薄膜形成用マスキング装置
【課題】意匠面の薄膜形成領域だけに、薄膜を安定的に且つ確実に形成可能とされた薄膜形成用マスキング装置を提供する。
【解決手段】第一のマスキング部３４にて、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域をマスキングすると共に、第二のマスキング部３８にて、基板１６の非意匠面１８の少なくとも一部をマスキングした状態下で、それら第一及び第二のマスキング部３４，３８に設けられた第一及び第二の板状突出部３２，３６が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域の周囲において、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置されるように構成した。
【解決手段】第一のマスキング部３４にて、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域をマスキングすると共に、第二のマスキング部３８にて、基板１６の非意匠面１８の少なくとも一部をマスキングした状態下で、それら第一及び第二のマスキング部３４，３８に設けられた第一及び第二の板状突出部３２，３６が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域の周囲において、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置されるように構成した。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成用マスキング装置に係り、特に、基板の一方の板面からなる意匠面の一部に物理蒸着法や化学蒸着法により薄膜を形成する際に、意匠面の薄膜非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた樹脂成形品からなる基板の意匠面に対して、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーディング法等の物理蒸着法（ＰＶＣ法）や、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等の化学蒸着法（ＣＶＤ法）を利用して、金属薄膜等を形成することにより、金属表面を擬似的に表現する、所謂金属調の加飾が施されてなる加飾製品が知られている（例えば、下記特許文献１参照）。そして、この加飾製品は、本物の金属製品に比して、軽量で、成形性や加工性に優れ、しかも防錆加工も不要であるところから、例えば、自動車内装部品や家具、建築材、家電製品、携帯電子機器等の様々な製品や物品の表皮材や部品等として、多く利用されてきている。また、樹脂材料や樹脂材料以外の材料を用いて得られた基板の一方の板面からなる意匠面に対して、各種の薄膜を、物理蒸着法や化学蒸着法により、加飾以外の目的で形成してなる積層製品も、知られている。
【０００３】
ところで、そのような加飾製品や積層製品には、基板の意匠面の一部だけに薄膜が形成されてなるものがあり、それらの製品を得る際には、一般に、薄膜形成用マスキング装置にて意匠面の一部をマスキングしつつ、薄膜の形成操作が実施される。また、上記の如き加飾製品や積層製品の大量生産を可能とする装置として、基板を一軸回りに回転させつつ、意匠面に薄膜を形成する装置（例えば、特許文献２参照）が知られている。そして、そのような装置を使用して、基板の意匠面に薄膜が部分的に形成された製品を得る場合には、例えば、図２２に示される如き構造を有する薄膜形成用マスキング装置が、好適に用いられている。
【０００４】
すなわち、図２２から明らかなように、かかる薄膜形成用マスキング装置は、長手矩形状のベースフレーム１００と、略長手矩形平板状の第一のマスキング部１０２と、略長手矩形平板状の第二のマスキング部１０４とを有している。第二のマスキング部１０４は、ベースフレーム１００に対して位置固定に取り付けられている。第一のマスキング部１０２は、長さ方向の一端部において、ヒンジ部１０６を介して、ベースフレーム１００に連結されている。また、第一のマスキング部１０２は、ヒンジ部１０６に設けられた回動軸回りに回動可能とされており、かかる回動によって、第二のマスキング部１０４と所定距離を隔てて対向配置されるようになっている。そして、そのような第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との対向配置状態下において、第一のマスキング部１０２に設けられた係合爪１０８，１０８が、ベースフレーム１００に設けられた係合棒１１０に係合することにより、第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との対向配置状態が、任意に解消可能に固定されるようになっている。
【０００５】
また、第一のマスキング部１０２には、その周縁部のうちの一部を除いた部位に、第一の板状突出部１１２が、板厚方向の一方側に向かって突出し、且つかかる周縁部に沿って延びるように一体的に立設（周設）されている。更に、第二のマスキング部１０４の周縁部のうちの一部を除いた部位にも、第二の板状突出部１１４が、板厚方向の一方側に向かって突出し、且つかかる周縁部に沿って延びるように一体的に立設（周設）されている。なお、図２２中、１１６は、後述する如く、基板に突設された係合突起（図示せず）が挿入されて係合する係合孔であり、この係合孔に基板の係合突起が挿通されることによって、基板が、第二のマスキング部１０４に取り外し可能に取り付けられるようになっている。
【０００６】
そして、かかる薄膜形成用マスキング装置を用いる場合には、図２３に示されるように、第一のマスキング部１０２が、第一の板状突出部１１２が設けられていない周縁部部位を、基板１１８の意匠面１２０に対して薄膜形成領域：Ａと薄膜非形成領域Ｂとの境界線上設けられた溝状の見切り部１２２に沿って延びるように位置させた状態で、薄膜非形成領域：Ｂの全体をマスキングして配置される。また、第二のマスキング部１０４が、基板１１８の非意匠面１２４のうち、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂの裏面側部分をマスキングして配置される。そうして、第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４とが、基板１１８を間に挟んで両側に位置し、且つ基板１１８を介して互いに対向配置される。
【０００７】
なお、図２３に明示されてはいないものの、第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との互いの対向配置状態において、第二のマスキング部１０４の係合爪１０８，１０８が、ベースフレーム１００の係合棒１１０に係合することにより、第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との対向配置状態が固定される。また、基板１１８は、それに設けられた係合突起が、第二のマスキング部１０４の係合孔１１６に挿入されることで、第二のマスキング部１０４に取り付けられる。
【０００８】
そして、上記の如き第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との互いの対向配置状態において、第一の板状突出部１１２と第二の板状突出部１１４とが、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂの周囲において、それぞれの突出先端面同士を突き合わせた状態で配置される。これにより、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂが、第一及び第二のマスキング部１０２，１０４と第一及び第二の板状突出部１１２，１１４とにて囲繞された状態となる。
【０００９】
従って、かくの如き構造とされた従来の薄膜形成用マスキング装置においては、例えば、基板１１８を回転させつつスパッタリングを行う装置内での基板１１８の回転状態下において、意匠面１２０の正面側から飛来するスパッタリング粒子の薄膜非形成領域：Ｂへの付着が防止されるだけでなく、意匠面１２０の側方側や非意匠面１２４側からスパッタリング粒子が回り込んで、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂに付着することも阻止される。その結果、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂには薄膜を形成することなく、薄膜形成領域：Ａだけに、薄膜を形成することが可能となるのである。
【００１０】
ところが、従来の薄膜形成用マスキング装置においては、第一の板状突出部１１２と第二の板状突出部１１４とが、突出先端面同士において互いに突き合わされた状態で、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂを第一のマスキング部１０２にてマスキングするようになっている。そのため、図２３に二点鎖線で示されるように、第一及び第二の板状突出部１１２，１１４のそれぞれの突出高さや、それら各板状突出部１１２，１１４の突出先端面の面精度等において設計上の誤差等が存在していると、第一及び第二の板状突出部１１２，１１４のそれぞれの突出先端面同士の突合せによって、第一のマスキング部１０２の周縁部のうちの第一の板状突出部１１２が設けられていない周縁部部位１２６と意匠面１２０の見切り部１２２との間で位置ズレが発生することがあった。そして、そうなった場合には、薄膜形成領域：Ａに薄膜が形成されない部分が発生したり、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂに薄膜が形成されたりして、最終的に得られる加飾製品や積層製品の品質が低下するといった問題が惹起される可能性が極めて高かったのである。
【００１１】
なお、第一及び第二の板状突出部１１２，１１４のそれぞれの突出先端面同士の突合せに起因した見切り精度の低下を解消するためには、例えば、第一の板状突出部１１２と第二の板状突出部１１４との間に隙間を形成したり、或いは、第一の板状突出部１１２の高さを増大させる等の対策を講ずることが考えられる。しかしながら、前者の対策を採用する場合には、第一の板状突出部１１２と第二の板状突出部１１４との間の隙間からスパッタリング粒子が侵入し、それが、薄膜非形成領域：Ｂに付着するといった問題が生ずる。また、後者の対策を採用する場合には、第一の板状突出部１１２の高さを増大させた分だけマスキング装置全体が大型化してしまうといった不具合が生ずることとなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００９−４５８４１号公報
【特許文献２】特開２００９−１６７５２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ここにおいて、本発明は、上記した事情を背景にして為されたものであって、その解決課題とするところは、基板の一方の板面からなる意匠面の一部に物理蒸着法や化学蒸着法により薄膜を形成する際に、意匠面の薄膜非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置において、装置全体を大型化することなく、意匠面の薄膜非形成領域のみを確実にマスキングすることができ、それによって、意匠面の薄膜形成領域だけに、薄膜を安定的に且つ確実に形成し得るように改良された構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
そして、本発明にあっては、かかる課題の解決のために、一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部と前記第二の板状突出部とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置を、その要旨とするものである。
【００１５】
また、本発明は、一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部と前記第二の板状突出部のうちの何れか一方の板状突出部が、それらのうちの何れか他方の板状突出部の内側に、該他方の板状突出部と非接触な状態で配置されると共に、該一方の板状突出部の突出先端面が、該他方の板状突出部が設けられる該第一のマスキング部又は該第二のマスキング部に対して、前記意匠面の薄膜非形成領域よりも近接配置され、更に、該第一の板状突出部の突出先端面と該第二の板状突出部の突出先端面とが、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置をも、その要旨とするものである。
【００１６】
さらに、本発明は、一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部が、前記第二の板状突出部の内側に、該第二の板状突出部と非接触な状態で配置されると共に、前記意匠面の薄膜非形成領域における該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向での該第二のマスキング部側の端縁と、該第一の板状突出部の突出先端面と、該第二の板状突出部の突出先端面とが、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置をも、また、その要旨とするものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に従う薄膜形成用マスキング装置にあっては、第一の板状突出部と第二の板状突出部とが、互いに非接触な状態で、意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置されている。そのため、第一の板状突出部と第二の板状突出部のそれぞれの突出先端面同士の当接（突合せ）によって、第一のマスキング部の周縁部のうちの第一の板状突出部が設けられていない周縁部部位と、意匠面の薄膜非形成領域と薄膜形成領域との境界線との間で位置ズレが生ずるようなことが効果的に回避され得る。
【００１８】
しかも、本発明に係る薄膜形成用マスキング装置では、物理蒸着法又は化学蒸着法による薄膜の形成時に、薄膜を形成する粒子（材料）が、第一の板状突出部と第二の板状突出部との間から意匠面の薄膜非形成領域と第一のマスキング部との間に侵入することが、第一の板状突出部と第二の板状突出部とが互いにオーバーラップするように配置されていることによって、確実に防止される。或いは、第一の板状突出部と第二の板状突出部とが、第一のマスキング部と第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置された状態において、第一の板状突出部と第二の板状突出部のうちの内側に配置される板状突出部の突出先端面が、外側に配置される板状突出部が設けられるマスキング部に対して、意匠面の薄膜非形成領域よりも近接配置されていることによって、意匠面の薄膜非形成領域と第一のマスキング部との間への薄膜形成粒子の侵入が、確実に防止される。若しくは、意匠面の薄膜非形成領域における第一のマスキング部と第二のマスキング部の互いの対向方向での第二のマスキング部側の端縁と、第二の板状突出部の突出先端面と、第二の板状突出部の内側に配置された第一の板状突出部の突出先端面とが、第一のマスキング部と第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されていることによって、意匠面の薄膜非形成領域と第一のマスキング部との間への薄膜形成粒子の侵入が、確実に防止される。
【００１９】
従って、かくの如き本発明に従う薄膜形成用マスキング装置によれば、第一の板状突出部の高さの増大による装置全体の大型化を招くことなしに、意匠面の薄膜非形成領域のみを確実にマスキングすることができ、それによって、意匠面の薄膜形成領域だけに、薄膜を安定的に且つ確実に形成することが可能となる。そして、その結果として、基板の意匠面の一部に薄膜が形成されてなる製品の品質を飛躍的に高めることができるのである。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置を用いて、意匠面の一部に薄膜が形成されてなる加飾製品を示す斜視説明図である。
【図２】図１のII−II断面拡大説明図である。
【図３】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の一実施形態を示す斜視説明図である。
【図４】図３に示された薄膜形成用マスキング装置の使用状態を説明するための図であって、薄膜形成用マスキング装置に基板をセットした状態を示す縦断面の端面説明図である。
【図５】図４におけるＶ−Ｖ断面の端面説明図である。
【図６】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図７】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の更に別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図８】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の他の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図９】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の更に他の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１０】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１１】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の更に別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１２】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の他の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１３】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の更に他の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１４】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１５】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の一例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１６】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の別の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１７】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の更に別の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１８】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の他の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１９】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の更に他の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図２０】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の別の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図２１】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の更に別の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図２２】従来構造を有する薄膜形成用マスキング装置を示す斜視説明図である。
【図２３】図２２に示された薄膜形成用マスキング装置の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を更に具体的に明らかにするために、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
【００２２】
先ず、図１及び図２には、本発明に従う構造を有する薄膜形成用マスキング装置を用いて、金属薄膜がスパッタリング法により意匠面の一部に形成されてなる加飾製品の一例が、その斜視形態と横断面形態とにおいて、それぞれ示されている。それら図１及び図２から明らかなように、加飾製品１０は、樹脂成形品からなる基板１２を有し、この基板１２の一方の板面の一部に金属薄膜１４が積層形成されて、構成されている。なお、この加飾製品１０は、例えば、自動車の内装部品として使用されるものである。
【００２３】
より具体的には、基板１２は、全体として、長手矩形の薄肉平板形状を呈し、長さ方向に延びる二つの側面（端面）１５ａ，１５ｂと幅方向に延びる二つの側面（端面）１５ｃ，１５ｄとを有している。そして、厚さ方向一方の板面が意匠面１６とされている一方、その他方の板面が非意匠面１８とされている。また、この基板１２の幅方向の中央部には、二つの矩形の窓部２０，２２が、長さ方向に並んで形成されている。
【００２４】
かかる基板１２の長さ方向に延びる端面１５ａ側となる、意匠面１６の幅方向一方側の端部には、見切り部２４が形成されている。この見切り部２４は、基板１２の全長に亘って連続して延びる、狭幅の凹溝形態を有している。そして、基板１２の意匠面１６のうち、その幅方向における見切り部２４を間に挟んで、２個の窓部２０，２２の形成側とは反対の端部側の領域の全域に対して、スパッタリング膜からなる金属薄膜１４が、積層形成されている。即ち、加飾製品１０においては、見切り部２４を境界線として、意匠面１６の幅方向一方側（図１及び図２の左側）の領域が、薄膜形成領域：Ａとされており、また、かかる薄膜形成領域：Ａを除く、意匠面１６の幅方向他方側（図１及び図２の右側）の全領域が、薄膜非形成領域：Ｂとされている。
