることから、リード線部分での両空間の密閉状態が高くなり、このリード線部分においても美容装置本体内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物の放電極側空間への侵入がより確実に防止される。また、リード線の保持及びリード線部分の密閉を図る部材を仕切り部材と兼用することで、部品点数の増加が抑えられる。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか１項に記載の美容装置において、前記イオン発生装置は、ユニット化された状態で前記美容装置本体への装着が図られるものであり、前記仕切り部材は、そのユニット化された前記イオン発生装置側に一体に備えられていることをその要旨とする。
【００１５】
この発明では、仕切り部材は、ユニット化されたイオン発生装置側に一体に備えられ、イオン発生装置の美容装置本体への装着と同時に放電極側の空間と美容装置本体側の空間との仕切りがなされるため、その仕切り構造を容易に構築できる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、放電極の経年劣化を抑制してイオン放出を長期に亘り良好に行うことができるイオン発生装置搭載の美容装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態における美顔器を示す斜視図である。
【図２】同美顔器を前後方向で切断し右側から見た断面図である。
【図３】同美顔器を左右方向で切断し背面側から見た断面図である。
【図４】同美顔器のマイナスイオン生成部部分の拡大断面図である。
【図５】同美顔器の機能の概略構成を示すブロック図である。
【図６】同美顔器のマイナスイオン生成回路を示す回路図である。
【図７】同美顔器のマイナスイオン生成部の特性を説明するための測定図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１は、本実施形態のイオン発生装置を備える美容装置としての美顔器１０を示す。有底略円筒状の本体ケース１１には美顔器本体１２が収容されて固定され、その本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００１９】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル２１，２２、冷ミストを放出するミストノズル２３、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル２４を有し、ミストノズル２３が左右方向中央位置に、スチームノズル２１，２２がその左右両側に、イオンノズル２４がミストノズル２３の上側にそれぞれ配置されている。スチームノズル２１，２２、ミストノズル２３、及びイオンノズル２４の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定され、美顔器１０の前側と使用者と対向するように使用した時のその使用者の顔表面に向けて放出方向が向くように設定されている。尚、ノズル部１３は傾動調整可能な構成となっており、各ノズル２１〜２４の放出角度の一体的な調整が可能である。また、このノズル部１３にもノズルカバー１６が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル２１〜２４の露出・隠蔽が可能とされている。
【００２０】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２５、運転制御スイッチ２６、及びコース選択スイッチ２７が設けられている。電源スイッチ２５は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものであり、運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースやスチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００２１】
また、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンク収容部１７が設けられており、該タンク収容部１７内には、開口部と面一となるように給水タンク１８が着脱可能に収容されている。給水タンク１８は、使用者が美顔器１０から取り外しての給水が可能となっており、貯留した水からスチームや冷ミストのそれぞれの生成が行われる。
【００２２】
美顔器本体１２には、図２に示すように、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びマイナスイオン生成部３３が備えられている。
スチーム生成部３１は、美顔器本体１２の前側に備えられており、スチーム（温ミスト）を生成する。スチーム生成部３１は、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有するＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒータ３５，３６を前側と後側にそれぞれ備え、給水タンク１８から給水管路１９を介してＰＴＣヒータ３５，３６内側のボイラ室３７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。因みに、前側のＰＴＣヒータ３５の外側面には、給水タンク１８から延びる給水管路１９の一部が当接させて配置されており、ボイラ室３７への流入の前に温められ該ボイラ室３７内で効率良くスチームが生成されるようになっている。尚、給水管路１９は、排水管路３８（図５参照）を介して美顔器１０の排水口３８ａに接続されており、排水スイッチの操作によって制御される排水管路３８上の止水弁３９にて美顔器１０内の排水を行うことが可能となっている。
