薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー
【課題】薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーを提供する。
【解決手段】開口部が形成され、開口部を取り囲むマスクフレーム１１０と、マスクフレーム１１０上に結合されるマスク１２０と、マスク１２０を支持する少なくとも一つの支持台１３０と、支持台１３０を固定する複数の固定部１４０と、を備える薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。これにより、蒸着用基板のたるみによる蒸着用基板の割れ現象を防止できる。
【解決手段】開口部が形成され、開口部を取り囲むマスクフレーム１１０と、マスクフレーム１１０上に結合されるマスク１２０と、マスク１２０を支持する少なくとも一つの支持台１３０と、支持台１３０を固定する複数の固定部１４０と、を備える薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。これにより、蒸着用基板のたるみによる蒸着用基板の割れ現象を防止できる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーに係り、より詳細には、パターンマスクのたるみを防止するための薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーに関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）を備える有機発光ディスプレイ装置（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｄｅｖｉｃｅ、ＯＬＥＤ）は、デジタルカメラ、ビデオカメラ、カムコーダ、携帯情報端末機、スマートホンなどのモバイル機器用ディスプレイ装置、超薄型テレビ、超スリムノート型パソコン、タブレットパソコン、フレキシブルディスプレイなどの電子電気製品に適用できて脚光を浴びている。
【０００３】
有機発光ディスプレイ装置は、アノード及びカソードに注入される正孔と電子とが有機発光層で再結合して発光する原理で色相を具現できるものであり、アノードとカソードとの間に有機発光層を挿入した積層型構造である。
【０００４】
しかし、前記の構造では高効率発光を得難いため、それぞれの電極と有機発光層との間に電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層、及び正孔注入層などの中間層を選択的にさらに挿入して用いている。
【０００５】
有機発光ディスプレイ装置の電極と、有機発光層を含む中間層とは、色々な方法、例えば、フォトリソグラフィ法や蒸着法によって形成される。
【０００６】
フォトリソグラフィ法は、基板上の一部領域にフォトレジストを塗布することで湿式でエッチングする方法である。しかし、フォトリソグラフィ法は、フォトレジストを剥離する過程で水分が有機発光層に流れ込む。これにより、完成された有機発光ディスプレイ装置の性能及び寿命特性を顕著に劣化させる。
【０００７】
前記の問題点を解決するための方法のうち一つが蒸着法である。蒸着法は、基板上に形成される薄膜などのパターンと同じパターンを持つ高精細メタルマスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ、ＦＭＭ）を整列し、薄膜の元素材を蒸着して所望のパターンの薄膜を形成する。
【０００８】
蒸着用マスクとしては、マスクフレームに結合された１枚のマスク内に基板の全面に対応する薄膜パターンが全て形成された大型マスクが使われる。ＦＭＭが大面積化すれば、パターン形成のためのエッチング誤差も大きくなり、自重による中央部のたるみ現象も激しくなる。
【０００９】
これにより、最近には、マスクを複数のスティック状に分割して製造した後、これをマスクフレームに付着して使用する分割型マスクが使われている。しかし、分割型マスクも大面積マスクに比べては相対的に弱いが、たるみ現象は依然として発生する恐れがあるので、マスクフレームに付着する時には、マスクを長手方向にぴんと引っ張った状態でマスクフレームに溶接する。
【００１０】
ところが、最近には有機発光ディスプレイ装置の大型化につれて、マスクを引っ張った状態でマスクフレームに溶接するにもかかわらず、蒸着用基板の荷重に耐えられず、中央部分がたるみつつ周辺部分では蒸着用基板とマスクフレームとの間に間隔が発生する。
【００１１】
これにより、シャドーを引き起こし、また、中央部分がたるみつつマスクが切れる問題が発生し、継続的な荷重による損傷によって所望のパターン位置の正確性が低減する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、マスクを支持する支持台と、支持台を固定する固定部とを設けることで、蒸着用基板によるマスクのたるみを防止するように構造が改善された薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の一側面による薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーは、開口部が形成され、前記開口部を取り囲むマスクフレームと、前記マスクフレーム上に結合されるマスクと、前記マスクを支持する少なくとも一つの支持台と、前記支持台を固定する複数の固定部と、を備える。
【００１４】
一実施形態において、前記支持台は、前記開口部を横切ってマスクフレームに対し一方向に配される。
【００１５】
一実施形態において、前記支持台は、前記マスクを下部から支持する支持部と、前記支持部の両端から少なくとも１回折り曲げられる折り曲げ部と、を備える。
【００１６】
一実施形態において、前記支持台の折り曲げ部には前記固定部がそれぞれ位置し、少なくとも一つの締結部によって前記支持台と固定部とは互いに結合され、前記固定部の両端は、マスクフレームに対して他方向に配されて、互いに対向して配されたフレームに結合される。
【００１７】
一実施形態において、前記固定部は、前記支持台の折り曲げ部に対して対応する部分に少なくとも一つの締結孔が形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて挿入されて前記支持台の折り曲げ部に形成された結合溝に結合される。
【００１８】
一実施形態において、前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って前記支持台の折り曲げ部に対してそれぞれ対応する部分に離隔して複数個形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて前記支持台の折り曲げ部に結合される。
【００１９】
一実施形態において、前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って離隔して複数個形成され、前記締結部は、前記締結孔に沿ってその位置を移動させて前記支持台の折り曲げ部に結合される。
【００２０】
一実施形態において、前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って離隔するように前記支持台の数より多く形成され、前記締結部は、支持台に対して固定部が対応する位置に該当する締結孔を通じて前記支持台の折り曲げ部に結合される。
【００２１】
一実施形態において、前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って一つの大口径形状に形成され、前記締結部は、前記締結孔に沿ってその位置を移動させて前記支持台の折り曲げ部に結合される。
【００２２】
一実施形態において、前記固定部の両端に結合されるフレームには、前記固定部に対して支持台の折り曲げ部が結合できる空間と対応する間隔を維持する間隔制御部が形成される。
【００２３】
一実施形態において、前記間隔制御部は、前記固定部の折り曲げ部に結合されるフレームの厚さを、他の方向に互いに対向して配されたフレームの厚さより厚くして形成される。
【００２４】
一実施形態において、前記固定部の両端には、前記間隔制御部と対応する部分に締結孔がさらに形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて前記間隔制御部に形成された結合溝に結合される。
【００２５】
一実施形態において、前記マスクは、長手方向に沿って蒸着用パターン部が離隔して形成され、隣接する蒸着用パターン部の間には、これらを互いに連結させるリブが形成される。
【００２６】
一実施形態において、前記支持台は、前記開口部を横切ってマスクフレームに対して一方向に配されて前記マスクを下部から支持し、前記各リブに位置する。
【００２７】
一実施形態において、前記マスクと支持台とは互いに交差する方向に配される。
【００２８】
一実施形態において、前記マスクフレームは、一方向に互いに対向して配された複数の第１フレームと、他方向に互いに対向して配された複数の第２フレームと、を備え、前記複数の第１フレームと複数の第２フレームとは互いに連結されて、開口部を取り囲むように形成される。
【００２９】
一実施形態において、前記支持台は、前記開口部を横切って複数の第１フレームと平行な方向に配される。
【００３０】
一実施形態において、前記支持台の両端部は、少なくとも１回折り曲げられる折り曲げ部を備え、前記折り曲げ部には前記固定部がそれぞれ位置し、少なくとも一つの締結部によって前記支持台と固定部とは互いに結合され、前記固定部の両端は、複数の第１フレームにそれぞれ固定される。
【００３１】
一実施形態において、前記固定部は、前記支持台の折り曲げ部に対して対応する部分に締結孔が形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて挿入されて、前記支持台の折り曲げ部に形成された結合溝に結合される。
【００３２】
一実施形態において、前記複数の第１フレームには、前記固定部に対して支持台の折り曲げ部が結合できる空間と対応する間隔を維持する間隔制御部が形成される。
【００３３】
一実施形態において、前記間隔制御部は、複数の第１フレームの厚さを複数の第２フレームの厚さより厚くして形成される。
【００３４】
一実施形態において、前記固定部の両端には、前記間隔制御部と対応する部分に締結孔がさらに形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて前記間隔制御部に形成された結合溝に結合される。
【００３５】
一実施形態において、前記マスクは、前記マスクフレームの開口部を横切って一方向に配された少なくとも一つの分割マスクを含む。
【発明の効果】
【００３６】
以上のように、本発明の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーは、蒸着用基板のたるみによる蒸着用基板の割れ現象を防止できる。
【００３７】