【００２５】
また、基板１２の非意匠面１８における長さ方向の両端部と中央部とには、係合突起２６が、それぞれ２個ずつ、互いに幅方向に間隔を隔てて、一体的に突設されている。それら各係合突起２６は、薄肉で矩形平板状の小片からなり、非意匠面１８に対して直角に突出している。
【００２６】
かくの如き構造とされた加飾製品１０は、例えば、特開２００９−１６７５２１号公報等に記載されるようなスパッタリング装置を用いて、基材１２を一軸回りに回転させつつ、基材１２の意匠面１６の薄膜形成領域：Ａに対して、金属薄膜１４が、スパッタリング法により形成されることにより製造される。そして、その際には、例えば、図３に示されるような本発明に従う構造を備えた薄膜形成用マスキング装置２８（以下、単にマスキング装置２８と言う）が使用される。
【００２７】
図３から明らかなように、本実施形態のマスキング装置２８は、ベースフレーム３０と、第一の板状突出部３２が一体形成された第一のマスキング部３４と、第二の板状突出部３６が一体形成された第二のマスキング部３８とを備えた、従来のマスキング装置と同様な基本構造を有している。
【００２８】
より詳細には、ベースフレーム３０は、アルミニウム等の金属製の４個の柱状部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄが相互に組み付けられて構成された、全体として、加飾製品１０よりも一周り大きな長手矩形の枠体からなっている。かかるベースフレーム３０の幅方向に延びる各柱状部材４０ｃ，４０ｄの延出方向の両端には、連結突起４２が、それぞれ２個ずつ、一体的に突設されている。そして、柱状部材４０ｃに突設された２個の連結突起４２，４２には、係合棒４４が、また、柱状部材４０ｄに突設された２個の連結突起４２，４２には、取付棒４６が、それぞれ架設されている。それら係合棒４４と取付棒４６は、何れも、柱状部材４０ｃ，４０ｄと平行に延びる、アルミニウム等の金属製の丸棒からなっている。
【００２９】
また、ベースフレーム３０の幅方向に延びる２個の柱状部材４０ｃ，４０ｄの間には、２個の柱状支持部４８，４８が、各柱状部材４０ｃ，４０ｄと平行に延びるように配置されて、長さ方向に延びる２個の柱状部材４０ａ，４０ｂの間に架設されている。更に、それら各柱状支持部４８，４８の延出方向の両端には、支持突起５０が、それぞれ１個ずつ突設されている。
【００３０】
一方、図３と、マスキング装置２８の使用状態での断面形態をそれぞれ示す図４及び図５から明らかなように、第一のマスキング部３４は、アルミニウム等の金属製で略長手矩形状を呈する平板材からなっている。かかる第一のマスキング部３４では、一方の板面が第一のマスキング面５２とされている。この第一のマスキング面５２は、その長さ方向に延びる二つの辺縁部５４ａ，５４ｂと、幅方向に延びる二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄとを有する長手矩形状を呈し、その大きさが、加飾製品１０の基板１２における意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂよりも一周り大きな大きさとされている。
【００３１】
また、第一のマスキング部３４の幅方向一端部には、段差部５６が設けられている。この段差部５６は、第一のマスキング面５２の四つの辺縁部５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄのうちの長さ方向に延びる一つの辺縁部５４ａを含んでいる。即ち、段差部５６は、第一のマスキング部３４の周縁部のうち、幅方向の一方側において長さ方向に延びる周縁部部位に沿って延びるように形成されているのである。
【００３２】
そして、本実施形態では、第一のマスキング部３４の周縁部のうち、段差部５６が設けられる周縁部部位を除く周縁部部位に対して、第一の板状突出部３２が、一体的に周設されている。この第一の板状突出部３２は、第一のマスキング部３４と略同一厚さの平板からなり、第一のマスキング面５２から直角に突出している。
【００３３】
すなわち、第一の板状突出部３２は、第一のマスキング面５２の四つの辺縁部５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄのうち、段差部５６が設けられる辺縁部５４ａを除いた三つの辺縁部５４ｂ，５４ｃ，５４ｄに沿って延びるコ字形状を呈している。そして、そのような第一の板状突出部３２において、第一のマスキング面５２の長さ方向に延びる辺縁部５４ｂに沿って真っ直ぐに延出する部分が、縦板部５８とされ、また、その幅方向に延びる二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄに沿って真っ直ぐに延出する部分が、それぞれ、横板部６０，６０とされている。なお、各横板部６０，６０は、段差部５６における二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄ部位には形成されていない。
【００３４】
また、第一のマスキング部３４には、二つの透孔６２，６４が、長さ方向に並んで形成されている。それら二つの透孔６２，６４は、加飾製品１０の基板１２に設けられた二つの窓部２０，２２よりも、それぞれ一周り小さな矩形形状を有している。そして、それら各透孔６２，６４における第一のマスキング面５２の開口周縁部には、第三の板状突出部６６と第四の板状突出部６８とが、それぞれ一体的に周設されている。それら第三の板状突出部６６と第四の板状突出部６８は、二つの透孔６２，６４にそれぞれ対応した矩形の枠体形態を有している。また、そのような第三及び第四の板状突出部６６，６８は、第一の板状突出部３２と略同一厚さの平板からなり、第一のマスキング面５２から、第一の板状突出部３２と略同一の高さで直角に突出している。
【００３５】
さらに、第一のマスキング部３４の幅方向に延びる二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄのそれぞれの長さ方向両端には、取付突起７０が、それぞれ一つずつ、一体的に突設されている。そして、それら二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄのうちの一方の辺縁部５４ｄに突設された二つの取付突起７０，７０には、丸棒状の支持棒７２と把持棒７４とが、辺縁部５４ｄと平行に延びる状態で、それぞれ、架設されている。支持棒７２の長さ方向両端には、係合爪７６が、それぞれ一つずつ固設されて、支持されている。
【００３６】
そして、他方の辺縁部５４ｃに突設された二つの取付突起７０，７０が、ベースフレーム３０の前記取付棒４６に対して、各取付突起７０，７０の先端に固着された取付スリーブ７８，７８を摺動可能に外挿させた状態で取り付けられている。これにより、第一のマスキング部３４が、ベースフレーム３０に対して、取付棒４６の中心軸回りに回動可能に取り付けられている。
【００３７】
かくして、第一のマスキング部３４にあっては、例えば、作業者にて把持棒７４が把持されて、取付棒４６の中心軸回りに回動させられることにより、第一のマスキング部３４の第一のマスキング面５２をベースフレーム３０側に向けて、ベースフレーム３０と平行に延びるように配置されるようになっている。つまり、第一のマスキング部３４を取付棒４６の中心軸回りに回動させることによって、マスキング装置２８が二つに折り畳まれて、ベースフレーム３０と第一のマスキング部３４とが互いに平行に延びるように配置されるようになっている。そして、そのような状態下で、二つの係合爪７６，７６が、ベースフレーム３０の係合棒４４に係合させられることによって、ベースフレーム３０と第一のマスキング部３４とが互いに平行に延びる配置状態、換言すれば、マスキング装置２８が二つに折り畳まれた状態が維持されるように構成されている。なお、そのようなマスキング装置２８の折り畳み状態は、二つの係合爪７６，７６の係合棒４４に対する係合を解除することによって、容易に解消されることとなる。
【００３８】
一方、第二のマスキング部３８も、第一のマスキング部３４と同様に、アルミニウム等の金属製で略長手矩形状を呈する平板材からなっている。そして、かかる第二のマスキング部３８では、一方の板面が第二のマスキング面８０とされている。この第二のマスキング面８０は、その長さ方向に延びる二つの辺縁部８２ａ，８２ｂと、幅方向に延びる二つの辺縁部８２ｃ，８２ｄとを有する長手矩形状を呈し、その大きさが、第一のマスキング部３４における第一のマスキング面５２よりも一周り大きな大きさとされている。
【００３９】
そして、そのような第二のマスキング部３８の周縁部のうちの一部を除く周縁部部位に対して、第二の板状突出部３６が、一体的に周設されている。この第二の板状突出部３６は、第一の板状突出部３２と略同一厚さの平板からなり、かかる第一の板状突出部３２と同様な形態で、第二のマスキング面８０から直角に突出している。
【００４０】
すなわち、第二の板状突出部３６は、第二のマスキング面８０の長さ方向に延びる辺縁部８２ｂと、その幅方向に延びる二つの辺縁部８２ｃ，８２ｄに沿って延びるコ字形状を呈している。そして、そのような第二の板状突出部３６において、第二のマスキング面８０の長さ方向に延びる辺縁部８２ｂに沿って真っ直ぐに延出する部分が、縦板部８４とされ、また、その幅方向に延びる二つの辺縁部８２ｃ，８２ｄに沿って真っ直ぐに延出する部分が、それぞれ、横板部８６，８６とされている。なお、かかる第二の板状突出部３６の高さは、第一のマスキング部３４に設けられた第一の板状突出部３２と同一の高さとされている。
【００４１】
第二のマスキング部３８にも、第一のマスキング部３４と同様に、二つの透孔８８，９０が、長さ方向に並んで形成されている。それら二つの透孔８８，９０は、第一のマスキング部３４に設けられた二つの透孔６２，６４よりも、それぞれ一周り小さな矩形形状を有している。そして、それら各透孔８８，９０における第二のマスキング面８０の開口周縁部には、第五の板状突出部９２と第六の板状突出部９４とが、それぞれ一体的に周設されている。それら第五の板状突出部９２と第六の板状突出部９４は、二つの透孔８８，９０にそれぞれ対応した矩形の枠体形態を有している。また、そのような第五及び第六の板状突出部９２，９４は、第二の板状突出部３６と略同一厚さの平板からなり、第二のマスキング面８０から、第二の板状突出部３６と略同一の高さで直角に突出している。それら第五及び第六の板状突出部９２，９４の高さは、第一のマスキング部３４に設けられた第三及び第四の板状突出部６６，６８と同一の高さとされている。
【００４２】
さらに、第二のマスキング部３８の長さ方向両端部と中間部には、係合孔９６が、それぞれ、二つずつ、幅方向に間隔をおいて形成されている。それら各係合孔９６は、加飾製品１０の基板１２の非意匠面１８に一体的に突設された前記係合突起２６が突入して、係合する矩形の貫通孔にて構成されている。
【００４３】
そして、そのような第二のマスキング部３８が、第二のマスキング面８０とは反対側の面の四隅において、ベースフレーム３０の前記柱状支持部４８，４８に一体形成された四つの支持突起５０，５０，５０，５０に対して、それぞれ固着されている。これにより、第二のマスキング部３８が、第二のマスキング面８０をベースフレーム３０側とは反対側に向けて、ベースフレーム３０と平行に延びるように配置された状態で、ベースフレーム３０に対して、位置固定に取り付けられている。また、第二のマスキング部３８は、ベースフレーム３０への取付下で、第二の板状突出部３６が形成されていない辺縁部８２ａが、取付棒４６に回動可能に取り付けられた第一のマスキング部３４の第一の板状突出部３２が形成されていない辺縁部５４ａに対応位置するように配置されている。
【００４４】
そして、本実施形態では、特に、第二のマスキング部３８の第二の板状突出部３６における二つの横板部８６，８６のそれぞれの内面間の距離（図３及び図４にＬ1 にて示される寸法）が、第一のマスキング部３４の第一の板状突出部３２における二つの横板部６０，６０のそれぞれの外面間の距離（図３及び図４にＬ2 にて示される寸法）よりも所定寸法だけ大きくされている。また、第二の板状突出部３６が形成されていない第二のマスキング面８０の辺縁部８２ａと、第二の板状突出部３６における縦板部８４の内面との間の距離（図３及び図５にＬ3 にて示される寸法）が、段差部５６が設けられる第一のマスキング面５２の辺縁部５４ａと、第一の板状突出部３２における縦板部５８の外面との間の距離（図３及び図５にＬ4 にて示される寸法）よりも所定寸法だけ大きくされている。
【００４５】
さらに、第二のマスキング部３８の矩形枠体形態を呈する第五の板状突出部９２が、その全体を、第一のマスキング部３４の矩形枠体形態を呈する第三の板状突出部６６の内側に非接触で突入可能な大きさとされている。また、第二のマスキング部３８の矩形枠体形態を呈する第六の板状突出部９４が、その全体を、第一のマスキング部３４の矩形枠体形態を呈する第四の板状突出部６８の内側に非接触で突入可能な大きさとされている。
【００４６】
かくして、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４を取付棒４６の中心軸回りに回動させて、二つに折り畳まれることにより、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが、互いに平行に延びるように配置されて、第一のマスキング面５２と第二のマスキング面８０とが互いに対向配置されるようになっている。また、そのような配置状態下において、第五の板状突出部９２が、第三の板状突出部６６の内側に非接触で突入されると共に、第六の板状突出部９４が、第四の板状突出部６８の内側に非接触で突入されるようになっている。更に、第一の板状突出部３２が、第二の板状突出部３６と非接触な状態で、その内側に位置して、それら第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いにオーバーラップして配置されるようになっている。
【００４７】
そして、かくの如き構造とされた本実施形態のマスキング装置２８を用いて、基板１２の意匠面１６の薄膜形成領域：Ａだけに金属薄膜１４を形成する際には、例えば、以下のようにして、その作業が進められる。
【００４８】
すなわち、図４及び図５に示されるように、先ず、基板１２の非意匠面１８が、第二のマスキング部３８の第二のマスキング面８０に対して平行に位置し、且つかかる第二のマスキング面８０と所定距離を隔てて対向するように、基板１２を配置する。これにより、基板１２の非意匠面１８の大部分、具体的には、意匠面１６の薄膜形成領域：Ａの反対側に位置する部分を除いた非意匠面１８部分を、第二のマスキング部３８の第二のマスキング面８０にてマスキングする。
【００４９】
また、そのような第二のマスキング部３８による基板１２の非意匠面１８のマスキング状態下において、第二の板状突出部３６を、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲む三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに沿って延びるように配置する。
【００５０】
つまり、図４に示されるように、第二の板状突出部３６の二つの横板部８６，８６を、基板１２を間に挟んで、その長さ方向の両側に位置させる。これにより、各横板部８６，８６の互いの対向面たる内側面を、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの幅方向に延びる二つの側面１５ｃ，１５ｄに対して所定距離を隔てて対向配置させる。換言すれば、各横板部８６，８６を、基板１２の側面１５ｃ，１５ｄに対してオーバーラップした状態で配置する。このとき、各横板部８６，８６の突出先端面が、基板１２の意匠面１６（薄膜非形成領域：Ｂ）から、非意匠面１８側とは反対側に突出して、配置される。つまり、基板１２の意匠面１６からの横板部８６の突出量（図４にＤ1 にて示される寸法）が、ゼロよりも大きな値とされる。
【００５１】
また、図５に示されるように、第二の板状突出部３６の縦板部８４を、その内側面が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの長さ方向に延びる側面１５ｂに対して所定距離を隔てて対向位置させられるように、配置する。換言すれば、縦板部８４を、基板１２の側面１５ｂに対してオーバーラップした状態で配置する。このとき、縦板部８４の突出先端面も、横板部７６の突出先端面と同様に、基板１２の意匠面１６（薄膜非形成領域：Ｂ）から、非意匠面１８側とは反対側に突出して、配置される。つまり、基板１２の意匠面１６からの縦板部８４の突出量（図５にＤ1 にて示される寸法）が、ゼロよりも大きな値とされる。
【００５２】
さらに、図４に示されるように、第二のマスキング部３８による基板１２の非意匠面１８のマスキング状態下において、基板１２の二つの窓部２０，２２と第二のマスキング部３８の二つの透孔８８，９０とを、それぞれ、互いに対応位置させる。それと共に、二つの透孔８８，９０の各周縁部に一体形成された第五及び第六の板状突出部９２，９４を、各窓部２０，２２内に、それらの内周面と非接触の状態、つまり、各窓部２０，２２の内周面との間に隙間を形成させた状態で、それぞれ突入させる。このとき、各窓部２０，２２内に突入した第五及び第六の板状突出部９２，９４のそれぞれの先端部位が、各窓部２０，２２の意匠面１６側の開口部から突出させられる。
【００５３】
そして、図示されてはいないものの、上記の如き第二のマスキング部３８と基板１２の配置状態下において、基板１２の各係合突起２６を、第二のマスキング部３８の各係合孔９６内に挿入して、係合させる。これによって、基板１２を、ベースフレーム３０に対して、第二のマスキング部３８を介して取り外し可能に固定する。
【００５４】
なお、第二のマスキング面８０にてマスキングされた基板１２の非意匠面１８と第二のマスキング面８０との間の距離（図４にＳ1 にて示される寸法）は、特に限定されるものではないもの、一般的には５ｍｍ以下とされる。また、第二のマスキング面８０によりマスキングされた非意匠面１８部分の幅（図５にＷにて示される寸法）は、好ましくは５ｍｍ以上とされる。これによって、後述するスパッタリングの実施時に、スパッタリング粒子が、基板１２の非意匠面１８と第二のマスキング面８０との間に侵入することが可及的に抑制される。また、それらの間からスパッタリング粒子が侵入したときにあっても、スパッタリング粒子が基板１２の意匠面１６側に回り込むことが、可及的に防止される。
【００５５】
次に、第一のマスキング部３４を、ベースフレーム３０の取付棒４６の中心軸回りに回動させて、マスキング装置２８を二つに折り畳むことにより、図４及び図５に示されるように、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とを、基板１２を間に挟んだ両側において、基板１２と所定距離を隔てた位置で互いに平行に延びるように配置する。これにより、基板１２の意匠面１８の薄膜非形成領域：Ｂの全体を、第一のマスキング部３４の第一のマスキング面５２にてマスキングする。
【００５６】
このとき、第一のマスキング部３４の段差部５６が、それ以外の部分よりも、基板１２の意匠面１８の薄膜非形成領域：Ｂに近接位置させられる。また、段差部５６に設けられる第一のマスキング部３４の辺縁部５４ａが、基板１２の意匠面１６に形成された見切り部２４に沿って、その全長に亘って延びるように配置される。なお、第一のマスキング面５２にてマスキングされた基板１２の意匠面１６と段差部５６の第二のマスキング面５２部分との間の距離（図５にＳ2 にて示される寸法）は、特に限定されるものではないもの、一般的には０．１ｍｍ以下とされる。これによって、後述するスパッタリングの実施時に、スパッタリング粒子が、基板１２の意匠面１６と段差部５６との間に侵入することが、より効果的に防止される。
【００５７】
そして、そのような第一のマスキング部３４による基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂのマスキング状態下において、第一の板状突出部３２を、意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲む三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに沿って延びるように配置する。
【００５８】
すなわち、図４に示されるように、第一の板状突出部３２の二つの横板部６０，６０を、基板１２を間に挟んで、その長さ方向の両側に位置させて、それら各横板部６０，６０の互いの対向面たる内側面を、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの幅方向に延びる二つの側面１５ｃ，１５ｄに対して所定距離を隔てて対向配置させる。また、図５に示されるように、第一の板状突出部３２の縦板部５８を、その内側面が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの長さ方向に延びる側面１５ｂに対して所定距離を隔てて対向位置させられるように配置する。
【００５９】
なお、前記したように、ここでは、第二の板状突出部３６における二つの横板部８６，８６のそれぞれの内面間の距離：Ｌ1 が、第一の板状突出部３２における二つの横板部６０，６０のそれぞれの外面間の距離：Ｌ2 よりも大きくされている。また、第二のマスキング面８０の辺縁部８２ａと第二の板状突出部３６における縦板部８４の内面との間の距離：Ｌ3 が、第一のマスキング面５２の辺縁部５４ａと第一の板状突出部３２における縦板部５８の外面との間の距離：Ｌ4 よりも大きくされている。
【００６０】
それ故、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下では、基板１２の二つの側面１５ｃ，１５ｄに対向配置される、第二の板状突出部３６の二つの横板部８６，８６の内側において、第一の板状突出部３２の二つの横板部６０，６０が、それら二つの側面１５ｃ，１５ｄに対して対向配置される。また、基板１２の側面１５ｂに対向配置される、第二の板状突出部３６の縦板部８４の内側において、第一の板状突出部３２の縦板部５８が、基板１２の側面１５ｂに対して対向配置される。つまり、第一の板状突出部３２の二つの横板部６０，６０が、基板１２の各側面１５ｃ，１５ｄと第二の板状突出部３６の各横板部８６，８６との間に、それらに対して非接触で配置される一方、第一の板状突出部３２の縦板部５８が、基板１２の側面１５ｂと第二の板状突出部３６の縦板部８４との間に、それらに対して非接触で配置されるのである。
