蒸着方法及び蒸着装置
【課題】基板を搬送しながら行う蒸着において、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にする。
【解決手段】蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段４により、蒸着マスク１６Ｂに形成されたアライメントマークと有機ＥＬ表示用基板９表面に予め形成されたピクセルとを撮像し、該撮像画像に基づいてアライメントマークの基準位置とピクセルの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段５により蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを上記基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、搬送中の有機ＥＬ表示用基板９のピクセル上に所定のパターンを蒸着して形成するものである。
【解決手段】蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段４により、蒸着マスク１６Ｂに形成されたアライメントマークと有機ＥＬ表示用基板９表面に予め形成されたピクセルとを撮像し、該撮像画像に基づいてアライメントマークの基準位置とピクセルの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段５により蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを上記基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、搬送中の有機ＥＬ表示用基板９のピクセル上に所定のパターンを蒸着して形成するものである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着方法に関し、詳しくは、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にしようとする蒸着方法及び蒸着装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種の蒸着方法は、基板の面積より面積が小さい蒸着マスクを使用し、基板を蒸着マスクに対して一方向に相対的に移動させながら、蒸着源から蒸発された蒸着材料を蒸着マスクの開口部を通して基板上に蒸着し、基板の全面に所望の蒸着パターンを形成するものとなっていた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２９７５６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、このような従来の蒸着方法においては、相対的に移動中の基板に対して蒸着マスクを位置合わせしながら蒸着するものではなかったので、移動機構の機械精度に基づいて相対移動中の基板に発生する移動方向に略直交する方向の位置ずれを補正することができず、蒸着位置精度を向上することができなかった。したがって、基板を相対移動しながら、緻密なパターンを蒸着して形成することができず、例えば高精細な有機ＥＬ表示装置を製造することができなかった。
【０００５】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にしようとする蒸着方法及び蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明による蒸着方法は、基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着方法であって、前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段により、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像し、前記撮像画像に基づいて前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、前記基準パターン上に前記所定のパターンを蒸着形成するものである。
【０００７】
また、前記基板は、有機ＥＬ表示用基板である。これにより、搬送中の有機ＥＬ表示用基板に対して蒸着マスクを位置合わせしながら、蒸着を実行する。
【０００８】
また、本発明による蒸着装置は、基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着装置であって、真空チャンバ内部に、前記基板を搬送する搬送手段と、前記搬送手段の下方に設けられ、上端部を開口し前記基板の搬送方向に略直交する方向に長軸を有する箱体の内部に蒸着材料を加熱して溶融させるルツボを有し、さらに前記箱体の上端部に前記箱体の長軸方向に複数の開口部を所定間隔で並設した前記蒸着マスクを配設した蒸着源ユニットと、前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられ、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像する撮像手段と、前記撮像手段による撮像画像に基づいて検出された前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせするアライメント手段と、を備えたものである。
【０００９】
このような構成により、真空チャンバ内部で、搬送手段により蒸着マスクに対向して基板を搬送しながら、搬送手段の下方に設けられた蒸着源ユニットの箱体の内部に有するルツボで蒸着材料を溶融させ、箱体の上端部に配設され箱体の長軸方向に複数の開口部を所定間隔で並設した蒸着マスクの上記開口部を通して基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する。その際、蒸着マスクによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段により蒸着マスクに形成されたアライメントマークと基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像し、撮像手段による撮像画像に基づいて検出されたアライメントマークの基準位置と基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段で蒸着マスクを基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせする。
【００１０】
さらに、前記蒸着源ユニットは、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを前記基板の搬送方向に略直交方向に一直線状に並べて所定長さに形成されたものである。これにより、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを基板の搬送方向に略直交方向に一直線状に並べて所定長さに形成された蒸着源ユニットで基板表面に蒸着材料を蒸着する。
【００１１】
そして、前記蒸着源ユニットは、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを前記基板の搬送方向に略直交方向に互い違いに並べて所定長さに形成されたものである。これにより、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを基板の搬送方向に略直交方向に互い違いに並べて所定長さに形成された蒸着源ユニットで基板表面に蒸着材料を蒸着する。
【００１２】
また、前記蒸着源ユニットは、前記基板の搬送方向に所定間隔で複数並設され、複数種の蒸着材料を同時に蒸着可能に形成されたものである。これにより、基板の搬送方向に所定間隔で並設された複数の蒸着源ユニットで複数種の蒸着材料を同時に蒸着する。
【００１３】