第２に、蒸着用基板のたるみによる、基板の周辺部でマスクフレームと基板との間隔のため生じるシャドー現象を防止できる。
【００３８】
第３に、蒸着用基板のたるみによる整列反復時に発生する損傷によるパターンマスクのデント現象を低減させる。
【００３９】
第４に、蒸着用基板のたるみによる荷重で生じる、パターン位置の正確性の変化を低減させる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の一実施形態による薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーを示す斜視図である。
【図２】図１のマスクフレーム、支持台、固定部を分離して示す斜視図である。
【図３】図１のマスクフレーム、支持台、固定部を結合して示す斜視図である。
【図４】本発明の他の実施形態による固定部を示す平面図である。
【図５】本発明のさらに他の実施形態による固定部を示す平面図である。
【図６】本発明のさらに他の実施形態による固定部を示す平面図である。
【図７】図１のVII−VII線に沿って破断図示した、マスクフレームアセンブリー上に装着された蒸着用基板の蒸着状態を概略的に示す断面図である。
【図８】本発明の一実施形態によるマスクフレームアセンブリーを用いて蒸着形成された有機発光ディスプレイ装置の概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
本発明は、多様な変換を加えることができ、多様な実施形態を持つことができるところ、特定実施形態を図面に例示し、詳細な説明で詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の実施形態で限定しようとするものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるあらゆる変換、均等物ないし代替物を含むと理解されねばならない。本発明を説明するに当って、関連する公知技術についての具体的な説明が本発明の趣旨を不明にすると判断される場合、その詳細な説明を省略する。
【００４２】
第１、第２などの用語は、多様な構成要素を説明するのに使われるが、構成要素は用語によって限定されてはならない。用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的のみで使われる。
【００４３】
本出願で使用した用語は、単に特定の実施形態を説明するために使われたものであり、本発明を限定しようとする意図ではない。単数の表現は、文脈上明らかに異なって意味しない限り、複数の表現を含む。本出願で、“含む”または“持つ”などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在するということを指定しようとするものであり、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものの存在または付加の可能性を予め排除しないと理解されねばならない。
【００４４】
以下、本発明による薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーの実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明し、添付図面を参照して説明するに当って、同一または対応する構成要素には同じ図面番号を付与し、これについての重なる説明は省略する。
【００４５】
図１は、本発明の一実施形態によるマスクフレームアセンブリー１００を示すものであり、図２は、図１のマスクフレーム１１０、支持台１３０、固定部１４０を分離して示したものであり、図３は、図１のマスクフレーム１１０、支持台１３０、固定部１４０を結合して示したものである。
【００４６】
図１ないし図３を参照すれば、前記マスクフレームアセンブリー１００は、マスクフレーム１１０、複数のマスク１２０、支持台１３０、及び固定部１４０を備える。
【００４７】
前記マスクフレーム１１０には開口部１１５が形成され、前記開口部１１５を取り囲むようにフレーム１１１ないし１１４が互いに連結されて形成される。
【００４８】
すなわち、前記フレーム１１１ないし１１４は、Ｘ方向に沿って互いに対向し、かつＹ方向に沿って平行に配された第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２と、Ｙ方向に沿って互いに対向し、かつＸ方向に沿って平行に配された第３フレーム１１３及び第４フレーム１１４とを備える。前記第１フレーム１１１、第２フレーム１１２、第３フレーム１１３、第４フレーム１１４は、互いに連結されて四角フレームを形成する。
【００４９】
一方、前記マスクフレーム１１０は、マスク１２０の溶接時に変形の少ない素材、例えば、剛性の大きい金属からなることが望ましい。
【００５０】
前記マスクフレーム１１０上にはマスク１２０が結合されている。前記マスク１２０は、自重によるたるみ現象を防止するために、一つの大型マスクよりは、Ｙ方向に分離された複数の分割マスク１２１が望ましい。本実施形態では、前記分割マスク１２１は、ストライプ形状や、分割マスク１２１の幅が引っ張り方向の長手方向より小さな形状のマスクならば、いずれか一つの形状に限定されるものではない。
【００５１】
前記分割マスク１２１には、長手方向に沿って離隔して複数の蒸着用パターン部１２２が形成されている。前記蒸着用パターン部１２２には、複数のスリットがパターン化されている。前記蒸着用パターン部１２２は、電鋳法で形成することで微細なパターニング及び表面平滑性を得ることができる。
【００５２】
代案としては、前記蒸着用パターン部１２２は、エッチング法やレーザー加工等によって製造される。エッチング法によって製造される場合、前記蒸着用パターン部１２２は、フォトレジストを用いて前記蒸着用パターン部１２２と同じパターンを持つレジスト層を薄板に形成するか、またはパターンを持つフィルムを薄板に付着した後で薄板をエッチングすることで形成できる。
【００５３】
前記隣接する蒸着用パターン部１２２の間にはリブ１２３が形成されて、隣接する蒸着用パターン部１２２を互いに連結させている。
【００５４】
前記分割マスク１２１の両端部には溶接部１２４が形成されている。前記溶接部１２４は、前記フレーム１１０に溶接される部分である。
【００５５】
それぞれの分割マスク１２１は、前記開口部１１５を横切ってＸ方向に配される。前記分割マスク１２１は、Ｘ方向に所定の引っ張り力が印加された状態で、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に対して溶接部１２４が溶接される。これにより、前記マスク１２０は、前記マスクフレーム１１０に対して固定される。
【００５６】
一方、前記マスク１２０を用いて高精密度のパターニングを行うためには、マスク１２０と、前記マスク１２０の上部に位置する基板１５０との密着性を高めてシャドー現象を低減させねばならない。したがって、前記マスク１２０は、薄板で形成されることが望ましい。前記マスク１２０の素材には、ステンレススチール、インバー（Ｉｎｖａｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル合金、ニッケル−コバルト合金などが使われる。
【００５７】
前記支持台１３０は、前記マスク１２０の変形を防止するために設けられる。前記支持台１３０は、前記開口部１１５を横切ってＹ方向に少なくとも一つ配される。前記支持台１３０が設けられる方向は、前記分割マスク１２０が配された方向に対して交差する方向である。
【００５８】
前記支持台１３０には、前記マスク１２０を下部から支持するように支持部１３１を備える。前記支持部１３１は、ストリップ状である。前記支持部１３１の両端部には折り曲げ部１３２が形成されている。
【００５９】
前記折り曲げ部１３２は、前記マスク１２０が設けられた方向に対して逆方向である下方に折り曲げられている。本実施形態では、前記支持部１３１の両端部を２回折り曲げることで折り曲げ部１３２を形成するが、少なくとも１回折り曲げられて段差が形成される構造であれば、いずれか一つに限定されるものではない。前記折り曲げ部１３２には結合溝１３３が形成されている。
【００６０】
前記支持台１３０は、前記マスク１２０を下部から支持する時に、各分割マスク１２１に形成された蒸着用パターン部１２２を遮蔽しないために、隣接する蒸着用パターン部１２２の間に配列された各リブ１２３に位置する。前記支持部１３１は、Ｙ方向に同一線上で連続的に配列された、隣接する各分割マスク１２１のリブ１２３に位置する。
【００６１】
前記固定部１４０は、前記支持台１３０を固定させるために設けられる。
【００６２】
前記固定部１４０は、前記支持台１３０の両端部に形成された折り曲げ部１３２にそれぞれ位置しており、少なくとも一つの締結部１６０によって前記支持台１３０に結合される。前記固定部１４０はストリップ状であり、Ｘ方向に沿って配される。前記固定部１４０が配される方向は、前記支持台１３０が配される方向に対して交差する方向である。
【００６３】
前記固定部１４０には、前記折り曲げ部１３２と対応する部分に締結孔１４１が形成される。前記締結孔１４１は、前記固定部１４０の長手方向に沿って、前記折り曲げ部１３２と対応する部分に所定間隔離隔して複数個形成されている。前記締結部１６０は、前記締結孔１４１を通過して前記折り曲げ部１３２に形成された結合溝１３３に結合されることで、前記固定部１４０に対して支持台１３０を固定させる。前記締結部１６０としては、ボルトやねじなどが用いられる。
【００６４】
前記固定部１４０の両端部は、第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２にそれぞれ結合される。この時、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２には、前記固定部１４０に対して支持台１３０を結合させるための空間、例えば、前記折り曲げ部１３２が位置できる空間を確保するために、これと対応する厚さを持つ間隔制御部１７０が形成されることが望ましい。
【００６５】
すなわち、前記固定部１４０は、前記第３フレーム１１３及び第４フレーム１１４の下部にＺ方向に所定間隔離隔して位置している。前記第３フレーム１１３及び第４フレーム１１４と、固定部１４０との間の間隔ｇは、前記折り曲げ部１３２が位置できる空間を提供している。このため、前記第１フレーム１１１の両端部と、第２フレーム１１２の両端部とは、前記間隔ｇほどの厚さを維持していなければならない。
【００６６】
このために、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の下部には、間隔制御部１７０が形成されている。前記間隔制御部１７０は、前記第１フレーム１１１の厚さ及び第２フレーム１１２の厚さを、前記間隔ｇが維持できるほど、前記第３フレーム１１３の厚さ及び第４フレーム１１４の厚さより厚く形成することで形成される。このように互いに異なる厚さを持つ第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２と、第３フレーム１１３及び第４フレーム１１４とは、プレス加工によって製造できる。