【００６１】
また、上記の如きマスキング状態下では、第一の板状突出部３２の各横板部６０，６０を、その突出先端面が、基板１２の意匠面１６（薄膜非形成領域：Ｂ）から、非意匠面１８側に突出するように配置される。また、縦板部５８も、その突出先端面が、基板１２の意匠面１６（薄膜非形成領域：Ｂ）から非意匠面１８側に突出するように配置される。つまり、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側への横板部６０の突出量（図４にＤ2 にて示される寸法）と、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側への縦板部５８の突出量（図５にＤ2 にて示される寸法）とが、それぞれ、ゼロよりも大きな値となる。換言すれば、第一の板状突出部３２の各横板部６０，６０が、基板１２の側面１５ｃ，１５ｄにオーバーラップした状態で配置され、また、第一の板状突出部３２の縦板部５８が、基板１２の側面１５ｂにオーバーラップした状態で配置される。
【００６２】
かくして、ここでは、第二のマスキング部３８を介してベースフレーム３０に取り付けられた基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを、第一のマスキング部３４にてマスキングすると同時に、第一の板状突出部３２を、第二の板状突出部３６の内側において、第二の板状突出部３６と非接触な状態でオーバーラップさせつつ、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、それらに沿って延びるように配置するのである。このとき、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量（図４及び図５にＤ3 にて示される寸法）は、第二の板状突出部３６の横板部８６と縦板部８４の意匠面１６からのそれぞれの突出量：Ｄ1 と、第一の板状突出部３２の横板部６０と縦板部５８の意匠面１６から非意匠面１８側へのそれぞれの突出量：Ｄ2 との合計値：Ｄ1＋Ｄ2となる。
【００６３】
なお、そのような第一のマスキング部３４による基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂのマスキング状態下において、第一の板状突出部３２の各横板部６０，６０と基板１２の側面１５ｃ，１５ｄとの間の距離（図４にＫ1 にて示される寸法）や、それら各横板部６０，６０と第二の板状突出部３６の各横板部８６，８６との対向面間距離（図４にＫ2 にて示される寸法）は、特に限定されるものではないものの、一般的には５ｍｍ以下とされる。また、第一の板状突出部３２の縦板部５８と基板１２の側面１５ｂとの間の距離（図５にＫ1 にて示される寸法）や、かかる縦板部５８と第二の板状突出部３６の縦板部８４との対向面間距離（図５にＫ2 にて示される寸法）も、何等限定されるものではなく、好適には５ｍｍ以下とされる。これによって、後述するスパッタリングの実施時に、スパッタリング粒子が、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６との間や、第一の板状突出部３２と基板１２の各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとの間に侵入することが可及的に抑制される。
【００６４】
また、図４に示されるように、第一のマスキング部３４にて基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂをマスキングしたときに、基板１２の二つの窓部２０，２２と第一のマスキング部３４の二つの透孔６２，６４とを、それぞれ、互いに対応位置させる。そして、それと共に、二つの透孔６２，６４の各周縁部に一体形成された第三及び第四の板状突出部６６，６８を、各窓部２０，２２内に、それらの内周面と非接触の状態、つまり、各窓部２０，２２の内周面との間に隙間を形成させた状態で、それぞれ突入させる。
【００６５】
このとき、各窓部２０，２２内に突入した第三及び第四の板状突出部６６，６８のそれぞれの先端部位が、各窓部２０，２２の非意匠面１８側の開口部から突出させられる。また、前記したように、第三及び第四の板状突出部６６，６８は、第五及び第六の板状突出部９２，９４よりも大きな枠状形態を有している。
【００６６】
このため、第三の板状突出部６６は、基板１２の窓部２０への突入状態下で、窓部２０の内周面と第五の板状突出部９２との間に、それら窓部２０の内周面と第五の板状突出部９２の外周面とに対して、それぞれ、所定距離を隔てて対向し、且つ第五の板状突出部９２とオーバーラップして、配置される。また、第四の板状突出部６８は、基板１２の窓部２２への突入状態下で、窓部２２の内周面と第六の板状突出部９４との間に、それら窓部２２の内周面と第六の板状突出部９４の外周面とに対して、それぞれ、所定距離を隔てて対向し、且つ第六の板状突出部９４とオーバーラップして、配置される。
【００６７】
そして、図示されてはいないものの、上記の如き第一のマスキング部３４による基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂのマスキング状態下において、第一のマスキング部３４の係合爪７６，７６を、ベースフレーム３０の係合棒４４に係合させる。これにより、基板１２が第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との間に挟まれて配置されると共に、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８の一部とが第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とにてマスキングされた状態において、基板１２をマスキング装置２８にセットするのである。これらのことから明らかなように、本実施形態では、ベースフレーム３０と、第一のマスキング部３４に設けられた係合爪７６，７６と第二のマスキング部３８に設けられた係合孔９６とにて、取付手段が構成されている。
【００６８】
次に、かくしてマスキング装置２８にセットされた基板１２を、図示しない公知のスパッタリング装置のチャンバ内の回転ステージに立設された支持装置に対して、マスキング装置２８と共に支持させる。その後、基板１２を、マスキング装置２８と共に、互いに平行に延びる回転ステージの中心軸回りと支持装置の支持軸回りとにそれぞれ回転させながら、従来と同様にして、スパッタリング法を実施する。これにより、基板１２の意匠面１６の薄膜形成領域：Ａに対して、スパッタリング膜からなる金属薄膜１４を積層形成する。
【００６９】
このとき、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂが、第一のマスキング部３４にてマスキングされているため、意匠面１６の正面側から飛来するスパッタリング粒子の薄膜非形成領域：Ｂへの付着が有効に防止される。
【００７０】
また、基板１２が、マスキング装置２８と共に、回転ステージの中心軸回りと支持装置の支持軸回りとにそれぞれ回転させられているため、基板１２に対して、非意匠面１８側や側方側からもスパッタリング粒子が飛来する。しかしながら、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの裏側となる非意匠面１８部分が第二のマスキング部３８にてマスキングされていると共に、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲む三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが互いにオーバーラップした状態で配置されている。そのため、非意匠面１８側や側方側から飛来したスパッタリング粒子が、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との間に侵入することが効果的に阻止され、それによって、スパッタリング粒子が、基板１２の非意匠面１８側や側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ側から回り込んで、意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂに付着することも、極めて有利に防止される。そして、そのような回り込みによる意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂへのスパッタリング粒子の付着防止は、第一の板状突出部３２の高さを必要以上に高くすることなしに、確実に実現され得る。
【００７１】
しかも、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置される。それ故、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、突出先端面同士において互いに突き合わされた状態、或いは側面同士が互いに接触した状態で、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に配置される場合とは異なって、第一のマスキング部３４の辺縁部５４ａを、基板１２の見切り部２４に沿って延びる状態で確実に配置することができる。即ち、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のうちの少なくとも何れか一方の高さや厚さの寸法誤差が、多少発生していても、第一のマスキング部３４の第二のマスキング部３８との接触により、第一のマスキング部３４の意匠面１６上での位置がずれてしまうようなことがない。それ故、そのような第一のマスキング部３４の意匠面１６上での位置ズレにより、第一のマスキング部３４の辺縁部５４ａが、基板１２の見切り部２４を超えて、意匠面１６の薄膜形成領域：Ａにはみ出して位置したり、見切り部２４よりも薄膜非形成領域：Ｂ側に偏倚して位置することが、効果的に回避され得る。
【００７２】
従って、かくの如き本実施形態のマスキング装置２８によれば、第一の板状突出部３２の高さの増大による大型化を招くことなしに、意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂのみを確実にマスキングすることが可能となって、意匠面１６の薄膜形成領域：Ａだけに、金属薄膜１４を、極めて安定的に且つ確実に形成することができる。そして、その結果として、基板１２の意匠面１６の薄膜形成領域：Ａに限って金属薄膜１４が形成されてなる加飾製品１０の品質を、飛躍的に高めることが可能となるのである。
【００７３】
次に、図６乃至図１４には、本発明に従う構造を有するマスキング装置２８の別の実施形態が、それぞれ示されている。それらの図に示されたマスキング装置２８は、前記第一の実施形態のマスキング装置２８とは、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のみが異なる構造とされている。それ故、それら図６乃至図１４に示された各実施形態に関しては、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６の構造について詳述し、それら以外の部分については、図３乃至図５と同一の符号を付すことにより、その詳細な説明を省略する。
【００７４】
すなわち、図６に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第二の板状突出部３６（図６には、縦板部８４のみを示し、図７乃至図２１についても同様とする）が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ（図６には、側面１５ｂのみを示し、図７乃至図２０についても同様とする）の周囲において、第一の板状突出部３２（図６には、縦板部５８のみを示し、図７乃至図２１についても同様とする）の内側に配置される。また、かかる第二の板状突出部３６は、第一の板状突出部３２の内面と三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとに対して、それぞれ、非接触な状態で対向配置される。
【００７５】
そして、そのような配置状態下で、第二の板状突出部３６が、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側とは反対側に所定の突出量：Ｄ1 で突出している。また、第一の板状突出部３２は、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ2 で突出している。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、何れも、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに対してオーバーラップした状態で配置される。
【００７６】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップしつつ、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６から非正面１８側とは反対側への突出量：Ｄ1 と、第一の板状突出部３２の意匠面１６から非意匠面１８側への突出量：Ｄ2 の合計値：Ｄ1＋Ｄ2となる。
【００７７】
また、図７に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第一の板状突出部３２が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に配置される。また、第一の板状突出部３２は、第二の板状突出部３６の内面と三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとに対して、それぞれ、非接触な状態で対向配置されて、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ2 で突出している。
【００７８】
一方、第二の板状突出部３６は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、意匠面１６に対して、非意匠面１８側に、図７にＤ1 にて示される寸法だけ離間して配置される。この第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 は、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出量：Ｄ2 よりも小さくされている。
【００７９】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第一の板状突出部３２の外側に位置する第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップしてはいないものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第一の板状突出部３２の意匠面１６から非意匠面１８側への突出量：Ｄ2 から、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 を差し引いた値：Ｄ2−Ｄ1となる。
【００８０】
さらに、図８に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第一の板状突出部３２が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に、第二の板状突出部３６と非接触な状態で対向配置される。また、第一の板状突出部３２は、三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、基板１２の意匠面１６に対して、非意匠面１８側とは反対側に、図８にＤ2 にて示される寸法だけ離間して配置される。
【００８１】
一方、第二の板状突出部３６は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップした状態で、非接触に対向配置される。また、かかる第二の板状突出部３６は、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側とは反対に所定の突出量：Ｄ1 で突出している。この第二の板状突出部３６の意匠面１６からの突出量：Ｄ1 は、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの離間量：Ｄ2 よりも大きくされている。
【００８２】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第二の板状突出部３６の内側に位置する第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップしてはいないものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 から、第一の板状突出部３２の意匠面１６から非意匠面１８側への突出量：Ｄ2 を差し引いた値：Ｄ1−Ｄ2となる。
【００８３】
また、図９に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第二の板状突出部３６が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、第一の板状突出部３２と非接触な状態で対向配置される。また、第二の板状突出部３６は、三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、基板１２の意匠面１６に対して、非意匠面１８側に、図９にＤ1 にて示される寸法だけ離間して配置される。
【００８４】
一方、第一の板状突出部３２は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップした状態で、非接触に対向配置される。また、かかる第一の板状突出部３２は、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ2 突出している。この第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出量：Ｄ2 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 よりも大きくされている。
【００８５】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第一の板状突出部３２の内側に位置する第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップしてはいないものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第一の板状突出部３２の意匠面１６から非意匠面１８側への突出量：Ｄ2 から、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 を差し引いた値：Ｄ2−Ｄ1となる。
【００８６】
さらに、図１０に示されるマスキング装置２８においては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第二の板状突出部３６が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に配置される。また、第二の板状突出部３６は、第二の板状突出部３６の内面と三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとに対して、それぞれ、非接触な状態で対向配置されて、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ1 で突出している。
【００８７】
一方、第一の板状突出部３２は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、意匠面１６に対して、非意匠面１８側とは反対側に、図１０にＤ2 にて示される寸法だけ離間して配置される。この第一の板状突出部３２の意匠面１６からの離間量：Ｄ2 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの突出量：Ｄ1 よりも小さくされている。
【００８８】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第二の板状突出部３６の外側に位置する第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップしてはいないものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの突出量：Ｄ1 から、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの離間量：Ｄ2 を差し引いた値：Ｄ1−Ｄ2となる。
【００８９】
このように、図６乃至図１０に示される各マスキング装置２８においては、何れも、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをマスキングした状態下において、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップしつつ、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置されている。
【００９０】
従って、それら図６乃至図１０に示される各マスキング装置２８にあっては、図３乃至図５に示される前記第一の実施形態に係るマスキング装置２８において奏される作用・効果と同一の作用・効果が、有効に享受され得る。
【００９１】
また、図１１に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３６とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第一の板状突出部３２が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に配置される。また、第一の板状突出部３２は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに対して、非接触な状態で対向配置されて、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ2 で突出している。