【００２３】
ボイラ室３７の上部には、図２及び図３に示すように、生成したスチームを一対のスチームノズル２１，２２まで案内させるためのスチーム案内管路４１が接続されている。スチーム案内管路４１は、途中に分岐部４２を有しその分岐部４２から各スチームノズル２１，２２に向けて等距離で二股に分かれ、ボイラ室３７にて生成したスチームを各スチームノズル２１，２２までそれぞれ案内する。そして、ボイラ室３７やスチーム案内管路４１内は高圧となるため、各スチームノズル２１，２２の放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。
【００２４】
また、スチーム案内管路４１の分岐部４２の若干手前位置には、放電電極４３ａを有するスチーム用放電部４３が備えられている。スチーム用放電部４３は、自身の放電により、該放電部４３を通過するスチームをより微細化するものである。また、このスチーム用放電部４３では、抗酸化作用があり肌に良いとされる金属（例えば白金）を用い、放電を利用してその金属微粒子を発生させることも行っており、スチームの微細化と金属微粒子の含有とが行われている。スチーム用放電部４３の下流側で分岐部４２の直前位置には、該放電部４３にて微細化したスチームを分岐部４２から先の各スチームノズル２１，２２に同量が分岐するように整流する整流部４４が備えられている（図３及び図５参照）。
【００２５】
ミスト生成部３２は、前記スチーム生成部３１よりも後側に備えられており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。給水タンク１８から延びる給水管路１９内の水は前記スチーム生成として利用される他に冷ミストとしても利用され、その給水管路１９からの水の一部をミストノズル２３まで送水する送水管路５１が備えられている。送水管路５１の一部は、後側のＰＴＣヒータ３６の放熱面（垂直面）３６ａの平面方向に蛇行して該放熱面３６ａに当接させて配置されており、前記スチーム生成時の後側のＰＴＣヒータ３６の加熱で送水管路５１内の冷ミスト用の水の殺菌をも行われるようになっている。尚、送水管路５１のミストノズル２３の直前位置にはその管内にフィルタ５２が装着され、通過する水の除塵等が行われている。
【００２６】
また、ミスト生成部３２として、美顔器本体１２内には空気圧送路５３が設けられており、該空気圧送路５３内には電動モータを駆動源としたポンプ５４の動作により空気の圧送が行われる。この圧送空気はミストノズル２３の放出孔に向けて供給され、放出孔手前で送水管路５１内の水と合流させることでベンチュリー効果が生じ、圧送空気とともに送水管路５１内の水が吸い出されて冷ミストが生成されて放出されるようになっている。
【００２７】
マイナスイオン生成部３３は、図２及び図４に示すようにノズル部１３内に備えられており、コロナ放電を発生させてマイナスイオンを生成する。イオン生成部３３は、ノズル部１３のイオンノズル２４に形成される収容凹部２４ａに、ユニット化されたマイナスイオン放電部６１が収容保持されてなる。イオン放電部６１は、その収容凹部２４ａに収容保持されるべく所定形状をなす電極ホルダ６２に対して針電極６３が支持されるとともに、針電極６３の先端側においてその針電極６３の軸線上に円環状の中心が位置するように円環状の対向電極６４が支持されて構成されている。針電極６３及び対向電極６４にはそれぞれリード線６５がその針電極６３の先端よりも後方側にて接続されており、各リード線６５は、電極ホルダ６２の後部（針電極６３の先端よりも後方側）に一体に備えられる弾性装着部材６６にて弾性保持されて美顔器本体１２側に導出されて、美顔器本体１２の上面近傍の制御回路基板７１に接続されている。
【００２８】
因みに、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３周りの空間Ｘ２は外部への開放のみで、その針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られている。針電極６３周りの空間Ｘ２の仕切りは、電極ホルダ６２の後部に設けられる弾性装着部材６６が収容凹部２４ａの内周面に環状に密着（弾性装着部材６６は各リード線６５とも密着）することでなされている。ここで、美顔器本体１２内の空間Ｘ１に設けられるシリコン素材を使用した部材（例えば送水管路５１の一部等）がＰＴＣヒータ３５，３６といった熱源にて加熱されるとその空間Ｘ１内にシリコンが浮遊し、この浮遊シリコンが温められた美顔器本体１２内の空気に乗って針電極６３に付着することでコロナ放電を妨げマイナスイオンの発生量が減少してしまう事象が生じる。また、同空気に乗って美顔器本体１２内の埃も針電極６３に付着し易い。そこで、針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とを仕切ることで、美顔器本体１２内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物が針電極６３周りの空間Ｘ２への侵入が防止され、針電極６３への異物の付着が未然に防止されている。
【００２９】
