薄膜トランジスタ基板の再生装置及び再生方法
【課題】高分子ＥＬパネルを製造する際に、品質基準を満たさないものが発生した場合でも簡便な方法で基板を効率よく再生することができる薄膜トランジスタ基板の再生装置及び再生方法を提供すること。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板上に少なくとも高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生する装置であって、少なくとも１つ以上の搬送ローラーと、前記搬送ローラーに対向して設置される少なくとも１つ以上の剥離ローラーと、を備え、前記高分子ＥＬ層積層基板は、回転する前記搬送ローラーと回転する前記剥離ローラーに挟まれ、前記搬送ローラーと前記剥離ローラーとの間を搬送され、前記剥離ローラー上に設けられた剥離手段によって前記高分子ＥＬ層が剥離されることを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板上に少なくとも高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生する装置であって、少なくとも１つ以上の搬送ローラーと、前記搬送ローラーに対向して設置される少なくとも１つ以上の剥離ローラーと、を備え、前記高分子ＥＬ層積層基板は、回転する前記搬送ローラーと回転する前記剥離ローラーに挟まれ、前記搬送ローラーと前記剥離ローラーとの間を搬送され、前記剥離ローラー上に設けられた剥離手段によって前記高分子ＥＬ層が剥離されることを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子ＥＬ層積層基板の再生装置並びに再生方法に関する。特に、高分子ＥＬ（以下、「高分子ＥＬ」という。）現象を利用した高分子ＥＬパネルの製造に用いる高分子ＥＬ層積層基板の再生装置及び再生方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
高分子ＥＬパネルの基材には、透過率などの光学特性や、平坦性や平滑性、耐久性などが優れ、熱膨張率も小さい高価な高機能ガラス、例えば無アルカリガラスが用いられている。最近では、光学特性や平滑性などに優れたフィルムも高分子ＥＬパネルの基材として用いられることがあるが、このフィルム基材もガスバリア性を付加するための加工が施されているため高価となる。
【０００３】
また、アクティブマトリクス駆動の高分子ＥＬ素子では、基材上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）回路等の機能層を形成したもの（以下、「基板」という。）を用いる。基材に付加価値が付くため、この基板は更に高価な物となる。
【０００４】
一方、高分子ＥＬパネルの高機能化に伴い、それに求められる品質基準も高くなってきている。例えば、高精細化が進みパネル中の画素サイズが小さくなっているため、異物の影響が大きくなる他、主に低分子系で実施されている蒸着プロセスにおいては、たわみなどによるマスクのずれの許容範囲が狭くなり、主に高分子系で実施されている印刷プロセスにおいては、インクジェット法や凸版印刷法などでの塗布位置精度や塗布量の精度の許容範囲が狭く成ってきている。そのため、歩留まりを向上させる様々な工夫が成されているが、向上した品質基準を満たさない部材の発生が問題となっている。
【０００５】
また、積層化も進んでおり、高分子に代表される塗布型でも正孔輸送層、インターレイヤ層、有機発光層が１対の電極間に積層されることが多い。低分子に代表される蒸着型では、更に各層の役割を細かく分け層の多層化により構成されることが多い。
【０００６】
ここで、１対の電極間に挟まれた箇所に形成される高分子発光層を含む部位を高分子ＥＬ層という。また、基材以外の高分子ＥＬ素子の構成要素を機能層という。
【０００７】
これら機能層のどこかに欠陥があった場合、その欠陥がある画素は満足な発光特性を示さない。この事が更に歩留まりの向上を阻害している。
【０００８】
以上のことから、品質基準を満足しない高分子ＥＬパネルから、高価な基材、基板を再生し、コストの低減を図るための様々な方法が提案されている。
【０００９】
この基材、基板の再生方法としては、例えば、特許文献１及び２には、基板上に形成された機能層を酸やアルカリ溶液にて溶解させる方法が開示されている（特許文献１及び２参照）。また、特許文献３には、ブラシの機械摩擦により剥離する方法が開示されている（特許文献３参照）。
【００１０】
しかしながら、特許文献１及び２に記載の方法では、酸やアルカリの化学液を使用するので、基板表面にて化学反応が起きて変質層を生じさせてしまう可能性や化学液の管理も煩雑である。また、特許文献３の方法では、ブラシの物理的な接触により基板表面に傷を与えてしまう可能性がある。
【００１１】
以上の問題を解決するために、特許文献４には、基材上の導電性金属酸化物を電気化学的に溶解させる方法が開示されている（特許文献４参照）。特許文献４に記載の方法では、基材の化学反応や物理的接触による傷発生による劣化を防ぐことはできるが、最表面に導電性金属酸化物が存在しないと適応できない上に、電解液塗布装置や電極などを備えた特殊な装置を準備する必要がある。更には、再利用したい基板上に薄膜トランジスタが形成されている場合には、そのトランジスタまで破壊してしまう恐れがある。
【００１２】
上述した基板再生方法の他に、例えば、特許文献５及び６には、欠陥が有る箇所のみを修復若しくは破壊して、品質基準を満たすようにする方法が多数開示されている（特許文献５及び６参照）。特許文献５及び６の方法では、欠陥箇所が少なければ有効であるが、欠陥箇所が多数存在する場合には時間がかかるうえ、修復後の品質も期待できなくなってしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特許第２５３８５００号
【特許文献２】特開２００３−２６２７１７号公報
【特許文献３】特開平９−８６９６８号公報
【特許文献４】特開２００７−１０７０２５号公報
【特許文献５】特開２００４−２２７８５２号公報
【特許文献６】特開２０００−１７３４７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、高分子ＥＬパネルを製造する際に、品質基準を満たさないものが発生した場合でも簡便な方法で基板を効率よく再生することができる薄膜トランジスタ基板の再生装置及び再生方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するための手段として、請求項１の発明は、高薄膜トランジスタ基板上に少なくとも高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生する装置であって、
少なくとも１つ以上の搬送ローラーと、前記搬送ローラーに対向して設置される少なくとも１つ以上の剥離ローラーと、を備え、
前記高分子ＥＬ層積層基板は、回転する前記搬送ローラーと回転する前記剥離ローラーに挟まれ、前記搬送ローラーと前記剥離ローラーとの間を搬送され、前記剥離ローラー上に設けられた剥離手段によって前記高分子ＥＬ層が剥離されることを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００１６】
また、請求項２の発明は、前記剥離手段がシート上に粘着剤層が形成された連続した粘着シートであり、前記連続した粘着シートは巻き出しローラーから巻き出され、前記剥離ローラー上で前記高分子ＥＬ層積層基板と接触して前記高分子ＥＬ層を剥離した後、巻取りローラーによって巻き取られる機構を有することを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００１７】
また、請求項３の発明は、前前記剥離手段が、粘着剤層であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００１８】
また、請求項４の発明は、前記剥離手段の粘着力がＪＩＳＫ６８５４−１にて規定された粘着力１．４７Ｎ／２５ｍｍ以上３．１４Ｎ／幅２５ｍｍ以下の粘着剤を用いることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００１９】