【００９２】
一方、第二の板状突出部３６は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、意匠面１６に対して、非意匠面１８側に、図１１にＤ1 にて示される寸法だけ離間して配置される。そして、ここでは、かかる第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 と、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出量：Ｄ2 とが、同一の大きさとされている。
【００９３】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第二の板状突出部３６の内側に、かかる第二の板状突出部３６と非接触に位置する第一の板状突出部３２の突出先端面が、第二のマスキング部３８の第二のマスキング面８０に対して、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂよりも近接して、配置される。つまり、第一の板状突出部３２が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂから非意匠面１８側に突出した状態で、かかる意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲んで配置される。そして、それと共に、第一の板状突出部３２の突出先端面と第二の板状突出部３６の突出先端面とが、第一のマスキング部３４（第一のマスキング面５２）と第二のマスキング部３８（第二のマスキング面８０）の互いの対向方向において同一の位置に配置される。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされる。
【００９４】
さらに、図１２に示されたマスキング装置２８においては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第二の板状突出部３６が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に配置される。また、第二の板状突出部３６は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに対して非接触な状態で対向配置されて、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ1 で突出している。
【００９５】
一方、第一の板状突出部３２は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、意匠面１６に対して、非意匠面１８側とは反対側に、図１２にＤ2 にて示される寸法だけ離間して配置される。そして、ここでは、かかる第一の板状突出部３２の意匠面１６からの離間量：Ｄ2 と、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの突出量：Ｄ1 とが、同一の大きさとされている。
【００９６】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第一の板状突出部３２の内側に、かかる第一の板状突出部３２と非接触に位置する第二の板状突出部３６の突出先端面が、第一のマスキング部３４の第一のマスキング面５２に対して、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂよりも近接して、配置される。つまり、第二の板状突出部３６が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂから非意匠面１８側とは反対側に突出した状態で、かかる意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲んで配置される。そして、それと共に、第一の板状突出部３２の突出先端面と第二の板状突出部３６の突出先端面とが、第一のマスキング部３４（第一のマスキング面５２）と第二のマスキング部３８（第二のマスキング面８０）の互いの対向方向において同一の位置に配置される。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされる。
【００９７】
このように、図１１及び図１２に示されるマスキング装置２８においては、何れも、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下で、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態で、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に互いに離間して配置される。また、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のうち、内側に位置するものが、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲んで配置され、更に、それら第一の板状突出部３２の突出先端面と第二の板状突出部３６の突出先端面とが、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８の互いの対向方向において同一の位置に配置される。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされる。
【００９８】
それ故、かくの如き図１１及び図１２に示されるマスキング装置２８にあっては、スパッタリング法により基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ａに金属薄膜１４を形成する際に、基板１２の意匠面１６の正面側や非意匠面１８側からマスキング装置２８内へのスパッタリング粒子の侵入が阻止されることは勿論、意匠面１６の側方からマスキング装置２８内へのスパッタリング粒子の侵入が、有効に阻止される。また、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６との接触に起因した、第一のマスキング部３４の基板１２上での位置ズレの発生も、未然に防止される。
【００９９】
従って、それらのマスキング装置２８においても、図３乃至図５に示される前記第一の実施形態に係るマスキング装置２８において奏される作用・効果と同一の作用・効果が、極めて有効に享受され得る。
【０１００】
また、図１３に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第一の板状突出部３２が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に配置される。
【０１０１】
そして、ここでは、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、第一のマスキング部３４（第一のマスキング面５２）と第二のマスキング部３８（第二のマスキング面８０）の互いの対向方向において、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと同一の位置に配置される。即ち、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出乃至離間量：Ｄ2 と第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出乃至離間量：Ｄ1 とが何れもゼロとされ、また、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 もゼロとされている。
【０１０２】
このような構造とされた図１３に示されるマスキング装置２８にあっても、図３乃至図５に示される前記第一の実施形態に係るマスキング装置２８において奏される作用・効果と同一の作用・効果が、極めて有効に享受され得る。
【０１０３】
なお、図１４に示されるように、例えば、基板１２端部に、厚さ方向の一方側に突出する突出部９８が設けられて、この突出部９８の側面１５ｂも意匠面１６に含まれる場合には、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、非意匠面１８に含まれる、突出部９８の突出先端面１００と側面１５ｂとの境界部位となる、側面１５ｂと突出先端面１００とのなす角の頂点部位１０２に対して、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８の互いの対向方向において同一の位置に配置されることとなる。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされると共に、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂにおける第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８の互いの対向方向での第二のマスキング部３８側の端縁に対して、かかる対向方向において同一の位置に配置されるのである。
【０１０４】
ここにおいて、本発明に従うマスキング装置が、上記の如き優れた特徴を発揮するものであることを確認するために、本発明者によって実施された試験について、以下に詳述する。
【０１０５】
すなわち、先ず、図３乃至図５に示される構造を有するマスキング装置を製造して、準備した。このマスキング装置の材料は、全て、アルミニウムとした。そして、かくして得られたマスキング装置を試験例１とした。
【０１０６】
また、そのような試験例１のマスキング装置とは別に、図６乃至図１３に示される構造を有するアルミニウム製の８個のマスキング装置を、それぞれ製造して、準備した。それら８個のマスキング装置を、図番の小さいものから順に試験例２〜９とした。
【０１０７】
また、比較のために、本発明とは異なる構造とされた図１５乃至図２１に示される７個のマスキング装置を製造して、準備した。それら７個のマスキング装置を、図番の小さいものから順に試験例１０〜１６とした。なお、図１５乃至図２１に示されるマスキング装置２８については、図３乃至図１４に示される本発明に従う構造を備えたマスキング装置２８と同様な構造とされた部材及び部位について、図３乃至図１４と同一の符号を付すことにより、その詳細な説明が省略されていることが理解されるべきである。
【０１０８】
すなわち、図１５に示されるように、試験例１０のマスキング装置２８は、第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して対向配置される。そして、第一の板状突出部３２が基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップするものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とがオーバーラップしない構造とされている。
【０１０９】
図１６に示されるように、試験例１１のマスキング装置２８は、第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなしに離間して、配置される。そして、第二の板状突出部３６が基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップするものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とがオーバーラップしない構造とされている。
【０１１０】
図１７に示されるように、試験例１２のマスキング装置２８は、第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなしに離間して、配置される。そして、第一の板状突出部３２が基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップするものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とがオーバーラップしない構造とされている。
【０１１１】
図１８に示されるように、試験例１３のマスキング装置２８は、第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して対向配置される。そして、第二の板状突出部３６が基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップするものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とがオーバーラップしない構造とされている。
【０１１２】
図１９に示されるように、試験例１４のマスキング装置２８は、第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して、配置される。また、第一の板状突出部３２の突出先端面が、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に突出することなしに配置される。そして、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との対向方向において同一の位置に配置される構造とされている。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされている。
【０１１３】
図２０に示されるように、試験例１５のマスキング装置２８は、第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して、配置される。また、第二の板状突出部３６の突出先端面が、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側とは反対側に突出することなしに配置される。そして、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との対向方向において同一の位置に配置される構造とされている。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされている。
【０１１４】
図２１に示されるように、試験例１６のマスキング装置２８は、第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して、配置される。また、第二の板状突出部３６の突出先端面が、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側とは反対側に突出することなしに配置される。そして、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面と意匠面１６とが、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との対向方向において同一の位置に配置される構造とされている。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされている。
【０１１５】
また、上記の如き構造を有する試験例１〜１６のマスキング装置とは別に、図１及び図２に示される如き構造を有する樹脂製の１６個の基板を作製して、準備した。
【０１１６】
そして、試験例１のマスキング装置と１個の基板とを用いて、図４及び図５に示されるように、基板の意匠面の薄膜非形成領域と非意匠面とを第一のマスキング部と第二のマスキング部とにてマスキングした状態で、基板をマスキング装置にセットした。次いで、公知の構造を有するスパッタリング装置を用いて、基板とマスキング装置とを一軸回りに回転させつつ、スパッタリングを公知の手法によって実施し、基板の意匠面の薄膜形成領域に対して、スパッタリング膜からなる金属薄膜を形成して、加飾製品を得た。
【０１１７】
また、試験例２〜１６のマスキング装置と１５個の基板とスパッタリング装置とをそれぞれ用いて、上記と同様な操作を行うことにより、１５個の加飾製品を得た。その後、かくして得られた１６個の加飾製品を用い、それらの加飾製品の意匠面の薄膜非形成領域に金属薄膜が形成されているか否かを目視により調べた。
【０１１８】
その結果、本発明に従う構造を有する試験例１〜９のマスキング装置を用いて得られた９個の加飾製品においては、意匠面の薄膜非形成領域に、金属薄膜が、何等形成されていなかった。これに対して、本発明とは異なる構造を有する試験例１０〜１６のマスキング装置を用いて得られた７個の加飾製品においては、意匠面の薄膜非形成領域への金属薄膜の形成が認められた。このことから、本発明に従う構造を有するマスキング装置を用いることによって、金属薄膜が、意匠面の薄膜形成領域のみに確実に形成されることが、明確に認識され得る。
【０１１９】
以上、本発明の具体的な構成について詳述してきたが、これはあくまでも例示に過ぎないのであって、本発明は、上記の記載によって、何等の制約をも受けるものではない。
【０１２０】
例えば、前記幾つかの実施形態では、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが、取付手段を構成するベースフレーム３０に取り付けられて、マスキング装置２８が、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とベースフレーム３０の一体組付品として構成されていた。しかしながら、例えば、互いに独立した別部材からなる第一のマスキング部と第二のマスキング部とが、それらとは更に別部材の取付手段に対して、基板と共に、取り外し可能に取り付けられるようにされてなる別体構造により、マスキング装置を構成することも可能である。また、マスキング装置は、第一のマスキング部と第二のマスキング部のうちの何れか一方が、取付手段に固定されてなる構造とされていても良い。
【０１２１】
さらに、基板や第一及び第二のマスキング部の取付手段への取付構造も、例示されたものに、何等限定されるものではない。
【０１２２】
また、第一の板状突出部や第二の板状突出部の形状や大きさ、或いは第一のマスキング部や第二のマスキング部に対する形成位置は、基板の形状や大きさ等によって、適宜に変更されるものである。
【０１２３】
加えて、前記実施形態では、本発明を、基板の意匠面の一部にスパッタリング法により金属薄膜を形成する際に用いられる薄膜形成用マスキング装置に適用した例が示されていたが、本発明は、基板の意匠面の一部に、スパッタリング法以外の物理蒸着法又は化学蒸着法により、金属薄膜、或いは金属薄膜以外の薄膜を形成する際に用いられる薄膜形成用マスキング装置の何れに対しても有利に適用され得ることは勿論である。
【０１２４】
その他、一々列挙はしないが、本発明は、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修正、改良等を加えた態様において実施され得るものであり、また、そのような実施態様が、本発明の趣旨を逸脱しない限り、何れも、本発明の範囲内に含まれるものであることは、言うまでもないところである。
【符号の説明】
【０１２５】
１０ 加飾製品 １２ 基板
１４ 金属薄膜 １６ 意匠面
１８ 非意匠面 ２４ 見切り部
２８ マスキング装置 ３０ ベースフレーム
３２ 第一の板状突出部 ３４ 第一のマスキング部
３６ 第二の板状突出部 ３８ 第二のマスキング部
４４ 係合棒 ５２ 第一のマスキング面
７６ 係合爪 ８０ 第二のマスキング面
９６ 係合孔
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成用マスキング装置に係り、特に、基板の一方の板面からなる意匠面の一部に物理蒸着法や化学蒸着法により薄膜を形成する際に、意匠面の薄膜非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた樹脂成形品からなる基板の意匠面に対して、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーディング法等の物理蒸着法（ＰＶＣ法）や、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等の化学蒸着法（ＣＶＤ法）を利用して、金属薄膜等を形成することにより、金属表面を擬似的に表現する、所謂金属調の加飾が施されてなる加飾製品が知られている（例えば、下記特許文献１参照）。そして、この加飾製品は、本物の金属製品に比して、軽量で、成形性や加工性に優れ、しかも防錆加工も不要であるところから、例えば、自動車内装部品や家具、建築材、家電製品、携帯電子機器等の様々な製品や物品の表皮材や部品等として、多く利用されてきている。また、樹脂材料や樹脂材料以外の材料を用いて得られた基板の一方の板面からなる意匠面に対して、各種の薄膜を、物理蒸着法や化学蒸着法により、加飾以外の目的で形成してなる積層製品も、知られている。
【０００３】
ところで、そのような加飾製品や積層製品には、基板の意匠面の一部だけに薄膜が形成されてなるものがあり、それらの製品を得る際には、一般に、薄膜形成用マスキング装置にて意匠面の一部をマスキングしつつ、薄膜の形成操作が実施される。また、上記の如き加飾製品や積層製品の大量生産を可能とする装置として、基板を一軸回りに回転させつつ、意匠面に薄膜を形成する装置（例えば、特許文献２参照）が知られている。そして、そのような装置を使用して、基板の意匠面に薄膜が部分的に形成された製品を得る場合には、例えば、図２２に示される如き構造を有する薄膜形成用マスキング装置が、好適に用いられている。
【０００４】
すなわち、図２２から明らかなように、かかる薄膜形成用マスキング装置は、長手矩形状のベースフレーム１００と、略長手矩形平板状の第一のマスキング部１０２と、略長手矩形平板状の第二のマスキング部１０４とを有している。第二のマスキング部１０４は、ベースフレーム１００に対して位置固定に取り付けられている。第一のマスキング部１０２は、長さ方向の一端部において、ヒンジ部１０６を介して、ベースフレーム１００に連結されている。また、第一のマスキング部１０２は、ヒンジ部１０６に設けられた回動軸回りに回動可能とされており、かかる回動によって、第二のマスキング部１０４と所定距離を隔てて対向配置されるようになっている。そして、そのような第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との対向配置状態下において、第一のマスキング部１０２に設けられた係合爪１０８，１０８が、ベースフレーム１００に設けられた係合棒１１０に係合することにより、第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との対向配置状態が、任意に解消可能に固定されるようになっている。