【００６７】
前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の両端部の下部には結合溝１７１が形成されている。前記結合溝１７１と対応する支持台１４０には締結孔１４１が形成されている。
【００６８】
これにより、前記折り曲げ部１３３に形成された結合溝１３３に対して、固定部１４０に形成された締結孔１４１の位置を整列した後、締結部１６０によって締結される方式で固定部１４０に対する支持台１３０の位置が固定され、これと同時に、前記固定部１４０の両端部も、締結部１６０によって前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に位置が固定される。
【００６９】
これにより、前記支持台１３０がマスク１２０を支持する必要がない場合には、前記締結部１６０を解除することで、前記支持台１３０及び固定部１４０を前記マスクフレーム１１０から分離させる。
【００７０】
本実施形態では、前記間隔制御部１７０が第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の全体厚さを増大させることで形成されるが、前記固定部１４０に支持台１３０を結合させるために前記折り曲げ部１３２が位置できる空間を提供するならば、これに限定されるものではない。
【００７１】
例えば、前記間隔制御部１７０は、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の両端部の厚さを、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の他の部分の厚さよりさらに厚くするか、または別途の板状部材を設けて、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の下部に付着させるか、または前記固定部１４０の両端部を前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２が配された方向に折り曲げて形成させるなど多様な実施形態が可能である。
【００７２】
一方、前記支持台１３０及び固定部１４０は、熱的変形を最小化するために同じ素材で形成することが望ましい。
【００７３】
図４ないし図６は、本発明の固定部の変形された実施形態を示すものである。
【００７４】
図４を参照すれば、固定部４４０には複数の締結孔４４１が形成されている。図２の締結孔１４１が支持台（図２の１３０）の折り曲げ部１３２と対応する部分のみに選択的に形成されることとは異なって、本実施形態の締結孔４４１は、前記固定部４４０の長手方向に沿って前記締結部１６０が左右に移動できる自由度を持って形成されている。前記締結孔４４１は、横断面が直方形になっている。
【００７５】
これにより、前記支持台１３０の折り曲げ部１３２が固定部４４０に位置すれば、前記締結部１６０は前記締結孔４４１に沿って左右に移動させて、前記折り曲げ部１３２と対応する位置で折り曲げ部１３２に形成された結合溝１３３に結合させることで、前記固定部４４０に対して支持台１３０を固定させる。
【００７６】
一方、前記締結孔４４１は、前記間隔制御部（図２の１７１）に形成された結合溝１７１と対応するところに位置して、前記締結部１６０によって、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に固定部４４０を固定させることはいうまでもない。
【００７７】
図５を参照すれば、固定部５４０には複数の締結孔５４１が形成されている。前記締結孔５４１は、前記固定部５４０の長手方向に沿って所定間隔離隔して複数個形成されている。図２の締結孔１４１が支持台１３０の折り曲げ部１３２と対応する部分のみに選択的に形成されることとは異なって、本実施形態の締結孔５４１は、前記支持台１３０の数より多く前記固定部５５０に形成されている。
【００７８】
これにより、前記支持台１３０の折り曲げ部１３２が固定部５４０に位置すれば、前記締結部１６０は、支持台１３０の折り曲げ部１３２と対応する位置の締結孔５４１を通じて挿入させて螺合することで、前記固定部５４０に支持台１３０を固定させる。
【００７９】
一方、前記締結孔５４１は、前記間隔制御部１７１に形成された結合溝１７１と対応するところに位置して、前記締結部１６０によって前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に固定部５４０を固定させることはいうまでもない。
【００８０】
図６を参照すれば、固定部６４０には複数の締結孔６４１が形成されている。前記締結孔６４１は、前記固定部６４０の長手方向に沿って一つの大口径形状に形成されている。
【００８１】
これにより、前記支持台１３０の折り曲げ部１３２が固定部６４０に位置するようになり、前記締結部１６０は前記締結孔６４１に沿って左右に移動させて、前記折り曲げ部１３２と対応する位置で螺合させることで前記固定部６４０に支持台１３０を固定させる。
【００８２】
一方、前記締結孔６４１は、前記間隔制御部１７１に形成された結合溝１７１と対応するところに位置して、前記締結部１６０によって前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に固定部６４０を固定させることはいうまでもない。
【００８３】
図７は、図１のVII−VII線に沿って破断図示した、マスクフレームアセンブリー１００上に装着された蒸着用基板１５０の蒸着状態を示すものである。
【００８４】
図面を参照すれば、前記マスクフレームアセンブリー１００を用いて有機発光ディスプレイ装置の有機発光層やカソードを蒸着するためには、真空チャンバ７００が設けられれう。前記真空チャンバ７００の下部には蒸着源７１０が位置し、前記蒸着源７１０の上部にはマスクフレームアセンブリー１００が設けられる。前記マスク１２０の上部には基板１５０が位置している。前記マスクフレームアセンブリー１００のエッジには、これらを固定させるための別途の支持部材７２０がさらに備えられる。
【００８５】
前記基板１５０の所望の位置に蒸着物質が蒸着される過程を簡略に説明すれば、次の通りである。
【００８６】
まず、前記マスクフレームアセンブリー１００を支持部材７２０に固定させ、前記マスク１２０の上部に基板１５０を位置させる。前記基板１５０は、前記マスク１２０に対して間隔なしに位置させるか、または別途の間隔制御部材によって前記マスク１２０に対して所定間隔離隔して位置させる。
【００８７】
次いで、前記真空チャンバ７００の下部に位置する蒸着源７１０から蒸着物質を、前記マスクフレームアセンブリー１００に向かって噴射させれば、前記マスク１２０に形成された蒸着用パターン部（図１の１２２）によって、前記基板１５０の一面には所望のパターンを持つように蒸着物質が蒸着される。
【００８８】
この時、蒸着工程中、前記基板１５０の重さによって、前記基板１５０の中央部が前記蒸着源７１０の方向に曲がる恐れがあるが、前記基板１５０を支持するマスク１２０の下部は支持台１３０によって支持され、前記支持台１３０は固定部１４０に結合され、前記固定部１４０は間隔制御部１７０に結合されてその位置を定めているので、前記基板１２０に印加される荷重は前記支持台１３０によって分散されて、基板１５０の破損及びマスク１２０の変形を未然に防止できる。
【００８９】
図８は、本発明の一実施形態によるマスクフレームアセンブリー１００を用いて蒸着形成された有機発光ディスプレイ装置８００の副画素の一例を示すものである。
【００９０】
ここで、副画素は、少なくとも一つの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、有機発光素子（ＯＬＥＤ）とを持つ。前記ＴＦＴは、必ずしも図８に示した構造のみ可能なものではなく、その数及び構造は多様に変形できる。
【００９１】
図面を参照すれば、基板８０１上にはバッファ層８０２が形成されている。前記基板８０１はガラスやプラスチックからなる。前記バッファ層８０２上には、所定パターンの半導体活性層８０３が形成されている。前記半導体活性層８０３の上部にはゲート絶縁膜８０４が形成されており、前記ゲート絶縁膜８０４の上部の所定領域にはゲート電極８０５が形成されている。
【００９２】
前記ゲート電極８０５は、ＴＦＴオン／オフ信号を印加するゲートライン（図示せず）と連結されている。前記ゲート電極８０５の上部には層間絶縁膜８０６が形成されており、コンタクトホールを通じてソース電極８０７及びドレイン電極８０８が、それぞれ半導体活性層８０３のソース領域８０９及びドレイン領域８１０に接するように形成されている。
【００９３】
前記ソース電極８０７及びドレイン電極８０８の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどからなるパッシベーション膜８１１が形成されている。前記パッシベーション膜８１１の上部にはアクリル、ポリイミド、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）などの有機物質からなる平坦化膜８１２が形成されている。
【００９４】
前記平坦化膜８１２の上部にはＯＬＥＤのアノードになる画素電極８１３が形成され、これを覆うように有機物からなる画素定義膜（Ｐｉｘｅｌ Ｄｅｆｉｎｅ Ｌａｙｅｒ、ＰＤＬ）８１４が形成されている。前記画素定義膜８１４には所定の開口を形成した後で画素定義膜８１４の上部及び開口が形成されて、外部に露出した画素電極８１３の上部に有機膜８１４が形成されている。前記有機膜８１４は発光層を含むことになる。本発明は必ずしもこれらの構造に限定されるものではなく、多様な有機発光装置の構造がそのまま適用できるということはいうまでもない。
【００９５】
ＯＬＥＤは、電流のフローによって赤色、緑色、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するものであり、ＴＦＴのソース電極８０７に連結されて、これからプラス電源を供給される第１電極である画素電極８１０と、全体画素を覆うように備えられてマイナス電源を供給する第２電極である対向電極８１５、及びこれら画素電極８１３と対向電極８１５との間に配されて発光する有機膜８１４を備える。
【００９６】
前記画素電極８１３と対向電極８１５とは、有機膜８１４によって互いに絶縁されており、有機膜８１４に相異なる極性の電圧を加えて有機膜８１４で発光を行わせる。
【００９７】
前記画素電極８１５はアノードの機能を行い、対向電極８１３はカソードの機能を行う。もちろん、これら画素電極８１３と対向電極８１５との極性は逆になってもよい。
【００９８】
前記画素電極８１３は、透明電極または反射型電極で備えられる。
【００９９】