また、請求項５の発明は、前記剥離ローラーは、剥離した前記高分子ＥＬ層を前記剥離ローラー表面から除去するための洗浄手段を有することを特徴とする請求項３及び４に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２０】
また、請求項６の発明は、前記洗浄手段が、噴射された洗浄液であることを特徴とする請求項５に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２１】
また、請求項７の発明は、前記洗浄液が有機溶剤であることを特徴とする請求項６に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２２】
また、請求項８の発明は、前記洗浄手段が、ローラー表面の異物を掻き落とすスクレーパーであることを特徴とする請求項５に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２３】
また、請求項９の発明は、前記高分子ＥＬ層積層基板の搬送手段として搬送ローラー及び、前記剥離ローラーが、高分子ＥＬ層積層基板を介して対向して設置され、１０Ｐａ以上１ＭＰａ以下の押し当て圧力にて高分子ＥＬ層積層基板を挟み込む構造を有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２４】
また、請求項１０の発明は、前記高分子ＥＬ層積層基板が地面と水平に搬送され、前記高分子ＥＬ層が下向きであることを特徴とする、請求項９に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２５】
また、請求項１１の発明は、請求項１乃至１０の何れか１項記載の再生装置を用い、前記高分子ＥＬ層に粘着剤を接触させ、粘着剤と共に前記高分子ＥＬ層を前記高分子ＥＬ層積層基板より除去する工程を有することを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生方法としたものである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、薄膜トランジスタ基板上に少なくとも高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生するにあたり、薄膜トランジスタ基板上に少なくとも、高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から、前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生する装置であって、少なくとも１つ以上の搬送ローラーと、前記搬送ローラーに対向して設置される少なくとも１つ以上の剥離ローラーと、を備え、前記高分子ＥＬ層積層基板は、回転する前記搬送ローラーと回転する前記剥離ローラーに挟まれ、前記搬送ローラーと前記剥離ローラーとの間を搬送され、前記剥離ローラー上に設けられた剥離手段によって前記高分子ＥＬ層が剥離されることを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生装置を用いることで、薄膜トランジスタ基板を破損することなく、効率よく再生することができる。
【００２７】
また、本発明によれば、前記剥離手段がＪＩＳＫ６８５４−１にて規定された粘着力１．４７Ｎ／２５ｍｍ以上３．１４Ｎ／幅２５ｍｍ以下の粘着力の粘着シートまたは粘着ローラーとしたことで、薄膜トランジスタ基板を破損することなく高分子ＥＬ層だけを剥離することができる。
【００２８】
また、本発明によれば、前記剥離ローラーは、剥離した前記高分子ＥＬ層を前記剥離ローラー表面から除去するための洗浄手段として噴射された洗浄液、又はスクレーパーを有するため、剥離手段から高分子ＥＬ層が剥離され、剥離手段が再利用されるため効率よく薄膜トランジスタ基板を再生することができる。
【００２９】
また、本発明によれば、前記高分子ＥＬ層積層基板が地面と水平に搬送され、前記高分子ＥＬ層積層基板の搬送手段として搬送ローラー及び、前記剥離ローラーが、高分子ＥＬ層積層基板を介して対向して設置され、１０Ｐａ以上１ＭＰａ以下の押し当て圧力にて高分子ＥＬ層積層基板を挟み込む構造を有するため、ローラーの押圧や撓み等による薄膜トランジスタ基板の破損を防ぎ、且つ剥離手段と高分子ＥＬ層との密着が十分なため効率よく薄膜トランジスタ基板を再生することができる。
【００３０】
以上から、本発明によれば、高分子ＥＬ層積層基板を製造する際に、品質基準を満たさないものが発生した場合でも、簡便な方法で基板を再生することができる再生装置及び効率の良い再生方法を提供することが出来る。そのため製造コストを抑えられた高分子ＥＬ層積層基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明のＴＦＴパネル１０３の再生装置で粘着シート２０３を用いる場合の概略断面図
【図２】本発明のＴＦＴパネル１０３の再生装置で粘着ローラー２０５を用いる場合の概略断面図
【図３】本発明のＴＦＴパネル１０３の再生装置で粘着シート２０３を用いる場合の再生工程（ａ）〜（ｃ）の説明図
【図４】本発明のＴＦＴパネル１０３の再生装置で粘着ローラー２０５を用いる場合の再生工程（ａ）〜（ｃ）の説明図
【図５】実施例２における剥離ローラー洗浄の説明図
【図６】実施例３における剥離ローラー上の高分子ＥＬ層をスクレーパーによる剥離の説明図
【図７】高分子ＥＬ層積層基板の構造の概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明の一実施の形態に係る高分子ＥＬ層積層基板の再生装置及び再生方法について、図面を参照しつつ詳しく説明する。なお、以下の実施の形態においては、同一構成要素には同一の符号を付し、実施の形態間において重複する説明は省略する。
【００３３】
なお、本発明の具体的な構成、及び一連の工程は下記の条件に限定されるものではない。
【００３４】
図７は剥離対象となる高分子ＥＬパネル１０７の構成（ガラス基板１０１及び透明電極層１０２から成るＴＦＴパネル１０３、電荷輸送層１０４及び発光層１０５から成る高分子ＥＬ層１０６）を模式的に示す概略図であり、図１は本発明に係る高分子ＥＬパネル用基板の再生装置の実施例の一つを模式的に示す概略図である。
【００３５】
高分子ＥＬパネル１０７の搬送方向に高分子ＥＬ層１０６成膜面を水平に設置し、上下に対を成したローラー間（２０１、２０２）に挟み込み（図３（ａ））、搬送されると共に高分子ＥＬ層１０６が剥離され（図３（ｂ））、ＴＦＴパネル１０３が再生される（図３（ｃ））。搬送ローラー２０１、剥離ローラー２０２はいずれもが回転のための動力を有していても良く、又はどちらか一方が動力によって回転し、もう一方は高分子ＥＬパネル１０７の搬送と共に回転する機構であっても良いが、剥離ローラーが粘着シートを用いるものの場合は剥離ローラーが回転することが好ましい。
【００３６】
搬送ローラー２０１、剥離ローラー２０２の材料は金属、プラスチック、ゴムなど、パネルの搬送に適したものを好適に用いることができる。また、搬送ローラー２０１は、パネルの搬送のために必要なだけの粘着性や摩擦を持つように表面が加工されていても良く、剥離ローラー２０２は粘着シート２０３がずれないだけの粘着性や摩擦を持つように加工されていても良い。
【００３７】
ローラー間の距離は以下に述べる適切な圧力が高分子ＥＬパネル１０７にかかるように、高分子ＥＬパネル１０７の厚さを考慮して設定される。また、高分子ＥＬパネル１０７の搬送速度は、高分子ＥＬ層１０６が剥離され、ＴＦＴパネル１０３が破損せずに再生されれば任意の速度でよい。
【００３８】