【０００５】
また、第一のマスキング部１０２には、その周縁部のうちの一部を除いた部位に、第一の板状突出部１１２が、板厚方向の一方側に向かって突出し、且つかかる周縁部に沿って延びるように一体的に立設（周設）されている。更に、第二のマスキング部１０４の周縁部のうちの一部を除いた部位にも、第二の板状突出部１１４が、板厚方向の一方側に向かって突出し、且つかかる周縁部に沿って延びるように一体的に立設（周設）されている。なお、図２２中、１１６は、後述する如く、基板に突設された係合突起（図示せず）が挿入されて係合する係合孔であり、この係合孔に基板の係合突起が挿通されることによって、基板が、第二のマスキング部１０４に取り外し可能に取り付けられるようになっている。
【０００６】
そして、かかる薄膜形成用マスキング装置を用いる場合には、図２３に示されるように、第一のマスキング部１０２が、第一の板状突出部１１２が設けられていない周縁部部位を、基板１１８の意匠面１２０に対して薄膜形成領域：Ａと薄膜非形成領域Ｂとの境界線上設けられた溝状の見切り部１２２に沿って延びるように位置させた状態で、薄膜非形成領域：Ｂの全体をマスキングして配置される。また、第二のマスキング部１０４が、基板１１８の非意匠面１２４のうち、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂの裏面側部分をマスキングして配置される。そうして、第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４とが、基板１１８を間に挟んで両側に位置し、且つ基板１１８を介して互いに対向配置される。
【０００７】
なお、図２３に明示されてはいないものの、第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との互いの対向配置状態において、第二のマスキング部１０４の係合爪１０８，１０８が、ベースフレーム１００の係合棒１１０に係合することにより、第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との対向配置状態が固定される。また、基板１１８は、それに設けられた係合突起が、第二のマスキング部１０４の係合孔１１６に挿入されることで、第二のマスキング部１０４に取り付けられる。
【０００８】
そして、上記の如き第一のマスキング部１０２と第二のマスキング部１０４との互いの対向配置状態において、第一の板状突出部１１２と第二の板状突出部１１４とが、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂの周囲において、それぞれの突出先端面同士を突き合わせた状態で配置される。これにより、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂが、第一及び第二のマスキング部１０２，１０４と第一及び第二の板状突出部１１２，１１４とにて囲繞された状態となる。
【０００９】
従って、かくの如き構造とされた従来の薄膜形成用マスキング装置においては、例えば、基板１１８を回転させつつスパッタリングを行う装置内での基板１１８の回転状態下において、意匠面１２０の正面側から飛来するスパッタリング粒子の薄膜非形成領域：Ｂへの付着が防止されるだけでなく、意匠面１２０の側方側や非意匠面１２４側からスパッタリング粒子が回り込んで、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂに付着することも阻止される。その結果、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂには薄膜を形成することなく、薄膜形成領域：Ａだけに、薄膜を形成することが可能となるのである。
【００１０】
ところが、従来の薄膜形成用マスキング装置においては、第一の板状突出部１１２と第二の板状突出部１１４とが、突出先端面同士において互いに突き合わされた状態で、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂを第一のマスキング部１０２にてマスキングするようになっている。そのため、図２３に二点鎖線で示されるように、第一及び第二の板状突出部１１２，１１４のそれぞれの突出高さや、それら各板状突出部１１２，１１４の突出先端面の面精度等において設計上の誤差等が存在していると、第一及び第二の板状突出部１１２，１１４のそれぞれの突出先端面同士の突合せによって、第一のマスキング部１０２の周縁部のうちの第一の板状突出部１１２が設けられていない周縁部部位１２６と意匠面１２０の見切り部１２２との間で位置ズレが発生することがあった。そして、そうなった場合には、薄膜形成領域：Ａに薄膜が形成されない部分が発生したり、意匠面１２０の薄膜非形成領域：Ｂに薄膜が形成されたりして、最終的に得られる加飾製品や積層製品の品質が低下するといった問題が惹起される可能性が極めて高かったのである。
【００１１】
なお、第一及び第二の板状突出部１１２，１１４のそれぞれの突出先端面同士の突合せに起因した見切り精度の低下を解消するためには、例えば、第一の板状突出部１１２と第二の板状突出部１１４との間に隙間を形成したり、或いは、第一の板状突出部１１２の高さを増大させる等の対策を講ずることが考えられる。しかしながら、前者の対策を採用する場合には、第一の板状突出部１１２と第二の板状突出部１１４との間の隙間からスパッタリング粒子が侵入し、それが、薄膜非形成領域：Ｂに付着するといった問題が生ずる。また、後者の対策を採用する場合には、第一の板状突出部１１２の高さを増大させた分だけマスキング装置全体が大型化してしまうといった不具合が生ずることとなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００９−４５８４１号公報
【特許文献２】特開２００９−１６７５２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ここにおいて、本発明は、上記した事情を背景にして為されたものであって、その解決課題とするところは、基板の一方の板面からなる意匠面の一部に物理蒸着法や化学蒸着法により薄膜を形成する際に、意匠面の薄膜非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置において、装置全体を大型化することなく、意匠面の薄膜非形成領域のみを確実にマスキングすることができ、それによって、意匠面の薄膜形成領域だけに、薄膜を安定的に且つ確実に形成し得るように改良された構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
そして、本発明にあっては、かかる課題の解決のために、一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部と前記第二の板状突出部とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置を、その要旨とするものである。
【００１５】
また、本発明は、一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部と前記第二の板状突出部のうちの何れか一方の板状突出部が、それらのうちの何れか他方の板状突出部の内側に、該他方の板状突出部と非接触な状態で配置されると共に、該一方の板状突出部の突出先端面が、該他方の板状突出部が設けられる該第一のマスキング部又は該第二のマスキング部に対して、前記意匠面の薄膜非形成領域よりも近接配置され、更に、該第一の板状突出部の突出先端面と該第二の板状突出部の突出先端面とが、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置をも、その要旨とするものである。
【００１６】
さらに、本発明は、一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部が、前記第二の板状突出部の内側に、該第二の板状突出部と非接触な状態で配置されると共に、前記意匠面の薄膜非形成領域における該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向での該第二のマスキング部側の端縁と、該第一の板状突出部の突出先端面と、該第二の板状突出部の突出先端面とが、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置をも、また、その要旨とするものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に従う薄膜形成用マスキング装置にあっては、第一の板状突出部と第二の板状突出部とが、互いに非接触な状態で、意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置されている。そのため、第一の板状突出部と第二の板状突出部のそれぞれの突出先端面同士の当接（突合せ）によって、第一のマスキング部の周縁部のうちの第一の板状突出部が設けられていない周縁部部位と、意匠面の薄膜非形成領域と薄膜形成領域との境界線との間で位置ズレが生ずるようなことが効果的に回避され得る。
【００１８】
しかも、本発明に係る薄膜形成用マスキング装置では、物理蒸着法又は化学蒸着法による薄膜の形成時に、薄膜を形成する粒子（材料）が、第一の板状突出部と第二の板状突出部との間から意匠面の薄膜非形成領域と第一のマスキング部との間に侵入することが、第一の板状突出部と第二の板状突出部とが互いにオーバーラップするように配置されていることによって、確実に防止される。或いは、第一の板状突出部と第二の板状突出部とが、第一のマスキング部と第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置された状態において、第一の板状突出部と第二の板状突出部のうちの内側に配置される板状突出部の突出先端面が、外側に配置される板状突出部が設けられるマスキング部に対して、意匠面の薄膜非形成領域よりも近接配置されていることによって、意匠面の薄膜非形成領域と第一のマスキング部との間への薄膜形成粒子の侵入が、確実に防止される。若しくは、意匠面の薄膜非形成領域における第一のマスキング部と第二のマスキング部の互いの対向方向での第二のマスキング部側の端縁と、第二の板状突出部の突出先端面と、第二の板状突出部の内側に配置された第一の板状突出部の突出先端面とが、第一のマスキング部と第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されていることによって、意匠面の薄膜非形成領域と第一のマスキング部との間への薄膜形成粒子の侵入が、確実に防止される。
【００１９】
従って、かくの如き本発明に従う薄膜形成用マスキング装置によれば、第一の板状突出部の高さの増大による装置全体の大型化を招くことなしに、意匠面の薄膜非形成領域のみを確実にマスキングすることができ、それによって、意匠面の薄膜形成領域だけに、薄膜を安定的に且つ確実に形成することが可能となる。そして、その結果として、基板の意匠面の一部に薄膜が形成されてなる製品の品質を飛躍的に高めることができるのである。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置を用いて、意匠面の一部に薄膜が形成されてなる加飾製品を示す斜視説明図である。
【図２】図１のII−II断面拡大説明図である。
【図３】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の一実施形態を示す斜視説明図である。
【図４】図３に示された薄膜形成用マスキング装置の使用状態を説明するための図であって、薄膜形成用マスキング装置に基板をセットした状態を示す縦断面の端面説明図である。
【図５】図４におけるＶ−Ｖ断面の端面説明図である。
【図６】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図７】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の更に別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図８】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の他の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図９】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の更に他の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１０】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１１】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の更に別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１２】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の他の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１３】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の更に他の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１４】本発明に従う薄膜形成用マスキング装置の別の実施形態の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１５】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の一例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１６】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の別の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１７】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の更に別の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１８】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の他の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図１９】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の更に他の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図２０】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の別の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図２１】本発明に従う構造とは異なる構造を有する薄膜形成用マスキング装置の更に別の例の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【図２２】従来構造を有する薄膜形成用マスキング装置を示す斜視説明図である。
【図２３】図２２に示された薄膜形成用マスキング装置の使用状態を説明する、図５に対応する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を更に具体的に明らかにするために、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
【００２２】
先ず、図１及び図２には、本発明に従う構造を有する薄膜形成用マスキング装置を用いて、金属薄膜がスパッタリング法により意匠面の一部に形成されてなる加飾製品の一例が、その斜視形態と横断面形態とにおいて、それぞれ示されている。それら図１及び図２から明らかなように、加飾製品１０は、樹脂成形品からなる基板１２を有し、この基板１２の一方の板面の一部に金属薄膜１４が積層形成されて、構成されている。なお、この加飾製品１０は、例えば、自動車の内装部品として使用されるものである。
【００２３】
より具体的には、基板１２は、全体として、長手矩形の薄肉平板形状を呈し、長さ方向に延びる二つの側面（端面）１５ａ，１５ｂと幅方向に延びる二つの側面（端面）１５ｃ，１５ｄとを有している。そして、厚さ方向一方の板面が意匠面１６とされている一方、その他方の板面が非意匠面１８とされている。また、この基板１２の幅方向の中央部には、二つの矩形の窓部２０，２２が、長さ方向に並んで形成されている。
【００２４】
かかる基板１２の長さ方向に延びる端面１５ａ側となる、意匠面１６の幅方向一方側の端部には、見切り部２４が形成されている。この見切り部２４は、基板１２の全長に亘って連続して延びる、狭幅の凹溝形態を有している。そして、基板１２の意匠面１６のうち、その幅方向における見切り部２４を間に挟んで、２個の窓部２０，２２の形成側とは反対の端部側の領域の全域に対して、スパッタリング膜からなる金属薄膜１４が、積層形成されている。即ち、加飾製品１０においては、見切り部２４を境界線として、意匠面１６の幅方向一方側（図１及び図２の左側）の領域が、薄膜形成領域：Ａとされており、また、かかる薄膜形成領域：Ａを除く、意匠面１６の幅方向他方側（図１及び図２の右側）の全領域が、薄膜非形成領域：Ｂとされている。
【００２５】
また、基板１２の非意匠面１８における長さ方向の両端部と中央部とには、係合突起２６が、それぞれ２個ずつ、互いに幅方向に間隔を隔てて、一体的に突設されている。それら各係合突起２６は、薄肉で矩形平板状の小片からなり、非意匠面１８に対して直角に突出している。
【００２６】
かくの如き構造とされた加飾製品１０は、例えば、特開２００９−１６７５２１号公報等に記載されるようなスパッタリング装置を用いて、基材１２を一軸回りに回転させつつ、基材１２の意匠面１６の薄膜形成領域：Ａに対して、金属薄膜１４が、スパッタリング法により形成されることにより製造される。そして、その際には、例えば、図３に示されるような本発明に従う構造を備えた薄膜形成用マスキング装置２８（以下、単にマスキング装置２８と言う）が使用される。
【００２７】
図３から明らかなように、本実施形態のマスキング装置２８は、ベースフレーム３０と、第一の板状突出部３２が一体形成された第一のマスキング部３４と、第二の板状突出部３６が一体形成された第二のマスキング部３８とを備えた、従来のマスキング装置と同様な基本構造を有している。
【００２８】
より詳細には、ベースフレーム３０は、アルミニウム等の金属製の４個の柱状部材４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄが相互に組み付けられて構成された、全体として、加飾製品１０よりも一周り大きな長手矩形の枠体からなっている。かかるベースフレーム３０の幅方向に延びる各柱状部材４０ｃ，４０ｄの延出方向の両端には、連結突起４２が、それぞれ２個ずつ、一体的に突設されている。そして、柱状部材４０ｃに突設された２個の連結突起４２，４２には、係合棒４４が、また、柱状部材４０ｄに突設された２個の連結突起４２，４２には、取付棒４６が、それぞれ架設されている。それら係合棒４４と取付棒４６は、何れも、柱状部材４０ｃ，４０ｄと平行に延びる、アルミニウム等の金属製の丸棒からなっている。
【００２９】
また、ベースフレーム３０の幅方向に延びる２個の柱状部材４０ｃ，４０ｄの間には、２個の柱状支持部４８，４８が、各柱状部材４０ｃ，４０ｄと平行に延びるように配置されて、長さ方向に延びる２個の柱状部材４０ａ，４０ｂの間に架設されている。更に、それら各柱状支持部４８，４８の延出方向の両端には、支持突起５０が、それぞれ１個ずつ突設されている。
【００３０】
一方、図３と、マスキング装置２８の使用状態での断面形態をそれぞれ示す図４及び図５から明らかなように、第一のマスキング部３４は、アルミニウム等の金属製で略長手矩形状を呈する平板材からなっている。かかる第一のマスキング部３４では、一方の板面が第一のマスキング面５２とされている。この第一のマスキング面５２は、その長さ方向に延びる二つの辺縁部５４ａ，５４ｂと、幅方向に延びる二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄとを有する長手矩形状を呈し、その大きさが、加飾製品１０の基板１２における意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂよりも一周り大きな大きさとされている。
【００３１】
また、第一のマスキング部３４の幅方向一端部には、段差部５６が設けられている。この段差部５６は、第一のマスキング面５２の四つの辺縁部５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄのうちの長さ方向に延びる一つの辺縁部５４ａを含んでいる。即ち、段差部５６は、第一のマスキング部３４の周縁部のうち、幅方向の一方側において長さ方向に延びる周縁部部位に沿って延びるように形成されているのである。
【００３２】
そして、本実施形態では、第一のマスキング部３４の周縁部のうち、段差部５６が設けられる周縁部部位を除く周縁部部位に対して、第一の板状突出部３２が、一体的に周設されている。この第一の板状突出部３２は、第一のマスキング部３４と略同一厚さの平板からなり、第一のマスキング面５２から直角に突出している。
【００３３】