透明電極で使われる場合、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３からなり、反射型電極で使われる場合、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３を形成できる。
【０１００】
前記対向電極８１５も、透明電極または反射型電極で備えられる。
【０１０１】
透明電極で使われる場合、前記対向電極８１５がカソードとして使われるので、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びこれらの化合物が有機膜８１４の方向に向かうように蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用物質で補助電極層やバス電極ラインを形成できる。反射型電極で使われる場合、前記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。
【０１０２】
一方、前記画素電極８１３は、前記透明電極または反射型電極で形成する時に、各副画素の開口形態に対応する形態で形成される。また、前記対向電極８１５は、前記透明電極または反射型電極をディスプレイ領域全体に全面蒸着して形成できる。しかし、前記対向電極８１５は必ずしも全面蒸着される必要はなく、多様なパターンで形成できるということはいうまでもない。前記画素電極８１３と対向電極８１５とは、互いに位置が逆に積層できるということはいうまでもない。
【０１０３】
前記有機膜８１４は、低分子または高分子有機膜が使われる。
【０１０４】
低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）などが単一あるいは複合の構造で積層して形成される。また、利用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用できる。これら低分子有機膜は真空蒸着の方法で形成される。
【０１０５】
高分子有機膜を使用する場合、大体ホール輸送層（ＨＴＬ）及び発光層（ＥＭＬ）を含む。ホール輸送層としてはＰＥＤＯＴを使用し、発光層としてはＰＰＶ（ポリフェニレンビニレン）系及びポリフルオレン系などの高分子有機物質を使用し、これをスクリーン印刷やインクジェット印刷方法などで形成できる。
【０１０６】
該有機膜は必ずしもこれらに限定されるものではなく、多様な実施形態が適用できることはいうまでもない。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明は、薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１０８】
１００ マスクフレームアセンブリー
１１０ マスクフレーム
１１１ 第１フレーム
１１２ 第２フレーム
１１３ 第３フレーム
１１４ 第４フレーム
１２０ マスク
１２１ 分割マスク
１２２ 蒸着用パターン部
１２３ リブ
１２４ 溶接部
１３０ 支持台
１３１ 支持部
１３２ 折り曲げ部
１３３ 結合溝
１４０ 固定部
１４１ 締結孔
１５０ 基板
１６０ 締結部
１７０ 間隔制御部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーに係り、より詳細には、パターンマスクのたるみを防止するための薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーに関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）を備える有機発光ディスプレイ装置（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｄｅｖｉｃｅ、ＯＬＥＤ）は、デジタルカメラ、ビデオカメラ、カムコーダ、携帯情報端末機、スマートホンなどのモバイル機器用ディスプレイ装置、超薄型テレビ、超スリムノート型パソコン、タブレットパソコン、フレキシブルディスプレイなどの電子電気製品に適用できて脚光を浴びている。
【０００３】
有機発光ディスプレイ装置は、アノード及びカソードに注入される正孔と電子とが有機発光層で再結合して発光する原理で色相を具現できるものであり、アノードとカソードとの間に有機発光層を挿入した積層型構造である。
【０００４】
しかし、前記の構造では高効率発光を得難いため、それぞれの電極と有機発光層との間に電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層、及び正孔注入層などの中間層を選択的にさらに挿入して用いている。
【０００５】
有機発光ディスプレイ装置の電極と、有機発光層を含む中間層とは、色々な方法、例えば、フォトリソグラフィ法や蒸着法によって形成される。
【０００６】
フォトリソグラフィ法は、基板上の一部領域にフォトレジストを塗布することで湿式でエッチングする方法である。しかし、フォトリソグラフィ法は、フォトレジストを剥離する過程で水分が有機発光層に流れ込む。これにより、完成された有機発光ディスプレイ装置の性能及び寿命特性を顕著に劣化させる。
【０００７】
前記の問題点を解決するための方法のうち一つが蒸着法である。蒸着法は、基板上に形成される薄膜などのパターンと同じパターンを持つ高精細メタルマスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ、ＦＭＭ）を整列し、薄膜の元素材を蒸着して所望のパターンの薄膜を形成する。
【０００８】
蒸着用マスクとしては、マスクフレームに結合された１枚のマスク内に基板の全面に対応する薄膜パターンが全て形成された大型マスクが使われる。ＦＭＭが大面積化すれば、パターン形成のためのエッチング誤差も大きくなり、自重による中央部のたるみ現象も激しくなる。
【０００９】
これにより、最近には、マスクを複数のスティック状に分割して製造した後、これをマスクフレームに付着して使用する分割型マスクが使われている。しかし、分割型マスクも大面積マスクに比べては相対的に弱いが、たるみ現象は依然として発生する恐れがあるので、マスクフレームに付着する時には、マスクを長手方向にぴんと引っ張った状態でマスクフレームに溶接する。
【００１０】
ところが、最近には有機発光ディスプレイ装置の大型化につれて、マスクを引っ張った状態でマスクフレームに溶接するにもかかわらず、蒸着用基板の荷重に耐えられず、中央部分がたるみつつ周辺部分では蒸着用基板とマスクフレームとの間に間隔が発生する。
【００１１】
これにより、シャドーを引き起こし、また、中央部分がたるみつつマスクが切れる問題が発生し、継続的な荷重による損傷によって所望のパターン位置の正確性が低減する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、マスクを支持する支持台と、支持台を固定する固定部とを設けることで、蒸着用基板によるマスクのたるみを防止するように構造が改善された薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の一側面による薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーは、開口部が形成され、前記開口部を取り囲むマスクフレームと、前記マスクフレーム上に結合されるマスクと、前記マスクを支持する少なくとも一つの支持台と、前記支持台を固定する複数の固定部と、を備える。
【００１４】
一実施形態において、前記支持台は、前記開口部を横切ってマスクフレームに対し一方向に配される。
【００１５】
一実施形態において、前記支持台は、前記マスクを下部から支持する支持部と、前記支持部の両端から少なくとも１回折り曲げられる折り曲げ部と、を備える。
【００１６】
一実施形態において、前記支持台の折り曲げ部には前記固定部がそれぞれ位置し、少なくとも一つの締結部によって前記支持台と固定部とは互いに結合され、前記固定部の両端は、マスクフレームに対して他方向に配されて、互いに対向して配されたフレームに結合される。
【００１７】
一実施形態において、前記固定部は、前記支持台の折り曲げ部に対して対応する部分に少なくとも一つの締結孔が形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて挿入されて前記支持台の折り曲げ部に形成された結合溝に結合される。
【００１８】
一実施形態において、前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って前記支持台の折り曲げ部に対してそれぞれ対応する部分に離隔して複数個形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて前記支持台の折り曲げ部に結合される。
【００１９】
一実施形態において、前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って離隔して複数個形成され、前記締結部は、前記締結孔に沿ってその位置を移動させて前記支持台の折り曲げ部に結合される。
【００２０】
一実施形態において、前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って離隔するように前記支持台の数より多く形成され、前記締結部は、支持台に対して固定部が対応する位置に該当する締結孔を通じて前記支持台の折り曲げ部に結合される。
【００２１】
一実施形態において、前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って一つの大口径形状に形成され、前記締結部は、前記締結孔に沿ってその位置を移動させて前記支持台の折り曲げ部に結合される。
【００２２】
一実施形態において、前記固定部の両端に結合されるフレームには、前記固定部に対して支持台の折り曲げ部が結合できる空間と対応する間隔を維持する間隔制御部が形成される。
【００２３】
一実施形態において、前記間隔制御部は、前記固定部の折り曲げ部に結合されるフレームの厚さを、他の方向に互いに対向して配されたフレームの厚さより厚くして形成される。
【００２４】
一実施形態において、前記固定部の両端には、前記間隔制御部と対応する部分に締結孔がさらに形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて前記間隔制御部に形成された結合溝に結合される。
【００２５】
一実施形態において、前記マスクは、長手方向に沿って蒸着用パターン部が離隔して形成され、隣接する蒸着用パターン部の間には、これらを互いに連結させるリブが形成される。
【００２６】
一実施形態において、前記支持台は、前記開口部を横切ってマスクフレームに対して一方向に配されて前記マスクを下部から支持し、前記各リブに位置する。
【００２７】
一実施形態において、前記マスクと支持台とは互いに交差する方向に配される。
【００２８】
一実施形態において、前記マスクフレームは、一方向に互いに対向して配された複数の第１フレームと、他方向に互いに対向して配された複数の第２フレームと、を備え、前記複数の第１フレームと複数の第２フレームとは互いに連結されて、開口部を取り囲むように形成される。