また、ここでいう高分子ＥＬ層１０６に用いた「高分子」とは発光層１０５としてポリフェニレンビニレン類、ポリフェニレン類、ポリチオフェン類、ポリチアゾール類、ポリチアジアゾール類、ポリオキサゾール類、ポリオキサジアゾール類、ポリフルオレン類等のπ共役系高分子等を指しており、かつ発光層１０５下に電荷輸送層１０４としてポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）類、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ等の高分子材料、またはポリパラフェニレン（ＰＰＰ）等のポリアリーレン類、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等のポリアリーレンビニレン類等の導電性高分子若しくはポリスチレン（ＰＳ）等の高分子に、アリールアミン類、カルバゾール類、アリールスルフィド類、チオフェン類及びフタロシアニン類等の低分子の電荷輸送性を示す材料を混合した物を指す。
【００３９】
剥離工程を実際に行うに先立ち、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との間の密着性について検討しておくことが好ましい。この密着性を測定するために、ＪＩＳＫ５４００−１９９０にある試験を用いることができる。特に８．５．２に準拠した碁盤目テープ法付着性試験が最も適している。ただし、この密着性は非常に弱く、後述の試験の条件では高分子ＥＬ層１０６の薄膜の剥離性の基準に適用することは困難であるために、以下のようにいくつか変更して検討する。なお、下記に記す粘着力はＪＩＳＫ６８５４−１に規定されるものである。
【００４０】
まず、高分子ＥＬパネル１０７上の欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６を１ｍｍの間隔を有してなるカッターガイドを用いてカッターナイフで傷を付け、１ｃｍ角の中に１００個のマス目をつくり、その表面に、ある任意の粘着力を有する粘着剤を塗布した粘着シート２０３を任意の圧力にて押し付けた後、剥離する。
【００４１】
この剥離試験にて徐々に粘着力を上げていき、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６に形成されたマス目が剥離されたときの粘着シート２０３の粘着力を、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との間の剥離の閾値と見なすことができ、この閾値以上の粘着力を有する粘着剤を用いれば、粘着剤と欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６との間の密着性が、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との間の密着性よりも十分大きいと判断することができる。さらに粘着力を上げて剥離試験を行い、剥離によりＴＦＴ基板に破損が生じた粘着力をＴＦＴパネル１０３の破損の閾値とみなすことができ、この閾値未満の粘着力を有する粘着剤を用いることで、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６をＴＦＴパネル１０３が破損することなく剥離でき、ＴＦＴパネル１０３を再度利用することができる。
【００４２】
なお、本粘着剤は、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６を剥離しやすくするために、必要に応じ加熱したり硬化させたり、膨潤させたり乾燥させたりしても良い。
【００４３】
次に、高分子ＥＬパネル１０７から高分子ＥＬ層１０６を剥離する剥離工程について、図３を参照しながら説明する。
【００４４】
高分子ＥＬパネル１０７は、高分子ＥＬ層１０６が形成された面と連続した粘着シート２０３の粘着剤が形成された面とが密着されるように、水平に設置・搬送される。ＴＦＴパネル基板は主に薄いガラス等が用いられるため、撓み等による破損を防ぐために水平に設置・搬送することが好ましい。
【００４５】
続いて、搬送ローラー２０１および剥離ローラー２０２の回転により搬送されると共に、両ローラーにより高分子ＥＬパネル１０７と連続した粘着シート２０３とが圧着され、高分子ＥＬ層１０６と粘着シート２０３とが密着する。
【００４６】
このとき高分子ＥＬ層１０６に押し当てる圧力は１０Ｐａ以上１ＭＰａ以下とすることで、高分子ＥＬ層１０６と剥離ローラー２０２との密着が十分に行われ、且つＴＦＴパネル１０３の破損しないため好ましい。剥離ローラー２０２を高分子ＥＬ層１０６に押し当てる圧力が１０Ｐａ未満の場合、粘着シート２０３と高分子ＥＬ層１０６との密着が十分に行われないために高分子ＥＬ層１０６の剥離が十分に行えず、剥離ローラー２０２を高分子ＥＬ層１０６に押し当てる圧力が１ＭＰａを超えた場合、ＴＦＴパネル１０３に物理的なダメージが加わり、ＴＦＴパネル１０３そのものが傷ついたり、若しくは破損が起きたりする。
【００４７】
続いて、連続した粘着シート２０３が巻き取りローラー２０４の回転により高分子ＥＬパネル１０７から剥離されると同時に、連続した粘着シート２０３と密着した高分子ＥＬ層１０６がＴＦＴパネル１０３から剥離される。
【００４８】
そして、搬送ローラー２０１と剥離ローラー２０２及び連続した粘着シート２０３から成る上記工程を連続して設置し、高分子ＥＬパネル１０７と粘着シート２０３との密着を繰り返すことで、高分子ＥＬ層１０６は最終的にＴＦＴパネル１０３から全て剥離することができる。
【００４９】
上記の一連の作業工程によりＴＦＴパネル１０３を再利用可能な状態へと復元することができる。なお、上記した工程の他に、再生したＴＦＴパネル１０３を洗浄する工程は適宜設けることができる。
【００５０】
上記剥離工程に用いられる剥離ローラー２０２及び連続した粘着シート２０３は、粘着シート２０３と同一の粘着剤、又は同一の粘着力を持つ粘着剤層を剥離ローラー２０２に形成した粘着ローラー２０５と換えてもよい（図２）。この場合、粘着ローラー２０５は、高分子ＥＬ層１０６の剥離の後ローラー表面を洗浄することで上記剥離工程を連続して行うことができ、連続した粘着シート２０３を用いる場合に比べて、粘着シートの基材となるフィルムなどが不要であるため経済的により優れている。
【００５１】
粘着ローラー２０５の洗浄方法としては、洗浄液を溜めた洗浄浴に粘着ローラー２０５を浸す、粘着ローラーをブラシで擦る等の方法を適宜用いることができるが、図５のように洗浄液２０７に圧力をかけて噴射して洗浄する方法が特に好ましい。この場合、噴射の圧力は８から２０Ｍｐａの間であれば好適に洗浄することができ、１つの粘着ローラー２０５に対して高圧洗浄液噴出し口２０６は複数設けてもよい。また、より洗浄しやすくする目的で洗浄液２０７を加熱しておくことも好ましい。
【００５２】
ここで用いる洗浄液２０７とはトルエン、アセトン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、へキサン、キシレンなどの有機溶剤が好適に用いることができるが、剥離された高分子ＥＬ層１０６を洗い流せるものであればこれに限定されない。
【００５３】
さらに、上記の洗浄方法の他に、図６のようにスクレーパー２０８によって粘着ローラー２０５から高分子ＥＬ層１０６をこそぎ落とすこともできる。さらに、スクレーパー２０８は１つの粘着ローラー２０５に対して複数設けてもよい。ここで用いるスクレーパーの素材としては、ステンレス、トムバック、ジュラルミン、パーメンデュール、タングステンカーバイドなどの合金、又はガラス長繊維強化プラスチック（ＧＭＴ）、炭素繊維強化プラスチック（ＣＦＲＰ）、アラミド繊維強化プラスチック（ＡＦＲＰ）、ケブラー繊維強化プラスチック（ＫＦＲＰ）、ポリエチレン繊維強化プラスチック（ＤＦＲＰ）などの強化プラスチックが考えられるがこそぎ落とす機能を阻害するものでなければ上記の素材に限定しない。
【００５４】
以下、実施例により本発明の具体例を説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
【実施例】
【００５５】
まず、上記した剥離工程を行うに先立ち、高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との密着性について調べるため、粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍの粘着シート（株式会社寺岡製作所テープＮｏ．９４７０）又はそれと同一の粘着力の粘着ローラーを用いて剥離試験を行った。その結果、高分子ＥＬ層１０６を構成する材料を上記した種々の材料に変えても高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との密着性に大きな違いは見られなかった。