すなわち、第一の板状突出部３２は、第一のマスキング面５２の四つの辺縁部５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄのうち、段差部５６が設けられる辺縁部５４ａを除いた三つの辺縁部５４ｂ，５４ｃ，５４ｄに沿って延びるコ字形状を呈している。そして、そのような第一の板状突出部３２において、第一のマスキング面５２の長さ方向に延びる辺縁部５４ｂに沿って真っ直ぐに延出する部分が、縦板部５８とされ、また、その幅方向に延びる二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄに沿って真っ直ぐに延出する部分が、それぞれ、横板部６０，６０とされている。なお、各横板部６０，６０は、段差部５６における二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄ部位には形成されていない。
【００３４】
また、第一のマスキング部３４には、二つの透孔６２，６４が、長さ方向に並んで形成されている。それら二つの透孔６２，６４は、加飾製品１０の基板１２に設けられた二つの窓部２０，２２よりも、それぞれ一周り小さな矩形形状を有している。そして、それら各透孔６２，６４における第一のマスキング面５２の開口周縁部には、第三の板状突出部６６と第四の板状突出部６８とが、それぞれ一体的に周設されている。それら第三の板状突出部６６と第四の板状突出部６８は、二つの透孔６２，６４にそれぞれ対応した矩形の枠体形態を有している。また、そのような第三及び第四の板状突出部６６，６８は、第一の板状突出部３２と略同一厚さの平板からなり、第一のマスキング面５２から、第一の板状突出部３２と略同一の高さで直角に突出している。
【００３５】
さらに、第一のマスキング部３４の幅方向に延びる二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄのそれぞれの長さ方向両端には、取付突起７０が、それぞれ一つずつ、一体的に突設されている。そして、それら二つの辺縁部５４ｃ，５４ｄのうちの一方の辺縁部５４ｄに突設された二つの取付突起７０，７０には、丸棒状の支持棒７２と把持棒７４とが、辺縁部５４ｄと平行に延びる状態で、それぞれ、架設されている。支持棒７２の長さ方向両端には、係合爪７６が、それぞれ一つずつ固設されて、支持されている。
【００３６】
そして、他方の辺縁部５４ｃに突設された二つの取付突起７０，７０が、ベースフレーム３０の前記取付棒４６に対して、各取付突起７０，７０の先端に固着された取付スリーブ７８，７８を摺動可能に外挿させた状態で取り付けられている。これにより、第一のマスキング部３４が、ベースフレーム３０に対して、取付棒４６の中心軸回りに回動可能に取り付けられている。
【００３７】
かくして、第一のマスキング部３４にあっては、例えば、作業者にて把持棒７４が把持されて、取付棒４６の中心軸回りに回動させられることにより、第一のマスキング部３４の第一のマスキング面５２をベースフレーム３０側に向けて、ベースフレーム３０と平行に延びるように配置されるようになっている。つまり、第一のマスキング部３４を取付棒４６の中心軸回りに回動させることによって、マスキング装置２８が二つに折り畳まれて、ベースフレーム３０と第一のマスキング部３４とが互いに平行に延びるように配置されるようになっている。そして、そのような状態下で、二つの係合爪７６，７６が、ベースフレーム３０の係合棒４４に係合させられることによって、ベースフレーム３０と第一のマスキング部３４とが互いに平行に延びる配置状態、換言すれば、マスキング装置２８が二つに折り畳まれた状態が維持されるように構成されている。なお、そのようなマスキング装置２８の折り畳み状態は、二つの係合爪７６，７６の係合棒４４に対する係合を解除することによって、容易に解消されることとなる。
【００３８】
一方、第二のマスキング部３８も、第一のマスキング部３４と同様に、アルミニウム等の金属製で略長手矩形状を呈する平板材からなっている。そして、かかる第二のマスキング部３８では、一方の板面が第二のマスキング面８０とされている。この第二のマスキング面８０は、その長さ方向に延びる二つの辺縁部８２ａ，８２ｂと、幅方向に延びる二つの辺縁部８２ｃ，８２ｄとを有する長手矩形状を呈し、その大きさが、第一のマスキング部３４における第一のマスキング面５２よりも一周り大きな大きさとされている。
【００３９】
そして、そのような第二のマスキング部３８の周縁部のうちの一部を除く周縁部部位に対して、第二の板状突出部３６が、一体的に周設されている。この第二の板状突出部３６は、第一の板状突出部３２と略同一厚さの平板からなり、かかる第一の板状突出部３２と同様な形態で、第二のマスキング面８０から直角に突出している。
【００４０】
すなわち、第二の板状突出部３６は、第二のマスキング面８０の長さ方向に延びる辺縁部８２ｂと、その幅方向に延びる二つの辺縁部８２ｃ，８２ｄに沿って延びるコ字形状を呈している。そして、そのような第二の板状突出部３６において、第二のマスキング面８０の長さ方向に延びる辺縁部８２ｂに沿って真っ直ぐに延出する部分が、縦板部８４とされ、また、その幅方向に延びる二つの辺縁部８２ｃ，８２ｄに沿って真っ直ぐに延出する部分が、それぞれ、横板部８６，８６とされている。なお、かかる第二の板状突出部３６の高さは、第一のマスキング部３４に設けられた第一の板状突出部３２と同一の高さとされている。
【００４１】
第二のマスキング部３８にも、第一のマスキング部３４と同様に、二つの透孔８８，９０が、長さ方向に並んで形成されている。それら二つの透孔８８，９０は、第一のマスキング部３４に設けられた二つの透孔６２，６４よりも、それぞれ一周り小さな矩形形状を有している。そして、それら各透孔８８，９０における第二のマスキング面８０の開口周縁部には、第五の板状突出部９２と第六の板状突出部９４とが、それぞれ一体的に周設されている。それら第五の板状突出部９２と第六の板状突出部９４は、二つの透孔８８，９０にそれぞれ対応した矩形の枠体形態を有している。また、そのような第五及び第六の板状突出部９２，９４は、第二の板状突出部３６と略同一厚さの平板からなり、第二のマスキング面８０から、第二の板状突出部３６と略同一の高さで直角に突出している。それら第五及び第六の板状突出部９２，９４の高さは、第一のマスキング部３４に設けられた第三及び第四の板状突出部６６，６８と同一の高さとされている。
【００４２】
さらに、第二のマスキング部３８の長さ方向両端部と中間部には、係合孔９６が、それぞれ、二つずつ、幅方向に間隔をおいて形成されている。それら各係合孔９６は、加飾製品１０の基板１２の非意匠面１８に一体的に突設された前記係合突起２６が突入して、係合する矩形の貫通孔にて構成されている。
【００４３】
そして、そのような第二のマスキング部３８が、第二のマスキング面８０とは反対側の面の四隅において、ベースフレーム３０の前記柱状支持部４８，４８に一体形成された四つの支持突起５０，５０，５０，５０に対して、それぞれ固着されている。これにより、第二のマスキング部３８が、第二のマスキング面８０をベースフレーム３０側とは反対側に向けて、ベースフレーム３０と平行に延びるように配置された状態で、ベースフレーム３０に対して、位置固定に取り付けられている。また、第二のマスキング部３８は、ベースフレーム３０への取付下で、第二の板状突出部３６が形成されていない辺縁部８２ａが、取付棒４６に回動可能に取り付けられた第一のマスキング部３４の第一の板状突出部３２が形成されていない辺縁部５４ａに対応位置するように配置されている。
【００４４】
そして、本実施形態では、特に、第二のマスキング部３８の第二の板状突出部３６における二つの横板部８６，８６のそれぞれの内面間の距離（図３及び図４にＬ1 にて示される寸法）が、第一のマスキング部３４の第一の板状突出部３２における二つの横板部６０，６０のそれぞれの外面間の距離（図３及び図４にＬ2 にて示される寸法）よりも所定寸法だけ大きくされている。また、第二の板状突出部３６が形成されていない第二のマスキング面８０の辺縁部８２ａと、第二の板状突出部３６における縦板部８４の内面との間の距離（図３及び図５にＬ3 にて示される寸法）が、段差部５６が設けられる第一のマスキング面５２の辺縁部５４ａと、第一の板状突出部３２における縦板部５８の外面との間の距離（図３及び図５にＬ4 にて示される寸法）よりも所定寸法だけ大きくされている。
【００４５】
さらに、第二のマスキング部３８の矩形枠体形態を呈する第五の板状突出部９２が、その全体を、第一のマスキング部３４の矩形枠体形態を呈する第三の板状突出部６６の内側に非接触で突入可能な大きさとされている。また、第二のマスキング部３８の矩形枠体形態を呈する第六の板状突出部９４が、その全体を、第一のマスキング部３４の矩形枠体形態を呈する第四の板状突出部６８の内側に非接触で突入可能な大きさとされている。
【００４６】
かくして、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４を取付棒４６の中心軸回りに回動させて、二つに折り畳まれることにより、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが、互いに平行に延びるように配置されて、第一のマスキング面５２と第二のマスキング面８０とが互いに対向配置されるようになっている。また、そのような配置状態下において、第五の板状突出部９２が、第三の板状突出部６６の内側に非接触で突入されると共に、第六の板状突出部９４が、第四の板状突出部６８の内側に非接触で突入されるようになっている。更に、第一の板状突出部３２が、第二の板状突出部３６と非接触な状態で、その内側に位置して、それら第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いにオーバーラップして配置されるようになっている。
【００４７】
そして、かくの如き構造とされた本実施形態のマスキング装置２８を用いて、基板１２の意匠面１６の薄膜形成領域：Ａだけに金属薄膜１４を形成する際には、例えば、以下のようにして、その作業が進められる。
【００４８】
すなわち、図４及び図５に示されるように、先ず、基板１２の非意匠面１８が、第二のマスキング部３８の第二のマスキング面８０に対して平行に位置し、且つかかる第二のマスキング面８０と所定距離を隔てて対向するように、基板１２を配置する。これにより、基板１２の非意匠面１８の大部分、具体的には、意匠面１６の薄膜形成領域：Ａの反対側に位置する部分を除いた非意匠面１８部分を、第二のマスキング部３８の第二のマスキング面８０にてマスキングする。
【００４９】
また、そのような第二のマスキング部３８による基板１２の非意匠面１８のマスキング状態下において、第二の板状突出部３６を、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲む三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに沿って延びるように配置する。
【００５０】
つまり、図４に示されるように、第二の板状突出部３６の二つの横板部８６，８６を、基板１２を間に挟んで、その長さ方向の両側に位置させる。これにより、各横板部８６，８６の互いの対向面たる内側面を、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの幅方向に延びる二つの側面１５ｃ，１５ｄに対して所定距離を隔てて対向配置させる。換言すれば、各横板部８６，８６を、基板１２の側面１５ｃ，１５ｄに対してオーバーラップした状態で配置する。このとき、各横板部８６，８６の突出先端面が、基板１２の意匠面１６（薄膜非形成領域：Ｂ）から、非意匠面１８側とは反対側に突出して、配置される。つまり、基板１２の意匠面１６からの横板部８６の突出量（図４にＤ1 にて示される寸法）が、ゼロよりも大きな値とされる。
【００５１】
また、図５に示されるように、第二の板状突出部３６の縦板部８４を、その内側面が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの長さ方向に延びる側面１５ｂに対して所定距離を隔てて対向位置させられるように、配置する。換言すれば、縦板部８４を、基板１２の側面１５ｂに対してオーバーラップした状態で配置する。このとき、縦板部８４の突出先端面も、横板部７６の突出先端面と同様に、基板１２の意匠面１６（薄膜非形成領域：Ｂ）から、非意匠面１８側とは反対側に突出して、配置される。つまり、基板１２の意匠面１６からの縦板部８４の突出量（図５にＤ1 にて示される寸法）が、ゼロよりも大きな値とされる。
【００５２】
さらに、図４に示されるように、第二のマスキング部３８による基板１２の非意匠面１８のマスキング状態下において、基板１２の二つの窓部２０，２２と第二のマスキング部３８の二つの透孔８８，９０とを、それぞれ、互いに対応位置させる。それと共に、二つの透孔８８，９０の各周縁部に一体形成された第五及び第六の板状突出部９２，９４を、各窓部２０，２２内に、それらの内周面と非接触の状態、つまり、各窓部２０，２２の内周面との間に隙間を形成させた状態で、それぞれ突入させる。このとき、各窓部２０，２２内に突入した第五及び第六の板状突出部９２，９４のそれぞれの先端部位が、各窓部２０，２２の意匠面１６側の開口部から突出させられる。
【００５３】
そして、図示されてはいないものの、上記の如き第二のマスキング部３８と基板１２の配置状態下において、基板１２の各係合突起２６を、第二のマスキング部３８の各係合孔９６内に挿入して、係合させる。これによって、基板１２を、ベースフレーム３０に対して、第二のマスキング部３８を介して取り外し可能に固定する。
【００５４】
なお、第二のマスキング面８０にてマスキングされた基板１２の非意匠面１８と第二のマスキング面８０との間の距離（図４にＳ1 にて示される寸法）は、特に限定されるものではないもの、一般的には５ｍｍ以下とされる。また、第二のマスキング面８０によりマスキングされた非意匠面１８部分の幅（図５にＷにて示される寸法）は、好ましくは５ｍｍ以上とされる。これによって、後述するスパッタリングの実施時に、スパッタリング粒子が、基板１２の非意匠面１８と第二のマスキング面８０との間に侵入することが可及的に抑制される。また、それらの間からスパッタリング粒子が侵入したときにあっても、スパッタリング粒子が基板１２の意匠面１６側に回り込むことが、可及的に防止される。
【００５５】
次に、第一のマスキング部３４を、ベースフレーム３０の取付棒４６の中心軸回りに回動させて、マスキング装置２８を二つに折り畳むことにより、図４及び図５に示されるように、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とを、基板１２を間に挟んだ両側において、基板１２と所定距離を隔てた位置で互いに平行に延びるように配置する。これにより、基板１２の意匠面１８の薄膜非形成領域：Ｂの全体を、第一のマスキング部３４の第一のマスキング面５２にてマスキングする。
【００５６】
このとき、第一のマスキング部３４の段差部５６が、それ以外の部分よりも、基板１２の意匠面１８の薄膜非形成領域：Ｂに近接位置させられる。また、段差部５６に設けられる第一のマスキング部３４の辺縁部５４ａが、基板１２の意匠面１６に形成された見切り部２４に沿って、その全長に亘って延びるように配置される。なお、第一のマスキング面５２にてマスキングされた基板１２の意匠面１６と段差部５６の第二のマスキング面５２部分との間の距離（図５にＳ2 にて示される寸法）は、特に限定されるものではないもの、一般的には０．１ｍｍ以下とされる。これによって、後述するスパッタリングの実施時に、スパッタリング粒子が、基板１２の意匠面１６と段差部５６との間に侵入することが、より効果的に防止される。
【００５７】
そして、そのような第一のマスキング部３４による基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂのマスキング状態下において、第一の板状突出部３２を、意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲む三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに沿って延びるように配置する。
【００５８】
すなわち、図４に示されるように、第一の板状突出部３２の二つの横板部６０，６０を、基板１２を間に挟んで、その長さ方向の両側に位置させて、それら各横板部６０，６０の互いの対向面たる内側面を、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの幅方向に延びる二つの側面１５ｃ，１５ｄに対して所定距離を隔てて対向配置させる。また、図５に示されるように、第一の板状突出部３２の縦板部５８を、その内側面が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの長さ方向に延びる側面１５ｂに対して所定距離を隔てて対向位置させられるように配置する。
【００５９】
なお、前記したように、ここでは、第二の板状突出部３６における二つの横板部８６，８６のそれぞれの内面間の距離：Ｌ1 が、第一の板状突出部３２における二つの横板部６０，６０のそれぞれの外面間の距離：Ｌ2 よりも大きくされている。また、第二のマスキング面８０の辺縁部８２ａと第二の板状突出部３６における縦板部８４の内面との間の距離：Ｌ3 が、第一のマスキング面５２の辺縁部５４ａと第一の板状突出部３２における縦板部５８の外面との間の距離：Ｌ4 よりも大きくされている。
【００６０】
それ故、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下では、基板１２の二つの側面１５ｃ，１５ｄに対向配置される、第二の板状突出部３６の二つの横板部８６，８６の内側において、第一の板状突出部３２の二つの横板部６０，６０が、それら二つの側面１５ｃ，１５ｄに対して対向配置される。また、基板１２の側面１５ｂに対向配置される、第二の板状突出部３６の縦板部８４の内側において、第一の板状突出部３２の縦板部５８が、基板１２の側面１５ｂに対して対向配置される。つまり、第一の板状突出部３２の二つの横板部６０，６０が、基板１２の各側面１５ｃ，１５ｄと第二の板状突出部３６の各横板部８６，８６との間に、それらに対して非接触で配置される一方、第一の板状突出部３２の縦板部５８が、基板１２の側面１５ｂと第二の板状突出部３６の縦板部８４との間に、それらに対して非接触で配置されるのである。
【００６１】
また、上記の如きマスキング状態下では、第一の板状突出部３２の各横板部６０，６０を、その突出先端面が、基板１２の意匠面１６（薄膜非形成領域：Ｂ）から、非意匠面１８側に突出するように配置される。また、縦板部５８も、その突出先端面が、基板１２の意匠面１６（薄膜非形成領域：Ｂ）から非意匠面１８側に突出するように配置される。つまり、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側への横板部６０の突出量（図４にＤ2 にて示される寸法）と、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側への縦板部５８の突出量（図５にＤ2 にて示される寸法）とが、それぞれ、ゼロよりも大きな値となる。換言すれば、第一の板状突出部３２の各横板部６０，６０が、基板１２の側面１５ｃ，１５ｄにオーバーラップした状態で配置され、また、第一の板状突出部３２の縦板部５８が、基板１２の側面１５ｂにオーバーラップした状態で配置される。
【００６２】
かくして、ここでは、第二のマスキング部３８を介してベースフレーム３０に取り付けられた基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを、第一のマスキング部３４にてマスキングすると同時に、第一の板状突出部３２を、第二の板状突出部３６の内側において、第二の板状突出部３６と非接触な状態でオーバーラップさせつつ、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、それらに沿って延びるように配置するのである。このとき、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量（図４及び図５にＤ3 にて示される寸法）は、第二の板状突出部３６の横板部８６と縦板部８４の意匠面１６からのそれぞれの突出量：Ｄ1 と、第一の板状突出部３２の横板部６０と縦板部５８の意匠面１６から非意匠面１８側へのそれぞれの突出量：Ｄ2 との合計値：Ｄ1＋Ｄ2となる。
【００６３】
なお、そのような第一のマスキング部３４による基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂのマスキング状態下において、第一の板状突出部３２の各横板部６０，６０と基板１２の側面１５ｃ，１５ｄとの間の距離（図４にＫ1 にて示される寸法）や、それら各横板部６０，６０と第二の板状突出部３６の各横板部８６，８６との対向面間距離（図４にＫ2 にて示される寸法）は、特に限定されるものではないものの、一般的には５ｍｍ以下とされる。また、第一の板状突出部３２の縦板部５８と基板１２の側面１５ｂとの間の距離（図５にＫ1 にて示される寸法）や、かかる縦板部５８と第二の板状突出部３６の縦板部８４との対向面間距離（図５にＫ2 にて示される寸法）も、何等限定されるものではなく、好適には５ｍｍ以下とされる。これによって、後述するスパッタリングの実施時に、スパッタリング粒子が、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６との間や、第一の板状突出部３２と基板１２の各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとの間に侵入することが可及的に抑制される。
【００６４】
また、図４に示されるように、第一のマスキング部３４にて基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂをマスキングしたときに、基板１２の二つの窓部２０，２２と第一のマスキング部３４の二つの透孔６２，６４とを、それぞれ、互いに対応位置させる。そして、それと共に、二つの透孔６２，６４の各周縁部に一体形成された第三及び第四の板状突出部６６，６８を、各窓部２０，２２内に、それらの内周面と非接触の状態、つまり、各窓部２０，２２の内周面との間に隙間を形成させた状態で、それぞれ突入させる。
【００６５】
このとき、各窓部２０，２２内に突入した第三及び第四の板状突出部６６，６８のそれぞれの先端部位が、各窓部２０，２２の非意匠面１８側の開口部から突出させられる。また、前記したように、第三及び第四の板状突出部６６，６８は、第五及び第六の板状突出部９２，９４よりも大きな枠状形態を有している。
【００６６】