【００２９】
一実施形態において、前記支持台は、前記開口部を横切って複数の第１フレームと平行な方向に配される。
【００３０】
一実施形態において、前記支持台の両端部は、少なくとも１回折り曲げられる折り曲げ部を備え、前記折り曲げ部には前記固定部がそれぞれ位置し、少なくとも一つの締結部によって前記支持台と固定部とは互いに結合され、前記固定部の両端は、複数の第１フレームにそれぞれ固定される。
【００３１】
一実施形態において、前記固定部は、前記支持台の折り曲げ部に対して対応する部分に締結孔が形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて挿入されて、前記支持台の折り曲げ部に形成された結合溝に結合される。
【００３２】
一実施形態において、前記複数の第１フレームには、前記固定部に対して支持台の折り曲げ部が結合できる空間と対応する間隔を維持する間隔制御部が形成される。
【００３３】
一実施形態において、前記間隔制御部は、複数の第１フレームの厚さを複数の第２フレームの厚さより厚くして形成される。
【００３４】
一実施形態において、前記固定部の両端には、前記間隔制御部と対応する部分に締結孔がさらに形成され、前記締結部は、前記締結孔を通じて前記間隔制御部に形成された結合溝に結合される。
【００３５】
一実施形態において、前記マスクは、前記マスクフレームの開口部を横切って一方向に配された少なくとも一つの分割マスクを含む。
【発明の効果】
【００３６】
以上のように、本発明の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーは、蒸着用基板のたるみによる蒸着用基板の割れ現象を防止できる。
【００３７】
第２に、蒸着用基板のたるみによる、基板の周辺部でマスクフレームと基板との間隔のため生じるシャドー現象を防止できる。
【００３８】
第３に、蒸着用基板のたるみによる整列反復時に発生する損傷によるパターンマスクのデント現象を低減させる。
【００３９】
第４に、蒸着用基板のたるみによる荷重で生じる、パターン位置の正確性の変化を低減させる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の一実施形態による薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーを示す斜視図である。
【図２】図１のマスクフレーム、支持台、固定部を分離して示す斜視図である。
【図３】図１のマスクフレーム、支持台、固定部を結合して示す斜視図である。
【図４】本発明の他の実施形態による固定部を示す平面図である。
【図５】本発明のさらに他の実施形態による固定部を示す平面図である。
【図６】本発明のさらに他の実施形態による固定部を示す平面図である。
【図７】図１のVII−VII線に沿って破断図示した、マスクフレームアセンブリー上に装着された蒸着用基板の蒸着状態を概略的に示す断面図である。
【図８】本発明の一実施形態によるマスクフレームアセンブリーを用いて蒸着形成された有機発光ディスプレイ装置の概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
本発明は、多様な変換を加えることができ、多様な実施形態を持つことができるところ、特定実施形態を図面に例示し、詳細な説明で詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の実施形態で限定しようとするものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるあらゆる変換、均等物ないし代替物を含むと理解されねばならない。本発明を説明するに当って、関連する公知技術についての具体的な説明が本発明の趣旨を不明にすると判断される場合、その詳細な説明を省略する。
【００４２】
第１、第２などの用語は、多様な構成要素を説明するのに使われるが、構成要素は用語によって限定されてはならない。用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的のみで使われる。
【００４３】
本出願で使用した用語は、単に特定の実施形態を説明するために使われたものであり、本発明を限定しようとする意図ではない。単数の表現は、文脈上明らかに異なって意味しない限り、複数の表現を含む。本出願で、“含む”または“持つ”などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在するということを指定しようとするものであり、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものの存在または付加の可能性を予め排除しないと理解されねばならない。
【００４４】
以下、本発明による薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリーの実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明し、添付図面を参照して説明するに当って、同一または対応する構成要素には同じ図面番号を付与し、これについての重なる説明は省略する。
【００４５】
図１は、本発明の一実施形態によるマスクフレームアセンブリー１００を示すものであり、図２は、図１のマスクフレーム１１０、支持台１３０、固定部１４０を分離して示したものであり、図３は、図１のマスクフレーム１１０、支持台１３０、固定部１４０を結合して示したものである。
【００４６】
図１ないし図３を参照すれば、前記マスクフレームアセンブリー１００は、マスクフレーム１１０、複数のマスク１２０、支持台１３０、及び固定部１４０を備える。
【００４７】
前記マスクフレーム１１０には開口部１１５が形成され、前記開口部１１５を取り囲むようにフレーム１１１ないし１１４が互いに連結されて形成される。
【００４８】
すなわち、前記フレーム１１１ないし１１４は、Ｘ方向に沿って互いに対向し、かつＹ方向に沿って平行に配された第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２と、Ｙ方向に沿って互いに対向し、かつＸ方向に沿って平行に配された第３フレーム１１３及び第４フレーム１１４とを備える。前記第１フレーム１１１、第２フレーム１１２、第３フレーム１１３、第４フレーム１１４は、互いに連結されて四角フレームを形成する。
【００４９】
一方、前記マスクフレーム１１０は、マスク１２０の溶接時に変形の少ない素材、例えば、剛性の大きい金属からなることが望ましい。
【００５０】
前記マスクフレーム１１０上にはマスク１２０が結合されている。前記マスク１２０は、自重によるたるみ現象を防止するために、一つの大型マスクよりは、Ｙ方向に分離された複数の分割マスク１２１が望ましい。本実施形態では、前記分割マスク１２１は、ストライプ形状や、分割マスク１２１の幅が引っ張り方向の長手方向より小さな形状のマスクならば、いずれか一つの形状に限定されるものではない。
【００５１】
前記分割マスク１２１には、長手方向に沿って離隔して複数の蒸着用パターン部１２２が形成されている。前記蒸着用パターン部１２２には、複数のスリットがパターン化されている。前記蒸着用パターン部１２２は、電鋳法で形成することで微細なパターニング及び表面平滑性を得ることができる。
【００５２】
代案としては、前記蒸着用パターン部１２２は、エッチング法やレーザー加工等によって製造される。エッチング法によって製造される場合、前記蒸着用パターン部１２２は、フォトレジストを用いて前記蒸着用パターン部１２２と同じパターンを持つレジスト層を薄板に形成するか、またはパターンを持つフィルムを薄板に付着した後で薄板をエッチングすることで形成できる。
【００５３】
前記隣接する蒸着用パターン部１２２の間にはリブ１２３が形成されて、隣接する蒸着用パターン部１２２を互いに連結させている。
【００５４】
前記分割マスク１２１の両端部には溶接部１２４が形成されている。前記溶接部１２４は、前記フレーム１１０に溶接される部分である。
【００５５】
それぞれの分割マスク１２１は、前記開口部１１５を横切ってＸ方向に配される。前記分割マスク１２１は、Ｘ方向に所定の引っ張り力が印加された状態で、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に対して溶接部１２４が溶接される。これにより、前記マスク１２０は、前記マスクフレーム１１０に対して固定される。
【００５６】
一方、前記マスク１２０を用いて高精密度のパターニングを行うためには、マスク１２０と、前記マスク１２０の上部に位置する基板１５０との密着性を高めてシャドー現象を低減させねばならない。したがって、前記マスク１２０は、薄板で形成されることが望ましい。前記マスク１２０の素材には、ステンレススチール、インバー（Ｉｎｖａｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル合金、ニッケル−コバルト合金などが使われる。
【００５７】
前記支持台１３０は、前記マスク１２０の変形を防止するために設けられる。前記支持台１３０は、前記開口部１１５を横切ってＹ方向に少なくとも一つ配される。前記支持台１３０が設けられる方向は、前記分割マスク１２０が配された方向に対して交差する方向である。
【００５８】
前記支持台１３０には、前記マスク１２０を下部から支持するように支持部１３１を備える。前記支持部１３１は、ストリップ状である。前記支持部１３１の両端部には折り曲げ部１３２が形成されている。
【００５９】
前記折り曲げ部１３２は、前記マスク１２０が設けられた方向に対して逆方向である下方に折り曲げられている。本実施形態では、前記支持部１３１の両端部を２回折り曲げることで折り曲げ部１３２を形成するが、少なくとも１回折り曲げられて段差が形成される構造であれば、いずれか一つに限定されるものではない。前記折り曲げ部１３２には結合溝１３３が形成されている。
【００６０】
前記支持台１３０は、前記マスク１２０を下部から支持する時に、各分割マスク１２１に形成された蒸着用パターン部１２２を遮蔽しないために、隣接する蒸着用パターン部１２２の間に配列された各リブ１２３に位置する。前記支持部１３１は、Ｙ方向に同一線上で連続的に配列された、隣接する各分割マスク１２１のリブ１２３に位置する。
【００６１】
前記固定部１４０は、前記支持台１３０を固定させるために設けられる。
【００６２】
前記固定部１４０は、前記支持台１３０の両端部に形成された折り曲げ部１３２にそれぞれ位置しており、少なくとも一つの締結部１６０によって前記支持台１３０に結合される。前記固定部１４０はストリップ状であり、Ｘ方向に沿って配される。前記固定部１４０が配される方向は、前記支持台１３０が配される方向に対して交差する方向である。
【００６３】
