自動分析装置
【課題】廃液の残留による測定不良の発生や測定精度の低下を防止し、ランニングコストを低減することが可能な自動分析装置を提供する。
【解決手段】先端部に吸引口が設けられ、反応容器内から外部に廃液を排出するための吸引管と、先端部に供給口が設けられ、外部から反応容器内に洗浄液を供給するための供給管と、吸引口を、洗浄位置に移動された反応容器の上方位置と反応容器内の底部近傍位置との間を往復移動させるように、吸引管を移動させる吸引管駆動部と、底部近傍位置に移動させた吸引口から廃液を吸い出す吸引処理部と、供給口を、廃棄が吸い出された後の反応容器の上方位置と吸い出される前の廃液の液面に上方から近い液面近傍位置との間を往復移動させるように、供給管を移動させる供給管駆動部と、液面近傍位置に移動させた供給口へ洗浄液を供給する供給処理部と、を有する。
【解決手段】先端部に吸引口が設けられ、反応容器内から外部に廃液を排出するための吸引管と、先端部に供給口が設けられ、外部から反応容器内に洗浄液を供給するための供給管と、吸引口を、洗浄位置に移動された反応容器の上方位置と反応容器内の底部近傍位置との間を往復移動させるように、吸引管を移動させる吸引管駆動部と、底部近傍位置に移動させた吸引口から廃液を吸い出す吸引処理部と、供給口を、廃棄が吸い出された後の反応容器の上方位置と吸い出される前の廃液の液面に上方から近い液面近傍位置との間を往復移動させるように、供給管を移動させる供給管駆動部と、液面近傍位置に移動させた供給口へ洗浄液を供給する供給処理部と、を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析するようにした自動分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反応溶液の成分を分析した後、廃液としての反応溶液が排出される。また、廃液を排出した後、廃液を入れていた反応容器は洗浄される。
【０００３】
反応容器を洗浄する従来技術としては、第１に、反応容器内の廃液を排出した後、洗浄液を反応容器内に供給し、その後、洗浄液を反応容器内から排出する。この洗浄液の供給排出を何サイクルか繰り返して、反応容器を洗浄する技術がある。第２に、上記第１の洗浄を終了した後、次の洗浄として、異なる種類の洗浄液を反応容器内に供給排出を行って、反応容器を洗浄する技術がある。第３に、反応容器を洗浄するとき、反応容器内に洗浄液を一旦溜めた後、洗浄液を反応容器内から排出する技術がある。第４に、反応容器を洗浄するとき、反応容器内に洗浄液を供給しながら排出して、反応容器内に洗浄液を溜めない技術がある。また、第５に、上記第１から第４の従来技術を組み合わせた技術も考えられる。
【０００４】
異なる種類の洗浄液を反応容器内に供給排出を行う上記第２の従来技術としては、複数の洗浄液を収容する複数の洗剤ボトルと、複数の洗浄液が流通する複数の流路と、複数の洗浄液を複数の洗剤ボトルからそれぞれ吸入し複数の流路へ吐出する複数のポンプと、複数の流路にそれぞれつながれ、各流路を流通する各洗浄液で反応容器を洗浄する洗浄ノズルと、複数の洗剤ポンプと複数の流路との間の接続を切り替える弁と、を有する（例えば、特許文献１）。
【０００５】
反応容器内に洗浄液を一旦溜めた後、洗浄液を反応容器内から排出する上記第３の従来技術としては、操作部を介して通常の洗浄サイクル時間よりも長い洗浄サイクル時間を設定すると、制御部が、操作部を介して設定された洗浄サイクル時間から通常の洗浄サイクル時間を減算処理して吸引待ち時間を算出しこのデータをメモリに記憶制御する。制御部は、測定終了検出部により例えば一日の測定の終了等の測定の終了が検出されると、メモリに記憶された吸引待ち時間のデータに基づいて、各反応容器に対して吐出した洗浄液（及び純水）を、該吐出した時刻から吸引待ち時間経過後に吸引するように洗浄ユニットを制御する。これにより、吐出した洗浄液等を吸引待ち時間分反応容器内に留めておくことができるため、高い洗浄効果を得ることができ、反応容器内に汚れが蓄積する不都合を防止することができる（例えば、特許文献２）。
【０００６】
また、廃液を排出した後の反応容器には、廃液の液面付近に廃液が残っていることが知られている。反応容器を洗浄した後に、残った廃液が、反応溶液の成分を分析するときの測定不良の要因や測定精度を低下させる要因となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−１１５６６１号公報
【特許文献２】特開２００１−２８９８６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特許文献に記載された第１から第５の従来技術では、反応容器に供給される洗浄液の液面が、廃液の液面より下方である場合、反応容器に廃液が残って、上記した測定不良の要因や測定精度を低下させる要因となる。これに対し、反応容器に供給される洗浄液の液面が、廃液の液面より上方であり過ぎると、洗浄液を無駄に消費することになって、ランニングコストが嵩むという問題点がある。
【０００９】
この発明は、上記の問題を解決するものであり、廃液の残留による測定不良の発生や測定精度の低下を防止し、ランニングコストを低減することが可能な自動分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、この発明は、廃液の液面の位置に対応させた液量の洗浄液を供給することに着目した。
具体的に、この発明の第１の形態は、試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析する自動分析装置において、前記分析した後の前記反応溶液、又は、前記反応容器を洗浄した後の洗浄液である廃液を、前記反応容器内から外部に排出するための吸引機構と、供給口を有し、該供給口を前記廃棄が排出される前の前記廃液の液面に上方から近い液面近傍位置に移動し、該移動した前記供給口を通して外部から前記反応容器内に洗浄液を供給するための供給機構と、を有することを特徴とする自動分析装置である。
また、この発明の第２の形態は、試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析する自動分析装置において、前記分析した後の前記反応溶液、又は、前記反応容器を洗浄した後の洗浄液である廃液が入れられた前記反応容器を洗浄位置に移動させる駆動部と、先端部に吸引口が設けられ、前記反応容器内から外部に前記廃液を排出するための吸引管と、先端部に供給口が設けられ、外部から前記反応容器内に洗浄液を供給するための供給管と、前記吸引口を、前記洗浄位置に移動された前記反応容器の上方位置と前記反応容器内の底部近傍位置との間を往復移動させるように、前記吸引管を移動させる吸引管駆動部と、前記底部近傍位置に移動させた前記吸引口から前記廃液を吸い出す吸引処理部と、前記供給口を、前記廃棄が吸い出された後の前記反応容器の上方位置と前記吸い出される前の前記廃液の液面に上方から近い液面近傍位置との間を往復移動させるように、前記供給管を移動させる供給管駆動部と、前記液面近傍位置に移動させた前記供給口へ前記洗浄液を供給する供給処理部と、を有することを特徴とする自動分析装置である。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によると、廃液の残留による測定不良の発生や測定精度の低下を防止し、ランニングコストを低減することが可能となる。
【００１２】
この発明の第１の形態によると、供給口から供給された洗浄液により、液面近傍位置以下の廃液を洗浄することが可能となり、測定不良の要因や測定精度を低下させる要因となる液面以下に残った廃液を必要最小限の液量の洗浄液により、確実に洗浄することが可能となる。
また、この発明の第２の形態によると、排出前の廃液の液面近傍位置に供給口を移動させ、その供給口へ供給された洗浄液により、液面近傍位置以下の廃液を洗浄することが可能となり、測定不良の要因や測定精度を低下させる要因となる液面以下に残った廃液を必要最小限の液量の洗浄液により、確実に洗浄することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】この発明の第１の実施形態に係る自動分析装置の平面図である。
【図２】自動分析装置の概念図である。
【図３】自動分析装置の機能ブロック図である。
【図４】反応容器を洗浄するための洗浄装置の構成図である。
【図５】各反応容器に供給された洗浄液による一連の洗浄動作を示した図である。
【図６】この発明の第２の実施形態に係る自動分析装置における一連の洗浄動作を示した図である。
【図７】この発明の第３の実施形態に係る自動分析装置における一連の洗浄動作を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［第１の実施形態］
（構成）
この発明の第１の実施形態に係る自動分析装置の構成について図１〜図５を参照して説明する。図１は、自動分析装置の平面図、図２は自動分析装置の概念図、図３は、自動分析装置の機能ブロック図である。
【００１５】
先ず、自動分析装置の基本的な構成について図１から図３を参照して説明する。自動分析装置１０は、試料庫１００、試料（生体サンプル）を収容する試料容器１０１、試料プローブ１０３、第１及び第２の試薬庫２００、試薬を収容する試薬容器２０１、試薬プローブ２０３、反応庫３００、反応容器３０１、駆動制御部４０、記憶部４２、表示制御部４４、表示部４５、操作部４６、洗浄装置５０、吸引管７１、供給管８１、洗浄槽９０１、試料を吸引及び吐出させるためのポンプ（図示省略）、電磁弁（図示省略）、及び、電磁弁を駆動させるアクチュエータ（図示省略）を有する。
【００１６】
上記構成により、自動分析装置１０は、試料及び試薬を反応容器３０１に分注して反応溶液を生成する工程、反応溶液を測光する工程、反応溶液を排出した後の反応容器３０１を洗浄する工程、及び、反応容器３０１を乾燥する工程を順番に実行する。
【００１７】
駆動制御部４０は、制御部４１、該制御部４１の指示を受けて、それぞれ駆動する試料庫用駆動部１０４、試料プローブ駆動部１０５、試薬庫用駆動部２０４、試薬プローブ駆動部２０５、反応庫用駆動部３０４、吸引処理部７０４、吸引管駆動部７０５、供給処理部８０４、及び、供給管駆動部８０５を有する。なお、吸引処理部７０４、吸引管駆動部７０５、供給処理部８０４、及び、供給管駆動部８０５については、洗浄装置５０の説明の中で詳述する。
【００１８】
制御部４１は、試料庫用駆動部１０４、試料プローブ駆動部１０５、試薬庫用駆動部２０４、試薬プローブ駆動部２０５、反応庫用駆動部３０４、及び、前記ポンプ、前記電磁弁、及び、前記アクチュエータを含む各種駆動部を制御する。
【００１９】
制御部４１は、前記各種駆動部を制御するための制御情報を記憶部４２に記憶させる。制御部４１は、記憶部４２から制御情報を読み出し、前記試料プローブ駆動部１０５等を制御する。制御部４１は、試料プローブ１０３、試薬プローブ２０３、吸引管７１、及び、供給管８１を含む各部品の下降及び上昇の各動作を制御する。
【００２０】
次に、各種駆動部について説明する。先ず、試料庫１００、及び、試料プローブ駆動部１０５について、図１から図３を参照して説明する。
【００２１】
試料庫１００は、複数の試料容器１０１を円周方向に並べた状態で載置するディスクサンプラである試料ラック１３０と、試料ラック１３０を円周方向に回転させることにより、複数の試料容器１０１を順番に吸引位置ＰＩに移動させる試料庫用駆動部１０４とを有する。
【００２２】
試料プローブ駆動部１０５は、試料プローブ１０３を吸引位置ＰＩと吐出位置ＰＯとの間で回動させ、また、試料プローブ１０３を所定位置と作業位置との間で上昇及び下降させる。それにより、試料プローブ１０３は、吸引位置ＰＩに回動して、所定位置から作業位置に下降し、吸引位置ＰＩに移動させた試料容器１０１から試料を吸引する。その後、試料プローブ１０３は、作業位置から所定位置に上昇し、吐出位置ＰＯに回動して、前記吸引した試料を、吐出位置ＰＯに移動させた反応容器３０１に吐出する。
【００２３】
次に、第１及び第２の各試薬庫２００の構成について説明する。第１及び第２の各試薬庫２００は基本的に同じ構成をしている。以下に、第１の試薬庫２００について主に説明し、第２の試薬庫２００については、第１の試薬庫２００と重複する説明を省略する。
【００２４】
試薬庫２００は、試薬容器２０１を円周方向に並べた状態で載置し、試薬容器２０１を円周方向に回転させることにより、複数の試薬容器２０１を順番に吸引位置ＰＩに移動させる試薬庫用駆動部２０４を有する。試薬容器２０１には、試料に含まれる特定成分に対して選択的に反応する試薬が収容されている。
【００２５】
第２の試薬庫２００の試薬容器２０１には、前記第１の試薬庫２００の試薬容器２０１に収容されている試薬と対をなす試薬が収容されている。
【００２６】
試薬プローブ駆動部２０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じである。試薬プローブ駆動部２０５は、試薬プローブ２０３を吸引位置ＰＩと吐出位置ＰＯとの間で回動させ、また、試薬プローブ２０３を所定位置と作業位置との間で上昇及び下降させる。それにより、試薬プローブ２０３は、吸引位置ＰＩに回動して、所定位置から作業位置に下降し、吸引位置ＰＩに移動させた試薬容器２０１から試薬を吸引する。その後、試薬プローブ２０３は、作業位置から所定位置に上昇し、吐出位置ＰＯに回動して、前記吸引した試薬を、吐出位置ＰＯに移動させた反応容器３０１に吐出する。
【００２７】
次に、反応庫３００について説明する。反応庫３００には複数の反応容器３０１が収容されている。反応庫３００は、複数の反応容器３０１を円周方向に並べた状態で載置する反応ライン３３０と、反応ライン３３０を円周方向に回転させることにより、複数の反応容器３０１を順番に吐出位置ＰＯに移動させる反応庫用駆動部３０４とを有する。反応庫用駆動部３０４は、試料及び試薬が分注された反応容器３０１を、測定位置に移動させる。吐出位置ＰＯから測定位置に移動させるまでの間、反応容器３０１内の試料及び試薬は攪拌子（図示省略）によって攪拌される。それにより、反応溶液が生成される。
【００２８】
測定位置には測光ユニット１９０が配されている。測光ユニット１９０は、攪拌後の反応容器３０１に光を照射して、透過した光から設定波長における吸光度を測定する。反応庫用駆動部３０４は、反応容器３０１を測定位置から洗浄位置ＰＷに移動させる。洗浄位置ＰＷの近傍には洗浄装置５０が配されている。洗浄装置５０は、測定後の反応溶液である廃液を反応容器３０１から外部に排出し、廃液を排出した後の反応容器３０１に洗浄液を供給して反応容器３０１を洗浄する。
【００２９】
次に、洗浄装置５０、及び、洗浄装置５０の動作を制御するための駆動制御部４０について図３から図５を参照して説明する。図４は、反応容器３０１を洗浄するための洗浄装置５０の構成図、図５は、各反応容器に供給された洗浄液による一連の洗浄動作を示した図である。
【００３０】
駆動制御部４０は、制御部４１、吸引処理部７０４、吸引管駆動部７０５、供給処理部８０４、及び、供給管駆動部８０５を有している。
【００３１】
洗浄装置５０は、廃液を反応容器３０１から外部に排出するための第１の機構、廃液を排出した後の反応容器３０１に洗浄液である純水を供給するための第２の機構、廃液を排出した後の反応容器３０１に洗浄液である洗剤を供給するための第３の機構を有している。第１の機構が吸引機構を有している。また、第２の機構及び第３の機構が供給機構を有している。