このため、第三の板状突出部６６は、基板１２の窓部２０への突入状態下で、窓部２０の内周面と第五の板状突出部９２との間に、それら窓部２０の内周面と第五の板状突出部９２の外周面とに対して、それぞれ、所定距離を隔てて対向し、且つ第五の板状突出部９２とオーバーラップして、配置される。また、第四の板状突出部６８は、基板１２の窓部２２への突入状態下で、窓部２２の内周面と第六の板状突出部９４との間に、それら窓部２２の内周面と第六の板状突出部９４の外周面とに対して、それぞれ、所定距離を隔てて対向し、且つ第六の板状突出部９４とオーバーラップして、配置される。
【００６７】
そして、図示されてはいないものの、上記の如き第一のマスキング部３４による基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂのマスキング状態下において、第一のマスキング部３４の係合爪７６，７６を、ベースフレーム３０の係合棒４４に係合させる。これにより、基板１２が第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との間に挟まれて配置されると共に、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８の一部とが第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とにてマスキングされた状態において、基板１２をマスキング装置２８にセットするのである。これらのことから明らかなように、本実施形態では、ベースフレーム３０と、第一のマスキング部３４に設けられた係合爪７６，７６と第二のマスキング部３８に設けられた係合孔９６とにて、取付手段が構成されている。
【００６８】
次に、かくしてマスキング装置２８にセットされた基板１２を、図示しない公知のスパッタリング装置のチャンバ内の回転ステージに立設された支持装置に対して、マスキング装置２８と共に支持させる。その後、基板１２を、マスキング装置２８と共に、互いに平行に延びる回転ステージの中心軸回りと支持装置の支持軸回りとにそれぞれ回転させながら、従来と同様にして、スパッタリング法を実施する。これにより、基板１２の意匠面１６の薄膜形成領域：Ａに対して、スパッタリング膜からなる金属薄膜１４を積層形成する。
【００６９】
このとき、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂが、第一のマスキング部３４にてマスキングされているため、意匠面１６の正面側から飛来するスパッタリング粒子の薄膜非形成領域：Ｂへの付着が有効に防止される。
【００７０】
また、基板１２が、マスキング装置２８と共に、回転ステージの中心軸回りと支持装置の支持軸回りとにそれぞれ回転させられているため、基板１２に対して、非意匠面１８側や側方側からもスパッタリング粒子が飛来する。しかしながら、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂの裏側となる非意匠面１８部分が第二のマスキング部３８にてマスキングされていると共に、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲む三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが互いにオーバーラップした状態で配置されている。そのため、非意匠面１８側や側方側から飛来したスパッタリング粒子が、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との間に侵入することが効果的に阻止され、それによって、スパッタリング粒子が、基板１２の非意匠面１８側や側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ側から回り込んで、意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂに付着することも、極めて有利に防止される。そして、そのような回り込みによる意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂへのスパッタリング粒子の付着防止は、第一の板状突出部３２の高さを必要以上に高くすることなしに、確実に実現され得る。
【００７１】
しかも、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置される。それ故、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、突出先端面同士において互いに突き合わされた状態、或いは側面同士が互いに接触した状態で、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に配置される場合とは異なって、第一のマスキング部３４の辺縁部５４ａを、基板１２の見切り部２４に沿って延びる状態で確実に配置することができる。即ち、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のうちの少なくとも何れか一方の高さや厚さの寸法誤差が、多少発生していても、第一のマスキング部３４の第二のマスキング部３８との接触により、第一のマスキング部３４の意匠面１６上での位置がずれてしまうようなことがない。それ故、そのような第一のマスキング部３４の意匠面１６上での位置ズレにより、第一のマスキング部３４の辺縁部５４ａが、基板１２の見切り部２４を超えて、意匠面１６の薄膜形成領域：Ａにはみ出して位置したり、見切り部２４よりも薄膜非形成領域：Ｂ側に偏倚して位置することが、効果的に回避され得る。
【００７２】
従って、かくの如き本実施形態のマスキング装置２８によれば、第一の板状突出部３２の高さの増大による大型化を招くことなしに、意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂのみを確実にマスキングすることが可能となって、意匠面１６の薄膜形成領域：Ａだけに、金属薄膜１４を、極めて安定的に且つ確実に形成することができる。そして、その結果として、基板１２の意匠面１６の薄膜形成領域：Ａに限って金属薄膜１４が形成されてなる加飾製品１０の品質を、飛躍的に高めることが可能となるのである。
【００７３】
次に、図６乃至図１４には、本発明に従う構造を有するマスキング装置２８の別の実施形態が、それぞれ示されている。それらの図に示されたマスキング装置２８は、前記第一の実施形態のマスキング装置２８とは、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のみが異なる構造とされている。それ故、それら図６乃至図１４に示された各実施形態に関しては、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６の構造について詳述し、それら以外の部分については、図３乃至図５と同一の符号を付すことにより、その詳細な説明を省略する。
【００７４】
すなわち、図６に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第二の板状突出部３６（図６には、縦板部８４のみを示し、図７乃至図２１についても同様とする）が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ（図６には、側面１５ｂのみを示し、図７乃至図２０についても同様とする）の周囲において、第一の板状突出部３２（図６には、縦板部５８のみを示し、図７乃至図２１についても同様とする）の内側に配置される。また、かかる第二の板状突出部３６は、第一の板状突出部３２の内面と三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとに対して、それぞれ、非接触な状態で対向配置される。
【００７５】
そして、そのような配置状態下で、第二の板状突出部３６が、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側とは反対側に所定の突出量：Ｄ1 で突出している。また、第一の板状突出部３２は、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ2 で突出している。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、何れも、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに対してオーバーラップした状態で配置される。
【００７６】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップしつつ、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６から非正面１８側とは反対側への突出量：Ｄ1 と、第一の板状突出部３２の意匠面１６から非意匠面１８側への突出量：Ｄ2 の合計値：Ｄ1＋Ｄ2となる。
【００７７】
また、図７に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第一の板状突出部３２が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に配置される。また、第一の板状突出部３２は、第二の板状突出部３６の内面と三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとに対して、それぞれ、非接触な状態で対向配置されて、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ2 で突出している。
【００７８】
一方、第二の板状突出部３６は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、意匠面１６に対して、非意匠面１８側に、図７にＤ1 にて示される寸法だけ離間して配置される。この第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 は、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出量：Ｄ2 よりも小さくされている。
【００７９】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第一の板状突出部３２の外側に位置する第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップしてはいないものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第一の板状突出部３２の意匠面１６から非意匠面１８側への突出量：Ｄ2 から、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 を差し引いた値：Ｄ2−Ｄ1となる。
【００８０】
さらに、図８に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第一の板状突出部３２が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に、第二の板状突出部３６と非接触な状態で対向配置される。また、第一の板状突出部３２は、三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、基板１２の意匠面１６に対して、非意匠面１８側とは反対側に、図８にＤ2 にて示される寸法だけ離間して配置される。
【００８１】
一方、第二の板状突出部３６は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップした状態で、非接触に対向配置される。また、かかる第二の板状突出部３６は、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側とは反対に所定の突出量：Ｄ1 で突出している。この第二の板状突出部３６の意匠面１６からの突出量：Ｄ1 は、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの離間量：Ｄ2 よりも大きくされている。
【００８２】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第二の板状突出部３６の内側に位置する第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップしてはいないものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 から、第一の板状突出部３２の意匠面１６から非意匠面１８側への突出量：Ｄ2 を差し引いた値：Ｄ1−Ｄ2となる。
【００８３】
また、図９に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第二の板状突出部３６が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、第一の板状突出部３２と非接触な状態で対向配置される。また、第二の板状突出部３６は、三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、基板１２の意匠面１６に対して、非意匠面１８側に、図９にＤ1 にて示される寸法だけ離間して配置される。
【００８４】
一方、第一の板状突出部３２は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップした状態で、非接触に対向配置される。また、かかる第一の板状突出部３２は、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ2 突出している。この第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出量：Ｄ2 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 よりも大きくされている。
【００８５】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第一の板状突出部３２の内側に位置する第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップしてはいないものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第一の板状突出部３２の意匠面１６から非意匠面１８側への突出量：Ｄ2 から、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 を差し引いた値：Ｄ2−Ｄ1となる。
【００８６】
さらに、図１０に示されるマスキング装置２８においては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第二の板状突出部３６が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に配置される。また、第二の板状突出部３６は、第二の板状突出部３６の内面と三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとに対して、それぞれ、非接触な状態で対向配置されて、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ1 で突出している。
【００８７】
一方、第一の板状突出部３２は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、意匠面１６に対して、非意匠面１８側とは反対側に、図１０にＤ2 にて示される寸法だけ離間して配置される。この第一の板状突出部３２の意匠面１６からの離間量：Ｄ2 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの突出量：Ｄ1 よりも小さくされている。
【００８８】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第二の板状突出部３６の外側に位置する第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップしてはいないものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置される。このときの第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 は、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの突出量：Ｄ1 から、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの離間量：Ｄ2 を差し引いた値：Ｄ1−Ｄ2となる。
【００８９】
このように、図６乃至図１０に示される各マスキング装置２８においては、何れも、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをマスキングした状態下において、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態でオーバーラップしつつ、基板１２の薄膜非形成領域：Ｂの周囲に配置されている。
【００９０】
従って、それら図６乃至図１０に示される各マスキング装置２８にあっては、図３乃至図５に示される前記第一の実施形態に係るマスキング装置２８において奏される作用・効果と同一の作用・効果が、有効に享受され得る。
【００９１】
また、図１１に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３６とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第一の板状突出部３２が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に配置される。また、第一の板状突出部３２は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに対して、非接触な状態で対向配置されて、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ2 で突出している。
【００９２】
一方、第二の板状突出部３６は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、意匠面１６に対して、非意匠面１８側に、図１１にＤ1 にて示される寸法だけ離間して配置される。そして、ここでは、かかる第二の板状突出部３６の意匠面１６からの離間量：Ｄ1 と、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出量：Ｄ2 とが、同一の大きさとされている。
【００９３】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第二の板状突出部３６の内側に、かかる第二の板状突出部３６と非接触に位置する第一の板状突出部３２の突出先端面が、第二のマスキング部３８の第二のマスキング面８０に対して、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂよりも近接して、配置される。つまり、第一の板状突出部３２が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂから非意匠面１８側に突出した状態で、かかる意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲んで配置される。そして、それと共に、第一の板状突出部３２の突出先端面と第二の板状突出部３６の突出先端面とが、第一のマスキング部３４（第一のマスキング面５２）と第二のマスキング部３８（第二のマスキング面８０）の互いの対向方向において同一の位置に配置される。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされる。
【００９４】
さらに、図１２に示されたマスキング装置２８においては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第二の板状突出部３６が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に配置される。また、第二の板状突出部３６は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄに対して非接触な状態で対向配置されて、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に所定の突出量：Ｄ1 で突出している。
【００９５】
一方、第一の板状突出部３２は、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、それらの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなく、意匠面１６に対して、非意匠面１８側とは反対側に、図１２にＤ2 にて示される寸法だけ離間して配置される。そして、ここでは、かかる第一の板状突出部３２の意匠面１６からの離間量：Ｄ2 と、第二の板状突出部３６の意匠面１６からの突出量：Ｄ1 とが、同一の大きさとされている。
【００９６】
これにより、本実施形態のマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下において、第一の板状突出部３２の内側に、かかる第一の板状突出部３２と非接触に位置する第二の板状突出部３６の突出先端面が、第一のマスキング部３４の第一のマスキング面５２に対して、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂよりも近接して、配置される。つまり、第二の板状突出部３６が、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂから非意匠面１８側とは反対側に突出した状態で、かかる意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲んで配置される。そして、それと共に、第一の板状突出部３２の突出先端面と第二の板状突出部３６の突出先端面とが、第一のマスキング部３４（第一のマスキング面５２）と第二のマスキング部３８（第二のマスキング面８０）の互いの対向方向において同一の位置に配置される。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされる。