制御回路基板７１は、電源コード７０（図１参照）にて外部から電源供給を受け、基板７１上に搭載される各種の回路部品よりなる制御回路７２の制御に基づいて、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びイオン生成部３３のそれぞれに動作電源を供給する。図５に示すように、制御回路７２は、電源スイッチ２５のオンオフ操作に基づいて美顔器１０の動作可能状態と及び停止状態との切り替えを行い、動作可能状態において運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７の組み合わせ操作による各種使用コースの設定に基づいて、スチーム生成部３１（ＰＴＣヒータ３５，３６、スチーム用放電部４３等）と、ミスト生成部３２（ポンプ５４等）との動作を制御し、またイオン生成部３３（イオン放電部６１）を先の各生成部３１，３２の動作と合わせて動作させている。
【００３０】
また、制御回路基板７１には、図６に示すようなマイナスイオン生成回路７３が構成されている。イオン生成回路７３には、例えば−５［ｋＶ］までマイナス側に昇圧された直流電圧を生成するイオン放電用電源回路７４が備えられ、イオン放電部６１の針電極６３にはその昇圧電圧が印加される。一方、対向電極６４は、例えばグランド（ＧＮＤ）に接続されている（抵抗等を介してグランドに接続しても可）。
【００３１】
そして、マイナスイオン生成時において、針電極６３に高電圧が印加されると、対向電極６４との電位差によって針電極６３の先端周囲にコロナ放電が発生し、マイナスイオンが発生する。発生したマイナスイオンは、針電極６３よりも低電位の対向電極６４に引き寄せられ、対向電極６４に付着しない分がイオンノズル２４の外部、即ち使用者の顔表面等に向けて放出される。
【００３２】
また、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）において、上記したように、針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られ、美顔器本体１２内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物の針電極６３への付着が未然に防止されることから、図７にて実線で示すように、時間経過に対して放電電流の下降が緩やかで、コロナ放電が長期に亘り良好に行われることがわかる。一方、図７にて破線で示すように、針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とを仕切らない態様（従来態様）とすると、時間経過に対して放電電流の落ち込みが大きく、短期間で十分なコロナ放電が行われなくなることがわかる。従って、本実施形態のイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３の経年劣化が抑制されてマイナスイオンの放出が長期に亘り良好に行われるようになっているため、メンテナンスやイオン放電部６１の交換等を長期間行わなくて済む。
【００３３】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）本実施形態では、イオン生成部３３（イオン放電部６１）における針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切り部材としても機能する弾性装着部材６６にて仕切られている。これにより、美顔器本体１２内の加熱装置（ヒータ３５，３６）とシリコン素材を使用した部材とで生じる浮遊シリコンや本体１２内部に存在する埃等の異物がその本体１２側から針電極６３周りの空間Ｘ２に侵入することを防止でき、経年劣化の進行を早める針電極６３への異物の付着を未然に防止できるため、イオン放出を長期に亘り良好に行うことができる。
【００３４】
（２）本実施形態では、弾性装着部材６６（仕切り部材）が針電極６３の先端よりも後方側に配置されているため、イオンが放出される針電極６３の先端側の構造を本実施形態のように簡素に構成でき、外部へのイオン放出を極力妨げない構成とすることができる。
【００３５】
（３）本実施形態では、弾性装着部材６６（仕切り部材）は他部材（美顔器本体１２側の収容凹部２４ａ）との当接部分がその弾性にて密着するため、両空間Ｘ１，Ｘ２の密閉状態が高くなり、針電極６３側の空間Ｘ２への異物侵入をより確実に防止することができる。また、この弾性装着部材６６は弾性材料の一部品にて構成されることから、単一の材料にて容易に形成することができる。
【００３６】
（４）本実施形態では、イオン放電部６１のリード線６５が弾性装着部材６６にて弾性保持されているため、リード線６５部分での両空間Ｘ１，Ｘ２の密閉状態が高くなり、このリード線６５部分においても針電極６３側の空間Ｘ２への異物侵入をより確実に防止することができる。また、リード線６５の保持及びリード線６５部分の密閉を図る弾性装着部材６６が仕切り部材としても機能するため、部品の共通化から部品点数の増加を抑えることができる。
【００３７】
（５）本実施形態では、弾性装着部材６６（仕切り部材）は、ユニット化されたイオン放電部６１側に一体に備えられるため、イオン放電部６１の美顔器本体１２への装着と同時に針電極６３側の空間Ｘ２と美顔器本体１２側の空間Ｘ１との仕切りがなされる。これにより、その仕切り構造を容易に構築することができる。
【００３８】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態の美顔器１０の構成を適宜変更してもよく、またイオン発生装置（イオン生成回路７３）においてプラスイオンを生成する構成としてもよい。