前記固定部１４０には、前記折り曲げ部１３２と対応する部分に締結孔１４１が形成される。前記締結孔１４１は、前記固定部１４０の長手方向に沿って、前記折り曲げ部１３２と対応する部分に所定間隔離隔して複数個形成されている。前記締結部１６０は、前記締結孔１４１を通過して前記折り曲げ部１３２に形成された結合溝１３３に結合されることで、前記固定部１４０に対して支持台１３０を固定させる。前記締結部１６０としては、ボルトやねじなどが用いられる。
【００６４】
前記固定部１４０の両端部は、第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２にそれぞれ結合される。この時、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２には、前記固定部１４０に対して支持台１３０を結合させるための空間、例えば、前記折り曲げ部１３２が位置できる空間を確保するために、これと対応する厚さを持つ間隔制御部１７０が形成されることが望ましい。
【００６５】
すなわち、前記固定部１４０は、前記第３フレーム１１３及び第４フレーム１１４の下部にＺ方向に所定間隔離隔して位置している。前記第３フレーム１１３及び第４フレーム１１４と、固定部１４０との間の間隔ｇは、前記折り曲げ部１３２が位置できる空間を提供している。このため、前記第１フレーム１１１の両端部と、第２フレーム１１２の両端部とは、前記間隔ｇほどの厚さを維持していなければならない。
【００６６】
このために、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の下部には、間隔制御部１７０が形成されている。前記間隔制御部１７０は、前記第１フレーム１１１の厚さ及び第２フレーム１１２の厚さを、前記間隔ｇが維持できるほど、前記第３フレーム１１３の厚さ及び第４フレーム１１４の厚さより厚く形成することで形成される。このように互いに異なる厚さを持つ第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２と、第３フレーム１１３及び第４フレーム１１４とは、プレス加工によって製造できる。
【００６７】
前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の両端部の下部には結合溝１７１が形成されている。前記結合溝１７１と対応する支持台１４０には締結孔１４１が形成されている。
【００６８】
これにより、前記折り曲げ部１３３に形成された結合溝１３３に対して、固定部１４０に形成された締結孔１４１の位置を整列した後、締結部１６０によって締結される方式で固定部１４０に対する支持台１３０の位置が固定され、これと同時に、前記固定部１４０の両端部も、締結部１６０によって前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に位置が固定される。
【００６９】
これにより、前記支持台１３０がマスク１２０を支持する必要がない場合には、前記締結部１６０を解除することで、前記支持台１３０及び固定部１４０を前記マスクフレーム１１０から分離させる。
【００７０】
本実施形態では、前記間隔制御部１７０が第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の全体厚さを増大させることで形成されるが、前記固定部１４０に支持台１３０を結合させるために前記折り曲げ部１３２が位置できる空間を提供するならば、これに限定されるものではない。
【００７１】
例えば、前記間隔制御部１７０は、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の両端部の厚さを、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の他の部分の厚さよりさらに厚くするか、または別途の板状部材を設けて、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２の下部に付着させるか、または前記固定部１４０の両端部を前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２が配された方向に折り曲げて形成させるなど多様な実施形態が可能である。
【００７２】
一方、前記支持台１３０及び固定部１４０は、熱的変形を最小化するために同じ素材で形成することが望ましい。
【００７３】
図４ないし図６は、本発明の固定部の変形された実施形態を示すものである。
【００７４】
図４を参照すれば、固定部４４０には複数の締結孔４４１が形成されている。図２の締結孔１４１が支持台（図２の１３０）の折り曲げ部１３２と対応する部分のみに選択的に形成されることとは異なって、本実施形態の締結孔４４１は、前記固定部４４０の長手方向に沿って前記締結部１６０が左右に移動できる自由度を持って形成されている。前記締結孔４４１は、横断面が直方形になっている。
【００７５】
これにより、前記支持台１３０の折り曲げ部１３２が固定部４４０に位置すれば、前記締結部１６０は前記締結孔４４１に沿って左右に移動させて、前記折り曲げ部１３２と対応する位置で折り曲げ部１３２に形成された結合溝１３３に結合させることで、前記固定部４４０に対して支持台１３０を固定させる。
【００７６】
一方、前記締結孔４４１は、前記間隔制御部（図２の１７１）に形成された結合溝１７１と対応するところに位置して、前記締結部１６０によって、前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に固定部４４０を固定させることはいうまでもない。
【００７７】
図５を参照すれば、固定部５４０には複数の締結孔５４１が形成されている。前記締結孔５４１は、前記固定部５４０の長手方向に沿って所定間隔離隔して複数個形成されている。図２の締結孔１４１が支持台１３０の折り曲げ部１３２と対応する部分のみに選択的に形成されることとは異なって、本実施形態の締結孔５４１は、前記支持台１３０の数より多く前記固定部５５０に形成されている。
【００７８】
これにより、前記支持台１３０の折り曲げ部１３２が固定部５４０に位置すれば、前記締結部１６０は、支持台１３０の折り曲げ部１３２と対応する位置の締結孔５４１を通じて挿入させて螺合することで、前記固定部５４０に支持台１３０を固定させる。
【００７９】
一方、前記締結孔５４１は、前記間隔制御部１７１に形成された結合溝１７１と対応するところに位置して、前記締結部１６０によって前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に固定部５４０を固定させることはいうまでもない。
【００８０】
図６を参照すれば、固定部６４０には複数の締結孔６４１が形成されている。前記締結孔６４１は、前記固定部６４０の長手方向に沿って一つの大口径形状に形成されている。
【００８１】
これにより、前記支持台１３０の折り曲げ部１３２が固定部６４０に位置するようになり、前記締結部１６０は前記締結孔６４１に沿って左右に移動させて、前記折り曲げ部１３２と対応する位置で螺合させることで前記固定部６４０に支持台１３０を固定させる。
【００８２】
一方、前記締結孔６４１は、前記間隔制御部１７１に形成された結合溝１７１と対応するところに位置して、前記締結部１６０によって前記第１フレーム１１１及び第２フレーム１１２に固定部６４０を固定させることはいうまでもない。
【００８３】
図７は、図１のVII−VII線に沿って破断図示した、マスクフレームアセンブリー１００上に装着された蒸着用基板１５０の蒸着状態を示すものである。
【００８４】
図面を参照すれば、前記マスクフレームアセンブリー１００を用いて有機発光ディスプレイ装置の有機発光層やカソードを蒸着するためには、真空チャンバ７００が設けられれう。前記真空チャンバ７００の下部には蒸着源７１０が位置し、前記蒸着源７１０の上部にはマスクフレームアセンブリー１００が設けられる。前記マスク１２０の上部には基板１５０が位置している。前記マスクフレームアセンブリー１００のエッジには、これらを固定させるための別途の支持部材７２０がさらに備えられる。
【００８５】
前記基板１５０の所望の位置に蒸着物質が蒸着される過程を簡略に説明すれば、次の通りである。
【００８６】
まず、前記マスクフレームアセンブリー１００を支持部材７２０に固定させ、前記マスク１２０の上部に基板１５０を位置させる。前記基板１５０は、前記マスク１２０に対して間隔なしに位置させるか、または別途の間隔制御部材によって前記マスク１２０に対して所定間隔離隔して位置させる。
【００８７】
次いで、前記真空チャンバ７００の下部に位置する蒸着源７１０から蒸着物質を、前記マスクフレームアセンブリー１００に向かって噴射させれば、前記マスク１２０に形成された蒸着用パターン部（図１の１２２）によって、前記基板１５０の一面には所望のパターンを持つように蒸着物質が蒸着される。
【００８８】
この時、蒸着工程中、前記基板１５０の重さによって、前記基板１５０の中央部が前記蒸着源７１０の方向に曲がる恐れがあるが、前記基板１５０を支持するマスク１２０の下部は支持台１３０によって支持され、前記支持台１３０は固定部１４０に結合され、前記固定部１４０は間隔制御部１７０に結合されてその位置を定めているので、前記基板１２０に印加される荷重は前記支持台１３０によって分散されて、基板１５０の破損及びマスク１２０の変形を未然に防止できる。
【００８９】
図８は、本発明の一実施形態によるマスクフレームアセンブリー１００を用いて蒸着形成された有機発光ディスプレイ装置８００の副画素の一例を示すものである。
【００９０】
ここで、副画素は、少なくとも一つの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、有機発光素子（ＯＬＥＤ）とを持つ。前記ＴＦＴは、必ずしも図８に示した構造のみ可能なものではなく、その数及び構造は多様に変形できる。
【００９１】
図面を参照すれば、基板８０１上にはバッファ層８０２が形成されている。前記基板８０１はガラスやプラスチックからなる。前記バッファ層８０２上には、所定パターンの半導体活性層８０３が形成されている。前記半導体活性層８０３の上部にはゲート絶縁膜８０４が形成されており、前記ゲート絶縁膜８０４の上部の所定領域にはゲート電極８０５が形成されている。
【００９２】
前記ゲート電極８０５は、ＴＦＴオン／オフ信号を印加するゲートライン（図示せず）と連結されている。前記ゲート電極８０５の上部には層間絶縁膜８０６が形成されており、コンタクトホールを通じてソース電極８０７及びドレイン電極８０８が、それぞれ半導体活性層８０３のソース領域８０９及びドレイン領域８１０に接するように形成されている。
【００９３】
前記ソース電極８０７及びドレイン電極８０８の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどからなるパッシベーション膜８１１が形成されている。前記パッシベーション膜８１１の上部にはアクリル、ポリイミド、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）などの有機物質からなる平坦化膜８１２が形成されている。
【００９４】