【００９７】
このように、図１１及び図１２に示されるマスキング装置２８においては、何れも、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とによる基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８のマスキング状態下で、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とが、互いに非接触な状態で、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲に互いに離間して配置される。また、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のうち、内側に位置するものが、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂを取り囲んで配置され、更に、それら第一の板状突出部３２の突出先端面と第二の板状突出部３６の突出先端面とが、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８の互いの対向方向において同一の位置に配置される。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされる。
【００９８】
それ故、かくの如き図１１及び図１２に示されるマスキング装置２８にあっては、スパッタリング法により基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ａに金属薄膜１４を形成する際に、基板１２の意匠面１６の正面側や非意匠面１８側からマスキング装置２８内へのスパッタリング粒子の侵入が阻止されることは勿論、意匠面１６の側方からマスキング装置２８内へのスパッタリング粒子の侵入が、有効に阻止される。また、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６との接触に起因した、第一のマスキング部３４の基板１２上での位置ズレの発生も、未然に防止される。
【００９９】
従って、それらのマスキング装置２８においても、図３乃至図５に示される前記第一の実施形態に係るマスキング装置２８において奏される作用・効果と同一の作用・効果が、極めて有効に享受され得る。
【０１００】
また、図１３に示されたマスキング装置２８にあっては、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと非意匠面１８とをそれぞれマスキングした状態下で、第一の板状突出部３２が、基板１２の三つの側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に配置される。
【０１０１】
そして、ここでは、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、第一のマスキング部３４（第一のマスキング面５２）と第二のマスキング部３８（第二のマスキング面８０）の互いの対向方向において、基板１２の意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂと同一の位置に配置される。即ち、第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出乃至離間量：Ｄ2 と第一の板状突出部３２の意匠面１６からの突出乃至離間量：Ｄ1 とが何れもゼロとされ、また、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のオーバーラップ量：Ｄ3 もゼロとされている。
【０１０２】
このような構造とされた図１３に示されるマスキング装置２８にあっても、図３乃至図５に示される前記第一の実施形態に係るマスキング装置２８において奏される作用・効果と同一の作用・効果が、極めて有効に享受され得る。
【０１０３】
なお、図１４に示されるように、例えば、基板１２端部に、厚さ方向の一方側に突出する突出部９８が設けられて、この突出部９８の側面１５ｂも意匠面１６に含まれる場合には、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、非意匠面１８に含まれる、突出部９８の突出先端面１００と側面１５ｂとの境界部位となる、側面１５ｂと突出先端面１００とのなす角の頂点部位１０２に対して、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８の互いの対向方向において同一の位置に配置されることとなる。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされると共に、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、意匠面１６の薄膜非形成領域：Ｂにおける第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８の互いの対向方向での第二のマスキング部３８側の端縁に対して、かかる対向方向において同一の位置に配置されるのである。
【０１０４】
ここにおいて、本発明に従うマスキング装置が、上記の如き優れた特徴を発揮するものであることを確認するために、本発明者によって実施された試験について、以下に詳述する。
【０１０５】
すなわち、先ず、図３乃至図５に示される構造を有するマスキング装置を製造して、準備した。このマスキング装置の材料は、全て、アルミニウムとした。そして、かくして得られたマスキング装置を試験例１とした。
【０１０６】
また、そのような試験例１のマスキング装置とは別に、図６乃至図１３に示される構造を有するアルミニウム製の８個のマスキング装置を、それぞれ製造して、準備した。それら８個のマスキング装置を、図番の小さいものから順に試験例２〜９とした。
【０１０７】
また、比較のために、本発明とは異なる構造とされた図１５乃至図２１に示される７個のマスキング装置を製造して、準備した。それら７個のマスキング装置を、図番の小さいものから順に試験例１０〜１６とした。なお、図１５乃至図２１に示されるマスキング装置２８については、図３乃至図１４に示される本発明に従う構造を備えたマスキング装置２８と同様な構造とされた部材及び部位について、図３乃至図１４と同一の符号を付すことにより、その詳細な説明が省略されていることが理解されるべきである。
【０１０８】
すなわち、図１５に示されるように、試験例１０のマスキング装置２８は、第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して対向配置される。そして、第一の板状突出部３２が基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップするものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とがオーバーラップしない構造とされている。
【０１０９】
図１６に示されるように、試験例１１のマスキング装置２８は、第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなしに離間して、配置される。そして、第二の板状突出部３６が基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップするものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とがオーバーラップしない構造とされている。
【０１１０】
図１７に示されるように、試験例１２のマスキング装置２８は、第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップすることなしに離間して、配置される。そして、第一の板状突出部３２が基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップするものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とがオーバーラップしない構造とされている。
【０１１１】
図１８に示されるように、試験例１３のマスキング装置２８は、第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して対向配置される。そして、第二の板状突出部３６が基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄとオーバーラップするものの、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６とがオーバーラップしない構造とされている。
【０１１２】
図１９に示されるように、試験例１４のマスキング装置２８は、第一の板状突出部３２が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第二の板状突出部３６の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して、配置される。また、第一の板状突出部３２の突出先端面が、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側に突出することなしに配置される。そして、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との対向方向において同一の位置に配置される構造とされている。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされている。
【０１１３】
図２０に示されるように、試験例１５のマスキング装置２８は、第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して、配置される。また、第二の板状突出部３６の突出先端面が、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側とは反対側に突出することなしに配置される。そして、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面が、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との対向方向において同一の位置に配置される構造とされている。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされている。
【０１１４】
図２１に示されるように、試験例１６のマスキング装置２８は、第二の板状突出部３６が、基板１２の側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄの周囲において、第一の板状突出部３２の内側に、各側面１５ｂ，１５ｃ，１５ｄと離間して、配置される。また、第二の板状突出部３６の突出先端面が、基板１２の意匠面１６から非意匠面１８側とは反対側に突出することなしに配置される。そして、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部３６のそれぞれの突出先端面と意匠面１６とが、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８との対向方向において同一の位置に配置される構造とされている。つまり、第一の板状突出部３２と第二の板状突出部のオーバーラップ量：Ｄ3 がゼロとされている。
【０１１５】
また、上記の如き構造を有する試験例１〜１６のマスキング装置とは別に、図１及び図２に示される如き構造を有する樹脂製の１６個の基板を作製して、準備した。
【０１１６】
そして、試験例１のマスキング装置と１個の基板とを用いて、図４及び図５に示されるように、基板の意匠面の薄膜非形成領域と非意匠面とを第一のマスキング部と第二のマスキング部とにてマスキングした状態で、基板をマスキング装置にセットした。次いで、公知の構造を有するスパッタリング装置を用いて、基板とマスキング装置とを一軸回りに回転させつつ、スパッタリングを公知の手法によって実施し、基板の意匠面の薄膜形成領域に対して、スパッタリング膜からなる金属薄膜を形成して、加飾製品を得た。
【０１１７】
また、試験例２〜１６のマスキング装置と１５個の基板とスパッタリング装置とをそれぞれ用いて、上記と同様な操作を行うことにより、１５個の加飾製品を得た。その後、かくして得られた１６個の加飾製品を用い、それらの加飾製品の意匠面の薄膜非形成領域に金属薄膜が形成されているか否かを目視により調べた。
【０１１８】
その結果、本発明に従う構造を有する試験例１〜９のマスキング装置を用いて得られた９個の加飾製品においては、意匠面の薄膜非形成領域に、金属薄膜が、何等形成されていなかった。これに対して、本発明とは異なる構造を有する試験例１０〜１６のマスキング装置を用いて得られた７個の加飾製品においては、意匠面の薄膜非形成領域への金属薄膜の形成が認められた。このことから、本発明に従う構造を有するマスキング装置を用いることによって、金属薄膜が、意匠面の薄膜形成領域のみに確実に形成されることが、明確に認識され得る。
【０１１９】
以上、本発明の具体的な構成について詳述してきたが、これはあくまでも例示に過ぎないのであって、本発明は、上記の記載によって、何等の制約をも受けるものではない。
【０１２０】
例えば、前記幾つかの実施形態では、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とが、取付手段を構成するベースフレーム３０に取り付けられて、マスキング装置２８が、第一のマスキング部３４と第二のマスキング部３８とベースフレーム３０の一体組付品として構成されていた。しかしながら、例えば、互いに独立した別部材からなる第一のマスキング部と第二のマスキング部とが、それらとは更に別部材の取付手段に対して、基板と共に、取り外し可能に取り付けられるようにされてなる別体構造により、マスキング装置を構成することも可能である。また、マスキング装置は、第一のマスキング部と第二のマスキング部のうちの何れか一方が、取付手段に固定されてなる構造とされていても良い。
【０１２１】
さらに、基板や第一及び第二のマスキング部の取付手段への取付構造も、例示されたものに、何等限定されるものではない。
【０１２２】
また、第一の板状突出部や第二の板状突出部の形状や大きさ、或いは第一のマスキング部や第二のマスキング部に対する形成位置は、基板の形状や大きさ等によって、適宜に変更されるものである。
【０１２３】
加えて、前記実施形態では、本発明を、基板の意匠面の一部にスパッタリング法により金属薄膜を形成する際に用いられる薄膜形成用マスキング装置に適用した例が示されていたが、本発明は、基板の意匠面の一部に、スパッタリング法以外の物理蒸着法又は化学蒸着法により、金属薄膜、或いは金属薄膜以外の薄膜を形成する際に用いられる薄膜形成用マスキング装置の何れに対しても有利に適用され得ることは勿論である。
【０１２４】
その他、一々列挙はしないが、本発明は、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修正、改良等を加えた態様において実施され得るものであり、また、そのような実施態様が、本発明の趣旨を逸脱しない限り、何れも、本発明の範囲内に含まれるものであることは、言うまでもないところである。
【符号の説明】
【０１２５】
１０ 加飾製品 １２ 基板
１４ 金属薄膜 １６ 意匠面
１８ 非意匠面 ２４ 見切り部
２８ マスキング装置 ３０ ベースフレーム
３２ 第一の板状突出部 ３４ 第一のマスキング部
３６ 第二の板状突出部 ３８ 第二のマスキング部
４４ 係合棒 ５２ 第一のマスキング面
７６ 係合爪 ８０ 第二のマスキング面
９６ 係合孔
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、
前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部と前記第二の板状突出部とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置。
【請求項２】
一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、
前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部と前記第二の板状突出部のうちの何れか一方の板状突出部が、それらのうちの何れか他方の板状突出部の内側に、該他方の板状突出部と非接触な状態で配置されると共に、該一方の板状突出部の突出先端面が、該他方の板状突出部が設けられる該第一のマスキング部又は該第二のマスキング部に対して、前記意匠面の薄膜非形成領域よりも近接配置され、更に、該第一の板状突出部の突出先端面と該第二の板状突出部の突出先端面とが、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置。
【請求項３】
一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、
前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部が、前記第二の板状突出部の内側に、該第二の板状突出部と非接触な状態で配置されると共に、前記意匠面の薄膜非形成領域における該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向での該第二のマスキング部側の端縁と、該第一の板状突出部の突出先端面と、該第二の板状突出部の突出先端面とが、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置。
【請求項１】
一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、
前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部と前記第二の板状突出部とが、互いに非接触な状態でオーバーラップして配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置。
【請求項２】
一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、
前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部と前記第二の板状突出部のうちの何れか一方の板状突出部が、それらのうちの何れか他方の板状突出部の内側に、該他方の板状突出部と非接触な状態で配置されると共に、該一方の板状突出部の突出先端面が、該他方の板状突出部が設けられる該第一のマスキング部又は該第二のマスキング部に対して、前記意匠面の薄膜非形成領域よりも近接配置され、更に、該第一の板状突出部の突出先端面と該第二の板状突出部の突出先端面とが、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置。
【請求項３】
一方の板面が意匠面とされる一方、他方の板面が非意匠面とされた基板の該意匠面の一部に物理蒸着法又は化学蒸着法により薄膜を形成する際に、該意匠面における該薄膜の非形成領域をマスキングするのに用いられる薄膜形成用マスキング装置であって、（ａ）前記基板の前記意匠面の薄膜非形成領域をマスキングする第一のマスキング部と、（ｂ）前記基板の前記非意匠面の少なくとも一部をマスキングする第二のマスキング部と、（ｃ）前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部が、前記意匠面の薄膜非形成領域と前記非意匠面の少なくとも一部をそれぞれマスキングしつつ、前記基板を間に挟んで両側に位置し、且つ該基板を介して互いに対向配置された状態において、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と該基板が取り付けられると共に、少なくとも該基板が任意に取り外し可能とされた取付手段と、（ｄ）前記第一のマスキング部の周縁部うち、前記意匠面の前記薄膜の非形成領域と形成領域の境界線に沿って延びる部位を除く周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、該意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第一の板状突出部と、（ｅ）前記第二のマスキング部の周縁部うち、前記第一の板状突出部が突設される前記第一のマスキング部の周縁部部位に対応する周縁部部位に対して、該周縁部位に沿って延びるように一体的に突設された板状の突出部からなり、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記意匠面の薄膜非形成領域の周囲に配置される第二の板状突出部とを有するものにおいて、
前記第一のマスキング部と前記第二のマスキング部と前記基板の前記取付手段への取付状態下で、前記第一の板状突出部が、前記第二の板状突出部の内側に、該第二の板状突出部と非接触な状態で配置されると共に、前記意匠面の薄膜非形成領域における該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向での該第二のマスキング部側の端縁と、該第一の板状突出部の突出先端面と、該第二の板状突出部の突出先端面とが、該第一のマスキング部と該第二のマスキング部の互いの対向方向において同一の位置に配置されるように構成されていることを特徴とする薄膜形成用マスキング装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【公開番号】特開２０１２−２３３２３２（Ｐ２０１２−２３３２３２Ａ）
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１０２７１２（Ｐ２０１１−１０２７１２）
【出願日】平成２３年５月２日（２０１１．５．２）
【出願人】（３０８０１３４３６）小島プレス工業株式会社 (386)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月２日（２０１１．５．２）
【出願人】（３０８０１３４３６）小島プレス工業株式会社 (386)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]