自動化診断用分析器および方法
【課題】複数の診断アッセイを同時に実行するための自動化分析器およびプロセスを提供すること。
【解決手段】核酸に基づく増幅反応を実施するためのプロセスであって、該プロセスは、a)処理デッキ上の第一位置に配置された分離ステーションにおいて、標的核酸を、流体試料中に存在する他の材料から分離する工程;b)該処理デッキ上の第二位置に配置された増幅ステーションにおいて、前記分離された標的核酸を、反応受容器中で1つ以上の増幅試薬とともに、該標的核酸中に含まれる標的配列を増幅させるのに十分な時間および条件下でインキュベートする工程;c)該分離された標的核酸を含む反応受容器を、工程b)の前に該増幅ステーションへと運搬する工程、を包含する、プロセス。
【解決手段】核酸に基づく増幅反応を実施するためのプロセスであって、該プロセスは、a)処理デッキ上の第一位置に配置された分離ステーションにおいて、標的核酸を、流体試料中に存在する他の材料から分離する工程;b)該処理デッキ上の第二位置に配置された増幅ステーションにおいて、前記分離された標的核酸を、反応受容器中で1つ以上の増幅試薬とともに、該標的核酸中に含まれる標的配列を増幅させるのに十分な時間および条件下でインキュベートする工程;c)該分離された標的核酸を含む反応受容器を、工程b)の前に該増幅ステーションへと運搬する工程、を包含する、プロセス。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
試料中の標的核酸の存在を検出するための方法であって、該方法は、分析器において以下の自動化された工程:
(a)標的核酸を含む試料を受容器に提供する工程であって、該受容器は、複数の一体的に形成された受容器を備えるユニットの一部であり、そして、該ユニットが、該試料の流体成分を吸引するための取り外し可能な接触制限要素を保持する、工程;
(b)該受容器内で該標的核酸を単離する工程;
(c)該接触制限要素を、吸引プローブの端部に設置する工程;
(d)該標的核酸が該受容器内に単離されたまま留まる間に、該試料の流体成分を該接触制限要素と接触させて、該流体成分を該吸引プローブで吸引する工程;
(e)工程(b)で単離した標的核酸を核酸増幅手順に供し、増幅産物の情報を生じる工程;および
(f)工程(e)の増幅産物を検出する工程であって、該増幅産物が、該試料中の該標的核酸の存在の指標となる、工程
を実施する工程を包含する、方法。
【請求項2】
前記受容部の各々が開放頂端部を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記受容部の各々が管状の形状を有する、請求項1または2に記載の方法。
【請求項4】
前記接触制限要素が導電性である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
【請求項5】
請求項4に記載の方法であって、さらに、前記工程(d)における前記流体成分のレベルを感知する自動化された工程を包含し、ここで、前記吸引チューブと前記接触制限要素とが、容量性流体レベルの感知を実施するためのコンデンサの一部を構成する、方法。
【請求項6】
前記接触制限要素が、軸方向に延びる貫通孔を有するほぼ円筒形の構造である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
【請求項7】
流体を吸引するための接触制限要素が、前記ユニットの前記受容器の各々と操作可能に関連している、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
【請求項8】
前記接触制限要素が、前記工程(d)における前記試料の流体成分の吸引の前に、前記ユニットによって摩擦的嵌めで保持される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
【請求項9】
前記工程(b)が、前記標的核酸を固体支持体上に固定することを含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
【請求項10】
前記工程(b)の後に、前記固体支持体を洗浄緩衝液で1回またはそれより多く洗浄する工程をさらに包含する、請求項9に記載の方法。
【請求項11】
前記固体支持体が磁気応答性粒子を含み、そして、前記工程(b)が、該固体支持体を磁場に供することを含む、請求項9または10に記載の方法。
【請求項12】
前記標的核酸は、捕捉プローブを有する固体支持体上に固定されている、請求項9〜11のいずれか1項に記載の方法。
【請求項13】
前記試料の流体成分が非標的核酸を含む、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
【請求項14】
前記ユニットが、工程(e)を実施するために、インキュベータの温度制御チャンバへと移動される、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
【請求項15】
請求項1〜14のいずれか1項に記載の方法であって、さらに、前記工程(e)の前に、前記複数の受容器の各々にシリコンオイル層を分配する自動化された工程を包含する、方法。
【請求項16】
前記検出工程は、前記増幅産物にプローブをハイブリダイズさせることを含む、請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
【請求項17】
前記プローブは、検出可能な標識を含む、請求項16に記載の方法。
【請求項18】
前記分析器が独立ユニットである、請求項1〜17のいずれか1項に記載の方法。
【請求項19】
前記方法の前記工程は、前記分析器のハウジング内で実施される、請求項18に記載の方法。
【請求項20】
前記方法の前記工程は、前記ハウジング内に収容される処理デッキ上で行われる、請求項19に記載の方法。
【請求項1】
試料中の標的核酸の存在を検出するための方法であって、該方法は、分析器において以下の自動化された工程:
(a)標的核酸を含む試料を受容器に提供する工程であって、該受容器は、複数の一体的に形成された受容器を備えるユニットの一部であり、そして、該ユニットが、該試料の流体成分を吸引するための取り外し可能な接触制限要素を保持する、工程;
(b)該受容器内で該標的核酸を単離する工程;
(c)該接触制限要素を、吸引プローブの端部に設置する工程;
(d)該標的核酸が該受容器内に単離されたまま留まる間に、該試料の流体成分を該接触制限要素と接触させて、該流体成分を該吸引プローブで吸引する工程;
(e)工程(b)で単離した標的核酸を核酸増幅手順に供し、増幅産物の情報を生じる工程;および
(f)工程(e)の増幅産物を検出する工程であって、該増幅産物が、該試料中の該標的核酸の存在の指標となる、工程