前記平坦化膜８１２の上部にはＯＬＥＤのアノードになる画素電極８１３が形成され、これを覆うように有機物からなる画素定義膜（Ｐｉｘｅｌ Ｄｅｆｉｎｅ Ｌａｙｅｒ、ＰＤＬ）８１４が形成されている。前記画素定義膜８１４には所定の開口を形成した後で画素定義膜８１４の上部及び開口が形成されて、外部に露出した画素電極８１３の上部に有機膜８１４が形成されている。前記有機膜８１４は発光層を含むことになる。本発明は必ずしもこれらの構造に限定されるものではなく、多様な有機発光装置の構造がそのまま適用できるということはいうまでもない。
【００９５】
ＯＬＥＤは、電流のフローによって赤色、緑色、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するものであり、ＴＦＴのソース電極８０７に連結されて、これからプラス電源を供給される第１電極である画素電極８１０と、全体画素を覆うように備えられてマイナス電源を供給する第２電極である対向電極８１５、及びこれら画素電極８１３と対向電極８１５との間に配されて発光する有機膜８１４を備える。
【００９６】
前記画素電極８１３と対向電極８１５とは、有機膜８１４によって互いに絶縁されており、有機膜８１４に相異なる極性の電圧を加えて有機膜８１４で発光を行わせる。
【００９７】
前記画素電極８１５はアノードの機能を行い、対向電極８１３はカソードの機能を行う。もちろん、これら画素電極８１３と対向電極８１５との極性は逆になってもよい。
【００９８】
前記画素電極８１３は、透明電極または反射型電極で備えられる。
【００９９】
透明電極で使われる場合、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３からなり、反射型電極で使われる場合、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３を形成できる。
【０１００】
前記対向電極８１５も、透明電極または反射型電極で備えられる。
【０１０１】
透明電極で使われる場合、前記対向電極８１５がカソードとして使われるので、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びこれらの化合物が有機膜８１４の方向に向かうように蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などの透明電極形成用物質で補助電極層やバス電極ラインを形成できる。反射型電極で使われる場合、前記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。
【０１０２】
一方、前記画素電極８１３は、前記透明電極または反射型電極で形成する時に、各副画素の開口形態に対応する形態で形成される。また、前記対向電極８１５は、前記透明電極または反射型電極をディスプレイ領域全体に全面蒸着して形成できる。しかし、前記対向電極８１５は必ずしも全面蒸着される必要はなく、多様なパターンで形成できるということはいうまでもない。前記画素電極８１３と対向電極８１５とは、互いに位置が逆に積層できるということはいうまでもない。
【０１０３】
前記有機膜８１４は、低分子または高分子有機膜が使われる。
【０１０４】
低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：Ｈｏｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）などが単一あるいは複合の構造で積層して形成される。また、利用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用できる。これら低分子有機膜は真空蒸着の方法で形成される。
【０１０５】
高分子有機膜を使用する場合、大体ホール輸送層（ＨＴＬ）及び発光層（ＥＭＬ）を含む。ホール輸送層としてはＰＥＤＯＴを使用し、発光層としてはＰＰＶ（ポリフェニレンビニレン）系及びポリフルオレン系などの高分子有機物質を使用し、これをスクリーン印刷やインクジェット印刷方法などで形成できる。
【０１０６】
該有機膜は必ずしもこれらに限定されるものではなく、多様な実施形態が適用できることはいうまでもない。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明は、薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１０８】
１００ マスクフレームアセンブリー
１１０ マスクフレーム
１１１ 第１フレーム
１１２ 第２フレーム
１１３ 第３フレーム
１１４ 第４フレーム
１２０ マスク
１２１ 分割マスク
１２２ 蒸着用パターン部
１２３ リブ
１２４ 溶接部
１３０ 支持台
１３１ 支持部
１３２ 折り曲げ部
１３３ 結合溝
１４０ 固定部
１４１ 締結孔
１５０ 基板
１６０ 締結部
１７０ 間隔制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部が形成され、前記開口部を取り囲むマスクフレームと、
前記マスクフレーム上に結合されるマスクと、
前記マスクを支持する少なくとも一つの支持台と、
前記支持台を固定する複数の固定部と、を備える薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２】
前記支持台は、前記開口部を横切ってマスクフレームに対して一方向に配される請求項１に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項３】
前記支持台は、前記マスクを下部から支持する支持部と、前記支持部の両端から少なくとも１回折り曲げられる折り曲げ部と、を備える請求項２に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項４】
前記支持台の折り曲げ部には前記固定部がそれぞれ位置し、少なくとも一つの締結部によって前記支持台と固定部とは互いに結合され、
前記固定部の両端は、マスクフレームに対して他方向に配されて、互いに対向して配されたフレームに結合された請求項３に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項５】
前記固定部は、前記支持台の折り曲げ部に対して対応する部分に少なくとも一つの締結孔が形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて挿入されて前記支持台の折り曲げ部に形成された結合溝に結合される請求項４に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項６】
前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って前記支持台の折り曲げ部に対してそれぞれ対応する部分に離隔して複数個形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて前記支持台の折り曲げ部に結合される請求項５に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項７】
前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って離隔して複数個形成され、
前記締結部は、前記締結孔に沿ってその位置を移動させて前記支持台の折り曲げ部に結合される請求項５に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項８】
前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って離隔するように前記支持台の数より多く形成され、
前記締結部は、支持台に対して固定部が対応する位置に該当する締結孔を通じて前記支持台の折り曲げ部に結合される請求項５に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項９】
前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って一つの大口径形状に形成され、
前記締結部は、前記締結孔に沿ってその位置を移動させて前記支持台の折り曲げ部に結合される請求項５に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１０】
前記固定部の両端に結合されるフレームには、前記固定部に対して支持台の折り曲げ部が結合できる空間と対応する間隔を維持する間隔制御部が形成された請求項４に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１１】
前記間隔制御部は、前記固定部の折り曲げ部に結合されるフレームの厚さを、他の方向に互いに対向して配されたフレームの厚さより厚くして形成された請求項１０に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１２】
前記固定部の両端には、前記間隔制御部と対応する部分に締結孔がさらに形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて前記間隔制御部に形成された結合溝に結合される請求項１０に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１３】
前記マスクは、長手方向に沿って蒸着用パターン部が離隔して形成され、隣接する蒸着用パターン部の間には、これらを互いに連結させるリブが形成された請求項１に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１４】
前記支持台は、前記開口部を横切ってマスクフレームに対して一方向に配されて前記マスクを下部から支持し、前記各リブに位置する請求項１３に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１５】
前記マスクと支持台とは互いに交差する方向に配された請求項１４に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１６】
前記マスクフレームは、一方向に互いに対向して配された複数の第１フレームと、他方向に互いに対向して配された複数の第２フレームと、を備え、
前記複数の第１フレームと複数の第２フレームとは互いに連結されて、開口部を取り囲むように形成された請求項１に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１７】
前記支持台は、前記開口部を横切って複数の第１フレームと平行な方向に配される請求項１６に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１８】
前記支持台の両端部は、少なくとも１回折り曲げられる折り曲げ部を備え、
前記折り曲げ部には前記固定部がそれぞれ位置し、
少なくとも一つの締結部によって前記支持台と固定部とは互いに結合され、