【００３９】
また、イオン放電部６１において、仕切り部材としても機能する弾性装着部材６６の全体を弾性材料として構成せず、例えば収容凹部２４ａやリード線６５に当接する部分に限り弾性材料で形成してもよい。また、収容凹部２４ａとリード線６５との密閉（仕切り）を個別の部材で行ってもよい。また、仕切り部材をイオン放電部６１に設けるのではなく、美顔器本体１２側（ノズル部１３側）に設けてもよい。仕切り部材の位置関係も適宜変更してもよい。
【００４０】
・上記実施形態では、イオン発生装置（イオン放電部６１）を搭載した美顔器１０に適用したが、イオン発生装置を搭載したヘアードライヤー、ヘアーブラシ、ヘアーアイロン等の髪・頭皮ケア装置や空気清浄機といった他の美容装置に適用してもよい。
【符号の説明】
【００４１】
１０…美顔器（美容装置）、１２…美顔器本体（美容装置本体）、６１…イオン放電部（イオン発生装置）、６３…針電極（放電極）、６６…弾性装着部材（仕切り部材）、Ｘ１，Ｘ２…空間。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イオン放出用の放電極への高電圧印加に基づいて放電を生じさせてイオンを発生させるイオン発生装置を備えた美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種のイオン発生装置は、例えば特許文献１や特許文献２にて示されているように、イオン放出用の針電極と、グランドに接続された対向電極とを有し、針電極へのマイナスの高電圧印加に基づいて両電極間にコロナ放電を生じさせ、該放電に基づいてマイナスイオンを発生させている。因みに、特許文献１はそのイオン発生装置を備えるヘアードライヤーが示され、特許文献２はそのイオン発生装置を備えるスチーム式美顔器が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１９１４２６号公報
【特許文献２】特開２００４−２４８９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１のヘアードライヤーにおいて、イオン放出用の針電極周りの空間とドライヤー本体内の空間とが仕切られておらず、また特許文献２のスチーム式美顔器においても、針電極周りの空間と美顔器本体内の空間とが仕切られていない。
【０００５】
そのため、これらドライヤー本体や美顔器本体では、温風の生成やスチームの生成のために加熱装置を内装していることから、本体内にシリコンが含有されている部材が使用されている場合、そのシリコン素材を使用した部材がその加熱を受けて本体内の空間に浮遊シリコンが生じ、この浮遊シリコンが針電極に付着するとコロナ放電の妨げとなりマイナスイオンの発生量を減少させてしまう。また、本体内部にシリコン素材が使用されていない場合においても、本体内部の熱が外部に逃げる際にその空気の流れによって本体内部に存在する埃が移動し、針電極に付着することによりコロナ放電の妨げとなりマイナスイオンの発生量を減少させてしまう。従って、イオン放出を長期に亘り良好に行うべく、このようなイオン放出用の針電極（放電極）の経年劣化の抑制が望まれている。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、放電極の経年劣化を抑制してイオン放出を長期に亘り良好に行うことができるイオン発生装置搭載の美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、高電圧印加に基づき放電極にて放電を生じさせイオンを発生させるイオン発生装置を備えた美容装置であって、前記イオン発生装置における前記放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切り部材にて仕切られてなることをその要旨とする。
【０００８】
この発明では、イオン発生装置における放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切り部材にて仕切られることから、美容装置本体内の加熱装置とシリコン素材を使用した部材とで生じる浮遊シリコンや埃等の異物がその本体側から放電極周りの空間に侵入することが防止され、経年劣化の進行を早める放電極への異物の付着が未然に防止される。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の美容装置において、前記仕切り部材は、前記放電極の先端よりも後方側に配置されていることをその要旨とする。
この発明では、仕切り部材は放電極の先端よりも後方側に配置されることから、イオンが放出される放電極の先端側の構造を簡素に構成でき、外部へのイオン放出を極力妨げない構成が可能となる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の美容装置において、前記仕切り部材は、他部材との当接部分が少なくとも弾性材料よりなることをその要旨とする。
この発明では、仕切り部材は他部材との当接部分が少なくとも弾性材料よりなるため、その弾性部分による密着にて両空間の密閉状態が高くなり、美容装置本体内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物の放電極側空間への侵入がより確実に防止される。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の美容装置において、前記仕切り部材は、１つの部品よりなり、全体が弾性材料にて構成されていることをその要旨とする。