【００３２】
以下、第１の機構から第３の機構の各構成及び動作を順に説明する。前記廃液を反応容器３０１から外部に排出するための第１の機構は、ポンプ５１、仕切弁５５、廃液槽６１、及び、吸引管７１を有している。吸引管７１は各反応容器３０１にそれぞれ配されている。吸引管７１の先端部には吸引口７２が設けられている。ここで、「廃液」とは、吸光度を測定した後の反応溶液であり、又は、反応容器３０１を洗浄した後の洗浄液をいう。
【００３３】
反応容器３０１の移動方向の手前側から奥側にわたって複数回の洗浄をするために６つの洗浄位置ＰＷが設けられている。反応庫用駆動部３０４は、反応容器３０１を前記移動方向の手前側にある始端の洗浄位置ＰＷから前記移動方向の奥側にある終端の洗浄位置ＰＷまでの間を１つずつ順次移動させる。６つの洗浄位置ＰＷに移動させた６つの反応容器３０１を、図４にＮｏ．１〜Ｎｏ．６の符号を付して示す。
【００３４】
この第１実施形態においては、各洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗浄液を供給する場合、洗浄液の液面の位置を、洗浄位置ＰＷ毎に同じ高さとし、移動方向で手前の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置に対し、移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置を高くし、前段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、その反応容器３０１を後段の洗浄位置ＰＷに移動させたときに洗浄するように、駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０を構成した。
【００３５】
各洗浄位置ＰＷにおいて、反応容器３０１は予め定められた順番に洗浄される。その順番を図５にステップ１からステップ７を付して示した。以下、ステップ１からステップ７の順番に、洗浄装置５０、及び、洗浄装置５０の動作を制御するための駆動制御部４０の構成を説明する。
【００３６】
（ステップ１）
反応庫用駆動部３０４は、反応容器３０１を所定時間（例えば、９秒）毎に前の洗浄位置ＰＷから次の洗浄位置ＰＷに移動させる。終端の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．１の反応容器３０１、及び、始端の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．６の反応容器３０１であって、吸光度を測定した後の反応溶液である廃液Ｌ１の入ったＮｏ．６の反応容器３０１を図５のステップ１に示す。
【００３７】
（廃液の吸引処理：ステップ２）
制御部４１からの指示を受けて、吸引管駆動部７０５は、吸引口７２を反応容器３０１の上方である上方位置Ｐ１から反応容器３０１内の底部に近い底部近傍位置Ｐ２に移動させるように、吸引管７１を移動させる。また、制御部４１からの指示を受けて、吸引処理部７０４は、ポンプ５１を作動させると共に、仕切弁５５を開かせ、反応容器３０１内の廃液Ｌ１を吸引口７２から外部の廃液槽６１に排出する。
【００３８】
吸引管駆動部７０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じである。すなわち、試料プローブ１０３を移動させるための所要時間ｔを求める場合と同様に、生成部４３は、制御部４１の指示を受け、上記式（２）を基に、予め定められたパルス数ｎ、及び、吸引管７１を移動させる、予め定められた距離ｓから、所要時間ｔを求める。制御部４１は、所要時間ｔを制御情報として、記憶部４２に記憶させる。吸引管駆動部７０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、吸引管７１を上方位置Ｐ１と底部近傍位置Ｐ２との間の所定距離ｓだけ上昇及び下降させる。
【００３９】
上方位置Ｐ１に移動させた吸引管７１を図４に破線で示し、また、底部近傍位置Ｐ２に移動させた吸引管７１を図４に実線で示す。廃液Ｌ１の吸引処理を図５にステップ２で示す。ステップ２では、Ｎｏ．６の反応容器３０１は、空になっている。
【００４０】
廃液Ｌ１の排出が完了した後、制御部４１からの指示を受けて、吸引処理部７０４は、ポンプ５１の作動を停止させると共に、仕切弁５５を閉じさせる。また、制御部４１からの指示を受けて、吸引管駆動部７０５は、吸引管７１を底部近傍位置Ｐ２から上方位置Ｐ１に移動させる。
【００４１】
（洗浄液の供給処理：ステップ３）
供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５は、廃液を排出した後の反応容器３０１に洗浄液を供給する。ここで、「廃液」とは、測定後の反応溶液である前記廃液Ｌ１、並びに、洗浄後の純水Ｌ２、洗剤Ｌ３、及び洗剤Ｌ４をいう。また、「洗浄液」とは純水Ｌ２、並びに、洗剤Ｌ３、及び、洗剤Ｌ４をいう。
【００４２】
廃液Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４を排出した後の反応容器３０１に純水Ｌ２を供給するための第２の機構において、供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５は、始端の洗浄位置ＰＷ、及び、終端側の３つの洗浄位置ＰＷにそれぞれ移動させた全部で４つの反応容器３０１に純水Ｌ２を供給する。純水Ｌ２が供給される反応容器３０１を図４及び図５のステップ３にＮｏ．１〜Ｎｏ．３、及び、Ｎｏ．６の番号を付して示す。
【００４３】
廃液Ｌ２、Ｌ３を排出した後の反応容器３０１に洗剤Ｌ３、Ｌ４を供給するための第３の機構において、供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５は、反応容器３０１の移動方向に２番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗剤Ｌ３を供給し、前記移動方向に始端から３番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗剤Ｌ４を供給する。洗剤Ｌ３が供給される反応容器３０１を図４にＮｏ．５の番号を付して示し、洗剤Ｌ４が供給される反応容器３０１を図４にＮｏ．４の番号を付して示す。
【００４４】
先ず、廃液Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４を排出した後の反応容器３０１に純水Ｌ２を供給するための第２の機構を説明する。第２の機構は、ポンプ５２、仕切弁５６、流量調整弁５９、水槽６２、及び、供給管８１を有している。
【００４５】
ステップ３において、制御部４１からの指示を受けて、供給管駆動部８０５は、上方位置Ｐ１にある供給管８１を、各反応容器３０１毎に予め定められた液面近傍位置Ｐ３（反応容器３０１内の吸い出される前の廃液の液面に上方から近い位置）に下降させる。次に、供給処理部８０４は、制御部４１からの指示を受けて、ポンプ５２を作動させると共に、仕切弁５６を開かせ、外部の水槽６２から供給口８２を通って、各反応容器３０１に洗浄液を供給する。
【００４６】
供給管駆動部８０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じであり、供給口８２を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間を往復移動させるように、供給管８１を移動させる。すなわち、試料プローブ１０３を移動させるための所要時間ｔを求める場合と同様に、生成部４３は、制御部４１の指示を受け、上記式（２）を基に、予め定められたパルス数ｎ、及び、供給管８１を移動させる、予め定められた距離ｓから、所要時間ｔを求める。制御部４１は、所要時間ｔを制御情報として、記憶部４２に記憶させる。供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ上昇及び下降させる。
【００４７】
終端側の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１であって、廃液Ｌ２を排出した後の反応容器３０１に純水Ｌ２を供給するための第２の機構が、流量調整弁５９を有しないのに対し、始端の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．６の反応容器３０１であって、廃液Ｌ１を排出した後の反応容器３０１に純水Ｌ２を供給するための第２の機構が、流量調整弁５９を有する点が異なる。始端の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．６の反応容器３０１に供給する純水Ｌ２の流量を調節することにより、調整後の純水Ｌ２の液面の位置ａに対し、終端側の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．１及びＮｏ．２の反応容器３０１に供給する純水Ｌ２の液面の位置ｄを所定幅だけ高くすることが可能となる。位置ａから位置ｄまでの前記所定幅の間に、洗剤Ｌ３の液面の位置ｂ、及び、洗剤Ｌ４の液面の位置ｃを設けることが可能となる。洗剤Ｌ３の液面の位置ｂ、洗剤Ｌ４の液面の位置ｃ、及び、純水Ｌ２の液面の位置ｄを図５に示す。なお、洗剤Ｌ３の液面の位置ｂ、及び、洗剤Ｌ４の液面の位置ｃについては、廃液Ｌ２、Ｌ３を排出した後の反応容器３０１に洗剤Ｌ３、Ｌ４を供給するための第３の機構の説明の中で、後述する。
【００４８】
以下、供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５の構成及び動作を、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、及び、Ｎｏ．６の各反応容器３０１に対応させて説明する。先ず、供給管駆動部８０５は、Ｎｏ．６の反応容器３０１の廃液Ｌ１の液面の位置Ｈ（ステップ１）に上方から近い液面近傍位置Ｐ３である位置ａに供給管８１を下降させ、また、Ｎｏ．３の反応容器３０１の廃液Ｌ４の液面の位置ｃ（ステップ１）に上方から近い液面近傍位置Ｐ３である位置ｄに供給管８１を下降させる。
【００４９】
供給処理部８０４は、制御部４１からの指示を受けて、ポンプ５２を作動させると共に、仕切弁５６を開かせ、外部の水槽６２から供給口８２を通って、Ｎｏ．３及びＮｏ．６の各反応容器３０１内に純水Ｌ２を供給する。供給処理部８０４は、純水Ｌ２の予め定められた供給量（例えば、０．３〜０．６ｃｃ）に対応する時間だけ仕切弁５６を開かせる。
【００５０】
Ｎｏ．６の反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３である位置ａまで純水Ｌ２を満たす。それにより、反応容器３０１内面の液面の位置Ｈ以下に付着した廃液Ｌ１を洗浄することが可能となる。また、Ｎｏ．３の反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３である位置ｄまで純水Ｌ２を満たす。それにより、反応容器３０１内面の液面の位置ｃ以下に付着した廃液Ｌ４を洗浄することが可能となる。以上のように、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液Ｌ１、Ｌ４を洗浄して、純水Ｌ２の無駄な消費を無くすことができる。
【００５１】
ここで、「液面近傍位置」とは、供給口８２と、反応容器３０１内の吸い出される前の廃液Ｌ１、Ｌ４の液面との位置関係において、液面に近い供給口８２の位置をいう。廃液Ｌ１、Ｌ４の液面から液面近傍位置Ｐ３までの距離は、１ｍｍから５ｍｍであることが好ましく、さらに、２ｍｍから３ｍｍであることが好ましい。上方位置Ｐ１に移動させた供給管８１を図４に破線で示し、また、液面近傍位置Ｐ３に移動させた供給管８１を図４に実線で示す。
【００５２】
また、供給管駆動部８０５は、ステップ３において、Ｎｏ．２の反応容器３０１の廃液Ｌ２の液面の位置ｄ（ステップ１）に上方から近い液面近傍位置Ｐ３である位置ｄ、また、Ｎｏ．１の反応容器３０１の廃液Ｌ２の液面の位置ｄ（ステップ１）に上方から近い液面近傍位置Ｐ３である位置ｄに供給管８１を下降させる。
【００５３】
制御部４１からの指示を受けて、供給処理部８０４は、ポンプ５２を作動させると共に、仕切弁５６を開かせ、外部の水槽６２から供給口８２を通って、Ｎｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１内に純水Ｌ２を供給する。各反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで純水Ｌ２を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。Ｎｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１においては、液面近傍位置Ｐ３が、廃液Ｌ２の液面に対し共に位置ｄで一致しており、上方に位置していないが、Ｎｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１を始端から５番目、及び６番目の洗浄位置ＰＷに移動させるまでの間に、Ｎｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１の内面に残留している廃液Ｌ２の濃度を許容値以下に低下させているので、廃液Ｌ２の残留による測定不良の発生要因とならない。
【００５４】
次に、洗剤Ｌ３を供給するための第３の機構を説明する。この第３の機構は、ポンプ５３、仕切弁５７、洗剤槽６３、及び、供給管８１を有している。
【００５５】
制御部４１からの指示を受けて、供給管駆動部８０５は、供給管８１を上方位置Ｐ１から液面近傍位置Ｐ３に移動させる。
【００５６】
供給管駆動部８０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じである。すなわち、試料プローブ１０３を移動させるための所要時間ｔを求める場合と同様に、生成部４３は、制御部４１の指示を受け、上記式（２）を基に、予め定められたパルス数ｎ、及び、供給管８１を移動させる、予め定められた距離ｓから、所要時間ｔを求める。制御部４１は、所要時間ｔを制御情報として、記憶部４２に記憶させる。供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ上昇及び下降させる。供給管駆動部８０５は、ステップ１で示すＮｏ．５の反応容器３０１の廃液Ｌ２の液面の位置ａに上方から近い位置ｂである液面近傍位置Ｐ３に供給管８１を下降させる。
【００５７】
制御部４１からの指示を受けて、供給処理部８０４は、ポンプ５３を作動させると共に、仕切弁５７を開かせ、外部の洗剤槽６３から供給口８２を通って、反応容器３０１内に洗剤Ｌ３を供給する。反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ３を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗剤Ｌ３により、液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。供給処理部８０４は、洗剤Ｌ３の供給量０．３〜０．６ｃｃに対応する時間だけ仕切弁５７を開かせる。
【００５８】