を実施する工程を包含する、方法。
【請求項2】
前記受容部の各々が開放頂端部を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記受容部の各々が管状の形状を有する、請求項1または2に記載の方法。
【請求項4】
前記接触制限要素が導電性である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
【請求項5】
請求項4に記載の方法であって、さらに、前記工程(d)における前記流体成分のレベルを感知する自動化された工程を包含し、ここで、前記吸引チューブと前記接触制限要素とが、容量性流体レベルの感知を実施するためのコンデンサの一部を構成する、方法。
【請求項6】
前記接触制限要素が、軸方向に延びる貫通孔を有するほぼ円筒形の構造である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
【請求項7】
流体を吸引するための接触制限要素が、前記ユニットの前記受容器の各々と操作可能に関連している、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
【請求項8】
前記接触制限要素が、前記工程(d)における前記試料の流体成分の吸引の前に、前記ユニットによって摩擦的嵌めで保持される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
【請求項9】
前記工程(b)が、前記標的核酸を固体支持体上に固定することを含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
【請求項10】
前記工程(b)の後に、前記固体支持体を洗浄緩衝液で1回またはそれより多く洗浄する工程をさらに包含する、請求項9に記載の方法。
【請求項11】
前記固体支持体が磁気応答性粒子を含み、そして、前記工程(b)が、該固体支持体を磁場に供することを含む、請求項9または10に記載の方法。
【請求項12】
前記標的核酸は、捕捉プローブを有する固体支持体上に固定されている、請求項9〜11のいずれか1項に記載の方法。
【請求項13】
前記試料の流体成分が非標的核酸を含む、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
【請求項14】
前記ユニットが、工程(e)を実施するために、インキュベータの温度制御チャンバへと移動される、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
【請求項15】
請求項1〜14のいずれか1項に記載の方法であって、さらに、前記工程(e)の前に、前記複数の受容器の各々にシリコンオイル層を分配する自動化された工程を包含する、方法。
【請求項16】
前記検出工程は、前記増幅産物にプローブをハイブリダイズさせることを含む、請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
【請求項17】
前記プローブは、検出可能な標識を含む、請求項16に記載の方法。
【請求項18】
前記分析器が独立ユニットである、請求項1〜17のいずれか1項に記載の方法。
【請求項19】
前記方法の前記工程は、前記分析器のハウジング内で実施される、請求項18に記載の方法。
【請求項20】
前記方法の前記工程は、前記ハウジング内に収容される処理デッキ上で行われる、請求項19に記載の方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図6A】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図23A】
【図23B】
【図23C】
【図24】
【図25】
【図25A】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29A】
【図29B】
【図29C】
【図29D】
【図30A】
【図30B】
【図30C】
【図30D】
【図31A】
【図31B】
【図31C】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42A】
【図42B】
【図42C】
【図43】
【図44】
【図45】
【図45A】
【図46】
【図47】
【図48】
【図49】
【図50】
【図51】
【図52】
【図53】
【図54】
【図55】
【図56】
【図57】
【図58】
【図59】
【図60】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図6A】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図23A】
【図23B】
【図23C】
【図24】
【図25】
【図25A】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29A】
【図29B】
【図29C】
【図29D】
【図30A】
【図30B】
【図30C】
【図30D】
【図31A】
【図31B】
【図31C】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42A】
【図42B】
【図42C】
【図43】
【図44】
【図45】
【図45A】
【図46】
【図47】
【図48】
【図49】
【図50】
【図51】
【図52】
【図53】
【図54】
【図55】
【図56】
【図57】
【図58】
【図59】
【図60】
【公開番号】特開2012−55323(P2012−55323A)
【公開日】平成24年3月22日(2012.3.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−277356(P2011−277356)
【出願日】平成23年12月19日(2011.12.19)
【分割の表示】特願2008−169684(P2008−169684)の分割
【原出願日】平成11年4月30日(1999.4.30)
【出願人】(500506530)ジェン−プロウブ インコーポレイテッド (58)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成24年3月22日(2012.3.22)
【国際特許分類】
【出願日】平成23年12月19日(2011.12.19)
【分割の表示】特願2008−169684(P2008−169684)の分割
【原出願日】平成11年4月30日(1999.4.30)
【出願人】(500506530)ジェン−プロウブ インコーポレイテッド (58)
【Fターム(参考)】
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