さらに、前記蒸着マスクは、前記蒸着源ユニットの前記箱体の側面から前記基板の搬送方向手前側に突出させて片部を有し、該片部に前記アライメントマークを形成したものである。これにより、蒸着源ユニットの箱体の側面から基板の搬送方向手前側に突出した蒸着マスクの片部に形成されたアライメントマークにより、蒸着マスクの開口部と基板の基準パターンとの位置合わせをする。
【００１４】
さらにまた、前記撮像手段は、走査型電子顕微鏡である。これにより、走査型電子顕微鏡で蒸着マスクのアライメントマークと基板の基準パターンを撮像する。
【００１５】
そして、前記基板は、有機ＥＬ表示用基板である。これにより、搬送中の有機ＥＬ表示用基板に対して蒸着マスクを位置合わせしながら、蒸着を実行する。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１又は３に係る発明によれば、搬送中の基板に対して蒸着マスクの位置合わせをしながら蒸着することができる。したがって、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンを形成することができる。
【００１７】
また、請求項２又は９に係る発明によれば、搬送中の有機ＥＬ表示用基板に対して蒸着マスクを位置合わせしながら蒸着をすることができる。したがって、大型の有機ＥＬ表示用基板に対する発光層の蒸着形成を能率よく且つ高精度に行なうことができ、高精細な有機ＥＬ表示装置の製造を容易にすることができる。
【００１８】
さらに、請求項４又は５に係る発明によれば、蒸着マスクの長軸方向の長さを短くして熱膨張による開口部の位置ずれを抑制することができる。したがって、蒸着位置精度をより向上することができる。
【００１９】
また、請求項６に係る発明によれば、複数種の蒸着材料を同時に蒸着することができる。したがって、蒸着工程のタクトを短縮することができる。
【００２０】
さらに、請求項７に係る発明によれば、撮像手段によるアライメントマークの撮像が容易になると共に、蒸着マスクのアライメントマークと開口部とを同時に加工することができ、両者を所定の位置関係に高精度に形成することができる。したがって、蒸着位置精度をより一層向上することができる。
【００２１】
そして、請求項８に係る発明によれば、焦点深度が深くなり、高さ位置の異なる蒸着マスクのアライメントマークと基板の基準パターンとを同時にフォーカスさせて撮像することができる。したがって、蒸着マスクと基板との位置合わせをより高精度に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明による蒸着装置の実施形態の概略構成を示す正面図である。
【図２】上記実施形態に使用する有機ＥＬ表示用基板の平面図である。
【図３】上記有機ＥＬ表示用基板を保持する保持部材を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は要部拡大断面図である。
【図４】上記実施形態に使用する蒸着源ユニットを示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＯ−Ｏ線断面図である。
【図５】有機ＥＬ表示用基板に形成された発光層のパターンを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による蒸着装置の実施形態の概略構成を示す正面図である。この蒸着装置は、基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成するもので、真空チャンバ１内に、搬送手段２と、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、撮像手段４と、アライメント手段５とを備えている。
【００２４】
ここで使用する基板は、図２に示すように、複数のゲート信号線６とドレイン信号線７との交差部に有機ＥＬ駆動用ＴＦＴ２４を形成し、ゲート信号線６とドレイン信号線７に囲まれた領域を表示画素（ピクセル８）としてマトリクス状に有する有機ＥＬ表示用基板９であり、陽極電極上に発光層が未形成の基板である。
【００２５】
上記搬送手段２は、基板保持部１０に有機ＥＬ表示用基板９の複数のピクセル８（基準パターン）が形成された面を下側にして保持し、矢印Ａ方向に一定速度で搬送するものであり、基板保持部１０には、図３（ａ）に示すように有機ＥＬ表示用基板９を静電的に吸着して保持する複数の静電チャック１１が分割して設けられている。また、この静電チャック１１には、同図（ｂ）に示すように、吸着面１１ａとは反対側の端面に例えば圧電素子１２が設けられており、圧電素子１２の高さを変位させて静電チャック１１の突出量が同図に矢印で示すように制御できるようになっている。
【００２６】
上記搬送手段２の下方には、三台の蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが基板の搬送方向に所定間隔で並設されている。これらの蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、図４（ｂ）に示すように、上端部を開口し、基板の搬送方向（矢印Ａ方向）に略直交する方向に長軸を有する箱体１３の内部に蒸着材料を加熱して溶融させるルツボ１４を備え、同図（ａ）に示すように上記上端開口に対応して箱体１３の長軸方向に複数の開口部１５を所定間隔で並設した蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを撓みが生じないように長軸方向に引っ張った状態で箱体１３に固定して配設したものであり、各蒸着源ユニット３のルツボ１４内にそれぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の対応色の発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂ（蒸着材料）を収容し、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂに対して所定間隔（例えば、約５０μｍ〜約１００μｍの間隔）で対向して搬送される有機ＥＬ表示用基板９にＲＧＢの発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを同時に蒸着することができるようになっている。この場合、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ面と有機ＥＬ表示用基板９面との間隔は、公知の静電容量検出技術を適用して両面間の静電容量が所定値となるように制御するとよい。また、各蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの箱体１３内に夫々複数のルツボ１４を箱体１３の長軸方向に所定間隔で並設すると共に、各ルツボ１４に対応して蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ側に複数の水晶振動子を配置し、これらの水晶振動子により各ルツボ１４の相対的な蒸着速度を検出しながら、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの長軸方向の膜厚分布が均一になるように各ルツボ１４の過熱温度を個別に制御するとよい。
【００２７】