ここで、「液面近傍位置」とは、反応容器３０１内の吸い出される前の廃液Ｌ２、Ｌ３の液面に上方から近い位置をいう。廃液Ｌ２の液面から液面近傍位置Ｐ３までの距離は、１ｍｍから５ｍｍであることが好ましく、さらに、２ｍｍから３ｍｍであることが好ましい。上方位置Ｐ１に移動させた供給管８１を図４に破線で示し、また、液面近傍位置Ｐ３に移動させた供給管８１を図４に実線で示す。
【００５９】
供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ下降させる。それにより、始端の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給する純水Ｌ２の液面の位置ａに対し、前記移動方向に始端から２番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給する洗剤Ｌ３の液面の位置ｂを高くすることが可能となる。反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ３を満たすことにより、反応容器３０１の内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗剤Ｌ３により、液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。洗剤Ｌ３の液面の位置ｂを図５に示す。
【００６０】
次に、洗剤Ｌ４を供給するための第３の機構を説明する。この第３の機構は、ポンプ５４、仕切弁５８、洗剤槽６４、及び、供給管８１を有している。
【００６１】
制御部４１からの指示を受けて、供給管駆動部８０５は、供給管８１を上方位置Ｐ１から液面近傍位置Ｐ３に移動させる。
【００６２】
供給管駆動部８０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じである。すなわち、試料プローブ１０３を移動させるための所要時間ｔを求める場合と同様に、生成部４３は、制御部４１の指示を受け、上記式（２）を基に、予め定められたパルス数ｎ、及び、供給管８１を移動させる、予め定められた距離ｓから、所要時間ｔを求める。制御部４１は、所要時間ｔを制御情報として、記憶部４２に記憶させる。供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ上昇及び下降させる。供給管駆動部８０５は、ステップ１で示すＮｏ．４の反応容器３０１の廃液Ｌ３の液面の位置ｂに上方から近い位置ｃである液面近傍位置Ｐ３に供給管８１を下降させる。
【００６３】
制御部４１からの指示を受けて、供給処理部８０４は、ポンプ５４を作動させると共に、仕切弁５８を開かせ、外部の洗剤槽６４から供給口８２を通って、反応容器３０１内に洗剤Ｌ４を供給する。反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ４を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗剤Ｌ４により、液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。供給処理部８０４は、洗剤Ｌ４の供給量０．３〜０．６ｃｃに対応する時間だけ仕切弁５８を開かせる。
【００６４】
ここで、「液面近傍位置」とは、反応容器３０１内の吸い出される前の廃液Ｌ３の液面に上方から近い位置をいう。廃液Ｌ３の液面から液面近傍位置Ｐ３までの距離は、１ｍｍから５ｍｍであることが好ましく、さらに、２ｍｍから３ｍｍであることが好ましい。上方位置Ｐ１に移動させた供給管８１を図４に破線で示し、また、液面近傍位置Ｐ３に移動させた供給管８１を図４に実線で示す。
【００６５】
供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ下降させる。それにより、前記移動方向に始端から２番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給する洗剤Ｌ３の液面の位置ｂに対し、前記移動方向に始端から３番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給する洗剤Ｌ４の液面の位置ｃを高くすることが可能となる。反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ４を満たすことにより、反応容器３０１の内面の液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗剤Ｌ４により、液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。洗剤Ｌ４の液面の位置ｃを図５に示す。
【００６６】
上記した供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５の構成により、洗浄液を満たす液面を位置ａから位置ｄまで徐々に高くすることにより、洗浄後に廃液となった洗浄液であって、反応容器３０１内面の液面以下に付着した洗浄液を必要最小限の液量の次の洗浄液により洗浄することが可能となる。
【００６７】
（廃液の吸引処理：ステップ４）
ステップ４では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【００６８】
ステップ３、又は、ステップ４の後に、反応庫用駆動部３０４は、各反応容器３０１を移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させる。したがって、反応庫用駆動部３０４は、Ｎｏ．１の反応容器３０１を終端の洗浄位置ＰＷから移動させ、Ｎｏ．２〜Ｎｏ．６までの反応容器３０１を次の洗浄位置ＰＷに移動させ、Ｎｏ．７の反応容器３０１を始端の洗浄位置ＰＷに移動させる。
【００６９】
（洗浄液の供給処理：ステップ５）
ステップ５では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【００７０】
駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、各洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗浄液を供給する場合、洗浄液の液面の位置を、洗浄位置ＰＷ毎に同じ高さとし、移動方向で手前の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置に対し、移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置を高くし、前段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、その反応容器３０１を後段の洗浄位置ＰＷに移動させたときに洗浄するように構成した。
【００７１】
ステップ５の洗浄液の供給処理を、ステップ３の洗浄液の供給処理と対比して説明する。
【００７２】
Ｎｏ．４の反応容器３０１において、反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで純水Ｌ２を満たすことにより（ステップ３）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ４を洗浄することが可能となる。また、Ｎｏ．５の反応容器３０１において、反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ４を満たすことにより（ステップ３）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。さらに、Ｎｏ．６の反応容器３０１において、反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ３を満たすことにより（ステップ３）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。ステップ３のいずれの反応容器３０１において、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を洗浄することが可能となる。
【００７３】
なお、Ｎｏ．２及びＮｏ．３の反応容器３０１において、反応容器３０内の吸い出される前の純水Ｌ２の液面と同じ高い位置まで純水Ｌ２を満たしたが（ステップ３）、この時点で、Ｎｏ．２及びＮｏ．３の反応容器３０１内の廃液Ｌ２の濃度を十分に低下させており、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を十分に洗浄することが可能となる。また、純水Ｌ２の液面を同じ高さにしたので、供給処理部８０４の構成を複雑化しないで済む。
【００７４】
（廃液の吸引処理：ステップ６）
ステップ６では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【００７５】
ステップ５、又は、ステップ６の後に、反応庫用駆動部３０４は、各反応容器３０１を移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させる。したがって、反応庫用駆動部３０４は、Ｎｏ．２の反応容器３０１を終端の洗浄位置ＰＷから移動させ、Ｎｏ．３〜Ｎｏ．７までの反応容器３０１を次の洗浄位置ＰＷに移動させ、Ｎｏ．８の反応容器３０１を始端の洗浄位置ＰＷに移動させる。
【００７６】
（洗浄液の供給処理：ステップ７）
ステップ７では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【００７７】
駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、各洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗浄液を供給する場合、洗浄液の液面の位置を、洗浄位置ＰＷ毎に同じ高さとし、移動方向で手前の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置に対し、移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置を高くし、前段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、その反応容器３０１を後段の洗浄位置ＰＷに移動させたときに洗浄するように構成した。
【００７８】
ステップ７の洗浄液の供給処理を、ステップ５の洗浄液の供給処理と対比して説明する。
【００７９】
Ｎｏ．５の反応容器３０１において、反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで純水Ｌ２を満たすことにより（ステップ５）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ４を洗浄することが可能となる。また、Ｎｏ．６の反応容器３０１において、の反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ４を満たすことにより（ステップ５）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。さらに、Ｎｏ．７の反応容器３０１において、反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ３を満たすことにより（ステップ５）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。ステップ５のいずれの反応容器３０１においても、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を洗浄することが可能となる。
【００８０】
なお、Ｎｏ．３及びＮｏ．４の反応容器３０１において、反応容器３０内の吸い出される前の純水Ｌ２の液面と同じ高い位置まで純水Ｌ２を満たしたが（ステップ５）、この時点で、Ｎｏ．３及びＮｏ．４の反応容器３０１内の廃液Ｌ２の濃度を十分に低下させており、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を十分に洗浄することが可能となる。また、純水Ｌ２の液面を同じ高さにしたので、供給処理部８０４の構成を複雑化しないで済む。
【００８１】
以上、ステップ１からステップ７の順番に、駆動制御部４０及び洗浄装置５０の構成を説明した。
【００８２】
（自動分析装置の動作）
次に、自動分析装置の一連の動作について説明する。
（試料分注、試薬分注）
試料プローブ１０３が試料の吸引をし、吸引した試料を反応容器３０１に吐出する。分注後の試料プローブ１０３は、洗浄され、待機位置へ移動し、次の試料分注に備える。
また、試薬プローブ２０３が試薬の吸引をし、吸引した試薬を反応容器３０１に吐出する。分注後の試薬プローブ２０３は、洗浄され、待機位置へ移動し、次の試薬分注に備える。以上のようにして、試料及び試薬が反応容器３０１に分注される。
【００８３】
（攪拌、測定）
試料及び試薬が分注された反応容器３０１を、反応庫用駆動部３０４によって、測光ユニット１９０の方へ移動させる。それまでの間、反応容器３０１内の試料及び試薬は攪拌子（図示省略）によって攪拌される。測光ユニット１９０は、攪拌後の反応容器３０１に光を照射して、透過した光から設定波長における吸光度を測定する。
【００８４】
（洗浄、乾燥）
反応容器３０１の洗浄については、洗浄装置５０の動作として、図４及び図５を参照して前述したので、ここでは省略する。
【００８５】
反応容器３０１の乾燥について説明する。反応容器３０１の移動方向に沿って図示省略した乾燥装置が設けられている。乾燥装置は、前記洗浄装置５０の先に設けられている。乾燥装置は、吸水性を有する多孔質のチップが用いられ、チップを反応容器３０１内に進入、後退させることにより、反応容器３０１内に付着した洗浄液を吸水し、洗浄後の反応容器３０１を乾燥させる。
【００８６】
液面以下に残留した廃液を確実に洗浄し、洗浄後の反応容器３０１を乾燥させたので、廃液の残留による測定不良の発生や測定精度の低下を防止した反応容器３０１とすことができ、次回の試料及び試薬の分注に用いることが可能となる。
【００８７】
前記第１実施形態において、前段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、その反応容器３０１を後段の洗浄位置ＰＷに移動させたときに洗浄するように駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０を構成したが、同一段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１を複数回洗浄するとき、前回の洗浄で反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、次回の洗浄で洗うように駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０を構成しても良い。
【００８８】
［第２の実施の形態］
次に、この発明の第２の実施形態について図６を参照して説明する。図６は、自動分析装置における一連の洗浄動作を示した図である。
【００８９】