【００５６】
次に、上記値以上の例として粘着力３．３３Ｎ／幅２５ｍｍの粘着シート（同社製テープＮｏ.９４３０）又は粘着ローラーでは基板に破損が生じた。また、粘着力０．２０Ｎ／幅２５ｍｍの粘着シート（同社製テープＮｏ．９４５）又は粘着ローラーでも若干剥離した。さらに上記値以下の例として粘着力０．１０Ｎ／幅２５ｍｍの粘着シート（同社製テープＮｏ．９４１Ａ）又は粘着ローラーでは殆ど剥離しなかった。
【００５７】
次に、粘着力０．１０Ｎ／幅２５ｍｍから粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍまで粘着力を換えて上記剥離試験を行った結果を表１に示す。表１でいう剥離率とは、高分子ＥＬパネル１０７上の欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６を１ｍｍの間隔を有してなるカッターガイドを用いてカッターナイフで傷を付け、１ｃｍ角の中に１００個のマス目に対し、その後剥離工程により剥離したマス目の割合として算出されたものである。
【００５８】
【表１】
【００５９】
表１から、粘着シート２０３又は粘着ローラーの粘着力は１．４７Ｎ／幅２５ｍｍから３．３３Ｎ／幅２５ｍｍの範囲であれば、剥離残りやＴＦＴパネルの破損が無く、良好に剥離できることが分かった。粘着シートの粘着力が０．９８Ｎ／幅２５ｍｍ以下では、剥離率が十分でなく、ＴＦＴパネル上に高分子ＥＬ層の剥離残りがあった。一方、粘着シートの粘着力が３．３３Ｎ／幅２５ｍｍ以上では、剥離の際にＴＦＴパネルが破損し、ＴＦＴパネルの再生に適さなかった。
【００６０】
上記の結果を元に、粘着シート２０３又は粘着ローラーの粘着力を１．４７Ｎ／幅２５ｍｍから３．３３Ｎ／幅２５ｍｍの範囲で、以下の実施例１から実施例３に示すＴＦＴパネル再生装置により、高分子ＥＬパネル１０７からＴＦＴパネル１０３を再生する工程を行った。
【００６１】
＜実施例１＞
図１に示した機構を用い、水平に設置された高分子ＥＬパネル１０７は、搬送ローラー２０２により前方に送られ連続した粘着シート２０３（株式会社寺岡製作所テープＮｏ．９４７０粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍ）により２００Ｐａの圧力で押し付けられ、高分子ＥＬ層１０６を剥離された。同粘着シート２０３は搬送ローラー２０２と同速度で回転する巻取りローラー２０４によって巻き取られる。
【００６２】
上記機構を４台通過したその結果、全ての高分子ＥＬ層１０６を剥離し、再度利用可能なＴＦＴパネル１０３が再生された。
【００６３】
＜実施例２＞
図２に示した機構を用い、水平に設置された高分子ＥＬパネル１０７は搬送ローラー２０２により前方に送られ、粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍからなる粘着剤を塗布した粘着ローラー２０５により２００Ｐａの圧力で押し付けられ、高分子ＥＬ層１０６を剥離された。
【００６４】
ここで剥離した高分子ＥＬ層１０６が密着した粘着ローラー２０５は、高圧洗浄液噴出し口２０６からのトルエン８ＭＰａ噴射により洗浄され、再度次の剥離対象基板の剥離に用いられる（図５）。
【００６５】
上記機構を４台通過した結果、粘着ローラー２０５によってすべての高分子ＥＬ層１０６が剥ぎ取られたＴＦＴパネル１０３は再度利用可能な状態へと復元された。
【００６６】
＜実施例３＞
図２に示した機構を用い、水平に設置された高分子ＥＬパネル１０７は搬送ローラー２０２により前方に送られ、粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍからなる粘着剤を塗布した粘着ローラー２０５により２００Ｐａの圧力で押し付けられ、高分子ＥＬ層１０６を剥離された。
【００６７】
ここで剥離した高分子ＥＬ層１０６が密着した粘着ローラー２０５は、ステンレス製スクレーパー２０８により高分子ＥＬ層１０６が削り取られ、削られた高分子ＥＬ層１０６は下方へと収容される。粘着ローラー２０５は再度次の剥離対象基板の剥離に用いられる（図６）。
【００６８】
上記機構を４台通過した結果、粘着ローラー２０５によってすべての高分子ＥＬ層１０６が剥ぎ取られたＴＦＴパネル１０３は再度利用可能な状態へと復元された。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明により高分子ＥＬ基板の再生方法の提案によりこれまで処分されていた基板の無駄を解消し歩留まりの向上が期待できることから高分子ＥＬにおける生産性の向上が見込まれる。
【符号の説明】
【００７０】
１０１・・・ガラス基板
１０２・・・透明電極層
１０３・・・ＴＦＴパネル
１０４・・・電荷輸送層
１０５・・・発光層
１０６・・・高分子ＥＬ層
１０７・・・高分子ＥＬパネル
２０１・・・搬送ローラー
２０２・・・剥離ローラー
２０３・・・粘着シート
２０４・・・巻取りローラー
２０５・・・粘着ローラー
２０６・・・高圧洗浄液噴出し口
２０７・・・洗浄液
２０８・・・スクレーパー
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子ＥＬ層積層基板の再生装置並びに再生方法に関する。特に、高分子ＥＬ（以下、「高分子ＥＬ」という。）現象を利用した高分子ＥＬパネルの製造に用いる高分子ＥＬ層積層基板の再生装置及び再生方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
高分子ＥＬパネルの基材には、透過率などの光学特性や、平坦性や平滑性、耐久性などが優れ、熱膨張率も小さい高価な高機能ガラス、例えば無アルカリガラスが用いられている。最近では、光学特性や平滑性などに優れたフィルムも高分子ＥＬパネルの基材として用いられることがあるが、このフィルム基材もガスバリア性を付加するための加工が施されているため高価となる。
【０００３】
また、アクティブマトリクス駆動の高分子ＥＬ素子では、基材上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）回路等の機能層を形成したもの（以下、「基板」という。）を用いる。基材に付加価値が付くため、この基板は更に高価な物となる。
【０００４】
一方、高分子ＥＬパネルの高機能化に伴い、それに求められる品質基準も高くなってきている。例えば、高精細化が進みパネル中の画素サイズが小さくなっているため、異物の影響が大きくなる他、主に低分子系で実施されている蒸着プロセスにおいては、たわみなどによるマスクのずれの許容範囲が狭くなり、主に高分子系で実施されている印刷プロセスにおいては、インクジェット法や凸版印刷法などでの塗布位置精度や塗布量の精度の許容範囲が狭く成ってきている。そのため、歩留まりを向上させる様々な工夫が成されているが、向上した品質基準を満たさない部材の発生が問題となっている。
【０００５】
また、積層化も進んでおり、高分子に代表される塗布型でも正孔輸送層、インターレイヤ層、有機発光層が１対の電極間に積層されることが多い。低分子に代表される蒸着型では、更に各層の役割を細かく分け層の多層化により構成されることが多い。
【０００６】
ここで、１対の電極間に挟まれた箇所に形成される高分子発光層を含む部位を高分子ＥＬ層という。また、基材以外の高分子ＥＬ素子の構成要素を機能層という。
【０００７】
これら機能層のどこかに欠陥があった場合、その欠陥がある画素は満足な発光特性を示さない。この事が更に歩留まりの向上を阻害している。
【０００８】
以上のことから、品質基準を満足しない高分子ＥＬパネルから、高価な基材、基板を再生し、コストの低減を図るための様々な方法が提案されている。
【０００９】
この基材、基板の再生方法としては、例えば、特許文献１及び２には、基板上に形成された機能層を酸やアルカリ溶液にて溶解させる方法が開示されている（特許文献１及び２参照）。また、特許文献３には、ブラシの機械摩擦により剥離する方法が開示されている（特許文献３参照）。