上記蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの具体的構成例は、図４（ａ）に示すように、長軸の長さが有機ＥＬ表示用基板９の搬送方向と略直交する方向の幅に略等しく、有機ＥＬ表示用基板９よりも形状の小さい短冊状の金属板からなり、その長軸方向に一直線状に並べて矩形状の複数の開口部１５が形成されている。より具体的には、隣接する開口部１５の間隔は、図２に示す矢印Ａで示す搬送方向に略直交する方向のピクセル８の配列ピッチＰの３倍のピッチに等しい間隔となるようにされ、また、開口部１５の並び方向の幅ｗは、図２に示す矢印Ａ方向と直交する方向のピクセル８の幅と略同じ幅に形成されている。さらに、矢印Ａ方向に並設された三つの蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂは、隣接する蒸着マスクの開口部１５が矢印Ａ方向と直交方向に、同方向のピクセル８の配列ピッチＰの１ピッチ分だけずれて配置されている。さらにまた、矢印Ａで示す基板搬送方向の最も手前側に位置する蒸着マスク１６Ｂには、図４（ｂ）に示すように蒸着源ユニット３Ｂの箱体１３の側面から基板の搬送方向手前側に突出して片部１８が形成され、該片部１８に上記開口部１５と所定の位置関係をなして有機ＥＬ表示用基板９との位置合わせ用のアライメントマーク１９が形成されている。そして、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの上面が同一平面を成すように蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの高さが調整されている。
【００２８】
また、上記蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの箱体１３と蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂとの間には、蒸着マスク１６の縁部に沿ってヒートパイプ２０が設けられており、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを冷却して蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの熱膨張による開口部１５の位置ずれを抑制できるようにしている。さらに、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂには、上記ルツボ１４と蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂとの間にシャッタ２１が開閉可能に設けられており、蒸着時には、シャッタ２１を開いて発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの蒸着を可能にし、蒸着時以外は、シャッタ２１を閉じて発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの蒸着を阻止するようになっている。なお、図４（ｂ）において、蒸着源ユニット３Ｒは、シャッタ２１が閉じた状態を示し、蒸着源ユニット３Ｇ，３Ｂはシャッタ２１が開いた状態を示している。
【００２９】
さらに、上記蒸着源ユニット３Ｂの箱体１３の矢印Ａで示す搬送方向手前側の側面には、その長軸方向に所定間隔で並べて複数のレーザ変位計２２が設けられている。これらのレーザ変位計２２は、搬送される有機ＥＬ表示用基板９表面の平坦度を計測するためのものであり、各計測結果を対応する上記複数の静電チャック１１にフィードバックし、蒸着マスク１６Ｂに対向した領域の複数の静電チャック１１の圧電素子１２を個別に駆動して各静電チャック１１の突出量を制御し、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂに対向した領域の有機ＥＬ表示用基板９表面の平坦度を略均一にすることができるようになっている。
【００３０】
上記蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に撮像手段４が設けられている。この撮像手段４は、蒸着マスク１６Ｂに形成されたアライメントマーク１９と有機ＥＬ表示用基板９のピクセル８とを撮像するもので、搬送手段２の下側にて上記蒸着マスク１６Ｂの二つの片部１８に対応して二台設けられており、矢印Ａ方向と略直交方向に電子ビームを走査する走査型電子顕微鏡である。
【００３１】
上記蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを撮像手段４と一体的に有機ＥＬ表示用基板９面に平行な面内にて矢印Ａで示す搬送方向と略直交する方向（図１において、手前から奥に向かう方向）に移動可能にアライメント手段５が設けられている。このアライメント手段５は、撮像手段４による撮像画像に基づいて検出された蒸着マスク１６Ｂのアライメントマーク１９の基準位置とピクセル８の基準位置との間の位置ずれ量が所定値となるように位置ずれ補正すると共に、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂと有機ＥＬ表示用基板９と間の隙間を所定値に維持するためのもので、有機ＥＬ表示用基板９がヨーイング及びピッチングしながら搬送されても有機ＥＬ表示用基板９の動きに追従して蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを移動して有機ＥＬ表示用基板９の所定位置に発光層のパターンを形成可能とするものである。
【００３２】
具体的には、アライメント手段５は、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを基板の搬送方向に対して前後及び左右に移動させると共に、真ん中の蒸着源ユニット３Ｇの中心を軸にして有機ＥＬ表示用基板９の面に平行な面内を所定角度だけ回転させ、さらには、上下動させて蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂと有機ＥＬ表示用基板９との位置ずれ補正及び両者間の隙間を一定に保持することができるように構成されている。
【００３３】
次に、このように構成された蒸着装置の動作及び該蒸着装置を使用して行う蒸着方法について説明する。
先ず、ピクセル８を形成した面とは反対面が搬送手段２の基板保持部１０に設けられた複数の静電チャック１１に吸着されて、有機ＥＬ表示用基板９が矢印Ａ方向に一定速度で搬送される。
【００３４】
基板の搬送方向先頭部が撮像手段４の上方位置に達すると、撮像手段４による基板表面と蒸着マスク１６Ｂのアライメントマーク１９との撮像が開始され、取得された撮像画像を図示省略の画像処理部において画像処理して、有機ＥＬ表示用基板９のピクセル８の基準位置（例えば、基板の搬送方向に平行な図２に示すドレイン信号線７の左側縁部）及び蒸着マスク１６Ｂのアライメントマーク１９の基準位置（例えば、基板の搬送方向に平行な左側縁部）が検出され、両者間の距離が計測される。
【００３５】
この場合、先ず、有機ＥＬ表示用基板９が所定距離だけ搬送される間に、基板搬送方向に略直交する方向へずれるピクセル８の基準位置のずれ量を検出し、上記有機ＥＬ表示用基板９の移動距離と上記ピクセル８の基準位置のずれ量から有機ＥＬ表示用基板９の搬送方向に対する傾き角度を演算し、アライメント手段５を駆動して該角度だけ蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと撮像手段４とを一体的に回転する。こうして、有機ＥＬ表示用基板９の搬送方向の中心線に対して蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの同方向の中心線を平行に合わせる。
【００３６】
次に、有機ＥＬ表示用基板９のピクセル８の基準位置と蒸着マスク１６Ｂのアライメントマーク１９の基準位置との間の距離が所定距離となるように、アライメント手段５により蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと撮像手段４とを一体的に基板搬送方向と略直交方向に移動する。これにより、三つの蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの各開口部１５が有機ＥＬ表示用基板９の対応色のピクセル８と同位置に位置付けられる。
【００３７】
さらに、有機ＥＬ表示用基板９が所定距離搬送されて基板の搬送方向先頭部が蒸着マスク１６Ｂの上方に達すると蒸着マスク１６Ｂと有機ＥＬ表示用基板９との間の静電容量を検出し、該静電容量が所定値となるようにアライメント手段５により蒸着源ユニット３を上下動して、蒸着マスク１６Ｂと有機ＥＬ表示用基板９との隙間を約５０μｍ〜約１００μｍに保つ動作が実行される。