この発明では、仕切り部材は１つの部品よりなるその全体が弾性材料にて構成されることから、仕切り部材を単一の材料にて容易に形成可能である。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の美容装置において、前記イオン発生装置は、前記放電極への電圧印加のためのリード線を備えるものであり、該リード線は、全体が弾性材料よりなる前記仕切り部材にて弾性保持されていることをその要旨とする。
【００１３】
この発明では、イオン発生装置のリード線は、全体が弾性材料よりなる仕切り部材にて弾性保持されることから、リード線部分での両空間の密閉状態が高くなり、このリード線部分においても美容装置本体内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物の放電極側空間への侵入がより確実に防止される。また、リード線の保持及びリード線部分の密閉を図る部材を仕切り部材と兼用することで、部品点数の増加が抑えられる。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか１項に記載の美容装置において、前記イオン発生装置は、ユニット化された状態で前記美容装置本体への装着が図られるものであり、前記仕切り部材は、そのユニット化された前記イオン発生装置側に一体に備えられていることをその要旨とする。
【００１５】
この発明では、仕切り部材は、ユニット化されたイオン発生装置側に一体に備えられ、イオン発生装置の美容装置本体への装着と同時に放電極側の空間と美容装置本体側の空間との仕切りがなされるため、その仕切り構造を容易に構築できる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、放電極の経年劣化を抑制してイオン放出を長期に亘り良好に行うことができるイオン発生装置搭載の美容装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態における美顔器を示す斜視図である。
【図２】同美顔器を前後方向で切断し右側から見た断面図である。
【図３】同美顔器を左右方向で切断し背面側から見た断面図である。
【図４】同美顔器のマイナスイオン生成部部分の拡大断面図である。
【図５】同美顔器の機能の概略構成を示すブロック図である。
【図６】同美顔器のマイナスイオン生成回路を示す回路図である。
【図７】同美顔器のマイナスイオン生成部の特性を説明するための測定図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１は、本実施形態のイオン発生装置を備える美容装置としての美顔器１０を示す。有底略円筒状の本体ケース１１には美顔器本体１２が収容されて固定され、その本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００１９】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル２１，２２、冷ミストを放出するミストノズル２３、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル２４を有し、ミストノズル２３が左右方向中央位置に、スチームノズル２１，２２がその左右両側に、イオンノズル２４がミストノズル２３の上側にそれぞれ配置されている。スチームノズル２１，２２、ミストノズル２３、及びイオンノズル２４の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定され、美顔器１０の前側と使用者と対向するように使用した時のその使用者の顔表面に向けて放出方向が向くように設定されている。尚、ノズル部１３は傾動調整可能な構成となっており、各ノズル２１〜２４の放出角度の一体的な調整が可能である。また、このノズル部１３にもノズルカバー１６が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル２１〜２４の露出・隠蔽が可能とされている。
【００２０】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２５、運転制御スイッチ２６、及びコース選択スイッチ２７が設けられている。電源スイッチ２５は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものであり、運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースやスチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００２１】
また、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンク収容部１７が設けられており、該タンク収容部１７内には、開口部と面一となるように給水タンク１８が着脱可能に収容されている。給水タンク１８は、使用者が美顔器１０から取り外しての給水が可能となっており、貯留した水からスチームや冷ミストのそれぞれの生成が行われる。
【００２２】
美顔器本体１２には、図２に示すように、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びマイナスイオン生成部３３が備えられている。