【００１０】
しかしながら、特許文献１及び２に記載の方法では、酸やアルカリの化学液を使用するので、基板表面にて化学反応が起きて変質層を生じさせてしまう可能性や化学液の管理も煩雑である。また、特許文献３の方法では、ブラシの物理的な接触により基板表面に傷を与えてしまう可能性がある。
【００１１】
以上の問題を解決するために、特許文献４には、基材上の導電性金属酸化物を電気化学的に溶解させる方法が開示されている（特許文献４参照）。特許文献４に記載の方法では、基材の化学反応や物理的接触による傷発生による劣化を防ぐことはできるが、最表面に導電性金属酸化物が存在しないと適応できない上に、電解液塗布装置や電極などを備えた特殊な装置を準備する必要がある。更には、再利用したい基板上に薄膜トランジスタが形成されている場合には、そのトランジスタまで破壊してしまう恐れがある。
【００１２】
上述した基板再生方法の他に、例えば、特許文献５及び６には、欠陥が有る箇所のみを修復若しくは破壊して、品質基準を満たすようにする方法が多数開示されている（特許文献５及び６参照）。特許文献５及び６の方法では、欠陥箇所が少なければ有効であるが、欠陥箇所が多数存在する場合には時間がかかるうえ、修復後の品質も期待できなくなってしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特許第２５３８５００号
【特許文献２】特開２００３−２６２７１７号公報
【特許文献３】特開平９−８６９６８号公報
【特許文献４】特開２００７−１０７０２５号公報
【特許文献５】特開２００４−２２７８５２号公報
【特許文献６】特開２０００−１７３４７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、高分子ＥＬパネルを製造する際に、品質基準を満たさないものが発生した場合でも簡便な方法で基板を効率よく再生することができる薄膜トランジスタ基板の再生装置及び再生方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するための手段として、請求項１の発明は、高薄膜トランジスタ基板上に少なくとも高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生する装置であって、
少なくとも１つ以上の搬送ローラーと、前記搬送ローラーに対向して設置される少なくとも１つ以上の剥離ローラーと、を備え、
前記高分子ＥＬ層積層基板は、回転する前記搬送ローラーと回転する前記剥離ローラーに挟まれ、前記搬送ローラーと前記剥離ローラーとの間を搬送され、前記剥離ローラー上に設けられた剥離手段によって前記高分子ＥＬ層が剥離されることを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００１６】
また、請求項２の発明は、前記剥離手段がシート上に粘着剤層が形成された連続した粘着シートであり、前記連続した粘着シートは巻き出しローラーから巻き出され、前記剥離ローラー上で前記高分子ＥＬ層積層基板と接触して前記高分子ＥＬ層を剥離した後、巻取りローラーによって巻き取られる機構を有することを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００１７】
また、請求項３の発明は、前前記剥離手段が、粘着剤層であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００１８】
また、請求項４の発明は、前記剥離手段の粘着力がＪＩＳＫ６８５４−１にて規定された粘着力１．４７Ｎ／２５ｍｍ以上３．１４Ｎ／幅２５ｍｍ以下の粘着剤を用いることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００１９】
また、請求項５の発明は、前記剥離ローラーは、剥離した前記高分子ＥＬ層を前記剥離ローラー表面から除去するための洗浄手段を有することを特徴とする請求項３及び４に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２０】
また、請求項６の発明は、前記洗浄手段が、噴射された洗浄液であることを特徴とする請求項５に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２１】
また、請求項７の発明は、前記洗浄液が有機溶剤であることを特徴とする請求項６に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２２】
また、請求項８の発明は、前記洗浄手段が、ローラー表面の異物を掻き落とすスクレーパーであることを特徴とする請求項５に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２３】
また、請求項９の発明は、前記高分子ＥＬ層積層基板の搬送手段として搬送ローラー及び、前記剥離ローラーが、高分子ＥＬ層積層基板を介して対向して設置され、１０Ｐａ以上１ＭＰａ以下の押し当て圧力にて高分子ＥＬ層積層基板を挟み込む構造を有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２４】
また、請求項１０の発明は、前記高分子ＥＬ層積層基板が地面と水平に搬送され、前記高分子ＥＬ層が下向きであることを特徴とする、請求項９に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置としたものである。
【００２５】
また、請求項１１の発明は、請求項１乃至１０の何れか１項記載の再生装置を用い、前記高分子ＥＬ層に粘着剤を接触させ、粘着剤と共に前記高分子ＥＬ層を前記高分子ＥＬ層積層基板より除去する工程を有することを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生方法としたものである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、薄膜トランジスタ基板上に少なくとも高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生するにあたり、薄膜トランジスタ基板上に少なくとも、高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から、前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生する装置であって、少なくとも１つ以上の搬送ローラーと、前記搬送ローラーに対向して設置される少なくとも１つ以上の剥離ローラーと、を備え、前記高分子ＥＬ層積層基板は、回転する前記搬送ローラーと回転する前記剥離ローラーに挟まれ、前記搬送ローラーと前記剥離ローラーとの間を搬送され、前記剥離ローラー上に設けられた剥離手段によって前記高分子ＥＬ層が剥離されることを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生装置を用いることで、薄膜トランジスタ基板を破損することなく、効率よく再生することができる。
【００２７】
また、本発明によれば、前記剥離手段がＪＩＳＫ６８５４−１にて規定された粘着力１．４７Ｎ／２５ｍｍ以上３．１４Ｎ／幅２５ｍｍ以下の粘着力の粘着シートまたは粘着ローラーとしたことで、薄膜トランジスタ基板を破損することなく高分子ＥＬ層だけを剥離することができる。
【００２８】
また、本発明によれば、前記剥離ローラーは、剥離した前記高分子ＥＬ層を前記剥離ローラー表面から除去するための洗浄手段として噴射された洗浄液、又はスクレーパーを有するため、剥離手段から高分子ＥＬ層が剥離され、剥離手段が再利用されるため効率よく薄膜トランジスタ基板を再生することができる。
【００２９】
また、本発明によれば、前記高分子ＥＬ層積層基板が地面と水平に搬送され、前記高分子ＥＬ層積層基板の搬送手段として搬送ローラー及び、前記剥離ローラーが、高分子ＥＬ層積層基板を介して対向して設置され、１０Ｐａ以上１ＭＰａ以下の押し当て圧力にて高分子ＥＬ層積層基板を挟み込む構造を有するため、ローラーの押圧や撓み等による薄膜トランジスタ基板の破損を防ぎ、且つ剥離手段と高分子ＥＬ層との密着が十分なため効率よく薄膜トランジスタ基板を再生することができる。