【００３８】
同時に、蒸着源ユニット３Ｂの箱体１３の側面に設けた複数のレーザ変位計２２により有機ＥＬ表示用基板９表面の平坦度を検出し、基板表面が平坦となるように基板裏面に設けられた各静電チャック１１の突出量を制御する。これにより、蒸着マスク１６Ｂ面とそれに対向した基板面との隙間が略全面に亘って均一になる。
【００３９】
有機ＥＬ表示用基板９がさらに搬送されて基板の搬送方向先頭側の各ピクセル８が対応色の蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの開口部１５の上方位置に達すると、各蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂのシャッタ２１を順次開いて蒸着を開始する。即ち、シャッタ２１が開かれると、ルツボ１４内で溶融した発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂが各蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの開口部１５を通過可能となり、有機ＥＬ表示用基板９のピクセル８上に対応色の発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂが蒸着される。なお、基板の移動距離は、搬送手段２に備えた図示省略の位置センサーの出力に基づいて算出される。また、シャッタ２１の開閉は、上記基板の移動距離とメモリに保存された設定値とを比較し、両者が一致したタイミングで行われる。
【００４０】
以降、有機ＥＬ表示用基板９を搬送しながら、上述のようにして、アライメント手段５を駆動して蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを移動し、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを有機ＥＬ表示用基板９のヨーイング及びピッチングに追従させて蒸着が実行される。これにより、各色の発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂが対応色のピクセル８上に精度良く蒸着され、図５に示すようにストライプ状のＲＧＢ発光層のパターン２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂが形成されることになる。
【００４１】
なお、上記実施形態においては、有機ＥＬ表示用基板９の幅に略等しい長さの蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを夫々一つ配置した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、蒸着源ユニットは、有機ＥＬ表示用基板９の搬送方向と直交方向の幅よりも長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを基板の搬送方向に略直交方向に一直線状に並べて形成したものであってもよく、又は基板の搬送方向に略直交方向に互い違いに並べて形成したものであってもよい。
【００４２】
また、上記実施形態においては、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを三つ備えたものである場合について説明したが、本発明はこれに限られず、蒸着源ユニットは一つでもよく、個数は限定されない。
【００４３】
さらに、上記実施形態においては、撮像手段４が走査型電子顕微鏡である場合について説明したが、本発明はこれに限られず、撮像手段４は、ラインカメラでもよい。この場合、ラインカメラは、複数の受光素子が基板搬送方向と略直交方向に一直線状に並ぶように配置するとよい。
【００４４】
そして、以上の説明においては、基板が有機ＥＬ表示用基板９である場合について述べたが、本発明はこれに限られず、基板は、ストライプ状の蒸着パターンを形成しようとするものであれば如何なるものであってもよい。
【符号の説明】
【００４５】
１…真空チャンバ
２…搬送手段
３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ…蒸着源ユニット
４…撮像手段
５…アライメント手段
８…ピクセル（基準パターン）
９…有機ＥＬ表示用基板
１３…箱体
１４…ルツボ
１５…開口部
１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…蒸着マスク
１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂ…発光材料（蒸着材料）
１８…片部
１９…アライメントマーク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着方法に関し、詳しくは、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にしようとする蒸着方法及び蒸着装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種の蒸着方法は、基板の面積より面積が小さい蒸着マスクを使用し、基板を蒸着マスクに対して一方向に相対的に移動させながら、蒸着源から蒸発された蒸着材料を蒸着マスクの開口部を通して基板上に蒸着し、基板の全面に所望の蒸着パターンを形成するものとなっていた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２９７５６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、このような従来の蒸着方法においては、相対的に移動中の基板に対して蒸着マスクを位置合わせしながら蒸着するものではなかったので、移動機構の機械精度に基づいて相対移動中の基板に発生する移動方向に略直交する方向の位置ずれを補正することができず、蒸着位置精度を向上することができなかった。したがって、基板を相対移動しながら、緻密なパターンを蒸着して形成することができず、例えば高精細な有機ＥＬ表示装置を製造することができなかった。
【０００５】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にしようとする蒸着方法及び蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明による蒸着方法は、基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着方法であって、前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段により、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像し、前記撮像画像に基づいて前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、前記基準パターン上に前記所定のパターンを蒸着形成するものである。
【０００７】
また、前記基板は、有機ＥＬ表示用基板である。これにより、搬送中の有機ＥＬ表示用基板に対して蒸着マスクを位置合わせしながら、蒸着を実行する。
【０００８】
また、本発明による蒸着装置は、基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着装置であって、真空チャンバ内部に、前記基板を搬送する搬送手段と、前記搬送手段の下方に設けられ、上端部を開口し前記基板の搬送方向に略直交する方向に長軸を有する箱体の内部に蒸着材料を加熱して溶融させるルツボを有し、さらに前記箱体の上端部に前記箱体の長軸方向に複数の開口部を所定間隔で並設した前記蒸着マスクを配設した蒸着源ユニットと、前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられ、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像する撮像手段と、前記撮像手段による撮像画像に基づいて検出された前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせするアライメント手段と、を備えたものである。