第２の実施形態に係る駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０においては、同一段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１を複数回洗浄するとき、前回の洗浄で反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、次回の洗浄で洗うようにした。
【００９０】
第２の実施形態に係る駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、同一段の洗浄の回が進むに応じて、洗浄液の液面の位置を高くしていく点を除けば、第１の実施形態に係る駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０と基本的に同じ構成である。
【００９１】
以下、ステップ１からステップ７の順番に、駆動制御部４０及び洗浄装置５０の構成を説明する。
【００９２】
（ステップ１）
反応庫用駆動部３０４が、吸光度を測定した後の反応溶液である廃液Ｌ１の入ったＮｏ．６の反応容器３０１を始端の洗浄位置ＰＷに移動させる。廃液Ｌ１の液面の位置Ｈを図６のステップ１に示す。
【００９３】
（廃液の吸引処理：ステップ２）
制御部４１からの指示を受けて、吸引処理部７０４、及び、吸引管駆動部７０５は、反応容器３０１内の廃液Ｌ１を吸引口７２から外部の廃液槽６１に排出する。
【００９４】
（洗浄液の供給処理：ステップ３）
制御部４１からの指示を受けて、供給処理部８０４は仕切弁５６を開かせる開放時間を調整する。
ステップ１に示すＮｏ．６の反応容器３０１に廃液Ｌ１の液面の位置Ｈに上方から近い位置ａである液面近傍位置Ｐ３まで、純水Ｌ２を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ１を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の純水Ｌ２により、液面以下に付着した廃液Ｌ１を洗浄することが可能となる。Ｎｏ．６の反応容器３０１に供給された純水Ｌ２の液面の位置ａを図６のステップ３に示す。
【００９５】
（廃液の吸引処理：ステップ４）
ステップ４では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【００９６】
（洗浄液の供給処理：ステップ５）
ステップ５では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【００９７】
駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、前回（ステップ３）の反応容器３０１に供給される洗浄液（純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）の液面の位置に対し、次回（ステップ５）の反応容器３０１に供給される洗浄液（純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）の液面の位置を高くし、前回の反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４の汚れを、次回の洗浄液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４で洗浄するように構成した。反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗浄液（純水Ｌ２及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を洗浄することが可能となる。次回の反応容器３０１に供給された純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４の液面の位置ｂを図６のステップ５に示す。
【００９８】
（廃液の吸引処理：ステップ６）
ステップ６では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【００９９】
（洗浄液の供給処理：ステップ７）
ステップ７では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【０１００】
駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、前回（ステップ５）の反応容器３０１に供給される洗浄液（純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）の液面の位置に対し、次回（ステップ７）の反応容器３０１に供給される洗浄液（純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）の液面の位置を高くし、前回の反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４の汚れを、次回の洗浄液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４で洗浄するように構成した。反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗浄液（純水Ｌ２及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を洗浄することが可能となる。次回の反応容器３０１に供給された純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４の液面の位置ｃを図６のステップ５に示す。
【０１０１】
前記実施形態では、駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０が、前回の反応容器３０１の洗浄処理と次回の反応容器３０１の洗浄処理との間に廃液の吸引処理（ステップ２、ステップ４、及び、ステップ６）をするように構成したが、反応容器３０１の洗浄処理、及び、廃液の吸引処理を同時に行うように構成しても良い。
【０１０２】
また、前記実施形態では、供給処理部８０４が前段又は前回の反応容器３０１内の廃液の液面の位置より高い位置に次段又は次回の洗浄液を満たすように構成したが、供給処理部８０４が前段又は前回の反応容器３０１内の廃液の液面の位置より高い位置に次段又は次回の洗浄液を吹き付けるように構成しても良い。
【０１０３】
［第３の実施の形態］
次に、この発明の第３の実施形態について図７を参照して説明する。図７は、自動分析装置における一連の洗浄動作を示した図である。
【０１０４】
第３の実施形態に係る駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、第１の実施形態に係る各構成と基本的に同じであるが、反応容器３１の洗浄処理、及び、廃液の吸引処理を同時に行うように構成され、また、供給処理部８０４が前段又は前回の反応容器３０１内の廃液の液面の位置より高い位置に次段又は次回の洗浄液を吹き付けるように構成されている点が、第１の実施形態に係る構成と異なる。
【０１０５】
以下、ステップ１からステップ７の順番に、駆動制御部４０及び洗浄装置５０の構成を説明する。
【０１０６】
（ステップ１）
反応庫用駆動部３０４が、吸光度を測定した後の反応溶液である廃液Ｌ１の入ったＮｏ．６の反応容器３０１を始端の洗浄位置ＰＷに移動させる。廃液Ｌ１の液面の位置Ｈを図７のステップ１に示す。
【０１０７】
（廃液の吸引処理：ステップ２）
制御部４１からの指示を受けて、供給管駆動部８０５は、吸引口７２を上方位置から底部近傍位置に移動させるように、吸引管７１を移動させる。制御部４１からの指示を受けて、吸引処理部７０４、及び、吸引管駆動部７０５は、反応容器３０１内の廃液Ｌ１を吸引口７２から外部の廃液槽６１に排出する。第３実施形態において、吸引管７１及び供給管８１は一体的に設けられており、供給管駆動部８０５が、吸引口７２を上方位置から底部近傍位置に移動させることで、同時に、供給口８２を上方位置から液面近傍位置に移動させる。一体的に設けられた吸引管７１及び供給管８１を図７のステップ３に示す。
【０１０８】
（洗浄液の供給処理：ステップ３）
ステップ２において、既に、供給口８２は、廃液Ｌ１の液面に上方から近い液面近傍位置Ｐ３に移動している。廃液の吸引処理と洗浄液の供給処理との間で、吸引管７１及び供給管８１を移動させる必要が無く、反応容器３０１の洗浄を迅速に処理することが可能となる。
【０１０９】
反応容器３０内の吸い出される前の廃液Ｌ１の液面より高い位置に、液面近傍位置に移動させた供給口８２から純水Ｌ２を吹き付けることにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ１を洗浄することが可能となる。
【０１１０】
ここで、「液面近傍位置」とは、供給口８２と、反応容器３０１内の吸い出される前の廃液Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４の液面との位置関係において、該液面に洗浄液を吹き付ける程度に近い供給口８２の位置をいう。廃液Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４の液面から液面近傍位置Ｐ３までの距離は、３ｍｍから１０ｍｍであることが好ましく、さらに、５ｍｍから７ｍｍであることが好ましい。液面近傍位置Ｐ３に移動させた供給管８１を図７に示す。また、反応容器３０１に供給された純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４の液面の位置ａを図７のステップ３に示す。
【０１１１】
（廃液の吸引処理：ステップ４）
ステップ４では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【０１１２】
（洗浄液の供給処理：ステップ５）
ステップ５では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【０１１３】
（廃液の吸引処理：ステップ６）
ステップ６では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【０１１４】
（洗浄液の供給処理：ステップ７）
ステップ７では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【０１１５】
また、洗浄液の供給処理と並行して、反応容器３０１内の廃液の吸引処理を行う。洗浄液の供給処理と廃液の吸引処理とを同時に行うため、各洗浄液による反応容器３０１の洗浄時間を短くし、反応容器３０１を各洗浄位置ＰＷに移動させる時間を例えば、４．５秒に短縮させることが可能となる。
【０１１６】
前記実施形態では、廃液の種類、及び、廃液の量に関係なく、供給処理部８０４が、反応容器３０１に供給する洗浄液を予め定められた液量としたが、廃液の種類、及び、廃液の量に対応した液量の洗浄液を反応容器３０１に供給するようにしても良い。それにより、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を確実に洗浄することが可能となる。
【符号の説明】
【０１１７】
１０ 自動分析装置 １００ 試料庫 １０１ 試料容器
１０３ 試料プローブ １０４ 試料庫用駆動部
１０５ 試料プローブ駆動部 １２０ ボールネジ １２１ ナット
１２２ ステッピングモータ １２２Ａ 上下動用ステッピングモータ
１２３ スプライン軸 １２４ 回動機構 １２５ スプライン側プーリ
１２７ モータ側プーリ １２８ 回動用ベルト １２９ ブロック
１３０ 試料ラック １９０ 測光ユニット
２００ 試薬庫 ２０１ 試薬容器 ２０３ 試薬プローブ
２０４ 試薬庫用駆動部 ２０５ 試薬プローブ駆動部 ２１０ 試薬庫ケース
３００ 反応庫 ３０１ 反応容器 ３０４ 反応庫用駆動部
３３０ 反応ライン
４０ 駆動制御部 ４１ 制御部 ４２ 記憶部 ４３ 生成部
４４ 表示制御部 ４５ 表示部 ４６ 操作部
５０ 洗浄装置 ５１、５２、５３、５４ ポンプ
５５、５６、５７、５８ 仕切弁 ５９ 流量調整弁
６１ 廃液槽 ６２ 水槽 ６３、６４ 洗剤槽
７１ 吸引管 ７２ 吸引口 ７０５ 吸引管駆動部
８１ 供給管 ８２ 供給口 ８０５ 供給管駆動部
９０１ 洗浄槽
【技術分野】
【０００１】
この発明は、試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析するようにした自動分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反応溶液の成分を分析した後、廃液としての反応溶液が排出される。また、廃液を排出した後、廃液を入れていた反応容器は洗浄される。
【０００３】
反応容器を洗浄する従来技術としては、第１に、反応容器内の廃液を排出した後、洗浄液を反応容器内に供給し、その後、洗浄液を反応容器内から排出する。この洗浄液の供給排出を何サイクルか繰り返して、反応容器を洗浄する技術がある。第２に、上記第１の洗浄を終了した後、次の洗浄として、異なる種類の洗浄液を反応容器内に供給排出を行って、反応容器を洗浄する技術がある。第３に、反応容器を洗浄するとき、反応容器内に洗浄液を一旦溜めた後、洗浄液を反応容器内から排出する技術がある。第４に、反応容器を洗浄するとき、反応容器内に洗浄液を供給しながら排出して、反応容器内に洗浄液を溜めない技術がある。また、第５に、上記第１から第４の従来技術を組み合わせた技術も考えられる。
【０００４】
異なる種類の洗浄液を反応容器内に供給排出を行う上記第２の従来技術としては、複数の洗浄液を収容する複数の洗剤ボトルと、複数の洗浄液が流通する複数の流路と、複数の洗浄液を複数の洗剤ボトルからそれぞれ吸入し複数の流路へ吐出する複数のポンプと、複数の流路にそれぞれつながれ、各流路を流通する各洗浄液で反応容器を洗浄する洗浄ノズルと、複数の洗剤ポンプと複数の流路との間の接続を切り替える弁と、を有する（例えば、特許文献１）。
【０００５】
反応容器内に洗浄液を一旦溜めた後、洗浄液を反応容器内から排出する上記第３の従来技術としては、操作部を介して通常の洗浄サイクル時間よりも長い洗浄サイクル時間を設定すると、制御部が、操作部を介して設定された洗浄サイクル時間から通常の洗浄サイクル時間を減算処理して吸引待ち時間を算出しこのデータをメモリに記憶制御する。制御部は、測定終了検出部により例えば一日の測定の終了等の測定の終了が検出されると、メモリに記憶された吸引待ち時間のデータに基づいて、各反応容器に対して吐出した洗浄液（及び純水）を、該吐出した時刻から吸引待ち時間経過後に吸引するように洗浄ユニットを制御する。これにより、吐出した洗浄液等を吸引待ち時間分反応容器内に留めておくことができるため、高い洗浄効果を得ることができ、反応容器内に汚れが蓄積する不都合を防止することができる（例えば、特許文献２）。
【０００６】
また、廃液を排出した後の反応容器には、廃液の液面付近に廃液が残っていることが知られている。反応容器を洗浄した後に、残った廃液が、反応溶液の成分を分析するときの測定不良の要因や測定精度を低下させる要因となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−１１５６６１号公報
【特許文献２】特開２００１−２８９８６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特許文献に記載された第１から第５の従来技術では、反応容器に供給される洗浄液の液面が、廃液の液面より下方である場合、反応容器に廃液が残って、上記した測定不良の要因や測定精度を低下させる要因となる。これに対し、反応容器に供給される洗浄液の液面が、廃液の液面より上方であり過ぎると、洗浄液を無駄に消費することになって、ランニングコストが嵩むという問題点がある。