【００３０】
以上から、本発明によれば、高分子ＥＬ層積層基板を製造する際に、品質基準を満たさないものが発生した場合でも、簡便な方法で基板を再生することができる再生装置及び効率の良い再生方法を提供することが出来る。そのため製造コストを抑えられた高分子ＥＬ層積層基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明のＴＦＴパネル１０３の再生装置で粘着シート２０３を用いる場合の概略断面図
【図２】本発明のＴＦＴパネル１０３の再生装置で粘着ローラー２０５を用いる場合の概略断面図
【図３】本発明のＴＦＴパネル１０３の再生装置で粘着シート２０３を用いる場合の再生工程（ａ）〜（ｃ）の説明図
【図４】本発明のＴＦＴパネル１０３の再生装置で粘着ローラー２０５を用いる場合の再生工程（ａ）〜（ｃ）の説明図
【図５】実施例２における剥離ローラー洗浄の説明図
【図６】実施例３における剥離ローラー上の高分子ＥＬ層をスクレーパーによる剥離の説明図
【図７】高分子ＥＬ層積層基板の構造の概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明の一実施の形態に係る高分子ＥＬ層積層基板の再生装置及び再生方法について、図面を参照しつつ詳しく説明する。なお、以下の実施の形態においては、同一構成要素には同一の符号を付し、実施の形態間において重複する説明は省略する。
【００３３】
なお、本発明の具体的な構成、及び一連の工程は下記の条件に限定されるものではない。
【００３４】
図７は剥離対象となる高分子ＥＬパネル１０７の構成（ガラス基板１０１及び透明電極層１０２から成るＴＦＴパネル１０３、電荷輸送層１０４及び発光層１０５から成る高分子ＥＬ層１０６）を模式的に示す概略図であり、図１は本発明に係る高分子ＥＬパネル用基板の再生装置の実施例の一つを模式的に示す概略図である。
【００３５】
高分子ＥＬパネル１０７の搬送方向に高分子ＥＬ層１０６成膜面を水平に設置し、上下に対を成したローラー間（２０１、２０２）に挟み込み（図３（ａ））、搬送されると共に高分子ＥＬ層１０６が剥離され（図３（ｂ））、ＴＦＴパネル１０３が再生される（図３（ｃ））。搬送ローラー２０１、剥離ローラー２０２はいずれもが回転のための動力を有していても良く、又はどちらか一方が動力によって回転し、もう一方は高分子ＥＬパネル１０７の搬送と共に回転する機構であっても良いが、剥離ローラーが粘着シートを用いるものの場合は剥離ローラーが回転することが好ましい。
【００３６】
搬送ローラー２０１、剥離ローラー２０２の材料は金属、プラスチック、ゴムなど、パネルの搬送に適したものを好適に用いることができる。また、搬送ローラー２０１は、パネルの搬送のために必要なだけの粘着性や摩擦を持つように表面が加工されていても良く、剥離ローラー２０２は粘着シート２０３がずれないだけの粘着性や摩擦を持つように加工されていても良い。
【００３７】
ローラー間の距離は以下に述べる適切な圧力が高分子ＥＬパネル１０７にかかるように、高分子ＥＬパネル１０７の厚さを考慮して設定される。また、高分子ＥＬパネル１０７の搬送速度は、高分子ＥＬ層１０６が剥離され、ＴＦＴパネル１０３が破損せずに再生されれば任意の速度でよい。
【００３８】
また、ここでいう高分子ＥＬ層１０６に用いた「高分子」とは発光層１０５としてポリフェニレンビニレン類、ポリフェニレン類、ポリチオフェン類、ポリチアゾール類、ポリチアジアゾール類、ポリオキサゾール類、ポリオキサジアゾール類、ポリフルオレン類等のπ共役系高分子等を指しており、かつ発光層１０５下に電荷輸送層１０４としてポリアニリン類、ポリチオフェン類、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）類、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ等の高分子材料、またはポリパラフェニレン（ＰＰＰ）等のポリアリーレン類、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等のポリアリーレンビニレン類等の導電性高分子若しくはポリスチレン（ＰＳ）等の高分子に、アリールアミン類、カルバゾール類、アリールスルフィド類、チオフェン類及びフタロシアニン類等の低分子の電荷輸送性を示す材料を混合した物を指す。
【００３９】
剥離工程を実際に行うに先立ち、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との間の密着性について検討しておくことが好ましい。この密着性を測定するために、ＪＩＳＫ５４００−１９９０にある試験を用いることができる。特に８．５．２に準拠した碁盤目テープ法付着性試験が最も適している。ただし、この密着性は非常に弱く、後述の試験の条件では高分子ＥＬ層１０６の薄膜の剥離性の基準に適用することは困難であるために、以下のようにいくつか変更して検討する。なお、下記に記す粘着力はＪＩＳＫ６８５４−１に規定されるものである。
【００４０】
まず、高分子ＥＬパネル１０７上の欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６を１ｍｍの間隔を有してなるカッターガイドを用いてカッターナイフで傷を付け、１ｃｍ角の中に１００個のマス目をつくり、その表面に、ある任意の粘着力を有する粘着剤を塗布した粘着シート２０３を任意の圧力にて押し付けた後、剥離する。
【００４１】
この剥離試験にて徐々に粘着力を上げていき、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６に形成されたマス目が剥離されたときの粘着シート２０３の粘着力を、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との間の剥離の閾値と見なすことができ、この閾値以上の粘着力を有する粘着剤を用いれば、粘着剤と欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６との間の密着性が、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との間の密着性よりも十分大きいと判断することができる。さらに粘着力を上げて剥離試験を行い、剥離によりＴＦＴ基板に破損が生じた粘着力をＴＦＴパネル１０３の破損の閾値とみなすことができ、この閾値未満の粘着力を有する粘着剤を用いることで、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６をＴＦＴパネル１０３が破損することなく剥離でき、ＴＦＴパネル１０３を再度利用することができる。
【００４２】
なお、本粘着剤は、欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６を剥離しやすくするために、必要に応じ加熱したり硬化させたり、膨潤させたり乾燥させたりしても良い。
【００４３】
次に、高分子ＥＬパネル１０７から高分子ＥＬ層１０６を剥離する剥離工程について、図３を参照しながら説明する。
【００４４】
高分子ＥＬパネル１０７は、高分子ＥＬ層１０６が形成された面と連続した粘着シート２０３の粘着剤が形成された面とが密着されるように、水平に設置・搬送される。ＴＦＴパネル基板は主に薄いガラス等が用いられるため、撓み等による破損を防ぐために水平に設置・搬送することが好ましい。
【００４５】
続いて、搬送ローラー２０１および剥離ローラー２０２の回転により搬送されると共に、両ローラーにより高分子ＥＬパネル１０７と連続した粘着シート２０３とが圧着され、高分子ＥＬ層１０６と粘着シート２０３とが密着する。
【００４６】
このとき高分子ＥＬ層１０６に押し当てる圧力は１０Ｐａ以上１ＭＰａ以下とすることで、高分子ＥＬ層１０６と剥離ローラー２０２との密着が十分に行われ、且つＴＦＴパネル１０３の破損しないため好ましい。剥離ローラー２０２を高分子ＥＬ層１０６に押し当てる圧力が１０Ｐａ未満の場合、粘着シート２０３と高分子ＥＬ層１０６との密着が十分に行われないために高分子ＥＬ層１０６の剥離が十分に行えず、剥離ローラー２０２を高分子ＥＬ層１０６に押し当てる圧力が１ＭＰａを超えた場合、ＴＦＴパネル１０３に物理的なダメージが加わり、ＴＦＴパネル１０３そのものが傷ついたり、若しくは破損が起きたりする。