スチーム生成部３１は、美顔器本体１２の前側に備えられており、スチーム（温ミスト）を生成する。スチーム生成部３１は、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有するＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒータ３５，３６を前側と後側にそれぞれ備え、給水タンク１８から給水管路１９を介してＰＴＣヒータ３５，３６内側のボイラ室３７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。因みに、前側のＰＴＣヒータ３５の外側面には、給水タンク１８から延びる給水管路１９の一部が当接させて配置されており、ボイラ室３７への流入の前に温められ該ボイラ室３７内で効率良くスチームが生成されるようになっている。尚、給水管路１９は、排水管路３８（図５参照）を介して美顔器１０の排水口３８ａに接続されており、排水スイッチの操作によって制御される排水管路３８上の止水弁３９にて美顔器１０内の排水を行うことが可能となっている。
【００２３】
ボイラ室３７の上部には、図２及び図３に示すように、生成したスチームを一対のスチームノズル２１，２２まで案内させるためのスチーム案内管路４１が接続されている。スチーム案内管路４１は、途中に分岐部４２を有しその分岐部４２から各スチームノズル２１，２２に向けて等距離で二股に分かれ、ボイラ室３７にて生成したスチームを各スチームノズル２１，２２までそれぞれ案内する。そして、ボイラ室３７やスチーム案内管路４１内は高圧となるため、各スチームノズル２１，２２の放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。
【００２４】
また、スチーム案内管路４１の分岐部４２の若干手前位置には、放電電極４３ａを有するスチーム用放電部４３が備えられている。スチーム用放電部４３は、自身の放電により、該放電部４３を通過するスチームをより微細化するものである。また、このスチーム用放電部４３では、抗酸化作用があり肌に良いとされる金属（例えば白金）を用い、放電を利用してその金属微粒子を発生させることも行っており、スチームの微細化と金属微粒子の含有とが行われている。スチーム用放電部４３の下流側で分岐部４２の直前位置には、該放電部４３にて微細化したスチームを分岐部４２から先の各スチームノズル２１，２２に同量が分岐するように整流する整流部４４が備えられている（図３及び図５参照）。
【００２５】
ミスト生成部３２は、前記スチーム生成部３１よりも後側に備えられており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。給水タンク１８から延びる給水管路１９内の水は前記スチーム生成として利用される他に冷ミストとしても利用され、その給水管路１９からの水の一部をミストノズル２３まで送水する送水管路５１が備えられている。送水管路５１の一部は、後側のＰＴＣヒータ３６の放熱面（垂直面）３６ａの平面方向に蛇行して該放熱面３６ａに当接させて配置されており、前記スチーム生成時の後側のＰＴＣヒータ３６の加熱で送水管路５１内の冷ミスト用の水の殺菌をも行われるようになっている。尚、送水管路５１のミストノズル２３の直前位置にはその管内にフィルタ５２が装着され、通過する水の除塵等が行われている。
【００２６】
また、ミスト生成部３２として、美顔器本体１２内には空気圧送路５３が設けられており、該空気圧送路５３内には電動モータを駆動源としたポンプ５４の動作により空気の圧送が行われる。この圧送空気はミストノズル２３の放出孔に向けて供給され、放出孔手前で送水管路５１内の水と合流させることでベンチュリー効果が生じ、圧送空気とともに送水管路５１内の水が吸い出されて冷ミストが生成されて放出されるようになっている。
【００２７】
マイナスイオン生成部３３は、図２及び図４に示すようにノズル部１３内に備えられており、コロナ放電を発生させてマイナスイオンを生成する。イオン生成部３３は、ノズル部１３のイオンノズル２４に形成される収容凹部２４ａに、ユニット化されたマイナスイオン放電部６１が収容保持されてなる。イオン放電部６１は、その収容凹部２４ａに収容保持されるべく所定形状をなす電極ホルダ６２に対して針電極６３が支持されるとともに、針電極６３の先端側においてその針電極６３の軸線上に円環状の中心が位置するように円環状の対向電極６４が支持されて構成されている。針電極６３及び対向電極６４にはそれぞれリード線６５がその針電極６３の先端よりも後方側にて接続されており、各リード線６５は、電極ホルダ６２の後部（針電極６３の先端よりも後方側）に一体に備えられる弾性装着部材６６にて弾性保持されて美顔器本体１２側に導出されて、美顔器本体１２の上面近傍の制御回路基板７１に接続されている。
【００２８】
因みに、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３周りの空間Ｘ２は外部への開放のみで、その針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られている。針電極６３周りの空間Ｘ２の仕切りは、電極ホルダ６２の後部に設けられる弾性装着部材６６が収容凹部２４ａの内周面に環状に密着（弾性装着部材６６は各リード線６５とも密着）することでなされている。ここで、美顔器本体１２内の空間Ｘ１に設けられるシリコン素材を使用した部材（例えば送水管路５１の一部等）がＰＴＣヒータ３５，３６といった熱源にて加熱されるとその空間Ｘ１内にシリコンが浮遊し、この浮遊シリコンが温められた美顔器本体１２内の空気に乗って針電極６３に付着することでコロナ放電を妨げマイナスイオンの発生量が減少してしまう事象が生じる。また、同空気に乗って美顔器本体１２内の埃も針電極６３に付着し易い。そこで、針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とを仕切ることで、美顔器本体１２内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物が針電極６３周りの空間Ｘ２への侵入が防止され、針電極６３への異物の付着が未然に防止されている。