【０００９】
この発明は、上記の問題を解決するものであり、廃液の残留による測定不良の発生や測定精度の低下を防止し、ランニングコストを低減することが可能な自動分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、この発明は、廃液の液面の位置に対応させた液量の洗浄液を供給することに着目した。
具体的に、この発明の第１の形態は、試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析する自動分析装置において、前記分析した後の前記反応溶液、又は、前記反応容器を洗浄した後の洗浄液である廃液を、前記反応容器内から外部に排出するための吸引機構と、供給口を有し、該供給口を前記廃棄が排出される前の前記廃液の液面に上方から近い液面近傍位置に移動し、該移動した前記供給口を通して外部から前記反応容器内に洗浄液を供給するための供給機構と、を有することを特徴とする自動分析装置である。
また、この発明の第２の形態は、試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析する自動分析装置において、前記分析した後の前記反応溶液、又は、前記反応容器を洗浄した後の洗浄液である廃液が入れられた前記反応容器を洗浄位置に移動させる駆動部と、先端部に吸引口が設けられ、前記反応容器内から外部に前記廃液を排出するための吸引管と、先端部に供給口が設けられ、外部から前記反応容器内に洗浄液を供給するための供給管と、前記吸引口を、前記洗浄位置に移動された前記反応容器の上方位置と前記反応容器内の底部近傍位置との間を往復移動させるように、前記吸引管を移動させる吸引管駆動部と、前記底部近傍位置に移動させた前記吸引口から前記廃液を吸い出す吸引処理部と、前記供給口を、前記廃棄が吸い出された後の前記反応容器の上方位置と前記吸い出される前の前記廃液の液面に上方から近い液面近傍位置との間を往復移動させるように、前記供給管を移動させる供給管駆動部と、前記液面近傍位置に移動させた前記供給口へ前記洗浄液を供給する供給処理部と、を有することを特徴とする自動分析装置である。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によると、廃液の残留による測定不良の発生や測定精度の低下を防止し、ランニングコストを低減することが可能となる。
【００１２】
この発明の第１の形態によると、供給口から供給された洗浄液により、液面近傍位置以下の廃液を洗浄することが可能となり、測定不良の要因や測定精度を低下させる要因となる液面以下に残った廃液を必要最小限の液量の洗浄液により、確実に洗浄することが可能となる。
また、この発明の第２の形態によると、排出前の廃液の液面近傍位置に供給口を移動させ、その供給口へ供給された洗浄液により、液面近傍位置以下の廃液を洗浄することが可能となり、測定不良の要因や測定精度を低下させる要因となる液面以下に残った廃液を必要最小限の液量の洗浄液により、確実に洗浄することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】この発明の第１の実施形態に係る自動分析装置の平面図である。
【図２】自動分析装置の概念図である。
【図３】自動分析装置の機能ブロック図である。
【図４】反応容器を洗浄するための洗浄装置の構成図である。
【図５】各反応容器に供給された洗浄液による一連の洗浄動作を示した図である。
【図６】この発明の第２の実施形態に係る自動分析装置における一連の洗浄動作を示した図である。
【図７】この発明の第３の実施形態に係る自動分析装置における一連の洗浄動作を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［第１の実施形態］
（構成）
この発明の第１の実施形態に係る自動分析装置の構成について図１〜図５を参照して説明する。図１は、自動分析装置の平面図、図２は自動分析装置の概念図、図３は、自動分析装置の機能ブロック図である。
【００１５】
先ず、自動分析装置の基本的な構成について図１から図３を参照して説明する。自動分析装置１０は、試料庫１００、試料（生体サンプル）を収容する試料容器１０１、試料プローブ１０３、第１及び第２の試薬庫２００、試薬を収容する試薬容器２０１、試薬プローブ２０３、反応庫３００、反応容器３０１、駆動制御部４０、記憶部４２、表示制御部４４、表示部４５、操作部４６、洗浄装置５０、吸引管７１、供給管８１、洗浄槽９０１、試料を吸引及び吐出させるためのポンプ（図示省略）、電磁弁（図示省略）、及び、電磁弁を駆動させるアクチュエータ（図示省略）を有する。
【００１６】
上記構成により、自動分析装置１０は、試料及び試薬を反応容器３０１に分注して反応溶液を生成する工程、反応溶液を測光する工程、反応溶液を排出した後の反応容器３０１を洗浄する工程、及び、反応容器３０１を乾燥する工程を順番に実行する。
【００１７】
駆動制御部４０は、制御部４１、該制御部４１の指示を受けて、それぞれ駆動する試料庫用駆動部１０４、試料プローブ駆動部１０５、試薬庫用駆動部２０４、試薬プローブ駆動部２０５、反応庫用駆動部３０４、吸引処理部７０４、吸引管駆動部７０５、供給処理部８０４、及び、供給管駆動部８０５を有する。なお、吸引処理部７０４、吸引管駆動部７０５、供給処理部８０４、及び、供給管駆動部８０５については、洗浄装置５０の説明の中で詳述する。
【００１８】
制御部４１は、試料庫用駆動部１０４、試料プローブ駆動部１０５、試薬庫用駆動部２０４、試薬プローブ駆動部２０５、反応庫用駆動部３０４、及び、前記ポンプ、前記電磁弁、及び、前記アクチュエータを含む各種駆動部を制御する。
【００１９】
制御部４１は、前記各種駆動部を制御するための制御情報を記憶部４２に記憶させる。制御部４１は、記憶部４２から制御情報を読み出し、前記試料プローブ駆動部１０５等を制御する。制御部４１は、試料プローブ１０３、試薬プローブ２０３、吸引管７１、及び、供給管８１を含む各部品の下降及び上昇の各動作を制御する。
【００２０】
次に、各種駆動部について説明する。先ず、試料庫１００、及び、試料プローブ駆動部１０５について、図１から図３を参照して説明する。
【００２１】
試料庫１００は、複数の試料容器１０１を円周方向に並べた状態で載置するディスクサンプラである試料ラック１３０と、試料ラック１３０を円周方向に回転させることにより、複数の試料容器１０１を順番に吸引位置ＰＩに移動させる試料庫用駆動部１０４とを有する。
【００２２】
試料プローブ駆動部１０５は、試料プローブ１０３を吸引位置ＰＩと吐出位置ＰＯとの間で回動させ、また、試料プローブ１０３を所定位置と作業位置との間で上昇及び下降させる。それにより、試料プローブ１０３は、吸引位置ＰＩに回動して、所定位置から作業位置に下降し、吸引位置ＰＩに移動させた試料容器１０１から試料を吸引する。その後、試料プローブ１０３は、作業位置から所定位置に上昇し、吐出位置ＰＯに回動して、前記吸引した試料を、吐出位置ＰＯに移動させた反応容器３０１に吐出する。
【００２３】
次に、第１及び第２の各試薬庫２００の構成について説明する。第１及び第２の各試薬庫２００は基本的に同じ構成をしている。以下に、第１の試薬庫２００について主に説明し、第２の試薬庫２００については、第１の試薬庫２００と重複する説明を省略する。
【００２４】
試薬庫２００は、試薬容器２０１を円周方向に並べた状態で載置し、試薬容器２０１を円周方向に回転させることにより、複数の試薬容器２０１を順番に吸引位置ＰＩに移動させる試薬庫用駆動部２０４を有する。試薬容器２０１には、試料に含まれる特定成分に対して選択的に反応する試薬が収容されている。
【００２５】
第２の試薬庫２００の試薬容器２０１には、前記第１の試薬庫２００の試薬容器２０１に収容されている試薬と対をなす試薬が収容されている。
【００２６】
試薬プローブ駆動部２０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じである。試薬プローブ駆動部２０５は、試薬プローブ２０３を吸引位置ＰＩと吐出位置ＰＯとの間で回動させ、また、試薬プローブ２０３を所定位置と作業位置との間で上昇及び下降させる。それにより、試薬プローブ２０３は、吸引位置ＰＩに回動して、所定位置から作業位置に下降し、吸引位置ＰＩに移動させた試薬容器２０１から試薬を吸引する。その後、試薬プローブ２０３は、作業位置から所定位置に上昇し、吐出位置ＰＯに回動して、前記吸引した試薬を、吐出位置ＰＯに移動させた反応容器３０１に吐出する。
【００２７】
次に、反応庫３００について説明する。反応庫３００には複数の反応容器３０１が収容されている。反応庫３００は、複数の反応容器３０１を円周方向に並べた状態で載置する反応ライン３３０と、反応ライン３３０を円周方向に回転させることにより、複数の反応容器３０１を順番に吐出位置ＰＯに移動させる反応庫用駆動部３０４とを有する。反応庫用駆動部３０４は、試料及び試薬が分注された反応容器３０１を、測定位置に移動させる。吐出位置ＰＯから測定位置に移動させるまでの間、反応容器３０１内の試料及び試薬は攪拌子（図示省略）によって攪拌される。それにより、反応溶液が生成される。
【００２８】
測定位置には測光ユニット１９０が配されている。測光ユニット１９０は、攪拌後の反応容器３０１に光を照射して、透過した光から設定波長における吸光度を測定する。反応庫用駆動部３０４は、反応容器３０１を測定位置から洗浄位置ＰＷに移動させる。洗浄位置ＰＷの近傍には洗浄装置５０が配されている。洗浄装置５０は、測定後の反応溶液である廃液を反応容器３０１から外部に排出し、廃液を排出した後の反応容器３０１に洗浄液を供給して反応容器３０１を洗浄する。
【００２９】
次に、洗浄装置５０、及び、洗浄装置５０の動作を制御するための駆動制御部４０について図３から図５を参照して説明する。図４は、反応容器３０１を洗浄するための洗浄装置５０の構成図、図５は、各反応容器に供給された洗浄液による一連の洗浄動作を示した図である。
【００３０】
駆動制御部４０は、制御部４１、吸引処理部７０４、吸引管駆動部７０５、供給処理部８０４、及び、供給管駆動部８０５を有している。
【００３１】
洗浄装置５０は、廃液を反応容器３０１から外部に排出するための第１の機構、廃液を排出した後の反応容器３０１に洗浄液である純水を供給するための第２の機構、廃液を排出した後の反応容器３０１に洗浄液である洗剤を供給するための第３の機構を有している。第１の機構が吸引機構を有している。また、第２の機構及び第３の機構が供給機構を有している。
【００３２】
以下、第１の機構から第３の機構の各構成及び動作を順に説明する。前記廃液を反応容器３０１から外部に排出するための第１の機構は、ポンプ５１、仕切弁５５、廃液槽６１、及び、吸引管７１を有している。吸引管７１は各反応容器３０１にそれぞれ配されている。吸引管７１の先端部には吸引口７２が設けられている。ここで、「廃液」とは、吸光度を測定した後の反応溶液であり、又は、反応容器３０１を洗浄した後の洗浄液をいう。
【００３３】
反応容器３０１の移動方向の手前側から奥側にわたって複数回の洗浄をするために６つの洗浄位置ＰＷが設けられている。反応庫用駆動部３０４は、反応容器３０１を前記移動方向の手前側にある始端の洗浄位置ＰＷから前記移動方向の奥側にある終端の洗浄位置ＰＷまでの間を１つずつ順次移動させる。６つの洗浄位置ＰＷに移動させた６つの反応容器３０１を、図４にＮｏ．１〜Ｎｏ．６の符号を付して示す。
【００３４】
この第１実施形態においては、各洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗浄液を供給する場合、洗浄液の液面の位置を、洗浄位置ＰＷ毎に同じ高さとし、移動方向で手前の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置に対し、移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置を高くし、前段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、その反応容器３０１を後段の洗浄位置ＰＷに移動させたときに洗浄するように、駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０を構成した。
【００３５】
各洗浄位置ＰＷにおいて、反応容器３０１は予め定められた順番に洗浄される。その順番を図５にステップ１からステップ７を付して示した。以下、ステップ１からステップ７の順番に、洗浄装置５０、及び、洗浄装置５０の動作を制御するための駆動制御部４０の構成を説明する。
【００３６】
（ステップ１）
反応庫用駆動部３０４は、反応容器３０１を所定時間（例えば、９秒）毎に前の洗浄位置ＰＷから次の洗浄位置ＰＷに移動させる。終端の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．１の反応容器３０１、及び、始端の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．６の反応容器３０１であって、吸光度を測定した後の反応溶液である廃液Ｌ１の入ったＮｏ．６の反応容器３０１を図５のステップ１に示す。
【００３７】
（廃液の吸引処理：ステップ２）
制御部４１からの指示を受けて、吸引管駆動部７０５は、吸引口７２を反応容器３０１の上方である上方位置Ｐ１から反応容器３０１内の底部に近い底部近傍位置Ｐ２に移動させるように、吸引管７１を移動させる。また、制御部４１からの指示を受けて、吸引処理部７０４は、ポンプ５１を作動させると共に、仕切弁５５を開かせ、反応容器３０１内の廃液Ｌ１を吸引口７２から外部の廃液槽６１に排出する。
【００３８】
吸引管駆動部７０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じである。すなわち、試料プローブ１０３を移動させるための所要時間ｔを求める場合と同様に、生成部４３は、制御部４１の指示を受け、上記式（２）を基に、予め定められたパルス数ｎ、及び、吸引管７１を移動させる、予め定められた距離ｓから、所要時間ｔを求める。制御部４１は、所要時間ｔを制御情報として、記憶部４２に記憶させる。吸引管駆動部７０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、吸引管７１を上方位置Ｐ１と底部近傍位置Ｐ２との間の所定距離ｓだけ上昇及び下降させる。
【００３９】
上方位置Ｐ１に移動させた吸引管７１を図４に破線で示し、また、底部近傍位置Ｐ２に移動させた吸引管７１を図４に実線で示す。廃液Ｌ１の吸引処理を図５にステップ２で示す。ステップ２では、Ｎｏ．６の反応容器３０１は、空になっている。
【００４０】
廃液Ｌ１の排出が完了した後、制御部４１からの指示を受けて、吸引処理部７０４は、ポンプ５１の作動を停止させると共に、仕切弁５５を閉じさせる。また、制御部４１からの指示を受けて、吸引管駆動部７０５は、吸引管７１を底部近傍位置Ｐ２から上方位置Ｐ１に移動させる。
【００４１】
（洗浄液の供給処理：ステップ３）