前記固定部の両端は、複数の第１フレームにそれぞれ固定された請求項１７に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１９】
前記固定部は、前記支持台の折り曲げ部に対して対応する部分に締結孔が形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて挿入されて、前記支持台の折り曲げ部に形成された結合溝に結合される請求項１８に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２０】
前記複数の第１フレームには、前記固定部に対して支持台の折り曲げ部が結合できる空間と対応する間隔を維持する間隔制御部が形成された請求項１９に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２１】
前記間隔制御部は、複数の第１フレームの厚さを複数の第２フレームの厚さより厚くして形成された請求項２０に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２２】
前記固定部の両端には、前記間隔制御部と対応する部分に締結孔がさらに形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて前記間隔制御部に形成された結合溝に結合される請求項２０に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２３】
前記マスクは、前記マスクフレームの開口部を横切って一方向に配された少なくとも一つの分割マスクを含む請求項１に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１】
開口部が形成され、前記開口部を取り囲むマスクフレームと、
前記マスクフレーム上に結合されるマスクと、
前記マスクを支持する少なくとも一つの支持台と、
前記支持台を固定する複数の固定部と、を備える薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２】
前記支持台は、前記開口部を横切ってマスクフレームに対して一方向に配される請求項１に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項３】
前記支持台は、前記マスクを下部から支持する支持部と、前記支持部の両端から少なくとも１回折り曲げられる折り曲げ部と、を備える請求項２に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項４】
前記支持台の折り曲げ部には前記固定部がそれぞれ位置し、少なくとも一つの締結部によって前記支持台と固定部とは互いに結合され、
前記固定部の両端は、マスクフレームに対して他方向に配されて、互いに対向して配されたフレームに結合された請求項３に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項５】
前記固定部は、前記支持台の折り曲げ部に対して対応する部分に少なくとも一つの締結孔が形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて挿入されて前記支持台の折り曲げ部に形成された結合溝に結合される請求項４に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項６】
前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って前記支持台の折り曲げ部に対してそれぞれ対応する部分に離隔して複数個形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて前記支持台の折り曲げ部に結合される請求項５に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項７】
前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って離隔して複数個形成され、
前記締結部は、前記締結孔に沿ってその位置を移動させて前記支持台の折り曲げ部に結合される請求項５に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項８】
前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って離隔するように前記支持台の数より多く形成され、
前記締結部は、支持台に対して固定部が対応する位置に該当する締結孔を通じて前記支持台の折り曲げ部に結合される請求項５に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項９】
前記締結孔は、前記固定部の長手方向に沿って一つの大口径形状に形成され、
前記締結部は、前記締結孔に沿ってその位置を移動させて前記支持台の折り曲げ部に結合される請求項５に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１０】
前記固定部の両端に結合されるフレームには、前記固定部に対して支持台の折り曲げ部が結合できる空間と対応する間隔を維持する間隔制御部が形成された請求項４に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１１】
前記間隔制御部は、前記固定部の折り曲げ部に結合されるフレームの厚さを、他の方向に互いに対向して配されたフレームの厚さより厚くして形成された請求項１０に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１２】
前記固定部の両端には、前記間隔制御部と対応する部分に締結孔がさらに形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて前記間隔制御部に形成された結合溝に結合される請求項１０に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１３】
前記マスクは、長手方向に沿って蒸着用パターン部が離隔して形成され、隣接する蒸着用パターン部の間には、これらを互いに連結させるリブが形成された請求項１に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１４】
前記支持台は、前記開口部を横切ってマスクフレームに対して一方向に配されて前記マスクを下部から支持し、前記各リブに位置する請求項１３に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１５】
前記マスクと支持台とは互いに交差する方向に配された請求項１４に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１６】
前記マスクフレームは、一方向に互いに対向して配された複数の第１フレームと、他方向に互いに対向して配された複数の第２フレームと、を備え、
前記複数の第１フレームと複数の第２フレームとは互いに連結されて、開口部を取り囲むように形成された請求項１に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１７】
前記支持台は、前記開口部を横切って複数の第１フレームと平行な方向に配される請求項１６に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１８】
前記支持台の両端部は、少なくとも１回折り曲げられる折り曲げ部を備え、
前記折り曲げ部には前記固定部がそれぞれ位置し、
少なくとも一つの締結部によって前記支持台と固定部とは互いに結合され、
前記固定部の両端は、複数の第１フレームにそれぞれ固定された請求項１７に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項１９】
前記固定部は、前記支持台の折り曲げ部に対して対応する部分に締結孔が形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて挿入されて、前記支持台の折り曲げ部に形成された結合溝に結合される請求項１８に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２０】
前記複数の第１フレームには、前記固定部に対して支持台の折り曲げ部が結合できる空間と対応する間隔を維持する間隔制御部が形成された請求項１９に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２１】
前記間隔制御部は、複数の第１フレームの厚さを複数の第２フレームの厚さより厚くして形成された請求項２０に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２２】
前記固定部の両端には、前記間隔制御部と対応する部分に締結孔がさらに形成され、
前記締結部は、前記締結孔を通じて前記間隔制御部に形成された結合溝に結合される請求項２０に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【請求項２３】
前記マスクは、前記マスクフレームの開口部を横切って一方向に配された少なくとも一つの分割マスクを含む請求項１に記載の薄膜蒸着用マスクフレームアセンブリー。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１３−４５２０（Ｐ２０１３−４５２０Ａ）
【公開日】平成２５年１月７日（２０１３．１．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−１２１８１８（Ｐ２０１２−１２１８１８）
【出願日】平成２４年５月２９日（２０１２．５．２９）
【出願人】（５１２１８７３４３）三星ディスプレイ株式會社 (73)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】９５，Ｓａｍｓｕｎｇ ２ Ｒｏ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ，Ｋｏｒｅａ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月７日（２０１３．１．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年５月２９日（２０１２．５．２９）
【出願人】（５１２１８７３４３）三星ディスプレイ株式會社 (73)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】９５，Ｓａｍｓｕｎｇ ２ Ｒｏ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ，Ｋｏｒｅａ
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]