【０００９】
このような構成により、真空チャンバ内部で、搬送手段により蒸着マスクに対向して基板を搬送しながら、搬送手段の下方に設けられた蒸着源ユニットの箱体の内部に有するルツボで蒸着材料を溶融させ、箱体の上端部に配設され箱体の長軸方向に複数の開口部を所定間隔で並設した蒸着マスクの上記開口部を通して基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する。その際、蒸着マスクによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段により蒸着マスクに形成されたアライメントマークと基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像し、撮像手段による撮像画像に基づいて検出されたアライメントマークの基準位置と基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段で蒸着マスクを基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせする。
【００１０】
さらに、前記蒸着源ユニットは、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを前記基板の搬送方向に略直交方向に一直線状に並べて所定長さに形成されたものである。これにより、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを基板の搬送方向に略直交方向に一直線状に並べて所定長さに形成された蒸着源ユニットで基板表面に蒸着材料を蒸着する。
【００１１】
そして、前記蒸着源ユニットは、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを前記基板の搬送方向に略直交方向に互い違いに並べて所定長さに形成されたものである。これにより、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを基板の搬送方向に略直交方向に互い違いに並べて所定長さに形成された蒸着源ユニットで基板表面に蒸着材料を蒸着する。
【００１２】
また、前記蒸着源ユニットは、前記基板の搬送方向に所定間隔で複数並設され、複数種の蒸着材料を同時に蒸着可能に形成されたものである。これにより、基板の搬送方向に所定間隔で並設された複数の蒸着源ユニットで複数種の蒸着材料を同時に蒸着する。
【００１３】
さらに、前記蒸着マスクは、前記蒸着源ユニットの前記箱体の側面から前記基板の搬送方向手前側に突出させて片部を有し、該片部に前記アライメントマークを形成したものである。これにより、蒸着源ユニットの箱体の側面から基板の搬送方向手前側に突出した蒸着マスクの片部に形成されたアライメントマークにより、蒸着マスクの開口部と基板の基準パターンとの位置合わせをする。
【００１４】
さらにまた、前記撮像手段は、走査型電子顕微鏡である。これにより、走査型電子顕微鏡で蒸着マスクのアライメントマークと基板の基準パターンを撮像する。
【００１５】
そして、前記基板は、有機ＥＬ表示用基板である。これにより、搬送中の有機ＥＬ表示用基板に対して蒸着マスクを位置合わせしながら、蒸着を実行する。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１又は３に係る発明によれば、搬送中の基板に対して蒸着マスクの位置合わせをしながら蒸着することができる。したがって、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンを形成することができる。
【００１７】
また、請求項２又は９に係る発明によれば、搬送中の有機ＥＬ表示用基板に対して蒸着マスクを位置合わせしながら蒸着をすることができる。したがって、大型の有機ＥＬ表示用基板に対する発光層の蒸着形成を能率よく且つ高精度に行なうことができ、高精細な有機ＥＬ表示装置の製造を容易にすることができる。
【００１８】
さらに、請求項４又は５に係る発明によれば、蒸着マスクの長軸方向の長さを短くして熱膨張による開口部の位置ずれを抑制することができる。したがって、蒸着位置精度をより向上することができる。
【００１９】
また、請求項６に係る発明によれば、複数種の蒸着材料を同時に蒸着することができる。したがって、蒸着工程のタクトを短縮することができる。
【００２０】
さらに、請求項７に係る発明によれば、撮像手段によるアライメントマークの撮像が容易になると共に、蒸着マスクのアライメントマークと開口部とを同時に加工することができ、両者を所定の位置関係に高精度に形成することができる。したがって、蒸着位置精度をより一層向上することができる。
【００２１】
そして、請求項８に係る発明によれば、焦点深度が深くなり、高さ位置の異なる蒸着マスクのアライメントマークと基板の基準パターンとを同時にフォーカスさせて撮像することができる。したがって、蒸着マスクと基板との位置合わせをより高精度に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明による蒸着装置の実施形態の概略構成を示す正面図である。
【図２】上記実施形態に使用する有機ＥＬ表示用基板の平面図である。
【図３】上記有機ＥＬ表示用基板を保持する保持部材を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は要部拡大断面図である。
【図４】上記実施形態に使用する蒸着源ユニットを示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＯ−Ｏ線断面図である。
【図５】有機ＥＬ表示用基板に形成された発光層のパターンを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による蒸着装置の実施形態の概略構成を示す正面図である。この蒸着装置は、基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成するもので、真空チャンバ１内に、搬送手段２と、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、撮像手段４と、アライメント手段５とを備えている。
【００２４】
ここで使用する基板は、図２に示すように、複数のゲート信号線６とドレイン信号線７との交差部に有機ＥＬ駆動用ＴＦＴ２４を形成し、ゲート信号線６とドレイン信号線７に囲まれた領域を表示画素（ピクセル８）としてマトリクス状に有する有機ＥＬ表示用基板９であり、陽極電極上に発光層が未形成の基板である。
【００２５】
上記搬送手段２は、基板保持部１０に有機ＥＬ表示用基板９の複数のピクセル８（基準パターン）が形成された面を下側にして保持し、矢印Ａ方向に一定速度で搬送するものであり、基板保持部１０には、図３（ａ）に示すように有機ＥＬ表示用基板９を静電的に吸着して保持する複数の静電チャック１１が分割して設けられている。また、この静電チャック１１には、同図（ｂ）に示すように、吸着面１１ａとは反対側の端面に例えば圧電素子１２が設けられており、圧電素子１２の高さを変位させて静電チャック１１の突出量が同図に矢印で示すように制御できるようになっている。
【００２６】