供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５は、廃液を排出した後の反応容器３０１に洗浄液を供給する。ここで、「廃液」とは、測定後の反応溶液である前記廃液Ｌ１、並びに、洗浄後の純水Ｌ２、洗剤Ｌ３、及び洗剤Ｌ４をいう。また、「洗浄液」とは純水Ｌ２、並びに、洗剤Ｌ３、及び、洗剤Ｌ４をいう。
【００４２】
廃液Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４を排出した後の反応容器３０１に純水Ｌ２を供給するための第２の機構において、供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５は、始端の洗浄位置ＰＷ、及び、終端側の３つの洗浄位置ＰＷにそれぞれ移動させた全部で４つの反応容器３０１に純水Ｌ２を供給する。純水Ｌ２が供給される反応容器３０１を図４及び図５のステップ３にＮｏ．１〜Ｎｏ．３、及び、Ｎｏ．６の番号を付して示す。
【００４３】
廃液Ｌ２、Ｌ３を排出した後の反応容器３０１に洗剤Ｌ３、Ｌ４を供給するための第３の機構において、供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５は、反応容器３０１の移動方向に２番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗剤Ｌ３を供給し、前記移動方向に始端から３番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗剤Ｌ４を供給する。洗剤Ｌ３が供給される反応容器３０１を図４にＮｏ．５の番号を付して示し、洗剤Ｌ４が供給される反応容器３０１を図４にＮｏ．４の番号を付して示す。
【００４４】
先ず、廃液Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４を排出した後の反応容器３０１に純水Ｌ２を供給するための第２の機構を説明する。第２の機構は、ポンプ５２、仕切弁５６、流量調整弁５９、水槽６２、及び、供給管８１を有している。
【００４５】
ステップ３において、制御部４１からの指示を受けて、供給管駆動部８０５は、上方位置Ｐ１にある供給管８１を、各反応容器３０１毎に予め定められた液面近傍位置Ｐ３（反応容器３０１内の吸い出される前の廃液の液面に上方から近い位置）に下降させる。次に、供給処理部８０４は、制御部４１からの指示を受けて、ポンプ５２を作動させると共に、仕切弁５６を開かせ、外部の水槽６２から供給口８２を通って、各反応容器３０１に洗浄液を供給する。
【００４６】
供給管駆動部８０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じであり、供給口８２を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間を往復移動させるように、供給管８１を移動させる。すなわち、試料プローブ１０３を移動させるための所要時間ｔを求める場合と同様に、生成部４３は、制御部４１の指示を受け、上記式（２）を基に、予め定められたパルス数ｎ、及び、供給管８１を移動させる、予め定められた距離ｓから、所要時間ｔを求める。制御部４１は、所要時間ｔを制御情報として、記憶部４２に記憶させる。供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ上昇及び下降させる。
【００４７】
終端側の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１であって、廃液Ｌ２を排出した後の反応容器３０１に純水Ｌ２を供給するための第２の機構が、流量調整弁５９を有しないのに対し、始端の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．６の反応容器３０１であって、廃液Ｌ１を排出した後の反応容器３０１に純水Ｌ２を供給するための第２の機構が、流量調整弁５９を有する点が異なる。始端の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．６の反応容器３０１に供給する純水Ｌ２の流量を調節することにより、調整後の純水Ｌ２の液面の位置ａに対し、終端側の洗浄位置ＰＷに移動させたＮｏ．１及びＮｏ．２の反応容器３０１に供給する純水Ｌ２の液面の位置ｄを所定幅だけ高くすることが可能となる。位置ａから位置ｄまでの前記所定幅の間に、洗剤Ｌ３の液面の位置ｂ、及び、洗剤Ｌ４の液面の位置ｃを設けることが可能となる。洗剤Ｌ３の液面の位置ｂ、洗剤Ｌ４の液面の位置ｃ、及び、純水Ｌ２の液面の位置ｄを図５に示す。なお、洗剤Ｌ３の液面の位置ｂ、及び、洗剤Ｌ４の液面の位置ｃについては、廃液Ｌ２、Ｌ３を排出した後の反応容器３０１に洗剤Ｌ３、Ｌ４を供給するための第３の機構の説明の中で、後述する。
【００４８】
以下、供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５の構成及び動作を、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、及び、Ｎｏ．６の各反応容器３０１に対応させて説明する。先ず、供給管駆動部８０５は、Ｎｏ．６の反応容器３０１の廃液Ｌ１の液面の位置Ｈ（ステップ１）に上方から近い液面近傍位置Ｐ３である位置ａに供給管８１を下降させ、また、Ｎｏ．３の反応容器３０１の廃液Ｌ４の液面の位置ｃ（ステップ１）に上方から近い液面近傍位置Ｐ３である位置ｄに供給管８１を下降させる。
【００４９】
供給処理部８０４は、制御部４１からの指示を受けて、ポンプ５２を作動させると共に、仕切弁５６を開かせ、外部の水槽６２から供給口８２を通って、Ｎｏ．３及びＮｏ．６の各反応容器３０１内に純水Ｌ２を供給する。供給処理部８０４は、純水Ｌ２の予め定められた供給量（例えば、０．３〜０．６ｃｃ）に対応する時間だけ仕切弁５６を開かせる。
【００５０】
Ｎｏ．６の反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３である位置ａまで純水Ｌ２を満たす。それにより、反応容器３０１内面の液面の位置Ｈ以下に付着した廃液Ｌ１を洗浄することが可能となる。また、Ｎｏ．３の反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３である位置ｄまで純水Ｌ２を満たす。それにより、反応容器３０１内面の液面の位置ｃ以下に付着した廃液Ｌ４を洗浄することが可能となる。以上のように、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液Ｌ１、Ｌ４を洗浄して、純水Ｌ２の無駄な消費を無くすことができる。
【００５１】
ここで、「液面近傍位置」とは、供給口８２と、反応容器３０１内の吸い出される前の廃液Ｌ１、Ｌ４の液面との位置関係において、液面に近い供給口８２の位置をいう。廃液Ｌ１、Ｌ４の液面から液面近傍位置Ｐ３までの距離は、１ｍｍから５ｍｍであることが好ましく、さらに、２ｍｍから３ｍｍであることが好ましい。上方位置Ｐ１に移動させた供給管８１を図４に破線で示し、また、液面近傍位置Ｐ３に移動させた供給管８１を図４に実線で示す。
【００５２】
また、供給管駆動部８０５は、ステップ３において、Ｎｏ．２の反応容器３０１の廃液Ｌ２の液面の位置ｄ（ステップ１）に上方から近い液面近傍位置Ｐ３である位置ｄ、また、Ｎｏ．１の反応容器３０１の廃液Ｌ２の液面の位置ｄ（ステップ１）に上方から近い液面近傍位置Ｐ３である位置ｄに供給管８１を下降させる。
【００５３】
制御部４１からの指示を受けて、供給処理部８０４は、ポンプ５２を作動させると共に、仕切弁５６を開かせ、外部の水槽６２から供給口８２を通って、Ｎｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１内に純水Ｌ２を供給する。各反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで純水Ｌ２を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。Ｎｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１においては、液面近傍位置Ｐ３が、廃液Ｌ２の液面に対し共に位置ｄで一致しており、上方に位置していないが、Ｎｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１を始端から５番目、及び６番目の洗浄位置ＰＷに移動させるまでの間に、Ｎｏ．１及びＮｏ．２の各反応容器３０１の内面に残留している廃液Ｌ２の濃度を許容値以下に低下させているので、廃液Ｌ２の残留による測定不良の発生要因とならない。
【００５４】
次に、洗剤Ｌ３を供給するための第３の機構を説明する。この第３の機構は、ポンプ５３、仕切弁５７、洗剤槽６３、及び、供給管８１を有している。
【００５５】
制御部４１からの指示を受けて、供給管駆動部８０５は、供給管８１を上方位置Ｐ１から液面近傍位置Ｐ３に移動させる。
【００５６】
供給管駆動部８０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じである。すなわち、試料プローブ１０３を移動させるための所要時間ｔを求める場合と同様に、生成部４３は、制御部４１の指示を受け、上記式（２）を基に、予め定められたパルス数ｎ、及び、供給管８１を移動させる、予め定められた距離ｓから、所要時間ｔを求める。制御部４１は、所要時間ｔを制御情報として、記憶部４２に記憶させる。供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ上昇及び下降させる。供給管駆動部８０５は、ステップ１で示すＮｏ．５の反応容器３０１の廃液Ｌ２の液面の位置ａに上方から近い位置ｂである液面近傍位置Ｐ３に供給管８１を下降させる。
【００５７】
制御部４１からの指示を受けて、供給処理部８０４は、ポンプ５３を作動させると共に、仕切弁５７を開かせ、外部の洗剤槽６３から供給口８２を通って、反応容器３０１内に洗剤Ｌ３を供給する。反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ３を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗剤Ｌ３により、液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。供給処理部８０４は、洗剤Ｌ３の供給量０．３〜０．６ｃｃに対応する時間だけ仕切弁５７を開かせる。
【００５８】
ここで、「液面近傍位置」とは、反応容器３０１内の吸い出される前の廃液Ｌ２、Ｌ３の液面に上方から近い位置をいう。廃液Ｌ２の液面から液面近傍位置Ｐ３までの距離は、１ｍｍから５ｍｍであることが好ましく、さらに、２ｍｍから３ｍｍであることが好ましい。上方位置Ｐ１に移動させた供給管８１を図４に破線で示し、また、液面近傍位置Ｐ３に移動させた供給管８１を図４に実線で示す。
【００５９】
供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ下降させる。それにより、始端の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給する純水Ｌ２の液面の位置ａに対し、前記移動方向に始端から２番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給する洗剤Ｌ３の液面の位置ｂを高くすることが可能となる。反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ３を満たすことにより、反応容器３０１の内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗剤Ｌ３により、液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。洗剤Ｌ３の液面の位置ｂを図５に示す。
【００６０】
次に、洗剤Ｌ４を供給するための第３の機構を説明する。この第３の機構は、ポンプ５４、仕切弁５８、洗剤槽６４、及び、供給管８１を有している。
【００６１】
制御部４１からの指示を受けて、供給管駆動部８０５は、供給管８１を上方位置Ｐ１から液面近傍位置Ｐ３に移動させる。
【００６２】
供給管駆動部８０５の構成は、試料プローブ駆動部１０５の構成と基本的に同じである。すなわち、試料プローブ１０３を移動させるための所要時間ｔを求める場合と同様に、生成部４３は、制御部４１の指示を受け、上記式（２）を基に、予め定められたパルス数ｎ、及び、供給管８１を移動させる、予め定められた距離ｓから、所要時間ｔを求める。制御部４１は、所要時間ｔを制御情報として、記憶部４２に記憶させる。供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ上昇及び下降させる。供給管駆動部８０５は、ステップ１で示すＮｏ．４の反応容器３０１の廃液Ｌ３の液面の位置ｂに上方から近い位置ｃである液面近傍位置Ｐ３に供給管８１を下降させる。
【００６３】
制御部４１からの指示を受けて、供給処理部８０４は、ポンプ５４を作動させると共に、仕切弁５８を開かせ、外部の洗剤槽６４から供給口８２を通って、反応容器３０１内に洗剤Ｌ４を供給する。反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ４を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗剤Ｌ４により、液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。供給処理部８０４は、洗剤Ｌ４の供給量０．３〜０．６ｃｃに対応する時間だけ仕切弁５８を開かせる。
【００６４】
ここで、「液面近傍位置」とは、反応容器３０１内の吸い出される前の廃液Ｌ３の液面に上方から近い位置をいう。廃液Ｌ３の液面から液面近傍位置Ｐ３までの距離は、１ｍｍから５ｍｍであることが好ましく、さらに、２ｍｍから３ｍｍであることが好ましい。上方位置Ｐ１に移動させた供給管８１を図４に破線で示し、また、液面近傍位置Ｐ３に移動させた供給管８１を図４に実線で示す。
【００６５】
供給管駆動部８０５は、パルス数ｎを所要時間ｔ付与され、供給管８１を上方位置Ｐ１と液面近傍位置Ｐ３との間の所定距離ｓだけ下降させる。それにより、前記移動方向に始端から２番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給する洗剤Ｌ３の液面の位置ｂに対し、前記移動方向に始端から３番目の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給する洗剤Ｌ４の液面の位置ｃを高くすることが可能となる。反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ４を満たすことにより、反応容器３０１の内面の液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗剤Ｌ４により、液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。洗剤Ｌ４の液面の位置ｃを図５に示す。
【００６６】
上記した供給処理部８０４及び供給管駆動部８０５の構成により、洗浄液を満たす液面を位置ａから位置ｄまで徐々に高くすることにより、洗浄後に廃液となった洗浄液であって、反応容器３０１内面の液面以下に付着した洗浄液を必要最小限の液量の次の洗浄液により洗浄することが可能となる。