【００２９】
制御回路基板７１は、電源コード７０（図１参照）にて外部から電源供給を受け、基板７１上に搭載される各種の回路部品よりなる制御回路７２の制御に基づいて、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びイオン生成部３３のそれぞれに動作電源を供給する。図５に示すように、制御回路７２は、電源スイッチ２５のオンオフ操作に基づいて美顔器１０の動作可能状態と及び停止状態との切り替えを行い、動作可能状態において運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７の組み合わせ操作による各種使用コースの設定に基づいて、スチーム生成部３１（ＰＴＣヒータ３５，３６、スチーム用放電部４３等）と、ミスト生成部３２（ポンプ５４等）との動作を制御し、またイオン生成部３３（イオン放電部６１）を先の各生成部３１，３２の動作と合わせて動作させている。
【００３０】
また、制御回路基板７１には、図６に示すようなマイナスイオン生成回路７３が構成されている。イオン生成回路７３には、例えば−５［ｋＶ］までマイナス側に昇圧された直流電圧を生成するイオン放電用電源回路７４が備えられ、イオン放電部６１の針電極６３にはその昇圧電圧が印加される。一方、対向電極６４は、例えばグランド（ＧＮＤ）に接続されている（抵抗等を介してグランドに接続しても可）。
【００３１】
そして、マイナスイオン生成時において、針電極６３に高電圧が印加されると、対向電極６４との電位差によって針電極６３の先端周囲にコロナ放電が発生し、マイナスイオンが発生する。発生したマイナスイオンは、針電極６３よりも低電位の対向電極６４に引き寄せられ、対向電極６４に付着しない分がイオンノズル２４の外部、即ち使用者の顔表面等に向けて放出される。
【００３２】
また、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）において、上記したように、針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られ、美顔器本体１２内で生じる浮遊シリコンや埃等の異物の針電極６３への付着が未然に防止されることから、図７にて実線で示すように、時間経過に対して放電電流の下降が緩やかで、コロナ放電が長期に亘り良好に行われることがわかる。一方、図７にて破線で示すように、針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とを仕切らない態様（従来態様）とすると、時間経過に対して放電電流の落ち込みが大きく、短期間で十分なコロナ放電が行われなくなることがわかる。従って、本実施形態のイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３の経年劣化が抑制されてマイナスイオンの放出が長期に亘り良好に行われるようになっているため、メンテナンスやイオン放電部６１の交換等を長期間行わなくて済む。
【００３３】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）本実施形態では、イオン生成部３３（イオン放電部６１）における針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切り部材としても機能する弾性装着部材６６にて仕切られている。これにより、美顔器本体１２内の加熱装置（ヒータ３５，３６）とシリコン素材を使用した部材とで生じる浮遊シリコンや本体１２内部に存在する埃等の異物がその本体１２側から針電極６３周りの空間Ｘ２に侵入することを防止でき、経年劣化の進行を早める針電極６３への異物の付着を未然に防止できるため、イオン放出を長期に亘り良好に行うことができる。
【００３４】
（２）本実施形態では、弾性装着部材６６（仕切り部材）が針電極６３の先端よりも後方側に配置されているため、イオンが放出される針電極６３の先端側の構造を本実施形態のように簡素に構成でき、外部へのイオン放出を極力妨げない構成とすることができる。
【００３５】
（３）本実施形態では、弾性装着部材６６（仕切り部材）は他部材（美顔器本体１２側の収容凹部２４ａ）との当接部分がその弾性にて密着するため、両空間Ｘ１，Ｘ２の密閉状態が高くなり、針電極６３側の空間Ｘ２への異物侵入をより確実に防止することができる。また、この弾性装着部材６６は弾性材料の一部品にて構成されることから、単一の材料にて容易に形成することができる。
【００３６】
（４）本実施形態では、イオン放電部６１のリード線６５が弾性装着部材６６にて弾性保持されているため、リード線６５部分での両空間Ｘ１，Ｘ２の密閉状態が高くなり、このリード線６５部分においても針電極６３側の空間Ｘ２への異物侵入をより確実に防止することができる。また、リード線６５の保持及びリード線６５部分の密閉を図る弾性装着部材６６が仕切り部材としても機能するため、部品の共通化から部品点数の増加を抑えることができる。