上記搬送手段２の下方には、三台の蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが基板の搬送方向に所定間隔で並設されている。これらの蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、図４（ｂ）に示すように、上端部を開口し、基板の搬送方向（矢印Ａ方向）に略直交する方向に長軸を有する箱体１３の内部に蒸着材料を加熱して溶融させるルツボ１４を備え、同図（ａ）に示すように上記上端開口に対応して箱体１３の長軸方向に複数の開口部１５を所定間隔で並設した蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを撓みが生じないように長軸方向に引っ張った状態で箱体１３に固定して配設したものであり、各蒸着源ユニット３のルツボ１４内にそれぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の対応色の発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂ（蒸着材料）を収容し、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂに対して所定間隔（例えば、約５０μｍ〜約１００μｍの間隔）で対向して搬送される有機ＥＬ表示用基板９にＲＧＢの発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂを同時に蒸着することができるようになっている。この場合、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ面と有機ＥＬ表示用基板９面との間隔は、公知の静電容量検出技術を適用して両面間の静電容量が所定値となるように制御するとよい。また、各蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの箱体１３内に夫々複数のルツボ１４を箱体１３の長軸方向に所定間隔で並設すると共に、各ルツボ１４に対応して蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ側に複数の水晶振動子を配置し、これらの水晶振動子により各ルツボ１４の相対的な蒸着速度を検出しながら、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの長軸方向の膜厚分布が均一になるように各ルツボ１４の過熱温度を個別に制御するとよい。
【００２７】
上記蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの具体的構成例は、図４（ａ）に示すように、長軸の長さが有機ＥＬ表示用基板９の搬送方向と略直交する方向の幅に略等しく、有機ＥＬ表示用基板９よりも形状の小さい短冊状の金属板からなり、その長軸方向に一直線状に並べて矩形状の複数の開口部１５が形成されている。より具体的には、隣接する開口部１５の間隔は、図２に示す矢印Ａで示す搬送方向に略直交する方向のピクセル８の配列ピッチＰの３倍のピッチに等しい間隔となるようにされ、また、開口部１５の並び方向の幅ｗは、図２に示す矢印Ａ方向と直交する方向のピクセル８の幅と略同じ幅に形成されている。さらに、矢印Ａ方向に並設された三つの蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂは、隣接する蒸着マスクの開口部１５が矢印Ａ方向と直交方向に、同方向のピクセル８の配列ピッチＰの１ピッチ分だけずれて配置されている。さらにまた、矢印Ａで示す基板搬送方向の最も手前側に位置する蒸着マスク１６Ｂには、図４（ｂ）に示すように蒸着源ユニット３Ｂの箱体１３の側面から基板の搬送方向手前側に突出して片部１８が形成され、該片部１８に上記開口部１５と所定の位置関係をなして有機ＥＬ表示用基板９との位置合わせ用のアライメントマーク１９が形成されている。そして、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの上面が同一平面を成すように蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの高さが調整されている。
【００２８】
また、上記蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの箱体１３と蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂとの間には、蒸着マスク１６の縁部に沿ってヒートパイプ２０が設けられており、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを冷却して蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの熱膨張による開口部１５の位置ずれを抑制できるようにしている。さらに、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂには、上記ルツボ１４と蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂとの間にシャッタ２１が開閉可能に設けられており、蒸着時には、シャッタ２１を開いて発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの蒸着を可能にし、蒸着時以外は、シャッタ２１を閉じて発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂの蒸着を阻止するようになっている。なお、図４（ｂ）において、蒸着源ユニット３Ｒは、シャッタ２１が閉じた状態を示し、蒸着源ユニット３Ｇ，３Ｂはシャッタ２１が開いた状態を示している。
【００２９】
さらに、上記蒸着源ユニット３Ｂの箱体１３の矢印Ａで示す搬送方向手前側の側面には、その長軸方向に所定間隔で並べて複数のレーザ変位計２２が設けられている。これらのレーザ変位計２２は、搬送される有機ＥＬ表示用基板９表面の平坦度を計測するためのものであり、各計測結果を対応する上記複数の静電チャック１１にフィードバックし、蒸着マスク１６Ｂに対向した領域の複数の静電チャック１１の圧電素子１２を個別に駆動して各静電チャック１１の突出量を制御し、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂに対向した領域の有機ＥＬ表示用基板９表面の平坦度を略均一にすることができるようになっている。
【００３０】
上記蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に撮像手段４が設けられている。この撮像手段４は、蒸着マスク１６Ｂに形成されたアライメントマーク１９と有機ＥＬ表示用基板９のピクセル８とを撮像するもので、搬送手段２の下側にて上記蒸着マスク１６Ｂの二つの片部１８に対応して二台設けられており、矢印Ａ方向と略直交方向に電子ビームを走査する走査型電子顕微鏡である。
【００３１】
上記蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを撮像手段４と一体的に有機ＥＬ表示用基板９面に平行な面内にて矢印Ａで示す搬送方向と略直交する方向（図１において、手前から奥に向かう方向）に移動可能にアライメント手段５が設けられている。このアライメント手段５は、撮像手段４による撮像画像に基づいて検出された蒸着マスク１６Ｂのアライメントマーク１９の基準位置とピクセル８の基準位置との間の位置ずれ量が所定値となるように位置ずれ補正すると共に、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂと有機ＥＬ表示用基板９と間の隙間を所定値に維持するためのもので、有機ＥＬ表示用基板９がヨーイング及びピッチングしながら搬送されても有機ＥＬ表示用基板９の動きに追従して蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを移動して有機ＥＬ表示用基板９の所定位置に発光層のパターンを形成可能とするものである。
【００３２】