【００６７】
（廃液の吸引処理：ステップ４）
ステップ４では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【００６８】
ステップ３、又は、ステップ４の後に、反応庫用駆動部３０４は、各反応容器３０１を移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させる。したがって、反応庫用駆動部３０４は、Ｎｏ．１の反応容器３０１を終端の洗浄位置ＰＷから移動させ、Ｎｏ．２〜Ｎｏ．６までの反応容器３０１を次の洗浄位置ＰＷに移動させ、Ｎｏ．７の反応容器３０１を始端の洗浄位置ＰＷに移動させる。
【００６９】
（洗浄液の供給処理：ステップ５）
ステップ５では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【００７０】
駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、各洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗浄液を供給する場合、洗浄液の液面の位置を、洗浄位置ＰＷ毎に同じ高さとし、移動方向で手前の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置に対し、移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置を高くし、前段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、その反応容器３０１を後段の洗浄位置ＰＷに移動させたときに洗浄するように構成した。
【００７１】
ステップ５の洗浄液の供給処理を、ステップ３の洗浄液の供給処理と対比して説明する。
【００７２】
Ｎｏ．４の反応容器３０１において、反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで純水Ｌ２を満たすことにより（ステップ３）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ４を洗浄することが可能となる。また、Ｎｏ．５の反応容器３０１において、反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ４を満たすことにより（ステップ３）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。さらに、Ｎｏ．６の反応容器３０１において、反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ３を満たすことにより（ステップ３）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。ステップ３のいずれの反応容器３０１において、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を洗浄することが可能となる。
【００７３】
なお、Ｎｏ．２及びＮｏ．３の反応容器３０１において、反応容器３０内の吸い出される前の純水Ｌ２の液面と同じ高い位置まで純水Ｌ２を満たしたが（ステップ３）、この時点で、Ｎｏ．２及びＮｏ．３の反応容器３０１内の廃液Ｌ２の濃度を十分に低下させており、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を十分に洗浄することが可能となる。また、純水Ｌ２の液面を同じ高さにしたので、供給処理部８０４の構成を複雑化しないで済む。
【００７４】
（廃液の吸引処理：ステップ６）
ステップ６では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【００７５】
ステップ５、又は、ステップ６の後に、反応庫用駆動部３０４は、各反応容器３０１を移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させる。したがって、反応庫用駆動部３０４は、Ｎｏ．２の反応容器３０１を終端の洗浄位置ＰＷから移動させ、Ｎｏ．３〜Ｎｏ．７までの反応容器３０１を次の洗浄位置ＰＷに移動させ、Ｎｏ．８の反応容器３０１を始端の洗浄位置ＰＷに移動させる。
【００７６】
（洗浄液の供給処理：ステップ７）
ステップ７では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【００７７】
駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、各洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に洗浄液を供給する場合、洗浄液の液面の位置を、洗浄位置ＰＷ毎に同じ高さとし、移動方向で手前の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置に対し、移動方向で次の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１に供給される洗浄液の液面の位置を高くし、前段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、その反応容器３０１を後段の洗浄位置ＰＷに移動させたときに洗浄するように構成した。
【００７８】
ステップ７の洗浄液の供給処理を、ステップ５の洗浄液の供給処理と対比して説明する。
【００７９】
Ｎｏ．５の反応容器３０１において、反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで純水Ｌ２を満たすことにより（ステップ５）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ４を洗浄することが可能となる。また、Ｎｏ．６の反応容器３０１において、の反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ４を満たすことにより（ステップ５）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ３を洗浄することが可能となる。さらに、Ｎｏ．７の反応容器３０１において、反応容器３０１内の液面近傍位置Ｐ３まで洗剤Ｌ３を満たすことにより（ステップ５）、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を洗浄することが可能となる。ステップ５のいずれの反応容器３０１においても、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を洗浄することが可能となる。
【００８０】
なお、Ｎｏ．３及びＮｏ．４の反応容器３０１において、反応容器３０内の吸い出される前の純水Ｌ２の液面と同じ高い位置まで純水Ｌ２を満たしたが（ステップ５）、この時点で、Ｎｏ．３及びＮｏ．４の反応容器３０１内の廃液Ｌ２の濃度を十分に低下させており、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２を十分に洗浄することが可能となる。また、純水Ｌ２の液面を同じ高さにしたので、供給処理部８０４の構成を複雑化しないで済む。
【００８１】
以上、ステップ１からステップ７の順番に、駆動制御部４０及び洗浄装置５０の構成を説明した。
【００８２】
（自動分析装置の動作）
次に、自動分析装置の一連の動作について説明する。
（試料分注、試薬分注）
試料プローブ１０３が試料の吸引をし、吸引した試料を反応容器３０１に吐出する。分注後の試料プローブ１０３は、洗浄され、待機位置へ移動し、次の試料分注に備える。
また、試薬プローブ２０３が試薬の吸引をし、吸引した試薬を反応容器３０１に吐出する。分注後の試薬プローブ２０３は、洗浄され、待機位置へ移動し、次の試薬分注に備える。以上のようにして、試料及び試薬が反応容器３０１に分注される。
【００８３】
（攪拌、測定）
試料及び試薬が分注された反応容器３０１を、反応庫用駆動部３０４によって、測光ユニット１９０の方へ移動させる。それまでの間、反応容器３０１内の試料及び試薬は攪拌子（図示省略）によって攪拌される。測光ユニット１９０は、攪拌後の反応容器３０１に光を照射して、透過した光から設定波長における吸光度を測定する。
【００８４】
（洗浄、乾燥）
反応容器３０１の洗浄については、洗浄装置５０の動作として、図４及び図５を参照して前述したので、ここでは省略する。
【００８５】
反応容器３０１の乾燥について説明する。反応容器３０１の移動方向に沿って図示省略した乾燥装置が設けられている。乾燥装置は、前記洗浄装置５０の先に設けられている。乾燥装置は、吸水性を有する多孔質のチップが用いられ、チップを反応容器３０１内に進入、後退させることにより、反応容器３０１内に付着した洗浄液を吸水し、洗浄後の反応容器３０１を乾燥させる。
【００８６】
液面以下に残留した廃液を確実に洗浄し、洗浄後の反応容器３０１を乾燥させたので、廃液の残留による測定不良の発生や測定精度の低下を防止した反応容器３０１とすことができ、次回の試料及び試薬の分注に用いることが可能となる。
【００８７】
前記第１実施形態において、前段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、その反応容器３０１を後段の洗浄位置ＰＷに移動させたときに洗浄するように駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０を構成したが、同一段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１を複数回洗浄するとき、前回の洗浄で反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、次回の洗浄で洗うように駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０を構成しても良い。
【００８８】
［第２の実施の形態］
次に、この発明の第２の実施形態について図６を参照して説明する。図６は、自動分析装置における一連の洗浄動作を示した図である。
【００８９】
第２の実施形態に係る駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０においては、同一段の洗浄位置ＰＷに移動させた反応容器３０１を複数回洗浄するとき、前回の洗浄で反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液の汚れを、次回の洗浄で洗うようにした。
【００９０】
第２の実施形態に係る駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、同一段の洗浄の回が進むに応じて、洗浄液の液面の位置を高くしていく点を除けば、第１の実施形態に係る駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０と基本的に同じ構成である。
【００９１】
以下、ステップ１からステップ７の順番に、駆動制御部４０及び洗浄装置５０の構成を説明する。
【００９２】
（ステップ１）
反応庫用駆動部３０４が、吸光度を測定した後の反応溶液である廃液Ｌ１の入ったＮｏ．６の反応容器３０１を始端の洗浄位置ＰＷに移動させる。廃液Ｌ１の液面の位置Ｈを図６のステップ１に示す。
【００９３】
（廃液の吸引処理：ステップ２）
制御部４１からの指示を受けて、吸引処理部７０４、及び、吸引管駆動部７０５は、反応容器３０１内の廃液Ｌ１を吸引口７２から外部の廃液槽６１に排出する。
【００９４】
（洗浄液の供給処理：ステップ３）
制御部４１からの指示を受けて、供給処理部８０４は仕切弁５６を開かせる開放時間を調整する。
ステップ１に示すＮｏ．６の反応容器３０１に廃液Ｌ１の液面の位置Ｈに上方から近い位置ａである液面近傍位置Ｐ３まで、純水Ｌ２を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ１を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の純水Ｌ２により、液面以下に付着した廃液Ｌ１を洗浄することが可能となる。Ｎｏ．６の反応容器３０１に供給された純水Ｌ２の液面の位置ａを図６のステップ３に示す。
【００９５】
（廃液の吸引処理：ステップ４）
ステップ４では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【００９６】
（洗浄液の供給処理：ステップ５）
ステップ５では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【００９７】
駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、前回（ステップ３）の反応容器３０１に供給される洗浄液（純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）の液面の位置に対し、次回（ステップ５）の反応容器３０１に供給される洗浄液（純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）の液面の位置を高くし、前回の反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４の汚れを、次回の洗浄液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４で洗浄するように構成した。反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗浄液（純水Ｌ２及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を洗浄することが可能となる。次回の反応容器３０１に供給された純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４の液面の位置ｂを図６のステップ５に示す。
【００９８】
（廃液の吸引処理：ステップ６）
ステップ６では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【００９９】
（洗浄液の供給処理：ステップ７）
ステップ７では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【０１００】
駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、前回（ステップ５）の反応容器３０１に供給される洗浄液（純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）の液面の位置に対し、次回（ステップ７）の反応容器３０１に供給される洗浄液（純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）の液面の位置を高くし、前回の反応容器３０１内の液面付近に付着した廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４の汚れを、次回の洗浄液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４で洗浄するように構成した。反応容器３０内の液面近傍位置Ｐ３まで洗浄液（純水Ｌ２及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４）を満たすことにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４を洗浄することが可能となる。また、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を洗浄することが可能となる。次回の反応容器３０１に供給された純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４の液面の位置ｃを図６のステップ５に示す。