【００３７】
（５）本実施形態では、弾性装着部材６６（仕切り部材）は、ユニット化されたイオン放電部６１側に一体に備えられるため、イオン放電部６１の美顔器本体１２への装着と同時に針電極６３側の空間Ｘ２と美顔器本体１２側の空間Ｘ１との仕切りがなされる。これにより、その仕切り構造を容易に構築することができる。
【００３８】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態の美顔器１０の構成を適宜変更してもよく、またイオン発生装置（イオン生成回路７３）においてプラスイオンを生成する構成としてもよい。
【００３９】
また、イオン放電部６１において、仕切り部材としても機能する弾性装着部材６６の全体を弾性材料として構成せず、例えば収容凹部２４ａやリード線６５に当接する部分に限り弾性材料で形成してもよい。また、収容凹部２４ａとリード線６５との密閉（仕切り）を個別の部材で行ってもよい。また、仕切り部材をイオン放電部６１に設けるのではなく、美顔器本体１２側（ノズル部１３側）に設けてもよい。仕切り部材の位置関係も適宜変更してもよい。
【００４０】
・上記実施形態では、イオン発生装置（イオン放電部６１）を搭載した美顔器１０に適用したが、イオン発生装置を搭載したヘアードライヤー、ヘアーブラシ、ヘアーアイロン等の髪・頭皮ケア装置や空気清浄機といった他の美容装置に適用してもよい。
【符号の説明】
【００４１】
１０…美顔器（美容装置）、１２…美顔器本体（美容装置本体）、６１…イオン放電部（イオン発生装置）、６３…針電極（放電極）、６６…弾性装着部材（仕切り部材）、Ｘ１，Ｘ２…空間。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高電圧印加に基づき放電極にて放電を生じさせイオンを発生させるイオン発生装置を備えた美容装置であって、
前記イオン発生装置における前記放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切り部材にて仕切られてなることを特徴とする美容装置。
【請求項２】
請求項１に記載の美容装置において、
前記仕切り部材は、前記放電極の先端よりも後方側に配置されていることを特徴とする美容装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の美容装置において、
前記仕切り部材は、他部材との当接部分が少なくとも弾性材料よりなることを特徴とする美容装置。
【請求項４】
請求項３に記載の美容装置において、
前記仕切り部材は、１つの部品よりなり、全体が弾性材料にて構成されていることを特徴とする美容装置。
【請求項５】
請求項４に記載の美容装置において、
前記イオン発生装置は、前記放電極への電圧印加のためのリード線を備えるものであり、該リード線は、全体が弾性材料よりなる前記仕切り部材にて弾性保持されていることを特徴とする美容装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の美容装置において、
前記イオン発生装置は、ユニット化された状態で前記美容装置本体への装着が図られるものであり、
前記仕切り部材は、そのユニット化された前記イオン発生装置側に一体に備えられていることを特徴とする美容装置。
【請求項１】
高電圧印加に基づき放電極にて放電を生じさせイオンを発生させるイオン発生装置を備えた美容装置であって、
前記イオン発生装置における前記放電極周りの空間と美容装置本体内の空間とが仕切り部材にて仕切られてなることを特徴とする美容装置。
【請求項２】
請求項１に記載の美容装置において、
前記仕切り部材は、前記放電極の先端よりも後方側に配置されていることを特徴とする美容装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の美容装置において、
前記仕切り部材は、他部材との当接部分が少なくとも弾性材料よりなることを特徴とする美容装置。
【請求項４】
請求項３に記載の美容装置において、
前記仕切り部材は、１つの部品よりなり、全体が弾性材料にて構成されていることを特徴とする美容装置。
【請求項５】
請求項４に記載の美容装置において、
前記イオン発生装置は、前記放電極への電圧印加のためのリード線を備えるものであり、該リード線は、全体が弾性材料よりなる前記仕切り部材にて弾性保持されていることを特徴とする美容装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の美容装置において、
前記イオン発生装置は、ユニット化された状態で前記美容装置本体への装着が図られるものであり、
前記仕切り部材は、そのユニット化された前記イオン発生装置側に一体に備えられていることを特徴とする美容装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−１８７７６７（Ｐ２０１０−１８７７６７Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３２９７１（Ｐ２００９−３２９７１）
【出願日】平成２１年２月１６日（２００９．２．１６）
【出願人】（０００００５８３２）パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１６日（２００９．２．１６）
【出願人】（０００００５８３２）パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]