具体的には、アライメント手段５は、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを基板の搬送方向に対して前後及び左右に移動させると共に、真ん中の蒸着源ユニット３Ｇの中心を軸にして有機ＥＬ表示用基板９の面に平行な面内を所定角度だけ回転させ、さらには、上下動させて蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂと有機ＥＬ表示用基板９との位置ずれ補正及び両者間の隙間を一定に保持することができるように構成されている。
【００３３】
次に、このように構成された蒸着装置の動作及び該蒸着装置を使用して行う蒸着方法について説明する。
先ず、ピクセル８を形成した面とは反対面が搬送手段２の基板保持部１０に設けられた複数の静電チャック１１に吸着されて、有機ＥＬ表示用基板９が矢印Ａ方向に一定速度で搬送される。
【００３４】
基板の搬送方向先頭部が撮像手段４の上方位置に達すると、撮像手段４による基板表面と蒸着マスク１６Ｂのアライメントマーク１９との撮像が開始され、取得された撮像画像を図示省略の画像処理部において画像処理して、有機ＥＬ表示用基板９のピクセル８の基準位置（例えば、基板の搬送方向に平行な図２に示すドレイン信号線７の左側縁部）及び蒸着マスク１６Ｂのアライメントマーク１９の基準位置（例えば、基板の搬送方向に平行な左側縁部）が検出され、両者間の距離が計測される。
【００３５】
この場合、先ず、有機ＥＬ表示用基板９が所定距離だけ搬送される間に、基板搬送方向に略直交する方向へずれるピクセル８の基準位置のずれ量を検出し、上記有機ＥＬ表示用基板９の移動距離と上記ピクセル８の基準位置のずれ量から有機ＥＬ表示用基板９の搬送方向に対する傾き角度を演算し、アライメント手段５を駆動して該角度だけ蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと撮像手段４とを一体的に回転する。こうして、有機ＥＬ表示用基板９の搬送方向の中心線に対して蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの同方向の中心線を平行に合わせる。
【００３６】
次に、有機ＥＬ表示用基板９のピクセル８の基準位置と蒸着マスク１６Ｂのアライメントマーク１９の基準位置との間の距離が所定距離となるように、アライメント手段５により蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと撮像手段４とを一体的に基板搬送方向と略直交方向に移動する。これにより、三つの蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの各開口部１５が有機ＥＬ表示用基板９の対応色のピクセル８と同位置に位置付けられる。
【００３７】
さらに、有機ＥＬ表示用基板９が所定距離搬送されて基板の搬送方向先頭部が蒸着マスク１６Ｂの上方に達すると蒸着マスク１６Ｂと有機ＥＬ表示用基板９との間の静電容量を検出し、該静電容量が所定値となるようにアライメント手段５により蒸着源ユニット３を上下動して、蒸着マスク１６Ｂと有機ＥＬ表示用基板９との隙間を約５０μｍ〜約１００μｍに保つ動作が実行される。
【００３８】
同時に、蒸着源ユニット３Ｂの箱体１３の側面に設けた複数のレーザ変位計２２により有機ＥＬ表示用基板９表面の平坦度を検出し、基板表面が平坦となるように基板裏面に設けられた各静電チャック１１の突出量を制御する。これにより、蒸着マスク１６Ｂ面とそれに対向した基板面との隙間が略全面に亘って均一になる。
【００３９】
有機ＥＬ表示用基板９がさらに搬送されて基板の搬送方向先頭側の各ピクセル８が対応色の蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの開口部１５の上方位置に達すると、各蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂのシャッタ２１を順次開いて蒸着を開始する。即ち、シャッタ２１が開かれると、ルツボ１４内で溶融した発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂが各蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの開口部１５を通過可能となり、有機ＥＬ表示用基板９のピクセル８上に対応色の発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂが蒸着される。なお、基板の移動距離は、搬送手段２に備えた図示省略の位置センサーの出力に基づいて算出される。また、シャッタ２１の開閉は、上記基板の移動距離とメモリに保存された設定値とを比較し、両者が一致したタイミングで行われる。
【００４０】
以降、有機ＥＬ表示用基板９を搬送しながら、上述のようにして、アライメント手段５を駆動して蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを移動し、蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを有機ＥＬ表示用基板９のヨーイング及びピッチングに追従させて蒸着が実行される。これにより、各色の発光材料１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂが対応色のピクセル８上に精度良く蒸着され、図５に示すようにストライプ状のＲＧＢ発光層のパターン２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂが形成されることになる。
【００４１】
なお、上記実施形態においては、有機ＥＬ表示用基板９の幅に略等しい長さの蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを夫々一つ配置した場合について説明したが、本発明はこれに限られず、蒸着源ユニットは、有機ＥＬ表示用基板９の搬送方向と直交方向の幅よりも長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを基板の搬送方向に略直交方向に一直線状に並べて形成したものであってもよく、又は基板の搬送方向に略直交方向に互い違いに並べて形成したものであってもよい。
【００４２】
また、上記実施形態においては、蒸着源ユニット３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを三つ備えたものである場合について説明したが、本発明はこれに限られず、蒸着源ユニットは一つでもよく、個数は限定されない。
【００４３】
さらに、上記実施形態においては、撮像手段４が走査型電子顕微鏡である場合について説明したが、本発明はこれに限られず、撮像手段４は、ラインカメラでもよい。この場合、ラインカメラは、複数の受光素子が基板搬送方向と略直交方向に一直線状に並ぶように配置するとよい。
【００４４】
そして、以上の説明においては、基板が有機ＥＬ表示用基板９である場合について述べたが、本発明はこれに限られず、基板は、ストライプ状の蒸着パターンを形成しようとするものであれば如何なるものであってもよい。
【符号の説明】
【００４５】
１…真空チャンバ
２…搬送手段
３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ…蒸着源ユニット
４…撮像手段
５…アライメント手段
８…ピクセル（基準パターン）
９…有機ＥＬ表示用基板
１３…箱体
１４…ルツボ
１５…開口部
１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…蒸着マスク
１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂ…発光材料（蒸着材料）
１８…片部
１９…アライメントマーク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着方法であって、