【０１０１】
前記実施形態では、駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０が、前回の反応容器３０１の洗浄処理と次回の反応容器３０１の洗浄処理との間に廃液の吸引処理（ステップ２、ステップ４、及び、ステップ６）をするように構成したが、反応容器３０１の洗浄処理、及び、廃液の吸引処理を同時に行うように構成しても良い。
【０１０２】
また、前記実施形態では、供給処理部８０４が前段又は前回の反応容器３０１内の廃液の液面の位置より高い位置に次段又は次回の洗浄液を満たすように構成したが、供給処理部８０４が前段又は前回の反応容器３０１内の廃液の液面の位置より高い位置に次段又は次回の洗浄液を吹き付けるように構成しても良い。
【０１０３】
［第３の実施の形態］
次に、この発明の第３の実施形態について図７を参照して説明する。図７は、自動分析装置における一連の洗浄動作を示した図である。
【０１０４】
第３の実施形態に係る駆動制御部４０、及び、洗浄装置５０は、第１の実施形態に係る各構成と基本的に同じであるが、反応容器３１の洗浄処理、及び、廃液の吸引処理を同時に行うように構成され、また、供給処理部８０４が前段又は前回の反応容器３０１内の廃液の液面の位置より高い位置に次段又は次回の洗浄液を吹き付けるように構成されている点が、第１の実施形態に係る構成と異なる。
【０１０５】
以下、ステップ１からステップ７の順番に、駆動制御部４０及び洗浄装置５０の構成を説明する。
【０１０６】
（ステップ１）
反応庫用駆動部３０４が、吸光度を測定した後の反応溶液である廃液Ｌ１の入ったＮｏ．６の反応容器３０１を始端の洗浄位置ＰＷに移動させる。廃液Ｌ１の液面の位置Ｈを図７のステップ１に示す。
【０１０７】
（廃液の吸引処理：ステップ２）
制御部４１からの指示を受けて、供給管駆動部８０５は、吸引口７２を上方位置から底部近傍位置に移動させるように、吸引管７１を移動させる。制御部４１からの指示を受けて、吸引処理部７０４、及び、吸引管駆動部７０５は、反応容器３０１内の廃液Ｌ１を吸引口７２から外部の廃液槽６１に排出する。第３実施形態において、吸引管７１及び供給管８１は一体的に設けられており、供給管駆動部８０５が、吸引口７２を上方位置から底部近傍位置に移動させることで、同時に、供給口８２を上方位置から液面近傍位置に移動させる。一体的に設けられた吸引管７１及び供給管８１を図７のステップ３に示す。
【０１０８】
（洗浄液の供給処理：ステップ３）
ステップ２において、既に、供給口８２は、廃液Ｌ１の液面に上方から近い液面近傍位置Ｐ３に移動している。廃液の吸引処理と洗浄液の供給処理との間で、吸引管７１及び供給管８１を移動させる必要が無く、反応容器３０１の洗浄を迅速に処理することが可能となる。
【０１０９】
反応容器３０内の吸い出される前の廃液Ｌ１の液面より高い位置に、液面近傍位置に移動させた供給口８２から純水Ｌ２を吹き付けることにより、反応容器３０１内面の液面以下に付着した廃液Ｌ１を洗浄することが可能となる。
【０１１０】
ここで、「液面近傍位置」とは、供給口８２と、反応容器３０１内の吸い出される前の廃液Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４の液面との位置関係において、該液面に洗浄液を吹き付ける程度に近い供給口８２の位置をいう。廃液Ｌ１、Ｌ２、Ｌ４の液面から液面近傍位置Ｐ３までの距離は、３ｍｍから１０ｍｍであることが好ましく、さらに、５ｍｍから７ｍｍであることが好ましい。液面近傍位置Ｐ３に移動させた供給管８１を図７に示す。また、反応容器３０１に供給された純水Ｌ２、及び、洗剤Ｌ３、Ｌ４の液面の位置ａを図７のステップ３に示す。
【０１１１】
（廃液の吸引処理：ステップ４）
ステップ４では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【０１１２】
（洗浄液の供給処理：ステップ５）
ステップ５では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【０１１３】
（廃液の吸引処理：ステップ６）
ステップ６では、前述したステップ２の廃液の吸引処理と基本的に同じ処理が行われる。反応容器３０１内の廃液Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が外部の廃液槽６１に排出される。
【０１１４】
（洗浄液の供給処理：ステップ７）
ステップ７では、前述したステップ３の洗浄液の供給処理と基本的に同じ処理が行われる。
【０１１５】
また、洗浄液の供給処理と並行して、反応容器３０１内の廃液の吸引処理を行う。洗浄液の供給処理と廃液の吸引処理とを同時に行うため、各洗浄液による反応容器３０１の洗浄時間を短くし、反応容器３０１を各洗浄位置ＰＷに移動させる時間を例えば、４．５秒に短縮させることが可能となる。
【０１１６】
前記実施形態では、廃液の種類、及び、廃液の量に関係なく、供給処理部８０４が、反応容器３０１に供給する洗浄液を予め定められた液量としたが、廃液の種類、及び、廃液の量に対応した液量の洗浄液を反応容器３０１に供給するようにしても良い。それにより、必要最小限の液量の洗浄液により、液面以下に付着した廃液を確実に洗浄することが可能となる。
【符号の説明】
【０１１７】
１０ 自動分析装置 １００ 試料庫 １０１ 試料容器
１０３ 試料プローブ １０４ 試料庫用駆動部
１０５ 試料プローブ駆動部 １２０ ボールネジ １２１ ナット
１２２ ステッピングモータ １２２Ａ 上下動用ステッピングモータ
１２３ スプライン軸 １２４ 回動機構 １２５ スプライン側プーリ
１２７ モータ側プーリ １２８ 回動用ベルト １２９ ブロック
１３０ 試料ラック １９０ 測光ユニット
２００ 試薬庫 ２０１ 試薬容器 ２０３ 試薬プローブ
２０４ 試薬庫用駆動部 ２０５ 試薬プローブ駆動部 ２１０ 試薬庫ケース
３００ 反応庫 ３０１ 反応容器 ３０４ 反応庫用駆動部
３３０ 反応ライン
４０ 駆動制御部 ４１ 制御部 ４２ 記憶部 ４３ 生成部
４４ 表示制御部 ４５ 表示部 ４６ 操作部
５０ 洗浄装置 ５１、５２、５３、５４ ポンプ
５５、５６、５７、５８ 仕切弁 ５９ 流量調整弁
６１ 廃液槽 ６２ 水槽 ６３、６４ 洗剤槽
７１ 吸引管 ７２ 吸引口 ７０５ 吸引管駆動部
８１ 供給管 ８２ 供給口 ８０５ 供給管駆動部
９０１ 洗浄槽
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析する自動分析装置において、
前記分析した後の前記反応溶液、又は、前記反応容器を洗浄した後の洗浄液である廃液を、前記反応容器内から外部に排出するための吸引機構と、
供給口を有し、該供給口を前記廃棄が排出される前の前記廃液の液面に上方から近い液面近傍位置に移動し、該移動した前記供給口を通して外部から前記反応容器内に洗浄液を供給するための供給機構と、
を有する
ことを特徴とする自動分析装置。
【請求項２】
試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析する自動分析装置において、
前記分析した後の前記反応溶液、又は、前記反応容器を洗浄した後の洗浄液である廃液が入れられた前記反応容器を洗浄位置に移動させる駆動部と、
先端部に吸引口が設けられ、前記反応容器内から外部に前記廃液を排出するための吸引管と、
先端部に供給口が設けられ、外部から前記反応容器内に洗浄液を供給するための供給管と、
前記吸引口を、前記洗浄位置に移動された前記反応容器の上方位置と前記反応容器内の底部近傍位置との間を往復移動させるように、前記吸引管を移動させる吸引管駆動部と、
前記底部近傍位置に移動させた前記吸引口から前記廃液を吸い出す吸引処理部と、
前記供給口を、前記廃棄が吸い出された後の前記反応容器の上方位置と前記吸い出される前の前記廃液の液面に上方から近い液面近傍位置との間を往復移動させるように、前記供給管を移動させる供給管駆動部と、
前記液面近傍位置に移動させた前記供給口へ前記洗浄液を供給する供給処理部と、
を有する
ことを特徴とする自動分析装置。
【請求項３】
前記反応容器の移動方向の手前側から奥側にわたって複数回の洗浄をするために、前記洗浄位置が複数設けられ、
前記吸引処理部は、各前記洗浄位置において、前記底部近傍位置に移動させた前記吸引口から前記廃液を吸い出し、
前記供給管駆動部は、前記奥側の前記洗浄位置に移動させた前記反応容器に対し、前記手前側の前記洗浄位置に移動させた反応容器内の前記液面近傍位置より高い前記液面近傍位置に前記供給口を移動させることを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
【請求項４】
前記供給処理部は、同一の前記洗浄位置に移動させた前記反応容器に対し、前記洗浄液を複数回供給し、
前記吸引処理部は、前記洗浄位置において、前記底部近傍位置に移動させた前記吸引口から前記廃液を吸い出し、
前記供給管駆動部は、前回の前記洗浄液を供給するときの前記反応容器に対し、次回の前記洗浄液を供給するときの前記反応容器内の前記液面近傍位置より高い前記液面近傍位置に前記供給口を移動させることを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
【請求項５】
前記供給管駆動部は、前記廃液の量に応じて予め定められた前記液面近傍位置に前記供給口を移動させたことを特徴とする請求項２から請求項４のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項６】
前記供給管駆動部は、前記廃液の種類に応じて予め定められた前記液面近傍位置に前記供給口を移動させることを特徴とする請求項２から請求項４のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項７】
前記供給処理部、及び、前記吸引処理部は、相互に同時に行われることを特徴とする請求項２から請求項６のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項１】
試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析する自動分析装置において、
前記分析した後の前記反応溶液、又は、前記反応容器を洗浄した後の洗浄液である廃液を、前記反応容器内から外部に排出するための吸引機構と、
供給口を有し、該供給口を前記廃棄が排出される前の前記廃液の液面に上方から近い液面近傍位置に移動し、該移動した前記供給口を通して外部から前記反応容器内に洗浄液を供給するための供給機構と、
を有する
ことを特徴とする自動分析装置。
【請求項２】
試料及び試薬を反応容器に分注することにより反応溶液を生成し、該反応溶液の成分を分析する自動分析装置において、
前記分析した後の前記反応溶液、又は、前記反応容器を洗浄した後の洗浄液である廃液が入れられた前記反応容器を洗浄位置に移動させる駆動部と、
先端部に吸引口が設けられ、前記反応容器内から外部に前記廃液を排出するための吸引管と、
先端部に供給口が設けられ、外部から前記反応容器内に洗浄液を供給するための供給管と、
前記吸引口を、前記洗浄位置に移動された前記反応容器の上方位置と前記反応容器内の底部近傍位置との間を往復移動させるように、前記吸引管を移動させる吸引管駆動部と、
前記底部近傍位置に移動させた前記吸引口から前記廃液を吸い出す吸引処理部と、
前記供給口を、前記廃棄が吸い出された後の前記反応容器の上方位置と前記吸い出される前の前記廃液の液面に上方から近い液面近傍位置との間を往復移動させるように、前記供給管を移動させる供給管駆動部と、
前記液面近傍位置に移動させた前記供給口へ前記洗浄液を供給する供給処理部と、
を有する
ことを特徴とする自動分析装置。
【請求項３】
前記反応容器の移動方向の手前側から奥側にわたって複数回の洗浄をするために、前記洗浄位置が複数設けられ、
前記吸引処理部は、各前記洗浄位置において、前記底部近傍位置に移動させた前記吸引口から前記廃液を吸い出し、
前記供給管駆動部は、前記奥側の前記洗浄位置に移動させた前記反応容器に対し、前記手前側の前記洗浄位置に移動させた反応容器内の前記液面近傍位置より高い前記液面近傍位置に前記供給口を移動させることを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
【請求項４】
前記供給処理部は、同一の前記洗浄位置に移動させた前記反応容器に対し、前記洗浄液を複数回供給し、
前記吸引処理部は、前記洗浄位置において、前記底部近傍位置に移動させた前記吸引口から前記廃液を吸い出し、
前記供給管駆動部は、前回の前記洗浄液を供給するときの前記反応容器に対し、次回の前記洗浄液を供給するときの前記反応容器内の前記液面近傍位置より高い前記液面近傍位置に前記供給口を移動させることを特徴とする請求項２に記載の自動分析装置。
【請求項５】
前記供給管駆動部は、前記廃液の量に応じて予め定められた前記液面近傍位置に前記供給口を移動させたことを特徴とする請求項２から請求項４のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項６】
前記供給管駆動部は、前記廃液の種類に応じて予め定められた前記液面近傍位置に前記供給口を移動させることを特徴とする請求項２から請求項４のいずれかに記載の自動分析装置。
【請求項７】
前記供給処理部、及び、前記吸引処理部は、相互に同時に行われることを特徴とする請求項２から請求項６のいずれかに記載の自動分析装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１１−２３２３１２（Ｐ２０１１−２３２３１２Ａ）
【公開日】平成２３年１１月１７日（２０１１．１１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１０５７８８（Ｐ２０１０−１０５７８８）
【出願日】平成２２年４月３０日（２０１０．４．３０）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【出願人】（５９４１６４５４２）東芝メディカルシステムズ株式会社 (4,066)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月１７日（２０１１．１１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月３０日（２０１０．４．３０）
【出願人】（０００００３０７８）株式会社東芝 (54,554)
【出願人】（５９４１６４５４２）東芝メディカルシステムズ株式会社 (4,066)
【Ｆターム（参考）】
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