【００４７】
続いて、連続した粘着シート２０３が巻き取りローラー２０４の回転により高分子ＥＬパネル１０７から剥離されると同時に、連続した粘着シート２０３と密着した高分子ＥＬ層１０６がＴＦＴパネル１０３から剥離される。
【００４８】
そして、搬送ローラー２０１と剥離ローラー２０２及び連続した粘着シート２０３から成る上記工程を連続して設置し、高分子ＥＬパネル１０７と粘着シート２０３との密着を繰り返すことで、高分子ＥＬ層１０６は最終的にＴＦＴパネル１０３から全て剥離することができる。
【００４９】
上記の一連の作業工程によりＴＦＴパネル１０３を再利用可能な状態へと復元することができる。なお、上記した工程の他に、再生したＴＦＴパネル１０３を洗浄する工程は適宜設けることができる。
【００５０】
上記剥離工程に用いられる剥離ローラー２０２及び連続した粘着シート２０３は、粘着シート２０３と同一の粘着剤、又は同一の粘着力を持つ粘着剤層を剥離ローラー２０２に形成した粘着ローラー２０５と換えてもよい（図２）。この場合、粘着ローラー２０５は、高分子ＥＬ層１０６の剥離の後ローラー表面を洗浄することで上記剥離工程を連続して行うことができ、連続した粘着シート２０３を用いる場合に比べて、粘着シートの基材となるフィルムなどが不要であるため経済的により優れている。
【００５１】
粘着ローラー２０５の洗浄方法としては、洗浄液を溜めた洗浄浴に粘着ローラー２０５を浸す、粘着ローラーをブラシで擦る等の方法を適宜用いることができるが、図５のように洗浄液２０７に圧力をかけて噴射して洗浄する方法が特に好ましい。この場合、噴射の圧力は８から２０Ｍｐａの間であれば好適に洗浄することができ、１つの粘着ローラー２０５に対して高圧洗浄液噴出し口２０６は複数設けてもよい。また、より洗浄しやすくする目的で洗浄液２０７を加熱しておくことも好ましい。
【００５２】
ここで用いる洗浄液２０７とはトルエン、アセトン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、へキサン、キシレンなどの有機溶剤が好適に用いることができるが、剥離された高分子ＥＬ層１０６を洗い流せるものであればこれに限定されない。
【００５３】
さらに、上記の洗浄方法の他に、図６のようにスクレーパー２０８によって粘着ローラー２０５から高分子ＥＬ層１０６をこそぎ落とすこともできる。さらに、スクレーパー２０８は１つの粘着ローラー２０５に対して複数設けてもよい。ここで用いるスクレーパーの素材としては、ステンレス、トムバック、ジュラルミン、パーメンデュール、タングステンカーバイドなどの合金、又はガラス長繊維強化プラスチック（ＧＭＴ）、炭素繊維強化プラスチック（ＣＦＲＰ）、アラミド繊維強化プラスチック（ＡＦＲＰ）、ケブラー繊維強化プラスチック（ＫＦＲＰ）、ポリエチレン繊維強化プラスチック（ＤＦＲＰ）などの強化プラスチックが考えられるがこそぎ落とす機能を阻害するものでなければ上記の素材に限定しない。
【００５４】
以下、実施例により本発明の具体例を説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
【実施例】
【００５５】
まず、上記した剥離工程を行うに先立ち、高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との密着性について調べるため、粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍの粘着シート（株式会社寺岡製作所テープＮｏ．９４７０）又はそれと同一の粘着力の粘着ローラーを用いて剥離試験を行った。その結果、高分子ＥＬ層１０６を構成する材料を上記した種々の材料に変えても高分子ＥＬ層１０６とＴＦＴパネル１０３との密着性に大きな違いは見られなかった。
【００５６】
次に、上記値以上の例として粘着力３．３３Ｎ／幅２５ｍｍの粘着シート（同社製テープＮｏ.９４３０）又は粘着ローラーでは基板に破損が生じた。また、粘着力０．２０Ｎ／幅２５ｍｍの粘着シート（同社製テープＮｏ．９４５）又は粘着ローラーでも若干剥離した。さらに上記値以下の例として粘着力０．１０Ｎ／幅２５ｍｍの粘着シート（同社製テープＮｏ．９４１Ａ）又は粘着ローラーでは殆ど剥離しなかった。
【００５７】
次に、粘着力０．１０Ｎ／幅２５ｍｍから粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍまで粘着力を換えて上記剥離試験を行った結果を表１に示す。表１でいう剥離率とは、高分子ＥＬパネル１０７上の欠陥を有する高分子ＥＬ層１０６を１ｍｍの間隔を有してなるカッターガイドを用いてカッターナイフで傷を付け、１ｃｍ角の中に１００個のマス目に対し、その後剥離工程により剥離したマス目の割合として算出されたものである。
【００５８】
【表１】
【００５９】
表１から、粘着シート２０３又は粘着ローラーの粘着力は１．４７Ｎ／幅２５ｍｍから３．３３Ｎ／幅２５ｍｍの範囲であれば、剥離残りやＴＦＴパネルの破損が無く、良好に剥離できることが分かった。粘着シートの粘着力が０．９８Ｎ／幅２５ｍｍ以下では、剥離率が十分でなく、ＴＦＴパネル上に高分子ＥＬ層の剥離残りがあった。一方、粘着シートの粘着力が３．３３Ｎ／幅２５ｍｍ以上では、剥離の際にＴＦＴパネルが破損し、ＴＦＴパネルの再生に適さなかった。
【００６０】
上記の結果を元に、粘着シート２０３又は粘着ローラーの粘着力を１．４７Ｎ／幅２５ｍｍから３．３３Ｎ／幅２５ｍｍの範囲で、以下の実施例１から実施例３に示すＴＦＴパネル再生装置により、高分子ＥＬパネル１０７からＴＦＴパネル１０３を再生する工程を行った。
【００６１】
＜実施例１＞
図１に示した機構を用い、水平に設置された高分子ＥＬパネル１０７は、搬送ローラー２０２により前方に送られ連続した粘着シート２０３（株式会社寺岡製作所テープＮｏ．９４７０粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍ）により２００Ｐａの圧力で押し付けられ、高分子ＥＬ層１０６を剥離された。同粘着シート２０３は搬送ローラー２０２と同速度で回転する巻取りローラー２０４によって巻き取られる。
【００６２】
上記機構を４台通過したその結果、全ての高分子ＥＬ層１０６を剥離し、再度利用可能なＴＦＴパネル１０３が再生された。
【００６３】
＜実施例２＞
図２に示した機構を用い、水平に設置された高分子ＥＬパネル１０７は搬送ローラー２０２により前方に送られ、粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍからなる粘着剤を塗布した粘着ローラー２０５により２００Ｐａの圧力で押し付けられ、高分子ＥＬ層１０６を剥離された。
【００６４】
ここで剥離した高分子ＥＬ層１０６が密着した粘着ローラー２０５は、高圧洗浄液噴出し口２０６からのトルエン８ＭＰａ噴射により洗浄され、再度次の剥離対象基板の剥離に用いられる（図５）。
【００６５】
上記機構を４台通過した結果、粘着ローラー２０５によってすべての高分子ＥＬ層１０６が剥ぎ取られたＴＦＴパネル１０３は再度利用可能な状態へと復元された。
【００６６】
＜実施例３＞
図２に示した機構を用い、水平に設置された高分子ＥＬパネル１０７は搬送ローラー２０２により前方に送られ、粘着力３．１４Ｎ／幅２５ｍｍからなる粘着剤を塗布した粘着ローラー２０５により２００Ｐａの圧力で押し付けられ、高分子ＥＬ層１０６を剥離された。
【００６７】
ここで剥離した高分子ＥＬ層１０６が密着した粘着ローラー２０５は、ステンレス製スクレーパー２０８により高分子ＥＬ層１０６が削り取られ、削られた高分子ＥＬ層１０６は下方へと収容される。粘着ローラー２０５は再度次の剥離対象基板の剥離に用いられる（図６）。
【００６８】
上記機構を４台通過した結果、粘着ローラー２０５によってすべての高分子ＥＬ層１０６が剥ぎ取られたＴＦＴパネル１０３は再度利用可能な状態へと復元された。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明により高分子ＥＬ基板の再生方法の提案によりこれまで処分されていた基板の無駄を解消し歩留まりの向上が期待できることから高分子ＥＬにおける生産性の向上が見込まれる。