前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段により、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像し、
前記撮像画像に基づいて前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、前記基準パターン上に前記所定のパターンを蒸着形成する、
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項２】
前記基板は、有機ＥＬ表示用基板であることを特徴とする請求項１記載の蒸着方法。
【請求項３】
基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着装置であって、
真空チャンバ内部に、
前記基板を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の下方に設けられ、上端部を開口し前記基板の搬送方向に略直交する方向に長軸を有する箱体の内部に蒸着材料を加熱して溶融させるルツボを有し、さらに前記箱体の上端部に前記箱体の長軸方向に複数の開口部を所定間隔で並設した前記蒸着マスクを配設した蒸着源ユニットと、
前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられ、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像する撮像手段と、
前記撮像手段による撮像画像に基づいて検出された前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせするアライメント手段と、
を備えたことを特徴とする蒸着装置。
【請求項４】
前記蒸着源ユニットは、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを前記基板の搬送方向に略直交方向に一直線状に並べて所定長さに形成されたものであることを特徴とする請求項３記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記蒸着源ユニットは、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを前記基板の搬送方向に略直交方向に互い違いに並べて所定長さに形成されたものであることを特徴とする請求項３記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記蒸着源ユニットは、前記基板の搬送方向に所定間隔で複数並設され、複数種の蒸着材料を同時に蒸着可能に形成されたことを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記蒸着マスクは、前記蒸着源ユニットの前記箱体の側面から前記基板の搬送方向手前側に突出させて片部を有し、該片部に前記アライメントマークを形成したことを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項８】
前記撮像手段は、走査型電子顕微鏡であることを特徴とする請求項３〜７のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項９】
前記基板は、有機ＥＬ表示用基板であることを特徴とする請求項３〜８のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項１】
基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着方法であって、
前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段により、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像し、
前記撮像画像に基づいて前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、前記基準パターン上に前記所定のパターンを蒸着形成する、
ことを特徴とする蒸着方法。
【請求項２】
前記基板は、有機ＥＬ表示用基板であることを特徴とする請求項１記載の蒸着方法。
【請求項３】
基板を搬送しながら、該基板に対向して配置された蒸着マスクの開口部を通して前記基板表面に蒸着材料を蒸着して所定のパターンを形成する蒸着装置であって、
真空チャンバ内部に、
前記基板を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の下方に設けられ、上端部を開口し前記基板の搬送方向に略直交する方向に長軸を有する箱体の内部に蒸着材料を加熱して溶融させるルツボを有し、さらに前記箱体の上端部に前記箱体の長軸方向に複数の開口部を所定間隔で並設した前記蒸着マスクを配設した蒸着源ユニットと、
前記蒸着マスクによる蒸着位置の前記基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられ、前記蒸着マスクに形成されたアライメントマークと前記基板表面に予め形成された基準パターンとを撮像する撮像手段と、
前記撮像手段による撮像画像に基づいて検出された前記アライメントマークの基準位置と前記基準パターンの基準位置との間の位置ずれ量が所定値となるように前記蒸着マスクを前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせするアライメント手段と、
を備えたことを特徴とする蒸着装置。
【請求項４】
前記蒸着源ユニットは、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを前記基板の搬送方向に略直交方向に一直線状に並べて所定長さに形成されたものであることを特徴とする請求項３記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記蒸着源ユニットは、長軸方向の長さの短い複数の単位蒸着源ユニットを前記基板の搬送方向に略直交方向に互い違いに並べて所定長さに形成されたものであることを特徴とする請求項３記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記蒸着源ユニットは、前記基板の搬送方向に所定間隔で複数並設され、複数種の蒸着材料を同時に蒸着可能に形成されたことを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記蒸着マスクは、前記蒸着源ユニットの前記箱体の側面から前記基板の搬送方向手前側に突出させて片部を有し、該片部に前記アライメントマークを形成したことを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項８】
前記撮像手段は、走査型電子顕微鏡であることを特徴とする請求項３〜７のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【請求項９】
前記基板は、有機ＥＬ表示用基板であることを特徴とする請求項３〜８のいずれか１項に記載の蒸着装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−２６１０８１（Ｐ２０１０−２６１０８１Ａ）
【公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１１３５１９（Ｐ２００９−１１３５１９）
【出願日】平成２１年５月８日（２００９．５．８）
【出願人】（５００１７１７０７）株式会社ブイ・テクノロジー (283)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月８日（２００９．５．８）
【出願人】（５００１７１７０７）株式会社ブイ・テクノロジー (283)
【Ｆターム（参考）】
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