【符号の説明】
【００７０】
１０１・・・ガラス基板
１０２・・・透明電極層
１０３・・・ＴＦＴパネル
１０４・・・電荷輸送層
１０５・・・発光層
１０６・・・高分子ＥＬ層
１０７・・・高分子ＥＬパネル
２０１・・・搬送ローラー
２０２・・・剥離ローラー
２０３・・・粘着シート
２０４・・・巻取りローラー
２０５・・・粘着ローラー
２０６・・・高圧洗浄液噴出し口
２０７・・・洗浄液
２０８・・・スクレーパー
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜トランジスタ基板上に少なくとも高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生する装置であって、
少なくとも１つ以上の搬送ローラーと、前記搬送ローラーに対向して設置される少なくとも１つ以上の剥離ローラーと、を備え、
前記高分子ＥＬ層積層基板は、回転する前記搬送ローラーと回転する前記剥離ローラーに挟まれ、前記搬送ローラーと前記剥離ローラーとの間を搬送され、前記剥離ローラー上に設けられた剥離手段によって前記高分子ＥＬ層が剥離されることを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項２】
前記剥離手段がシート上に粘着剤層が形成された連続した粘着シートであり、前記連続した粘着シートは巻き出しローラーから巻き出され、前記剥離ローラー上で前記高分子ＥＬ層積層基板と接触して前記高分子ＥＬ層を剥離した後、巻取りローラーによって巻き取られる機構を有することを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項３】
前記剥離手段が、粘着剤層であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項４】
前記剥離手段の粘着力がＪＩＳＫ６８５４−１にて規定された粘着力１．４７Ｎ／２５ｍｍ以上３．１４Ｎ／幅２５ｍｍ以下の粘着剤を用いることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項５】
前記剥離ローラーは、剥離した前記高分子ＥＬ層を前記剥離ローラー表面から除去するための洗浄手段を有することを特徴とする請求項３及び４に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項６】
前記洗浄手段が、噴射された洗浄液であることを特徴とする請求項５に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項７】
前記洗浄液が有機溶剤であることを特徴とする請求項６に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項８】
前記洗浄手段が、ローラー表面の異物を掻き落とすスクレーパーであることを特徴とする請求項５に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項９】
前記高分子ＥＬ層積層基板の搬送手段として搬送ローラー及び、前記剥離ローラーが、高分子ＥＬ層積層基板を介して対向して設置され、１０Ｐａ以上１ＭＰａ以下の押し当て圧力にて高分子ＥＬ層積層基板を挟み込む構造を有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項１０】
前記高分子ＥＬ層積層基板が地面と水平に搬送され、前記高分子ＥＬ層が下向きであることを特徴とする、請求項９に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか１項記載の再生装置を用い、前記高分子ＥＬ層に粘着剤を接触させ、粘着剤と共に前記高分子ＥＬ層を前記高分子ＥＬ層積層基板より除去する工程を有することを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生方法。
【請求項１】
薄膜トランジスタ基板上に少なくとも高分子ＥＬ層が形成された高分子ＥＬ層積層基板から前記高分子ＥＬ層を剥離して前記薄膜トランジスタ基板を再生する装置であって、
少なくとも１つ以上の搬送ローラーと、前記搬送ローラーに対向して設置される少なくとも１つ以上の剥離ローラーと、を備え、
前記高分子ＥＬ層積層基板は、回転する前記搬送ローラーと回転する前記剥離ローラーに挟まれ、前記搬送ローラーと前記剥離ローラーとの間を搬送され、前記剥離ローラー上に設けられた剥離手段によって前記高分子ＥＬ層が剥離されることを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項２】
前記剥離手段がシート上に粘着剤層が形成された連続した粘着シートであり、前記連続した粘着シートは巻き出しローラーから巻き出され、前記剥離ローラー上で前記高分子ＥＬ層積層基板と接触して前記高分子ＥＬ層を剥離した後、巻取りローラーによって巻き取られる機構を有することを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項３】
前記剥離手段が、粘着剤層であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項４】
前記剥離手段の粘着力がＪＩＳＫ６８５４−１にて規定された粘着力１．４７Ｎ／２５ｍｍ以上３．１４Ｎ／幅２５ｍｍ以下の粘着剤を用いることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項５】
前記剥離ローラーは、剥離した前記高分子ＥＬ層を前記剥離ローラー表面から除去するための洗浄手段を有することを特徴とする請求項３及び４に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項６】
前記洗浄手段が、噴射された洗浄液であることを特徴とする請求項５に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項７】
前記洗浄液が有機溶剤であることを特徴とする請求項６に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項８】
前記洗浄手段が、ローラー表面の異物を掻き落とすスクレーパーであることを特徴とする請求項５に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項９】
前記高分子ＥＬ層積層基板の搬送手段として搬送ローラー及び、前記剥離ローラーが、高分子ＥＬ層積層基板を介して対向して設置され、１０Ｐａ以上１ＭＰａ以下の押し当て圧力にて高分子ＥＬ層積層基板を挟み込む構造を有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項１０】
前記高分子ＥＬ層積層基板が地面と水平に搬送され、前記高分子ＥＬ層が下向きであることを特徴とする、請求項９に記載の薄膜トランジスタ基板の再生装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか１項記載の再生装置を用い、前記高分子ＥＬ層に粘着剤を接触させ、粘着剤と共に前記高分子ＥＬ層を前記高分子ＥＬ層積層基板より除去する工程を有することを特徴とする薄膜トランジスタ基板の再生方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１１−６５０４６（Ｐ２０１１−６５０４６Ａ）
【公開日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２１７１７９（Ｐ２００９−２１７１７９）
【出願日】平成２１年９月１８日（２００９．９．１８）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月１８日（２００９．９．１８）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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